ダイヘッド
【課題】スリットから吐出した塗布液が両サイドへ濡れ広がらず、規定の塗布幅で支持体へと塗布され、安定した塗布が可能となるダイヘッドを供給する。
【解決手段】サイドプレートで両サイドから挟持された、少なくとも２枚のブロックにより形成された塗布液を吐出するスリットを含むリップの平面状のリップ先端上面と、リップ先端側面とを有するダイヘッドにおいて、前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端の上面と、前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、マニホールドに、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。撥水性および撥油性を有するフッ素樹脂含有の無電解ニッケルメッキ処理を施した後、ダイヘッドの鏡面研削加工を行う。
【解決手段】サイドプレートで両サイドから挟持された、少なくとも２枚のブロックにより形成された塗布液を吐出するスリットを含むリップの平面状のリップ先端上面と、リップ先端側面とを有するダイヘッドにおいて、前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端の上面と、前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、マニホールドに、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。撥水性および撥油性を有するフッ素樹脂含有の無電解ニッケルメッキ処理を施した後、ダイヘッドの鏡面研削加工を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムなどを生産することに関し、連続的に走行する帯状支持体上に塗布液を均一に塗布するためのダイヘッドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、連続的に走行する帯状支持体（以下説明ではウェブと称する）上に塗布液を塗布するための塗布方式として、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、エアドクター、カーテンコーター、スライドコーター、ダイコーターなどがある。これら塗布方式の中でも、密閉系であり、幅方向での膜厚均一性、平滑性に優れているダイコーターがよく利用されている。このようなダイコーターにおいては、塗布液をダイヘッドのスリットから押し出し、連続走行するウェブに対してビードを形成させながら塗布する。
【０００３】
このダイヘッドは、一般的には、サイドプレートで両サイドから挟持された２枚以上のブロックを組み合わせて、さらにシムを挟んでスリットを形成し、塗布液を供給する供給口と供給された塗布液を一度留めて貯蔵し、幅方向に広げて長手方向に均一に流動させるためのマニホールド部分と、マニホールドより塗布液を幅方向で均一に流動させてリップより吐出させるためのスリットを有している塗布方式である。
【０００４】
しかしながら、ダイヘッドのリップ先端面は塗布液に対する濡れ性の良いことが安定したビード形成に必要であるが、通常同じ材質からなるリップ先端側面やサイドプレート先端部も塗布液に対する濡れ性が良いことで、リップの両端で塗布液がサイドプレート先端の上面に濡れ広がり、ウェブに対する塗布幅がスリット幅より広がり、安定的に規制できない問題が発生する。さらに、リップ先端側面やサイドプレート先端側面にも塗布液が濡れ広がりビードを不安定にする、あるいはウェブに転移せずに固化することがある。このようなことから流れ方向にスジやムラ等の塗布欠陥を発生させてしまう問題がある。
【０００５】
そこで、上記リップ先端から塗布液が濡れ広がるのを防ぐためには、リップ先端に撥水・撥油処理剤を施す、あるいは、無電解ニッケルメッキ処理またはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）処理を施すことにより対応している。
【０００６】
撥水・撥油処理剤をリップ先端に塗る場合には、均一に塗ることが難しい、また、常時塗布液が接するため撥水・撥油の性能劣化、あるいは洗浄時にリップ先端を拭くことによって性能が劣化してしまい、耐久性という点で課題が残る。
【０００７】
また無電解ニッケルメッキ処理またはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）処理においては耐久性には問題はないが、上記処理を行うにあたって１００〜３００℃の熱処理を必要とするため、ダイヘッドの変形が懸念される。特に光学フィルム等の薄膜塗布においては、幅方向における膜厚分布の均一性が重要となってくるため、ダイヘッドの変形には細心の注意を払わなければならない。また、上記処理においてリップ先端の上面は、塗布液に対する接触角を低くする必要があり、塗布方向のリップ先端側面の表面処理だけでは、スリットから吐出された塗布液が横に濡れ広がることで塗布幅が広がり、かつ塗布面のエッジ部が厚塗りになってしまう問題がある。
【０００８】
特許文献１によれば、スジムラ、塗布ムラなどを抑えるために、リップ部の表面に鏡面研削加工を施し、先端側面の塗布液に対する接触角をリップ部の塗布液に対する接触角より大きくした提案もされている。しかし研削精度の面から難しいのが現状である。
【０００９】
また、例えば液晶表示パネルの表面に用いるＡＧ（Ａｎｔｉ-Ｇｌａｒｅ）フィルム等に用いられる粒子を含む塗布液、特に沈降速度の速い粒子を含む塗布液においては、ダイヘッド内部、特に供給口から距離が離れたところのマニホールドでは粒子が沈降しやすく、経時で堆積することで吐出量が不安定になり、濃淡ムラやスジなどの塗布欠陥を発生させる。このように堆積してしまった場合には、ダイヘッドを分解して清掃しない限り解消できない場合がほとんどである。
【００１０】
ダイヘッドの洗浄方法としては、一般的にはダイヘッドに塗布液を送液するための配管を利用し、そこから洗浄液をダイヘッド内のマニホールドやスリットの部分に連続的に注入することにより、ダイヘッド内部の汚れや付着物を除去する方法が取られている。さらにダイヘッドを分解し、手作業で洗浄を行うことがよくあるが、ダイヘッドは非常に重く、分解や再組立に多大な労力を必要とし、近年幅方向の膜厚にも高い精度を要求するため再組立後の調整にも時間を要する。
【００１１】
上記の洗浄方法や装置では、ダイヘッドが広幅になるほどマニホールド及びスリット内の端部に付着した汚れは取りにくくなり、また、洗浄を行うために塗布装置の既存の配管等を組み直す必要もあり、組み立等に時間がかかり作業効率が悪いという問題点があった。
【００１２】
そこで、ダイヘッド本体におけるスリット先端部を着脱式のブロックにより閉じた状態で、ダイヘッド側部とスリット先端部からスプレーノズルにより洗浄溶剤を噴霧し、マニホールド内及びスリット内に存在する付着物を塗布液の入口から連続的に押し出すことで、ダイヘッドを分解することなく、内部の洗浄を行う方法がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００４−３５１３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、スリットから吐出した塗布液が、規定の塗布幅で支持体へ塗布され、安定した塗布が可能となり、さらにマニホールドにも経時で堆積しにくく、また堆積しても容易に除去でき、洗浄作業が容易になるダイヘッドを供給することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の請求項１に係る発明は、連続的に走行する支持体に塗布液を塗布するためのダイヘッドであって、サイドプレートで両サイドから挟持された少なくとも２枚のブロックにより形成され、塗布液を幅方向に均一に広げるためのマニホールドと、塗布液を吐出するためのブロック間のスリットと、前記スリットの先端両側にスリットとほぼ直角に形成されたリップと、前記リップの平面状の先端上面と、先端側面と、を有するダイヘッドにおいて、
前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端上面と、
前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、
マニホールド面と、
に塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。
【００１６】
本発明の請求項２に係る発明は、前記リップの走行上流側リップ先端上面および側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１記載のダイヘッドである。
【００１７】
本発明の請求項３に係る発明は、前記リップの走行下流側リップ先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１または２記載のダイヘッドである。
【００１８】
本発明の請求項４に係る発明は、前記表面処理層は、フッ素樹脂を均一に分散共析させたフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成して、塗布液に対して接触角６０°以上の撥水性および撥油性を持たせたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のダイヘッドである。
【００１９】
本発明の請求項５に係る発明は、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成した後、ダイヘッドの精度出しのための鏡面研削加工を行うことを特徴とする請求項４記載のダイヘッドである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、ダイヘッドを構成するサイドプレート先端上面および側面、マニホールド、並びにリップの上流側先端上面および側面、下流側の側面、等に撥水性および撥油性の表面処理層を形成することによって、連続的に走行するウェブに、幅方向の端部が安定した塗布を可能とし、また効率的な洗浄が可能になる。
【００２１】
本発明のダイヘッドを用いることで、リップ両端への塗布液の広がり、サイドプレート先端上面への乗り上げによる塗布欠陥を防ぐことができ、熱処理による影響、ダイヘッドの変形を改善することが可能となる。加えて、マニホールド内の洗浄、特に沈降しやすい塗布液を用いた場合でも洗浄効果を上げることが可能となる。
【００２２】
また本発明では、塗布液がリップ両端へ濡れ広がり、サイドプレート先端上面へ乗り上げるのを防ぐために、サイドプレート先端上面および先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成する。好ましくは、さらに、リップ先端側面にも同様に、撥水性および撥油性の表面処理層を形成する。即ち撥水・撥油性を有するフッ素樹脂含有の無電解ニッケルメッキ処理を施すのである。
【００２３】
例えば、偏光板の保護フィルム等の光学フィルム基材として多用されるＴＡＣ（Ｔｒｉ
Ａｃｅｔｙｌ Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルムでは、フィルム両サイドがブロッキング防止のためにナール加工されて厚くなっているため、塗布幅の両端での安定性が特に重要となる。塗布幅の変動やエッジ部分の厚薄は、部分的な欠陥にとどまらず、塗布液が塗布された巻取りロール全体の安定性に影響し、光学的なひずみや欠陥につながることが多い。
【００２４】
次に、表面処理によるダイヘッドの変形の影響を無くすために、表面処理を施した後に、リップ先端上面及び側面、サイドプレートの内面側および先端上面の鏡面研削加工を行う。これにより、表面処理による熱変形の影響を改善でき、加工精度を出すことができる。以上の処理により、スリットから吐出した塗布液が両サイドへ濡れ広がらず、規定の塗布幅で支持体へ塗布され、安定した塗布が可能となる。
【００２５】
例えば、カーナビゲーション装置やモバイル型の表示装置などの表面に使用される反射防止フィルムなどの光学フィルムの薄膜塗布においては、リップ先端での液切れや幅方向における膜厚分布の均一性が重要となってくるので、それらに影響を及ぼす加工精度をより出すためにはリップ先端を超硬合金にし、かつフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施し、ダイヘッドと貼り合わせた後に、鏡面研削加工を行うことで加工精度の問題に対しても対応可能である。
【００２６】
さらに、マニホールドに撥水・撥油性のあるフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施すことで、マニホールド内の沈降物が落としやすくなり、残存塗布液の除去、洗浄が容易になる。また、塗布中に沈降物による不具合が発生した場合にも、マニホールド内の流速を上げることで除去が可能となる。このときの流速の目安としては、マニホールド内でのレイノルズ数２０００〜４０００以上の乱流域になるような流速にすることである。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明に係るダイヘッドを用いた塗布装置の塗布部の一例を示す説明図。（ａ）オンロール方式ダイコーターの塗布部の一例を示す説明図。（ｂ）オンロール方式ダイコーターのダイヘッドの一例を示す説明図。
【図２】本発明に係るダイヘッドを構成し、スリットを形成するブロックの一例を示す説明図。（ａ）上流側ブロックの一例を示す説明図。（ｂ）下流側ブロックの一例を示す説明図。
【図３】本発明に係るダイヘッドの一例を示す説明図。
【図４】リップ先端の材質を変更した時のダイヘッドの上流側ブロックおよび下流側ブロックの説明図。（ａ）リップ変更可能な上流側ブロックの説明図。（ｂ）リップ変更可能な下流側ブロックの説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に本発明を一実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２９】
図１は、本発明に係るダイヘッドを用いた塗布装置の塗布部の一例を示す説明図である。
【００３０】
塗布方式としては、図１（ａ）に示すロールでバックアップされたウェブに塗布するオンロール方式や、図示しないオフロール方式のどちらでも構わない。またバックアップロール１２に対してダイヘッド１をサイドあるいは下方に配置して塗布してもよく、限定されるものではない。ポンプ２１より供給された塗布液９はマニホールド４およびスリット５を通ったのち、リップ部より吐出され、ビード部１０を作り、ウェブ１１に塗布される。
【００３１】
図１（ｂ）は、オンロール方式ダイコーターのダイヘッドの一例を示す説明図である。
【００３２】
マニホールド４にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａ、上流側リップ６ａ上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａ、下流側リップ６ｂ側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが、さらに図１では図示しないが、両側のサイドプレート先端の上面及びサイドプレート先端の側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層がそれぞれ形成されている。そしてリップ先端のエッジ部８ａ、８ｂでビードが形成されて塗布液９が保持される。またスリット幅はダイヘッドブロック２ａ、２ｂの間にシム３を挟むことで既定しているが、シム３を使用せずにスリット幅を既定しても構わない。
【００３３】
図２（ａ）は、ダイヘッド１の上流側ブロック２ａの説明図である。
【００３４】
上流側ブロック２ａの上流側リップ先端６ａの上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ａが施されている。またマニホールド４の表面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ４ａが施されている。上流側スリ
ット５ａの上面には表面処理が施されていない。
【００３５】
図２（ｂ）は、ダイヘッド１の下流側ブロック２ｂの説明図である。
【００３６】
下流側ブロック２ｂの下流側リップ先端６ｂの側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｂが施されている。下流側リップ先端６ｂの上面には、表面処理が施されていない。また下流側スリット５ｂにも表面処理が施されていない。
【００３７】
図３は、本発明に係るダイヘッドの一例を示す説明図である。
【００３８】
ダイヘッド１は少なくとも、上流側ブロック２ａと下流側ブロック２ｂ、およびサイドプレート１３ａ、１３ｂからなる。サイドプレートは、上流側ブロックと下流側ブロックを両サイドから挟持することでダイヘッドとして一体化させる。サイドプレート１３ａおよび１３ｂには、塗布液９をマニホールド４内へ供給するための供給口１４が備え付けられている。また、上流側リップ先端６ａの上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａが形成されており、下流側リップ先端６ｂの側面にもフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが形成されている。加えてリップ先端上面と連設するサイドプレート先端の上面およびリップ先端側面と連設するサイドプレート先端の側面に、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキが施されている。すなわち、サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１５ａ、１５ｂが、先端側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１６ａ、１６ｂが施されている。なおスリットに接する内面には、マニホールド部を除いて表面処理は施されていない。
【００３９】
図４は、リップ先端の材質を変更した時のダイヘッドの上流側ブロックおよび下流側ブロックの説明図である。
【００４０】
図４（ａ）は、リップ変更可能な上流側ブロックの説明図である。上流側ブロック１７ａにおいてリップ先端１８ａが変更可能な構造となっており、上流側の上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａが形成されている。さらにマニホールド４にも同様にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａが形成されている。
【００４１】
図４（ｂ）は、リップ変更可能な下流側ブロックの説明図である。下流側ブロック１７ｂにおいてリップ先端１８ｂが変更可能な構造となっており、下流側側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが形成されている。
【００４２】
上記のリップ先端１８ａ、１８ｂは、変更可能な構造のダイヘッドであり、母材と異なる材質、例えば超硬合金でも良く、あるいは母材と同じ材質で先端形状だけを変更する場合にも適用でき、リップ先端の側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成してあることが好ましい。なお、この場合でも、サイドプレートの先端上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１５ａ、１５ｂ、先端側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１６ａ、１６ｂが施されていることが重要である。
【００４３】
ダイヘッドでの塗布では、安定したビードの形成のために、リップ部分は塗布液に対する接触角が低く濡れ性が良いことが必要である。塗布液がリップ先端部の側面に回りこまないためには、リップ先端上面と塗布液との接触角と、リップ先端側面と塗布液との接触角との差は５度以上有ればよいとされているが、本発明の最大の目的とする、塗布端面での安定性を得るためには、同一平面で連設しているリップ先端上面に存在する塗布液のビードが、サイドプレート先端の上面に濡れて広がらないよう、さらに上流側リップ先端上面に処理を施し、液ダレを起きにくくする強い撥水性および撥油性が必要であり、このときの塗布液に対する接触角としては６０°以上が望ましい。これ以下の場合、塗布速度を大きくして塗布液の吐出量を増加させると、あるいはビード部を減圧にすることで、塗布端面の安定性が低くなる問題が発生する。即ち表面処理層として、塗布液に対する接触角としては６０°以上の撥水性および撥油性が必要である。
【００４４】
まず、ダイヘッドブロック２ａ、２ｂおよびサイドプレート１３ａ、１３ｂにフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成させるには、フッ素樹脂の微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ液の中に上記ブロック２ａ、２ｂ、サイドプレート１３ａ、１３ｂを浸し、化学還元作用によりメッキ金属を析出させる過程において、フッ素樹脂微粒子がメッキとともに吸着することを繰り返すことで被メッキ物にフッ素樹脂微粒子を含有した金属ニッケル膜が形成される。
【００４５】
このフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成する面としては、上流側ブロック２ａのマニホールド４およびリップ先端６ａの上面と側面、下流側ブロック２ｂのリップ先端６ｂの側面、サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面１５ａ、１５ｂ、先端側面１６ａ、１６ｂであり、必須である。
【００４６】
サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面１５ａ、１５ｂに形成する理由としては、前述したように、スリット５から塗布液が吐出したときに両サイドへ広がらないようにし、規定の塗布幅で塗布を安定させるためである。また上記撥水性および撥油性によって塗布を不安定にさせないためにスリット面５ａ、５ｂおよびリップ先端の上面６ｂのフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層は、研磨することで除去する必要がある。なお上記面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成させない方法を採用した場合には、除去方法は研磨だけに限られるものではない。さらに上記以外の面については、形成の有無に限定されるものではない。
【００４７】
このフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成するにあたって熱処理が加わるため、ダイヘッド１およびサイドプレート１３ａ、１３ｂが変形してしまう。加工精度を維持するために、スリット５ａ、５ｂおよびリップ先端６ａ、６ｂに鏡面研削加工を実施する。さらにリップ先端を母材と異なる材質を使用する場合には、各部材１７ａ、１７ｂ、１８ａ、１８ｂ各々、上記と同様に表面処理を施していく。
【００４８】
また、粒子を含む塗布液、特に沈降速度の速い塗布液を使用したときに発生する堆積物を効率的に除去する方法として、上記マニホールド４にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａを施し、かつマニホールド４内でのレイノルズ数を２０００以上の乱流域にすることで、堆積物を効率的に除去することが可能となった。
【００４９】
以上詳細に説明した通り、本発明はダイヘッドのリップ先端の幅方向及び側面への塗布液の染み出し、乗り上げを防ぎ、塗布を安定にさせるために、サイドプレートの先端上面と側面、ならびに、リップ先端の上流側上面および側面、下流側の側面に撥水性および撥油性を有するフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施したものである。しかも、処理によるダイヘッドの変形の影響を無くすために、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施した後に、リップ先端上面やスリット部の鏡面研削加工を行うことでダイヘッドの精度を改善したものである。これによって、スリットから吐出した塗布液が両サイドに広がることなく、規定の塗布幅で安定した塗布が可能となる。加えてマニホールドにも同様の処理を施すことで、洗浄性、特に沈降速度の速い塗布液による堆積物除去にも対応可能となる。
【符号の説明】
【００５０】
１・・・ダイヘッド
２ａ・・・上流側ブロック
２ｂ・・・下流側ブロック
３・・・シム
４・・・マニホールド
４ａ・・・…マニホールドへのフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ
５・・・スリット
５ａ・・・上流側スリット
５ｂ・・・下流側スリット
６ａ・・・上流側リップ
６ｂ・・・下流側リップ
７ａ・・・上流側側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
７ｂ・・・下流側側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
７ｃ・・・上流側上面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
８ａ・・・上流側リップエッジ部
８ｂ・・・下流側リップエッジ部
９・・・塗布液
１０・・・ビード部
１１・・・支持体（ウェブ）
１２・・・バックアップロール
１３ａ、ｂ・・・サイドプレート
１４・・・供給口
１５ａ、ｂ・・・サイドプレート先端上面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
１６ａ、ｂ・・・サイドプレート先端側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
１７ａ・・・上流側ブロック
１７ｂ・・・下流側ブロック
１８ａ・・・上流側リップ先端部材
１８ｂ・・・下流側リップ先端部材
１９・・・配管
２０・・・タンク
２１・・・ポンプ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムなどを生産することに関し、連続的に走行する帯状支持体上に塗布液を均一に塗布するためのダイヘッドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、連続的に走行する帯状支持体（以下説明ではウェブと称する）上に塗布液を塗布するための塗布方式として、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、エアドクター、カーテンコーター、スライドコーター、ダイコーターなどがある。これら塗布方式の中でも、密閉系であり、幅方向での膜厚均一性、平滑性に優れているダイコーターがよく利用されている。このようなダイコーターにおいては、塗布液をダイヘッドのスリットから押し出し、連続走行するウェブに対してビードを形成させながら塗布する。
【０００３】
このダイヘッドは、一般的には、サイドプレートで両サイドから挟持された２枚以上のブロックを組み合わせて、さらにシムを挟んでスリットを形成し、塗布液を供給する供給口と供給された塗布液を一度留めて貯蔵し、幅方向に広げて長手方向に均一に流動させるためのマニホールド部分と、マニホールドより塗布液を幅方向で均一に流動させてリップより吐出させるためのスリットを有している塗布方式である。
【０００４】
しかしながら、ダイヘッドのリップ先端面は塗布液に対する濡れ性の良いことが安定したビード形成に必要であるが、通常同じ材質からなるリップ先端側面やサイドプレート先端部も塗布液に対する濡れ性が良いことで、リップの両端で塗布液がサイドプレート先端の上面に濡れ広がり、ウェブに対する塗布幅がスリット幅より広がり、安定的に規制できない問題が発生する。さらに、リップ先端側面やサイドプレート先端側面にも塗布液が濡れ広がりビードを不安定にする、あるいはウェブに転移せずに固化することがある。このようなことから流れ方向にスジやムラ等の塗布欠陥を発生させてしまう問題がある。
【０００５】
そこで、上記リップ先端から塗布液が濡れ広がるのを防ぐためには、リップ先端に撥水・撥油処理剤を施す、あるいは、無電解ニッケルメッキ処理またはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）処理を施すことにより対応している。
【０００６】
撥水・撥油処理剤をリップ先端に塗る場合には、均一に塗ることが難しい、また、常時塗布液が接するため撥水・撥油の性能劣化、あるいは洗浄時にリップ先端を拭くことによって性能が劣化してしまい、耐久性という点で課題が残る。
【０００７】
また無電解ニッケルメッキ処理またはＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）処理においては耐久性には問題はないが、上記処理を行うにあたって１００〜３００℃の熱処理を必要とするため、ダイヘッドの変形が懸念される。特に光学フィルム等の薄膜塗布においては、幅方向における膜厚分布の均一性が重要となってくるため、ダイヘッドの変形には細心の注意を払わなければならない。また、上記処理においてリップ先端の上面は、塗布液に対する接触角を低くする必要があり、塗布方向のリップ先端側面の表面処理だけでは、スリットから吐出された塗布液が横に濡れ広がることで塗布幅が広がり、かつ塗布面のエッジ部が厚塗りになってしまう問題がある。
【０００８】
特許文献１によれば、スジムラ、塗布ムラなどを抑えるために、リップ部の表面に鏡面研削加工を施し、先端側面の塗布液に対する接触角をリップ部の塗布液に対する接触角より大きくした提案もされている。しかし研削精度の面から難しいのが現状である。
【０００９】
また、例えば液晶表示パネルの表面に用いるＡＧ（Ａｎｔｉ-Ｇｌａｒｅ）フィルム等に用いられる粒子を含む塗布液、特に沈降速度の速い粒子を含む塗布液においては、ダイヘッド内部、特に供給口から距離が離れたところのマニホールドでは粒子が沈降しやすく、経時で堆積することで吐出量が不安定になり、濃淡ムラやスジなどの塗布欠陥を発生させる。このように堆積してしまった場合には、ダイヘッドを分解して清掃しない限り解消できない場合がほとんどである。
【００１０】
ダイヘッドの洗浄方法としては、一般的にはダイヘッドに塗布液を送液するための配管を利用し、そこから洗浄液をダイヘッド内のマニホールドやスリットの部分に連続的に注入することにより、ダイヘッド内部の汚れや付着物を除去する方法が取られている。さらにダイヘッドを分解し、手作業で洗浄を行うことがよくあるが、ダイヘッドは非常に重く、分解や再組立に多大な労力を必要とし、近年幅方向の膜厚にも高い精度を要求するため再組立後の調整にも時間を要する。
【００１１】
上記の洗浄方法や装置では、ダイヘッドが広幅になるほどマニホールド及びスリット内の端部に付着した汚れは取りにくくなり、また、洗浄を行うために塗布装置の既存の配管等を組み直す必要もあり、組み立等に時間がかかり作業効率が悪いという問題点があった。
【００１２】
そこで、ダイヘッド本体におけるスリット先端部を着脱式のブロックにより閉じた状態で、ダイヘッド側部とスリット先端部からスプレーノズルにより洗浄溶剤を噴霧し、マニホールド内及びスリット内に存在する付着物を塗布液の入口から連続的に押し出すことで、ダイヘッドを分解することなく、内部の洗浄を行う方法がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００４−３５１３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、スリットから吐出した塗布液が、規定の塗布幅で支持体へ塗布され、安定した塗布が可能となり、さらにマニホールドにも経時で堆積しにくく、また堆積しても容易に除去でき、洗浄作業が容易になるダイヘッドを供給することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の請求項１に係る発明は、連続的に走行する支持体に塗布液を塗布するためのダイヘッドであって、サイドプレートで両サイドから挟持された少なくとも２枚のブロックにより形成され、塗布液を幅方向に均一に広げるためのマニホールドと、塗布液を吐出するためのブロック間のスリットと、前記スリットの先端両側にスリットとほぼ直角に形成されたリップと、前記リップの平面状の先端上面と、先端側面と、を有するダイヘッドにおいて、
前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端上面と、
前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、
マニホールド面と、
に塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。
【００１６】
本発明の請求項２に係る発明は、前記リップの走行上流側リップ先端上面および側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１記載のダイヘッドである。
【００１７】
本発明の請求項３に係る発明は、前記リップの走行下流側リップ先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１または２記載のダイヘッドである。
【００１８】
本発明の請求項４に係る発明は、前記表面処理層は、フッ素樹脂を均一に分散共析させたフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成して、塗布液に対して接触角６０°以上の撥水性および撥油性を持たせたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のダイヘッドである。
【００１９】
本発明の請求項５に係る発明は、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成した後、ダイヘッドの精度出しのための鏡面研削加工を行うことを特徴とする請求項４記載のダイヘッドである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、ダイヘッドを構成するサイドプレート先端上面および側面、マニホールド、並びにリップの上流側先端上面および側面、下流側の側面、等に撥水性および撥油性の表面処理層を形成することによって、連続的に走行するウェブに、幅方向の端部が安定した塗布を可能とし、また効率的な洗浄が可能になる。
【００２１】
本発明のダイヘッドを用いることで、リップ両端への塗布液の広がり、サイドプレート先端上面への乗り上げによる塗布欠陥を防ぐことができ、熱処理による影響、ダイヘッドの変形を改善することが可能となる。加えて、マニホールド内の洗浄、特に沈降しやすい塗布液を用いた場合でも洗浄効果を上げることが可能となる。
【００２２】
また本発明では、塗布液がリップ両端へ濡れ広がり、サイドプレート先端上面へ乗り上げるのを防ぐために、サイドプレート先端上面および先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成する。好ましくは、さらに、リップ先端側面にも同様に、撥水性および撥油性の表面処理層を形成する。即ち撥水・撥油性を有するフッ素樹脂含有の無電解ニッケルメッキ処理を施すのである。
【００２３】
例えば、偏光板の保護フィルム等の光学フィルム基材として多用されるＴＡＣ（Ｔｒｉ
Ａｃｅｔｙｌ Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルムでは、フィルム両サイドがブロッキング防止のためにナール加工されて厚くなっているため、塗布幅の両端での安定性が特に重要となる。塗布幅の変動やエッジ部分の厚薄は、部分的な欠陥にとどまらず、塗布液が塗布された巻取りロール全体の安定性に影響し、光学的なひずみや欠陥につながることが多い。
【００２４】
次に、表面処理によるダイヘッドの変形の影響を無くすために、表面処理を施した後に、リップ先端上面及び側面、サイドプレートの内面側および先端上面の鏡面研削加工を行う。これにより、表面処理による熱変形の影響を改善でき、加工精度を出すことができる。以上の処理により、スリットから吐出した塗布液が両サイドへ濡れ広がらず、規定の塗布幅で支持体へ塗布され、安定した塗布が可能となる。
【００２５】
例えば、カーナビゲーション装置やモバイル型の表示装置などの表面に使用される反射防止フィルムなどの光学フィルムの薄膜塗布においては、リップ先端での液切れや幅方向における膜厚分布の均一性が重要となってくるので、それらに影響を及ぼす加工精度をより出すためにはリップ先端を超硬合金にし、かつフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施し、ダイヘッドと貼り合わせた後に、鏡面研削加工を行うことで加工精度の問題に対しても対応可能である。
【００２６】
さらに、マニホールドに撥水・撥油性のあるフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施すことで、マニホールド内の沈降物が落としやすくなり、残存塗布液の除去、洗浄が容易になる。また、塗布中に沈降物による不具合が発生した場合にも、マニホールド内の流速を上げることで除去が可能となる。このときの流速の目安としては、マニホールド内でのレイノルズ数２０００〜４０００以上の乱流域になるような流速にすることである。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明に係るダイヘッドを用いた塗布装置の塗布部の一例を示す説明図。（ａ）オンロール方式ダイコーターの塗布部の一例を示す説明図。（ｂ）オンロール方式ダイコーターのダイヘッドの一例を示す説明図。
【図２】本発明に係るダイヘッドを構成し、スリットを形成するブロックの一例を示す説明図。（ａ）上流側ブロックの一例を示す説明図。（ｂ）下流側ブロックの一例を示す説明図。
【図３】本発明に係るダイヘッドの一例を示す説明図。
【図４】リップ先端の材質を変更した時のダイヘッドの上流側ブロックおよび下流側ブロックの説明図。（ａ）リップ変更可能な上流側ブロックの説明図。（ｂ）リップ変更可能な下流側ブロックの説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下に本発明を一実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２９】
図１は、本発明に係るダイヘッドを用いた塗布装置の塗布部の一例を示す説明図である。
【００３０】
塗布方式としては、図１（ａ）に示すロールでバックアップされたウェブに塗布するオンロール方式や、図示しないオフロール方式のどちらでも構わない。またバックアップロール１２に対してダイヘッド１をサイドあるいは下方に配置して塗布してもよく、限定されるものではない。ポンプ２１より供給された塗布液９はマニホールド４およびスリット５を通ったのち、リップ部より吐出され、ビード部１０を作り、ウェブ１１に塗布される。
【００３１】
図１（ｂ）は、オンロール方式ダイコーターのダイヘッドの一例を示す説明図である。
【００３２】
マニホールド４にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａ、上流側リップ６ａ上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａ、下流側リップ６ｂ側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが、さらに図１では図示しないが、両側のサイドプレート先端の上面及びサイドプレート先端の側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層がそれぞれ形成されている。そしてリップ先端のエッジ部８ａ、８ｂでビードが形成されて塗布液９が保持される。またスリット幅はダイヘッドブロック２ａ、２ｂの間にシム３を挟むことで既定しているが、シム３を使用せずにスリット幅を既定しても構わない。
【００３３】
図２（ａ）は、ダイヘッド１の上流側ブロック２ａの説明図である。
【００３４】
上流側ブロック２ａの上流側リップ先端６ａの上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ａが施されている。またマニホールド４の表面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ４ａが施されている。上流側スリ
ット５ａの上面には表面処理が施されていない。
【００３５】
図２（ｂ）は、ダイヘッド１の下流側ブロック２ｂの説明図である。
【００３６】
下流側ブロック２ｂの下流側リップ先端６ｂの側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｂが施されている。下流側リップ先端６ｂの上面には、表面処理が施されていない。また下流側スリット５ｂにも表面処理が施されていない。
【００３７】
図３は、本発明に係るダイヘッドの一例を示す説明図である。
【００３８】
ダイヘッド１は少なくとも、上流側ブロック２ａと下流側ブロック２ｂ、およびサイドプレート１３ａ、１３ｂからなる。サイドプレートは、上流側ブロックと下流側ブロックを両サイドから挟持することでダイヘッドとして一体化させる。サイドプレート１３ａおよび１３ｂには、塗布液９をマニホールド４内へ供給するための供給口１４が備え付けられている。また、上流側リップ先端６ａの上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａが形成されており、下流側リップ先端６ｂの側面にもフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが形成されている。加えてリップ先端上面と連設するサイドプレート先端の上面およびリップ先端側面と連設するサイドプレート先端の側面に、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキが施されている。すなわち、サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１５ａ、１５ｂが、先端側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１６ａ、１６ｂが施されている。なおスリットに接する内面には、マニホールド部を除いて表面処理は施されていない。
【００３９】
図４は、リップ先端の材質を変更した時のダイヘッドの上流側ブロックおよび下流側ブロックの説明図である。
【００４０】
図４（ａ）は、リップ変更可能な上流側ブロックの説明図である。上流側ブロック１７ａにおいてリップ先端１８ａが変更可能な構造となっており、上流側の上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ７ｃ、側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ａが形成されている。さらにマニホールド４にも同様にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａが形成されている。
【００４１】
図４（ｂ）は、リップ変更可能な下流側ブロックの説明図である。下流側ブロック１７ｂにおいてリップ先端１８ｂが変更可能な構造となっており、下流側側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層７ｂが形成されている。
【００４２】
上記のリップ先端１８ａ、１８ｂは、変更可能な構造のダイヘッドであり、母材と異なる材質、例えば超硬合金でも良く、あるいは母材と同じ材質で先端形状だけを変更する場合にも適用でき、リップ先端の側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成してあることが好ましい。なお、この場合でも、サイドプレートの先端上面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１５ａ、１５ｂ、先端側面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層１６ａ、１６ｂが施されていることが重要である。
【００４３】
ダイヘッドでの塗布では、安定したビードの形成のために、リップ部分は塗布液に対する接触角が低く濡れ性が良いことが必要である。塗布液がリップ先端部の側面に回りこまないためには、リップ先端上面と塗布液との接触角と、リップ先端側面と塗布液との接触角との差は５度以上有ればよいとされているが、本発明の最大の目的とする、塗布端面での安定性を得るためには、同一平面で連設しているリップ先端上面に存在する塗布液のビードが、サイドプレート先端の上面に濡れて広がらないよう、さらに上流側リップ先端上面に処理を施し、液ダレを起きにくくする強い撥水性および撥油性が必要であり、このときの塗布液に対する接触角としては６０°以上が望ましい。これ以下の場合、塗布速度を大きくして塗布液の吐出量を増加させると、あるいはビード部を減圧にすることで、塗布端面の安定性が低くなる問題が発生する。即ち表面処理層として、塗布液に対する接触角としては６０°以上の撥水性および撥油性が必要である。
【００４４】
まず、ダイヘッドブロック２ａ、２ｂおよびサイドプレート１３ａ、１３ｂにフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成させるには、フッ素樹脂の微粒子を分散させた無電解ニッケルメッキ液の中に上記ブロック２ａ、２ｂ、サイドプレート１３ａ、１３ｂを浸し、化学還元作用によりメッキ金属を析出させる過程において、フッ素樹脂微粒子がメッキとともに吸着することを繰り返すことで被メッキ物にフッ素樹脂微粒子を含有した金属ニッケル膜が形成される。
【００４５】
このフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成する面としては、上流側ブロック２ａのマニホールド４およびリップ先端６ａの上面と側面、下流側ブロック２ｂのリップ先端６ｂの側面、サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面１５ａ、１５ｂ、先端側面１６ａ、１６ｂであり、必須である。
【００４６】
サイドプレート１３ａ、１３ｂの先端上面１５ａ、１５ｂに形成する理由としては、前述したように、スリット５から塗布液が吐出したときに両サイドへ広がらないようにし、規定の塗布幅で塗布を安定させるためである。また上記撥水性および撥油性によって塗布を不安定にさせないためにスリット面５ａ、５ｂおよびリップ先端の上面６ｂのフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層は、研磨することで除去する必要がある。なお上記面にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成させない方法を採用した場合には、除去方法は研磨だけに限られるものではない。さらに上記以外の面については、形成の有無に限定されるものではない。
【００４７】
このフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成するにあたって熱処理が加わるため、ダイヘッド１およびサイドプレート１３ａ、１３ｂが変形してしまう。加工精度を維持するために、スリット５ａ、５ｂおよびリップ先端６ａ、６ｂに鏡面研削加工を実施する。さらにリップ先端を母材と異なる材質を使用する場合には、各部材１７ａ、１７ｂ、１８ａ、１８ｂ各々、上記と同様に表面処理を施していく。
【００４８】
また、粒子を含む塗布液、特に沈降速度の速い塗布液を使用したときに発生する堆積物を効率的に除去する方法として、上記マニホールド４にフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層４ａを施し、かつマニホールド４内でのレイノルズ数を２０００以上の乱流域にすることで、堆積物を効率的に除去することが可能となった。
【００４９】
以上詳細に説明した通り、本発明はダイヘッドのリップ先端の幅方向及び側面への塗布液の染み出し、乗り上げを防ぎ、塗布を安定にさせるために、サイドプレートの先端上面と側面、ならびに、リップ先端の上流側上面および側面、下流側の側面に撥水性および撥油性を有するフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施したものである。しかも、処理によるダイヘッドの変形の影響を無くすために、フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ処理を施した後に、リップ先端上面やスリット部の鏡面研削加工を行うことでダイヘッドの精度を改善したものである。これによって、スリットから吐出した塗布液が両サイドに広がることなく、規定の塗布幅で安定した塗布が可能となる。加えてマニホールドにも同様の処理を施すことで、洗浄性、特に沈降速度の速い塗布液による堆積物除去にも対応可能となる。
【符号の説明】
【００５０】
１・・・ダイヘッド
２ａ・・・上流側ブロック
２ｂ・・・下流側ブロック
３・・・シム
４・・・マニホールド
４ａ・・・…マニホールドへのフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ
５・・・スリット
５ａ・・・上流側スリット
５ｂ・・・下流側スリット
６ａ・・・上流側リップ
６ｂ・・・下流側リップ
７ａ・・・上流側側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
７ｂ・・・下流側側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
７ｃ・・・上流側上面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
８ａ・・・上流側リップエッジ部
８ｂ・・・下流側リップエッジ部
９・・・塗布液
１０・・・ビード部
１１・・・支持体（ウェブ）
１２・・・バックアップロール
１３ａ、ｂ・・・サイドプレート
１４・・・供給口
１５ａ、ｂ・・・サイドプレート先端上面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
１６ａ、ｂ・・・サイドプレート先端側面フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層
１７ａ・・・上流側ブロック
１７ｂ・・・下流側ブロック
１８ａ・・・上流側リップ先端部材
１８ｂ・・・下流側リップ先端部材
１９・・・配管
２０・・・タンク
２１・・・ポンプ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的に走行する支持体に塗布液を塗布するためのダイヘッドであって、サイドプレートで両サイドから挟持された少なくとも２枚のブロックにより形成され、塗布液を幅方向に均一に広げるためのマニホールドと、塗布液を吐出するためのブロック間のスリットと、前記スリットの先端両側にスリットとほぼ直角に形成されたリップと、前記リップの平面状の先端上面と、先端側面と、を有するダイヘッドにおいて、
前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端上面と、
前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、
マニホールド面と、
に塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。
【請求項２】
前記リップの走行上流側リップ先端上面および側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１記載のダイヘッド。
【請求項３】
前記リップの走行下流側リップ先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１または２記載のダイヘッド。
【請求項４】
前記表面処理層は、フッ素樹脂を均一に分散共析させたフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成して、塗布液に対して接触角６０°以上の撥水性および撥油性を持たせたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のダイヘッド。
【請求項５】
フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成した後、ダイヘッドの精度出しのための鏡面研削加工を行うことを特徴とする請求項４記載のダイヘッド。
【請求項１】
連続的に走行する支持体に塗布液を塗布するためのダイヘッドであって、サイドプレートで両サイドから挟持された少なくとも２枚のブロックにより形成され、塗布液を幅方向に均一に広げるためのマニホールドと、塗布液を吐出するためのブロック間のスリットと、前記スリットの先端両側にスリットとほぼ直角に形成されたリップと、前記リップの平面状の先端上面と、先端側面と、を有するダイヘッドにおいて、
前記リップ先端上面と連設するサイドプレート先端上面と、
前記リップ先端側面と連設するサイドプレート先端側面と、
マニホールド面と、
に塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とするダイヘッド。
【請求項２】
前記リップの走行上流側リップ先端上面および側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１記載のダイヘッド。
【請求項３】
前記リップの走行下流側リップ先端側面に、塗布液に対して撥水性および撥油性の表面処理層を形成したことを特徴とする請求項１または２記載のダイヘッド。
【請求項４】
前記表面処理層は、フッ素樹脂を均一に分散共析させたフッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成して、塗布液に対して接触角６０°以上の撥水性および撥油性を持たせたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のダイヘッド。
【請求項５】
フッ素樹脂含有無電解ニッケルメッキ層を形成した後、ダイヘッドの精度出しのための鏡面研削加工を行うことを特徴とする請求項４記載のダイヘッド。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２０６６８８（Ｐ２０１１−２０６６８８Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７７１３４（Ｐ２０１０−７７１３４）
【出願日】平成２２年３月３０日（２０１０．３．３０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３０日（２０１０．３．３０）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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