ミスト化防止成分を有する組成物
本発明は、下記の成分を含有するコーティング製剤に関する：（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって、：（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物；そして（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分。（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）分子当たり大きい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たりの官能基のより小さい数をもつ、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）のモル量に等しいか、またはより少ないモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）。本発明は、基体をこのコーティング製剤によりコーティングするプロセスのほかに、被覆された基体を1つ以上の硬化工程を施すことによって得られる硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルムにも関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、、ミスト抑制剤組成物を含む組成物、およびミスト化またはアエロゾル化の減少されたレベルが望まれるコーティングプロセスにおけるその特定の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコーン系の紙剥離コーティング製剤が、充分に高い回転運動または並進運動にさらされる作業では、例えば、柔軟な担体と紙の高速ロールコーティングにおいて、ミスト化および／またはアアエロゾル化が重要な問題になりうることは周知である。これら問題は、剥離コーティング剤を１，０００フィート／分に達するロールコーティング速度で塗布するとき、特に重要になるが、一方で、紙コーティング産業における傾向では、１，５００フィート／分を超える速度、例えば、２，０００から３，０００フィート／分の速度を使用している。このミストとアアエロゾルの粒子は、製造作業に悪影響を及ぼす上に、コーティング装置の近くで作業したり労働したりする人々に対して産業衛生上および安全上の課題を提起する。
【０００３】
そのような作業中のミストの生成を減少させるために、「ミスト抑制剤」として一般的に既知である特定の化学物質製剤が、一般に使用されてきた。例えば、米国特許第６，８０５，９１４号および第６，４８９，４０７号（以下「’９１４号特許」および「’４０７号特許」）は、ケイ素に結合された水素基を分子当たり少なくとも３つ有する有機水素化ケイ素化合物（成分（ａ））の少なくとも１つを過剰量で、アルケニル基を分子当たり少なくとも２つ有する化合物（成分（ｂ））の少なくとも１つと反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、少なくとも４．６：１であり、そしてより好ましくは、４．６：１から５００：１までである。
【０００４】
米国特許第６，５８６，５３５号は、「’９１４号特許」および「’４０７号特許」と本質的には逆のものである、すなわち、ケイ素に結合された水素基を少なくとも２つ有する有機水素化ケイ素化合物の少なくとも１つを、ケイ素に結合されたアルケニル基を少なくとも３つ有する有機アルケニルシロキサン化合物の少なくとも１つの過剰量と、反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、１：４．６以下であり、そして好ましくは１：４．６から１：５００まである。
【０００５】
米国特許第６，７６４，７１７号および６，９５６，０９６号は、：（ａ）少なくとも３つの脂肪族二重結合を有する炭化水素を、ケイ素に結合された水素原子を端末にもつオルガノシロキサン化合物の化学量論的に過剰量と、反応させる工程、（ここで脂肪族二重結合に対するケイ素に結合された水素の比は、１．３から１０まで、そして好ましくは１．５から５まである）；そして（ｂ）生成した、ケイ素に結合された水素原子を有する炭化水素−シロキサン共重合体を、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体の化学量論的に過剰量と、反応させる工程、（ここで最初の工程で得られた炭化水素−シロキサン共重合体中のケイ素に結合された水素に対する、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体中の脂肪族二重結合の比は、１．２から１０まで、好ましくは１．５から５．０までである）を含む二工程プロセスから誘導された、シリコーン系のミスト抑制剤組成物を開示する
【０００６】
米国特許第６，８８７，９４９号、第６，７７４，２０１号および第６，７２７，３３８号は、ミスト防止添加剤としてのシリコーンポリマーを開示し、ここで不飽和炭化水素化合物は、シリコーン重合体の合成に使われている。
【０００７】
米国特許第５，６２５，０２３号は、有機ケイ素化合物、オキシアルキレン含有化合物、および触媒を反応させることによって誘導されたミスト抑制剤組成物を開示する。
【０００８】
米国特許第５，３９９，６１４号は、アルケニル末端ポリジオルガノシロキサンと、シリルヒドリド末端有機水素化ポリシロキサンを含む接着剤組成物を開示する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ミスト発生プロセスにおいて、特に高速コーティングプロセスで用いる場合にミスト化の減少されたレベルを持ち、一方ではコスト削減、製造の容易さ、そして使いやすさのような他の利点を提供するコーティング組成物、特に剥離紙組成物に対する必要性が依然としてある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的や他の目的は、第一に、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つ以上のシリルヒドリド含有化合物。
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
を含有する組成物（すなわち、コーティング製剤）を調製することによって達成された。
【００１１】
ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である。
【００１２】
１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。
【００１３】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６未満である数を表す。
【００１４】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。
【００１５】
さらに別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である。
【００１６】
特定の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの、または少なくとも６つの、または少なくとも８つの、またはより大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である。
【００１７】
本発明は、前記のコーティング製剤を、ミスト発生の条件下で基体（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）に塗布することを含有するコーティングプロセスも指向する。コーティング製剤は、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分がないことを除いて他は同じ組成物と比較して、このミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す。
【００１８】
本発明はまた、前記のように、コーティング製剤で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成する硬化されたシリコーン系のコーティングまたはフィルムを指向する。
【００１９】
本発明は、有利には、新規である分岐ポリシロキサンのミスト抑制剤を含む、剥離紙、接着剤、および関連コーティング組成物を提供する。このミスト抑制剤を含む組成物は、使用や製造が、経済的で、簡単であるという付加的な利点を提供する一方で、高速のコーティング作業のあいだミスト化を著しく減少させることが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の組成物は、最低限で２つの成分、すなわち、（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすいシリコーン系コーティング成分；と、（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分（ミスト化防止成分）とを含む。
【００２１】
シリコーン系コーティング成分は、例えば、ロールコーティング、吹付けなどによって、コーティングとして基体に塗布できるような、流動性の粘稠度をもつ必要がある。例えば、シリコーン系コーティング成分は、基体上のコーティングとして容易に塗布することができるように充分低い粘度をもつ、未硬化の、または部分的に硬化された液体であってよい。典型的には、シリコーン系コーティング成分は、１，５００センチポアズ（ｃＰｓ）未満の粘度を、より典型的には５０から１，０００ｃＰｓまでの範囲の、そしてさらに典型的には５０から５００ｃＰｓまでの範囲の粘度を持ち、ここで、１センチポアズ（ｃＰｓ）＝１ミリパスカル・秒（ｍＰａ．ｓ）である。
【００２２】
シリコーン系コーティング成分は、シリコーン系のコーティングが、例えば、離型材、潤滑剤、保護剤、接着剤など、として有用である任意の用途を指向してよい。特に適切なタイプのシリコーン系コーティング成分は、周知の感圧粘着剤の類であり、これは表面に接着し、そして基体表面に痕跡量より多くの接着剤を残さずに、表面から容易に除去される特性をもつ。
【００２３】
例えば、シリコーン系コーティング成分は、技術上既知である任意の硬化可能なシリコーンのコーティングまたは剥離紙組成物であってよい。硬化可能なシリコーンのコーティング組成物の類の幾つかの例は、ヒドロシリル化反応による架橋、ペルオキシド硬化、光硬化（例えば、ＵＶ硬化）、および電子ビーム硬化によって硬化可能な組成物である。
【００２４】
１つの実施態様において、シリコーン系コーティング成分は、以下でさらに議論されるように、ヒドロシリル化反応の条件下で、例えば、ヒドロシリル化触媒の存在下で、架橋が可能な成分を含む。ヒドロシリル化反応の条件下で架橋が可能な成分は、（ｉ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、と（ｉｉ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物とを含む。成分（ｉ）の不飽和炭化水素基の幾つかの例は、ビニル、アリル、３−ブテニル、４−ペンテニル、５−ヘキセニル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネイル、９−デケニル、１０−ウンデケニル、４，７−オクタジエニル、５，８−ノナジエニルなどを含む。
【００２５】
成分（ｉ）の不飽和有機ケイ素化合物、および成分（ｉｉ）のシリルヒドリド含有化合物は、独立して、例えば、低分子量の、シラン、ジシラン、トリシラン、シロキサン、ジシロキサン、トリシロキサン、シクロトリシロキサン、またはシクロテトラトリシロキサンの化合物などであってよく、これらは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方をもつ。ミスト化防止成分用のこのタイプの化合物の各々に関して、以下に本明細書に記載する例にも同様にあてはまる。
【００２６】
その代わりに、成分（ｉ）および／または（ｉｉ）は、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せをもつ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体であってよく、ここで当業者に既知であるように、Ｍ基は、式Ｒ３ＳｉＯ１／２の単官能基を表し、Ｄ基は、式Ｒ２ＳｉＯ２／２の二官能基を表し、Ｔ基は、式ＲＳｉＯ３／２の三官能基を表し、そしてＱ基は、式ＳｉＯ４／２の四官能基を表し、ここで、Ｒ基は、水素、（例えば、Ｃ１からＣ６の）炭化水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、および／またはアミノ基を含む任意の適切な基であってよく、ここで前記のシロキサンにおいてＲ基の少なくとも２つは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方である。成分（ａ）に適切なポリシロキサンの類の幾つかの例は、ＭＤＭ、ＴＤ、ＭＴ、ＭＤＴ、ＭＤＴＱ、ＭＱ、ＭＤＱ、およびＭＴＱの類ポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、これらは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方をもつ。
【００２７】
例えば、シリコーン系コーティング成分は、シリコーン系コーティング成分の全重量に基づいて、９０から９９重量％のビニル化されたポリジメチルシロキサン重合体と、１から１０重量％のシリルヒドリドで官能基化されたシロキサン系化合物または重合体とを含む標準シリコーン剥離紙製剤であってよく、ここで、ビニル含有成分とシリルヒドリド含有成分の各々は、典型的には約２０から５００ｃＰｓの範囲の粘度をもつ。
【００２８】
典型的には、触媒阻害剤は、処理のあいだ触媒による硬化を防ぐために、または保管のあいだ製剤の容器内での寿命や安定性を延ばすために、コーティング製剤に含まれる。触媒阻害剤は、硬化させたい場合には硬化を妨げないのに、一方ではコーティングプロセスのあいだ硬化しないように触媒を阻害できる、当業者に既知の任意の化学薬品であってよい。例えば、触媒阻害剤は、コーティング製剤を塗布するあいだ室温で硬化しないように触媒を充分に阻害するが、硬化をさせたい場合に昇温すると阻害効果を失う化学薬品であってよい。この阻害剤は、典型的には組成物の重量の約５部から約１５部までの量で組成物に含まれる。触媒阻害剤の幾つかの例は、マレイン酸エステル、フマル酸エステル、不飽和アミド、アセチレン化合物、不飽和イソシアナート、不飽和炭化水素ジエステル、ヒドロペルオキシド、ニトリル、およびジアジリジンを含む。
【００２９】
ミスト化防止成分（すなわち、分岐ポリシロキサン成分）は、ミスト化防止量で本発明の組成物（すなわち、コーティング製剤）に含まれる。ミスト化防止量（ミスト抑制剤の量）は、本発明の組成物が、組成物のミスト化またはアアエロゾル化を通常は引き起こすプロセスで使用する場合に、ミスト化またはアアエロゾル化を減少させる量である。典型的には、ミスト化防止成分は、コーティング製剤の約０．１から約１５重量パーセントの量で、そしてより典型的には、約０．５から約５重量パーセントの量でコーティング製剤に含まれる。
【００３０】
ミスト化防止成分は、分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、すなわち成分（ａ）を、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物、すなわち成分（ｂ）と、ヒドロシリル化反応条件下で、共重合させることから生成する。
【００３１】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物は、低分子量化合物、ならびに、１つもしくはそれ以上のケイ素原子を有し、そして少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を持つ高分子量のオリゴマーおよび重合体をも含む。成分（ａ）の有機ケイ素化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つの不飽和炭化水素基を有する（すなわち、ケイ素−酸素結合はないが、ケイ素−炭素結合を有する）オルガノシラン、シロキサンおよびシラザンを含む。
【００３２】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物において不飽和炭化水素基は、ヒドロシリル化条件下でシリルヒドリド基との反応が可能な少なくとも１つの炭素−炭素二重結合または三重結合をもつ、任意の直鎖、分岐または環状の炭化水素基を含む。より典型的には、不飽和炭化水素基は、２から６の炭素原子を有する。不飽和炭化水素基の幾つかの例は、置換されたおよび無置換のビニル、アリル、ブテニル、ブタジエニル、４−ペンテニル、２，４−ペンタジエニル、５−ヘキセニル、シクロブテニル、シクロヘキセニル、アクリロイル、およびメタクリロイルを含む。
【００３３】
成分（ａ）の低分子量の有機シラン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルメチルプロピルシラン、ジビニルジプロピルシラン、ジビニルジイソプロピルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジビニルフェニルプロピルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルエトキシシラン、トリビニルクロロシラン、トリビニルフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、アリルビニルジメチルシラン、トリビニルフェニルシラン、１，３−ジビニルテトラメチルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，１，４，４，４−ヘキサビニルジシリルエタン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタン、および１，１，１，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタンを含む。
【００３４】
成分（ａ）の低分子量のシロキサン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルエトキシシラン、ジアリルジエトキシシラン、トリアリルエトキシシラン、ビニルジメチルシロキシビニルジメチルカルビノール（ＣＨ２＝ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２＝ＣＨ２）、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラエチルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メチルシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メトキシシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）フェニルシラン、およびテトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シランを含む。
【００３５】
成分（ａ）の線状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，５−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，５−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，５，５−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジフェニルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメトキシトリシロキサン、１，７−ジビニルオクタメチルテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサン、および１，１，７，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサンを含む。
【００３６】
成分（ａ）の環状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンを含む。
【００３７】
成分（ａ）のシラザンの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，３−ジフェニル−１，３−ジメチルジシラザン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシラザン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００３８】
成分（ａ）の重合体のシロキサン（ポリシロキサン）は、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せを持つ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含み、ここで、当業者に既知のように、Ｍ基は、式Ｒ３ＳｉＯ１／２の単官能基を表し、Ｄ基は、式Ｒ２ＳｉＯ２／２の二官能基を表し、Ｔ基は、式ＲＳｉＯ３／２の三官能基を表し、そして、Ｑ基は、式ＳｉＯ４／２の四官能基を表し、そしてここで少なくともＲ基の２つは、不飽和炭化水素基であり、そしてＲ基の残りは、（例えば、Ｃ１からＣ６の）炭化水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、および／またはアミノ基を含む任意の適切な基であってよい。
【００３９】
成分（ａ）に適切なポリシロキサンの類の幾つかの例は、ＭＤＭ、ＴＤ、ＭＴ、ＭＤＴ、ＭＤＴＱ、ＭＱ、ＭＤＱ、およびＭＴＱの類のポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、これらは少なくとも２つの不飽和炭化水素基を持つ。
【００４０】
特定の実施態様において、成分（ａ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤｖｉ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＶｉ基をもつＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここでＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、Ｍｖｉは（ＣＨ２＝ＣＨ２）Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そして、Ｄｖｉは−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、「ｖｉ」は、「ビニル」の略語であり、そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのビニル基を有する。
【００４１】
成分（ａ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭｖｉＤｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭｖｉ、ＭＤｖｉｎＭ、およびＭＤｖｉｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサンを含み、式中、ｍおよびｎは各々少なくとも１を表す。ＭＤポリシロキサンのこれらの類の任意の１つ、または組合せは、成分（ａ）に使用してよい。様々な実施態様において、ｍおよびｎは、独立して、例えば１から１０、１１から２０、５０から１００、１０１から２００、２０１から５００、５０１から１５００の範囲内の数、そしてより大きい数を表すことができる。
【００４２】
Ｄｖｉ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭは、重合体を表すことができる。式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表す。そしてここで５から２０のＤｖｉ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００４３】
他の実施態様において、Ｍｖｉ基およびＤｖｉ基は、各々独立して、例えばＭｖｉに対しては（ＣＨ２＝ＣＨ２）２（ＣＨ３）ＳｉＯ−基および（ＣＨ２＝ＣＨ２）３ＳｉＯ−基、またはＤｖｉに対しては−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）２Ｏ−のような、より大きい数の不飽和官能基を含んでもよい。
【００４４】
成分（ｂ）の１つもしくは以上のシリルヒドリド含有化合物は、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する任意の低分子量化合物、オリゴマー、または重合体を含む。成分（ｂ）のシリルヒドリド含有化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、有機シラン、シロキサン、およびシラザンを含む。
【００４５】
成分（ｂ）の低分子量化合物の幾つかの例は、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジ−（ｎ−プロピル）シラン、ジイソプロピルシラン、ジフェニルシラン、メチルクロロシラン、ジクロロシラン、１，３−ジシラプロパン、１，３−ジシラブタン、１，４−ジシラブタン、１，３−ジシラペンタン、１，４−ジシラペンタン、１，５−ジシラペンタン、１，６−ジシラヘキサン、ビス−１，２−（ジメチルシリル）エタン、ビス−１，３−（ジメチルシリル）プロパン、１，２，３−トリシリルプロパン、１，４−ジシリルベンゼン、１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１、１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサンを含む。
【００４６】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有シラザンの幾つかの例は、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリメチルシクロトリシラザン、１，２，３，４，５，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、および１，２，３，４，５，６，７，８−オクタメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００４７】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有のオリゴマーおよび重合体の幾つかの例は、オリゴマーまたは重合体において、前記のＭ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せをもち、そして少なくとも２つのシリルヒドリド官能基をもつ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含む。
【００４８】
特定の実施態様において、成分（ｂ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤＨ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＨ基をもつ、ＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここで、ＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、ＭＨはＨＳｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そしてＤＨは−Ｓｉ（Ｈ）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのシリルヒドリド基を有する。
【００４９】
成分（ｂ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭＨＤｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＭ、ＭＨＤＨｎＤｍＭ、ＭＨＤＨｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＤｍＭＨ、ＭＤＨｎＭ、およびＭＤＨｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、式中、ｍおよびｎは、各々少なくとも１を表し、そして上に記載した任意の数値を持ってよい。
【００５０】
ＤＨ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭＨＤＨｎＤｍＭは、重合体を表すことができ、式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表し、そしてここで、５から２０のＤＨ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００５１】
他の実施態様において、ＭＨおよびＤＨ基は、独立して、例えば、ＭＨに対してはＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｏ−およびＨ３ＳｉＯ−基、またはＤＨに対しては−Ｓｉ（Ｈ）２Ｏ−のような、より大きい数のシリルヒドリド官能基を持ってよい。
【００５２】
本発明によれば、成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する。例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基を持ってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり２つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たり３つの官能基を各々有してよい；または、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基をもってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たりの４つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たりの４つの官能基を各々有してよい；などである。
【００５３】
１つの実施態様において、成分（ａ）および（ｂ）は、等しい数の官能基を有し、そして相互に関しては等しいかまたは同じようなモル量を含む任意のモル比である。別の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より大きい数の官能基を有し、そして両方の成分は等しいモル量である。
【００５４】
別の実施態様において、分岐ポリシロキサンは、星形重合体に類似した分岐パターン（ｂｒａｎｃｈｉｎｇ ｐａｔｔｅｒｎ）に従い、ここで、より大きい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のどちらか一方の分子（すなわち、架橋剤）は、より小さい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のどちらか一方の分子（すなわち、増量剤）より、少ないモル量である。前記の星形重合体のパターンは、分岐がたくさんある樹枝状パターン（ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ ｐａｔｔｅｒｎ）とは異なる。
【００５５】
例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、少なくとも４つ、５つ、６つ、７つ、８つ、９つ、１０、またはそれより大きい数の官能基を持つことができ、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を有する他の成分（ａ）または（ｂ）より小さい数のモル量であってよい。
【００５６】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対する任意の適切なモル比であってよく、例えば、１００：１、５０：１、２５：１、２０：１、１０：１、１：１０、１：２０、１：２５、１：５０、１：１００、およびそれの間の比の範囲であってよい。
【００５７】
特定の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内にあり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。（ｂ）の官能基に対する（ａ）の官能基のそのようなモル比の幾つかの例は、６：１、５．５：１、５：１、４．５：１、４：１、３．５：１、３：１、２．５：１、２：１、１．５：１、１．４：１、１．２：１、１：１．２、１：１．４、１：１．５、１：２、１：２．５、１：３、１：３．５、１：４、１：４．５、１：５、１：５．５、および１：６、そしてそれの間の比の範囲を含む。
【００５８】
例えば、１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す。別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして３．２５より小さい数を表す。さらに、別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１の範囲内である。
【００５９】
分岐ポリシロキサンの粘度は、典型的には１，５００センチポアズ（ｃＰｓ）より大きく、ここで、１ｃＰｓ＝１ミリパスカル秒（ｍＰａ．ｓ）である。より典型的には、分岐ポリシロキサンの粘度は、約３，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上であり、そして、さらにより典型的には、約５，０００ｃＰｓである。他の実施態様において、分岐ポリシロキサンの粘度は、約１０，０００ｃＰｓであるかもしくは以上、約２５，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上、約５０，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上、またはより高い粘度であってよい。
【００６０】
１つの実施態様において、４価のＳｉＣ４／２基（すなわち、Ｑ基）は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００６１】
別の実施態様において、例えば、アルファ−オレフィンのような不飽和炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサンへ誘導されることになる成分混合物から除外される。そのような不飽和炭化水素化合物の幾つかの例は、式ＣＨ２＝ＣＨＲ１のアルファ−オレフィンを含み、式中、Ｒ１は、ハロゲン、水素、または１から６０の炭素原子をもつヘテロ原子で置換されたまたは無置換の炭化水素基から選択される。幾つかのヘテロ原子は、酸素（Ｏ）原子および窒素（Ｎ）原子を含む。
【００６２】
さらに別の実施態様において、オキシアルキレン含有および／またはエステル含有の、飽和または不飽和の化合物のようなオキシ置換炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００６３】
ミスト化防止成分の分岐ポリシロキサンは、ヒドロシリル化条件下で成分（ａ）と成分（ｂ）との共重合から生成する。「ヒドロシリル化条件」は、不飽和基を有する化合物とシリルヒドリド基を有する化合物との間のヒドロシリル化による架橋に関して、当業者に既知の条件を意味する。
【００６４】
当業者に既知であるように、ヒドロシリル化触媒は、成分を混合する間に、または混合した後に、適切な温度で成分（ａ）と（ｂ）との間のヒドロシリル化反応を促進するか、または達成するのに必要である。ヒドロシリル化触媒は、典型的には１つもしくはそれ以上の白金族金属または白金族金属錯体を含む。例えば、ヒドロシリル化触媒は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、または白金の金属形態または錯体形態であってよい。より典型的には、ヒドロシリル化触媒は白金系である。白金系触媒は、例えば、白金の金属、担体（例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア、または炭素）上に析出させた白金の金属、塩化白金酸、または白金の錯体であってよく、ここで白金は、ジビニルテトラメチルジシロキサンのような弱く結合する配位子と錯体を形成する。白金触媒は、例えば、１から１００ｐｐｍの濃度範囲で含まれてよいが、より典型的には約５から約４０ｐｐｍの濃度で含まれる。
【００６５】
補助的な成分および他の成分は、本発明のコーティング製剤において、必要に応じて含まれてよい。幾つかのタイプの補助的な成分は、（前記のような）触媒阻害剤、界面活性剤、および希釈剤を含む。希釈剤の幾つかの例は、炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、およびキシレン）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、およびハロゲン化炭化水素（例えば、トリクロロエテンおよびテトラクロロエチレン）を含む。
【００６６】
別の態様において、本発明は、コーティング製剤のミスト化またはアアエロゾル化が生じることが知られている条件下で、本発明のコーティング製剤が基体に塗布するコーティングプロセスを指向する。そのようなミスト発生の条件のあいだで本発明のコーティング製剤は、分岐ポリシロキサンのミスト化防止量がないコーティング製剤と比較して、減少されたミスト化を示すことになる。
【００６７】
コーティング製剤は、例えば、ロールコーティングによって、その代わりに、適切な塗布用具（例えば、ノズル）からの噴霧によって、塗布してよく、ここで、塗布用具は、基体に関して静止状態または移動状態であってよい。ミスト化またはアアエロゾル化は、主に基体に対する塗布用具の移動によってしばしば引き起こされるが、ミスト化またはアエロゾル化は、塗布用具または基体の移動以外の要因によっても引き起こされうる。例えば、ミスト化は、基体に関して塗布用具の任意の移動によってというより、むしろ塗布の方法によって（例えば、静止した、またはゆっくりとした噴霧プロセスで）部分的にまたは大部分は引き起こされうる。
【００６８】
本発明のコーティングプロセスは、移動がミスト化またはアエロゾル化の主な原因となる、動いている基体にコーティング製剤が塗布されるプロセスに特に適する。この移動は、ミスト化またはアエロゾル化を引き起こすことのできる移動の類、例えば、並進運動および／または回転運動のミスト発生のレベル、であってよい。
【００６９】
基体は、前記のコーティング製剤をコーティングしたい任意の基体であってよい。適切な基体の幾つかの例は、紙、厚紙、木製品、重合体製品、プラスチック製品、ガラス製品、および金属製品を含む。
【００７０】
別の態様において、本発明は、前記のコーティング製剤を基体上に塗布した後に、それを硬化する（ｈａｒｄｅｎｉｎｇ）または硬化する（ｃｕｒｉｎｇ）ことによって得られる硬化された（ｈａｒｄｅｎｅｄ）（すなわち、硬化された；ｃｕｒｅｄ）コーティングを指向する。コーティング製剤は、一旦基体に塗布されると、例えば、ヒドロシリル化反応による架橋、過酸化物硬化、光硬化（例えば、紫外線硬化）、および電子ビーム硬化を含む、当業者に既知の適切な任意の硬化方法によって硬化してよい。
【００７１】
硬化されたコーティングは、もし望むなら、基体のないコーティング自体が、例えば、応用できるフィルムとしての用途に有用な製品であるような場合に、基体からはがしてもよい。基体からコーティングの、すなわち硬化されたフィルムの分離を助けるために、剥離添加剤がコーティング製剤に、または基体とコーティング製剤との間で使われる剥離フィルムに含まれてもよい。
【００７２】
実施例は、例証を目的として以下に説明されている。本発明の範囲は、ここに説明された実施例によって決して制限されるものではない。
【実施例】
【００７３】
実施例１
ミスト化防止成分（分岐ポリシロキサン）の合成
本実施例において、成分Ａと称される成分は、市販の２００から３００ｃＰｓの粘度をもつ、式ＭｖｉＤ１１０Ｍｖｉの二官能性ビニル末端のポリシロキサンである。成分Ｂと称される成分は、市販の６，０００から１５，０００ｃＰｓの粘度、および１５５から１８０ｐｐｍの水素化物含量をもつ、式ＭＤ５００ＤＨ６．５Ｍの六官能性シリルヒドリド含有ポリシロキサンであり、式中、６．５は、Ｄ基中で不規則に組み合わされたＤＨ基の平均数を表す。成分Ｃと称される成分は、市販の１０重量％の白金を含む触媒製剤である。
【００７４】
頂部のかくはん器、窒素ガス注入口、温度計、および油浴を備えた１リットルの反応器に、１６８．７ｇ（約２０．２ｍｍｏｌ）の成分Ａおよび約０．０５ｇの成分Ｃを入れた。混合物を周囲条件下で１時間かくはんした。次に、５４．４ｇ（約１．４ｍｍｏｌ）の成分Ｂを４℃まで冷却し、次にかくはんしながら前記の成分に加えた。混合物を周囲条件下で１５分間かくはんし、その後ゆっくりと９０℃に加熱した。３０分後、多少のゲル化が観察された。この反応混合物に、９０℃で２５５．５ｇの成分Ａを加えた。混合物を９０℃で２時間かくはんし、室温（およそ２５℃）に冷却し、そして反応器から取り出した。生成物の量は、４３０．９ｇであり、収率９０％に相当した。ずり粘性と剛性率を１２Ｈｚで測定したところ、それぞれ２．８１３Ｐａ．ｓと２０１．２Ｐａであった。
【００７５】
実施例２
ミスト化防止成分を含むコーティング製剤の合成
２ガロンのプラスチック製ペール缶に、１００ｐｐｍの白金と０．４％のジアリルマレアート阻害剤を含む市販のＭＶｉＤ１１０ＭＶｉ溶液９４部（１，８８０ｇ）を入れた。ミスト防止添加剤を、６部（１２０ｇ）の量でペール缶に入れ、そしてドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で混合した。架橋剤、市販の水素化物（ＭＤ３０ＤＨ１５Ｍ）を、５．５部（１１０ｇ）の量でペール缶に加えた。この混合物をドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で充分に混合した。
【００７６】
実施例３
ミスト化防止成分を含むコーティング製剤の合成
２ガロンのプラスチック製ペール缶に、ｌ００ｐｐｍの白金と０．４％のジアリルマレアート阻害剤を含む市販のＭＶｉＤ１００ＤＶｉ２．５ＭＶｉ溶液８７．８部（１，６５６ｇ）を入れた。ミスト防止添加剤を、６部（１１３ｇ）の量でペール缶に入れ、そしてドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で混合した。架橋剤、市販の水素化物（ＭＤ３０ＤＨ１５Ｍ）を、６．０部（１１３ｇ）の量でペール缶に加えた。この混合物をドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で充分に混合した。
【００７７】
実施例４
コーティングプロセス
パイロットスケールのコーティング機を、総てのコーティングとミスト化の研究に使用した。５本ロールのコーティング機を毎分３，０００フィートで運転した。基体は、幅１８インチのオーティスミル（Ｏｔｉｓ Ｍｉｌｌ）ＵＶ３５０の紙であった。コーティング機には、３ｘ５フィートの空気浮遊−ガス加熱式乾燥機を装備し、５５０°Ｆに設定した。被膜重量は、約０．８ポンド／リーム（ｌｂ／ｒｅａｍ）に設定した。ミストの測定は、紙の基体を毎分３，０００フィートでコーティングしながら、ＴＳＩ社（ＴＳＩ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ， Ｓｈｏｒｅｖｉｅｗ， Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）によって製造されたＤＵＳＴＴＲＡＫ８５２０アエロゾル監視装置で行った。この測定は、バックアップロールと塗布ロールとの間の接触点に相当する高さで、インナーゲートロールとアウターゲートロールの上部で行った。
【００７８】
上で述べたように、本発明の好ましい実施態様であると現在考えられることを記載したが、本発明の趣旨から逸脱しないで、他の実施態様およびさらなる実施態様がなされうることを、当業者なら明確に理解しよう。ここで説明した真の特許請求の範囲内に入る、そのような更に進んだ修飾および変更の総てを含むことを意図するものである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、、ミスト抑制剤組成物を含む組成物、およびミスト化またはアエロゾル化の減少されたレベルが望まれるコーティングプロセスにおけるその特定の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコーン系の紙剥離コーティング製剤が、充分に高い回転運動または並進運動にさらされる作業では、例えば、柔軟な担体と紙の高速ロールコーティングにおいて、ミスト化および／またはアアエロゾル化が重要な問題になりうることは周知である。これら問題は、剥離コーティング剤を１，０００フィート／分に達するロールコーティング速度で塗布するとき、特に重要になるが、一方で、紙コーティング産業における傾向では、１，５００フィート／分を超える速度、例えば、２，０００から３，０００フィート／分の速度を使用している。このミストとアアエロゾルの粒子は、製造作業に悪影響を及ぼす上に、コーティング装置の近くで作業したり労働したりする人々に対して産業衛生上および安全上の課題を提起する。
【０００３】
そのような作業中のミストの生成を減少させるために、「ミスト抑制剤」として一般的に既知である特定の化学物質製剤が、一般に使用されてきた。例えば、米国特許第６，８０５，９１４号および第６，４８９，４０７号（以下「’９１４号特許」および「’４０７号特許」）は、ケイ素に結合された水素基を分子当たり少なくとも３つ有する有機水素化ケイ素化合物（成分（ａ））の少なくとも１つを過剰量で、アルケニル基を分子当たり少なくとも２つ有する化合物（成分（ｂ））の少なくとも１つと反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、少なくとも４．６：１であり、そしてより好ましくは、４．６：１から５００：１までである。
【０００４】
米国特許第６，５８６，５３５号は、「’９１４号特許」および「’４０７号特許」と本質的には逆のものである、すなわち、ケイ素に結合された水素基を少なくとも２つ有する有機水素化ケイ素化合物の少なくとも１つを、ケイ素に結合されたアルケニル基を少なくとも３つ有する有機アルケニルシロキサン化合物の少なくとも１つの過剰量と、反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、１：４．６以下であり、そして好ましくは１：４．６から１：５００まである。
【０００５】
米国特許第６，７６４，７１７号および６，９５６，０９６号は、：（ａ）少なくとも３つの脂肪族二重結合を有する炭化水素を、ケイ素に結合された水素原子を端末にもつオルガノシロキサン化合物の化学量論的に過剰量と、反応させる工程、（ここで脂肪族二重結合に対するケイ素に結合された水素の比は、１．３から１０まで、そして好ましくは１．５から５まである）；そして（ｂ）生成した、ケイ素に結合された水素原子を有する炭化水素−シロキサン共重合体を、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体の化学量論的に過剰量と、反応させる工程、（ここで最初の工程で得られた炭化水素−シロキサン共重合体中のケイ素に結合された水素に対する、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体中の脂肪族二重結合の比は、１．２から１０まで、好ましくは１．５から５．０までである）を含む二工程プロセスから誘導された、シリコーン系のミスト抑制剤組成物を開示する
【０００６】
米国特許第６，８８７，９４９号、第６，７７４，２０１号および第６，７２７，３３８号は、ミスト防止添加剤としてのシリコーンポリマーを開示し、ここで不飽和炭化水素化合物は、シリコーン重合体の合成に使われている。
【０００７】
米国特許第５，６２５，０２３号は、有機ケイ素化合物、オキシアルキレン含有化合物、および触媒を反応させることによって誘導されたミスト抑制剤組成物を開示する。
【０００８】
米国特許第５，３９９，６１４号は、アルケニル末端ポリジオルガノシロキサンと、シリルヒドリド末端有機水素化ポリシロキサンを含む接着剤組成物を開示する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ミスト発生プロセスにおいて、特に高速コーティングプロセスで用いる場合にミスト化の減少されたレベルを持ち、一方ではコスト削減、製造の容易さ、そして使いやすさのような他の利点を提供するコーティング組成物、特に剥離紙組成物に対する必要性が依然としてある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的や他の目的は、第一に、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つ以上のシリルヒドリド含有化合物。
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
を含有する組成物（すなわち、コーティング製剤）を調製することによって達成された。
【００１１】
ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である。
【００１２】
１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。
【００１３】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６未満である数を表す。
【００１４】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。
【００１５】
さらに別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である。
【００１６】
特定の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの、または少なくとも６つの、または少なくとも８つの、またはより大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である。
【００１７】
本発明は、前記のコーティング製剤を、ミスト発生の条件下で基体（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）に塗布することを含有するコーティングプロセスも指向する。コーティング製剤は、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分がないことを除いて他は同じ組成物と比較して、このミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す。
【００１８】
本発明はまた、前記のように、コーティング製剤で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成する硬化されたシリコーン系のコーティングまたはフィルムを指向する。
【００１９】
本発明は、有利には、新規である分岐ポリシロキサンのミスト抑制剤を含む、剥離紙、接着剤、および関連コーティング組成物を提供する。このミスト抑制剤を含む組成物は、使用や製造が、経済的で、簡単であるという付加的な利点を提供する一方で、高速のコーティング作業のあいだミスト化を著しく減少させることが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の組成物は、最低限で２つの成分、すなわち、（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすいシリコーン系コーティング成分；と、（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分（ミスト化防止成分）とを含む。
【００２１】
シリコーン系コーティング成分は、例えば、ロールコーティング、吹付けなどによって、コーティングとして基体に塗布できるような、流動性の粘稠度をもつ必要がある。例えば、シリコーン系コーティング成分は、基体上のコーティングとして容易に塗布することができるように充分低い粘度をもつ、未硬化の、または部分的に硬化された液体であってよい。典型的には、シリコーン系コーティング成分は、１，５００センチポアズ（ｃＰｓ）未満の粘度を、より典型的には５０から１，０００ｃＰｓまでの範囲の、そしてさらに典型的には５０から５００ｃＰｓまでの範囲の粘度を持ち、ここで、１センチポアズ（ｃＰｓ）＝１ミリパスカル・秒（ｍＰａ．ｓ）である。
【００２２】
シリコーン系コーティング成分は、シリコーン系のコーティングが、例えば、離型材、潤滑剤、保護剤、接着剤など、として有用である任意の用途を指向してよい。特に適切なタイプのシリコーン系コーティング成分は、周知の感圧粘着剤の類であり、これは表面に接着し、そして基体表面に痕跡量より多くの接着剤を残さずに、表面から容易に除去される特性をもつ。
【００２３】
例えば、シリコーン系コーティング成分は、技術上既知である任意の硬化可能なシリコーンのコーティングまたは剥離紙組成物であってよい。硬化可能なシリコーンのコーティング組成物の類の幾つかの例は、ヒドロシリル化反応による架橋、ペルオキシド硬化、光硬化（例えば、ＵＶ硬化）、および電子ビーム硬化によって硬化可能な組成物である。
【００２４】
１つの実施態様において、シリコーン系コーティング成分は、以下でさらに議論されるように、ヒドロシリル化反応の条件下で、例えば、ヒドロシリル化触媒の存在下で、架橋が可能な成分を含む。ヒドロシリル化反応の条件下で架橋が可能な成分は、（ｉ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、と（ｉｉ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物とを含む。成分（ｉ）の不飽和炭化水素基の幾つかの例は、ビニル、アリル、３−ブテニル、４−ペンテニル、５−ヘキセニル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネイル、９−デケニル、１０−ウンデケニル、４，７−オクタジエニル、５，８−ノナジエニルなどを含む。
【００２５】
成分（ｉ）の不飽和有機ケイ素化合物、および成分（ｉｉ）のシリルヒドリド含有化合物は、独立して、例えば、低分子量の、シラン、ジシラン、トリシラン、シロキサン、ジシロキサン、トリシロキサン、シクロトリシロキサン、またはシクロテトラトリシロキサンの化合物などであってよく、これらは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方をもつ。ミスト化防止成分用のこのタイプの化合物の各々に関して、以下に本明細書に記載する例にも同様にあてはまる。
【００２６】
その代わりに、成分（ｉ）および／または（ｉｉ）は、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せをもつ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体であってよく、ここで当業者に既知であるように、Ｍ基は、式Ｒ３ＳｉＯ１／２の単官能基を表し、Ｄ基は、式Ｒ２ＳｉＯ２／２の二官能基を表し、Ｔ基は、式ＲＳｉＯ３／２の三官能基を表し、そしてＱ基は、式ＳｉＯ４／２の四官能基を表し、ここで、Ｒ基は、水素、（例えば、Ｃ１からＣ６の）炭化水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、および／またはアミノ基を含む任意の適切な基であってよく、ここで前記のシロキサンにおいてＲ基の少なくとも２つは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方である。成分（ａ）に適切なポリシロキサンの類の幾つかの例は、ＭＤＭ、ＴＤ、ＭＴ、ＭＤＴ、ＭＤＴＱ、ＭＱ、ＭＤＱ、およびＭＴＱの類ポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、これらは、成分（ｉ）に関しては少なくとも２つの不飽和炭化水素基、または成分（ｉｉ）に関しては少なくとも２つのシリルヒドリド官能基のいずれか一方をもつ。
【００２７】
例えば、シリコーン系コーティング成分は、シリコーン系コーティング成分の全重量に基づいて、９０から９９重量％のビニル化されたポリジメチルシロキサン重合体と、１から１０重量％のシリルヒドリドで官能基化されたシロキサン系化合物または重合体とを含む標準シリコーン剥離紙製剤であってよく、ここで、ビニル含有成分とシリルヒドリド含有成分の各々は、典型的には約２０から５００ｃＰｓの範囲の粘度をもつ。
【００２８】
典型的には、触媒阻害剤は、処理のあいだ触媒による硬化を防ぐために、または保管のあいだ製剤の容器内での寿命や安定性を延ばすために、コーティング製剤に含まれる。触媒阻害剤は、硬化させたい場合には硬化を妨げないのに、一方ではコーティングプロセスのあいだ硬化しないように触媒を阻害できる、当業者に既知の任意の化学薬品であってよい。例えば、触媒阻害剤は、コーティング製剤を塗布するあいだ室温で硬化しないように触媒を充分に阻害するが、硬化をさせたい場合に昇温すると阻害効果を失う化学薬品であってよい。この阻害剤は、典型的には組成物の重量の約５部から約１５部までの量で組成物に含まれる。触媒阻害剤の幾つかの例は、マレイン酸エステル、フマル酸エステル、不飽和アミド、アセチレン化合物、不飽和イソシアナート、不飽和炭化水素ジエステル、ヒドロペルオキシド、ニトリル、およびジアジリジンを含む。
【００２９】
ミスト化防止成分（すなわち、分岐ポリシロキサン成分）は、ミスト化防止量で本発明の組成物（すなわち、コーティング製剤）に含まれる。ミスト化防止量（ミスト抑制剤の量）は、本発明の組成物が、組成物のミスト化またはアアエロゾル化を通常は引き起こすプロセスで使用する場合に、ミスト化またはアアエロゾル化を減少させる量である。典型的には、ミスト化防止成分は、コーティング製剤の約０．１から約１５重量パーセントの量で、そしてより典型的には、約０．５から約５重量パーセントの量でコーティング製剤に含まれる。
【００３０】
ミスト化防止成分は、分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、すなわち成分（ａ）を、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物、すなわち成分（ｂ）と、ヒドロシリル化反応条件下で、共重合させることから生成する。
【００３１】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物は、低分子量化合物、ならびに、１つもしくはそれ以上のケイ素原子を有し、そして少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を持つ高分子量のオリゴマーおよび重合体をも含む。成分（ａ）の有機ケイ素化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つの不飽和炭化水素基を有する（すなわち、ケイ素−酸素結合はないが、ケイ素−炭素結合を有する）オルガノシラン、シロキサンおよびシラザンを含む。
【００３２】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物において不飽和炭化水素基は、ヒドロシリル化条件下でシリルヒドリド基との反応が可能な少なくとも１つの炭素−炭素二重結合または三重結合をもつ、任意の直鎖、分岐または環状の炭化水素基を含む。より典型的には、不飽和炭化水素基は、２から６の炭素原子を有する。不飽和炭化水素基の幾つかの例は、置換されたおよび無置換のビニル、アリル、ブテニル、ブタジエニル、４−ペンテニル、２，４−ペンタジエニル、５−ヘキセニル、シクロブテニル、シクロヘキセニル、アクリロイル、およびメタクリロイルを含む。
【００３３】
成分（ａ）の低分子量の有機シラン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルメチルプロピルシラン、ジビニルジプロピルシラン、ジビニルジイソプロピルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジビニルフェニルプロピルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルエトキシシラン、トリビニルクロロシラン、トリビニルフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、アリルビニルジメチルシラン、トリビニルフェニルシラン、１，３−ジビニルテトラメチルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，１，４，４，４−ヘキサビニルジシリルエタン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタン、および１，１，１，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタンを含む。
【００３４】
成分（ａ）の低分子量のシロキサン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルエトキシシラン、ジアリルジエトキシシラン、トリアリルエトキシシラン、ビニルジメチルシロキシビニルジメチルカルビノール（ＣＨ２＝ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２＝ＣＨ２）、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラエチルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メチルシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メトキシシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）フェニルシラン、およびテトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シランを含む。
【００３５】
成分（ａ）の線状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，５−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，５−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，５，５−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジフェニルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメトキシトリシロキサン、１，７−ジビニルオクタメチルテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサン、および１，１，７，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサンを含む。
【００３６】
成分（ａ）の環状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンを含む。
【００３７】
成分（ａ）のシラザンの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，３−ジフェニル−１，３−ジメチルジシラザン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシラザン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００３８】
成分（ａ）の重合体のシロキサン（ポリシロキサン）は、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せを持つ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含み、ここで、当業者に既知のように、Ｍ基は、式Ｒ３ＳｉＯ１／２の単官能基を表し、Ｄ基は、式Ｒ２ＳｉＯ２／２の二官能基を表し、Ｔ基は、式ＲＳｉＯ３／２の三官能基を表し、そして、Ｑ基は、式ＳｉＯ４／２の四官能基を表し、そしてここで少なくともＲ基の２つは、不飽和炭化水素基であり、そしてＲ基の残りは、（例えば、Ｃ１からＣ６の）炭化水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、および／またはアミノ基を含む任意の適切な基であってよい。
【００３９】
成分（ａ）に適切なポリシロキサンの類の幾つかの例は、ＭＤＭ、ＴＤ、ＭＴ、ＭＤＴ、ＭＤＴＱ、ＭＱ、ＭＤＱ、およびＭＴＱの類のポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、これらは少なくとも２つの不飽和炭化水素基を持つ。
【００４０】
特定の実施態様において、成分（ａ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤｖｉ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＶｉ基をもつＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここでＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、Ｍｖｉは（ＣＨ２＝ＣＨ２）Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そして、Ｄｖｉは−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、「ｖｉ」は、「ビニル」の略語であり、そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのビニル基を有する。
【００４１】
成分（ａ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭｖｉＤｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭｖｉ、ＭＤｖｉｎＭ、およびＭＤｖｉｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサンを含み、式中、ｍおよびｎは各々少なくとも１を表す。ＭＤポリシロキサンのこれらの類の任意の１つ、または組合せは、成分（ａ）に使用してよい。様々な実施態様において、ｍおよびｎは、独立して、例えば１から１０、１１から２０、５０から１００、１０１から２００、２０１から５００、５０１から１５００の範囲内の数、そしてより大きい数を表すことができる。
【００４２】
Ｄｖｉ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭは、重合体を表すことができる。式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表す。そしてここで５から２０のＤｖｉ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００４３】
他の実施態様において、Ｍｖｉ基およびＤｖｉ基は、各々独立して、例えばＭｖｉに対しては（ＣＨ２＝ＣＨ２）２（ＣＨ３）ＳｉＯ−基および（ＣＨ２＝ＣＨ２）３ＳｉＯ−基、またはＤｖｉに対しては−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）２Ｏ−のような、より大きい数の不飽和官能基を含んでもよい。
【００４４】
成分（ｂ）の１つもしくは以上のシリルヒドリド含有化合物は、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する任意の低分子量化合物、オリゴマー、または重合体を含む。成分（ｂ）のシリルヒドリド含有化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、有機シラン、シロキサン、およびシラザンを含む。
【００４５】
成分（ｂ）の低分子量化合物の幾つかの例は、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジ−（ｎ−プロピル）シラン、ジイソプロピルシラン、ジフェニルシラン、メチルクロロシラン、ジクロロシラン、１，３−ジシラプロパン、１，３−ジシラブタン、１，４−ジシラブタン、１，３−ジシラペンタン、１，４−ジシラペンタン、１，５−ジシラペンタン、１，６−ジシラヘキサン、ビス−１，２−（ジメチルシリル）エタン、ビス−１，３−（ジメチルシリル）プロパン、１，２，３−トリシリルプロパン、１，４−ジシリルベンゼン、１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１、１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサンを含む。
【００４６】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有シラザンの幾つかの例は、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリメチルシクロトリシラザン、１，２，３，４，５，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、および１，２，３，４，５，６，７，８−オクタメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００４７】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有のオリゴマーおよび重合体の幾つかの例は、オリゴマーまたは重合体において、前記のＭ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せをもち、そして少なくとも２つのシリルヒドリド官能基をもつ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含む。
【００４８】
特定の実施態様において、成分（ｂ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤＨ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＨ基をもつ、ＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここで、ＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、ＭＨはＨＳｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そしてＤＨは−Ｓｉ（Ｈ）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのシリルヒドリド基を有する。
【００４９】
成分（ｂ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭＨＤｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＭ、ＭＨＤＨｎＤｍＭ、ＭＨＤＨｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＤｍＭＨ、ＭＤＨｎＭ、およびＭＤＨｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、式中、ｍおよびｎは、各々少なくとも１を表し、そして上に記載した任意の数値を持ってよい。
【００５０】
ＤＨ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭＨＤＨｎＤｍＭは、重合体を表すことができ、式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表し、そしてここで、５から２０のＤＨ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００５１】
他の実施態様において、ＭＨおよびＤＨ基は、独立して、例えば、ＭＨに対してはＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｏ−およびＨ３ＳｉＯ−基、またはＤＨに対しては−Ｓｉ（Ｈ）２Ｏ−のような、より大きい数のシリルヒドリド官能基を持ってよい。
【００５２】
本発明によれば、成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する。例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基を持ってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり２つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たり３つの官能基を各々有してよい；または、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基をもってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たりの４つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たりの４つの官能基を各々有してよい；などである。
【００５３】
１つの実施態様において、成分（ａ）および（ｂ）は、等しい数の官能基を有し、そして相互に関しては等しいかまたは同じようなモル量を含む任意のモル比である。別の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より大きい数の官能基を有し、そして両方の成分は等しいモル量である。
【００５４】
別の実施態様において、分岐ポリシロキサンは、星形重合体に類似した分岐パターン（ｂｒａｎｃｈｉｎｇ ｐａｔｔｅｒｎ）に従い、ここで、より大きい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のどちらか一方の分子（すなわち、架橋剤）は、より小さい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のどちらか一方の分子（すなわち、増量剤）より、少ないモル量である。前記の星形重合体のパターンは、分岐がたくさんある樹枝状パターン（ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ ｐａｔｔｅｒｎ）とは異なる。
【００５５】
例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、少なくとも４つ、５つ、６つ、７つ、８つ、９つ、１０、またはそれより大きい数の官能基を持つことができ、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を有する他の成分（ａ）または（ｂ）より小さい数のモル量であってよい。
【００５６】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対する任意の適切なモル比であってよく、例えば、１００：１、５０：１、２５：１、２０：１、１０：１、１：１０、１：２０、１：２５、１：５０、１：１００、およびそれの間の比の範囲であってよい。
【００５７】
特定の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内にあり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。（ｂ）の官能基に対する（ａ）の官能基のそのようなモル比の幾つかの例は、６：１、５．５：１、５：１、４．５：１、４：１、３．５：１、３：１、２．５：１、２：１、１．５：１、１．４：１、１．２：１、１：１．２、１：１．４、１：１．５、１：２、１：２．５、１：３、１：３．５、１：４、１：４．５、１：５、１：５．５、および１：６、そしてそれの間の比の範囲を含む。
【００５８】
例えば、１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す。別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして３．２５より小さい数を表す。さらに、別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１の範囲内である。
【００５９】
分岐ポリシロキサンの粘度は、典型的には１，５００センチポアズ（ｃＰｓ）より大きく、ここで、１ｃＰｓ＝１ミリパスカル秒（ｍＰａ．ｓ）である。より典型的には、分岐ポリシロキサンの粘度は、約３，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上であり、そして、さらにより典型的には、約５，０００ｃＰｓである。他の実施態様において、分岐ポリシロキサンの粘度は、約１０，０００ｃＰｓであるかもしくは以上、約２５，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上、約５０，０００ｃＰｓであるかもしくはそれ以上、またはより高い粘度であってよい。
【００６０】
１つの実施態様において、４価のＳｉＣ４／２基（すなわち、Ｑ基）は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００６１】
別の実施態様において、例えば、アルファ−オレフィンのような不飽和炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサンへ誘導されることになる成分混合物から除外される。そのような不飽和炭化水素化合物の幾つかの例は、式ＣＨ２＝ＣＨＲ１のアルファ−オレフィンを含み、式中、Ｒ１は、ハロゲン、水素、または１から６０の炭素原子をもつヘテロ原子で置換されたまたは無置換の炭化水素基から選択される。幾つかのヘテロ原子は、酸素（Ｏ）原子および窒素（Ｎ）原子を含む。
【００６２】
さらに別の実施態様において、オキシアルキレン含有および／またはエステル含有の、飽和または不飽和の化合物のようなオキシ置換炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００６３】
ミスト化防止成分の分岐ポリシロキサンは、ヒドロシリル化条件下で成分（ａ）と成分（ｂ）との共重合から生成する。「ヒドロシリル化条件」は、不飽和基を有する化合物とシリルヒドリド基を有する化合物との間のヒドロシリル化による架橋に関して、当業者に既知の条件を意味する。
【００６４】
当業者に既知であるように、ヒドロシリル化触媒は、成分を混合する間に、または混合した後に、適切な温度で成分（ａ）と（ｂ）との間のヒドロシリル化反応を促進するか、または達成するのに必要である。ヒドロシリル化触媒は、典型的には１つもしくはそれ以上の白金族金属または白金族金属錯体を含む。例えば、ヒドロシリル化触媒は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、または白金の金属形態または錯体形態であってよい。より典型的には、ヒドロシリル化触媒は白金系である。白金系触媒は、例えば、白金の金属、担体（例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア、または炭素）上に析出させた白金の金属、塩化白金酸、または白金の錯体であってよく、ここで白金は、ジビニルテトラメチルジシロキサンのような弱く結合する配位子と錯体を形成する。白金触媒は、例えば、１から１００ｐｐｍの濃度範囲で含まれてよいが、より典型的には約５から約４０ｐｐｍの濃度で含まれる。
【００６５】
補助的な成分および他の成分は、本発明のコーティング製剤において、必要に応じて含まれてよい。幾つかのタイプの補助的な成分は、（前記のような）触媒阻害剤、界面活性剤、および希釈剤を含む。希釈剤の幾つかの例は、炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、およびキシレン）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、およびハロゲン化炭化水素（例えば、トリクロロエテンおよびテトラクロロエチレン）を含む。
【００６６】
別の態様において、本発明は、コーティング製剤のミスト化またはアアエロゾル化が生じることが知られている条件下で、本発明のコーティング製剤が基体に塗布するコーティングプロセスを指向する。そのようなミスト発生の条件のあいだで本発明のコーティング製剤は、分岐ポリシロキサンのミスト化防止量がないコーティング製剤と比較して、減少されたミスト化を示すことになる。
【００６７】
コーティング製剤は、例えば、ロールコーティングによって、その代わりに、適切な塗布用具（例えば、ノズル）からの噴霧によって、塗布してよく、ここで、塗布用具は、基体に関して静止状態または移動状態であってよい。ミスト化またはアアエロゾル化は、主に基体に対する塗布用具の移動によってしばしば引き起こされるが、ミスト化またはアエロゾル化は、塗布用具または基体の移動以外の要因によっても引き起こされうる。例えば、ミスト化は、基体に関して塗布用具の任意の移動によってというより、むしろ塗布の方法によって（例えば、静止した、またはゆっくりとした噴霧プロセスで）部分的にまたは大部分は引き起こされうる。
【００６８】
本発明のコーティングプロセスは、移動がミスト化またはアエロゾル化の主な原因となる、動いている基体にコーティング製剤が塗布されるプロセスに特に適する。この移動は、ミスト化またはアエロゾル化を引き起こすことのできる移動の類、例えば、並進運動および／または回転運動のミスト発生のレベル、であってよい。
【００６９】
基体は、前記のコーティング製剤をコーティングしたい任意の基体であってよい。適切な基体の幾つかの例は、紙、厚紙、木製品、重合体製品、プラスチック製品、ガラス製品、および金属製品を含む。
【００７０】
別の態様において、本発明は、前記のコーティング製剤を基体上に塗布した後に、それを硬化する（ｈａｒｄｅｎｉｎｇ）または硬化する（ｃｕｒｉｎｇ）ことによって得られる硬化された（ｈａｒｄｅｎｅｄ）（すなわち、硬化された；ｃｕｒｅｄ）コーティングを指向する。コーティング製剤は、一旦基体に塗布されると、例えば、ヒドロシリル化反応による架橋、過酸化物硬化、光硬化（例えば、紫外線硬化）、および電子ビーム硬化を含む、当業者に既知の適切な任意の硬化方法によって硬化してよい。
【００７１】
硬化されたコーティングは、もし望むなら、基体のないコーティング自体が、例えば、応用できるフィルムとしての用途に有用な製品であるような場合に、基体からはがしてもよい。基体からコーティングの、すなわち硬化されたフィルムの分離を助けるために、剥離添加剤がコーティング製剤に、または基体とコーティング製剤との間で使われる剥離フィルムに含まれてもよい。
【００７２】
実施例は、例証を目的として以下に説明されている。本発明の範囲は、ここに説明された実施例によって決して制限されるものではない。
【実施例】
【００７３】
実施例１
ミスト化防止成分（分岐ポリシロキサン）の合成
本実施例において、成分Ａと称される成分は、市販の２００から３００ｃＰｓの粘度をもつ、式ＭｖｉＤ１１０Ｍｖｉの二官能性ビニル末端のポリシロキサンである。成分Ｂと称される成分は、市販の６，０００から１５，０００ｃＰｓの粘度、および１５５から１８０ｐｐｍの水素化物含量をもつ、式ＭＤ５００ＤＨ６．５Ｍの六官能性シリルヒドリド含有ポリシロキサンであり、式中、６．５は、Ｄ基中で不規則に組み合わされたＤＨ基の平均数を表す。成分Ｃと称される成分は、市販の１０重量％の白金を含む触媒製剤である。
【００７４】
頂部のかくはん器、窒素ガス注入口、温度計、および油浴を備えた１リットルの反応器に、１６８．７ｇ（約２０．２ｍｍｏｌ）の成分Ａおよび約０．０５ｇの成分Ｃを入れた。混合物を周囲条件下で１時間かくはんした。次に、５４．４ｇ（約１．４ｍｍｏｌ）の成分Ｂを４℃まで冷却し、次にかくはんしながら前記の成分に加えた。混合物を周囲条件下で１５分間かくはんし、その後ゆっくりと９０℃に加熱した。３０分後、多少のゲル化が観察された。この反応混合物に、９０℃で２５５．５ｇの成分Ａを加えた。混合物を９０℃で２時間かくはんし、室温（およそ２５℃）に冷却し、そして反応器から取り出した。生成物の量は、４３０．９ｇであり、収率９０％に相当した。ずり粘性と剛性率を１２Ｈｚで測定したところ、それぞれ２．８１３Ｐａ．ｓと２０１．２Ｐａであった。
【００７５】
実施例２
ミスト化防止成分を含むコーティング製剤の合成
２ガロンのプラスチック製ペール缶に、１００ｐｐｍの白金と０．４％のジアリルマレアート阻害剤を含む市販のＭＶｉＤ１１０ＭＶｉ溶液９４部（１，８８０ｇ）を入れた。ミスト防止添加剤を、６部（１２０ｇ）の量でペール缶に入れ、そしてドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で混合した。架橋剤、市販の水素化物（ＭＤ３０ＤＨ１５Ｍ）を、５．５部（１１０ｇ）の量でペール缶に加えた。この混合物をドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で充分に混合した。
【００７６】
実施例３
ミスト化防止成分を含むコーティング製剤の合成
２ガロンのプラスチック製ペール缶に、ｌ００ｐｐｍの白金と０．４％のジアリルマレアート阻害剤を含む市販のＭＶｉＤ１００ＤＶｉ２．５ＭＶｉ溶液８７．８部（１，６５６ｇ）を入れた。ミスト防止添加剤を、６部（１１３ｇ）の量でペール缶に入れ、そしてドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で混合した。架橋剤、市販の水素化物（ＭＤ３０ＤＨ１５Ｍ）を、６．０部（１１３ｇ）の量でペール缶に加えた。この混合物をドリル形の攪拌翼を取り付けたかくはん機で充分に混合した。
【００７７】
実施例４
コーティングプロセス
パイロットスケールのコーティング機を、総てのコーティングとミスト化の研究に使用した。５本ロールのコーティング機を毎分３，０００フィートで運転した。基体は、幅１８インチのオーティスミル（Ｏｔｉｓ Ｍｉｌｌ）ＵＶ３５０の紙であった。コーティング機には、３ｘ５フィートの空気浮遊−ガス加熱式乾燥機を装備し、５５０°Ｆに設定した。被膜重量は、約０．８ポンド／リーム（ｌｂ／ｒｅａｍ）に設定した。ミストの測定は、紙の基体を毎分３，０００フィートでコーティングしながら、ＴＳＩ社（ＴＳＩ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ， Ｓｈｏｒｅｖｉｅｗ， Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）によって製造されたＤＵＳＴＴＲＡＫ８５２０アエロゾル監視装置で行った。この測定は、バックアップロールと塗布ロールとの間の接触点に相当する高さで、インナーゲートロールとアウターゲートロールの上部で行った。
【００７８】
上で述べたように、本発明の好ましい実施態様であると現在考えられることを記載したが、本発明の趣旨から逸脱しないで、他の実施態様およびさらなる実施態様がなされうることを、当業者なら明確に理解しよう。ここで説明した真の特許請求の範囲内に入る、そのような更に進んだ修飾および変更の総てを含むことを意図するものである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基をもつ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかもしくは少ないモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項２】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも４つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも６つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量であり；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１０】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１１】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１２】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つ、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１３】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも６つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する組成物。
【請求項１４】
コーティングプロセスであって、請求項１に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１５】
コーティングプロセスであって、請求項２に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１６】
コーティングプロセスであって、請求項３に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１７】
コーティングプロセスであって、請求項４に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１８】
コーティングプロセスであって、請求項５に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１９】
コーティングプロセスであって、請求項６に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２０】
コーティングプロセスであって、請求項７に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２１】
コーティングプロセスであって、請求項８に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２２】
コーティングプロセスであって、請求項９に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２３】
コーティングプロセスであって、請求項１０に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２４】
コーティングプロセスであって、請求項１１に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分はないが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２５】
コーティングプロセスであって、請求項１２に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２６】
コーティングプロセスであって、請求項１３に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２７】
硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルムであって、請求項１に記載の組成物で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成した、硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルム。
【請求項２８】
硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルムであって、請求項１０に記載の組成物で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成した、硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルム。
【請求項１】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基をもつ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基をもつ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかもしくは少ないモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項２】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも４つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも６つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分、
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量であり；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１０】
組成物であって、：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１１】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基を持ち、そして分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１２】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つ、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する、組成物。
【請求項１３】
組成物であって：
（ｉ）ミスト発生の条件下でミスト化されやすい、シリコーン系コーティング成分；および、
（ｉｉ）ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分であって：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン成分
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも６つの官能基を持ち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する組成物。
【請求項１４】
コーティングプロセスであって、請求項１に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１５】
コーティングプロセスであって、請求項２に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１６】
コーティングプロセスであって、請求項３に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１７】
コーティングプロセスであって、請求項４に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１８】
コーティングプロセスであって、請求項５に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項１９】
コーティングプロセスであって、請求項６に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２０】
コーティングプロセスであって、請求項７に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２１】
コーティングプロセスであって、請求項８に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２２】
コーティングプロセスであって、請求項９に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２３】
コーティングプロセスであって、請求項１０に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じである組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２４】
コーティングプロセスであって、請求項１１に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分はないが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２５】
コーティングプロセスであって、請求項１２に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２６】
コーティングプロセスであって、請求項１３に記載の組成物をミスト発生の条件下で基体に塗布することを含有し、前記組成物が、ミスト化防止量の分岐ポリシロキサン成分は無いが他は同じ組成物と比較して、前記ミスト発生の条件に置かれた場合に減少されたミスト化を示す、コーティングプロセス。
【請求項２７】
硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルムであって、請求項１に記載の組成物で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成した、硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルム。
【請求項２８】
硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルムであって、請求項１０に記載の組成物で被覆された基体を１つもしくはそれ以上の硬化工程にかけることによって生成した、硬化されたシリコーン系コーティングまたはフィルム。
【公表番号】特表２０１０−５０２７７８（Ｐ２０１０−５０２７７８Ａ）
【公表日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５２６７２２（Ｐ２００９−５２６７２２）
【出願日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００７／０１９１１２
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０２７４９４
【国際公開日】平成２０年３月６日（２００８．３．６）
【出願人】（５０８２２９３０１）モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド (120)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年８月３０日（２００７．８．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００７／０１９１１２
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０２７４９４
【国際公開日】平成２０年３月６日（２００８．３．６）
【出願人】（５０８２２９３０１）モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド (120)
【Ｆターム（参考）】
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