三環性プロリン誘導体
本発明は、抗腫瘍作用、肌の老化抑制作用、肌質改善作用、創傷治癒作用、皮膚炎治療作用または関節炎治療作用を有する新規な三環性プロリン誘導体を提供することを目的として、式（Ｉ）
（式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルメトキシ等を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール等を表す）で表される化合物またはその薬学的に許容される塩等を提供する。
（式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルメトキシ等を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール等を表す）で表される化合物またはその薬学的に許容される塩等を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、抗腫瘍剤、肌の老化抑制剤、肌質改善剤、創傷治癒剤、皮膚炎治療剤または関節炎治療剤として有用な三環性プロリン誘導体に関する。
【背景技術】
抗腫瘍剤として有用な三環性プロリン誘導体が知られている（特開昭６３−１０１３３６号公報および米国特許第６，３６２，３３１号参照）。
ヒドロキシプロリンおよびヒドロキシプロリン誘導体が、表皮細胞の増殖促進作用、線維芽細胞のコラーゲン合成促進作用、表皮の水分保持機能向上作用、しわ形成抑制または改善作用等を有することから、肌の老化抑制、肌質改善等に有効であることが知られている（国際公開第００／５１５６１号参照）。また、皮膚病変部では、皮膚のバリア機能が破壊されているため、正常な機能を果たせなくなっていることが知られている［グリス（Ｇｒｉｃｅ ＫＡ）著，ジャレット（Ｊａｒｒｅｔｔ Ａ）編集，「Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｐａｔｈｏｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｋｉｎ．Ｌｏｎｄｏｎ」，１９８０年，ｐ．２１４７−２１５５］。従って、皮膚線維芽細胞からのコラーゲンまたはヒアルロン酸合成を促進することにより皮膚のバリア機能を高められれば、皮膚の正常機能を回復させることができると考えられる。また、薬剤のスクリーニングに有用なベンゾジアゼピンジオンライブラリーが知られている（米国特許第５，９６２，３３７号参照）。
【発明の開示】
本発明の目的は、抗腫瘍作用、肌の老化抑制作用、肌質改善作用、創傷治癒作用、皮膚炎治療作用または関節炎治療作用を有する新規な三環性プロリン誘導体を提供することにある。
本発明は、以下の（１）〜（８）に関する。
（１）式（Ｉ）
｛式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルアルキルオキシまたはＮＨＲ３［式中、Ｒ３は置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニル、置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルまたは
（式中、Ｒ４は低級アルキル、シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）を表す］を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、シクロアルキル、カルボキシ、カルバモイルまたは脂環式複素環カルボニルを表す）または
（式中、Ｒ５ＸはＲ５と同義である）を表す｝で表される化合物またはその薬学的に許容される塩。
（２）Ｒ１がヒドロキシである前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（３）Ｒ１がＮＨＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルを表す）である前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（４）Ｒ１が
（式中、Ｒ４ａは置換もしくは非置換のアリールを表す）である前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（５）Ｒ２が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールである前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（６）Ｒ２が
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（７）Ｒ２が
（式中、Ｒ５ａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（８）Ｒ２が
（式中、Ｒ５Ｘａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
式（Ｉ）の各基の定義において、低級アルキルとしては、例えば炭素数１〜６の直鎖または分岐状のアルキル、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等が挙げられる。
シクロアルキルとしては、例えば炭素数３〜８のシクロアルキル、より具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。
アリールとしては、例えば単環性、２環性または３環性の芳香環基、より具体的にはフェニル、ナフチル、アントリル等が挙げられる。
ヘテロアリールとしては、例えば単環性、２環性または３環性の芳香族複素環基、より具体的にはピリジル、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピリミジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、キノリル、キノキサリニル、キナゾリル、ベンゾピラニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラゾリル、ベンゾジオキサニル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。
低級アルコキシ、低級アルキルスルファニル、低級アルカノイルおよび低級アルキルスルホニルの低級アルキル部分は前記低級アルキルと同義である。
低級アルキニルオキシの低級アルキニル部分としては、例えば炭素数２〜６のアルキニル、より具体的にはエチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル等が挙げられる。
アリールアルキルオキシのアリール部分は前記アリールと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義であり、ヘテロアリールアルキルスルファニルのヘテロアリール部分は前記ヘテロアリールと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義である。
シクロアルキルアルキルオキシのシクロアルキル部分は前記シクロアルキルと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義である。
アロイルおよびアリールスルホニルのアリール部分ならびにヘテロアロイルおよびヘテロアロイルおよびヘテロアリールスルホニルのヘテロアリール部分はそれぞれ、前記アリールおよびヘテロアリールと同義である。
脂環式複素環カルボニルの脂環式複素環基部分としては、例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジノ、ピペリジル、ピペラジニル、ホモピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ等が挙げられる。
置換アリール、置換ヘテロアリール、置換アリールアルキルオキシ、置換ヘテロアリールアルキルスルファニル、置換アロイル、置換ヘテロアロイル、置換アリールスルホニルおよび置換ヘテロアリールスルホニルにおける置換基としては、同一または異なって、置換数１〜置換可能な数の、好ましくは置換数１〜５の、例えば置換もしくは非置換の低級アルキル（該置換低級アルキルにおける置換基としては、例えば置換数１〜３の、具体的には後述する置換低級アルカノイルにおける置換基の定義で例示するものと同様のものが挙げられる）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルスルファニル、ニトロ、ハロゲン、メチレンジオキシ、カルボキシ等が挙げられる。低級アルキル、低級アルコキシおよび低級アルキルスルファニルはそれぞれ前記と同義であり、低級アルカノイルアミノの低級アルキル部分は前記低級アルキルと同義である。ハロゲンは、ヨウ素、臭素、塩素またはフッ素の各原子を意味する。
置換低級アルカノイルおよび置換脂環式複素環カルボニルにおける置換基としては、同一または異なって、置換数１〜置換可能な数の、好ましくは置換数１〜３の、例えば置換もしくは非置換のアリール（該置換アリールにおける置換基としては、例えば置換数１〜３の、具体的には低級アルコキシ等が挙げられる）、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級アルキルスルファニル、カルボキシメトキシ、カルボキシメチルスルファニル、カルボキシ、ヘテロアリール、脂環式複素環基等が挙げられる。アリール、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級アルキルスルファニルおよびヘテロアリールはそれぞれ前記と同義であり、脂環式複素環基は前記脂環式複素環カルボニルの脂環式複素環基部分と同義である。
化合物（Ｉ）の薬学的に許容される塩は、薬学的に許容される酸付加塩、金属塩、アンモニウム塩、有機アミン付加塩、アミノ酸付加塩等を包含する。
化合物（Ｉ）の薬学的に許容される酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、クエン酸塩等の有機酸塩があげられ、薬学的に許容される金属塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばマグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩等があげられ、薬学的に許容されるアンモニウム塩としては、例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム等の塩があげられ、薬学的に許容される有機アミン付加塩としては、例えばモルホリン、ピペリジン等の付加塩があげられ、薬学的に許容されるアミノ酸付加塩としては、例えばグリシン、フェニルアラニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の付加塩があげられる。
次に、化合物（Ｉ）の製造方法について説明する。
なお、以下に示した製造方法において、定義した基が実施方法の条件下で変化するか、または方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される方法、例えば、官能基の保護、脱保護［例えば、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ），「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９８１年等参照］等の手段に付すことにより容易に製造を実施することができる。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。
工程１および工程２
化合物（Ｉ）のうち、Ｒ２が定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基である化合物（Ｉａ）は、次の反応工程により製造することができる。
（式中、Ｒ１は前記と同義であり、Ｒ２ａは前記Ｒ２の定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基であり、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を表す）
化合物（Ｉａ）は、後述の方法により得られるポリスチレン樹脂上に担持されたベンゾイルプロリン誘導体（ＩＩ）のＢｏｃを脱保護した後、塩基で処理することにより分子内閉環させ、ポリスチレン樹脂とのエステル結合を切断することによって得ることができる。
１）工程１（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ＩＩ）に、溶媒存在下で酸を添加する通常の脱保護条件により、Ｂｏｃを脱保護することができる。酸としてはトリフルオロ酢酸等が、化合物（ＩＩ）に対して、１当量〜溶媒量用いられ、溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
２）工程２（環化による樹脂からの切り出し）
工程１で得られた脱保護体に、溶媒存在下で塩基を添加することにより、分子内閉環を進行させると同時にポリスチレン樹脂とのエステル結合を切断し、化合物（Ｉａ）を製造することができる。塩基としては、アンモニア等が過剰量用いられ、溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホル厶等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
以下に、原料となる化合物（ＩＩ）の製造法について説明する。
工程３〜工程８
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）であり、Ｒ２ａが
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（ＩＩａａ）は以下の方法で製造することが、できる。
（式中、Ｒ３、Ｒ５およびＢｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素の各原子を表し、Ｆｍｏｃは９−フルオレニルメトキシカルボニル基をそれぞれ表す）
１）工程３（ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入）
市販または既知法の組み合わせにより合成できるプロリン誘導体（ＩＩＩａ）と、水酸基を有するポリスチレン樹脂、例えば４−ヒドロキシメチル安息香酸アミド樹脂（ＨＭＢＡ−ＡＭ ｒｅｓｉｎ）を、必要に応じ塩基の存在下、適当な縮合剤で処理することにより化合物（ｉａ）を製造することができる。プロリン誘導体（ＩＩＩａ）は通常ポリスチレン樹脂上の水酸基に対し１〜５当量用いられる（以下、対象を明記しない場合の当量は、ポリスチレン樹脂上の水酸基に対しての当量を表す）。縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミドやジイソプロピルカルボジイミドのようなカルボジイミドが１〜５当量用いられ、塩基としては、１−メチルイミダゾールのような有機塩基が１〜５当量用いられる。反応は通常溶媒中で行われ、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
２）工程４（Ｆｍｏｃ保護基の脱保護）
Ｆｍｏｃの脱保護は、通常の脱保護条件、すなわち１当量〜溶媒量のピペリジン、ピロリジン等の２級アミンの存在下、溶媒中で行われる。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられ、前記２級アミンを溶媒量用いる場合は、２級アミンを溶媒として用いてもよい。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、５分〜２４時間で完了する。
３）工程５（アミノ基の修飾）
工程４で得られた１級アミンを、イソシアネート、カルボン酸またはカルボン酸無水物を用いて修飾することにより、またはスルホニルクロリドを用いて修飾することにより化合物（ｉｉａ）を製造することができる。
方法１：イソシアネートによる修飾は、通常１〜１０当量のイソシアネートを用い、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
方法２：カルボン酸による修飾は、通常１〜１０当量のカルボン酸を用い、１〜１０当量の２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート等の縮合剤、および必要に応じ１〜１０当量のジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
方法３：カルボン酸無水物による修飾は、通常１〜１０当量のカルボン酸無水物を用い、１当量〜溶媒量のピリジン等の塩基存在下、必要に応じ０．１〜１０当量の４−ジメチルアミノピリジン等の触媒を加え、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１時間〜１週間で完了する。
方法４：スルホニルクロリドによる修飾は、通常１〜１０当量のスルホニルクロリドを用い、１当量〜溶媒量のピリジン等の塩基存在下、必要に応じ０．１〜１０当量の４−ジメチルアミノピリジン等の触媒を加え、塩基を溶媒量用いる場合は、塩基中で、それ以外の場合は、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１時間〜１週間で完了する。
４）工程６（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｉａ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
５）工程７（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程６で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）より、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉａａ）を製造することができる。
６）工程８（アルケンとのカップリング）
工程７で得られた化合物（ｉｉｉａａ）を、１〜５０当量のアルケン（ＣＨ２＝ＣＨＲ５）と、溶媒中、触媒および塩基を添加して、カップリングすることにより化合物（ＩＩａａ）を製造することができる。触媒としては、０．１〜１当量のテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム触媒、および１〜１０当量の塩化テトラ−Ｎ−ブチルアンモニウ厶等の４級アンモニウム塩が用いられ、塩基としては、１〜１０当量のトリエチルアミン等が用いられる。必要に応じて０．１〜１当量のトリフェニルホスフィン等を加えてもよい。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中が用いられる。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜３６時間で完了する。
工程９〜工程１２
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）であり、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基である化合物（ＩＩａｂ）は以下の方法で製造することができる。
［式中、Ｒ３、ＢｏｃおよびＦｍｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｒ２ｂはＲ２の定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基を表す］および
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基を表す］
１）工程９（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
工程３で得られる化合物（ｉａ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
２）工程１０（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程９で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶｂ）を、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉａｂ）を製造することができる。
３）工程１１（Ｆｍｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｉｉａｂ）のＦｍｏｃの脱保護は、工程４と同様な反応条件で行うことができる。
４）工程１２（アミノ基の修飾）
工程１１で得られた１級アミンを、工程５と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ＩＩａｂ）を製造することができる。
工程１２〜工程１５
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基であり、Ｒ２ａが
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（ＩＩｂａ）は以下の方法で製造することができる。
［式中、Ｒ５、ＸおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｒ１ｂはＲ１の定義中、ＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基を表す］
１）工程１２
市販または既知法の組み合わせにより合成できるプロリン誘導体（ＩＩＩｂ）を、工程３と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ｉｂ）を製造することができる。
２）工程１３（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｂ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
３）工程１４（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程１３で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）を、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉｂａ）を製造することができる。
４）工程１５
工程８と同様な反応を行うことにより、化合物（ｉｉｉｂａ）より化合物（ＩＩｂａ）を製造することができる。
工程１６および工程１７
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基であり、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基である化合物（ＩＩｂｂ）は以下の方法で製造することができる。
（式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義である）
１）工程１６（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
工程１２で得られる化合物（ｉｂ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
２）工程１７（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程１６で得られた化合物を、工程１０と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ＩＩｂｂ）を製造することができる。
以下に、原料となる化合物（ＩＶｂ）の製造法について説明する。
工程１８および工程１９
（式中、Ｒ２ｂ、ＸおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義である）
１）工程１８
市販または、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ），１９９７年，６２巻，ｐ．１２４０に示された方法を参考にして製造されるアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）と、１〜１０当量のアリールまたはヘテロアリールボロン酸誘導体［Ｒ２ｂＢ（ＯＨ）２］とを溶媒中、触媒存在下でカップリングすることにより化合物（ｉｖ）を製造することができる。触媒としては、化合物（ＩＶａ）に対して通常０．０１〜１当量の酢酸パラジウム（ＩＩ）等が用いられ、配位子としては、必要に応じ化合物（ＩＶａ）に対して０．０１〜１当量のトリフェニルホスフィン、２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル等のホスフィン配位子が用いられ、添加剤としては、必要に応じ化合物（ＩＶａ）に対して１〜１０当量のフッ化セシウム等が用いられる。反応は、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
２）工程１９
工程１８で得られた化合物（ｉｖ）を溶媒中、塩基を添加して、加水分解することにより、化合物（ＩＶｂ）を製造することができる。塩基としては、化合物（ｉｖ）に対して１〜５当量の水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等が用いられ、溶媒としては、通常、メタノール、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、またはそれらの混合溶媒で行われ、必要に応じ水を添加してもよい。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
工程２０
化合物（Ｉ）のうち、Ｒ２が定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）である化合物（Ｉｂ）は、化合物（Ｉａ）のうち、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（Ｉｃ）から、次の反応工程により製造することができる。
（式中、Ｒ１は前記と同義であり、Ｒ５とＲ５Ｘは前記と同義でかつ同一である）
１）工程２０
化合物（Ｉｃ）を、溶媒中、触媒を添加して、水素雰囲気下または水素気流下、あるいは水素源となる化合物を添加して接触還元することにより化合物（Ｉｂ）を製造することができる。溶媒としては、水、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が単独あるいは混合して用いられ、触媒としては、重量比にして１／１００〜１／３量のパラジウム／炭素等の接触還元触媒が用いられる。水素源となる化合物としては、１〜１０当量のギ酸アンモニウム等が用いられる。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
原料となる化合物（ＩＩＩａ）および（ＩＩＩｂ）のうち市販でないものは、例えば、オーガニック・レターズ（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．），２００１年，３巻ｐ．２４８１、同２００２年，４巻，ｐ．３３１７、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．），２００２年，６７巻，ｐ．３９２３、またはジャーナル・オブ・コンビナトリアル・ケミストリー（Ｊ．Ｃｏｍｂ．Ｃｈｅｍ．），２００１年，３巻，ｐ．３６７に示された方法、またはそれらを組み合わせた方法を参考にして製造することができる。
上記各製造法における目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単離精製することができる。また、中間体においては特に精製することなく次の反応に供することも可能である。目的化合物がポリスチレン樹脂上に担持されている場合には、通常の固相反応で常用される各種溶媒での樹脂の洗浄法を適用することにより、ポリスチレン樹脂上に担持されたままで、次の工程に用いることができる。
化合物（Ｉ）の中には、幾何異性体、光学異性体、互変異性体等の立体異性体が存在し得るものもあるが、これらを含め、全ての可能な異性体およびそれらのいかなる比率における混合物も本発明に包含される。
化合物（Ｉ）の塩を取得したいとき、化合物（Ｉ）が塩の形で得られるときはそのまま精製すればよく、また、遊離の形で得られるときは、化合物（Ｉ）を適当な溶媒に溶解または懸濁し、酸または塩基を加えて単離、精製すればよい。
また、化合物（Ｉ）およびその薬学的に許容される塩は、水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明に包含される。
以下、第１−１表〜第１−６表に化合物（Ｉ）の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定されることはない。
次に、代表的な化合物（Ｉ）の薬理作用について実験例により具体的に説明する。
実験例１ ヒト白血病細胞株に対する増殖抑制活性
ヒト急性骨髄性白血病細胞株ＭＬ−１、ヒト慢性骨髄性白血病細胞株Ｋ５６２に対する試験物質の細胞増殖抑制率（％）の測定を以下の方法で実施した。各細胞の培養には１０％牛胎児血清（ギブコ社、カタログ番号１０４３７−０２８）、および１％ペニシリン／ストレプトマイシン（ギブコ社、カタログ番号１５１４０−１２２）を含むＲｏｓｗｅｌｌ Ｐａｒｋ ｍｅｍｏｒｉａｌ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ’ｓ Ｍｅｄｉｕｍ １６４０（ＲＰＭＩ）培地（ギブコ社、カタログ番号１１８７５−０９３）を使用した。２．５×１０４個／ｍＬに調製したＭＬ−１細胞、Ｋ５６２細胞をＴＣ ＭＩＣＲＯＷＥＬＬ ９６Ｕ ｐｌａｔｅ（ナルジェン・ヌンク社、カタログ番号１６３３２０）に８０μＬずつ播種し、３７℃で４時間、５％炭酸ガスインキュベーター内において培養し、ブランクのウェルには、ＲＰＭＩ培地のみを８０μＬ添加した。最終濃度がそれぞれ１０μｍｏｌ／Ｌとなるように調整した試験物質を２０μＬずつ添加し、コントロールとブランクのウェルには最終濃度が０．１％となるように調整したジメチルスルホキシド溶液を２０μＬずつ添加した。試験物質添加後、３７℃で７２時間、５％炭酸ガスインキュベーター内において培養した。ＲＰＭＩ培地で５０％に希釈したＷＳＴ−１（４−［３−（４−Ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）−２−（４−ｎｉｔｒｏｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−５−ｔｅｔｒａｚｏｌｉｏ］−１，３−ｂｅｎｚｅｎｅ ｄｉｓｕｌｆｏｎａｔｅ）試薬（ロシュ・ダイアグノスティックス社、カタログ番号１６４４８０７）を２０μＬ加え、３７℃で２時間インキュベートした後に、マイクロプレート分光光度計ＳＰＥＣＴＲＡ ｍａｘ ３４０ＰＣ（モレキュラーデバイス社）を用い、４５０ｎｍ（対照波長６９０ｎｍ）の吸光度を測定した。コントロールのウェルの値を１００％、ブランクのウェルの値を０％として、試験物質を加えたウェルの増殖率（％）を算出し、その値を１００％から引いた値を試験物質の細胞増殖抑制率（％）とした。本値が大きいほど、細胞に対する増殖抑制活性が強いこと示している。
結果を第２表に示す。
実験例２ ヒト線維芽細胞におけるコラーゲン合成促進活性
ヒト新生児皮膚由来線維芽細胞株ＮＢ１ＲＧＢ（理研セルバンク、茨城）を、１０ｖｏｌ％牛胎児血清（ハイクローン社製、Ｌｏｇａｎ，ＵＴ，ＵＳＡ）ペニシリンＧカリウム５０Ｕ／ｍＬ、およびストレプトマイシン５０μｇ／ｍＬを添加したミニマムエッセンシャルメディウムアルファメディウム（ＭＥＭアルファ培地中、インビトロジェン社製、Ｃａｒｌｓｂａｄ，ＣＡ，ＵＳＡ）を用い、３７℃、５％ＣＯ２の条件で定常期まで培養した。トリプシン／ＥＤＴＡ溶液（ベーリンガーマンハイム社製、Ｍａｎｎｈｅｉｍ，Ｇｅｒｍａｎｙ）処理により細胞を集め、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地中で、２．１×１０４個／ｍＬに調製し、４８ウェルのマイクロプレート（ファルコン４８ウェルマルチウェルティッシュカルチャープレート、ビーディーバイオサイエンス社製、Ｆｒａｎｋｌｉｎ Ｌａｋｅｓ，ＮＪ，ＵＳＡ）に２５０μＬずつ播種し、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で更に一晩培養した。翌日、培地を除去した後、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地に溶解した試験物質を各ウェルに添加した。ひきつづき、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で３日間培養後、上清を回収した。１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地のみをウェルに添加したものをコントロールとして用いた。コラーゲンは細胞内でプロコラーゲンとして生合成され、細胞外に分泌されてコラーゲン線維として重合する。この時、プロコラーゲンのＮ末端およびＣ末端のプロペプチドが、エンドペプチダーゼにより遊離することが報告されており、培養上清中のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドを測定することにより、Ｉ型コラーゲン産生量を定量することができる（中塚喜義、関谷喜一郎、吉田博昭，日本骨代謝学会誌，１９９２年，１０巻２号，ｐ．１７３−１８０）。得られた培養上清中のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチド濃度の測定は、プロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドＥＩＡキット（タカラバイオ社製、滋賀）を用いて行った。測定は、キットの添付プロトコールに従って実施した。すなわち、全ての上清サンプルをキット付属の希釈緩衝液で１０倍希釈したもの、ならびにキットに付属しているプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチド標準液（０、１０、２０、３０、４０、８０、１６０、３２０ならびに６４０ｎｇ／ｍＬ）を測定に供した。マイクロプレートリーダー・パワーウェーブＸセレクト（バイオテックインストロメンツ社製、Ｗｉｎｏｏｓｋｉ，ＶＴ，ＵＳＡ）を使用して４５０ｎｍでの吸光度を測定し、解析ソフトＫＣ４（バイオテックインストロメンツ社製）を用いて解析した。作成した検量線から測定サンプルの濃度を算出した。コントロールに対する試験物質のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドの産生促進作用（コラーゲン合成促進活性）は式１に従って算出した。
結果を第３表に示す。
実験例３ ヒト線維芽細胞におけるヒアルロン酸合成促進活性
ヒト新生児皮膚由来線維芽細胞株ＮＢ１ＲＧＢを実験例２に従い、４８ウェルのマイクロプレートで一晩培養した。翌日、培地を除去した後、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地に溶解した試験物質を各ウェルに添加し、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で３日または６日間培養後、上清を回収した。コントロールとして、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地のみを添加したものを用いた。
上清中に産生されたヒアルロン酸の定量はヒアルロン酸特異的結合タンパク質を利用する以下の方法で行った。すなわち、リン酸緩衝液（ＰＢＳ、アイシーエヌバイオケミカル社製、Ａｕｒｏｒａ，ＯＨ，ＵＳＡ）で希釈した０．５μｇ／ｍＬのヒアルロン酸結合性タンパク質（生化学工業社製、東京）を９６ウェルマイクロプレート（ナルゲンヌンク社製、Ｒｏｓｋｉｌｄｅ，Ｄｅｎｍａｒｋ）に１ウェル当たり５０μＬ加え、４℃で一晩コーティングした。次に１ｖｏｌ％牛血清アルブミン（生化学工業社製）を含むＰＢＳ（ＢＳＡ−ＰＢＳ）を１ウェル当たり２００μＬ加え、室温で１時間静置した後、ＢＳＡ−ＰＢＳで１０倍希釈した培養上清を１ウェル当たり５０μＬ加えて２時間室温に静置した。また、ヒアルロン酸ナトウム塩（ヒト臍帯由来、生化学工業社製）を蒸留水で１ｍｇ／ｍＬの濃度に溶解したストック溶液を０、３．１２５、６．２５、１２．５、２５、５０、１００、２００、４００、８００および１６００ｎｇ／ｍＬにＢＳＡ−ＰＢＳで希釈した標準試料も同様に処理した。プレートを０．０５ｖｏｌ％のモノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（Ｔｗｅｅｎ２０、和光純薬工業製）を含むＰＢＳ（Ｔｗｅｅｎ−ＰＢＳ）で３回洗い、０．２５μｇ／ｍＬの濃度にＢＳＡ−ＰＢＳで希釈したビオチン標識ヒアルロン酸結合性タンパク質（生化学工業社製）を１ウェル当たり５０μＬ加えた。室温で時間静置した後、Ｔｗｅｅｎ−ＰＢＳで３回洗い、ＢＳＡ−ＰＢＳで４０００倍希釈した西洋ワサビペルオキシダーゼアビジンＤ（生化学工業社製）を１ウェル当たり１００μＬ加えて３０分間室温に静置した。最後にこれらのプレートをＴｗｅｅｎ−ＰＢＳで３回洗い、ＴＭＢ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｒｅａｇｅｎｔｓｅｔ（ビーディー・ファーミジェン社製、Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，ＣＡ，ＵＳＡ）を１ウェル当たり１００μＬ加え、発色したところで１０ｖｏｌ％硫酸を１ウェル当たり１００μＬ加えて反応を停止させ、４５０ｎｍの吸光度を測定した。吸光度の測定には、マイクロプレートリーダー・パワーウェーブＸセレクトを使用して４５０ｎｍでの吸光度を測定し、解析ソフトＫＣ４を用いて解析した。作成した検量線から培養上清中のヒアルロン酸濃度を算出した。コントロールに対する試験物質のヒアルロン酸の産生促進作用（ヒアルロン酸合成促進活性）は式２に従って算出した。
結果を第４表および第５表に示す。
実験例４ マウス角質水分蒸散量抑制作用
Ｂａｌｂ／ｃマウスの吻側背部にアセトン／ジエチルエーテル混液（１：１）で１５秒間、その後、蒸留水で６０秒間の処置を１日２回、８時間以上の間隔で４日間行った。５日目、６日目、７日目に試験物質の０．３３％アセトン溶液を吻側背部にそれぞれ５０μＬ塗布した。対照群には、アセトンを５０μＬ塗布した。各群６匹を用いた。５日目の化合物溶液塗布前、塗布１２時間、２４時間、７２時間後の角質水分蒸散量（ＴＥＷＬ）値を水分蒸散量測定装置［ヴァボメーター（Ｖａｐｏ Ｍｅｔｅｒ）、デルフィン・テクノロジー社（Ｄｅｌｆｉｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｌｔｄ）］で測定し、式３にしたがって角質水分蒸散量抑制率（％）を算出した。本値が大きいほど、角質水分蒸散量増加の回復が促進され、すなわち皮膚バリア機能を回復させて、水分の透過性を抑制すること示している。
結果を第６表に示す。
化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩は、そのまま単独で投与することも可能であるが、通常各種の医薬製剤として提供するのが望ましい。また、それら医薬製剤は、動物および人に使用されるものである。
本発明に係る医薬製剤は、抗腫瘍剤、肌の老化抑制剤、肌質改善剤、創傷治癒剤、皮膚炎治療剤または関節炎治療剤として用いることができる。活性成分として化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩を単独で、あるいは任意の他の治療のための有効成分（繊維芽細胞成長因子（ＦＧＦ）、例えばタクロリムス等の免疫抑制剤、ビタミンＤ誘導体、ステロイド剤、抗生物質、抗ウイルス剤、非ステロイド抗炎症剤、例えばヒアルロン酸、９，１０−ジヒドロ−４，５−ジヒドロキシ−９，１０−ジオキシ−２−アントラセン酸ジ酢酸エステル等の抗リウマチ薬等）との混合物または合剤として含有することができる。また、それら医薬製剤は、活性成分を薬学的に許容される一種またはそれ以上の担体と一緒に混合し、製剤学の技術分野においてよく知られている任意の方法により製造される。
投与経路としては、治療に際し最も効果的なものを使用するのが望ましく、経口または、例えば経皮、静脈内、経鼻、経肺等の非経口をあげることができる。
投与形態としては、錠剤、散剤、軟膏、注射剤、外用液剤等があげられる。
経口投与に適当な、例えば錠剤、散剤等は、乳糖、でんぷん等の賦形剤、澱粉等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウ厶等の滑沢剤、ヒドロキシプロピルセルロース等の結合剤等を用いて製造できる。
経皮投与に適当な、例えば軟膏等は、ワセリン、パラフィン、ラノリン、マクロゴール等の軟膏基剤、ラウリル硫酸ナトリウム、ソルビタン脂肪酸エステル等の乳化剤等を用いて製造できる。
静脈内投与に適当な製剤は、好ましくは受容者の血液と等張である活性化合物を含む滅菌水製剤からなる。例えば、注射剤の場合は、塩溶液、ブドウ糖溶液または塩溶液とブドウ糖溶液の混合物を用いて注射用の溶液を調製する。
経鼻、経肺等の投与に適当な、例えば外用液剤は、塩化ナトリウム、ホウ酸等の等張化剤、リン酸水素ナトリウム等のｐＨ調整剤、メチルセルロース等の粘稠剤等を用いて製造できる。
また、これら非経口剤においても、希釈剤、防腐剤、フレーバー、賦形剤、崩壊剤、滑沢剤、結合剤、界面活性剤、可塑剤等から選択される１種またはそれ以上の補助成分を添加することもできる。
化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩の投与量および投与回数は、投与形態、患者の年齢、体重、治療すべき症状の性質または重篤度により異なるが、通常経口の場合、成人一人当り０．０１ｍｇ〜１ｇ、好ましくは０．０５〜５０ｍｇを一日一回ないし数回投与する。静脈内投与等の非経口投与の場合、成人一人当り０．００１〜１００ｍｇ、好ましくは０．０１〜１０ｍｇを一日一回ないし数回投与する。しかしながら、これら投与量および投与回数に関しては、前述の種々の条件により変動する。
以下に、本発明の態様を実施例および参考例で説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
下記実施例の各化合物の質量分析データは以下の機器によって測定し、第１−１表〜第１−６表中に機器データとして記した。
ＥＳＩＭＳ：Ｗａｔｅｒｓ ＺＱ
固相合成は、マクロカン［ＭａｃｒｏＫａｎ イロリ社（ＩＲＯＲＩ）製］反応容器に封入したポリスチレン樹脂を用いることにより行った。また、同封したラジオ周波数タグ［アキュタグ（ＡｃｃｕＴａｇ）］にて、各マクロカンを区別して同一フラスコ内で複数化合物の反応を並列に実施した。
【実施例１】
第１−１表に示した化合物１〜１３９は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
マクロカンに封入した４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（Ｒａｐｐ Ｐｏｌｙｍｅｒｅ ＧｍｂＨ社製 ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ：１２５−１６０μｍ、１．０５ｍｍｏｌ／ｇ、約３００ｍｇ）を、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸（３当量）および１−メチルイミダゾール（２当量）のジクロロメタン溶液（１マクロカンあたり６ｍＬ）に加えた。続いて、ジイソプロピルカルボジイミド（２．５当量）を滴下した後、混合物を室温で一晩振盪した。デカンテーションにより溶液を除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタンで交互に４回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
２）第２工程：Ｆｍｏｃ保護基の脱保護
第１工程で得られた化合物に、ピペリジンのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｖｏｌ％、１マクロカンあたり４ｍＬ）を加え、室温で１５分振盪した。デカンテーションにより溶液を除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホル厶アミド、ジクロロメタンで交互に３回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
３）第３工程：アミノ基の修飾
方法Ａ）イソシアネートによる修飾
イソシアネート（４当量）のジクロロメタン（１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液に、第２工程で得られた化合物を加え５時間加熱還流した。
方法Ｂ）カルボン酸による修飾
２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート（４当量）およびＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（４当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、カルボン酸（４当量）を加え、続いて第２工程で得られた化合物を加えた。得られた混合物を室温で一晩振盪した。
方法Ｃ）スルホニルクロリドによる修飾、および環状カルボン酸無水物による修飾
４−ジメチルアミノピリジン（４当量）および無水ピリジン（４０当量）のジクロロメタン（１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、第２工程で得られた化合物を加え、続いてスルホニルクロリドまたはカルボン酸無水物を加えた。得られた混合物を室温で６０時間振盪した。
方法Ａ〜Ｃで得られた反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、メタノールで順番に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
４）第４工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
第３工程で得られた化合物に、トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（５０ｖｏｌ％、１マクロカンあたり４ｍＬ）を加え、室温で２時間振盪した。反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタンで交互に３回ずつ、続いてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンのジクロロメタン溶液（２ｖｏｌ％）で２回洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
５）第５工程：アントラニル酸誘導体との縮合
２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート（１．５当量）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．５当量）およびＮ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸（１．５当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、第４工程で得られた化合物を加え、得られた混合物を室温で一晩振盪した。反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、メタノールで順番に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
６）第６工程：アルケンとのカップリング
塩化テトラ−Ｎ−ブチルアンモニウム（１当量）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．２当量）、トリエチルアミン（２当量）およびアルケン（２５当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液に、第５工程で得られた化合物を加え、アルゴン気流下８５℃で一晩加熱還流した。翌日、トリフェニルホスフィン（０．２当量）およびトリエチルアミン（２当量）をさらに加え、８５℃で一晩加熱還流した。反応溶液を室温に冷却し、反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド／水（ｖ／ｖ＝１：１）、テトラヒドロフラン／５％酢酸水溶液（ｖ／ｖ＝１：１）、テトラヒドロフランで洗浄した。さらに、ジクロロメタン、メタノールで交互に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
７）第７工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
第４工程とほぼ同様な方法で、第６工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
８）第８工程：環化による樹脂からの切り出し
冷却した飽和アンモニアメタノール溶液、メタノール、ジクロロメタンの混合溶液（ｖ／ｖ／ｖ＝４０：３０：６０、１マクロカンあたり４ｍＬ）を調製し７、第７工程で得られたマクロカンに封入された樹脂に加えた。それぞれの反応容器を密封し、室温で一晩振盪した。得られた溶液を加圧または減圧濾過し、続いて樹脂にメタノール／ジクロロメタン混合溶液（ｖ／ｖ＝１：１、４ｍＬ）を加え、５分間振盪後、溶液を濾過した。得られた溶液をあわせて減圧下濃縮することにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例２】
第１−１表に示した化合物１４０〜２３４は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
実施例１の第１工程と同様にして、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ）に導入した。
２）第２工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第１工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
３）第３工程：アントラニル酸誘導体との縮合
実施例１の第５工程と同様にして、第２工程で得られた化合物と、参考例１で得られるＮ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸を縮合した。
４）第４工程：Ｆｍｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第２工程と同様にして、第３工程で得られた化合物のＦｍｏｃ保護基を脱保護した。
５）第５工程：アミノ基の修飾
実施例１の第３工程と同様にして、第４工程で得られた化合物のアミノ基を修飾した。
なお、化合物２３４の製造においては、１−Ｆｍｏｃ−ピペリジン−４−カルボン酸を用いて修飾した後、得られた化合物のＦｍｏｃ基を実施例１、第２工程と同様にして脱保護した。
６）第６工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第５工程で得られた化合物のＢｏｃ基を脱保護した。
７）第７工程：環化による樹脂からの切り出し
実施例１の第８工程と同様にして、第６工程で得られた化合物を環化させ樹脂から切り出すことにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例３】
第１−１表に示した化合物２３５〜２４２および第１−２表に示した化合物２４３−２７２は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
実施例１の第１工程と同様にして、４位に対応する置換基を有する（２Ｓ）−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ）に導入した。
２）第２工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第１工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
３）第３工程：アントラニル酸誘導体との縮合
実施例１の第５工程と同様にして、第２工程で得られた化合物と、参考例１で得られるＮ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸を縮合した。
４）第４工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第３工程で得られた化合物のＢｏｃ基を脱保護した。
５）第５工程：環化による樹脂からの切り出し
実施例１の第８工程と同様にして、第４工程で得られた化合物を環化させ樹脂から切り出すことにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例４】
第１−３表に示した化合物２７３〜２８２は、実施例１の第５工程においてＮ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸に代えて、Ｎ−Ｂｏｃ−４−ブロモアントラニル酸を用いる以外は、実施例１と同様にして製造した。
【実施例５】
第１−４表に示した化合物２８３〜３９７は、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸に代えて、（２Ｓ，３Ｓ）−Ｆｍｏｃ−３−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を用いる以外は、実施例２と同様にして製造した。なお、化合物３８８〜３９７の製造においては、実施例２に示した化合物２３４の製造と同様にして製造した。
【実施例６】
第１−４表に示した化合物３９８〜４０９および第１−５表に示した化合物４１０−４１９は、３位に対応する置換基を有する（２Ｓ）−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を用い、実施例３と同様にして製造した。
【実施例７】
第１−６表に示した化合物４２０は、次の合成法に従って製造した。
第１−１表に示した化合物７５（５．０ｍｇ）をエタノール（２．０ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム／炭素（１ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応の終了をＬＣ／ＭＳで確認した後に、触媒の濾別、溶媒留去を行い、第１−６表に示した化合物４２０（３．８ｍｇ）を得た。
参考例１ Ｎ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸の一般的合成法
Ｎ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸メチル、酢酸パラジウム（ＩＩ）（２．５ｍｏｌ％）、２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル（５ｍｏｌ％）およびフッ化セシウム（３当量）の無水ジオキサン（１ｍＬ／ｍｍｏｌ）溶液に、アルゴン気流下、対応するボロン酸（３当量）を加えた。ボロン酸を加えたことによる発熱のおさまった後、反応溶液を８０℃で４時間加熱した。反応溶液を減圧下濃縮することにより得られる残渣を、カラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、Ｎ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸メチルまたはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸メチルを得た。続いて、得られた化合物をテトラヒドロフラン（２ｍＬ／ｍｍｏｌ）に溶解し、水酸化リチウ厶水溶液（２当量、１ｍｏｌ／Ｌ、２ｍＬ／ｍｍｏｌ）を加えた。得られた反応溶液を室温で一晩激しく攪拌した。メチルエステルの消失を薄層クロマトグラフィーにより確認後、ジオキサンを減圧下留去した。得られた粘稠な残渣に氷冷下、酢酸水溶液（５０ｖｏｌ％、用いた水酸化リチウムに対し１．５当量）を加えることにより、白色の沈殿が得られた。混合物を４時間静置することにより、粘稠な残渣を完全に固体化させた。得られた固体を砕き吸引濾過により濾取し水で洗浄した後、減圧下乾燥することにより、標題化合物を得た。
【産業上の利用可能性】
本発明により、抗腫瘍作用、肌の老化抑制作用、肌質改善作用、創傷治癒作用、皮膚炎治療作用または関節炎治療作用を有する新規な三環性プロリン誘導体を提供することができる。
【技術分野】
本発明は、抗腫瘍剤、肌の老化抑制剤、肌質改善剤、創傷治癒剤、皮膚炎治療剤または関節炎治療剤として有用な三環性プロリン誘導体に関する。
【背景技術】
抗腫瘍剤として有用な三環性プロリン誘導体が知られている（特開昭６３−１０１３３６号公報および米国特許第６，３６２，３３１号参照）。
ヒドロキシプロリンおよびヒドロキシプロリン誘導体が、表皮細胞の増殖促進作用、線維芽細胞のコラーゲン合成促進作用、表皮の水分保持機能向上作用、しわ形成抑制または改善作用等を有することから、肌の老化抑制、肌質改善等に有効であることが知られている（国際公開第００／５１５６１号参照）。また、皮膚病変部では、皮膚のバリア機能が破壊されているため、正常な機能を果たせなくなっていることが知られている［グリス（Ｇｒｉｃｅ ＫＡ）著，ジャレット（Ｊａｒｒｅｔｔ Ａ）編集，「Ｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｐａｔｈｏｐｈｙｓｉｏｌｏｇｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｋｉｎ．Ｌｏｎｄｏｎ」，１９８０年，ｐ．２１４７−２１５５］。従って、皮膚線維芽細胞からのコラーゲンまたはヒアルロン酸合成を促進することにより皮膚のバリア機能を高められれば、皮膚の正常機能を回復させることができると考えられる。また、薬剤のスクリーニングに有用なベンゾジアゼピンジオンライブラリーが知られている（米国特許第５，９６２，３３７号参照）。
【発明の開示】
本発明の目的は、抗腫瘍作用、肌の老化抑制作用、肌質改善作用、創傷治癒作用、皮膚炎治療作用または関節炎治療作用を有する新規な三環性プロリン誘導体を提供することにある。
本発明は、以下の（１）〜（８）に関する。
（１）式（Ｉ）
｛式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルアルキルオキシまたはＮＨＲ３［式中、Ｒ３は置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニル、置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルまたは
（式中、Ｒ４は低級アルキル、シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）を表す］を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、シクロアルキル、カルボキシ、カルバモイルまたは脂環式複素環カルボニルを表す）または
（式中、Ｒ５ＸはＲ５と同義である）を表す｝で表される化合物またはその薬学的に許容される塩。
（２）Ｒ１がヒドロキシである前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（３）Ｒ１がＮＨＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルを表す）である前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（４）Ｒ１が
（式中、Ｒ４ａは置換もしくは非置換のアリールを表す）である前記（１）記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（５）Ｒ２が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールである前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（６）Ｒ２が
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（７）Ｒ２が
（式中、Ｒ５ａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
（８）Ｒ２が
（式中、Ｒ５Ｘａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
式（Ｉ）の各基の定義において、低級アルキルとしては、例えば炭素数１〜６の直鎖または分岐状のアルキル、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等が挙げられる。
シクロアルキルとしては、例えば炭素数３〜８のシクロアルキル、より具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。
アリールとしては、例えば単環性、２環性または３環性の芳香環基、より具体的にはフェニル、ナフチル、アントリル等が挙げられる。
ヘテロアリールとしては、例えば単環性、２環性または３環性の芳香族複素環基、より具体的にはピリジル、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピリミジニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、キノリル、キノキサリニル、キナゾリル、ベンゾピラニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラゾリル、ベンゾジオキサニル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。
低級アルコキシ、低級アルキルスルファニル、低級アルカノイルおよび低級アルキルスルホニルの低級アルキル部分は前記低級アルキルと同義である。
低級アルキニルオキシの低級アルキニル部分としては、例えば炭素数２〜６のアルキニル、より具体的にはエチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル等が挙げられる。
アリールアルキルオキシのアリール部分は前記アリールと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義であり、ヘテロアリールアルキルスルファニルのヘテロアリール部分は前記ヘテロアリールと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義である。
シクロアルキルアルキルオキシのシクロアルキル部分は前記シクロアルキルと同義であり、アルキレン部分は前記低級アルキルから水素を１つ除去した基と同義である。
アロイルおよびアリールスルホニルのアリール部分ならびにヘテロアロイルおよびヘテロアロイルおよびヘテロアリールスルホニルのヘテロアリール部分はそれぞれ、前記アリールおよびヘテロアリールと同義である。
脂環式複素環カルボニルの脂環式複素環基部分としては、例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピペリジノ、ピペリジル、ピペラジニル、ホモピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ等が挙げられる。
置換アリール、置換ヘテロアリール、置換アリールアルキルオキシ、置換ヘテロアリールアルキルスルファニル、置換アロイル、置換ヘテロアロイル、置換アリールスルホニルおよび置換ヘテロアリールスルホニルにおける置換基としては、同一または異なって、置換数１〜置換可能な数の、好ましくは置換数１〜５の、例えば置換もしくは非置換の低級アルキル（該置換低級アルキルにおける置換基としては、例えば置換数１〜３の、具体的には後述する置換低級アルカノイルにおける置換基の定義で例示するものと同様のものが挙げられる）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルスルファニル、ニトロ、ハロゲン、メチレンジオキシ、カルボキシ等が挙げられる。低級アルキル、低級アルコキシおよび低級アルキルスルファニルはそれぞれ前記と同義であり、低級アルカノイルアミノの低級アルキル部分は前記低級アルキルと同義である。ハロゲンは、ヨウ素、臭素、塩素またはフッ素の各原子を意味する。
置換低級アルカノイルおよび置換脂環式複素環カルボニルにおける置換基としては、同一または異なって、置換数１〜置換可能な数の、好ましくは置換数１〜３の、例えば置換もしくは非置換のアリール（該置換アリールにおける置換基としては、例えば置換数１〜３の、具体的には低級アルコキシ等が挙げられる）、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級アルキルスルファニル、カルボキシメトキシ、カルボキシメチルスルファニル、カルボキシ、ヘテロアリール、脂環式複素環基等が挙げられる。アリール、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルカノイル、低級アルキルスルファニルおよびヘテロアリールはそれぞれ前記と同義であり、脂環式複素環基は前記脂環式複素環カルボニルの脂環式複素環基部分と同義である。
化合物（Ｉ）の薬学的に許容される塩は、薬学的に許容される酸付加塩、金属塩、アンモニウム塩、有機アミン付加塩、アミノ酸付加塩等を包含する。
化合物（Ｉ）の薬学的に許容される酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、クエン酸塩等の有機酸塩があげられ、薬学的に許容される金属塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばマグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩等があげられ、薬学的に許容されるアンモニウム塩としては、例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム等の塩があげられ、薬学的に許容される有機アミン付加塩としては、例えばモルホリン、ピペリジン等の付加塩があげられ、薬学的に許容されるアミノ酸付加塩としては、例えばグリシン、フェニルアラニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の付加塩があげられる。
次に、化合物（Ｉ）の製造方法について説明する。
なお、以下に示した製造方法において、定義した基が実施方法の条件下で変化するか、または方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される方法、例えば、官能基の保護、脱保護［例えば、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ），「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９８１年等参照］等の手段に付すことにより容易に製造を実施することができる。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。
工程１および工程２
化合物（Ｉ）のうち、Ｒ２が定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基である化合物（Ｉａ）は、次の反応工程により製造することができる。
（式中、Ｒ１は前記と同義であり、Ｒ２ａは前記Ｒ２の定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基であり、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を表す）
化合物（Ｉａ）は、後述の方法により得られるポリスチレン樹脂上に担持されたベンゾイルプロリン誘導体（ＩＩ）のＢｏｃを脱保護した後、塩基で処理することにより分子内閉環させ、ポリスチレン樹脂とのエステル結合を切断することによって得ることができる。
１）工程１（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ＩＩ）に、溶媒存在下で酸を添加する通常の脱保護条件により、Ｂｏｃを脱保護することができる。酸としてはトリフルオロ酢酸等が、化合物（ＩＩ）に対して、１当量〜溶媒量用いられ、溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
２）工程２（環化による樹脂からの切り出し）
工程１で得られた脱保護体に、溶媒存在下で塩基を添加することにより、分子内閉環を進行させると同時にポリスチレン樹脂とのエステル結合を切断し、化合物（Ｉａ）を製造することができる。塩基としては、アンモニア等が過剰量用いられ、溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホル厶等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
以下に、原料となる化合物（ＩＩ）の製造法について説明する。
工程３〜工程８
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）であり、Ｒ２ａが
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（ＩＩａａ）は以下の方法で製造することが、できる。
（式中、Ｒ３、Ｒ５およびＢｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素の各原子を表し、Ｆｍｏｃは９−フルオレニルメトキシカルボニル基をそれぞれ表す）
１）工程３（ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入）
市販または既知法の組み合わせにより合成できるプロリン誘導体（ＩＩＩａ）と、水酸基を有するポリスチレン樹脂、例えば４−ヒドロキシメチル安息香酸アミド樹脂（ＨＭＢＡ−ＡＭ ｒｅｓｉｎ）を、必要に応じ塩基の存在下、適当な縮合剤で処理することにより化合物（ｉａ）を製造することができる。プロリン誘導体（ＩＩＩａ）は通常ポリスチレン樹脂上の水酸基に対し１〜５当量用いられる（以下、対象を明記しない場合の当量は、ポリスチレン樹脂上の水酸基に対しての当量を表す）。縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミドやジイソプロピルカルボジイミドのようなカルボジイミドが１〜５当量用いられ、塩基としては、１−メチルイミダゾールのような有機塩基が１〜５当量用いられる。反応は通常溶媒中で行われ、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられる。反応は室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
２）工程４（Ｆｍｏｃ保護基の脱保護）
Ｆｍｏｃの脱保護は、通常の脱保護条件、すなわち１当量〜溶媒量のピペリジン、ピロリジン等の２級アミンの存在下、溶媒中で行われる。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等が単独または混合して用いられ、前記２級アミンを溶媒量用いる場合は、２級アミンを溶媒として用いてもよい。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、５分〜２４時間で完了する。
３）工程５（アミノ基の修飾）
工程４で得られた１級アミンを、イソシアネート、カルボン酸またはカルボン酸無水物を用いて修飾することにより、またはスルホニルクロリドを用いて修飾することにより化合物（ｉｉａ）を製造することができる。
方法１：イソシアネートによる修飾は、通常１〜１０当量のイソシアネートを用い、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
方法２：カルボン酸による修飾は、通常１〜１０当量のカルボン酸を用い、１〜１０当量の２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート等の縮合剤、および必要に応じ１〜１０当量のジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜２４時間で完了する。
方法３：カルボン酸無水物による修飾は、通常１〜１０当量のカルボン酸無水物を用い、１当量〜溶媒量のピリジン等の塩基存在下、必要に応じ０．１〜１０当量の４−ジメチルアミノピリジン等の触媒を加え、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１時間〜１週間で完了する。
方法４：スルホニルクロリドによる修飾は、通常１〜１０当量のスルホニルクロリドを用い、１当量〜溶媒量のピリジン等の塩基存在下、必要に応じ０．１〜１０当量の４−ジメチルアミノピリジン等の触媒を加え、塩基を溶媒量用いる場合は、塩基中で、それ以外の場合は、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中で行われる。反応は０℃〜溶媒の沸点以下の温度で、１時間〜１週間で完了する。
４）工程６（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｉａ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
５）工程７（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程６で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）より、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉａａ）を製造することができる。
６）工程８（アルケンとのカップリング）
工程７で得られた化合物（ｉｉｉａａ）を、１〜５０当量のアルケン（ＣＨ２＝ＣＨＲ５）と、溶媒中、触媒および塩基を添加して、カップリングすることにより化合物（ＩＩａａ）を製造することができる。触媒としては、０．１〜１当量のテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム等のパラジウム触媒、および１〜１０当量の塩化テトラ−Ｎ−ブチルアンモニウ厶等の４級アンモニウム塩が用いられ、塩基としては、１〜１０当量のトリエチルアミン等が用いられる。必要に応じて０．１〜１当量のトリフェニルホスフィン等を加えてもよい。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロアルカン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中が用いられる。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で、１〜３６時間で完了する。
工程９〜工程１２
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）であり、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基である化合物（ＩＩａｂ）は以下の方法で製造することができる。
［式中、Ｒ３、ＢｏｃおよびＦｍｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｒ２ｂはＲ２の定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基を表す］および
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）以外の基を表す］
１）工程９（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
工程３で得られる化合物（ｉａ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
２）工程１０（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程９で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶｂ）を、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉａｂ）を製造することができる。
３）工程１１（Ｆｍｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｉｉａｂ）のＦｍｏｃの脱保護は、工程４と同様な反応条件で行うことができる。
４）工程１２（アミノ基の修飾）
工程１１で得られた１級アミンを、工程５と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ＩＩａｂ）を製造することができる。
工程１２〜工程１５
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基であり、Ｒ２ａが
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（ＩＩｂａ）は以下の方法で製造することができる。
［式中、Ｒ５、ＸおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義であり、Ｒ１ｂはＲ１の定義中、ＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基を表す］
１）工程１２
市販または既知法の組み合わせにより合成できるプロリン誘導体（ＩＩＩｂ）を、工程３と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ｉｂ）を製造することができる。
２）工程１３（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
化合物（ｉｂ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
３）工程１４（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程１３で得られた化合物と、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）を、工程５の方法２と同様な反応条件で反応させることにより化合物（ｉｉｉｂａ）を製造することができる。
４）工程１５
工程８と同様な反応を行うことにより、化合物（ｉｉｉｂａ）より化合物（ＩＩｂａ）を製造することができる。
工程１６および工程１７
化合物（ＩＩ）のうち、Ｒ１がＮＨＲ３（式中、Ｒ３は前記と同義である）以外の基であり、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）以外の基である化合物（ＩＩｂｂ）は以下の方法で製造することができる。
（式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義である）
１）工程１６（Ｂｏｃ保護基の脱保護）
工程１２で得られる化合物（ｉｂ）のＢｏｃの脱保護は、工程１と同様な反応条件で行うことができる。
２）工程１７（アントラニル酸誘導体との縮合）
工程１６で得られた化合物を、工程１０と同様な反応条件で反応させることにより、化合物（ＩＩｂｂ）を製造することができる。
以下に、原料となる化合物（ＩＶｂ）の製造法について説明する。
工程１８および工程１９
（式中、Ｒ２ｂ、ＸおよびＢｏｃはそれぞれ前記と同義である）
１）工程１８
市販または、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ），１９９７年，６２巻，ｐ．１２４０に示された方法を参考にして製造されるアントラニル酸誘導体（ＩＶａ）と、１〜１０当量のアリールまたはヘテロアリールボロン酸誘導体［Ｒ２ｂＢ（ＯＨ）２］とを溶媒中、触媒存在下でカップリングすることにより化合物（ｉｖ）を製造することができる。触媒としては、化合物（ＩＶａ）に対して通常０．０１〜１当量の酢酸パラジウム（ＩＩ）等が用いられ、配位子としては、必要に応じ化合物（ＩＶａ）に対して０．０１〜１当量のトリフェニルホスフィン、２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル等のホスフィン配位子が用いられ、添加剤としては、必要に応じ化合物（ＩＶａ）に対して１〜１０当量のフッ化セシウム等が用いられる。反応は、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中またはそれらの混合溶媒中、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
２）工程１９
工程１８で得られた化合物（ｉｖ）を溶媒中、塩基を添加して、加水分解することにより、化合物（ＩＶｂ）を製造することができる。塩基としては、化合物（ｉｖ）に対して１〜５当量の水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等が用いられ、溶媒としては、通常、メタノール、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、またはそれらの混合溶媒で行われ、必要に応じ水を添加してもよい。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
工程２０
化合物（Ｉ）のうち、Ｒ２が定義中の
（式中、Ｒ５Ｘは前記と同義である）である化合物（Ｉｂ）は、化合物（Ｉａ）のうち、Ｒ２ａが定義中の
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である化合物（Ｉｃ）から、次の反応工程により製造することができる。
（式中、Ｒ１は前記と同義であり、Ｒ５とＲ５Ｘは前記と同義でかつ同一である）
１）工程２０
化合物（Ｉｃ）を、溶媒中、触媒を添加して、水素雰囲気下または水素気流下、あるいは水素源となる化合物を添加して接触還元することにより化合物（Ｉｂ）を製造することができる。溶媒としては、水、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が単独あるいは混合して用いられ、触媒としては、重量比にして１／１００〜１／３量のパラジウム／炭素等の接触還元触媒が用いられる。水素源となる化合物としては、１〜１０当量のギ酸アンモニウム等が用いられる。反応は、室温〜溶媒の沸点以下の温度で行われ、１〜２４時間で完了する。
原料となる化合物（ＩＩＩａ）および（ＩＩＩｂ）のうち市販でないものは、例えば、オーガニック・レターズ（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．），２００１年，３巻ｐ．２４８１、同２００２年，４巻，ｐ．３３１７、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．），２００２年，６７巻，ｐ．３９２３、またはジャーナル・オブ・コンビナトリアル・ケミストリー（Ｊ．Ｃｏｍｂ．Ｃｈｅｍ．），２００１年，３巻，ｐ．３６７に示された方法、またはそれらを組み合わせた方法を参考にして製造することができる。
上記各製造法における目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単離精製することができる。また、中間体においては特に精製することなく次の反応に供することも可能である。目的化合物がポリスチレン樹脂上に担持されている場合には、通常の固相反応で常用される各種溶媒での樹脂の洗浄法を適用することにより、ポリスチレン樹脂上に担持されたままで、次の工程に用いることができる。
化合物（Ｉ）の中には、幾何異性体、光学異性体、互変異性体等の立体異性体が存在し得るものもあるが、これらを含め、全ての可能な異性体およびそれらのいかなる比率における混合物も本発明に包含される。
化合物（Ｉ）の塩を取得したいとき、化合物（Ｉ）が塩の形で得られるときはそのまま精製すればよく、また、遊離の形で得られるときは、化合物（Ｉ）を適当な溶媒に溶解または懸濁し、酸または塩基を加えて単離、精製すればよい。
また、化合物（Ｉ）およびその薬学的に許容される塩は、水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの付加物も本発明に包含される。
以下、第１−１表〜第１−６表に化合物（Ｉ）の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定されることはない。
次に、代表的な化合物（Ｉ）の薬理作用について実験例により具体的に説明する。
実験例１ ヒト白血病細胞株に対する増殖抑制活性
ヒト急性骨髄性白血病細胞株ＭＬ−１、ヒト慢性骨髄性白血病細胞株Ｋ５６２に対する試験物質の細胞増殖抑制率（％）の測定を以下の方法で実施した。各細胞の培養には１０％牛胎児血清（ギブコ社、カタログ番号１０４３７−０２８）、および１％ペニシリン／ストレプトマイシン（ギブコ社、カタログ番号１５１４０−１２２）を含むＲｏｓｗｅｌｌ Ｐａｒｋ ｍｅｍｏｒｉａｌ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ’ｓ Ｍｅｄｉｕｍ １６４０（ＲＰＭＩ）培地（ギブコ社、カタログ番号１１８７５−０９３）を使用した。２．５×１０４個／ｍＬに調製したＭＬ−１細胞、Ｋ５６２細胞をＴＣ ＭＩＣＲＯＷＥＬＬ ９６Ｕ ｐｌａｔｅ（ナルジェン・ヌンク社、カタログ番号１６３３２０）に８０μＬずつ播種し、３７℃で４時間、５％炭酸ガスインキュベーター内において培養し、ブランクのウェルには、ＲＰＭＩ培地のみを８０μＬ添加した。最終濃度がそれぞれ１０μｍｏｌ／Ｌとなるように調整した試験物質を２０μＬずつ添加し、コントロールとブランクのウェルには最終濃度が０．１％となるように調整したジメチルスルホキシド溶液を２０μＬずつ添加した。試験物質添加後、３７℃で７２時間、５％炭酸ガスインキュベーター内において培養した。ＲＰＭＩ培地で５０％に希釈したＷＳＴ−１（４−［３−（４−Ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）−２−（４−ｎｉｔｒｏｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−５−ｔｅｔｒａｚｏｌｉｏ］−１，３−ｂｅｎｚｅｎｅ ｄｉｓｕｌｆｏｎａｔｅ）試薬（ロシュ・ダイアグノスティックス社、カタログ番号１６４４８０７）を２０μＬ加え、３７℃で２時間インキュベートした後に、マイクロプレート分光光度計ＳＰＥＣＴＲＡ ｍａｘ ３４０ＰＣ（モレキュラーデバイス社）を用い、４５０ｎｍ（対照波長６９０ｎｍ）の吸光度を測定した。コントロールのウェルの値を１００％、ブランクのウェルの値を０％として、試験物質を加えたウェルの増殖率（％）を算出し、その値を１００％から引いた値を試験物質の細胞増殖抑制率（％）とした。本値が大きいほど、細胞に対する増殖抑制活性が強いこと示している。
結果を第２表に示す。
実験例２ ヒト線維芽細胞におけるコラーゲン合成促進活性
ヒト新生児皮膚由来線維芽細胞株ＮＢ１ＲＧＢ（理研セルバンク、茨城）を、１０ｖｏｌ％牛胎児血清（ハイクローン社製、Ｌｏｇａｎ，ＵＴ，ＵＳＡ）ペニシリンＧカリウム５０Ｕ／ｍＬ、およびストレプトマイシン５０μｇ／ｍＬを添加したミニマムエッセンシャルメディウムアルファメディウム（ＭＥＭアルファ培地中、インビトロジェン社製、Ｃａｒｌｓｂａｄ，ＣＡ，ＵＳＡ）を用い、３７℃、５％ＣＯ２の条件で定常期まで培養した。トリプシン／ＥＤＴＡ溶液（ベーリンガーマンハイム社製、Ｍａｎｎｈｅｉｍ，Ｇｅｒｍａｎｙ）処理により細胞を集め、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地中で、２．１×１０４個／ｍＬに調製し、４８ウェルのマイクロプレート（ファルコン４８ウェルマルチウェルティッシュカルチャープレート、ビーディーバイオサイエンス社製、Ｆｒａｎｋｌｉｎ Ｌａｋｅｓ，ＮＪ，ＵＳＡ）に２５０μＬずつ播種し、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で更に一晩培養した。翌日、培地を除去した後、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地に溶解した試験物質を各ウェルに添加した。ひきつづき、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で３日間培養後、上清を回収した。１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地のみをウェルに添加したものをコントロールとして用いた。コラーゲンは細胞内でプロコラーゲンとして生合成され、細胞外に分泌されてコラーゲン線維として重合する。この時、プロコラーゲンのＮ末端およびＣ末端のプロペプチドが、エンドペプチダーゼにより遊離することが報告されており、培養上清中のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドを測定することにより、Ｉ型コラーゲン産生量を定量することができる（中塚喜義、関谷喜一郎、吉田博昭，日本骨代謝学会誌，１９９２年，１０巻２号，ｐ．１７３−１８０）。得られた培養上清中のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチド濃度の測定は、プロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドＥＩＡキット（タカラバイオ社製、滋賀）を用いて行った。測定は、キットの添付プロトコールに従って実施した。すなわち、全ての上清サンプルをキット付属の希釈緩衝液で１０倍希釈したもの、ならびにキットに付属しているプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチド標準液（０、１０、２０、３０、４０、８０、１６０、３２０ならびに６４０ｎｇ／ｍＬ）を測定に供した。マイクロプレートリーダー・パワーウェーブＸセレクト（バイオテックインストロメンツ社製、Ｗｉｎｏｏｓｋｉ，ＶＴ，ＵＳＡ）を使用して４５０ｎｍでの吸光度を測定し、解析ソフトＫＣ４（バイオテックインストロメンツ社製）を用いて解析した。作成した検量線から測定サンプルの濃度を算出した。コントロールに対する試験物質のプロコラーゲンＩ型Ｃ末端ペプチドの産生促進作用（コラーゲン合成促進活性）は式１に従って算出した。
結果を第３表に示す。
実験例３ ヒト線維芽細胞におけるヒアルロン酸合成促進活性
ヒト新生児皮膚由来線維芽細胞株ＮＢ１ＲＧＢを実験例２に従い、４８ウェルのマイクロプレートで一晩培養した。翌日、培地を除去した後、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地に溶解した試験物質を各ウェルに添加し、３７℃、５％ＣＯ２の条件下で３日または６日間培養後、上清を回収した。コントロールとして、１ｖｏｌ％牛胎児血清を含むＭＥＭアルファ培地のみを添加したものを用いた。
上清中に産生されたヒアルロン酸の定量はヒアルロン酸特異的結合タンパク質を利用する以下の方法で行った。すなわち、リン酸緩衝液（ＰＢＳ、アイシーエヌバイオケミカル社製、Ａｕｒｏｒａ，ＯＨ，ＵＳＡ）で希釈した０．５μｇ／ｍＬのヒアルロン酸結合性タンパク質（生化学工業社製、東京）を９６ウェルマイクロプレート（ナルゲンヌンク社製、Ｒｏｓｋｉｌｄｅ，Ｄｅｎｍａｒｋ）に１ウェル当たり５０μＬ加え、４℃で一晩コーティングした。次に１ｖｏｌ％牛血清アルブミン（生化学工業社製）を含むＰＢＳ（ＢＳＡ−ＰＢＳ）を１ウェル当たり２００μＬ加え、室温で１時間静置した後、ＢＳＡ−ＰＢＳで１０倍希釈した培養上清を１ウェル当たり５０μＬ加えて２時間室温に静置した。また、ヒアルロン酸ナトウム塩（ヒト臍帯由来、生化学工業社製）を蒸留水で１ｍｇ／ｍＬの濃度に溶解したストック溶液を０、３．１２５、６．２５、１２．５、２５、５０、１００、２００、４００、８００および１６００ｎｇ／ｍＬにＢＳＡ−ＰＢＳで希釈した標準試料も同様に処理した。プレートを０．０５ｖｏｌ％のモノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（Ｔｗｅｅｎ２０、和光純薬工業製）を含むＰＢＳ（Ｔｗｅｅｎ−ＰＢＳ）で３回洗い、０．２５μｇ／ｍＬの濃度にＢＳＡ−ＰＢＳで希釈したビオチン標識ヒアルロン酸結合性タンパク質（生化学工業社製）を１ウェル当たり５０μＬ加えた。室温で時間静置した後、Ｔｗｅｅｎ−ＰＢＳで３回洗い、ＢＳＡ−ＰＢＳで４０００倍希釈した西洋ワサビペルオキシダーゼアビジンＤ（生化学工業社製）を１ウェル当たり１００μＬ加えて３０分間室温に静置した。最後にこれらのプレートをＴｗｅｅｎ−ＰＢＳで３回洗い、ＴＭＢ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ ｒｅａｇｅｎｔｓｅｔ（ビーディー・ファーミジェン社製、Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ，ＣＡ，ＵＳＡ）を１ウェル当たり１００μＬ加え、発色したところで１０ｖｏｌ％硫酸を１ウェル当たり１００μＬ加えて反応を停止させ、４５０ｎｍの吸光度を測定した。吸光度の測定には、マイクロプレートリーダー・パワーウェーブＸセレクトを使用して４５０ｎｍでの吸光度を測定し、解析ソフトＫＣ４を用いて解析した。作成した検量線から培養上清中のヒアルロン酸濃度を算出した。コントロールに対する試験物質のヒアルロン酸の産生促進作用（ヒアルロン酸合成促進活性）は式２に従って算出した。
結果を第４表および第５表に示す。
実験例４ マウス角質水分蒸散量抑制作用
Ｂａｌｂ／ｃマウスの吻側背部にアセトン／ジエチルエーテル混液（１：１）で１５秒間、その後、蒸留水で６０秒間の処置を１日２回、８時間以上の間隔で４日間行った。５日目、６日目、７日目に試験物質の０．３３％アセトン溶液を吻側背部にそれぞれ５０μＬ塗布した。対照群には、アセトンを５０μＬ塗布した。各群６匹を用いた。５日目の化合物溶液塗布前、塗布１２時間、２４時間、７２時間後の角質水分蒸散量（ＴＥＷＬ）値を水分蒸散量測定装置［ヴァボメーター（Ｖａｐｏ Ｍｅｔｅｒ）、デルフィン・テクノロジー社（Ｄｅｌｆｉｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｌｔｄ）］で測定し、式３にしたがって角質水分蒸散量抑制率（％）を算出した。本値が大きいほど、角質水分蒸散量増加の回復が促進され、すなわち皮膚バリア機能を回復させて、水分の透過性を抑制すること示している。
結果を第６表に示す。
化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩は、そのまま単独で投与することも可能であるが、通常各種の医薬製剤として提供するのが望ましい。また、それら医薬製剤は、動物および人に使用されるものである。
本発明に係る医薬製剤は、抗腫瘍剤、肌の老化抑制剤、肌質改善剤、創傷治癒剤、皮膚炎治療剤または関節炎治療剤として用いることができる。活性成分として化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩を単独で、あるいは任意の他の治療のための有効成分（繊維芽細胞成長因子（ＦＧＦ）、例えばタクロリムス等の免疫抑制剤、ビタミンＤ誘導体、ステロイド剤、抗生物質、抗ウイルス剤、非ステロイド抗炎症剤、例えばヒアルロン酸、９，１０−ジヒドロ−４，５−ジヒドロキシ−９，１０−ジオキシ−２−アントラセン酸ジ酢酸エステル等の抗リウマチ薬等）との混合物または合剤として含有することができる。また、それら医薬製剤は、活性成分を薬学的に許容される一種またはそれ以上の担体と一緒に混合し、製剤学の技術分野においてよく知られている任意の方法により製造される。
投与経路としては、治療に際し最も効果的なものを使用するのが望ましく、経口または、例えば経皮、静脈内、経鼻、経肺等の非経口をあげることができる。
投与形態としては、錠剤、散剤、軟膏、注射剤、外用液剤等があげられる。
経口投与に適当な、例えば錠剤、散剤等は、乳糖、でんぷん等の賦形剤、澱粉等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウ厶等の滑沢剤、ヒドロキシプロピルセルロース等の結合剤等を用いて製造できる。
経皮投与に適当な、例えば軟膏等は、ワセリン、パラフィン、ラノリン、マクロゴール等の軟膏基剤、ラウリル硫酸ナトリウム、ソルビタン脂肪酸エステル等の乳化剤等を用いて製造できる。
静脈内投与に適当な製剤は、好ましくは受容者の血液と等張である活性化合物を含む滅菌水製剤からなる。例えば、注射剤の場合は、塩溶液、ブドウ糖溶液または塩溶液とブドウ糖溶液の混合物を用いて注射用の溶液を調製する。
経鼻、経肺等の投与に適当な、例えば外用液剤は、塩化ナトリウム、ホウ酸等の等張化剤、リン酸水素ナトリウム等のｐＨ調整剤、メチルセルロース等の粘稠剤等を用いて製造できる。
また、これら非経口剤においても、希釈剤、防腐剤、フレーバー、賦形剤、崩壊剤、滑沢剤、結合剤、界面活性剤、可塑剤等から選択される１種またはそれ以上の補助成分を添加することもできる。
化合物（Ｉ）またはその薬学的に許容される塩の投与量および投与回数は、投与形態、患者の年齢、体重、治療すべき症状の性質または重篤度により異なるが、通常経口の場合、成人一人当り０．０１ｍｇ〜１ｇ、好ましくは０．０５〜５０ｍｇを一日一回ないし数回投与する。静脈内投与等の非経口投与の場合、成人一人当り０．００１〜１００ｍｇ、好ましくは０．０１〜１０ｍｇを一日一回ないし数回投与する。しかしながら、これら投与量および投与回数に関しては、前述の種々の条件により変動する。
以下に、本発明の態様を実施例および参考例で説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
下記実施例の各化合物の質量分析データは以下の機器によって測定し、第１−１表〜第１−６表中に機器データとして記した。
ＥＳＩＭＳ：Ｗａｔｅｒｓ ＺＱ
固相合成は、マクロカン［ＭａｃｒｏＫａｎ イロリ社（ＩＲＯＲＩ）製］反応容器に封入したポリスチレン樹脂を用いることにより行った。また、同封したラジオ周波数タグ［アキュタグ（ＡｃｃｕＴａｇ）］にて、各マクロカンを区別して同一フラスコ内で複数化合物の反応を並列に実施した。
【実施例１】
第１−１表に示した化合物１〜１３９は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
マクロカンに封入した４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（Ｒａｐｐ Ｐｏｌｙｍｅｒｅ ＧｍｂＨ社製 ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ：１２５−１６０μｍ、１．０５ｍｍｏｌ／ｇ、約３００ｍｇ）を、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸（３当量）および１−メチルイミダゾール（２当量）のジクロロメタン溶液（１マクロカンあたり６ｍＬ）に加えた。続いて、ジイソプロピルカルボジイミド（２．５当量）を滴下した後、混合物を室温で一晩振盪した。デカンテーションにより溶液を除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタンで交互に４回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
２）第２工程：Ｆｍｏｃ保護基の脱保護
第１工程で得られた化合物に、ピペリジンのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２０ｖｏｌ％、１マクロカンあたり４ｍＬ）を加え、室温で１５分振盪した。デカンテーションにより溶液を除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホル厶アミド、ジクロロメタンで交互に３回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
３）第３工程：アミノ基の修飾
方法Ａ）イソシアネートによる修飾
イソシアネート（４当量）のジクロロメタン（１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液に、第２工程で得られた化合物を加え５時間加熱還流した。
方法Ｂ）カルボン酸による修飾
２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート（４当量）およびＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（４当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、カルボン酸（４当量）を加え、続いて第２工程で得られた化合物を加えた。得られた混合物を室温で一晩振盪した。
方法Ｃ）スルホニルクロリドによる修飾、および環状カルボン酸無水物による修飾
４−ジメチルアミノピリジン（４当量）および無水ピリジン（４０当量）のジクロロメタン（１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、第２工程で得られた化合物を加え、続いてスルホニルクロリドまたはカルボン酸無水物を加えた。得られた混合物を室温で６０時間振盪した。
方法Ａ〜Ｃで得られた反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、メタノールで順番に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
４）第４工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
第３工程で得られた化合物に、トリフルオロ酢酸のジクロロメタン溶液（５０ｖｏｌ％、１マクロカンあたり４ｍＬ）を加え、室温で２時間振盪した。反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタンで交互に３回ずつ、続いてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンのジクロロメタン溶液（２ｖｏｌ％）で２回洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
５）第５工程：アントラニル酸誘導体との縮合
２−（１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボレート（１．５当量）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（１．５当量）およびＮ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸（１．５当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液を氷浴で冷却した。ここに、第４工程で得られた化合物を加え、得られた混合物を室温で一晩振盪した。反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、メタノールで順番に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
６）第６工程：アルケンとのカップリング
塩化テトラ−Ｎ−ブチルアンモニウム（１当量）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．２当量）、トリエチルアミン（２当量）およびアルケン（２５当量）のジクロロメタン／Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ｖ／ｖ＝４：１、１マクロカンあたり４ｍＬ）溶液に、第５工程で得られた化合物を加え、アルゴン気流下８５℃で一晩加熱還流した。翌日、トリフェニルホスフィン（０．２当量）およびトリエチルアミン（２当量）をさらに加え、８５℃で一晩加熱還流した。反応溶液を室温に冷却し、反応溶液をデカンテーションにより除去した後、マクロカンに封入した樹脂をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド／水（ｖ／ｖ＝１：１）、テトラヒドロフラン／５％酢酸水溶液（ｖ／ｖ＝１：１）、テトラヒドロフランで洗浄した。さらに、ジクロロメタン、メタノールで交互に２回ずつ洗浄した後、ジエチルエーテルで洗浄し真空下で乾燥した。
７）第７工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
第４工程とほぼ同様な方法で、第６工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
８）第８工程：環化による樹脂からの切り出し
冷却した飽和アンモニアメタノール溶液、メタノール、ジクロロメタンの混合溶液（ｖ／ｖ／ｖ＝４０：３０：６０、１マクロカンあたり４ｍＬ）を調製し７、第７工程で得られたマクロカンに封入された樹脂に加えた。それぞれの反応容器を密封し、室温で一晩振盪した。得られた溶液を加圧または減圧濾過し、続いて樹脂にメタノール／ジクロロメタン混合溶液（ｖ／ｖ＝１：１、４ｍＬ）を加え、５分間振盪後、溶液を濾過した。得られた溶液をあわせて減圧下濃縮することにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例２】
第１−１表に示した化合物１４０〜２３４は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
実施例１の第１工程と同様にして、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ）に導入した。
２）第２工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第１工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
３）第３工程：アントラニル酸誘導体との縮合
実施例１の第５工程と同様にして、第２工程で得られた化合物と、参考例１で得られるＮ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸を縮合した。
４）第４工程：Ｆｍｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第２工程と同様にして、第３工程で得られた化合物のＦｍｏｃ保護基を脱保護した。
５）第５工程：アミノ基の修飾
実施例１の第３工程と同様にして、第４工程で得られた化合物のアミノ基を修飾した。
なお、化合物２３４の製造においては、１−Ｆｍｏｃ−ピペリジン−４−カルボン酸を用いて修飾した後、得られた化合物のＦｍｏｃ基を実施例１、第２工程と同様にして脱保護した。
６）第６工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第５工程で得られた化合物のＢｏｃ基を脱保護した。
７）第７工程：環化による樹脂からの切り出し
実施例１の第８工程と同様にして、第６工程で得られた化合物を環化させ樹脂から切り出すことにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例３】
第１−１表に示した化合物２３５〜２４２および第１−２表に示した化合物２４３−２７２は、以下に示す一般的合成法に従って製造した。
１）第１工程：ポリスチレン樹脂へのプロリン誘導体の導入
実施例１の第１工程と同様にして、４位に対応する置換基を有する（２Ｓ）−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を４−ヒドロキシメチルベンゾイルアミノメチルポリスチレン（ＡＭ ＨＭＢ ｒｅｓｉｎ）に導入した。
２）第２工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第１工程で得られた化合物のＢｏｃ保護基を脱保護した。
３）第３工程：アントラニル酸誘導体との縮合
実施例１の第５工程と同様にして、第２工程で得られた化合物と、参考例１で得られるＮ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸を縮合した。
４）第４工程：Ｂｏｃ保護基の脱保護
実施例１の第４工程と同様にして、第３工程で得られた化合物のＢｏｃ基を脱保護した。
５）第５工程：環化による樹脂からの切り出し
実施例１の第８工程と同様にして、第４工程で得られた化合物を環化させ樹脂から切り出すことにより対応する目的化合物（Ｉ）を得た。
【実施例４】
第１−３表に示した化合物２７３〜２８２は、実施例１の第５工程においてＮ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸に代えて、Ｎ−Ｂｏｃ−４−ブロモアントラニル酸を用いる以外は、実施例１と同様にして製造した。
【実施例５】
第１−４表に示した化合物２８３〜３９７は、（２Ｓ，４Ｓ）−Ｆｍｏｃ−４−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸に代えて、（２Ｓ，３Ｓ）−Ｆｍｏｃ−３−アミノ−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を用いる以外は、実施例２と同様にして製造した。なお、化合物３８８〜３９７の製造においては、実施例２に示した化合物２３４の製造と同様にして製造した。
【実施例６】
第１−４表に示した化合物３９８〜４０９および第１−５表に示した化合物４１０−４１９は、３位に対応する置換基を有する（２Ｓ）−１−Ｂｏｃ−ピロリジン−２−カルボン酸を用い、実施例３と同様にして製造した。
【実施例７】
第１−６表に示した化合物４２０は、次の合成法に従って製造した。
第１−１表に示した化合物７５（５．０ｍｇ）をエタノール（２．０ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム／炭素（１ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応の終了をＬＣ／ＭＳで確認した後に、触媒の濾別、溶媒留去を行い、第１−６表に示した化合物４２０（３．８ｍｇ）を得た。
参考例１ Ｎ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸またはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸の一般的合成法
Ｎ−Ｂｏｃ−５−ブロモアントラニル酸メチル、酢酸パラジウム（ＩＩ）（２．５ｍｏｌ％）、２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル（５ｍｏｌ％）およびフッ化セシウム（３当量）の無水ジオキサン（１ｍＬ／ｍｍｏｌ）溶液に、アルゴン気流下、対応するボロン酸（３当量）を加えた。ボロン酸を加えたことによる発熱のおさまった後、反応溶液を８０℃で４時間加熱した。反応溶液を減圧下濃縮することにより得られる残渣を、カラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、Ｎ−Ｂｏｃ−５−アリールアントラニル酸メチルまたはＮ−Ｂｏｃ−５−ヘテロアリールアントラニル酸メチルを得た。続いて、得られた化合物をテトラヒドロフラン（２ｍＬ／ｍｍｏｌ）に溶解し、水酸化リチウ厶水溶液（２当量、１ｍｏｌ／Ｌ、２ｍＬ／ｍｍｏｌ）を加えた。得られた反応溶液を室温で一晩激しく攪拌した。メチルエステルの消失を薄層クロマトグラフィーにより確認後、ジオキサンを減圧下留去した。得られた粘稠な残渣に氷冷下、酢酸水溶液（５０ｖｏｌ％、用いた水酸化リチウムに対し１．５当量）を加えることにより、白色の沈殿が得られた。混合物を４時間静置することにより、粘稠な残渣を完全に固体化させた。得られた固体を砕き吸引濾過により濾取し水で洗浄した後、減圧下乾燥することにより、標題化合物を得た。
【産業上の利用可能性】
本発明により、抗腫瘍作用、肌の老化抑制作用、肌質改善作用、創傷治癒作用、皮膚炎治療作用または関節炎治療作用を有する新規な三環性プロリン誘導体を提供することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
｛式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルアルキルオキシまたはＮＨＲ３［式中、Ｒ３は置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニル、置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルまたは
（式中、Ｒ４は低級アルキル、シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）を表す］を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、シクロアルキル、カルボキシ、カルバモイルまたは脂環式複素環カルボニルを表す）または
（式中、Ｒ５ＸはＲ５と同義である）を表す｝で表される化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｒ１がヒドロキシである請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ１がＮＨＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルを表す）である請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｒ１が
（式中、Ｒ４ａは置換もしくは非置換のアリールを表す）である請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ２が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールである請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項６】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５ａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項８】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５Ｘａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項１】
式（Ｉ）
｛式中、Ｒ１はヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルキニルオキシ、低級アルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアリールアルキルオキシ、置換もしくは非置換のヘテロアリールアルキルスルファニル、シクロアルキルアルキルオキシまたはＮＨＲ３［式中、Ｒ３は置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニル、置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルまたは
（式中、Ｒ４は低級アルキル、シクロアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールを表す）を表す］を表し、Ｒ２は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、シクロアルキル、カルボキシ、カルバモイルまたは脂環式複素環カルボニルを表す）または
（式中、Ｒ５ＸはＲ５と同義である）を表す｝で表される化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｒ１がヒドロキシである請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ１がＮＨＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換のヘテロアロイル、置換もしくは非置換の脂環式複素環カルボニル、低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアリールスルホニルまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールスルホニルを表す）である請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｒ１が
（式中、Ｒ４ａは置換もしくは非置換のアリールを表す）である請求の範囲１記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ２が置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリールである請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項６】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５は前記と同義である）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５ａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【請求項８】
Ｒ２が
（式中、Ｒ５Ｘａは置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリールまたは脂環式複素環カルボニルを表す）である請求の範囲１〜４のいずれかに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩。
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０４０１７２
【国際公開日】平成１７年５月６日（２００５．５．６）
【発行日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５１５０６２（Ｐ２００５−５１５０６２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／０１６３５３
【国際出願日】平成１６年１０月２８日（２００４．１０．２８）
【出願人】（０００００１０２９）協和醗酵工業株式会社 (276)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１７年５月６日（２００５．５．６）
【発行日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／０１６３５３
【国際出願日】平成１６年１０月２８日（２００４．１０．２８）
【出願人】（０００００１０２９）協和醗酵工業株式会社 (276)
【Ｆターム（参考）】
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