連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法
【課題】連続搬送される帯状被処理物の必要部分のみにめっき液を噴出して連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法の提供。
【解決手段】長尺の被処理物１１を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる被処理物１１を搬送しながら回転し、被処理物１１のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体３を同心円状に配置し、余剰のめっき液が付着したマスク回転体３に向かって微量の純水を噴霧する洗浄ノズル１、マスク回転体３の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材２を付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。
【解決手段】長尺の被処理物１１を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる被処理物１１を搬送しながら回転し、被処理物１１のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体３を同心円状に配置し、余剰のめっき液が付着したマスク回転体３に向かって微量の純水を噴霧する洗浄ノズル１、マスク回転体３の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材２を付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法に関し、より詳しくは、連続搬送される帯状の被処理物（以下、ワークともいう）の必要部分のみにめっき液を噴出して、高精度で連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコンや携帯電話などの電子機器の広く普及したことに加え、複数の電子機器を接続して使用するネットワーク環境が普及したことにより、リード付き端子部品（コネクタ）の需要が大きく拡大している。さらに、携帯電話や音楽プレイヤーに代表されるモバイル機器の小型化・高性能化・多機能化や薄型テレビなどのデジタル家電で大容量データを処理するための高速データ伝送などの要求にこたえるための重要部品として、コネクタの小型・低背化、多極・多ピン化、狭ピッチ化などの技術製品開発が積極的に進められている。
【０００３】
こうしたリード付き端子部材（コネクタ）への電極形成では、ワークを図７に示したように、長手方向に連続する帯状共通部分と長手方向に不連続でかつ幅方向に延びる複数の櫛歯状部分とを有する帯状に成形しておき、このワークを連続搬送しつつ、櫛歯状部分のめっき必要部分に、めっき液を噴出して連続的にめっきする装置（以下、連続部分めっき装置という）が用いられている。そして、部分めっき終了後の帯状のワークが、最終的には櫛歯状部分の前後で切断され、リード付き端子部材となる。
ところが、ワークの寸法は、非常に小さく、リード付き端子部材では、例えば全長が２ｍｍ程度で、めっきすべき端子部の長さはわずか０．５ｍｍというような寸法になっている。
そのために、製品化工程において、リード部をプリント配線端部にハンダ付けする際、めっきを施さないバリア部を溶融ハンダが流れ、かつ端子部に付着して電気的短絡状態となる虞がある。
【０００４】
例えば、連続する帯状長尺物（リードフレーム）で、かつ連続するめっき必要部分を有するワークの場合は、従来、連続部分めっき装置を構成する処理槽内のめっき液面を調整板により一定に保持し、めっきが必要な部分をめっき液に浸漬しつつ搬送させていた。これにより、めっき不必要部分がめっき処理されることはないが、めっき液面の変動を皆無とすることは実際上不可能である。めっきが必要な部分がより複雑で、めっき不要部分も存在する図８のようなワーク１Ａ、１Ｂ、１Ｃの連続部分めっきは難しい。
【０００５】
そこで、このようなワーク１Ａ、１Ｂ、１Ｃの場合、めっき不必要部分１ＭＹ、１ＭＮにテープ等を貼り付け（マスキング）して、部分めっき終了後にテープ等を引き剥がす直接貼付マスキング方式が採用される場合がある。しかし、テープの購入、またテープ貼付作業および引剥作業が必要であって、生産能率が大幅に低下し生産コスト高となる。テープ貼付作業時にバラツキやテープ変形が生じるので、最低でも２ｍｍ以下という位置精度を得ることはできない。さらに、ワークに凹凸や曲りなど大きな変形部分がある図８（Ｄ）のような場合は、マスキングが難しい。
【０００６】
これに対して、いわゆる間接固着マスキング方式が提案され、めっき不必要部分を絶縁マスキングし、ノズルからめっき液を吐出して布等の保持体層に浸潤しつつ流動させ、この状態でドラムを回転させることにより、保持体層と接する部分に液溜りを形成し、この液溜りに浸漬された状態で部分めっきを施すように構成した部分めっき装置がある（特許文献１を参照）。しかし、この方式でも直接貼付マスキング方式と同様に、テープやマスキング部材によるマスキングが困難であり、小型（微細）で複雑形状の帯状のワークを部分めっきするには不適当である。
【０００７】
そこで、めっき必要部分とマスキング部材との間に空間を形成し、この空間内にめっき液を供給して当該めっき必要部分にめっき処理を施す装置が提案されている（例えば、特許文献２）が、かかる装置でも、マスキング部材とワークとの間にめっき液が浸み込んでしまうので、めっき必要部分とめっき不必要部分との境界が部分的に変動して、精度上の要求を満たせない。
【０００８】
そこで、本出願人は、ワークの形態が一段と小型化および複雑化する中で、部分めっきの位置精度を一層高度化するとともに、生産性が高くかつ低コストで部分めっきできる、ドラムマスク（以下、マスク回転体という）を使用した部分めっき装置を提案した（特許文献３、４）。
この特許文献３の装置は、基軸線を中心に回転する電極構造体内で外部から供給されためっき液に陽極電位を印加給電し、給電後のめっき液を全周方向に連続するスリット部から径方向に噴流し、ワークの幅方向の選択されためっき必要部分のみにめっき液を吹き付ける装置である。これを用いれば、当該めっき必要部分のみに部分めっきを施すことができ、めっき不必要部分には、めっき液が付着されることがないので、低品質で無用なめっき皮膜は析出されない。
また、特許文献４では、特許文献３の連続部分めっき装置の電極構造体に改良を加え、一方の分割部材と他方の分割部材が上下に組み合わされた特定の二つ割型とすることにより、これら分割部材同士が密着して形成される円筒状外周に電極ノズル孔を水平に精度よく形成し、これを連続部分めっき装置に組み込んで、静止状態の電極構造体の電極ノズル孔から周方向へめっき液を勢いよく噴射させるようにした。これにより、噴射めっき液の上下方向乱れを発生せず、回転体に係合されて連続搬送中のワークは、不必要なめっき液との接触が回避され、めっき液単位量当りの給電面積を増大して給電能率が向上し、さらに回転体の高速回転により生産性をより向上することができた。
【０００９】
ところで、電子部品実装用テープであるＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープ、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｆｉｌｍ）テープ、Ｔ−ＢＧＡ（Ｔａｐｅ Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）テープ、テープＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）テープなどは、微細配線の形成が可能であること、軽量薄型で、柔軟性があり回路設計の自由度が高い等の特徴を持つことから、携帯電話、携帯ゲーム機、サーマルヘッド、ＬＣＤドライバあるいはメインフレームなどのアプリケーションにて採用されている。
【００１０】
例えば、ＴＡＢテープ用基板は、連続したポリイミドフィルム等の絶縁フィルム支持体上に極めて薄い導電層を有しており、この導電層は、金属箔を接着するかスパッタリングや真空蒸着法あるいは無電解めっきにより設け、この導電層を所定形状にパターニングしたものに電気めっきを施すことにより所定の厚みで配線パターンが形成されている。このＴＡＢテープのポリイミドフィルムには、搬送用のスプロケットホールや半導体素子配設用のデバイスホール等の開口部が開けられている。
【００１１】
ＬＳＩ等の半導体素子のバンプが金バンプである場合は、ポリイミドフィルムに複数形成されている銅箔リードのインナーリードにおいて、この金バンプと熱圧着される部分に金めっきが施される。このように金めっきが施されることで、該金めっきと金バンプに含まれる金とが互いに溶融し合い、インナーリードと金バンプとの接続信頼性が向上する。しかし、金は高価な金属材料なので、使用量は減らしたい。そのため、ポリイミドフィルムに銅箔リードを形成後、銅箔リードの一部にのみ金めっきが施される。
【００１２】
このような部分めっきを行うには、ＴＡＢテープのめっき不要部分に、絶縁性のマスキング材を接着することが一般的であり、マスキング材は、めっき後にＴＡＢテープから引き剥がされる（特許文献５参照）。しかしながら、使用されたマスキング材は、再使用できないので廃棄するしかなく、資源の無駄になっていた。これを解消するために、マスキング材をループ状として、めっき時にＴＡＢテープに押し付け、使用後はマスキング材から引き離して、洗浄・乾燥することにより繰り返し使用することも提案されている（特許文献６参照）。ただし、このような方式では、生産性は上がるものの、徐々にマスキング材が変形したり、破損したりすることにより、めっき精度が低下する問題がある。
【００１３】
半導体装置は、年々小型化が進み大量生産されるようになり、前記ＴＡＢテープのような配線テープの需要も増加している。そのため、前記配線テープを効率良く大量に生産できるように、幅の広い絶縁性基材に複数本（複数条）の配線テープを同時に製造する多条取りの配線テープが開発されている。この多条取りの配線テープによれば、例えば、幅が７０ｍｍの広い絶縁性基材を用いることで、３５ｍｍ幅の配線テープを２本まとめて製造することができ、幅が１０５ｍｍの広い絶縁性基材を用いれば、同じく３本まとめて製造することができる。
【００１４】
ところが、これにより得られる広幅の多条取りの配線テープには、各条の間に荷電用の細長い帯状部分（給電線、スリット）が存在するわけで、その面積は従来のものの数倍以上になる。そのため、この部分への金めっきを省略して、さらに低コスト化が可能となるように、近年ドラムマスクが使用されるようになった。
このマスク回転体は、めっき液を節約するために、前記円筒状の電極構造体の外側に同心円状に配置され、前記テープのめっき不要部分にめっき液を接触させないためのマスキング材となるものである。
ところが、以上説明した端子部材や配線テープ用めっき装置に使用するマスク回転体においては、電極構造体から噴出されためっき液が付着して残留し、金（Ａｕ）が析出する問題が発生する。マスク回転体に金（Ａｕ）が析出すると、テープの密着性が悪くなり、めっきの精度が低下したり、ガイドピンが汚れて故障の原因になったりする。そのため、めっき液の種類によっては１日程度でマスク回転体を取り外し、表面から金（Ａｕ）を剥離するマスクメンテナンスが必要となっていた。
【００１５】
このような状況下、マスク回転体に付着した余剰のめっき液が金（Ａｕ）として析出する問題を抑制し、めっきの精度を低下させることなく、故障防止のためのメンテナンス頻度を減らして、低コストで生産性を向上できる連続部分めっき装置の出現が切望されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開平０２−９７６９２号公報
【特許文献２】特開２００２−３８２９４号公報
【特許文献３】特開２００５−１８７８６８号公報
【特許文献４】特開２００９−１３４６６号公報
【特許文献５】特開２００８−２８８４０６号公報
【特許文献６】特開２００４−３１５９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、上記従来の課題に鑑み、連続搬送される帯状ワークの必要部分のみにめっき液を噴出して、高精度で連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、長手方向に連続する長尺のワークを搬送しつつ、めっき必要部分にのみ金めっき処理を施すための連続部分めっき装置を改良し、アノード電極となる側板に形成した多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記ワークを搬送しながら回転し、該ワークのめっき不要部分にめっき液を接触させなくするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及び拭き取り部材をめっき領域の後の非めっき領域、すなわち、めっきが行われない領域に付設した。
そして、洗浄ノズルにて、めっき液に影響のない程度に微量の純水を常時噴霧し、拭き取り部材にて過剰な液体を落とすようにした。これにより、めっき不要部分への金めっきを省略でき、しかも、マスク回転体に付着した余剰のめっき液が金（Ａｕ）として析出する問題を抑制し、常にマスク回転体を清浄に保つことができ、めっきの精度を低下させず、装置の故障を防止して、低コストで生産性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１９】
すなわち、本発明の第１の発明によれば、長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
【００２０】
また、本発明の第２の発明によれば、第１の発明において、前記マスク回転体は、側板がポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上であることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第３の発明によれば、第１の発明において、前記洗浄ノズルは、二流体ノズルであることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第４の発明によれば、第１又は３の発明において、前記洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第５の発明によれば、第１の発明において、前記拭き取り部材は、合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシであることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
【００２１】
一方、本発明の第６の発明によれば、第１〜５のいずれかの発明の連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみに金めっきを施す連続部分めっき方法であって、マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分金めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
【００２２】
また、本発明の第７の発明によれば、第６の発明において、前記被処理物は、リード付き端子用部材又は広幅の電子部品実装用テープであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
また、本発明の第８の発明によれば、第７の発明において、前記リード付き端子用部材は、予め全体的にニッケルめっきが施されていることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
さらに、本発明の第９の発明によれば、第７の発明において、前記電子部品実装用テープは、銅箔リードが複数形成されているポリイミドフィルムであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
また、本発明の第１０の発明によれば、第６の発明において、純水の噴霧量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の連続部分めっき装置によれば、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、洗浄ノズルから純水を噴霧するので、マスク回転体を効率的に洗浄することができる。このとき、洗浄ノズルとして二流体ノズルを用いれば、噴霧される水分量を数１００ｍｌ／ｈｒ以内に制限できることから、めっき後のワーク（製品）に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されることがない。
【００２４】
さらに、本発明の連続部分めっき装置は、微量の純水を噴霧した後、ブラシなどの拭き取り部材にて過剰な液体を落とし、常にマスク回転体を清浄に保つことができ、めっき液の種類にもよるが、マスク回転体を交換せずに１４日間以上の連続運転が可能となる。
これにより、保守点検作業の頻度を低減し、リード付き端子用部材や広幅の電子部品実装用テープの生産性を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】マスク回転体に近接して洗浄ノズル及び拭き取り部材を付設した本発明の連続部分めっき装置の一実施態様を示しており、上図は平面図、下図は側面図である。
【図２】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体と洗浄ノズルの側面図である。
【図３】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体と拭き取り部材の側面図である。
【図４】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体部分の縦断面図である。
【図５】マスク回転体に近接して洗浄ノズル及び拭き取り部材を付設した本発明の連続部分めっき装置の他の実施態様を示す平面図である。
【図６】マスク回転体に、広幅の電子部品実装用テープが密着して搬送される状態を示す説明図である。
【図７】櫛歯状部を有する帯状のワークの平面を示す説明図である。
【図８】帯状のワークの側面を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法について、図１〜６を用いて詳細に説明する。
【００２７】
本発明の連続部分めっき装置は、長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみ、めっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする。
【００２８】
１．電極構造体
本発明において、電極構造体は、円筒状の内部空間がめっき液貯留部となり、内部に供給されためっき液を給電し、連続搬送されるワークに向かって電極ノズル孔から正確にめっき液を噴射するものである。
このような機能を有するものであれば構造によって制限されないが、特に特許文献４に示されるように、一方の分割部材と他方の分割部材が上下に組み合わされて形成される上下二つ割型のものが好ましい。
【００２９】
電極構造体を構成する分割部材の材質は、電気的良導体であれば特に限定されず、チタン、チタン合金、又はステンレス鋼から適宜選ばれる。中でも耐食性があり機械的強度が高いチタン製又はチタン合金製が好ましい。
本発明において電極構造体は、ワークがリード付き端子用部材の場合は、側板の高さがリード付き端子用部材の長さと同程度かそれ以上であり、例えば５０〜１００ｍｍであることが好ましい。
【００３０】
電極構造体の各電極ノズル孔は、仮想円軌跡の法線方向に延びる形態で、水平に一列に配設されている。電極ノズルの直径は、ワークの大きさ、めっき必要部分の大きさなどにより異なるが、通常、電極ノズルの直径を０．１ｍｍ〜２．５ｍｍ、好ましくは、０．２ｍｍ〜２．０ｍｍ、特に０．３ｍｍ〜１．５ｍｍとすることが好ましい。
電極ノズルの直径は、めっき必要部分の大きさ（前後方向寸法および左右方向寸法の大きい方）に対応させることが望ましく、めっき必要部分の寸法が０．３ｍｍであれば、めっき液流を生成・噴射させるために電極ノズルの直径を０．３ｍｍに選択することが好ましい。
また、電極ノズルの個数は、電極構造体のサイズなどによっても異なるが、通常、１０〜２００個、好ましくは１００〜１５０個である。ノズルの個数が１０個未満では十分なめっき液を噴射できず、個数を増やすほど給電能率を向上できるが、２００個より多くするのは加工技術上困難を伴う。
電極ノズルの配置間隔（ピッチ）は、電極構造体のサイズなどによっても異なるが、通常、０．１ｍｍ〜３ｍｍである。この間隔範囲内であればよいが、特に等間隔であることが望ましい。
【００３１】
分割部材同士によって形成される円筒状外周に一列に配設される電極ノズルの配設角度範囲（θ）は、所望のめっき厚を得るために必要な電流密度と処理時間を決めた上で、そこから最適な外形とともに決定する。ワークがマスク回転体３の搬送ガイド面に係合する角度範囲（ワークがリード付き端子用部材である図１の場合、１８０度）よりも、小さな角度範囲（θ）に選択決定され、この範囲でめっきが行われる。
【００３２】
ワークが広幅の電子部品実装用テープの場合は、電極構造体の側板は、リード付き端子用部材の場合よりも大きく設計される。すなわち、側板の縦の長さ（高さ）は、電子部品実装用テープの幅と同等以上でなければならず、例えば１００〜３３０ｍｍであることが好ましい。
図６に広幅の電子部品実装用テープがマスク回転体に密着して搬送される状態を示した。電極構造体の各電極ノズル孔は、この電子部品実装用テープめっきパターン中心部高さの水平面に、仮想円軌跡の法線方向に延びる形態で水平、かつテープめっきパターン数に相当する段数（図６では６段）だけ配設されている。
【００３３】
電極構造体のドラム内に貯留されためっき液は、最上部が最も位置エネルギーが小さく、最下部が最も位置エネルギーが大きい。これにより、ノズルの直径が同じであれば、めっき液は、最上部に位置する電極ノズルからの噴射速度が小さく、最下部に位置する電極ノズルからの噴射速度が最も大きくなる。そこで、電極ノズルの個数は、電極構造体のドラム内のめっき液が上下方向で不均一にならないように、ノズルを設ける電極構造体の高さによって、変えることが望ましい。例えば、電極構造体側板の下方部分（下段）のノズルの個数は少なく、上方部分（上段）のノズルの個数を多くすることが好ましい。これにより、テープ下方部分のめっきパターン部分は、ノズルからの噴射量は少ないが、上方部分のめっきパターン部分からめっき液が流下することによって、十分な量のめっき液が供給されることになる。
具体的には、３段の場合、上部に位置する電極ノズルでは２０〜８０個、中間部に位置する電極ノズルでは１０〜５０個、最下部に位置する電極ノズルでは８〜２０個とすることが好ましい。また、図６のように、６段の場合、最上部に位置する電極ノズルでは３０〜１００個、中間部に位置する電極ノズルでは２０〜８０個、最下部に位置する電極ノズルでは１０〜３０個とすることが好ましい。
電極ノズルの配置間隔（ピッチ）は、上記した電極ノズルの個数に関係するが、通常、１ｍｍ〜３０ｍｍであり、好ましくは２ｍｍ〜２０ｍｍの範囲となる。この間隔範囲内であればよいが、横方向に等間隔であることが望ましい。ピッチが３０ｍｍを超えると、めっき液がテープのパターンに精度よく噴射できなくなるので好ましくなく、一方、ピッチを小さくするほどめっき液の単位量当りの実質給電面積を増大することができるが、１ｍｍ未満とするのは加工技術上困難を伴う。
電極ノズルのピッチは、上記の理由により、ノズルの高さ位置に応じて変わり、例えば、低い部分（下段）のピッチは広く、高い部分（上段）のピッチは狭くなる。
電極ノズルは、前記の側板となる板状体にドリルなどで孔を開けて形成する。本発明においては、ノズル孔が６段又は３段に形成された場合を示したが、これに限定されるものではなく、ワーク（広幅の電子部品実装用テープ）の幅に応じて、増減する。
【００３４】
図５に広幅の電子部品実装用テープがマスク回転体に密着して搬送される状態を示した。円筒状側板の外周に横一列に配設される電極ノズルの配設角度範囲（θ）は、テープが回転体の搬送ガイド面に当接する角度範囲（図５では約２７０度）よりも、小さな角度範囲（θ）で選択決定される。
ドラム内では、発生するめっき液の乱流や拡散に起因して、めっき液の噴射量に変動が生じやすいだけでなく、テープが搬送ガイド面に密着していないと、めっき必要部分の上下近傍に不必要で劣悪なめっき皮膜が析出されやすいが、上記電極ノズルの配設角度範囲（θ）とすれば、このような現象が一掃される。
【００３５】
電極ノズルが配設される角度範囲θは、１００〜２６０度であり、１５０〜２４０度であることが好ましく、１８０〜２３０度がより好ましい。この角度範囲θであれば、めっき液をテープのパターン部に対して均一かつ十分な量で噴出することができる。
【００３６】
電極構造体の側板は、その上部に円板状の上蓋、下部に下蓋を配置し、ビスで連結し一体化する。側板は、パイプ（棒状体）によって互いの距離を一定に保った状態でボルトにより上蓋、下蓋と連結固定することが好ましい。パイプ（棒状体）は、複数箇所に設けることが好ましい。
【００３７】
２．マスク回転体
本発明においてマスク回転体とは、ワークのめっき不要部分にめっき液が接触しないようにする円筒状の治具であり、図１のように、前記電極構造体１３の側板の外側に同心円状に配置される。
【００３８】
マスク回転体１６を構成する材料（マスキング材）は、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上である。
ワークがリード付き端子用部材である場合、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）が好ましい。また、ワークが電子部品実装用テープである場合には、ガラスエポキシ複合材を支持体とし、その表面に、絶縁皮膜としてシリコンゴム膜を被覆しているものが好ましい。
ガラスエポキシ複合材は、ガラス繊維をエポキシ樹脂で固めたＦＲＰであり、その表面はシリコーン塗料を塗布したシリコンゴム膜である。ガラス繊維の他に炭素繊維等の無機繊維、或いはアラミド繊維等の有機繊維を強化材としてもよく、エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等をマトリックスとして用いても良い。エポキシ樹脂は、耐熱性、耐水性、耐溶剤性、耐薬品性、寸法安定性等の観点から密着性が良いのでマトリックスとして好ましいものである。ガラス繊維は、エポキシ樹脂を含浸し金型内で硬化するか、或いは、引き抜き又は押出し等によりパイプ成形し、支持体とすることができる。
【００３９】
ガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸し、Ｂ−ステージ化（液状の熱硬化性樹脂を乾燥させて、ある程度重合させた状態）したプリプレグが市販されているので、これを用いて所定のマンドレルに巻回し、加熱硬化すれば容易に円筒状に成形することができる。また、繊維束（ストランド又はフィラメント）をエポキシ樹脂に含浸して、そのままマンドレルに或る角度でフィラメントワインデイングし、その後硬化して成形することもできる。
これらの方法によって成形された円筒状物は、そのままでは、表面の平滑性が十分でないので、高速回転体の用途に要求される真円度を出すために、成形後に表面研磨を施し、さらに架橋性シリコンゴム液を塗布し、シリコンゴム膜を形成させる。シリコンゴム膜を形成後も表面研磨を施すことが好ましい。すなわち、本発明において、マスキング材は、前記テープと接する側の表面が研磨され平滑とされている。
【００４０】
このように支持体表面にシリコンゴム膜が形成されると、表面の摩擦係数が低くなり、テープとの摩擦が少なくなり、テープがスムースに搬送されるので、的確にめっき液を電子部品実装用テープの所定部分に命中させることができる。また、シリコンゴム膜は、めっき液によって腐食しないので、マスキング材の寸法安定性が維持される。
マスキング材の厚さは、０．５〜５ｍｍとする。表面にシリコンゴム膜を形成する場合、支持体となるガラスエポキシ複合材の厚さは、電子部品実装用テープの種類や、テープめっきパターンの配置などにより適宜設定する。例えば、支持体、ゴム膜はいずれも同程度の０．３〜１ｍｍとし、０．４〜０．８ｍｍが好ましい。テープめっきパターンの間隔が狭い場合は、機械的強度を保ちながら、テープを密着して安定的に搬送できるように、支持体となるガラスエポキシ複合材の厚さを１〜５ｍｍとすることが好ましい。
【００４１】
マスク回転体１６には、ワークのめっき必要部分にめっき液を供給できるように、めっき液が通過できるトンネル通路２１（以後、窓という）が開いていなければならない。窓の形状、大きさは、めっきパターンの形状、大きさと略同じで、マスキング材からなる円筒状物の全周に存在することが望ましい。
この窓２１は、マスキング材の円筒状物の所定位置に、プレス加工やレーザー加工により開設する。この作業で、切断される個所に凹凸が生じて粗雑になるので、表面研磨を施して、この凸部を除去することが望ましい。窓２１の部分に凸部があるとワークがテープの場合、テープがマスキング材に密着しないので、めっき液がめっき不要部分にまで流れてしまう。
なお、広幅（２条並び）ＴＡＢテープを連続部分めっきするためのマスク回転体では、上段、下段にそれぞれ３個の窓が接近しており、その中間の水平方向に広めのスペースを設けるようにしている。本発明では、このような場合、各列に６個ある窓のそれぞれの間に広めのスペースを設けるようにすることもでき、これにより、めっき不要部分を拡大でき、省金効果は一層高められる。
【００４２】
マスク回転体１６は、上下を円板で挟み、互いにボルトで連結固定して、装置に取り付ける。この円板は、耐食性があり機械的強度が高いチタン製又はチタン合金製が好ましい。なお、マスキング材は、位置決めピンを用いて、荷電用の給電線が接触することになる中央部分で固定することができる。
マスク回転体１６は、前記電極構造体の側板の外側に同心円状に配置される。マスキング材の縦の長さ（高さ）は、ワークの幅と同等であれば、部分めっき部分をカバーすることができるので十分であるが、その内周半径は、電極構造体の側板の外周半径より少し大きい寸法が必要である。
【００４３】
すなわちマスク回転体１６の側面が電極構造体１３の側板と接触しないように、内周半径は、電極構造体の側板の外周半径よりも０．１〜３ｍｍ程度大きくして、両者の間に隙間ができなければならない。隙間が０．１ｍｍ以下であると、ワークの搬送が困難になり、３ｍｍを超えると、側板の外周にある電極ノズルの噴射口から、ワークまでの距離が大きくなり、噴射されためっき液が分散しすぎて、部分めっきが不十分になる。
【００４４】
本発明においてマスク回転体１６は、その表面をガイド面としてワークを搬送する機能を有している。
このマスク回転体１６は、Ｚ軸線を中心とする回転軸の上部にベアリングを介して、回転可能に装着されている。なお、装着はこれに限らず、下部のめっき液供給管１２にベアリングを介して、回転可能にしてもよい。これによりマスク回転体（マスキング材）１６の外周面が搬送ガイド面とされ、ワークを円滑に搬送することができる。
【００４５】
また、マスク回転体１６は、軸部材に対してボルトで固定することにより緊締弛緩して着脱でき、これにより仕様等が異なる別のマスク回転体と簡単に交換することができる。
【００４６】
部分めっきされる電子部品実装用テープは、幅が広いために、多数の電極ノズルから噴出されるめっき液によってテープがより大きな衝撃力を受ける。マスキング材の表面にはシリコンゴム膜が形成されているので、浮き上がることはないが、めっき液の当たる場所が不正確になり、不均一に供給される恐れがある。
そのため本発明においては、図５（左側）のように、前記マスク回転体１６の近傍に、該マスク回転体１６の表面へ前記テープを密着させるためのテープ圧接用回転体３１を設けることが望ましい。
テープ圧接用回転体３１は、マスク回転体１６に当接したテープＴが、めっき液噴射の衝撃力に負けない力でテープを電極ノズル側に引っ張り、マスク回転体１６に密着させる機能を有するものである。したがって、テープ圧接用回転体３１は、マスク回転体１６の両側でマスク回転体１６を挟む形態になる。３つの回転体の位置関係は、マスク回転体１６の回転軸を頂点として他のテープ圧接用回転体３１の回転軸を結ぶと正三角形または二等辺三角形になるようにすることが好ましい。
【００４７】
本発明で部分めっきされる電子部品実装用テープは、幅が広いために垂直に起立した状態で搬送速度を一定に保つことが難しく、搬送速度が遅くなるとテープがたるみ、逆に搬送速度が速くなるとテープに強い力がかかって傷付きやすい。また、テープへ当たるめっき液の衝撃力が上下でアンバランスになると、テープ位置が上下に変動することもある。上記テープ圧接用回転体３１には、めっきされるテープが上下、左右に振れないで、マスク回転体１６によって安定して搬送されるように前記テープの位置の変動を修正する機能をもたせることが望ましい。
また、このテープ圧接用回転体３１のさらに手前に、テープ搬送速度が設定範囲を超えて変動したことを検知したら、マスク回転体の回転速度を自動的に調整できるように、別途回転体を配置することが好ましい。図５（右側）には、このためにテープ速度検知用回転体３２が３点配置され、うち中間の回転体がテープの弛みなどに応じて首振りできる支点３３を備えた形態としている。テープの搬送方向をＸ方向とすれば、テープ速度検知用回転体３２がスライドする方向はＹ方向となる。
これらテープ圧接用回転体３１やテープ速度検知用回転体３２は、いずれもテープの搬送機能を必要とするわけではないが、アルミニウムやポリプロピレンなどの回転体の表面にシリコンゴムなどのライニングが形成されているものが好ましい。
【００４８】
本発明の連続部分めっき装置は、上記マスク回転体の外側、非めっき領域に、洗浄ノズルと拭き取り部材を付設している。
【００４９】
３．洗浄ノズル
本発明において、洗浄ノズルは、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧するものである。微量の純水を噴霧できれば、ノズルの種類や構造によって制限されないが、二流体ノズルが好ましい。
【００５０】
二流体ノズル１は、ノズル本体に形成した気体流入口と液体流入口とから夫々供給する気体と液体とを混合室で混合し、該気液混合流体を噴射室に設けた噴射孔より気液混合ミストを噴射するものである。例えば、株式会社いけうち製のものが好適に利用される。その詳細は特開２００６−１６７６０１に示されており、ノズル本体の軸心線に沿って気体を供給すると共に、該気体に対して外周方向より液体を混合させる混合室を設け、該混合室に噴射室を連通させている。二流体ノズル１は、仰角はマスク回転体やワークの大きさ・形状によって異なるが、５０〜９０度が好ましい。
【００５１】
洗浄ノズルは、洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されるのが望ましい。そして、非めっき領域の搬送ロールに接近した位置、すなわち、めっき領域を出た直近の位置に支持部品４によって固定される。固定の際、マスク回転体とノズル先端との距離は、マスクに当たる水の強さが十分である（付着しためっき液を除去できる強さ）位置を探索して設置する。ワークやドラムの種類やサイズ、装置内部のスペース、水圧等にもよるが、１０〜１００ｍｍの範囲、特に２０〜５０ｍｍの範囲で接近させると良い。距離が１０ｍｍ未満であると、仰角の関係で、マスク回転体の縦方向全体に純水が噴霧されない場合があり、１００ｍｍを超えると、マスク回転体表面への噴霧圧力が低下して、洗浄力が低下する場合がある。
また、洗浄ノズル先端の向きは、ワークがリード付き端子用部材の場合、マスク回転体の中心に向くようにし、また、広幅の電子部品実装用テープの場合はマスク回転体の接線方向にすると洗浄効率を高めることができる。
【００５２】
４．拭き取り部材
本発明において、拭き取り部材は、純水が噴霧されたマスク回転体にブラシなどを接触させて過剰な液体を落とすものである。
【００５３】
このような機能を有する拭き取り部材としては、ブラシ、スポンジ、ヘラ、布などを使用することができる。これらの中でも好ましいのは、図１に示される合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシ２である。ブラシ２は、高さがマスク回転体の高さと同等程度、厚さが３〜１０ｍｍ程度の矩形形状の刷毛である。高さは、ワークがリード付き端子用部材である場合は例えば１００〜３００ｍｍ、幅の広いＴＡＢでは、例えば１００〜３００ｍｍであることが好ましい。材質は１５０〜２５０℃程度の耐熱性がある耐薬品性のポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）などの合成樹脂が好ましい。拭き取り部材のブラシ２は、純水が噴霧された後のマスク回転体の表面に軽く接触するように部材５で固定する。
【００５４】
マスク回転体１６の側面には、ワーク（処理製品）をガイドするセラミック製のピン１３が配置している。連続部分めっきを長時間継続すると、マスク回転体１６に余剰のめっき液が付着して、セラミックピン２２に汚れがたまる。また、マスク回転体１６には、周方向に複数の窓２１が一列あるいは複数列開けられており、窓は例えば直径数ｍｍ以下と極めて小さいので、めっき液が残留しやすい。本発明においては、ブラシ２などの拭き取り部材を用いることで、このようなセラミックピン２２にたまった汚れを除去したり、液たまりを防止したりすることができる。
【００５５】
本発明の連続部分めっき装置は、上記のほかに、めっき槽からめっき液を電極構造体の内部に供給するめっき液供給管と、電極構造体の電極ノズルに給電する給電装置とを具備し、帯状のワークを連続搬送しつつ電極ノズルから、めっき液を噴射してワークのめっき必要部分に連続してめっき処理を施すように構成されている。
【００５６】
５．連続部分めっき方法
本発明の連続部分めっき方法は、上記連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみにめっきを施す連続部分めっき方法であって、マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする。
【００５７】
（第１の実施の形態）
次に、ワークであるリード付き端子用部材を本発明により連続部分めっきする方法を説明する。
【００５８】
めっき装置を構成するマスク回転体の側板は、ＰＰＳ、ＰＶＣ，ＨＴＰＶＣ、ＰＥＥＫの一種または二種以上の材質であり、マスク回転体の側板には、処理製品をガイドするピン１３を有している。図１のように、マスク回転体３は、ワーク１１が右方向に搬送されることにより右回転する。同様に搬送用ロール８は右に、搬送用ロール９は左に回転して、設定搬送速度（例えば、２ｍ／ｍｉｎ）でワークが搬送される。
【００５９】
ワークが、マスク回転体３のめっき領域１４（図１中、扇形で示した部分）を通過するときに、マスク回転体３の中心から放射状にめっき液が図４の経路１２，１３を経由して吐出される。電極ノズル（ノズルの直径０．３ｍｍ）から噴射されるめっき液の流速は、例えば１０ｍ／ｓｅｃとし、噴射めっき液の液流が一直線となるようにする。こうして吐出されためっき液とワークの間を電極１５から通電することにより、電解めっき（部分めっき）がなされる。
【００６０】
このめっき処理によって、マスク回転体３の側面１６には、めっき液が付着する。これを放置するとマスク回転体３の表面に金が析出して汚れていく。
これを抑制するために、支持部品４によって固定された洗浄ノズル（二流体ノズル）１で、経路６から供給される水及び経路７から供給される空気により、水を霧状に噴霧してマスク回転体の側板１６を洗浄する。このとき、洗浄ノズル先端を、マスク回転体に近づければ近づけるほど、洗浄効率を向上できるが、この距離は、例えば１０〜２０ｍｍとすることが好ましい。
【００６１】
噴霧状態は、空気の供給量（圧力）によって適宜制御する。水分量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒとすることができ、１００〜４００ｍｌ／ｈｒが好ましく、１００〜３００ｍｌ／ｈｒがより好ましい。水分量が１００ｍｌ／ｈｒより少ないと、十分な洗浄効果が期待できない。一方、水分量が５００ｍｌ／ｈｒ以下であれば、処理製品に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等あるいはそれ以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されるなどの影響を及ぼさない。
処理製品１１がマスク回転体３により搬送されている限り、継続して上記洗浄状態が継続され、連続した運転状態が保たれる。
【００６２】
洗浄されたマスク回転体３は、引き続き、拭き取り部材（ブラシ）２によって過剰な水分を除去する。
ブラシ２は、高さが１０〜５０ｍｍ、厚さが５〜１５ｍｍの矩形形状で、材質は耐薬品性のＰＰ製のものを選択することができる。ブラシを用いることにより過剰な液体を落とし、常にマスク回転体が清浄に保たれ、セラミックピンにたまった汚れも除去される。
なお、電極ノズルから噴射された給電済めっき液は、めっき必要部分に吹き付けられた後、落下かつ流動してメインタンクに回収され、めっき液は、再循環利用される。
【００６３】
（第２の実施の形態）
次に、広幅の電子部品実装用テープを本発明によって連続部分めっきする方法を説明する。めっきされる電子部品実装フィルム用テープの幅は、１００〜３００ｍｍであり、搬送用のスプロケットホールや半導体素子配設用のデバイスホール等の開口部が開けられ、荷電用の細長い帯状の給電線が設けられている。また、金めっきされるインナーリード、金めっきを必要としないアウターリード、テストパッドなどが集合している。
【００６４】
めっき装置を構成するマスク回転体の側板は、シリコンゴム膜を表面に被覆しているガラスエポキシ複合材製である。マスク回転体の側板には、処理製品をガイドするピン１３を有している。図５において、搬送ローラー３１，３２がテープをＸ方向に連続搬送する。テープＴの設定搬送速度は、特に制限されるわけではないが、通常２ｍ／ｍｉｎであり、０．１〜１０ｍ／ｍｉｎが好ましい範囲であり、０．５〜５ｍ／ｍｉｎがより好ましい。この範囲のテープ搬送速度であれば、めっきの精度や生産性を悪化させることはない。テープＴは、図５のように垂直に起立した状態で連続部分めっき装置のマスク回転体表面に当接して搬送される。
連続部分めっき装置では、引き続き、連続めっき液供給手段から、めっき液が電極構造体（めっき液供給口）で所定圧力に加圧されて連続供給される。
めっき液は、電極ノズルから噴射され、マスキング材の窓を通過してテープのパターン部分に当たり、部分めっき処理がなされる。電極ノズルから噴射されるめっき液の流速は、規定しにくいが、５ｍ／ｓｅｃ〜２０ｍ／ｓｅｃとするのが好ましい。この範囲であれば、噴射めっき液の液流が一直線となり、テープのめっきパターン部分にめっき液を接触させることができる。
なお、実際のめっき処理では、めっき液の流速は、電極ノズルの直径、めっき液の種類・粘度や、テープの材質・サイズ等との関係においても、見直しつつ最適値が決定される。本発明では、めっき液は、広い面積に集中して配設された多数の電極ノズルから一斉に噴射されるので、その噴射力によって幅が広いテープは少なからぬ衝撃をうけることになる。ところが、前記マスク回転体の近傍にテープ圧接用回転体が配置されているので、テープを電極構造体側に引っ張ることができ、テープはマスク回転体に密着した状態を保つことになる。
テープが、めっき領域を通過するときに、給電状態にある電極構造体の電極ノズルから噴射されるめっき液で、連続搬送中のテープに部分金めっきが施される。
【００６５】
このめっき処理によって、マスク回転体の側面には、めっき液が付着する。これを放置するとマスク回転体の表面に金が析出して汚れていく。
これを抑制するために、支持部品によって固定された洗浄ノズル（二流体ノズル）１で、水を霧状に噴霧してマスク回転体の側板を洗浄する。ＴＡＢ用ドラムめっき（テープ幅２２０ｍｍ）の場合では、洗浄ノズルは１００〜１２０度の広角のものを使用し、先端とマスクとの距離が８０〜１２０ｍｍとなる位置に設置するとよい。先端は、ドラムの噴霧接触点が接線になる方向に向けると付着物の剥離効果が大きいので好ましい。
この範囲で洗浄ノズル先端を、マスク回転体に近づければ近づけるほど、洗浄効率を向上できるが、８０ｍｍ未満では噴霧がマスク回転体の表面に接触しない場合があり、１２０ｍｍを超えるとマスク回転体への噴霧圧力が不十分となって洗浄効果が得られない場合がある。
噴霧状態は、空気の供給量（圧力）によって適宜制御する。水分量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒとすることができ、１００〜４００ｍｌ／ｈｒが好ましく、１００〜３００ｍｌ／ｈｒがより好ましい。水分量が１００ｍｌ／ｈｒより少ないと、十分な洗浄効果が期待できない。一方、水分量が５００ｍｌ／ｈｒ以下であれば、処理製品に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等あるいはそれ以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されるなどの影響を及ぼさない。
処理製品（テープ）１１がマスク回転体３により搬送されている限り、継続して上記洗浄状態が継続され、連続した運転状態が保たれる。
【００６６】
洗浄されたマスク回転体は、引き続き、拭き取り部材のブラシ２によって過剰な水分を除去する。ブラシ２は、高さが１５０〜２５０ｍｍ、厚さが１０〜３０ｍｍの矩形形状で、材質は耐薬品性のＰＰ製のものを選択することが好ましい。
ブラシをマスク回転体３に接触させることにより、過剰な液体を落とし、常にマスク回転体が清浄に保たれ、セラミックピンにたまった汚れも除去される。
マスキング材の窓をくぐりテープに当たっためっき液は、下方に流れ落ち、タンクに回収される。マスキング材の窓を通過しなかっためっき液も、同様に回収され、ゴミなどが除去された後、再循環使用される。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明の実施例、比較例を示すが、本発明は、この実施例に限定して解釈されるものではない。
【００６８】
［実施例１］
ステンレス製の金属材料を用いて、下部分割部材（直径１２０ｍｍ、厚さ６５ｍｍ）と上部分割部材（外径１２０ｍｍ、内径８０ｍｍ、高さ６５ｍｍ）を作製した。下部分割部材には、直径１．５ｍｍの円形の電極ノズル孔を等間隔で１１０個設けた。電極ノズルの配設角度が、１１０度となるようにした。これら分割部材の電極ノズル孔部分には、白金系金属化合物を用いて厚さ３μｍの白金系金属めっきを施した。
次に、二つの分割部材を上下に組み合わせボルトで連結し、内部に空洞を有し側面部分が円筒状をした二つ割型の電極構造体とした。
また、ＰＰＳの板を用いて、マスク回転体（外径１５０ｍｍ、内径１４０ｍｍ、高さ４０ｍｍ）を製作し、前記二つ割型の電極構造体の外周に組み込んだ。
そして、洗浄ノズル１、拭き取り部材２を取り付け、図１のような連続部分めっき装置を構成した。洗浄ノズルは、株式会社いけうちの二流体ノズル（製品名：ＢＩＭＪ２００４ＰＰ＋Ｔ ＰＰ−ＩＮ）を利用した。搬送ロールに接近した位置に部品４によって、マスク回転体の中心に向けて固定した。マスク回転体とノズル先端との距離は１８ｍｍとした。仰角は０度であった。
拭き取り部材２は、マスク回転体の幅と同等程度の矩形形状のブラシ（高さ３０ｍｍ、幅１５ｍｍ）であり、耐薬品性のＰＰ製のブラシを選定した。
予めニッケルめっきされたリード付き端子部材（全長Ｌｖが２ｍｍ、リード部（１ＫＹ）の長Ｌｕが１ｍｍ、バリア部（１ＭＮ）の長Ｌｍが０．５ｍｍかつ突出長Ｌｗが１．５ｍｍ、端子部（１ＴＹ）の長Ｌｄが０．５ｍｍ）をセットし、搬送速度を２ｍ／ｍｉｎに設定した。電極ノズル孔からめっき液を１０ｍ／ｓｅｃの流速で噴射して、端子部（１ＴＹ）に部分めっきを行った。二流体ノズルにより、１００ｍｌ／ｈｒの純水を連続的に噴霧した。
連続部分めっき装置を３３６時間稼動した後、装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。また、セラミックピンの表面も観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。
【００６９】
［実施例２］
二流体ノズルにより、５００ｍｌ／ｈｒの純水を連続的に噴霧した以外は実施例１と同様にして、リード付き端子部材を連続部分めっきした。
連続部分めっき装置を３３６時間稼動した後、装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。また、セラミックピンの表面も観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。
そのため、ワークの搬送速度を１５ｍ／ｍｉｎ程度まで大きくしても連続部分めっきできることが分かった。
【００７０】
［比較例１］
二流体ノズル１、ブラシ２を取り付けなかった以外は、実施例１と同様にして連続部分めっき装置を構成した。実施例１と同様にしてワークをセットし、電極ノズル孔からめっき液を噴射して、端子部（１ＴＹ）に部分めっきを行った。
この状態で３０時間連続して部分めっきを継続したところ、徐々にワークの搬送が不安定になった。
そのため装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察した。めっき液の付着に起因する金が、マスク回転体、特に窓の周辺に汚れとして付着していた。また、セラミックピンの表面にも汚れが付着していた。したがって、以降の連続部分めっきでは、装置を２４時間稼動した後、清掃作業することになった。
【符号の説明】
【００７１】
１ 洗浄ノズル
２ 拭き取り部材
３ マスク回転体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法に関し、より詳しくは、連続搬送される帯状の被処理物（以下、ワークともいう）の必要部分のみにめっき液を噴出して、高精度で連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコンや携帯電話などの電子機器の広く普及したことに加え、複数の電子機器を接続して使用するネットワーク環境が普及したことにより、リード付き端子部品（コネクタ）の需要が大きく拡大している。さらに、携帯電話や音楽プレイヤーに代表されるモバイル機器の小型化・高性能化・多機能化や薄型テレビなどのデジタル家電で大容量データを処理するための高速データ伝送などの要求にこたえるための重要部品として、コネクタの小型・低背化、多極・多ピン化、狭ピッチ化などの技術製品開発が積極的に進められている。
【０００３】
こうしたリード付き端子部材（コネクタ）への電極形成では、ワークを図７に示したように、長手方向に連続する帯状共通部分と長手方向に不連続でかつ幅方向に延びる複数の櫛歯状部分とを有する帯状に成形しておき、このワークを連続搬送しつつ、櫛歯状部分のめっき必要部分に、めっき液を噴出して連続的にめっきする装置（以下、連続部分めっき装置という）が用いられている。そして、部分めっき終了後の帯状のワークが、最終的には櫛歯状部分の前後で切断され、リード付き端子部材となる。
ところが、ワークの寸法は、非常に小さく、リード付き端子部材では、例えば全長が２ｍｍ程度で、めっきすべき端子部の長さはわずか０．５ｍｍというような寸法になっている。
そのために、製品化工程において、リード部をプリント配線端部にハンダ付けする際、めっきを施さないバリア部を溶融ハンダが流れ、かつ端子部に付着して電気的短絡状態となる虞がある。
【０００４】
例えば、連続する帯状長尺物（リードフレーム）で、かつ連続するめっき必要部分を有するワークの場合は、従来、連続部分めっき装置を構成する処理槽内のめっき液面を調整板により一定に保持し、めっきが必要な部分をめっき液に浸漬しつつ搬送させていた。これにより、めっき不必要部分がめっき処理されることはないが、めっき液面の変動を皆無とすることは実際上不可能である。めっきが必要な部分がより複雑で、めっき不要部分も存在する図８のようなワーク１Ａ、１Ｂ、１Ｃの連続部分めっきは難しい。
【０００５】
そこで、このようなワーク１Ａ、１Ｂ、１Ｃの場合、めっき不必要部分１ＭＹ、１ＭＮにテープ等を貼り付け（マスキング）して、部分めっき終了後にテープ等を引き剥がす直接貼付マスキング方式が採用される場合がある。しかし、テープの購入、またテープ貼付作業および引剥作業が必要であって、生産能率が大幅に低下し生産コスト高となる。テープ貼付作業時にバラツキやテープ変形が生じるので、最低でも２ｍｍ以下という位置精度を得ることはできない。さらに、ワークに凹凸や曲りなど大きな変形部分がある図８（Ｄ）のような場合は、マスキングが難しい。
【０００６】
これに対して、いわゆる間接固着マスキング方式が提案され、めっき不必要部分を絶縁マスキングし、ノズルからめっき液を吐出して布等の保持体層に浸潤しつつ流動させ、この状態でドラムを回転させることにより、保持体層と接する部分に液溜りを形成し、この液溜りに浸漬された状態で部分めっきを施すように構成した部分めっき装置がある（特許文献１を参照）。しかし、この方式でも直接貼付マスキング方式と同様に、テープやマスキング部材によるマスキングが困難であり、小型（微細）で複雑形状の帯状のワークを部分めっきするには不適当である。
【０００７】
そこで、めっき必要部分とマスキング部材との間に空間を形成し、この空間内にめっき液を供給して当該めっき必要部分にめっき処理を施す装置が提案されている（例えば、特許文献２）が、かかる装置でも、マスキング部材とワークとの間にめっき液が浸み込んでしまうので、めっき必要部分とめっき不必要部分との境界が部分的に変動して、精度上の要求を満たせない。
【０００８】
そこで、本出願人は、ワークの形態が一段と小型化および複雑化する中で、部分めっきの位置精度を一層高度化するとともに、生産性が高くかつ低コストで部分めっきできる、ドラムマスク（以下、マスク回転体という）を使用した部分めっき装置を提案した（特許文献３、４）。
この特許文献３の装置は、基軸線を中心に回転する電極構造体内で外部から供給されためっき液に陽極電位を印加給電し、給電後のめっき液を全周方向に連続するスリット部から径方向に噴流し、ワークの幅方向の選択されためっき必要部分のみにめっき液を吹き付ける装置である。これを用いれば、当該めっき必要部分のみに部分めっきを施すことができ、めっき不必要部分には、めっき液が付着されることがないので、低品質で無用なめっき皮膜は析出されない。
また、特許文献４では、特許文献３の連続部分めっき装置の電極構造体に改良を加え、一方の分割部材と他方の分割部材が上下に組み合わされた特定の二つ割型とすることにより、これら分割部材同士が密着して形成される円筒状外周に電極ノズル孔を水平に精度よく形成し、これを連続部分めっき装置に組み込んで、静止状態の電極構造体の電極ノズル孔から周方向へめっき液を勢いよく噴射させるようにした。これにより、噴射めっき液の上下方向乱れを発生せず、回転体に係合されて連続搬送中のワークは、不必要なめっき液との接触が回避され、めっき液単位量当りの給電面積を増大して給電能率が向上し、さらに回転体の高速回転により生産性をより向上することができた。
【０００９】
ところで、電子部品実装用テープであるＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープ、ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｆｉｌｍ）テープ、Ｔ−ＢＧＡ（Ｔａｐｅ Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）テープ、テープＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）テープなどは、微細配線の形成が可能であること、軽量薄型で、柔軟性があり回路設計の自由度が高い等の特徴を持つことから、携帯電話、携帯ゲーム機、サーマルヘッド、ＬＣＤドライバあるいはメインフレームなどのアプリケーションにて採用されている。
【００１０】
例えば、ＴＡＢテープ用基板は、連続したポリイミドフィルム等の絶縁フィルム支持体上に極めて薄い導電層を有しており、この導電層は、金属箔を接着するかスパッタリングや真空蒸着法あるいは無電解めっきにより設け、この導電層を所定形状にパターニングしたものに電気めっきを施すことにより所定の厚みで配線パターンが形成されている。このＴＡＢテープのポリイミドフィルムには、搬送用のスプロケットホールや半導体素子配設用のデバイスホール等の開口部が開けられている。
【００１１】
ＬＳＩ等の半導体素子のバンプが金バンプである場合は、ポリイミドフィルムに複数形成されている銅箔リードのインナーリードにおいて、この金バンプと熱圧着される部分に金めっきが施される。このように金めっきが施されることで、該金めっきと金バンプに含まれる金とが互いに溶融し合い、インナーリードと金バンプとの接続信頼性が向上する。しかし、金は高価な金属材料なので、使用量は減らしたい。そのため、ポリイミドフィルムに銅箔リードを形成後、銅箔リードの一部にのみ金めっきが施される。
【００１２】
このような部分めっきを行うには、ＴＡＢテープのめっき不要部分に、絶縁性のマスキング材を接着することが一般的であり、マスキング材は、めっき後にＴＡＢテープから引き剥がされる（特許文献５参照）。しかしながら、使用されたマスキング材は、再使用できないので廃棄するしかなく、資源の無駄になっていた。これを解消するために、マスキング材をループ状として、めっき時にＴＡＢテープに押し付け、使用後はマスキング材から引き離して、洗浄・乾燥することにより繰り返し使用することも提案されている（特許文献６参照）。ただし、このような方式では、生産性は上がるものの、徐々にマスキング材が変形したり、破損したりすることにより、めっき精度が低下する問題がある。
【００１３】
半導体装置は、年々小型化が進み大量生産されるようになり、前記ＴＡＢテープのような配線テープの需要も増加している。そのため、前記配線テープを効率良く大量に生産できるように、幅の広い絶縁性基材に複数本（複数条）の配線テープを同時に製造する多条取りの配線テープが開発されている。この多条取りの配線テープによれば、例えば、幅が７０ｍｍの広い絶縁性基材を用いることで、３５ｍｍ幅の配線テープを２本まとめて製造することができ、幅が１０５ｍｍの広い絶縁性基材を用いれば、同じく３本まとめて製造することができる。
【００１４】
ところが、これにより得られる広幅の多条取りの配線テープには、各条の間に荷電用の細長い帯状部分（給電線、スリット）が存在するわけで、その面積は従来のものの数倍以上になる。そのため、この部分への金めっきを省略して、さらに低コスト化が可能となるように、近年ドラムマスクが使用されるようになった。
このマスク回転体は、めっき液を節約するために、前記円筒状の電極構造体の外側に同心円状に配置され、前記テープのめっき不要部分にめっき液を接触させないためのマスキング材となるものである。
ところが、以上説明した端子部材や配線テープ用めっき装置に使用するマスク回転体においては、電極構造体から噴出されためっき液が付着して残留し、金（Ａｕ）が析出する問題が発生する。マスク回転体に金（Ａｕ）が析出すると、テープの密着性が悪くなり、めっきの精度が低下したり、ガイドピンが汚れて故障の原因になったりする。そのため、めっき液の種類によっては１日程度でマスク回転体を取り外し、表面から金（Ａｕ）を剥離するマスクメンテナンスが必要となっていた。
【００１５】
このような状況下、マスク回転体に付着した余剰のめっき液が金（Ａｕ）として析出する問題を抑制し、めっきの精度を低下させることなく、故障防止のためのメンテナンス頻度を減らして、低コストで生産性を向上できる連続部分めっき装置の出現が切望されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開平０２−９７６９２号公報
【特許文献２】特開２００２−３８２９４号公報
【特許文献３】特開２００５−１８７８６８号公報
【特許文献４】特開２００９−１３４６６号公報
【特許文献５】特開２００８−２８８４０６号公報
【特許文献６】特開２００４−３１５９１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、上記従来の課題に鑑み、連続搬送される帯状ワークの必要部分のみにめっき液を噴出して、高精度で連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、長手方向に連続する長尺のワークを搬送しつつ、めっき必要部分にのみ金めっき処理を施すための連続部分めっき装置を改良し、アノード電極となる側板に形成した多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記ワークを搬送しながら回転し、該ワークのめっき不要部分にめっき液を接触させなくするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及び拭き取り部材をめっき領域の後の非めっき領域、すなわち、めっきが行われない領域に付設した。
そして、洗浄ノズルにて、めっき液に影響のない程度に微量の純水を常時噴霧し、拭き取り部材にて過剰な液体を落とすようにした。これにより、めっき不要部分への金めっきを省略でき、しかも、マスク回転体に付着した余剰のめっき液が金（Ａｕ）として析出する問題を抑制し、常にマスク回転体を清浄に保つことができ、めっきの精度を低下させず、装置の故障を防止して、低コストで生産性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１９】
すなわち、本発明の第１の発明によれば、長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
【００２０】
また、本発明の第２の発明によれば、第１の発明において、前記マスク回転体は、側板がポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上であることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第３の発明によれば、第１の発明において、前記洗浄ノズルは、二流体ノズルであることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第４の発明によれば、第１又は３の発明において、前記洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
また、本発明の第５の発明によれば、第１の発明において、前記拭き取り部材は、合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシであることを特徴とする連続部分めっき装置が提供される。
【００２１】
一方、本発明の第６の発明によれば、第１〜５のいずれかの発明の連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみに金めっきを施す連続部分めっき方法であって、マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分金めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
【００２２】
また、本発明の第７の発明によれば、第６の発明において、前記被処理物は、リード付き端子用部材又は広幅の電子部品実装用テープであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
また、本発明の第８の発明によれば、第７の発明において、前記リード付き端子用部材は、予め全体的にニッケルめっきが施されていることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
さらに、本発明の第９の発明によれば、第７の発明において、前記電子部品実装用テープは、銅箔リードが複数形成されているポリイミドフィルムであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
また、本発明の第１０の発明によれば、第６の発明において、純水の噴霧量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒであることを特徴とする連続部分めっき方法が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の連続部分めっき装置によれば、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、洗浄ノズルから純水を噴霧するので、マスク回転体を効率的に洗浄することができる。このとき、洗浄ノズルとして二流体ノズルを用いれば、噴霧される水分量を数１００ｍｌ／ｈｒ以内に制限できることから、めっき後のワーク（製品）に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されることがない。
【００２４】
さらに、本発明の連続部分めっき装置は、微量の純水を噴霧した後、ブラシなどの拭き取り部材にて過剰な液体を落とし、常にマスク回転体を清浄に保つことができ、めっき液の種類にもよるが、マスク回転体を交換せずに１４日間以上の連続運転が可能となる。
これにより、保守点検作業の頻度を低減し、リード付き端子用部材や広幅の電子部品実装用テープの生産性を大幅に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】マスク回転体に近接して洗浄ノズル及び拭き取り部材を付設した本発明の連続部分めっき装置の一実施態様を示しており、上図は平面図、下図は側面図である。
【図２】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体と洗浄ノズルの側面図である。
【図３】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体と拭き取り部材の側面図である。
【図４】図１に示した本発明の連続部分めっき装置のマスク回転体部分の縦断面図である。
【図５】マスク回転体に近接して洗浄ノズル及び拭き取り部材を付設した本発明の連続部分めっき装置の他の実施態様を示す平面図である。
【図６】マスク回転体に、広幅の電子部品実装用テープが密着して搬送される状態を示す説明図である。
【図７】櫛歯状部を有する帯状のワークの平面を示す説明図である。
【図８】帯状のワークの側面を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法について、図１〜６を用いて詳細に説明する。
【００２７】
本発明の連続部分めっき装置は、長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみ、めっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする。
【００２８】
１．電極構造体
本発明において、電極構造体は、円筒状の内部空間がめっき液貯留部となり、内部に供給されためっき液を給電し、連続搬送されるワークに向かって電極ノズル孔から正確にめっき液を噴射するものである。
このような機能を有するものであれば構造によって制限されないが、特に特許文献４に示されるように、一方の分割部材と他方の分割部材が上下に組み合わされて形成される上下二つ割型のものが好ましい。
【００２９】
電極構造体を構成する分割部材の材質は、電気的良導体であれば特に限定されず、チタン、チタン合金、又はステンレス鋼から適宜選ばれる。中でも耐食性があり機械的強度が高いチタン製又はチタン合金製が好ましい。
本発明において電極構造体は、ワークがリード付き端子用部材の場合は、側板の高さがリード付き端子用部材の長さと同程度かそれ以上であり、例えば５０〜１００ｍｍであることが好ましい。
【００３０】
電極構造体の各電極ノズル孔は、仮想円軌跡の法線方向に延びる形態で、水平に一列に配設されている。電極ノズルの直径は、ワークの大きさ、めっき必要部分の大きさなどにより異なるが、通常、電極ノズルの直径を０．１ｍｍ〜２．５ｍｍ、好ましくは、０．２ｍｍ〜２．０ｍｍ、特に０．３ｍｍ〜１．５ｍｍとすることが好ましい。
電極ノズルの直径は、めっき必要部分の大きさ（前後方向寸法および左右方向寸法の大きい方）に対応させることが望ましく、めっき必要部分の寸法が０．３ｍｍであれば、めっき液流を生成・噴射させるために電極ノズルの直径を０．３ｍｍに選択することが好ましい。
また、電極ノズルの個数は、電極構造体のサイズなどによっても異なるが、通常、１０〜２００個、好ましくは１００〜１５０個である。ノズルの個数が１０個未満では十分なめっき液を噴射できず、個数を増やすほど給電能率を向上できるが、２００個より多くするのは加工技術上困難を伴う。
電極ノズルの配置間隔（ピッチ）は、電極構造体のサイズなどによっても異なるが、通常、０．１ｍｍ〜３ｍｍである。この間隔範囲内であればよいが、特に等間隔であることが望ましい。
【００３１】
分割部材同士によって形成される円筒状外周に一列に配設される電極ノズルの配設角度範囲（θ）は、所望のめっき厚を得るために必要な電流密度と処理時間を決めた上で、そこから最適な外形とともに決定する。ワークがマスク回転体３の搬送ガイド面に係合する角度範囲（ワークがリード付き端子用部材である図１の場合、１８０度）よりも、小さな角度範囲（θ）に選択決定され、この範囲でめっきが行われる。
【００３２】
ワークが広幅の電子部品実装用テープの場合は、電極構造体の側板は、リード付き端子用部材の場合よりも大きく設計される。すなわち、側板の縦の長さ（高さ）は、電子部品実装用テープの幅と同等以上でなければならず、例えば１００〜３３０ｍｍであることが好ましい。
図６に広幅の電子部品実装用テープがマスク回転体に密着して搬送される状態を示した。電極構造体の各電極ノズル孔は、この電子部品実装用テープめっきパターン中心部高さの水平面に、仮想円軌跡の法線方向に延びる形態で水平、かつテープめっきパターン数に相当する段数（図６では６段）だけ配設されている。
【００３３】
電極構造体のドラム内に貯留されためっき液は、最上部が最も位置エネルギーが小さく、最下部が最も位置エネルギーが大きい。これにより、ノズルの直径が同じであれば、めっき液は、最上部に位置する電極ノズルからの噴射速度が小さく、最下部に位置する電極ノズルからの噴射速度が最も大きくなる。そこで、電極ノズルの個数は、電極構造体のドラム内のめっき液が上下方向で不均一にならないように、ノズルを設ける電極構造体の高さによって、変えることが望ましい。例えば、電極構造体側板の下方部分（下段）のノズルの個数は少なく、上方部分（上段）のノズルの個数を多くすることが好ましい。これにより、テープ下方部分のめっきパターン部分は、ノズルからの噴射量は少ないが、上方部分のめっきパターン部分からめっき液が流下することによって、十分な量のめっき液が供給されることになる。
具体的には、３段の場合、上部に位置する電極ノズルでは２０〜８０個、中間部に位置する電極ノズルでは１０〜５０個、最下部に位置する電極ノズルでは８〜２０個とすることが好ましい。また、図６のように、６段の場合、最上部に位置する電極ノズルでは３０〜１００個、中間部に位置する電極ノズルでは２０〜８０個、最下部に位置する電極ノズルでは１０〜３０個とすることが好ましい。
電極ノズルの配置間隔（ピッチ）は、上記した電極ノズルの個数に関係するが、通常、１ｍｍ〜３０ｍｍであり、好ましくは２ｍｍ〜２０ｍｍの範囲となる。この間隔範囲内であればよいが、横方向に等間隔であることが望ましい。ピッチが３０ｍｍを超えると、めっき液がテープのパターンに精度よく噴射できなくなるので好ましくなく、一方、ピッチを小さくするほどめっき液の単位量当りの実質給電面積を増大することができるが、１ｍｍ未満とするのは加工技術上困難を伴う。
電極ノズルのピッチは、上記の理由により、ノズルの高さ位置に応じて変わり、例えば、低い部分（下段）のピッチは広く、高い部分（上段）のピッチは狭くなる。
電極ノズルは、前記の側板となる板状体にドリルなどで孔を開けて形成する。本発明においては、ノズル孔が６段又は３段に形成された場合を示したが、これに限定されるものではなく、ワーク（広幅の電子部品実装用テープ）の幅に応じて、増減する。
【００３４】
図５に広幅の電子部品実装用テープがマスク回転体に密着して搬送される状態を示した。円筒状側板の外周に横一列に配設される電極ノズルの配設角度範囲（θ）は、テープが回転体の搬送ガイド面に当接する角度範囲（図５では約２７０度）よりも、小さな角度範囲（θ）で選択決定される。
ドラム内では、発生するめっき液の乱流や拡散に起因して、めっき液の噴射量に変動が生じやすいだけでなく、テープが搬送ガイド面に密着していないと、めっき必要部分の上下近傍に不必要で劣悪なめっき皮膜が析出されやすいが、上記電極ノズルの配設角度範囲（θ）とすれば、このような現象が一掃される。
【００３５】
電極ノズルが配設される角度範囲θは、１００〜２６０度であり、１５０〜２４０度であることが好ましく、１８０〜２３０度がより好ましい。この角度範囲θであれば、めっき液をテープのパターン部に対して均一かつ十分な量で噴出することができる。
【００３６】
電極構造体の側板は、その上部に円板状の上蓋、下部に下蓋を配置し、ビスで連結し一体化する。側板は、パイプ（棒状体）によって互いの距離を一定に保った状態でボルトにより上蓋、下蓋と連結固定することが好ましい。パイプ（棒状体）は、複数箇所に設けることが好ましい。
【００３７】
２．マスク回転体
本発明においてマスク回転体とは、ワークのめっき不要部分にめっき液が接触しないようにする円筒状の治具であり、図１のように、前記電極構造体１３の側板の外側に同心円状に配置される。
【００３８】
マスク回転体１６を構成する材料（マスキング材）は、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上である。
ワークがリード付き端子用部材である場合、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）が好ましい。また、ワークが電子部品実装用テープである場合には、ガラスエポキシ複合材を支持体とし、その表面に、絶縁皮膜としてシリコンゴム膜を被覆しているものが好ましい。
ガラスエポキシ複合材は、ガラス繊維をエポキシ樹脂で固めたＦＲＰであり、その表面はシリコーン塗料を塗布したシリコンゴム膜である。ガラス繊維の他に炭素繊維等の無機繊維、或いはアラミド繊維等の有機繊維を強化材としてもよく、エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等をマトリックスとして用いても良い。エポキシ樹脂は、耐熱性、耐水性、耐溶剤性、耐薬品性、寸法安定性等の観点から密着性が良いのでマトリックスとして好ましいものである。ガラス繊維は、エポキシ樹脂を含浸し金型内で硬化するか、或いは、引き抜き又は押出し等によりパイプ成形し、支持体とすることができる。
【００３９】
ガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸し、Ｂ−ステージ化（液状の熱硬化性樹脂を乾燥させて、ある程度重合させた状態）したプリプレグが市販されているので、これを用いて所定のマンドレルに巻回し、加熱硬化すれば容易に円筒状に成形することができる。また、繊維束（ストランド又はフィラメント）をエポキシ樹脂に含浸して、そのままマンドレルに或る角度でフィラメントワインデイングし、その後硬化して成形することもできる。
これらの方法によって成形された円筒状物は、そのままでは、表面の平滑性が十分でないので、高速回転体の用途に要求される真円度を出すために、成形後に表面研磨を施し、さらに架橋性シリコンゴム液を塗布し、シリコンゴム膜を形成させる。シリコンゴム膜を形成後も表面研磨を施すことが好ましい。すなわち、本発明において、マスキング材は、前記テープと接する側の表面が研磨され平滑とされている。
【００４０】
このように支持体表面にシリコンゴム膜が形成されると、表面の摩擦係数が低くなり、テープとの摩擦が少なくなり、テープがスムースに搬送されるので、的確にめっき液を電子部品実装用テープの所定部分に命中させることができる。また、シリコンゴム膜は、めっき液によって腐食しないので、マスキング材の寸法安定性が維持される。
マスキング材の厚さは、０．５〜５ｍｍとする。表面にシリコンゴム膜を形成する場合、支持体となるガラスエポキシ複合材の厚さは、電子部品実装用テープの種類や、テープめっきパターンの配置などにより適宜設定する。例えば、支持体、ゴム膜はいずれも同程度の０．３〜１ｍｍとし、０．４〜０．８ｍｍが好ましい。テープめっきパターンの間隔が狭い場合は、機械的強度を保ちながら、テープを密着して安定的に搬送できるように、支持体となるガラスエポキシ複合材の厚さを１〜５ｍｍとすることが好ましい。
【００４１】
マスク回転体１６には、ワークのめっき必要部分にめっき液を供給できるように、めっき液が通過できるトンネル通路２１（以後、窓という）が開いていなければならない。窓の形状、大きさは、めっきパターンの形状、大きさと略同じで、マスキング材からなる円筒状物の全周に存在することが望ましい。
この窓２１は、マスキング材の円筒状物の所定位置に、プレス加工やレーザー加工により開設する。この作業で、切断される個所に凹凸が生じて粗雑になるので、表面研磨を施して、この凸部を除去することが望ましい。窓２１の部分に凸部があるとワークがテープの場合、テープがマスキング材に密着しないので、めっき液がめっき不要部分にまで流れてしまう。
なお、広幅（２条並び）ＴＡＢテープを連続部分めっきするためのマスク回転体では、上段、下段にそれぞれ３個の窓が接近しており、その中間の水平方向に広めのスペースを設けるようにしている。本発明では、このような場合、各列に６個ある窓のそれぞれの間に広めのスペースを設けるようにすることもでき、これにより、めっき不要部分を拡大でき、省金効果は一層高められる。
【００４２】
マスク回転体１６は、上下を円板で挟み、互いにボルトで連結固定して、装置に取り付ける。この円板は、耐食性があり機械的強度が高いチタン製又はチタン合金製が好ましい。なお、マスキング材は、位置決めピンを用いて、荷電用の給電線が接触することになる中央部分で固定することができる。
マスク回転体１６は、前記電極構造体の側板の外側に同心円状に配置される。マスキング材の縦の長さ（高さ）は、ワークの幅と同等であれば、部分めっき部分をカバーすることができるので十分であるが、その内周半径は、電極構造体の側板の外周半径より少し大きい寸法が必要である。
【００４３】
すなわちマスク回転体１６の側面が電極構造体１３の側板と接触しないように、内周半径は、電極構造体の側板の外周半径よりも０．１〜３ｍｍ程度大きくして、両者の間に隙間ができなければならない。隙間が０．１ｍｍ以下であると、ワークの搬送が困難になり、３ｍｍを超えると、側板の外周にある電極ノズルの噴射口から、ワークまでの距離が大きくなり、噴射されためっき液が分散しすぎて、部分めっきが不十分になる。
【００４４】
本発明においてマスク回転体１６は、その表面をガイド面としてワークを搬送する機能を有している。
このマスク回転体１６は、Ｚ軸線を中心とする回転軸の上部にベアリングを介して、回転可能に装着されている。なお、装着はこれに限らず、下部のめっき液供給管１２にベアリングを介して、回転可能にしてもよい。これによりマスク回転体（マスキング材）１６の外周面が搬送ガイド面とされ、ワークを円滑に搬送することができる。
【００４５】
また、マスク回転体１６は、軸部材に対してボルトで固定することにより緊締弛緩して着脱でき、これにより仕様等が異なる別のマスク回転体と簡単に交換することができる。
【００４６】
部分めっきされる電子部品実装用テープは、幅が広いために、多数の電極ノズルから噴出されるめっき液によってテープがより大きな衝撃力を受ける。マスキング材の表面にはシリコンゴム膜が形成されているので、浮き上がることはないが、めっき液の当たる場所が不正確になり、不均一に供給される恐れがある。
そのため本発明においては、図５（左側）のように、前記マスク回転体１６の近傍に、該マスク回転体１６の表面へ前記テープを密着させるためのテープ圧接用回転体３１を設けることが望ましい。
テープ圧接用回転体３１は、マスク回転体１６に当接したテープＴが、めっき液噴射の衝撃力に負けない力でテープを電極ノズル側に引っ張り、マスク回転体１６に密着させる機能を有するものである。したがって、テープ圧接用回転体３１は、マスク回転体１６の両側でマスク回転体１６を挟む形態になる。３つの回転体の位置関係は、マスク回転体１６の回転軸を頂点として他のテープ圧接用回転体３１の回転軸を結ぶと正三角形または二等辺三角形になるようにすることが好ましい。
【００４７】
本発明で部分めっきされる電子部品実装用テープは、幅が広いために垂直に起立した状態で搬送速度を一定に保つことが難しく、搬送速度が遅くなるとテープがたるみ、逆に搬送速度が速くなるとテープに強い力がかかって傷付きやすい。また、テープへ当たるめっき液の衝撃力が上下でアンバランスになると、テープ位置が上下に変動することもある。上記テープ圧接用回転体３１には、めっきされるテープが上下、左右に振れないで、マスク回転体１６によって安定して搬送されるように前記テープの位置の変動を修正する機能をもたせることが望ましい。
また、このテープ圧接用回転体３１のさらに手前に、テープ搬送速度が設定範囲を超えて変動したことを検知したら、マスク回転体の回転速度を自動的に調整できるように、別途回転体を配置することが好ましい。図５（右側）には、このためにテープ速度検知用回転体３２が３点配置され、うち中間の回転体がテープの弛みなどに応じて首振りできる支点３３を備えた形態としている。テープの搬送方向をＸ方向とすれば、テープ速度検知用回転体３２がスライドする方向はＹ方向となる。
これらテープ圧接用回転体３１やテープ速度検知用回転体３２は、いずれもテープの搬送機能を必要とするわけではないが、アルミニウムやポリプロピレンなどの回転体の表面にシリコンゴムなどのライニングが形成されているものが好ましい。
【００４８】
本発明の連続部分めっき装置は、上記マスク回転体の外側、非めっき領域に、洗浄ノズルと拭き取り部材を付設している。
【００４９】
３．洗浄ノズル
本発明において、洗浄ノズルは、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧するものである。微量の純水を噴霧できれば、ノズルの種類や構造によって制限されないが、二流体ノズルが好ましい。
【００５０】
二流体ノズル１は、ノズル本体に形成した気体流入口と液体流入口とから夫々供給する気体と液体とを混合室で混合し、該気液混合流体を噴射室に設けた噴射孔より気液混合ミストを噴射するものである。例えば、株式会社いけうち製のものが好適に利用される。その詳細は特開２００６−１６７６０１に示されており、ノズル本体の軸心線に沿って気体を供給すると共に、該気体に対して外周方向より液体を混合させる混合室を設け、該混合室に噴射室を連通させている。二流体ノズル１は、仰角はマスク回転体やワークの大きさ・形状によって異なるが、５０〜９０度が好ましい。
【００５１】
洗浄ノズルは、洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されるのが望ましい。そして、非めっき領域の搬送ロールに接近した位置、すなわち、めっき領域を出た直近の位置に支持部品４によって固定される。固定の際、マスク回転体とノズル先端との距離は、マスクに当たる水の強さが十分である（付着しためっき液を除去できる強さ）位置を探索して設置する。ワークやドラムの種類やサイズ、装置内部のスペース、水圧等にもよるが、１０〜１００ｍｍの範囲、特に２０〜５０ｍｍの範囲で接近させると良い。距離が１０ｍｍ未満であると、仰角の関係で、マスク回転体の縦方向全体に純水が噴霧されない場合があり、１００ｍｍを超えると、マスク回転体表面への噴霧圧力が低下して、洗浄力が低下する場合がある。
また、洗浄ノズル先端の向きは、ワークがリード付き端子用部材の場合、マスク回転体の中心に向くようにし、また、広幅の電子部品実装用テープの場合はマスク回転体の接線方向にすると洗浄効率を高めることができる。
【００５２】
４．拭き取り部材
本発明において、拭き取り部材は、純水が噴霧されたマスク回転体にブラシなどを接触させて過剰な液体を落とすものである。
【００５３】
このような機能を有する拭き取り部材としては、ブラシ、スポンジ、ヘラ、布などを使用することができる。これらの中でも好ましいのは、図１に示される合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシ２である。ブラシ２は、高さがマスク回転体の高さと同等程度、厚さが３〜１０ｍｍ程度の矩形形状の刷毛である。高さは、ワークがリード付き端子用部材である場合は例えば１００〜３００ｍｍ、幅の広いＴＡＢでは、例えば１００〜３００ｍｍであることが好ましい。材質は１５０〜２５０℃程度の耐熱性がある耐薬品性のポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）などの合成樹脂が好ましい。拭き取り部材のブラシ２は、純水が噴霧された後のマスク回転体の表面に軽く接触するように部材５で固定する。
【００５４】
マスク回転体１６の側面には、ワーク（処理製品）をガイドするセラミック製のピン１３が配置している。連続部分めっきを長時間継続すると、マスク回転体１６に余剰のめっき液が付着して、セラミックピン２２に汚れがたまる。また、マスク回転体１６には、周方向に複数の窓２１が一列あるいは複数列開けられており、窓は例えば直径数ｍｍ以下と極めて小さいので、めっき液が残留しやすい。本発明においては、ブラシ２などの拭き取り部材を用いることで、このようなセラミックピン２２にたまった汚れを除去したり、液たまりを防止したりすることができる。
【００５５】
本発明の連続部分めっき装置は、上記のほかに、めっき槽からめっき液を電極構造体の内部に供給するめっき液供給管と、電極構造体の電極ノズルに給電する給電装置とを具備し、帯状のワークを連続搬送しつつ電極ノズルから、めっき液を噴射してワークのめっき必要部分に連続してめっき処理を施すように構成されている。
【００５６】
５．連続部分めっき方法
本発明の連続部分めっき方法は、上記連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみにめっきを施す連続部分めっき方法であって、マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする。
【００５７】
（第１の実施の形態）
次に、ワークであるリード付き端子用部材を本発明により連続部分めっきする方法を説明する。
【００５８】
めっき装置を構成するマスク回転体の側板は、ＰＰＳ、ＰＶＣ，ＨＴＰＶＣ、ＰＥＥＫの一種または二種以上の材質であり、マスク回転体の側板には、処理製品をガイドするピン１３を有している。図１のように、マスク回転体３は、ワーク１１が右方向に搬送されることにより右回転する。同様に搬送用ロール８は右に、搬送用ロール９は左に回転して、設定搬送速度（例えば、２ｍ／ｍｉｎ）でワークが搬送される。
【００５９】
ワークが、マスク回転体３のめっき領域１４（図１中、扇形で示した部分）を通過するときに、マスク回転体３の中心から放射状にめっき液が図４の経路１２，１３を経由して吐出される。電極ノズル（ノズルの直径０．３ｍｍ）から噴射されるめっき液の流速は、例えば１０ｍ／ｓｅｃとし、噴射めっき液の液流が一直線となるようにする。こうして吐出されためっき液とワークの間を電極１５から通電することにより、電解めっき（部分めっき）がなされる。
【００６０】
このめっき処理によって、マスク回転体３の側面１６には、めっき液が付着する。これを放置するとマスク回転体３の表面に金が析出して汚れていく。
これを抑制するために、支持部品４によって固定された洗浄ノズル（二流体ノズル）１で、経路６から供給される水及び経路７から供給される空気により、水を霧状に噴霧してマスク回転体の側板１６を洗浄する。このとき、洗浄ノズル先端を、マスク回転体に近づければ近づけるほど、洗浄効率を向上できるが、この距離は、例えば１０〜２０ｍｍとすることが好ましい。
【００６１】
噴霧状態は、空気の供給量（圧力）によって適宜制御する。水分量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒとすることができ、１００〜４００ｍｌ／ｈｒが好ましく、１００〜３００ｍｌ／ｈｒがより好ましい。水分量が１００ｍｌ／ｈｒより少ないと、十分な洗浄効果が期待できない。一方、水分量が５００ｍｌ／ｈｒ以下であれば、処理製品に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等あるいはそれ以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されるなどの影響を及ぼさない。
処理製品１１がマスク回転体３により搬送されている限り、継続して上記洗浄状態が継続され、連続した運転状態が保たれる。
【００６２】
洗浄されたマスク回転体３は、引き続き、拭き取り部材（ブラシ）２によって過剰な水分を除去する。
ブラシ２は、高さが１０〜５０ｍｍ、厚さが５〜１５ｍｍの矩形形状で、材質は耐薬品性のＰＰ製のものを選択することができる。ブラシを用いることにより過剰な液体を落とし、常にマスク回転体が清浄に保たれ、セラミックピンにたまった汚れも除去される。
なお、電極ノズルから噴射された給電済めっき液は、めっき必要部分に吹き付けられた後、落下かつ流動してメインタンクに回収され、めっき液は、再循環利用される。
【００６３】
（第２の実施の形態）
次に、広幅の電子部品実装用テープを本発明によって連続部分めっきする方法を説明する。めっきされる電子部品実装フィルム用テープの幅は、１００〜３００ｍｍであり、搬送用のスプロケットホールや半導体素子配設用のデバイスホール等の開口部が開けられ、荷電用の細長い帯状の給電線が設けられている。また、金めっきされるインナーリード、金めっきを必要としないアウターリード、テストパッドなどが集合している。
【００６４】
めっき装置を構成するマスク回転体の側板は、シリコンゴム膜を表面に被覆しているガラスエポキシ複合材製である。マスク回転体の側板には、処理製品をガイドするピン１３を有している。図５において、搬送ローラー３１，３２がテープをＸ方向に連続搬送する。テープＴの設定搬送速度は、特に制限されるわけではないが、通常２ｍ／ｍｉｎであり、０．１〜１０ｍ／ｍｉｎが好ましい範囲であり、０．５〜５ｍ／ｍｉｎがより好ましい。この範囲のテープ搬送速度であれば、めっきの精度や生産性を悪化させることはない。テープＴは、図５のように垂直に起立した状態で連続部分めっき装置のマスク回転体表面に当接して搬送される。
連続部分めっき装置では、引き続き、連続めっき液供給手段から、めっき液が電極構造体（めっき液供給口）で所定圧力に加圧されて連続供給される。
めっき液は、電極ノズルから噴射され、マスキング材の窓を通過してテープのパターン部分に当たり、部分めっき処理がなされる。電極ノズルから噴射されるめっき液の流速は、規定しにくいが、５ｍ／ｓｅｃ〜２０ｍ／ｓｅｃとするのが好ましい。この範囲であれば、噴射めっき液の液流が一直線となり、テープのめっきパターン部分にめっき液を接触させることができる。
なお、実際のめっき処理では、めっき液の流速は、電極ノズルの直径、めっき液の種類・粘度や、テープの材質・サイズ等との関係においても、見直しつつ最適値が決定される。本発明では、めっき液は、広い面積に集中して配設された多数の電極ノズルから一斉に噴射されるので、その噴射力によって幅が広いテープは少なからぬ衝撃をうけることになる。ところが、前記マスク回転体の近傍にテープ圧接用回転体が配置されているので、テープを電極構造体側に引っ張ることができ、テープはマスク回転体に密着した状態を保つことになる。
テープが、めっき領域を通過するときに、給電状態にある電極構造体の電極ノズルから噴射されるめっき液で、連続搬送中のテープに部分金めっきが施される。
【００６５】
このめっき処理によって、マスク回転体の側面には、めっき液が付着する。これを放置するとマスク回転体の表面に金が析出して汚れていく。
これを抑制するために、支持部品によって固定された洗浄ノズル（二流体ノズル）１で、水を霧状に噴霧してマスク回転体の側板を洗浄する。ＴＡＢ用ドラムめっき（テープ幅２２０ｍｍ）の場合では、洗浄ノズルは１００〜１２０度の広角のものを使用し、先端とマスクとの距離が８０〜１２０ｍｍとなる位置に設置するとよい。先端は、ドラムの噴霧接触点が接線になる方向に向けると付着物の剥離効果が大きいので好ましい。
この範囲で洗浄ノズル先端を、マスク回転体に近づければ近づけるほど、洗浄効率を向上できるが、８０ｍｍ未満では噴霧がマスク回転体の表面に接触しない場合があり、１２０ｍｍを超えるとマスク回転体への噴霧圧力が不十分となって洗浄効果が得られない場合がある。
噴霧状態は、空気の供給量（圧力）によって適宜制御する。水分量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒとすることができ、１００〜４００ｍｌ／ｈｒが好ましく、１００〜３００ｍｌ／ｈｒがより好ましい。水分量が１００ｍｌ／ｈｒより少ないと、十分な洗浄効果が期待できない。一方、水分量が５００ｍｌ／ｈｒ以下であれば、処理製品に付着することにより持ち出される水分、あるいは加熱されためっき液の蒸発分と同等あるいはそれ以下の状態を連続運転の間中保持することができ、本来のめっき液に過剰な水が供給されるなどの影響を及ぼさない。
処理製品（テープ）１１がマスク回転体３により搬送されている限り、継続して上記洗浄状態が継続され、連続した運転状態が保たれる。
【００６６】
洗浄されたマスク回転体は、引き続き、拭き取り部材のブラシ２によって過剰な水分を除去する。ブラシ２は、高さが１５０〜２５０ｍｍ、厚さが１０〜３０ｍｍの矩形形状で、材質は耐薬品性のＰＰ製のものを選択することが好ましい。
ブラシをマスク回転体３に接触させることにより、過剰な液体を落とし、常にマスク回転体が清浄に保たれ、セラミックピンにたまった汚れも除去される。
マスキング材の窓をくぐりテープに当たっためっき液は、下方に流れ落ち、タンクに回収される。マスキング材の窓を通過しなかっためっき液も、同様に回収され、ゴミなどが除去された後、再循環使用される。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明の実施例、比較例を示すが、本発明は、この実施例に限定して解釈されるものではない。
【００６８】
［実施例１］
ステンレス製の金属材料を用いて、下部分割部材（直径１２０ｍｍ、厚さ６５ｍｍ）と上部分割部材（外径１２０ｍｍ、内径８０ｍｍ、高さ６５ｍｍ）を作製した。下部分割部材には、直径１．５ｍｍの円形の電極ノズル孔を等間隔で１１０個設けた。電極ノズルの配設角度が、１１０度となるようにした。これら分割部材の電極ノズル孔部分には、白金系金属化合物を用いて厚さ３μｍの白金系金属めっきを施した。
次に、二つの分割部材を上下に組み合わせボルトで連結し、内部に空洞を有し側面部分が円筒状をした二つ割型の電極構造体とした。
また、ＰＰＳの板を用いて、マスク回転体（外径１５０ｍｍ、内径１４０ｍｍ、高さ４０ｍｍ）を製作し、前記二つ割型の電極構造体の外周に組み込んだ。
そして、洗浄ノズル１、拭き取り部材２を取り付け、図１のような連続部分めっき装置を構成した。洗浄ノズルは、株式会社いけうちの二流体ノズル（製品名：ＢＩＭＪ２００４ＰＰ＋Ｔ ＰＰ−ＩＮ）を利用した。搬送ロールに接近した位置に部品４によって、マスク回転体の中心に向けて固定した。マスク回転体とノズル先端との距離は１８ｍｍとした。仰角は０度であった。
拭き取り部材２は、マスク回転体の幅と同等程度の矩形形状のブラシ（高さ３０ｍｍ、幅１５ｍｍ）であり、耐薬品性のＰＰ製のブラシを選定した。
予めニッケルめっきされたリード付き端子部材（全長Ｌｖが２ｍｍ、リード部（１ＫＹ）の長Ｌｕが１ｍｍ、バリア部（１ＭＮ）の長Ｌｍが０．５ｍｍかつ突出長Ｌｗが１．５ｍｍ、端子部（１ＴＹ）の長Ｌｄが０．５ｍｍ）をセットし、搬送速度を２ｍ／ｍｉｎに設定した。電極ノズル孔からめっき液を１０ｍ／ｓｅｃの流速で噴射して、端子部（１ＴＹ）に部分めっきを行った。二流体ノズルにより、１００ｍｌ／ｈｒの純水を連続的に噴霧した。
連続部分めっき装置を３３６時間稼動した後、装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。また、セラミックピンの表面も観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。
【００６９】
［実施例２］
二流体ノズルにより、５００ｍｌ／ｈｒの純水を連続的に噴霧した以外は実施例１と同様にして、リード付き端子部材を連続部分めっきした。
連続部分めっき装置を３３６時間稼動した後、装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。また、セラミックピンの表面も観察したが、目だった汚れの付着は見当たらなかった。
そのため、ワークの搬送速度を１５ｍ／ｍｉｎ程度まで大きくしても連続部分めっきできることが分かった。
【００７０】
［比較例１］
二流体ノズル１、ブラシ２を取り付けなかった以外は、実施例１と同様にして連続部分めっき装置を構成した。実施例１と同様にしてワークをセットし、電極ノズル孔からめっき液を噴射して、端子部（１ＴＹ）に部分めっきを行った。
この状態で３０時間連続して部分めっきを継続したところ、徐々にワークの搬送が不安定になった。
そのため装置を停止してマスク回転体を取り外し、マスク回転体の外部表面を観察した。めっき液の付着に起因する金が、マスク回転体、特に窓の周辺に汚れとして付着していた。また、セラミックピンの表面にも汚れが付着していた。したがって、以降の連続部分めっきでは、装置を２４時間稼動した後、清掃作業することになった。
【符号の説明】
【００７１】
１ 洗浄ノズル
２ 拭き取り部材
３ マスク回転体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、
アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、
さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。
【請求項２】
前記マスク回転体は、側板がポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上であることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項３】
前記洗浄ノズルは、二流体ノズルであることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項４】
前記洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されることを特徴とする請求項１又は３に記載の連続部分めっき装置。
【請求項５】
前記拭き取り部材は、合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシであることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみにめっきを施す連続部分めっき方法であって、
マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする連続部分めっき方法。
【請求項７】
前記被処理物は、リード付き端子用部材又は広幅の電子部品実装用テープであることを特徴とする、請求項６に記載の連続部分めっき方法。
【請求項８】
前記リード付き端子用部材は、予め全体的にニッケルめっきが施されていることを特徴とする、請求項７に記載の連続部分めっき方法。
【請求項９】
前記電子部品実装用テープは、銅箔リードが複数形成されているポリイミドフィルムであることを特徴とする請求項７に記載の連続部分めっき方法。
【請求項１０】
純水の噴霧量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒであることを特徴とする請求項６に記載の連続部分めっき方法。
【請求項１】
長手方向に連続する長尺の被処理物を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、
アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から、放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる前記被処理物を搬送しながら回転し、該被処理物のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体を同心円状に配置し、
さらに、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を噴霧する洗浄ノズル、及びマスク回転体の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材を非めっき領域に付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。
【請求項２】
前記マスク回転体は、側板がポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、又はガラスエポキシ複合材製の一種以上であることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項３】
前記洗浄ノズルは、二流体ノズルであることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項４】
前記洗浄ノズルは、非めっき領域の搬送ロールに近接した位置に設置されることを特徴とする請求項１又は３に記載の連続部分めっき装置。
【請求項５】
前記拭き取り部材は、合成樹脂製の繊維集合体を有するブラシであることを特徴とする請求項１に記載の連続部分めっき装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の連続部分めっき装置を用いて、長手方向に連続する長尺の被処理物の必要部分のみにめっきを施す連続部分めっき方法であって、
マスク回転体で該被処理物を連続搬送しながら、給電状態にある電極構造体の電極ノズルからマスク回転体に向けてめっき液を噴出させ、被処理物に部分めっきを施し、その後、余剰のめっき液が付着したマスク回転体に向かって、微量の純水を洗浄ノズルから噴霧し、純水が噴霧された該マスク回転体に拭き取り部材を接触させて過剰な液体を落とすことを特徴とする連続部分めっき方法。
【請求項７】
前記被処理物は、リード付き端子用部材又は広幅の電子部品実装用テープであることを特徴とする、請求項６に記載の連続部分めっき方法。
【請求項８】
前記リード付き端子用部材は、予め全体的にニッケルめっきが施されていることを特徴とする、請求項７に記載の連続部分めっき方法。
【請求項９】
前記電子部品実装用テープは、銅箔リードが複数形成されているポリイミドフィルムであることを特徴とする請求項７に記載の連続部分めっき方法。
【請求項１０】
純水の噴霧量は、１００〜５００ｍｌ／ｈｒであることを特徴とする請求項６に記載の連続部分めっき方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１２−８７３６７（Ｐ２０１２−８７３６７Ａ）
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３５４０２（Ｐ２０１０−２３５４０２）
【出願日】平成２２年１０月２０日（２０１０．１０．２０）
【出願人】（５１１１６５４３０）三友セミコンエンジニアリング株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年５月１０日（２０１２．５．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月２０日（２０１０．１０．２０）
【出願人】（５１１１６５４３０）三友セミコンエンジニアリング株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
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