γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法
【課題】新規の、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法を提供する。
【解決手段】キラルホスホラミダイト配位した銅塩の存在下で、ジアルキル亜鉛と構造式（２）の化合物を反応し、構造式（１）の化合物を生成させる。
（式中、Ｒ1は、置換していても良いアリール基等を、Ｒ2は、直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基等を、Ｒ3はアルキル基を、＊は、キラル中心を表す。）
【解決手段】キラルホスホラミダイト配位した銅塩の存在下で、ジアルキル亜鉛と構造式（２）の化合物を反応し、構造式（１）の化合物を生成させる。
（式中、Ｒ1は、置換していても良いアリール基等を、Ｒ2は、直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基等を、Ｒ3はアルキル基を、＊は、キラル中心を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規の、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法に関する。本発明のα−ケト酸エステル化合物は、例えばプリル類薬物合成の出発物質として有用である。
【背景技術】
【０００２】
不斉触媒反応において、不斉１，４−共役付加は、求核試薬が１，４−不飽和化合物におけるカルボカチオンに対して選択的に攻撃することで、新しい炭素−炭素結合が形成されキラル炭素原子が得られ、該反応はキラル炭素−炭素結合を構築する極めて重要な方法である。従来の技術文献に対する検索の結果、従来の配位子のうち、ホスホラミダイト配位子、特に軸性キラルホスホラミダイト配位子の不斉１，４−共役付加反応における効果の発現が極めて優れている（非特許文献１〜３）。２０１０年、張万斌研究チームにより開発されたＤ２−対称のビフェニルビス架橋ホスホラミダイト配位子は二重鎖状オレフィンの銅触媒の不斉１，４−共役付加反応において、極めて優れた触媒反応活性およびエナンチオ選択性を示した。（非特許文献４）。しかしながら、今までのＣｕ触媒の不斉１，４−共役付加反応において、不飽和鎖状オレフィンに対し表出が劣っており、かつ基質の反応活性が低い。
【０００３】
１９８１年、最初のプリル類薬物――カプトプリル（キャポテン）がＢｒｉｓｔｏｌ−Ｍｙｅｒｓ Ｓｑｕｉｂｂ社により初めて開発、販売されてから１９９８年に至るまで、全世界で合計１６のプリル類薬物が続々と販売された。過去９年間に幾つかのプリル類抗高血圧薬物も販売され、プリル類薬物の種類を増加させた。プリル類薬物はＡＣＥ阻害剤であり、レニン−アンギオテンシン系に作用することにより効果的に血圧を調節および抑制し、鬱血性心不全を治療し、かつ心筋梗塞の発生を良好に予防でき、心筋梗塞の予後を改善できるため、国外で非常に幅広く適用されている。プリル類薬物の構造においてα−ヒドロキシベンゼン酪酸構造はその重要な骨格であり、該骨格に対して誘導の改良を行うことはプリル類薬物の開発の重要な方法であり、それはγ−置換基β，γ−不飽和α−ケト酸エステル類化合物からさらに誘導して得ることができる。従来の修飾方式はいずれもペプチドの一側から修飾を行っており、骨格のγ位からキラル修飾を行うことはこれまで報告されていない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｄｅ Ｖｒｉｅｓ，Ａ．Ｈ．Ｍ．；Ｍｅｅｔｓｍａ，Ａ．；Ｆｅｒｉｎｇａ，Ｂ．Ｌ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９６，３５，２３７４−２３７６．
【非特許文献２】Ｈｕａ，Ｚ．；Ｖａｓｓａｒ，Ｖ．Ｃ．；Ｃｈｏｉ，Ｈ．；Ｏｊａｍａ，Ｉ．Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．Ｕ．Ｓ．Ａ．２００４，１０１，５４１１．
【非特許文献３】Ａｌｅｘａｋｉｓ，Ａ．；Ｒｏｓｓｅｔ，Ｂ．Ｓ．；Ｈｕｍａｍ，Ｍ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，５２６２．
【非特許文献４】Ｈｕｉ Ｚｈａｎｇ，Ｆａｎｇ Ｆａｎｇ，Ｆａｎｇ Ｘｉｅ，Ｈａｎ Ｙｕ，Ｇｕｏｑｉａｎｇ Ｙａｎｇ，Ｗａｎｂｉｎ Ｚｈａｎｇ*．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２０１０，５１，３１１９−３１２２．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来の技術に存在する上記不足に対して、ホスホラミダイト配位子と銅塩を用いて配位させて触媒を生成し、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステルキラル化合物が容易に生成され、該化合物から更なる誘導を通じてγ位のキラル中心を有するα−ヒドロキシベンゼン酪酸キラル骨格を生成できることによって、プリル類薬物の潜在的骨格構造を形成し、適用に対する良好な将来性を有する。本発明のα−ケト酸エステル化合物を用いてプリル類薬物を形成することによって、該薬物に新たな官能基を導入でき、それによって、該薬物の効果を高めたり、該薬物の作用範囲を広げることが可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、具体的に以下の発明に関する。
【０００７】
下記構造式（１）で表される、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【０００８】
【化１】
【０００９】
ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。
【００１０】
本発明は、構造式（１）において、Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１１】
本発明はさらに、キラルホスホラミダイト配位子と銅塩とから触媒を生成させ、該触媒の存在下で、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を生成させることを特徴とする新規の、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法に関する。
【００１２】
【化２】
【００１３】
【化３】
【００１４】
ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。
【００１５】
本発明の合成方法は、構造式（１）と構造式（２）において、Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の合成方法において、キラルホスホラミダイト配位子は下記構造式Ｌ１〜Ｌ１０で表される配位子のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１７】
【化４】
【００１８】
また、本発明の合成方法において、銅塩は１価の銅塩または２価の銅塩である。
【００１９】
さらに、本発明の合成方法は、トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ベンゾトリフルオリドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種である有機溶剤において行われることが好ましい。
【００２０】
さらに、本発明の合成方法において、ジアルキル亜鉛の用量は、構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物の１．０〜３．０倍の当量であることが好ましい。
【００２１】
さらに、本発明の合成方法において、銅塩：キラルホスホラミダイト配位子：構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物＝１：２〜１０：５０〜１００であることが好ましい。
【００２２】
さらに、本発明の合成方法において、反応温度が−７８℃〜２６℃であり、その反応時間が１．５時間〜８時間であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明は柔らかい求核試薬のジアルキル亜鉛を用いることで、１，２−付加反応の副生成物の生成を防ぎ、さらに、銅で触媒される不斉１，４−共役付加反応によりγ位のキラル中心を容易に構築することで、新しいＣ−Ｃ結合が生成される。本発明の合成方法は、操作が簡単で安全であり、かつ良好な反応収率およびエナンチオ選択性が実現でき、良好な適用効果を有する。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
上記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物及び上記構造式（２）で表わされるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物において、Ｒ1としてのシクロアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは４〜８、さらに好ましくは５〜７のものが挙げられる。Ｒ1としてのアリール基としては、単環式又は多環式の芳香族環が挙げられ、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基等が挙げられる。Ｒ1としての置換アリール基における置換基としては、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のアルキル基、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のアルコキシ基、ニトロ基等が挙げられる。Ｒ1としてのアラルキル基における芳香族環としては、単環式又は多環式のものが挙げられ、該アラルキル基におけるアルキレン基としては、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のものが挙げられ、該アラルキル基としては、例えば、ベンジル基等が挙げられる。Ｒ1としてのハロアリール基としては、Ｒ1としてのアリール基において、少なくとも１以上の水素原子をハロゲン原子で置換したものが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロアリール基におけるアリール基がフェニル基である場合、つまりハロアリール基がハロフェニル基である場合、該ハロフェニル基において、該ハロゲン原子の何れかが、上記構造式（１）及び上記構造式（２）におけるγ位の炭素原子に対してパラ位の炭素原子に結合していることが好ましい。Ｒ1としてのヘテロアリール基としては、環構造中に１または２以上の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有する、環構成原子数が好ましくは４〜８、さらに好ましくは５〜７の単環式又は多環式の芳香族環が挙げられ、例えば、フラン基等が挙げられる。
上記構造式（１）及び上記構造式（２）において、Ｒ2としてのアリール基としては、Ｒ1としてのアリール基と同様の基が挙げられる。Ｒ2としてのアラルキル基としては、Ｒ1としてのアラルキル基と同様の基が挙げられる。
上記構造式（１）において、Ｒ3としてのアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜４のものが挙げられる。
【００２５】
本発明の合成方法は、下記反応式で表すことができる。
【００２６】
【化５】
【００２７】
ここで、一般式（２）はβ，γ−不飽和α−ケト酸エステルを表し、Ｌはキラルホスホラミダイト配位子を表し、Ｃｕ Ｓａｌｔｓは銅塩を示し、Ｔｅｍｐ．は反応温度を示し、Ｃｕ Ｓａｌｔｓ／Ｌは銅塩とキラルホスホラミダイト配位子との両者が配位して形成する触媒を示し、Ｓｏｌｖｅｎｔｓは溶剤を示し、一般式（１）は反応生成物であるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を表す。
【００２８】
本発明の合成方法は、極性溶剤または非極性溶剤において行われることが可能であり、トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種である有機溶剤において行われることが好ましく、触媒の効果から考慮して、エチルエーテル、トルエン、ジクロロメタンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの弱極性溶剤が特に好ましい。
【００２９】
上記のように、触媒生成物のエナンチオ選択性から考慮して、本発明の合成方法は、その反応温度が−７８℃〜２６℃であることが好ましく、−２０℃〜−３０℃であることがさらに好ましい。
【００３０】
上記のように、触媒の効果および収率から考慮して、本発明の合成方法は、その反応時間が１．５時間〜８時間であることが好ましく、２時間〜３時間であることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明で用いられる銅塩としては、例えば、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＣｌＯ4、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＢＦ4、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＰＦ6およびＣｕ（Ｉ）ＴＣから選ばれるいずれか１種の１価の銅塩、またはＣｕ（ＩＩ）（ＯＡｃ）2・Ｈ2Ｏ、Ｃｕ（ＩＩ）（ＯＴｆ）2、Ｃｕ（Ｉ）（Ｃ6Ｈ6）ＯＴｆ、Ｃｕ（ＩＩ）Ｂｒ2、Ｃｕ（ＩＩ）（ａｃａｃ）2、Ｃｕ（ＩＩ）（Ｍｅ3ＣＣＯ2）2、トリフルオロメタンスルホン酸銅およびＣｕ（ＩＩ）ＣｌＯ4・６Ｈ2Ｏから選ばれるいずれか１種の２価の銅塩であってもよい。
【００３２】
本発明のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物は、例えばプリル類薬物の合成の出発物質に用いることができる。プリル類薬物は、例えば血圧の調節および抑制、鬱血性心不全の治療、心筋梗塞の発生の予防および予後の改善等に有用である。本発明のα−ケト酸エステル化合物において、例えば、Ｒ1がフェニル基であり、Ｒ2がエチル基であり、Ｒ3がエチル基である化合物（実施例２６で製造した触媒生成物３ｂ）を用いた場合、下記の反応式に示す合成方法によって、プリル類薬物であるエナラプリルを合成することができる。
【００３３】
【化６】
【実施例】
【００３４】
以下、本発明のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法について具体的な実施例を提示して説明する。本発明の保護範囲は、下記の実施例に限定されるものではない。
【００３５】
[実施例１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、薄層クロマトグラフィー（ｔｈｉｎ−ｌａｙｅｒ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ、以下「ＴＬＣ」とする）で反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が８１％、対応選択性が５８％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．３０−７．０９（ｍ， ５Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．２２（ｍ， ２Ｈ）， ３．１５−３．０９（ｍ， １Ｈ）， １．７０−１．５２（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ１９３．４１， １４３．２７， １２８．６９， １２８．５７， １２８．２８， １２６．７８， ５３．１４， ４６．１４， ４２．５０， ２９．４８， ２０．７４， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ16Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２２０．１０９９， Ｆｏｕｎｄ： ２１９．１００７．
【００３６】
[実施例２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８８％、対応選択性が６８％である。
【００３７】
[実施例３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−３０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が６５％である。
【００３８】
[実施例４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−７８℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を３時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１６％、対応選択性が−１９％である。
【００３９】
[実施例５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、臭化銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して１０時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７０％、対応選択性が２９％である。
【００４０】
[実施例６]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が７４％である。
【００４１】
[実施例７]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、トリフルオロメタンスルホン酸銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８７％、対応選択性が６３％である。
【００４２】
[実施例８]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（ＩＩ）（ａｃａｃ）2（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９６％、対応選択性が６４％である。
【００４３】
[実施例９]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位のヘキサフルオロリン酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が７４％である。
【００４４】
[実施例１０]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（Ｉ）ＴＣ（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９２％、対応選択性が６２％である。
【００４５】
[実施例１１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（ＩＩ）（Ｍｅ3ＣＣＯ2）2（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が６８％である。
【００４６】
[実施例１２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥エチルエーテルを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥エチルエーテルに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９０％、対応選択性が６９％である。
【００４７】
[実施例１３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥ジクロロメタンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥ジクロロメタンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７１％、対応選択性が５．５％である。
【００４８】
[実施例１４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥ベンゾトリフルオリドを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥ベンゾトリフルオリドに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９２％、対応選択性が２５％である。
【００４９】
[実施例１５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が２０％、対応選択性が６７％である。
【００５０】
[実施例１６]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ１（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が４８％、対応選択性が−３９％である。
【００５１】
[実施例１７]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ２（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９０％、対応選択性が−６０％である。
【００５２】
[実施例１８]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１００％、対応選択性が７４％である。
【００５３】
[実施例１９]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ４（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６７％、対応選択性が−５４％である。
【００５４】
[実施例２０]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ５（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１８％、対応選択性が２％である。
【００５５】
[実施例２１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ６（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５７％、対応選択性が３２％である。
【００５６】
[実施例２２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ７（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５５％、対応選択性が３０％である。
【００５７】
[実施例２３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ８（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が４５％、対応選択性が６％である。
【００５８】
[実施例２４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ９（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５２％、対応選択性が２９％である。
【００５９】
[実施例２５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ１０（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６２％、対応選択性が４８％である。
【００６０】
[実施例２６]
触媒生成物３ｂ（Ｒ2＝Ｅｔ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸エチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５０％、対応選択性が４６％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２９−７．２６（ｍ， ２Ｈ）， ７．２１−７．１７（ｍ，３Ｈ）， ４．２３（ｑ， ２Ｈ）， ３．１９−３．１４（ｍ， ２Ｈ）， ３．１５−３．０９（ｍ， １Ｈ）， １．７１−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， １．３０（ｓ， ３Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．８２， １６１．２８， １４３．７０， １２８．６７， １２７．８２， １２６．７５， ６２．５７， ４６．０９， ４２．５９， ２９．４９， １４．１５， １２．１２．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５８．
【００６１】
[実施例２７]
触媒生成物３ｃ（Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸ベンジルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８４％、対応選択性が−７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．３６（ｓ， ５Ｈ）， ７．２８−７．２５（ｍ，２Ｈ）， ７．２−７．１４（ｍ， ３Ｈ）， ５．２０（ｓ， ２Ｈ）， ３．１９−３．１３（ｍ， ２Ｈ）， ３．１４−３．０４（ｍ， １Ｈ）， １．７２−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４１， １４３．６１， １２８．９７， １２８．８９， １２８．８４， １２８．６９， １２７．８０， １２６．７８， ６８．０８， ４６．２６， ４２．６０， ２９．４９， １２．１２．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ19Ｈ20Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２９５．１４１２， Ｆｏｕｎｄ： ２９５．１３５０．
【００６２】
[実施例２８]
（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が５９％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２６−７．０４（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１９−３．１１（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０４ （ｍ， １Ｈ）， ２．３０（ｓ， ３Ｈ）， １．７０−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４７， １６１．６４， １４０．５５， １３６．２５， １２９．３７， １２７．６５， ５３．０７， ４６．２６， ４２．１３， ２９．５１， ２１．２２， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５８．
（２）触媒生成物３ｄ’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝３−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−３−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が９９％、対応選択性が６０％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１９−７．１５（ｔ， １Ｈ）， ７．０１−６．９６（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１９−３．１２（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０２ （ｍ， １Ｈ）， ２．３２（ｓ， ３Ｈ）， １．７１−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４２， １６１．６４， １４３．６１， １３８．１９， １２８．６１， １２８．５５， １２７．５２， １２４．７６， ５３．０７， ４６．１８， ４２．４４， ２９．４６， ２１．６８， １２．１７．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５４．
（３）触媒生成物３ｄ’’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝２−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−２−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が４９％、対応選択性が１８％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１７−７．０８（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．４４（ｍ， １Ｈ）， ３．２４−３．０６（ｍ， ２Ｈ）， ２．３７（ｓ， ３Ｈ）， １．７１−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．５１， １６１．５９， １４２．０２， １３６．５３， １３０．５９， １２６．４５， １２６．３３， １２５．７８， ５３．０９， ４５．９２， ３６．８２， ２９．５２， ２０．０２， １１．９３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１４９．
【００６３】
[実施例２９]
触媒生成物３ｉ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＯＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−メトキシフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７８％、対応選択性が６１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１０−７．０６（ｍ， ２Ｈ）， ６．８４−６．８（ｍ， ２Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．７７（ｓ， ３Ｈ）， ３．１６−３．０７（ｍ， ２Ｈ）， ３．０８−３．０２（ｍ， １Ｈ）， １．６９−１．５４（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．５１， １６１．６４， １５８．３９， １３５．６１， １２８．７１， １２８．６８， １１４．０４， ５５．４１， ５３．０８， ５３．０７， ４６．３７， ４１．７９， ２９．６４， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ4 ［Ｍ−Ｈ］+ ２４９．１２０５， Ｆｏｕｎｄ： ２４９．１１２４．
【００６４】
[実施例３０]
（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−ブロモフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が８１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．４１（ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．０６−７．０４（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１７−３．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．１１−３．０５ （ｍ， １Ｈ）， １．６８−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７７（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
（２）触媒生成物３ｅ’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＣｌＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−４−クロロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が８８％、対応選択性が７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２５（ｓ， ２Ｈ）， ７．１１−７．０６（ｍ， ２Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．１７−３．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０３ （ｍ， １Ｈ）， １．７８−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７７（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＣｌＯ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２５３．０７１０， Ｆｏｕｎｄ： ２５３．０６４８．
（３）触媒生成物３ｅ’’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＦＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−４−フルオロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が９７％、対応選択性が７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１４（ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．９７−６．９３（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．７７（ｓ， ３Ｈ）， ３．１６−３．０９（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０５ （ｍ， １Ｈ）， １．６８−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７６（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＦＯ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２６１．１００５， Ｆｏｕｎｄ： ２６１．０９０５．
【００６５】
[実施例３１]
触媒生成物３ｆ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＮＯ2Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−ニトロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９６％、対応選択性が８５％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ８．１５−８．１３（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．３６−７．３４（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．８１（ｓ， ３Ｈ）， ３．２５−３．２０（ｍ， ２Ｈ）， ３．２０−３．１０ （ｍ， １Ｈ）， １．７９−１．７０（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．３３， １６１．２７， １５１．６２， １３４．８７， １２８．７３， １２８．３０， １２７．４７， １２４．１７， １２４．００， ５３．３１， ４５．５４， ４２．１２， ２９．２９， １２．０１．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＮＯ5 ［Ｍ−Ｈ］+ ２６４．０９５０， Ｆｏｕｎｄ： ２６４．０８８０．
【００６６】
[実施例３２]
触媒生成物３ｇ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝２−Ｎａｐｈｔｈｙｌ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−２−ナフチルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７２％、対応選択性が５７％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．８１−７．７８（ｍ， ３Ｈ）， ７．６３（ｓ， １Ｈ）， ７．４８−７．４１（ｍ， ２Ｈ）， ７．３５−７．３３（ｄｄ， Ｊ１＝１．２Ｈｚ， Ｊ２＝２Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７５（ｓ， ３Ｈ）， ３．３５−３．２６（ｍ， ２Ｈ）， ３．２５−３．１６ （ｍ， １Ｈ）， １．８２−１．７２（ｍ， ２Ｈ）， ０．８２（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．２９， １４１．０４， １３３．６５， １３２．６２， １２８．４６， １２７．８６， １２７．８１， １２６．６１， １２６．２４， １２５．９１， １２５．７０， ５３．１０， ４６．１４， ４２．６４， ２９．３８， １２．２１．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ17Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２６９．１２５６， Ｆｏｕｎｄ： ２６９．１１５８．
【００６７】
[実施例３３]
触媒生成物３ｈ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｆｕｒａｎ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フランβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６１％、対応選択性が６％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ７．３６−７．３２（ｍ， １Ｈ）， ６．２９（ｍ， １Ｈ）， ６．０２（ｍ， １Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．３５−３．３２（ｍ， ２Ｈ）， ３．３２−３．３０ （ｍ， １Ｈ）， １．７１−１．６５（ｍ， ２Ｈ）， ０．９０（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４８， １６３．２１， １４０．４３， １３９．２１， １２０．４５， ５４．６７， ４５．２２， ４３．１６， ２８．１３， ２０．５８， １２．２０．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ11Ｈ14Ｏ4 ［Ｍ−Ｈ］+ ２０９．０８９２， Ｆｏｕｎｄ： ２０９．０７５３．
【００６８】
[実施例３４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を１．５時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が７７％、対応選択性が４８％である。
【００６９】
[実施例３５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を８時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が９１％、対応選択性が５７％である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規の、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法に関する。本発明のα−ケト酸エステル化合物は、例えばプリル類薬物合成の出発物質として有用である。
【背景技術】
【０００２】
不斉触媒反応において、不斉１，４−共役付加は、求核試薬が１，４−不飽和化合物におけるカルボカチオンに対して選択的に攻撃することで、新しい炭素−炭素結合が形成されキラル炭素原子が得られ、該反応はキラル炭素−炭素結合を構築する極めて重要な方法である。従来の技術文献に対する検索の結果、従来の配位子のうち、ホスホラミダイト配位子、特に軸性キラルホスホラミダイト配位子の不斉１，４−共役付加反応における効果の発現が極めて優れている（非特許文献１〜３）。２０１０年、張万斌研究チームにより開発されたＤ２−対称のビフェニルビス架橋ホスホラミダイト配位子は二重鎖状オレフィンの銅触媒の不斉１，４−共役付加反応において、極めて優れた触媒反応活性およびエナンチオ選択性を示した。（非特許文献４）。しかしながら、今までのＣｕ触媒の不斉１，４−共役付加反応において、不飽和鎖状オレフィンに対し表出が劣っており、かつ基質の反応活性が低い。
【０００３】
１９８１年、最初のプリル類薬物――カプトプリル（キャポテン）がＢｒｉｓｔｏｌ−Ｍｙｅｒｓ Ｓｑｕｉｂｂ社により初めて開発、販売されてから１９９８年に至るまで、全世界で合計１６のプリル類薬物が続々と販売された。過去９年間に幾つかのプリル類抗高血圧薬物も販売され、プリル類薬物の種類を増加させた。プリル類薬物はＡＣＥ阻害剤であり、レニン−アンギオテンシン系に作用することにより効果的に血圧を調節および抑制し、鬱血性心不全を治療し、かつ心筋梗塞の発生を良好に予防でき、心筋梗塞の予後を改善できるため、国外で非常に幅広く適用されている。プリル類薬物の構造においてα−ヒドロキシベンゼン酪酸構造はその重要な骨格であり、該骨格に対して誘導の改良を行うことはプリル類薬物の開発の重要な方法であり、それはγ−置換基β，γ−不飽和α−ケト酸エステル類化合物からさらに誘導して得ることができる。従来の修飾方式はいずれもペプチドの一側から修飾を行っており、骨格のγ位からキラル修飾を行うことはこれまで報告されていない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｄｅ Ｖｒｉｅｓ，Ａ．Ｈ．Ｍ．；Ｍｅｅｔｓｍａ，Ａ．；Ｆｅｒｉｎｇａ，Ｂ．Ｌ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９６，３５，２３７４−２３７６．
【非特許文献２】Ｈｕａ，Ｚ．；Ｖａｓｓａｒ，Ｖ．Ｃ．；Ｃｈｏｉ，Ｈ．；Ｏｊａｍａ，Ｉ．Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．Ｕ．Ｓ．Ａ．２００４，１０１，５４１１．
【非特許文献３】Ａｌｅｘａｋｉｓ，Ａ．；Ｒｏｓｓｅｔ，Ｂ．Ｓ．；Ｈｕｍａｍ，Ｍ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００２，１２４，５２６２．
【非特許文献４】Ｈｕｉ Ｚｈａｎｇ，Ｆａｎｇ Ｆａｎｇ，Ｆａｎｇ Ｘｉｅ，Ｈａｎ Ｙｕ，Ｇｕｏｑｉａｎｇ Ｙａｎｇ，Ｗａｎｂｉｎ Ｚｈａｎｇ*．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２０１０，５１，３１１９−３１２２．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来の技術に存在する上記不足に対して、ホスホラミダイト配位子と銅塩を用いて配位させて触媒を生成し、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステルキラル化合物が容易に生成され、該化合物から更なる誘導を通じてγ位のキラル中心を有するα−ヒドロキシベンゼン酪酸キラル骨格を生成できることによって、プリル類薬物の潜在的骨格構造を形成し、適用に対する良好な将来性を有する。本発明のα−ケト酸エステル化合物を用いてプリル類薬物を形成することによって、該薬物に新たな官能基を導入でき、それによって、該薬物の効果を高めたり、該薬物の作用範囲を広げることが可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、具体的に以下の発明に関する。
【０００７】
下記構造式（１）で表される、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【０００８】
【化１】
【０００９】
ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。
【００１０】
本発明は、構造式（１）において、Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１１】
本発明はさらに、キラルホスホラミダイト配位子と銅塩とから触媒を生成させ、該触媒の存在下で、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を生成させることを特徴とする新規の、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法に関する。
【００１２】
【化２】
【００１３】
【化３】
【００１４】
ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。
【００１５】
本発明の合成方法は、構造式（１）と構造式（２）において、Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の合成方法において、キラルホスホラミダイト配位子は下記構造式Ｌ１〜Ｌ１０で表される配位子のうちから選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
【００１７】
【化４】
【００１８】
また、本発明の合成方法において、銅塩は１価の銅塩または２価の銅塩である。
【００１９】
さらに、本発明の合成方法は、トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ベンゾトリフルオリドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種である有機溶剤において行われることが好ましい。
【００２０】
さらに、本発明の合成方法において、ジアルキル亜鉛の用量は、構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物の１．０〜３．０倍の当量であることが好ましい。
【００２１】
さらに、本発明の合成方法において、銅塩：キラルホスホラミダイト配位子：構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物＝１：２〜１０：５０〜１００であることが好ましい。
【００２２】
さらに、本発明の合成方法において、反応温度が−７８℃〜２６℃であり、その反応時間が１．５時間〜８時間であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明は柔らかい求核試薬のジアルキル亜鉛を用いることで、１，２−付加反応の副生成物の生成を防ぎ、さらに、銅で触媒される不斉１，４−共役付加反応によりγ位のキラル中心を容易に構築することで、新しいＣ−Ｃ結合が生成される。本発明の合成方法は、操作が簡単で安全であり、かつ良好な反応収率およびエナンチオ選択性が実現でき、良好な適用効果を有する。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
上記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物及び上記構造式（２）で表わされるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物において、Ｒ1としてのシクロアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは４〜８、さらに好ましくは５〜７のものが挙げられる。Ｒ1としてのアリール基としては、単環式又は多環式の芳香族環が挙げられ、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基等が挙げられる。Ｒ1としての置換アリール基における置換基としては、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のアルキル基、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のアルコキシ基、ニトロ基等が挙げられる。Ｒ1としてのアラルキル基における芳香族環としては、単環式又は多環式のものが挙げられ、該アラルキル基におけるアルキレン基としては、炭素原子数が好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜４のものが挙げられ、該アラルキル基としては、例えば、ベンジル基等が挙げられる。Ｒ1としてのハロアリール基としては、Ｒ1としてのアリール基において、少なくとも１以上の水素原子をハロゲン原子で置換したものが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロアリール基におけるアリール基がフェニル基である場合、つまりハロアリール基がハロフェニル基である場合、該ハロフェニル基において、該ハロゲン原子の何れかが、上記構造式（１）及び上記構造式（２）におけるγ位の炭素原子に対してパラ位の炭素原子に結合していることが好ましい。Ｒ1としてのヘテロアリール基としては、環構造中に１または２以上の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有する、環構成原子数が好ましくは４〜８、さらに好ましくは５〜７の単環式又は多環式の芳香族環が挙げられ、例えば、フラン基等が挙げられる。
上記構造式（１）及び上記構造式（２）において、Ｒ2としてのアリール基としては、Ｒ1としてのアリール基と同様の基が挙げられる。Ｒ2としてのアラルキル基としては、Ｒ1としてのアラルキル基と同様の基が挙げられる。
上記構造式（１）において、Ｒ3としてのアルキル基としては、炭素原子数が好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜４のものが挙げられる。
【００２５】
本発明の合成方法は、下記反応式で表すことができる。
【００２６】
【化５】
【００２７】
ここで、一般式（２）はβ，γ−不飽和α−ケト酸エステルを表し、Ｌはキラルホスホラミダイト配位子を表し、Ｃｕ Ｓａｌｔｓは銅塩を示し、Ｔｅｍｐ．は反応温度を示し、Ｃｕ Ｓａｌｔｓ／Ｌは銅塩とキラルホスホラミダイト配位子との両者が配位して形成する触媒を示し、Ｓｏｌｖｅｎｔｓは溶剤を示し、一般式（１）は反応生成物であるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を表す。
【００２８】
本発明の合成方法は、極性溶剤または非極性溶剤において行われることが可能であり、トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種である有機溶剤において行われることが好ましく、触媒の効果から考慮して、エチルエーテル、トルエン、ジクロロメタンおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの弱極性溶剤が特に好ましい。
【００２９】
上記のように、触媒生成物のエナンチオ選択性から考慮して、本発明の合成方法は、その反応温度が−７８℃〜２６℃であることが好ましく、−２０℃〜−３０℃であることがさらに好ましい。
【００３０】
上記のように、触媒の効果および収率から考慮して、本発明の合成方法は、その反応時間が１．５時間〜８時間であることが好ましく、２時間〜３時間であることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明で用いられる銅塩としては、例えば、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＣｌＯ4、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＢＦ4、Ｃｕ（Ｉ）（ＭｅＣＮ）4ＰＦ6およびＣｕ（Ｉ）ＴＣから選ばれるいずれか１種の１価の銅塩、またはＣｕ（ＩＩ）（ＯＡｃ）2・Ｈ2Ｏ、Ｃｕ（ＩＩ）（ＯＴｆ）2、Ｃｕ（Ｉ）（Ｃ6Ｈ6）ＯＴｆ、Ｃｕ（ＩＩ）Ｂｒ2、Ｃｕ（ＩＩ）（ａｃａｃ）2、Ｃｕ（ＩＩ）（Ｍｅ3ＣＣＯ2）2、トリフルオロメタンスルホン酸銅およびＣｕ（ＩＩ）ＣｌＯ4・６Ｈ2Ｏから選ばれるいずれか１種の２価の銅塩であってもよい。
【００３２】
本発明のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物は、例えばプリル類薬物の合成の出発物質に用いることができる。プリル類薬物は、例えば血圧の調節および抑制、鬱血性心不全の治療、心筋梗塞の発生の予防および予後の改善等に有用である。本発明のα−ケト酸エステル化合物において、例えば、Ｒ1がフェニル基であり、Ｒ2がエチル基であり、Ｒ3がエチル基である化合物（実施例２６で製造した触媒生成物３ｂ）を用いた場合、下記の反応式に示す合成方法によって、プリル類薬物であるエナラプリルを合成することができる。
【００３３】
【化６】
【実施例】
【００３４】
以下、本発明のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物およびその合成方法について具体的な実施例を提示して説明する。本発明の保護範囲は、下記の実施例に限定されるものではない。
【００３５】
[実施例１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、薄層クロマトグラフィー（ｔｈｉｎ−ｌａｙｅｒ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ、以下「ＴＬＣ」とする）で反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が８１％、対応選択性が５８％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．３０−７．０９（ｍ， ５Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．２２（ｍ， ２Ｈ）， ３．１５−３．０９（ｍ， １Ｈ）， １．７０−１．５２（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ１９３．４１， １４３．２７， １２８．６９， １２８．５７， １２８．２８， １２６．７８， ５３．１４， ４６．１４， ４２．５０， ２９．４８， ２０．７４， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ16Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２２０．１０９９， Ｆｏｕｎｄ： ２１９．１００７．
【００３６】
[実施例２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８８％、対応選択性が６８％である。
【００３７】
[実施例３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−３０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が６５％である。
【００３８】
[実施例４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−７８℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を３時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１６％、対応選択性が−１９％である。
【００３９】
[実施例５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、臭化銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して１０時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７０％、対応選択性が２９％である。
【００４０】
[実施例６]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が７４％である。
【００４１】
[実施例７]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、トリフルオロメタンスルホン酸銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８７％、対応選択性が６３％である。
【００４２】
[実施例８]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（ＩＩ）（ａｃａｃ）2（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９６％、対応選択性が６４％である。
【００４３】
[実施例９]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位のヘキサフルオロリン酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が７４％である。
【００４４】
[実施例１０]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（Ｉ）ＴＣ（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９２％、対応選択性が６２％である。
【００４５】
[実施例１１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、Ｃｕ（ＩＩ）（Ｍｅ3ＣＣＯ2）2（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が６８％である。
【００４６】
[実施例１２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥エチルエーテルを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥エチルエーテルに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９０％、対応選択性が６９％である。
【００４７】
[実施例１３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥ジクロロメタンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥ジクロロメタンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７１％、対応選択性が５．５％である。
【００４８】
[実施例１４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥ベンゾトリフルオリドを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥ベンゾトリフルオリドに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９２％、対応選択性が２５％である。
【００４９】
[実施例１５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が２０％、対応選択性が６７％である。
【００５０】
[実施例１６]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ１（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が４８％、対応選択性が−３９％である。
【００５１】
[実施例１７]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ２（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９０％、対応選択性が−６０％である。
【００５２】
[実施例１８]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１００％、対応選択性が７４％である。
【００５３】
[実施例１９]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ４（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６７％、対応選択性が−５４％である。
【００５４】
[実施例２０]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ５（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が１８％、対応選択性が２％である。
【００５５】
[実施例２１]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ６（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５７％、対応選択性が３２％である。
【００５６】
[実施例２２]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ７（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５５％、対応選択性が３０％である。
【００５７】
[実施例２３]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ８（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が４５％、対応選択性が６％である。
【００５８】
[実施例２４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ９（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５２％、対応選択性が２９％である。
【００５９】
[実施例２５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ１０（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６２％、対応選択性が４８％である。
【００６０】
[実施例２６]
触媒生成物３ｂ（Ｒ2＝Ｅｔ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸エチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が５０％、対応選択性が４６％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２９−７．２６（ｍ， ２Ｈ）， ７．２１−７．１７（ｍ，３Ｈ）， ４．２３（ｑ， ２Ｈ）， ３．１９−３．１４（ｍ， ２Ｈ）， ３．１５−３．０９（ｍ， １Ｈ）， １．７１−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， １．３０（ｓ， ３Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．８２， １６１．２８， １４３．７０， １２８．６７， １２７．８２， １２６．７５， ６２．５７， ４６．０９， ４２．５９， ２９．４９， １４．１５， １２．１２．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５８．
【００６１】
[実施例２７]
触媒生成物３ｃ（Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸ベンジルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が８４％、対応選択性が−７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．３６（ｓ， ５Ｈ）， ７．２８−７．２５（ｍ，２Ｈ）， ７．２−７．１４（ｍ， ３Ｈ）， ５．２０（ｓ， ２Ｈ）， ３．１９−３．１３（ｍ， ２Ｈ）， ３．１４−３．０４（ｍ， １Ｈ）， １．７２−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４１， １４３．６１， １２８．９７， １２８．８９， １２８．８４， １２８．６９， １２７．８０， １２６．７８， ６８．０８， ４６．２６， ４２．６０， ２９．４９， １２．１２．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ19Ｈ20Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２９５．１４１２， Ｆｏｕｎｄ： ２９５．１３５０．
【００６２】
[実施例２８]
（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が５９％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２６−７．０４（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１９−３．１１（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０４ （ｍ， １Ｈ）， ２．３０（ｓ， ３Ｈ）， １．７０−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４７， １６１．６４， １４０．５５， １３６．２５， １２９．３７， １２７．６５， ５３．０７， ４６．２６， ４２．１３， ２９．５１， ２１．２２， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５８．
（２）触媒生成物３ｄ’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝３−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−３−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が９９％、対応選択性が６０％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１９−７．１５（ｔ， １Ｈ）， ７．０１−６．９６（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１９−３．１２（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０２ （ｍ， １Ｈ）， ２．３２（ｓ， ３Ｈ）， １．７１−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４２， １６１．６４， １４３．６１， １３８．１９， １２８．６１， １２８．５５， １２７．５２， １２４．７６， ５３．０７， ４６．１８， ４２．４４， ２９．４６， ２１．６８， １２．１７．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１５４．
（３）触媒生成物３ｄ’’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝２−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−２−メチルフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｄ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が４９％、対応選択性が１８％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１７−７．０８（ｍ， ４Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．４４（ｍ， １Ｈ）， ３．２４−３．０６（ｍ， ２Ｈ）， ２．３７（ｓ， ３Ｈ）， １．７１−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．５１， １６１．５９， １４２．０２， １３６．５３， １３０．５９， １２６．４５， １２６．３３， １２５．７８， ５３．０９， ４５．９２， ３６．８２， ２９．５２， ２０．０２， １１．９３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２５７．２９０９， Ｆｏｕｎｄ： ２５７．１１４９．
【００６３】
[実施例２９]
触媒生成物３ｉ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＯＭｅＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−メトキシフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７８％、対応選択性が６１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１０−７．０６（ｍ， ２Ｈ）， ６．８４−６．８（ｍ， ２Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．７７（ｓ， ３Ｈ）， ３．１６−３．０７（ｍ， ２Ｈ）， ３．０８−３．０２（ｍ， １Ｈ）， １．６９−１．５４（ｍ， ２Ｈ）， ０．７８（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．５１， １６１．６４， １５８．３９， １３５．６１， １２８．７１， １２８．６８， １１４．０４， ５５．４１， ５３．０８， ５３．０７， ４６．３７， ４１．７９， ２９．６４， １２．１３．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ14Ｈ18Ｏ4 ［Ｍ−Ｈ］+ ２４９．１２０５， Ｆｏｕｎｄ： ２４９．１１２４．
【００６４】
[実施例３０]
（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−ブロモフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９９％、対応選択性が８１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．４１（ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．０６−７．０４（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．７９（ｓ， ３Ｈ）， ３．１７−３．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．１１−３．０５ （ｍ， １Ｈ）， １．６８−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７７（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
（２）触媒生成物３ｅ’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＣｌＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−４−クロロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が８８％、対応選択性が７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．２５（ｓ， ２Ｈ）， ７．１１−７．０６（ｍ， ２Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．１７−３．１０（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０３ （ｍ， １Ｈ）， １．７８−１．５８（ｍ， ２Ｈ）， ０．７７（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＣｌＯ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２５３．０７１０， Ｆｏｕｎｄ： ２５３．０６４８．
（３）触媒生成物３ｅ’’（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＦＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
基質をγ−４−フルオロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステルに代える以外は、上記（１）触媒生成物３ｅ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＢｒＰｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製と同様の方式で調製を行う。収率が９７％、対応選択性が７１％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．１４（ｄ， Ｊ＝８．８Ｈｚ， ２Ｈ）， ６．９７−６．９３（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．７７（ｓ， ３Ｈ）， ３．１６−３．０９（ｍ， ２Ｈ）， ３．１０−３．０５ （ｍ， １Ｈ）， １．６８−１．５７（ｍ， ２Ｈ）， ０．７６（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．９３， １６１．４７， １４２．６８， １３１．７９， １３１．７６， １２９．５８， １２０．４９， ５３．１８， ４５．９２， ４１．９１， ２９．３７， １２．０５．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＦＯ3 ［Ｍ−Ｎａ］+ ２６１．１００５， Ｆｏｕｎｄ： ２６１．０９０５．
【００６５】
[実施例３１]
触媒生成物３ｆ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝４−ＮＯ2Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−４−ニトロフェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が９６％、対応選択性が８５％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ８．１５−８．１３（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ７．３６−７．３４（ｄ， Ｊ＝８．４Ｈｚ， ２Ｈ）， ３．８１（ｓ， ３Ｈ）， ３．２５−３．２０（ｍ， ２Ｈ）， ３．２０−３．１０ （ｍ， １Ｈ）， １．７９−１．７０（ｍ， ２Ｈ）， ０．７９（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９２．３３， １６１．２７， １５１．６２， １３４．８７， １２８．７３， １２８．３０， １２７．４７， １２４．１７， １２４．００， ５３．３１， ４５．５４， ４２．１２， ２９．２９， １２．０１．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ13Ｈ15ＮＯ5 ［Ｍ−Ｈ］+ ２６４．０９５０， Ｆｏｕｎｄ： ２６４．０８８０．
【００６６】
[実施例３２]
触媒生成物３ｇ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝２−Ｎａｐｈｔｈｙｌ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−２−ナフチルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が７２％、対応選択性が５７％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ ７．８１−７．７８（ｍ， ３Ｈ）， ７．６３（ｓ， １Ｈ）， ７．４８−７．４１（ｍ， ２Ｈ）， ７．３５−７．３３（ｄｄ， Ｊ１＝１．２Ｈｚ， Ｊ２＝２Ｈｚ， １Ｈ）， ３．７５（ｓ， ３Ｈ）， ３．３５−３．２６（ｍ， ２Ｈ）， ３．２５−３．１６ （ｍ， １Ｈ）， １．８２−１．７２（ｍ， ２Ｈ）， ０．８２（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．２９， １４１．０４， １３３．６５， １３２．６２， １２８．４６， １２７．８６， １２７．８１， １２６．６１， １２６．２４， １２５．９１， １２５．７０， ５３．１０， ４６．１４， ４２．６４， ２９．３８， １２．２１．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ17Ｈ18Ｏ3 ［Ｍ−Ｈ］+ ２６９．１２５６， Ｆｏｕｎｄ： ２６９．１１５８．
【００６７】
[実施例３３]
触媒生成物３ｈ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｆｕｒａｎ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、テトラアセトニトリル配位の過塩素酸第一銅（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フランβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を−２０℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を２時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物が得られ、収率が６１％、対応選択性が６％である。
1Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）：δ７．３６−７．３２（ｍ， １Ｈ）， ６．２９（ｍ， １Ｈ）， ６．０２（ｍ， １Ｈ）， ３．７８（ｓ， ３Ｈ）， ３．３５−３．３２（ｍ， ２Ｈ）， ３．３２−３．３０ （ｍ， １Ｈ）， １．７１−１．６５（ｍ， ２Ｈ）， ０．９０（ｓ， ３Ｈ）．
13Ｃ ＮＭＲ （１００ ＭＨｚ， ＣＤＣｌ3）： δ １９３．４８， １６３．２１， １４０．４３， １３９．２１， １２０．４５， ５４．６７， ４５．２２， ４３．１６， ２８．１３， ２０．５８， １２．２０．
ＨＲＭＳ （ＥＩ） ｃａｌｃｄ． ｆｏｒ Ｃ11Ｈ14Ｏ4 ［Ｍ−Ｈ］+ ２０９．０８９２， Ｆｏｕｎｄ： ２０９．０７５３．
【００６８】
[実施例３４]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を１．５時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が７７％、対応選択性が４８％である。
【００６９】
[実施例３５]
触媒生成物３ａ（Ｒ2＝Ｍｅ、Ｒ1＝Ｐｈ、Ｒ3＝Ｅｔ）の調製
５ｍＬフラスコに、酢酸銅一水和物（０．００５ｍｍｏｌ）と配位子Ｌ３（０．０１ｍｍｏｌ）を加え、Ｎ2で保護し、１ｍＬの乾燥トルエンを加え、室温において攪拌して３時間配位し、基質γ−フェニルβ，γ−不飽和α−ケト酸メチルエステル（０．２５ｍｍｏｌ）を1ｍＬの乾燥トルエンに溶解させ反応系に滴下して５分間攪拌する。ジエチル亜鉛（０．３７５ｍｍｏｌ、１．０Ｍのｎ−ヘキサン溶液）をゆっくり滴下する。系を２６℃において反応させ、ＴＬＣで反応を監視し、反応を８時間で終了し、塩化アンモニウムの飽和溶液を加えて急冷し、酢酸エチル（５ｍｌ×３）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して濃縮する。酢酸エチル／石油エーテル＝１：１０のカラムクロマトグラフィーで生成物３ａが得られ、収率が９１％、対応選択性が５７％である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造式（１）で表される、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【化１】
（ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。）
【請求項２】
前記構造式（１）において、
Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種である請求項１に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【請求項３】
キラルホスホラミダイト配位子と銅塩とから触媒を生成させ、該触媒の存在下で、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を生成させることを特徴とするγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【化２】
（上記構造式（１）と構造式（２）において、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。）
【請求項４】
前記構造式（１）と構造式（２）において、
Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることを特徴とする請求項３に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項５】
前記キラルホスホラミダイト配位子は、下記構造式Ｌ１〜Ｌ１０で表される配位子のうちから選ばれるいずれか１種であることを特徴とする請求項３または４に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【化３】
【請求項６】
前記銅塩が１価の銅塩または２価の銅塩であることを特徴とする請求項３ないし５のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項７】
トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ベンゾトリフルオリドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種の有機溶剤において行われることを特徴とする請求項３ないし６のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項８】
前記ジアルキル亜鉛の用量は、前記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物の１．０〜３．０倍の当量であることを特徴とする請求項３ないし７のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項９】
前記銅塩、前記キラルホスホラミダイト配位子、前記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物のモル比が、銅塩：キラルホスホラミダイト配位子：構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物＝１：２〜１０：５０〜１００であることを特徴とする請求項３ないし８のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項１０】
反応温度が−７８℃〜２６℃であり、反応時間が１．５時間〜８時間であることを特徴とする請求項３ないし９のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項１】
下記構造式（１）で表される、γ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【化１】
（ここで、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。）
【請求項２】
前記構造式（１）において、
Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種である請求項１に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物。
【請求項３】
キラルホスホラミダイト配位子と銅塩とから触媒を生成させ、該触媒の存在下で、ジアルキル亜鉛と下記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物とが不斉１，４−共役付加反応を起こすようにすることで、下記構造式（１）で表されるγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物を生成させることを特徴とするγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【化２】
（上記構造式（１）と構造式（２）において、Ｒ1は、シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、ハロアリール基およびヘテロアリール基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ2は、炭素原子数が１〜６である直鎖または分岐鎖のアルキル基、アリール基およびアラルキル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、Ｒ3はアルキル基である。＊は、キラル中心である。）
【請求項４】
前記構造式（１）と構造式（２）において、
Ｒ1は、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、ハロフェニル基、ニトロフェニル基、フラン基およびナフチル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ2は、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基およびベンジル基のうちから選ばれるいずれか１種であり、
Ｒ3は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基のうちから選ばれるいずれか１種であることを特徴とする請求項３に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項５】
前記キラルホスホラミダイト配位子は、下記構造式Ｌ１〜Ｌ１０で表される配位子のうちから選ばれるいずれか１種であることを特徴とする請求項３または４に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【化３】
【請求項６】
前記銅塩が１価の銅塩または２価の銅塩であることを特徴とする請求項３ないし５のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項７】
トルエン、キシレン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、ベンゾトリフルオリドおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのうちから選ばれるいずれか１種の有機溶剤において行われることを特徴とする請求項３ないし６のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項８】
前記ジアルキル亜鉛の用量は、前記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物の１．０〜３．０倍の当量であることを特徴とする請求項３ないし７のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項９】
前記銅塩、前記キラルホスホラミダイト配位子、前記構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物のモル比が、銅塩：キラルホスホラミダイト配位子：構造式（２）で表されるβ，γ−不飽和α−ケト酸エステル化合物＝１：２〜１０：５０〜１００であることを特徴とする請求項３ないし８のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【請求項１０】
反応温度が−７８℃〜２６℃であり、反応時間が１．５時間〜８時間であることを特徴とする請求項３ないし９のいずれか一項に記載のγ位のキラル中心を有するα−ケト酸エステル化合物の合成方法。
【公開番号】特開２０１２−１８４２２８（Ｐ２０１２−１８４２２８Ａ）
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−４０３２７（Ｐ２０１２−４０３２７）
【出願日】平成２４年２月２７日（２０１２．２．２７）
【出願人】（５０７１９０９９４）上海交通大学 (16)
【出願人】（０００２３０５９３）日本化学工業株式会社 (296)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年２月２７日（２０１２．２．２７）
【出願人】（５０７１９０９９４）上海交通大学 (16)
【出願人】（０００２３０５９３）日本化学工業株式会社 (296)
【Ｆターム（参考）】
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