めっき装置、及びめっき方法
【課題】構成がコンパクトで、かつ極微小の被めっき物に対しても所望のめっき処理を施すことができ、めっき液中の浮遊物や不良品が良品中に混在するのを極力抑制できる回転式のめっき装置とめっき方法を実現する。
【解決手段】めっき処理室４が、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極１０が設けられた回転体１１と、該回転体１１の回転中心に配された筒状部材３と、回転体１１の内部に配された陽極１３とを備えている。回転体１１は、回転体本体１５と該回転体本体１５を支持する底板１６とを有し、陰極１０は回転体本体１５と底板１６との間に介在されている。底板１６を駆動系５に接続してめっき処理室４を回転駆動させる一方、めっき液２を筒状部材３に対してオーバーフローさせて該めっき液を筒状部材３に流入させ、流入しためっき液２を開口部８からめっき処理室４に還流し、めっき液２を循環させる。
【解決手段】めっき処理室４が、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極１０が設けられた回転体１１と、該回転体１１の回転中心に配された筒状部材３と、回転体１１の内部に配された陽極１３とを備えている。回転体１１は、回転体本体１５と該回転体本体１５を支持する底板１６とを有し、陰極１０は回転体本体１５と底板１６との間に介在されている。底板１６を駆動系５に接続してめっき処理室４を回転駆動させる一方、めっき液２を筒状部材３に対してオーバーフローさせて該めっき液を筒状部材３に流入させ、流入しためっき液２を開口部８からめっき処理室４に還流し、めっき液２を循環させる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき装置、及びめっき方法に関し、より詳しくは被めっき物が極微小な場合のめっき皮膜形成に適しためっき装置、及び該めっき装置を使用しためっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
積層セラミックコンデンサのようなチップ型電子部品では、通常、耐熱性やはんだ濡れ性等を確保すべく、部品素体の表面に形成された電極の表面にめっき皮膜が形成されている。
【０００３】
このようなめっき皮膜形成用のめっき装置としては、特許文献１に示すように、被めっき物及びめっき液を回転体の内部に収容し、回転体の回転によって生じる遠心力を利用して被めっき物にめっき処理を施すようにしためっき装置が知られている。
【０００４】
すなわち、この種のめっき装置は、図４に示すように、垂直な駆動軸１０１の上端部に固定された水平な円形の底板１０２と、外周に取付フランジ１０３が形成され中央に開口部１０４を有し上記底板１０２との間にめっき処理室１０５が形成されたカバー１０６と、取付フランジ１０３の下部に取り付けられた接触リング（陰極）１０７と、該接触リング１０７と底板１０２との間に挟持されてめっき液のみを通過させる多孔体窓１０８と、めっき液を開口部１０４からめっき処理室１０５に供給する供給管１１０と、多孔体窓１０８から飛散しためっき液を受ける容器１０９と、供給管１１０中に介装されたポンプ１１１と、上記開口部１０４から挿入されてめっき液に接触する電極（陽極）１１２とを備えている。
【０００５】
この特許文献１では、多孔体窓１０８が、めっき液は通過するが、被めっき物は透過しないように多数の小孔からなる多孔質材料で形成されている。そして、多孔体窓１０８を通過しためっき液は容器１０９に集められ、ポンプ１１１により供給管１１０からめっき処理室１０５内に循環されるように構成されている。
【０００６】
また、この特許文献１では、被めっき物をめっき処理室１０５内でめっき液に浸漬させた状態で、接触リング１０７及び電極１１２間に通電し、駆動軸１０１の回転と停止を繰り返すことにより、遠心力を利用して被めっき物の表面にめっき皮膜を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３１２６８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１では、多孔体窓１０８でめっき製品とめっき液とを分離しているものの、該多孔体窓１０８が有する小孔を小さくするには限界がある。このため被めっき物の外形寸法が極端に小さくなると、該被めっき物が多孔体窓１０８の小孔に引っ掛かってしまうおそれがある。特に、積層セラミックコンデンサのように小型化の進展が著しいチップ型電子部品の場合、被めっき物の外形寸法が極めて小さくなってきている。このような超小型のチップ型電子部品の場合、めっき処理中に被めっき物が多孔体窓１０８の小孔に引っ掛かると、所望のめっき処理を行なうことができなくなる。そしてその結果、めっき不良品が良品中に混在することになり、製品歩留まりの低下を招くおそれがある。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって、構成がコンパクトで、かつ極微小の被めっき物に対しても所望のめっき処理を施すことができ、めっき液中の浮遊物や不良品が良品中に混在するのを極力抑制できる回転式のめっき装置、及びそのめっき装置を使用しためっき方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明に係るめっき装置は、めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき装置であって、前記めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備え、前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、前記めっき液を前記筒状部材に流入させるオーバーフロー手段と、前記筒状部材に流入した前記めっき液を前記開口部から前記めっき処理室に還流し、前記めっき液を循環させる循環手段とを備えていることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明のめっき装置は、前記回転体は、回転体本体と該回転体本体を支持する底板とを有し、前記第１の電極は前記回転体本体と前記底板との間に介在されているのが好ましい。
【００１２】
さらに、本発明のめっき装置は、前記底板が駆動系に接続され、前記めっき処理室は、前記底板を介して回転駆動されるのが好ましい。
【００１３】
また、本発明のめっき装置は、前記循環手段は、前記筒状部材に流入した前記めっき液を受容する容器と、該容器に接続された循環パイプと、該循環パイプに介装された循環ポンプとを有しているのが好ましい。
【００１４】
また、本発明のめっき装置は、前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記第１の電極及び前記第２の電極間に通電する一方、前記回転体が回転と停止とを繰り返し、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成するのが好ましい。
【００１５】
また、本発明に係るめっき方法は、めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき方法において、上方に開口部を有する回転体の外周部に第１の電極を設け、前記回転体の回転中心に筒状部材を配すると共に、前記回転体の内部に第２の電極を配し、前記第１の電極及び第２の電極間に通電し、前記回転体が回転と停止を繰り返しながら前記被めっき物にめっき処理を施す一方、前記めっき処理室に供給された前記めっき液が前記筒状部材に流入するように前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、該オーバーフローさせためっき液を前記回転体の前記開口部に還流させ、前記めっき液を循環させることを特徴としている。
【００１６】
また、本発明のめっき方法は、前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のめっき装置及びめっき方法によれば、めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備えており、めっき液のみを通過させるような多孔質の小孔は設けられていないので、被めっき物が極微小であっても、該被めっき物が回転体の内壁等に引っ掛かることもなく、遠心力を利用した所望のめっき処理を行なうことができ、めっき不良の発生を抑制することができる。
【００１８】
また、めっき液を筒状部材に対しオーバーフローさせて循環させているので、めっき液表面に浮遊しているめっき不良品やゴミ、滓類等の浮遊物を回収することができ、これによりこれら浮遊物が製品中に混入するのを防止することができる。
【００１９】
また、めっき処理によりめっき液中の金属イオンが徐々に減少した場合は、めっき液の循環流量を大きくすることにより、所望のめっき処理を確保することができる。
【００２０】
また、上述したように回転体の外周部には、めっき液のみを通過させるような多孔質の小孔が設けられていないので、めっき液が回転体の外部に飛散することがなく、回転体を覆う大きな容器は不要となる。しかも、筒状部材を介してめっき液を循環させていることから、装置のコンパクト化が可能となる。
【００２１】
また、めっき処理は、通常、めっき液を一定温度に加熱した状態で行なわれるが、上述したようにめっき液が回転体の外部に飛散しないことから、めっき温度の温度変化が生じ難い。したがって、めっき液の加熱が必要な場合であっても温度変化に起因したエネルギー費の増加を極力抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係るめっき装置の一実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】上記めっき装置に供される被めっき物の一例を示す正面図である。
【図３】本発明に係るめっき装置の他の実施の形態を示す概略構成図である。
【図４】従来のめっき装置の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
次に、本発明の実施の形態を図面に基づき詳説する。
【００２４】
図１は、本発明に係るめっき装置の一実施の形態を示す概略構成図である。
【００２５】
すなわち、このめっき装置は、被めっき物１及びめっき液２を収容し筒状部材３が回転中心に配されためっき処理室４と、該めっき処理室４を回転駆動させる駆動系５と、めっき液２を筒状部材３に対してオーバーフローさせ、めっき液２を筒状部材３に流入させるオーバーフロー手段６と、前記筒状部材３に流入しためっき液２をめっき処理室４に還流し、めっき液２を循環させる循環手段７とを備えている。
【００２６】
めっき処理室４は、具体的には、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極（第１の電極）１０が設けられた回転体１１と、貫通孔１２が形成された回転中心に位置する上記筒状部材３と、回転体１１の内部に配されて筒状部材３に遊嵌された陽極（第２の電極）１３とを備えている。
【００２７】
さらに、回転体１１は、本実施の形態では、外枠が傾斜状に形成されると共に下端外周に鍔部１４が形成された回転体本体１５と、回転体本体１５を支持すると共に筒状部材３に嵌合されて該筒状部材３と一体的に回転する円板形状の底板１６とを有し、前記陰極１０は、回転体本体１５の鍔部１４と底板１６の外周部との間に介在されている。このように本発明では、回転体１１は、回転体本体１５と底板１６との間に陰極１０が介在されてなり、したがって、回転体１１の外周部には、多孔質材料等からなる小孔は存在しない。
【００２８】
また、駆動系５は、底板１６に固着された第１のプーリ１７と、正方向（時計方向）及び逆方向（反時計方向）に回転可能な駆動モータ１８と、該駆動モータ１８の回転軸１８ａに固着された第２のプーリ１９と、第１のプーリ１７と第２のプーリ１９との間に懸架された伝導ベルト２０とを備えている。そして第１のプーリ１７に固着された底板１６は、駆動モータ１８を駆動させることによって回転し、これにより回転体１１が回転するように構成されている。
【００２９】
また、オーバーフロー手段６は、めっき処理室４に供給されためっき液２が、図中、破線で示すように、筒状部材３に対してオーバーフローするようにめっき処理室４内での筒状部材３の高さ等が設定されている。すなわち、めっき処理室４に供給されためっき液２が充満してゆき、めっき液２の液位が筒状部材３の上端を越えると、めっき液２は筒状部材３に対しオーバーフローして該筒状部材３に流入するように構成されている。
【００３０】
また、循環手段７は、めっき液２を適宜補充すると共に筒状部材３に流入しためっき液を受容する容器２１と、基端が前記容器２１に接続されると共に先端が回転体本体１５の開口部８に配された循環パイプ２２と、該循環パイプ２２に介装された循環ポンプ２３とを備えている。
【００３１】
図２は、本めっき装置に供される被めっき物の一例を示す正面図である。
【００３２】
この被めっき物１は、多数の内部電極が並列状に埋設されたセラミック材料からなる部品素体２４と、該部品素体２４の両端部に形成されたＣｕ、Ａｇ等の導電性材料からなる外部電極２５ａ、２５ｂとを有し、外径寸法が、例えば、長さ：０．６ｍｍ、幅：０．３ｍｍ、厚み：０．３ｍｍの超小型のチップ型部品とされている。
【００３３】
上記めっき装置では、被めっき物１に対し、以下のようにめっき処理される。
【００３４】
まず、めっき処理室４に多数の被めっき物１を投入すると共に、ポンプ２３を駆動し、容器２１に貯留されたＮｉめっき液等のめっき液２を循環パイプ２２を介して開口部８から回転体１１の内部に供給する。尚、上述したようにめっき液２が回転体１１の内部に充満してゆき、めっき液２の液位が筒状部材３の上端を越えると、めっき液２は筒状部材３をオーバーフローして該筒状部材３に流入する。そして、筒状部材３に流入しためっき液２は、循環手段７を介して回転体１１の内部に還流される。
【００３５】
次に、陽極１３と陰極１０との間に通電すると共に、モータ１８を正方向に回転駆動させ、回転体１１を所定回転数（例えば、２００rpm）で所定時間（例えば、１０秒間）駆動させる。これにより被めっき物１は回転体１１の遠心力によって陰極１０に押し付けられ、陽極１３に面した被めっき物１の外部電極（例えば、外部電極２５ａ）上にめっき層が形成される。
【００３６】
次いで、モータ１８の回転駆動を所定時間（例えば、０．５秒間）停止させる。すると、被めっき物１は重力の作用とめっき液２の慣性による流れに引きずられて底板１６上に流れ落ち、被めっき物１はめっき液２中で混ざり合う。
【００３７】
次に、モータ１８を逆方向に回転駆動させ、回転体１１を所定回転数（例えば、２００rpm）で所定時間（例えば、１０秒間）駆動させる。これにより被めっき物１は、再び回転体１１の遠心力によって陰極１０に押し付けられ、陽極１３に面した被めっき物１の別の外部電極（例えば、外部電極２５ｂ）上にめっき層が形成される。
【００３８】
このように回転体１１について、正回転→停止→逆回転→停止…の動作を繰り返すことにより、回転体１１内に存在する被めっき物１の外部電極２５ａ、２５ｂ上には所望のめっき皮膜が形成される。
【００３９】
そして、本実施の形態では、めっき処理室４が、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極１０が設けられた回転体１１と、該回転体１１の回転中心に配された筒状部材３と、前記回転体１１の内部に配された陽極１３とを備えており、めっき液２のみを通過させるような多孔質の小孔は設けられていないので、被めっき物１が極微小であっても、該被めっき物１が回転体１１の内壁等に引っ掛かることもなく、遠心力を利用した所望のめっき処理を行なうことができ、めっき不良の発生を抑制することができる。
【００４０】
また、めっき液２を筒状部材３に対しオーバーフローさせて循環させているので、めっき液２の表面に浮遊しているめっき不良品やゴミ、滓類等の浮遊物を回収することができ、これら浮遊物が製品中に混入するのを防止することができる。
【００４１】
また、めっき処理によりめっき液２中の金属イオン（例えば、Ｎｉイオン）が徐々に減少した場合は、めっき液２の循環流量を大きくすることにより、所望のめっき処理を確保することができる。
【００４２】
また、上述したように回転体１１の外周には、めっき液２のみを通過させるような多孔質の小孔が設けられていないので、めっき液２が回転体１１の外部に飛散することもなく、回転体１１を覆う大きな容器は不要となる。しかも、筒状部材３を介してめっき液２を循環させていることから、装置のコンパクト化が可能となる。
【００４３】
また、めっき処理は、通常、めっき液２を一定温度（例えば、６０℃）に加熱した状態で行なわれるが、上述したようにめっき液２が回転体１１の外部に飛散しないことから、めっき液の温度変化が生じ難い。したがって、めっき液の加熱が必要な場合であっても温度変化に起因したエネルギー費の増加を極力抑制することが可能となる。
【００４４】
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、駆動系５についても、上記実施の形態に代えて、図３に示すように、第１のギヤ２６及び第２のギヤ２７を設け、両者を噛合させてモータ１８の動力を底板１６に伝達するようにめっき装置を構成してもよい。
【００４５】
また、回転体本体１５の形状についても、上記実施の形態は、めっき処理後のめっき製品の回収を容易にするために傾斜状に形成しているが、これに限定されるものでないのはいうまでもなく、例えば、回転体本体１５を円筒形状とし、内部にガイド部材を設けるようにしてもよい。
【００４６】
また、上記実施の形態では、被めっき物として積層セラミックコンデンサ用の微小部品を例示して説明したが、圧電部品、コイル部品等、他のチップ型電子部品にも同様に適用できるのはいうまでもない。
【００４７】
また、本発明は、外形寸法に制約がなくなることから、被めっき物としてはチップ型部品が特に有用であるが、多孔質材料を使用した場合に小孔が目詰まりしやすい微粒子のめっき処理にも有用である。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
被めっき物が微小な場合であっても、不良品が生じるのを抑制できるめっき装置を実現する。
【符号の説明】
【００４９】
１ 被めっき物
２ めっき液
３ 筒状部材
４ めっき処理室
５ 駆動系
６ オーバーフロー手段
７ 循環手段
８ 開口部
１０ 陰極（第１の電極）
１１ 回転体
１３ 陽極（第２の電極）
１５ 回転体本体
１６ 底板
２１ 容器
２２ 循環パイプ
２３ 循環ポンプ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき装置、及びめっき方法に関し、より詳しくは被めっき物が極微小な場合のめっき皮膜形成に適しためっき装置、及び該めっき装置を使用しためっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
積層セラミックコンデンサのようなチップ型電子部品では、通常、耐熱性やはんだ濡れ性等を確保すべく、部品素体の表面に形成された電極の表面にめっき皮膜が形成されている。
【０００３】
このようなめっき皮膜形成用のめっき装置としては、特許文献１に示すように、被めっき物及びめっき液を回転体の内部に収容し、回転体の回転によって生じる遠心力を利用して被めっき物にめっき処理を施すようにしためっき装置が知られている。
【０００４】
すなわち、この種のめっき装置は、図４に示すように、垂直な駆動軸１０１の上端部に固定された水平な円形の底板１０２と、外周に取付フランジ１０３が形成され中央に開口部１０４を有し上記底板１０２との間にめっき処理室１０５が形成されたカバー１０６と、取付フランジ１０３の下部に取り付けられた接触リング（陰極）１０７と、該接触リング１０７と底板１０２との間に挟持されてめっき液のみを通過させる多孔体窓１０８と、めっき液を開口部１０４からめっき処理室１０５に供給する供給管１１０と、多孔体窓１０８から飛散しためっき液を受ける容器１０９と、供給管１１０中に介装されたポンプ１１１と、上記開口部１０４から挿入されてめっき液に接触する電極（陽極）１１２とを備えている。
【０００５】
この特許文献１では、多孔体窓１０８が、めっき液は通過するが、被めっき物は透過しないように多数の小孔からなる多孔質材料で形成されている。そして、多孔体窓１０８を通過しためっき液は容器１０９に集められ、ポンプ１１１により供給管１１０からめっき処理室１０５内に循環されるように構成されている。
【０００６】
また、この特許文献１では、被めっき物をめっき処理室１０５内でめっき液に浸漬させた状態で、接触リング１０７及び電極１１２間に通電し、駆動軸１０１の回転と停止を繰り返すことにより、遠心力を利用して被めっき物の表面にめっき皮膜を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３１２６８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１では、多孔体窓１０８でめっき製品とめっき液とを分離しているものの、該多孔体窓１０８が有する小孔を小さくするには限界がある。このため被めっき物の外形寸法が極端に小さくなると、該被めっき物が多孔体窓１０８の小孔に引っ掛かってしまうおそれがある。特に、積層セラミックコンデンサのように小型化の進展が著しいチップ型電子部品の場合、被めっき物の外形寸法が極めて小さくなってきている。このような超小型のチップ型電子部品の場合、めっき処理中に被めっき物が多孔体窓１０８の小孔に引っ掛かると、所望のめっき処理を行なうことができなくなる。そしてその結果、めっき不良品が良品中に混在することになり、製品歩留まりの低下を招くおそれがある。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって、構成がコンパクトで、かつ極微小の被めっき物に対しても所望のめっき処理を施すことができ、めっき液中の浮遊物や不良品が良品中に混在するのを極力抑制できる回転式のめっき装置、及びそのめっき装置を使用しためっき方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明に係るめっき装置は、めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき装置であって、前記めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備え、前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、前記めっき液を前記筒状部材に流入させるオーバーフロー手段と、前記筒状部材に流入した前記めっき液を前記開口部から前記めっき処理室に還流し、前記めっき液を循環させる循環手段とを備えていることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明のめっき装置は、前記回転体は、回転体本体と該回転体本体を支持する底板とを有し、前記第１の電極は前記回転体本体と前記底板との間に介在されているのが好ましい。
【００１２】
さらに、本発明のめっき装置は、前記底板が駆動系に接続され、前記めっき処理室は、前記底板を介して回転駆動されるのが好ましい。
【００１３】
また、本発明のめっき装置は、前記循環手段は、前記筒状部材に流入した前記めっき液を受容する容器と、該容器に接続された循環パイプと、該循環パイプに介装された循環ポンプとを有しているのが好ましい。
【００１４】
また、本発明のめっき装置は、前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記第１の電極及び前記第２の電極間に通電する一方、前記回転体が回転と停止とを繰り返し、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成するのが好ましい。
【００１５】
また、本発明に係るめっき方法は、めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき方法において、上方に開口部を有する回転体の外周部に第１の電極を設け、前記回転体の回転中心に筒状部材を配すると共に、前記回転体の内部に第２の電極を配し、前記第１の電極及び第２の電極間に通電し、前記回転体が回転と停止を繰り返しながら前記被めっき物にめっき処理を施す一方、前記めっき処理室に供給された前記めっき液が前記筒状部材に流入するように前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、該オーバーフローさせためっき液を前記回転体の前記開口部に還流させ、前記めっき液を循環させることを特徴としている。
【００１６】
また、本発明のめっき方法は、前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のめっき装置及びめっき方法によれば、めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備えており、めっき液のみを通過させるような多孔質の小孔は設けられていないので、被めっき物が極微小であっても、該被めっき物が回転体の内壁等に引っ掛かることもなく、遠心力を利用した所望のめっき処理を行なうことができ、めっき不良の発生を抑制することができる。
【００１８】
また、めっき液を筒状部材に対しオーバーフローさせて循環させているので、めっき液表面に浮遊しているめっき不良品やゴミ、滓類等の浮遊物を回収することができ、これによりこれら浮遊物が製品中に混入するのを防止することができる。
【００１９】
また、めっき処理によりめっき液中の金属イオンが徐々に減少した場合は、めっき液の循環流量を大きくすることにより、所望のめっき処理を確保することができる。
【００２０】
また、上述したように回転体の外周部には、めっき液のみを通過させるような多孔質の小孔が設けられていないので、めっき液が回転体の外部に飛散することがなく、回転体を覆う大きな容器は不要となる。しかも、筒状部材を介してめっき液を循環させていることから、装置のコンパクト化が可能となる。
【００２１】
また、めっき処理は、通常、めっき液を一定温度に加熱した状態で行なわれるが、上述したようにめっき液が回転体の外部に飛散しないことから、めっき温度の温度変化が生じ難い。したがって、めっき液の加熱が必要な場合であっても温度変化に起因したエネルギー費の増加を極力抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明に係るめっき装置の一実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】上記めっき装置に供される被めっき物の一例を示す正面図である。
【図３】本発明に係るめっき装置の他の実施の形態を示す概略構成図である。
【図４】従来のめっき装置の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
次に、本発明の実施の形態を図面に基づき詳説する。
【００２４】
図１は、本発明に係るめっき装置の一実施の形態を示す概略構成図である。
【００２５】
すなわち、このめっき装置は、被めっき物１及びめっき液２を収容し筒状部材３が回転中心に配されためっき処理室４と、該めっき処理室４を回転駆動させる駆動系５と、めっき液２を筒状部材３に対してオーバーフローさせ、めっき液２を筒状部材３に流入させるオーバーフロー手段６と、前記筒状部材３に流入しためっき液２をめっき処理室４に還流し、めっき液２を循環させる循環手段７とを備えている。
【００２６】
めっき処理室４は、具体的には、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極（第１の電極）１０が設けられた回転体１１と、貫通孔１２が形成された回転中心に位置する上記筒状部材３と、回転体１１の内部に配されて筒状部材３に遊嵌された陽極（第２の電極）１３とを備えている。
【００２７】
さらに、回転体１１は、本実施の形態では、外枠が傾斜状に形成されると共に下端外周に鍔部１４が形成された回転体本体１５と、回転体本体１５を支持すると共に筒状部材３に嵌合されて該筒状部材３と一体的に回転する円板形状の底板１６とを有し、前記陰極１０は、回転体本体１５の鍔部１４と底板１６の外周部との間に介在されている。このように本発明では、回転体１１は、回転体本体１５と底板１６との間に陰極１０が介在されてなり、したがって、回転体１１の外周部には、多孔質材料等からなる小孔は存在しない。
【００２８】
また、駆動系５は、底板１６に固着された第１のプーリ１７と、正方向（時計方向）及び逆方向（反時計方向）に回転可能な駆動モータ１８と、該駆動モータ１８の回転軸１８ａに固着された第２のプーリ１９と、第１のプーリ１７と第２のプーリ１９との間に懸架された伝導ベルト２０とを備えている。そして第１のプーリ１７に固着された底板１６は、駆動モータ１８を駆動させることによって回転し、これにより回転体１１が回転するように構成されている。
【００２９】
また、オーバーフロー手段６は、めっき処理室４に供給されためっき液２が、図中、破線で示すように、筒状部材３に対してオーバーフローするようにめっき処理室４内での筒状部材３の高さ等が設定されている。すなわち、めっき処理室４に供給されためっき液２が充満してゆき、めっき液２の液位が筒状部材３の上端を越えると、めっき液２は筒状部材３に対しオーバーフローして該筒状部材３に流入するように構成されている。
【００３０】
また、循環手段７は、めっき液２を適宜補充すると共に筒状部材３に流入しためっき液を受容する容器２１と、基端が前記容器２１に接続されると共に先端が回転体本体１５の開口部８に配された循環パイプ２２と、該循環パイプ２２に介装された循環ポンプ２３とを備えている。
【００３１】
図２は、本めっき装置に供される被めっき物の一例を示す正面図である。
【００３２】
この被めっき物１は、多数の内部電極が並列状に埋設されたセラミック材料からなる部品素体２４と、該部品素体２４の両端部に形成されたＣｕ、Ａｇ等の導電性材料からなる外部電極２５ａ、２５ｂとを有し、外径寸法が、例えば、長さ：０．６ｍｍ、幅：０．３ｍｍ、厚み：０．３ｍｍの超小型のチップ型部品とされている。
【００３３】
上記めっき装置では、被めっき物１に対し、以下のようにめっき処理される。
【００３４】
まず、めっき処理室４に多数の被めっき物１を投入すると共に、ポンプ２３を駆動し、容器２１に貯留されたＮｉめっき液等のめっき液２を循環パイプ２２を介して開口部８から回転体１１の内部に供給する。尚、上述したようにめっき液２が回転体１１の内部に充満してゆき、めっき液２の液位が筒状部材３の上端を越えると、めっき液２は筒状部材３をオーバーフローして該筒状部材３に流入する。そして、筒状部材３に流入しためっき液２は、循環手段７を介して回転体１１の内部に還流される。
【００３５】
次に、陽極１３と陰極１０との間に通電すると共に、モータ１８を正方向に回転駆動させ、回転体１１を所定回転数（例えば、２００rpm）で所定時間（例えば、１０秒間）駆動させる。これにより被めっき物１は回転体１１の遠心力によって陰極１０に押し付けられ、陽極１３に面した被めっき物１の外部電極（例えば、外部電極２５ａ）上にめっき層が形成される。
【００３６】
次いで、モータ１８の回転駆動を所定時間（例えば、０．５秒間）停止させる。すると、被めっき物１は重力の作用とめっき液２の慣性による流れに引きずられて底板１６上に流れ落ち、被めっき物１はめっき液２中で混ざり合う。
【００３７】
次に、モータ１８を逆方向に回転駆動させ、回転体１１を所定回転数（例えば、２００rpm）で所定時間（例えば、１０秒間）駆動させる。これにより被めっき物１は、再び回転体１１の遠心力によって陰極１０に押し付けられ、陽極１３に面した被めっき物１の別の外部電極（例えば、外部電極２５ｂ）上にめっき層が形成される。
【００３８】
このように回転体１１について、正回転→停止→逆回転→停止…の動作を繰り返すことにより、回転体１１内に存在する被めっき物１の外部電極２５ａ、２５ｂ上には所望のめっき皮膜が形成される。
【００３９】
そして、本実施の形態では、めっき処理室４が、上方に開口部８を有すると共に外周部に陰極１０が設けられた回転体１１と、該回転体１１の回転中心に配された筒状部材３と、前記回転体１１の内部に配された陽極１３とを備えており、めっき液２のみを通過させるような多孔質の小孔は設けられていないので、被めっき物１が極微小であっても、該被めっき物１が回転体１１の内壁等に引っ掛かることもなく、遠心力を利用した所望のめっき処理を行なうことができ、めっき不良の発生を抑制することができる。
【００４０】
また、めっき液２を筒状部材３に対しオーバーフローさせて循環させているので、めっき液２の表面に浮遊しているめっき不良品やゴミ、滓類等の浮遊物を回収することができ、これら浮遊物が製品中に混入するのを防止することができる。
【００４１】
また、めっき処理によりめっき液２中の金属イオン（例えば、Ｎｉイオン）が徐々に減少した場合は、めっき液２の循環流量を大きくすることにより、所望のめっき処理を確保することができる。
【００４２】
また、上述したように回転体１１の外周には、めっき液２のみを通過させるような多孔質の小孔が設けられていないので、めっき液２が回転体１１の外部に飛散することもなく、回転体１１を覆う大きな容器は不要となる。しかも、筒状部材３を介してめっき液２を循環させていることから、装置のコンパクト化が可能となる。
【００４３】
また、めっき処理は、通常、めっき液２を一定温度（例えば、６０℃）に加熱した状態で行なわれるが、上述したようにめっき液２が回転体１１の外部に飛散しないことから、めっき液の温度変化が生じ難い。したがって、めっき液の加熱が必要な場合であっても温度変化に起因したエネルギー費の増加を極力抑制することが可能となる。
【００４４】
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、駆動系５についても、上記実施の形態に代えて、図３に示すように、第１のギヤ２６及び第２のギヤ２７を設け、両者を噛合させてモータ１８の動力を底板１６に伝達するようにめっき装置を構成してもよい。
【００４５】
また、回転体本体１５の形状についても、上記実施の形態は、めっき処理後のめっき製品の回収を容易にするために傾斜状に形成しているが、これに限定されるものでないのはいうまでもなく、例えば、回転体本体１５を円筒形状とし、内部にガイド部材を設けるようにしてもよい。
【００４６】
また、上記実施の形態では、被めっき物として積層セラミックコンデンサ用の微小部品を例示して説明したが、圧電部品、コイル部品等、他のチップ型電子部品にも同様に適用できるのはいうまでもない。
【００４７】
また、本発明は、外形寸法に制約がなくなることから、被めっき物としてはチップ型部品が特に有用であるが、多孔質材料を使用した場合に小孔が目詰まりしやすい微粒子のめっき処理にも有用である。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
被めっき物が微小な場合であっても、不良品が生じるのを抑制できるめっき装置を実現する。
【符号の説明】
【００４９】
１ 被めっき物
２ めっき液
３ 筒状部材
４ めっき処理室
５ 駆動系
６ オーバーフロー手段
７ 循環手段
８ 開口部
１０ 陰極（第１の電極）
１１ 回転体
１３ 陽極（第２の電極）
１５ 回転体本体
１６ 底板
２１ 容器
２２ 循環パイプ
２３ 循環ポンプ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき装置であって、
前記めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備え、
前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、前記めっき液を前記筒状部材に流入させるオーバーフロー手段と、
前記筒状部材に流入した前記めっき液を前記開口部から前記めっき処理室に還流し、前記めっき液を循環させる循環手段とを備えていることを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
前記回転体は、回転体本体と該回転体本体を支持する底板とを有し、前記第１の電極は前記回転体本体と前記底板との間に介在されていることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項３】
前記底板が駆動系に接続され、前記めっき処理室は、前記底板を介して回転駆動されることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のめっき装置。
【請求項４】
前記循環手段は、前記筒状部材に流入した前記めっき液を受容する容器と、該容器に接続された循環パイプと、該循環パイプに介装された循環ポンプとを有していることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項５】
前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記第１の電極及び前記第２の電極間に通電する一方、前記回転体が回転と停止とを繰り返し、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項６】
めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき方法において、
上方に開口部を有する回転体の外周部に第１の電極を設け、前記回転体の回転中心に筒状部材を配すると共に、前記回転体の内部に第２の電極を配し、
前記第１の電極及び第２の電極間に通電し、前記回転体が回転と停止とを繰り返しながら前記被めっき物にめっき処理を施す一方、前記めっき処理室に供給された前記めっき液が前記筒状部材に流入するように前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、該オーバーフローさせためっき液を前記回転体の前記開口部に還流させ、前記めっき液を循環させることを特徴とするめっき方法。
【請求項７】
前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成することを特徴とする請求項６記載のめっき方法。
【請求項１】
めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき装置であって、
前記めっき処理室が、上方に開口部を有すると共に外周部に第１の電極が設けられた回転体と、該回転体の回転中心に配された筒状部材と、前記回転体の内部に配された第２の電極とを備え、
前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、前記めっき液を前記筒状部材に流入させるオーバーフロー手段と、
前記筒状部材に流入した前記めっき液を前記開口部から前記めっき処理室に還流し、前記めっき液を循環させる循環手段とを備えていることを特徴とするめっき装置。
【請求項２】
前記回転体は、回転体本体と該回転体本体を支持する底板とを有し、前記第１の電極は前記回転体本体と前記底板との間に介在されていることを特徴とする請求項１記載のめっき装置。
【請求項３】
前記底板が駆動系に接続され、前記めっき処理室は、前記底板を介して回転駆動されることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のめっき装置。
【請求項４】
前記循環手段は、前記筒状部材に流入した前記めっき液を受容する容器と、該容器に接続された循環パイプと、該循環パイプに介装された循環ポンプとを有していることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項５】
前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記第１の電極及び前記第２の電極間に通電する一方、前記回転体が回転と停止とを繰り返し、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項６】
めっき処理室に被めっき物及びめっき液を収容し、前記めっき処理室を回転させて生じる遠心力を使用し、前記被めっき物にめっき処理を施すめっき方法において、
上方に開口部を有する回転体の外周部に第１の電極を設け、前記回転体の回転中心に筒状部材を配すると共に、前記回転体の内部に第２の電極を配し、
前記第１の電極及び第２の電極間に通電し、前記回転体が回転と停止とを繰り返しながら前記被めっき物にめっき処理を施す一方、前記めっき処理室に供給された前記めっき液が前記筒状部材に流入するように前記めっき液を前記筒状部材に対してオーバーフローさせ、該オーバーフローさせためっき液を前記回転体の前記開口部に還流させ、前記めっき液を循環させることを特徴とするめっき方法。
【請求項７】
前記被めっき物は、部品素体の表面に電極部が形成されたチップ型部品であり、前記電極部の表面にめっき皮膜を形成することを特徴とする請求項６記載のめっき方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１３−５３３３９（Ｐ２０１３−５３３３９Ａ）
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９２０１９（Ｐ２０１１−１９２０１９）
【出願日】平成２３年９月２日（２０１１．９．２）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月２日（２０１１．９．２）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
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