アミノシクロヘキシルエーテル化合物の合成方法
立体異性的に実質的にアミノシクロヘキシルエーテル化合物（例えば、トランス−（１Ｒ，２Ｒ）−アミノシクロヘキシルエーテル化合物および／またはトランス−（１Ｓ，２Ｓ）−アミノシクロヘキシルエーテル化合物）を調製する方法だけでなく、種々の中間体および基質が開示されている。本発明の方法により調製された化合物は、病状または障害（これには、例えば、心臓不整脈（例えば、心房性不整脈および心室性不整脈））を治療するのに有用である。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（７）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（５）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化３】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化４】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項２】
前記式（５）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（５）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記式（７）の化合物が、式（７ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１に記載の方法：
【化５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化６】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（５）の化合物は、式（５ａ）の化合物である：
【化７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項４】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１または３に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記式（５ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項３に記載の方法；適切な条件下にて、式（５ａ）の化合物および式（４ａ）の化合物の混合物を分離して、式（４ａ）の化合物からの単離において、式（５ａ）の化合物を生じる工程：
【化８】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化９】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（４ａ）の化合物および該式（５ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項６】
式（８）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１０】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化１１】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（４）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（４）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（８）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化１２】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化１３】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項７】
前記式（４）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（４）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（８）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記式（８）の化合物が、式（８ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項６に記載の方法：
【化１４】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化１５】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（４）の化合物は、式（４ａ）の化合物である：
【化１６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項９】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項６または８に記載の方法。
【請求項１０】
さらに、前記式（４ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項８に記載の方法；適切な条件下にて、式（５ａ）の化合物および式（４ａ）の化合物の混合物を分離して、式（５ａ）の化合物からの単離において、式（４ａ）の化合物を生じる工程：
【化１７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化１８】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（４ａ）の化合物および該式（５ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項１１】
式（７３）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１９】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２０】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（７１）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（７１）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７３）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（７１）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化２１】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化２２】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項１２】
前記式（７１）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（７１）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７３）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記式（７３）の化合物が、式（７３ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１１に記載の方法：
【化２３】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２４】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（７１）の化合物は、式（７１ａ）の化合物である：
【化２５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項１４】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１１または１３に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、前記式（７１ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項１３に記載の方法；適切な条件下にて、式（７１ａ）の化合物および式（７２ａ）の化合物の混合物を分離して、式（７２ａ）の化合物からの単離において、式（７１ａ）の化合物を生じる工程：
【化２６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化２７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（７２ａ）の化合物および該式（７１ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項１６】
式（７４）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化２８】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２９】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（７２）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（７２）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７４）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（７２）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化３０】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化３１】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項１７】
前記式（７２）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（７２）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７４）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記式（７４）の化合物が、式（７４ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１６に記載の方法：
【化３２】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化３３】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（７２）の化合物は、式（７２ａ）の化合物である：
【化３４】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項１９】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１６または１８に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、前記式（７２ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項１８に記載の方法；適切な条件下にて、式（７２ａ）の化合物および式（７２ａ）の化合物の混合物を分離して、式（７１ａ）の化合物からの単離において、式（７２ａ）の化合物を生じる工程：
【化３５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化３６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（７２ａ）の化合物および該式（７１ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項２１】
前記分離工程が、結晶化、動力学的分割、化学的分離、酵素的分割、および／またはクロマトグラフィー分割を包含する、請求項５、１０、１５および１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記任意の官能化工程が、前記式（４ａ）の化合物および前記式（５ａ）の化合物の混合物または前記式（７１ａ）の化合物および前記式（７２ａ）の化合物の混合物の酸付加塩の形成を包含する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記分離工程が、結晶化を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記分離工程が、動力学的分割を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記分離工程が、ジアステレオマーを介した化学的分離を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記分離工程および／または分解が、酵素で媒介される、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記分離工程が、クロマトグラフィー分割を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
各存在において、別個に、以下である、請求項１〜２７のいずれかの１項に記載の方法：
Ｒ１は、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化３７】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜８個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；そして該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ７〜Ｃ１２アラルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、塩素、フッ素、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、または−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；そして
Ｑは、イミド酸エステル、Ｏ−カーボネート、Ｓ−カーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、またはホスフェート誘導体である、
方法。
【請求項２９】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、示された窒素だけでなく４個〜５個の追加環原子から形成され、該追加環原子が、別個に、炭素からなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子が、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上が、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基が、水素、ヒドロキシ、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ３アルコキシからなる群から選択される；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであり、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の方法：
【化３８】
ここで、Ｒ１０は、水素、またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである；
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１個は、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリハロアセトイミデート、ペンタフルオロベンゾイミデート、イミダゾールカーボネート誘導体、イミダゾールチオカーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、リン酸ジフェニル、ジフェニルホスフィンイミデート、またはホスホロアミデートである、
方法。
【請求項３１】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３０に記載の方法：
【化３９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも２個は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデート、ペンタフルオロベンゾイミデート、イミダゾールカーボネート誘導体、イミダゾールチオカーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、リン酸ジフェニル、ジフェニルホスフィンイミデート、またはホスホロアミデートである、
方法。
【請求項３２】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３１に記載の方法：
【化４０】
ここで、Ｒ３は、水素であり、そしてＲ４およびＲ５は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデートまたはペンタフルオロベンゾイミデートである、
方法。
【請求項３３】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３１に記載の方法：
【化４１】
ここで、Ｒ３は、水素であり、そしてＲ４およびＲ５は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデートまたはペンタフルオロベンゾイミデートである、
方法。
【請求項３４】
前記式（７）の化合物が、以下である、請求項１または請求項２８に記載の方法：
【化４２】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである、
方法。
【請求項３５】
前記式（８）の化合物が、以下である、請求項６または請求項２８に記載の方法：
【化４３】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである、
方法。
【請求項３６】
前記式（７３）の化合物が、以下である、請求項１１または請求項２８に記載の方法：
【化４４】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである、
方法。
【請求項３７】
前記式（７４）の化合物が、以下である、請求項１６または請求項２８に記載の方法：
【化４５】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである、
方法。
【請求項３８】
前記式（７）の化合物が、式（７５）の化合物である、請求項１、請求項２または請求項２８に記載の方法：
【化４６】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１または請求項２０において定義したとおりである、
方法。
【請求項３９】
前記式（８）の化合物が、式（７６）の化合物である、請求項６、請求項７または請求項２８に記載の方法：
【化４７】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項６または請求項２８で定義したとおりである、
方法。
【請求項４０】
前記式（７３）のアミノシクロヘキシルエーテルが、式（７７）の化合物である、請求項１１、請求項１２または請求項２８の方法：
【化４８】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１１または請求項１２で定義したとおりである、
方法。
【請求項４１】
前記式（７４）のアミノシクロヘキシルエーテルが、式（７８）の化合物である、請求項１６、請求項１７または請求項２８の方法：
【化４９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１６または請求項２８で定義したとおりである、
方法。
【請求項４２】
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであるが、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項３８、請求項３９、請求項４０または請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
以下の式（７９）、式（８０）または式（８１）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化５０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（８５）の化合物、式（８６）の化合物または式（８７）の化合物を形成する工程：
【化５１】
【化５２】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化５３】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化５４】
あるいは式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（９１）の化合物、式（９２）の化合物または式（９３）の化合物を形成する工程：
【化５５】
【化５６】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
あるいは式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（９７）の化合物、式（９８）の化合物または式（９９）の化合物を形成する工程：
【化５７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化５８】
【化５９】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（８５）の化合物、該式（９１）の化合物または該式（９７）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（７９）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（８６）の化合物、該式（９２）の化合物または該式（９８）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（８０）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（８７）の化合物、該式（９３）の化合物または該式（９９）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（８１）の化合物を形成する工程。
【請求項４４】
以下の式（１００）、式（１０１）または式（１０２）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化６０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０３）の化合物、式（１０４）の化合物または式（１０５）の化合物を形成する工程：
【化６１】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化６２】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化６３】
【化６４】
あるいは式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０６）の化合物、式（１０７）の化合物または式（１０８）の化合物を形成する工程：
【化６５】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
【化６６】
あるいは式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０９）の化合物、式（１１０）の化合物または式（１１１）の化合物を形成する工程：
【化６７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化６８】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１０３）の化合物、該式（１０６）の化合物または該式（１０９）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１００）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１０４）の化合物、該式（１０７）の化合物または該式（１１０）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１０１）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１０５）の化合物、該式（１０８）の化合物または該式（１１１）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１０２）の化合物を形成する工程。
【請求項４５】
以下の式（１１２）、式（１１３）または式（１１４）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化６９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１１５）の化合物、式（１１６）の化合物または式（１１７）の化合物を形成する工程：
【化７０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化７１】
【化７２】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化７３】
あるいは式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１１８）の化合物、式（１１９）の化合物または式（１２０）の化合物を形成する工程：
【化７４】
【化７５】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
あるいは式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１２１）の化合物、式（１２２）の化合物または式（１２３）の化合物を形成する工程：
【化７６】
【化７７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化７８】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１１５）の化合物、該式（１１８）の化合物または該式（１２１）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１２）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１１６）の化合物、該式（１１９）の化合物または該式（１２２）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１３）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１１７）の化合物、該式（１２０）の化合物または該式（１２３）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１３）の化合物を形成する工程。
【請求項４６】
以下の式（１２４）、式（１２５）または式（１２６）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化７９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１２７）の化合物、式（１２８）の化合物または式（１２９）の化合物を形成する工程：
【化８０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化８１】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化８２】
【化８３】
あるいは式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１３０）の化合物、式（１３１）の化合物または式（１３２）の化合物を形成する工程：
【化８４】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
【化８５】
あるいは式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１３３）の化合物、式（１３４）の化合物または式（１３５）の化合物を形成する工程：
【化８６】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化８７】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１２７）の化合物、該式（１３０）の化合物または該式（１３３）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２４）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１２８）の化合物、該式（１３１）の化合物または該式（１３４）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２５）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１２９）の化合物、該式（１３２）の化合物または該式（１３５）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２６）の化合物を形成する工程。
【請求項４７】
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであるが、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項４３、請求項４４、請求項４５または請求項４６の方法。
【請求項４８】
Ｒ３が、水素であり、そしてＲ４およびＲ５が、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
Ｒ４およびＲ５が、それぞれ、前記フェニル基の３−位置および４−位置にて、それぞれ、Ｃ１アルコキシである、請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
各Ｌｇが、別個に、クロロまたはブロモである；Ｒ１１が、Ｃ１〜Ｃ３アルキルである；Ｒ１２が、Ｃ２〜Ｃ３アシルである；そしてＲ１３が、Ｃ２〜Ｃ３アシルである、請求項４３〜請求項４９のいずれか１項の方法。
【請求項５１】
工程（ｂ）用の前記還元剤が、Ｒｅｄ−Ａｌである、請求項４３〜請求項５０のいずれか１項の方法。
【請求項１】
式（７）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（５）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化３】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化４】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項２】
前記式（５）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（５）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記式（７）の化合物が、式（７ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１に記載の方法：
【化５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化６】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（５）の化合物は、式（５ａ）の化合物である：
【化７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項４】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１または３に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記式（５ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項３に記載の方法；適切な条件下にて、式（５ａ）の化合物および式（４ａ）の化合物の混合物を分離して、式（４ａ）の化合物からの単離において、式（５ａ）の化合物を生じる工程：
【化８】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化９】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（４ａ）の化合物および該式（５ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項６】
式（８）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１０】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化１１】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（４）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（４）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（８）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（５）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化１２】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化１３】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項７】
前記式（４）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（４）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（８）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記式（８）の化合物が、式（８ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項６に記載の方法：
【化１４】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化１５】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（４）の化合物は、式（４ａ）の化合物である：
【化１６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項９】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項６または８に記載の方法。
【請求項１０】
さらに、前記式（４ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項８に記載の方法；適切な条件下にて、式（５ａ）の化合物および式（４ａ）の化合物の混合物を分離して、式（５ａ）の化合物からの単離において、式（４ａ）の化合物を生じる工程：
【化１７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化１８】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（４ａ）の化合物および該式（５ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項１１】
式（７３）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化１９】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２０】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（７１）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（７１）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７３）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（７１）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化２１】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化２２】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項１２】
前記式（７１）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（７１）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７３）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記式（７３）の化合物が、式（７３ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１１に記載の方法：
【化２３】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２４】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（７１）の化合物は、式（７１ａ）の化合物である：
【化２５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項１４】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１１または１３に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、前記式（７１ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項１３に記載の方法；適切な条件下にて、式（７１ａ）の化合物および式（７２ａ）の化合物の混合物を分離して、式（７２ａ）の化合物からの単離において、式（７１ａ）の化合物を生じる工程：
【化２６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化２７】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（７２ａ）の化合物および該式（７１ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項１６】
式（７４）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグを立体選択的に製造する方法であって：
【化２８】
ここで：
Ｒは、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４（ここで、Ｒ１４は、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである）、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７（ここで、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである）である；
あるいはＲは、−ＯＲ１５であり、ここで、Ｒ１５は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
あるいはＲは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１６であり、ここで、Ｒ１６は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルまたは必要に応じて置換したアリールである；
あるいはＲは、−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２であって、ここで：
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化２９】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
該方法は、式（７２）の化合物と式（６）の化合物とを反応させると該式（７２）の化合物中の１−位置にある炭素の立体化学的配置が得られた式（７４）の化合物において保持される適切な条件下にて、式（７２）の化合物と式（６）の化合物とを反応させる工程を包含する：
【化３０】
ここで、Ｒは、上で定義したとおりである：
【化３１】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりであり、そしてＱは、脱離基である、
方法。
【請求項１７】
前記式（７２）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、該式（７２）の化合物および／または該式（６）の化合物を必要に応じて保護する工程、および該反応後に、前記式（７４）の化合物を必要に応じて脱保護する工程を包含する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記式（７４）の化合物が、式（７４ａ）の化合物、あるいはそれらの薬学的に受容可能な塩、エステル、アミド、錯体、キレート、包接体、溶媒和物、多形物、代謝物またはプロドラッグである、請求項１６に記載の方法：
【化３２】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ別個に、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それぞれ別個に、Ｃ３〜Ｃ８アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ８ヒドロキシアルキル、およびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化３３】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜９個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；あるいは任意の２個の隣接追加炭素環原子は、Ｃ３〜Ｃ８炭素環に縮合され得、該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、二環式環系を形成し、該二環式環系は、３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン−３−イル、２−アザビシクロ［２．２．２］オクタン−２−イル、３−アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−イル、および３−アザビシクロ［３．２．０］ヘプタン−３−イルを含む；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたは−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルから選択される；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；
そして該式（７２）の化合物は、式（７２ａ）の化合物である：
【化３４】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである、
方法。
【請求項１９】
前記適切な条件が、触媒量の酸の存在下にて、非プロトン性溶媒中で、Ｑを活性化する工程を包含する、請求項１６または１８に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、前記式（７２ａ）の化合物と前記式（６）の化合物との反応前に、分離工程を包含し、該分離工程が、以下の工程を包含する、請求項１８に記載の方法；適切な条件下にて、式（７２ａ）の化合物および式（７２ａ）の化合物の混合物を分離して、式（７１ａ）の化合物からの単離において、式（７２ａ）の化合物を生じる工程：
【化３５】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりである：
【化３６】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、上で定義したとおりであり、ここで、該分離工程は、さらに、任意の官能化工程を包含し、ここで、該式（７２ａ）の化合物および該式（７１ａ）の化合物の一方または両方のヒドロキシ基および／または−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２基は、得られた官能化化合物が分解を受けやすい様式で、官能化される；
適切な条件下にて、分解を実行して、該官能化化合物を分離する工程；および
必要に応じて、適切な条件下にて、該官能化化合物から該官能基を除去する工程。
【請求項２１】
前記分離工程が、結晶化、動力学的分割、化学的分離、酵素的分割、および／またはクロマトグラフィー分割を包含する、請求項５、１０、１５および１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記任意の官能化工程が、前記式（４ａ）の化合物および前記式（５ａ）の化合物の混合物または前記式（７１ａ）の化合物および前記式（７２ａ）の化合物の混合物の酸付加塩の形成を包含する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記分離工程が、結晶化を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記分離工程が、動力学的分割を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記分離工程が、ジアステレオマーを介した化学的分離を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記分離工程および／または分解が、酵素で媒介される、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記分離工程が、クロマトグラフィー分割を包含する、請求項２１または請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
各存在において、別個に、以下である、請求項１〜２７のいずれかの１項に記載の方法：
Ｒ１は、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ８〜Ｃ１２アラルコキシカルボニルおよびＣ７〜Ｃ１２アラルキルから選択される；
あるいはＲ１およびＲ２は、それらが直接結合する窒素原子と一緒になったとき、式（Ｉ）で示される環を形成する：
【化３７】
ここで、式（Ｉ）の該環は、示された窒素だけでなく３個〜８個の追加環原子から形成され、該追加環原子は、別個に、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子は、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上は、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基は、水素、ヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ３ヒドロキシアルキル、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、Ｃ２〜Ｃ４アルキルカルボキシ、Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ２０アルカノイルオキシからなる群から選択されるか、あるいは、置換され得、スピロ５員または６員複素環を形成し、該複素環は、１個または２個のヘテロ原子を含有し、該ヘテロ原子は、炭素、窒素、酸素およびイオウからなる群から選択される；そして該追加窒素環原子の任意の１個またはそれ以上は、置換基で置換され得、該置換基は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ７〜Ｃ１２アラルキル、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ２〜Ｃ４ヒドロキシアルキルおよびＣ３〜Ｃ８アルコキシアルキルからなる群から選択される；
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、塩素、フッ素、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、または−Ｎ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ない；そして
Ｑは、イミド酸エステル、Ｏ−カーボネート、Ｓ−カーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、またはホスフェート誘導体である、
方法。
【請求項２９】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、示された窒素だけでなく４個〜５個の追加環原子から形成され、該追加環原子が、別個に、炭素からなる群から選択される；ここで、任意の２個の隣接環原子が、単結合または二重結合により共に結合され得、ここで、該追加炭素環原子の任意の１個またはそれ以上が、１個または２個の置換基で置換され得、該置換基が、水素、ヒドロキシ、オキソ、Ｃ２〜Ｃ４アシル、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、およびＣ１〜Ｃ３アルコキシからなる群から選択される；そして
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであり、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の方法：
【化３８】
ここで、Ｒ１０は、水素、またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである；
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも１個は、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリハロアセトイミデート、ペンタフルオロベンゾイミデート、イミダゾールカーボネート誘導体、イミダゾールチオカーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、リン酸ジフェニル、ジフェニルホスフィンイミデート、またはホスホロアミデートである、
方法。
【請求項３１】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３０に記載の方法：
【化３９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５の少なくとも２個は、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデート、ペンタフルオロベンゾイミデート、イミダゾールカーボネート誘導体、イミダゾールチオカーボネート、Ｏ−スルホニル誘導体、リン酸ジフェニル、ジフェニルホスフィンイミデート、またはホスホロアミデートである、
方法。
【請求項３２】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３１に記載の方法：
【化４０】
ここで、Ｒ３は、水素であり、そしてＲ４およびＲ５は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデートまたはペンタフルオロベンゾイミデートである、
方法。
【請求項３３】
各存在において、別個に、式（Ｉ）の該環が、以下である、請求項３１に記載の方法：
【化４１】
ここで、Ｒ３は、水素であり、そしてＲ４およびＲ５は、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである；そして
ここで、Ｑは、トリクロロアセトイミデートまたはペンタフルオロベンゾイミデートである、
方法。
【請求項３４】
前記式（７）の化合物が、以下である、請求項１または請求項２８に記載の方法：
【化４２】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである、
方法。
【請求項３５】
前記式（８）の化合物が、以下である、請求項６または請求項２８に記載の方法：
【化４３】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである、
方法。
【請求項３６】
前記式（７３）の化合物が、以下である、請求項１１または請求項２８に記載の方法：
【化４４】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである、
方法。
【請求項３７】
前記式（７４）の化合物が、以下である、請求項１６または請求項２８に記載の方法：
【化４５】
ここで、Ｒ１０は、水素またはＣ７〜Ｃ１２アラルキルのいずれかである、
方法。
【請求項３８】
前記式（７）の化合物が、式（７５）の化合物である、請求項１、請求項２または請求項２８に記載の方法：
【化４６】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１または請求項２０において定義したとおりである、
方法。
【請求項３９】
前記式（８）の化合物が、式（７６）の化合物である、請求項６、請求項７または請求項２８に記載の方法：
【化４７】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項６または請求項２８で定義したとおりである、
方法。
【請求項４０】
前記式（７３）のアミノシクロヘキシルエーテルが、式（７７）の化合物である、請求項１１、請求項１２または請求項２８の方法：
【化４８】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１１または請求項１２で定義したとおりである、
方法。
【請求項４１】
前記式（７４）のアミノシクロヘキシルエーテルが、式（７８）の化合物である、請求項１６、請求項１７または請求項２８の方法：
【化４９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、請求項１６または請求項２８で定義したとおりである、
方法。
【請求項４２】
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであるが、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項３８、請求項３９、請求項４０または請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
以下の式（７９）、式（８０）または式（８１）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化５０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（８５）の化合物、式（８６）の化合物または式（８７）の化合物を形成する工程：
【化５１】
【化５２】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化５３】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化５４】
あるいは式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（９１）の化合物、式（９２）の化合物または式（９３）の化合物を形成する工程：
【化５５】
【化５６】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
あるいは式（７５）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（９７）の化合物、式（９８）の化合物または式（９９）の化合物を形成する工程：
【化５７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化５８】
【化５９】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（８５）の化合物、該式（９１）の化合物または該式（９７）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（７９）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（８６）の化合物、該式（９２）の化合物または該式（９８）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（８０）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（８７）の化合物、該式（９３）の化合物または該式（９９）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（８１）の化合物を形成する工程。
【請求項４４】
以下の式（１００）、式（１０１）または式（１０２）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化６０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０３）の化合物、式（１０４）の化合物または式（１０５）の化合物を形成する工程：
【化６１】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化６２】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化６３】
【化６４】
あるいは式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０６）の化合物、式（１０７）の化合物または式（１０８）の化合物を形成する工程：
【化６５】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
【化６６】
あるいは式（７６）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１０９）の化合物、式（１１０）の化合物または式（１１１）の化合物を形成する工程：
【化６７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化６８】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１０３）の化合物、該式（１０６）の化合物または該式（１０９）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１００）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１０４）の化合物、該式（１０７）の化合物または該式（１１０）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１０１）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１０５）の化合物、該式（１０８）の化合物または該式（１１１）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１０２）の化合物を形成する工程。
【請求項４５】
以下の式（１１２）、式（１１３）または式（１１４）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化６９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１１５）の化合物、式（１１６）の化合物または式（１１７）の化合物を形成する工程：
【化７０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化７１】
【化７２】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化７３】
あるいは式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１１８）の化合物、式（１１９）の化合物または式（１２０）の化合物を形成する工程：
【化７４】
【化７５】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
あるいは式（７７）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１２１）の化合物、式（１２２）の化合物または式（１２３）の化合物を形成する工程：
【化７６】
【化７７】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化７８】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１１５）の化合物、該式（１１８）の化合物または該式（１２１）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１２）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１１６）の化合物、該式（１１９）の化合物または該式（１２２）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１３）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１１７）の化合物、該式（１２０）の化合物または該式（１２３）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１１３）の化合物を形成する工程。
【請求項４６】
以下の式（１２４）、式（１２５）または式（１２６）のアミノシクロヘキシルエーテルを立体選択的に製造する方法：
【化７９】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、臭素、塩素、フッ素、カルボキシ、水素、ヒドロキシ、ヒドロキシメチル、メタンスルホンアミド、ニトロ、シアノ、スルファミル、トリフルオロメチル、−ＣＨＦ２、−ＳＯ２Ｎ（Ｒ８）Ｒ９、−ＯＣＦ３、Ｃ２〜Ｃ７アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１２アラルコキシ、Ｃ２〜Ｃ７アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６チオアルキル、アリールまたはＮ（Ｒ６）Ｒ７であり、ここで、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ別個に、水素、アセチル、メタンスルホニルまたはＣ１〜Ｃ６アルキルである；
あるいはＲ３、Ｒ４およびＲ５は、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシである；但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、全て同時に水素にはなり得ず、
該方法は、以下の工程を包含する：
（ａ）式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（８２）の化合物、式（８３）の化合物または式（８４）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１２７）の化合物、式（１２８）の化合物または式（１２９）の化合物を形成する工程：
【化８０】
ここで、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、上で定義したとおりである：
【化８１】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１１は、Ｃ１〜Ｃ６アルキルである：
【化８２】
【化８３】
あるいは式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（８８）の化合物、式（８９）の化合物または式（９０）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１３０）の化合物、式（１３１）の化合物または式（１３２）の化合物を形成する工程：
【化８４】
ここで、各Ｌｇは、別個に、脱離基であり、そして各Ｒ１２は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである：
【化８５】
あるいは式（７８）の化合物を、適切な条件下にて、式（９４）の化合物、式（９５）の化合物または式（９６）の化合物と反応させて、それぞれ、式（１３３）の化合物、式（１３４）の化合物または式（１３５）の化合物を形成する工程：
【化８６】
ここで、各Ｒ１３は、Ｃ２〜Ｃ４アシルまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキルである；
【化８７】
（ｂ）工程（ａ）で形成された該式（１２７）の化合物、該式（１３０）の化合物または該式（１３３）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２４）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１２８）の化合物、該式（１３１）の化合物または該式（１３４）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２５）の化合物を形成する工程；あるいは
工程（ａ）で形成された該式（１２９）の化合物、該式（１３２）の化合物または該式（１３５）の化合物を、適切な条件下にて、還元して、上で示したような式（１２６）の化合物を形成する工程。
【請求項４７】
Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、別個に、水素、ヒドロキシまたはＣ１〜Ｃ６アルコキシであるが、但し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５が、全て同時に水素にはなり得ない、請求項４３、請求項４４、請求項４５または請求項４６の方法。
【請求項４８】
Ｒ３が、水素であり、そしてＲ４およびＲ５が、それぞれ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシである、請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
Ｒ４およびＲ５が、それぞれ、前記フェニル基の３−位置および４−位置にて、それぞれ、Ｃ１アルコキシである、請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
各Ｌｇが、別個に、クロロまたはブロモである；Ｒ１１が、Ｃ１〜Ｃ３アルキルである；Ｒ１２が、Ｃ２〜Ｃ３アシルである；そしてＲ１３が、Ｃ２〜Ｃ３アシルである、請求項４３〜請求項４９のいずれか１項の方法。
【請求項５１】
工程（ｂ）用の前記還元剤が、Ｒｅｄ−Ａｌである、請求項４３〜請求項５０のいずれか１項の方法。
【図１】
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【公表番号】特表２００８−５２０７２８（Ｐ２００８−５２０７２８Ａ）
【公表日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５４３３８７（Ｐ２００７−５４３３８７）
【出願日】平成１７年１１月１８日（２００５．１１．１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００５／０４２２６２
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０８８５２５
【国際公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【出願人】（５０５４０８７５６）カーディオム ファーマ コーポレイション (12)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２０年６月１９日（２００８．６．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月１８日（２００５．１１．１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００５／０４２２６２
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０８８５２５
【国際公開日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【出願人】（５０５４０８７５６）カーディオム ファーマ コーポレイション (12)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]