説明

アミンの連続的な製造法

第一級または第二級アルコール、アルデヒドおよび/またはケトンと、水素およびアンモニア、第一級および第二級アミンの群から選択された窒素化合物とを銅含有触媒の存在下において60〜300℃の範囲の温度で反応させることによるアミンの連続的な製造法において、そのさい水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が酸化アルミニウム(Al)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化チタン(TiO)および/または二酸化ケイ素(SiO)20〜85質量%、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物1〜70質量%、MgOとして計算される酸素を含有するマグネシウムの化合物、Crとして計算される酸素を含有するクロムの化合物、ZnOとして計算される酸素を含有する亜鉛の化合物、BaOとして計算される酸素を含有するバリウムの化合物、および/またはCaOとして計算される酸素を含有するカルシウムの化合物0〜50質量%、およびCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物30質量%未満を含有しかつ反応を管型反応器中において気相中で等温により行う。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、第一級または第二級アルコール、アルデヒドおよび/またはケトンと、水素およびアンモニア、第一級および第二級アミンの群から選択された窒素化合物とを銅含有触媒の存在下において80〜300℃の範囲の温度で反応させることによるアミンの連続的な製造法に関する。
【0002】
とりわけこの方法生成物は、燃料添加剤(US−A−3,275,554;DE−A−2125039およびDE−A−3611230)、界面活性剤、薬剤および農産物保護剤、エポキシ樹脂用硬化剤、ポリウレタン用触媒を製造する際の中間生成物、第四アンモニウム化合物、可塑剤、腐蝕抑制剤、合成樹脂、イオン交換体、織物用助剤、染料、加硫促進剤および/または乳化剤を製造するための中間生成物として使用される。
【0003】
EP−A−257443(BASF AG)は、アンモニアとアルコールとをアルカリ金属水酸化物の存在下において液相中で、ほぼ銅のみを含有する触媒により反応させることによる、トリアルキルアミン(例えばジメチルエチルアミン)の製造法に関する。
【0004】
EP−A−542039(BASF AG)は、等温条件下での管束反応器中における気相中でケトンをゼオライトにより還元的アミノ化することによる、環状アミン、例えばN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造法を記載している。
【0005】
EP−A−227904(BASF AG)は、アルカリ金属水酸化物と、活性金属としてほぼ銅のみを含有するかもしくは純粋な銅触媒である触媒との存在下でジメチルアミンとシクロヘキサノールとを反応させることによる、液相中でのジメチルエチルアミンまたはN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造を教示している。
【0006】
US−A−4,910,304(BASF AG)は、ペンタンジオールもしくはジエチレングリコール(DEG)とメチルアミンおよび45%のKOH−水溶液とをCu/Al−完全接触触媒(Vollkontakt)により245℃および250barで反応させることによる、N−メチルピペリジンおよびN−メチルモルホリンの製造を開示している。
【0007】
EP−A−137478(BASF AG)は、ペンタンジオールとメチルアミンとを、塩基性の銅とアルミニウムとを含有する炭酸塩の熱処理(Temperung)により得られた銅含有触媒により5〜25barの気相中で触媒的アミノ化させることによる、N−メチルピペリジンまたはN−メチルモルホリンの製造法に関する。
【0008】
EP−A−816350(BASF AG)は、第一級アミンとジオールとを、SiO−球を塩基性の炭酸銅で含浸することにより得られた銅触媒により液相または気相中で反応させることによる、N−メチルピペリジンおよびN−メチルモルホリンの製造法を記載している。
【0009】
US−A−4,739,051(BASF AG)は、97もしくは95%の収率により、DEGまたはペンタンジオールとアンモニアとを水素化条件下において標準圧力および200℃の気相中でCu/Ni/Al−完全触媒により反応させることによる、モルホリンおよびピペリジンの製造を教示している。
【0010】
EP−A−167872(BASF AG)は、塩基性の銅とアルミニウムとを含有する炭酸塩の熱処理により得られた銅含有触媒による、N,N−ジメチルアルカノールまたはN,N,N’,N’−テトラメチルアルキレンジアミンの製造を記載している。
【0011】
DE−A−19859776(BASF AG)は、触媒材料の成形前に金属銅が添加された、銅とTiOとからなる触媒によりアルコールまたはアルデヒドもしくはケトンとアミンとを反応させることによる、アミン(例えばジメチルエチルアミン、ビス−(2−ジメチルアミノエチル)−エーテル(Niax)およびイソプロピルアミン)の製造に関する。
【0012】
JP−A−02111765(Kawaken Finechemical)には、2,6−ジメチルモルホリンまたは3,5−ジメチルモルホリンまたは3,6−ジメチルモルホリンとジエチレングリコールとのオートクレーブにおける液相中での反応が記載されている。反応は断続的にラネー−コバルト−触媒により実施される。この場合不利な点は、良好な収率を得るための15〜76hの長い反応時間である。温度上昇によりたしかに時間はより短くなるがしかし一方で収率の悪化にもつながる。
【0013】
HU−A−212713には、不均一系触媒によるモルホリンおよびDEGからの液相中でのジモルホリノジエチルエーテルの合成が請求されている。0.02〜0.1h−1の小さい負荷の場合、Cu,Cr−触媒による50barでの連続的な運転方法において80%を上回るほどの収率が達成された。典型的にはそのさい常に、分離後さらに使用することができない約13%の二次化合物が発生した。
【0014】
DE−A−10053386(Air Products)には、ビス(N,N−ジメチルアミノエチル)エーテルの形成下における、気相中での塩基性のゼオライトによるN,N−ジメチルアミノエタノールからの水分離が記載されている。部分的な反応の場合、返送することができない著しい量の3種のカップリング生成物、すなわちN,N’−ジメチルピペラジン、N−メチルモルホリンおよびN,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−エタンジアミンが発生する。
【0015】
EP−A2−514692(BASF AG)は、銅およびニッケルおよび酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウムを含有する触媒の存在下でのアルコールからのアミンの製造法を開示している。
【0016】
EP−A−1020455(BASF AG)は、ジエチレングリコール(DEG)とアンモニアとを、水素および銅を含有する水素化触媒の存在下において加圧下でかつ高められた温度で反応させることによる、2,2’−ジモルホリノジエチルエーテルの製造法に関する。
【0017】
本発明の基礎を成しているのは、アミンを製造するための改善された経済的な方法を見つけ出すという課題であった。殊に、該方法はより良好な収率、空時収率(RZA)および選択性を可能にしかつ考えられうる暴走反応(Durchgehreaktionen)に関してより高い安全性を伴っている。
【0018】
[空時収率は、「生成物量/(触媒体積・時間)」(kg/lkat・h))および/または、「生成物量/(反応器体積・時間)」(kg/(lReaktor・h)で記載される]。
【0019】
それに応じて、第一級または第二級アルコール、アルデヒドおよび/またはケトンと、水素およびアンモニア、第一級および第二級アミンの群から選択された窒素化合物とを、銅含有触媒の存在下において60〜300℃の範囲の温度で反応させることによるアミンの連続的な製造法が発見され、これは水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が、酸化アルミニウム(Al)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化チタン(TiO)および/または二酸化ケイ素(SiO)20〜85質量%、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物1〜70質量%、MgOとして計算される酸素を含有するマグネシウムの化合物、Crとして計算される酸素を含有するクロムの化合物、ZnOとして計算される酸素を含有する亜鉛の化合物、BaOとして計算される酸素を含有するバリウムの化合物、および/またはCaOとして計算される酸素を含有するカルシウムの化合物0〜50質量%、およびCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物30質量%未満を含有しかつ反応が管型反応器中において気相中で等温により行われることを特徴とする。
【0020】
それに従って本発明により、気相中でのこの特殊な触媒と等温による運転方法(記載された(複数の)エダクトのアミノ化)とのとりわけ有利な組み合わせが確認された。
【0021】
本発明による方法に従う管型反応器中での反応は、特にとりわけ有利には循環ガス法(Kreisgasfahrweise)において行う。
【0022】
有利には大部分が水素からなる循環ガスは、一方ではエダクトを気化するのにかつ他方では反応相手としてアミノ化反応のために使用される。
【0023】
循環ガス法において、出発物質(アルコール、アルデヒドおよび/またはケトン、水素および窒素化合物)は循環ガス流中で気化されかつガス状に反応器に供給される。エダクト(アルコール、アルデヒドおよび/またはケトン、窒素化合物)はまた水溶液として気化しかつ循環ガス流により触媒床に導通してもよい。
【0024】
循環ガス流を有する適切な反応器のための例は、Ullmann’s Encyclopedia of industrial Chemistry、第5版、第B4巻、第199頁〜第238頁、「Fixed−Bed Reactors」において見られる。特にとりわけ有利には、反応は管束反応器中かまたはシングルストリーム装置(Monostranganlage)中で行われる。
【0025】
シングルストリーム装置の場合、等温反応が行われる管型反応器は複数(2つまたは3つ)の個々の管型反応器の直列接続からなっている。
【0026】
循環ガス量は、有利には(作動圧力で)40〜1500m/[触媒m(床体積)(Schuettvolumen)・h]の範囲に、殊に(作動圧力で)100〜700m/[触媒m(床体積)・h]の範囲にある。
【0027】
循環ガスは、有利には少なくとも10、とりわけ50〜100、特にとりわけ80〜100体積%のHを含有する。
【0028】
有利には本発明による方法に従う等温反応は、最大+/−8℃、とりわけ最大+/−5℃、殊に最大+/−4℃、特にとりわけ最大+/−3℃、例えば最大+/−0〜2℃または最大+/−0〜1℃の温度変動で行う。
【0029】
これらの温度変動はそのつどの触媒床中のそのつどの温度に関係し、特にエダクトが触媒床中に流入する際のかつ反応混合物が触媒床から流出する際の温度に関係する。この場合、複数の触媒床は並列にかまたは直列に接続されていてよい。
【0030】
複数の触媒床が直列に接続されている場合、記載された温度変動は本発明による等温運転方法の場合、触媒床中のそのつどの温度に関係し、特にエダクトが最初の触媒床中に流入する際のかつ反応混合物が最後の触媒床から流出する際の温度に関係する。
【0031】
有利な実施態様において反応管の温度調整は外側から熱媒体流により行い、そのさい熱媒体は例えば油、融解塩、または他の伝熱流体であってもよい。
【0032】
本発明による反応処理は、液相中での合成と比べてかつ気相中での非等温の合成と比べて、暴走反応に対してとりわけより良好な収率およびより高い安全性の利点を有し、殊に高い反応温度(例えば200〜300℃)の際に有する。等温による気相−運転方法により、合成中の暴走反応の可能性が強く低下する。反応器中に存在する、暴走反応に使用することができる組成物は、液相法の組成物のほんの一部にすぎない。
【0033】
触媒が成形体として使用される場合、本発明による方法において触媒は有利には、触媒活性組成物と場合により(例えばグラファイトまたはステアリン酸のような)変形助剤とからなるのみである触媒の形で使用され、つまりさらに別の触媒活性添加物(Begleitstoffe)を含有しない。この関連において、酸化物の担体材料の二酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、二酸化ジルコニウム(ZrO)および二酸化ケイ素(SiO)は触媒活性組成物に属するものとしてみなされる。
【0034】
該触媒は、触媒活性のある、粉末に粉砕された組成物を反応容器中に導入するかまたは、触媒活性組成物を触媒成形体として−例えばペレット、球、リング、押出物(例えばストランド)として−粉砕、成形助剤による混合、成形および熱処理後に反応器中に配置するようにして使用される。
【0035】
触媒の成分の濃度記載値(質量%記載)はそのつど−他に記載がない場合−最後の熱処理後のかつ水素による還元前の完成した触媒の触媒活性組成物に関係する。
【0036】
最後の熱処理後のかつ水素による還元前の触媒の触媒活性組成物は、触媒活性構成成分および上記の触媒担体材料の組成物の合計として定義されかつほぼ以下の構成成分を含有する:
二酸化チタン(TiO)および/または酸化アルミニウム(Al)および/または二酸化ジルコニウム(ZrO)および/または二酸化ケイ素(SiO)および酸素を含有する銅の化合物および場合により酸素を含有するマグネシウムおよび/またはクロムおよび/または亜鉛および/またはバリウムおよび/またはカルシウムの化合物および場合により酸素を含有するニッケルの化合物であり、そのさいCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物の量に対して、NiOとして計算されるこの酸素を含有するニッケルの化合物の量は20質量%未満である。
【0037】
Al、ZrO、TiO、SiO、CuO、MgO、Cr、ZnO、BaO、CaOおよびNiOとして計算される、触媒活性組成物の上記の構成成分の合計は通常70〜100質量%、有利には80〜100質量%、とりわけ有利には90〜100質量%、特にとりわけ有利には100質量%である。
【0038】
さらに本発明による方法において使用される触媒の触媒活性組成物は、周期表のIA〜VIAおよびIB〜VIIBおよびVIIIの群から選択された1種以上の元素(酸化数0)またはその無機または有機の化合物を含有してよい。
【0039】
そのような元素もしくはその化合物のための例は:遷移金属、例えばCoもしくはCoO、Reもしくは酸化レニウム、MnもしくはMnO、Moもしくは酸化モリブデン、Wもしくは酸化タングステン、Taもしくは酸化タンタル、Nbもしくは酸化ニオブまたはシュウ酸ニオブ、Vもしくは酸化バナジウムもしくはピロリン酸バナジル;ランタニド、例えばCeもしくはCeOまたはPrもしくはPr;アルカリ金属酸化物、例えばNaO;炭酸アルカリ金属;アルカリ土類金属酸化物、例えばSrO;炭酸アルカリ土類金属、例えばMgCO、CaCOおよびBaCO;三酸化二ホウ素(B)である。
【0040】
本発明による方法において使用される触媒の触媒活性組成物は、最後の熱処理後にかつ水素による還元前に、酸化アルミニウム(Al)および/または二酸化ジルコニウム(ZrO)および/または二酸化チタン(TiO)および/または二酸化ケイ素(SiO)20〜85質量%、有利には25〜80質量%、とりわけ有利には30〜75質量%およびCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物1〜70質量%、有利には2〜65質量%、とりわけ有利には5〜60質量%、特にとりわけ有利には20〜60質量%、MgOとして計算される酸素を含有するマグネシウムの化合物、および/またはCrとして計算される酸素を含有するクロムの化合物および/またはZnOとして計算される酸素を含有する亜鉛の化合物、および/またはBaOとして計算される酸素を含有するバリウムの化合物、および/またはCaOとして計算される酸素を含有するカルシウムの化合物0〜50質量%、有利には0〜30質量%、とりわけ有利には0〜20質量%、およびCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物30質量%未満、例えば5〜28質量%、有利には25質量%未満、例えば20質量%未満、殊に10質量%未満、例えば5質量または0〜1質量%未満を含有する。
【0041】
有利な触媒は、その触媒組成物中に20〜85質量%の、有利には25〜80質量%の、とりわけ有利には30〜75質量%の酸化アルミニウム(Al)および/または二酸化ケイ素(SiO)を含有しかつ酸素を含有するジルコニウムおよびチタンの化合物を含有しない。
【0042】
酸素を含有する銅の化合物は、殊に酸化銅(I)および酸化銅(II)、有利には酸化銅(II)である。
【0043】
本発明による方法において使用される触媒を製造するために種々の方法が可能である。例えば該触媒は成分のアルミニウム、ジルコニウム、チタン、ケイ素、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、バリウムおよびカルシウムの水酸化物、炭酸塩、酸化物および/または他の塩と水との粉状の混合物の解膠(Peptisieren)およびそうして得られた組成物の引き続く押出しおよび熱処理により得られる。
【0044】
本発明による方法において使用される触媒は、二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、二酸化ケイ素(SiO)または、例えば粉末もしくは成形体、例えばストランド、ペレット、球あるいはリングの形で存在するこれらの無機酸化物の2種以上の混合物を含浸することにより製造することができる。
【0045】
そのさい酸化アルミニウムは種々の変態で使用してよく、有利なのはα−、γ−(ガンマ)またはθ-Alである。
【0046】
例えば二酸化ジルコニウムは単斜晶系または正方晶系の形で、有利には単斜晶系の形で、かつ二酸化チタンは有利にはアナタースまたはルチルとして使用される。
【0047】
担体材料として適切な二酸化ケイ素は、例えば水ガラスからの沈殿によるかまたはゾル−ゲル法により得ることができもしくはメソ孔を持つSiOまたはシリカゲル(例えばUllmann、Enzykl.Tech.Chem.,第4版、第21巻、第457〜63頁、1982に記載)としてかまたはケイ酸塩、例えばベントナイト、モントモリロナイト、カオリン、ヘクトライトまたはアルミノケイ酸(例えばNature、第359巻、第710〜12頁、1992記載によるかまたはアルカリ金属−もしくはアルカリ土類金属−アルミノケイ酸(ゼオライト)、例えば一般式M2/ZO・Al・xSiO・yHO、式中、Mは1価または多価の金属、H、[NH]であり、zは価数、x=1.8〜約12およびy=0〜約8である)、ケイ酸マグネシウム(例えばステアタイト)、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸セリウムまたはケイ酸カルシウムの形で使用してもよい。
【0048】
上記の無機酸化物の成形体の製造は、通常の方法に従って行ってよい。
【0049】
同様にこれらの無機酸化物の含浸は、例えばEP−A−599180、EP−A−673918またはA.B.Stiles,Catalyst Manufacture−Laboratory and Commercial Preparations,Marcel Dekker,New York(1983)に記載されているように通常の方法に従って、1つのまたは複数の含浸工程においてそのつど相応する金属塩溶液の施与により行われ、そのさい金属塩として、例えば相応する硝酸塩、酢酸塩または塩化物が使用される。組成物は含浸に続いて乾燥されかつ場合によりか焼される。
【0050】
含浸はいわゆる「incipient wetness」−法に従って行ってよく、そのさい無機酸化物もしくは無機酸化物の混合物は、その吸水度に応じて含浸溶液により最大で飽和するまで湿らせる。含浸はしかしオーバーフローしている溶液中でも行ってよい。
【0051】
多工程の含浸法の場合に有効なのは、個々の含浸工程の間に乾燥させかつ場合によりか焼することである。有利には多工程の含浸は、とりわけ無機酸化物もしくは無機酸化物の混合物に比較的大きい金属量が加えられる場合に適用されるべきである。
【0052】
複数の金属成分を無機酸化物もしくは無機酸化物の混合物に施与するために、含浸を同時に全ての金属塩を用いて行うかまたは個々の金属塩を任意の順番で連続的に行ってよい。
【0053】
しかしながら有利には、本発明による方法において使用される触媒の製造のために沈殿法が適用される。従って該触媒は例えば、難溶性の、酸素を含有するアルミニウム化合物、チタン化合物、ケイ素化合物および/またはジルコニウム化合物のスラリーの存在下において、銅成分、マグネシウム成分、クロム成分、亜鉛成分、バリウム成分およびカルシウム成分をこれらの元素を含有する水性の塩溶液から無機塩を用いることによりいっしょに沈殿させ(gemeinsame Faellung)、かつ得られた沈殿物を引き続き洗浄、乾燥およびか焼させることにより得ることができる。例えば、難溶性の、酸素を含有するアルミニウム化合物、チタン化合物、ケイ素化合物および/またはジルコニウム化合物として酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウムおよび酸化ジルコニウム水和物を使用してよい。難溶性のアルミニウム化合物、チタン化合物、ケイ素化合物および/またはジルコニウム化合物のスラリーは、これらの化合物の微粒子状の粉末を水の中で強力に攪拌しながら懸濁することにより製造することができる。有利にはこれらのスラリーは、難溶性のアルミニウム化合物、チタン化合物、ケイ素化合物および/またはジルコニウム化合物を、水性のアルミニウム−塩溶液、チタン−塩溶液、ケイ素−塩溶液および/またはジルコニウム−塩溶液から無機塩を用いて沈殿させることにより得られる。
【0054】
有利には本発明による方法において使用される触媒は、その成分の全てをいっしょに沈殿(混合沈殿)させることにより製造される。それに加えて沈殿が完成するまで適切に、触媒成分を含有する水性の塩溶液に、熱時にかつ攪拌しながら水性の無機塩を、殊にアルカリ金属塩−例えば炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムまたは水酸化カリウム−を混合する。使用される塩の種類は一般的に重要ではない:それというのもこの処理方法の場合とりわけ塩の水溶性が問題であるので、判定基準はこれらの比較的濃縮された塩溶液を製造するために不可欠なその良好な水溶性である。個々の成分の塩を選択する際、不所望の沈殿を引き起こすかまたはそれが錯形成により沈殿を阻害するかあるいは妨げるという、障害にいたらないアニオンを有する塩のみが当然のことながら選択されることは自明である。
【0055】
一般的にこれらの沈殿反応の際に得られた沈殿物は、化学的に均一ではなくかつとりわけ酸化物、酸化水和物、水酸化物、炭酸塩および使用された金属の不溶性でかつ塩基性の塩の混合物とからなる。沈殿物の濾過性は、それが変質する場合、つまりそれを沈殿後にさらにいくらかの時間、場合により熱時下でまたは空気の導通下で放置する場合に有利であると判明しうる。
【0056】
これらの沈殿方法に従って得られた沈殿物は、例のごとく本発明による触媒のためにさらに加工される。洗浄後、それは有利には80〜200℃、さらに有利には100〜150℃の範囲で乾燥されかつその後か焼される。有利にはか焼は、300〜800℃、有利には400〜600℃、殊に450〜550℃の温度で実施される。
【0057】
触媒を粉砕により特定の粒度に設定するにせよまたはその粉砕後に成形助剤、例えばグラファイトもしくはステアリン酸と混合しプレスにより圧縮し成形体、例えばペレットにしかつ熱処理するにせよ、か焼後に触媒は適切に条件付けられる。そのさい熱処理温度は有利にはか焼の際の温度に相当する。
【0058】
このように製造された触媒は触媒活性金属を、その酸素を含有する化合物の混合物の形で、つまり殊に酸化物および混合酸化物として含有する。
【0059】
このように製造された触媒は、それ自体貯蔵されかつ場合により取引される。通常、触媒としてのその使用前にこれは前還元される。しかしながらこれは前還元なしでも使用することができ、その後これは水素化アミノ化の条件下で反応器中に存在する水素により還元される。
【0060】
前還元のために触媒をまず有利には150〜200℃で、例えば12〜20時間にわたり窒素−水素−雰囲気にさらしかつ引き続きさらに約24時間まで有利には200〜400℃で水素雰囲気において処理する。この前還元の場合、触媒中に存在する酸素を含有する金属化合物の一部は還元され相応する金属になるので、結果としてそれらは様々な種類の酸素化合物といっしょに触媒の活性の形において存在することになる。
【0061】
EP−A−284919で開示された、一般式MMg(SiO)・nHO、式中、MはCu、Fe、CoおよびNiの群からの二価の還元可能な金属原子、xおよびyは合わせて1.5の値に到達してもよい数字であり、かつ乾燥後に質量%で記載される、nが0〜80である触媒、例えば上記引用文中の例に記載されたCuO35%、MgO9%およびSiO38%を含有する触媒およびEP−A−863140の3頁に記載されたCuO45〜47質量%、MgO約15〜17質量%からなるケイ酸マグネシウムおよびSiO35〜36質量%、Cr約0.9質量%、BaO約1質量%およびZnO約0.6質量%を含有する触媒および
WO95/32171およびEP−A−816350で開示された、か焼された触媒の全質量にそのつど対する、CuOとして計算される銅5〜50、有利には15〜40質量%、SiOとして計算されるケイ素50〜95、有利には60〜85質量%、MgOとして計算されるマグネシウム0〜20質量%、BaOとして計算されるバリウム0〜5質量%、ZnOとして計算される亜鉛0〜5質量%、およびCrとして計算されるクロム0〜5質量%を含有する担体触媒、例えばEP−A−816350の5頁に開示された、CuO30質量%およびSiO70質量%を含有する触媒は本発明による方法において有利に使用することができる。
【0062】
とりわけ有利には本発明による方法において、DE−A−2445303で開示された、一般の組成物CuAl(CO0.5m(OH)m+12(式中、mは任意の、また整数とは限らない値2〜6である)の塩基性の銅およびアルミニウムを含有する炭酸塩の熱処理により、350〜700℃の温度で得られる触媒、例えば上記引用文中の例1に開示された、硝酸銅および硝酸アルミニウムと重炭酸ナトリウムとの溶液の処理および引き続く沈殿物の洗浄、乾燥および熱処理により製造される銅含有沈殿触媒、および
EP−A−514692に開示された、水素による還元前のその触媒活性組成物が1:1〜10:1の原子比の銅およびニッケルの酸化物と酸化ジルコニウムおよび/または酸化アルミニウム5〜100質量%を含有する触媒、殊に上記引用文中の第3頁、第20行〜第80行に開示された、水素による還元前のその触媒活性組成物がAlおよび/またはZrO20〜80、とりわけ40〜70質量%、CuO1〜30質量%、NiO1〜30質量%および場合によりCoO1〜30質量%を含有する触媒、例えば上記引用文中の例1に記載された、(活性化後に)Al55質量%、Cu36質量%およびNi7質量%からなる触媒が使用可能である。
【0063】
本発明による方法は連続的に実施され、そのさい触媒は有利には固定床として反応器中に配置される。そのさい触媒固定床の流入(Anstroemung)は上方からのみならずまた下方からも可能である。そのさいガス流を、沸騰しにくい(高沸点である)反応生成物が気相中に残るように温度、圧力および量により設定する。
【0064】
アミン成分(窒素化合物)は、そのつど使用されるアルコール、アルデヒドおよび/またはケトンに対して、有利には0.90〜100倍のモル量で、殊に1.0〜10倍のモル量で使用される。
【0065】
有利には本発明による方法は、1〜300bar、有利には1〜50bar、とりわけ有利には1〜30barの範囲の絶対圧力で実施される。
【0066】
有利には本発明による方法は、アルコールアミノ化の場合、80〜300℃、有利には150〜250℃、とりわけ有利には170〜230℃の範囲の温度で実施される。
【0067】
有利には本発明による方法は、アルデヒドアミノ化および/またはケトンアミノ化の場合、60〜200℃、有利には80〜170℃、とりわけ有利には100〜150℃の範囲の温度で実施される。
【0068】
有利には、5〜800標準立方メートル/h、殊に20〜300標準立方メートル/hの排ガス量が操作される。
【0069】
有利には触媒負荷は、触媒(床体積)1リットルおよび1時間につきアルコール、アルデヒドおよび/またはケトン0.1〜2.0、有利には0.1〜1.0、とりわけ有利には0.2〜0.6kgの範囲にある。
【0070】
比較的高い温度、比較的高い全圧力および比較的高い触媒負荷の適用が可能である。記載された温度でのアミノ化剤、アルコール成分、アルデヒド成分および/またはケトン成分および生成された反応生成物の分圧の合計から生じる反応器中の圧力は、適切には水素を所望された反応圧力へ圧入することにより高められる。
【0071】
反応の過程で生成された反応水は、一般的に反応度(Umsetzungsgrad)、反応速度、選択性および触媒耐用寿命に妨害作用を及ぼさなく、従って適切には反応生成物を後処理する際にはじめて該反応生成物から、例えば蒸留により取り除かれる。
【0072】
反応搬出物から、これが適切に中和された後に、余分な水素および場合により存在する余分なアミノ化剤が取り除かれかつ得られた反応生成物は、例えば分別精留(fractional rectification)により精製される。適切な後処理方法は、例えばEP−A−1312600およびEP−A−1312599(いずれもBASF AG)に記載されている。
【0073】
未反応のエダクトおよび場合により生じる適切な副生成物は、再び合成に返送してよい。反応しなかったエダクトは、非連続的なまたは連続的な運転方法で生成物の凝縮後に分離器中で新たに触媒床を介して循環ガス流中に流入してよい。
【0074】
アンモニアの他に本発明による方法におけるアミノ化剤として適切な第一級および第二級アミンは、その沸点に基づき方法技術的に方法パラメータの範囲内で気相中にとどめることができるアミンである。同じことが方法生成物アミンおよび方法エダクト(アルコール、アルデヒド、ケトン)にも当てはまる。
【0075】
本発明による方法により製造することができるのは、例えば式I
【0076】
【化1】

[式中、
、Rは、水素(H)、アルキル、例えばC1〜20−アルキル、シクロアルキル、例えばC3〜12−シクロアルキル、アルコキシアルキル、例えばC2〜30−アルコキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、例えばC3〜30−ジアルキルアミノアルキル、アリール、アラルキル、例えばC7〜20−アラルキル、およびアルキルアリール、例えばC7〜20−アルキルアリール、またはいっしょに−(CH−X−(CH−を形成する、
、Rは、水素(H)、アルキル、例えばC1〜20−アルキル、シクロアルキル、例えばC3〜12−シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、例えばC1〜20−ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、例えばC1〜20−アミノアルキル、ヒドロキシアルキルアミノアルキル、例えばC2〜20−ヒドロキシアルキルアミノアルキル、アルコキシアルキル、例えばC2〜30−アルコキシアルキル、ジアルキルアミノアルキル、例えばC3〜30−ジアルキルアミノアルキル、アルキルアミノアルキル、例えばC2〜30−アルキルアミノアルキル、R−(OCRCR)n−(OCR)、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、例えばC7〜20−アラルキル、ヘテロアリールアルキル、例えばC4〜20−ヘテロアリールアルキル、アルキルアリール、例えばC7〜20−アルキルアリール、アルキルヘテロアリール、例えばC4〜20−アルキルヘテロアリール、およびY−(CH−NR−(CHまたはいっしょに−(CH−X−(CH−を形成するまたは
およびRは、いっしょに−(CH−X−(CH−を形成する、
、R10は、水素(H)、アルキル、例えばC1〜4−アルキル、アルキルフェニル、例えばC7〜40−アルキルフェニル、
、R、R、Rは、水素(H)、メチルまたはエチル、
Xは、CH、CHR、酸素(O)、硫黄(S)またはNR
Yは、N(R10、ヒドロキシ、C2〜20−アルキルアミノアルキルまたはC3〜20−ジアルキルアミノアルキル、
nは、1〜30の整数および
j、k、l、m、qは、1〜4の整数である]のアミンである。
【0077】
従って本発明による方法は、有利にはアミンIを製造するために使用され、そのさい式II
【0078】
【化2】

の第一級または第二級アルコールおよび/または式VI
【0079】
【化3】

もしくはVII
【0080】
【化4】

のアルデヒドおよび/またはケトンを式III
【0081】
【化5】

[式中、
、R、RおよびRは、上記の意味を有する]の窒素化合物と反応させる。
【0082】
エダクトのアルコールはアミノアルコールであり、例えば式IIに従うアミノアルコールである。
【0083】
基RおよびRの定義から明らかなように、反応はまた相応するアミノアルコール、アミノケトンまたはアミノアルデヒドにおいて分子内で行ってもよい。
【0084】
それに従って、アミンIを製造するために純粋に形式的に窒素化合物IIIの水素原子を−モル当量の水の遊離下で基R(R)CH−により置換する。
【0085】
同様に有利には本発明による方法は、式V
【0086】
【化6】

のアルコールとアンモニアまたは式VI
【0087】
【化7】

の第一級アミンとの反応による式IV
【0088】
【化8】

[式中、
11およびR12は、水素(H)、アルキル、例えばC〜C20−アルキル、シクロアルキル、例えばC〜C12−シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、例えばC〜C20−アラルキル、およびアルキルアリール、例えばC〜C20−アルキルアリール、
Zは、CH、CHR、酸素(O)、NRまたはNCHCHOHでありかつ
、R、Rは、上記の意味を有する]の環状アミンの製造の際にも使用される。
【0089】
置換基R〜R12、変数X、Y、Zおよび化合物I、II、III、IV、V、VIおよびVII中の変項j、k、l、m、nおよびqは、互いに無関係に以下の意味を有する:
、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11、R12
−水素(H)、
、R
−アルキル、例えばC1〜20−アルキル、有利にはC1〜14−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソ−ペンチル、sec−ペンチル、ネオ−ペンチル、1,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、イソ−ヘキシル、sec−ヘキシル、シクロペンチルメチル、n−ヘプチル、イソ−ヘプチル、シクロヘキシルメチル、n−オクチル、イソ−オクチル、2−エチルヘキシル、n−デシル、2−n−プロピル−n−ヘプチル、n−トリデシル、2−n−ブチル−n−ノニルおよび3−n−ブチル−n−ノニル、
−ヒドロキシアルキル、例えばC1〜20−ヒドロキシアルキル、有利にはC1〜8−ヒドロキシアルキル、とりわけ有利にはC1〜4−ヒドロキシアルキル、例えばヒドロキシメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシ−n−プロピル、2−ヒドロキシ−n−プロピル、3−ヒドロキシ−n−プロピルおよび1−(ヒドロキシメチル)エチル、
−アミノアルキル、例えばC1〜20−アミノアルキル、有利にはC1〜8−アミノアルキル、例えばアミノメチル、2−アミノエチル、2−アミノ−1,1−ジメチルエチル、2−アミノ−n−プロピル、3−アミノ−n−プロピル、4−アミノ−n−ブチル、5−アミノ−n−ペンチル、N−(2−アミノエチル)−2−アミノエチルおよびN−(2−アミノエチル)アミノメチル、
−ヒドロキシアルキルアミノアルキル、例えばC2〜20−ヒドロキシアルキルアミノアルキル、有利にはC3〜8−ヒドロキシアルキルアミノアルキル、例えば(2−ヒドロキシエチルアミノ)メチル、2−(2−ヒドロキシエチルアミノ)エチルおよび3−(2−ヒドロキシエチルアミノ)プロピル、
−R−(OCRCR)n−(OCR)、有利にはR−(OCHRCHR)n−(OCR)、とりわけ有利にはR−(OCHCHR)n−(OCR)、
−アルキルアミノアルキル、例えばC2〜30−アルキルアミノアルキル、有利にはC2〜20−アルキルアミノアルキル、とりわけ有利にはC2〜8−アルキルアミノアルキル、例えばメチルアミノメチル、2−メチルアミノエチル、エチルアミノメチル、2−エチルアミノエチルおよび2−(イソ−プロピルアミノ)エチル、(R)HN−(CH
−Y−(CH−NR−(CH
−ヘテロアリールアルキル、例えばC4〜20−ヘテロアリールアルキル、例えばピリド−2−イル−メチル、フラン−2−イル−メチル、ピロール−3−イル−メチルおよびイミダゾール−2−イル−メチル、
−アルキルヘテロアリール、例えばC4〜20−アルキルヘテロアリール、例えば2−メチル−3−ピリジニル、4,5−ジメチル−イミダゾール−2−イル、3−メチル−2−フラニルおよび5−メチル−2−ピラジニル、
−ヘテロアリール、例えば2−ピリジニル、3−ピリジニル、4−ピリジニル、ピラジニル、ピロール−3−イル、イミダゾール−2−イル、2−フラニルおよび3−フラニル、
、R、R、R
−シクロアルキル、例えばC3〜12−シクロアルキル、有利にはC3〜8−シクロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルおよびシクロオクチル、とりわけ有利にはシクロペンチルおよびシクロヘキシル、
−アルコキシアルキル、例えばC2〜30−アルコキシアルキル、有利にはC2〜20−アルコキシアルキル、とりわけ有利にはC2〜8−アルコキシアルキル、例えばメトキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、イソ−プロポキシメチル、n−ブトキシメチル、イソ−ブトキシメチル、sec−ブトキシメチル、tert−ブトキシメチル、1−メトキシ−エチルおよび2−メトキエチル、とりわけ有利にはC2〜4−アルコキシアルキル、
−ジアルキルアミノアルキル、例えばC3〜30−ジアルキルアミノアルキル、有利にはC3〜20−ジアルキルアミノアルキル、とりわけ有利にはC3〜10−ジアルキルアミノアルキル、例えばN,N−ジメチルアミノメチル、(N,N−ジブチルアミノ)メチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジブチルアミノ)エチル、2−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)エチルおよび2−(N,N−ジ−イソ−プロピルアミノ)エチル、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル、(RN−(CH
−アリール、例えばフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、1−アントリル、2−アントリルおよび9−アントリル、有利にはフェニル、1−ナフチルおよび2−ナフチル、とりわけ有利にはフェニル、
−アルキルアリール、例えばC7〜20−アルキルアリール、有利にはC7〜12−アルキルフェニル、例えば2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,3,4−トリメチルフェニル、2,3,5−トリメチルフェニル、2,3,6−トリメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニル、4−エチルフェニル、2−n−プロピルフェニル、3−n−プロピルフェニルおよび4−n−プロピルフェニル、
−アラルキル、例えばC7〜20−アラルキル、有利にはC7〜12−フェニルアルキル、例えばベンジル、p−メトキシベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、1−フェネチル、2−フェネチル、1−フェニル−プロピル、2−フェニル−プロピル、3−フェニル−プロピル、1−フェニル−ブチル、2−フェニル−ブチル、3−フェニル−ブチルおよび4−フェニル−ブチル、とりわけ有利にはベンジル、1−フェネチルおよび2−フェネチル、
−RおよびRまたはRおよびRはいっしょになって−(CH−X−(CH−基、例えば−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH)−O−(CH−、−(CH)−NR−(CH−、−(CH)−CHR−(CH−、−(CH−O−(CH−、−(CH−NR−(CH−、−(CH−CHR−(CH−、−CH−O−(CH−、−CH−NR−(CH−、−CH−CHR−(CH−、
、R
−アルキル、例えばC1〜20−アルキル、有利にはC1〜8−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソ−ペンチル、sec−ペンチル、ネオ−ペンチル、1,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシル、イソ−ヘキシル、sec−ヘキシル、n−ヘプチル、イソ−ヘプチル、n−オクチル、イソ−オクチル、2−エチルヘキシル、とりわけ有利にはC1〜4−アルキル、または
−RおよびRはいっしょになって−(CH−X−(CH−基、例えば−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH−、−(CH)−O−(CH−、−(CH)−NR−(CH−、−(CH)−CHR−(CH−、−(CH−O−(CH−、−(CH−NR−(CH−、−(CH−CHR−(CH−、−CH−O−(CH−、−CH−NR−(CH−、−CH−CHR−(CH−、
、R10
−アルキル、有利にはC1〜4−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチル、sec−ブチルおよびtert−ブチル、有利にはメチルおよびエチル、とりわけ有利にはメチル、
−アルキルフェニル、有利にはC7〜40−アルキルフェニル、例えば2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,3,4−ノニルフェニル、2,3,4−デシルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、3,4−、3,5−ジノニルフェニル、2,3−、2,4−、2,5−、3,4−および3,5−ジデシルフェニル、殊にC7〜20−アルキルフェニル、
、R、R、R
−メチルまたはエチル、有利にはメチル、
11、R12
−そのつど上記で定義したように、アルキル、例えばC1〜20−アルキル、シクロアルキル、例えばC3〜12−シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、例えばC7〜20−アラルキル、およびアルキルアリール、例えばC7〜20−アルキルアリール、
X:
−CH、CHR、酸素(O)、硫黄(S)またはNR、有利にはCHおよびO、
Y:
−N(R10、有利にはNHおよびN(CH
−ヒドロキシ(OH)
−C2〜20−アルキルアミノアルキル、有利にはC2〜16−アルキルアミノアルキル、例えばメチルアミノメチル、2−メチルアミノエチル、エチルアミノメチル、2−エチルアミノエチルおよび2−(イソ−プロピルアミノ)エチル、
−C3〜20−ジアルキルアミノアルキル、有利にはC3〜16−ジアルキルアミノアルキル、例えばジメチルアミノメチル、2−ジメチルアミノエチル、2−ジエチルアミノエチル、2−(ジ−n−プロピルアミノ)エチルおよび2−(ジ−イソ−プロピルアミノ)エチル、
Z:
−CH、CHR、O、NRまたはNCHCHOH、
j、l:
−1〜4(1、2、3または4)、有利には2および3、とりわけ有利には2の整数、
k、m、q:
−1〜4(1、2、3または4)、有利には2、3および4、とりわけ有利には2および3の整数、
n:
−1〜30の整数、有利には1〜8(1、2、3、4、5、6、7または8)の整数、とりわけ有利には1〜6の整数。
【0090】
実地ではアルコールとして上記の前提下で、脂肪族のOH−官能基を有する全ての第一級および第二級アルコールが適している。アルコールは直鎖、分枝鎖状または環状であってよい。第二級アルコールは第一級アルコールと同様にアミノ化される。アルコールはさらに置換基を有しているかまたは水素化アミノ化の条件下で不活性に挙動する官能基、例えばアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を含有してよく、また一方で場合により水素化アミノ化の条件下で水素化され、例えばCC−二重結合または三重結合が水素化される。多価アルコールがアミノ化される場合、例えば反応条件の制御により有利にはアミノアルコール、環状アミンまたは多重アミノ化生成物を得ることができる。
【0091】
1,4−ジオールのアミノ化により反応条件の選択に応じて1−アミノ−4−ヒドロキシ化合物、1,4−ジアミノ−化合物ができるかまたは窒素原子を有する5員環(ピロリジン)が出来る。
【0092】
1,6−ジオールのアミノ化により反応条件の選択に応じて1−アミノ−6−ヒドロキシ−化合物、1,6−ジアミノ−化合物が出来るかまたは窒素原子を有する7員環(ヘキサメチレンイミン)ができる。
【0093】
1,5−ジオールのアミノ化により反応条件の選択に応じて1−アミノ−5−ヒドロキシ−化合物、1,5−ジアミノ−化合物が出来るかまたは窒素原子を有する7員環(ピペリジン)が出来る。それに従ってジグリコールから、NHによるアミノ化によりモノアミノジグリコール(=ADG=HN−CHCH−O−CHCH−OH)、ジアミノジグリコールまたはとりわけ有利にはモルホリンを得ることができる。ジエタノールアミンから、相応してとりわけ有利にはピペラジンが得られる。トリエタノールアミンから、N−(2−ヒドロキシエチル)−ピペラジンを得ることができる。
【0094】
有利には、例えば以下のアルコールがアミノ化される:
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソ−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−エチルヘキサノール、トリデカノール、ステアリルアルコール、パルミチルアルコール、シクロブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、2−フェニル−エタノール、2−(p−メトキシフェニル)−エタノール、2−(3,4−ジメトキシフェニル)エタノール、1−フェニル−3−ブタノール、エタノールアミン、n−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、2−アミノ−1−プロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、3−アミノ−2,2−ジメチル−1−プロパノール、n−ペンタノールアミン(1−アミノ−5−ペンタノール)、n−ヘキサノールアミン(1−アミノ−6−ヘキサノール)、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−アルキルジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、3−(2−ヒドロキシエチルアミノ)プロパン−1−オール、2−(N,N−ジメチルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジエチルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジ−イソ−プロピルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジ−イソ−ブチルアミノ)−エタノール、2−(N,N−ジ−sec−ブチルアミノ)エタノール、2−(N,N−ジ−tert−ブチルアミノ)エタノール、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジエチルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−イソ−プロピルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−イソ−ブチルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−sec−ブチルアミノ)プロパノール、3−(N,N−ジ−tert−ブチルアミノ)プロパノール、1−ジメチルアミノ−ペンタノール−4、1−ジメチルアミノ−ペンタノール−4、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、ジグリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2−ビス[4−ヒドロキシシクロヘキシル]プロパン、メトキシエタノール、プロポキシエタノール、ブトキシエタノール、ポリイソブチルアルコール、ポリプロピルアルコール、ポリエチレングリコールエーテル、ポリプロピレングリコールエーテルおよびポリブチレングリコールエーテル。最後に記載したポリアルキレングリコールエーテルは本発明による反応において、その遊離ヒドロキシル基の転換により相応するアミンに転換する。
【0095】
とりわけ有利なアルコールは、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、脂肪アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール(DEG)、トリエチレングリコール(TEG)、2−(2−ジメチルアミノ−エトキシ)エタノール、N−メチルジエタノールアミンおよび2−(2−ジメチルアミノエトキシ)エタノールである。
【0096】
本発明による方法において使用可能なケトンとして、実地では上記の前提下で全ての脂肪族および芳香族ケトンが適している。脂肪族ケトンは直鎖、分枝鎖状または環状であってよく、該ケトンはヘテロ原子を含有してもよい。ケトンはさらに置換基を有しているかまたは水素化アミノ化の条件下で不活性に挙動する官能基、例えばアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を含有してよく、または場合により水素化アミノ化の条件下で水素化されてもよく、例えばCC−二重結合または三重結合が水素化される。多価ケトンがアミノ化される場合、例えば反応条件の制御によりアミノケトン、アミノアルコール、環状アミンまたは多重アミノ化生成物を得ることができる。
【0097】
有利には、例えば以下のケトンがアミノ化水素化される:
アセトン、エチルメチルケトン、メチルビニルケトン、イソブチルメチルケトン、ブタノン、3−メチルブタン−2−オン、ジエチルケトン、テトラロン、アセトフェノン、p−メチル−アセトフェノン、p−メトキシ−アセトフェノン、m−メトキシ−アセトフェノン、1−アセチル−ナフタリン、2−アセチル−ナフタリン、1−フェニル−3−ブタノン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロペンテノン、シクロヘキサノン、シクロヘキセノン、2,6−ジメチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロドデカノン、アセチルアセトン、メチルグリオキサールおよびベンゾフェノン。
【0098】
本発明における方法において使用可能なアルデヒドとして、実地では上記の前提下で全ての脂肪族および芳香族アルデヒドが適している。脂肪族アルデヒドは直鎖、分枝鎖状または環状であってよく、該アルデヒドはヘテロ原子を含有してもよい。アルデヒドはさらに置換基を有しているかまたは水素化アミノ化の条件下で不活性に挙動する官能基、例えばアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を含有してよく、または場合により水素化アミノ化の条件下で水素化されてもよく、例えばCC−二重結合または三重結合が水素化される。多価のアルデヒドまたはケトアルデヒドがアミノ化される場合、例えば反応条件の制御によりアミノアルコール、環状アミンまたは多重アミノ化生成物を得ることができる。
【0099】
有利には、例えば以下のアルデヒドがアミノ化水素化される:
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ピバリンアルデヒド、n−ペンタナール、n−ヘキサナール、2−エチルヘキサナール、2−メチルペンタナール、3−メチルペンタナール、4−メチルペンタナール、グリオキサール、ベンズアルデヒド、p−メトキシベンズアルデヒド、p−メチルベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、(p−メトキシ−フェニル)アセトアルデヒド、(3,4−ジメトキシフェニル)−アセトアルデヒド、4−ホルミルテトラヒドロピラン、3−ホルミルテトラヒドロフラン、5−ホルミルバレロニトリル、シトロネラール、アクロレイン、メタクロレイン、エチルアクロレイン、シトラール、クロトンアルデヒド、3−メトキシ−プロピオンアルデヒド、3−アミノプロピオンアルデヒド、ヒドロキシピバリンアルデヒド、ジメチロールプロピオンアルデヒド、ジメチロールブチルアルデヒド、フルフラール、グリオキサール、グルタルアルデヒドならびにヒドロホルミル化されたオリゴマーおよびポリマー、例えばヒドロホルミル化されたポリイソブテン(ポリイソブテンアルデヒド)または1−ペンテンとシクロペンテンとの複分解により得られたかつヒドロホルミル化されたオリゴマー。
【0100】
アルコール、アルデヒドまたはケトンを水素の存在下で水素化アミノ化する際のアミノ化剤として、アンモニアと同様また第一級のまたは第二級の、脂肪族のまたは脂環式のまたは芳香族のアミンも使用してよい。
【0101】
アミノ化剤としてアンモニアを使用する場合、アルコール性ヒドロキシル基もしくはアルデヒド基もしくはケトン基がまず第一級アミノ基(−NH)に転換する。そのように生成された第一級アミンは、さらに別のアルコールもしくはアルデヒドもしくはケトンと反応して相応する第二級アミンになりかつこれは一方でさらに別のアルコールもしくはアルデヒドもしくはケトンと反応して、相応する、有利には対称性の第三級アミンとなる。(連続的な運転方法での)反応バッチまたはエダクト流の組成に応じて、かつ適用された反応条件−圧力、温度、反応時間(触媒負荷)−に応じて、この方法で望み通りに有利には第一級アミン、第二級アミンまたは第三級アミンを製造することができる。
【0102】
多価アルコールもしくはジアルデヒドまたはオリゴアルデヒドもしくはジケトンまたはオリゴケトンもしくはケトンアルデヒドから、この方法で分子内の水素化アミノ化により環状アミン、例えばピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、ピペラジンおよびモルホリンを製造することができる。
【0103】
アンモニアと同様、第一級または第二級アミンをアミノ化剤として使用することができる。
【0104】
有利にはこれらのアミノ化剤は、非対称性に置換されたジアルキルアミンまたはトリアルキルアミン、例えばエチルジイソプロピルアミンおよびエチルジシクロヘキシルアミンを製造するために使用される。例えば、以下のモノアルキルアミンおよびジアルキルアミンがアミノ化剤として使用される:メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、n−プロピル−アミン、ジ−n−プロピル−アミン、イソ−プロピルアミン、ジ−イソプロピル−アミン、イソプロピルエチルアミン、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、s−ブチルアミン、ジ−s−ブチルアミン、イソ−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、s−ペンチルアミン、イソ−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、s−ヘキシルアミン、イソ−ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、トルイジン、ピペリジン、モルホリンおよびピロリジン。
【0105】
本発明による方法によりとりわけ有利に製造されたアミンは、例えばモルホリン(アミノジグリコールから)、モルホリンおよび/または2,2’−ジモルホリノ−ジエチルエーテル(DMDEE)(DEGおよびアンモニアから)、6−ジメチルアミノヘキサノール−1(ヘキサンジオールおよびジメチルアミン(DMA)から)、トリエチルアミン(エタノールおよびジエチルアミン(DEA)から)、ジメチルエチルアミン(エタノールおよびDMAから)、N−(C1〜4−アルキル)モルホリン(DEGおよびモノ(C1〜4−アルキル)アミンから)、N−(C1〜4−アルキル)ピペリジン(1,5−ペンタンジオールおよびモノ(C1〜4−アルキル)アミンから)、ピペラジン(アミノエチルエタノールアミン(AEEA)およびアンモニアから)、N−メチル−ピペラジン(ジエタノールアミンおよびMMAから)、N,N’−ジメチルピペラジン(N−メチル−ジエタノールアミンおよびMMAから)、エチレンジアミン(EDA)および/またはジエチレントリアミン(DETA)および/またはPIP(モノエタノールアミン(MEOA)およびアンモニアから)、2−エチルヘキシルアミンおよびビス(2−エチルヘキシル)アミン(2−エチルヘキサノールおよびNHから)、トリデシルアミンおよびビス(トリデシル)アミン(トリデカノールおよびNHから)、n−オクチルアミン(n−オクタノールおよびNHから)、1,2−プロピレン−ジアミン(2−ヒドロキシ−プロピルアミンおよびNHから)1−ジエチルアミノ−4−アミノペンタン(1−ジエチルアミノ−4−ヒドロキシペンタンおよびNHから)、N,N−ジ(C1〜4−アルキル)シクロヘキシルアミン(シクロヘキサノンおよび/またはシクロヘキサノールおよびジ(C1〜4−アルキル)アミンから)、ポリイソブテンアミン(Pib−OxoおよびNHから)、n−プロピルアミン(例えばモノプロピルアミン/ジプロピルアミン、ジメチルプロピルアミン)(プロピオンアルデヒドおよび/またはn−プロパノールおよびNHもしくはDMAから)、N,N−ジメチル−N−イソプロピル−アミン(i−プロパノールおよび/またはアセトンおよびDMAから)、N,N−ジメチル−N−ブチルアミン(1−ブタノール、2−ブタノールまたはイソ−ブタノールおよび/またはブタナール、i−ブタナールまたはブタノンおよびDMAから)、2−(2−ジ(C1〜4−アルキル)アミノエトキシ)エタノールおよび/またはビス(2−ジ(C1〜4−アルキル)アミノエトキシ)エーテル(DEGおよびジ(C1〜4−アルキル)アミンから)、1,2−エチレンジアミン(EDA)、ジエチレントリアミン(DETA)および/またはピペラジン(PIP)(モノエチレングリコール(MEG)およびアンモニアから)、1,8−ジアミノ−3,6−ジオキサ−オクタンおよび/または1−アミノ−8−ヒドロキシ−3,6−ジオキサ−オクタン(トリエチレングリコール(TEG)およびアンモニアから)、1−メトキシ−2−プロピルアミン(1−メトキシ−イソプロピルアミン、MOIPA)(1−メトキシ−2−プロパノールおよびアンモニアから)である。
【0106】

以下の例1〜8のために(最後の熱処理後および水による還元前の)組成CuO55質量%およびγ−Al45質量%の銅−沈殿触媒を使用した。触媒の製造は、DE−A−2445303の例1と同様に行いかつ反応前に触媒を水素流中において約200℃で還元した。
【0107】
1.N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンの製造
加圧しないで(1bar絶対)新鮮ガス−量を水素100Nl/h(Nl=標準リットル=標準条件下で換算された体積)により一定に設定した。ジメチルアミンおよびシクロヘキサノンを別々に気化させかつ混合後に熱い新鮮ガス流に供給した。負荷されたガス流は、管型反応器中で等温により150℃(+/−2℃)および1bar絶対で触媒により反応させた。合成は、0.10lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、3:1のジメチルアミン/シクロヘキサノンのモル比、8.4Nm/h(Nm=標準立方メートル=標準条件下で換算された体積)の循環ガス量および100標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。シクロへキサノンを反応の際に完全に反応させかつ使用されたシクロヘキサノンに関して選択率88%を達成した。生成物は冷却器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0108】
2.ピペリジンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル(Drucklitern)/(lKat・h)により一定に設定した。アンモニアおよび1,5−ペンタンジオールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いアンモニアを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により220℃(+/−2℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.20lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、6:1のアンモニア/ペンタンジオールのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ペンタンジオールを反応の際に完全に反応させかつ使用されたペンタンジオールに関して選択率88〜90%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0109】
3.N−メチルモルホリンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。モノメチルアミンおよびジエチレングリコールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いモノメチルアミンを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により215℃(+/−1℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.2〜0.35lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、1:1.2〜1.8のアルコール/アミンのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ジエチレングリコールを反応の際に完全に反応させかつ使用されたジエチレングリコールに関して選択率90%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0110】
4.N−メチルピペリジンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。モノメチルアミンおよび1,5−ペンタンジオールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いモノメチルアミンを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により205℃(+/−2℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.2〜0.5lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、1.2〜2.5:1のモノメチルアミン/ペンタンジオールのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ペンタンジオールを反応の際に完全に反応させかつ使用されたペンタンジオールに関して選択率91〜96%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0111】
5.N,N−ジメチルエチルアミンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約200リットル/(lKat・h)により一定に設定した。ジメチルアミンおよびエタノールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いジメチルアミンを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により190℃(+/−1℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.41lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、1.7:1のエタノール/ジメチルアミンのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ジメチルアミンを反応の際に完全に反応させかつ使用されたエタノールに関して選択率94〜97%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0112】
6.エチルプロピルアミンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素500Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。エチルアミンおよびプロパナールを別々に気化させかつまず前加熱したエチルアミンを熱い循環ガス流に供給し、引き続き反応器の直前に冷たいプロパナールを固定ミキサーにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により120℃(+/−3℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.15lPropanal/lKat・hの触媒負荷、1:2.0のプロパナール/エチルアミンのモル比および500標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。プロパナールを反応の際に完全に反応させかつ使用されたプロパナールに関して選択率>97%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0113】
7.2−(2−ジメチルアミノエトキシ)エタノールおよびビス−(2−ジメチル−アミノエチル)−エーテルの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。ジメチルアミンおよびジエチレングリコールを別々に気化させかつまず前加熱したジエチレングリコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いジメチルアミンを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により190℃(+/−1℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.2lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、1:1.1のジエチレングリコール/ジメチルアミンのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ジエチレングリコールを反応の際に90%反応させかつ使用されたジエチレングリコールに関して2−(2−ジメチルアミノエトキシ)エタノールおよびビス−(2−ジメチルアミノエチル)−エーテルは選択率84%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0114】
8.2,2’−ジモルホリノジエチルエーテル(=ジモルホリノジグリコール)の製造
圧力を16bar絶対に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約300リットル/(lKat・h)により一定に設定した。アンモニアおよびジエチレングリコールを別々に気化させかつまず前加熱したジエチレングリコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いアンモニアを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により210℃(+/−2℃)および16barで触媒により反応させた。合成は、0.30lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、3:1のアンモニア/アルコールのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。アルコールを反応の際に90%反応させかつ使用されたジオールに関して選択率50%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0115】
以下の例9〜12のために、(最後の熱処理後および水素による還元前の)組成CuO45質量%、γ−Al45質量%およびNiO10質量%の銅−触媒を使用した。触媒の製造は、EP−A−514692の例1と同様に行いかつ反応の開始前に触媒を約200℃の水素流中で還元した。
【0116】
9.モノイソプロピルアミンの製造
加圧なしで(1bar絶対)新鮮ガス−量を水素500Nl/h(Nl=標準リットル=標準条件下で換算された体積)により一定に設定した。アンモニアおよびアセトンを別々に気化させかつ混合後に熱い新鮮ガス流に供給した。負荷されたガス流は、管型反応器中で等温により120℃(+/−4℃)および20bar絶対で触媒により反応させた。合成は、0.40lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、3:1のアンモニア/アセトンのモル比、4.2Nm/hの循環ガス量および500標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。アセトンを反応の際に完全に反応させかつ使用されたシクロヘキサノンに関して選択率90%を達成した。生成物は冷却器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0117】
10.ピペリジンの製造
圧力を20bar(21bar絶対)に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを約8.4Nm/hにより一定に設定した。アンモニアおよび1,5−ペンタンジオールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いアンモニアを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により210℃(+/−2℃)および20barで触媒により反応させた。合成は、0.40lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、8:1のアンモニア/ペンタンジオールのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。ペンタンジールを反応の際に完全に反応させかつ使用されたペンタンジオールに関して選択率95%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0118】
11.R−/S−MOIPA(Racemat)(=1−メトキシ−2−アミノプロパン)の製造
圧力を16bar絶対に、新鮮ガス−量を水素300Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。アンモニアおよび1−メトキシ−2−プロパノールを別々に気化させかつまず前加熱したアルコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いアンモニアを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により195℃(+/−1℃)および16barで触媒により反応させた。合成は、0.25lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、10:1のアンモニア/アルコールのモル比および300標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。アルコールを反応の際に99.5%、つまりほとんど完全に反応させかつ使用されたアルコールに関して選択率94%を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。
【0119】
12.モルホリンの製造
圧力を11bar絶対に、新鮮ガス−量を水素200Nl/hによりかつ循環ガスを作動圧力で約400リットル/(lKat・h)により一定に設定した。アンモニアおよびジエチレングリコールを別々に気化させかつまず前加熱したジエチレングリコールを熱い循環ガス流に供給し、引き続き熱いアンモニアを圧力ガスポンプにより反応器中に送り込んだ。負荷された循環ガス流は、管型反応器中で等温により210℃(+/−2℃)および11barで触媒により反応させた。合成は、0.30lAlkohol/lKat・hの触媒負荷、10:1のアンモニア/アルコールのモル比および200標準リットル/lKat・hの新鮮ガス−H−量により行った。アルコールを反応の際に97%以上反応させかつ使用されたジオールに関して97%以上の選択率を達成した。生成物は圧力ガス分離器により凝縮させかつ蒸留精製のために回収した。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
第一級または第二級アルコール、アルデヒドおよび/またはケトンと、水素およびアンモニア、第一級および第二級アミンの群から選択された窒素化合物とを銅含有触媒の存在下において60〜300℃の範囲の温度で反応させることによるアミンの連続的な製造法において、水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が酸化アルミニウム(Al)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化チタン(TiO)および/または二酸化ケイ素(SiO)20〜85質量%、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物1〜70質量%、MgOとして計算される酸素を含有するマグネシウムの化合物、Crとして計算される酸素を含有するクロムの化合物、ZnOとして計算される酸素を含有する亜鉛の化合物、BaOとして計算される酸素を含有するバリウムの化合物、および/またはCaOとして計算される酸素を含有するカルシウムの化合物0〜50質量%、およびCuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物30質量%未満を含有しかつ反応を管型反応器において気相中で等温により行うことを特徴とする、アミンの連続的な製造法。
【請求項2】
反応を等温で、最大+/−8℃の温度変動により行うことを特徴とする、請求項1記載の方法。
【請求項3】
反応を等温で、最大+/−5℃の温度変動により行うことを特徴とする、請求項1記載の方法。
【請求項4】
反応を管型反応器中で循環ガス法において行うことを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
【請求項5】
循環ガス量が(作動圧力で)40〜1500m/[触媒m(床体積)・h]の範囲にあることを特徴とする、請求項4記載の方法。
【請求項6】
循環ガス量が(作動圧力で)100〜700m/[触媒m(床体積)・h]の範囲にあることを特徴とする、請求項4記載の方法。
【請求項7】
反応を管束反応器中でかまたはシングルストリーム装置中で行うことを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
【請求項8】
反応を1〜300barの範囲の絶対圧力において行うことを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
【請求項9】
反応管の温度調整を外側からオイル流または溶融塩により行うことを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
【請求項10】
循環ガスが少なくとも水素(H)10体積%を含有することを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
【請求項11】
水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物25質量%未満を含有することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
【請求項12】
水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物に対して、NiOとして計算される酸素を含有するニッケルの化合物20質量%未満を含有することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
【請求項13】
水素による還元前の触媒の触媒活性組成物が、酸化アルミニウム(Al)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、二酸化チタン(TiO)および/または二酸化ケイ素(SiO)30〜75質量%、CuOとして計算される酸素を含有する銅の化合物5〜60質量%、およびMgOとして計算される酸素を含有するマグネシウムの化合物、Crとして計算される酸素を含有するクロムの化合物、ZnOとして計算される酸素を含有する亜鉛の化合物、BaOとして計算される酸素を含有するバリウムの化合物、および/またはCaOとして計算される酸素を含有するカルシウムの化合物0〜20質量%を含有することを特徴とする、請求項1から12までのいずれか1項記載の方法。
【請求項14】
ジエチレングリコール(DEG)とアンモニアとの反応によりモルホリンおよび/または2,2’−ジモルホリノジエチルエーテルを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項15】
シクロヘキサノンおよび/またはシクロヘキサノールとジ(C1〜4−アルキル)アミンとの反応によりN,N−ジ(C1〜4−アルキル)シクロヘキシルアミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項16】
1,5−ペンタンジオールとアンモニアとの反応によりピペリジンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項17】
1,4−ブタンジオールとアンモニアとの反応によりピロリジンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項18】
1,6−ヘキサンジオールとアンモニアとの反応によりヘキサメチレンイミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項19】
ジエチレングリコールとモノ(C1〜4−アルキル)アミンとの反応によりN−(C1〜4−アルキル)モルホリンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項20】
N−エチルモルホリンを製造するための請求項19記載の方法。
【請求項21】
1,5−ペンタンジオールとモノ(C1〜4−アルキル)アミンとの反応によりN−(C1〜4−アルキル)ピペリジンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項22】
エタノールとジメチルアミンとの反応によりN,N−ジメチルエチルアミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項23】
n−プロパノールおよび/またはプロパナールとジメチルアミン(DMA)との反応によりN,N−ジメチル−N−プロピルアミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項24】
i−プロパノールおよび/またはアセトンとDMAとの反応によりN,N−ジメチル−N−イソプロピルアミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項25】
1−ブタノールおよび/またはブタナールとDMAとの反応によりN,N−ジメチル−N−(n−ブチル)アミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項26】
i−ブタノールおよび/またはi−ブタナールとDMAとの反応によりN,N−ジメチル−N−(イソ−ブチル)アミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項27】
2−ブタノールおよび/またはブタノンとDMAとの反応によりN,N−ジメチル−N−(2−ブチル)アミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項28】
n−プロパノールおよび/またはプロパナールとモノエチルアミンとの反応によりエチルプロピルアミンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項29】
ジエチレングリコールとジ(C1〜4−アルキル)アミンとの反応により2−(2−ジ(C1〜4−アルキル)アミノエトキシ)エタノールおよび/またはビス(2−ジ(C1〜4−アルキル)アミノエチル)エーテルを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項30】
アミノエチルエタノールアミン(AEEA)とアンモニアとの反応によりピペラジンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項31】
モノエチレングリコール(MEG)とアンモニアとの反応により1,2−エチレンジアミン(EDA)、ジエチレントリアミン(DETA)および/またはピペラジン(PIP)を製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項32】
トリエチレングリコール(TEG)とアンモニアとの反応により1,8−ジアミノ−3,6−ジオキサ−オクタンおよび/または1−アミノ−8−ヒドロキシ−3,6−ジオキサ−オクタンを製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項33】
1−メトキシ−2−プロパノールとアンモニアとの反応により1−メトキシ−2−プロピルアミン(1−メトキシ−イソプロピルアミン、MOIPA)を製造するための、請求項1から13までのいずれか1項記載の方法。
【請求項34】
アミン成分(窒素化合物)を、使用されるアルコール、アルデヒドおよび/またはケトンに対して、0.90〜100倍のモル量において使用することを特徴とする、請求項1から33までのいずれか1項記載の方法。
【請求項35】
アミン成分(窒素化合物)を、使用されるアルコール、アルデヒドおよび/またはケトンに対して、1.0〜10倍のモル量において使用することを特徴とする、請求項1から33までのいずれか1項記載の方法。
【請求項36】
触媒を反応器中で固定床として配置することを特徴とする、請求項1から35までのいずれか1項記載の方法。
【請求項37】
アルコール、アルデヒドおよび/またはケトンを水溶液として使用することを特徴とする、請求項1から36までのいずれか1項記載の方法。
【請求項38】
アンモニア、第一級または第二級アミンを水溶液として使用することを特徴とする、請求項1から37までのいずれか1項記載の方法。

【公表番号】特表2007−537177(P2007−537177A)
【公表日】平成19年12月20日(2007.12.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−512010(P2007−512010)
【出願日】平成17年5月4日(2005.5.4)
【国際出願番号】PCT/EP2005/004817
【国際公開番号】WO2005/110969
【国際公開日】平成17年11月24日(2005.11.24)
【出願人】(595123069)ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト (847)
【氏名又は名称原語表記】BASF Aktiengesellschaft
【住所又は居所原語表記】D−67056 Ludwigshafen, Germany
【Fターム(参考)】