説明

イオン源

【課題】
複数枚のスリット電極を有するイオン源において、電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行う。
【解決手段】
この発明のイオン源1は、引出し電極系として複数枚のスリット電極7〜10を有するイオン源1である。そして、スリット電極7〜10は、開口部15を有する電極枠体14と開口部15内に並設された複数本の電極棒16とから構成されているとともに、イオン源1より発生されるイオンビーム2の進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極5を構成する電極棒16において、隣り合う電極棒16間に形成されるスリット状開口部17の形状がイオンビーム3の進行方向に沿って略テーパー状となるように構成されている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、イオンビーム照射装置のイオン源で用いられるスリット電極の構成に関する。
【背景技術】
【0002】
イオン源よりイオンビームを引き出す為の引出電極系として、複数枚のスリット電極が用いられる。このスリット電極には、複数のスリット状開口部が形成されている。
【0003】
具体的には、このスリット電極の例が特許文献1に開示されている。ここでは、電極枠体の開口部内に複数本の電極棒をその短手方向に沿って並設させることで、各電極棒間に複数のスリット状開口部を有するスリット電極が構成されている。
【0004】
また、特許文献2にも特許文献1と同様のスリット電極が開示されている。ここでは、矩形状の電極支持枠に複数のロッド通し穴を設けておき、この穴に複数本のロッドが挿入されることで、各ロッド間にスリット状開口部を有するスリット電極が構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特公平7−34358号公報(図2、図3)
【特許文献2】特開平8−148106号公報(図3、図5〜図7)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
従来から知られているように、イオン源より引き出されるイオンビームの電流量とその形状制御には、電極に形成された引出し開口の寸法と電極の厚み寸法との比が関連している。概略を説明すると、電極に形成された引出し開口の寸法をA、電極の厚み寸法をDとするとA/Dで表されるアスペクト比が大きくなると、電極を通して引き出されるイオンビームの電流量は多くなる。アスペクト比が大きくなりすぎると、引出し開口近傍に形成されるイオンの放出面が外部の擾乱(例えば電極間放電)時に復帰しにくくなり、安定にイオンビームを引出すことが困難になる等、制御性に問題が生じる。また、各電極間のアライメントずれに対して、偏向角が大きくなることも知られている。さらに、電極が薄くなるため、強度的な問題も発生する。反対に、アスペクト比が小さくなると、電極を通して引き出されるイオンビームの電流量は少なくなる。一方、イオンの放出面が安定に形成されるので、イオンビームの形状制御がし易くなる。
【0007】
イオンビーム照射装置の運用上、ウエハ等の基板を短時間で処理するためには、イオン源より引き出されるイオンビームの電流量が多いほど有利となる。一方、イオンビームの安定化は、装置運用上非常に重要である。そのためには、イオンビームの電流量と安定性、さらには電極の強度を考慮に入れた上で、上記アスペクト比を最適化する必要がある。また、発散角度の小さいイオンビームを得るためには、特に加速電極の形状の最適化が重要である。
【0008】
これに対して、特許文献1、2に記載のスリット電極に備えられた電極棒やロッドの形状は、全て円柱形状であることからわかるように、イオン源よりある程度の電流量と制御性を備えたバランスの良いイオンビームをうまく引き出す為の手法について、何ら開示されていなかった。
【0009】
そこで、本発明では電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行うことのできるイオン源を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明のイオン源は、引出し電極系として複数枚のスリット電極を有するイオン源であって、前記スリット電極は、開口部を有する電極枠体と前記開口部内に並設された複数本の電極棒とから構成されているとともに、前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極を構成する前記電極棒において、隣り合う電極棒間に形成されるスリット状開口部の形状が前記イオンビームの進行方向に沿って略テーパー状となるように構成されていることを特徴としている。
【0011】
このような構成を採用したことで、ビーム電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行うことができる。
【0012】
また、製造コストを考慮すると、前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極以外の前記スリット電極に備えられた前記電極棒の形状が略円柱形状をしていることが望ましい。
【0013】
略円柱形状の電極棒は製造コストが安く済む。その為、イオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極以外のスリット電極に備えられた電極棒を略円形状の形状にしているので、引出し電極系を構成するスリット電極全体で考えた場合、その費用を安くすることができる。
【0014】
イオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極に備えられた電極棒の具体的な構成としては、前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極を構成する前記電極棒は、前記イオンビームの進行方向に沿って、大径部と小径部とを有していることが望ましい。
【0015】
一方で、前記イオンビームの進行方向に沿って、前記大径部と前記小径部との間に傾斜部を有していても良い。
【発明の効果】
【0016】
イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極を構成する電極棒の形状を、隣り合う電極棒間で構成されるスリット状開口部の形状がイオンビームの進行方向に沿って略テーパー状となるように構成したので、電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【図1】本発明のイオン源の一例であり、その断面図を表す。
【図2】図1のイオン源に備えられたスリット電極の一例を表す平面図である。
【図3】図2の要部拡大図であり、(a)はスリット電極より、一部の蓋体が取り外されたときの様子を表し、(b)は(a)に記載のA-A線による加速電極の断面の様子を表し、(c)は(a)に記載のA-A線による引出電極、抑制電極、接地電極の断面の様子を表す。
【図4】図1に記載の各電極を構成する電極棒の断面形状を拡大した図である。
【図5】図4に記載の加速電極を構成する電極棒の斜視図であり、(a)はイオンビームの進行方向を紙面上側にしたときの電極棒の斜視図で、(b)はイオンビームの進行方向を紙面下側にしたときの電極棒の斜視図を表す。
【図6】(a)〜(c)は、図4に記載の加速電極を構成する電極棒の変形例を表す。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下の実施形態において、各図に描かれているX、Y、Zの各軸は互いに直交している。
【0019】
図1には、本発明のイオン源1の一例が記載されている。このイオン源1は、いわゆるバケット型イオン源と呼ばれるタイプのイオン源の一種である。なお、ここでは図示されるX方向における中央部でZ方向に沿ってイオン源1を切断したときの断面の様子が描かれている。
【0020】
このイオン源1は長方形状のプラズマ生成容器4を備えており、プラズマ生成容器4よりリボン状のイオンビーム2が引き出される。
【0021】
プラズマ生成容器4には図示されないバルブを介してガス源6が取り付けられており、このガス源6よりイオンビーム2の原料となるガス(例えば、PH3、BF、あるいは、水素やヘリウムによって希釈されたガス)の供給がなされている。また、このガス源6には図示されないガス流量調節器(マスフローコントローラー)が接続されており、このガス流量調節器によってガス源6からプラズマ生成容器4内部へのガスの供給量が調整されている。
【0022】
プラズマ生成容器4の一側面には、Y方向に沿って複数のU字型のフィラメント5が取り付けられている。これらのフィラメント5は、フィラメント5の端子間に接続される電源Vを用いて、各フィラメント5に流す電流量の調整が行えるように構成されている。このような構成にしておくことで、イオン源1より引き出されるイオンビーム2の電流密度分布の調整が可能となる。
【0023】
フィラメント5に電流を流して、フィラメント5を加熱させることによって、そこから電子が放出される。この電子が、プラズマ生成容器4の内部に供給されたガス(PHやBF等)に衝突してガスの電離を引き起こし、プラズマ生成容器4内にプラズマ3が生成される。
【0024】
このイオン源1には、プラズマ生成容器4の外壁に沿って複数の永久磁石11が取り付けられている。この永久磁石11によって、プラズマ生成容器4の内部領域にカスプ磁場が形成され、フィラメント5より放出された電子が所定領域内に閉じ込められる。なお、永久磁石11は、図示されないホルダーに収納され状態で、プラズマ生成容器4に取り付けられている。
【0025】
イオン源1は引出し電極系として4枚の電極を有しており、プラズマ生成容器4からイオンビーム2の引出し方向(図示されるZ方向で、イオンビーム2の進行方向とも呼ぶ)に沿って加速電極7、引出電極8、抑制電極9、接地電極10の順に配置されている。各電極とプラズマ生成容器4の電位は、複数の電源(V〜V)によって、それぞれ異なる値に設定されていて、各電極は絶縁フランジ13に対して電気的に独立して取り付けられている。
【0026】
引出し電極系として用いられる各電極には、後述するように複数のスリット状開口部17が設けられており、これらのスリット状開口部17を通して、イオンビーム2の引出しが行なわれる。なお、引出し電極系として4枚の電極を有する構成のイオン源1が記載されているが、これに限らず、電極の枚数は少なくとも2枚以上あれば良い。また、フィラメント5の本数も複数本ではなく、1本であっても構わない。
【0027】
図2には図1で説明した引出し電極系を構成する加速電極7、引出電極8、抑制電極9、接地電極10の例が描かれている。これらの電極は、特許文献1や特許文献2に挙げられるようなスリット状開口部17を有するスリット電極であり、図2において各電極7〜10は紙面奥方向(Z方向)に並べて配置されている。スリット状開口部17を構成する電極棒16の構成を除いて、他の構成は各電極で同様の構成となる為、ここでは1枚の電極を例に挙げてその構成を説明する。
【0028】
このスリット電極は、主に開口部15を有する電極枠体14と開口部15内に配置された複数本の電極棒16(図中、ハッチングされている部材)とで構成されている。
【0029】
各電極棒16は、長手方向がX方向に沿うように電極枠体14に支持されているとともに、Y方向に沿って略等しい間隔を空けて並設されている。
【0030】
Y方向に沿って並設された各電極棒16の間やY方向の端部に位置する各電極棒16と電極枠体14との間には、スリット状開口部17が形成されている。この図2や後述する図3(a)〜(c)では、図示の簡略化の為、電極棒16とスリット状開口部17に対する符号は一部のものにしか付記されていない。
【0031】
各電極棒16のX方向における端部は、電極枠体14に形成された電極棒支持部20に支持されており、この上方を覆うように蓋体18がネジ19により電極枠体14に取り付けられている。
【0032】
図2に記載のスリット電極から一部の蓋体18を取り除いたときの様子が図3(a)に描かれている。この図を参酌すると、前述した蓋体18によって各電極棒16の端部上方を蓋体18が覆っていることが理解できる。図3(a)のA‐A線による断面の様子が、図3(b)、図3(c)に描かれている。図3(b)にはイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する加速電極7での断面の様子が描かれており、図3(c)にはその他のスリット電極(引出電極8、抑制電極9、接地電極10)での断面の様子が描かれている。
【0033】
製造費用の点で考えると、電極棒16の形状は略円柱形状であることが望まれる。その方が電極棒16の製造時に余計な加工が必要ないので、製造費用を安くすることができる。イオン源1より引き出されるイオンビーム2の電流量や制御性は、主にプラズマ生成容器4のプラズマ3よりイオンビーム2が引き出される際に決定される。その為、加速電極7以外のスリット電極(引出電極8、抑制電極9、接地電極10)を構成する電極棒16の形状は、製造費用の安価な略円柱形状にしておくことが望まれる。なお、設計上、断面が真円な電極棒16を製造したとしても、製造誤差により、若干の歪みを有してしまう場合がある。そのような場合、形状は楕円形状となるかもしれない。このようなものも本発明に含まれるので、本発明では電極棒16の形状を略円柱形状としている。
【0034】
図4は、図1に記載の各スリット電極を構成する電極棒16の断面形状の様子を拡大したものである。この切断面は、図3(a)に示されるB‐B線による切断面に相当する。なお、図3(b)に示されるように、加速電極7を構成する電極棒16の端部において、断面形状が図4に記載のものとは異なっている。これについて詳述すると、開口部15の内側に配置される電極棒16の形状は、図4に示される形状であり、開口部15の外側に配置される電極棒16の端部では、図3(b)に示される形状となる。この理由は、電極棒16の長さ方向において、全体を図4に示される断面形状を有する電極棒16にしておくと、電極棒16の支持が不安定となり、各電極棒16間に形成されるスリット状開口部17の形状を均等に保つことが難しくなるからである。
【0035】
図4に示されるように、各スリット電極では、スリット状開口部17の中心位置がおおよそ一致している。そして、イオンビーム2の進行方向(図示されるZ方向)に沿って最も上流側(Z方向反対側)に位置する加速電極7を構成する電極棒16は、隣り合う電極棒16との間に形成されるスリット状開口部17の形状が略テーパー状となるように構成されている。
【0036】
ここで言う略テーパー状とは、図4に記載されているように、電極棒16の外形に破線で描かれているような補助線(後述する大径部21と小径部22とを結ぶ線)を引いたとき、スリット状開口部17の形状がおおよそテーパー状をしていることを意味している。このように、スリット状開口部17の形状を略テーパー状とし、イオンビーム2の進行方向における電極の厚みをイオンビーム2の進行方向に沿って徐々に厚くなるように構成することで、イオンビーム2の進行方向に沿って引出し開口の寸法と電極厚み寸法との比を変化させることができ、これにより電流量と制御性のバランスのとれたイオンビーム2を引き出すことが可能となる。
【0037】
理想的には、スリット状開口部17の形状がテーパー状となるように電極棒16の形状を加工することが考えられるが、そのような形状に電極棒16を加工することは製造精度や加工価格の面から実用的ではない。その為、上記したような形状の電極棒16を用いて、スリット状開口部17の形状が略テーパー状となるようにしている。
【0038】
図5(a)、5(b)には、前述した加速電極7を構成する電極棒16の斜視図が描かれている。図5(a)に記載される電極棒端部Mは開口部15の外側に位置する電極棒支持部20に配置され、電極棒中央部Nは開口部15の内側に配置される。図中、矢印IBは、この電極棒16を備えた加速電極7がイオン源1に取り付けられた際、イオンビーム2が引き出される方向(イオンビーム2の進行方向)に相当する。電極棒中央部Nに着目すると、この電極棒16は、イオンビーム2の進行方向(図中の矢印IB)に沿って、大径部21と小径部22とを有していることがわかる。図5(b)には、図5(a)に描かれる電極棒16の背面(図5(a)の紙面下側に位置する面)側から電極棒16をみたときの様子が描かれている。図示されるように電極棒16の背面は、ほぼ平らな形状をしている。図5(a)、図5(b)に記載の構成を用いているので、機械的な加工が容易であり、加工費用も安価で済む。なお、本発明では、複数の電極棒16をスリット状開口部17内に配置したとき、各電極棒16が並設された方向における電極棒16の寸法に関して、イオンビーム2の進行方向に沿って電極棒16を見たとき、先述した電極棒16の寸法が最も大きくなる部分のことを大径部と呼び、最も小さくなる部分のことを小径部と呼んでいる。
【0039】
図6(a)、図6(b)には、上記した電極棒16の変形例が記載されている。これらの図において、図示されるZ方向がイオンビーム2の進行方向に相当し、図示される電極棒16の断面は、開口部15の内側に配置された電極中央部での断面である。これらの図に記載されているように、イオンビーム2の進行方向に沿って、各電極棒16は大径部21と小径部22との間にイオンビーム2の進行方向と斜めに交差する傾斜部23を有している。このような構成の電極棒16を用いても、図中に破線で示されるように隣り合う電極棒16の間に形成されるスリット状開口部17の形状を略テーパー状にすることができる。なお、電極棒端部やその背面の構成については、図5(a)、図5(b)に示した構成と同様の構成である。また、図6(c)に描かれているように、2つ以上の傾斜部23を備えた構成であっても良い。
【0040】
前述した以外に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行っても良いのはもちろんである。
【符号の説明】
【0041】
1・・・イオン源
2・・・イオンビーム
7・・・加速電極
8・・・引出電極
9・・・抑制電極
10・・・接地電極
14・・・電極枠体
15・・・開口部
16・・・電極棒
17・・・スリット状開口部
21・・・大径部
22・・・小径部
23・・・傾斜部




【特許請求の範囲】
【請求項1】
引出し電極系として複数枚のスリット電極を有するイオン源であって、
前記スリット電極は、開口部を有する電極枠体と前記開口部内に並設された複数本の電極棒とから構成されているとともに、前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極を構成する前記電極棒において、隣り合う電極棒間に形成されるスリット状開口部の形状が前記イオンビームの進行方向に沿って略テーパー状となるように構成されていることを特徴とするイオン源。
【請求項2】
前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極以外の前記スリット電極に備えられた前記電極棒の形状が略円柱形状をしていることを特徴とする請求項1記載のイオン源。
【請求項3】
前記イオン源より発生されるイオンビームの進行方向に沿って最も上流側に位置する前記スリット電極を構成する前記電極棒は、前記イオンビームの進行方向に沿って、大径部と小径部とを有していることを特徴とする請求項1または2記載のイオン源。
【請求項4】
前記イオンビームの進行方向に沿って、前記大径部と前記小径部との間に傾斜部を有していることを特徴とする請求項3記載のイオン源。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2013−97958(P2013−97958A)
【公開日】平成25年5月20日(2013.5.20)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−238540(P2011−238540)
【出願日】平成23年10月31日(2011.10.31)
【出願人】(302054866)日新イオン機器株式会社 (161)
【Fターム(参考)】