説明

イソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成のための工業的製法

無極溶媒中のメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応を含むイソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成製法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、イソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成のための製法に関する。
【背景技術】
【0002】
ニソルジピンは、カルシウム拮抗薬と抗高血圧剤として薬理学的に活発な物質である。
【0003】
ニソルジピン合成製法は、例えば特許文献1及び特許文献2に示されたように技術として公知である。
【0004】
前記特許は、化成に付随する合成ルートのニソルジピンの特有の不純物として、ジメチルエステル誘導体(ジメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩:不純物A)及びジイソブチルエステル誘導体(ジイソブチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩:不純物E)について記述した。
【0005】
特に、基本特許の特許文献1は、前記調製がアルコール溶媒中で行なわれると開示したが、得られたニソルジピンのクロマトグラフィー純度を明記していない。
【0006】
特許文献1(実施例1)に開示された製法による本出願人によって行なわれた試験では、およそ3%(不純物Aに関して)及び2%(不純物Eに関して)の不純物含有量を示した。
【0007】
前記不純物とニソルジピンの間の大きな類似点を考えれば、それらをニソルジピンから取り除くのは非常に困難である。複雑な技術によって得られた精製された最終生産物の実質収率に前記収率が相当しない結果となり、また、どんな場合も、得られた未精製生成物に関する生成物減少を引き起こす。
【0008】
それゆえ、特に2つのニソルジピンの特有の不純物、つまりジメチルエステル誘導体(A)及びジイソブチルエステル誘導体(E)に関して、高純度の最終生産物を生産し、そして工業規模で容易に開発可能であり、廉価で商業上利用可能な試薬の使用に基づき、かつ未精製ニソルジピンの複雑で、高価で、かつ収率減少の増加を伴う精製を必要としない、新しいニソルジピン合成製法の必要性を強く感じていた。
【特許文献1】米国特許第4,154,839号明細書
【特許文献2】米国特許第4,600,778号明細書
【発明の開示】
【0009】
公知の製法の欠点がないニソルジピン合成の新しい製法は、今発見された技術である。
【0010】
出願人は驚くべき、また予期せずに、未精製ニソルジピンを生産するための無極溶媒、例えば、脂肪族又は脂肪族脂環の溶媒、特にシクロヘキサン及び/又はn−へキサンの中にメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応を含み、アセトン/水の混合物から簡単な結晶化により精製され、特に2つのニソルジピン特有の不純物、つまりジメチルエステル誘導体(A)及びジイソブチルエステル誘導体(E)に関して、高純度(>99.5%、HPLCによる)のニソルジピン最終生産物を生産するイソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成の新しい製法を発見した。
【0011】
本発明によって得られた未精製ニソルジピンは、結晶化のような単純な精製方法によって、前記未精製ニソルジピンの程度を充分99%を超過する(HPLCによる)ので、高純度のニソルジピン最終生産物に変換することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
それゆえ本発明の目的は、未精製ニソルジピンを生産するための4−ジメチルアミノピリジンの存在下又は不存在下で、1つの単一部分又は部分的の中に反応混合物が加えられた無極溶媒、例えば、脂肪族又は脂肪族脂環の溶媒、特にシクロヘキサン及び/又はn−ヘキサンの中にメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応を含み、反応溶媒から直接分離される又は蒸留による反応溶媒の除去の後にアセトン/水の混合物からの濾過によって分離される、イソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩合成の製法を提供することである。
【0013】
得られた未精製ニソルジピンは上述された反応を経て99%以上の純度で(HPLCによる)、水及び水溶性溶媒の混合物、特にアセトン/水の混合物から単純な結晶化によって精製され、特に2つのニソルジピン特有の不純物、つまりジメチルエステル誘導体(A)及びジイソブチルエステル誘導体(E)の含有量に関して、高純度(>99.5%、HPLCによる)を備えたニソルジピン最終生産物が生産される。
【0014】
本発明の目的であるニソルジピン合成製法の好ましい実施形態の中で、未精製ニソルジピンを生産するための無極溶媒中のメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応の後に、前記ニソルジピンは、水と水溶性溶媒の混合物、特にアセトン/水の混合物から結晶化により精製され、純粋なニソルジピン最終生産物を生じる。
【0015】
本発明の更なる好ましい実施形態の中で、上述されるように、メチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応前に、−10℃〜50℃、好ましくは20℃〜50℃、より好ましくは27℃〜33℃の温度で触媒量のピペリジン・ギ酸の存在下で、溶媒として塩化メチレン中でイソブチルアセトアセテートを有する2−ニトロベンズアルデヒドを反応させることにより前記ニソルジピン合成中間体、つまりイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートが得られる。
【0016】
ピペリジン・ギ酸触媒は、等モル量のギ酸及びピペリジンの追加によって反応混合物の中で元の所に形成される。
【0017】
ピペリジン・ギ酸触媒量は、0.05−0.7モルの触媒/モル 2−ニトロベンズアルデヒド、好ましくは0.05−0.6モルの触媒/モル 2−ニトロベンズアルデヒド、より好ましくは0.25モルの触媒/モル 2−ニトロベンズアルデヒド、使用される。
【0018】
発明の好ましい実施形態では、得られた中間体、つまりイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテート)は、溶媒として酢酸水溶液の存在下で分離される。
【0019】
ニソルジピン合成の中間体、イソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの合成の前記製法が、当該技術の中で公知の前記中間体の合成製法に、工業規模上で容易に開発可能な有効な代案である。
【0020】
次の例は表示により伝えるが、本発明を制限するものではない。
【実施例1】
【0021】
イソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの合成
反応器に2−ニトロベンズアルデヒド(18kg;0.119kmol)と塩化メチレン(36kg)を入れた。合成混合物は、イソブチルアセトアセテート(19.8kg;0.125kmol)と、連続的にピペリジン(2.62kg;0.03kmol)及び99%のギ酸(1.43kg;0.03kmol)と、が加えられ27℃−33℃に加熱された。27°−33℃の温度は20時間の間維持された。その時間後に蒸留水(9kg)が加えられた。低有機相は分離され、そして水溶性相が除去された。
【0022】
有機相は、高圧下で最高65℃の内部温度で濃縮させられた。反応器は蒸留の間真空下に置かれ、どんな場合も多量に沈殿するまで、最低1時間の間最高50℃の内部温度が継続された。得られた残分は40°−50℃で80%酢酸(36kg)で処理され、そして完全溶解まで前記温度で攪拌された。得られた溶液は、完全な沈降反応まで最低1時間の間25°−30℃に冷却された。温度は最低2時間0°−5℃に低下させた。その後、遠心分離が行なわれ、そして沈殿物は80%酢酸(18kg)で洗浄され、そしてその後蒸留水(54kg)で洗浄された。固形物は40°−50℃で乾燥され、乾いたイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートを22kg生じた。収率:63.4%。
【実施例2】
【0023】
ニソルジピンの合成
反応器にイソブチル2−2(ニトロベンジリデン)アセトアセテート(22kg;0.0755kmol)、4−ジメチルアミノピリジン(0.55kg)、メチル3−アミノクロトン酸(6.1kg;0.053kmol)、シクロヘキサン(88kg)を入れた。
【0024】
全体は10時間環流(75°−85℃)され、その後、追加量のメチル3−アミノクロトン酸(6.1kg)が加えられた。反応体は最低16時間環流(75°−85℃)された(反応中に生成物は沈殿した)。
【0025】
蒸留は、糊のようであるが攪拌可能な残分の化成まで、高圧下で最高85℃の内部温度で実行された。残分は20°−30℃に冷却され;蒸留水(11kg)及びメタノール(66kg)が加えられた。混合物は15分間20°−30℃で攪拌し、最低30分攪拌しながら10°−15℃に冷却し、遠心分離され、そしてメタノール(16.5kg)で洗浄され、そしてその後蒸留水(16.5kg)で洗浄された。得られた濡れ固形物(未精製ニソルジピン)を反応器に入れ、アセトン(77kg)を加え溶解まで20°−30℃で攪拌させ、蒸留水(40.5kg)を加え、完全沈降まで最低1時間20°−30℃で攪拌を維持する。追加量の蒸留水(9.5kg)は、20°−25℃で加えた。混合物は、更に1時間20°−25℃で攪拌下が維持され、そして遠心分離された。最終固形物は、別々に調製されたアセトン(16.5kg)/蒸留水(16.5kg)の混合物で洗浄され、そしてその後蒸留水(22kg)で洗浄された。固形物は40°−50℃で乾燥され、99.7%以上(HPLC)の純度の程度を有する15.5kgの乾いたニソルジピン生成物を生じた。収率52.9%。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
未精製ニソルジピンを生産するための1つの単一部分又は部分的の中に反応混合物が加えられた無極溶媒の中にメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応を含む、イソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成製法。
【請求項2】
前記無極溶媒が脂肪族又は脂肪族脂環の溶媒から成る群から選ばれる請求項1に記載の製法。
【請求項3】
前記溶媒がシクロヘキサン及びn−ヘキサンから成る群から選ばれる請求項2に記載の製法。
【請求項4】
前記反応のイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテート及びメチル3−アミノクロトン酸は4−ジメチルアミノピリジン存在下で実行される請求項1に記載の製法。
【請求項5】
未精製ニソルジピンを生産するための無極溶媒中のメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応の後に、前記ニソルジピンが水/水溶性溶媒の混合物からの結晶化によって精製され、純粋なニソルジピン最終生産物を生産する請求項1に記載の製法。
【請求項6】
前記水/水溶性溶媒の混合物が水/アセトンである請求項5に記載の製法。
【請求項7】
メチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応の前に、前記ニソルジピン合成中間体、つまりイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートが、−10℃〜50℃の温度で触媒量のピペリジン・ギ酸の存在下で、溶媒として塩化メチレン中のイソブチルアセトアセテートで2−ニトロベンズアルデヒドを反応させることにより得られる請求項1に記載の製法。
【請求項8】
イソブチルアセトアセテートを有する2−ニトロベンズアルデヒドの反応が20°−50℃の温度で実行される請求項7に記載の製法。
【請求項9】
温度範囲が27℃〜33℃である請求項8に記載の製法。
【請求項10】
前記ピペリジン・ギ酸触媒は、等モル量のギ酸及びピペリジンの追加によって反応混合物の中で元の所に形成される請求項7に記載の製法。
【請求項11】
前記ピペリジン・ギ酸触媒量は0.05−0.7モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒド使用される請求項7に記載の製法。
【請求項12】
前記触媒量は0.05−0.6モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項11に記載の製法。
【請求項13】
前記触媒量は0.25モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項12に記載の製法。
【請求項14】
前記イソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートは溶媒として酢酸水溶液の存在下で分離される請求項7に記載の製法。
【請求項15】
−10℃〜50℃の温度で、ピペリジン・ギ酸の触媒量の存在下で、溶媒としてメチレン塩化物中のイソブチルアセトアセテートを有する2−ニトロベンズアルデヒドの反応を含む2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの合成製法。
【請求項16】
前記反応は20°〜50℃に温度範囲で実行される請求項15に記載の製法。
【請求項17】
前記反応は27°−33℃で実行される請求項15に記載の製法。
【請求項18】
前記ピペリジン・ギ酸触媒は、等モル量のギ酸及びピペリジンの追加によって反応混合物の中で元の所に形成される請求項15に記載の製法。
【請求項19】
前記ピペリジン・ギ酸触媒量は0.05−0.7モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒド使用される請求項15に記載の製法。
【請求項20】
前記触媒量は0.05−0.6モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項15に記載の製法。
【請求項21】
前記触媒量は0.25モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項15に記載の製法。
【請求項22】
前記イソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートは溶媒として酢酸水溶液の存在下で分離される請求項15に記載の製法。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
未精製ニソルジピンを生産するための1つの単一部分又は部分的の中に反応混合物が加えられた無極溶媒の中にメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応を含む、イソブチルメチル1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−4−(2−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸塩(ニソルジピン)の合成製法。
【請求項2】
前記無極溶媒が脂肪族又は脂肪族脂環の溶媒から成る群から選ばれる請求項1に記載の製法。
【請求項3】
前記溶媒がシクロヘキサン及びn−ヘキサンから成る群から選ばれる請求項2に記載の製法。
【請求項4】
前記反応のイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテート及びメチル3−アミノクロトン酸は4−ジメチルアミノピリジン存在下で実行される請求項1に記載の製法。
【請求項5】
未精製ニソルジピンを生産するための無極溶媒中のメチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応の後に、前記ニソルジピンが水/水溶性溶媒の混合物からの結晶化によって精製され、純粋なニソルジピン最終生産物を生産する請求項1に記載の製法。
【請求項6】
前記水/水溶性溶媒の混合物が水/アセトンである請求項5に記載の製法。
【請求項7】
メチル3−アミノクロトン酸を有するイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートの反応の前に、前記ニソルジピン合成中間体、つまりイソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートが、−10℃〜50℃の温度で触媒量のピペリジン・ギ酸の存在下で、溶媒として塩化メチレン中のイソブチルアセトアセテートで2−ニトロベンズアルデヒドを反応させることにより得られる請求項1に記載の製法。
【請求項8】
イソブチルアセトアセテートを有する2−ニトロベンズアルデヒドの反応が20°−50℃の温度で実行される請求項7に記載の製法。
【請求項9】
温度範囲が27℃〜33℃である請求項8に記載の製法。
【請求項10】
前記ピペリジン・ギ酸触媒は、等モル量のギ酸及びピペリジンの追加によって反応混合物の中で元の所に形成される請求項7に記載の製法。
【請求項11】
前記ピペリジン・ギ酸触媒量は0.05−0.7モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒド使用される請求項7に記載の製法。
【請求項12】
前記触媒量は0.05−0.6モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項11に記載の製法。
【請求項13】
前記触媒量は0.25モル触媒/モル2−ニトロベンズアルデヒドである請求項12に記載の製法。
【請求項14】
前記イソブチル2−(2−ニトロベンジリデン)アセトアセテートは溶媒として酢酸水溶液の存在下で分離される請求項7に記載の製法。

【公表番号】特表2006−512287(P2006−512287A)
【公表日】平成18年4月13日(2006.4.13)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2004−516691(P2004−516691)
【出願日】平成15年6月26日(2003.6.26)
【国際出願番号】PCT/EP2003/006755
【国際公開番号】WO2004/002958
【国際公開日】平成16年1月8日(2004.1.8)
【出願人】(599032590)エレジーレ ソシエタ ペル アチオニ (4)
【Fターム(参考)】