【課題】ルイス酸および／または遷移金属を実質的に含まない、イソブチレン型モノマーを含むコポリマーを作製すること。
【解決手段】コポリマーを含むコポリマー組成物は、ドナーモノマーおよびアクセプターモノマー由来の以下の交互残基を有する少なくとも３０モル％の残基から構成される。このコポリマーは、少なくとも１５モル％のイソブチレン型ドナーモノマーおよびアクセプターモノマーとしての少なくとも１５モル％のアクリル性モノマーを含有する。コポリマーは、マレエートモノマーセグメントおよびフマレートモノマーセグメントを実質的に含まず、コポリマー組成物は、ルイス酸および遷移金属を実質的に含まない。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
本明細書中に記載のコポリマー組成物。

【公開番号】特開２００７−３２１１５４（Ｐ２００７−３２１１５４Ａ）
【公開日】平成１９年１２月１３日（２００７．１２．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１７６８１１（Ｐ２００７−１７６８１１）
【出願日】平成１９年７月４日（２００７．７．４）
【分割の表示】特願２００３−５６９７００（Ｐ２００３−５６９７００）の分割
【原出願日】平成１５年１月２９日（２００３．１．２９）
【出願人】（５９９０８７０１７）ピーピージー　インダストリーズ　オハイオ，　インコーポレイテッド (267)
【Ｆターム（参考）】