エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータ
【課題】エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行う。
【解決手段】ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタユニットと、前記筐体のハンドレール移動方向の前後に、前記ハンドレールに沿ってフィルタプレートを有するプラズマ殺菌・洗浄装置。
【解決手段】ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタユニットと、前記筐体のハンドレール移動方向の前後に、前記ハンドレールに沿ってフィルタプレートを有するプラズマ殺菌・洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを用いてエスカレータのハンドレールを滅菌、洗浄をする、プラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータに関する。
【背景技術】
【０００２】
エスカレータのハンドレールは、一般的に、雑巾がけにより定期的に掃除されている。ハンドレール部分に付着した菌や、ウイルス、手あか等の汚れを除去するニーズの高まりに伴い、雑巾がけを自動的に行う装置が提案されている。また、特許文献１によれば、殺菌目的としてＵＶ光を、エスカレータのハンドレールに照射する方法が提案されている。さらに、特許文献２によれば、大気圧雰囲気でプロセスガスを用いて生成されたプラズマを用いて、エスカレータのハンドレールの乾式洗浄若しくは消毒を行う方法及び装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２００７−５２０４０２号公報
【特許文献２】特表２０１０−５３６１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
エスカレータのハンドレールの掃除手段として、雑巾がけを採用した場合、ハンドレールに付着した菌やウイルスを除去しても、雑巾を頻繁に交換しないと、結果的には雑巾に付着した菌やウイルスをハンドレール（手摺）の全周に広げることになりかねない。また、雑巾がけ自体には殺菌効果はないため、可能ならば積極的に殺菌を行う機能があることが望ましい。一方、ＵＶ光照射では、ハンドレールの十分な殺菌効果が得られない場合がある。また、手垢などの有機物の完全な除去ができないことも解決すべき課題である。
【０００５】
さらに、特許文献２の図２１に開示された装置では、プラズマ供給用のガスノズルと、その近傍に配置され塵及びオゾンの吸い出しを行う吸引部とを備え、大気雰囲気でプロセスガスを用いてプラズマを生成し、このプラズマにより生成され飛散した塵及びオゾンを吸引部で回収している。このような方式では、プラズマ照射に伴い大気雰囲気中に飛散するオゾンや窒素酸化物などの人体にとって望ましくない物質を、確実に回収するのが困難である。
【０００６】
本発明の目的は、エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行うと共に、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限にとどめることのできる、エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の代表的なものを示すと次のとおりである。本発明のエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置は、エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、前記プラズマ源の電源とを備えており、前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルスの無害化、及び、無害化した菌やウイルス、手垢を除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の第１の実施例になる、エスカレータのハンドレール殺菌・洗浄装置の、全体構成の概要を示す図である。
【図１Ｂ】第１の実施例における、ハンドレールの構成例を示す図である。
【図２Ａ】第１の実施例におけるプラズマ源の一例を示す断面図である。
【図２Ｂ】図２Ａのプラズマ源の、放電面に対して垂直に見た状態の概略図である。
【図３】第１の実施例におけるプラズマ源の配置方法の一例を示す図である。
【図４Ａ】第１の実施例における、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面の概要図である。
【図４Ｂ】第１の実施例におけるハンドレールの移動方向について示した概略図である。
【図５】第１の実施例における、エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置の動作状態を示す図である。
【図６Ａ】第１の実施例におけるプラズマ源の放電部の変形例を示すための、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ａの放電部の立体構造を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ａの放電部の断面図である。
【図７Ａ】本発明の第２の実施例になる、スリットを付けた場合のプラズマ源の概要の立体図である。
【図７Ｂ】第２の実施例における、ハンドレールに照射しているときのイメージを示した図である。
【図８】本発明の第３の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の全体構成の概要を示す図である。
【図９】本発明の第４の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の構成例の概要を示す図である。
【図１０】第４の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の他の構成例の概要を示す図である。
【図１１Ａ】本発明の第５の実施例になるハンドレールの構成例を示す図である。
【図１１Ｂ】第５の実施例におけるマーカー検出器の構成例を示す図である。
【図１２】第５の実施例の動作を示すフローチャートである。
【図１３Ａ】第５の実施例における、プラズマ制御法を示す図である。
【図１３Ｂ】第５の実施例における、プラズマ制御法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の代表的な実施例によれば、エスカレータに、ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタを有するプラズマ殺菌・洗浄装置を設置した。これにより、エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行うことができる。
【００１１】
以下、図面を参照しながら、本発明を具体的にエスカレータのハンドレールに適用したプラズマ除菌・洗浄装置について詳細に説明する。
【実施例１】
【００１２】
まず、本発明の第１の実施例について説明する。図１Ａは、第１の実施例における、エスカレータのハンドレール（手摺）の殺菌・洗浄装置の全体構成の概要を示している。また、図１Ｂは、第１の実施例における、ハンドレールの構成例を示す図である。
【００１３】
本発明のプラズマ殺菌・洗浄ユニット１０は、エスカレータの所定の位置、例えば図１Ｂに示すように、エスカレータのハンドレール６０が下側に潜り込んだ位置に設けられている。プラズマ殺菌・洗浄ユニット１０は、面状の放電部を有するプラズマ源１と、このプラズマ源１を内部の密閉された空間に収納する筐体２とを備えている。筐体２内のプラズマ源１は、エスカレータのハンドレールに対向して設置されている。プラズマ源１には、プラズマ生成のための電源３が接続されている。ハンドレールの移動方向６１に対して筐体２の両側部には、一対のフィルタプレート５７−１と５７−２とが設置されている。すなわち、筐体２は、ハンドレール６０の移動方向に沿って、密閉された空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして設けられた一対の入口部と、この筐体２の両入口部に、各々、ハンドレールの表面との間に微小隙間５８を介して配置された、一対のフィルタプレート５７（５７−１、５７−２）とを有している。さらに、筐体２の内部にはファン４２及びフィルタボックス５６が設置されている。また、筐体２内にフィルタプレート５７−３が設置されている。フィルタボックス５６及びフィルタプレート５７は、少なくとも活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤を備えている。筐体２は分解可能に構成されており、フィルタボックス５６やフィルタプレート５７を定期的に交換することができる。
【００１４】
なお、本実施例において、エスカレータのハンドレール６０は、図１Ｂに矢印６１で示すように、左右いずれの方向にも移動可能なものとする。３９は制御コンピューターであり、電動機（図示略）によりハンドレール６０及びステップ（図示略）の駆動を制御する。また、エスカレータの運転状況に応じて電源３を制御し、ハンドレールに対するプラズマ放電を制御する。また、ファンの回転も制御コンピューター３９によって制御可能となっている。すなわち、制御コンピューター３９は、エスカレータが始動したら、プラズマ源１からのプラズマ放電を開始すると共に、ファン４２を起動する。そして、エスカレータが停止したら、プラズマ放電を停止し、その後、所定の時間が経過したらファン４２を停止する。
【００１５】
エスカレータは左右（登り、下り）どちら側にも動くので、フィルタプレート５７−１，５７−２の長さＬ１，Ｌ２は、概ね同じ程度の長さとなっている。
【００１６】
なお、通常運転中はフィルタ５６にフィルタとしての主機能を発揮させるため、フィルタプレート５７−３は筐体２内において気体の流れが少ない領域に設置し、筐体２内の気体の流れを阻害しないようにするのが望ましい。
【００１７】
次に、プラズマ源１について、図２（図２Ａ、図２Ｂ）を用いて述べる。図２Ａは、プラズマ源の断面、図２Ｂはプラズマ源の放電面に対して垂直に見た概略を示している。本発明のプラズマ源１は、面状の放電部を有しており、誘電体５内に複数の電極４−１と４−２が交互に配列された櫛歯構造になっている。例えば電極４−１がアンテナ、電極４−２がアースとして１つの電極対として機能するようになっている。
【００１８】
プラズマ源１は、面状の放電部を構成する放電プレートと、プラズマ生成のための高周波電源３とを備えている。放電プレートは、例えば、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体５と、その内部に配置された一対の電極４―１と４−２で構成されている。
【００１９】
一対の電極４―１と４−２は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、これら一対の電極は、高周波電源３に接続されている。一対の電極４―１と４−２は、ハンドレール６０の幅に対応した長さを有している。一対の電極４―１と４−２に、互いに極性が異なるか、あるいは片方が接地電位になるようにして高周波が印加されることにより、誘電体５の表面近傍に、誘電体バリア放電によるプラズマ６を生成する。プラズマは、電極４−１と４−２の間に沿った誘電体膜の表面近傍に生成される。換言すると、ハンドレール６０の移動方向に沿って配置された面状の放電プレートにより、ハンドレール６０の表面近傍にプラズマ６を生成し、このプラズマでハンドレール６０の表面を照射することができる。
【００２０】
矩形の領域内において、複数の電極４−１と４−２は、複数の小領域に区分されて高周波電源３に接続されており、高周波電源３から全体もしくは選択された少なくとも１つの小領域の電極対に、電力を供給するよう制御できるようになっている。これにより、ハンドレール６０の表面におけるプラズマの放電面積を調整することが可能となっている。
【００２１】
なお、電極４―１と４−２の近傍には、着火用の補助プラズマ源として、先端の尖ったコロナ放電用の一対の金属製電極及び高周波電源（図示略）を設けるのが望ましい。この補助プラズマ源により、コロナ放電による補助プラズマが形成される。補助プラズマは、電極４―１と４−２によるプラズマ６を発生させるための放電のトリガーとなるのに足りる、荷電粒子や励起状態の粒子を供給できるものであれば良い。また、プラズマの電源は、直流電源でもよい。
【００２２】
図３に、平面型のプラズマ源１の配置方法の一例を示している。６２はハンドレールのガイドである。平面型のプラズマ源を用いる場合は、プラズマ源１を１−１〜１−７の複数個に分割設置して、プラズマ源１が、ガイド６２の部分を除く、ハンドレール６０の外側の表面の全体を覆うように設置するのが望ましい。
【００２３】
次に、図４（図４Ａ、図４Ｂ）を用いて、筐体２内において、ハンドレール６０に沿って、かつ、プラズマ源１に対してその両側に設置されたフィルタプレート５７（５７―１、５７―２）について説明する。図４Ａは、ハンドレールの移動方向６１に対して垂直方向の断面の概要、図４Ｂはハンドレールの移動方向について示した概略図である。フィルタプレート５７のハンドレール６０に対向した側は、ハンドレールの形状に沿った構造となっている。また、フィルタプレートのハンドレールに対向した面は、活性種や、除去して揮発した有機物を吸収するための活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤で構成されている。また、フィルタプレート５７は、右側部５７−Ｒと左側部５７−Ｌの２つを組み合わせた構造となっている。この場合、筐体２は、全体として１つの密閉した空間を有するように形成してもよく、あるいは、各密閉した空間に各々フィルタプレート５７とプラズマ源１を有する、左右２つの密閉空間を有する筐体２として構成してもよい。
【００２４】
また、フィルタプレート５７は５７−Ａ、５７−Ｂ、５７―Ｃのように、ハンドレールの移動方向６１に対して複数に分割されており、ハンドレールに対向して設置されている吸収剤や触媒の種類や、表面の凹凸、空孔率が異なるように、構成しても良い。
【００２５】
図５は、本発明のエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置の動作状態を示す図である。図中の波線は、空気の流れを示している。
【００２６】
ファン４２が回転することにより、筐体２内の圧力が周りの大気圧雰囲気に対して若干負圧となるように強制換気され、これにより、ハンドレール６０との間の微小隙間５８（５８−１，５８−２）に沿って密閉した空間内に周りの大気圧雰囲気から空気が吸い込まれる。この雰囲気で、ハンドレール６０の表面の近傍でプラズマ源１によりプラズマが生成される。ファン４２によって集められた筐体内の略大気圧の空気には、ハンドレール６０に対するプラズマ照射によって発生した酸素ラジカル等の活性種や、その他の揮発物が含まれるか、これらは、フィルタ５６を介して除去され、大気中に強制換気される。すなわち、プラズマによって、空気の酸素や窒素、及び水分のラジカル（酸素ラジカルＯ３、Ｏラジカル、ＯＨラジカル）、電子等が発生し、これらがハンドレール６０に照射されることでハンドレール６０の表面に付着している菌やウイルスを無害化する。また、プラズマ中で発生したラジカルやＵＶ光やプラズマの熱により、ハンドレールに付着している手垢等の有機物を揮発させる。これに伴い、筐体２内の空気には、オゾン等活性種、窒素酸化物ＮＯｘ、無害化した菌やウイルス、手垢その他の揮発物も含まれることになる。筐体の空気に含まれるこれらの活性種や揮発物等は、フィルタ５６を介して除去され、大気中に排気される。
【００２７】
なお、停電等でエスカレータが停止したときに、通常、ファン４２も停止する。このとき、筐体２内に残留している酸素ラジカルＯ３や窒素酸化物ＮＯｘ等の不要な活性種及びその他の揮発物は、フィルタプレート５７−３で吸収される。また、ファン４２が停止した場合、筐体２内の空気は微小隙間５８を介して外部に流出する。このとき、筐体２内に残留している活性種及びその他の揮発物は、フィルタプレート５７−１，５７−２の活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤により除去される。これにより、大気雰囲気中へオゾン等の望ましくない物質の飛散を抑制することができる。
【００２８】
なお、図５は、ハンドレール６０が図右方向に移動している状態を示している。この場合、エスカレータの動作中における、ハンドレール６０の移動方向と空気の吸入方向とが一致する左側の微小隙間５８−１と、ハンドレール６０の移動方向と空気の吸入方向とが逆向きの右側の微小隙間５８−２とを比較したとき、筐体２内から大気中への活性種の流出の可能性は、右側の微小隙間５８−２の方が若干高くなる。この点も考慮して、微小隙間５８−１、５８−２の長さや隙間の値を設定する必要がある。ハンドレールの移動速度をＶ，微小隙間５８の大きさをＧとすると、フィルタプレート５７の長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にするのが良い。
【００２９】
一例を挙げれば、筐体２の全長を１ｍとし、プラズマ源１は１０ｃｍｍ、その左右のフィルタプレート５７−１，５７−２の長さＬ１，Ｌ２は各々３０ｃｍ程度とする。このとき、ハンドレールの移動速度Ｖを標準的なものとすると、微小隙間５８は、例えば１ｍｍ〜５ｍｍ程度とするのが良い。微小隙間５８の大きさＧは、フィルタプレートがハンドレール６０の表面に実質的に接触せず、かつ、筐体２の内外での空気の流れを許容する最小限の大きさであれば良く、筐体２の全体の大きさに比べるとかなり小さいものである。例えば、上記の例で、微小隙間Ｇとフィルタプレートの長さＬとの比は、０．１／３０、すなわち、１／３００となる。
【００３０】
本実施例によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【実施例】
【００３１】
なお、プラズマ源は、実施例１に示した平面型の放電部を持つプラズマ源に限定されるものではない。図６（図６Ａ〜６Ｃ）に示すように、平面型のプラズマ放電部と湾曲型のプラズマ放電部を組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成してもよい。図６Ａは、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面を示している。図６Ｂは、放電部１−２、１−３の立体構造の簡単な図を示している。図６Ｃは放電部の断面構造を示している。この変形例では、ハンドレール６０の断面の湾曲した部分には、湾曲したプラズマ放電部１−２、１−３を設置している。すなわち、ハンドレールの湾曲部に沿って、誘電体内に電極４−１，４−２が設置されている。湾曲したプラズマ源でも、電極４−１と４−２が１つの対となって、プラズマ６を生成するようになっている。これにより、ハンドレール６０の表面に沿って、ほぼ均一にプラズマ６を生成することができる。その他の構成、作用、効果は、第１の実施例と同じである。
【実施例２】
【００３２】
次に、本発明の第２の実施例について説明する。プラズマ源１からプラズマを照射することで生成された酸素ラジカル等を用いた殺菌、洗浄は、ハンドレール６０の表面の消耗の要因となるため、殺菌効果のあるＵＶ光の量と、殺菌と洗浄の両方に効果のあるイオンやラジカルの量の比率を調整する方が望ましい場合がある。この場合、ＵＶ光を通し、イオンやラジカルの照射量を調整するためのスリットを設けるとよい。
【００３３】
図７Ａは、スリットを付けた場合のプラズマ源の概要の立体図、図７Ｂは、ハンドレールに照射しているときのイメージを示したものである。プラズマ源のプラズマ側は、筐体２−２で覆われている。プラズマ源１の下方にはＵＶ光を透過する例えば石英ガラスで構成されたスリット１９−１が形成されたＵＶ光透過プレート１８が設置されている。また、プラズマ源１にエアーを供給するためのスリット１９−２が筐体２−２の側面に設置されている。
【００３４】
これにより、プラズマで発生したＵＶ光は透過プレート１８を通ってハンドレール６０に照射されて殺菌処理が行われ、また、スリットから放出されたイオンやラジカルがハンドレールに照射されて滅菌と洗浄処理が行われる。
【実施例３】
【００３５】
次に、本発明の第３の実施例について、図８を用いて説明する。この実施例では、実施例１に対して、筐体内の密閉した空間の空気の一部を、フィルタを介して、循環させる機能を付加している。
【００３６】
すなわち、ファン４２によって集められた筐体の空気は、プラズマ照射によって発生した酸素ラジカル等の活性種や、その他揮発物を除去するためのフィルタ５６−１を介して除去される。そして、その一部のエアーは筐体２内の密閉した空間内で循環するようになっている。そして、残りの一部のエアーはフィルタ５６−２を介して外部に排気される。このような循環機能により、フィルタ５６−１または５６−２に必要なフィルタ性能を多少下げることができ、フィルタ全体のコスト低減または寿命向上が可能となる。本実施例は、ハンドレールへの汚損の付着量が多い使用環境手用いるのに適している。
【実施例４】
【００３７】
次に、本発明の第４の実施例について、図９、図１０を用いて説明する。エスカレータの用途によっては、フィルタをより簡略な構成とし、あるいは、ファンを省略することもできる。
【００３８】
まず、図９の例では、第１の実施例におけるファン４２とフィルタ５６を省略している。ハンドレールの移動方向６１に対して筐体２の両側部には、エスカレータのハンドレール６０との間に微小隙間５８を介して、一対のフィルタプレート５７が配置されている。筐体２の密閉した空間には、微小隙間５８を介して空気が出入り可能になっている。筐体２では、プラズマによって、空気の酸素や窒素のイオンやラジカルが発生し、これらがハンドレール６０に照射されることでハンドレール６０の表面に付着している菌やウイルスを無害化する。また、プラズマ中で生成したラジカルやＵＶ光やプラズマの熱により、ハンドレールに付着している手垢等の有機物を揮発させる。これに伴い筐体２内の空気には、活性種、窒素酸化物ＮＯｘ、無害化した菌やウイルス、手垢その他の揮発物が含まれることになる。筐体の空気に含まれるこれらの活性種や揮発物等は、一対のフィルタプレート５７により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。自然換気方式であるため、第１の実施例の強制換気方式に比べて殺菌、洗浄能力は若干低下する可能性があるが、シンプルな構造でコストを低減できる利点がある。
【００３９】
図１０の例では、第１実施例における、一対のフィルタプレート５７を省略している。ファン４２が回転することにより、筐体２内の密閉した空間の圧力が周りの大気圧雰囲気に対して若干負圧となるように制御される。これにより、ハンドレール６０との間の微小隙間５８（５８−１，５８−２）に沿って空気が吸い込まれる。強制換気により、筐体の空気に含まれる活性種や揮発物等がフィルタ５６により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。停電等でエスカレータが停止したときに、通常は、ファン４２も停止する。本実施例では、ファン４２の電源にバッテリーを付加し、停電時でも、若干の時間たとえば１分程度、ファン４２を継続運転可能にする。これにより、筐体２内に残留している活性種及びその他の揮発物は、フィルタ５６により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。
【００４０】
本実施例でも、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【実施例５】
【００４１】
次に、本発明の第５の実施例として、図１１Ａないし図１３を用いて、プラズマのＯＮ／ＯＦＦ制御や強度制御を行う機能を備えたプラズマ滅菌、洗浄処理装置について説明する。
【００４２】
本実施例では、図１１Ａに示すように、ハンドレール６０にはこのハンドレールの位置を特定するためのマーカー１２が設置されている。このマーカー１２は、（図示せず）、現在、ハンドレールのどの部分がプラズマ殺菌・洗浄ユニット１０に面しているかを判断できるようになっている。また、図１１Ｂは、プラズマ殺菌・洗浄ユニット１０内に設置されたマーカー検出器を示している。マーカー検出器は、制御コンピューターに接続された分光器５０、集光部５１、及び、光ファイバー５２を備えている。
【００４３】
図１１Ａにおいて、汚染部位１１で特に汚れがひどくなっていると仮定する。マーカー検出器は、集光部５１によってプラズマ光を集めこれを光ファイバー５２で分光器５０に導き、この分光器５０でプラズマの発光スペクトルを分光する。この際、ハンドレールの表面に汚れがない場合は、ハンドレー自体を構成している材質、例えば、炭素、酸素、水素、及び、空気の成分である窒素に起因したスペクトルが主となる。これに対して、汚れが手垢であると、カルシウムやナトリウムをはじめとした生体物質（有機物）の発光スペクトルが観察されるようになる。即ち、ハンドレールが綺麗な状態のスペクトルプロファイルに対して、測定したスペクトルプロファイルを比較することにより、汚れているかを判断することができる。そして、マーカー１２の相対位置と発光スペクトルとから、ハンドレール６０の汚染部位１１を、汚れている位置として、検知することができる。
【００４４】
例えば、図１２に示したように、汚れのレベルモニタし、汚れ度合いと位置情報から、ハンドレールの移動位置に応じてプラズマの強度を変化させるような制御が可能となる。
【００４５】
図１２は、制御コンピューターによる処理の概要、すなわち第５の実施例の動作を示すフローチャートである。エスカレータが始動した（Ｓ０１）、プラズマ源をオンにしてプラズマ放電を開始すると共にファン４２を起動させる（Ｓ０２）。そして、初期設定値に基づき、プラズマの強度を調整する（Ｓ０３）。さらに、マーカー検出器でハンドレールの汚れのレベルを計測し（Ｓ０４）、ハンドレールの位置情報を算出する（Ｓ０５）。汚れが検出されたら（Ｓ０６）、汚れの情報に応じてプラズマの強度や照射位置を調整する（Ｓ０７）。例えば、図１３Ａに示したように、発光スペクトルから汚れの位置情報をデーターとして得た場合、図１３Ｂのように、プラズマの強度や、プラズマの放電の面積を変えるようにする制御が有効である。なお、一般的に、汚れは、エスカレータの乗車人数に応じて変わるので、センサーなどにより乗車人数の情報を別途取得し、乗車人数に応じてプラズマの強度を調整する（Ｓ０８）。すなわち、汚れが少ない場合は、例えば、エスカレータの乗車人数に応じてプラズマの強度やプラズマの放電面積を変化させるようにする制御も有効である。エスカレータの運転を停止させる条件になったら（Ｓ０９）、エスカレータを停止させ（Ｓ１０）、プラズマ源をオフにし（Ｓ１１）。プラズマ放電の停止から所定の時間（例えば１分）が経過したら、ファン４２を停止さる（Ｓ１２）。
【００４６】
本実施例によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを確実に除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。例えば総合病院のように、患者を含む多数の人が利用し、かつ、かなり高い清浄度が求められる環境に用いるのに適している。
【符号の説明】
【００４７】
１：プラズマ源、２：筐体、３：放電用電源、４：電極、５：誘電体、６：プラズマ、１０：プラズマ殺菌・洗浄ユニット、１１：汚染部位、１２：ハンドレール位置のマーカー、１８：ＵＶ透過プレート、１９：スリット、３９：制御コンピューター、５０：分光器、５１：集光部、５２：光ファイバー、５６：フィルタボックス、５７：フィルタプレート、５８：ガスの流れ方向、６０：ハンドレール、６１：ハンドレール移動方向、６２：ハンドレールのガイド。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを用いてエスカレータのハンドレールを滅菌、洗浄をする、プラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータに関する。
【背景技術】
【０００２】
エスカレータのハンドレールは、一般的に、雑巾がけにより定期的に掃除されている。ハンドレール部分に付着した菌や、ウイルス、手あか等の汚れを除去するニーズの高まりに伴い、雑巾がけを自動的に行う装置が提案されている。また、特許文献１によれば、殺菌目的としてＵＶ光を、エスカレータのハンドレールに照射する方法が提案されている。さらに、特許文献２によれば、大気圧雰囲気でプロセスガスを用いて生成されたプラズマを用いて、エスカレータのハンドレールの乾式洗浄若しくは消毒を行う方法及び装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２００７−５２０４０２号公報
【特許文献２】特表２０１０−５３６１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
エスカレータのハンドレールの掃除手段として、雑巾がけを採用した場合、ハンドレールに付着した菌やウイルスを除去しても、雑巾を頻繁に交換しないと、結果的には雑巾に付着した菌やウイルスをハンドレール（手摺）の全周に広げることになりかねない。また、雑巾がけ自体には殺菌効果はないため、可能ならば積極的に殺菌を行う機能があることが望ましい。一方、ＵＶ光照射では、ハンドレールの十分な殺菌効果が得られない場合がある。また、手垢などの有機物の完全な除去ができないことも解決すべき課題である。
【０００５】
さらに、特許文献２の図２１に開示された装置では、プラズマ供給用のガスノズルと、その近傍に配置され塵及びオゾンの吸い出しを行う吸引部とを備え、大気雰囲気でプロセスガスを用いてプラズマを生成し、このプラズマにより生成され飛散した塵及びオゾンを吸引部で回収している。このような方式では、プラズマ照射に伴い大気雰囲気中に飛散するオゾンや窒素酸化物などの人体にとって望ましくない物質を、確実に回収するのが困難である。
【０００６】
本発明の目的は、エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行うと共に、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限にとどめることのできる、エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置及びそれを用いたエスカレータを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の代表的なものを示すと次のとおりである。本発明のエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置は、エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、前記プラズマ源の電源とを備えており、前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルスの無害化、及び、無害化した菌やウイルス、手垢を除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】本発明の第１の実施例になる、エスカレータのハンドレール殺菌・洗浄装置の、全体構成の概要を示す図である。
【図１Ｂ】第１の実施例における、ハンドレールの構成例を示す図である。
【図２Ａ】第１の実施例におけるプラズマ源の一例を示す断面図である。
【図２Ｂ】図２Ａのプラズマ源の、放電面に対して垂直に見た状態の概略図である。
【図３】第１の実施例におけるプラズマ源の配置方法の一例を示す図である。
【図４Ａ】第１の実施例における、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面の概要図である。
【図４Ｂ】第１の実施例におけるハンドレールの移動方向について示した概略図である。
【図５】第１の実施例における、エスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置の動作状態を示す図である。
【図６Ａ】第１の実施例におけるプラズマ源の放電部の変形例を示すための、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ａの放電部の立体構造を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ａの放電部の断面図である。
【図７Ａ】本発明の第２の実施例になる、スリットを付けた場合のプラズマ源の概要の立体図である。
【図７Ｂ】第２の実施例における、ハンドレールに照射しているときのイメージを示した図である。
【図８】本発明の第３の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の全体構成の概要を示す図である。
【図９】本発明の第４の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の構成例の概要を示す図である。
【図１０】第４の実施例になる、エスカレータのハンドレールの殺菌・洗浄装置の他の構成例の概要を示す図である。
【図１１Ａ】本発明の第５の実施例になるハンドレールの構成例を示す図である。
【図１１Ｂ】第５の実施例におけるマーカー検出器の構成例を示す図である。
【図１２】第５の実施例の動作を示すフローチャートである。
【図１３Ａ】第５の実施例における、プラズマ制御法を示す図である。
【図１３Ｂ】第５の実施例における、プラズマ制御法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の代表的な実施例によれば、エスカレータに、ハンドレールと、ハンドレールに対してイオン、またはラジカル、またはUV光を照射するためのプラズマ源と、プラズマ源を収納するための筐体と、プラズマを生成するための電源と、筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、ラジカルや、除去した菌やウイルスや手あかなどの有機物を除去するためのフィルタを有するプラズマ殺菌・洗浄装置を設置した。これにより、エスカレータのハンドレールの殺菌と洗浄を行うことができる。
【００１１】
以下、図面を参照しながら、本発明を具体的にエスカレータのハンドレールに適用したプラズマ除菌・洗浄装置について詳細に説明する。
【実施例１】
【００１２】
まず、本発明の第１の実施例について説明する。図１Ａは、第１の実施例における、エスカレータのハンドレール（手摺）の殺菌・洗浄装置の全体構成の概要を示している。また、図１Ｂは、第１の実施例における、ハンドレールの構成例を示す図である。
【００１３】
本発明のプラズマ殺菌・洗浄ユニット１０は、エスカレータの所定の位置、例えば図１Ｂに示すように、エスカレータのハンドレール６０が下側に潜り込んだ位置に設けられている。プラズマ殺菌・洗浄ユニット１０は、面状の放電部を有するプラズマ源１と、このプラズマ源１を内部の密閉された空間に収納する筐体２とを備えている。筐体２内のプラズマ源１は、エスカレータのハンドレールに対向して設置されている。プラズマ源１には、プラズマ生成のための電源３が接続されている。ハンドレールの移動方向６１に対して筐体２の両側部には、一対のフィルタプレート５７−１と５７−２とが設置されている。すなわち、筐体２は、ハンドレール６０の移動方向に沿って、密閉された空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして設けられた一対の入口部と、この筐体２の両入口部に、各々、ハンドレールの表面との間に微小隙間５８を介して配置された、一対のフィルタプレート５７（５７−１、５７−２）とを有している。さらに、筐体２の内部にはファン４２及びフィルタボックス５６が設置されている。また、筐体２内にフィルタプレート５７−３が設置されている。フィルタボックス５６及びフィルタプレート５７は、少なくとも活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤を備えている。筐体２は分解可能に構成されており、フィルタボックス５６やフィルタプレート５７を定期的に交換することができる。
【００１４】
なお、本実施例において、エスカレータのハンドレール６０は、図１Ｂに矢印６１で示すように、左右いずれの方向にも移動可能なものとする。３９は制御コンピューターであり、電動機（図示略）によりハンドレール６０及びステップ（図示略）の駆動を制御する。また、エスカレータの運転状況に応じて電源３を制御し、ハンドレールに対するプラズマ放電を制御する。また、ファンの回転も制御コンピューター３９によって制御可能となっている。すなわち、制御コンピューター３９は、エスカレータが始動したら、プラズマ源１からのプラズマ放電を開始すると共に、ファン４２を起動する。そして、エスカレータが停止したら、プラズマ放電を停止し、その後、所定の時間が経過したらファン４２を停止する。
【００１５】
エスカレータは左右（登り、下り）どちら側にも動くので、フィルタプレート５７−１，５７−２の長さＬ１，Ｌ２は、概ね同じ程度の長さとなっている。
【００１６】
なお、通常運転中はフィルタ５６にフィルタとしての主機能を発揮させるため、フィルタプレート５７−３は筐体２内において気体の流れが少ない領域に設置し、筐体２内の気体の流れを阻害しないようにするのが望ましい。
【００１７】
次に、プラズマ源１について、図２（図２Ａ、図２Ｂ）を用いて述べる。図２Ａは、プラズマ源の断面、図２Ｂはプラズマ源の放電面に対して垂直に見た概略を示している。本発明のプラズマ源１は、面状の放電部を有しており、誘電体５内に複数の電極４−１と４−２が交互に配列された櫛歯構造になっている。例えば電極４−１がアンテナ、電極４−２がアースとして１つの電極対として機能するようになっている。
【００１８】
プラズマ源１は、面状の放電部を構成する放電プレートと、プラズマ生成のための高周波電源３とを備えている。放電プレートは、例えば、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体５と、その内部に配置された一対の電極４―１と４−２で構成されている。
【００１９】
一対の電極４―１と４−２は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、これら一対の電極は、高周波電源３に接続されている。一対の電極４―１と４−２は、ハンドレール６０の幅に対応した長さを有している。一対の電極４―１と４−２に、互いに極性が異なるか、あるいは片方が接地電位になるようにして高周波が印加されることにより、誘電体５の表面近傍に、誘電体バリア放電によるプラズマ６を生成する。プラズマは、電極４−１と４−２の間に沿った誘電体膜の表面近傍に生成される。換言すると、ハンドレール６０の移動方向に沿って配置された面状の放電プレートにより、ハンドレール６０の表面近傍にプラズマ６を生成し、このプラズマでハンドレール６０の表面を照射することができる。
【００２０】
矩形の領域内において、複数の電極４−１と４−２は、複数の小領域に区分されて高周波電源３に接続されており、高周波電源３から全体もしくは選択された少なくとも１つの小領域の電極対に、電力を供給するよう制御できるようになっている。これにより、ハンドレール６０の表面におけるプラズマの放電面積を調整することが可能となっている。
【００２１】
なお、電極４―１と４−２の近傍には、着火用の補助プラズマ源として、先端の尖ったコロナ放電用の一対の金属製電極及び高周波電源（図示略）を設けるのが望ましい。この補助プラズマ源により、コロナ放電による補助プラズマが形成される。補助プラズマは、電極４―１と４−２によるプラズマ６を発生させるための放電のトリガーとなるのに足りる、荷電粒子や励起状態の粒子を供給できるものであれば良い。また、プラズマの電源は、直流電源でもよい。
【００２２】
図３に、平面型のプラズマ源１の配置方法の一例を示している。６２はハンドレールのガイドである。平面型のプラズマ源を用いる場合は、プラズマ源１を１−１〜１−７の複数個に分割設置して、プラズマ源１が、ガイド６２の部分を除く、ハンドレール６０の外側の表面の全体を覆うように設置するのが望ましい。
【００２３】
次に、図４（図４Ａ、図４Ｂ）を用いて、筐体２内において、ハンドレール６０に沿って、かつ、プラズマ源１に対してその両側に設置されたフィルタプレート５７（５７―１、５７―２）について説明する。図４Ａは、ハンドレールの移動方向６１に対して垂直方向の断面の概要、図４Ｂはハンドレールの移動方向について示した概略図である。フィルタプレート５７のハンドレール６０に対向した側は、ハンドレールの形状に沿った構造となっている。また、フィルタプレートのハンドレールに対向した面は、活性種や、除去して揮発した有機物を吸収するための活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤で構成されている。また、フィルタプレート５７は、右側部５７−Ｒと左側部５７−Ｌの２つを組み合わせた構造となっている。この場合、筐体２は、全体として１つの密閉した空間を有するように形成してもよく、あるいは、各密閉した空間に各々フィルタプレート５７とプラズマ源１を有する、左右２つの密閉空間を有する筐体２として構成してもよい。
【００２４】
また、フィルタプレート５７は５７−Ａ、５７−Ｂ、５７―Ｃのように、ハンドレールの移動方向６１に対して複数に分割されており、ハンドレールに対向して設置されている吸収剤や触媒の種類や、表面の凹凸、空孔率が異なるように、構成しても良い。
【００２５】
図５は、本発明のエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置の動作状態を示す図である。図中の波線は、空気の流れを示している。
【００２６】
ファン４２が回転することにより、筐体２内の圧力が周りの大気圧雰囲気に対して若干負圧となるように強制換気され、これにより、ハンドレール６０との間の微小隙間５８（５８−１，５８−２）に沿って密閉した空間内に周りの大気圧雰囲気から空気が吸い込まれる。この雰囲気で、ハンドレール６０の表面の近傍でプラズマ源１によりプラズマが生成される。ファン４２によって集められた筐体内の略大気圧の空気には、ハンドレール６０に対するプラズマ照射によって発生した酸素ラジカル等の活性種や、その他の揮発物が含まれるか、これらは、フィルタ５６を介して除去され、大気中に強制換気される。すなわち、プラズマによって、空気の酸素や窒素、及び水分のラジカル（酸素ラジカルＯ３、Ｏラジカル、ＯＨラジカル）、電子等が発生し、これらがハンドレール６０に照射されることでハンドレール６０の表面に付着している菌やウイルスを無害化する。また、プラズマ中で発生したラジカルやＵＶ光やプラズマの熱により、ハンドレールに付着している手垢等の有機物を揮発させる。これに伴い、筐体２内の空気には、オゾン等活性種、窒素酸化物ＮＯｘ、無害化した菌やウイルス、手垢その他の揮発物も含まれることになる。筐体の空気に含まれるこれらの活性種や揮発物等は、フィルタ５６を介して除去され、大気中に排気される。
【００２７】
なお、停電等でエスカレータが停止したときに、通常、ファン４２も停止する。このとき、筐体２内に残留している酸素ラジカルＯ３や窒素酸化物ＮＯｘ等の不要な活性種及びその他の揮発物は、フィルタプレート５７−３で吸収される。また、ファン４２が停止した場合、筐体２内の空気は微小隙間５８を介して外部に流出する。このとき、筐体２内に残留している活性種及びその他の揮発物は、フィルタプレート５７−１，５７−２の活性炭、オゾン分解触媒等の吸収剤により除去される。これにより、大気雰囲気中へオゾン等の望ましくない物質の飛散を抑制することができる。
【００２８】
なお、図５は、ハンドレール６０が図右方向に移動している状態を示している。この場合、エスカレータの動作中における、ハンドレール６０の移動方向と空気の吸入方向とが一致する左側の微小隙間５８−１と、ハンドレール６０の移動方向と空気の吸入方向とが逆向きの右側の微小隙間５８−２とを比較したとき、筐体２内から大気中への活性種の流出の可能性は、右側の微小隙間５８−２の方が若干高くなる。この点も考慮して、微小隙間５８−１、５８−２の長さや隙間の値を設定する必要がある。ハンドレールの移動速度をＶ，微小隙間５８の大きさをＧとすると、フィルタプレート５７の長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にするのが良い。
【００２９】
一例を挙げれば、筐体２の全長を１ｍとし、プラズマ源１は１０ｃｍｍ、その左右のフィルタプレート５７−１，５７−２の長さＬ１，Ｌ２は各々３０ｃｍ程度とする。このとき、ハンドレールの移動速度Ｖを標準的なものとすると、微小隙間５８は、例えば１ｍｍ〜５ｍｍ程度とするのが良い。微小隙間５８の大きさＧは、フィルタプレートがハンドレール６０の表面に実質的に接触せず、かつ、筐体２の内外での空気の流れを許容する最小限の大きさであれば良く、筐体２の全体の大きさに比べるとかなり小さいものである。例えば、上記の例で、微小隙間Ｇとフィルタプレートの長さＬとの比は、０．１／３０、すなわち、１／３００となる。
【００３０】
本実施例によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【実施例】
【００３１】
なお、プラズマ源は、実施例１に示した平面型の放電部を持つプラズマ源に限定されるものではない。図６（図６Ａ〜６Ｃ）に示すように、平面型のプラズマ放電部と湾曲型のプラズマ放電部を組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成してもよい。図６Ａは、ハンドレールの移動方向に対して垂直方向の断面を示している。図６Ｂは、放電部１−２、１−３の立体構造の簡単な図を示している。図６Ｃは放電部の断面構造を示している。この変形例では、ハンドレール６０の断面の湾曲した部分には、湾曲したプラズマ放電部１−２、１−３を設置している。すなわち、ハンドレールの湾曲部に沿って、誘電体内に電極４−１，４−２が設置されている。湾曲したプラズマ源でも、電極４−１と４−２が１つの対となって、プラズマ６を生成するようになっている。これにより、ハンドレール６０の表面に沿って、ほぼ均一にプラズマ６を生成することができる。その他の構成、作用、効果は、第１の実施例と同じである。
【実施例２】
【００３２】
次に、本発明の第２の実施例について説明する。プラズマ源１からプラズマを照射することで生成された酸素ラジカル等を用いた殺菌、洗浄は、ハンドレール６０の表面の消耗の要因となるため、殺菌効果のあるＵＶ光の量と、殺菌と洗浄の両方に効果のあるイオンやラジカルの量の比率を調整する方が望ましい場合がある。この場合、ＵＶ光を通し、イオンやラジカルの照射量を調整するためのスリットを設けるとよい。
【００３３】
図７Ａは、スリットを付けた場合のプラズマ源の概要の立体図、図７Ｂは、ハンドレールに照射しているときのイメージを示したものである。プラズマ源のプラズマ側は、筐体２−２で覆われている。プラズマ源１の下方にはＵＶ光を透過する例えば石英ガラスで構成されたスリット１９−１が形成されたＵＶ光透過プレート１８が設置されている。また、プラズマ源１にエアーを供給するためのスリット１９−２が筐体２−２の側面に設置されている。
【００３４】
これにより、プラズマで発生したＵＶ光は透過プレート１８を通ってハンドレール６０に照射されて殺菌処理が行われ、また、スリットから放出されたイオンやラジカルがハンドレールに照射されて滅菌と洗浄処理が行われる。
【実施例３】
【００３５】
次に、本発明の第３の実施例について、図８を用いて説明する。この実施例では、実施例１に対して、筐体内の密閉した空間の空気の一部を、フィルタを介して、循環させる機能を付加している。
【００３６】
すなわち、ファン４２によって集められた筐体の空気は、プラズマ照射によって発生した酸素ラジカル等の活性種や、その他揮発物を除去するためのフィルタ５６−１を介して除去される。そして、その一部のエアーは筐体２内の密閉した空間内で循環するようになっている。そして、残りの一部のエアーはフィルタ５６−２を介して外部に排気される。このような循環機能により、フィルタ５６−１または５６−２に必要なフィルタ性能を多少下げることができ、フィルタ全体のコスト低減または寿命向上が可能となる。本実施例は、ハンドレールへの汚損の付着量が多い使用環境手用いるのに適している。
【実施例４】
【００３７】
次に、本発明の第４の実施例について、図９、図１０を用いて説明する。エスカレータの用途によっては、フィルタをより簡略な構成とし、あるいは、ファンを省略することもできる。
【００３８】
まず、図９の例では、第１の実施例におけるファン４２とフィルタ５６を省略している。ハンドレールの移動方向６１に対して筐体２の両側部には、エスカレータのハンドレール６０との間に微小隙間５８を介して、一対のフィルタプレート５７が配置されている。筐体２の密閉した空間には、微小隙間５８を介して空気が出入り可能になっている。筐体２では、プラズマによって、空気の酸素や窒素のイオンやラジカルが発生し、これらがハンドレール６０に照射されることでハンドレール６０の表面に付着している菌やウイルスを無害化する。また、プラズマ中で生成したラジカルやＵＶ光やプラズマの熱により、ハンドレールに付着している手垢等の有機物を揮発させる。これに伴い筐体２内の空気には、活性種、窒素酸化物ＮＯｘ、無害化した菌やウイルス、手垢その他の揮発物が含まれることになる。筐体の空気に含まれるこれらの活性種や揮発物等は、一対のフィルタプレート５７により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。自然換気方式であるため、第１の実施例の強制換気方式に比べて殺菌、洗浄能力は若干低下する可能性があるが、シンプルな構造でコストを低減できる利点がある。
【００３９】
図１０の例では、第１実施例における、一対のフィルタプレート５７を省略している。ファン４２が回転することにより、筐体２内の密閉した空間の圧力が周りの大気圧雰囲気に対して若干負圧となるように制御される。これにより、ハンドレール６０との間の微小隙間５８（５８−１，５８−２）に沿って空気が吸い込まれる。強制換気により、筐体の空気に含まれる活性種や揮発物等がフィルタ５６により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。停電等でエスカレータが停止したときに、通常は、ファン４２も停止する。本実施例では、ファン４２の電源にバッテリーを付加し、停電時でも、若干の時間たとえば１分程度、ファン４２を継続運転可能にする。これにより、筐体２内に残留している活性種及びその他の揮発物は、フィルタ５６により除去され、大気雰囲気中への望ましくない物質の飛散を最小限に抑えることができる。
【００４０】
本実施例でも、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。
【実施例５】
【００４１】
次に、本発明の第５の実施例として、図１１Ａないし図１３を用いて、プラズマのＯＮ／ＯＦＦ制御や強度制御を行う機能を備えたプラズマ滅菌、洗浄処理装置について説明する。
【００４２】
本実施例では、図１１Ａに示すように、ハンドレール６０にはこのハンドレールの位置を特定するためのマーカー１２が設置されている。このマーカー１２は、（図示せず）、現在、ハンドレールのどの部分がプラズマ殺菌・洗浄ユニット１０に面しているかを判断できるようになっている。また、図１１Ｂは、プラズマ殺菌・洗浄ユニット１０内に設置されたマーカー検出器を示している。マーカー検出器は、制御コンピューターに接続された分光器５０、集光部５１、及び、光ファイバー５２を備えている。
【００４３】
図１１Ａにおいて、汚染部位１１で特に汚れがひどくなっていると仮定する。マーカー検出器は、集光部５１によってプラズマ光を集めこれを光ファイバー５２で分光器５０に導き、この分光器５０でプラズマの発光スペクトルを分光する。この際、ハンドレールの表面に汚れがない場合は、ハンドレー自体を構成している材質、例えば、炭素、酸素、水素、及び、空気の成分である窒素に起因したスペクトルが主となる。これに対して、汚れが手垢であると、カルシウムやナトリウムをはじめとした生体物質（有機物）の発光スペクトルが観察されるようになる。即ち、ハンドレールが綺麗な状態のスペクトルプロファイルに対して、測定したスペクトルプロファイルを比較することにより、汚れているかを判断することができる。そして、マーカー１２の相対位置と発光スペクトルとから、ハンドレール６０の汚染部位１１を、汚れている位置として、検知することができる。
【００４４】
例えば、図１２に示したように、汚れのレベルモニタし、汚れ度合いと位置情報から、ハンドレールの移動位置に応じてプラズマの強度を変化させるような制御が可能となる。
【００４５】
図１２は、制御コンピューターによる処理の概要、すなわち第５の実施例の動作を示すフローチャートである。エスカレータが始動した（Ｓ０１）、プラズマ源をオンにしてプラズマ放電を開始すると共にファン４２を起動させる（Ｓ０２）。そして、初期設定値に基づき、プラズマの強度を調整する（Ｓ０３）。さらに、マーカー検出器でハンドレールの汚れのレベルを計測し（Ｓ０４）、ハンドレールの位置情報を算出する（Ｓ０５）。汚れが検出されたら（Ｓ０６）、汚れの情報に応じてプラズマの強度や照射位置を調整する（Ｓ０７）。例えば、図１３Ａに示したように、発光スペクトルから汚れの位置情報をデーターとして得た場合、図１３Ｂのように、プラズマの強度や、プラズマの放電の面積を変えるようにする制御が有効である。なお、一般的に、汚れは、エスカレータの乗車人数に応じて変わるので、センサーなどにより乗車人数の情報を別途取得し、乗車人数に応じてプラズマの強度を調整する（Ｓ０８）。すなわち、汚れが少ない場合は、例えば、エスカレータの乗車人数に応じてプラズマの強度やプラズマの放電面積を変化させるようにする制御も有効である。エスカレータの運転を停止させる条件になったら（Ｓ０９）、エスカレータを停止させ（Ｓ１０）、プラズマ源をオフにし（Ｓ１１）。プラズマ放電の停止から所定の時間（例えば１分）が経過したら、ファン４２を停止さる（Ｓ１２）。
【００４６】
本実施例によれば、プラズマで生成されたラジカルによりハンドレールに付着している菌やウイルス及び手垢の殺菌、洗浄を行い、これらを確実に除去することができるため、ハンドレールの清浄度を高めることができる。例えば総合病院のように、患者を含む多数の人が利用し、かつ、かなり高い清浄度が求められる環境に用いるのに適している。
【符号の説明】
【００４７】
１：プラズマ源、２：筐体、３：放電用電源、４：電極、５：誘電体、６：プラズマ、１０：プラズマ殺菌・洗浄ユニット、１１：汚染部位、１２：ハンドレール位置のマーカー、１８：ＵＶ透過プレート、１９：スリット、３９：制御コンピューター、５０：分光器、５１：集光部、５２：光ファイバー、５６：フィルタボックス、５７：フィルタプレート、５８：ガスの流れ方向、６０：ハンドレール、６１：ハンドレール移動方向、６２：ハンドレールのガイド。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項５】
請求項３において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項６】
請求項１において、
前記ハンドレールの移動速度をＶ，前記微小隙間５８の大きさをＧとしたとき、前記各フィルタプレートの長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記微小隙間は、１ｍｍ〜５ｍｍである
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項８】
請求項１において、
前記フィルタプレートは、活性種や、除去して揮発した有機物を吸収するための活性炭、及びオゾン分解触媒を含む
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記フィルタプレートは、前記ハンドレールの移動方向に対して複数に分割されており、前記ハンドレールに対向して設置されている前記吸収剤や前記触媒の種類や、表面の凹凸もしくは空孔率が異なるように構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１０】
エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
該筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、
前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた排気通路と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記排気通路に配置されたフィルタボックスと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレート及び前記フィルタボックスは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１４】
請求項１２において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１５】
請求項１０において、
前記ハンドレールの移動速度をＶ，前記微小隙間５８の大きさをＧとしたとき、前記各フィルタプレートの長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１６】
請求項１０において、
前記密閉した空間に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第２のフィルタユニットを備えた
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１７】
請求項１０において、
前記排気通路でかつ前記フィルタボックスの上流側に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第３のフィルタユニットを備え、
該第３のフィルタユニットの下流側で空気の流れを分岐し、該空気の流れ一方は前記プラズマ源近傍に吹き出し、他方は、前記第２のフィルタユニットを介して大気雰囲気に排気されるようにした
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１８】
請求項１０において、
前記プラズマ源の下方にＵＶ光を透過するための、石英ガラスで構成されたスリット付のＵＶ光透過プレートが設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１９】
エスカレータ用のハンドレールと、
該ハンドレールのプラズマ滅菌、洗浄処理装置と、
制御コンピューターとを備えており、
前記プラズマ滅菌、洗浄処理装置は、
前記ハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源と、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記制御コンピューターは、前記ハンドレール汚れのレベルをモニタし、該汚れ度合いと汚れの位置情報とから、前記ハンドレールの汚染部位に対する前記プラズマの強度を増加させるように前記プラズマ源の電源の制御を行う
ことを特徴とするエスカレータ。
【請求項１】
エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項５】
請求項３において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項６】
請求項１において、
前記ハンドレールの移動速度をＶ，前記微小隙間５８の大きさをＧとしたとき、前記各フィルタプレートの長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記微小隙間は、１ｍｍ〜５ｍｍである
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項８】
請求項１において、
前記フィルタプレートは、活性種や、除去して揮発した有機物を吸収するための活性炭、及びオゾン分解触媒を含む
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記フィルタプレートは、前記ハンドレールの移動方向に対して複数に分割されており、前記ハンドレールに対向して設置されている前記吸収剤や前記触媒の種類や、表面の凹凸もしくは空孔率が異なるように構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１０】
エスカレータのハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
該筐体内を相対的に負圧にするためのファンと、
前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた排気通路と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記排気通路に配置されたフィルタボックスと、
前記プラズマ源の電源とを備えており、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレート及び前記フィルタボックスは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記プラズマ源は、面状の放電部を構成する放電プレートを備えており、
前記放電プレートは、石英ガラス、またはアルミナやイットリアなどのセラミック材料からなる誘電体と、その内部に配置された一対の電極で構成されており、
前記放電プレートは、前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記プラズマ源は、前記面状の放電部を構成する複数の前記放電プレートからなり、該複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記一対の電極は、お互いに絶縁された櫛形状が矩形の領域内に交互に平行に複数本配列された構造となっており、
前記一対の電極が前記ハンドレールの幅に対応した長さを有しており、
前記一対の電極間に、互いに極性が異なるようにして高周波が印加されることにより、前記誘電体の表面近傍に、誘電体バリア放電による前記プラズマが生成される
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記プラズマ源は、平面型の複数の放電プレートが、ガイドの部分を除く、前記ハンドレールの外側の表面の全体を覆うように設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１４】
請求項１２において、
前記プラズマ源は、平面型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部と、湾曲型の少なくとも１つの前記プラズマ放電部とを組み合わせ、ハンドレールの形状に沿った放電面を持つプラズマ源として構成されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１５】
請求項１０において、
前記ハンドレールの移動速度をＶ，前記微小隙間５８の大きさをＧとしたとき、前記各フィルタプレートの長さＬは、
Ｌ∝Ｖ・Ｇ
の関係にある
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１６】
請求項１０において、
前記密閉した空間に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第２のフィルタユニットを備えた
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１７】
請求項１０において、
前記排気通路でかつ前記フィルタボックスの上流側に、前記ファンで収集した空気に含まれる活性種や揮発物を除去するための第３のフィルタユニットを備え、
該第３のフィルタユニットの下流側で空気の流れを分岐し、該空気の流れ一方は前記プラズマ源近傍に吹き出し、他方は、前記第２のフィルタユニットを介して大気雰囲気に排気されるようにした
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１８】
請求項１０において、
前記プラズマ源の下方にＵＶ光を透過するための、石英ガラスで構成されたスリット付のＵＶ光透過プレートが設置されている
ことを特徴とするエスカレータ用のプラズマ滅菌、洗浄処理装置。
【請求項１９】
エスカレータ用のハンドレールと、
該ハンドレールのプラズマ滅菌、洗浄処理装置と、
制御コンピューターとを備えており、
前記プラズマ滅菌、洗浄処理装置は、
前記ハンドレールの表面形状に沿いかつ該ハンドレール移動方向に沿って配置された面状の放電部を有するプラズマ源と、
密閉した空間内に該プラズマ源を収納するための筐体と、
前記ハンドレールの移動方向に沿って前記密閉した空間と外部の大気雰囲気とを連通するようにして前記筐体に設けられた一対の入口部と、
前記一対の入口部に配置され、前記ハンドレールの断面形状に沿った形状を有し、該ハンドレールの表面との間に微小隙間を有するフィルタプレートと、
前記プラズマ源の電源と、
前記プラズマ源は、略大気圧雰囲気において前記ハンドレールの表面の近傍にプラズマを生成し、
前記フィルタプレートは、前記プラズマにより前記空間内に発生したラジカルや、該プラズマで除去された前記ハンドレールの有機物を除去するための、フィルタを有する
ことを特徴とするエスカレータ。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記制御コンピューターは、前記ハンドレール汚れのレベルをモニタし、該汚れ度合いと汚れの位置情報とから、前記ハンドレールの汚染部位に対する前記プラズマの強度を増加させるように前記プラズマ源の電源の制御を行う
ことを特徴とするエスカレータ。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【図１Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１Ａ】
【図１１Ｂ】
【図１２】
【図１３Ａ】
【図１３Ｂ】
【公開番号】特開２０１２−１９７１５４（Ｐ２０１２−１９７１５４Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−６３３２０（Ｐ２０１１−６３３２０）
【出願日】平成２３年３月２２日（２０１１．３．２２）
【出願人】（０００００５１０８）株式会社日立製作所 (27,607)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２２日（２０１１．３．２２）
【出願人】（０００００５１０８）株式会社日立製作所 (27,607)
【Ｆターム（参考）】
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