オットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機
【課題】ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供する。
【解決手段】このオットマンには、足裏を支持する足支持部４０と、足裏を施術する施術突起５１と、足裏に温感を付与するヒータと７０が設けられている。また、足支持部４０において足指ＦＴの付け根に対応する部分から施術突起５１までの領域を足前方領域として、この足前方領域にヒータ７０の一部分が設けられている。
【解決手段】このオットマンには、足裏を支持する足支持部４０と、足裏を施術する施術突起５１と、足裏に温感を付与するヒータと７０が設けられている。また、足支持部４０において足指ＦＴの付け根に対応する部分から施術突起５１までの領域を足前方領域として、この足前方領域にヒータ７０の一部分が設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足裏を支持する足底壁と、足裏を施術する施術突起と、足裏に温感を付与するヒータとを備えるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記オットマンとして、特許文献１に記載のものが知られている。
特許文献１のオットマンには、足裏を支持する凹状受部と、足裏を施術する指圧棒と、足裏に温感を付与するヒータとが設けられている。
【０００３】
凹状受部の底面には、指圧棒を足の前後方向に移動させるための長孔が形成されている。この長孔は、足の爪先に対応する部分から踵に対応する部分までにわたり形成されている。またヒータは、長孔を覆うように環状に配線されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２３７７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記オットマンにおいては、足裏の前方の部分に温感を付与することができるようにヒータが配線されているものの、ヒータにおいて同前方の部分に対応する部分が主に足指の先端に対応して配線されている。このため、オットマンの使用時に足の位置が規定の位置からずれたときには、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられないおそれがある。
【０００６】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための手段を以下に記載する。
・本発明のオットマンは、足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備え、前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていることを特徴としている。
【０００８】
・このオットマンにおいては、前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。
・このオットマンによれば、前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。
【０００９】
・このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Ａとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Ｂとして、前記足裏に対向する前記部分Ａの表面積が前記足裏に対向する前記部分Ｂの表面積よりも大きいことが好ましい。
【００１０】
・このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第１ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第２ヒータとして、前記第１ヒータの発熱量および前記第２ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、ならびに、前記第１ヒータの発熱量が前記第２ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていることが好ましい。
【００１１】
・このオットマンにおいては、足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Ａとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Ｂとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Ｃとして、前記足側壁Ａおよび前記足側壁Ｂの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記足側壁Ｃが前記足支持部に設けられていないことが好ましい。
【００１２】
・このオットマンにおいては、前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていることが好ましい。
【００１３】
・このオットマンにおいては、前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、前記カバーが織物により構成されていること、ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触することが好ましい。
【００１４】
・このオットマンにおいては、互いに独立した第１織物および第２織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、前記第２織物が前記第１織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、ならびに、前記第１織物に対する前記第２織物の取り付けおよび前記第１織物からの前記第２織物の取り外しが可能であることが好ましい。
【００１５】
・このオットマンにおいては、前記織物に金属粉が織り込まれていることが好ましい。
・このオットマンにおいては、前記金属粉として銀が用いられていることが好ましい。
・本発明の椅子型マッサージ機は、臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備え、前記オットマンが設けられていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態のオットマンについて、これを備える椅子型マッサージ機の斜視構造を示す斜視図。
【図２】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の斜視構造を示す斜視図。
【図３】同実施形態のオットマンについて、図２のＡ−Ａ線に沿う足支持部の断面構造を示す断面図。
【図４】同実施形態のオットマンについて、その取付台の背面構造を示す背面図。
【図５】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図６】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図７】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図８】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図９】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の斜視構造を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１〜図６を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
図１に示されるように、椅子型マッサージ機（以下、「マッサージ機１」）には、体幹を支持するチェア１０と、下肢を支持するオットマン２０とが設けられている。またこの他に、チェア１０およびオットマン２０の各装置を制御する制御装置と、使用者がチェア１０およびオットマン２０を操作するためのコントローラとが設けられている（いずれも図示略）。
【００１９】
チェア１０には、臀部を支持する座部１１と、背中を支持する背もたれ１２と、腕を支持する肘掛１３とが設けられている。背もたれ１２には、背中を施術する施術機構１４が設けられている。施術機構１４には、背中をもみほぐす施術子１５と、施術子１５を駆動させる駆動部１６とが設けられている。
【００２０】
オットマン２０には、脚を支持する脚支持部３０と、足を支持する足支持部４０とが設けられている。脚支持部３０と足支持部４０とは、脚支持部３０の接続部３３により互いに接続されている。
【００２１】
ここで、足支持部４０について次の各用語を定義する。
（Ａ）足支持部４０の長手方向を「足支持部４０の幅方向」とし、足支持部４０の短手方向を「足支持部４０の奥行方向」とし、足支持部４０の幅方向および奥行方向に直交する方向を「足支持部４０の高さ方向」とする。
（Ｂ）足支持部４０の幅方向において、座部１１に着座した使用者から見て右の方向を「右方」とし、同使用者から見て左の方向を「左方」とする。
（Ｃ）足支持部４０の奥行方向において、踵から足先に向かう方向を「前方」とし、足先から踵に向かう方向を「後方」とする。
（Ｄ）足支持部４０の高さ方向において、足から下腿に向かう方向を「上方」とし、下腿から足に向かう方向を「下方」とする。
【００２２】
脚支持部３０には、脚の側面を支持する３つの脚側壁３１と、下腿を支持する脚背壁３２と、脚側壁３１と足支持部４０とを互いに接続する接続部３３とが設けられている。また、脚を施術するエアバッグとして、右下腿および左下腿をそれぞれ右方側および左方側から施術する側部エアバッグ３４と、右下腿および左下腿をそれぞれ後方側から施術する後部エアバッグ３５とが設けられている。
【００２３】
脚側壁３１としては、右脚の右方の側面を支持する脚側壁３１と、左脚の左方の側面を支持する脚側壁３１と、右脚の左方の側面および左脚の右方の側面を支持する脚側壁３１とが設けられている。
【００２４】
足支持部４０には、足裏を支持する部分の本体としての支持部本体４１と、右足裏を支持する足裏支持部５０と、左足裏を支持する足裏支持部５０と、各足裏に温感を付与するヒータ７０とが設けられている。また、足支持部４０の各要素を覆うカバーとして、支持部本体４１を覆う第１カバー４４と、第１カバー４４のうちの各足裏支持部５０に対応する部分を覆う２枚の第２カバー４５とが設けられている。
【００２５】
図２を参照して、足支持部４０の詳細な構成について説明する。
支持部本体４１には、各足裏支持部５０が載せられる足底壁４２と、右足の右方への移動を規制する足側壁４３と、左足の左方への移動を規制する足側壁４３とが設けられている。
【００２６】
足底壁４２の上面には、右足用および左足用の足裏支持部５０が設けられている。右足用の足裏支持部５０と左足用の足裏支持部５０とは、隙間を介して直接的に対向している。すなわち支持部本体４１において、右足用の足裏支持部５０と左足用の足裏支持部５０との間には、各足の幅方向への移動を規制する側壁が設けられていない。
【００２７】
第１カバー４４は、銀が織り込まれた織物により構成されている。第２カバー４５も同様に銀が織り込まれた織物により構成されている。なお、第１カバー４４は「第１織物」に相当する。また、第２カバー４５は「第２織物」に相当する。
【００２８】
第１カバー４４において、各足裏支持部５０の前方および後方の端部に対応する部分には、それぞれ第１面ファスナ４４Ａが設けられている。第２カバー４５の前方および後方の端部には、それぞれ第２面ファスナ４５Ａが設けられている。これにより、マッサージ機１の使用者は、第２カバー４５を第１カバー４４に取り付けること、および第２カバー４５を第１カバー４４から取り外すことができる。
【００２９】
図１を参照して、チェア１０およびオットマン２０の制御について説明する。
制御装置は、コントローラから送信された信号に基づいて、施術機構１４、側部エアバッグ３４、後部エアバッグ３５、施術突起５１、およびヒータ７０を制御する。
【００３０】
マッサージ機１においては、コントローラの操作により選択することのできる複数の動作モードが予め用意されている。また、複数のモードのいずれか１つが行なわれている状態において、ヒータ７０による足裏への温感の付与が行なわれる。なお、動作モードにともない行なわれるヒータ７０の制御とは別に、コントローラの操作によりヒータ７０のオンおよびオフを選択することもできる。
【００３１】
動作モードの説明にあたり各用語を下記のとおり定義する。
・「施術実行」は、施術機構１４が動作している状態を示す。
・「施術停止」は、施術機構１４が停止している状態を示す。
・「側部実行」は、側部エアバッグ３４が動作している状態を示す。
・「側部停止」は、側部エアバッグ３４が停止している状態を示す。
・「後部実行」は、後部エアバッグ３５が動作している状態を示す。
・「後部停止」は、後部エアバッグ３５が停止している状態を示す。
・「突起実行」は、施術突起５１が動作している状態を示す。
・「突起停止」は、施術突起５１が停止している状態を示す。
・「温感実行」は、ヒータ７０が動作している状態を示す。
・「温感停止」は、ヒータ７０が停止している状態を示す。
【００３２】
動作モードしては以下のものが用意されている。
（第１Ａモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｂモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｃモード）施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｄモード）施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｅモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｆモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｇモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｈモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第１Ｉモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｊモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｋモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｌモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第１Ｍモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｎモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第２Ａモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第２Ｂモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第２Ｃモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第２Ｄモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第２Ｅモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第２Ｆモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第２Ｇモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第２Ｈモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第３Ａモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第３Ｂモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第３Ｃモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第３Ｄモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第４Ａモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第４Ｂモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第５Ａモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第５Ｂモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
【００３３】
図３を参照して、足裏支持部５０の詳細な構成について説明する。なお、図３においては、第１カバー４４の第１面ファスナ４４Ａおよび第２カバー４５の第２面ファスナ４５Ａを省略している。
【００３４】
各足裏支持部５０には、足裏を施術する施術突起５１と、施術突起５１を高さ方向に移動させるエアバッグ５２と、施術突起５１の一部およびエアバッグ５２を収容する取付台６０とが設けられている。またこの他に、足裏に温感を付与するヒータ７０の一部と、ヒータ７０を配線するためのシート５３とが設けられている。
【００３５】
シート５３には、ヒータ７０の下方の半分が埋め込まれるとともにヒータ７０の上方の半分が露出するようにヒータ７０が配線されている。ヒータ７０としては、取付台６０に対応する部分の全体にわたり径の大きさが同一のものが用いられている。
【００３６】
取付台６０には、足裏を支持する平面部６５と、平面部６５の下面側の空間を取り囲む側壁部６６とが設けられている。側壁部６６は、平面部６５の下面の縁に接続されている。平面部６５において奥行方向および幅方向の中間部分には、施術突起５１を挿入するための突起孔６７が形成されている。
【００３７】
取付台６０としては、樹脂材料により形成された剛体の高いものが用いられている。すなわち、外部から力が加えられたときにヒータ７０よりも変形しにくいものが用いられている。
【００３８】
取付台６０の内部、すなわち平面部６５と側壁部６６とにより囲まれた空間には、施術突起５１の下方の部分およびエアバッグ５２が収容されている。エアバッグ５２は、足底壁４２と施術突起５１との間に設けられている。
【００３９】
施術突起５１は、突起孔６７に対してすきま嵌めされている。施術突起５１の先端部は、エアバッグ５２が最も収縮した状態において突起孔６７を介して平面部６５から外部に突出している。
【００４０】
高さ方向においての足底壁４２に対する施術突起５１の位置、すなわち施術突起５１のうちの平面部６５から突出している部分の長さ（以下、「突出量」）は、エアバッグ５２の状態に応じて変更される。
【００４１】
第１カバー４４は、ヒータ７０および施術突起５１を上方から覆うとともにヒータ７０に接触するように設けられている。すなわち、足が足裏支持部５０に載せられていない状態においては、第１カバー４４の裏面とヒータ７０との間に小さな隙間が形成される。一方、足が足裏支持部５０に載せられた状態においては、第１カバー４４の裏面とヒータ７０との少なくとも一部が互いに接触する。第１カバー４４とヒータ７０との接触面積は、施術突起５１の突出量に応じて変化する。
【００４２】
図５に示されるように、シート５３には、左方の取付台６０に対応した配線部５３Ａと、右方の取付台６０に対応した配線部５３Ａと、左方の配線部５３Ａと右方の配線部５３Ａとを互いに連結する連結部５３Ｂとが設けられている。
【００４３】
シート５３の配線部５３Ａは、奥行方向において取付台６０の前方の端部（以下、「台前方端部６０Ｘ」）から取付台６０の後方の端部（以下、「台後方端部６０Ｙ」）までにわたり設けられている。また、幅方向において取付台６０の左方の端部から右方の端部までにわたり設けられている。
【００４４】
配線部５３Ａにおいて取付台６０の突起孔６７に対応する部分には、突起孔６７よりも径が大きい開口部５３Ｃが形成されている。施術突起５１、突起孔６７、および開口部５３Ｃはそれぞれ同心円上に設けられている。
【００４５】
図４を参照して、取付台６０の詳細な構成について説明する。なお図４は、取付台６０の内部から施術突起５１およびエアバッグ５２を省略した状態の取付台６０について、これを下方側からみたときの平面構造を示している。
【００４６】
取付台６０には、平面部６５および側壁部６６の他に、補強のための複数の種類のリブ、すなわち第１リブ６１、第２リブ６２、第３リブ６３、および第４リブ６４が設けられている。第１リブ６１〜第４リブ６４はそれぞれ、平面部６５の下面および側壁部６６の内周面に接続されている。
【００４７】
第１リブ６１は、取付台６０の前方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部６６の内周面から右方の側壁部６６の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において２つの第１リブ６１が並べて設けられている。
【００４８】
第２リブ６２は、取付台６０の前方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、前方の側壁部６６の内周面から第１リブ６１の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において２つの第２リブ６２が並べて設けられている。
【００４９】
第３リブ６３は、取付台６０の後方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部６６の内周面から右方の側壁部６６の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において３つの第３リブ６３が並べて設けられている。
【００５０】
第４リブ６４は、取付台６０の後方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、後方の側壁部６６の内周面から第３リブ６３の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において２つの第４リブ６４が並べて設けられている。
【００５１】
図５および図６を参照して、ヒータ７０の配線の態様について説明する。なお、図５は第１カバー４４および第２カバー４５が取り外された状態の足支持部４０の平面構造を示している。また、図６は各足裏支持部５０に足Ｆが載せられた状態の足支持部４０の平面構造を示している。
【００５２】
取付台６０は、奥行方向において前方から後方に向けて５つの領域、すなわち第１領域６０Ａ、第２領域６０Ｂ、第３領域６０Ｃ、第４領域６０Ｄ、および第５領域６０Ｅに区分される。なお、第２領域６０Ｂは「足前方領域」に相当し、第５領域６０Ｅは「足後方領域」に相当する。
（ａ）第１領域６０Ａは、台前方端部６０Ｘから足指ＦＴの付け根に対応する部分までの領域を示す。
（ｂ）第２領域６０Ｂは、足指ＦＴの付け根に対応する部分から施術突起５１の前方の縁に対応する部分までの領域を示す。
（ｃ）第３領域６０Ｃは、施術突起５１の前方の縁から施術突起５１の後方の縁までの領域を示す。
（ｄ）第４領域６０Ｄは、施術突起５１の後方の縁から踵ＦＨの前端に対応する部分までの領域を示す。
（ｅ）第５領域６０Ｅは、踵ＦＨの前端に対応する部分から台後方端部６０Ｙまでの領域を示す。
【００５３】
ヒータ７０は、第１領域６０Ａ〜第５領域６０Ｅにまたがり配線されている。ヒータ７０の各部分は、各領域６０Ａ〜６０Ｅとの関係に基づいて５つの領域、すなわち第１部分７１、第２部分７２、第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５に区分される。
（ａ）第１部分７１は、第１領域６０Ａに対応する部分を示す。
（ｂ）第２部分７２は、第２領域６０Ｂに対応する部分を示す。
（ｃ）第３部分７３は、第３領域６０Ｃに対応する部分を示す。
（ｄ）第４部分７４は、第４領域６０Ｄに対応する部分を示す。
（ｅ）第５部分７５は、第５領域６０Ｅに対応する部分を示す。
【００５４】
足支持部４０においては、２つの足裏支持部５０に対して１本のヒータ７０が足Ｆの各部分に対応するように配線されている。また、１つの足裏支持部５０において施術突起５１を取り囲むようにヒータ７０が配線されている。
【００５５】
ヒータ７０と足Ｆとの関係について説明する。
（ａ）第１部分７１は、足指ＦＴに対応して配線されている。
（ｂ）第２部分７２は、土踏まずＦＡの前方の部分に対応して配線されている。
（ｃ）第３部分７３は、長さ方向中間かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。
（ｄ）第４部分７４は、長さ方向後方かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。
（ｅ）第５部分７５は、踵ＦＨに対応して配線されている。
【００５６】
ヒータ７０の各部分の長さの関係について説明する。
第１領域６０Ａおよび第２領域６０Ｂにおいての単位面積あたりのヒータ７０の長さは、第４領域６０Ｄおよび第５領域６０Ｅにおいての単位面積あたりのヒータ７０の長さよりも大きい。すなわち、第１部分７１および第２部分７２の合計の長さは、第４部分７４および第５部分７５の合計の長さよりも大きい。なお、第２部分７２は「部分Ａ」に相当し、第５部分７５は「部分Ｂ」に相当する。
【００５７】
ヒータ７０の各部分の表面積の関係について説明する。
第１領域６０Ａおよび第２領域６０Ｂにおいての単位面積あたりのヒータ７０の表面積は、第４領域６０Ｄおよび第５領域６０Ｅにおいての単位面積あたりのヒータ７０の表面積よりも大きい。すなわち、第１部分７１および第２部分７２の合計の表面積は、第４部分７４および第５部分７５の合計の表面積よりも大きい。なお、ここでのヒータ７０の表面積はシート５３から露出しているヒータ７０の上方の部分の表面積を示す。
【００５８】
足支持部４０においては、上記のようにヒータ７０が配線されていることにより、第１部分７１および第２部分７２の合計の発熱量が第４部分７４および第５部分７５の合計の発熱量よりも大きくなる。
【００５９】
図５を参照して、足支持部４０の動作について説明する。
足Ｆのマッサージは次の順序で行なわれる。
（手順Ａ）足Ｆが足裏支持部５０に載せられる。
（手順Ｂ）エアバッグ５２による施術突起５１の移動が開始される。
（手順Ｃ）ヒータ７０による足裏への温感の付与が開始される。
（手順Ｄ）ヒータ７０による温感の付与が停止される。
（手順Ｅ）エアバッグ５２による施術突起５１の移動が停止される。
【００６０】
上記（手順Ｂ）においては、エアバッグ５２の膨張および収縮にともない施術突起５１の突出量が変化することにより、突出量の変化に応じた刺激が足裏に付与される。すなわち、施術突起５１の突出量が増大するときには足裏に付与される刺激が大きくなる。一方、施術突起５１の突出量が減少するときには足裏に付与される刺激が小さくなる。
【００６１】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、以下の効果が得られる。
（１）比較例のオットマン（以下、「比較オットマン」）との対比に基づいて本実施形態のマッサージ機１により得られる効果について説明する。比較オットマンは、以下の点においてマッサージ機１のオットマン２０と構成が相違し、その他の点についてはオットマン２０と同一の構成を有する。
【００６２】
すなわち、オットマン２０において図５等に示されるようにヒータ７０が配線されている点に対して、比較オットマンにおいては、取付台６０の外周に沿うようにヒータが環状に配線されている。また、同ヒータにおいて台前方端部６０Ｘに対応する部分（以下、「比較ヒータ前方部分」）は主に足指の先端に対応して配線されている。
【００６３】
比較オットマンにおいては、上記のように比較ヒータ前方部分が配線されているため、当該オットマンの使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたとき、比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となりやすい。すなわち、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられなくなるおそれが高い。
【００６４】
一方、本実施形態のマッサージ機１のオットマン２０においては、第２領域６０Ｂにヒータ７０の一部分（第２部分７２）が配線されている。この構成によれば、当該オットマン２０の使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたときに第２部分７２が足裏と対向しない状態となる頻度は、比較オットマンにおいて比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となる頻度よりも小さくなる。このため、ヒータ７０の熱を足裏の前方の部分に効率的に伝えることができる。
【００６５】
（２）オットマン２０においては、第３領域６０Ｃにヒータ７０の一部分（第３部分７３）が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分のより広い範囲に温感を付与することができる。
【００６６】
（３）オットマン２０においては、第２領域６０Ｂに加えて第５領域６０Ｅにヒータ７０の一部分（第５部分７５）が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分に加えて足裏の後方の部分にも温感が付与されるため、足裏の全体に温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。
【００６７】
（４）オットマン２０においては、施術突起５１を取り囲むようにヒータ７０が配線されている。この構成によれば、施術突起５１により温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。
【００６８】
（５）オットマン２０においては、第１部分７１および第２部分７２の合計の表面積が第４部分７４および第５部分７５の合計の表面積よりも大きい。この構成によれば、踵に付与される温感に比べて足指およびその付近に付与される温感の方が大きくなるため、足裏を効率的に温めることができる。
【００６９】
（５）オットマン２０においては、左方の足裏支持部５０と右方の足裏支持部５０との間に足側壁が設けられていない。この構成によれば、左方の足裏支持部５０と右方の足裏支持部５０との間に足側壁が設けられる構成と比較して、ヒータ７０が停止したときに足の温度が下がりやすい。このため、足裏に温感を付与するモードの後に足裏に温感を付与しないモードが行なわれるとき、足裏の状態を後者のモードに適した状態に速やかに近づけることができる。
【００７０】
（６）オットマン２０においては、取付台６０としてヒータ７０よりも変形しにくいものが用いられている。この構成によれば、ヒータ７０の断線を生じにくくすることができる。
【００７１】
（７）オットマン２０においては、第１カバー４４に接触するようにヒータ７０が配線されている。この構成によれば、第１カバー４４とヒータ７０との間に樹脂製のカバー等が設けられる構成と比較して、ヒータ７０の熱を足裏に効率よく伝えることができる。
【００７２】
（８）オットマン２０においては、第１カバー４４に対して取り付けおよび取り外しができるように第２カバー４５が構成されている。この構成によれば、オットマン２０の使用にともない汚れやすい部分、すなわち足裏に対応する部分のカバーとしての第２カバー４５を容易に交換することができる。
【００７３】
（９）オットマン２０においては、銀が織り込まれた織物により第１カバー４４が構成されている。この構成によれば、第１カバー４４が消臭作用を有するものとなるため、オットマン２０の使用にともない足支持部４０から汗等の臭いが発生することを抑制することができる。また、第１カバー４４が抗菌作用を有するものとなるため、オットマン２０の使用にともない足支持部４０に雑菌が繁殖することを抑制することができる。また、第１カバー４４が高い熱伝導率を有するものとなるため、ヒータ７０から足裏に熱を効率よく伝えることができる。
【００７４】
（１０）オットマン２０においては、銀が織り込まれた織物により第２カバー４５が構成されている。この構成によれば、第２カバー４５においても第１カバー４４により得られる効果と同様の効果が得られる。
【００７５】
（１１）オットマン２０においては、取付台６０に第１リブ６１〜第４リブ６４が設けられている。この構成によれば、取付台６０の平面部６５の強度が向上するため、足が足支持部４０に載せられたときの平面部６５の変形量が小さくすることができる。このため、ヒータ７０の断線が生じにくくなる。
【００７６】
（その他の実施形態）
本発明の実施態様は、上記実施形態の内容に限定されるものではなく、例えば以下のように変更することもできる。また、以下の変形例は上記実施形態についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。
【００７７】
・上記実施形態では、１本の電熱線によりヒータ７０を構成しているが、ヒータ７０の構成を以下のように変更することもできる。
（Ａ）図７に示されるように、ヒータ７０に代えてヒータ８０を設けることもできる。このヒータ８０には、取付台６０の前方の部分に配線される第１ヒータ８１と、取付台６０の後方の部分に配線される第２ヒータ８２とが設けられる。
【００７８】
第１ヒータ８１は、第１領域６０Ａ、第２領域６０Ｂ、および第３領域６０Ｃにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ７０の第１部分７１、第２部分７２、および第３部分７３の配線態様に準じたものが採用される。
【００７９】
第２ヒータ８２は、第３領域６０Ｃ、第４領域６０Ｄ、および第５領域６０Ｅにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ７０の第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５の配線態様に準じたものが採用される。
【００８０】
（Ｂ）ヒータ７０に代えて、各取付台６０に配線される部分が３本の電熱線により構成されるヒータを設けることもできる。このヒータの構成としては、例えば図５に示されるヒータ７０において、第１部分７１および第２部分７２を１本の電熱線により構成し、第３部分７３を１本の電熱線により構成し、第４部分７４および第５部分７５を１本の電熱線により構成したものが挙げられる。
【００８１】
・上記（Ａ）の変形例において、ヒータの制御として以下の（制御１）〜（制御４）をマッサージ機１の制御装置に予めプログラムすることもできる。この場合には、各制御の実行および停止を選択するための操作部と、各制御のうちの実行するものを選択するための操作部とがマッサージ機１のコントローラに設けられる。
（制御１）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量よりも大きくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御２）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量よりも小さくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御３）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量と等しくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御４）上記（制御１）〜（制御３）の少なくとも２つを選択し、予めプログラムされた順序に基づいて選択した制御を順に行なう。
【００８２】
・上記実施形態では、１つの足裏支持部５０に１つの施術突起５１を設けているが、１つの足裏支持部５０に複数の施術突起５１を設けることもできる。図８を参照して、複数の施術突起５１が設けられる構成の一例について説明する。
【００８３】
図８に示されるように、各足裏支持部５０には、複数の施術突起５１としての第１施術突起５１Ａおよび第２施術突起５１Ｂと、ヒータ７０に代わるヒータ９０とが設けられる。第１施術突起５１Ａは、取付台６０の前方の部分に設けられる。第２施術突起５１Ｂは、取付台６０の後方の部分に設けられる。なお、図８の変形例においてヒータ９０に代えてヒータ７０を設けることもできる。
【００８４】
取付台６０には、第１施術突起５１Ａおよび第２施術突起５１Ｂをそれぞれ挿入するための２つの突起孔６７が形成される。取付台６０の内部には、第１施術突起５１Ａを高さ方向に移動させるための第１エアバッグ５２Ａと、第２施術突起５１Ｂを高さ方向に移動させるための第２エアバッグ５２Ｂとが設けられる。
【００８５】
ヒータ９０には、取付台６０の前方の部分に配線される第１ヒータ９１と、取付台６０の後方の部分に配線される第２ヒータ９２とが設けられる。すなわち、ヒータ９０は２本の電熱線により構成される。
【００８６】
取付台６０は、奥行方向において前方から後方に向けて６つの領域、すなわち第１１領域６０Ｆ、第１２領域６０Ｇ、第１３領域６０Ｈ、第１４領域６０Ｉ、第１５領域６０Ｊ、および第１６領域６０Ｋに区分される。なお、第１２領域６０Ｇは「足前方領域」に相当し、第１６領域６０Ｋは「足後方領域」に相当する。
（ａ）第１１領域６０Ｆは、台前方端部６０Ｘから足指の付け根に対応する部分までの領域を示す。
（ｂ）第１２領域６０Ｇは、足指の付け根に対応する部分から第１施術突起５１Ａの前方の縁に対応する部分までの領域を示す。
（ｃ）第１３領域６０Ｈは、第１施術突起５１Ａの前方の縁から第１施術突起５１Ａの後方の縁までの領域を示す。
（ｄ）第１４領域６０Ｉは、第１施術突起５１Ａの後方の縁から第２施術突起５１Ｂの前方の縁までの領域を示す。
（ｅ）第１５領域６０Ｊは、第２施術突起５１Ｂの前方の縁から第２施術突起５１Ｂの後方の縁までの領域を示す。
（ｆ）第１６領域６０Ｋは、第２施術突起５１Ｂの後方の縁から台後方端部６０Ｙまでの領域を示す。
【００８７】
第１ヒータ９１は、第１１領域６０Ｆ、第１２領域６０Ｇ、第１３領域６０Ｈ、および第１４領域６０Ｉの前方の部分にわたり配線される。また、図６のヒータ７０の第１部分７１、第２部分７２、および第３部分７３の配線態様に準じて第１施術突起５１Ａを取り囲むように配線される。
【００８８】
第２ヒータ９２は、第１４領域６０Ｉの後方の部分、第１５領域６０Ｊ、および第１６領域６０Ｋにわたり配線される。また、図６のヒータ７０の第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５の配線態様に準じて第２施術突起５１Ｂを取り囲むように配線される。
【００８９】
・上記実施形態において、ヒータ７０の第１部分７１を省略することもできる。
・上記実施形態において、ヒータ７０の第３部分７３〜第５部分７５の少なくとも一部分を省略することもできる。
【００９０】
・上記実施形態では、ヒータ７０として電熱線により構成されるものを用いているが、ヒータ７０の構成はこれに限られない。例えば、遠赤外線を放射する素子と、遠赤外線を受けるセラミック板とにより構成されるヒータを用いることもできる。この場合、取付台６０上にセラミック板が設けられるとともに、取付台６０の内部に素子が設けられる。またセラミック板は、ヒータ７０の第１部分７１〜第５部分７５と対応するように設けられる。また素子は、セラミック板に対応する位置に設けられる。
【００９１】
・上記実施形態では、樹脂製の取付台６０を用いているが、金属製の取付台６０を用いることもできる。また、ヒータ７０よりも変形しにくいゴムにより形成された取付台６０を用いることもできる。
【００９２】
・上記実施形態では、各足に対応する２つの取付台６０を設けているが、右方の取付台６０および左方の取付台６０の少なくとも一方を省略することもできる。この場合、ヒータ７０がシート５３を介して足底壁４２上に配線される。
【００９３】
・上記実施形態において、第２カバー４５の構成を次のように変更することもできる。すなわち、図９（ａ）に示されるように、第２カバー４５の前方の端部に足の甲を覆うための甲カバー４６を設けることもできる。この甲カバー４６の幅は、第２カバー４５において足裏に対応する部分の幅よりも大きく設定される。
【００９４】
図９（ｂ）に示されるように、この第２カバー４５においては、甲カバー４６を折り返すことにより足の甲を覆うことができる。これにより、使用者の足に対してより効率的に温感を付与することができる。
【００９５】
・上記実施形態において、銀に代えてアルミ二ウム等の他の金属粉が織り込まれた織物により第１カバー４４および第２カバー４５の少なくとも一方を構成することもできる。
・上記実施形態において、金属粉が織り込まれていない織物により第１カバー４４および第２カバー４５の少なくとも一方を構成することもできる。
【００９６】
・上記実施形態において、第２カバー４５を省略することもできる。この場合、第１カバー４４から第１面ファスナ４４Ａが省略される。
・上記実施形態において、第１カバー４４とヒータ７０との間にヒータ７０を覆う別のカバーを設けることもできる。この構成においても、上記実施形態の（１）〜（６）および（８）〜（１１）の効果が得られる。
【００９７】
・上記実施形態において、右方の足裏支持部５０と左方の足裏支持部５０との間に足側壁を設けることもできる。この足側壁は、「足側壁Ｃ」に相当するものであり、右足の左方への移動および左足の右方への移動を規制するものとして設けられる。
【００９８】
・上記実施形態において、足側壁４３の少なくとも一方を省略することもできる。
・上記実施形態では、取付台６０の突起孔６７が施術突起５１とすきま嵌めされる大きさとして設けられているが、突起孔６７の大きさはこれに限られない。施術突起５１と足指の付け根との間の範囲に第１部分７１が設けられていれば、突起孔６７を奥行方向または幅方向に延びる長孔とすることもできる。
【００９９】
・上記実施形態において、オットマン２０から脚支持部３０を省略することもできる。
・上記実施形態において、マッサージ機１の一部としてオットマン２０を構成しているが、オットマン２０をマッサージ機１から独立した単独のマッサージ機として構成することもできる。
【符号の説明】
【０１００】
１…椅子型マッサージ機、１１…座部、１２…背もたれ、２０…オットマン、４０…足支持部、４１…支持部本体（足支持部の本体）、４３…足側壁、４４…第１カバー（第１織物）、４５…第２カバー（第２織物）、５１…施術突起、５１Ａ…第１施術突起（施術突起）、５１Ｂ…第２施術突起（施術突起）、６０…取付台、６０Ｂ…第２領域（足前方領域）、６０Ｅ…第５領域（足後方領域）、６０Ｇ…第１２領域（足前方領域）、６０Ｋ…第１６領域（足後方領域）、６５…平面部、７０…ヒータ、７２…第２部分（部分Ａ）、７５…第５部分（部分Ｂ）、８０…ヒータ、８１…第１ヒータ、８２…第２ヒータ、９０…ヒータ、９１…第１ヒータ、９２…第２ヒータ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、足裏を支持する足底壁と、足裏を施術する施術突起と、足裏に温感を付与するヒータとを備えるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記オットマンとして、特許文献１に記載のものが知られている。
特許文献１のオットマンには、足裏を支持する凹状受部と、足裏を施術する指圧棒と、足裏に温感を付与するヒータとが設けられている。
【０００３】
凹状受部の底面には、指圧棒を足の前後方向に移動させるための長孔が形成されている。この長孔は、足の爪先に対応する部分から踵に対応する部分までにわたり形成されている。またヒータは、長孔を覆うように環状に配線されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２３７７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記オットマンにおいては、足裏の前方の部分に温感を付与することができるようにヒータが配線されているものの、ヒータにおいて同前方の部分に対応する部分が主に足指の先端に対応して配線されている。このため、オットマンの使用時に足の位置が規定の位置からずれたときには、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられないおそれがある。
【０００６】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための手段を以下に記載する。
・本発明のオットマンは、足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備え、前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていることを特徴としている。
【０００８】
・このオットマンにおいては、前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。
・このオットマンによれば、前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていることが好ましい。
【０００９】
・このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Ａとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Ｂとして、前記足裏に対向する前記部分Ａの表面積が前記足裏に対向する前記部分Ｂの表面積よりも大きいことが好ましい。
【００１０】
・このオットマンにおいては、前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第１ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第２ヒータとして、前記第１ヒータの発熱量および前記第２ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、ならびに、前記第１ヒータの発熱量が前記第２ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていることが好ましい。
【００１１】
・このオットマンにおいては、足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Ａとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Ｂとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Ｃとして、前記足側壁Ａおよび前記足側壁Ｂの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記足側壁Ｃが前記足支持部に設けられていないことが好ましい。
【００１２】
・このオットマンにおいては、前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていることが好ましい。
【００１３】
・このオットマンにおいては、前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、前記カバーが織物により構成されていること、ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触することが好ましい。
【００１４】
・このオットマンにおいては、互いに独立した第１織物および第２織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、前記第２織物が前記第１織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、ならびに、前記第１織物に対する前記第２織物の取り付けおよび前記第１織物からの前記第２織物の取り外しが可能であることが好ましい。
【００１５】
・このオットマンにおいては、前記織物に金属粉が織り込まれていることが好ましい。
・このオットマンにおいては、前記金属粉として銀が用いられていることが好ましい。
・本発明の椅子型マッサージ機は、臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備え、前記オットマンが設けられていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ヒータの熱を足裏の前方の部分に効率よく伝えることのできるオットマン、およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態のオットマンについて、これを備える椅子型マッサージ機の斜視構造を示す斜視図。
【図２】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の斜視構造を示す斜視図。
【図３】同実施形態のオットマンについて、図２のＡ−Ａ線に沿う足支持部の断面構造を示す断面図。
【図４】同実施形態のオットマンについて、その取付台の背面構造を示す背面図。
【図５】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図６】同実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図７】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図８】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の平面構造を示す平面図。
【図９】本発明のその他の実施形態のオットマンについて、その足支持部の斜視構造を示す斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１〜図６を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
図１に示されるように、椅子型マッサージ機（以下、「マッサージ機１」）には、体幹を支持するチェア１０と、下肢を支持するオットマン２０とが設けられている。またこの他に、チェア１０およびオットマン２０の各装置を制御する制御装置と、使用者がチェア１０およびオットマン２０を操作するためのコントローラとが設けられている（いずれも図示略）。
【００１９】
チェア１０には、臀部を支持する座部１１と、背中を支持する背もたれ１２と、腕を支持する肘掛１３とが設けられている。背もたれ１２には、背中を施術する施術機構１４が設けられている。施術機構１４には、背中をもみほぐす施術子１５と、施術子１５を駆動させる駆動部１６とが設けられている。
【００２０】
オットマン２０には、脚を支持する脚支持部３０と、足を支持する足支持部４０とが設けられている。脚支持部３０と足支持部４０とは、脚支持部３０の接続部３３により互いに接続されている。
【００２１】
ここで、足支持部４０について次の各用語を定義する。
（Ａ）足支持部４０の長手方向を「足支持部４０の幅方向」とし、足支持部４０の短手方向を「足支持部４０の奥行方向」とし、足支持部４０の幅方向および奥行方向に直交する方向を「足支持部４０の高さ方向」とする。
（Ｂ）足支持部４０の幅方向において、座部１１に着座した使用者から見て右の方向を「右方」とし、同使用者から見て左の方向を「左方」とする。
（Ｃ）足支持部４０の奥行方向において、踵から足先に向かう方向を「前方」とし、足先から踵に向かう方向を「後方」とする。
（Ｄ）足支持部４０の高さ方向において、足から下腿に向かう方向を「上方」とし、下腿から足に向かう方向を「下方」とする。
【００２２】
脚支持部３０には、脚の側面を支持する３つの脚側壁３１と、下腿を支持する脚背壁３２と、脚側壁３１と足支持部４０とを互いに接続する接続部３３とが設けられている。また、脚を施術するエアバッグとして、右下腿および左下腿をそれぞれ右方側および左方側から施術する側部エアバッグ３４と、右下腿および左下腿をそれぞれ後方側から施術する後部エアバッグ３５とが設けられている。
【００２３】
脚側壁３１としては、右脚の右方の側面を支持する脚側壁３１と、左脚の左方の側面を支持する脚側壁３１と、右脚の左方の側面および左脚の右方の側面を支持する脚側壁３１とが設けられている。
【００２４】
足支持部４０には、足裏を支持する部分の本体としての支持部本体４１と、右足裏を支持する足裏支持部５０と、左足裏を支持する足裏支持部５０と、各足裏に温感を付与するヒータ７０とが設けられている。また、足支持部４０の各要素を覆うカバーとして、支持部本体４１を覆う第１カバー４４と、第１カバー４４のうちの各足裏支持部５０に対応する部分を覆う２枚の第２カバー４５とが設けられている。
【００２５】
図２を参照して、足支持部４０の詳細な構成について説明する。
支持部本体４１には、各足裏支持部５０が載せられる足底壁４２と、右足の右方への移動を規制する足側壁４３と、左足の左方への移動を規制する足側壁４３とが設けられている。
【００２６】
足底壁４２の上面には、右足用および左足用の足裏支持部５０が設けられている。右足用の足裏支持部５０と左足用の足裏支持部５０とは、隙間を介して直接的に対向している。すなわち支持部本体４１において、右足用の足裏支持部５０と左足用の足裏支持部５０との間には、各足の幅方向への移動を規制する側壁が設けられていない。
【００２７】
第１カバー４４は、銀が織り込まれた織物により構成されている。第２カバー４５も同様に銀が織り込まれた織物により構成されている。なお、第１カバー４４は「第１織物」に相当する。また、第２カバー４５は「第２織物」に相当する。
【００２８】
第１カバー４４において、各足裏支持部５０の前方および後方の端部に対応する部分には、それぞれ第１面ファスナ４４Ａが設けられている。第２カバー４５の前方および後方の端部には、それぞれ第２面ファスナ４５Ａが設けられている。これにより、マッサージ機１の使用者は、第２カバー４５を第１カバー４４に取り付けること、および第２カバー４５を第１カバー４４から取り外すことができる。
【００２９】
図１を参照して、チェア１０およびオットマン２０の制御について説明する。
制御装置は、コントローラから送信された信号に基づいて、施術機構１４、側部エアバッグ３４、後部エアバッグ３５、施術突起５１、およびヒータ７０を制御する。
【００３０】
マッサージ機１においては、コントローラの操作により選択することのできる複数の動作モードが予め用意されている。また、複数のモードのいずれか１つが行なわれている状態において、ヒータ７０による足裏への温感の付与が行なわれる。なお、動作モードにともない行なわれるヒータ７０の制御とは別に、コントローラの操作によりヒータ７０のオンおよびオフを選択することもできる。
【００３１】
動作モードの説明にあたり各用語を下記のとおり定義する。
・「施術実行」は、施術機構１４が動作している状態を示す。
・「施術停止」は、施術機構１４が停止している状態を示す。
・「側部実行」は、側部エアバッグ３４が動作している状態を示す。
・「側部停止」は、側部エアバッグ３４が停止している状態を示す。
・「後部実行」は、後部エアバッグ３５が動作している状態を示す。
・「後部停止」は、後部エアバッグ３５が停止している状態を示す。
・「突起実行」は、施術突起５１が動作している状態を示す。
・「突起停止」は、施術突起５１が停止している状態を示す。
・「温感実行」は、ヒータ７０が動作している状態を示す。
・「温感停止」は、ヒータ７０が停止している状態を示す。
【００３２】
動作モードしては以下のものが用意されている。
（第１Ａモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｂモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｃモード）施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｄモード）施術実行、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｅモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｆモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｇモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｈモード）施術実行、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第１Ｉモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第１Ｊモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第１Ｋモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｌモード）施術実行、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第１Ｍモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第１Ｎモード）施術実行、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第２Ａモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第２Ｂモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
（第２Ｃモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第２Ｄモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第２Ｅモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第２Ｆモード）施術停止、側部実行、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第２Ｇモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第２Ｈモード）施術停止、側部実行、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第３Ａモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感停止。
（第３Ｂモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起停止、かつ温感実行。
（第３Ｃモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感停止。
（第３Ｄモード）施術停止、側部停止、後部実行、突起実行、かつ温感実行。
（第４Ａモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感停止。
（第４Ｂモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起実行、かつ温感実行。
（第５Ａモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感停止。
（第５Ｂモード）施術停止、側部停止、後部停止、突起停止、かつ温感実行。
【００３３】
図３を参照して、足裏支持部５０の詳細な構成について説明する。なお、図３においては、第１カバー４４の第１面ファスナ４４Ａおよび第２カバー４５の第２面ファスナ４５Ａを省略している。
【００３４】
各足裏支持部５０には、足裏を施術する施術突起５１と、施術突起５１を高さ方向に移動させるエアバッグ５２と、施術突起５１の一部およびエアバッグ５２を収容する取付台６０とが設けられている。またこの他に、足裏に温感を付与するヒータ７０の一部と、ヒータ７０を配線するためのシート５３とが設けられている。
【００３５】
シート５３には、ヒータ７０の下方の半分が埋め込まれるとともにヒータ７０の上方の半分が露出するようにヒータ７０が配線されている。ヒータ７０としては、取付台６０に対応する部分の全体にわたり径の大きさが同一のものが用いられている。
【００３６】
取付台６０には、足裏を支持する平面部６５と、平面部６５の下面側の空間を取り囲む側壁部６６とが設けられている。側壁部６６は、平面部６５の下面の縁に接続されている。平面部６５において奥行方向および幅方向の中間部分には、施術突起５１を挿入するための突起孔６７が形成されている。
【００３７】
取付台６０としては、樹脂材料により形成された剛体の高いものが用いられている。すなわち、外部から力が加えられたときにヒータ７０よりも変形しにくいものが用いられている。
【００３８】
取付台６０の内部、すなわち平面部６５と側壁部６６とにより囲まれた空間には、施術突起５１の下方の部分およびエアバッグ５２が収容されている。エアバッグ５２は、足底壁４２と施術突起５１との間に設けられている。
【００３９】
施術突起５１は、突起孔６７に対してすきま嵌めされている。施術突起５１の先端部は、エアバッグ５２が最も収縮した状態において突起孔６７を介して平面部６５から外部に突出している。
【００４０】
高さ方向においての足底壁４２に対する施術突起５１の位置、すなわち施術突起５１のうちの平面部６５から突出している部分の長さ（以下、「突出量」）は、エアバッグ５２の状態に応じて変更される。
【００４１】
第１カバー４４は、ヒータ７０および施術突起５１を上方から覆うとともにヒータ７０に接触するように設けられている。すなわち、足が足裏支持部５０に載せられていない状態においては、第１カバー４４の裏面とヒータ７０との間に小さな隙間が形成される。一方、足が足裏支持部５０に載せられた状態においては、第１カバー４４の裏面とヒータ７０との少なくとも一部が互いに接触する。第１カバー４４とヒータ７０との接触面積は、施術突起５１の突出量に応じて変化する。
【００４２】
図５に示されるように、シート５３には、左方の取付台６０に対応した配線部５３Ａと、右方の取付台６０に対応した配線部５３Ａと、左方の配線部５３Ａと右方の配線部５３Ａとを互いに連結する連結部５３Ｂとが設けられている。
【００４３】
シート５３の配線部５３Ａは、奥行方向において取付台６０の前方の端部（以下、「台前方端部６０Ｘ」）から取付台６０の後方の端部（以下、「台後方端部６０Ｙ」）までにわたり設けられている。また、幅方向において取付台６０の左方の端部から右方の端部までにわたり設けられている。
【００４４】
配線部５３Ａにおいて取付台６０の突起孔６７に対応する部分には、突起孔６７よりも径が大きい開口部５３Ｃが形成されている。施術突起５１、突起孔６７、および開口部５３Ｃはそれぞれ同心円上に設けられている。
【００４５】
図４を参照して、取付台６０の詳細な構成について説明する。なお図４は、取付台６０の内部から施術突起５１およびエアバッグ５２を省略した状態の取付台６０について、これを下方側からみたときの平面構造を示している。
【００４６】
取付台６０には、平面部６５および側壁部６６の他に、補強のための複数の種類のリブ、すなわち第１リブ６１、第２リブ６２、第３リブ６３、および第４リブ６４が設けられている。第１リブ６１〜第４リブ６４はそれぞれ、平面部６５の下面および側壁部６６の内周面に接続されている。
【００４７】
第１リブ６１は、取付台６０の前方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部６６の内周面から右方の側壁部６６の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において２つの第１リブ６１が並べて設けられている。
【００４８】
第２リブ６２は、取付台６０の前方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、前方の側壁部６６の内周面から第１リブ６１の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において２つの第２リブ６２が並べて設けられている。
【００４９】
第３リブ６３は、取付台６０の後方の部分において幅方向に延びるように、すなわち幅方向において、左方の側壁部６６の内周面から右方の側壁部６６の内周面までにわたり設けられている。また、奥行方向において３つの第３リブ６３が並べて設けられている。
【００５０】
第４リブ６４は、取付台６０の後方の部分において奥行方向に延びるように、すなわち奥行方向において、後方の側壁部６６の内周面から第３リブ６３の側面までにわたり設けられている。また、幅方向において２つの第４リブ６４が並べて設けられている。
【００５１】
図５および図６を参照して、ヒータ７０の配線の態様について説明する。なお、図５は第１カバー４４および第２カバー４５が取り外された状態の足支持部４０の平面構造を示している。また、図６は各足裏支持部５０に足Ｆが載せられた状態の足支持部４０の平面構造を示している。
【００５２】
取付台６０は、奥行方向において前方から後方に向けて５つの領域、すなわち第１領域６０Ａ、第２領域６０Ｂ、第３領域６０Ｃ、第４領域６０Ｄ、および第５領域６０Ｅに区分される。なお、第２領域６０Ｂは「足前方領域」に相当し、第５領域６０Ｅは「足後方領域」に相当する。
（ａ）第１領域６０Ａは、台前方端部６０Ｘから足指ＦＴの付け根に対応する部分までの領域を示す。
（ｂ）第２領域６０Ｂは、足指ＦＴの付け根に対応する部分から施術突起５１の前方の縁に対応する部分までの領域を示す。
（ｃ）第３領域６０Ｃは、施術突起５１の前方の縁から施術突起５１の後方の縁までの領域を示す。
（ｄ）第４領域６０Ｄは、施術突起５１の後方の縁から踵ＦＨの前端に対応する部分までの領域を示す。
（ｅ）第５領域６０Ｅは、踵ＦＨの前端に対応する部分から台後方端部６０Ｙまでの領域を示す。
【００５３】
ヒータ７０は、第１領域６０Ａ〜第５領域６０Ｅにまたがり配線されている。ヒータ７０の各部分は、各領域６０Ａ〜６０Ｅとの関係に基づいて５つの領域、すなわち第１部分７１、第２部分７２、第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５に区分される。
（ａ）第１部分７１は、第１領域６０Ａに対応する部分を示す。
（ｂ）第２部分７２は、第２領域６０Ｂに対応する部分を示す。
（ｃ）第３部分７３は、第３領域６０Ｃに対応する部分を示す。
（ｄ）第４部分７４は、第４領域６０Ｄに対応する部分を示す。
（ｅ）第５部分７５は、第５領域６０Ｅに対応する部分を示す。
【００５４】
足支持部４０においては、２つの足裏支持部５０に対して１本のヒータ７０が足Ｆの各部分に対応するように配線されている。また、１つの足裏支持部５０において施術突起５１を取り囲むようにヒータ７０が配線されている。
【００５５】
ヒータ７０と足Ｆとの関係について説明する。
（ａ）第１部分７１は、足指ＦＴに対応して配線されている。
（ｂ）第２部分７２は、土踏まずＦＡの前方の部分に対応して配線されている。
（ｃ）第３部分７３は、長さ方向中間かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。
（ｄ）第４部分７４は、長さ方向後方かつ幅方向外側の部分に対応して配線されている。
（ｅ）第５部分７５は、踵ＦＨに対応して配線されている。
【００５６】
ヒータ７０の各部分の長さの関係について説明する。
第１領域６０Ａおよび第２領域６０Ｂにおいての単位面積あたりのヒータ７０の長さは、第４領域６０Ｄおよび第５領域６０Ｅにおいての単位面積あたりのヒータ７０の長さよりも大きい。すなわち、第１部分７１および第２部分７２の合計の長さは、第４部分７４および第５部分７５の合計の長さよりも大きい。なお、第２部分７２は「部分Ａ」に相当し、第５部分７５は「部分Ｂ」に相当する。
【００５７】
ヒータ７０の各部分の表面積の関係について説明する。
第１領域６０Ａおよび第２領域６０Ｂにおいての単位面積あたりのヒータ７０の表面積は、第４領域６０Ｄおよび第５領域６０Ｅにおいての単位面積あたりのヒータ７０の表面積よりも大きい。すなわち、第１部分７１および第２部分７２の合計の表面積は、第４部分７４および第５部分７５の合計の表面積よりも大きい。なお、ここでのヒータ７０の表面積はシート５３から露出しているヒータ７０の上方の部分の表面積を示す。
【００５８】
足支持部４０においては、上記のようにヒータ７０が配線されていることにより、第１部分７１および第２部分７２の合計の発熱量が第４部分７４および第５部分７５の合計の発熱量よりも大きくなる。
【００５９】
図５を参照して、足支持部４０の動作について説明する。
足Ｆのマッサージは次の順序で行なわれる。
（手順Ａ）足Ｆが足裏支持部５０に載せられる。
（手順Ｂ）エアバッグ５２による施術突起５１の移動が開始される。
（手順Ｃ）ヒータ７０による足裏への温感の付与が開始される。
（手順Ｄ）ヒータ７０による温感の付与が停止される。
（手順Ｅ）エアバッグ５２による施術突起５１の移動が停止される。
【００６０】
上記（手順Ｂ）においては、エアバッグ５２の膨張および収縮にともない施術突起５１の突出量が変化することにより、突出量の変化に応じた刺激が足裏に付与される。すなわち、施術突起５１の突出量が増大するときには足裏に付与される刺激が大きくなる。一方、施術突起５１の突出量が減少するときには足裏に付与される刺激が小さくなる。
【００６１】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、以下の効果が得られる。
（１）比較例のオットマン（以下、「比較オットマン」）との対比に基づいて本実施形態のマッサージ機１により得られる効果について説明する。比較オットマンは、以下の点においてマッサージ機１のオットマン２０と構成が相違し、その他の点についてはオットマン２０と同一の構成を有する。
【００６２】
すなわち、オットマン２０において図５等に示されるようにヒータ７０が配線されている点に対して、比較オットマンにおいては、取付台６０の外周に沿うようにヒータが環状に配線されている。また、同ヒータにおいて台前方端部６０Ｘに対応する部分（以下、「比較ヒータ前方部分」）は主に足指の先端に対応して配線されている。
【００６３】
比較オットマンにおいては、上記のように比較ヒータ前方部分が配線されているため、当該オットマンの使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたとき、比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となりやすい。すなわち、ヒータの熱が足裏の前方の部分に効率的に伝えられなくなるおそれが高い。
【００６４】
一方、本実施形態のマッサージ機１のオットマン２０においては、第２領域６０Ｂにヒータ７０の一部分（第２部分７２）が配線されている。この構成によれば、当該オットマン２０の使用時に足の位置が規定の位置から奥行方向の後方にずれたときに第２部分７２が足裏と対向しない状態となる頻度は、比較オットマンにおいて比較ヒータ前方部分が足裏と対向しない状態となる頻度よりも小さくなる。このため、ヒータ７０の熱を足裏の前方の部分に効率的に伝えることができる。
【００６５】
（２）オットマン２０においては、第３領域６０Ｃにヒータ７０の一部分（第３部分７３）が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分のより広い範囲に温感を付与することができる。
【００６６】
（３）オットマン２０においては、第２領域６０Ｂに加えて第５領域６０Ｅにヒータ７０の一部分（第５部分７５）が配線されている。この構成によれば、足裏の前方の部分に加えて足裏の後方の部分にも温感が付与されるため、足裏の全体に温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。
【００６７】
（４）オットマン２０においては、施術突起５１を取り囲むようにヒータ７０が配線されている。この構成によれば、施術突起５１により温感が付与されている感覚を使用者に与えることができる。
【００６８】
（５）オットマン２０においては、第１部分７１および第２部分７２の合計の表面積が第４部分７４および第５部分７５の合計の表面積よりも大きい。この構成によれば、踵に付与される温感に比べて足指およびその付近に付与される温感の方が大きくなるため、足裏を効率的に温めることができる。
【００６９】
（５）オットマン２０においては、左方の足裏支持部５０と右方の足裏支持部５０との間に足側壁が設けられていない。この構成によれば、左方の足裏支持部５０と右方の足裏支持部５０との間に足側壁が設けられる構成と比較して、ヒータ７０が停止したときに足の温度が下がりやすい。このため、足裏に温感を付与するモードの後に足裏に温感を付与しないモードが行なわれるとき、足裏の状態を後者のモードに適した状態に速やかに近づけることができる。
【００７０】
（６）オットマン２０においては、取付台６０としてヒータ７０よりも変形しにくいものが用いられている。この構成によれば、ヒータ７０の断線を生じにくくすることができる。
【００７１】
（７）オットマン２０においては、第１カバー４４に接触するようにヒータ７０が配線されている。この構成によれば、第１カバー４４とヒータ７０との間に樹脂製のカバー等が設けられる構成と比較して、ヒータ７０の熱を足裏に効率よく伝えることができる。
【００７２】
（８）オットマン２０においては、第１カバー４４に対して取り付けおよび取り外しができるように第２カバー４５が構成されている。この構成によれば、オットマン２０の使用にともない汚れやすい部分、すなわち足裏に対応する部分のカバーとしての第２カバー４５を容易に交換することができる。
【００７３】
（９）オットマン２０においては、銀が織り込まれた織物により第１カバー４４が構成されている。この構成によれば、第１カバー４４が消臭作用を有するものとなるため、オットマン２０の使用にともない足支持部４０から汗等の臭いが発生することを抑制することができる。また、第１カバー４４が抗菌作用を有するものとなるため、オットマン２０の使用にともない足支持部４０に雑菌が繁殖することを抑制することができる。また、第１カバー４４が高い熱伝導率を有するものとなるため、ヒータ７０から足裏に熱を効率よく伝えることができる。
【００７４】
（１０）オットマン２０においては、銀が織り込まれた織物により第２カバー４５が構成されている。この構成によれば、第２カバー４５においても第１カバー４４により得られる効果と同様の効果が得られる。
【００７５】
（１１）オットマン２０においては、取付台６０に第１リブ６１〜第４リブ６４が設けられている。この構成によれば、取付台６０の平面部６５の強度が向上するため、足が足支持部４０に載せられたときの平面部６５の変形量が小さくすることができる。このため、ヒータ７０の断線が生じにくくなる。
【００７６】
（その他の実施形態）
本発明の実施態様は、上記実施形態の内容に限定されるものではなく、例えば以下のように変更することもできる。また、以下の変形例は上記実施形態についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。
【００７７】
・上記実施形態では、１本の電熱線によりヒータ７０を構成しているが、ヒータ７０の構成を以下のように変更することもできる。
（Ａ）図７に示されるように、ヒータ７０に代えてヒータ８０を設けることもできる。このヒータ８０には、取付台６０の前方の部分に配線される第１ヒータ８１と、取付台６０の後方の部分に配線される第２ヒータ８２とが設けられる。
【００７８】
第１ヒータ８１は、第１領域６０Ａ、第２領域６０Ｂ、および第３領域６０Ｃにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ７０の第１部分７１、第２部分７２、および第３部分７３の配線態様に準じたものが採用される。
【００７９】
第２ヒータ８２は、第３領域６０Ｃ、第４領域６０Ｄ、および第５領域６０Ｅにわたり配線されている。また、その配線態様としては、ヒータ７０の第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５の配線態様に準じたものが採用される。
【００８０】
（Ｂ）ヒータ７０に代えて、各取付台６０に配線される部分が３本の電熱線により構成されるヒータを設けることもできる。このヒータの構成としては、例えば図５に示されるヒータ７０において、第１部分７１および第２部分７２を１本の電熱線により構成し、第３部分７３を１本の電熱線により構成し、第４部分７４および第５部分７５を１本の電熱線により構成したものが挙げられる。
【００８１】
・上記（Ａ）の変形例において、ヒータの制御として以下の（制御１）〜（制御４）をマッサージ機１の制御装置に予めプログラムすることもできる。この場合には、各制御の実行および停止を選択するための操作部と、各制御のうちの実行するものを選択するための操作部とがマッサージ機１のコントローラに設けられる。
（制御１）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量よりも大きくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御２）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量よりも小さくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御３）第１ヒータ８１の発熱量が第２ヒータ８２の発熱量と等しくなるように各ヒータの供給電力を制御する。
（制御４）上記（制御１）〜（制御３）の少なくとも２つを選択し、予めプログラムされた順序に基づいて選択した制御を順に行なう。
【００８２】
・上記実施形態では、１つの足裏支持部５０に１つの施術突起５１を設けているが、１つの足裏支持部５０に複数の施術突起５１を設けることもできる。図８を参照して、複数の施術突起５１が設けられる構成の一例について説明する。
【００８３】
図８に示されるように、各足裏支持部５０には、複数の施術突起５１としての第１施術突起５１Ａおよび第２施術突起５１Ｂと、ヒータ７０に代わるヒータ９０とが設けられる。第１施術突起５１Ａは、取付台６０の前方の部分に設けられる。第２施術突起５１Ｂは、取付台６０の後方の部分に設けられる。なお、図８の変形例においてヒータ９０に代えてヒータ７０を設けることもできる。
【００８４】
取付台６０には、第１施術突起５１Ａおよび第２施術突起５１Ｂをそれぞれ挿入するための２つの突起孔６７が形成される。取付台６０の内部には、第１施術突起５１Ａを高さ方向に移動させるための第１エアバッグ５２Ａと、第２施術突起５１Ｂを高さ方向に移動させるための第２エアバッグ５２Ｂとが設けられる。
【００８５】
ヒータ９０には、取付台６０の前方の部分に配線される第１ヒータ９１と、取付台６０の後方の部分に配線される第２ヒータ９２とが設けられる。すなわち、ヒータ９０は２本の電熱線により構成される。
【００８６】
取付台６０は、奥行方向において前方から後方に向けて６つの領域、すなわち第１１領域６０Ｆ、第１２領域６０Ｇ、第１３領域６０Ｈ、第１４領域６０Ｉ、第１５領域６０Ｊ、および第１６領域６０Ｋに区分される。なお、第１２領域６０Ｇは「足前方領域」に相当し、第１６領域６０Ｋは「足後方領域」に相当する。
（ａ）第１１領域６０Ｆは、台前方端部６０Ｘから足指の付け根に対応する部分までの領域を示す。
（ｂ）第１２領域６０Ｇは、足指の付け根に対応する部分から第１施術突起５１Ａの前方の縁に対応する部分までの領域を示す。
（ｃ）第１３領域６０Ｈは、第１施術突起５１Ａの前方の縁から第１施術突起５１Ａの後方の縁までの領域を示す。
（ｄ）第１４領域６０Ｉは、第１施術突起５１Ａの後方の縁から第２施術突起５１Ｂの前方の縁までの領域を示す。
（ｅ）第１５領域６０Ｊは、第２施術突起５１Ｂの前方の縁から第２施術突起５１Ｂの後方の縁までの領域を示す。
（ｆ）第１６領域６０Ｋは、第２施術突起５１Ｂの後方の縁から台後方端部６０Ｙまでの領域を示す。
【００８７】
第１ヒータ９１は、第１１領域６０Ｆ、第１２領域６０Ｇ、第１３領域６０Ｈ、および第１４領域６０Ｉの前方の部分にわたり配線される。また、図６のヒータ７０の第１部分７１、第２部分７２、および第３部分７３の配線態様に準じて第１施術突起５１Ａを取り囲むように配線される。
【００８８】
第２ヒータ９２は、第１４領域６０Ｉの後方の部分、第１５領域６０Ｊ、および第１６領域６０Ｋにわたり配線される。また、図６のヒータ７０の第３部分７３、第４部分７４、および第５部分７５の配線態様に準じて第２施術突起５１Ｂを取り囲むように配線される。
【００８９】
・上記実施形態において、ヒータ７０の第１部分７１を省略することもできる。
・上記実施形態において、ヒータ７０の第３部分７３〜第５部分７５の少なくとも一部分を省略することもできる。
【００９０】
・上記実施形態では、ヒータ７０として電熱線により構成されるものを用いているが、ヒータ７０の構成はこれに限られない。例えば、遠赤外線を放射する素子と、遠赤外線を受けるセラミック板とにより構成されるヒータを用いることもできる。この場合、取付台６０上にセラミック板が設けられるとともに、取付台６０の内部に素子が設けられる。またセラミック板は、ヒータ７０の第１部分７１〜第５部分７５と対応するように設けられる。また素子は、セラミック板に対応する位置に設けられる。
【００９１】
・上記実施形態では、樹脂製の取付台６０を用いているが、金属製の取付台６０を用いることもできる。また、ヒータ７０よりも変形しにくいゴムにより形成された取付台６０を用いることもできる。
【００９２】
・上記実施形態では、各足に対応する２つの取付台６０を設けているが、右方の取付台６０および左方の取付台６０の少なくとも一方を省略することもできる。この場合、ヒータ７０がシート５３を介して足底壁４２上に配線される。
【００９３】
・上記実施形態において、第２カバー４５の構成を次のように変更することもできる。すなわち、図９（ａ）に示されるように、第２カバー４５の前方の端部に足の甲を覆うための甲カバー４６を設けることもできる。この甲カバー４６の幅は、第２カバー４５において足裏に対応する部分の幅よりも大きく設定される。
【００９４】
図９（ｂ）に示されるように、この第２カバー４５においては、甲カバー４６を折り返すことにより足の甲を覆うことができる。これにより、使用者の足に対してより効率的に温感を付与することができる。
【００９５】
・上記実施形態において、銀に代えてアルミ二ウム等の他の金属粉が織り込まれた織物により第１カバー４４および第２カバー４５の少なくとも一方を構成することもできる。
・上記実施形態において、金属粉が織り込まれていない織物により第１カバー４４および第２カバー４５の少なくとも一方を構成することもできる。
【００９６】
・上記実施形態において、第２カバー４５を省略することもできる。この場合、第１カバー４４から第１面ファスナ４４Ａが省略される。
・上記実施形態において、第１カバー４４とヒータ７０との間にヒータ７０を覆う別のカバーを設けることもできる。この構成においても、上記実施形態の（１）〜（６）および（８）〜（１１）の効果が得られる。
【００９７】
・上記実施形態において、右方の足裏支持部５０と左方の足裏支持部５０との間に足側壁を設けることもできる。この足側壁は、「足側壁Ｃ」に相当するものであり、右足の左方への移動および左足の右方への移動を規制するものとして設けられる。
【００９８】
・上記実施形態において、足側壁４３の少なくとも一方を省略することもできる。
・上記実施形態では、取付台６０の突起孔６７が施術突起５１とすきま嵌めされる大きさとして設けられているが、突起孔６７の大きさはこれに限られない。施術突起５１と足指の付け根との間の範囲に第１部分７１が設けられていれば、突起孔６７を奥行方向または幅方向に延びる長孔とすることもできる。
【００９９】
・上記実施形態において、オットマン２０から脚支持部３０を省略することもできる。
・上記実施形態において、マッサージ機１の一部としてオットマン２０を構成しているが、オットマン２０をマッサージ機１から独立した単独のマッサージ機として構成することもできる。
【符号の説明】
【０１００】
１…椅子型マッサージ機、１１…座部、１２…背もたれ、２０…オットマン、４０…足支持部、４１…支持部本体（足支持部の本体）、４３…足側壁、４４…第１カバー（第１織物）、４５…第２カバー（第２織物）、５１…施術突起、５１Ａ…第１施術突起（施術突起）、５１Ｂ…第２施術突起（施術突起）、６０…取付台、６０Ｂ…第２領域（足前方領域）、６０Ｅ…第５領域（足後方領域）、６０Ｇ…第１２領域（足前方領域）、６０Ｋ…第１６領域（足後方領域）、６５…平面部、７０…ヒータ、７２…第２部分（部分Ａ）、７５…第５部分（部分Ｂ）、８０…ヒータ、８１…第１ヒータ、８２…第２ヒータ、９０…ヒータ、９１…第１ヒータ、９２…第２ヒータ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備えるオットマンにおいて、
前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項２】
請求項１に記載のオットマンにおいて、
前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項３】
請求項１または２に記載のオットマンにおいて、
前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項４】
請求項３に記載のオットマンにおいて、
前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Ａとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Ｂとして、前記足裏に対向する前記部分Ａの表面積が前記足裏に対向する前記部分Ｂの表面積よりも大きいこと
を特徴とするオットマン。
【請求項５】
請求項３に記載のオットマンにおいて、
前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第１ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第２ヒータとして、
前記第１ヒータの発熱量および前記第２ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、
ならびに、前記第１ヒータの発熱量が前記第２ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Ａとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Ｂとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Ｃとして、
前記足側壁Ａおよび前記足側壁Ｂの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、
ならびに、前記足側壁Ｃが前記足支持部に設けられていないこと
を特徴とするオットマン。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、
前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、
前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、
ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていること
を特徴とするオットマン。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、
前記カバーが織物により構成されていること、
ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触すること
を特徴とするオットマン。
【請求項９】
請求項８に記載のオットマンにおいて、
互いに独立した第１織物および第２織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、
前記第２織物が前記第１織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、
ならびに、前記第１織物に対する前記第２織物の取り付けおよび前記第１織物からの前記第２織物の取り外しが可能であること
を特徴とするオットマン。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のオットマンにおいて、
前記織物に金属粉が織り込まれていること
を特徴とするオットマン。
【請求項１１】
請求項１０に記載のオットマンにおいて、
前記金属粉として銀が用いられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項１２】
臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備える椅子型マッサージ機において、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のオットマンが設けられていること
を特徴とする椅子型マッサージ機。
【請求項１】
足裏を支持する足支持部と、前記足裏を施術する施術突起と、前記足裏に温感を付与するヒータとを備えるオットマンにおいて、
前記足支持部の本体において前記足裏の足指の付け根に対応する部分から前記施術突起までの領域を足前方領域として、この足前方領域に前記ヒータが設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項２】
請求項１に記載のオットマンにおいて、
前記足裏の幅方向において前記施術突起に隣接する部分に前記ヒータがさらに設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項３】
請求項１または２に記載のオットマンにおいて、
前記足支持部の本体において前記足裏の踵に対応する部分から前記施術突起までの領域を足後方領域として、この足後方領域に前記ヒータがさらに設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項４】
請求項３に記載のオットマンにおいて、
前記足前方領域に設けられた前記ヒータの一部分を部分Ａとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータの別の一部分を部分Ｂとして、前記足裏に対向する前記部分Ａの表面積が前記足裏に対向する前記部分Ｂの表面積よりも大きいこと
を特徴とするオットマン。
【請求項５】
請求項３に記載のオットマンにおいて、
前記足前方領域に設けられた前記ヒータを第１ヒータとし、前記足後方領域に設けられた前記ヒータを第２ヒータとして、
前記第１ヒータの発熱量および前記第２ヒータの発熱量を互いに独立して制御することができること、
ならびに、前記第１ヒータの発熱量が前記第２ヒータの発熱量よりも高くなるように前記ヒータを制御するモードが設けられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
足の側方に設けられる壁を足側壁とし、右足の右方に設けられる前記足側壁を足側壁Ａとし、左足の左方に設けられる前記足側壁を足側壁Ｂとし、前記右足と前記左足との間に設けられる前記足側壁を足側壁Ｃとして、
前記足側壁Ａおよび前記足側壁Ｂの少なくとも一方が前記足支持部に設けられていること、
ならびに、前記足側壁Ｃが前記足支持部に設けられていないこと
を特徴とするオットマン。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
前記足裏が載せられる取付台が前記足支持部の本体上に設けられていること、
前記取付台の平面部に前記ヒータが取り付けられていること、
前記ヒータとして電熱線を含むものが用いられていること、
ならびに、前記平面部が前記電熱線よりも変形しにくい材料により形成されていること
を特徴とするオットマン。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のオットマンにおいて、
前記ヒータを覆うカバーが前記足支持部の本体に設けられていること、
前記カバーが織物により構成されていること、
ならびに、前記ヒータが前記カバーに接触すること
を特徴とするオットマン。
【請求項９】
請求項８に記載のオットマンにおいて、
互いに独立した第１織物および第２織物が互いに重ね合わせられて前記カバーが構成されていること、
前記第２織物が前記第１織物の表面において前記足裏に対応する部分に重ね合わせられていること、
ならびに、前記第１織物に対する前記第２織物の取り付けおよび前記第１織物からの前記第２織物の取り外しが可能であること
を特徴とするオットマン。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のオットマンにおいて、
前記織物に金属粉が織り込まれていること
を特徴とするオットマン。
【請求項１１】
請求項１０に記載のオットマンにおいて、
前記金属粉として銀が用いられていること
を特徴とするオットマン。
【請求項１２】
臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを備える椅子型マッサージ機において、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のオットマンが設けられていること
を特徴とする椅子型マッサージ機。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−１７０６０９（Ｐ２０１２−１７０６０９Ａ）
【公開日】平成２４年９月１０日（２０１２．９．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−３５２５５（Ｐ２０１１−３５２５５）
【出願日】平成２３年２月２１日（２０１１．２．２１）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月１０日（２０１２．９．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月２１日（２０１１．２．２１）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]