オルトメタル化イリジウム錯体からなる発光素子材料、発光素子および新規イリジウム錯体
【課題】発光特性の優れた発光素子およびそのための材料を提供する。
【解決手段】式１〜２、又は一般式３の部分構造を有するオルトメタル化イリジウム錯体又はその互変異性からなる発光素子材料。具体例にはそれぞれ１−３、１−１、１−４の化合物がある。
（Ｒ１とＲ２は置換基、ｑ１とｑ２は０〜４の整数を表し、ｑ１＋ｑ２は１以上である。）
【解決手段】式１〜２、又は一般式３の部分構造を有するオルトメタル化イリジウム錯体又はその互変異性からなる発光素子材料。具体例にはそれぞれ１−３、１−１、１−４の化合物がある。
（Ｒ１とＲ２は置換基、ｑ１とｑ２は０〜４の整数を表し、ｑ１＋ｑ２は１以上である。）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気エネルギーを光に変換して発光できる発光素子用材料および発光素子に関し、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア等の分野に好適に使用できる発光素子に関する。また、各種分野での応用が期待される新規発光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、種々の表示素子に関する研究開発が活発であり、中でも有機電界発光（ＥＬ）素子は、低電圧で高輝度の発光を得ることができるため、有望な表示素子として注目されている。例えば、有機化合物の蒸着により有機薄膜を形成する発光素子が知られている（アプライド フィジックス レターズ，５１巻，９１３頁，１９８７年）。この文献に記載された発光素子はトリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ）を電子輸送材料として用い、正孔輸送材料（アミン化合物）と積層させることにより、従来の単層型素子に比べて発光特性を大幅に向上させている。
【０００３】近年、有機ＥＬ素子をカラーディスプレイへと適用することが活発に検討されているが、高性能カラーディスプレイを開発する為には 青・緑・赤、それぞれの発光素子の特性を向上する必要が有る。
【０００４】発光素子特性向上の手段として、オルソメタル化イリジウム錯体（Ir(ppy)3:Ｔｒｉｓ−Ｏｒｔｈｏ−Ｍｅｔａｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｌｅｘ ｏｆ Ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ） ｗｉｔｈ ２−Ｐｈｅｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）からの発光を利用した緑色発光素子が報告されている（Applied Physics Letters ７５，４（１９９９）．）。本素子は外部量子収率８％を達しており、従来素子の限界といわれていた外部量子収率５％を凌駕しているが、緑色発光に限定されているため、ディスプレイとしての適用範囲が狭く、高効率で他色に発光する発光素子材料の開発が求められていた。
【０００５】一方、有機発光素子において高輝度発光を実現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層している素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面積化等の観点から塗布方式による素子作製が望ましい。しかしながら、従来の塗布方式で作製した素子では特に発光効率の点で蒸着方式で作製した素子に劣っており、新規発光素子材料の開発が望まれていた。また、近年、フィルター用染料、色変換フィルター、写真感光材料染料、増感色素、パルプ染色用染料、レーザー色素、医療診断用蛍光薬剤、有機発光素子用材料等に蛍光を有する物質が種々用いられ、その需要が高まっており、新たな発光材料が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、発光特性が良好な発光素子およびそれを可能にする発光素子用材料の提供および、各種分野で利用可能な新規発光材料の提供にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この課題は下記手段によって達成された。
１．一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【０００８】
【化１１】
【０００９】２．一般式（２）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【００１０】
【化１２】
【００１１】３．一般式（３）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【００１２】
【化１３】
【００１３】式中、Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。
【００１４】４．一般式（４）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体。
【００１５】
【化１４】
【００１６】式中、Ｚ11およびＺ12はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｌｎ1は２価の基を表わす。Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ1は単結合または二重結合を表わす。
【００１７】５．上記４に記載の化合物からなる発光材料。
【００１８】６．一般式（５）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【００１９】
【化１５】
【００２０】７．一般式（６）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【００２１】
【化１６】
【００２２】８．一般式（７）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２３】
【化１７】
【００２４】式中、Ｚ21およびＺ22はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ2は単結合または二重結合を表わす。
【００２５】９．一般式（８）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２６】
【化１８】
【００２７】式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１０．一般式（９）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２８】
【化１９】
【００２９】式中、Ｚ201、Ｚ301はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１１．一般式（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００３０】
【化２０】
【００３１】式中、Ｚ201、Ｚ401はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１２．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層に上記１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料を含有する有機発光素子。
１３．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料単独からなる層を少なくとも一層有することを特徴とする有機発光素子。
１４．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層にオルトメタル化イリジウム錯体を有し、かつ、オルトメタル化イリジウム錯体を含む層を塗布プロセスで成膜することを特徴とする発光素子。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明する。本発明の化合物はオルトメタル化イリジウム錯体（orthometalated Ir Complexes）からなる発光素子材料である。オルトメタル化金属錯体とは、例えば「有機金属化学−基礎と応用−」ｐ１５０，２３２ 裳華房社 山本明夫著 １９８２年発行、「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 p71-p77,p135-p146 Springer-Verlag社 H.Yersin著１９８７年発行等に記載されている化合物群の総称である。
【００３３】オルトメタル化イリジウム錯体のイリジウムの価数は特に限定しないが、３価が好ましい。オルトメタル化イリジウム錯体の配位子は、オルトメタル化錯体を形成し得る物であれば特に問わないが、例えば、アリール基置換含窒素ヘテロ環誘導体（アリール基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素原子の隣接炭素上であり、アリール基としては例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられ、さらに炭素環、ヘテロ環と縮環を形成しても良い。含窒素ヘテロ環としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、フタラジン、キナゾリン、ナフトリジン、シンノリン、ペリミジン、フェナントロリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、フェナントリジンなどが挙げられる）、ヘテロアリール基置換含窒素ヘテロ環誘導体（ヘテロアリール基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素原子の隣接炭素上であり、ヘテロアリール基としては例えば前記の含窒素ヘテロ環誘導体を含有する基、チエニル基、フリル基などが挙げられる）、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ホスフィノアリール誘導体、ホスフィノヘテロアリール誘導体、ホスフィノキシアリール誘導体、ホスフィノキシヘテロアリール誘導体、アミノメチルアリール誘導体、アミノメチルヘテロアリール誘導体等が挙げられる。アリール基置換含窒素芳香族ヘテロ環誘導体、ヘテロアリール基置換含窒素芳香族ヘテロ環誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体が好ましく、フェニルピリジン誘導体、チエニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ベンジルピリジン誘導体、フェニルピラゾール誘導体、フェニルイソキノリン誘導体、窒素原子を２つ以上有するアゾールのフェニル置換誘導体がさらに好ましく、チエニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ベンジルピリジン誘導体、フェニルピラゾール誘導体、フェニルイソキノリン誘導体、窒素原子を２つ以上有するアゾールのフェニル置換誘導体が特に好ましい。
【００３４】本発明の化合物は、オルトメタル化錯体を形成するに必要な配位子以外に、他の配位子を有していても良い。他の配位子としては種々の公知の配位子が有るが、例えば、「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」Springer-Verlag社 H.Yersin著 １９８７年発行、「有機金属化学−基礎と応用−」 裳華房社 山本明夫著 １９８２年発行 等に記載の配位子が挙げられ、好ましくは、ハロゲン配位子（好ましくは塩素配位子）、含窒素ヘテロ環配位子（例えばビピリジル、フェナントロリンなど）、ジケトン配位子であり、より好ましくは塩素配位子、ビピリジル配位子である。
【００３５】本発明の化合物の配位子の種類は１種類でも良いし、複数の種類があっても良い。錯体中の配位子の数は好ましくは１〜３種類であり、特に好ましくは１、２種類であり、さらに好ましくは１種類である。
【００３６】本発明の化合物の炭素数は、好ましくは５〜１００、より好ましくは１０〜８０、さらに好ましくは１４〜５０である。
【００３７】本発明の一般式（１）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体のうち、一般式（１）、（２）、（４）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体がより好ましい。
【００３８】一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体は、化合物中にイリジウム原子を一つ有しても良いし、また、２つ以上有するいわゆる複核錯体であっても良い。他の金属原子を同時に含有していても良い。一般式（２）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体も同様である。
【００３９】一般式（３）において、Ｒ1，Ｒ2は置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。ｑ1，ｑ2が２以上の場合、複数個のＲ1，Ｒ2はそれぞれ同一または互いに異なっても良い。Ｒ1，Ｒ2としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１０であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、２−ベンズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、Ｒ1基どうし、Ｒ2基どうし、もしくは、Ｒ1基，Ｒ2基が結合して縮環構造を形成しても良い。
【００４０】Ｒ1，Ｒ2はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、結合して縮環構造を形成する基が好ましく、アルキル基、結合して芳香族縮環構造を形成する基がより好ましい。ｑ1，ｑ2は０，１，２が好ましく、より好ましくはｑ1＋ｑ2＝１ ｏｒ ２である。
【００４１】一般式（４）において、Ｚ11およびＺ12は５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表し、この環は置換基を有していても良く、またさらに別の環と縮合環を形成していてもよい。置換基としては例えばハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、ニトロ、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＣＯ2Ｒ103、−ＯＣＯＲ104、−ＮＲ105Ｒ106、−ＣＯＮＲ107Ｒ108、−ＳＯ2Ｒ109、−ＳＯ2ＮＲ110Ｒ111、−ＮＲ112ＣＯＮＲ113Ｒ114、−ＮＲ115ＣＯ2Ｒ116、−ＣＯＲ117、−ＮＲ118ＣＯＲ119または−ＮＲ120ＳＯ2Ｒ121が挙げられる。ここでＲ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120およびＲ121はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４２】置換基としては上記のうちハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＮＲ105Ｒ106、 −ＳＯ2Ｒ109、−ＮＲ112ＣＯＮＲ113Ｒ114、−ＮＲ115ＣＯ2Ｒ116、−ＮＲ118ＣＯＲ119または−ＮＲ120ＳＯ2Ｒ121であることが好ましく、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＮＲ105Ｒ106またはで−ＳＯ2Ｒ109あることがより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキシ基、ジアルキルアミノ基であることがより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基であることがさらに好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基であることが最も好ましい。
【００４３】ここで、脂肪族基はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基を意味する。
【００４４】Ｚ11およびＺ12が形成する５員環、６員環としては芳香族環または複素芳香族環が好ましく、例えばフラン環、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、セレナゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環およびピリダジン環がある。Ｚ11してはこれらのうち、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ベンゼン環およびピリジン環が好ましく、チアゾール環、ピロール環、ベンゼン環およびピリジン環が更に好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。Ｚ12としてはイミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、ピリジン環およびピリミジン環が好ましく、イミダゾール環、チアゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ピリジン環およびピリミジン環がさらに好ましく、ピラゾール環およびピリジン環が更に好ましい。好ましいＺ11、Ｚ12の炭素原子数は各々３〜４０であり、さらに好ましくは３〜３０であり、特に好ましくは３〜２０である。
【００４５】Ｌｎ1は２価の基を表わす。２価の基としては例えば−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−、−Ｎ（Ｒ133）−、−Ｏ−、−Ｐ（Ｒ134）−または−Ｓ−が挙げられる。ここでＲ131およびＲ132はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、−ＯＲ141、−ＳＲ142、−ＣＯ2Ｒ143、−ＯＣＯＲ144、−ＮＲ145Ｒ146、−ＣＯＮＲ147Ｒ148、−ＳＯ2Ｒ149、−ＳＯ2ＮＲ150Ｒ151、−ＮＲ152ＣＯＮＲ153Ｒ154、−ＮＲ155ＣＯ2Ｒ156、−ＣＯＲ157、−ＮＲ158ＣＯＲ159または−ＮＲ160ＳＯ2Ｒ161を表わし、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160およびＲ161はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。Ｒ133は脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表わし、またＲ134は脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基および−ＯＲ171を表わし、 Ｒ171は水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４６】Ｌｎ1として好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−、−Ｏ−または−Ｓ−であり、さらに好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−でＲ131およびＲ132が水素原子、脂肪族基またはアリール基の場合であり、さらに好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−でＲ131およびＲ132が水素原子あるいは炭素数１〜４のアルキル基の場合である。好ましいＬｎ1の炭素原子数は０〜２０であり、さらに好ましくは０〜１５であり、特に好ましくは０〜１０である。
【００４７】Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わす。Ｙ1が窒素原子のときｂ1は単結合を表わし、炭素原子のときｂ1は二重結合を表わす。
【００４８】一般式（７）においてＺ21およびＺ22は５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。置換基の例としてはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、ニトロ、−ＯＲ201、−ＳＲ202、−ＣＯ2Ｒ203、−ＯＣＯＲ204、−ＮＲ205Ｒ206、−ＣＯＮＲ207Ｒ208、−ＳＯ2Ｒ209、−ＳＯ2ＮＲ210Ｒ211、−ＮＲ212ＣＯＮＲ213Ｒ214、−ＮＲ215ＣＯ2Ｒ216、−ＣＯＲ217、−ＮＲ218ＣＯＲ219または−ＮＲ220ＳＯ2Ｒ221が挙げられる。ここでＲ201、Ｒ202、Ｒ203、Ｒ204、Ｒ205、Ｒ206、Ｒ207、Ｒ208、Ｒ209、Ｒ210、Ｒ211、Ｒ212、Ｒ213、Ｒ214、Ｒ215、Ｒ216、Ｒ217、Ｒ218、Ｒ219、Ｒ220およびＲ221はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４９】Ｚ21およびＺ22の好ましい置換基として挙げられるものは、Ｚ11およびＺ12の場合と全く同じである。
【００５０】Ｚ21が形成する５員環、６員環としてはフラン環、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、セレナゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環およびピリダジン環がある。これらのうち、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ベンゼン環およびピリジン環が好ましく、チアゾール環、ピロール環、ベンゼン環およびピリジン環が更に好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。Ｚ22としてはピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環およびピリダジン環があり、ピラゾール環が最も好ましい。好ましいＺ11、Ｚ12の炭素原子数は各々３〜４０であり、さらに好ましくは３〜３０であり、特に好ましくは３〜２０である。
【００５１】Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わす。Ｙ2が窒素原子のときｂ2は単結合を表わし、炭素原子のときｂ2は二重結合を表わす。
【００５２】一般式（８）において、式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203、Ｘ204が−Ｃ＝Ｎ−とともに形成する含窒素へテロアリール６員環は縮環を形成しても良い。Ｒは水素原子または置換基を表し、置換基としてはＲ1、Ｒ2において説明したものと同義である。好ましくはピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、キノキサリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、プリン、プテリジン等を表し、さらに好ましくはピラジン、ピリミジン、ピリダジン、キノキサリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリンを表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。Ｚ201が形成するアリール環は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられ、さらに炭素環、ヘテロ環と縮環を形成しても良い。Ｚ201が表すヘテロアリール環は好ましくは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなるヘテロアリール環を表し、さらに好ましくは５ないし６員のヘテロアリール環を表し、さらに縮環を形成しても良く、好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、フタラジン、キナゾリン、ナフトリジン、シンノリン、ペリミジン、フェナントロリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、フェナントリジン、チエニル基、フリル基などが挙げられる。Ｚ201が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５３】一般式（９）において、Ｚ201は一般式（８）と同義であり、Ｚ301はピリジン環に縮環するアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、形成するアリール環、ヘテロアリール環は一般式（８）のＺ201が形成するアリール環、ヘテロアリール環と同様である。Ｚ301が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５４】一般式（１０）において、Ｚ201は一般式（８）と同義であり、Ｚ401はピリジン環に縮環するアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、形成するアリール環、ヘテロアリール環は一般式（８）のＺ201が形成するアリール環、ヘテロアリール環と同様である。Ｚ401が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５５】本発明の化合物のさらに好ましい形態は、一般式（１１）ないし一般式（２０）で表される化合物である。一般式（１１）ないし（１２）で表される化合物および一般式（１４）ないし一般式（２０）で表される化合物が特に好ましい。
【００５６】
【化２１】
【００５７】
【化２２】
【００５８】
【化２３】
【００５９】一般式（１１）について説明する。Ｒ11、Ｒ12は置換基を表し、置換基としては前記Ｒ1で説明した置換基が挙げられる。
【００６０】Ｒ11，Ｒ12はアルキル基、アリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００６１】ｑ11は０〜２の整数を表し、０，１が好ましく、０がより好ましい。ｑ12は０〜４の整数を表し、０，１が好ましく、０がより好ましい。ｑ11，ｑ12が２以上の場合、複数個のＲ11，Ｒ12はそれぞれ同一または互いに異なっても良く、また、連結して縮環を形成しても良い。
【００６２】Ｌ1は配位子を表す。配位子としては前記オルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、及び、その他の配位子で説明した配位子が挙げられる。Ｌ1はオルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、含窒素ヘテロ環配位子、ジケトン配位子、ハロゲン配位子が好ましく、より好ましくはオルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、ビピリジル配位子である。
【００６３】ｎ1は０〜５を表し、０が好ましい。ｍ1は１，２，３を表し、好ましく３である。ｎ1，ｍ1 の数の組み合わせは、一般式（４）で表される金属錯体が中性錯体となる数の組み合わせが好ましい。
【００６４】一般式（１２）について説明する。Ｒ21，ｎ2，ｍ2，Ｌ2はそれぞれ前記Ｒ11，ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。ｑ21は０〜８を表し、０が好ましい。ｑ21が２以上の場合は、複数個のＲ21は同一または互いに異なっても良く、また、連結して縮環を形成しても良い。
【００６５】一般式（１３）について説明する。Ｒ31，Ｒ32，ｑ31，ｑ32，ｎ3，ｍ3，Ｌ3はそれぞれ前記Ｒ1，Ｒ2，ｑ1，ｑ2，ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００６６】一般式（１４）について説明する。Ｒ301、Ｒ302は置換基を表わし、置換基とはＺ11およびＺ12にて説明したものと同義である。ｑ301、ｑ302は０〜４の整数を表わし、ｑ301、ｑ302が２〜４の場合、Ｒ301、Ｒ302は同一でも異なっていても良い。好ましいｑ301、ｑ302は０または１〜２であり、更に好ましくは０〜１である。ｍ101、Ｌ101、ｎ101はそれぞれ前記ｍ1、Ｌ1、ｎ1と同義である。
【００６７】一般式（１５）について説明する。Ｌ102は前記Ｌ1と同義であり、ｎ102は０〜５の整数を表わし、１〜５が好ましい。ｍ102は１〜６の整数を表わし、１および２が好ましい。ｎ102とｍ102の数の組み合わせは一般式（１５）で表わされる金属錯体が中性錯体となる数の組み合わせが好ましい。
【００６８】一般式（１６）について説明する。Ｌ103、ｎ103、ｍ103はそれぞれＬ1、ｎ102、ｍ102と同義である。
【００６９】一般式（１７）について説明する。Ｒ303は置換基を表わし、置換基とはＺ21にて説明したものと同義である。Ｚ23、ｑ303、Ｌ104、ｎ104、ｍ104はそれぞれ前記Ｚ22、ｑ301、Ｌ1、ｎ101、ｍ101と同義である。
【００７０】一般式（１８）について説明する。一般式（１８）において、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204が−Ｃ＝Ｎ−とともに形成する環は、一般式（８）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、一般式（８）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ201，ｍ201，Ｌ201はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７１】一般式（１９）において、Ｚ201、Ｚ301は一般式（９）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ202，ｍ202，Ｌ202はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７２】一般式（２０）において、Ｚ201、Ｚ401は一般式（１０）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ203，ｍ203，Ｌ203はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７３】本発明の化合物は一般式（１）等の繰り返し単位をひとつ有する、いわゆる低分子化合物であっても良く、また、一般式（１）等の繰り返し単位を複数個有するいわゆる、オリゴマー化合物、ポリマー化合物（重量平均分子量（ポリスチレン換算）は好ましくは１０００〜５００００００、より好ましくは２０００〜１００００００、さらに好ましくは３０００〜１０００００である。）であっても良い。本発明の化合物は低分子化合物が好ましい。
【００７４】次に本発明に用いる化合物例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００７５】
【化２４】
【００７６】
【化２５】
【００７７】
【化２６】
【００７８】
【化２７】
【００７９】
【化２８】
【００８０】
【化２９】
【００８１】
【化３０】
【００８２】
【化３１】
【００８３】
【化３２】
【００８４】
【化３３】
【００８５】
【化３４】
【００８６】
【化３５】
【００８７】本発明の化合物は、Inorg.Chem.1991年,30号,1685頁.,同1988,27号,3464頁.,同1994年,33号,545頁., Inorg.Chem.Acta 1991年，181号,245頁., J.Organomet.Chem. 1987年，335号，293頁., J.Am.Chem.Soc.1985年,107号,1431頁等、種々の公知の手法で合成することができる。
【００８８】本発明化合物の合成例の一部を以下に示す。以下に示すとおり、６ハロゲン化イリジウム（III）化合物、６ハロゲン化イリジウム（IV）化合物を出発原料にして合成することもできる。
【００８９】
【化３６】
【００９０】（合成例１）
・例示化合物（１−２５）の合成３ツ口フラスコにＫ3ＩｒＣｌ6を５．２２ｇ、２−ベンジルピリジンを１６．９ｇ、グリセロール５０ｍｌを入れ、アルゴン雰囲気下にて内温を２００℃に加熱しながら１時間攪拌した。この後内温が４０℃になるまで冷却し、メタノール１５０ｍｌを添加した。そのまま１時間攪拌した後、吸引濾過して得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的の例示化合物（１−２５）を４．３４ｇ得た（収率７７％）。
【００９１】（合成例２）
・例示化合物（１−２４）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２５）を５．６４ｇ、クロロホルム５６０ｍｌ、アセチルアセトン１０．０ｇを入れて、室温にて攪拌しながらここへナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液２０．１ｍｌを２０分かけて滴下した。滴下終了後室温にて５時間攪拌した後、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加し、抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水３００ｍｌと水３０ｍｌの混合溶液で４回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。こうして得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトフラフィーで精製して目的の例示化合物（１−２４）を５．５９ｇ得た（収率８９％）。
【００９２】（合成例３）
・例示化合物（１−２６）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２４）を６．２８ｇ、２−フェニルピリジンを１５．５ｇ、グリセロールを６３ｍｌ入れ、アルゴン雰囲気下にて内温を１７０℃に加熱しながら１５分間攪拌した。この後内温が４０℃になるまで冷却し、クロロホルム５００ｍｌ、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加して抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水４０ｍｌと水４００ｍｌの混合液で４回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的の例示化合物（１−２６）を５．６０ｇ得た（収率８２％）。
【００９３】（合成例４）
・例示化合物（１−２９）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２５）５．６４ｇ、クロロホルム５６０ｍｌを入れ、水浴下にて攪拌しながらここへ一酸化炭素を１０分間吹き込んだ。この後攪拌を１時間続けた後、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加し、抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水３００ｍｌと水３０ｍｌの混合溶液で４回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。こうして得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトフラフィーで精製して目的の例示化合物（１−２９）を４．３８ｇ得た（収率７４％）。
【００９４】（合成例５）
例示化合物（1−６５）および（１−６６）の合成
【００９５】
【化３７】
【００９６】Ｋ3ＩｒＣｌ6１．３５ｇを水２５ｍｌに溶解したものに３−クロロ−６−フェニルピリダジン１．０１ｇとグリセリン１００ｍｌ添加し、１８０℃にて４時間加熱攪拌した。反応終了後、放冷し、水を添加し、析出したこげ茶色固体を濾取、乾燥した。次に得られた固体をクロロホルム１Ｌに溶解したものに、アセチルアセトン２．５ｇと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４．８ｇを添加し、加熱還流下、２時間反応した。反応終了後、水５００ｍｌに注ぎ、クロロホルムで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて展開した。はじめに溶出した橙色フラクションを濃縮し、クロロホルム−エタノールにて再結晶、乾燥し、目的の例示化合物１−６５を６６ｍｇ得た。本化合物の溶液蛍光スペクトルを測定したところ、蛍光のλｍａｘ＝５７８ｎｍ（ＣＨＣｌ3）であった。更に次に溶出した赤橙色フラクションを濃縮し、クロロホルム−エタノールにて再結晶、乾燥し、目的の例示化合物１−６６を２９４ｍｇ得た。本化合物の溶液蛍光スペクトルを測定したところ、蛍光のλｍａｘ＝６２５ｎｍ（ＣＨＣｌ3）であった。
【００９７】次に、本発明の化合物を含有する発光素子に関して説明する。本発明の発光素子は、本発明の化合物を利用する素子であればシステム、駆動方法、利用形態など特に問わないが、本発明の化合物からの発光を利用するもの、または本化合物を電荷輸送材料として利用する物が好ましい。代表的な発光素子として有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を挙げることができる。
【００９８】本発明の化合物を含有する発光素子の有機層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法、インクジェット法、印刷法などの方法が用いられ、特性面、製造面で抵抗加熱蒸着、コーティング法が好ましく、また、蒸着時の熱分解回避の点から、コーティング法がより好ましい。
【００９９】本発明の発光素子は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した素子であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【０１００】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１０１】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾルーゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。
【０１０２】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）及びそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造だけでなく、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取ることもできる。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。
【０１０３】発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよく、一重項励起子または三重項励起子のいずれから発光するものであっても良い。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体、本発明の化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、ＬＢ法、印刷法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
【０１０４】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン誘導体、カーボン膜、本発明の化合物等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、印刷法が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。
【０１０５】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、印刷法などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
【０１０６】保護層の材料としては水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物、ＭｇＦ2、ＬｉＦ、ＡｌＦ3、ＣａＦ2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法、印刷法を適用できる。
【０１０７】
【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明の実施の態様はこれらに限定されない。
【０１０８】比較例１ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、化合物Ａ １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。有機層の膜厚は９８ｎｍであった。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を５０ｎｍ共蒸着した後、銀５０ｎｍを蒸着した。東陽テクニカ製ソースメジャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計ＢＭ−８、発光波長を浜松フォトニクス社製スペクトルアナライザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。その結果、発光のλｍａｘ＝５００ｎｍの緑色発光が得られた。１００ｃｄ／ｍ2付近での外部量子収率を算出したところ ０．１％であった。窒素下１時間放置したところ、発光面に多数のダークスポットが目視された。
【０１０９】
【化３８】
【０１１０】実施例１比較例１の化合物Ａの替わりに（１−１）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られ、１００ｃｄ／ｍ2付近での外部量子収率は２．９％であった。窒素下１時間放置したところ、発光面に少量のダークスポットが目視された。
実施例２比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１１】実施例３比較例１の化合物Ａの替わりに（１−３）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５９０ｎｍ の橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例４比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１２】実施例５比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２０）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５４７ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例６比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２４）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５３０ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１３】実施例７比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２５）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５６４ｎｍの発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例８比較例１の化合物Ａの替わりに（１−３６）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５２０ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１４】実施例９比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４１）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５１３ｎｍの緑色の発光が得られ、１００ｃｄ/ｍ2付近での外部量子効率は５．１％であった。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１０比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４２）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５３５ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１５】実施例１１比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４４）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５３２ｎｍ の橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１２比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４６）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５６８ｎｍ の黄色発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１６】実施例１３比較例１の化合物Ａの替わりに（１−６５）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５７８ｎｍ の黄橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１４比較例１の化合物Ａの替わりに（１−６６）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝６２５ｎｍ の赤橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１７】実施例１５洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（α−ナフチル）−ベンジジン）を４０ｎｍ蒸着し、この上に化合物Ｂ，本発明化合物（１−４６） を （１０：１）の比率で ２４ｎｍ 共蒸着し、この上に、化合物Ｃを２４ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５６７ｎｍの黄色発光が得られ、外部量子効率 １３．６％（１８５ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１１８】
【化３９】
【０１１９】実施例１６洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（α−ナフチル）−ベンジジン）を４０ｎｍ蒸着し、この上に本発明化合物（１−４２） を ２０ｎｍ 共蒸着し、この上に、化合物Ｃを４０ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５３５ｎｍの黄緑色発光が得られ、外部量子効率３．１％（１２０ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１２０】実施例１７ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、本発明化合物（１−４９） １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。有機層の膜厚は９８ｎｍであった。それを蒸着装置に入れ、有機膜上に、化合物Ｃを４０ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でフッ化リチウムを５ｎｍ蒸着した後、アルミニウムを５００ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５８０ｎｍの橙色発光が得られ、外部量子効率 ４．２％（１０００ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１２１】実施例１８Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ溶液（ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸ドープ体）／バイエル社製）を洗浄した基板上にスピンコートし（１０００ｒｐｍ，３０ｓｅｃ）、１５０℃にて１．５時間、真空乾燥した。有機層の膜厚は７０ｎｍであった。その上にポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、本発明化合物（１−４２） １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。総有機層の膜厚は１７０ｎｍであった。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５４０ｎｍの黄緑色発光が得られ、外部量子効率 6.2％（２０００ｃｄ／ｍ2時）であった。同様に、本発明の化合物含有ＥＬ素子を作製・評価したところ、種々の発光色を有する高効率ＥＬ素子を作製でき、耐久性に優れることが確認できた。また、本発明化合物を用いた蒸着型ドープ素子高効率発光でき、発光材料を単層膜にした素子においても、高効率発光可能である。
【０１２２】
【発明の効果】本発明の化合物は有機ＥＬ用材料として使用可能であり、また、種々の発光色を有する高効率、高耐久ＥＬ素子を作製できる。
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気エネルギーを光に変換して発光できる発光素子用材料および発光素子に関し、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア等の分野に好適に使用できる発光素子に関する。また、各種分野での応用が期待される新規発光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、種々の表示素子に関する研究開発が活発であり、中でも有機電界発光（ＥＬ）素子は、低電圧で高輝度の発光を得ることができるため、有望な表示素子として注目されている。例えば、有機化合物の蒸着により有機薄膜を形成する発光素子が知られている（アプライド フィジックス レターズ，５１巻，９１３頁，１９８７年）。この文献に記載された発光素子はトリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ）を電子輸送材料として用い、正孔輸送材料（アミン化合物）と積層させることにより、従来の単層型素子に比べて発光特性を大幅に向上させている。
【０００３】近年、有機ＥＬ素子をカラーディスプレイへと適用することが活発に検討されているが、高性能カラーディスプレイを開発する為には 青・緑・赤、それぞれの発光素子の特性を向上する必要が有る。
【０００４】発光素子特性向上の手段として、オルソメタル化イリジウム錯体（Ir(ppy)3:Ｔｒｉｓ−Ｏｒｔｈｏ−Ｍｅｔａｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｌｅｘ ｏｆ Ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ） ｗｉｔｈ ２−Ｐｈｅｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）からの発光を利用した緑色発光素子が報告されている（Applied Physics Letters ７５，４（１９９９）．）。本素子は外部量子収率８％を達しており、従来素子の限界といわれていた外部量子収率５％を凌駕しているが、緑色発光に限定されているため、ディスプレイとしての適用範囲が狭く、高効率で他色に発光する発光素子材料の開発が求められていた。
【０００５】一方、有機発光素子において高輝度発光を実現しているものは有機物質を真空蒸着によって積層している素子であるが、製造工程の簡略化、加工性、大面積化等の観点から塗布方式による素子作製が望ましい。しかしながら、従来の塗布方式で作製した素子では特に発光効率の点で蒸着方式で作製した素子に劣っており、新規発光素子材料の開発が望まれていた。また、近年、フィルター用染料、色変換フィルター、写真感光材料染料、増感色素、パルプ染色用染料、レーザー色素、医療診断用蛍光薬剤、有機発光素子用材料等に蛍光を有する物質が種々用いられ、その需要が高まっており、新たな発光材料が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、発光特性が良好な発光素子およびそれを可能にする発光素子用材料の提供および、各種分野で利用可能な新規発光材料の提供にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この課題は下記手段によって達成された。
１．一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【０００８】
【化１１】
【０００９】２．一般式（２）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【００１０】
【化１２】
【００１１】３．一般式（３）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【００１２】
【化１３】
【００１３】式中、Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。
【００１４】４．一般式（４）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体。
【００１５】
【化１４】
【００１６】式中、Ｚ11およびＺ12はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｌｎ1は２価の基を表わす。Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ1は単結合または二重結合を表わす。
【００１７】５．上記４に記載の化合物からなる発光材料。
【００１８】６．一般式（５）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【００１９】
【化１５】
【００２０】７．一般式（６）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【００２１】
【化１６】
【００２２】８．一般式（７）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２３】
【化１７】
【００２４】式中、Ｚ21およびＺ22はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ2は単結合または二重結合を表わす。
【００２５】９．一般式（８）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２６】
【化１８】
【００２７】式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１０．一般式（９）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００２８】
【化１９】
【００２９】式中、Ｚ201、Ｚ301はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１１．一般式（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【００３０】
【化２０】
【００３１】式中、Ｚ201、Ｚ401はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
１２．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層に上記１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料を含有する有機発光素子。
１３．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料単独からなる層を少なくとも一層有することを特徴とする有機発光素子。
１４．一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層にオルトメタル化イリジウム錯体を有し、かつ、オルトメタル化イリジウム錯体を含む層を塗布プロセスで成膜することを特徴とする発光素子。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明する。本発明の化合物はオルトメタル化イリジウム錯体（orthometalated Ir Complexes）からなる発光素子材料である。オルトメタル化金属錯体とは、例えば「有機金属化学−基礎と応用−」ｐ１５０，２３２ 裳華房社 山本明夫著 １９８２年発行、「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 p71-p77,p135-p146 Springer-Verlag社 H.Yersin著１９８７年発行等に記載されている化合物群の総称である。
【００３３】オルトメタル化イリジウム錯体のイリジウムの価数は特に限定しないが、３価が好ましい。オルトメタル化イリジウム錯体の配位子は、オルトメタル化錯体を形成し得る物であれば特に問わないが、例えば、アリール基置換含窒素ヘテロ環誘導体（アリール基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素原子の隣接炭素上であり、アリール基としては例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられ、さらに炭素環、ヘテロ環と縮環を形成しても良い。含窒素ヘテロ環としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、フタラジン、キナゾリン、ナフトリジン、シンノリン、ペリミジン、フェナントロリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、フェナントリジンなどが挙げられる）、ヘテロアリール基置換含窒素ヘテロ環誘導体（ヘテロアリール基の置換位置は含窒素ヘテロ環窒素原子の隣接炭素上であり、ヘテロアリール基としては例えば前記の含窒素ヘテロ環誘導体を含有する基、チエニル基、フリル基などが挙げられる）、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ホスフィノアリール誘導体、ホスフィノヘテロアリール誘導体、ホスフィノキシアリール誘導体、ホスフィノキシヘテロアリール誘導体、アミノメチルアリール誘導体、アミノメチルヘテロアリール誘導体等が挙げられる。アリール基置換含窒素芳香族ヘテロ環誘導体、ヘテロアリール基置換含窒素芳香族ヘテロ環誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体が好ましく、フェニルピリジン誘導体、チエニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ベンジルピリジン誘導体、フェニルピラゾール誘導体、フェニルイソキノリン誘導体、窒素原子を２つ以上有するアゾールのフェニル置換誘導体がさらに好ましく、チエニルピリジン誘導体、７，８−ベンゾキノリン誘導体、ベンジルピリジン誘導体、フェニルピラゾール誘導体、フェニルイソキノリン誘導体、窒素原子を２つ以上有するアゾールのフェニル置換誘導体が特に好ましい。
【００３４】本発明の化合物は、オルトメタル化錯体を形成するに必要な配位子以外に、他の配位子を有していても良い。他の配位子としては種々の公知の配位子が有るが、例えば、「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」Springer-Verlag社 H.Yersin著 １９８７年発行、「有機金属化学−基礎と応用−」 裳華房社 山本明夫著 １９８２年発行 等に記載の配位子が挙げられ、好ましくは、ハロゲン配位子（好ましくは塩素配位子）、含窒素ヘテロ環配位子（例えばビピリジル、フェナントロリンなど）、ジケトン配位子であり、より好ましくは塩素配位子、ビピリジル配位子である。
【００３５】本発明の化合物の配位子の種類は１種類でも良いし、複数の種類があっても良い。錯体中の配位子の数は好ましくは１〜３種類であり、特に好ましくは１、２種類であり、さらに好ましくは１種類である。
【００３６】本発明の化合物の炭素数は、好ましくは５〜１００、より好ましくは１０〜８０、さらに好ましくは１４〜５０である。
【００３７】本発明の一般式（１）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体のうち、一般式（１）、（２）、（４）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体がより好ましい。
【００３８】一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体は、化合物中にイリジウム原子を一つ有しても良いし、また、２つ以上有するいわゆる複核錯体であっても良い。他の金属原子を同時に含有していても良い。一般式（２）ないし（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体も同様である。
【００３９】一般式（３）において、Ｒ1，Ｒ2は置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。ｑ1，ｑ2が２以上の場合、複数個のＲ1，Ｒ2はそれぞれ同一または互いに異なっても良い。Ｒ1，Ｒ2としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１０であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、２−ベンズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、Ｒ1基どうし、Ｒ2基どうし、もしくは、Ｒ1基，Ｒ2基が結合して縮環構造を形成しても良い。
【００４０】Ｒ1，Ｒ2はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、結合して縮環構造を形成する基が好ましく、アルキル基、結合して芳香族縮環構造を形成する基がより好ましい。ｑ1，ｑ2は０，１，２が好ましく、より好ましくはｑ1＋ｑ2＝１ ｏｒ ２である。
【００４１】一般式（４）において、Ｚ11およびＺ12は５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表し、この環は置換基を有していても良く、またさらに別の環と縮合環を形成していてもよい。置換基としては例えばハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、ニトロ、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＣＯ2Ｒ103、−ＯＣＯＲ104、−ＮＲ105Ｒ106、−ＣＯＮＲ107Ｒ108、−ＳＯ2Ｒ109、−ＳＯ2ＮＲ110Ｒ111、−ＮＲ112ＣＯＮＲ113Ｒ114、−ＮＲ115ＣＯ2Ｒ116、−ＣＯＲ117、−ＮＲ118ＣＯＲ119または−ＮＲ120ＳＯ2Ｒ121が挙げられる。ここでＲ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109、Ｒ110、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120およびＲ121はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４２】置換基としては上記のうちハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＮＲ105Ｒ106、 −ＳＯ2Ｒ109、−ＮＲ112ＣＯＮＲ113Ｒ114、−ＮＲ115ＣＯ2Ｒ116、−ＮＲ118ＣＯＲ119または−ＮＲ120ＳＯ2Ｒ121であることが好ましく、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、−ＯＲ101、−ＳＲ102、−ＮＲ105Ｒ106またはで−ＳＯ2Ｒ109あることがより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノキシ基、ジアルキルアミノ基であることがより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基であることがさらに好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基であることが最も好ましい。
【００４３】ここで、脂肪族基はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基を意味する。
【００４４】Ｚ11およびＺ12が形成する５員環、６員環としては芳香族環または複素芳香族環が好ましく、例えばフラン環、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、セレナゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環およびピリダジン環がある。Ｚ11してはこれらのうち、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ベンゼン環およびピリジン環が好ましく、チアゾール環、ピロール環、ベンゼン環およびピリジン環が更に好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。Ｚ12としてはイミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、ピリジン環およびピリミジン環が好ましく、イミダゾール環、チアゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ピリジン環およびピリミジン環がさらに好ましく、ピラゾール環およびピリジン環が更に好ましい。好ましいＺ11、Ｚ12の炭素原子数は各々３〜４０であり、さらに好ましくは３〜３０であり、特に好ましくは３〜２０である。
【００４５】Ｌｎ1は２価の基を表わす。２価の基としては例えば−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−、−Ｎ（Ｒ133）−、−Ｏ−、−Ｐ（Ｒ134）−または−Ｓ−が挙げられる。ここでＲ131およびＲ132はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、−ＯＲ141、−ＳＲ142、−ＣＯ2Ｒ143、−ＯＣＯＲ144、−ＮＲ145Ｒ146、−ＣＯＮＲ147Ｒ148、−ＳＯ2Ｒ149、−ＳＯ2ＮＲ150Ｒ151、−ＮＲ152ＣＯＮＲ153Ｒ154、−ＮＲ155ＣＯ2Ｒ156、−ＣＯＲ157、−ＮＲ158ＣＯＲ159または−ＮＲ160ＳＯ2Ｒ161を表わし、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144、Ｒ145、Ｒ146、Ｒ147、Ｒ148、Ｒ149、Ｒ150、Ｒ151、Ｒ152、Ｒ153、Ｒ154、Ｒ155、Ｒ156、Ｒ157、Ｒ158、Ｒ159、Ｒ160およびＲ161はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。Ｒ133は脂肪族基、アリール基またはヘテロ環基を表わし、またＲ134は脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基および−ＯＲ171を表わし、 Ｒ171は水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４６】Ｌｎ1として好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−、−Ｏ−または−Ｓ−であり、さらに好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−でＲ131およびＲ132が水素原子、脂肪族基またはアリール基の場合であり、さらに好ましくは−Ｃ（Ｒ131）（Ｒ132）−でＲ131およびＲ132が水素原子あるいは炭素数１〜４のアルキル基の場合である。好ましいＬｎ1の炭素原子数は０〜２０であり、さらに好ましくは０〜１５であり、特に好ましくは０〜１０である。
【００４７】Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わす。Ｙ1が窒素原子のときｂ1は単結合を表わし、炭素原子のときｂ1は二重結合を表わす。
【００４８】一般式（７）においてＺ21およびＺ22は５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。置換基の例としてはハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ、ニトロ、−ＯＲ201、−ＳＲ202、−ＣＯ2Ｒ203、−ＯＣＯＲ204、−ＮＲ205Ｒ206、−ＣＯＮＲ207Ｒ208、−ＳＯ2Ｒ209、−ＳＯ2ＮＲ210Ｒ211、−ＮＲ212ＣＯＮＲ213Ｒ214、−ＮＲ215ＣＯ2Ｒ216、−ＣＯＲ217、−ＮＲ218ＣＯＲ219または−ＮＲ220ＳＯ2Ｒ221が挙げられる。ここでＲ201、Ｒ202、Ｒ203、Ｒ204、Ｒ205、Ｒ206、Ｒ207、Ｒ208、Ｒ209、Ｒ210、Ｒ211、Ｒ212、Ｒ213、Ｒ214、Ｒ215、Ｒ216、Ｒ217、Ｒ218、Ｒ219、Ｒ220およびＲ221はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基またはアリール基である。
【００４９】Ｚ21およびＺ22の好ましい置換基として挙げられるものは、Ｚ11およびＺ12の場合と全く同じである。
【００５０】Ｚ21が形成する５員環、６員環としてはフラン環、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、セレナゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環およびピリダジン環がある。これらのうち、チオフェン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ピロール環、ピラゾール環、ベンゼン環およびピリジン環が好ましく、チアゾール環、ピロール環、ベンゼン環およびピリジン環が更に好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。Ｚ22としてはピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環およびピリダジン環があり、ピラゾール環が最も好ましい。好ましいＺ11、Ｚ12の炭素原子数は各々３〜４０であり、さらに好ましくは３〜３０であり、特に好ましくは３〜２０である。
【００５１】Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わす。Ｙ2が窒素原子のときｂ2は単結合を表わし、炭素原子のときｂ2は二重結合を表わす。
【００５２】一般式（８）において、式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203、Ｘ204が−Ｃ＝Ｎ−とともに形成する含窒素へテロアリール６員環は縮環を形成しても良い。Ｒは水素原子または置換基を表し、置換基としてはＲ1、Ｒ2において説明したものと同義である。好ましくはピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、キノキサリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、プリン、プテリジン等を表し、さらに好ましくはピラジン、ピリミジン、ピリダジン、キノキサリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリンを表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。Ｚ201が形成するアリール環は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられ、さらに炭素環、ヘテロ環と縮環を形成しても良い。Ｚ201が表すヘテロアリール環は好ましくは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなるヘテロアリール環を表し、さらに好ましくは５ないし６員のヘテロアリール環を表し、さらに縮環を形成しても良く、好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、フタラジン、キナゾリン、ナフトリジン、シンノリン、ペリミジン、フェナントロリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、フェナントリジン、チエニル基、フリル基などが挙げられる。Ｚ201が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５３】一般式（９）において、Ｚ201は一般式（８）と同義であり、Ｚ301はピリジン環に縮環するアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、形成するアリール環、ヘテロアリール環は一般式（８）のＺ201が形成するアリール環、ヘテロアリール環と同様である。Ｚ301が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５４】一般式（１０）において、Ｚ201は一般式（８）と同義であり、Ｚ401はピリジン環に縮環するアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、形成するアリール環、ヘテロアリール環は一般式（８）のＺ201が形成するアリール環、ヘテロアリール環と同様である。Ｚ401が形成する環はアリール環が好ましい。
【００５５】本発明の化合物のさらに好ましい形態は、一般式（１１）ないし一般式（２０）で表される化合物である。一般式（１１）ないし（１２）で表される化合物および一般式（１４）ないし一般式（２０）で表される化合物が特に好ましい。
【００５６】
【化２１】
【００５７】
【化２２】
【００５８】
【化２３】
【００５９】一般式（１１）について説明する。Ｒ11、Ｒ12は置換基を表し、置換基としては前記Ｒ1で説明した置換基が挙げられる。
【００６０】Ｒ11，Ｒ12はアルキル基、アリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００６１】ｑ11は０〜２の整数を表し、０，１が好ましく、０がより好ましい。ｑ12は０〜４の整数を表し、０，１が好ましく、０がより好ましい。ｑ11，ｑ12が２以上の場合、複数個のＲ11，Ｒ12はそれぞれ同一または互いに異なっても良く、また、連結して縮環を形成しても良い。
【００６２】Ｌ1は配位子を表す。配位子としては前記オルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、及び、その他の配位子で説明した配位子が挙げられる。Ｌ1はオルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、含窒素ヘテロ環配位子、ジケトン配位子、ハロゲン配位子が好ましく、より好ましくはオルトメタル化イリジウム錯体を形成するに必要な配位子、ビピリジル配位子である。
【００６３】ｎ1は０〜５を表し、０が好ましい。ｍ1は１，２，３を表し、好ましく３である。ｎ1，ｍ1 の数の組み合わせは、一般式（４）で表される金属錯体が中性錯体となる数の組み合わせが好ましい。
【００６４】一般式（１２）について説明する。Ｒ21，ｎ2，ｍ2，Ｌ2はそれぞれ前記Ｒ11，ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。ｑ21は０〜８を表し、０が好ましい。ｑ21が２以上の場合は、複数個のＲ21は同一または互いに異なっても良く、また、連結して縮環を形成しても良い。
【００６５】一般式（１３）について説明する。Ｒ31，Ｒ32，ｑ31，ｑ32，ｎ3，ｍ3，Ｌ3はそれぞれ前記Ｒ1，Ｒ2，ｑ1，ｑ2，ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００６６】一般式（１４）について説明する。Ｒ301、Ｒ302は置換基を表わし、置換基とはＺ11およびＺ12にて説明したものと同義である。ｑ301、ｑ302は０〜４の整数を表わし、ｑ301、ｑ302が２〜４の場合、Ｒ301、Ｒ302は同一でも異なっていても良い。好ましいｑ301、ｑ302は０または１〜２であり、更に好ましくは０〜１である。ｍ101、Ｌ101、ｎ101はそれぞれ前記ｍ1、Ｌ1、ｎ1と同義である。
【００６７】一般式（１５）について説明する。Ｌ102は前記Ｌ1と同義であり、ｎ102は０〜５の整数を表わし、１〜５が好ましい。ｍ102は１〜６の整数を表わし、１および２が好ましい。ｎ102とｍ102の数の組み合わせは一般式（１５）で表わされる金属錯体が中性錯体となる数の組み合わせが好ましい。
【００６８】一般式（１６）について説明する。Ｌ103、ｎ103、ｍ103はそれぞれＬ1、ｎ102、ｍ102と同義である。
【００６９】一般式（１７）について説明する。Ｒ303は置換基を表わし、置換基とはＺ21にて説明したものと同義である。Ｚ23、ｑ303、Ｌ104、ｎ104、ｍ104はそれぞれ前記Ｚ22、ｑ301、Ｌ1、ｎ101、ｍ101と同義である。
【００７０】一般式（１８）について説明する。一般式（１８）において、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204が−Ｃ＝Ｎ−とともに形成する環は、一般式（８）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表し、一般式（８）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ201，ｍ201，Ｌ201はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７１】一般式（１９）において、Ｚ201、Ｚ301は一般式（９）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ202，ｍ202，Ｌ202はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７２】一般式（２０）において、Ｚ201、Ｚ401は一般式（１０）で説明したものと同様であり、好ましい範囲も同様である。ｎ203，ｍ203，Ｌ203はそれぞれ前記ｎ1，ｍ1，Ｌ1とそれぞれ同義である。
【００７３】本発明の化合物は一般式（１）等の繰り返し単位をひとつ有する、いわゆる低分子化合物であっても良く、また、一般式（１）等の繰り返し単位を複数個有するいわゆる、オリゴマー化合物、ポリマー化合物（重量平均分子量（ポリスチレン換算）は好ましくは１０００〜５００００００、より好ましくは２０００〜１００００００、さらに好ましくは３０００〜１０００００である。）であっても良い。本発明の化合物は低分子化合物が好ましい。
【００７４】次に本発明に用いる化合物例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００７５】
【化２４】
【００７６】
【化２５】
【００７７】
【化２６】
【００７８】
【化２７】
【００７９】
【化２８】
【００８０】
【化２９】
【００８１】
【化３０】
【００８２】
【化３１】
【００８３】
【化３２】
【００８４】
【化３３】
【００８５】
【化３４】
【００８６】
【化３５】
【００８７】本発明の化合物は、Inorg.Chem.1991年,30号,1685頁.,同1988,27号,3464頁.,同1994年,33号,545頁., Inorg.Chem.Acta 1991年，181号,245頁., J.Organomet.Chem. 1987年，335号，293頁., J.Am.Chem.Soc.1985年,107号,1431頁等、種々の公知の手法で合成することができる。
【００８８】本発明化合物の合成例の一部を以下に示す。以下に示すとおり、６ハロゲン化イリジウム（III）化合物、６ハロゲン化イリジウム（IV）化合物を出発原料にして合成することもできる。
【００８９】
【化３６】
【００９０】（合成例１）
・例示化合物（１−２５）の合成３ツ口フラスコにＫ3ＩｒＣｌ6を５．２２ｇ、２−ベンジルピリジンを１６．９ｇ、グリセロール５０ｍｌを入れ、アルゴン雰囲気下にて内温を２００℃に加熱しながら１時間攪拌した。この後内温が４０℃になるまで冷却し、メタノール１５０ｍｌを添加した。そのまま１時間攪拌した後、吸引濾過して得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的の例示化合物（１−２５）を４．３４ｇ得た（収率７７％）。
【００９１】（合成例２）
・例示化合物（１−２４）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２５）を５．６４ｇ、クロロホルム５６０ｍｌ、アセチルアセトン１０．０ｇを入れて、室温にて攪拌しながらここへナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液２０．１ｍｌを２０分かけて滴下した。滴下終了後室温にて５時間攪拌した後、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加し、抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水３００ｍｌと水３０ｍｌの混合溶液で４回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。こうして得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトフラフィーで精製して目的の例示化合物（１−２４）を５．５９ｇ得た（収率８９％）。
【００９２】（合成例３）
・例示化合物（１−２６）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２４）を６．２８ｇ、２−フェニルピリジンを１５．５ｇ、グリセロールを６３ｍｌ入れ、アルゴン雰囲気下にて内温を１７０℃に加熱しながら１５分間攪拌した。この後内温が４０℃になるまで冷却し、クロロホルム５００ｍｌ、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加して抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水４０ｍｌと水４００ｍｌの混合液で４回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このものをロータリーエバポレーターで濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的の例示化合物（１−２６）を５．６０ｇ得た（収率８２％）。
【００９３】（合成例４）
・例示化合物（１−２９）の合成３ツ口フラスコに例示化合物（１−２５）５．６４ｇ、クロロホルム５６０ｍｌを入れ、水浴下にて攪拌しながらここへ一酸化炭素を１０分間吹き込んだ。この後攪拌を１時間続けた後、飽和食塩水４０ｍｌ、水４００ｍｌを添加し、抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水３００ｍｌと水３０ｍｌの混合溶液で４回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバポレーターで濃縮した。こうして得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトフラフィーで精製して目的の例示化合物（１−２９）を４．３８ｇ得た（収率７４％）。
【００９４】（合成例５）
例示化合物（1−６５）および（１−６６）の合成
【００９５】
【化３７】
【００９６】Ｋ3ＩｒＣｌ6１．３５ｇを水２５ｍｌに溶解したものに３−クロロ−６−フェニルピリダジン１．０１ｇとグリセリン１００ｍｌ添加し、１８０℃にて４時間加熱攪拌した。反応終了後、放冷し、水を添加し、析出したこげ茶色固体を濾取、乾燥した。次に得られた固体をクロロホルム１Ｌに溶解したものに、アセチルアセトン２．５ｇと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４．８ｇを添加し、加熱還流下、２時間反応した。反応終了後、水５００ｍｌに注ぎ、クロロホルムで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて展開した。はじめに溶出した橙色フラクションを濃縮し、クロロホルム−エタノールにて再結晶、乾燥し、目的の例示化合物１−６５を６６ｍｇ得た。本化合物の溶液蛍光スペクトルを測定したところ、蛍光のλｍａｘ＝５７８ｎｍ（ＣＨＣｌ3）であった。更に次に溶出した赤橙色フラクションを濃縮し、クロロホルム−エタノールにて再結晶、乾燥し、目的の例示化合物１−６６を２９４ｍｇ得た。本化合物の溶液蛍光スペクトルを測定したところ、蛍光のλｍａｘ＝６２５ｎｍ（ＣＨＣｌ3）であった。
【００９７】次に、本発明の化合物を含有する発光素子に関して説明する。本発明の発光素子は、本発明の化合物を利用する素子であればシステム、駆動方法、利用形態など特に問わないが、本発明の化合物からの発光を利用するもの、または本化合物を電荷輸送材料として利用する物が好ましい。代表的な発光素子として有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子を挙げることができる。
【００９８】本発明の化合物を含有する発光素子の有機層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法、インクジェット法、印刷法などの方法が用いられ、特性面、製造面で抵抗加熱蒸着、コーティング法が好ましく、また、蒸着時の熱分解回避の点から、コーティング法がより好ましい。
【００９９】本発明の発光素子は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した素子であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【０１００】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１０１】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．７ｍｍ以上のものを用いる。陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾルーゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理、プラズマ処理などが効果的である。
【０１０２】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）及びそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造だけでなく、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取ることもできる。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。
【０１０３】発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよく、一重項励起子または三重項励起子のいずれから発光するものであっても良い。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体、本発明の化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、ＬＢ法、印刷法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。
【０１０４】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン誘導体、カーボン膜、本発明の化合物等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、印刷法が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。
【０１０５】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジェット法、印刷法などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。
【０１０６】保護層の材料としては水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化物、ＭｇＦ2、ＬｉＦ、ＡｌＦ3、ＣａＦ2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法、印刷法を適用できる。
【０１０７】
【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明の実施の態様はこれらに限定されない。
【０１０８】比較例１ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、化合物Ａ １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。有機層の膜厚は９８ｎｍであった。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を５０ｎｍ共蒸着した後、銀５０ｎｍを蒸着した。東陽テクニカ製ソースメジャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計ＢＭ−８、発光波長を浜松フォトニクス社製スペクトルアナライザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。その結果、発光のλｍａｘ＝５００ｎｍの緑色発光が得られた。１００ｃｄ／ｍ2付近での外部量子収率を算出したところ ０．１％であった。窒素下１時間放置したところ、発光面に多数のダークスポットが目視された。
【０１０９】
【化３８】
【０１１０】実施例１比較例１の化合物Ａの替わりに（１−１）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られ、１００ｃｄ／ｍ2付近での外部量子収率は２．９％であった。窒素下１時間放置したところ、発光面に少量のダークスポットが目視された。
実施例２比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１１】実施例３比較例１の化合物Ａの替わりに（１−３）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５９０ｎｍ の橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例４比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５１０ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１２】実施例５比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２０）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５４７ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例６比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２４）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５３０ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１３】実施例７比較例１の化合物Ａの替わりに（１−２５）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５６４ｎｍの発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例８比較例１の化合物Ａの替わりに（１−３６）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５２０ｎｍの緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１４】実施例９比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４１）を用い、比較例１と同様に素子作成した。発光のλｍａｘ＝５１３ｎｍの緑色の発光が得られ、１００ｃｄ/ｍ2付近での外部量子効率は５．１％であった。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１０比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４２）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５３５ｎｍ の緑色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１５】実施例１１比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４４）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５３２ｎｍ の橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１２比較例１の化合物Ａの替わりに（１−４６）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５６８ｎｍ の黄色発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１６】実施例１３比較例１の化合物Ａの替わりに（１−６５）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝５７８ｎｍ の黄橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
実施例１４比較例１の化合物Ａの替わりに（１−６６）を用い、比較例１と同様に素子作製した。発光のλｍａｘ＝６２５ｎｍ の赤橙色の発光が得られた。窒素下１時間放置したがダークスポットは目視できなかった。
【０１１７】実施例１５洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（α−ナフチル）−ベンジジン）を４０ｎｍ蒸着し、この上に化合物Ｂ，本発明化合物（１−４６） を （１０：１）の比率で ２４ｎｍ 共蒸着し、この上に、化合物Ｃを２４ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５６７ｎｍの黄色発光が得られ、外部量子効率 １３．６％（１８５ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１１８】
【化３９】
【０１１９】実施例１６洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（α−ナフチル）−ベンジジン）を４０ｎｍ蒸着し、この上に本発明化合物（１−４２） を ２０ｎｍ 共蒸着し、この上に、化合物Ｃを４０ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５３５ｎｍの黄緑色発光が得られ、外部量子効率３．１％（１２０ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１２０】実施例１７ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、本発明化合物（１−４９） １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。有機層の膜厚は９８ｎｍであった。それを蒸着装置に入れ、有機膜上に、化合物Ｃを４０ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でフッ化リチウムを５ｎｍ蒸着した後、アルミニウムを５００ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５８０ｎｍの橙色発光が得られ、外部量子効率 ４．２％（１０００ｃｄ／ｍ2時）であった。
【０１２１】実施例１８Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ溶液（ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸ドープ体）／バイエル社製）を洗浄した基板上にスピンコートし（１０００ｒｐｍ，３０ｓｅｃ）、１５０℃にて１．５時間、真空乾燥した。有機層の膜厚は７０ｎｍであった。その上にポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２−(４−ビフェニル)−５−(４−ｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、本発明化合物（１−４２） １ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐｍ，２０ｓｅｃ）。総有機層の膜厚は１７０ｎｍであった。有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀２５０ｎｍを蒸着した。直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光させた結果、発光のλｍａｘ＝５４０ｎｍの黄緑色発光が得られ、外部量子効率 6.2％（２０００ｃｄ／ｍ2時）であった。同様に、本発明の化合物含有ＥＬ素子を作製・評価したところ、種々の発光色を有する高効率ＥＬ素子を作製でき、耐久性に優れることが確認できた。また、本発明化合物を用いた蒸着型ドープ素子高効率発光でき、発光材料を単層膜にした素子においても、高効率発光可能である。
【０１２２】
【発明の効果】本発明の化合物は有機ＥＬ用材料として使用可能であり、また、種々の発光色を有する高効率、高耐久ＥＬ素子を作製できる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化１】
【請求項２】一般式（２）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化２】
【請求項３】一般式（３）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化３】
式中、Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。
【請求項４】一般式（４）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体。
【化４】
式中、Ｚ11およびＺ12はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｌｎ1は２価の基を表わす。Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ1は単結合または二重結合を表わす。
【請求項５】請求項４に記載の化合物からなる発光材料。
【請求項６】一般式（５）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【化５】
【請求項７】一般式（６）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【化６】
【請求項８】一般式（７）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化７】
式中、Ｚ21およびＺ22はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ2は単結合または二重結合を表わす。
【請求項９】一般式（８）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化８】
式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１０】一般式（９）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化９】
式中、Ｚ201、Ｚ301はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１１】一般式（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化１０】
式中、Ｚ201、Ｚ401はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１２】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層に請求項１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料を含有する有機発光素子。
【請求項１３】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、請求項１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料単独からなる層を少なくとも一層有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項１４】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層にオルトメタル化イリジウム錯体を有し、かつ、オルトメタル化イリジウム錯体を含む層を塗布プロセスで成膜することを特徴とする発光素子。
【請求項１】一般式（１）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化１】
【請求項２】一般式（２）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化２】
【請求項３】一般式（３）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光素子材料。
【化３】
式中、Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ置換基を表す。ｑ1，ｑ2は０〜４の整数を表し、かつ、ｑ1＋ｑ2 は１以上である。
【請求項４】一般式（４）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体。
【化４】
式中、Ｚ11およびＺ12はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していても良く、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｌｎ1は２価の基を表わす。Ｙ1は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ1は単結合または二重結合を表わす。
【請求項５】請求項４に記載の化合物からなる発光材料。
【請求項６】一般式（５）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【化５】
【請求項７】一般式（６）で表わされる部分構造を有する化合物からなる発光材料。
【化６】
【請求項８】一般式（７）で表わされる部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化７】
式中、Ｚ21およびＺ22はそれぞれ炭素原子および／または窒素原子とともに５員環または６員環を形成するのに必要な非金属原子団を表わし、この環は置換基を有していてもよく、また更に別の環と縮合環を形成してもよい。Ｙ2は窒素原子または炭素原子を表わし、ｂ2は単結合または二重結合を表わす。
【請求項９】一般式（８）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化８】
式中、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204は、窒素原子またはＣ−Ｒを表し、−Ｃ＝Ｎ−とともに含窒素へテロアリール６員環を形成し、Ｘ201、Ｘ202、Ｘ203およびＸ204の少なくとも１つは窒素原子を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。Ｚ201はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１０】一般式（９）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化９】
式中、Ｚ201、Ｚ301はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１１】一般式（１０）で表される部分構造を有する化合物またはその互変異性体からなる発光材料。
【化１０】
式中、Ｚ201、Ｚ401はアリール環またはヘテロアリール環を形成する原子団を表す。
【請求項１２】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層に請求項１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料を含有する有機発光素子。
【請求項１３】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、請求項１、２、３、５ないし１１に記載の発光材料単独からなる層を少なくとも一層有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項１４】一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄層を形成した発光素子において、少なくとも一層にオルトメタル化イリジウム錯体を有し、かつ、オルトメタル化イリジウム錯体を含む層を塗布プロセスで成膜することを特徴とする発光素子。
【公開番号】特開２００１−２４７８５９（Ｐ２００１−２４７８５９Ａ）
【公開日】平成１３年９月１４日（２００１．９．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０００−２９９４９５（Ｐ２０００−２９９４９５）
【出願日】平成１２年９月２９日（２０００．９．２９）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１３年９月１４日（２００１．９．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１２年９月２９日（２０００．９．２９）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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