カテプシンＳ阻害剤の調製プロセス
カテプシンＳ酵素阻害剤及びその合成プロセス。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物、又はそれらの製薬上許容され得る塩、アミド若しくはエステル、又はそれらの立体異性体形態、の調製プロセスであって、
【化１】
式中、
Ａｒ2は、不飽和、飽和又は芳香族であり、場合により縮合され、場合により、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＳＯ2及びＣ＝Ｏからなる群から独立して選択された１〜５個のヘテロ原子環を含む、単環系であるか又は二環系であり；前記Ａｒ2環系は、場合により１〜４個の置換基で置換されており；
ＷはＯ、Ｓ、ＮＲ27、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ、ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨＲ28又は共有結合を表し；
Ｒ27は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環、Ｃ2〜8アシル、アロイル、Ｒ29ＯＣ＝Ｏ、Ｒ30Ｒ31ＮＣ＝Ｏ、Ｒ29ＳＯ、Ｒ29Ｓ、Ｒ29ＳＯ2又はＲ30Ｒ31ＮＳＯ2であり；あるいはＲ27と、Ａｒ2の一部とが一緒になって、場合によりＯ、ＮＲ9、ＮＲ10、Ｎ、ＳＯ2、Ｃ＝Ｏ及びＳから選択される１〜３個の更なるヘテロ原子部分を環中に含む、場合により置換された５〜６員の複素環を形成してもよく；この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；ここで、Ｒ9及びＲ10はＨ、Ｃ1〜3アルキル及び−ＣＨ2ＣＯ2（Ｃ1〜4アルキル）からなる群から独立して選択され；
Ｒ28は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜5複素環、Ｒ29Ｏ、Ｒ30Ｒ31ＮＣ＝Ｏ、Ｒ29Ｓ、Ｒ29ＳＯ、Ｒ29ＳＯ2又はＲ30Ｒ31ＮＳＯ2であり；
Ｒ29はＣ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル（akenyl）、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；
Ｒ30及びＲ31はそれぞれ水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、ナフチル及びＣ1〜5ヘテロアリールからなる群から独立して選択され；あるいは、Ｒ30とＲ31とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の炭素環又は複素環を形成してもよく；この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
ＲzはＨ又はＯＨでありかつ破線は存在せず、あるいはＲzが存在しない場合には破線はｓｐ2結合であり；
Ｒ5及びＲ6はそれぞれ水素及びＣ1〜5アルキルからなる群から独立して選択され；
ｎは０、１又は２から選択される整数であり；
Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5アルコキシ、Ｃ1〜5アルキルチオ、ハロゲン、又は４〜７員の炭素環又は複素環であり；
あるいは、Ｒ7とＲ8とが一緒になって、場合により置換された５〜７員の炭素環又は複素環を形成してもよく、この場合、環は不飽和又は芳香族であり得、かつ場合によりハロ、シアノ、アミノ、ヒドロキシ、ニトロ、Ｒ4、Ｒ4Ｏ−、Ｒ4Ｓ−、Ｒ4Ｏ（Ｃ1〜5アルキレン）−、Ｒ4Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｓ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、Ｒ4Ｏ（Ｃ＝Ｏ）（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4ＳＯ2、ＮＨＲ44（Ｃ＝ＮＨ）−、ＮＨＲ44ＳＯ2−、ＮＨＲ44（Ｃ＝Ｏ）−からなる群から独立して選択された１〜３個の置換基で置換されてもよく；
Ｒ4はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5複素環、（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン、フェニル、ベンジル、フェネチル、ＮＨ2、モノ又はジ（Ｃ1〜6アルキル）Ｎ−、（Ｃ1〜6アルコキシ）カルボニル−又はＲ42ＯＲ43−であり；ここでＲ42はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環又は（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン−であり、かつＲ43はＣ1〜5アルキレン、フェニレン又は二価のＣ1〜5複素環であり；
Ｒ44はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5複素環、（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン、フェニル、ベンジル、フェネチル、ＮＨ2、モノ又はジ（Ｃ1〜6アルキル）Ｎ−、（Ｃ1〜6アルコキシ）カルボニル−又はＲ42ＯＲ43−であり；Ｒ42はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環又は（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン−であり、かつＲ43はＣ1〜5アルキレン、フェニレン又は二価のＣ1〜5複素環であり；
Ａｒは単環又は二環のアリール環又はヘテロアリール環を表し、ハロゲン、Ｃ1〜5アルコキシ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、シアノ、アジド、ニトロ、Ｒ22Ｒ23Ｎ、Ｒ24ＳＯ2、Ｒ24ＳＯ、Ｒ24ＯＣ＝Ｏ、Ｒ22Ｒ23ＮＣ＝Ｏ、Ｃ1〜5ハロアルキル、Ｃ1〜5ハロアルコキシ、Ｃ1〜5ハロアルキルチオ及びＣ1〜5アルキルチオからなる群から独立して選択された１〜３個の置換基で場合により置換されており；
Ｒ22は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、フェネチル、ベンジル、Ｃ1〜5複素環、Ｃ2〜8アシル、アロイル、Ｒ38ＯＣ＝Ｏ、Ｒ25Ｒ26ＮＣ＝Ｏ、Ｒ38ＳＯ、Ｒ38ＳＯ２、Ｒ38Ｓ、又はＲ25Ｒ26ＮＳＯ2であり；
Ｒ23は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ１〜５複素環であり；あるいはＲ22とＲ23とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の複素環を形成してもよく、この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
Ｒ24はＣ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；
Ｒ25及びＲ26は独立して水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；あるいは、Ｒ25とＲ26とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の複素環を形成してもよく、この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
Ｒ38はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル又はＣ1〜5複素環であり；
別段の記載が無い限り、上記のそれぞれのヒドロカルビル基又はヘテロカルビル基、及びこれらに加え指定された置換基のいずれかは、メチル、ハロメチル、ヒドロキシメチル、ハロ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ1〜5アルコキシ、−ＣＯＯＨ、Ｃ2〜6アシル、［ジ（Ｃ1〜4アルキル）アミノ］Ｃ2〜5アルキレン、［ジ（Ｃ1〜4アルキル）アミノ］Ｃ2〜5アルキル−ＮＨ−ＣＯ−、及びＣ1〜5ハロアルコキシからなる群から選択された１〜３個の置換基で場合により独立して置換されており；
【化２】
有機又は無機塩基の存在下で、式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物（式中、ＬＧ1は脱離基である）と反応させて、対応する式（ＶＩＩ）の化合物を生成することと；
【化３】
有機溶媒中で、式（ＶＩＩ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【請求項２】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物、又はそれらの製薬上許容され得る塩、アミド若しくはエステル、又はそれらの立体異性体形態、の調製プロセスであって、
【化４】
有機又は無機塩基の存在下で、式（Ｖ−Ｓ）の化合物を式（ＶＩ−Ｅ）の化合物（式中、ＬＧ1は脱離基である）と反応させて、対応する式（ＶＩＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化５】
有機溶媒中で、式（ＶＩＩ−Ｓ）の化合物を式（Ｘ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【請求項３】
以下のＸ線回折ピークを含む：
【表１】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物の、結晶の一ＨＣｌ塩六水和物。
【化６】
【請求項４】
式（Ｘ−Ｓ）の化合物の調製プロセスであって、
【化７】
有機溶媒中で、有機又は無機塩基の存在下で、２，６−ジクロロ−３−ニトロ−ピリジンを式（ＸＸ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸＩ−Ｓ）の化合物を生成することと（式中、ＰＧ5は窒素保護基である）；
【化８】
有機溶媒中で、式（ＸＸＩ−Ｓ）の化合物を式（ＸＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化９】
有機溶媒中で、触媒の存在下で、式（ＸＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を還元剤と反応させて、対応する式（ＸＸＩＶ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１０】
有機溶媒中で、式（ＸＸＩＶ−Ｓ）の化合物をＣＤＩ、Ｎ−メチルカルボジイミド、ホスゲン及びトリホスゲンからなる群から選択された剤と反応させて、対応する式（ＸＸＶ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１１】
有機溶媒中で、無機塩基の存在下で、式（ＸＸＶ−Ｓ）の化合物を炭酸ジメチルエステル又はＣＨ3Ｉと反応させて、対応する式（ＸＸＶＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１２】
式（ＸＸＶＩ−Ｓ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｘ−Ｓ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物、又はそれらの製薬上許容され得る塩、アミド若しくはエステル、又はそれらの立体異性体形態、の調製プロセスであって、
【化１】
式中、
Ａｒ2は、不飽和、飽和又は芳香族であり、場合により縮合され、場合により、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＳＯ2及びＣ＝Ｏからなる群から独立して選択された１〜５個のヘテロ原子環を含む、単環系であるか又は二環系であり；前記Ａｒ2環系は、場合により１〜４個の置換基で置換されており；
ＷはＯ、Ｓ、ＮＲ27、Ｃ＝Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ、ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）、ＣＨＲ28又は共有結合を表し；
Ｒ27は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環、Ｃ2〜8アシル、アロイル、Ｒ29ＯＣ＝Ｏ、Ｒ30Ｒ31ＮＣ＝Ｏ、Ｒ29ＳＯ、Ｒ29Ｓ、Ｒ29ＳＯ2又はＲ30Ｒ31ＮＳＯ2であり；あるいはＲ27と、Ａｒ2の一部とが一緒になって、場合によりＯ、ＮＲ9、ＮＲ10、Ｎ、ＳＯ2、Ｃ＝Ｏ及びＳから選択される１〜３個の更なるヘテロ原子部分を環中に含む、場合により置換された５〜６員の複素環を形成してもよく；この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；ここで、Ｒ9及びＲ10はＨ、Ｃ1〜3アルキル及び−ＣＨ2ＣＯ2（Ｃ1〜4アルキル）からなる群から独立して選択され；
Ｒ28は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、ヒドロキシ、フェニル、ベンジル、Ｃ1〜5複素環、Ｒ29Ｏ、Ｒ30Ｒ31ＮＣ＝Ｏ、Ｒ29Ｓ、Ｒ29ＳＯ、Ｒ29ＳＯ2又はＲ30Ｒ31ＮＳＯ2であり；
Ｒ29はＣ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル（akenyl）、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；
Ｒ30及びＲ31はそれぞれ水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、ナフチル及びＣ1〜5ヘテロアリールからなる群から独立して選択され；あるいは、Ｒ30とＲ31とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の炭素環又は複素環を形成してもよく；この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
ＲzはＨ又はＯＨでありかつ破線は存在せず、あるいはＲzが存在しない場合には破線はｓｐ2結合であり；
Ｒ5及びＲ6はそれぞれ水素及びＣ1〜5アルキルからなる群から独立して選択され；
ｎは０、１又は２から選択される整数であり；
Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5アルコキシ、Ｃ1〜5アルキルチオ、ハロゲン、又は４〜７員の炭素環又は複素環であり；
あるいは、Ｒ7とＲ8とが一緒になって、場合により置換された５〜７員の炭素環又は複素環を形成してもよく、この場合、環は不飽和又は芳香族であり得、かつ場合によりハロ、シアノ、アミノ、ヒドロキシ、ニトロ、Ｒ4、Ｒ4Ｏ−、Ｒ4Ｓ−、Ｒ4Ｏ（Ｃ1〜5アルキレン）−、Ｒ4Ｏ（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｓ）−、Ｒ4（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−、Ｒ4Ｏ（Ｃ＝Ｏ）（Ｃ＝Ｏ）−、Ｒ4ＳＯ2、ＮＨＲ44（Ｃ＝ＮＨ）−、ＮＨＲ44ＳＯ2−、ＮＨＲ44（Ｃ＝Ｏ）−からなる群から独立して選択された１〜３個の置換基で置換されてもよく；
Ｒ4はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5複素環、（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン、フェニル、ベンジル、フェネチル、ＮＨ2、モノ又はジ（Ｃ1〜6アルキル）Ｎ−、（Ｃ1〜6アルコキシ）カルボニル−又はＲ42ＯＲ43−であり；ここでＲ42はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環又は（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン−であり、かつＲ43はＣ1〜5アルキレン、フェニレン又は二価のＣ1〜5複素環であり；
Ｒ44はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、Ｃ1〜5複素環、（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン、フェニル、ベンジル、フェネチル、ＮＨ2、モノ又はジ（Ｃ1〜6アルキル）Ｎ−、（Ｃ1〜6アルコキシ）カルボニル−又はＲ42ＯＲ43−であり；Ｒ42はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル、Ｃ1〜5複素環又は（Ｃ1〜5複素環）Ｃ1〜6アルキレン−であり、かつＲ43はＣ1〜5アルキレン、フェニレン又は二価のＣ1〜5複素環であり；
Ａｒは単環又は二環のアリール環又はヘテロアリール環を表し、ハロゲン、Ｃ1〜5アルコキシ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ2〜5アルケニル、シアノ、アジド、ニトロ、Ｒ22Ｒ23Ｎ、Ｒ24ＳＯ2、Ｒ24ＳＯ、Ｒ24ＯＣ＝Ｏ、Ｒ22Ｒ23ＮＣ＝Ｏ、Ｃ1〜5ハロアルキル、Ｃ1〜5ハロアルコキシ、Ｃ1〜5ハロアルキルチオ及びＣ1〜5アルキルチオからなる群から独立して選択された１〜３個の置換基で場合により置換されており；
Ｒ22は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、フェネチル、ベンジル、Ｃ1〜5複素環、Ｃ2〜8アシル、アロイル、Ｒ38ＯＣ＝Ｏ、Ｒ25Ｒ26ＮＣ＝Ｏ、Ｒ38ＳＯ、Ｒ38ＳＯ２、Ｒ38Ｓ、又はＲ25Ｒ26ＮＳＯ2であり；
Ｒ23は水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ１〜５複素環であり；あるいはＲ22とＲ23とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の複素環を形成してもよく、この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
Ｒ24はＣ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；
Ｒ25及びＲ26は独立して水素、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル又はＣ1〜5複素環であり；あるいは、Ｒ25とＲ26とが一緒になって、場合により置換された４〜７員の複素環を形成してもよく、この場合、環は飽和、不飽和又は芳香族であり得；
Ｒ38はＨ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ3〜5アルケニル、フェニル、ベンジル、フェネチル又はＣ1〜5複素環であり；
別段の記載が無い限り、上記のそれぞれのヒドロカルビル基又はヘテロカルビル基、及びこれらに加え指定された置換基のいずれかは、メチル、ハロメチル、ヒドロキシメチル、ハロ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、Ｃ1〜5アルキル、Ｃ1〜5アルコキシ、−ＣＯＯＨ、Ｃ2〜6アシル、［ジ（Ｃ1〜4アルキル）アミノ］Ｃ2〜5アルキレン、［ジ（Ｃ1〜4アルキル）アミノ］Ｃ2〜5アルキル−ＮＨ−ＣＯ−、及びＣ1〜5ハロアルコキシからなる群から選択された１〜３個の置換基で場合により独立して置換されており；
【化２】
有機又は無機塩基の存在下で、式（Ｖ）の化合物を式（ＶＩ）の化合物（式中、ＬＧ1は脱離基である）と反応させて、対応する式（ＶＩＩ）の化合物を生成することと；
【化３】
有機溶媒中で、式（ＶＩＩ）の化合物を式（Ｘ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【請求項２】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物、又はそれらの製薬上許容され得る塩、アミド若しくはエステル、又はそれらの立体異性体形態、の調製プロセスであって、
【化４】
有機又は無機塩基の存在下で、式（Ｖ−Ｓ）の化合物を式（ＶＩ−Ｅ）の化合物（式中、ＬＧ1は脱離基である）と反応させて、対応する式（ＶＩＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化５】
有機溶媒中で、式（ＶＩＩ−Ｓ）の化合物を式（Ｘ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【請求項３】
以下のＸ線回折ピークを含む：
【表１】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物の、結晶の一ＨＣｌ塩六水和物。
【化６】
【請求項４】
式（Ｘ−Ｓ）の化合物の調製プロセスであって、
【化７】
有機溶媒中で、有機又は無機塩基の存在下で、２，６−ジクロロ−３−ニトロ−ピリジンを式（ＸＸ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸＩ−Ｓ）の化合物を生成することと（式中、ＰＧ5は窒素保護基である）；
【化８】
有機溶媒中で、式（ＸＸＩ−Ｓ）の化合物を式（ＸＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化９】
有機溶媒中で、触媒の存在下で、式（ＸＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を還元剤と反応させて、対応する式（ＸＸＩＶ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１０】
有機溶媒中で、式（ＸＸＩＶ−Ｓ）の化合物をＣＤＩ、Ｎ−メチルカルボジイミド、ホスゲン及びトリホスゲンからなる群から選択された剤と反応させて、対応する式（ＸＸＶ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１１】
有機溶媒中で、無機塩基の存在下で、式（ＸＸＶ−Ｓ）の化合物を炭酸ジメチルエステル又はＣＨ3Ｉと反応させて、対応する式（ＸＸＶＩ−Ｓ）の化合物を生成することと；
【化１２】
式（ＸＸＶＩ−Ｓ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｘ−Ｓ）の化合物を生成することと；を含む、調製プロセス。
【図１】
【図２】
【図２】
【公表番号】特表２０１３−５０１８０４（Ｐ２０１３−５０１８０４Ａ）
【公表日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５２４８４８（Ｐ２０１２−５２４８４８）
【出願日】平成２２年８月１１日（２０１０．８．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０４５２０４
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０１９８４２
【国際公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【出願人】（３９００３３００８）ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ (616)
【氏名又は名称原語表記】ＪＡＮＳＳＥＮ ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡ ＮＡＡＭＬＯＺＥ ＶＥＮＮＯＯＴＳＣＨＡＰ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２５年１月１７日（２０１３．１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月１１日（２０１０．８．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０４５２０４
【国際公開番号】ＷＯ２０１１／０１９８４２
【国際公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【出願人】（３９００３３００８）ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ (616)
【氏名又は名称原語表記】ＪＡＮＳＳＥＮ ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡ ＮＡＡＭＬＯＺＥ ＶＥＮＮＯＯＴＳＣＨＡＰ
【Ｆターム（参考）】
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