カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタおよび表示装置
【課題】所望の幅を有するブラックマトリクス層を形成することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】はじめに、基板１１上に、所定の間隙を空けてｘ方向に沿って並ぶよう複数の着色層２０，３０，４０を形成する。次に、各着色層２０，３０，４０の間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する。その後、塗工液を乾燥させ、これによって各着色層２０，３０，４０間にブラックマトリクス層５０を形成する。
【解決手段】はじめに、基板１１上に、所定の間隙を空けてｘ方向に沿って並ぶよう複数の着色層２０，３０，４０を形成する。次に、各着色層２０，３０，４０の間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する。その後、塗工液を乾燥させ、これによって各着色層２０，３０，４０間にブラックマトリクス層５０を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の間隙を空けて第１方向に並ぶよう複数の着色層を形成する工程と、各着色層間の間隙にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法に関する。また本発明は、カラーフィルタおよびカラーフィルタを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面ディスプレイとして液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などが実用化されている。これらの表示装置においては、一般に、光源からの光のうち所望の波長の光のみを取り出すため、または、光源からの光の色純度を向上させるため、カラーフィルタが設けられている。カラーフィルタは、一般に、基板上に所定のパターンで設けられ、光源からの光を遮蔽するブラックマトリクス層と、ブラックマトリクス層の間の開口部に設けられ、光源からの光のうち所望の波長を有する光のみを透過させる着色層と、を備えている。
【０００３】
カラーフィルタを製造する方法として、例えば特許文献１において、フォトリソグラフィーを用いて基板上にブラックマトリクス層を形成する工程と、ブラックマトリクス層の間の開口部に着色層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法が提案されている。フォトリソグラフィーを用いてブラックマトリクス層を形成する工程においては、一般に、はじめに、黒色顔料および光開始剤を含むネガ型のブラックマトリクス層用材料を基板上に全面にわたって設け、次に、ブラックマトリクス層用材料を所定の露光マスクを介して露光し、その後、現像処理および焼成処理を施す。これによって、所定のパターンを有するブラックマトリクス層が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２５６６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、表示装置における消費電力を低減することに対する要求が高まっている。消費出力を低減するための方法の１つとして、カラーフィルタの基板上の領域のうち前述の開口部によって占められる領域の比率（以下、開口率と称する）を高めることが提案されている。なぜなら、開口率を高くすることにより、カラーフィルタの透過率を高めることができ、この結果、表示装置において、従来と同等の輝度を従来よりも低い消費電力で実現することができるからである。
【０００６】
カラーフィルタの開口率を高くするための方法の１つとして、ブラックマトリクス層のパターンの幅を狭くすることが挙げられる。ところで、上述のブラックマトリクス層用材料には黒色顔料が含まれており、このため、ブラックマトリクス層用材料の透過率は、着色層用材料の透過率より低くなっている。従って、露光光をブラックマトリクス層用材料の内部にまで、すなわち、ブラックマトリクス層用材料のうち基板近傍の部分にまで到達させることは困難であると考えられる。
【０００７】
この場合、フォトリソグラフィー法により形成されたブラックマトリクス層の断面形状は、基板側に向かって先細になるテーパ形状となっている。すなわち、ブラックマトリクス層の基板側の表面におけるパターン幅が、基板と反対側にある表面におけるパターン幅よりも狭くなっている。このことは、もともと従来よりも狭くされたパターン幅が、基板側の表面においてさらに狭くなることを意味している。このため、ブラックマトリクス層と基板との間の接触面積が小さくなり、この結果、ブラックマトリクス層が基板から部分的に剥離されてしまう領域、いわゆる白抜け領域が生じることになる。
【０００８】
本発明は、このような課題を解決することができるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。また本発明は、カラーフィルタおよびカラーフィルタを備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基板を準備する工程と、前記基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層を形成する着色層形成工程と、各着色層間の前記間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する塗布工程と、前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１０】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色層形成工程は、前記基板上に、所定のピッチで前記第１方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層を形成する第１着色層形成工程と、前記第１着色層形成工程の後、前記基板上に、各第１着色層との間に前記間隙が設けられるよう前記第１方向に沿って複数の第２着色層を形成する第２着色層形成工程と、を含んでいてもよい。
【００１１】
本発明によるカラーフィルタの製造方法は、前記塗布工程よりも前に、各着色層に対して撥液処理を施すことにより、各着色層の表面を撥液化する撥液化工程をさらに備えていてもよい。
【００１２】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程を含んでいてもよい。
【００１３】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理工程よりも前であって前記着色層形成工程よりも後に、酸素を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程をさらに含んでいてもよい。
【００１４】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記塗布工程は、各着色層間の間隙にインクジェット法により前記塗工液を塗布する工程を含んでいてもよい。
【００１５】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記塗布工程は、前記基板上にスピンコート法により前記塗工液を塗布する工程を含んでいてもよい。
【００１６】
本発明は、基板と、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう前記基板上に設けられた複数の着色層と、各着色層間の前記間隙に設けられた、黒色顔料を含むブラックマトリクス層と、を備え、各着色層において、露出側の表面におけるフッ素濃度が、露出側の表面よりも前記基板側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっていることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１７】
本発明は、カラーフィルタと、前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、前記カラーフィルタは、上記記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ、または、上記記載のカラーフィルタのいずれかからなることを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、はじめに、基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層が形成され、次に、各着色層間の間隙に黒色顔料を含む塗工液が塗布され、その後、塗工液を乾燥させ、これによって、各着色層間にブラックマトリクス層が形成される。この場合、ブラックマトリクス層の幅は、予め形成されている各着色層間の間隙によって定められる。このため、着色層を形成する工程において、各着色層間の間隙を精度良く定めることにより、所望の幅を有するブラックマトリクス層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における表示装置を示す縦断面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタを示す平面図。
【図３】図３は、カラーフィルタの着色層およびブラックマトリクス層を拡大して示す縦断面図。
【図４】図４（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図５】図５（ａ）〜（ｉ）は、基板上に複数の着色層を形成する着色層形成工程を示す平面図。
【図６】図６（ａ）〜（ｅ）は、各着色層間の間隙にブラックマトリクス層を形成する工程を示す縦断面図。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、比較の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図８】図８（ａ）（ｂ）は、比較の形態において、ネガ型のＢＭ層用材料が用いられる場合に得られるブラックマトリクス層を示す縦断面図。
【図９】図９（ａ）（ｂ）は、比較の形態により形成される着色層の例を示す縦断面図。
【図１０】図１０（ａ）（ｂ）は、各着色層間の間隙に形成されるブラックマトリクス層の変形例を示す縦断面図。
【図１１】図１１は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタの変形例を示す平面図。
【図１２】図１２は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタのその他の変形例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図１乃至図６を参照して、本発明の実施の形態について説明する。まず図１により、本実施の形態における表示装置６０全体について説明する。
【００２１】
表示装置
図１に示すように、表示装置６０は、カラーフィルタ１０と、カラーフィルタ１０に対向するよう配置され、カラーフィルタ１０へ向けて光を出射する表示部１８と、を備えている。
【００２２】
このうちカラーフィルタ１０は、基板１１と、所定の第１方向、例えば図１に示すｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられた複数の着色層２０，３０，４０と、各着色層２０，３０，４０間に設けられたブラックマトリクス層（ＢＭ層）５０と、を有している。また表示部１８は、ＴＦＴ基板１５と、ＴＦＴ基板１５とカラーフィルタ１０との間に介在され、ＴＦＴ基板１５からの電圧により制御される液晶１７と、を有している。また表示部１８は、図示はしないが、バックライトユニットや偏光板をさらに有している。このような表示部１８を用いることにより、カラーフィルタ１０へ向けて選択的に光を出射することができる。なお「選択的に光を出射する」とは、表示装置６０の単位画素に応じて光の強度が調整されていることを意味する。
【００２３】
図１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０は、オーバーコート膜１２によって覆われていてもよい。これによって、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を外部環境から保護するとともに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０に含まれる不純物などが外部に流出することを防ぐことができる。また図１に示すように、オーバーコート膜１２上にフォトスペーサー１３が形成されていてもよい。これによって、液晶１７が充填される空間の厚み、いわゆるセルギャップを一定に保持することができる。
【００２４】
カラーフィルタ
次に図２を参照して、カラーフィルタ１０について詳細に説明する。図２は、カラーフィルタ１０を図１の矢印II方向から見た場合を示す平面図である。なお説明の都合上、図２およびそれ以降の図において、カラーフィルタ１０のオーバーコート膜１２は省略されている。
【００２５】
（基板）
はじめに、カラーフィルタ１０の基板１１について説明する。基板１１としては、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を適切に支持することができ、かつ透明性を有する様々な材料が用いられ、例えばガラスやポリマーなどが用いられる。なお好ましくは、基板１１として、後述するフッ化プラズマ処理により親液性を有することになる材料が用いられ、例えばＳｉＯ２ガラスが用いられる。
【００２６】
（着色層）
次に、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０について説明する。各着色層２０，３０，４０の具体的なパターンは特には限定されないが、本実施の形態においては、各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている形態について説明する。この場合、図２に示すように、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。図２に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、ｘ方向に直交するｙ方向に延びている。
【００２７】
各着色層２０，３０，４０は、ｘ方向に沿って順に配置された第１着色層２０、第２着色層３０および第３着色層４０からなっている。このうち第１着色層２０は、例えば赤色光を透過させる赤色着色層からなっており、第２着色層３０は、緑色光を透過させる緑色着色層からなっており、第３着色層４０は、青色光を透過させる青色着色層からなっている。各着色層２０，３０，４０は、後述するように、感光性を有する着色層用材料を、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法によりパターニングされる着色層用材料としては、ネガ型およびポジ型のいずれの着色層用材料も使用され得るが、好ましくはネガ型の着色層用材料が使用される。
【００２８】
〔着色層用材料〕
次に、各着色層２０，３０，４０を構成する第１着色層用材料（以下、第１材料）、第２着色層用材料（以下、第２材料）、第３着色層用材料（以下、第３材料）について説明する。各第１〜第３材料は、各色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むバインダー、および界面活性剤などを含んでいる。このうち光開始剤は、光を照射されることによりラジカル成分を発生するものである。またバインダーには、光開始剤によって発生されたラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる成分とが少なくとも含まれている。
【００２９】
（ＢＭ層）
次に、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０について説明する。ＢＭ層５０は、表示部１８からの光を遮蔽するよう構成されたものである。本実施の形態において、ＢＭ層５０は、図２に示すように、一の着色層とその他の着色層との間の間隙ｓ１に設けられている。具体的には、ＢＭ層５０は、第１着色層２０と第２着色層３０との間の間隙ｓ１、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙ｓ１、および第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙ｓ１に設けられている。後述するように、ＢＭ層５０は、はじめに各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１にＢＭ層用材料を含むＢＭ層用の塗工液（以下、ＢＭ塗工液）を塗布し、その後にＢＭ塗工液を硬化させることによって形成される層である。
【００３０】
〔ＢＭ層用材料〕
次に、ＢＭ層５０を構成するＢＭ層用材料について説明する。ＢＭ層用材料は、黒色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、ポリマーやモノマーを含むクリア剤、および界面活性剤などを含んでいる。このうちクリア剤には、加熱されることにより重合反応を起こして硬化する成分が少なくとも含まれている。なお、重合反応が開始され易くするための開始助剤として、カルボン酸無水物などの低分子化合物がＢＭ層用材料にさらに含まれていてもよい。
【００３１】
上述のように、各着色層２０，３０，４０は、対応する色の光を透過させるよう構成されており、一方、ＢＭ層５０は、光を遮蔽するよう構成されている。すなわち、各着色層２０，３０，４０を構成する着色層用材料における光の透過率は、ＢＭ層５０を構成するＢＭ層用材料における光の透過率よりも大きくなっている。
【００３２】
（開口率）
次に、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の寸法に基づいて、カラーフィルタ１０における開口率について説明する。なお、以下に説明する例においては、各着色層２０，３０，４０の形状が互いに等しくなっている場合について説明する。しかしながら、これに限られることはなく、カラーフィルタ１０に求められる特性などに応じて各着色層２０，３０，４０の形状が各々異なっていてもよい。
【００３３】
図２において、各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅が符号ｄ２により表されており、各着色層２０，３０，４０の間隙ｓ１に形成されるＢＭ層５０のｘ方向における幅が符号ｄ１により表されている。ここで、ＢＭ層５０の幅ｄ１と間隙ｓ１の幅とは一致している。
【００３４】
各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅ｄ２の値は特には限られないが、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内となっており、例えば２０μｍとなっている。一方、ＢＭ層５０のｘ方向における幅ｄ１の値は１〜１０μｍの範囲内となっており、例えば５μｍとなっている。このように、本実施の形態におけるカラーフィルタ１０のＢＭ層５０の幅は、従来のカラーフィルタ１０のＢＭ層の幅よりも狭くなるよう設定されている。このようにＢＭ層５０の幅を従来よりも狭くすることにより、カラーフィルタ１０における開口率を高めることができる。例えば、カラーフィルタ１０における開口率を５０％〜８０％の範囲にすることができる。
【００３５】
カラーフィルタの製造方法
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、図４乃至図６を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【００３６】
はじめに図４（ａ）〜（ｄ）を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。カラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう各着色層２０，３０，４０を形成する着色層形成工程（図４（ａ）〜図４（ｃ）参照）と、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１にＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図４（ｄ）参照）と、を備えている。このうち着色層形成工程は、基板１１上に、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層２０を形成する第１着色層形成工程（図４（ａ）参照）と、第１着色層形成工程の後、基板１１上に、各第１着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第２着色層３０を形成する第２着色層形成工程（図４（ｂ）参照）と、第２着色層形成工程の後、基板１１上に、各第２着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第３着色層４０を形成する第３着色層形成工程（図４（ｃ）参照）と、を含んでいる。なお図４（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００３７】
図４（ｃ）に示すように、上述のピッチｐ１は、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙だけでなく、第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙も所定の間隙ｓ１となるよう適宜設定されている。
【００３８】
（第１着色層形成工程）
以下、各着色層形成工程およびＢＭ層形成工程について詳細に説明する。はじめに図５（ａ）〜（ｃ）を参照して、第１着色層形成工程について詳細に説明する。
【００３９】
〔塗布処理〕
まず、図５（ａ）に示すように、上述の第１材料と溶剤とを混合することにより得られる第１着色層用塗工液（以下、第１塗工液）２１を基板１１上に塗布する。第１塗工液２１を基板１１上に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法などを適宜用いることができる。
【００４０】
〔露光処理〕
次に、図５（ｂ）に示すように、開口部２６および遮光部２７を有する第１露光マスク２５を介して、第１材料２２に対して露光光を照射する。この場合、第１露光マスク２５の開口部２６は、第１着色層２０のパターンに対応するよう、上述のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう配置されている。露光処理の結果、第１材料２２のうち露光光が照射された部分が硬化する。なお、露光光として用いられる光が特に限られることはなく、第１材料２２の感光特性に応じて様々な光が適宜用いられ得る。
【００４１】
〔現像処理〕
その後、現像処理を実施し、これによって、第１材料２２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。これによって、図５（ｃ）に示すように、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶ複数の第１着色層２０が基板１１に形成される。
【００４２】
（第２着色層形成工程）
図５（ｄ）〜（ｆ）に示す第２着色層形成工程は、塗工液として、上述の第２材料と溶剤とを混合することにより得られる第２着色層用塗工液（第１塗工液）３１が用いられる点、および、第１着色層２０と第２着色層３０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第２露光マスク３５の開口部３６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第２着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００４３】
（第３着色層形成工程）
また図５（ｇ）〜（ｉ）に示す第３着色層形成工程は、塗工液として、上述の第３材料と溶剤とを混合することにより得られる第３着色層用塗工液（第３塗工液）４１が用いられる点、および、第２着色層３０と第３着色層４０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第３露光マスク４５の開口部４６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第３着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００４４】
なお図５（ｉ）に示されているように、着色層形成工程により得られる各着色層２０，３０，４０は、従来のカラーフィルタにおける間隙よりも狭い間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並んでいる。一方、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程について個別に見てみると、図５（ｂ）（ｅ）（ｈ）に示される各露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、上述の間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。すなわち、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は従来よりも狭くなっているが、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程において実施される露光処理や現像処理に求められる分解能は従来と同等である。このことから、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御され得ると言える。
【００４５】
（ＢＭ層形成工程）
次に図６（ａ）〜（ｅ）を参照して、ＢＭ層形成工程について詳細に説明する。
【００４６】
ところで、フォトリソグラフィー法を用いたパターニングにおいて、不要な部分を完全に除去することは一般に困難であり、このため、除去しきれなかった残留物、いわゆる残渣が基板上に残ってしまうことがある。本実施の形態においても、図６（ａ）に示すように、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の残渣６２が基板１１上に残っていると仮定する。
【００４７】
〔酸素プラズマ処理〕
はじめに、基板１１上に残っている残渣６２を取り除くための処理を実施する。ここでは、酸素を含むガスを導入ガスとして用いた酸素プラズマＬｏを発生させ、この酸素プラズマＬｏを、図６（ｂ）に示すように各着色層２０，３０，４０間の間隙において基板１１上に照射する。これによって、基板１１上に残っている残渣６２がＣＯ２やＨ２Ｏに分解されて除去される。
【００４８】
なお、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射するための具体的な方法が特に限られることはない。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙に対応する開口部を有するマスク（図示せず）を介して酸素プラズマを基板１１に照射することにより、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射することができる。また、酸素プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な圧力および温度の下で酸素プラズマ処理が実施され得る。また、残渣６２を分解するための反応ガスとして酸素が用いられる例を示したが、これに限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な反応ガスが用いられ得る。
【００４９】
〔フッ化プラズマ処理〕
次に、各着色層２０，３０，４０のうち基板１１と反対側にある表面（以下、露出側の表面）２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化するための撥液処理を実施する。ここでは、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとして用いたフッ化プラズマＬｆを発生させ、このフッ化プラズマＬｆを、図６（ｃ）に示すように基板１１上の各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂに照射する。これによって、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにフッ素基を導入することができる。具体的には、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の分子の一部をフッ素基に置換することができる。このことにより、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる。
【００５０】
なお「撥液化」とは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂと後述するＢＭ層用塗工液との間の接触角が、基板１１の表面１１ａとＢＭ層用塗工液との間の接触角よりも大きくなるよう、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂが処理されていることを意味している。接触角の具体的な値は特には限られないが、好ましくは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっており、より好ましくは、表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっている。
【００５１】
なお、フッ化プラズマ処理において導入ガスとして用いられるフッ素化合物が特に限られることはなく、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８等が用いられ得る。また、フッ化プラズマ処理の導入ガスに、フッ素ガスだけでなくその他のガスが混合されていてもよい。例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等が混合されていてもよい。また、フッ化プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる限りにおいて、様々な圧力および温度の下でフッ化プラズマ処理が実施され得る。
【００５２】
フッ化プラズマ処理を実施した後の、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素の存在は、例えば、Ｘ線光電子分光分析装置による分析を用いて、表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて検出される全元素中のフッ素元素の割合、すなわちフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００５３】
なお、各着色層２０，３０，４０間の間隙において残渣６２が基板１１上に残っている場合、フッ化プラズマ処理により残渣６２が撥液化されることになる。しかしながら、本実施の形態によれば、上述の酸素プラズマ処理により基板１１上の残渣６２が除去されている。このため、基板１１の表面１１ａにフッ化プラズマＬｆが照射される場合であっても、残渣６２が撥液化され、これによって各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液を塗布することが困難になる、ということはない。
【００５４】
〔塗布処理〕
次に、図６（ｄ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ＢＭ塗工液５１としては、上述のＢＭ層用材料と適切な溶剤とを混合することにより得られる塗工液が用いられる。
【００５５】
ＢＭ塗工液５１を各着色層２０，３０，４０間の間隙に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法などを適宜用いることができる。
【００５６】
例えば塗布方法としてインクジェット法が用いられる場合、ＢＭ塗工液５１の液滴を吐出することができるノズルを１つまたは複数有するインクジェットヘッドを用いて、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ここで、ノズルから吐出されるＢＭ塗工液５１の液滴の寸法が特に限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の組成や各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法に応じて適宜設定される。
【００５７】
なお上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは、上述のフッ素プラズマ処理により撥液化されている。このため、仮にＢＭ塗工液５１の液滴の直径が各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも大きい場合であっても、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂ上に塗布されたＢＭ塗工液５１が自然に各着色層２０，３０，４０間の間隙に導かれる。これによって、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００５８】
また塗布方法としてスピンコート法が用いられる場合、基板１１を所定の速度で回転させることにより、ＢＭ塗工液５１が基板１１の全面にわたって塗布される。ここで上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは撥液化されている。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００５９】
〔焼成処理〕
次に、ＢＭ塗工液５１に対して焼成処理を施す。これによって、図６（ｅ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ層５０が形成される。
【００６０】
（得られたカラーフィルタの特徴）
上述の製造方法により得られたカラーフィルタ１０の特徴について説明する。
【００６１】
〔断面の形状〕
はじめに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の断面形状について説明する。一般に、フォトリソグラフィー法によるパターニングによって得られた各着色層２０，３０，４０の断面形状は順テーパ形状となっている。一方、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布し、その後、ＢＭ塗工液５１を乾燥させることにより形成される。このため、ＢＭ層５０の形状は各着色層２０，３０，４０間の間隙の形状に一致しており、従って、ＢＭ層５０の断面形状は逆テーパ形状となっている。
【００６２】
〔表面の形状〕
次に、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の表面の形状について説明する。上述のように、本実施の形態によれば、はじめに各着色層２０，３０，４０が基板１１上に形成され、その後にＢＭ層５０が基板１１上に形成される。この場合、図４（ａ）〜（ｃ）および図５（ａ）〜（ｉ）に示されているように、一の着色層は、その他の着色層およびＢＭ層５０からの物理的な影響をほとんど受けることなく形成されることになる。このため本実施の形態によれば、第１〜第３塗工液２１〜４１の組成や工程条件を適切に設定することにより、図３に示されるように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂをほぼ平坦にすることができる。
【００６３】
一方、ＢＭ層５０は、既に形成されている各着色層２０，３０，４０間の間隙に形成される。このため、ＢＭ層５０の表面５０ｂの形状には、各着色層２０，３０，４０からの物理的な影響が現れると考えられる。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１が塗布される場合、各着色層２０，３０，４０に起因する表面張力の影響により、図６（ｄ）に示されるように、ＢＭ塗工液５１の表面が凸形状になる。ここで、ＢＭ塗工液５１の表面が各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂよりも上方まで盛り上がっている場合、形成されるＢＭ層５０の表面５０ｂも凸形状になると考えられる（図６（ｅ）参照））。
【００６４】
〔フッ素濃度〕
次に、各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度について説明する。上述のように、各着色層２０，３０，４０の露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにはフッ化プラズマ処理が施されている。このため、各着色層２０，３０，４０において、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素濃度は、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂよりも内側にある部分、すなわち基板１１側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっている。このようなフッ素濃度の差は、例えば上述のＸ線光電子分光分析装置を用いて各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００６５】
（本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果）
次に、本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果について説明する。
【００６６】
〔ＢＭ層の細線化〕
はじめに、ＢＭ層５０の幅に関する効果について説明する。上述のように、ＢＭ層５０は、既に形成されている各着色層２０，３０，４０間の間隙に形成される。この場合、ＢＭ層５０の幅は、各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法によって定められることになる。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙を精度良く定めることにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【００６７】
ところで一般に、着色層の幅はＢＭ層の幅よりも大きくなっている。例えば従来のカラーフィルタにおいて、着色層の幅が２０μｍになっており、一方、ＢＭ層の幅が７μｍになっているとする。ここで、カラーフィルタの開口率を高めるためにＢＭ層の幅を５μｍに低減することが求められている場合について考える。この場合、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、ＢＭ層単体で考えると約３割の削減である。従って、従来のように着色層よりも前に基板上にＢＭ層がフォトリソグラフィー法により形成される場合、このような削減は容易ではない。
【００６８】
一方、本実施の形態によれば、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、着色層の幅を従来の２０μｍから２２μｍに増加させることを意味している。この場合、着色層の幅を２０μｍ→２２μｍにすることは、１割の増加に過ぎない。また、元々着色層の幅はＢＭ層よりも大きくなっている。このため、着色層の幅を従来の場合から２μｍ増加させることは、ＢＭ層の幅を従来の場合から２μｍ減少させることに比べて遥かに容易である。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅を狭くすることを容易に実現することができる。これによって、カラーフィルタ１０の透過率を高めることができ、このことにより、表示装置６０における消費電力を低減することができる。
【００６９】
また本実施の形態によれば、上述の間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。このため上述のように、各着色層２０，３０，４０を形成するための露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。従って、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１を、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御することができる。
【００７０】
〔製造設備の簡略化〕
次に、カラーフィルタ１０の製造工程が簡略になるという効果について説明する。上述のように、本実施の形態によれば、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布することにより形成される。すなわち、露光処理および現像処理を実施することなくＢＭ層５０を形成することができる。このため、ＢＭ層５０を形成するための露光機および現像機を準備する必要がなく、このことにより、カラーフィルタ１０の製造設備のコストを低減することができる。また、露光のための露光マスクを不要にすることができる。このことにより、製造コストを低減することができ、また、ＢＭ層５０のパターンの変更に柔軟に対応することが可能となる。
【００７１】
〔ＢＭ層用材料の設計自由度の増加〕
また本実施の形態によれば、上述のように、露光処理および現像処理を実施することなくＢＭ層５０を形成することができる。このため、ＢＭ層用材料に光開始剤が含まれている必要がなく、これによって、より高い自由度の下でＢＭ層用材料を設計することができる。例えば、従来のＢＭ層用材料に比べて、光開始剤を削除した分だけ黒色の顔料分散体の含有比率を高めることができ、これによって、ＢＭ層５０の遮光特性を高めることができる。また、光開始剤が不要となることにより、ＢＭ層用材料のコストを低減することができる。
【００７２】
比較の形態
次に、図７乃至図９を参照して、本実施の形態の効果を比較の形態と比較して説明する。
【００７３】
はじめに図７（ａ）〜（ｄ）を参照して、比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に所定のパターンでＢＭ層１５０を形成する工程（図７（ａ）参照）と、ＢＭ層１５０間に第１着色層１２０、第２着色層１３０および第３着色層１４０を順次形成する工程（図７（ｂ）〜図７（ｄ）参照）と、を備えている。比較の形態において、ＢＭ層１５０および各着色層１２０，１３０，１４０は、いずれもフォトリソグラフィー法によりパターニングされて形成される。なお図７（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００７４】
（ネガ型のＢＭ層用材料が用いられる例）
上述の比較の形態において、ＢＭ層用材料としてネガ型の材料が用いられる場合について、図８（ａ）（ｂ）を参照して説明する。図８（ａ）は、開口部１５６および遮光部１５７を有する露光マスク１５５を介してネガ型のＢＭ層用材料１５２に露光光Ｌが照射される様子を示す縦断面図であり、図８（ｂ）は、露光処理後の現像処理により形成されるＢＭ層１５０を示す縦断面図である。
【００７５】
一般に、ＢＭ層を構成するためのＢＭ層用材料１５２は、光を遮蔽するよう構成されている。このため、ＢＭ層用材料１５２に対して露光光が照射される場合、図８（ａ）において矢印Ｌ３により示されるように、露光光Ｌ３の大部分はＢＭ層用材料１５２の表面近傍までの到達と考えられる。この結果、ＢＭ層用材料１５２の内部にまで、すなわちＢＭ層用材料１５２のうち基板１１近傍の部分にまでは露光光Ｌ３がほとんど到達しないと考えられる。従って、図８（ｂ）に示すように、形成されるＢＭ層１５０の断面形状が逆テーパ形状になることが考えられる。
【００７６】
図８（ａ）（ｂ）に示す比較の形態によれば、ＢＭ層１５０の断面形状が逆テーパ形状となっており、このため、ＢＭ層１５０と基板１１との間の接触面積が小さくなっている。この場合、ＢＭ層の形成工程またはその後の着色層の形成工程の際、例えば現像処理の際、ＢＭ層１５０が基板１１から部分的に剥離されてしまうことが考えられる。このような剥離が生じると、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることになる。白抜け領域が多数形成されたカラーフィルタ１０は不良品と判定されるため、比較の形態によれば、歩留りが低下してしまうことが考えられる。
【００７７】
これに対して本実施の形態によれば、比較の形態の場合と同様にＢＭ層５０の断面形状は逆テーパ形状となっているが、ＢＭ層の形成工程においてＢＭ塗工液５１は十分に基板１１に密着している。また、基板１１に塗布されるＢＭ塗工液５１、およびＢＭ塗工液５１から得られるＢＭ層５０はいずれも、側方から各着色層２０，３０，４０によって囲まれている。このため、ＢＭ塗工液５１およびＢＭ層５０が側方から何らかの外力を受けることはなく、このことにより、ＢＭ層５０が基板１１から剥離されることはない。従って、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることを防ぐことができ、このことにより、歩留りを向上させることができる。
【００７８】
また比較の形態によれば、ＢＭ層用材料に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。一方、本実施の形態によれば、着色層用材料に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。ここで着色層用材料における光の透過率は、ＢＭ層用材料における光の透過率よりも大きくなっている。このため本実施の形態によれば、着色層用材料の内部にまで十分に露光光を到達させることができ、このことにより、より高い精度で、かつ短い時間で着色層用材料をパターニングすることができる。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅が狭い場合であっても、高い精度で成形されたＢＭ層５０をより容易に得ることができる。
【００７９】
（着色層の表面の形状の例）
次に、比較の形態により形成される各着色層１２０，１３０，１４０の表面の形状について、図９（ａ）（ｂ）を参照して説明する。
【００８０】
比較の形態においては、上述のように、はじめにＢＭ層１５０が基板１１上に所定のパターンで形成され、その後にＢＭ層１５０間に各着色層１２０，１３０，１４０が形成される。この場合、各着色層１２０，１３０，１４０は、ＢＭ層１５０からの物理的な影響を受けながら形成される。
【００８１】
例えば、各着色層１２０，１３０，１４０がＢＭ層１５０上に乗り上げるよう形成される場合、図９（ａ）に示すように、各着色層１２０，１３０，１４０の表面に突起部分１２０ｃ，１３０ｃ，１４０ｃが形成されると考えられる。また、各着色層１２０，１３０，１４０がＢＭ層１５０上に乗り上げていない場合であっても、ＢＭ層１５０に起因する表面張力の影響により、図９（ｂ）に示すように、各着色層１２０，１３０，１４０の表面が凸形状になると考えられる。図９（ａ）（ｂ）いずれに示される場合であっても、各着色層１２０，１３０，１４０の表面の平坦性が悪く、このためラビング時に配向処理がばらつくことになる。
【００８２】
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、はじめに各着色層２０，３０，４０が基板１１上に形成され、その後にＢＭ層５０が基板１１上に形成される。このため、一の着色層は、その他の着色層およびＢＭ層５０からの物理的な影響をほとんど受けることなく形成される。このことにより、各着色層２０，３０，４０の表面の平坦性を高くすることができる。
【００８３】
（変形例）
なお本実施の形態において、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１が塗布される前に、フッ素プラズマ処理により各着色層２０，３０，４０の表面が撥液化される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の塗布方法に応じて、各着色層２０，３０，４０の表面の撥液化が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも小さな直径で液滴を吐出することができるノズルを有するインクジェットヘッドが用いられる場合、各着色層２０，３０，４０の表面を撥液化することなく、各着色層２０，３０，４０間の間隙に精度良くＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００８４】
また本実施の形態において、フッ素プラズマ処理が実施される前に、酸素プラズマにより基板１１上の残渣６２が除去される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、酸素プラズマ処理が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０の形成工程において発生する残渣６２が少ない場合、酸素プラズマ処理が省略されてもよい。また、上述のようにフッ素プラズマ処理が省略され得る場合、酸素プラズマ処理も省略されてよい。この場合、酸素プラズマ処理は、フッ素プラズマ処理との組合せで実施される処理であり、撥液化のための工程の一部分であると考えることができる。
【００８５】
また本実施の形態において、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０の表面５０ｂが凸形状になっている例を示した（図６（ｅ）参照）。しかしながら、これに限られることはなく、図１０（ｂ）に示すように、ＢＭ層５０の表面５０ｂが凹形状となっていてもよい。なお本件発明者が得た知見によれば、図１０（ａ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙に塗布されるＢＭ塗工液５１の表面の位置が各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂの位置よりも下方となっている場合、形成されるＢＭ層５０の表面５０ｂが凹形状になる傾向が見られる。
【００８６】
また本実施の形態において、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０を格子状に形成してもよい。また図１２に示すように、各着色層２０，３０，４０がくの字状の形状を有していてもよい。
【００８７】
図１１および図１２に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。また、間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。また、ｙ方向において近接する２つの着色層の間の間隔ｓ３は、ｘ方向における上述の間隙ｓ１よりも十分に大きくなっている。従って、図１１および図１２に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０を精度良く形成することができ、このことにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【符号の説明】
【００８８】
１０ カラーフィルタ
１１ 基板
１２ オーバーコート膜
１３ フォトスペーサー
１５ ＴＦＴ基板
１７ 液晶
１８ 表示部
２０ 第１着色層
２０ａ 基板側の表面
２０ｂ 露出側の表面
２１ 第１着色層用塗工液（第１塗工液）
２２ 第１着色層用材料（第１材料）
２５ 第１着色層用露光マスク（第１露光マスク）
２６ 開口部
２７ 遮光部
３０ 第２着色層
３０ａ 基板側の表面
３０ｂ 露出側の表面
３１ 第２着色層用塗工液（第２塗工液）
３２ 第２着色層用材料（第２材料）
３５ 第２着色層用露光マスク（第２露光マスク）
３６ 開口部
３７ 遮光部
４０ 第３着色層
４０ａ 基板側の表面
４０ｂ 露出側の表面
４１ 第３着色層用塗工液（第３塗工液）
４２ 第３着色層用材料（第３材料）
４５ 第３着色層用露光マスク（第３露光マスク）
４６ 開口部
４７ 遮光部
５０ ブラックマトリクス層（ＢＭ層）
５０ａ 基板側の表面
５０ｂ 露出側の表面
５１ ブラックマトリクス層用塗工液（ＢＭ塗工液）
６０ 表示装置
６２ 残渣
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の間隙を空けて第１方向に並ぶよう複数の着色層を形成する工程と、各着色層間の間隙にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法に関する。また本発明は、カラーフィルタおよびカラーフィルタを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面ディスプレイとして液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などが実用化されている。これらの表示装置においては、一般に、光源からの光のうち所望の波長の光のみを取り出すため、または、光源からの光の色純度を向上させるため、カラーフィルタが設けられている。カラーフィルタは、一般に、基板上に所定のパターンで設けられ、光源からの光を遮蔽するブラックマトリクス層と、ブラックマトリクス層の間の開口部に設けられ、光源からの光のうち所望の波長を有する光のみを透過させる着色層と、を備えている。
【０００３】
カラーフィルタを製造する方法として、例えば特許文献１において、フォトリソグラフィーを用いて基板上にブラックマトリクス層を形成する工程と、ブラックマトリクス層の間の開口部に着色層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法が提案されている。フォトリソグラフィーを用いてブラックマトリクス層を形成する工程においては、一般に、はじめに、黒色顔料および光開始剤を含むネガ型のブラックマトリクス層用材料を基板上に全面にわたって設け、次に、ブラックマトリクス層用材料を所定の露光マスクを介して露光し、その後、現像処理および焼成処理を施す。これによって、所定のパターンを有するブラックマトリクス層が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２５６６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、表示装置における消費電力を低減することに対する要求が高まっている。消費出力を低減するための方法の１つとして、カラーフィルタの基板上の領域のうち前述の開口部によって占められる領域の比率（以下、開口率と称する）を高めることが提案されている。なぜなら、開口率を高くすることにより、カラーフィルタの透過率を高めることができ、この結果、表示装置において、従来と同等の輝度を従来よりも低い消費電力で実現することができるからである。
【０００６】
カラーフィルタの開口率を高くするための方法の１つとして、ブラックマトリクス層のパターンの幅を狭くすることが挙げられる。ところで、上述のブラックマトリクス層用材料には黒色顔料が含まれており、このため、ブラックマトリクス層用材料の透過率は、着色層用材料の透過率より低くなっている。従って、露光光をブラックマトリクス層用材料の内部にまで、すなわち、ブラックマトリクス層用材料のうち基板近傍の部分にまで到達させることは困難であると考えられる。
【０００７】
この場合、フォトリソグラフィー法により形成されたブラックマトリクス層の断面形状は、基板側に向かって先細になるテーパ形状となっている。すなわち、ブラックマトリクス層の基板側の表面におけるパターン幅が、基板と反対側にある表面におけるパターン幅よりも狭くなっている。このことは、もともと従来よりも狭くされたパターン幅が、基板側の表面においてさらに狭くなることを意味している。このため、ブラックマトリクス層と基板との間の接触面積が小さくなり、この結果、ブラックマトリクス層が基板から部分的に剥離されてしまう領域、いわゆる白抜け領域が生じることになる。
【０００８】
本発明は、このような課題を解決することができるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。また本発明は、カラーフィルタおよびカラーフィルタを備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基板を準備する工程と、前記基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層を形成する着色層形成工程と、各着色層間の前記間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する塗布工程と、前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１０】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色層形成工程は、前記基板上に、所定のピッチで前記第１方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層を形成する第１着色層形成工程と、前記第１着色層形成工程の後、前記基板上に、各第１着色層との間に前記間隙が設けられるよう前記第１方向に沿って複数の第２着色層を形成する第２着色層形成工程と、を含んでいてもよい。
【００１１】
本発明によるカラーフィルタの製造方法は、前記塗布工程よりも前に、各着色層に対して撥液処理を施すことにより、各着色層の表面を撥液化する撥液化工程をさらに備えていてもよい。
【００１２】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程を含んでいてもよい。
【００１３】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理工程よりも前であって前記着色層形成工程よりも後に、酸素を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程をさらに含んでいてもよい。
【００１４】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記塗布工程は、各着色層間の間隙にインクジェット法により前記塗工液を塗布する工程を含んでいてもよい。
【００１５】
本発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記塗布工程は、前記基板上にスピンコート法により前記塗工液を塗布する工程を含んでいてもよい。
【００１６】
本発明は、基板と、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう前記基板上に設けられた複数の着色層と、各着色層間の前記間隙に設けられた、黒色顔料を含むブラックマトリクス層と、を備え、各着色層において、露出側の表面におけるフッ素濃度が、露出側の表面よりも前記基板側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっていることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１７】
本発明は、カラーフィルタと、前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、前記カラーフィルタは、上記記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ、または、上記記載のカラーフィルタのいずれかからなることを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、はじめに、基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層が形成され、次に、各着色層間の間隙に黒色顔料を含む塗工液が塗布され、その後、塗工液を乾燥させ、これによって、各着色層間にブラックマトリクス層が形成される。この場合、ブラックマトリクス層の幅は、予め形成されている各着色層間の間隙によって定められる。このため、着色層を形成する工程において、各着色層間の間隙を精度良く定めることにより、所望の幅を有するブラックマトリクス層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における表示装置を示す縦断面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタを示す平面図。
【図３】図３は、カラーフィルタの着色層およびブラックマトリクス層を拡大して示す縦断面図。
【図４】図４（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図５】図５（ａ）〜（ｉ）は、基板上に複数の着色層を形成する着色層形成工程を示す平面図。
【図６】図６（ａ）〜（ｅ）は、各着色層間の間隙にブラックマトリクス層を形成する工程を示す縦断面図。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、比較の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図８】図８（ａ）（ｂ）は、比較の形態において、ネガ型のＢＭ層用材料が用いられる場合に得られるブラックマトリクス層を示す縦断面図。
【図９】図９（ａ）（ｂ）は、比較の形態により形成される着色層の例を示す縦断面図。
【図１０】図１０（ａ）（ｂ）は、各着色層間の間隙に形成されるブラックマトリクス層の変形例を示す縦断面図。
【図１１】図１１は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタの変形例を示す平面図。
【図１２】図１２は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタのその他の変形例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図１乃至図６を参照して、本発明の実施の形態について説明する。まず図１により、本実施の形態における表示装置６０全体について説明する。
【００２１】
表示装置
図１に示すように、表示装置６０は、カラーフィルタ１０と、カラーフィルタ１０に対向するよう配置され、カラーフィルタ１０へ向けて光を出射する表示部１８と、を備えている。
【００２２】
このうちカラーフィルタ１０は、基板１１と、所定の第１方向、例えば図１に示すｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられた複数の着色層２０，３０，４０と、各着色層２０，３０，４０間に設けられたブラックマトリクス層（ＢＭ層）５０と、を有している。また表示部１８は、ＴＦＴ基板１５と、ＴＦＴ基板１５とカラーフィルタ１０との間に介在され、ＴＦＴ基板１５からの電圧により制御される液晶１７と、を有している。また表示部１８は、図示はしないが、バックライトユニットや偏光板をさらに有している。このような表示部１８を用いることにより、カラーフィルタ１０へ向けて選択的に光を出射することができる。なお「選択的に光を出射する」とは、表示装置６０の単位画素に応じて光の強度が調整されていることを意味する。
【００２３】
図１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０は、オーバーコート膜１２によって覆われていてもよい。これによって、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を外部環境から保護するとともに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０に含まれる不純物などが外部に流出することを防ぐことができる。また図１に示すように、オーバーコート膜１２上にフォトスペーサー１３が形成されていてもよい。これによって、液晶１７が充填される空間の厚み、いわゆるセルギャップを一定に保持することができる。
【００２４】
カラーフィルタ
次に図２を参照して、カラーフィルタ１０について詳細に説明する。図２は、カラーフィルタ１０を図１の矢印II方向から見た場合を示す平面図である。なお説明の都合上、図２およびそれ以降の図において、カラーフィルタ１０のオーバーコート膜１２は省略されている。
【００２５】
（基板）
はじめに、カラーフィルタ１０の基板１１について説明する。基板１１としては、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を適切に支持することができ、かつ透明性を有する様々な材料が用いられ、例えばガラスやポリマーなどが用いられる。なお好ましくは、基板１１として、後述するフッ化プラズマ処理により親液性を有することになる材料が用いられ、例えばＳｉＯ２ガラスが用いられる。
【００２６】
（着色層）
次に、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０について説明する。各着色層２０，３０，４０の具体的なパターンは特には限定されないが、本実施の形態においては、各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている形態について説明する。この場合、図２に示すように、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。図２に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、ｘ方向に直交するｙ方向に延びている。
【００２７】
各着色層２０，３０，４０は、ｘ方向に沿って順に配置された第１着色層２０、第２着色層３０および第３着色層４０からなっている。このうち第１着色層２０は、例えば赤色光を透過させる赤色着色層からなっており、第２着色層３０は、緑色光を透過させる緑色着色層からなっており、第３着色層４０は、青色光を透過させる青色着色層からなっている。各着色層２０，３０，４０は、後述するように、感光性を有する着色層用材料を、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法によりパターニングされる着色層用材料としては、ネガ型およびポジ型のいずれの着色層用材料も使用され得るが、好ましくはネガ型の着色層用材料が使用される。
【００２８】
〔着色層用材料〕
次に、各着色層２０，３０，４０を構成する第１着色層用材料（以下、第１材料）、第２着色層用材料（以下、第２材料）、第３着色層用材料（以下、第３材料）について説明する。各第１〜第３材料は、各色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むバインダー、および界面活性剤などを含んでいる。このうち光開始剤は、光を照射されることによりラジカル成分を発生するものである。またバインダーには、光開始剤によって発生されたラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる成分とが少なくとも含まれている。
【００２９】
（ＢＭ層）
次に、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０について説明する。ＢＭ層５０は、表示部１８からの光を遮蔽するよう構成されたものである。本実施の形態において、ＢＭ層５０は、図２に示すように、一の着色層とその他の着色層との間の間隙ｓ１に設けられている。具体的には、ＢＭ層５０は、第１着色層２０と第２着色層３０との間の間隙ｓ１、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙ｓ１、および第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙ｓ１に設けられている。後述するように、ＢＭ層５０は、はじめに各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１にＢＭ層用材料を含むＢＭ層用の塗工液（以下、ＢＭ塗工液）を塗布し、その後にＢＭ塗工液を硬化させることによって形成される層である。
【００３０】
〔ＢＭ層用材料〕
次に、ＢＭ層５０を構成するＢＭ層用材料について説明する。ＢＭ層用材料は、黒色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、ポリマーやモノマーを含むクリア剤、および界面活性剤などを含んでいる。このうちクリア剤には、加熱されることにより重合反応を起こして硬化する成分が少なくとも含まれている。なお、重合反応が開始され易くするための開始助剤として、カルボン酸無水物などの低分子化合物がＢＭ層用材料にさらに含まれていてもよい。
【００３１】
上述のように、各着色層２０，３０，４０は、対応する色の光を透過させるよう構成されており、一方、ＢＭ層５０は、光を遮蔽するよう構成されている。すなわち、各着色層２０，３０，４０を構成する着色層用材料における光の透過率は、ＢＭ層５０を構成するＢＭ層用材料における光の透過率よりも大きくなっている。
【００３２】
（開口率）
次に、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の寸法に基づいて、カラーフィルタ１０における開口率について説明する。なお、以下に説明する例においては、各着色層２０，３０，４０の形状が互いに等しくなっている場合について説明する。しかしながら、これに限られることはなく、カラーフィルタ１０に求められる特性などに応じて各着色層２０，３０，４０の形状が各々異なっていてもよい。
【００３３】
図２において、各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅が符号ｄ２により表されており、各着色層２０，３０，４０の間隙ｓ１に形成されるＢＭ層５０のｘ方向における幅が符号ｄ１により表されている。ここで、ＢＭ層５０の幅ｄ１と間隙ｓ１の幅とは一致している。
【００３４】
各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅ｄ２の値は特には限られないが、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内となっており、例えば２０μｍとなっている。一方、ＢＭ層５０のｘ方向における幅ｄ１の値は１〜１０μｍの範囲内となっており、例えば５μｍとなっている。このように、本実施の形態におけるカラーフィルタ１０のＢＭ層５０の幅は、従来のカラーフィルタ１０のＢＭ層の幅よりも狭くなるよう設定されている。このようにＢＭ層５０の幅を従来よりも狭くすることにより、カラーフィルタ１０における開口率を高めることができる。例えば、カラーフィルタ１０における開口率を５０％〜８０％の範囲にすることができる。
【００３５】
カラーフィルタの製造方法
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、図４乃至図６を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【００３６】
はじめに図４（ａ）〜（ｄ）を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。カラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう各着色層２０，３０，４０を形成する着色層形成工程（図４（ａ）〜図４（ｃ）参照）と、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１にＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図４（ｄ）参照）と、を備えている。このうち着色層形成工程は、基板１１上に、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層２０を形成する第１着色層形成工程（図４（ａ）参照）と、第１着色層形成工程の後、基板１１上に、各第１着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第２着色層３０を形成する第２着色層形成工程（図４（ｂ）参照）と、第２着色層形成工程の後、基板１１上に、各第２着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第３着色層４０を形成する第３着色層形成工程（図４（ｃ）参照）と、を含んでいる。なお図４（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００３７】
図４（ｃ）に示すように、上述のピッチｐ１は、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙だけでなく、第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙も所定の間隙ｓ１となるよう適宜設定されている。
【００３８】
（第１着色層形成工程）
以下、各着色層形成工程およびＢＭ層形成工程について詳細に説明する。はじめに図５（ａ）〜（ｃ）を参照して、第１着色層形成工程について詳細に説明する。
【００３９】
〔塗布処理〕
まず、図５（ａ）に示すように、上述の第１材料と溶剤とを混合することにより得られる第１着色層用塗工液（以下、第１塗工液）２１を基板１１上に塗布する。第１塗工液２１を基板１１上に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法などを適宜用いることができる。
【００４０】
〔露光処理〕
次に、図５（ｂ）に示すように、開口部２６および遮光部２７を有する第１露光マスク２５を介して、第１材料２２に対して露光光を照射する。この場合、第１露光マスク２５の開口部２６は、第１着色層２０のパターンに対応するよう、上述のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう配置されている。露光処理の結果、第１材料２２のうち露光光が照射された部分が硬化する。なお、露光光として用いられる光が特に限られることはなく、第１材料２２の感光特性に応じて様々な光が適宜用いられ得る。
【００４１】
〔現像処理〕
その後、現像処理を実施し、これによって、第１材料２２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。これによって、図５（ｃ）に示すように、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶ複数の第１着色層２０が基板１１に形成される。
【００４２】
（第２着色層形成工程）
図５（ｄ）〜（ｆ）に示す第２着色層形成工程は、塗工液として、上述の第２材料と溶剤とを混合することにより得られる第２着色層用塗工液（第１塗工液）３１が用いられる点、および、第１着色層２０と第２着色層３０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第２露光マスク３５の開口部３６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第２着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００４３】
（第３着色層形成工程）
また図５（ｇ）〜（ｉ）に示す第３着色層形成工程は、塗工液として、上述の第３材料と溶剤とを混合することにより得られる第３着色層用塗工液（第３塗工液）４１が用いられる点、および、第２着色層３０と第３着色層４０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第３露光マスク４５の開口部４６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第３着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００４４】
なお図５（ｉ）に示されているように、着色層形成工程により得られる各着色層２０，３０，４０は、従来のカラーフィルタにおける間隙よりも狭い間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並んでいる。一方、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程について個別に見てみると、図５（ｂ）（ｅ）（ｈ）に示される各露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、上述の間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。すなわち、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は従来よりも狭くなっているが、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程において実施される露光処理や現像処理に求められる分解能は従来と同等である。このことから、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御され得ると言える。
【００４５】
（ＢＭ層形成工程）
次に図６（ａ）〜（ｅ）を参照して、ＢＭ層形成工程について詳細に説明する。
【００４６】
ところで、フォトリソグラフィー法を用いたパターニングにおいて、不要な部分を完全に除去することは一般に困難であり、このため、除去しきれなかった残留物、いわゆる残渣が基板上に残ってしまうことがある。本実施の形態においても、図６（ａ）に示すように、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の残渣６２が基板１１上に残っていると仮定する。
【００４７】
〔酸素プラズマ処理〕
はじめに、基板１１上に残っている残渣６２を取り除くための処理を実施する。ここでは、酸素を含むガスを導入ガスとして用いた酸素プラズマＬｏを発生させ、この酸素プラズマＬｏを、図６（ｂ）に示すように各着色層２０，３０，４０間の間隙において基板１１上に照射する。これによって、基板１１上に残っている残渣６２がＣＯ２やＨ２Ｏに分解されて除去される。
【００４８】
なお、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射するための具体的な方法が特に限られることはない。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙に対応する開口部を有するマスク（図示せず）を介して酸素プラズマを基板１１に照射することにより、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射することができる。また、酸素プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な圧力および温度の下で酸素プラズマ処理が実施され得る。また、残渣６２を分解するための反応ガスとして酸素が用いられる例を示したが、これに限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な反応ガスが用いられ得る。
【００４９】
〔フッ化プラズマ処理〕
次に、各着色層２０，３０，４０のうち基板１１と反対側にある表面（以下、露出側の表面）２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化するための撥液処理を実施する。ここでは、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとして用いたフッ化プラズマＬｆを発生させ、このフッ化プラズマＬｆを、図６（ｃ）に示すように基板１１上の各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂに照射する。これによって、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにフッ素基を導入することができる。具体的には、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の分子の一部をフッ素基に置換することができる。このことにより、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる。
【００５０】
なお「撥液化」とは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂと後述するＢＭ層用塗工液との間の接触角が、基板１１の表面１１ａとＢＭ層用塗工液との間の接触角よりも大きくなるよう、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂが処理されていることを意味している。接触角の具体的な値は特には限られないが、好ましくは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっており、より好ましくは、表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっている。
【００５１】
なお、フッ化プラズマ処理において導入ガスとして用いられるフッ素化合物が特に限られることはなく、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８等が用いられ得る。また、フッ化プラズマ処理の導入ガスに、フッ素ガスだけでなくその他のガスが混合されていてもよい。例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等が混合されていてもよい。また、フッ化プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる限りにおいて、様々な圧力および温度の下でフッ化プラズマ処理が実施され得る。
【００５２】
フッ化プラズマ処理を実施した後の、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素の存在は、例えば、Ｘ線光電子分光分析装置による分析を用いて、表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて検出される全元素中のフッ素元素の割合、すなわちフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００５３】
なお、各着色層２０，３０，４０間の間隙において残渣６２が基板１１上に残っている場合、フッ化プラズマ処理により残渣６２が撥液化されることになる。しかしながら、本実施の形態によれば、上述の酸素プラズマ処理により基板１１上の残渣６２が除去されている。このため、基板１１の表面１１ａにフッ化プラズマＬｆが照射される場合であっても、残渣６２が撥液化され、これによって各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液を塗布することが困難になる、ということはない。
【００５４】
〔塗布処理〕
次に、図６（ｄ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ＢＭ塗工液５１としては、上述のＢＭ層用材料と適切な溶剤とを混合することにより得られる塗工液が用いられる。
【００５５】
ＢＭ塗工液５１を各着色層２０，３０，４０間の間隙に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法などを適宜用いることができる。
【００５６】
例えば塗布方法としてインクジェット法が用いられる場合、ＢＭ塗工液５１の液滴を吐出することができるノズルを１つまたは複数有するインクジェットヘッドを用いて、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ここで、ノズルから吐出されるＢＭ塗工液５１の液滴の寸法が特に限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の組成や各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法に応じて適宜設定される。
【００５７】
なお上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは、上述のフッ素プラズマ処理により撥液化されている。このため、仮にＢＭ塗工液５１の液滴の直径が各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも大きい場合であっても、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂ上に塗布されたＢＭ塗工液５１が自然に各着色層２０，３０，４０間の間隙に導かれる。これによって、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００５８】
また塗布方法としてスピンコート法が用いられる場合、基板１１を所定の速度で回転させることにより、ＢＭ塗工液５１が基板１１の全面にわたって塗布される。ここで上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは撥液化されている。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００５９】
〔焼成処理〕
次に、ＢＭ塗工液５１に対して焼成処理を施す。これによって、図６（ｅ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ層５０が形成される。
【００６０】
（得られたカラーフィルタの特徴）
上述の製造方法により得られたカラーフィルタ１０の特徴について説明する。
【００６１】
〔断面の形状〕
はじめに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の断面形状について説明する。一般に、フォトリソグラフィー法によるパターニングによって得られた各着色層２０，３０，４０の断面形状は順テーパ形状となっている。一方、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布し、その後、ＢＭ塗工液５１を乾燥させることにより形成される。このため、ＢＭ層５０の形状は各着色層２０，３０，４０間の間隙の形状に一致しており、従って、ＢＭ層５０の断面形状は逆テーパ形状となっている。
【００６２】
〔表面の形状〕
次に、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の表面の形状について説明する。上述のように、本実施の形態によれば、はじめに各着色層２０，３０，４０が基板１１上に形成され、その後にＢＭ層５０が基板１１上に形成される。この場合、図４（ａ）〜（ｃ）および図５（ａ）〜（ｉ）に示されているように、一の着色層は、その他の着色層およびＢＭ層５０からの物理的な影響をほとんど受けることなく形成されることになる。このため本実施の形態によれば、第１〜第３塗工液２１〜４１の組成や工程条件を適切に設定することにより、図３に示されるように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂをほぼ平坦にすることができる。
【００６３】
一方、ＢＭ層５０は、既に形成されている各着色層２０，３０，４０間の間隙に形成される。このため、ＢＭ層５０の表面５０ｂの形状には、各着色層２０，３０，４０からの物理的な影響が現れると考えられる。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１が塗布される場合、各着色層２０，３０，４０に起因する表面張力の影響により、図６（ｄ）に示されるように、ＢＭ塗工液５１の表面が凸形状になる。ここで、ＢＭ塗工液５１の表面が各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂよりも上方まで盛り上がっている場合、形成されるＢＭ層５０の表面５０ｂも凸形状になると考えられる（図６（ｅ）参照））。
【００６４】
〔フッ素濃度〕
次に、各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度について説明する。上述のように、各着色層２０，３０，４０の露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにはフッ化プラズマ処理が施されている。このため、各着色層２０，３０，４０において、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素濃度は、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂよりも内側にある部分、すなわち基板１１側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっている。このようなフッ素濃度の差は、例えば上述のＸ線光電子分光分析装置を用いて各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００６５】
（本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果）
次に、本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果について説明する。
【００６６】
〔ＢＭ層の細線化〕
はじめに、ＢＭ層５０の幅に関する効果について説明する。上述のように、ＢＭ層５０は、既に形成されている各着色層２０，３０，４０間の間隙に形成される。この場合、ＢＭ層５０の幅は、各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法によって定められることになる。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙を精度良く定めることにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【００６７】
ところで一般に、着色層の幅はＢＭ層の幅よりも大きくなっている。例えば従来のカラーフィルタにおいて、着色層の幅が２０μｍになっており、一方、ＢＭ層の幅が７μｍになっているとする。ここで、カラーフィルタの開口率を高めるためにＢＭ層の幅を５μｍに低減することが求められている場合について考える。この場合、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、ＢＭ層単体で考えると約３割の削減である。従って、従来のように着色層よりも前に基板上にＢＭ層がフォトリソグラフィー法により形成される場合、このような削減は容易ではない。
【００６８】
一方、本実施の形態によれば、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、着色層の幅を従来の２０μｍから２２μｍに増加させることを意味している。この場合、着色層の幅を２０μｍ→２２μｍにすることは、１割の増加に過ぎない。また、元々着色層の幅はＢＭ層よりも大きくなっている。このため、着色層の幅を従来の場合から２μｍ増加させることは、ＢＭ層の幅を従来の場合から２μｍ減少させることに比べて遥かに容易である。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅を狭くすることを容易に実現することができる。これによって、カラーフィルタ１０の透過率を高めることができ、このことにより、表示装置６０における消費電力を低減することができる。
【００６９】
また本実施の形態によれば、上述の間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。このため上述のように、各着色層２０，３０，４０を形成するための露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。従って、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１を、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御することができる。
【００７０】
〔製造設備の簡略化〕
次に、カラーフィルタ１０の製造工程が簡略になるという効果について説明する。上述のように、本実施の形態によれば、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布することにより形成される。すなわち、露光処理および現像処理を実施することなくＢＭ層５０を形成することができる。このため、ＢＭ層５０を形成するための露光機および現像機を準備する必要がなく、このことにより、カラーフィルタ１０の製造設備のコストを低減することができる。また、露光のための露光マスクを不要にすることができる。このことにより、製造コストを低減することができ、また、ＢＭ層５０のパターンの変更に柔軟に対応することが可能となる。
【００７１】
〔ＢＭ層用材料の設計自由度の増加〕
また本実施の形態によれば、上述のように、露光処理および現像処理を実施することなくＢＭ層５０を形成することができる。このため、ＢＭ層用材料に光開始剤が含まれている必要がなく、これによって、より高い自由度の下でＢＭ層用材料を設計することができる。例えば、従来のＢＭ層用材料に比べて、光開始剤を削除した分だけ黒色の顔料分散体の含有比率を高めることができ、これによって、ＢＭ層５０の遮光特性を高めることができる。また、光開始剤が不要となることにより、ＢＭ層用材料のコストを低減することができる。
【００７２】
比較の形態
次に、図７乃至図９を参照して、本実施の形態の効果を比較の形態と比較して説明する。
【００７３】
はじめに図７（ａ）〜（ｄ）を参照して、比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に所定のパターンでＢＭ層１５０を形成する工程（図７（ａ）参照）と、ＢＭ層１５０間に第１着色層１２０、第２着色層１３０および第３着色層１４０を順次形成する工程（図７（ｂ）〜図７（ｄ）参照）と、を備えている。比較の形態において、ＢＭ層１５０および各着色層１２０，１３０，１４０は、いずれもフォトリソグラフィー法によりパターニングされて形成される。なお図７（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００７４】
（ネガ型のＢＭ層用材料が用いられる例）
上述の比較の形態において、ＢＭ層用材料としてネガ型の材料が用いられる場合について、図８（ａ）（ｂ）を参照して説明する。図８（ａ）は、開口部１５６および遮光部１５７を有する露光マスク１５５を介してネガ型のＢＭ層用材料１５２に露光光Ｌが照射される様子を示す縦断面図であり、図８（ｂ）は、露光処理後の現像処理により形成されるＢＭ層１５０を示す縦断面図である。
【００７５】
一般に、ＢＭ層を構成するためのＢＭ層用材料１５２は、光を遮蔽するよう構成されている。このため、ＢＭ層用材料１５２に対して露光光が照射される場合、図８（ａ）において矢印Ｌ３により示されるように、露光光Ｌ３の大部分はＢＭ層用材料１５２の表面近傍までの到達と考えられる。この結果、ＢＭ層用材料１５２の内部にまで、すなわちＢＭ層用材料１５２のうち基板１１近傍の部分にまでは露光光Ｌ３がほとんど到達しないと考えられる。従って、図８（ｂ）に示すように、形成されるＢＭ層１５０の断面形状が逆テーパ形状になることが考えられる。
【００７６】
図８（ａ）（ｂ）に示す比較の形態によれば、ＢＭ層１５０の断面形状が逆テーパ形状となっており、このため、ＢＭ層１５０と基板１１との間の接触面積が小さくなっている。この場合、ＢＭ層の形成工程またはその後の着色層の形成工程の際、例えば現像処理の際、ＢＭ層１５０が基板１１から部分的に剥離されてしまうことが考えられる。このような剥離が生じると、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることになる。白抜け領域が多数形成されたカラーフィルタ１０は不良品と判定されるため、比較の形態によれば、歩留りが低下してしまうことが考えられる。
【００７７】
これに対して本実施の形態によれば、比較の形態の場合と同様にＢＭ層５０の断面形状は逆テーパ形状となっているが、ＢＭ層の形成工程においてＢＭ塗工液５１は十分に基板１１に密着している。また、基板１１に塗布されるＢＭ塗工液５１、およびＢＭ塗工液５１から得られるＢＭ層５０はいずれも、側方から各着色層２０，３０，４０によって囲まれている。このため、ＢＭ塗工液５１およびＢＭ層５０が側方から何らかの外力を受けることはなく、このことにより、ＢＭ層５０が基板１１から剥離されることはない。従って、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることを防ぐことができ、このことにより、歩留りを向上させることができる。
【００７８】
また比較の形態によれば、ＢＭ層用材料に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。一方、本実施の形態によれば、着色層用材料に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。ここで着色層用材料における光の透過率は、ＢＭ層用材料における光の透過率よりも大きくなっている。このため本実施の形態によれば、着色層用材料の内部にまで十分に露光光を到達させることができ、このことにより、より高い精度で、かつ短い時間で着色層用材料をパターニングすることができる。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅が狭い場合であっても、高い精度で成形されたＢＭ層５０をより容易に得ることができる。
【００７９】
（着色層の表面の形状の例）
次に、比較の形態により形成される各着色層１２０，１３０，１４０の表面の形状について、図９（ａ）（ｂ）を参照して説明する。
【００８０】
比較の形態においては、上述のように、はじめにＢＭ層１５０が基板１１上に所定のパターンで形成され、その後にＢＭ層１５０間に各着色層１２０，１３０，１４０が形成される。この場合、各着色層１２０，１３０，１４０は、ＢＭ層１５０からの物理的な影響を受けながら形成される。
【００８１】
例えば、各着色層１２０，１３０，１４０がＢＭ層１５０上に乗り上げるよう形成される場合、図９（ａ）に示すように、各着色層１２０，１３０，１４０の表面に突起部分１２０ｃ，１３０ｃ，１４０ｃが形成されると考えられる。また、各着色層１２０，１３０，１４０がＢＭ層１５０上に乗り上げていない場合であっても、ＢＭ層１５０に起因する表面張力の影響により、図９（ｂ）に示すように、各着色層１２０，１３０，１４０の表面が凸形状になると考えられる。図９（ａ）（ｂ）いずれに示される場合であっても、各着色層１２０，１３０，１４０の表面の平坦性が悪く、このためラビング時に配向処理がばらつくことになる。
【００８２】
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、はじめに各着色層２０，３０，４０が基板１１上に形成され、その後にＢＭ層５０が基板１１上に形成される。このため、一の着色層は、その他の着色層およびＢＭ層５０からの物理的な影響をほとんど受けることなく形成される。このことにより、各着色層２０，３０，４０の表面の平坦性を高くすることができる。
【００８３】
（変形例）
なお本実施の形態において、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１が塗布される前に、フッ素プラズマ処理により各着色層２０，３０，４０の表面が撥液化される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の塗布方法に応じて、各着色層２０，３０，４０の表面の撥液化が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも小さな直径で液滴を吐出することができるノズルを有するインクジェットヘッドが用いられる場合、各着色層２０，３０，４０の表面を撥液化することなく、各着色層２０，３０，４０間の間隙に精度良くＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００８４】
また本実施の形態において、フッ素プラズマ処理が実施される前に、酸素プラズマにより基板１１上の残渣６２が除去される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、酸素プラズマ処理が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０の形成工程において発生する残渣６２が少ない場合、酸素プラズマ処理が省略されてもよい。また、上述のようにフッ素プラズマ処理が省略され得る場合、酸素プラズマ処理も省略されてよい。この場合、酸素プラズマ処理は、フッ素プラズマ処理との組合せで実施される処理であり、撥液化のための工程の一部分であると考えることができる。
【００８５】
また本実施の形態において、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０の表面５０ｂが凸形状になっている例を示した（図６（ｅ）参照）。しかしながら、これに限られることはなく、図１０（ｂ）に示すように、ＢＭ層５０の表面５０ｂが凹形状となっていてもよい。なお本件発明者が得た知見によれば、図１０（ａ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙に塗布されるＢＭ塗工液５１の表面の位置が各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂの位置よりも下方となっている場合、形成されるＢＭ層５０の表面５０ｂが凹形状になる傾向が見られる。
【００８６】
また本実施の形態において、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０を格子状に形成してもよい。また図１２に示すように、各着色層２０，３０，４０がくの字状の形状を有していてもよい。
【００８７】
図１１および図１２に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。また、間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。また、ｙ方向において近接する２つの着色層の間の間隔ｓ３は、ｘ方向における上述の間隙ｓ１よりも十分に大きくなっている。従って、図１１および図１２に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０を精度良く形成することができ、このことにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【符号の説明】
【００８８】
１０ カラーフィルタ
１１ 基板
１２ オーバーコート膜
１３ フォトスペーサー
１５ ＴＦＴ基板
１７ 液晶
１８ 表示部
２０ 第１着色層
２０ａ 基板側の表面
２０ｂ 露出側の表面
２１ 第１着色層用塗工液（第１塗工液）
２２ 第１着色層用材料（第１材料）
２５ 第１着色層用露光マスク（第１露光マスク）
２６ 開口部
２７ 遮光部
３０ 第２着色層
３０ａ 基板側の表面
３０ｂ 露出側の表面
３１ 第２着色層用塗工液（第２塗工液）
３２ 第２着色層用材料（第２材料）
３５ 第２着色層用露光マスク（第２露光マスク）
３６ 開口部
３７ 遮光部
４０ 第３着色層
４０ａ 基板側の表面
４０ｂ 露出側の表面
４１ 第３着色層用塗工液（第３塗工液）
４２ 第３着色層用材料（第３材料）
４５ 第３着色層用露光マスク（第３露光マスク）
４６ 開口部
４７ 遮光部
５０ ブラックマトリクス層（ＢＭ層）
５０ａ 基板側の表面
５０ｂ 露出側の表面
５１ ブラックマトリクス層用塗工液（ＢＭ塗工液）
６０ 表示装置
６２ 残渣
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を準備する工程と、
前記基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層を形成する着色層形成工程と、
各着色層間の前記間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する塗布工程と、
前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色層形成工程は、前記基板上に、所定のピッチで前記第１方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層を形成する第１着色層形成工程と、前記第１着色層形成工程の後、前記基板上に、各第１着色層との間に前記間隙が設けられるよう前記第１方向に沿って複数の第２着色層を形成する第２着色層形成工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記塗布工程よりも前に、各着色層に対して撥液処理を施すことにより、各着色層の表面を撥液化する撥液化工程をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理工程よりも前であって前記着色層形成工程よりも後に、酸素を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記塗布工程は、各着色層間の間隙にインクジェット法により前記塗工液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記塗布工程は、前記基板上にスピンコート法により前記塗工液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板と、
所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう前記基板上に設けられた複数の着色層と、
各着色層間の前記間隙に設けられた、黒色顔料を含むブラックマトリクス層と、を備え、
各着色層において、露出側の表面におけるフッ素濃度が、露出側の表面よりも前記基板側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっていることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項９】
カラーフィルタと、
前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、
前記カラーフィルタは、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ、または、請求項８に記載のカラーフィルタのいずれかからなることを特徴とする表示装置。
【請求項１】
基板を準備する工程と、
前記基板上に、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう複数の着色層を形成する着色層形成工程と、
各着色層間の前記間隙に黒色顔料を含む塗工液を塗布する塗布工程と、
前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間にブラックマトリクス層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色層形成工程は、前記基板上に、所定のピッチで前記第１方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層を形成する第１着色層形成工程と、前記第１着色層形成工程の後、前記基板上に、各第１着色層との間に前記間隙が設けられるよう前記第１方向に沿って複数の第２着色層を形成する第２着色層形成工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記塗布工程よりも前に、各着色層に対して撥液処理を施すことにより、各着色層の表面を撥液化する撥液化工程をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記撥液化工程は、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理工程よりも前であって前記着色層形成工程よりも後に、酸素を含むガスを導入ガスとしたプラズマ処理を行う工程をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記塗布工程は、各着色層間の間隙にインクジェット法により前記塗工液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記塗布工程は、前記基板上にスピンコート法により前記塗工液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基板と、
所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう前記基板上に設けられた複数の着色層と、
各着色層間の前記間隙に設けられた、黒色顔料を含むブラックマトリクス層と、を備え、
各着色層において、露出側の表面におけるフッ素濃度が、露出側の表面よりも前記基板側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっていることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項９】
カラーフィルタと、
前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、
前記カラーフィルタは、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ、または、請求項８に記載のカラーフィルタのいずれかからなることを特徴とする表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１３−６８７３１（Ｐ２０１３−６８７３１Ａ）
【公開日】平成２５年４月１８日（２０１３．４．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０６２２５（Ｐ２０１１−２０６２２５）
【出願日】平成２３年９月２１日（２０１１．９．２１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月１８日（２０１３．４．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月２１日（２０１１．９．２１）
【出願人】（０００００２８９７）大日本印刷株式会社 (14,506)
【Ｆターム（参考）】
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