サンプルプレートから残留物質を除去するための方法および装置
マルチウェルプレート（１０）のサンプルウェル（１２）から残留物質を除去するための方法及び装置。マルチウェルプレート（１０）にあるウェル（１２）は、洗浄液溜め（２０）の洗浄液ウェル（２２）と流体連結するように配置され、それにより、マルチウェルプレート（１０）のサンプルウェル（１２）から残留物質（１４）を除去すべくクリーニング流体が与えられる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サンプルプレートウェルから残留物質を除去することに関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチウェルプレートは、通常、特に細胞アッセイといった生物学的調査適用、または、他の医療関連の生化学的研究に用いられる。この点において、マルチウェルプレートは通常９６以上の個別のウェルを含み、これらのウェルにおいて個別の実験または別の作業が行われうるので、調査研究は高いスループットで行われうる。大抵の場合、アッセイが行われると、ある量の物質がウェル内に残ることがある。この物質を除去するための一般的な技術は、プレートを逆さまにしてウェルの内容物を出すことである。しかし、ある場合では、プレートを逆さまにしてウェルの内容物を出した後でも、プレートの各ウェルのリムまたはその付近において液体または他の物質が残る。1つの技術では、ウェルのリムにおける残留液体または他の物質は、ウェルのリムを一枚のフィルタ用紙に接触させて残っている物質を吸い取ることによって除去される。
【発明の概要】
【０００３】
発明者は、幾つかの適用では、マルチウェルプレートのウェルまたはその付近に残っている残留物質を除去することは、高スループット、高効率、および／または環境に配慮した方法で行うのは困難な場合もありうることを認識している。本発明の様々な態様では、マルチウェルプレートのリムから残留物質を除去するために洗浄またはクリーニング流体を用い、それにより１以上のウェルに異物または汚染物質が残る可能性を減少し、および／または吸い取りフィルタ用紙または他の同様の物質の使用の必要を失くす。
【０００４】
本発明の一態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルから残留物質を除去するための方法には、ウェルが流体を受けるように開いている上面を含み、かつ、例えばウェルは閉じられている底面をさらに含むマルチウェルプレートを与えるステップが含まれる。マルチウェルプレートのウェルに対応するように配置された１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めが与えられ、また、複数の洗浄液ウェルの各々においてクリーニング流体が与えられうる。マルチウェルプレートは、マルチウェルプレートの上面がマルチウェルプレートの底面の下に位置決めされるように逆さまにされ、マルチウェルプレートウェルにおけるウェルのリムが、例えばプレートウェルが洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって受け止められ、残留物質がプレートウェルにおいて除去されるように、洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルにおいてクリーニング流体と接触するようにされうる。プレートウェルは、（ある場合には）洗浄液ウェルによって画定される容積にプレートウェルの一部が入ってまたは入ることなく、対応する洗浄液ウェルによって受け止められうる。代わりに、洗浄液ウェルは、洗浄液ウェルにおけるクリーニング流体がプレートウェルにおける残留物質を除去するように作用できるようにプレートウェルが洗浄液ウェルに対して適切に位置決めされる場合に、プレートウェルを受け止めていると見なしうる。
【０００５】
本発明の別の態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルから残留物質を除去するための自動システムが提供され、各ウェルは、ウェルへの開口におけるリムを有する。かかるシステムは、各々、マルチウェルプレートの対応するウェルのリムを受け止めるように適応された１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを含みうる。マルチウェルプレートを逆さまにし、また、複数のプレートウェルの各リムが、洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって同時に受け止められるようにプレートを位置決めするようにマルチウェルプレートを操作可能なグリップ要素を有するプレートマニピュレータが含まれうる。
【０００６】
本発明のさらなる態様では、各々、リムを有するマルチウェルプレートの複数のウェルにおける残留物質を除去するための装置が提示される。１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めは、マルチウェルプレートが逆さまにされた位置において、マルチウェルプレートにあるウェルのリムが、各々、複数の洗浄液ウェルの対応するウェルによって同時に受け止められることが可能であるように配置されうる。各洗浄液ウェルは、洗浄液ウェルにクリーニング流体を与えるように適応されたインレット、および／または、洗浄液ウェルからのクリーニング流体の除去に役立つアウトレットを有しうる。一実施形態では、各洗浄液ウェルは、洗浄液ウェル用の対応するインレットを囲むほぼ平らなプラットホームによって形成されうる。クリーニング流体は、インレットを出て、プラットホームを渡って流れうる。洗浄液ウェルのプラットホームは、例えばクリーニング流体がプラットホームを渡って基部へと下に流れるように、互いから離間されかつ基部から上方向に延在しうる。基部における流体は１以上のアウトレットにおいて回収されうる。
【０００７】
本発明の他の利点および新規の特徴は、添付の図面と共に検討された場合に本発明の様々な非限定の実施形態の以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の態様は、数字は同様の要素を示す以下の図面を参照して説明される。
【図１】図１は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めに関連付けられる、残留物質を含むウェルを有するマルチウェルプレートの斜視図である。
【図２】図２は、１つの例示的な実施形態における隆起したプラットホームを有する洗浄液ウェルを含む洗浄液溜めの斜視図である。
【図３】図３は、対応するプレートウェルを有する図２の実施形態の洗浄液ウェルの断面図である。
【図４】図４は、別の例示的な実施形態における洗浄液溜め基部の上表面から上方に延在するリムを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めの斜視図である。
【図５】図５は、対応するプレートウェルを有する図４の実施形態の洗浄液溜めの断面図である。
【図６】図６は、別の例示的な実施形態における洗浄液溜め基部の上表面と同一平面のリムを有するウェルを有する別の洗浄液溜めの断面図である。
【図７】図７は、別の例示的な実施形態における中心開口周りに凹状セクションを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めの斜視図である。
【図８】図８は、対応するプレートウェルを有する図７の実施形態の洗浄液溜めの断面図である。
【図９】図９は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めの凹み（indented）領域がマルチウェルプレートの上表面に対応する、逆さまにされたマルチウェルプレートと洗浄液溜めとの断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の態様にしたがって、１つの洗浄液ウェルが複数のプレートウェルを受けることができる、逆さまにされたマルチウェルプレートと洗浄液溜めとのさらに別の断面図である。
【図１１】図１１は、本発明に態様にしたがって、クリーニング流体が入るためのインレットと、洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の態様にしたがって、窪んだ領域におけるクリーニング流体が入るためのインレットと、中心開口における洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットとを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの別の断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の態様にしたがって、直立リムにおけるクリーニング流体が入るためのインレットと、中心開口における洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットとを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの別の断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めに関連してマルチウェルプレートを位置決めするマニピュレータを有する自動システムの略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の態様は、概して、例えば生物学的および医療関連適用に用いられるマルチウェルサンプルプレートのウェルに関連付けられる残留物質の減少に関する。本発明は、その適用について、以下の説明に記載されるまたは図面に示されるコンポーネントの構成および配置の詳細に限定されない。本発明は、他の実施形態や、また、様々な方法で実施または実行されることが可能である。例えば本発明の例示的な実施形態は、マルチウェルプレートを取り扱う環境における使用を参照して以下に説明される。しかし、当然ながら、本発明の態様は、任意の適切な適用用のシステムに用いてもよい。
【００１０】
本発明の一態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルにおける残留物質が除去されうる方法が提示される。一実施形態では、かかる方法は、ウェルが流体輸送の出し入れのために開いている上面と、ウェルが流体輸送に対して閉じられうる底面とを含むマルチウェルプレートを与えることを含む。当業者であれば認識しているように、マルチウェルプレートのウェルは、通常は生物学的または医療関連の調査適用である任意の適切な目的に用いられうる。例えば調査適用の場合、幾つかのウェルにおいて反応が起きることも起きないこともある。この関連で、試薬および／または他の物質が、マルチウェルプレートの幾つかのウェル内に残ることがある。例えばマルチウェルプレート再度使用できるようにまたは安全に廃棄できるようにするためにウェルをきれいにするためには、プレートは、例えばマルチウェルプレートの上表面上に流体を流す、ウェルの中から物質を取り除くように洗浄する、マルチウェルプレートを逆さまにして残留物質がウェルから出されるようにすること、および／またはこれらの任意の組み合わせといった任意の適切な方法によって実質的に空にされうる。このような作業が完了した後でも、幾つかのウェル内に残留物質が依然として残ることがあり、したがって、クリーニング流体を用いてマルチウェルプレートから残留物質を除去するアプローチがあることが有利でありうる。
【００１１】
例えば、図１は、マルチウェルプレート１０が逆さまにされてプレート１０のウェル１２の内容物を出すようにされている１つの例示的な実施形態を示す。逆さまにされているのにも関わらず、複数のウェル１２は残留物質１４に関連付けられうる。例えば残留物質は、ウェル１２のリムまたはエッジ付近および／またはウェル１２の底端といったウェル１２に関連する様々な領域に位置付けられうる。残留物質１４は、ウェル１２内またはその付近の部分に詰まる、そうでなければ付着する固体粒子１６、および／または、逆さまにされたマルチウェルプレート１０のウェル１２のリム付近に張付く小滴１８といった任意の形態でありうる。
【００１２】
プレート１０から残留物質１４を除去するために、プレート１０は、プレート１０から残留物質１４を除去するようクリーニング流体２４が作用しうるように洗浄液溜め２０に対して位置決めされうる。例えばプレート１０は、図１に示されるように逆さまにされて、個々のウェル１２が洗浄液溜め２０における１以上の洗浄液ウェル２２によって受け止められる、例えば位置合わせされて近接するように位置決めされる。本実施形態では、マルチウェルプレート１０の各ウェル１２は、洗浄液溜め２０の１つの洗浄液ウェル２２に対応し、洗浄液ウェル２２は、サンプルウェル１２よりも直径において僅かに大きい。しかし、以下により詳細に説明されるように、当然ながら、洗浄液ウェル２２は、他の適切な方法で配置されてもよい。洗浄液ウェル２２内のクリーニング流体２４（一実施形態では水）が残留物質１４および／またはプレート１０に接触して、残留物質１４が除去されうる。例えばプレート１０は、プレート１０の上表面が洗浄液溜め２０の上面に接触し、プレートの各ウェル１２が対応する洗浄液ウェル２２と位置合わせするように下げられうる。クリーニング流体２４は、洗浄液ウェル２２内にありうる。例えばクリーニング流体はウェル２２を充填し、それにより流体２４は、プレートウェル１２のリムにある残留物質１４に接触して除去しうる。あるいは、または、さらに、クリーニング流体２４は、ウェル１２内にある残留物質１４を除去するようにプレートウェル１２の内部内に注入されるか、そうでなければ導入されうる。残留物質１４は、プレート１０から除去されると、任意の適切な方法でクリーニング流体２４と関連付けられうる。例えば残留物質は溶解される、懸濁される、物理的にノックオフされる、そうでなければプレート１０からクリーニング流体２４によって、運ばれうる。残留物質に対する「除去」との用語の使用は、必ずしも、プレートからの残留物質の完全な根絶を意味するものではなく、部分的および／または実質的な除去、および／または、残留物質の濃度の減少も指しうる。したがって、残留物質１４の除去は、プレート１０の全ての部分からの残留物質の完全な除去をもたらさなくともよい。
【００１３】
図１は、円形開口を有し、規則的な配列に配置されたウェル１２を有するマルチウェルプレート１０を示すが、マルチウェルプレート１０は、任意の適切な形状、サイズ、配列または他の構成に配置されたウェル１２を含みうる。例えばある場合では、ウェル１２は、例えば行または列に多数の個々のウェルを有するのではなく、細長い矩形のウェルの形態でマルチウェルプレートにおける行または列全体を占めるように配置されてもよい。幾つかの実施形態では、ウェルが同心状に方向付けられる場合といったように用いられたウェル形状が、プレート１０上のウェル配置に影響を及ぼしうる。当然ながら、ウェル１２は、次に限定されないが、矩形、円形、楕円形、多面形、または他の断面形状といった任意の適切な形状を取りうる。さらに、当然ながら、マルチウェルプレート１０は、一般的に用いられている４８、９６、または３８４ウェルプレートにおけるように任意の適切な数のウェル１２または他の数のウェルを有しうる。さらに、ウェル１２は、行と列でウェルを規則正しい配列に配置する必要はなく、ウェルは希望通りにどのようにも配置されうる。
【００１４】
洗浄液溜め２０には１つ以上のマルチウェル１０のウェル１２に個々に対応するように配置された複数の洗浄液ウェル２２が設けられうるが、洗浄液ウェル２２は、任意の適切な方法で配置され、サイズにされ、形にされ、そうでなければ構成されてよい。例えば、他の実施形態では、マルチウェルプレート１０にある幾つかのウェル１２は、洗浄液溜め２０の比較的大きい洗浄液ウェル２２に対応し、それにより残留物質１４はマルチウェルプレート１０の複数のウェル１２から同時に除去されうる。さらに、洗浄液ウェル２２は、図１に示すようにプレート１０のすべてのウェル１２から残留物質１４が同時に除去されうるように配置されても、または、１回につき、サブセットのウェル１２（例えば1つのウェル１２）からしか残留物質１４が除去されないように配置されてもよい。プレートウェル１２と洗浄液ウェル２２との位置合わせは、例えば洗浄液溜め２０に対するプレート１０の位置決めを制御する人間の操作者によってまたは自動システムによって、例えば多目的ロボットまたは専用プレート洗浄機構によって視覚的に行われうる。
【００１５】
各洗浄液ウェル２２内に与えられているクリーニング流体２４は、液体および／または気体を含む任意の適切な成分または成分の組み合わせを含みうる。当然ながら、クリーニング流体の適切性は、サンプルウェルから除去されるべき残留物質の種類に依存しうる。これは、特定の物質は、他の特定の物質とより反応しやすい、そうでなければ他の特定の物質によって除去されやすいからである。幾つかの実施形態では、クリーニング流体は水といった液体であってよく、水はさらに、任意の適切な度合いに精製またはイオン除去されていてもいなくともよい。他の実施形態では、クリーニング流体は、酸、塩基、任意の適切なイオン溶液、有機溶媒、懸濁液、乳濁液、またはこれらの任意の組み合わせといった液体であるかまたはそれを含みうる。さらなる実施形態では、クリーニング流体は、次に限定されないが、空気、酸素、窒素、二酸化炭素、任意の希ガス、および／または任意の不活性ガスといった任意の適切な気体を含みうる。さらにさらなる実施形態では、クリーニング流体は、次に限定されないが、石鹸粒子または任意の適切なクリーニング固体といった懸濁液中に組み込まれた固体粒子を含みうる。当然ながら、除去されるべき残留物質に応じて、上述した物質の任意の組み合わせをクリーニング流体として用いうる。
【００１６】
残留物質１４は、濃度が減少されるか、そうでなければ任意の適切な方法で除去されうる。幾つかの実施形態では、空気のバーストが残留物質１４の除去に用いられうる。他の実施形態では、液体が用いられて濃度が減少される、そうでなければ残留物質１４が除去されうる。さらなる実施形態では、残留物質１４に関連して適切な特性または極性を有するクリーニング流体２４が除去に用いられうる。実際には、上述した物質の組み合わせを用いて、マルチウェルプレート１０にあるウェル１２から残留物質１４を除去しうる。さらに、特定の期間の間、特定の流体またはそれらの組み合わせに露出させること、および／または、流体が入れられる圧力といった任意の適切な処理スキームが用いられうる。
【００１７】
本発明の幾つかの実施形態では、残留物質１４がマルチウェルプレート１０から除去されるべき場合、プレートウェル１２および洗浄液ウェル２２は、各々のウェルリムにおいて互いに接触しうる。他の実施形態では、プレートウェル１２および洗浄液ウェル２２は、互いに接触する必要は全くないが、互いに流体連結するように保持されうる。幾つかの実施形態では、マルチウェルプレートにあるウェルのリムは、洗浄液溜めにある対応する洗浄液ウェル内に延在し、それにより1つのウェルから別のウェルへの物質の漏出が最小限にされうる。別の実施形態では、マルチウェルプレートのすべてのウェルが対応する洗浄液ウェルによって受け止められるわけではなく、マルチウェルプレートにあるサンプルウェルのサブセットしか受け止められない。これは、すべてのサンプルウェルが、残留物質の除去を必要とするわけではないと考えられるからである。洗浄液ウェルからのクリーニング流体が、洗浄液ウェルのリムを越えて流れてマルチウェルプレートにあるウェルに接触して、残留物質を除去することは可能である。様々なプレート操作システムによって、洗浄液溜めに対するマルチウェルプレートの位置決め精度は変化しうることは理解できよう。さらなる実施形態では、マルチウェルプレートの一部および洗浄液溜めの一部は、クリーニング流体が、マルチウェルプレートにあるウェルと対応する洗浄液ウェルから漏出しないように一時的なシールを形成する。
【００１８】
図２は、洗浄液溜め２０の基部２３から延在するプラットホーム２５を各々含む複数の洗浄液ウェル２２を有する洗浄液溜め２０の例示的な実施形態を示す。各洗浄液ウェル２２はさらに、洗浄液ウェル２２にクリーニング流体２４を供給するための1以上のインレット３０を含む。例えば図３は、洗浄液ウェル２２の上に位置決めされたウェルプレート１０とプレートウェル１２と一緒に、図２の実施形態からの洗浄液ウェル２２の断面図を示す。クリーニング流体２４は、インレット３０を通過し（例えば洗浄液溜め２０の基部２３内の適切な導管を介して）洗浄液ウェル２２のプラットホーム２５を渡って流れる。本実施形態では、クリーニング流体２４は、プラットホーム２５を渡って基部２５へと下に流れ、基部では流体２４はドレインまたは他の好適なアウトレットに流れうる。他の実施形態では、各洗浄液ウェル２２は、クリーニング流体２４を受け取る対応するアウトレット、例えば洗浄液ウェル２２の底部における基部２３内の環状開口またはインレット３０を囲むプラットホーム２５内の環状開口を含み、廃棄のためにクリーニング流体２４を受け取りうる。クリーニング流体２４は、例えば（ある場合には）プレートウェル１２から物質１４を除去するようプレートウェル１２のリム２６に接触するクリーニング流体２４の層を形成するように望ましい速度で各ウェル２２に供給されうる。上述されたように、ウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、互いに接触しても（プレートウェル１２のリム２６がプラットホーム２５に接触しうる）、または、物質１４の除去時に互いから離間されていてもよい。
【００１９】
洗浄液ウェル２２およびプレートウェル１２の他の構成も可能である。例えば図４は、基部２３の上表面２７から上方向に延在し、クリーニング流体２４を受け取りうる開口を囲むリム２６を各々含む複数の洗浄液ウェル２２を含む洗浄液溜め２０の実施形態を示す。図５は、図４に示すリムのような直立リム２６を有する洗浄液ウェル２２を有する洗浄液溜め２０の断面図を示す。洗浄液ウェル２２内のクリーニング流体２４は、リム２６の頂点までウェル２２を充填し、例えばインレット３０（図示せず）がクリーニング流体２４を洗浄液ウェル２２に供給する場合といったある場合では、リム２６を越えて流れてもよい。本例では、ウェルプレート１０は、プレート１０の上表面１７から延在するリム１６または他の特徴なしのプレートウェル１２を含む。洗浄液溜め２０に対してプレート１０を適切に位置決めすると、対応する洗浄液ウェル２２におけるクリーニング流体２４によって物質１４（図５には示さず）が除去されうる。図６は、洗浄液ウェル２２が直立リム２６を含まない点を除いて、洗浄液ウェル２２が図４および図５における洗浄液ウェルと同様に配置された別の実施形態を示す。代わりに、基部２３の上表面２７は、ほぼ平らであり、洗浄液ウェル２２のリム２６は、上表面２７の平面内にある。本実施形態では、対応するウェルプレート１０は、プレート１０の上表面１７から延在するリム１６を有するプレートウェル１２を含む。プレートウェル１２のリム１６は、対応する洗浄液ウェル２２において受け取られて（例えば洗浄液ウェル２２内に延在し）、ウェル２２内のクリーニング流体２４に接触しうる。このような相補的なリム配置によって、プレートウェルリム１６の、対応する洗浄液ウェル２２とのより効果的な係合が可能となり、それにより残留物質１４がより良好に除去されうる。例えばプレートウェル１２のリム１６が洗浄液ウェル２２内に受け入れられて、それによりリム１６の適切な部分がクリーニング流体２６内に完全に浸漬される場合、リム１６上の残留物質１４がより良好に除去されうる。このような種類の連動配置はさらに、プレートウェル１２が対応する洗浄液ウェル２２と適切に位置合わせされることを確実にすることに役立ちうる。例えばプレートウェルのリム１６が各々の洗浄液ウェル２２によって適切に受け止められない場合、プレート１０と洗浄液溜め２０との間に明らかな間隙が存在してしまい、これは、プレート１０は再度位置合わせされるべきであることを示す。
【００２０】
図７および図８は、洗浄液ウェル２２が、洗浄液溜め２０の基部２３におけるより大きくて深い開口の代わりに凹んだまたは窪んだ領域２８を含む点を除いて、図６に類似する別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、ウェルプレート１０のリム１６は、洗浄液溜め２０における凹み領域２８内に置かれ、それによりマルチウェルプレート１０と洗浄液溜め２０との間にはほとんどまたは全く側方移動がなくなる。この点につき、マルチウェルプレート１０のウェル１２と洗浄液ウェル２２とが最適に位置合わせされた場合、互いに対するウェルの側方移動は、クリーニングプロセスをより厄介なものとしてしまう。そのために、幾つかの実施形態には、ウェルが互いに対する実質的な移動が防止される機構が組み込まれうる。図９は、中心開口を取り囲みかつリム２６によって中心開口から離間された各洗浄液ウェル２２の意図する領域２８を有する別の同様の配置を示す。したがって、プレートウェル１２のリム１６は、凹み領域２８内に受け入れられうる。一方で、当業者であれば、マルチウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０が洗浄液溜め２０の一部を受け止めるように凹み領域を組み込む反対の構成を採用しうることは理解できよう。
【００２１】
図１０は、単一のより大きい洗浄液ウェル２２が複数のプレートウェル１２を受け止めうるさらに別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、洗浄液溜め２０における凹み領域２８は、マルチウェルプレート１０の上表面１７を受け止めるように構成されうるが、このような構成は必須ではない。この点につき、当業者であれば、ここでもマルチウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０が洗浄液溜め２０の一部を受け止めるように凹み領域を採用する反対の構成を採用しうることは理解できよう。幾つかの実施形態では、１つの大きい洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にあるすべてのウェル１２と相互作用（インターフェース）するよう働きうる。他の実施形態では、マルチウェルプレート１０にあるサブセットのウェル１２と相互作用（インターフェース）するよう働きうる、洗浄液溜め２０にある幾つかの大きい洗浄液ウェル２２があってもよい。例えば洗浄液溜め２０の洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にある単列のウェルと相互作用（インターフェース）しうる。別の実施形態では、洗浄液溜め２０の洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にある多数列のウェル１２と相互作用（インタフェース）しうる。
【００２２】
本発明の別の態様では、マルチウェルプレート１０および／または洗浄液溜め２０は、ウェルプレート１０からの物質１４の除去時に意図的に攪拌されうる。この点につき、クリーニング流体を付与することと攪拌との組み合わせは、プレートウェル１２２の裂け目や届き難い領域にある残留物質１４を緩めることに役立ちうる。例えば幾つかの実施形態では、超音波処理デバイスが洗浄液溜め２０内に組み込まれてもよく、それにより洗浄液溜めがマルチウェルプレート１０と接触するように配置されると、超音波が洗浄液溜め２０からマルチウェルプレート１０に伝わり、残留物質１４の塊をさらに除去できる。他の実施形態では、残留物質１４を攪拌する際に、マルチウェルプレート１０を、パターンが付けられたおよび／またはランダムな方法で、垂直方向および／または横方向に少し乱されうる（perturbed）。さらなる実施形態では、洗浄液溜め２０は、パターンが付けられたおよび／またはランダムな方法で、垂直方向および／または横方向に少し乱されてもよく、それによりクリーニング流体は不規則にマルチウェルプレート１０に分散され、より完全な洗浄液の分散が可能となる。さらにさらなる実施形態では、マルチウェルプレート１０と洗浄液溜め２０は互いに固定されていてもよく、そして、例えば上述したような攪拌機構である任意の適切な攪拌機構を、これらの２コンポーネントに適切に適用してもよい。
【００２３】
クリーニング流体２４は、ピペットまたは他のディスペンサを介して分注する、流体をピッチャまたは他の容器からウェル内に注ぐ等といった任意の適切な方法で、洗浄液ウェル２２内に与えられうる。あるいは、クリーニング流体２４は、１以上の洗浄液ウェル２２にクリーニング流体の流れを供給する、または、１以上の洗浄液ウェル２２からクリーニング流体を除去する、洗浄液ウェル２２に関連付けられたポートによって与えられてもよい。例えば図１１は、インレット３０がインレット入口３４を介してクリーニング流体２４を与え、アウトレット３２がアウトレット出口３６を介して洗浄液ウェル２２の内容物のための放出を与える実施形態を示す。当然ながら、本発明の様々な実施形態において、インレット３０およびアウトレット３２は、ウェル内の任意の適切な位置に位置決めされうる。様々な態様において、インレット３０および／またはアウトレット３２は、任意の適切な断面形状を有し、クリーニング流体を中に通し、洗浄液ウェル２２の内容物を外に通す働きをするポートであってよい。幾つかの実施形態では、インレット３０は、洗浄液ウェル２２に加圧方法でクリーニング流体２４をアクティブに与えうる。同様に、アウトレット３２は、負圧を与えることにより洗浄液ウェル２２から内容物をアクティブに除去しうる。他の実施形態では、インレット３０は、クリーニング流体２４をよりパッシブに与えてもよく、それによりクリーニング流体は洗浄液ウェル２２内に自然に流入できる。同様に、アウトレット３２も、洗浄液ウェル２２の内容物が出口３６を介して洗浄液ウェル２２から流出することを可能にしうる。当然ながら、任意の適切な数のインレット３０またはアウトレット３２が洗浄液ウェル２２へおよび／または洗浄液ウェル２２から設けられうる。
【００２４】
本発明の別に態様では、インレット３０および／またはアウトレット３２は、クリーニング流体の流入および洗浄液ウェル２２の内容物の流出を制御するバルブを含んでもよい。流入および流出を制御する多種多様の適切なバルブがあり、次に限定されないが、機械的にまたは電子機械的に作動されるバルブも含まれる。他の実施形態では、インレット３０および／またはアウトレット３２には、流体透過性であるようにまたはフィルタとして働きうるメンブレンまたは他のコンポーネントが組み込まれてもよい。
【００２５】
当然ながら、洗浄液ウェル２２内に組み込まれるインレット３０またはアウトレット３２が画定されないことも可能である。この点につき、クリーニング流体の供給は、次に限定されないがウェルにクリーニング流体を与える、洗浄液ウェル２２の上方に適切に配置された供給管といった任意の適切な方法を介して、洗浄液ウェル２２の上部開口の上から行われうる。これに関連して、適切な供給管が、洗浄液ウェル内に加圧されたクリーニング流体をアクティブに与えるか、または、クリーニング流体をよりパッシブに与えうる。さらに、洗浄液ウェル２２からの内容物の流出（exit out）は、次に限定されないが、洗浄液ウェル２２の上方に適切に配置された出口管といった任意の適切な方法を介して、洗浄液ウェル２２の上部開口の上で生じうる。出口管は、負圧をアクティブに与えて、洗浄液ウェル２２から内容物を除去しうる。別の観点では、洗浄液ウェル２２の内容物は、上部リムを越えて洗浄液ウェル２２から単に流出してもよいので、出口管はなくてもよい。内容物が上部リムを越えて洗浄液ウェル２２から流出すると、内容物は洗浄液溜め２０の上表面２７において回収されて一緒に廃棄されうる。
【００２６】
図１２は、例えば図７および図８の実施形態と共に用いられうる例示的な実施形態を示す。すなわち、クリーニング流体２４は、凹み領域２８内の１以上のインレット３０を介して与えられ、内容物は、洗浄液ウェル２２内のアウトレット３２を介して除去されうる。別の実施形態では、クリーニング流体２４の流れは、図１２に示す流れとは反対にされてもよく、流体２４はアウトレット３２において与えられ、インレット３０において除去される。
【００２７】
図１３は、例えば図２、３、５または９における実施形態と共に用いられうる別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、クリーニング流体は、リム２６またはプラットホーム２５におけるインレット３０を介して与えられ、流体は、洗浄液ウェル２２内のアウトレット３２を介して除去されうる。別の実施形態では、クリーニング流体２４の流れは反対にされてもよく、流体２４はアウトレット３２において与えられ、インレット３０において除去される。
【００２８】
当然ながら、クリーニング流体は、洗浄洗浄液溜めにおけるすべての洗浄液ウェルに一度に供給される必要はない。むしろ、クリーニング流体は希望通りに適切に分散されうる。クリーニング流体は希望通りにどのようにも交換されてもよい。クリーニング流体は、ウェルプレートのクリーングの前および／または後で、例えば断続的な流れ、連続的な流れ、または任意の適切な方法で任意の適切な期間に与えられうる。クリーニング流体が非連続ストリームで与えられる場合、様々なクリーニング流体がインレットポートを介して洗浄液ウェル内に流入させられうる。洗浄液ウェルの内容物も、例えばドレイン内へ、または流体の流出に対応する１以上のポートといった任意の適切な配置を介してウェルから流出するようにされうる。流入と同様に、流出も例えば断続的または連続的であってよく、洗浄液ウェルはアウトレットを介して部分的にまたは完全に空にされ、続けてインレットを介して充填されうる。さらに、幾つかの実施形態では、インレットおよび／またはアウトレットポートは、クリーニング流体の流入方向が、流出が発生する方向と共に適切に調節されて洗浄液が各サンプルプレート１２に完全に分散されうるように、移動可能および／または回転可能であってよい。他の実施形態では、インレットおよび／またはアウトレットポートは、事実上全方向性であってよく、クリーニング流体は等しい速度で複数の方向に噴出すことが可能である。
【００２９】
本発明の他の態様にしたがって、図１４は、マルチウェルプレートのウェルから残留物質を除去するために自動システムが用いられる一実施形態を示す。図示される実施形態では、プレート操作ロボットシステム４０は、操作アーム４２と、適切にマルチウェルプレート１０を掴むためのグリップ機構４４とを含む。洗浄機構５０が接続されている洗浄液溜め２０を支持している基板６０も示される。洗浄機構５０は、クリーニング流体を、供給源５４から供給路５３に沿ってかつ供給ポート５２を介して、流入させる働きをする。同様に、洗浄機構５０は、廃棄内容物を、廃棄ポート５５から廃棄路５６に沿ってかつ廃棄チャンバ５７へと除去する働きをする。当然のことながら、洗浄機構５０は、１以上のポンプ、タンク、導管、バルブ、センサ、コントローラ、リレー、および洗浄液溜め２０に対するクリーニング流体の流れを制御するための機能を与える他のコンポーネントを含みうる。
【００３０】
図示するアーム４２およびグリップ機構４４が具備されたプレート操作ロボットシステム４０は単純な概略図であるが、当業者であれば、本明細書に提示された目的のために任意の適切な自動化された機械システムが十分であることは理解されよう。実際に、プレート操作ロボットシステム４０は、多数の操作アーム４２および／または多数のグリップ機構４４を有することが可能である。操作アーム４２は、通常、回転可能であり、また、３つの独立した次元といったように任意の適切な数の自由度で並進可能でありうる。操作アーム４２に取り付けられたグリップ機構４４は、任意の特定の対象物を掴みかつ解放する働きをしうる。ここの特定の場合、グリップ機構４４は、マルチウェルプレート１０を掴みうる。別の実施形態では、グリップ機構４４が洗浄液溜め２０を掴み、洗浄液溜めをマルチウェルプレート１０に持ってくるように自動システムを構成することも可能である。この点につき、洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０に対して逆さまにされ、クリーニング流体が洗浄液ウェルからマルチウェルプレート１０のウェル内に与えられうる。1つの選択として、マルチウェルプレート１０は、その後、任意の方法で逆さまにされ、および／または乾燥されてもよい。あるいは、マルチウェルプレート１０は、グリップ機構４４が洗浄液溜め２０を掴み、洗浄液溜めをマルチウェルプレート１０に関連付けさせる間に、逆さまにされ、定位置に保持されうる。さらなる実施形態では、自動システムは、複数のグリップ機構４４が１以上のマルチウェルプレート１０および／または１以上の洗浄液溜め２０を掴むように構成されてもよい。さらなる実施形態では、グリップ機構は、基板サポート６０を使わずにマルチウェルプレートおよび洗浄液溜めを一緒にしうる。図１４に示される例示的な実施形態では、プレート操作ロボットシステム４０のグリップ機構４４は、マルチウェルプレート１０を掴み、マルチウェルプレート１０を逆さまにして、サンプルウェルの開いた部分が下に向くかまたは洗浄液溜めにある洗浄液ウェルの開いた部分に直接向かうように働く。次に、マルチウェルプレート１０は、マルチウェルプレートにあるウェルの各リムが洗浄液溜めにある少なくとも1つの対応する洗浄液ウェルによって比較的同時に受け止められるように、プレート操作システム４０、４２、４４によって位置決めされうる。
【００３１】
一動作例では、残留物質を有するマルチウェルプレート１０は、プレート操作機構４０によって掴まれて逆さまにされ、それによりマルチウェルプレートにあるウェル１２が、洗浄液溜め２０の対応する洗浄液ウェル２２と位置合わせするようにされる。次に、プレート操作機構４０は、除去されるべき残留物質を有するサンプルウェル１２が、洗浄液溜め２０の対応する洗浄液ウェル２２と流体連結するように、マルチウェルプレート１０を洗浄液溜め２０に関連付ける。ある場合では、クリーニング流体は、洗浄液ウェル２２内のインレットポート３０を介して与えられ、サンプルウェル１２内にある残留物質と接触することになる。クリーニング処理が行われる際に、洗浄液ウェル２２内のアウトレットポート３２は、クリーニング流体と残留物質との組み合わせからもたらされる内容物を除去しうる。クリーニング流体は、上方向に噴霧されるか、そうでなければマルチウェルプレートのウェル内に導入される、または、洗浄液ウェル内において基本的に静止したままで、プレート１０が洗浄液溜め２０に近接して位置決めされたときにプレート１０に接触しうる。
【００３２】
当然ながら、多数の様々な種類のクリーニング流体を、様々な期間の間、様々な順序で組み込んでもよい。当業者であれば、あらゆる種類の残留物質に対して、クリーニング流体とクリーニング時間の異なる組み合わせが必要となることは理解できよう。この点につき、供給源５４は、洗浄機構５０にクリーニング流体の任意の組み合わせを与えうる。洗浄機構５０は次に、適切なクリーニング流体を洗浄液ウェル２２に供給しうる。続けるに、洗浄液ウェル２２からの廃棄内容物は洗浄機構５０を介して流出し、最終的には後続の処分のために廃棄チャンバ５７に入る。幾つかの実施形態では、流体路およびポートが、クリーニング流体の流入および廃棄内容物の流出のために洗浄機構５０に設けられうる。他の実施形態では、残留物質除去システムのために別個の洗浄機構および廃棄機構が用いられうる。さらなる実施形態では、残留物質除去システムのために洗浄機構および廃棄機構のいずれも用いられなくてもよい。
【００３３】
本発明の幾つかの態様を説明してきたが、当業者であれば様々な変更、修正、および改良点を思いつくことは理解されるべきである。かかる変更、修正、および改良点は、本開示の一部であることを意図しており、また、本発明の精神および範囲内であることを意図している。したがって、本明細書における説明および図面は限定ではなく例示を意図している。
【００３４】
本明細書および特許請求の範囲において用いられる不定冠詞「ａ」および「ａｎ」は、特に明記されない限り、「少なくとも１つ」を意味すると理解されるべきである。
【００３５】
本明細書および特許請求の範囲において用いられる表現「および／または」は、それにより結合される要素の「いずれかまたは両方」、すなわち、要素は共同して存在する場合もあれば、分離して存在する場合もあることを意味すると理解されるべきである。「および／または」と共に列挙される多数の要素も、同じように解釈されるべきである。すなわち、「１以上の」要素がそのように結合される。「および／または」節によって具体的に特定される要素以外の他の要素も、その具体的に特定される要素に関連していてもいなくても、任意選択的に存在してよい。
【００３６】
特に明記されない限り、２以上のステップまたは行為を含む本明細書に記載される任意の方法では、これらの方法のステップまたは行為の順番は、記載される方法のステップまたは行為の順番に必ずしも限定されないことを理解されるべきである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サンプルプレートウェルから残留物質を除去することに関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチウェルプレートは、通常、特に細胞アッセイといった生物学的調査適用、または、他の医療関連の生化学的研究に用いられる。この点において、マルチウェルプレートは通常９６以上の個別のウェルを含み、これらのウェルにおいて個別の実験または別の作業が行われうるので、調査研究は高いスループットで行われうる。大抵の場合、アッセイが行われると、ある量の物質がウェル内に残ることがある。この物質を除去するための一般的な技術は、プレートを逆さまにしてウェルの内容物を出すことである。しかし、ある場合では、プレートを逆さまにしてウェルの内容物を出した後でも、プレートの各ウェルのリムまたはその付近において液体または他の物質が残る。1つの技術では、ウェルのリムにおける残留液体または他の物質は、ウェルのリムを一枚のフィルタ用紙に接触させて残っている物質を吸い取ることによって除去される。
【発明の概要】
【０００３】
発明者は、幾つかの適用では、マルチウェルプレートのウェルまたはその付近に残っている残留物質を除去することは、高スループット、高効率、および／または環境に配慮した方法で行うのは困難な場合もありうることを認識している。本発明の様々な態様では、マルチウェルプレートのリムから残留物質を除去するために洗浄またはクリーニング流体を用い、それにより１以上のウェルに異物または汚染物質が残る可能性を減少し、および／または吸い取りフィルタ用紙または他の同様の物質の使用の必要を失くす。
【０００４】
本発明の一態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルから残留物質を除去するための方法には、ウェルが流体を受けるように開いている上面を含み、かつ、例えばウェルは閉じられている底面をさらに含むマルチウェルプレートを与えるステップが含まれる。マルチウェルプレートのウェルに対応するように配置された１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めが与えられ、また、複数の洗浄液ウェルの各々においてクリーニング流体が与えられうる。マルチウェルプレートは、マルチウェルプレートの上面がマルチウェルプレートの底面の下に位置決めされるように逆さまにされ、マルチウェルプレートウェルにおけるウェルのリムが、例えばプレートウェルが洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって受け止められ、残留物質がプレートウェルにおいて除去されるように、洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルにおいてクリーニング流体と接触するようにされうる。プレートウェルは、（ある場合には）洗浄液ウェルによって画定される容積にプレートウェルの一部が入ってまたは入ることなく、対応する洗浄液ウェルによって受け止められうる。代わりに、洗浄液ウェルは、洗浄液ウェルにおけるクリーニング流体がプレートウェルにおける残留物質を除去するように作用できるようにプレートウェルが洗浄液ウェルに対して適切に位置決めされる場合に、プレートウェルを受け止めていると見なしうる。
【０００５】
本発明の別の態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルから残留物質を除去するための自動システムが提供され、各ウェルは、ウェルへの開口におけるリムを有する。かかるシステムは、各々、マルチウェルプレートの対応するウェルのリムを受け止めるように適応された１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを含みうる。マルチウェルプレートを逆さまにし、また、複数のプレートウェルの各リムが、洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって同時に受け止められるようにプレートを位置決めするようにマルチウェルプレートを操作可能なグリップ要素を有するプレートマニピュレータが含まれうる。
【０００６】
本発明のさらなる態様では、各々、リムを有するマルチウェルプレートの複数のウェルにおける残留物質を除去するための装置が提示される。１以上の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めは、マルチウェルプレートが逆さまにされた位置において、マルチウェルプレートにあるウェルのリムが、各々、複数の洗浄液ウェルの対応するウェルによって同時に受け止められることが可能であるように配置されうる。各洗浄液ウェルは、洗浄液ウェルにクリーニング流体を与えるように適応されたインレット、および／または、洗浄液ウェルからのクリーニング流体の除去に役立つアウトレットを有しうる。一実施形態では、各洗浄液ウェルは、洗浄液ウェル用の対応するインレットを囲むほぼ平らなプラットホームによって形成されうる。クリーニング流体は、インレットを出て、プラットホームを渡って流れうる。洗浄液ウェルのプラットホームは、例えばクリーニング流体がプラットホームを渡って基部へと下に流れるように、互いから離間されかつ基部から上方向に延在しうる。基部における流体は１以上のアウトレットにおいて回収されうる。
【０００７】
本発明の他の利点および新規の特徴は、添付の図面と共に検討された場合に本発明の様々な非限定の実施形態の以下の詳細な説明および特許請求の範囲から明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の態様は、数字は同様の要素を示す以下の図面を参照して説明される。
【図１】図１は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めに関連付けられる、残留物質を含むウェルを有するマルチウェルプレートの斜視図である。
【図２】図２は、１つの例示的な実施形態における隆起したプラットホームを有する洗浄液ウェルを含む洗浄液溜めの斜視図である。
【図３】図３は、対応するプレートウェルを有する図２の実施形態の洗浄液ウェルの断面図である。
【図４】図４は、別の例示的な実施形態における洗浄液溜め基部の上表面から上方に延在するリムを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めの斜視図である。
【図５】図５は、対応するプレートウェルを有する図４の実施形態の洗浄液溜めの断面図である。
【図６】図６は、別の例示的な実施形態における洗浄液溜め基部の上表面と同一平面のリムを有するウェルを有する別の洗浄液溜めの断面図である。
【図７】図７は、別の例示的な実施形態における中心開口周りに凹状セクションを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めの斜視図である。
【図８】図８は、対応するプレートウェルを有する図７の実施形態の洗浄液溜めの断面図である。
【図９】図９は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めの凹み（indented）領域がマルチウェルプレートの上表面に対応する、逆さまにされたマルチウェルプレートと洗浄液溜めとの断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の態様にしたがって、１つの洗浄液ウェルが複数のプレートウェルを受けることができる、逆さまにされたマルチウェルプレートと洗浄液溜めとのさらに別の断面図である。
【図１１】図１１は、本発明に態様にしたがって、クリーニング流体が入るためのインレットと、洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の態様にしたがって、窪んだ領域におけるクリーニング流体が入るためのインレットと、中心開口における洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットとを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの別の断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の態様にしたがって、直立リムにおけるクリーニング流体が入るためのインレットと、中心開口における洗浄液ウェルの内容物が出るためのアウトレットとを有する洗浄液溜めに位置付けられたウェルの別の断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の態様にしたがって、洗浄液溜めに関連してマルチウェルプレートを位置決めするマニピュレータを有する自動システムの略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の態様は、概して、例えば生物学的および医療関連適用に用いられるマルチウェルサンプルプレートのウェルに関連付けられる残留物質の減少に関する。本発明は、その適用について、以下の説明に記載されるまたは図面に示されるコンポーネントの構成および配置の詳細に限定されない。本発明は、他の実施形態や、また、様々な方法で実施または実行されることが可能である。例えば本発明の例示的な実施形態は、マルチウェルプレートを取り扱う環境における使用を参照して以下に説明される。しかし、当然ながら、本発明の態様は、任意の適切な適用用のシステムに用いてもよい。
【００１０】
本発明の一態様では、マルチウェルプレートの複数のウェルにおける残留物質が除去されうる方法が提示される。一実施形態では、かかる方法は、ウェルが流体輸送の出し入れのために開いている上面と、ウェルが流体輸送に対して閉じられうる底面とを含むマルチウェルプレートを与えることを含む。当業者であれば認識しているように、マルチウェルプレートのウェルは、通常は生物学的または医療関連の調査適用である任意の適切な目的に用いられうる。例えば調査適用の場合、幾つかのウェルにおいて反応が起きることも起きないこともある。この関連で、試薬および／または他の物質が、マルチウェルプレートの幾つかのウェル内に残ることがある。例えばマルチウェルプレート再度使用できるようにまたは安全に廃棄できるようにするためにウェルをきれいにするためには、プレートは、例えばマルチウェルプレートの上表面上に流体を流す、ウェルの中から物質を取り除くように洗浄する、マルチウェルプレートを逆さまにして残留物質がウェルから出されるようにすること、および／またはこれらの任意の組み合わせといった任意の適切な方法によって実質的に空にされうる。このような作業が完了した後でも、幾つかのウェル内に残留物質が依然として残ることがあり、したがって、クリーニング流体を用いてマルチウェルプレートから残留物質を除去するアプローチがあることが有利でありうる。
【００１１】
例えば、図１は、マルチウェルプレート１０が逆さまにされてプレート１０のウェル１２の内容物を出すようにされている１つの例示的な実施形態を示す。逆さまにされているのにも関わらず、複数のウェル１２は残留物質１４に関連付けられうる。例えば残留物質は、ウェル１２のリムまたはエッジ付近および／またはウェル１２の底端といったウェル１２に関連する様々な領域に位置付けられうる。残留物質１４は、ウェル１２内またはその付近の部分に詰まる、そうでなければ付着する固体粒子１６、および／または、逆さまにされたマルチウェルプレート１０のウェル１２のリム付近に張付く小滴１８といった任意の形態でありうる。
【００１２】
プレート１０から残留物質１４を除去するために、プレート１０は、プレート１０から残留物質１４を除去するようクリーニング流体２４が作用しうるように洗浄液溜め２０に対して位置決めされうる。例えばプレート１０は、図１に示されるように逆さまにされて、個々のウェル１２が洗浄液溜め２０における１以上の洗浄液ウェル２２によって受け止められる、例えば位置合わせされて近接するように位置決めされる。本実施形態では、マルチウェルプレート１０の各ウェル１２は、洗浄液溜め２０の１つの洗浄液ウェル２２に対応し、洗浄液ウェル２２は、サンプルウェル１２よりも直径において僅かに大きい。しかし、以下により詳細に説明されるように、当然ながら、洗浄液ウェル２２は、他の適切な方法で配置されてもよい。洗浄液ウェル２２内のクリーニング流体２４（一実施形態では水）が残留物質１４および／またはプレート１０に接触して、残留物質１４が除去されうる。例えばプレート１０は、プレート１０の上表面が洗浄液溜め２０の上面に接触し、プレートの各ウェル１２が対応する洗浄液ウェル２２と位置合わせするように下げられうる。クリーニング流体２４は、洗浄液ウェル２２内にありうる。例えばクリーニング流体はウェル２２を充填し、それにより流体２４は、プレートウェル１２のリムにある残留物質１４に接触して除去しうる。あるいは、または、さらに、クリーニング流体２４は、ウェル１２内にある残留物質１４を除去するようにプレートウェル１２の内部内に注入されるか、そうでなければ導入されうる。残留物質１４は、プレート１０から除去されると、任意の適切な方法でクリーニング流体２４と関連付けられうる。例えば残留物質は溶解される、懸濁される、物理的にノックオフされる、そうでなければプレート１０からクリーニング流体２４によって、運ばれうる。残留物質に対する「除去」との用語の使用は、必ずしも、プレートからの残留物質の完全な根絶を意味するものではなく、部分的および／または実質的な除去、および／または、残留物質の濃度の減少も指しうる。したがって、残留物質１４の除去は、プレート１０の全ての部分からの残留物質の完全な除去をもたらさなくともよい。
【００１３】
図１は、円形開口を有し、規則的な配列に配置されたウェル１２を有するマルチウェルプレート１０を示すが、マルチウェルプレート１０は、任意の適切な形状、サイズ、配列または他の構成に配置されたウェル１２を含みうる。例えばある場合では、ウェル１２は、例えば行または列に多数の個々のウェルを有するのではなく、細長い矩形のウェルの形態でマルチウェルプレートにおける行または列全体を占めるように配置されてもよい。幾つかの実施形態では、ウェルが同心状に方向付けられる場合といったように用いられたウェル形状が、プレート１０上のウェル配置に影響を及ぼしうる。当然ながら、ウェル１２は、次に限定されないが、矩形、円形、楕円形、多面形、または他の断面形状といった任意の適切な形状を取りうる。さらに、当然ながら、マルチウェルプレート１０は、一般的に用いられている４８、９６、または３８４ウェルプレートにおけるように任意の適切な数のウェル１２または他の数のウェルを有しうる。さらに、ウェル１２は、行と列でウェルを規則正しい配列に配置する必要はなく、ウェルは希望通りにどのようにも配置されうる。
【００１４】
洗浄液溜め２０には１つ以上のマルチウェル１０のウェル１２に個々に対応するように配置された複数の洗浄液ウェル２２が設けられうるが、洗浄液ウェル２２は、任意の適切な方法で配置され、サイズにされ、形にされ、そうでなければ構成されてよい。例えば、他の実施形態では、マルチウェルプレート１０にある幾つかのウェル１２は、洗浄液溜め２０の比較的大きい洗浄液ウェル２２に対応し、それにより残留物質１４はマルチウェルプレート１０の複数のウェル１２から同時に除去されうる。さらに、洗浄液ウェル２２は、図１に示すようにプレート１０のすべてのウェル１２から残留物質１４が同時に除去されうるように配置されても、または、１回につき、サブセットのウェル１２（例えば1つのウェル１２）からしか残留物質１４が除去されないように配置されてもよい。プレートウェル１２と洗浄液ウェル２２との位置合わせは、例えば洗浄液溜め２０に対するプレート１０の位置決めを制御する人間の操作者によってまたは自動システムによって、例えば多目的ロボットまたは専用プレート洗浄機構によって視覚的に行われうる。
【００１５】
各洗浄液ウェル２２内に与えられているクリーニング流体２４は、液体および／または気体を含む任意の適切な成分または成分の組み合わせを含みうる。当然ながら、クリーニング流体の適切性は、サンプルウェルから除去されるべき残留物質の種類に依存しうる。これは、特定の物質は、他の特定の物質とより反応しやすい、そうでなければ他の特定の物質によって除去されやすいからである。幾つかの実施形態では、クリーニング流体は水といった液体であってよく、水はさらに、任意の適切な度合いに精製またはイオン除去されていてもいなくともよい。他の実施形態では、クリーニング流体は、酸、塩基、任意の適切なイオン溶液、有機溶媒、懸濁液、乳濁液、またはこれらの任意の組み合わせといった液体であるかまたはそれを含みうる。さらなる実施形態では、クリーニング流体は、次に限定されないが、空気、酸素、窒素、二酸化炭素、任意の希ガス、および／または任意の不活性ガスといった任意の適切な気体を含みうる。さらにさらなる実施形態では、クリーニング流体は、次に限定されないが、石鹸粒子または任意の適切なクリーニング固体といった懸濁液中に組み込まれた固体粒子を含みうる。当然ながら、除去されるべき残留物質に応じて、上述した物質の任意の組み合わせをクリーニング流体として用いうる。
【００１６】
残留物質１４は、濃度が減少されるか、そうでなければ任意の適切な方法で除去されうる。幾つかの実施形態では、空気のバーストが残留物質１４の除去に用いられうる。他の実施形態では、液体が用いられて濃度が減少される、そうでなければ残留物質１４が除去されうる。さらなる実施形態では、残留物質１４に関連して適切な特性または極性を有するクリーニング流体２４が除去に用いられうる。実際には、上述した物質の組み合わせを用いて、マルチウェルプレート１０にあるウェル１２から残留物質１４を除去しうる。さらに、特定の期間の間、特定の流体またはそれらの組み合わせに露出させること、および／または、流体が入れられる圧力といった任意の適切な処理スキームが用いられうる。
【００１７】
本発明の幾つかの実施形態では、残留物質１４がマルチウェルプレート１０から除去されるべき場合、プレートウェル１２および洗浄液ウェル２２は、各々のウェルリムにおいて互いに接触しうる。他の実施形態では、プレートウェル１２および洗浄液ウェル２２は、互いに接触する必要は全くないが、互いに流体連結するように保持されうる。幾つかの実施形態では、マルチウェルプレートにあるウェルのリムは、洗浄液溜めにある対応する洗浄液ウェル内に延在し、それにより1つのウェルから別のウェルへの物質の漏出が最小限にされうる。別の実施形態では、マルチウェルプレートのすべてのウェルが対応する洗浄液ウェルによって受け止められるわけではなく、マルチウェルプレートにあるサンプルウェルのサブセットしか受け止められない。これは、すべてのサンプルウェルが、残留物質の除去を必要とするわけではないと考えられるからである。洗浄液ウェルからのクリーニング流体が、洗浄液ウェルのリムを越えて流れてマルチウェルプレートにあるウェルに接触して、残留物質を除去することは可能である。様々なプレート操作システムによって、洗浄液溜めに対するマルチウェルプレートの位置決め精度は変化しうることは理解できよう。さらなる実施形態では、マルチウェルプレートの一部および洗浄液溜めの一部は、クリーニング流体が、マルチウェルプレートにあるウェルと対応する洗浄液ウェルから漏出しないように一時的なシールを形成する。
【００１８】
図２は、洗浄液溜め２０の基部２３から延在するプラットホーム２５を各々含む複数の洗浄液ウェル２２を有する洗浄液溜め２０の例示的な実施形態を示す。各洗浄液ウェル２２はさらに、洗浄液ウェル２２にクリーニング流体２４を供給するための1以上のインレット３０を含む。例えば図３は、洗浄液ウェル２２の上に位置決めされたウェルプレート１０とプレートウェル１２と一緒に、図２の実施形態からの洗浄液ウェル２２の断面図を示す。クリーニング流体２４は、インレット３０を通過し（例えば洗浄液溜め２０の基部２３内の適切な導管を介して）洗浄液ウェル２２のプラットホーム２５を渡って流れる。本実施形態では、クリーニング流体２４は、プラットホーム２５を渡って基部２５へと下に流れ、基部では流体２４はドレインまたは他の好適なアウトレットに流れうる。他の実施形態では、各洗浄液ウェル２２は、クリーニング流体２４を受け取る対応するアウトレット、例えば洗浄液ウェル２２の底部における基部２３内の環状開口またはインレット３０を囲むプラットホーム２５内の環状開口を含み、廃棄のためにクリーニング流体２４を受け取りうる。クリーニング流体２４は、例えば（ある場合には）プレートウェル１２から物質１４を除去するようプレートウェル１２のリム２６に接触するクリーニング流体２４の層を形成するように望ましい速度で各ウェル２２に供給されうる。上述されたように、ウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、互いに接触しても（プレートウェル１２のリム２６がプラットホーム２５に接触しうる）、または、物質１４の除去時に互いから離間されていてもよい。
【００１９】
洗浄液ウェル２２およびプレートウェル１２の他の構成も可能である。例えば図４は、基部２３の上表面２７から上方向に延在し、クリーニング流体２４を受け取りうる開口を囲むリム２６を各々含む複数の洗浄液ウェル２２を含む洗浄液溜め２０の実施形態を示す。図５は、図４に示すリムのような直立リム２６を有する洗浄液ウェル２２を有する洗浄液溜め２０の断面図を示す。洗浄液ウェル２２内のクリーニング流体２４は、リム２６の頂点までウェル２２を充填し、例えばインレット３０（図示せず）がクリーニング流体２４を洗浄液ウェル２２に供給する場合といったある場合では、リム２６を越えて流れてもよい。本例では、ウェルプレート１０は、プレート１０の上表面１７から延在するリム１６または他の特徴なしのプレートウェル１２を含む。洗浄液溜め２０に対してプレート１０を適切に位置決めすると、対応する洗浄液ウェル２２におけるクリーニング流体２４によって物質１４（図５には示さず）が除去されうる。図６は、洗浄液ウェル２２が直立リム２６を含まない点を除いて、洗浄液ウェル２２が図４および図５における洗浄液ウェルと同様に配置された別の実施形態を示す。代わりに、基部２３の上表面２７は、ほぼ平らであり、洗浄液ウェル２２のリム２６は、上表面２７の平面内にある。本実施形態では、対応するウェルプレート１０は、プレート１０の上表面１７から延在するリム１６を有するプレートウェル１２を含む。プレートウェル１２のリム１６は、対応する洗浄液ウェル２２において受け取られて（例えば洗浄液ウェル２２内に延在し）、ウェル２２内のクリーニング流体２４に接触しうる。このような相補的なリム配置によって、プレートウェルリム１６の、対応する洗浄液ウェル２２とのより効果的な係合が可能となり、それにより残留物質１４がより良好に除去されうる。例えばプレートウェル１２のリム１６が洗浄液ウェル２２内に受け入れられて、それによりリム１６の適切な部分がクリーニング流体２６内に完全に浸漬される場合、リム１６上の残留物質１４がより良好に除去されうる。このような種類の連動配置はさらに、プレートウェル１２が対応する洗浄液ウェル２２と適切に位置合わせされることを確実にすることに役立ちうる。例えばプレートウェルのリム１６が各々の洗浄液ウェル２２によって適切に受け止められない場合、プレート１０と洗浄液溜め２０との間に明らかな間隙が存在してしまい、これは、プレート１０は再度位置合わせされるべきであることを示す。
【００２０】
図７および図８は、洗浄液ウェル２２が、洗浄液溜め２０の基部２３におけるより大きくて深い開口の代わりに凹んだまたは窪んだ領域２８を含む点を除いて、図６に類似する別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、ウェルプレート１０のリム１６は、洗浄液溜め２０における凹み領域２８内に置かれ、それによりマルチウェルプレート１０と洗浄液溜め２０との間にはほとんどまたは全く側方移動がなくなる。この点につき、マルチウェルプレート１０のウェル１２と洗浄液ウェル２２とが最適に位置合わせされた場合、互いに対するウェルの側方移動は、クリーニングプロセスをより厄介なものとしてしまう。そのために、幾つかの実施形態には、ウェルが互いに対する実質的な移動が防止される機構が組み込まれうる。図９は、中心開口を取り囲みかつリム２６によって中心開口から離間された各洗浄液ウェル２２の意図する領域２８を有する別の同様の配置を示す。したがって、プレートウェル１２のリム１６は、凹み領域２８内に受け入れられうる。一方で、当業者であれば、マルチウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０が洗浄液溜め２０の一部を受け止めるように凹み領域を組み込む反対の構成を採用しうることは理解できよう。
【００２１】
図１０は、単一のより大きい洗浄液ウェル２２が複数のプレートウェル１２を受け止めうるさらに別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、洗浄液溜め２０における凹み領域２８は、マルチウェルプレート１０の上表面１７を受け止めるように構成されうるが、このような構成は必須ではない。この点につき、当業者であれば、ここでもマルチウェルプレート１０および洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０が洗浄液溜め２０の一部を受け止めるように凹み領域を採用する反対の構成を採用しうることは理解できよう。幾つかの実施形態では、１つの大きい洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にあるすべてのウェル１２と相互作用（インターフェース）するよう働きうる。他の実施形態では、マルチウェルプレート１０にあるサブセットのウェル１２と相互作用（インターフェース）するよう働きうる、洗浄液溜め２０にある幾つかの大きい洗浄液ウェル２２があってもよい。例えば洗浄液溜め２０の洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にある単列のウェルと相互作用（インターフェース）しうる。別の実施形態では、洗浄液溜め２０の洗浄液ウェル２２は、マルチウェルプレート１０にある多数列のウェル１２と相互作用（インタフェース）しうる。
【００２２】
本発明の別の態様では、マルチウェルプレート１０および／または洗浄液溜め２０は、ウェルプレート１０からの物質１４の除去時に意図的に攪拌されうる。この点につき、クリーニング流体を付与することと攪拌との組み合わせは、プレートウェル１２２の裂け目や届き難い領域にある残留物質１４を緩めることに役立ちうる。例えば幾つかの実施形態では、超音波処理デバイスが洗浄液溜め２０内に組み込まれてもよく、それにより洗浄液溜めがマルチウェルプレート１０と接触するように配置されると、超音波が洗浄液溜め２０からマルチウェルプレート１０に伝わり、残留物質１４の塊をさらに除去できる。他の実施形態では、残留物質１４を攪拌する際に、マルチウェルプレート１０を、パターンが付けられたおよび／またはランダムな方法で、垂直方向および／または横方向に少し乱されうる（perturbed）。さらなる実施形態では、洗浄液溜め２０は、パターンが付けられたおよび／またはランダムな方法で、垂直方向および／または横方向に少し乱されてもよく、それによりクリーニング流体は不規則にマルチウェルプレート１０に分散され、より完全な洗浄液の分散が可能となる。さらにさらなる実施形態では、マルチウェルプレート１０と洗浄液溜め２０は互いに固定されていてもよく、そして、例えば上述したような攪拌機構である任意の適切な攪拌機構を、これらの２コンポーネントに適切に適用してもよい。
【００２３】
クリーニング流体２４は、ピペットまたは他のディスペンサを介して分注する、流体をピッチャまたは他の容器からウェル内に注ぐ等といった任意の適切な方法で、洗浄液ウェル２２内に与えられうる。あるいは、クリーニング流体２４は、１以上の洗浄液ウェル２２にクリーニング流体の流れを供給する、または、１以上の洗浄液ウェル２２からクリーニング流体を除去する、洗浄液ウェル２２に関連付けられたポートによって与えられてもよい。例えば図１１は、インレット３０がインレット入口３４を介してクリーニング流体２４を与え、アウトレット３２がアウトレット出口３６を介して洗浄液ウェル２２の内容物のための放出を与える実施形態を示す。当然ながら、本発明の様々な実施形態において、インレット３０およびアウトレット３２は、ウェル内の任意の適切な位置に位置決めされうる。様々な態様において、インレット３０および／またはアウトレット３２は、任意の適切な断面形状を有し、クリーニング流体を中に通し、洗浄液ウェル２２の内容物を外に通す働きをするポートであってよい。幾つかの実施形態では、インレット３０は、洗浄液ウェル２２に加圧方法でクリーニング流体２４をアクティブに与えうる。同様に、アウトレット３２は、負圧を与えることにより洗浄液ウェル２２から内容物をアクティブに除去しうる。他の実施形態では、インレット３０は、クリーニング流体２４をよりパッシブに与えてもよく、それによりクリーニング流体は洗浄液ウェル２２内に自然に流入できる。同様に、アウトレット３２も、洗浄液ウェル２２の内容物が出口３６を介して洗浄液ウェル２２から流出することを可能にしうる。当然ながら、任意の適切な数のインレット３０またはアウトレット３２が洗浄液ウェル２２へおよび／または洗浄液ウェル２２から設けられうる。
【００２４】
本発明の別に態様では、インレット３０および／またはアウトレット３２は、クリーニング流体の流入および洗浄液ウェル２２の内容物の流出を制御するバルブを含んでもよい。流入および流出を制御する多種多様の適切なバルブがあり、次に限定されないが、機械的にまたは電子機械的に作動されるバルブも含まれる。他の実施形態では、インレット３０および／またはアウトレット３２には、流体透過性であるようにまたはフィルタとして働きうるメンブレンまたは他のコンポーネントが組み込まれてもよい。
【００２５】
当然ながら、洗浄液ウェル２２内に組み込まれるインレット３０またはアウトレット３２が画定されないことも可能である。この点につき、クリーニング流体の供給は、次に限定されないがウェルにクリーニング流体を与える、洗浄液ウェル２２の上方に適切に配置された供給管といった任意の適切な方法を介して、洗浄液ウェル２２の上部開口の上から行われうる。これに関連して、適切な供給管が、洗浄液ウェル内に加圧されたクリーニング流体をアクティブに与えるか、または、クリーニング流体をよりパッシブに与えうる。さらに、洗浄液ウェル２２からの内容物の流出（exit out）は、次に限定されないが、洗浄液ウェル２２の上方に適切に配置された出口管といった任意の適切な方法を介して、洗浄液ウェル２２の上部開口の上で生じうる。出口管は、負圧をアクティブに与えて、洗浄液ウェル２２から内容物を除去しうる。別の観点では、洗浄液ウェル２２の内容物は、上部リムを越えて洗浄液ウェル２２から単に流出してもよいので、出口管はなくてもよい。内容物が上部リムを越えて洗浄液ウェル２２から流出すると、内容物は洗浄液溜め２０の上表面２７において回収されて一緒に廃棄されうる。
【００２６】
図１２は、例えば図７および図８の実施形態と共に用いられうる例示的な実施形態を示す。すなわち、クリーニング流体２４は、凹み領域２８内の１以上のインレット３０を介して与えられ、内容物は、洗浄液ウェル２２内のアウトレット３２を介して除去されうる。別の実施形態では、クリーニング流体２４の流れは、図１２に示す流れとは反対にされてもよく、流体２４はアウトレット３２において与えられ、インレット３０において除去される。
【００２７】
図１３は、例えば図２、３、５または９における実施形態と共に用いられうる別の例示的な実施形態を示す。本実施形態では、クリーニング流体は、リム２６またはプラットホーム２５におけるインレット３０を介して与えられ、流体は、洗浄液ウェル２２内のアウトレット３２を介して除去されうる。別の実施形態では、クリーニング流体２４の流れは反対にされてもよく、流体２４はアウトレット３２において与えられ、インレット３０において除去される。
【００２８】
当然ながら、クリーニング流体は、洗浄洗浄液溜めにおけるすべての洗浄液ウェルに一度に供給される必要はない。むしろ、クリーニング流体は希望通りに適切に分散されうる。クリーニング流体は希望通りにどのようにも交換されてもよい。クリーニング流体は、ウェルプレートのクリーングの前および／または後で、例えば断続的な流れ、連続的な流れ、または任意の適切な方法で任意の適切な期間に与えられうる。クリーニング流体が非連続ストリームで与えられる場合、様々なクリーニング流体がインレットポートを介して洗浄液ウェル内に流入させられうる。洗浄液ウェルの内容物も、例えばドレイン内へ、または流体の流出に対応する１以上のポートといった任意の適切な配置を介してウェルから流出するようにされうる。流入と同様に、流出も例えば断続的または連続的であってよく、洗浄液ウェルはアウトレットを介して部分的にまたは完全に空にされ、続けてインレットを介して充填されうる。さらに、幾つかの実施形態では、インレットおよび／またはアウトレットポートは、クリーニング流体の流入方向が、流出が発生する方向と共に適切に調節されて洗浄液が各サンプルプレート１２に完全に分散されうるように、移動可能および／または回転可能であってよい。他の実施形態では、インレットおよび／またはアウトレットポートは、事実上全方向性であってよく、クリーニング流体は等しい速度で複数の方向に噴出すことが可能である。
【００２９】
本発明の他の態様にしたがって、図１４は、マルチウェルプレートのウェルから残留物質を除去するために自動システムが用いられる一実施形態を示す。図示される実施形態では、プレート操作ロボットシステム４０は、操作アーム４２と、適切にマルチウェルプレート１０を掴むためのグリップ機構４４とを含む。洗浄機構５０が接続されている洗浄液溜め２０を支持している基板６０も示される。洗浄機構５０は、クリーニング流体を、供給源５４から供給路５３に沿ってかつ供給ポート５２を介して、流入させる働きをする。同様に、洗浄機構５０は、廃棄内容物を、廃棄ポート５５から廃棄路５６に沿ってかつ廃棄チャンバ５７へと除去する働きをする。当然のことながら、洗浄機構５０は、１以上のポンプ、タンク、導管、バルブ、センサ、コントローラ、リレー、および洗浄液溜め２０に対するクリーニング流体の流れを制御するための機能を与える他のコンポーネントを含みうる。
【００３０】
図示するアーム４２およびグリップ機構４４が具備されたプレート操作ロボットシステム４０は単純な概略図であるが、当業者であれば、本明細書に提示された目的のために任意の適切な自動化された機械システムが十分であることは理解されよう。実際に、プレート操作ロボットシステム４０は、多数の操作アーム４２および／または多数のグリップ機構４４を有することが可能である。操作アーム４２は、通常、回転可能であり、また、３つの独立した次元といったように任意の適切な数の自由度で並進可能でありうる。操作アーム４２に取り付けられたグリップ機構４４は、任意の特定の対象物を掴みかつ解放する働きをしうる。ここの特定の場合、グリップ機構４４は、マルチウェルプレート１０を掴みうる。別の実施形態では、グリップ機構４４が洗浄液溜め２０を掴み、洗浄液溜めをマルチウェルプレート１０に持ってくるように自動システムを構成することも可能である。この点につき、洗浄液溜め２０は、マルチウェルプレート１０に対して逆さまにされ、クリーニング流体が洗浄液ウェルからマルチウェルプレート１０のウェル内に与えられうる。1つの選択として、マルチウェルプレート１０は、その後、任意の方法で逆さまにされ、および／または乾燥されてもよい。あるいは、マルチウェルプレート１０は、グリップ機構４４が洗浄液溜め２０を掴み、洗浄液溜めをマルチウェルプレート１０に関連付けさせる間に、逆さまにされ、定位置に保持されうる。さらなる実施形態では、自動システムは、複数のグリップ機構４４が１以上のマルチウェルプレート１０および／または１以上の洗浄液溜め２０を掴むように構成されてもよい。さらなる実施形態では、グリップ機構は、基板サポート６０を使わずにマルチウェルプレートおよび洗浄液溜めを一緒にしうる。図１４に示される例示的な実施形態では、プレート操作ロボットシステム４０のグリップ機構４４は、マルチウェルプレート１０を掴み、マルチウェルプレート１０を逆さまにして、サンプルウェルの開いた部分が下に向くかまたは洗浄液溜めにある洗浄液ウェルの開いた部分に直接向かうように働く。次に、マルチウェルプレート１０は、マルチウェルプレートにあるウェルの各リムが洗浄液溜めにある少なくとも1つの対応する洗浄液ウェルによって比較的同時に受け止められるように、プレート操作システム４０、４２、４４によって位置決めされうる。
【００３１】
一動作例では、残留物質を有するマルチウェルプレート１０は、プレート操作機構４０によって掴まれて逆さまにされ、それによりマルチウェルプレートにあるウェル１２が、洗浄液溜め２０の対応する洗浄液ウェル２２と位置合わせするようにされる。次に、プレート操作機構４０は、除去されるべき残留物質を有するサンプルウェル１２が、洗浄液溜め２０の対応する洗浄液ウェル２２と流体連結するように、マルチウェルプレート１０を洗浄液溜め２０に関連付ける。ある場合では、クリーニング流体は、洗浄液ウェル２２内のインレットポート３０を介して与えられ、サンプルウェル１２内にある残留物質と接触することになる。クリーニング処理が行われる際に、洗浄液ウェル２２内のアウトレットポート３２は、クリーニング流体と残留物質との組み合わせからもたらされる内容物を除去しうる。クリーニング流体は、上方向に噴霧されるか、そうでなければマルチウェルプレートのウェル内に導入される、または、洗浄液ウェル内において基本的に静止したままで、プレート１０が洗浄液溜め２０に近接して位置決めされたときにプレート１０に接触しうる。
【００３２】
当然ながら、多数の様々な種類のクリーニング流体を、様々な期間の間、様々な順序で組み込んでもよい。当業者であれば、あらゆる種類の残留物質に対して、クリーニング流体とクリーニング時間の異なる組み合わせが必要となることは理解できよう。この点につき、供給源５４は、洗浄機構５０にクリーニング流体の任意の組み合わせを与えうる。洗浄機構５０は次に、適切なクリーニング流体を洗浄液ウェル２２に供給しうる。続けるに、洗浄液ウェル２２からの廃棄内容物は洗浄機構５０を介して流出し、最終的には後続の処分のために廃棄チャンバ５７に入る。幾つかの実施形態では、流体路およびポートが、クリーニング流体の流入および廃棄内容物の流出のために洗浄機構５０に設けられうる。他の実施形態では、残留物質除去システムのために別個の洗浄機構および廃棄機構が用いられうる。さらなる実施形態では、残留物質除去システムのために洗浄機構および廃棄機構のいずれも用いられなくてもよい。
【００３３】
本発明の幾つかの態様を説明してきたが、当業者であれば様々な変更、修正、および改良点を思いつくことは理解されるべきである。かかる変更、修正、および改良点は、本開示の一部であることを意図しており、また、本発明の精神および範囲内であることを意図している。したがって、本明細書における説明および図面は限定ではなく例示を意図している。
【００３４】
本明細書および特許請求の範囲において用いられる不定冠詞「ａ」および「ａｎ」は、特に明記されない限り、「少なくとも１つ」を意味すると理解されるべきである。
【００３５】
本明細書および特許請求の範囲において用いられる表現「および／または」は、それにより結合される要素の「いずれかまたは両方」、すなわち、要素は共同して存在する場合もあれば、分離して存在する場合もあることを意味すると理解されるべきである。「および／または」と共に列挙される多数の要素も、同じように解釈されるべきである。すなわち、「１以上の」要素がそのように結合される。「および／または」節によって具体的に特定される要素以外の他の要素も、その具体的に特定される要素に関連していてもいなくても、任意選択的に存在してよい。
【００３６】
特に明記されない限り、２以上のステップまたは行為を含む本明細書に記載される任意の方法では、これらの方法のステップまたは行為の順番は、記載される方法のステップまたは行為の順番に必ずしも限定されないことを理解されるべきである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルウェルが流体を受けるように開いている上面と前記上面とは反対側の底面とを有するマルチウェルプレートに位置付けられた複数のサンプルウェルにおける残留物質を除去するための方法であって、
前記マルチウェルプレートのサンプルウェルに対応するように配置された複数の洗浄液ウェルであって、それぞれがプラットホームを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを与えるステップと、
前記複数の洗浄液ウェルの各々におけるプラットホームに、クリーニング液体による層を形成するためにクリーニング流体を与えるステップと、
前記マルチウェルプレートの前記上面が前記マルチウェルプレートの前記底面の下に位置決めされるように前記マルチウェルプレートを逆さまにするステップと、
前記マルチウェルプレートのサンプルウェルのリムを、対応する洗浄液ウェルにおけるクリーニング流体の層に接触させ、それにより前記サンプルウェルの前記リムにおける物質が前記クリーニング流体によって接触されるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
各洗浄液ウェルに対してインレットを与えるステップをさらに含み、前記インレットは、ある量のクリーニング流体を前記対応する洗浄液ウェルに与えるように適応される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記クリーニング流体を与えるステップは、前記クリーニング流体を、各対応するインレットポートの周りのプラットホームに導入するステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
１以上の対応するポートを介して、前記洗浄液ウェルの各々から内容物を除去するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
各洗浄液ウェルからの内容物を各洗浄液ウェルの最上部を越えて流出させることによって、前記洗浄液ウェルの各々から内容物を除去するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の洗浄液ウェルの各々にクリーニング流体を与えるステップは、前記残留物質を溶解するおよび／または懸濁するように、前記クリーニング流体を前記残留物質と相互作用させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
マルチウェルプレートの複数のサンプルウェルから残留物質を除去し、前記サンプルウェルは、各々、前記サンプルウェルへの開口におけるリムを有する、自動システムであって、
各々、前記マルチウェルプレートに位置付けられた対応するウェルの前記リムを受け止めるように適応された複数の洗浄液ウェルであって、その上にクリーニング液体の層が設けられた洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めと、
前記複数のサンプルウェルの各リムが、前記洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって同時に受け止められ、洗浄液ウェルのプラットホームの上のクリーニング液体の層に接触するように前記マルチウェルプレートを逆さまの状態に位置決めするように前記マルチウェルプレートを操作するグリップ要素を有するプレートマニピュレータと、
を含むシステム。
【請求項９】
各洗浄液ウェルはインレットを含み、前記インレットは、ある量のクリーニング流体を前記洗浄液ウェルに与えるように適応される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
各洗浄液ウェルはアウトレットを含み、前記アウトレットは、ある量の内容物を前記洗浄液ウェルから除去するように適応される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
各洗浄液ウェルは、インレットを囲むプラットホームを含み、前記インレットを通り、クリーニング流体が前記プラットホームを渡って流れるように与えられる、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
マルチウェルプレートの複数のサンプルウェルから残留物質を除去し、各サンプルウェルはリムを有する、装置であって、
前記マルチウェルプレートが逆さまにされた位置では、前記マルチウェルプレートの前記サンプルウェルの前記リムは、各々、複数の洗浄液ウェルの対応するウェルによって同時に受け止められるように、行列に配置された前記複数の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを含み、
各洗浄液ウェルは、対応するインレットを有し、そのインレットは、ある量のクリーニング流体を対応するサンプルウェルの前記リムに接触している前記洗浄液ウェルのプラットホームに与えてクリーニング液体の層を形成する、装置。
【請求項１４】
各洗浄液ウェルは、前記対応するインレットを囲むプラットホームを含み、前記インレットを通り、クリーニング流体が前記プラットホームを渡って流れるように与えられる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
各プラットホームは、基部から上方向に延在し、前記クリーニング流体は、前記プラットホームを渡って前記基部を介してアウトレットに流れる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記プラットホームは、互いに離間される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記洗浄液溜め内の各洗浄液ウェルに対応するアウトレットをさらに含み、前記アウトレットは、ある量の内容物を前記対応する洗浄液ウェルから除去するように適応される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記洗浄液溜めに位置付けられた前記複数の洗浄液ウェルは、前記マルチウェルプレートに位置付けられた前記複数のサンプルウェルよりも数が多い、請求項１３に記載の装置。
【請求項１９】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項１３に記載の装置。
【請求項２０】
前記洗浄液溜めにおける前記洗浄液ウェルは、様々なサンプルウェル配置を有する複数の様々なマルチウェルプレートからのサンプルウェルを受け止めるように配置される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１】
サンプルウェルが流体を受けるように開いている上面と前記上面とは反対側の底面とを有するマルチウェルプレートに位置付けられた複数のサンプルウェルにおける残留物質を除去するための方法であって、
前記マルチウェルプレートのサンプルウェルに対応するように配置された複数の洗浄液ウェルであって、それぞれがプラットホームを有する洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを与えるステップと、
前記複数の洗浄液ウェルの各々におけるプラットホームに、クリーニング液体による層を形成するためにクリーニング流体を与えるステップと、
前記マルチウェルプレートの前記上面が前記マルチウェルプレートの前記底面の下に位置決めされるように前記マルチウェルプレートを逆さまにするステップと、
前記マルチウェルプレートのサンプルウェルのリムを、対応する洗浄液ウェルにおけるクリーニング流体の層に接触させ、それにより前記サンプルウェルの前記リムにおける物質が前記クリーニング流体によって接触されるステップと、
を含む方法。
【請求項２】
各洗浄液ウェルに対してインレットを与えるステップをさらに含み、前記インレットは、ある量のクリーニング流体を前記対応する洗浄液ウェルに与えるように適応される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記クリーニング流体を与えるステップは、前記クリーニング流体を、各対応するインレットポートの周りのプラットホームに導入するステップを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
１以上の対応するポートを介して、前記洗浄液ウェルの各々から内容物を除去するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
各洗浄液ウェルからの内容物を各洗浄液ウェルの最上部を越えて流出させることによって、前記洗浄液ウェルの各々から内容物を除去するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の洗浄液ウェルの各々にクリーニング流体を与えるステップは、前記残留物質を溶解するおよび／または懸濁するように、前記クリーニング流体を前記残留物質と相互作用させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
マルチウェルプレートの複数のサンプルウェルから残留物質を除去し、前記サンプルウェルは、各々、前記サンプルウェルへの開口におけるリムを有する、自動システムであって、
各々、前記マルチウェルプレートに位置付けられた対応するウェルの前記リムを受け止めるように適応された複数の洗浄液ウェルであって、その上にクリーニング液体の層が設けられた洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めと、
前記複数のサンプルウェルの各リムが、前記洗浄液溜めの対応する洗浄液ウェルによって同時に受け止められ、洗浄液ウェルのプラットホームの上のクリーニング液体の層に接触するように前記マルチウェルプレートを逆さまの状態に位置決めするように前記マルチウェルプレートを操作するグリップ要素を有するプレートマニピュレータと、
を含むシステム。
【請求項９】
各洗浄液ウェルはインレットを含み、前記インレットは、ある量のクリーニング流体を前記洗浄液ウェルに与えるように適応される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
各洗浄液ウェルはアウトレットを含み、前記アウトレットは、ある量の内容物を前記洗浄液ウェルから除去するように適応される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
各洗浄液ウェルは、インレットを囲むプラットホームを含み、前記インレットを通り、クリーニング流体が前記プラットホームを渡って流れるように与えられる、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
マルチウェルプレートの複数のサンプルウェルから残留物質を除去し、各サンプルウェルはリムを有する、装置であって、
前記マルチウェルプレートが逆さまにされた位置では、前記マルチウェルプレートの前記サンプルウェルの前記リムは、各々、複数の洗浄液ウェルの対応するウェルによって同時に受け止められるように、行列に配置された前記複数の洗浄液ウェルを有する洗浄液溜めを含み、
各洗浄液ウェルは、対応するインレットを有し、そのインレットは、ある量のクリーニング流体を対応するサンプルウェルの前記リムに接触している前記洗浄液ウェルのプラットホームに与えてクリーニング液体の層を形成する、装置。
【請求項１４】
各洗浄液ウェルは、前記対応するインレットを囲むプラットホームを含み、前記インレットを通り、クリーニング流体が前記プラットホームを渡って流れるように与えられる、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
各プラットホームは、基部から上方向に延在し、前記クリーニング流体は、前記プラットホームを渡って前記基部を介してアウトレットに流れる、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記プラットホームは、互いに離間される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記洗浄液溜め内の各洗浄液ウェルに対応するアウトレットをさらに含み、前記アウトレットは、ある量の内容物を前記対応する洗浄液ウェルから除去するように適応される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
前記洗浄液溜めに位置付けられた前記複数の洗浄液ウェルは、前記マルチウェルプレートに位置付けられた前記複数のサンプルウェルよりも数が多い、請求項１３に記載の装置。
【請求項１９】
前記洗浄液溜めは、各洗浄液ウェルが、前記マルチウェルプレートの単一のサンプルウェルに個々に対応しかつ受け止めるように配置される、請求項１３に記載の装置。
【請求項２０】
前記洗浄液溜めにおける前記洗浄液ウェルは、様々なサンプルウェル配置を有する複数の様々なマルチウェルプレートからのサンプルウェルを受け止めるように配置される、請求項１３に記載の装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公表番号】特表２０１２−５２７６１２（Ｐ２０１２−５２７６１２Ａ）
【公表日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５１１８１２（Ｐ２０１２−５１１８１２）
【出願日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／００１４３２
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３４９６４
【国際公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【出願人】（５１１２８００９８）プロートダイン コーポレイション (3)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１４日（２０１０．５．１４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／００１４３２
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３４９６４
【国際公開日】平成２２年１１月２５日（２０１０．１１．２５）
【出願人】（５１１２８００９８）プロートダイン コーポレイション (3)
【Ｆターム（参考）】
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