セルロースアシレートフィルム
【課題】１０〜３０％の延伸時に光散乱度（ヘイズ）が０．３％以下であり、延伸前のヘイズに比べて±０．００１〜０．２％という、延伸前と比較して増加程度の低いセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。セルロースアシレートフィルムは、光散乱度（ヘイズ）が低いことを特徴とする。
【解決手段】室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。セルロースアシレートフィルムは、光散乱度（ヘイズ）が低いことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースアシレートフィルムに関する。より具体的には、本発明は、光散乱度（ヘイズ）の低いセルロースアシレートフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアシレートフィルムは、高強度で、難燃性であるため、各種写真または光学材料に用いられている。セルロースアシレートフィルムは、その他の重合体フィルムと比較して光学異方性が低く、相対的に低いレターデーション（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）を提供する。したがって、偏光板などに用いられている。
【０００３】
最近、液晶表示装置は、画質改善のような高機能化の要求が高まっており、その材料である偏光板用セルロースアシレートフィルムに対してもこれに満足する特性が求められている。
【０００４】
しかし、セルロースアシレートフィルムは、用いられる添加剤に応じて延伸過程でヘイズが高まる傾向があり、これによって、正面コントラストが低下する問題が発生する。
【０００５】
したがって、セルロースアシレートフィルムのヘイズを低減するために、特許文献１（２００８年９月１８日）には延伸時に延伸率及び温度を調節してヘイズの増加を防止するためのセルロースエステルフィルムの製造方法が記載されている。
【０００６】
しかし、この製造方法で調節するのは限界があり、本発明者は添加剤を調節して低ヘイズのセルロースアシレートフィルムを製造しようとする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２１３４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、１０〜３０％の延伸時に光散乱度（ヘイズ）が０．３％以下であり、延伸前のヘイズに比べて±０．００１〜０．２％という、延伸前と比較して増加程度の低いセルロースアシレートフィルムを提供しようとする。
【０００９】
また、本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを用いて画質歪みがなく、高いコントラスト比を有する液晶表示装置を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、低ヘイズのセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１１】
本発明者は、延伸後のセルロースアシレートフィルムのヘイズが急激に増加して光学フィルムへの使用に適していないという問題を解決するために研究した結果、セルロースアシレート光学フィルムの光散乱度（ヘイズ）は、添加剤とセルロースアシレート高分子との間の溶解性、そしてセルロースアシレートフィルム内部の微細構造で発生する屈折率差により発生し、特に、延伸工程時の光散乱度の増加は、一般的な高分子フィルムとは異なり、高分子の延伸による添加剤の結晶化に大きく起因することを見出して本発明を完成した。
【００１２】
本発明は、セルロースアシレートフィルム上で高分子との溶解度を改善し、内部微細構造で発生する屈折率差を補償し、延伸による結晶化を抑制することにより、延伸後にもヘイズが低いセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１３】
より具体的に、本発明は、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれているセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１４】
前記セルロースアシレートフィルムは、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することが好ましい。
【００１５】
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【００１６】
前記添加剤は、下記化学式１から選択されることが好ましい。
【００１７】
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【００１８】
前記化学式１の化合物は下記化合物から選択されてもよい。
【化１】
【００１９】
前記セルロースアシレートフィルムは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の分析結果、結晶性を示すピークが観測されない。
【００２０】
本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを含む偏光板も提供する。
【００２１】
また、本発明は、前記偏光板を含む液晶表示装置も提供する。
【００２２】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム１枚において、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することが好ましい。
【００２３】
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【００２４】
本発明でヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６基準に基づいてヘーズメーター（Ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）（モデル名：ＨＭ−１５０、株式会社村上色彩技術研究所製（Ｍｕｒａｋａｍｉ Ｃｏｌｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｌａｂ．））測定機器を用いて測定された値（％）である。
【００２５】
前記光散乱度（ヘイズ）が０．３％を超える場合、液晶表示装置から出てくる光が散乱されて透過率が減少し、結果的に液晶表示装置のコントラストを減少させる原因となる。したがって、光散乱度は低ければ低いほどよく、より具体的にはフィルム１枚における延伸前と延伸後のヘイズが０．１〜０．３％範囲であることがよい。
【００２６】
本発明は、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤を含むことにより、前記式３のように延伸前のヘイズに比べて±０．００１〜０．２％という、延伸前と比較して増加程度の低いセルロースアシレートフィルムを提供することができる。
【００２７】
本発明で前記セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の２位、３位、及び６位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部または一部がアセチル基で置換されている。置換度は２．４〜２．９であることが好ましく、２．７〜２．９であることがさらに好ましい。前記置換度はＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて測定することができる。
【００２８】
本発明でセルロースアシレート樹脂の分子量範囲は制限されることはないが、重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００範囲であることが好ましい。また、セルロースアシレート樹脂の分子量分布もＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは水平均分子量）が１．４〜１．８であることが好ましく、１．５〜１．７であることがさらに好ましい。
【００２９】
本発明で前記添加剤は、室温で液相で存在しなければならず、強い分子間結合による固体化を防止するために、極性が非常に高いイオン結合、水素結合部分がないことが好ましい。また、極性は弱いが、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基などの連結基を含むことが好ましく、前記連結基の個数が増加する場合、固体化する可能性が高くなり、セルロースアシレートに対する溶解性が低下してコストアップすることになるため、好ましくない。
【００３０】
セルロースアシレートフィルムの製造工程性を図るために、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６である物性を満足することが好ましい。融点が−５０℃未満であれば、室温で揮発性を有するか、低温で沸くことがあり、５０℃を超えると、室温で固体結晶で存在する可能性が高い。沸点が３００℃未満であれば、室温蒸気圧が高く、フィルム製造工程過程で熱的に不安定になる虞があり、沸点が６００℃を超えると、可塑剤としての性能、光学的機能、フィルム製造工程性が低下し、工程装備が汚染に耐えられないことがあるため、具体的には３００〜６００℃であることが好ましい。また、屈折率が１．４未満である場合と１．６を超える場合は、約１．４８のセルロースアシレートフィルムの屈折率と固有屈折率との差が大きくなって光散乱が発生することになるため、ヘイズの減少に効果的でない。前記屈折率は、波長５８９．３ｎｍ（Ｎａ−Ｄ線）で光屈折臨界角検出方法により屈折計（モデル名：１Ｔ、株式会社アタゴ製（ＡＴＡＧＯ ＡＢＢＥ））を用いて測定した物性を意味する。
【００３１】
また、分子量（Ｍｗ）が２００〜１０００の範囲が物理化学的に安定しており、効果的にヘイズを低減できる範囲であるから好ましい。分子量が２００よりも低い場合は、加工工程中に扱い難く、化学的に分解される虞があり、１０００よりも高い場合は、高粘度により溶剤及びセルロースアシレートとの相溶性が低下し、流動性が低くて効果的なヘイズの減少を見込みにくい。
【００３２】
より具体的には、前記添加剤は下記化学式１を満足する化合物を使用することが好ましい。
【００３３】
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【００３４】
具体的に前記化学式１の化合物は下記化学式２で表される。
【００３５】
［化学式２］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ１及びＲ２のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００３６】
より具体的には、前記化学式２の化合物は下記化学式２−１から選択されてもよい。
【００３７】
【化２】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルである。）
【００３８】
前記化学式２−１の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化３】
【００３９】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式３で表される。
【００４０】
［化学式３］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４１】
より具体的には、前記化学式３の化合物は下記化学式３−１から選択されてもよい。
【００４２】
【化４】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１３は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数である。）
【００４３】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式４で表される。
【００４４】
［化学式４］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ４は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４５】
より具体的には、前記化学式４の化合物は下記化学式４−１から選択されてもよい。
【００４６】
【化５】
（式中、Ｒ１１は、（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１４は−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数である。）
【００４７】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式５で表される。
【００４８】
［化学式５］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４９】
より具体的には、前記化学式５の化合物は下記化学式５−１から選択されてもよい。
【００５０】
【化６】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリールから選択され、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリールから選択され、Ｒ１３は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数であり、前記Ｒ１１及びＲ１２のアリールは（Ｃ１−Ｃ２０）アルキルまたはＮ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキルがさらに置換されてもよい。）
【００５１】
前記化学式５−１の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化７】
【００５２】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式６で表される。
【００５３】
［化学式６］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００５４】
より具体的には、前記化学式６の化合物は下記化学式６−１から選択されてもよい。
【００５５】
【化８】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１５は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンである。）
【００５６】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式７で表される。
【００５７】
［化学式７］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００５８】
より具体的には、前記化学式７の化合物は、下記化学式７−１〜化学式７−６から選択されてもよい。
【００５９】
【化９】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１３は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数であり、Ｒ１５は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＣＨ２ＣＨ２−であり、前記ｍは１〜３から選択される整数である。）
【００６０】
前記化学式７−６の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化１０】
【００６１】
本発明に記載した「アルキル」、「アルコキシ」、及びその他の「アルキル」部分を含む置換体は直鎖または分岐鎖の形態を両方とも含む。
【００６２】
本発明に記載した「アリール」は、１つの水素を除去して芳香族炭化水素から誘導した有機ラジカルであって、各環に適切に４個〜７個、好ましくは、５個または６個の環原子を含む単一または融合環系を含む。具体的には、フェニル、ナフチル、ビフェニル、トリルなどを含むが、これに限定されることはない。
【００６３】
本発明に記載した「ヘテロアリール」は、芳香族環骨格原子であって、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１個〜３個のヘテロ原子を含み、残り芳香族環骨格原子が炭素であるアリール群を意味しており、前記ヘテロアリール基は環内のヘテロ原子が酸化されるか、または四級化され、例えば、Ｎ−オキシドまたは４級塩を形成する２価アリール群を含む。具体的には、フリル、チオフェニル、ピロリル、ピラニル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、トリアジニル、テトラジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、フラザニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニルなどが含まれるが、これに制限されることはない。
【００６４】
本発明に記載した「アルキレン」は、炭素及び水素原子だけで構成された２価の線形または分岐形の飽和炭化水素ラジカルを意味する。アルキレンラジカルの例は、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、エチルエチレンなどを含むが、これに制限されることはない。
【００６５】
本発明に記載した「ヘテロアルキレン」は、炭素及び水素原子だけで構成された２価の線形または分岐形の飽和炭化水素ラジカルのうち１つ以上がＮ、ＯまたはＳで置換されたものを意味し、例えば−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−などを含むが、これに制限されることはない。
【００６６】
より具体的には、前記化学式１の化合物は下記化合物で具体化してもよいが、これらに制限されることはない。
【化１１】
【００６７】
その他、本発明のセルロースアシレートフィルムは、必要に応じて各種添加剤、例えば、レターデーション調節剤、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外線吸収剤、光学異方性コントロール剤などをさらに添加してもよい。このような添加剤は、通常、該当分野で使用されるものであれば制限されることなく用いることができる。
【００６８】
このような添加剤の具体的な種類は、該当分野で通常的に使用されるものであれば制限されることなく用いることができ、その含量はフィルムの物性を低下しない範囲内で使用することが好ましい。添加剤を添加する時期は、添加剤の種類に応じて決める。ドープ調製の最後に添加剤を添加する工程を実施してもよい。
【発明の効果】
【００６９】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤、より具体的には前記化学式１〜化学式７で表される添加剤を添加することにより、添加剤固有の流動性と相溶性でセルロースアシレートによく溶解され、セルロースアシレートの屈折率とほぼ同様の屈折率で低光散乱度（ヘイズ）の特性を有し、延伸後にも添加剤の結晶化が発生しないため、光散乱度（ヘイズ）の増加を抑制することができる。
【発明を実施するための形態】
【００７０】
以下、本発明を具体的に説明するために実施例を用いて説明するが、本発明が下記実施例に限定されることはない。
【００７１】
以下の物性は次の測定方法で測定した。
１）ヘイズ
ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６基準に基づいてヘーズメーター（Ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）（モデル名：ＨＭ−１５０株式会社村上色彩技術研究所製（Ｍｕｒａｋａｍｉ Ｃｏｌｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｌａｂ．））測定機器を用いて測定された値（％）である。測定機器をオンし、通常の空気中でランプの光量とキャリブレーションを実施した後、測定を実施する。厚さ６０〜８０μｍで製造したセルロースアシレートフィルムを横縦それぞれ４ｃｍのサイズにしてサンプリングし、同じサンプルを３回測定して平均値を求める。
【００７２】
２）屈折率
５８９．３ｎｍのＤ光線ナトリウムランプを光源として用いて屈折計（モデル名：１Ｔ、 株式会社アタゴ製（ＡＴＡＧＯ ＡＢＢＥ））を用いて屈折率を測定した。
【００７３】
３）ＸＲＤ分析
セルロースアシレートフィルムを３０〜４０％延伸した後、フィルム状態でＸＲＤ測定装置（モデル名：ＸＲＤ−７０００Ｓ、株式会社島津製作所製（ＳＨＩＭＡＤＺＵ））にロードして測定する。回折角による検出信号の強度結果値をデータベース内の有機物結晶に対する数値と比較することにより、添加剤の結晶化の有無を判断する。
【００７４】
［実施例１］
セルロースアシレート組成物（１）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式８のフェニルエチル２−フェニルアセテート（融点：２８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：３２４℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．５４５（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００７５】
【化１２】
【００７６】
フィルムの製造
前記組成物（１）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００７７】
［実施例２］
セルロースアシレート組成物（２）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式９のオクチルオクタノエート（融点：−１８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：３０６℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４３５（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００７８】
【化１３】
【００７９】
フィルムの製造
前記組成物（２）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８０】
［実施例３］
セルロースアシレート組成物（３）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８１】
【化１４】
【００８２】
フィルムの製造
前記組成物（３）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８３】
［実施例４］
セルロースアシレート組成物（４）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））７重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８４】
【化１５】
【００８５】
フィルムの製造
前記組成物（４）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８６】
［実施例５］
セルロースアシレート組成物（５）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））１０重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８７】
【化１６】
【００８８】
フィルムの製造
前記組成物（５）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８９】
［比較例１］
セルロースアシレート組成物（６）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、リン酸トリフェニル（融点：４８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：２４４℃（１０ｍｍＨｇ））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００９０】
フィルムの製造
前記組成物（６）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００９１】
［比較例２］
セルロースアシレート組成物（７）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、リン酸トリフェニル１０重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００９２】
フィルムの製造
前記組成物（７）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００９３】
【表１】
【００９４】
前記表１に示すように、本発明による添加剤は、延伸後のヘイズが大きく増加しないことが分かった。特に、実施例３は延伸後のヘイズが増加せず、実施例４及び５はヘイズが減少し、ＸＲＤ分析結果、結晶性ピークが見られなかった。
【００９５】
これに対し、粉末状のリン酸トリフェニルを用いた比較例１及び２は、延伸後のフィルムのヘイズが大きく増加したことを確認し、ＸＲＤ分析結果、結晶性ピークを確認した。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースアシレートフィルムに関する。より具体的には、本発明は、光散乱度（ヘイズ）の低いセルロースアシレートフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアシレートフィルムは、高強度で、難燃性であるため、各種写真または光学材料に用いられている。セルロースアシレートフィルムは、その他の重合体フィルムと比較して光学異方性が低く、相対的に低いレターデーション（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）を提供する。したがって、偏光板などに用いられている。
【０００３】
最近、液晶表示装置は、画質改善のような高機能化の要求が高まっており、その材料である偏光板用セルロースアシレートフィルムに対してもこれに満足する特性が求められている。
【０００４】
しかし、セルロースアシレートフィルムは、用いられる添加剤に応じて延伸過程でヘイズが高まる傾向があり、これによって、正面コントラストが低下する問題が発生する。
【０００５】
したがって、セルロースアシレートフィルムのヘイズを低減するために、特許文献１（２００８年９月１８日）には延伸時に延伸率及び温度を調節してヘイズの増加を防止するためのセルロースエステルフィルムの製造方法が記載されている。
【０００６】
しかし、この製造方法で調節するのは限界があり、本発明者は添加剤を調節して低ヘイズのセルロースアシレートフィルムを製造しようとする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２１３４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、１０〜３０％の延伸時に光散乱度（ヘイズ）が０．３％以下であり、延伸前のヘイズに比べて±０．００１〜０．２％という、延伸前と比較して増加程度の低いセルロースアシレートフィルムを提供しようとする。
【０００９】
また、本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを用いて画質歪みがなく、高いコントラスト比を有する液晶表示装置を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、低ヘイズのセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１１】
本発明者は、延伸後のセルロースアシレートフィルムのヘイズが急激に増加して光学フィルムへの使用に適していないという問題を解決するために研究した結果、セルロースアシレート光学フィルムの光散乱度（ヘイズ）は、添加剤とセルロースアシレート高分子との間の溶解性、そしてセルロースアシレートフィルム内部の微細構造で発生する屈折率差により発生し、特に、延伸工程時の光散乱度の増加は、一般的な高分子フィルムとは異なり、高分子の延伸による添加剤の結晶化に大きく起因することを見出して本発明を完成した。
【００１２】
本発明は、セルロースアシレートフィルム上で高分子との溶解度を改善し、内部微細構造で発生する屈折率差を補償し、延伸による結晶化を抑制することにより、延伸後にもヘイズが低いセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１３】
より具体的に、本発明は、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれているセルロースアシレートフィルムに関する。
【００１４】
前記セルロースアシレートフィルムは、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することが好ましい。
【００１５】
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【００１６】
前記添加剤は、下記化学式１から選択されることが好ましい。
【００１７】
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【００１８】
前記化学式１の化合物は下記化合物から選択されてもよい。
【化１】
【００１９】
前記セルロースアシレートフィルムは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の分析結果、結晶性を示すピークが観測されない。
【００２０】
本発明は、前記セルロースアシレートフィルムを含む偏光板も提供する。
【００２１】
また、本発明は、前記偏光板を含む液晶表示装置も提供する。
【００２２】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム１枚において、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することが好ましい。
【００２３】
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【００２４】
本発明でヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６基準に基づいてヘーズメーター（Ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）（モデル名：ＨＭ−１５０、株式会社村上色彩技術研究所製（Ｍｕｒａｋａｍｉ Ｃｏｌｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｌａｂ．））測定機器を用いて測定された値（％）である。
【００２５】
前記光散乱度（ヘイズ）が０．３％を超える場合、液晶表示装置から出てくる光が散乱されて透過率が減少し、結果的に液晶表示装置のコントラストを減少させる原因となる。したがって、光散乱度は低ければ低いほどよく、より具体的にはフィルム１枚における延伸前と延伸後のヘイズが０．１〜０．３％範囲であることがよい。
【００２６】
本発明は、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤を含むことにより、前記式３のように延伸前のヘイズに比べて±０．００１〜０．２％という、延伸前と比較して増加程度の低いセルロースアシレートフィルムを提供することができる。
【００２７】
本発明で前記セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の２位、３位、及び６位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部または一部がアセチル基で置換されている。置換度は２．４〜２．９であることが好ましく、２．７〜２．９であることがさらに好ましい。前記置換度はＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて測定することができる。
【００２８】
本発明でセルロースアシレート樹脂の分子量範囲は制限されることはないが、重量平均分子量が２００，０００〜３５０，０００範囲であることが好ましい。また、セルロースアシレート樹脂の分子量分布もＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは重量平均分子量、Ｍｎは水平均分子量）が１．４〜１．８であることが好ましく、１．５〜１．７であることがさらに好ましい。
【００２９】
本発明で前記添加剤は、室温で液相で存在しなければならず、強い分子間結合による固体化を防止するために、極性が非常に高いイオン結合、水素結合部分がないことが好ましい。また、極性は弱いが、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基などの連結基を含むことが好ましく、前記連結基の個数が増加する場合、固体化する可能性が高くなり、セルロースアシレートに対する溶解性が低下してコストアップすることになるため、好ましくない。
【００３０】
セルロースアシレートフィルムの製造工程性を図るために、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６である物性を満足することが好ましい。融点が−５０℃未満であれば、室温で揮発性を有するか、低温で沸くことがあり、５０℃を超えると、室温で固体結晶で存在する可能性が高い。沸点が３００℃未満であれば、室温蒸気圧が高く、フィルム製造工程過程で熱的に不安定になる虞があり、沸点が６００℃を超えると、可塑剤としての性能、光学的機能、フィルム製造工程性が低下し、工程装備が汚染に耐えられないことがあるため、具体的には３００〜６００℃であることが好ましい。また、屈折率が１．４未満である場合と１．６を超える場合は、約１．４８のセルロースアシレートフィルムの屈折率と固有屈折率との差が大きくなって光散乱が発生することになるため、ヘイズの減少に効果的でない。前記屈折率は、波長５８９．３ｎｍ（Ｎａ−Ｄ線）で光屈折臨界角検出方法により屈折計（モデル名：１Ｔ、株式会社アタゴ製（ＡＴＡＧＯ ＡＢＢＥ））を用いて測定した物性を意味する。
【００３１】
また、分子量（Ｍｗ）が２００〜１０００の範囲が物理化学的に安定しており、効果的にヘイズを低減できる範囲であるから好ましい。分子量が２００よりも低い場合は、加工工程中に扱い難く、化学的に分解される虞があり、１０００よりも高い場合は、高粘度により溶剤及びセルロースアシレートとの相溶性が低下し、流動性が低くて効果的なヘイズの減少を見込みにくい。
【００３２】
より具体的には、前記添加剤は下記化学式１を満足する化合物を使用することが好ましい。
【００３３】
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【００３４】
具体的に前記化学式１の化合物は下記化学式２で表される。
【００３５】
［化学式２］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ１及びＲ２のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００３６】
より具体的には、前記化学式２の化合物は下記化学式２−１から選択されてもよい。
【００３７】
【化２】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルである。）
【００３８】
前記化学式２−１の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化３】
【００３９】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式３で表される。
【００４０】
［化学式３］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４１】
より具体的には、前記化学式３の化合物は下記化学式３−１から選択されてもよい。
【００４２】
【化４】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１３は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数である。）
【００４３】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式４で表される。
【００４４】
［化学式４］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ４は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４５】
より具体的には、前記化学式４の化合物は下記化学式４−１から選択されてもよい。
【００４６】
【化５】
（式中、Ｒ１１は、（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１４は−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数である。）
【００４７】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式５で表される。
【００４８】
［化学式５］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００４９】
より具体的には、前記化学式５の化合物は下記化学式５−１から選択されてもよい。
【００５０】
【化６】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリールから選択され、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリールから選択され、Ｒ１３は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数であり、前記Ｒ１１及びＲ１２のアリールは（Ｃ１−Ｃ２０）アルキルまたはＮ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキルがさらに置換されてもよい。）
【００５１】
前記化学式５−１の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化７】
【００５２】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式６で表される。
【００５３】
［化学式６］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００５４】
より具体的には、前記化学式６の化合物は下記化学式６−１から選択されてもよい。
【００５５】
【化８】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１５は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンである。）
【００５６】
また、前記化学式１の化合物は下記化学式７で表される。
【００５７】
［化学式７］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【００５８】
より具体的には、前記化学式７の化合物は、下記化学式７−１〜化学式７−６から選択されてもよい。
【００５９】
【化９】
（式中、Ｒ１１は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１２は（Ｃ１−Ｃ１５）アルキルであり、Ｒ１３は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎ−であり、Ｒ１４は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−であり、前記ｎは１〜４から選択される整数であり、Ｒ１５は（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレンまたは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＣＨ２ＣＨ２−であり、前記ｍは１〜３から選択される整数である。）
【００６０】
前記化学式７−６の化合物は、例えば、下記化合物を含むが、これに制限されることはない。
【化１０】
【００６１】
本発明に記載した「アルキル」、「アルコキシ」、及びその他の「アルキル」部分を含む置換体は直鎖または分岐鎖の形態を両方とも含む。
【００６２】
本発明に記載した「アリール」は、１つの水素を除去して芳香族炭化水素から誘導した有機ラジカルであって、各環に適切に４個〜７個、好ましくは、５個または６個の環原子を含む単一または融合環系を含む。具体的には、フェニル、ナフチル、ビフェニル、トリルなどを含むが、これに限定されることはない。
【００６３】
本発明に記載した「ヘテロアリール」は、芳香族環骨格原子であって、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１個〜３個のヘテロ原子を含み、残り芳香族環骨格原子が炭素であるアリール群を意味しており、前記ヘテロアリール基は環内のヘテロ原子が酸化されるか、または四級化され、例えば、Ｎ−オキシドまたは４級塩を形成する２価アリール群を含む。具体的には、フリル、チオフェニル、ピロリル、ピラニル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、トリアジニル、テトラジニル、トリアゾリル、テトラゾリル、フラザニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニルなどが含まれるが、これに制限されることはない。
【００６４】
本発明に記載した「アルキレン」は、炭素及び水素原子だけで構成された２価の線形または分岐形の飽和炭化水素ラジカルを意味する。アルキレンラジカルの例は、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、エチルエチレンなどを含むが、これに制限されることはない。
【００６５】
本発明に記載した「ヘテロアルキレン」は、炭素及び水素原子だけで構成された２価の線形または分岐形の飽和炭化水素ラジカルのうち１つ以上がＮ、ＯまたはＳで置換されたものを意味し、例えば−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−などを含むが、これに制限されることはない。
【００６６】
より具体的には、前記化学式１の化合物は下記化合物で具体化してもよいが、これらに制限されることはない。
【化１１】
【００６７】
その他、本発明のセルロースアシレートフィルムは、必要に応じて各種添加剤、例えば、レターデーション調節剤、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外線吸収剤、光学異方性コントロール剤などをさらに添加してもよい。このような添加剤は、通常、該当分野で使用されるものであれば制限されることなく用いることができる。
【００６８】
このような添加剤の具体的な種類は、該当分野で通常的に使用されるものであれば制限されることなく用いることができ、その含量はフィルムの物性を低下しない範囲内で使用することが好ましい。添加剤を添加する時期は、添加剤の種類に応じて決める。ドープ調製の最後に添加剤を添加する工程を実施してもよい。
【発明の効果】
【００６９】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤、より具体的には前記化学式１〜化学式７で表される添加剤を添加することにより、添加剤固有の流動性と相溶性でセルロースアシレートによく溶解され、セルロースアシレートの屈折率とほぼ同様の屈折率で低光散乱度（ヘイズ）の特性を有し、延伸後にも添加剤の結晶化が発生しないため、光散乱度（ヘイズ）の増加を抑制することができる。
【発明を実施するための形態】
【００７０】
以下、本発明を具体的に説明するために実施例を用いて説明するが、本発明が下記実施例に限定されることはない。
【００７１】
以下の物性は次の測定方法で測定した。
１）ヘイズ
ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６基準に基づいてヘーズメーター（Ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）（モデル名：ＨＭ−１５０株式会社村上色彩技術研究所製（Ｍｕｒａｋａｍｉ Ｃｏｌｏｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｌａｂ．））測定機器を用いて測定された値（％）である。測定機器をオンし、通常の空気中でランプの光量とキャリブレーションを実施した後、測定を実施する。厚さ６０〜８０μｍで製造したセルロースアシレートフィルムを横縦それぞれ４ｃｍのサイズにしてサンプリングし、同じサンプルを３回測定して平均値を求める。
【００７２】
２）屈折率
５８９．３ｎｍのＤ光線ナトリウムランプを光源として用いて屈折計（モデル名：１Ｔ、 株式会社アタゴ製（ＡＴＡＧＯ ＡＢＢＥ））を用いて屈折率を測定した。
【００７３】
３）ＸＲＤ分析
セルロースアシレートフィルムを３０〜４０％延伸した後、フィルム状態でＸＲＤ測定装置（モデル名：ＸＲＤ−７０００Ｓ、株式会社島津製作所製（ＳＨＩＭＡＤＺＵ））にロードして測定する。回折角による検出信号の強度結果値をデータベース内の有機物結晶に対する数値と比較することにより、添加剤の結晶化の有無を判断する。
【００７４】
［実施例１］
セルロースアシレート組成物（１）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式８のフェニルエチル２−フェニルアセテート（融点：２８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：３２４℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．５４５（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００７５】
【化１２】
【００７６】
フィルムの製造
前記組成物（１）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００７７】
［実施例２］
セルロースアシレート組成物（２）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式９のオクチルオクタノエート（融点：−１８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：３０６℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４３５（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００７８】
【化１３】
【００７９】
フィルムの製造
前記組成物（２）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８０】
［実施例３］
セルロースアシレート組成物（３）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８１】
【化１４】
【００８２】
フィルムの製造
前記組成物（３）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８３】
［実施例４］
セルロースアシレート組成物（４）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））７重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８４】
【化１５】
【００８５】
フィルムの製造
前記組成物（４）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８６】
［実施例５］
セルロースアシレート組成物（５）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、下記化学式１０のビス（２−エチルヘキシル）テレフタレート（融点：３０℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：４００℃（７６０ｍｍＨｇ）、屈折率：１．４９（２０℃））１０重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００８７】
【化１６】
【００８８】
フィルムの製造
前記組成物（５）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００８９】
［比較例１］
セルロースアシレート組成物（６）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、リン酸トリフェニル（融点：４８℃（７６０ｍｍＨｇ）、沸点：２４４℃（１０ｍｍＨｇ））５重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００９０】
フィルムの製造
前記組成物（６）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００９１】
［比較例２］
セルロースアシレート組成物（７）の製造
置換度２．８７のセルロースアセテート分体１００重量部に対し、リン酸トリフェニル１０重量部、塩化メチレン４４０重量部、及びメタノール５０重量部を撹拌器に入れて３０℃温度で溶解した。次に、ギアポンプで送液し、絶対濾過精密度０．０１ｍｍの濾過紙で濾過し、再び絶対濾過精密度５μｍのカートリッジ濾過装置で濾過した。
【００９２】
フィルムの製造
前記組成物（７）を鏡面ステンレス支持体上にキャスティングして剥離した。剥離時の残留溶媒量は２５ｗｔ％となるように調節した。テンターに連結した後、フィルムの幅方向に１０％（％は長さに対する％である）延伸し、テンターからフィルムが出た後、フィルムの左右側の末端を１５０ｍｍずつ除去した。末端が除去されたフィルムを乾燥器で乾燥させ、乾燥器から出たフィルムの両端を３０ｍｍ切り落とした。再びフィルムの両端に幅１０ｍｍ、高さ６８μｍのナーリング加工を実施した後、ロール状に巻き取った。
製造されたフィルムの物性を下記表１に示した。
【００９３】
【表１】
【００９４】
前記表１に示すように、本発明による添加剤は、延伸後のヘイズが大きく増加しないことが分かった。特に、実施例３は延伸後のヘイズが増加せず、実施例４及び５はヘイズが減少し、ＸＲＤ分析結果、結晶性ピークが見られなかった。
【００９５】
これに対し、粉末状のリン酸トリフェニルを用いた比較例１及び２は、延伸後のフィルムのヘイズが大きく増加したことを確認し、ＸＲＤ分析結果、結晶性ピークを確認した。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【請求項２】
前記セルロースアシレートフィルムは、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【請求項３】
前記添加剤は、下記化学式１から選択されることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【請求項４】
前記化学式１は、下記化学式２から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式２］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ１及びＲ２のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項５】
前記化学式１は、下記化学式３から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式３］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項６】
前記化学式１は、下記化学式４から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式４］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ４は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項７】
前記化学式１は、下記化学式５から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式５］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項８】
前記化学式１は、下記化学式６から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式６］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項９】
前記化学式１は、下記化学式７から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式７］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項１０】
前記化学式１の化合物は、下記化合物から選択されることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
【化１】
【請求項１１】
前記セルロースアシレートフィルムは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の分析結果、結晶性を示すピークが観測されないことを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１２】
請求項１から１０の何れか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを含む偏光板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１】
室温で液相であり、融点が−５０〜５０℃であり、沸点が３００℃以上であり、固有屈折率が１．４〜１．６の添加剤が含まれることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【請求項２】
前記セルロースアシレートフィルムは、延伸前のヘイズが下記式１を満足し、１０〜３０％の延伸後のヘイズが下記式２を満足し、延伸前のヘイズと延伸後のヘイズとの差が下記式３を満足することを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
［式１］
延伸前のフィルムのヘイズ（Ｈｉ）≦０．３％
［式２］
１０〜３０％の延伸後のフィルムのヘイズ（Ｈｓ）≦０．３％
［式３］
Ｈｓ＝Ｈｉ±（０．００１〜０．２％）
（式中、Ｈｓは１０〜３０％の延伸後のヘイズであり、Ｈｉは延伸前のヘイズである。）
【請求項３】
前記添加剤は、下記化学式１から選択されることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式１］
Ｒ１−（Ｒ３）ａ−Ｌ１−（Ｒ５）ｂ−（Ｌ２）ｃ−（Ｒ４）ｄ−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ５０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、シクロアルキル、アルケニル、アルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよく、
前記ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０または１である。）
【請求項４】
前記化学式１は、下記化学式２から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式２］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ１及びＲ２のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項５】
前記化学式１は、下記化学式３から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式３］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項６】
前記化学式１は、下記化学式４から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式４］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ４は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項７】
前記化学式１は、下記化学式５から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式５］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１は、エステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項８】
前記化学式１は、下記化学式６から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式６］
Ｒ１−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項９】
前記化学式１は、下記化学式７から選択される化合物であることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
［化学式７］
Ｒ１−Ｒ３−Ｌ１−Ｒ５−Ｌ２−Ｒ４−Ｒ２
（式中、Ｒ１は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立してエステル基、アミド基、エーテル基、ウレア基、チオエステル基、カルボキシ基、カルバメート基から選択される連結基であり、
前記Ｒ２は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールから選択され、
前記Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、（Ｃ１−Ｃ２０）アルキレン、（Ｃ６−Ｃ２０）アリーレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ２０）のヘテロアルキレン、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリーレンから選択され、
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５のアルキル、アリール、ヘテロアルキル、ヘテロアリールは、（Ｃ１−Ｃ５０）アルキル、（Ｃ６−Ｃ２０）アリール（Ｃ３−Ｃ２０）シクロアルキル、（Ｃ２−Ｃ７）アルケニル、（Ｃ６−Ｃ２０）アル（Ｃ１−Ｃ２０）アルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ１−Ｃ５０）のヘテロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む５員〜７員のヘテロシクロアルキル、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１つ以上の元素を含む（Ｃ４−Ｃ２０）のヘテロアリールがさらに置換されてもよい。）
【請求項１０】
前記化学式１の化合物は、下記化合物から選択されることを特徴とする請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
【化１】
【請求項１１】
前記セルロースアシレートフィルムは、Ｘ線回折（ＸＲＤ）の分析結果、結晶性を示すピークが観測されないことを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１２】
請求項１から１０の何れか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを含む偏光板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
【公開番号】特開２０１３−１００５０２（Ｐ２０１３−１００５０２Ａ）
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２４４２１９（Ｐ２０１２−２４４２１９）
【出願日】平成２４年１１月６日（２０１２．１１．６）
【出願人】（５０７２６８３４１）エスケー イノベーション カンパニー リミテッド (57)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１１月６日（２０１２．１１．６）
【出願人】（５０７２６８３４１）エスケー イノベーション カンパニー リミテッド (57)
【Ｆターム（参考）】
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