ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法
【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及
び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロス
ケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成
するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はイ
ンプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の
使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリント
リソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。
び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロス
ケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成
するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はイ
ンプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の
使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリント
リソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート及び基板を提供するステップと；
（ｂ）ある体積の液体材料を；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上；及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中；
の少なくとも１つの上に配置するステップと、
（ｃ）１つ以上の粒子を：
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させて前記液体材料を処
理すること；及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理すること；
の１つによって形成するステップとを含む、１つ以上の粒子の形成方法。
【請求項２】
前記パターン形成テンプレートが、耐溶媒性のある低表面エネルギーポリマー材料を含
む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記パターン形成テンプレートが、耐溶媒性のあるエラストマー材料を含む、請求項１
記載の方法。
【請求項４】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、パーフルオロポリエーテ
ル材料、フルオロオレフィン材料、アクリレート材料、シリコーン材料、スチレン系材料
、フッ化熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、トリアジンフルオロポリマー、パーフルオロ
シクロブチル材料、フッ化エポキシ樹脂、メタセシス重合反応によって重合又は架橋させ
ることのできるフッ化モノマー又はフッ化オリゴマーからなる群から選択される、材料を
含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記パーフルオロポリエーテル材料が、下記式からなる群から選択される、主鎖構造を
含む、請求項４記載の方法：
【化１】
（式中、Ｘは存在しても存在しなくてもよく、存在するとき末端封鎖基を含む）。
【請求項６】
前記フルオロオレフィン材料が、下記式からなる群から選択される、請求項４記載の方
法：
【化２】
（式中、ＣＳＭは硬化部位のモノマーを含む）。
【請求項７】
前記フルオロオレフィン材料が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン又はヘキ
サフルオロプロピレン、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，５−ジフルオロ−１
，３−ジオキソール、官能性フルオロオレフィン、官能性アクリル系モノマー、官能性メ
タクリル系モノマーを含む、モノマーから作られる、請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記シリコーン材料が、下記の構造を有するフルオロアルキル官能化されたポリジメチ
ルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、請求項４記載の方法：
【化３】
（式中、Ｒはアクリレート、メタクリレート、及びビニル基からなる群から選択され；
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項９】
前記スチレン系材料が、下記式からなる群から選択される、フッ化スチレンモノマーを
含む、請求項４記載の方法：
【化４】
（式中、Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項１０】
前記アクリレート材料が、下記の構造を有するフッ化アクリレート又はフッ化メタクリ
レートを含む、請求項４記載の方法：
【化５】
（式中、Ｒは、Ｈ、アルキル、置換アルキル、アリール、及び置換アリールからなる群か
ら選択され；
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項１１】
前記トリアジンフルオロポリマーがフッ化モノマーを含む、請求項４記載の方法。
【請求項１２】
メタセシス重合反応によって重合又は架橋することのできる前記フッ化モノマー又はフ
ッ化オリゴマーが官能化オレフィンを含む、請求項４記載の方法。
【請求項１３】
前記官能化オレフィンが官能化環状オレフィンを含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１８ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１５ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記基板が、ポリマー材料、無機材料、ケイ素材料、石英材料、ガラス材料、及びそれ
らの表面処理された変形からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記基板がパターン形成領域を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１８】
前記複数の凹み領域が複数の空洞を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記複数の空洞が複数の構造形状を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記複数の構造形状が約１０ミクロン〜約１ナノメートルの範囲のサイズを有する、請
求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記複数の構造形状が、約１０ミクロン〜約１ミクロンの範囲のサイズを有する、請求
項１９記載の方法。
【請求項２２】
前記複数の構造形状が、約１ミクロン〜約１００ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項
１９記載の方法。
【請求項２３】
前記複数の構造形状が、約１００ｎｍ〜約１ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項１９
記載の方法。
【請求項２４】
前記１つ以上の粒子に本質的にスカム層がない、請求項１記載の方法。
【請求項２５】
前記パターン形成テンプレートが、複製成形プロセスによって形成されたパターン形成
テンプレートを含む、請求項１記載の方法。
【請求項２６】
前記複製成形プロセスが：
（ａ）母型テンプレートを提供するステップと；
（ｂ）液体材料を前記母型テンプレートに接触させるステップと；
（ｃ）液体材料を硬化してパターン形成テンプレートを形成するステップとを含む、請
求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記母型テンプレートが：
（ａ）リソグラフィープロセスから形成されたテンプレート；
（ｂ）天然のテンプレート；
（ｃ）その組合せからなる群から選択される、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
前記天然のテンプレートが、生物学的構造及び自己集合構造の１種から選択される、請
求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記生物学的構造及び自己集合構造の１種が、天然の結晶、タンパク質、酵素、ウイル
ス、ミセル、及び組織表面からなる群から選択される、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
表面修飾ステップによって前記パターン形成テンプレート表面を修飾することを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項３１】
前記表面修飾ステップが、プラズマ処理、化学的処理、吸着プロセスからなる群から選
択される、請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記吸着プロセスが、高分子電解質、ポリ（ビニルアルコール）、アルキルハロシラン
、及びリガンドからなる群から選択される、吸着分子を含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記パターン形成テンプレート表面と前記基板が互いに所定の配向で面するように、前
記パターン形成テンプレートと前記基板を互いに間隔を置いた関係に配置するステップを
含む、請求項１記載の方法。
【請求項３４】
前記液体材料が、ポリマー、溶液、モノマー、複数のモノマー、重合開始剤、重合触媒
、無機前駆体、金属前駆体、医薬品、標識、磁性材料、常磁性材料、超常磁性材料、リガ
ンド、細胞透過性ペプチド、ポロゲン、界面活性剤、複数の非相溶性液体、溶媒、荷電化
学種からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３５】
前記医薬品が、薬物、ペプチド、ＲＮＡｉ、ＤＮＡからなる群から選択される、請求項
３４記載の方法。
【請求項３６】
前記標識が、蛍光標識、放射線標識、造影剤からなる群から選択される、請求項３４記
載の方法。
【請求項３７】
前記リガンドが細胞標的化ペプチドを含む、請求項３４記載の方法。
【請求項３８】
前記液体材料が、非湿潤剤を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３９】
前記体積の液体材料を配置するステップが、塗布プロセスによって制御される、請求項
１記載の方法。
【請求項４０】
前記塗布プロセスが：
（ａ）第１の体積の液体材料を前記パターン形成テンプレート上に配置して、前記パタ
ーン形成テンプレート上に液体材料層を形成するステップと；
（ｂ）液体材料層を横断して器具を引っ張り；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート上の液体材料層から第２の体積の液体材料を除
去し；
（ｉｉ）前記パターン形成テンプレート上に第３の体積の液体材料を残すステップと
を含む、請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させるステップによって、本質的
にすべての前記配置された液体材料を前記パターン形成テンプレート表面と基板の間から
除去する、請求項１記載の方法。
【請求項４２】
前記液体材料を処理するステップが、熱的プロセス、光化学プロセス、化学プロセスか
らなる群から選択される、プロセスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４３】
（ａ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面に接触圧力を加えること；及び
（ｉｉ）前記テンプレートを通して第２の体積の液体を蒸発又は浸透させること
；
の１つによって、複数の凹み領域中に配置された前記体積の液体材料を減少させるステ
ップと；
（ｂ）前記パターン形成テンプレート表面に加えられた前記接触圧力を除去するステッ
プと；
（ｃ）前記パターン形成テンプレート表面の前記凹み領域内にガスを導入するステップ
と；
（ｄ）前記液体材料を処理して、前記パターン形成テンプレート表面の前記凹み領域内
に１つ以上の粒子を形成するステップと；
（ｅ）前記１つ以上の粒子を放出するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４４】
前記１つ以上の粒子を放出するステップが：
（ａ）前記パターン形成テンプレートを前記１つ以上の粒子に親和力のある基板に適用
すること；
（ｂ）前記パターン形成テンプレートから前記１つ以上の粒子が放出されるように前記
パターン形成テンプレートを変形させること；
（ｃ）前記パターン形成テンプレートを第１溶媒で膨潤させて、前記１つ以上の粒子を
押し出すこと；
（ｄ）前記パターン形成テンプレートを前記１つ以上の粒子に親和力のある第２溶媒で
洗浄することの１つによって行われる、請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
前記粒子を採取又は収集するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４６】
前記粒子を採取又は収集するステップが、医療用メスで削ること、ブラッシングプロセ
ス、溶解プロセス、超音波プロセス、メガソニックプロセス、静電気プロセス、磁気プロ
セスからなる群から選択されるプロセスを含む、請求項４５記載の方法。
【請求項４７】
バッチプロセスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４８】
前記バッチプロセスが、半バッチプロセス及び連続バッチプロセスの１つから選択され
る、請求項４７記載の方法。
【請求項４９】
請求項１記載の方法によって形成される、１つ以上の粒子。
【請求項５０】
前記複数の粒子が複数の単分散粒子を含む、請求項４９記載の複数の粒子。
【請求項５１】
半導体デバイス、結晶、薬物送達ベクター、遺伝子送達ベクター、疾患検出デバイス、
疾患位置検出デバイス、光起電デバイス、太陽電池デバイス、ポロゲン、化粧品、エレク
トレット、添加剤、触媒、センサー、解毒剤、研磨剤、マイクロエレクトロメカニカルシ
ステム（ＭＥＭＳ）、細胞骨格、タッガート、医薬品、生物学的標識からなる群から選択
される、請求項４９記載の１つ以上の。
【請求項５２】
自立構造を含む、請求項４９記載の１つ以上の粒子。
【請求項５３】
（ａ）請求項４９記載の粒子を提供するステップと；
（ｂ）第２のパターン形成テンプレートを提供するステップと；
（ｃ）前記第２のパターン形成テンプレートに第２液体材料を配置するステップと；
（ｄ）前記第２のパターン形成テンプレートをステップ（ａ）の粒子に接触させるステ
ップと；
（ｅ）前記第２液体材料を処理して多次元構造を形成するステップとを含む、請求項１
記載の方法。
【請求項５４】
相互接続された構造を形成するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項５５】
前記相互接続された構造が、複数の形状及び特定サイズの孔を含む、請求項５４記載の
方法。
【請求項５６】
前記相互接続された構造が膜を含む、請求項５５記載の方法。
【請求項５７】
（ａ）請求項４９記載の粒子を提供するステップと；
（ｂ）前記治療薬を前記粒子と混合するステップと、
（ｃ）前記治療薬を含む、前記粒子を標的へ送達するステップとを含む、治療薬を標的
へ送達する方法。
【請求項５８】
前記治療薬が、薬物及び遺伝子材料の１つから選択される、請求項５７記載の方法。
【請求項５９】
前記遺伝子材料が、非ウイルス性遺伝子ベクター、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ＲＮＡｉ、及びウ
イルス性粒子からなる群から選択される、請求項５８記載の方法。
【請求項６０】
前記粒子が生分解性ポリマーを含む、請求項５９記載の方法。
【請求項６１】
前記生分解性ポリマーが、ポリエステル、ポリ無水物、ポリアミド、リン系ポリマー、
ポリ（シアノアクリレート）、ポリウレタン、ポリオルソエステル、ポリジヒドロピラン
、ポリアセタールからなる群から選択される、請求項６０記載の方法。
【請求項６２】
前記ポリエステルが、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリ（ヒドロキシブチレート）、
ポリ（ε−カプロラクトン）、ポリ（β−リンゴ酸）、ポリ（ジオキサノン）からなる群
から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６３】
前記ポリ無水物が、ポリ（セバシン酸）、ポリ（アジピン酸）、ポリ（テレフタル酸）
からなる群から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６４】
前記ポリアミドが、ポリ（イミノカーボネート）及びポリアミノ酸からなる群から選択
される、請求項６１記載の方法。
【請求項６５】
前記リン系ポリマーが、ポリリン酸、ポリホスホネート、ポリホスファゼンからなる群
から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６６】
前記生分解性ポリマーが、刺激に応答するポリマーをさらに含む、請求項６０記載の方
法。
【請求項６７】
前記刺激が、ｐＨ、放射線、イオン強度、温度、交流磁場、交流電場からなる群から選
択される、請求項６６記載の方法。
【請求項６８】
前記刺激が、交流磁場を含む、請求項６７記載の方法。
【請求項６９】
前記粒子が前記標的に送達されると、前記粒子を交流磁場に露出するステップを含む、
請求項５７記載の方法。
【請求項７０】
前記粒子を交流磁場に露出するステップが、低体温療法プロセス及び熱切除プロセスの
１つによって前記粒子に熱を発生させる、請求項６９記載の方法。
【請求項７１】
前記粒子によって生成された熱が、前記粒子のポリマー成分の相変化及び標的の温熱処
置の１つを誘発する、請求項７０記載の方法。
【請求項７２】
前記粒子のポリマー成分の相変化が、固相から液相への変化を含む、請求項７１記載の
方法。
【請求項７３】
固相から液相への相変化が、前記治療薬を前記粒子から放出させる、請求項７２記載の
方法。
【請求項７４】
前記粒子からの治療薬の放出が、制御放出を含む、請求項７３記載の方法。
【請求項７５】
前記標的が、細胞標的化ペプチド、細胞透過性ペプチド、インテグリン受容体ペプチド
（ＧＲＧＤＳＰ）、メラノサイト刺激ホルモン、血管作動性腸管ペプチド、抗Ｈｅｒ２マ
ウス抗体、ビタミンからなる群から選択される、請求項５７記載の方法。
【請求項７６】
（ａ）パターン形成テンプレートと基板を提供するステップであって、前記パターン形
成テンプレートが、その中に複数の凹み領域を有するパターン形成テンプレート表面を含
む、ステップと；
（ｂ）ある体積の液体材料を：
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上；及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中；
の少なくとも１つに配置するステップと；
（ｃ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させるステップと；
（ｄ）前記液体材料を処理して前記基板上にパターンを形成するステップとを含む、基
板上にパターンを形成する方法。
【請求項７７】
前記パターン形成テンプレートが耐溶媒性のあるエラストマー材料を含む、請求項７６
記載の方法。
【請求項７８】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、パーフルオロポリエーテ
ル材料、フルオロオレフィン材料、アクリレート材料、シリコーン材料、スチレン系材料
、フッ化熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、トリアジンフルオロポリマー、パーフルオロ
シクロブチル材料、フッ化エポキシ樹脂、メタセシス重合反応によって重合又は架橋させ
ることのできるフッ化モノマー又はフッ化オリゴマーからなる群から選択される、材料を
含む、請求項７６記載の方法。
【請求項７９】
前記パーフルオロポリエーテル材料が、下記式からなる群から選択される、主鎖構造を
含む、請求項７８記載の方法。
【化６】
（式中、Ｘは存在しても存在しなくてもよく、存在するとき末端封鎖基を含む）。
【請求項８０】
前記フルオロオレフィン材料が、下記式からなる群から選択される、請求項７８記載の
方法：
【化７】
（式中、ＣＳＭは硬化部位のモノマーを含む）。
【請求項８１】
前記フルオロオレフィン材料が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン又はヘキ
サフルオロプロピレン、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，５−ジフルオロ−１
，３−ジオキソール、官能性フルオロオレフィン、官能性アクリル系モノマー、官能性メ
タクリル系モノマーを含む、モノマーから作られる、請求項７８記載の方法。
【請求項８２】
前記シリコーン材料が、下記の構造を有するフルオロアルキル官能化されたポリジメチ
ルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、請求項７８記載の方法：
【化８】
（式中、Ｒはアクリレート、メタクリレート、及びビニル基からなる群から選択され、Ｒ
ｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８３】
前記スチレン系材料が、下記式からなる群から選択される、フッ化スチレンモノマーを
含む、請求項７８記載の方法：
【化９】
（式中、Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８４】
前記アクリレート材料が、下記の構造を有するフッ化アクリレート又はフッ化メタクリ
レートを含む、請求項７８記載の方法：
【化１０】
（式中、Ｒは、Ｈ、アルキル、置換アルキル、アリール、及び置換アリールからなる群か
ら選択され、
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８５】
前記トリアジンフルオロポリマーがフッ化モノマーを含む、請求項７８記載の方法。
【請求項８６】
メタセシス重合反応によって重合又は架橋することのできる前記フッ化モノマー又はフ
ッ化オリゴマーが、官能化オレフィンを含む、請求項７８記載の方法。
【請求項８７】
前記官能化オレフィンが官能化環状オレフィンを含む、請求項８６記載の方法。
【請求項８８】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１８ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項７６記載の方法。
【請求項８９】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１５ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項７６記載の方法。
【請求項９０】
前記基板が、ポリマー材料、無機材料、ケイ素材料、石英材料、ガラス材料、及びそれ
らの表面処理された変形からなる群から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項９１】
前記基板が、製造プロセス中の電子デバイス及び製造プロセス中の光学デバイスの１つ
から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項９２】
前記基板がパターン形成領域を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項９３】
前記複数の凹み領域が複数の空洞を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項９４】
前記複数の空洞が複数の構造形状を含む、請求項９３記載の方法。
【請求項９５】
前記複数の構造形状が約１０ミクロン〜約１ナノメートルの範囲のサイズを有する、請
求項９４記載の方法。
【請求項９６】
前記複数の構造形状が、約１０ミクロン〜約１ミクロンの範囲のサイズを有する、請求
項９４記載の方法。
【請求項９７】
前記複数の構造形状が、約１ミクロン〜約１００ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項
９４記載の方法。
【請求項９８】
前記複数の構造形状が、約１００ｎｍ〜約１ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項９４
記載の方法。
【請求項９９】
前記液体材料が、ポリマー、溶液、モノマー、複数のモノマー、重合開始剤、重合触媒
、無機前駆体、金属前駆体、医薬品、標識、磁性材料、常磁性材料、超常磁性材料、リガ
ンド、細胞透過性ペプチド、ポロゲン、界面活性剤、複数の非相溶性液体、溶媒、荷電化
学種からなる群から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項１００】
前記医薬品が、薬物、ペプチド、ＲＮＡｉ、ＤＮＡからなる群から選択される、請求項
９９記載の方法。
【請求項１０１】
前記標識が、蛍光標識、放射線標識、造影剤からなる群から選択される、請求項９９記
載の方法。
【請求項１０２】
前記リガンドが細胞標的化ペプチドを含む、請求項９９記載の方法。
【請求項１０３】
前記液体材料が、レジストポリマー及び低ｋ誘電体の１つから選択される、請求項７６
記載の方法。
【請求項１０４】
前記液体材料が、非湿潤剤を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１０５】
前記体積の液体材料を配置するステップが、塗布プロセスによって制御される、請求項
７６記載の方法。
【請求項１０６】
前記塗布プロセスが、
（ａ）第１の体積の液体材料を前記パターン形成テンプレート上に配置して、前記パタ
ーン形成テンプレート上に液体材料層を形成するステップと；
（ｂ）液体材料層を横断して器具を引っ張り；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート上の液体材料層から第２の体積の液体材料を除
去し；
（ｉｉ）前記パターン形成テンプレート上に第３の体積の液体材料を残すステップと
を含む、請求項１０５記載の方法。
【請求項１０７】
前記第１のテンプレート表面を前記基板に接触させるステップが、本質的にすべての配
置された体積の液体材料を除去する、請求項７６記載の方法。
【請求項１０８】
前記液体材料を処理するステップが、熱的プロセス、光化学プロセス、化学プロセスか
らなる群から選択される、プロセスを含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１０９】
バッチプロセスを含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１１０】
前記バッチプロセスが、半バッチプロセス及び連続バッチプロセスの１つから選択され
る、請求項１０９記載の方法。
【請求項１１１】
請求項７６記載の方法によって形成されるパターン基板。
【請求項１１２】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート及び基板と；
（ｂ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上、及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中
の少なくとも１つにある体積の液体材料を配置する貯蔵器と；
（ｃ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させて前記液体材料
を処理すること、及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理することの１つにより、１つ以上の粒子を形成する
制御装置とを含む、１つ以上の粒子を形成する装置。
【請求項１１３】
１以上の特性、又は１つ以上の粒子の検査、測定、及び検査と測定の両方の１つを行う
ための検査デバイスをさらに含む、請求項１１２記載の装置。
【請求項１１４】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート、及び基板と、
（ｂ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上、及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中
の少なくとも１つに、ある体積の液体材料を配置する貯蔵器と、
（ｃ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させること、及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理することの１つにより、前記基板上にパターンを形
成する制御装置とを含む、基板上にパターンを形成する装置。
【請求項１１５】
前記基板上の前記パターンの１以上の特性の検査、測定、及び検査と測定の両方の１つ
を行うための検査デバイスをさらに含む、請求項１１４記載の装置。
【請求項１１６】
表面にパターンを形成する方法であって：
（ａ）物品の表面の第１部分を、前記物品の前記表面に共形接触（conformal contact
）させるエラストマーマスクを含む、マスキング系で遮蔽すること、
（ｂ）前記マスキング系で遮蔽された前記第１部分に薬品が塗布されることを防止しな
がら、前記物品の前記表面の第２部分に、マスキング系内にパターン形成すべき薬品を塗
布することによって、物品の表面を選択的に薬品に露出するステップを含む方法。
【請求項１１７】
前記エラストマーマスクが複数のチャンネルを含む、請求項１１６記載の方法。
【請求項１１８】
前記チャンネルの各々が約１ミリメートル未満の断面寸法を有する、請求項１１７記載
の方法。
【請求項１１９】
前記チャンネルの各々が約１ミクロン未満の断面寸法を有する、請求項１１７記載の方
法。
【請求項１２０】
前記薬品がエラストマーマスクを約２５％未満膨潤させる、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２１】
前記薬品が、有機エレクトロルミネセンス材料又はその前駆体を含む、請求項１１６記
載の方法。
【請求項１２２】
（ａ）前記薬品から前記表面の前記第２部分に前記有機エレクトロルミネセンス材料を
形成させるステップと、
（ｂ）前記有機エレクトロルミネセンス材料と電気回路の間に電気的連通を確立するス
テップとをさらに含む、請求項１２１記載の方法。
【請求項１２３】
前記薬品が堆積プロセスの生成物を含み、前記堆積プロセスが、化学的気相成長プロセ
ス、気相堆積プロセス、電子ビーム堆積プロセス、電子ビーム蒸着プロセス、電子ビーム
スパッタプロセス、電気化学的堆積プロセスからなる群から選択される、請求項１１６記
載の方法。
【請求項１２４】
前記薬品が無電解堆積生成物を含む、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２５】
前記薬品が流体前駆体から塗布される、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２６】
前記流体前駆体が、無機化合物の溶液、無機化合物の懸濁液、流体担体中の粒子の懸濁
液、流体担体中の化学活性薬品からなる群から選択される、請求項１２５記載の方法。
【請求項１２７】
前記無機化合物が、前記物品表面の前記第２部分の上に固化する、請求項１１６記載の
方法。
【請求項１２８】
前記流体担体を散逸させ、それによって前記物品表面の前記第１領域に粒子を堆積させ
るステップをさらに含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１２９】
前記流体担体を散逸させ、それによって前記物品表面の前記第１領域に前記化学活性薬
品を堆積させるステップをさらに含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３０】
前記化学活性薬品がポリマー前駆体を含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３１】
前記ポリマー前駆体からポリマー物品を形成するステップをさらに含む、請求項１３０
記載の方法。
【請求項１３２】
前記化学活性薬品が、材料の堆積を促進することのできる薬品を含む、請求項１２６記
載の方法。
【請求項１３３】
前記化学活性薬品がエッチング薬品を含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３４】
前記物品の表面の前記第２部分をエッチングするステップをさらに含む、請求項１１６
記載の方法。
【請求項１３５】
前記物品表面の前記第２部分に接着した前記薬品を残して、前記物品表面の前記第１部
分から前記マスキング系の前記エラストマーマスクを除去することをさらに含む、請求項
１１６記載の方法。
【請求項１】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート及び基板を提供するステップと；
（ｂ）ある体積の液体材料を；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上；及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中；
の少なくとも１つの上に配置するステップと、
（ｃ）１つ以上の粒子を：
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させて前記液体材料を処
理すること；及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理すること；
の１つによって形成するステップとを含む、１つ以上の粒子の形成方法。
【請求項２】
前記パターン形成テンプレートが、耐溶媒性のある低表面エネルギーポリマー材料を含
む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記パターン形成テンプレートが、耐溶媒性のあるエラストマー材料を含む、請求項１
記載の方法。
【請求項４】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、パーフルオロポリエーテ
ル材料、フルオロオレフィン材料、アクリレート材料、シリコーン材料、スチレン系材料
、フッ化熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、トリアジンフルオロポリマー、パーフルオロ
シクロブチル材料、フッ化エポキシ樹脂、メタセシス重合反応によって重合又は架橋させ
ることのできるフッ化モノマー又はフッ化オリゴマーからなる群から選択される、材料を
含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記パーフルオロポリエーテル材料が、下記式からなる群から選択される、主鎖構造を
含む、請求項４記載の方法：
【化１】
（式中、Ｘは存在しても存在しなくてもよく、存在するとき末端封鎖基を含む）。
【請求項６】
前記フルオロオレフィン材料が、下記式からなる群から選択される、請求項４記載の方
法：
【化２】
（式中、ＣＳＭは硬化部位のモノマーを含む）。
【請求項７】
前記フルオロオレフィン材料が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン又はヘキ
サフルオロプロピレン、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，５−ジフルオロ−１
，３−ジオキソール、官能性フルオロオレフィン、官能性アクリル系モノマー、官能性メ
タクリル系モノマーを含む、モノマーから作られる、請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記シリコーン材料が、下記の構造を有するフルオロアルキル官能化されたポリジメチ
ルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、請求項４記載の方法：
【化３】
（式中、Ｒはアクリレート、メタクリレート、及びビニル基からなる群から選択され；
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項９】
前記スチレン系材料が、下記式からなる群から選択される、フッ化スチレンモノマーを
含む、請求項４記載の方法：
【化４】
（式中、Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項１０】
前記アクリレート材料が、下記の構造を有するフッ化アクリレート又はフッ化メタクリ
レートを含む、請求項４記載の方法：
【化５】
（式中、Ｒは、Ｈ、アルキル、置換アルキル、アリール、及び置換アリールからなる群か
ら選択され；
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項１１】
前記トリアジンフルオロポリマーがフッ化モノマーを含む、請求項４記載の方法。
【請求項１２】
メタセシス重合反応によって重合又は架橋することのできる前記フッ化モノマー又はフ
ッ化オリゴマーが官能化オレフィンを含む、請求項４記載の方法。
【請求項１３】
前記官能化オレフィンが官能化環状オレフィンを含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１８ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１５ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記基板が、ポリマー材料、無機材料、ケイ素材料、石英材料、ガラス材料、及びそれ
らの表面処理された変形からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記基板がパターン形成領域を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１８】
前記複数の凹み領域が複数の空洞を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記複数の空洞が複数の構造形状を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記複数の構造形状が約１０ミクロン〜約１ナノメートルの範囲のサイズを有する、請
求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記複数の構造形状が、約１０ミクロン〜約１ミクロンの範囲のサイズを有する、請求
項１９記載の方法。
【請求項２２】
前記複数の構造形状が、約１ミクロン〜約１００ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項
１９記載の方法。
【請求項２３】
前記複数の構造形状が、約１００ｎｍ〜約１ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項１９
記載の方法。
【請求項２４】
前記１つ以上の粒子に本質的にスカム層がない、請求項１記載の方法。
【請求項２５】
前記パターン形成テンプレートが、複製成形プロセスによって形成されたパターン形成
テンプレートを含む、請求項１記載の方法。
【請求項２６】
前記複製成形プロセスが：
（ａ）母型テンプレートを提供するステップと；
（ｂ）液体材料を前記母型テンプレートに接触させるステップと；
（ｃ）液体材料を硬化してパターン形成テンプレートを形成するステップとを含む、請
求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記母型テンプレートが：
（ａ）リソグラフィープロセスから形成されたテンプレート；
（ｂ）天然のテンプレート；
（ｃ）その組合せからなる群から選択される、請求項２６記載の方法。
【請求項２８】
前記天然のテンプレートが、生物学的構造及び自己集合構造の１種から選択される、請
求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記生物学的構造及び自己集合構造の１種が、天然の結晶、タンパク質、酵素、ウイル
ス、ミセル、及び組織表面からなる群から選択される、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
表面修飾ステップによって前記パターン形成テンプレート表面を修飾することを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項３１】
前記表面修飾ステップが、プラズマ処理、化学的処理、吸着プロセスからなる群から選
択される、請求項３０記載の方法。
【請求項３２】
前記吸着プロセスが、高分子電解質、ポリ（ビニルアルコール）、アルキルハロシラン
、及びリガンドからなる群から選択される、吸着分子を含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記パターン形成テンプレート表面と前記基板が互いに所定の配向で面するように、前
記パターン形成テンプレートと前記基板を互いに間隔を置いた関係に配置するステップを
含む、請求項１記載の方法。
【請求項３４】
前記液体材料が、ポリマー、溶液、モノマー、複数のモノマー、重合開始剤、重合触媒
、無機前駆体、金属前駆体、医薬品、標識、磁性材料、常磁性材料、超常磁性材料、リガ
ンド、細胞透過性ペプチド、ポロゲン、界面活性剤、複数の非相溶性液体、溶媒、荷電化
学種からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３５】
前記医薬品が、薬物、ペプチド、ＲＮＡｉ、ＤＮＡからなる群から選択される、請求項
３４記載の方法。
【請求項３６】
前記標識が、蛍光標識、放射線標識、造影剤からなる群から選択される、請求項３４記
載の方法。
【請求項３７】
前記リガンドが細胞標的化ペプチドを含む、請求項３４記載の方法。
【請求項３８】
前記液体材料が、非湿潤剤を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３９】
前記体積の液体材料を配置するステップが、塗布プロセスによって制御される、請求項
１記載の方法。
【請求項４０】
前記塗布プロセスが：
（ａ）第１の体積の液体材料を前記パターン形成テンプレート上に配置して、前記パタ
ーン形成テンプレート上に液体材料層を形成するステップと；
（ｂ）液体材料層を横断して器具を引っ張り；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート上の液体材料層から第２の体積の液体材料を除
去し；
（ｉｉ）前記パターン形成テンプレート上に第３の体積の液体材料を残すステップと
を含む、請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させるステップによって、本質的
にすべての前記配置された液体材料を前記パターン形成テンプレート表面と基板の間から
除去する、請求項１記載の方法。
【請求項４２】
前記液体材料を処理するステップが、熱的プロセス、光化学プロセス、化学プロセスか
らなる群から選択される、プロセスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４３】
（ａ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面に接触圧力を加えること；及び
（ｉｉ）前記テンプレートを通して第２の体積の液体を蒸発又は浸透させること
；
の１つによって、複数の凹み領域中に配置された前記体積の液体材料を減少させるステ
ップと；
（ｂ）前記パターン形成テンプレート表面に加えられた前記接触圧力を除去するステッ
プと；
（ｃ）前記パターン形成テンプレート表面の前記凹み領域内にガスを導入するステップ
と；
（ｄ）前記液体材料を処理して、前記パターン形成テンプレート表面の前記凹み領域内
に１つ以上の粒子を形成するステップと；
（ｅ）前記１つ以上の粒子を放出するステップとをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項４４】
前記１つ以上の粒子を放出するステップが：
（ａ）前記パターン形成テンプレートを前記１つ以上の粒子に親和力のある基板に適用
すること；
（ｂ）前記パターン形成テンプレートから前記１つ以上の粒子が放出されるように前記
パターン形成テンプレートを変形させること；
（ｃ）前記パターン形成テンプレートを第１溶媒で膨潤させて、前記１つ以上の粒子を
押し出すこと；
（ｄ）前記パターン形成テンプレートを前記１つ以上の粒子に親和力のある第２溶媒で
洗浄することの１つによって行われる、請求項４３記載の方法。
【請求項４５】
前記粒子を採取又は収集するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４６】
前記粒子を採取又は収集するステップが、医療用メスで削ること、ブラッシングプロセ
ス、溶解プロセス、超音波プロセス、メガソニックプロセス、静電気プロセス、磁気プロ
セスからなる群から選択されるプロセスを含む、請求項４５記載の方法。
【請求項４７】
バッチプロセスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４８】
前記バッチプロセスが、半バッチプロセス及び連続バッチプロセスの１つから選択され
る、請求項４７記載の方法。
【請求項４９】
請求項１記載の方法によって形成される、１つ以上の粒子。
【請求項５０】
前記複数の粒子が複数の単分散粒子を含む、請求項４９記載の複数の粒子。
【請求項５１】
半導体デバイス、結晶、薬物送達ベクター、遺伝子送達ベクター、疾患検出デバイス、
疾患位置検出デバイス、光起電デバイス、太陽電池デバイス、ポロゲン、化粧品、エレク
トレット、添加剤、触媒、センサー、解毒剤、研磨剤、マイクロエレクトロメカニカルシ
ステム（ＭＥＭＳ）、細胞骨格、タッガート、医薬品、生物学的標識からなる群から選択
される、請求項４９記載の１つ以上の。
【請求項５２】
自立構造を含む、請求項４９記載の１つ以上の粒子。
【請求項５３】
（ａ）請求項４９記載の粒子を提供するステップと；
（ｂ）第２のパターン形成テンプレートを提供するステップと；
（ｃ）前記第２のパターン形成テンプレートに第２液体材料を配置するステップと；
（ｄ）前記第２のパターン形成テンプレートをステップ（ａ）の粒子に接触させるステ
ップと；
（ｅ）前記第２液体材料を処理して多次元構造を形成するステップとを含む、請求項１
記載の方法。
【請求項５４】
相互接続された構造を形成するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項５５】
前記相互接続された構造が、複数の形状及び特定サイズの孔を含む、請求項５４記載の
方法。
【請求項５６】
前記相互接続された構造が膜を含む、請求項５５記載の方法。
【請求項５７】
（ａ）請求項４９記載の粒子を提供するステップと；
（ｂ）前記治療薬を前記粒子と混合するステップと、
（ｃ）前記治療薬を含む、前記粒子を標的へ送達するステップとを含む、治療薬を標的
へ送達する方法。
【請求項５８】
前記治療薬が、薬物及び遺伝子材料の１つから選択される、請求項５７記載の方法。
【請求項５９】
前記遺伝子材料が、非ウイルス性遺伝子ベクター、ＤＮＡ、ＲＮＡ、ＲＮＡｉ、及びウ
イルス性粒子からなる群から選択される、請求項５８記載の方法。
【請求項６０】
前記粒子が生分解性ポリマーを含む、請求項５９記載の方法。
【請求項６１】
前記生分解性ポリマーが、ポリエステル、ポリ無水物、ポリアミド、リン系ポリマー、
ポリ（シアノアクリレート）、ポリウレタン、ポリオルソエステル、ポリジヒドロピラン
、ポリアセタールからなる群から選択される、請求項６０記載の方法。
【請求項６２】
前記ポリエステルが、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリ（ヒドロキシブチレート）、
ポリ（ε−カプロラクトン）、ポリ（β−リンゴ酸）、ポリ（ジオキサノン）からなる群
から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６３】
前記ポリ無水物が、ポリ（セバシン酸）、ポリ（アジピン酸）、ポリ（テレフタル酸）
からなる群から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６４】
前記ポリアミドが、ポリ（イミノカーボネート）及びポリアミノ酸からなる群から選択
される、請求項６１記載の方法。
【請求項６５】
前記リン系ポリマーが、ポリリン酸、ポリホスホネート、ポリホスファゼンからなる群
から選択される、請求項６１記載の方法。
【請求項６６】
前記生分解性ポリマーが、刺激に応答するポリマーをさらに含む、請求項６０記載の方
法。
【請求項６７】
前記刺激が、ｐＨ、放射線、イオン強度、温度、交流磁場、交流電場からなる群から選
択される、請求項６６記載の方法。
【請求項６８】
前記刺激が、交流磁場を含む、請求項６７記載の方法。
【請求項６９】
前記粒子が前記標的に送達されると、前記粒子を交流磁場に露出するステップを含む、
請求項５７記載の方法。
【請求項７０】
前記粒子を交流磁場に露出するステップが、低体温療法プロセス及び熱切除プロセスの
１つによって前記粒子に熱を発生させる、請求項６９記載の方法。
【請求項７１】
前記粒子によって生成された熱が、前記粒子のポリマー成分の相変化及び標的の温熱処
置の１つを誘発する、請求項７０記載の方法。
【請求項７２】
前記粒子のポリマー成分の相変化が、固相から液相への変化を含む、請求項７１記載の
方法。
【請求項７３】
固相から液相への相変化が、前記治療薬を前記粒子から放出させる、請求項７２記載の
方法。
【請求項７４】
前記粒子からの治療薬の放出が、制御放出を含む、請求項７３記載の方法。
【請求項７５】
前記標的が、細胞標的化ペプチド、細胞透過性ペプチド、インテグリン受容体ペプチド
（ＧＲＧＤＳＰ）、メラノサイト刺激ホルモン、血管作動性腸管ペプチド、抗Ｈｅｒ２マ
ウス抗体、ビタミンからなる群から選択される、請求項５７記載の方法。
【請求項７６】
（ａ）パターン形成テンプレートと基板を提供するステップであって、前記パターン形
成テンプレートが、その中に複数の凹み領域を有するパターン形成テンプレート表面を含
む、ステップと；
（ｂ）ある体積の液体材料を：
（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上；及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中；
の少なくとも１つに配置するステップと；
（ｃ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させるステップと；
（ｄ）前記液体材料を処理して前記基板上にパターンを形成するステップとを含む、基
板上にパターンを形成する方法。
【請求項７７】
前記パターン形成テンプレートが耐溶媒性のあるエラストマー材料を含む、請求項７６
記載の方法。
【請求項７８】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、パーフルオロポリエーテ
ル材料、フルオロオレフィン材料、アクリレート材料、シリコーン材料、スチレン系材料
、フッ化熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）、トリアジンフルオロポリマー、パーフルオロ
シクロブチル材料、フッ化エポキシ樹脂、メタセシス重合反応によって重合又は架橋させ
ることのできるフッ化モノマー又はフッ化オリゴマーからなる群から選択される、材料を
含む、請求項７６記載の方法。
【請求項７９】
前記パーフルオロポリエーテル材料が、下記式からなる群から選択される、主鎖構造を
含む、請求項７８記載の方法。
【化６】
（式中、Ｘは存在しても存在しなくてもよく、存在するとき末端封鎖基を含む）。
【請求項８０】
前記フルオロオレフィン材料が、下記式からなる群から選択される、請求項７８記載の
方法：
【化７】
（式中、ＣＳＭは硬化部位のモノマーを含む）。
【請求項８１】
前記フルオロオレフィン材料が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン又はヘキ
サフルオロプロピレン、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，５−ジフルオロ−１
，３−ジオキソール、官能性フルオロオレフィン、官能性アクリル系モノマー、官能性メ
タクリル系モノマーを含む、モノマーから作られる、請求項７８記載の方法。
【請求項８２】
前記シリコーン材料が、下記の構造を有するフルオロアルキル官能化されたポリジメチ
ルシロキサン（ＰＤＭＳ）を含む、請求項７８記載の方法：
【化８】
（式中、Ｒはアクリレート、メタクリレート、及びビニル基からなる群から選択され、Ｒ
ｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８３】
前記スチレン系材料が、下記式からなる群から選択される、フッ化スチレンモノマーを
含む、請求項７８記載の方法：
【化９】
（式中、Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８４】
前記アクリレート材料が、下記の構造を有するフッ化アクリレート又はフッ化メタクリ
レートを含む、請求項７８記載の方法：
【化１０】
（式中、Ｒは、Ｈ、アルキル、置換アルキル、アリール、及び置換アリールからなる群か
ら選択され、
Ｒｆはフルオロアルキル鎖を含む）。
【請求項８５】
前記トリアジンフルオロポリマーがフッ化モノマーを含む、請求項７８記載の方法。
【請求項８６】
メタセシス重合反応によって重合又は架橋することのできる前記フッ化モノマー又はフ
ッ化オリゴマーが、官能化オレフィンを含む、請求項７８記載の方法。
【請求項８７】
前記官能化オレフィンが官能化環状オレフィンを含む、請求項８６記載の方法。
【請求項８８】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１８ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項７６記載の方法。
【請求項８９】
前記パターン形成テンプレート及び基板の少なくとも１つが、１５ｍＮ／ｍ未満の表面
エネルギーを有する、請求項７６記載の方法。
【請求項９０】
前記基板が、ポリマー材料、無機材料、ケイ素材料、石英材料、ガラス材料、及びそれ
らの表面処理された変形からなる群から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項９１】
前記基板が、製造プロセス中の電子デバイス及び製造プロセス中の光学デバイスの１つ
から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項９２】
前記基板がパターン形成領域を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項９３】
前記複数の凹み領域が複数の空洞を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項９４】
前記複数の空洞が複数の構造形状を含む、請求項９３記載の方法。
【請求項９５】
前記複数の構造形状が約１０ミクロン〜約１ナノメートルの範囲のサイズを有する、請
求項９４記載の方法。
【請求項９６】
前記複数の構造形状が、約１０ミクロン〜約１ミクロンの範囲のサイズを有する、請求
項９４記載の方法。
【請求項９７】
前記複数の構造形状が、約１ミクロン〜約１００ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項
９４記載の方法。
【請求項９８】
前記複数の構造形状が、約１００ｎｍ〜約１ｎｍの範囲のサイズを有する、請求項９４
記載の方法。
【請求項９９】
前記液体材料が、ポリマー、溶液、モノマー、複数のモノマー、重合開始剤、重合触媒
、無機前駆体、金属前駆体、医薬品、標識、磁性材料、常磁性材料、超常磁性材料、リガ
ンド、細胞透過性ペプチド、ポロゲン、界面活性剤、複数の非相溶性液体、溶媒、荷電化
学種からなる群から選択される、請求項７６記載の方法。
【請求項１００】
前記医薬品が、薬物、ペプチド、ＲＮＡｉ、ＤＮＡからなる群から選択される、請求項
９９記載の方法。
【請求項１０１】
前記標識が、蛍光標識、放射線標識、造影剤からなる群から選択される、請求項９９記
載の方法。
【請求項１０２】
前記リガンドが細胞標的化ペプチドを含む、請求項９９記載の方法。
【請求項１０３】
前記液体材料が、レジストポリマー及び低ｋ誘電体の１つから選択される、請求項７６
記載の方法。
【請求項１０４】
前記液体材料が、非湿潤剤を含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１０５】
前記体積の液体材料を配置するステップが、塗布プロセスによって制御される、請求項
７６記載の方法。
【請求項１０６】
前記塗布プロセスが、
（ａ）第１の体積の液体材料を前記パターン形成テンプレート上に配置して、前記パタ
ーン形成テンプレート上に液体材料層を形成するステップと；
（ｂ）液体材料層を横断して器具を引っ張り；
（ｉ）前記パターン形成テンプレート上の液体材料層から第２の体積の液体材料を除
去し；
（ｉｉ）前記パターン形成テンプレート上に第３の体積の液体材料を残すステップと
を含む、請求項１０５記載の方法。
【請求項１０７】
前記第１のテンプレート表面を前記基板に接触させるステップが、本質的にすべての配
置された体積の液体材料を除去する、請求項７６記載の方法。
【請求項１０８】
前記液体材料を処理するステップが、熱的プロセス、光化学プロセス、化学プロセスか
らなる群から選択される、プロセスを含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１０９】
バッチプロセスを含む、請求項７６記載の方法。
【請求項１１０】
前記バッチプロセスが、半バッチプロセス及び連続バッチプロセスの１つから選択され
る、請求項１０９記載の方法。
【請求項１１１】
請求項７６記載の方法によって形成されるパターン基板。
【請求項１１２】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート及び基板と；
（ｂ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上、及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中
の少なくとも１つにある体積の液体材料を配置する貯蔵器と；
（ｃ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させて前記液体材料
を処理すること、及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理することの１つにより、１つ以上の粒子を形成する
制御装置とを含む、１つ以上の粒子を形成する装置。
【請求項１１３】
１以上の特性、又は１つ以上の粒子の検査、測定、及び検査と測定の両方の１つを行う
ための検査デバイスをさらに含む、請求項１１２記載の装置。
【請求項１１４】
（ａ）複数の凹み領域がその中に形成されたパターン形成テンプレート表面を含む、パ
ターン形成テンプレート、及び基板と、
（ｂ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面上、及び
（ｉｉ）前記複数の凹み領域中
の少なくとも１つに、ある体積の液体材料を配置する貯蔵器と、
（ｃ）（ｉ）前記パターン形成テンプレート表面を前記基板に接触させること、及び
（ｉｉ）前記液体材料を処理することの１つにより、前記基板上にパターンを形
成する制御装置とを含む、基板上にパターンを形成する装置。
【請求項１１５】
前記基板上の前記パターンの１以上の特性の検査、測定、及び検査と測定の両方の１つ
を行うための検査デバイスをさらに含む、請求項１１４記載の装置。
【請求項１１６】
表面にパターンを形成する方法であって：
（ａ）物品の表面の第１部分を、前記物品の前記表面に共形接触（conformal contact
）させるエラストマーマスクを含む、マスキング系で遮蔽すること、
（ｂ）前記マスキング系で遮蔽された前記第１部分に薬品が塗布されることを防止しな
がら、前記物品の前記表面の第２部分に、マスキング系内にパターン形成すべき薬品を塗
布することによって、物品の表面を選択的に薬品に露出するステップを含む方法。
【請求項１１７】
前記エラストマーマスクが複数のチャンネルを含む、請求項１１６記載の方法。
【請求項１１８】
前記チャンネルの各々が約１ミリメートル未満の断面寸法を有する、請求項１１７記載
の方法。
【請求項１１９】
前記チャンネルの各々が約１ミクロン未満の断面寸法を有する、請求項１１７記載の方
法。
【請求項１２０】
前記薬品がエラストマーマスクを約２５％未満膨潤させる、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２１】
前記薬品が、有機エレクトロルミネセンス材料又はその前駆体を含む、請求項１１６記
載の方法。
【請求項１２２】
（ａ）前記薬品から前記表面の前記第２部分に前記有機エレクトロルミネセンス材料を
形成させるステップと、
（ｂ）前記有機エレクトロルミネセンス材料と電気回路の間に電気的連通を確立するス
テップとをさらに含む、請求項１２１記載の方法。
【請求項１２３】
前記薬品が堆積プロセスの生成物を含み、前記堆積プロセスが、化学的気相成長プロセ
ス、気相堆積プロセス、電子ビーム堆積プロセス、電子ビーム蒸着プロセス、電子ビーム
スパッタプロセス、電気化学的堆積プロセスからなる群から選択される、請求項１１６記
載の方法。
【請求項１２４】
前記薬品が無電解堆積生成物を含む、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２５】
前記薬品が流体前駆体から塗布される、請求項１１６記載の方法。
【請求項１２６】
前記流体前駆体が、無機化合物の溶液、無機化合物の懸濁液、流体担体中の粒子の懸濁
液、流体担体中の化学活性薬品からなる群から選択される、請求項１２５記載の方法。
【請求項１２７】
前記無機化合物が、前記物品表面の前記第２部分の上に固化する、請求項１１６記載の
方法。
【請求項１２８】
前記流体担体を散逸させ、それによって前記物品表面の前記第１領域に粒子を堆積させ
るステップをさらに含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１２９】
前記流体担体を散逸させ、それによって前記物品表面の前記第１領域に前記化学活性薬
品を堆積させるステップをさらに含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３０】
前記化学活性薬品がポリマー前駆体を含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３１】
前記ポリマー前駆体からポリマー物品を形成するステップをさらに含む、請求項１３０
記載の方法。
【請求項１３２】
前記化学活性薬品が、材料の堆積を促進することのできる薬品を含む、請求項１２６記
載の方法。
【請求項１３３】
前記化学活性薬品がエッチング薬品を含む、請求項１２６記載の方法。
【請求項１３４】
前記物品の表面の前記第２部分をエッチングするステップをさらに含む、請求項１１６
記載の方法。
【請求項１３５】
前記物品表面の前記第２部分に接着した前記薬品を残して、前記物品表面の前記第１部
分から前記マスキング系の前記エラストマーマスクを除去することをさらに含む、請求項
１１６記載の方法。
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図２Ｅ】
【図２Ｆ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図３Ｄ】
【図３Ｅ】
【図３Ｆ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図４Ｄ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図５Ｃ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図７Ｄ】
【図７Ｅ】
【図７Ｆ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図８Ｃ】
【図８Ｄ】
【図８Ｅ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１０Ｃ】
【図１０Ｄ】
【図１０Ｅ】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８Ａ】
【図２８Ｂ】
【図２８Ｃ】
【図２９】
【図３０】
【図３１Ａ】
【図３１Ｂ】
【図３２Ａ】
【図３２Ｂ】
【図３３Ａ】
【図３３Ｂ】
【図３４Ａ】
【図３４Ｂ】
【図３５Ａ】
【図３５Ｂ】
【図１Ｂ】
【図１Ｃ】
【図１Ｄ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図２Ｃ】
【図２Ｄ】
【図２Ｅ】
【図２Ｆ】
【図３Ａ】
【図３Ｂ】
【図３Ｃ】
【図３Ｄ】
【図３Ｅ】
【図３Ｆ】
【図４Ａ】
【図４Ｂ】
【図４Ｃ】
【図４Ｄ】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図５Ｃ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図６Ｃ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図７Ｃ】
【図７Ｄ】
【図７Ｅ】
【図７Ｆ】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図８Ｃ】
【図８Ｄ】
【図８Ｅ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図９Ｄ】
【図９Ｅ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１０Ｃ】
【図１０Ｄ】
【図１０Ｅ】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８Ａ】
【図２８Ｂ】
【図２８Ｃ】
【図２９】
【図３０】
【図３１Ａ】
【図３１Ｂ】
【図３２Ａ】
【図３２Ｂ】
【図３３Ａ】
【図３３Ｂ】
【図３４Ａ】
【図３４Ｂ】
【図３５Ａ】
【図３５Ｂ】
【公開番号】特開２０１１−２２３００９（Ｐ２０１１−２２３００９Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０４８５６（Ｐ２０１１−１０４８５６）
【出願日】平成２３年５月１０日（２０１１．５．１０）
【分割の表示】特願２００６−５４５５４１（Ｐ２００６−５４５５４１）の分割
【原出願日】平成１６年１２月２０日（２００４．１２．２０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５０１３４５３２３）ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル (52)
【氏名又は名称原語表記】ＴＨＥ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ ＯＦ ＮＯＲＴＨ ＣＡＲＯＬＩＮＡ ＡＴ ＣＨＡＰＥＬ ＨＩＬＬ
【住所又は居所原語表記】３０８ Ｂｙｎｕｍ Ｈａｌｌ，Ｃａｍｐｕｓ Ｂｏｘ ４１０５，Ｃｈａｐｅｌ Ｈｉｌｌ，Ｎｏｒｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ ２７５９９−４１０５， Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ
【出願人】（５０６２０７５３２）ノース カロライナ ステイト ユニバーシティ (4)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月１０日（２０１１．５．１０）
【分割の表示】特願２００６−５４５５４１（Ｐ２００６−５４５５４１）の分割
【原出願日】平成１６年１２月２０日（２００４．１２．２０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５０１３４５３２３）ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル (52)
【氏名又は名称原語表記】ＴＨＥ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ ＯＦ ＮＯＲＴＨ ＣＡＲＯＬＩＮＡ ＡＴ ＣＨＡＰＥＬ ＨＩＬＬ
【住所又は居所原語表記】３０８ Ｂｙｎｕｍ Ｈａｌｌ，Ｃａｍｐｕｓ Ｂｏｘ ４１０５，Ｃｈａｐｅｌ Ｈｉｌｌ，Ｎｏｒｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ ２７５９９−４１０５， Ｕｎｉｔｅｄ Ｓｔａｔｅｓ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ
【出願人】（５０６２０７５３２）ノース カロライナ ステイト ユニバーシティ (4)
【Ｆターム（参考）】
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