テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体の製造方法
【課題】医薬、殊にヘルペスウイルス科のウイルス感染に伴う各種疾患、具体的には、水痘帯状疱疹ウイルス感染に伴う水痘（水疱瘡）、潜伏した水痘帯状疱疹ウイルスの回帰感染に伴う帯状疱疹、HSV-1感染に伴う口唇ヘルペスやヘルペス脳炎、HSV-2感染に伴う性器ヘルペス等の、各種ヘルペスウイルス感染症の予防もしくは治療に有用な新規化合物の製造方法の提供。
【解決手段】フェニル基の４位が１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基または４−オキサゾリル黄で置換されたＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体を対応するアニリン誘導体とカルボン酸化合物から製造する方法。
【解決手段】フェニル基の４位が１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基または４−オキサゾリル黄で置換されたＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体を対応するアニリン誘導体とカルボン酸化合物から製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬、殊にヘルペスウイルスが関与する疾患の予防並びに治療に有用な新規テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヘルペスウイルス科のウイルスはヒト及び動物に対し様々な感染症を引き起こす。例えば、水痘帯状疱疹ウイルス（varicella zoster virus；VZV）は、水痘、帯状疱疹を引き起こし、単純ヘルペスウイルス-1型及び-2型（herpes simplex virus type1及び-2；HSV-1及びHSV-2）はそれぞれ口唇ヘルペス、性器ヘルペス等の感染症を引き起こすことが知られている。また近年、サイトメガロウイルス（cytomegalovirus;CMV）、EBウイルス（Epstein-Barr virus; EBV）、ヒトヘルペスウイルス（human herpesvirus）6、7及び8などのへルペスウイルスが原因となる感染症も明らかにされてきている。
現在、VZVやHSVの抗ヘルペスウイルス薬として、アシクロビル（ACV）、そのプロドラッグであるバラシクロビル（VCV）及びファンシクロビル（FCV）などの核酸系の薬剤が使用されている。これら核酸系の薬剤は、VZVやHSVがコードするウイルスチミジンキナーゼによりヌクレオシドモノホスフェートにモノリン酸化された後に、細胞の酵素によりトリホスフェート体に変換される。最終的に、トリリン酸化ヌクレオシド類縁体がヘルペスウイルスDNAポリメラーゼによるウイルスゲノムの複製中に取り込まれ、ウイルスDNA鎖の伸長反応を抑制する。この様に、既存の抗ヘルペスウイルス剤の作用メカニズムは、デオキシヌクレオシドトリホスフェートに対する“競合的阻害”効果に基づいているため、抗ウイルス効果を発揮させるには高濃度の薬剤が必要になる。実際、これらの核酸系抗ヘルペス剤の臨床投与量は1日数百mgから数gもの高用量が投与されているのが現状である。さらに核酸系の薬剤は宿主のDNAポリメラーゼにより、宿主のゲノムDNAに取り込まれ得るため、その変異原性が懸念される。
本出願人等は、先に良好な抗ヘルペスウイルス活性を有する、下式で示されるアミド基のＮ原子に基Ａとして芳香環基であるアリール又はヘテロアリール基が直接置換している点に特徴を有するチアゾリルフェニルカルバモイルメチル基で置換されたアミド化合物又はその塩を見出し特許出願した（特許文献１及び特許文献２）。
【化２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、−Ｈ、−低級アルキル、−ＮＲａＲｂ等を、Ａは−置換基を有していてもよいアリール、−置換基を有していてもよいヘテロアリール等を、ＸはＣＯ又はＳＯ2を、Ｒ3は、−置換基を有していてもよいアリール、−置換基を有していてもよいヘテロ環、等を意味する。詳細は当該公報参照。）
また、本願の優先日後に公開となった本出願人等による出願（特許文献３）には、下式で示される化合物が開示されている。
【化３】
（式中、Ｚは、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、４−オキサゾリル等を、Ａは置換基を有していてもよいアリール等を、ＸはＣＯ又はＳＯ2を、Ｒ3は置換基を有していてもよいヘテロ環等を意味する。詳細は当該公報参照。）
【０００３】
【特許文献１】国際公開第02/38554号パンフレット
【特許文献２】国際公開第03/95435号パンフレット
【特許文献３】国際公開第05/014559号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
今なお、十分な抗ヘルペスウイルス活性を有し、かつ非核酸系で投与量が少なく安全性の高い、経口投与に適した抗ヘルペスウイルス剤の創製が切望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、抗ヘルペスウイルス作用を有する化合物の製造方法につき鋭意検討した結果、下記一般式（Ｉ）に示すように、従来のアミノ置換チアゾール環に代えて、Ｚ環として１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基を導入した点に構造上の特徴を有し、良好な抗ヘルペスウイルス活性を有する新規なテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体の製造方法を見出し、本発明を完成したものである。
【０００６】
即ち、本発明は、下記一般式（II）で示されるアニリン誘導体と一般式（III）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、新規なＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法、並びに、下記一般式（IV）で示されるアニリン誘導体と一般式（V）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、Ｎ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法に関する。
【化４】
（式中の記号は以下の意味を示す。
Ｚ：１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基、
Ａ：少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は５−インダニル基。以下同様。）
【０００７】
殊に、一般式（I）で示される化合物としては、以下の化合物が好ましい。
（１） Ｚが、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基である化合物。
（２） Ｚが、４−オキサゾリル基である化合物。
（３） Ａが、少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基である化合物。
（４） Ａが、５−インダニル基である化合物。
（５）N-(2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジヒドロ-1H-インデン-5-イル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-クロロ-3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3,5-ジフルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-フルオロ-2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジヒドロ-1H-インデン-5-イル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-クロロ-3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
からなる群から選択される化合物。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の製造方法は、良好な抗ヘルペスウイルス作用を有する化合物（I）を工業的に生産する方法として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の製造方法によって製造される一般式（Ｉ）のＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物をさらに説明する。
本発明において「ハロゲン原子」としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩ原子が挙げられる。
本発明化合物には、一般式（Ｉ）で示されるＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の水和物や各種の溶媒和物及び結晶多形の物質も包含される。
【００１０】
本発明の製造方法を更に説明する。
なお、以下の製造方法において、官能基の種類によっては、当該官能基を原料ないし中間体の段階で適当な保護基、すなわち容易に当該官能基に転化可能な基に置き換えておくことが製造技術上効果的な場合がある。しかるのち、必要に応じて保護基を除去し、所望の化合物を得ることができる。このような官能基としては例えばアミノ基、水酸基、カルボキシル基等を挙げることができ、それらの保護基としては例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 第３版（T. W. GreenおよびP. G. M. Wuts著、JOHN WILLY & SONS, INC.発行）に記載の保護基を挙げることができ、これらを反応条件に応じて適宜用いればよい。保護基の導入及び脱保護は当該参考書記載の方法を適時適用できる。
【００１１】
第一製法
【化５】
化合物（Ｉ）はカルボン酸化合物（III）とアニリン誘導体（II）をアミド化反応に付すことによって製造できる。
アミド化反応は常法により行うことができ、例えば、日本化学会編「実験化学講座」第４版(丸善) 22巻ｐ137〜173に記載の方法を適用できる。好ましくは、カルボン酸化合物（III）を反応性誘導体、例えば酸ハロゲン化物（酸クロリド等）又は酸無水物に変換した後、アニリン誘導体（II）に反応させることにより行うことができる。一例としては、カルボン酸化合物（III）に対し、1-メチルイミダソールとメタンスルホニルクロライドもしくはp-トルエンスルホニルクロライドを反応させ反応性誘導体にした後、アニリン誘導体（II）に反応させる方法が挙げられる。
カルボン酸の反応性誘導体を用いる場合、塩基（炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、又は、トリエチルアミン（TEA）、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基）を添加することが好ましい。
また、アミド化はカルボン酸を、（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（WSC）、１,１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール（CDI）等）の存在下、反応させることにより行うこともできる。その際、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（HOBt）等の添加剤を加えてもよい。反応温度は、原料化合物に応じて適宜選択できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、ピリジン等の塩基性溶媒等が挙げられる。溶媒は原料化合物の種類等に従い適宜選択され、単独で、又は２種以上混合して用いられる。
好ましい態様としては、例えば、カルボン酸化合物（III）とほぼ当量のアニリン誘導体（II）を、１０〜１００倍量のジクロロメタン若しくはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、あるいはアセトニトリル等のニトリル系溶媒に溶解させ、約０℃〜室温にてWSC・HClを１当量以上加え、１時間〜１２時間攪拌し、所望の化合物（I）を得る方法が挙げられる。
【００１２】
前記の各原料化合物は、公知の反応、例えば日本化学会編「実験化学講座」(丸善)や国際公開第02/38554号パンフレットに記載の反応等を用いて、容易に製造することができる。以下にその代表的な製法を示す。
【化６】
化合物（III）の製法
（式中、Halはハロゲンを、Ｒは低級アルキル、アラルキル等のエステル残基を形成しうる基を意味する。）
上記反応経路図中、アミド化は前記第一製法記載の方法と同様にして行うことができる。
化合物（VI）のＮ−アルキル化は、ハロゲン化アルキル化合物（VII）を用いて、常法、例えば、前出の「実験化学講座」第４版(丸善) 20巻ｐ279〜318記載の方法により行うことができる。反応温度は冷却下乃至加熱下、好ましくは０℃〜１００℃で行うことができ、溶媒は反応に不活性な溶媒、例えば前記第一製法のアミド化に例示される溶媒等が挙げられ、好ましくはニトリル系溶媒、アミド系溶媒を用いることができる。反応は、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の塩基の存在下行うことが好ましい。アミド化は前記第一製法と同様に行う事ができる。なお、先にアミド化を実施した後、Ｎ−アルキル化を行ってもよい。
【００１３】
カルボン酸化合物（III）を得るための脱保護は、エステルの種類に応じて適宜常法を適用して行うことができる。好ましくは、エチルエステル等のアルキルエステルの場合は、エタノール等のアルコール系溶媒中、室温〜８０℃において、１当量モル以上の水酸化ナトリウム水溶液等の塩基で処理することにより、ベンジルエステル等のアラルキルエステルの場合はエタノール等のアルコール系溶媒中、室温にて水素雰囲気下パラジウム−炭素（Pd-C）で還元することにより行うことができる。反応は、前記Protective Groups in Organic Synthesis 第３版記載の方法に準じて行うことができる。
また、置換基の種類によっては、更に当業者によく知られる置換基修飾反応に付して、所望の原料化合物を製造することができる。
本発明の製造方法によって製造された化合物（I）は、遊離のまま、又は常法による造塩処理を施し、その塩として単離・精製される。単離・精製は抽出、濃縮、留去、結晶化、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常の化学操作を適応して行われる。
【００１４】
本発明の製造方法により得られた化合物（I）はその１種又は２種以上を有効成分として含有する医薬品の製造原体として利用できる。ここに化合物（I）を適用した医薬品は、当分野において通常用いられている薬剤用担体、賦形剤等を用いて通常使用されている方法によって調製することができ、錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、液剤等による経口投与用医薬、又は、静注、筋注等の注射剤、軟膏剤、硬膏剤、クリーム剤、ゼリー剤、パップ剤、噴霧剤、ローション剤、点眼剤、眼軟膏等の外用剤、坐剤、吸入剤等による非経口投与用医薬のいずれの形態であってもよい。
【００１５】
本発明製造方法により得られる化合物（I）の薬理作用は以下の試験により確認された。
試験例１ 抗VZV活性試験
実験は、Shigeta S. The Journal of Infectious Diseases, 147, 3, 576-584, (1983)記載の方法に従って実施した。具体的には、10,000個のヒト胎児繊維芽(HEF)細胞を増殖培地（10%（v/v）のウシ胎児血清（FBS、シグマ社）を補給したEagle MEM（ニッスイ社））を用いて96ウェル・ミクロタイター・プレートに播き、37℃、5%CO2下で4日間、monolayerとなるまで培養した。細胞を維持培地で洗浄後に、20〜30pfu／100μLとなるように維持培地（2%のFBSを補給したEagle MEM）で希釈したVZV（CaQu株）を100μL／ウェルずつ接種した。プレートを2000rpmで20分間室温で遠心後、37℃、5%CO2下で３時間保温し、VZVを感染させた。維持培地で３回洗浄後、維持培地で希釈された適当な濃度の試験薬剤100μLを各ウェルに添加した。細胞を37℃、5%CO2下で３〜４日間培養した後に、10％ホルマリン／PBSを100μL／ウェル加え、２〜３時間細胞を固定した。固定液と培養上清を捨てて、プレートを水洗した後、染色液（0.025% クリスタルバイオレット）を50μL／ウェルずつ添加し、２〜３分間染色後、水洗を行い37℃でプレートを乾燥させた。VZVに感染したHEF細胞が細胞死を起こし、monolayerのHEF細胞中に死細胞よりなるプラークが形成される。顕微鏡でプラーク数を計測し、試験薬剤のEC50値をこのプラークを50%抑制する濃度として算出した。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）のEC50値(μM）を後記表１に示す。本発明の製造方法により得られた化合物（I）は良好なVZVに対する抗ウイルス作用を有していた。
【００１６】
試験例２ 抗HSV-1活性試験
10,000個のMRC-5細胞を増殖培地（10%のFBSを補給したEagle MEM（ニッスイ社））を用いて96ウェル・ミクロタイター・プレートに播き、37℃、5%CO2下で4-5日間、monolayerとなるまで培養した。細胞を維持培地（2%のFBSを補給したEagle MEM）で洗浄後に、各ウェルに適当な濃度の試験試薬が溶解された100μLの維持培地を添加した。試験薬剤の添加直後に、50 TCID50（50% tissue culture infectious dose）／100μLのHSV-1（KOS株）液を接種した。
細胞を37℃、5%CO2下で5日間培養した後に、MTT（3-(4,5-Dimethyl-2-thiazolyl) -2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide, シグマ社）溶液（7.5mg/mlにPBSで希釈）を各ウェルに20μLを添加し、さらに24時間インキュベートした。その後、培地を除去し、溶出液（イソプロパノールに10%Triton×100(v/v)と0.4%塩酸を添加）100μLを各ウェルに添加し、産生されたホルマザンを可溶化した。マイクロプレートリーダーで540nmおよび690nmを測定し、HSV-1の複製によるMRC-5細胞の細胞死の抑制率(%)から、試験薬剤のEC50値を算出した。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）のEC50値(μM）を後記表１に示す。本発明の製造方法により得られた化合物（I）は良好なHSV-1に対する抗ウイルス作用を有していた。
【００１７】
【表１】
【００１８】
試験例３ HSV-1皮膚感染マウスモデル（in vivo試験）
H.Machidaらの方法（Antiviral Res. 1992 17 133-143）に準じ、HSV-1皮膚感染マウスモデルを用いて本発明医薬組成物のin vivo作用を試験した。ジエチルエーテル麻酔下のHR-1無毛マウス（メス、7週令）の皮膚を注射針で縦横数回擦過し、当該部位に、ウイルス液（HSV-1 WT-51株 1.5 x 104 PFU/15μL）を滴下し浸透させることによりHSV-1を感染させた。
被験化合物はメチルセルロース懸濁液(但し、*は20%CremophorEL(ナカライテスク)／20%ポリエチレングリコール(PEG)400／60%H2O溶液)として、10 mg/kgの用量で1日2回5日間、感染3時間後から経口投与した。HSV-1感染による皮膚病変部の症状を以下の７段階にスコア化し17日間評価した。
Score 0: 病変なし
Score 1: 視覚できる1個ないし2個程度の小さな水疱形成
Score 2: 数個の水疱形成
Score 3: 部分的に融合した大きな水疱形成
Score 4: 帯状疱疹様の水疱形成
Score 5: 部分的な潰瘍形成
Score 6: 帯状疱疹様の潰瘍形成
Score 7: 後足の麻痺および死亡
各群の平均病変スコアからAUC値を算出し、プラセボ投与群に対する各化合物投与群の病変阻害率を求めた。結果を下表に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】
本発明の製造方法により得られた化合物（I）投与群の病変阻害率は非常に高く、病変部の症状悪化を良好に抑えることが確認された。当該作用は、特許文献１に開示される化合物に比して優れていた。
以上の通り、in vivo動物モデルにおいて、本発明の製造方法により得られた化合物（I）は経口投与において良好な抗ヘルペスウイルス作用を有することが確認され、その作用は、特許文献１に開示される化合物と比して優れていた。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）は、核酸系でないこと、並びに良好な抗ウイルス活性を呈することから、より安全性の高い抗ヘルペスウイルス剤となりうることが期待された。
【実施例】
【００２１】
以下に本発明の製造方法を実施例として示す。なお、以下の反応に用いられる原料化合物の多くは、特許文献１（国際公開第02/38554号パンフレット）等により公知であり、これらの公知文献記載の方法によって容易に入手できる。原料化合物中、新規な化合物の製造例を参考例として示す。
参考例１： ４−（４−ニトロフェニル）−１,３−オキサゾールのエタノールとテトラヒドロフラン混合懸濁液に５％パラジウムーカーボン粉末を加え、水素雰囲気下室温にて１２時間攪拌した後、反応溶液をセライト濾過し、濾液を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、[４−（１,３−オキサゾール−４−イル）フェニル]アミン（淡黄色固体）を得た。Electron Impact-MS (M)+：160。
参考例２： ４−メチルアニリンのDMF溶液に炭酸カリウムとエチル ブロモアセテートを加え加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えた後、有機層を分液し、洗浄・乾燥後、溶媒を減圧留去し粗生成物を得た。これを塩化メチレンに溶解し、ピリジン、テトラヒドロ−２H−チオピラン−４−カルボニルクロライド １、１−ジオキサイドを加え攪拌した。反応溶液を濃縮後、１Ｍ塩酸、クロロホルムを加え、有機層を分液し、洗浄・乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、エチル ｛［（１、１−ジオキソテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル］（４−メチルフェニル）アミノ｝アセテート（無色油状物）を得た。FAB-MS [(M+H)+]：354。
参考例３〜１５： 参考例２と同様に処理して、後記表３に記載される参考例３〜１５の化合物を得た。
【００２２】
実施例１： エチル{（２,６−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}アセテート(735mg)のエタノール(10mL)溶液に１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液(2.3mL)を加えた後、室温にて５時間攪拌した。反応溶液に１Ｍ塩酸を加え液性を酸性とした後、水、クロロホルムを加え有機層を分液した。更に、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られたカルボン酸粗生成物をクロロホルム(15mL)に溶解させた後、WSC・HCl(422mg)、[４−（１,３−オキサゾール−４−イル）フェニル]アミン(320mg)を順次加え室温にて4時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をヘキサン−酢酸エチル（＝3/2）で洗った後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を610mg得た。
実施例２： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテルで洗い、Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を374mg得た。
【００２３】
実施例３： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテルで洗い、Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を325mg得た。
実施例４： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（２−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（２−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を314mg得た。
実施例５： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例５の化合物を得た。
【００２４】
実施例６： ｛（２，４−ジメチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(339mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を276mg得た。
実施例７： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例７の化合物を得た。
実施例８： ｛（３，４−ジメチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(339mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１９／１）にて精製し、Ｎ−（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を397mg得た。
【００２５】
実施例９及び１０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例９及び１０の化合物を得た。
実施例１１： ｛２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(351mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテル洗い、Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を484mg得た。
実施例１２： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１２の化合物を得た。
実施例１３： ｛（４−クロロ−３−メチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(225mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(132mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(100mg)を順次加え、室温にて４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を185mg得た。
【００２６】
実施例１４： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−フルオロ−４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(214mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(132mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(100mg)を順次加え、室温にて１３時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を175mg得た。
実施例１５及び１６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１５及び１６の化合物を得た。
実施例１７： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−フルオロ−２，４−ジメチルフェニル）アミノ}酢酸(246mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(145mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(110mg)を順次加え、室温にて４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３−フルオロ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を97mg得た。
【００２７】
実施例１８： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１８の化合物を得た。
実施例１９： ｛（３，５−ジフルオロ−４−メチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(361mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて５時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３，５−ジフルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を286mg得た。
実施例２０： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（２−フルオロ−４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(343mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(230mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて２時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１９／１）にて精製した。得られた固体をエーテルで洗い、Ｎ−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を196mg得た。
【００２８】
実施例２１〜２３： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２１〜２３の化合物を得た。
実施例２４： ｛（２,３−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(291mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(245mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(140mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を274mg得た。
実施例２５： ｛（２,４−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(340mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(230mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(160mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を315mg得た。
【００２９】
実施例２６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２６の化合物を得た。
実施例２７： ｛（２,６−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(2000mg)をクロロホルム(100mL)に溶解させた後、WSC・HCl(1400mg)、[４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル]アミン(950mg)を順次加え室温にて１時間攪拌した。反応溶液に１０％炭酸カリウム水溶液を加え有機層を分液した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノール/水（9/1）から再結晶して、Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を2500mg得た。
実施例２８〜３０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２８〜３０の化合物を得た。
実施例３１： エチル−｛［（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル］（４−フルオロ−２,６−ジメチルフェニル）アミノ｝アセテート(1.61g)のエタノール/ＴＨＦ(20/5mL)溶液に１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液(10mL)を加えた後、室温にて２時間攪拌した。反応溶液に１Ｍ塩酸を加え液性を酸性とし、クロロホルムで有機層を分液した。更に、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去し、カルボン酸粗生成物を1.39g得た。このカルボン酸粗生成物(357mg)と４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(161mg)の混合物に、DMF(10mL)、WSC・HCl(210mg)、HOBt・H2O(168mg)を順次加え60℃にて6時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をジエチルエーテルで洗浄後、エタノール−水−アセトニトリルから再結晶して、Ｎ−（４−フルオロ−２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，２，４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を220mg得た。
【００３０】
実施例３２： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３２の化合物を得た。
実施例３３： ｛２,３−ジヒドロ−１H−インデン−５−イル[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(350mg)をクロロホルム(6mL)に溶解させた後、WSC・HCl(210mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(160mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製して、Ｎ−（２,３−ジヒドロ−１H−インデン−５−イル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を540mg得た。
実施例３４： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３４の化合物を得た。
実施例３５： ｛（３−フルオロ−４−メチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(237mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(200mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(111mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶して、Ｎ−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を139mg得た。
【００３１】
実施例３６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３６の化合物を得た。
実施例３７： ｛（４−クロロ−３−メチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(200mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(160mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(88mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶して、Ｎ−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を143mg得た。
【００３２】
実施例３８： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３８の化合物を得た。
実施例３９： ｛（３−フルオロ−２,４−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(150mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(160mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(68mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、ジエチルエーテルにて洗浄して、Ｎ−（３−フルオロ−２,４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を46mg得た。
実施例４０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例４０の化合物を得た。
【００３３】
参考例化合物の物理化学的性状を表３に、実施例化合物の構造並びに物理化学的性状を表４〜１１に示す。
【００３４】
表中の略号は、 Ref：参考例； Ex：実施例； Dat：物理化学的性状｛F+：FAB-MS [(M+H)+]； F-：FAB-MS [(M-H)-]； N1：1H-NMR(DMSO-d6，TMS内部標準）の特徴的ピークδppm； mp：融点(℃)、括弧の中は結晶化溶媒を示す｝； Ph：フェニル； Me:メチル； Et:エチル；及びiPr：イソプロピルをそれぞれ示す。なお、置換基の前の数字は置換位置を示し、例えば、3,4-(Cl)2-5-F-Phは、３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル基を示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】
【表５】
【００３８】
【表６】
【００３９】
【表７】
【００４０】
【表８】
【００４１】
【表９】
【００４２】
【表１０】
【００４３】
【表１１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬、殊にヘルペスウイルスが関与する疾患の予防並びに治療に有用な新規テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヘルペスウイルス科のウイルスはヒト及び動物に対し様々な感染症を引き起こす。例えば、水痘帯状疱疹ウイルス（varicella zoster virus；VZV）は、水痘、帯状疱疹を引き起こし、単純ヘルペスウイルス-1型及び-2型（herpes simplex virus type1及び-2；HSV-1及びHSV-2）はそれぞれ口唇ヘルペス、性器ヘルペス等の感染症を引き起こすことが知られている。また近年、サイトメガロウイルス（cytomegalovirus;CMV）、EBウイルス（Epstein-Barr virus; EBV）、ヒトヘルペスウイルス（human herpesvirus）6、7及び8などのへルペスウイルスが原因となる感染症も明らかにされてきている。
現在、VZVやHSVの抗ヘルペスウイルス薬として、アシクロビル（ACV）、そのプロドラッグであるバラシクロビル（VCV）及びファンシクロビル（FCV）などの核酸系の薬剤が使用されている。これら核酸系の薬剤は、VZVやHSVがコードするウイルスチミジンキナーゼによりヌクレオシドモノホスフェートにモノリン酸化された後に、細胞の酵素によりトリホスフェート体に変換される。最終的に、トリリン酸化ヌクレオシド類縁体がヘルペスウイルスDNAポリメラーゼによるウイルスゲノムの複製中に取り込まれ、ウイルスDNA鎖の伸長反応を抑制する。この様に、既存の抗ヘルペスウイルス剤の作用メカニズムは、デオキシヌクレオシドトリホスフェートに対する“競合的阻害”効果に基づいているため、抗ウイルス効果を発揮させるには高濃度の薬剤が必要になる。実際、これらの核酸系抗ヘルペス剤の臨床投与量は1日数百mgから数gもの高用量が投与されているのが現状である。さらに核酸系の薬剤は宿主のDNAポリメラーゼにより、宿主のゲノムDNAに取り込まれ得るため、その変異原性が懸念される。
本出願人等は、先に良好な抗ヘルペスウイルス活性を有する、下式で示されるアミド基のＮ原子に基Ａとして芳香環基であるアリール又はヘテロアリール基が直接置換している点に特徴を有するチアゾリルフェニルカルバモイルメチル基で置換されたアミド化合物又はその塩を見出し特許出願した（特許文献１及び特許文献２）。
【化２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、−Ｈ、−低級アルキル、−ＮＲａＲｂ等を、Ａは−置換基を有していてもよいアリール、−置換基を有していてもよいヘテロアリール等を、ＸはＣＯ又はＳＯ2を、Ｒ3は、−置換基を有していてもよいアリール、−置換基を有していてもよいヘテロ環、等を意味する。詳細は当該公報参照。）
また、本願の優先日後に公開となった本出願人等による出願（特許文献３）には、下式で示される化合物が開示されている。
【化３】
（式中、Ｚは、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、４−オキサゾリル等を、Ａは置換基を有していてもよいアリール等を、ＸはＣＯ又はＳＯ2を、Ｒ3は置換基を有していてもよいヘテロ環等を意味する。詳細は当該公報参照。）
【０００３】
【特許文献１】国際公開第02/38554号パンフレット
【特許文献２】国際公開第03/95435号パンフレット
【特許文献３】国際公開第05/014559号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
今なお、十分な抗ヘルペスウイルス活性を有し、かつ非核酸系で投与量が少なく安全性の高い、経口投与に適した抗ヘルペスウイルス剤の創製が切望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、抗ヘルペスウイルス作用を有する化合物の製造方法につき鋭意検討した結果、下記一般式（Ｉ）に示すように、従来のアミノ置換チアゾール環に代えて、Ｚ環として１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基を導入した点に構造上の特徴を有し、良好な抗ヘルペスウイルス活性を有する新規なテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド誘導体の製造方法を見出し、本発明を完成したものである。
【０００６】
即ち、本発明は、下記一般式（II）で示されるアニリン誘導体と一般式（III）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、新規なＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法、並びに、下記一般式（IV）で示されるアニリン誘導体と一般式（V）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、Ｎ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法に関する。
【化４】
（式中の記号は以下の意味を示す。
Ｚ：１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基、
Ａ：少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は５−インダニル基。以下同様。）
【０００７】
殊に、一般式（I）で示される化合物としては、以下の化合物が好ましい。
（１） Ｚが、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基である化合物。
（２） Ｚが、４−オキサゾリル基である化合物。
（３） Ａが、少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基である化合物。
（４） Ａが、５−インダニル基である化合物。
（５）N-(2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジヒドロ-1H-インデン-5-イル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-クロロ-3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3,5-ジフルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,3-オキサゾール-4-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-フルオロ-2,6-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(2,3-ジヒドロ-1H-インデン-5-イル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-4-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(4-クロロ-3-メチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
N-(3-フルオロ-2,4-ジメチルフェニル)-N-(2-{[4-(1,2,4-オキサジアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}-2-オキソエチル)テトラヒドロ-2H-チオピラン-4-カルボキサミド 1,1-ジオキシド、
からなる群から選択される化合物。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の製造方法は、良好な抗ヘルペスウイルス作用を有する化合物（I）を工業的に生産する方法として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の製造方法によって製造される一般式（Ｉ）のＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物をさらに説明する。
本発明において「ハロゲン原子」としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩ原子が挙げられる。
本発明化合物には、一般式（Ｉ）で示されるＮ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の水和物や各種の溶媒和物及び結晶多形の物質も包含される。
【００１０】
本発明の製造方法を更に説明する。
なお、以下の製造方法において、官能基の種類によっては、当該官能基を原料ないし中間体の段階で適当な保護基、すなわち容易に当該官能基に転化可能な基に置き換えておくことが製造技術上効果的な場合がある。しかるのち、必要に応じて保護基を除去し、所望の化合物を得ることができる。このような官能基としては例えばアミノ基、水酸基、カルボキシル基等を挙げることができ、それらの保護基としては例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 第３版（T. W. GreenおよびP. G. M. Wuts著、JOHN WILLY & SONS, INC.発行）に記載の保護基を挙げることができ、これらを反応条件に応じて適宜用いればよい。保護基の導入及び脱保護は当該参考書記載の方法を適時適用できる。
【００１１】
第一製法
【化５】
化合物（Ｉ）はカルボン酸化合物（III）とアニリン誘導体（II）をアミド化反応に付すことによって製造できる。
アミド化反応は常法により行うことができ、例えば、日本化学会編「実験化学講座」第４版(丸善) 22巻ｐ137〜173に記載の方法を適用できる。好ましくは、カルボン酸化合物（III）を反応性誘導体、例えば酸ハロゲン化物（酸クロリド等）又は酸無水物に変換した後、アニリン誘導体（II）に反応させることにより行うことができる。一例としては、カルボン酸化合物（III）に対し、1-メチルイミダソールとメタンスルホニルクロライドもしくはp-トルエンスルホニルクロライドを反応させ反応性誘導体にした後、アニリン誘導体（II）に反応させる方法が挙げられる。
カルボン酸の反応性誘導体を用いる場合、塩基（炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基、又は、トリエチルアミン（TEA）、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基）を添加することが好ましい。
また、アミド化はカルボン酸を、（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（WSC）、１,１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール（CDI）等）の存在下、反応させることにより行うこともできる。その際、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（HOBt）等の添加剤を加えてもよい。反応温度は、原料化合物に応じて適宜選択できる。溶媒は、反応に不活性な溶媒、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン（THF）、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、ピリジン等の塩基性溶媒等が挙げられる。溶媒は原料化合物の種類等に従い適宜選択され、単独で、又は２種以上混合して用いられる。
好ましい態様としては、例えば、カルボン酸化合物（III）とほぼ当量のアニリン誘導体（II）を、１０〜１００倍量のジクロロメタン若しくはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、あるいはアセトニトリル等のニトリル系溶媒に溶解させ、約０℃〜室温にてWSC・HClを１当量以上加え、１時間〜１２時間攪拌し、所望の化合物（I）を得る方法が挙げられる。
【００１２】
前記の各原料化合物は、公知の反応、例えば日本化学会編「実験化学講座」(丸善)や国際公開第02/38554号パンフレットに記載の反応等を用いて、容易に製造することができる。以下にその代表的な製法を示す。
【化６】
化合物（III）の製法
（式中、Halはハロゲンを、Ｒは低級アルキル、アラルキル等のエステル残基を形成しうる基を意味する。）
上記反応経路図中、アミド化は前記第一製法記載の方法と同様にして行うことができる。
化合物（VI）のＮ−アルキル化は、ハロゲン化アルキル化合物（VII）を用いて、常法、例えば、前出の「実験化学講座」第４版(丸善) 20巻ｐ279〜318記載の方法により行うことができる。反応温度は冷却下乃至加熱下、好ましくは０℃〜１００℃で行うことができ、溶媒は反応に不活性な溶媒、例えば前記第一製法のアミド化に例示される溶媒等が挙げられ、好ましくはニトリル系溶媒、アミド系溶媒を用いることができる。反応は、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等の塩基の存在下行うことが好ましい。アミド化は前記第一製法と同様に行う事ができる。なお、先にアミド化を実施した後、Ｎ−アルキル化を行ってもよい。
【００１３】
カルボン酸化合物（III）を得るための脱保護は、エステルの種類に応じて適宜常法を適用して行うことができる。好ましくは、エチルエステル等のアルキルエステルの場合は、エタノール等のアルコール系溶媒中、室温〜８０℃において、１当量モル以上の水酸化ナトリウム水溶液等の塩基で処理することにより、ベンジルエステル等のアラルキルエステルの場合はエタノール等のアルコール系溶媒中、室温にて水素雰囲気下パラジウム−炭素（Pd-C）で還元することにより行うことができる。反応は、前記Protective Groups in Organic Synthesis 第３版記載の方法に準じて行うことができる。
また、置換基の種類によっては、更に当業者によく知られる置換基修飾反応に付して、所望の原料化合物を製造することができる。
本発明の製造方法によって製造された化合物（I）は、遊離のまま、又は常法による造塩処理を施し、その塩として単離・精製される。単離・精製は抽出、濃縮、留去、結晶化、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常の化学操作を適応して行われる。
【００１４】
本発明の製造方法により得られた化合物（I）はその１種又は２種以上を有効成分として含有する医薬品の製造原体として利用できる。ここに化合物（I）を適用した医薬品は、当分野において通常用いられている薬剤用担体、賦形剤等を用いて通常使用されている方法によって調製することができ、錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、液剤等による経口投与用医薬、又は、静注、筋注等の注射剤、軟膏剤、硬膏剤、クリーム剤、ゼリー剤、パップ剤、噴霧剤、ローション剤、点眼剤、眼軟膏等の外用剤、坐剤、吸入剤等による非経口投与用医薬のいずれの形態であってもよい。
【００１５】
本発明製造方法により得られる化合物（I）の薬理作用は以下の試験により確認された。
試験例１ 抗VZV活性試験
実験は、Shigeta S. The Journal of Infectious Diseases, 147, 3, 576-584, (1983)記載の方法に従って実施した。具体的には、10,000個のヒト胎児繊維芽(HEF)細胞を増殖培地（10%（v/v）のウシ胎児血清（FBS、シグマ社）を補給したEagle MEM（ニッスイ社））を用いて96ウェル・ミクロタイター・プレートに播き、37℃、5%CO2下で4日間、monolayerとなるまで培養した。細胞を維持培地で洗浄後に、20〜30pfu／100μLとなるように維持培地（2%のFBSを補給したEagle MEM）で希釈したVZV（CaQu株）を100μL／ウェルずつ接種した。プレートを2000rpmで20分間室温で遠心後、37℃、5%CO2下で３時間保温し、VZVを感染させた。維持培地で３回洗浄後、維持培地で希釈された適当な濃度の試験薬剤100μLを各ウェルに添加した。細胞を37℃、5%CO2下で３〜４日間培養した後に、10％ホルマリン／PBSを100μL／ウェル加え、２〜３時間細胞を固定した。固定液と培養上清を捨てて、プレートを水洗した後、染色液（0.025% クリスタルバイオレット）を50μL／ウェルずつ添加し、２〜３分間染色後、水洗を行い37℃でプレートを乾燥させた。VZVに感染したHEF細胞が細胞死を起こし、monolayerのHEF細胞中に死細胞よりなるプラークが形成される。顕微鏡でプラーク数を計測し、試験薬剤のEC50値をこのプラークを50%抑制する濃度として算出した。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）のEC50値(μM）を後記表１に示す。本発明の製造方法により得られた化合物（I）は良好なVZVに対する抗ウイルス作用を有していた。
【００１６】
試験例２ 抗HSV-1活性試験
10,000個のMRC-5細胞を増殖培地（10%のFBSを補給したEagle MEM（ニッスイ社））を用いて96ウェル・ミクロタイター・プレートに播き、37℃、5%CO2下で4-5日間、monolayerとなるまで培養した。細胞を維持培地（2%のFBSを補給したEagle MEM）で洗浄後に、各ウェルに適当な濃度の試験試薬が溶解された100μLの維持培地を添加した。試験薬剤の添加直後に、50 TCID50（50% tissue culture infectious dose）／100μLのHSV-1（KOS株）液を接種した。
細胞を37℃、5%CO2下で5日間培養した後に、MTT（3-(4,5-Dimethyl-2-thiazolyl) -2,5-diphenyl-2H-tetrazolium bromide, シグマ社）溶液（7.5mg/mlにPBSで希釈）を各ウェルに20μLを添加し、さらに24時間インキュベートした。その後、培地を除去し、溶出液（イソプロパノールに10%Triton×100(v/v)と0.4%塩酸を添加）100μLを各ウェルに添加し、産生されたホルマザンを可溶化した。マイクロプレートリーダーで540nmおよび690nmを測定し、HSV-1の複製によるMRC-5細胞の細胞死の抑制率(%)から、試験薬剤のEC50値を算出した。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）のEC50値(μM）を後記表１に示す。本発明の製造方法により得られた化合物（I）は良好なHSV-1に対する抗ウイルス作用を有していた。
【００１７】
【表１】
【００１８】
試験例３ HSV-1皮膚感染マウスモデル（in vivo試験）
H.Machidaらの方法（Antiviral Res. 1992 17 133-143）に準じ、HSV-1皮膚感染マウスモデルを用いて本発明医薬組成物のin vivo作用を試験した。ジエチルエーテル麻酔下のHR-1無毛マウス（メス、7週令）の皮膚を注射針で縦横数回擦過し、当該部位に、ウイルス液（HSV-1 WT-51株 1.5 x 104 PFU/15μL）を滴下し浸透させることによりHSV-1を感染させた。
被験化合物はメチルセルロース懸濁液(但し、*は20%CremophorEL(ナカライテスク)／20%ポリエチレングリコール(PEG)400／60%H2O溶液)として、10 mg/kgの用量で1日2回5日間、感染3時間後から経口投与した。HSV-1感染による皮膚病変部の症状を以下の７段階にスコア化し17日間評価した。
Score 0: 病変なし
Score 1: 視覚できる1個ないし2個程度の小さな水疱形成
Score 2: 数個の水疱形成
Score 3: 部分的に融合した大きな水疱形成
Score 4: 帯状疱疹様の水疱形成
Score 5: 部分的な潰瘍形成
Score 6: 帯状疱疹様の潰瘍形成
Score 7: 後足の麻痺および死亡
各群の平均病変スコアからAUC値を算出し、プラセボ投与群に対する各化合物投与群の病変阻害率を求めた。結果を下表に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】
本発明の製造方法により得られた化合物（I）投与群の病変阻害率は非常に高く、病変部の症状悪化を良好に抑えることが確認された。当該作用は、特許文献１に開示される化合物に比して優れていた。
以上の通り、in vivo動物モデルにおいて、本発明の製造方法により得られた化合物（I）は経口投与において良好な抗ヘルペスウイルス作用を有することが確認され、その作用は、特許文献１に開示される化合物と比して優れていた。
本発明の製造方法により得られた化合物（I）は、核酸系でないこと、並びに良好な抗ウイルス活性を呈することから、より安全性の高い抗ヘルペスウイルス剤となりうることが期待された。
【実施例】
【００２１】
以下に本発明の製造方法を実施例として示す。なお、以下の反応に用いられる原料化合物の多くは、特許文献１（国際公開第02/38554号パンフレット）等により公知であり、これらの公知文献記載の方法によって容易に入手できる。原料化合物中、新規な化合物の製造例を参考例として示す。
参考例１： ４−（４−ニトロフェニル）−１,３−オキサゾールのエタノールとテトラヒドロフラン混合懸濁液に５％パラジウムーカーボン粉末を加え、水素雰囲気下室温にて１２時間攪拌した後、反応溶液をセライト濾過し、濾液を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、[４−（１,３−オキサゾール−４−イル）フェニル]アミン（淡黄色固体）を得た。Electron Impact-MS (M)+：160。
参考例２： ４−メチルアニリンのDMF溶液に炭酸カリウムとエチル ブロモアセテートを加え加熱攪拌した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えた後、有機層を分液し、洗浄・乾燥後、溶媒を減圧留去し粗生成物を得た。これを塩化メチレンに溶解し、ピリジン、テトラヒドロ−２H−チオピラン−４−カルボニルクロライド １、１−ジオキサイドを加え攪拌した。反応溶液を濃縮後、１Ｍ塩酸、クロロホルムを加え、有機層を分液し、洗浄・乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、エチル ｛［（１、１−ジオキソテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル］（４−メチルフェニル）アミノ｝アセテート（無色油状物）を得た。FAB-MS [(M+H)+]：354。
参考例３〜１５： 参考例２と同様に処理して、後記表３に記載される参考例３〜１５の化合物を得た。
【００２２】
実施例１： エチル{（２,６−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}アセテート(735mg)のエタノール(10mL)溶液に１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液(2.3mL)を加えた後、室温にて５時間攪拌した。反応溶液に１Ｍ塩酸を加え液性を酸性とした後、水、クロロホルムを加え有機層を分液した。更に、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られたカルボン酸粗生成物をクロロホルム(15mL)に溶解させた後、WSC・HCl(422mg)、[４−（１,３−オキサゾール−４−イル）フェニル]アミン(320mg)を順次加え室温にて4時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をヘキサン−酢酸エチル（＝3/2）で洗った後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を610mg得た。
実施例２： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテルで洗い、Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を374mg得た。
【００２３】
実施例３： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテルで洗い、Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を325mg得た。
実施例４： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（２−メチルフェニル）アミノ}酢酸(325mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（２−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を314mg得た。
実施例５： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例５の化合物を得た。
【００２４】
実施例６： ｛（２，４−ジメチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(339mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を276mg得た。
実施例７： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例７の化合物を得た。
実施例８： ｛（３，４−ジメチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(339mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１９／１）にて精製し、Ｎ−（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を397mg得た。
【００２５】
実施例９及び１０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例９及び１０の化合物を得た。
実施例１１： ｛２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(351mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて１６時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエーテル洗い、Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を484mg得た。
実施例１２： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１２の化合物を得た。
実施例１３： ｛（４−クロロ−３−メチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(225mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(132mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(100mg)を順次加え、室温にて４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を185mg得た。
【００２６】
実施例１４： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−フルオロ−４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(214mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(132mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(100mg)を順次加え、室温にて１３時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を175mg得た。
実施例１５及び１６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１５及び１６の化合物を得た。
実施例１７： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（３−フルオロ−２，４−ジメチルフェニル）アミノ}酢酸(246mg)のクロロホルム(6mL)溶液に、WSC・HCl(145mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(110mg)を順次加え、室温にて４時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３−フルオロ−２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を97mg得た。
【００２７】
実施例１８： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例１８の化合物を得た。
実施例１９： ｛（３，５−ジフルオロ−４−メチルフェニル）［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ}酢酸(361mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(211mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて５時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶し、Ｎ−（３，５−ジフルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（淡黄色結晶）を286mg得た。
実施例２０： ｛［（１，１−ジオキシドテトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−イル）カルボニル]（２−フルオロ−４−メチルフェニル）アミノ}酢酸(343mg)のクロロホルム(10mL)溶液に、WSC・HCl(230mg)、４−（１，３−オキサゾール−４−イル）アニリン(160mg)を順次加え、室温にて２時間攪拌した。１Ｍ塩酸水溶液に反応溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。更に、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１９／１）にて精製した。得られた固体をエーテルで洗い、Ｎ−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，３−オキサゾール−４−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（黄色結晶）を196mg得た。
【００２８】
実施例２１〜２３： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２１〜２３の化合物を得た。
実施例２４： ｛（２,３−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(291mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(245mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(140mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を274mg得た。
実施例２５： ｛（２,４−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(340mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(230mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(160mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、エタノールから再結晶して、Ｎ−（２，４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を315mg得た。
【００２９】
実施例２６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２６の化合物を得た。
実施例２７： ｛（２,６−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(2000mg)をクロロホルム(100mL)に溶解させた後、WSC・HCl(1400mg)、[４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル]アミン(950mg)を順次加え室温にて１時間攪拌した。反応溶液に１０％炭酸カリウム水溶液を加え有機層を分液した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノール/水（9/1）から再結晶して、Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を2500mg得た。
実施例２８〜３０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例２８〜３０の化合物を得た。
実施例３１： エチル−｛［（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル］（４−フルオロ−２,６−ジメチルフェニル）アミノ｝アセテート(1.61g)のエタノール/ＴＨＦ(20/5mL)溶液に１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液(10mL)を加えた後、室温にて２時間攪拌した。反応溶液に１Ｍ塩酸を加え液性を酸性とし、クロロホルムで有機層を分液した。更に、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去し、カルボン酸粗生成物を1.39g得た。このカルボン酸粗生成物(357mg)と４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(161mg)の混合物に、DMF(10mL)、WSC・HCl(210mg)、HOBt・H2O(168mg)を順次加え60℃にて6時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をジエチルエーテルで洗浄後、エタノール−水−アセトニトリルから再結晶して、Ｎ−（４−フルオロ−２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１，２，４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（無色結晶）を220mg得た。
【００３０】
実施例３２： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３２の化合物を得た。
実施例３３： ｛２,３−ジヒドロ−１H−インデン−５−イル[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(350mg)をクロロホルム(6mL)に溶解させた後、WSC・HCl(210mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(160mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製して、Ｎ−（２,３−ジヒドロ−１H−インデン−５−イル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を540mg得た。
実施例３４： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３４の化合物を得た。
実施例３５： ｛（３−フルオロ−４−メチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(237mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(200mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(111mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶して、Ｎ−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を139mg得た。
【００３１】
実施例３６： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３６の化合物を得た。
実施例３７： ｛（４−クロロ−３−メチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(200mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(160mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(88mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をエタノールから再結晶して、Ｎ−（４−クロロ−３−メチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を143mg得た。
【００３２】
実施例３８： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例３８の化合物を得た。
実施例３９： ｛（３−フルオロ−２,４−ジメチルフェニル）[（1,1−ジオキシドテトラヒドロ−２H−チオピラン−４−イル）カルボニル]アミノ｝酢酸(150mg)をクロロホルム(10mL)に溶解させた後、WSC・HCl(160mg)、４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）アニリン(68mg)を順次加え室温にて終夜攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、クロロホルムを加えた後、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）にて精製後、ジエチルエーテルにて洗浄して、Ｎ−（３−フルオロ−２,４−ジメチルフェニル）−Ｎ−（２−｛［４−（１,２,４−オキサジアゾール−３−イル）フェニル］アミノ｝−２−オキソエチル）テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド１，１−ジオキシド（白色結晶）を46mg得た。
実施例４０： 実施例１と同様に処理して、後記表に示す実施例４０の化合物を得た。
【００３３】
参考例化合物の物理化学的性状を表３に、実施例化合物の構造並びに物理化学的性状を表４〜１１に示す。
【００３４】
表中の略号は、 Ref：参考例； Ex：実施例； Dat：物理化学的性状｛F+：FAB-MS [(M+H)+]； F-：FAB-MS [(M-H)-]； N1：1H-NMR(DMSO-d6，TMS内部標準）の特徴的ピークδppm； mp：融点(℃)、括弧の中は結晶化溶媒を示す｝； Ph：フェニル； Me:メチル； Et:エチル；及びiPr：イソプロピルをそれぞれ示す。なお、置換基の前の数字は置換位置を示し、例えば、3,4-(Cl)2-5-F-Phは、３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル基を示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】
【表５】
【００３８】
【表６】
【００３９】
【表７】
【００４０】
【表８】
【００４１】
【表９】
【００４２】
【表１０】
【００４３】
【表１１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（II）で示されるアニリン誘導体と一般式（III）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、Ｎ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法。
【化１】
（式中の記号は以下の意味を示す。
Ｚ：１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基、
Ａ：少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は５−インダニル基。）
【請求項１】
下記一般式（II）で示されるアニリン誘導体と一般式（III）で示されるカルボン酸化合物とをアミド化反応に付すことを特徴とする一般式（I）で示される、Ｎ−｛２−[（４−置換フェニル）アミノ]−２−オキソエチル｝テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン−４−カルボキサミド化合物の製造方法。
【化１】
（式中の記号は以下の意味を示す。
Ｚ：１，２，４−オキサジアゾール−３−イル又は４−オキサゾリル基、
Ａ：少なくとも１つのメチル基で置換され、更にメチル基及びハロゲン原子からなる群から選択される１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基、又は５−インダニル基。）
【公開番号】特開２００６−２４１１４５（Ｐ２００６−２４１１４５Ａ）
【公開日】平成１８年９月１４日（２００６．９．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２４０２７（Ｐ２００６−２４０２７）
【出願日】平成１８年２月１日（２００６．２．１）
【出願人】（０００００６６７７）アステラス製薬株式会社 (274)
【出願人】（５９２１９８７０３）株式会社創薬技術研究所 (3)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月１４日（２００６．９．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月１日（２００６．２．１）
【出願人】（０００００６６７７）アステラス製薬株式会社 (274)
【出願人】（５９２１９８７０３）株式会社創薬技術研究所 (3)
【Ｆターム（参考）】
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