ノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置
【課題】処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上する。
【解決手段】円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部１１ａを有し、所定方向に臨む一の払拭部によりノズル先端３ａを狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体１１と、前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段１３，１４，１５と、前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段１７，１８とを備える。
【解決手段】円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部１１ａを有し、所定方向に臨む一の払拭部によりノズル先端３ａを狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体１１と、前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段１３，１４，１５と、前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段１７，１８とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置に関し、特に長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状のノズル吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジスト液を基板上に塗布する方法がある。
この方法を用いた従来のレジスト塗布装置においては、例えば図１２に示すようにステージ５０上に載置された基板Ｇに対しノズル移動手段５１によりノズル５２を相対的に移動させる。その際、スリット状の吐出口５２ａからレジスト液Ｒを吐出し、それにより基板Ｇ上にレジスト膜が形成される。
【０００４】
ところで、前記ノズル５２にあっては、スリット状の吐出口５２ａは、微小な隙間により形成されているため、待機中においてノズル先端のメンテナンス処理を施さなければ、レジスト液Ｒの乾燥等により目詰まりが生じる。
このため従来は、図示するように、ノズル先端に付着したレジスト液Ｒを均一化する（プライミング処理と呼ぶ）ための回転自在なプライミングローラ５３を備えたプライミング処理装置５４が設けられている。
【０００５】
このプライミング処理装置５４におけるプライミング処理では、ノズル５２がノズル移動手段５１によってプライミングローラ５３の上方に移動され、ローラ回転制御手段５５により回転駆動されるプライミングローラ５３の表面に向けて、吐出口５２ａからレジスト液Ｒが吐出される。これにより、ノズル先端に付着しているレジスト液Ｒの状態がノズル長手方向に沿って均一化される。
【０００６】
また、前記プライミング処理装置５４にあっては、プライミングローラ５３のローラ面に付着したレジスト液Ｒを除去するため、図示するような進退駆動部５６により進退自在なワイパ５７と、プライミングローラ５３の下部を（レジストを溶解するために）洗浄液５８（例えばシンナー液）に浸漬するための洗浄液５８の貯留槽５９等を備えている。
即ち、一回のプライミング処理が終了すると、プライミングローラ５３を連続回転させ、ワイパ５７をローラ面に当接させてレジスト液Ｒをこそげ落とし、プライミングローラ５３の下部をシンナー液５８に浸漬させ、ローラ面全体を洗浄するようになされている。
尚、このようなプライミング処理装置については特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２５２０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、前記プライミング処理にあっては、回転するプライミングローラ５３のローラ面に対し、大量のレジスト液Ｒを吐出する必要があり、レジスト液Ｒの（無駄な）消費量が多すぎるという課題があった。
また、前記のようにプライミング処理後のプライミングローラ５３の洗浄処理にあっては、貯留槽５９に貯留する洗浄液５８が大量に必要となるため、コストが嵩張るという課題があった。
更には、プライミング処理及び、プライミングローラ５３の洗浄にかかる時間が長く、タクトタイムが長くなり生産性が低下するという課題があった。
【０００９】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできるノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記した課題を解決するために、本発明に係るノズルメンテナンス装置は、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置であって、円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部を有し、所定方向に臨む一の払拭部により前記ノズル先端を狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体と、前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段と、前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段とを備えることに特徴を有する。
【００１１】
尚、前記払拭体は、円柱状体または円盤状体の周面に、前記ノズル先端の長手方向に沿って歯筋が平行に設けられた歯車状に形成され、前記払拭部は、隣り合う一対の歯の間に形成された溝部からなることが望ましい。
また、前記歯車状に形成された払拭体の軸方向に対し、前記溝部の底部は傾斜していることが望ましい。
【００１２】
或いは、前記払拭体は、同一軸上に連なって配列された複数の歯車により構成され、前記複数の歯車の前記所定方向に臨む各溝部が、前記ノズル先端のいずれかの面を払拭することにより、前記ノズル先端の全ての面が払拭されるようにしてもよい。
或いは、前記払拭体は、可撓性を有する円柱状または円盤状に形成され、前記払拭部は、その周面により形成されるようにしてもよい。
更に、前記ノズル先端を払拭した前記払拭部に対し洗浄液を吹き付ける洗浄手段を備えることが望ましい。
【００１３】
このように構成することにより、従来のようなプライミングローラを用いたプライミング処理が不要となり、処理液や洗浄液の消費量を大幅に低減することができる。また、払拭体によりノズル先端を払拭することでメンテナンス処理を完了することができ、払拭体の回転により新たな払拭部を直ぐさま次回のメンテナンス処理に用いることができるため、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００１４】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布処理装置は、前記ノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、被処理基板を載置するステージと、前記ステージの側方に設けられたノズルメンテナンス装置と、前記ステージに載置された被処理基板の上方を基板面に沿って所定方向に移動されると共に、前記基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から前記基板面に処理液を吐出する前記ノズルと、前記ノズルを前記ステージ上と前記ノズルメンテナンス装置との間で移動させるノズル移動手段とを備えることに特徴を有する。
尚、前記ノズルメンテナンス装置は、前記ノズルの移動方向に沿って、前記ステージの両側側方にそれぞれ配置されていてもよい。
【００１５】
このように構成することにより、前記したノズルメンテナンス処理に係る効果を得ることができ、被処理基板への塗布処理に係るタクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできるノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明に係る塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１の塗布処理装置の一部拡大図であって、塗布処理装置が備えるノズルメンテナンス装置の主要部を示す斜視図である。
【図３】図３（ａ）は、ノズルメンテナンス装置が備えるワイプパッドの斜視図であり、図３（ｂ）は、ワイプパッドによりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図４】図４（ａ）は、塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図５】図５（ａ）は、図４の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図６】図６（ａ）は、図５の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図７】図７（ａ）は、図６の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図８】図８（ａ）は、払拭体の他の形態を示す斜視図であり、図８（ｂ）は、その一部拡大断面図である。
【図９】図９（ａ）は、払拭体の他の形態を示す斜視図であり、図９（ｂ）は、ワイプパッドによりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図１０】図１０は、払拭体の他の形態を示す斜視図である。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｃ）は、図１０の払拭体によりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図１２】図１２は、従来のレジスト塗布装置におけるノズルのプライミング処理を説明するための模式的な側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明のノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、被処理基板をガラス基板として、このガラス基板に処理液であるレジスト液をノズルから吐出してレジスト塗布膜を形成する塗布処理装置、及びレジスト液が付着した前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス装置に適用した場合を例にとって説明する。
【００１９】
図１は、本発明に係る塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１の塗布処理装置の一部拡大図であって、塗布処理装置が備えるノズルメンテナンス装置の主要部を示している。
図１に示す塗布処理装置１は、ガラス基板Ｇが載置されるステージ２と、このステージ２に載置されたガラス基板Ｇの上を走査可能に設けられたノズル３と、ノズル３の吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス装置１０とを具備している。
【００２０】
前記ノズル３の吐出口は、下方に突起し基板幅方向に長く形成されたノズル先端３ａに設けられ、基板幅方向に細長いスリット状に形成されている。ノズル３は、塗布処理時において、ノズル先端３ａ（吐出口）とステージ２上のガラス基板Ｇとの間が所定距離に維持され、ノズル移動手段５によりガラス基板Ｇ上をその一端から他端まで走査されると共に、処理液供給手段６から供給されるレジスト液を基板Ｇ上に吐出するようになっている。
また、各基板Ｇへの塗布処理が終了する度、ノズル３は、ノズル移動手段５によりノズルメンテナンス装置１０の上方（ノズル待機位置とする）に移動され、ノズル先端３ａ（吐出口）のメンテナンス処理が施されるようになっている。
【００２１】
ノズルメンテナンス装置１０は、上方（ノズル待機位置）に配置されたノズル３のノズル先端３ａに対し、その一端から他端までを基板幅方向に沿って走査するワイプパッド１１（払拭体）を有する。このワイプパッド１１によりノズル先端３ａに付着するレジスト液を払拭するようになっている（この処理をメンテナンス処理と呼ぶ）。
前記ワイプパッド１１は、図３（ａ）に示すように円柱状体または円盤状体の周面に、複数の歯１２が設けられた歯車状の形状であって、ノズル先端３ａの長手方向に沿って平行に歯筋（複数の溝部１１ａ）が形成されている。
このワイプパッド１１において、所定方向に臨むよう配置された一の溝部１１ａ（払拭部）にノズル先端３ａが嵌められ、対向する一対の歯１２の側面１２ａにノズル先端３ａが狭持された状態で、ワイプパッド１１が基板幅方向に移動される。これにより、ノズル先端３ａに付着しているレジスト液が払拭されるようになっている。尚、ワイプパッド１１の材質は、特に限定されないが、レジスト液を払拭し易いように、好ましくは硬質ゴムなどの合成樹脂により形成される。
【００２２】
また、ノズル待機位置に配置されたノズル３の下方には、ノズル先端３ａを収容するように基板幅方向に延設されると共に、洗浄液（例えばレジスト液の溶媒であるシンナー液）を貯留する洗浄液槽２５が設けられている。この洗浄液槽２５により、ノズル先端３ａはレジスト液の溶媒雰囲気に曝されて、吐出口の乾燥が防止されると共に、ワイプパッド１１により拭き取られたレジスト液が槽内に落とされ、洗浄液に溶解するようになされている。
【００２３】
また、前記ワイプパッド１１は、ノズル吐出口３ａのメンテナンス処理のための動作期間を除き、図１、図２に示すようにノズル側方の待機位置に配置されている。ワイプパッド１１は、ノズル前後方向に延びる走査アーム１３の先端に回転自在に支持され、走査アーム１３は、その後端がスライダ１４に接続されている。また、スライダ１４は、ステージ２の後方において基板幅方向に延びるレール１５に沿って、基板幅方向に往復移動可能に設けられている。即ち、走査アーム１３に支持されたワイプパッド１１は、スライダ１４がレール１５に沿って移動することにより待機位置から基板幅方向に沿って往復移動可能となされている。尚、前記走査アーム１３、スライダ１４、レール１５により払拭体移動手段が構成される。
【００２４】
また、ワイプパッド１１がノズル３のメンテナンス処理を終えて待機位置に戻ると、その歯筋面の一部が、同様に歯車状に形成された回転ギア１７に係合する状態となされている。回転ギア１７は、サーボモータ１８により回転制御され、例えば、回転ギア１７が所定の回転角度だけ回転することにより、ワイプパッド１１の歯筋面を前記所定の回転角度だけ所定方向に送り出す（回転させる）ようになされている。これによりワイプパッド１１においてノズル先端３ａの払拭によりレジスト液が付着した一の溝部１１ａは、所定の位置（例えばワイプパッド１１の側部）に移動される。また、レジスト液の付着していない他の溝部１１ａが次のメンテナンス処理に用いられるように、所定方向に臨む位置（例えばワイプパッド１１の上部）に移動するようになっている。尚、回転ギア１７、サーボモータ１８により払拭体回転手段が構成される。
【００２５】
また、待機位置のワイプパッド１１及び回転ギア１７の側方には、洗浄ノズル２０が設けられ、メンテナンス処理によりレジスト液が付着したワイプパッド１１の溝部１１ａに対し、前記洗浄ノズル２０から洗浄液が吹き付けられるようになっている。洗浄ノズル２０には、洗浄液供給源２１からシンナー液などのレジスト液の溶媒が供給される。これにより、レジスト液が付着したワイプパッド１１の溝部１１ａが洗浄されるようになっている。尚、洗浄ノズル２０、洗浄液供給源２１により洗浄手段が構成される。
【００２６】
続いて、このように構成された塗布処理装置１及びノズルメンテナンス装置１０の一連の動作について、図４乃至図７を用いて説明する。尚、図４（ａ）、図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）は、塗布処理装置１及びノズルメンテナンス装置１０の状態遷移を模式的に示す側面図である。また、図４（ｂ）、図５（ｂ）、図６（ｂ）、図７（ｂ）は、それぞれ図４（ａ）、図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【００２７】
先ず、図４（ａ）、図４（ｂ）に示すようにステージ２上に基板Ｇが載置されると、ノズル３はノズル移動手段５によりステージ２の一端側に移動され、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すようにレジスト液Ｒを吐出しながら基板Ｇ上を走査される。これにより、基板Ｇ上にレジスト液Ｒの塗布膜が形成される。
塗布処理が終了すると、ノズル３は図６（ａ）、図６（ｂ）に示すようにノズル待機位置に移動され、ワイプパッド１１の一溝部１１ａがノズル先端３ａを狭持した状態で基板幅方向に走査されることによりノズル先端３ａのレジスト液Ｒが払拭される（ノズル３のメンテナンス処理が行われる）。
【００２８】
ノズル３のメンテナンス処理が終了すると、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すようにワイプパッド１１は回転ギア１７の下部に係合するように待機位置に戻り、回転ギア１７の回転により所定角度だけ回転される。これにより、レジスト液１７が付着した溝部１１ａが例えばワイプパッド１１の側部に移動し、その溝部１１ａに対し洗浄ノズル２０から洗浄液が吹き付けられ、ワイプパッド１１の洗浄が行われる。また、レジスト液Ｒの付着していない他の溝部１１ａが次のメンテナンス処理に用いられるようにワイプパッド１１の上部に移動する。
また、ステージ２からはレジスト膜が形成された基板Ｇが搬出されて新たな基板Ｇが搬入され、その基板Ｇへの塗布処理終了後、ワイプパッド１１は、レジスト液の付着していない溝部１１ａによりノズル先端３ａの払拭処理を行うことになる。
【００２９】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、基板幅方向に延びるスリット状の吐出口を有するノズル先端３ａを、歯車状のワイプパッド１１で狭持すると共に、このワイプパッド１１を吐出口の長手方向に沿って走査することによりノズル先端３ａに付着するレジスト液が除去される。
この構成により、従来のようなプライミングローラを用いたプライミング処理が不要となり、レジスト液や洗浄液等の薬液の消費量を大幅に低減することができる。また、ワイプパッド１１によりノズル先端３ａを払拭することでメンテナンス処理を完了することができ、ワイプパッド１１の回転により新たな払拭部（溝部１１ａ）を直ぐさま次回のメンテナンス処理に用いることができるため、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００３０】
尚、前記実施の形態においては、図３に示すようにワイプパッド１１の溝部１１ａは、その幅方向の深さ寸法が一定のものとしたが、それに限定されるものではない。
例えば、図８（ａ）の斜視図、図８（ｂ）の断面図に示すように溝部１１ａの底部に、軸方向に対して傾斜を持たせ、ワイプパッド１１の軸方向に溝部１１ａの深さが変化するよう形成してもよい。このように形成することにより、ノズル先端３ａに対する払拭処理の後、溝部１１ａに溜まったレジスト液を流し落としやすくすることができる。
或いは、図９（ａ）の斜視図に示すように、ワイプパッド１１の周面に歯１２が設けられない円柱形状または円盤形状に形成してもよい。その場合、図９（ｂ）に示すようにワイプパッド１１の周面１１ｂ（払拭部）に対しノズル先端３ａを押しつけることによって周面１１ｂによりノズル先端３ａを狭持するようにすればよい。
【００３１】
また、前記実施の形態においては、１つのワイプパッド１１によりノズル先端３ａを払拭する構成としたが、複数のワイプパッド１１により１つの払拭体を構成してもよい。
例えば、図１０の斜視図には、３つのワイプパッド１１Ａ，１１Ｂ、１１Ｃにより１つの払拭体を構成した例を示している。
この場合、ノズル先端３ａを払拭する際、例えば、図１１（ａ）に示すようにワイプパッド１１Ａによりノズル先端３ａの一側面が払拭され、図１１（ｂ）に示すようにワイプパッド１１Ｂによりノズル先端３ａの他側面が払拭される。そして、最後に図１１（ｃ）に示すようにワイプパッド１１Ｃによりノズル先端３ａの先端面が払拭される。このように構成することで、より効果的にノズル先端３ａに付着したレジスト液を払拭することができる。
【００３２】
また、前記実施の形態においては、ステージ２の一側方に１つのノズル３を待機させ、１つのノズルメンテナンス装置１０を配備した構成としたが、他側方にも同様にノズルメンテナンス装置１０を配備してもよい。
その場合、ステージ２の一端から他端に向けてレジスト液を吐出した後、前記他端側の側方のノズルメンテナンス装置１０によりノズル先端３ａのメンテナンス処理を行い、続いて、ステージ２の前記他端側から一端側に戻る際に、次の基板Ｇへの塗布処理を行うことができる。即ち、複数の基板Ｇに対し連続的に塗布処理を行う際のタクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００３３】
また、前記実施の形態においては、ガラス基板Ｇに処理液としてレジスト液を塗布する場合を例に説明したが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではない。即ち、被処理基板はガラス基板Ｇ以外の基板でもよく、また、処理液はレジスト液以外のものでもよい。
また、前記実施の形態においては、スリット状の吐出口を有するノズル３を用いて説明したが、本発明はスリット状の吐出口を有するノズル３に限定されるものでない。例えば、ガラス板Ｇの幅方向に延びる長尺状のノズルであって、吐出口がスリット状でなく、吐出口として複数の微細孔が所定の間隔で一列に、または複数列に列設されたノズルにも本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００３４】
１ 塗布処理装置
２ ステージ
３ ノズル
３ａ ノズル先端
５ ノズル移動手段
６ 処理液供給源
１０ ノズルメンテナンス装置
１１ ワイプパッド（払拭体）
１１ａ 溝部（払拭部）
１１ｂ 周面（払拭部）
１２ 歯
１３ 走査アーム（払拭体移動手段）
１４ スライダ（払拭体移動手段）
１５ レール（払拭体移動手段）
１７ 回転ギア（払拭体回転手段）
１８ サーボモータ（払拭体回転手段）
２０ 洗浄ノズル（洗浄手段）
２１ 洗浄液供給源（洗浄手段）
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
Ｒ レジスト液（処理液）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置に関し、特に長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと呼ぶ）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状のノズル吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジスト液を基板上に塗布する方法がある。
この方法を用いた従来のレジスト塗布装置においては、例えば図１２に示すようにステージ５０上に載置された基板Ｇに対しノズル移動手段５１によりノズル５２を相対的に移動させる。その際、スリット状の吐出口５２ａからレジスト液Ｒを吐出し、それにより基板Ｇ上にレジスト膜が形成される。
【０００４】
ところで、前記ノズル５２にあっては、スリット状の吐出口５２ａは、微小な隙間により形成されているため、待機中においてノズル先端のメンテナンス処理を施さなければ、レジスト液Ｒの乾燥等により目詰まりが生じる。
このため従来は、図示するように、ノズル先端に付着したレジスト液Ｒを均一化する（プライミング処理と呼ぶ）ための回転自在なプライミングローラ５３を備えたプライミング処理装置５４が設けられている。
【０００５】
このプライミング処理装置５４におけるプライミング処理では、ノズル５２がノズル移動手段５１によってプライミングローラ５３の上方に移動され、ローラ回転制御手段５５により回転駆動されるプライミングローラ５３の表面に向けて、吐出口５２ａからレジスト液Ｒが吐出される。これにより、ノズル先端に付着しているレジスト液Ｒの状態がノズル長手方向に沿って均一化される。
【０００６】
また、前記プライミング処理装置５４にあっては、プライミングローラ５３のローラ面に付着したレジスト液Ｒを除去するため、図示するような進退駆動部５６により進退自在なワイパ５７と、プライミングローラ５３の下部を（レジストを溶解するために）洗浄液５８（例えばシンナー液）に浸漬するための洗浄液５８の貯留槽５９等を備えている。
即ち、一回のプライミング処理が終了すると、プライミングローラ５３を連続回転させ、ワイパ５７をローラ面に当接させてレジスト液Ｒをこそげ落とし、プライミングローラ５３の下部をシンナー液５８に浸漬させ、ローラ面全体を洗浄するようになされている。
尚、このようなプライミング処理装置については特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２５２０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、前記プライミング処理にあっては、回転するプライミングローラ５３のローラ面に対し、大量のレジスト液Ｒを吐出する必要があり、レジスト液Ｒの（無駄な）消費量が多すぎるという課題があった。
また、前記のようにプライミング処理後のプライミングローラ５３の洗浄処理にあっては、貯留槽５９に貯留する洗浄液５８が大量に必要となるため、コストが嵩張るという課題があった。
更には、プライミング処理及び、プライミングローラ５３の洗浄にかかる時間が長く、タクトタイムが長くなり生産性が低下するという課題があった。
【０００９】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできるノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記した課題を解決するために、本発明に係るノズルメンテナンス装置は、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置であって、円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部を有し、所定方向に臨む一の払拭部により前記ノズル先端を狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体と、前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段と、前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段とを備えることに特徴を有する。
【００１１】
尚、前記払拭体は、円柱状体または円盤状体の周面に、前記ノズル先端の長手方向に沿って歯筋が平行に設けられた歯車状に形成され、前記払拭部は、隣り合う一対の歯の間に形成された溝部からなることが望ましい。
また、前記歯車状に形成された払拭体の軸方向に対し、前記溝部の底部は傾斜していることが望ましい。
【００１２】
或いは、前記払拭体は、同一軸上に連なって配列された複数の歯車により構成され、前記複数の歯車の前記所定方向に臨む各溝部が、前記ノズル先端のいずれかの面を払拭することにより、前記ノズル先端の全ての面が払拭されるようにしてもよい。
或いは、前記払拭体は、可撓性を有する円柱状または円盤状に形成され、前記払拭部は、その周面により形成されるようにしてもよい。
更に、前記ノズル先端を払拭した前記払拭部に対し洗浄液を吹き付ける洗浄手段を備えることが望ましい。
【００１３】
このように構成することにより、従来のようなプライミングローラを用いたプライミング処理が不要となり、処理液や洗浄液の消費量を大幅に低減することができる。また、払拭体によりノズル先端を払拭することでメンテナンス処理を完了することができ、払拭体の回転により新たな払拭部を直ぐさま次回のメンテナンス処理に用いることができるため、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００１４】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布処理装置は、前記ノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、被処理基板を載置するステージと、前記ステージの側方に設けられたノズルメンテナンス装置と、前記ステージに載置された被処理基板の上方を基板面に沿って所定方向に移動されると共に、前記基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から前記基板面に処理液を吐出する前記ノズルと、前記ノズルを前記ステージ上と前記ノズルメンテナンス装置との間で移動させるノズル移動手段とを備えることに特徴を有する。
尚、前記ノズルメンテナンス装置は、前記ノズルの移動方向に沿って、前記ステージの両側側方にそれぞれ配置されていてもよい。
【００１５】
このように構成することにより、前記したノズルメンテナンス処理に係る効果を得ることができ、被処理基板への塗布処理に係るタクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできるノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明に係る塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１の塗布処理装置の一部拡大図であって、塗布処理装置が備えるノズルメンテナンス装置の主要部を示す斜視図である。
【図３】図３（ａ）は、ノズルメンテナンス装置が備えるワイプパッドの斜視図であり、図３（ｂ）は、ワイプパッドによりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図４】図４（ａ）は、塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図５】図５（ａ）は、図４の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図６】図６（ａ）は、図５の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図７】図７（ａ）は、図６の状態からの塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の状態遷移を模式的に示す側面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【図８】図８（ａ）は、払拭体の他の形態を示す斜視図であり、図８（ｂ）は、その一部拡大断面図である。
【図９】図９（ａ）は、払拭体の他の形態を示す斜視図であり、図９（ｂ）は、ワイプパッドによりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図１０】図１０は、払拭体の他の形態を示す斜視図である。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｃ）は、図１０の払拭体によりノズル先端を払拭する状態を示すワイプパッド及びノズル先端の一部拡大図である。
【図１２】図１２は、従来のレジスト塗布装置におけるノズルのプライミング処理を説明するための模式的な側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明のノズルメンテナンス装置及びそれを用いた塗布処理装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、被処理基板をガラス基板として、このガラス基板に処理液であるレジスト液をノズルから吐出してレジスト塗布膜を形成する塗布処理装置、及びレジスト液が付着した前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス装置に適用した場合を例にとって説明する。
【００１９】
図１は、本発明に係る塗布処理装置及びノズルメンテナンス装置の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１の塗布処理装置の一部拡大図であって、塗布処理装置が備えるノズルメンテナンス装置の主要部を示している。
図１に示す塗布処理装置１は、ガラス基板Ｇが載置されるステージ２と、このステージ２に載置されたガラス基板Ｇの上を走査可能に設けられたノズル３と、ノズル３の吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス装置１０とを具備している。
【００２０】
前記ノズル３の吐出口は、下方に突起し基板幅方向に長く形成されたノズル先端３ａに設けられ、基板幅方向に細長いスリット状に形成されている。ノズル３は、塗布処理時において、ノズル先端３ａ（吐出口）とステージ２上のガラス基板Ｇとの間が所定距離に維持され、ノズル移動手段５によりガラス基板Ｇ上をその一端から他端まで走査されると共に、処理液供給手段６から供給されるレジスト液を基板Ｇ上に吐出するようになっている。
また、各基板Ｇへの塗布処理が終了する度、ノズル３は、ノズル移動手段５によりノズルメンテナンス装置１０の上方（ノズル待機位置とする）に移動され、ノズル先端３ａ（吐出口）のメンテナンス処理が施されるようになっている。
【００２１】
ノズルメンテナンス装置１０は、上方（ノズル待機位置）に配置されたノズル３のノズル先端３ａに対し、その一端から他端までを基板幅方向に沿って走査するワイプパッド１１（払拭体）を有する。このワイプパッド１１によりノズル先端３ａに付着するレジスト液を払拭するようになっている（この処理をメンテナンス処理と呼ぶ）。
前記ワイプパッド１１は、図３（ａ）に示すように円柱状体または円盤状体の周面に、複数の歯１２が設けられた歯車状の形状であって、ノズル先端３ａの長手方向に沿って平行に歯筋（複数の溝部１１ａ）が形成されている。
このワイプパッド１１において、所定方向に臨むよう配置された一の溝部１１ａ（払拭部）にノズル先端３ａが嵌められ、対向する一対の歯１２の側面１２ａにノズル先端３ａが狭持された状態で、ワイプパッド１１が基板幅方向に移動される。これにより、ノズル先端３ａに付着しているレジスト液が払拭されるようになっている。尚、ワイプパッド１１の材質は、特に限定されないが、レジスト液を払拭し易いように、好ましくは硬質ゴムなどの合成樹脂により形成される。
【００２２】
また、ノズル待機位置に配置されたノズル３の下方には、ノズル先端３ａを収容するように基板幅方向に延設されると共に、洗浄液（例えばレジスト液の溶媒であるシンナー液）を貯留する洗浄液槽２５が設けられている。この洗浄液槽２５により、ノズル先端３ａはレジスト液の溶媒雰囲気に曝されて、吐出口の乾燥が防止されると共に、ワイプパッド１１により拭き取られたレジスト液が槽内に落とされ、洗浄液に溶解するようになされている。
【００２３】
また、前記ワイプパッド１１は、ノズル吐出口３ａのメンテナンス処理のための動作期間を除き、図１、図２に示すようにノズル側方の待機位置に配置されている。ワイプパッド１１は、ノズル前後方向に延びる走査アーム１３の先端に回転自在に支持され、走査アーム１３は、その後端がスライダ１４に接続されている。また、スライダ１４は、ステージ２の後方において基板幅方向に延びるレール１５に沿って、基板幅方向に往復移動可能に設けられている。即ち、走査アーム１３に支持されたワイプパッド１１は、スライダ１４がレール１５に沿って移動することにより待機位置から基板幅方向に沿って往復移動可能となされている。尚、前記走査アーム１３、スライダ１４、レール１５により払拭体移動手段が構成される。
【００２４】
また、ワイプパッド１１がノズル３のメンテナンス処理を終えて待機位置に戻ると、その歯筋面の一部が、同様に歯車状に形成された回転ギア１７に係合する状態となされている。回転ギア１７は、サーボモータ１８により回転制御され、例えば、回転ギア１７が所定の回転角度だけ回転することにより、ワイプパッド１１の歯筋面を前記所定の回転角度だけ所定方向に送り出す（回転させる）ようになされている。これによりワイプパッド１１においてノズル先端３ａの払拭によりレジスト液が付着した一の溝部１１ａは、所定の位置（例えばワイプパッド１１の側部）に移動される。また、レジスト液の付着していない他の溝部１１ａが次のメンテナンス処理に用いられるように、所定方向に臨む位置（例えばワイプパッド１１の上部）に移動するようになっている。尚、回転ギア１７、サーボモータ１８により払拭体回転手段が構成される。
【００２５】
また、待機位置のワイプパッド１１及び回転ギア１７の側方には、洗浄ノズル２０が設けられ、メンテナンス処理によりレジスト液が付着したワイプパッド１１の溝部１１ａに対し、前記洗浄ノズル２０から洗浄液が吹き付けられるようになっている。洗浄ノズル２０には、洗浄液供給源２１からシンナー液などのレジスト液の溶媒が供給される。これにより、レジスト液が付着したワイプパッド１１の溝部１１ａが洗浄されるようになっている。尚、洗浄ノズル２０、洗浄液供給源２１により洗浄手段が構成される。
【００２６】
続いて、このように構成された塗布処理装置１及びノズルメンテナンス装置１０の一連の動作について、図４乃至図７を用いて説明する。尚、図４（ａ）、図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）は、塗布処理装置１及びノズルメンテナンス装置１０の状態遷移を模式的に示す側面図である。また、図４（ｂ）、図５（ｂ）、図６（ｂ）、図７（ｂ）は、それぞれ図４（ａ）、図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）の状態に対応する模式的な正面図である。
【００２７】
先ず、図４（ａ）、図４（ｂ）に示すようにステージ２上に基板Ｇが載置されると、ノズル３はノズル移動手段５によりステージ２の一端側に移動され、図５（ａ）、図５（ｂ）に示すようにレジスト液Ｒを吐出しながら基板Ｇ上を走査される。これにより、基板Ｇ上にレジスト液Ｒの塗布膜が形成される。
塗布処理が終了すると、ノズル３は図６（ａ）、図６（ｂ）に示すようにノズル待機位置に移動され、ワイプパッド１１の一溝部１１ａがノズル先端３ａを狭持した状態で基板幅方向に走査されることによりノズル先端３ａのレジスト液Ｒが払拭される（ノズル３のメンテナンス処理が行われる）。
【００２８】
ノズル３のメンテナンス処理が終了すると、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すようにワイプパッド１１は回転ギア１７の下部に係合するように待機位置に戻り、回転ギア１７の回転により所定角度だけ回転される。これにより、レジスト液１７が付着した溝部１１ａが例えばワイプパッド１１の側部に移動し、その溝部１１ａに対し洗浄ノズル２０から洗浄液が吹き付けられ、ワイプパッド１１の洗浄が行われる。また、レジスト液Ｒの付着していない他の溝部１１ａが次のメンテナンス処理に用いられるようにワイプパッド１１の上部に移動する。
また、ステージ２からはレジスト膜が形成された基板Ｇが搬出されて新たな基板Ｇが搬入され、その基板Ｇへの塗布処理終了後、ワイプパッド１１は、レジスト液の付着していない溝部１１ａによりノズル先端３ａの払拭処理を行うことになる。
【００２９】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、基板幅方向に延びるスリット状の吐出口を有するノズル先端３ａを、歯車状のワイプパッド１１で狭持すると共に、このワイプパッド１１を吐出口の長手方向に沿って走査することによりノズル先端３ａに付着するレジスト液が除去される。
この構成により、従来のようなプライミングローラを用いたプライミング処理が不要となり、レジスト液や洗浄液等の薬液の消費量を大幅に低減することができる。また、ワイプパッド１１によりノズル先端３ａを払拭することでメンテナンス処理を完了することができ、ワイプパッド１１の回転により新たな払拭部（溝部１１ａ）を直ぐさま次回のメンテナンス処理に用いることができるため、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００３０】
尚、前記実施の形態においては、図３に示すようにワイプパッド１１の溝部１１ａは、その幅方向の深さ寸法が一定のものとしたが、それに限定されるものではない。
例えば、図８（ａ）の斜視図、図８（ｂ）の断面図に示すように溝部１１ａの底部に、軸方向に対して傾斜を持たせ、ワイプパッド１１の軸方向に溝部１１ａの深さが変化するよう形成してもよい。このように形成することにより、ノズル先端３ａに対する払拭処理の後、溝部１１ａに溜まったレジスト液を流し落としやすくすることができる。
或いは、図９（ａ）の斜視図に示すように、ワイプパッド１１の周面に歯１２が設けられない円柱形状または円盤形状に形成してもよい。その場合、図９（ｂ）に示すようにワイプパッド１１の周面１１ｂ（払拭部）に対しノズル先端３ａを押しつけることによって周面１１ｂによりノズル先端３ａを狭持するようにすればよい。
【００３１】
また、前記実施の形態においては、１つのワイプパッド１１によりノズル先端３ａを払拭する構成としたが、複数のワイプパッド１１により１つの払拭体を構成してもよい。
例えば、図１０の斜視図には、３つのワイプパッド１１Ａ，１１Ｂ、１１Ｃにより１つの払拭体を構成した例を示している。
この場合、ノズル先端３ａを払拭する際、例えば、図１１（ａ）に示すようにワイプパッド１１Ａによりノズル先端３ａの一側面が払拭され、図１１（ｂ）に示すようにワイプパッド１１Ｂによりノズル先端３ａの他側面が払拭される。そして、最後に図１１（ｃ）に示すようにワイプパッド１１Ｃによりノズル先端３ａの先端面が払拭される。このように構成することで、より効果的にノズル先端３ａに付着したレジスト液を払拭することができる。
【００３２】
また、前記実施の形態においては、ステージ２の一側方に１つのノズル３を待機させ、１つのノズルメンテナンス装置１０を配備した構成としたが、他側方にも同様にノズルメンテナンス装置１０を配備してもよい。
その場合、ステージ２の一端から他端に向けてレジスト液を吐出した後、前記他端側の側方のノズルメンテナンス装置１０によりノズル先端３ａのメンテナンス処理を行い、続いて、ステージ２の前記他端側から一端側に戻る際に、次の基板Ｇへの塗布処理を行うことができる。即ち、複数の基板Ｇに対し連続的に塗布処理を行う際のタクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。
【００３３】
また、前記実施の形態においては、ガラス基板Ｇに処理液としてレジスト液を塗布する場合を例に説明したが、本発明にあっては、その形態に限定されるものではない。即ち、被処理基板はガラス基板Ｇ以外の基板でもよく、また、処理液はレジスト液以外のものでもよい。
また、前記実施の形態においては、スリット状の吐出口を有するノズル３を用いて説明したが、本発明はスリット状の吐出口を有するノズル３に限定されるものでない。例えば、ガラス板Ｇの幅方向に延びる長尺状のノズルであって、吐出口がスリット状でなく、吐出口として複数の微細孔が所定の間隔で一列に、または複数列に列設されたノズルにも本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００３４】
１ 塗布処理装置
２ ステージ
３ ノズル
３ａ ノズル先端
５ ノズル移動手段
６ 処理液供給源
１０ ノズルメンテナンス装置
１１ ワイプパッド（払拭体）
１１ａ 溝部（払拭部）
１１ｂ 周面（払拭部）
１２ 歯
１３ 走査アーム（払拭体移動手段）
１４ スライダ（払拭体移動手段）
１５ レール（払拭体移動手段）
１７ 回転ギア（払拭体回転手段）
１８ サーボモータ（払拭体回転手段）
２０ 洗浄ノズル（洗浄手段）
２１ 洗浄液供給源（洗浄手段）
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
Ｒ レジスト液（処理液）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置であって、
円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部を有し、所定方向に臨む一の払拭部により前記ノズル先端を狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体と、
前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段と、
前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段とを備えることを特徴とするノズルメンテナンス装置。
【請求項２】
前記払拭体は、円柱状体または円盤状体の周面に、前記ノズル先端の長手方向に沿って歯筋が平行に設けられた歯車状に形成され、
前記払拭部は、隣り合う一対の歯の間に形成された溝部からなることを特徴とする請求項１に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項３】
前記歯車状に形成された払拭体の軸方向に対し、前記溝部の底部は傾斜していることを特徴とする請求項２に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項４】
前記払拭体は、同一軸上に連なって配列された複数の歯車により構成され、
前記複数の歯車の前記所定方向に臨む各溝部が、前記ノズル先端のいずれかの面を払拭することにより、前記ノズル先端の全ての面が払拭されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項５】
前記払拭体は、可撓性を有する円柱状に形成され、
前記払拭部は、その周面により形成されることを特徴とする請求項１に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項６】
前記ノズル先端を払拭した前記払拭部に対し洗浄液を吹き付ける洗浄手段を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項７】
前記請求項１乃至請求項６のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、
被処理基板を載置するステージと、
前記ステージの側方に設けられたノズルメンテナンス装置と、
前記ステージに載置された被処理基板の上方を基板面に沿って所定方向に移動されると共に、前記基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から前記基板面に処理液を吐出する前記ノズルと、
前記ノズルを前記ステージ上と前記ノズルメンテナンス装置との間で移動させるノズル移動手段とを備えることを特徴とする塗布処理装置。
【請求項８】
前記ノズルメンテナンス装置は、前記ノズルの移動方向に沿って、前記ステージの両側側方にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項７に記載された塗布処理装置。
【請求項１】
被処理基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置であって、
円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部を有し、所定方向に臨む一の払拭部により前記ノズル先端を狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体と、
前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段と、
前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段とを備えることを特徴とするノズルメンテナンス装置。
【請求項２】
前記払拭体は、円柱状体または円盤状体の周面に、前記ノズル先端の長手方向に沿って歯筋が平行に設けられた歯車状に形成され、
前記払拭部は、隣り合う一対の歯の間に形成された溝部からなることを特徴とする請求項１に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項３】
前記歯車状に形成された払拭体の軸方向に対し、前記溝部の底部は傾斜していることを特徴とする請求項２に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項４】
前記払拭体は、同一軸上に連なって配列された複数の歯車により構成され、
前記複数の歯車の前記所定方向に臨む各溝部が、前記ノズル先端のいずれかの面を払拭することにより、前記ノズル先端の全ての面が払拭されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項５】
前記払拭体は、可撓性を有する円柱状に形成され、
前記払拭部は、その周面により形成されることを特徴とする請求項１に記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項６】
前記ノズル先端を払拭した前記払拭部に対し洗浄液を吹き付ける洗浄手段を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置。
【請求項７】
前記請求項１乃至請求項６のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、
被処理基板を載置するステージと、
前記ステージの側方に設けられたノズルメンテナンス装置と、
前記ステージに載置された被処理基板の上方を基板面に沿って所定方向に移動されると共に、前記基板の幅方向に延びる長尺状のノズルに形成された吐出口から前記基板面に処理液を吐出する前記ノズルと、
前記ノズルを前記ステージ上と前記ノズルメンテナンス装置との間で移動させるノズル移動手段とを備えることを特徴とする塗布処理装置。
【請求項８】
前記ノズルメンテナンス装置は、前記ノズルの移動方向に沿って、前記ステージの両側側方にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項７に記載された塗布処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１３−９４６８５（Ｐ２０１３−９４６８５Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２３６６４９（Ｐ２０１１−２３６６４９）
【出願日】平成２３年１０月２８日（２０１１．１０．２８）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月２８日（２０１１．１０．２８）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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