ハードコート塗布液、及び反射防止フィルム
【課題】優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、平滑性に優れ、モアレの発生が無く、帯電防止性、透明性、密着性に優れた反射防止フィルムを形成可能なハードコート塗布液を提供する。
【解決手段】１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材１１を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とする。
【解決手段】１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材１１を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層を形成するためのハードコート塗布液、及び優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、モアレの発生が無く、帯電防止性、透明性、密着性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやプラズマデイスプレイパネル等の一般のディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる（特許文献１参照）。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている（特許文献２、５参照）。
【０００４】
また、これらの反射防止層がフィルム透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている（特許文献３，４，６，７参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３９５８６号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【特許文献３】特開２００６−３５４９３号公報
【特許文献４】特開２００１−２３３６１１号公報
【特許文献５】特開平７−１３３１０５号公報
【特許文献６】特開２００２−７９６１６号公報
【特許文献７】特開２００６−１０６７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
そこでこれらの問題点を改良するために各種導電性材料を添加することが行われているが、導電性材料を添加することで基材とハードコートの屈折率差が生じ、干渉縞が発生してやすくなってしまう。
【０００７】
これまでにいくつかの発明がなされているが、まず、基材とハードコート層の屈折率差を少なくするために、基材とハードコート層の間に中間層を設ける方式では、干渉縞が低減するだけに過ぎず、完全に消失するわけではない。
さらに、基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を基材に塗布することによってハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルムも提案されているが、基材を溶解または膨潤させる溶剤はおもに導電性材料（特に金属酸化微粒子）の分散を阻害するものであることが多く、干渉縞のない導電性ハードコート層の作製は困難である。
【０００８】
これらの課題を解決する手段として、基材を溶解または膨潤させる溶剤と導電性材料が安定に分散される溶剤を組み合わせることを特徴とするハードコートフィルムも提案されている。
しかしながら、この発明はハードコート層についての記載が主であり、反射防止フィルムとしての記載が十分ではない。
【０００９】
先に述べたように、反射防止フィルムとしての機能を発現するためには、ハードコート層上に反射防止層を積層する必要があり、ハードコート層を形成するための塗工方法としては、大面積化、低コスト化が有利であるウェットコーティング方式が挙げられる。しかし、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが容易でないことから、塗布後のレベリング不良に起因する塗布スジや、溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラ、乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラ、装置起因、基材搬送に伴う振動ムラ、などに挙げられる面状ムラが生じやすい。さらにこれらのムラによる凹凸が周期性をもつ場合、パネル化した際にディスプレイの画素ピッチと干渉し、モアレが発生するという不具合が起こる。
【００１０】
これらのムラを改善するためには、塗液のレベリング性を上げることが有効であり、そのための有力な手段の一つとして、レベリング剤を添加する方法が挙げられる。
しかし、ウェットコーティング方式の場合、塗工時や乾燥工程において面性ムラが生じやすいため、塗膜の周期性を完全になくし、モアレの発生を抑制するためには、レベリング剤を添加するだけでは不十分な場合が多い。
【００１１】
そこで、より優れた表面平滑性を発現する手段として、塗布液中に高沸点溶剤を用いることで、溶剤乾燥によるムラを低減し、レベリング性を向上させる方法が挙げられる。
このように塗液中における、基材を溶解または膨潤させる溶剤、及び高沸点溶剤の含有割合を調節することで、塗液の基材浸透性、及びレオロジーを制御し、ハードコート層表面の乾燥、あるいは振動によるスジ・ムラの発生を抑えつつ、干渉縞の発生を防ぎ、反射防止層との密着性を両立させることが可能となる。
本発明は、上記のような点に着目して、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、平滑性に優れ、モアレの発生が無く、帯電防止性、透明性、密着性に優れた反射防止フィルムを形成可能なハードコート塗布液の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するために、本発明のうち請求項１に記載した発明は、透明基材表面への塗布によりハードコート層を形成するためのハードコート塗布液であって、
１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とする。
【００１３】
次に、請求項２に記載した発明は、前記電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよびオリゴマーの少なくとも一方からなり、その電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲内に対し、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲内で含むことを特徴とする。
【００１４】
次に、請求項３に記載した発明は、前記溶剤１は、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤２は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤３は、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下の範囲内であり、前記溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上の範囲内であり、前記溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であることを特徴とする。
【００１５】
次に、請求項４に記載した発明は、透明基材の少なくとも片面に対しハードコート層及び低屈折率層がこの順番で積層された反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載したハードコート塗布液を塗布することで形成されたことを特徴とする。
次に、請求項５に記載した発明は、前記ハードコート層のバインダマトリックス形成材料の固形分濃度が４５％以上５２％以下であり、前記反射防止層を積層した状態における、フィルム表面の中心線平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）が０．０１μｍ以上０．００２μｍ以下であることを特徴とする。
【００１６】
次に、請求項６に記載した発明は、前記低屈折率層は、少なくとも１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子とを含有しており、低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内に調整されていることを特徴とする。
次に、請求項７に記載した発明は、前記透明基材は、セルロース系フィルムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
従来のハードコート塗布液は、レベリング剤により塗膜平滑性を付与させている。しかし、ウェットコーティング方式により生じる塗工ムラ、及び乾燥ムラによる表面凹凸の周期性を抑制し、モアレの発生を防ぐには、それだけでは充分でない場合が多く、場合によっては低反射層との密着性が低下してしまうおそれがある。
これに対し、本発明に係るハードコート塗布液は、塗膜平滑性向上させる手段として高沸点溶剤を用いることで、塗膜平滑性の向上、低反射層との密着性が優れた反射防止フィルムを提供できる。
また高沸点溶剤を用いることにより、フィルム塗工時あるいは乾燥工程における塗液の蒸発速度を制御できることから、塗工時の基材に対する振動・乾燥ムラの影響を減少させることができ、つまり塗膜平滑性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
（反射防止フィルム）
まず、本実施形態の反射防止フィルムについて説明する。
本実施形態の反射防止フィルム１０は、図１に示すように、透明基材１１の少なくとも片面に、ハードコート層１２、低屈折率層１３を順次積層した積層体である。前記ハードコート層１２は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂と導電性材料を主成分とする。前記ハードコート層１２は、透明基材１１を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１及び導電性材料が安定に分散される溶剤２及び一種類以上の高沸点溶剤３とを含むハードコート塗布液を用いて形成される。図１では、透明基材１１の上面（表面）にだけハードコート層１２及び低屈折率層１３を積層した例である。
【００２０】
前記低屈折率層１３は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とした低屈折率層１３形成用樹脂とすることで、優れたハードコート層１２と低屈折率層１３を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる反射防止フィルム１０を提供可能となる。
また、前記透明基材１１としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが用いられる。複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、更に溶剤によって容易に溶解または膨潤する為、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
【００２１】
前記透明基材１１には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、透明基材１１の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。さらにトリアセチルセルロースフィルムである場合には、３８μｍ以上８０μｍ以下が好ましい。
前記電離放射線硬化型樹脂とは、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂も包含するものであって、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。
【００２２】
多官能性モノマーとしては、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００２３】
また、本発明にて好ましい多官能性モノマーとしてウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができる。
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであってもかまわない。
【００２４】
光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することもできる。
【００２５】
さらに、性能改良のため、泡消剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。
導電性材料としては、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３等の金属酸化物微粒子が挙げられる。その中でも導電性に優れたＡＴＯ微粒子の使用が望ましい。
また、前記ハードコート層１２の構成として、電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲であり、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲が好ましい。
【００２６】
ハードコート層１２における導電性材料が１重量部未満であると、十分な導電性を発現せず、一方１０重量部を越えると金属酸化物微粒子による着色、光学散乱が発生してしまい、光学積層体としての十分な機能を発現しなくなる。
ハードコート層１２の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等などにより、透明基材１１の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることより、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。
【００２７】
また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。どちらの塗布方法もコーティングの際に高せん断速度がかかる方式である。
ハードコート層１２を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ２以上８００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【００２８】
また、ハードコート層１２の膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましい。１０μｍを越える場合には硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、膜厚としては、５μｍ以上７μｍ以下の範囲であるとハードコート層１２としては非常に好ましい。
【００２９】
ハードコート塗布液を構成する溶剤１は、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンを溶剤１として好適に用いることができる。
【００３０】
ハードコート塗布液を構成する溶剤２は、金属酸化物微粒子の凝集等を起こすことなく安定した塗液状態を維持することを目的としており、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類、またメチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブを溶剤２として好適に用いることができる。
【００３１】
ハードコート塗布液を構成する溶剤３は、塗工工程における塗液の乾燥速度を抑制し、塗工ムラや乾燥ムラを抑え、表面平滑性を向上させることを目的としており、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブ、キシロール、酢酸メトキシブチル等の沸点が高く、蒸発速度が遅い溶剤が適している。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブを溶剤３として好適に用いることができる。
【００３２】
これら溶剤１、溶剤２及び溶剤３は、溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下、溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上、溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であり、溶剤１、溶剤２、溶剤３を合わせた時に１００重量部となるように調液することが好ましい。
溶剤１が６０重量部未満であると、セルロース系フィルム表面を溶解・膨潤させるのに十分でなく、干渉縞の発生及びハードコート層１２の密着性低下を引き起こしてしまう。一方、溶剤１が８０重量部を越えると、導電性材料が塗液中にて不安定になってしまい、微粒子の凝集等の不具合がおこってしまう。
【００３３】
（低屈折率層１３）
本発明の反射防止フィルム１０は、低屈折率層１３を有しており、ハードコート層１２の上に形成される。これによって反射防止フィルム１０における反射防止機能等の光学特性を良好なものとすることができる。
低屈折率層１３は、ハードコート層１２よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい形態としては、ハードコート層１２の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層１３の屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。屈折率が１．５以上であると低屈折率層１３とハードコート層１２の屈折率差が小さいために反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。
【００３４】
低屈折率層１３の形成は、例えば次の方法を採用する。すなわち、低屈折率層１３形成用樹脂として１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤（重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を低屈折率層１３形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで低屈折率層１３を得る。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は公知のものを使用することができる。
前記低屈折率層１３形成用樹脂の１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーとしては、ハードコート層１２形成時に用いる電離放射線硬化型樹脂にて記載している樹脂等を使用することができる。
【００３５】
低屈折率層１３は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層１２に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。また、組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良く、公知の装置を使用して混合分散することができる。
【００３６】
低屈折率層１３は、前述したウェットコーティング法により表面処理を行ったハードコート層１２上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。また、低屈折率層１３の形成は、前記ハードコート層１２の形成方法と同様にマイクログラビア法を用いると好ましい。
なお、低屈折率層１３を形成する時の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（１）を満足するものが好ましい。
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）・・・（１）
ここで、式（１）中、ｎＡは低屈折率層１３の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の具体的な実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
前記実施形態に基づき、図１に示すように、第１の透明基材１１としては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
第１の透明基材１１上に、ハードコート層処方を撹拌混合した塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が６μｍ程度になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層を形成した。
【００３８】
前記ハードコート層処方においては、以下の処方にておこなった。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
上記ハードコート層の上に、低屈折率層処方をおこなった塗布液を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ２乾燥時）の低屈折率層を形成させて、反射防止フィルムを作製した。
【００３９】
前記低屈折率層処方においては、以下の処方にておこなった。
＜低屈折率層処方＞
・中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０重量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） ７０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ３０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１２７ チバ・ジャパン社製） ３．０重量部
・メチルイソブチルケトン ５０重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ５０重量部
【００４０】
（実施例２）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ６５重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３；ダイアセトンアルコール １５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４１】
（実施例３）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９５重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） ５重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ３．５重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４２】
（実施例４）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＡ３０６Ｈ 共栄社化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ３．５重量部
・溶剤１：酢酸エチル ７０重量部
・溶剤２：イソブチルアルコール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
本発明の溶剤組成による性能と比較するための比較例として（比較例１）、（比較例２）及び（比較例３）、その他性能を比較するため（比較例４）を作製した。
【００４３】
（比較例１）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ５０重量部
・溶剤２：エタノール ３５重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４４】
（比較例２）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。この際、乾燥風が直接塗布面に当たらないようにして、風ムラが発生しないようにして実施した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ８５重量部
・溶剤２：エタノール １０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン ５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４５】
（比較例３）
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ３０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン ０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４６】
前記（実施例１）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例１）、（比較例２）（比較例３）の、それぞれの反射防止フィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。評価結果について表１に示す。
「表面粗さ（中心線平均粗さＲａ）
得られた反射防止フィルムについて、低屈折率層表面の中心線平均粗さＲａをＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠して求めた。
【００４７】
「干渉縞観察」
得られた反射防止フィルムについて、透明基材１１であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。
目視にて確認した評価は、
○：暗い環境下でも色ムラが確認されない。
×：暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
【００４８】
「モアレ観察」
得られた反射防止フィルムを、Ａ３ケミカルガラスの両面に貼り付けた状態で、４６インチの液晶ディスプレイを緑色表示にし、ガラスとディスプレイ表面のギャップを１ｍｍにした状態でモアレを目視にて確認した。
目視にて確認した評価は、
○：暗い環境下においてモアレが確認されない。
×：暗い環境下においてモアレがはっきりと確認される。
【００４９】
（ｂ）表面抵抗値
「表面抵抗」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、ＪＩＳ−Ｋ６９１１−１９９４に準拠して高抵抗抵抗率計（株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）を用いて測定した。
【００５０】
（ｃ）機械強度
「耐擦傷性試験」
学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に２５０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
目視にて確認した評価は、
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
【００５１】
「密着性試験」
得られた反射防止フィルムについて、塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０の付着性試験方法（碁盤目テープ法）に準拠して、低屈折率層表面の塗膜の残存数にて評価した。
目視にて確認した評価は、
○：剥離が確認することが出来ない。
△：２０マス以下の剥離が確認できる。
×：２０マス以上の剥離が確認できる。
このフィルムの性能評価結果を（表１）に示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】
表１から分かるように、（実施例１）、（実施例２）、（実施例３）、（実施例４）で得られた本発明の反射防止フィルムは、耐擦傷性に優れ、干渉縞が認められず、モアレが観測されない優れた塗膜平滑性を有するハードコート層と反射防止層を備えるものである。
これに対して（比較例１）で得られた本発明の反射防止フィルムは、基材に対して浸透性をもつ溶剤１の含有量が少ないため、基材を充分溶解することができず、干渉縞が発生し、耐擦傷性が低下してしまった。（比較例２）は、塗液状態を安定に保つ役割の溶剤２が含まれていないため、金属酸化物微粒子の凝集が起こり、調液後塗液がゲル化してしまった。（比較例３）は、塗液の遅口化により塗膜の表面平滑性を高めるための溶剤３が含まれていないため、塗膜表面の凹凸を抑制できず、モアレが発生してしまった。
【符号の説明】
【００５４】
１０ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層を形成するためのハードコート塗布液、及び優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、モアレの発生が無く、帯電防止性、透明性、密着性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやプラズマデイスプレイパネル等の一般のディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる（特許文献１参照）。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている（特許文献２、５参照）。
【０００４】
また、これらの反射防止層がフィルム透明基材上に設けられている場合には、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている（特許文献３，４，６，７参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３９５８６号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【特許文献３】特開２００６−３５４９３号公報
【特許文献４】特開２００１−２３３６１１号公報
【特許文献５】特開平７−１３３１０５号公報
【特許文献６】特開２００２−７９６１６号公報
【特許文献７】特開２００６−１０６７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
そこでこれらの問題点を改良するために各種導電性材料を添加することが行われているが、導電性材料を添加することで基材とハードコートの屈折率差が生じ、干渉縞が発生してやすくなってしまう。
【０００７】
これまでにいくつかの発明がなされているが、まず、基材とハードコート層の屈折率差を少なくするために、基材とハードコート層の間に中間層を設ける方式では、干渉縞が低減するだけに過ぎず、完全に消失するわけではない。
さらに、基材を溶解または膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を基材に塗布することによってハードコート層を形成することを特徴とする光学フィルムも提案されているが、基材を溶解または膨潤させる溶剤はおもに導電性材料（特に金属酸化微粒子）の分散を阻害するものであることが多く、干渉縞のない導電性ハードコート層の作製は困難である。
【０００８】
これらの課題を解決する手段として、基材を溶解または膨潤させる溶剤と導電性材料が安定に分散される溶剤を組み合わせることを特徴とするハードコートフィルムも提案されている。
しかしながら、この発明はハードコート層についての記載が主であり、反射防止フィルムとしての記載が十分ではない。
【０００９】
先に述べたように、反射防止フィルムとしての機能を発現するためには、ハードコート層上に反射防止層を積層する必要があり、ハードコート層を形成するための塗工方法としては、大面積化、低コスト化が有利であるウェットコーティング方式が挙げられる。しかし、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが容易でないことから、塗布後のレベリング不良に起因する塗布スジや、溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラ、乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラ、装置起因、基材搬送に伴う振動ムラ、などに挙げられる面状ムラが生じやすい。さらにこれらのムラによる凹凸が周期性をもつ場合、パネル化した際にディスプレイの画素ピッチと干渉し、モアレが発生するという不具合が起こる。
【００１０】
これらのムラを改善するためには、塗液のレベリング性を上げることが有効であり、そのための有力な手段の一つとして、レベリング剤を添加する方法が挙げられる。
しかし、ウェットコーティング方式の場合、塗工時や乾燥工程において面性ムラが生じやすいため、塗膜の周期性を完全になくし、モアレの発生を抑制するためには、レベリング剤を添加するだけでは不十分な場合が多い。
【００１１】
そこで、より優れた表面平滑性を発現する手段として、塗布液中に高沸点溶剤を用いることで、溶剤乾燥によるムラを低減し、レベリング性を向上させる方法が挙げられる。
このように塗液中における、基材を溶解または膨潤させる溶剤、及び高沸点溶剤の含有割合を調節することで、塗液の基材浸透性、及びレオロジーを制御し、ハードコート層表面の乾燥、あるいは振動によるスジ・ムラの発生を抑えつつ、干渉縞の発生を防ぎ、反射防止層との密着性を両立させることが可能となる。
本発明は、上記のような点に着目して、優れたハードコート層と反射防止層を備え、干渉縞の発生を抑え、平滑性に優れ、モアレの発生が無く、帯電防止性、透明性、密着性に優れた反射防止フィルムを形成可能なハードコート塗布液の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するために、本発明のうち請求項１に記載した発明は、透明基材表面への塗布によりハードコート層を形成するためのハードコート塗布液であって、
１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とする。
【００１３】
次に、請求項２に記載した発明は、前記電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよびオリゴマーの少なくとも一方からなり、その電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲内に対し、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲内で含むことを特徴とする。
【００１４】
次に、請求項３に記載した発明は、前記溶剤１は、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤２は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤３は、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下の範囲内であり、前記溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上の範囲内であり、前記溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であることを特徴とする。
【００１５】
次に、請求項４に記載した発明は、透明基材の少なくとも片面に対しハードコート層及び低屈折率層がこの順番で積層された反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載したハードコート塗布液を塗布することで形成されたことを特徴とする。
次に、請求項５に記載した発明は、前記ハードコート層のバインダマトリックス形成材料の固形分濃度が４５％以上５２％以下であり、前記反射防止層を積層した状態における、フィルム表面の中心線平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）が０．０１μｍ以上０．００２μｍ以下であることを特徴とする。
【００１６】
次に、請求項６に記載した発明は、前記低屈折率層は、少なくとも１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子とを含有しており、低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内に調整されていることを特徴とする。
次に、請求項７に記載した発明は、前記透明基材は、セルロース系フィルムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
従来のハードコート塗布液は、レベリング剤により塗膜平滑性を付与させている。しかし、ウェットコーティング方式により生じる塗工ムラ、及び乾燥ムラによる表面凹凸の周期性を抑制し、モアレの発生を防ぐには、それだけでは充分でない場合が多く、場合によっては低反射層との密着性が低下してしまうおそれがある。
これに対し、本発明に係るハードコート塗布液は、塗膜平滑性向上させる手段として高沸点溶剤を用いることで、塗膜平滑性の向上、低反射層との密着性が優れた反射防止フィルムを提供できる。
また高沸点溶剤を用いることにより、フィルム塗工時あるいは乾燥工程における塗液の蒸発速度を制御できることから、塗工時の基材に対する振動・乾燥ムラの影響を減少させることができ、つまり塗膜平滑性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
（反射防止フィルム）
まず、本実施形態の反射防止フィルムについて説明する。
本実施形態の反射防止フィルム１０は、図１に示すように、透明基材１１の少なくとも片面に、ハードコート層１２、低屈折率層１３を順次積層した積層体である。前記ハードコート層１２は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする電離放射線硬化型樹脂と導電性材料を主成分とする。前記ハードコート層１２は、透明基材１１を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１及び導電性材料が安定に分散される溶剤２及び一種類以上の高沸点溶剤３とを含むハードコート塗布液を用いて形成される。図１では、透明基材１１の上面（表面）にだけハードコート層１２及び低屈折率層１３を積層した例である。
【００２０】
前記低屈折率層１３は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とした低屈折率層１３形成用樹脂とすることで、優れたハードコート層１２と低屈折率層１３を備え、干渉縞の発生を抑え、帯電防止性、透明性及び密着性に優れる反射防止フィルム１０を提供可能となる。
また、前記透明基材１１としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが用いられる。複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、更に溶剤によって容易に溶解または膨潤する為、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
【００２１】
前記透明基材１１には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、透明基材１１の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。さらにトリアセチルセルロースフィルムである場合には、３８μｍ以上８０μｍ以下が好ましい。
前記電離放射線硬化型樹脂とは、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂も包含するものであって、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーを主成分とする。
【００２２】
多官能性モノマーとしては、１，４‐ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ‐（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３‐ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリンサンエステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、単独で使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００２３】
また、本発明にて好ましい多官能性モノマーとしてウレタンアクリレートも挙げられ、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に水酸基を有するアクリレートモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができる。
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。また、これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、これらは塗液においてモノマーであってもよいし、一部が重合したオリゴマーであってもかまわない。
【００２４】
光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することもできる。
【００２５】
さらに、性能改良のため、泡消剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。
導電性材料としては、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化スズ）、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３等の金属酸化物微粒子が挙げられる。その中でも導電性に優れたＡＴＯ微粒子の使用が望ましい。
また、前記ハードコート層１２の構成として、電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲であり、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲が好ましい。
【００２６】
ハードコート層１２における導電性材料が１重量部未満であると、十分な導電性を発現せず、一方１０重量部を越えると金属酸化物微粒子による着色、光学散乱が発生してしまい、光学積層体としての十分な機能を発現しなくなる。
ハードコート層１２の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等などにより、透明基材１１の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることより、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。
【００２７】
また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。どちらの塗布方法もコーティングの際に高せん断速度がかかる方式である。
ハードコート層１２を形成する際の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００ｍＪ／ｃｍ２以上８００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【００２８】
また、ハードコート層１２の膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましい。１０μｍを越える場合には硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうためである。さらに、膜厚としては、５μｍ以上７μｍ以下の範囲であるとハードコート層１２としては非常に好ましい。
【００２９】
ハードコート塗布液を構成する溶剤１は、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンを溶剤１として好適に用いることができる。
【００３０】
ハードコート塗布液を構成する溶剤２は、金属酸化物微粒子の凝集等を起こすことなく安定した塗液状態を維持することを目的としており、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類、またメチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブを溶剤２として好適に用いることができる。
【００３１】
ハードコート塗布液を構成する溶剤３は、塗工工程における塗液の乾燥速度を抑制し、塗工ムラや乾燥ムラを抑え、表面平滑性を向上させることを目的としており、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブ、キシロール、酢酸メトキシブチル等の沸点が高く、蒸発速度が遅い溶剤が適している。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。なかでも、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブを溶剤３として好適に用いることができる。
【００３２】
これら溶剤１、溶剤２及び溶剤３は、溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下、溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上、溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であり、溶剤１、溶剤２、溶剤３を合わせた時に１００重量部となるように調液することが好ましい。
溶剤１が６０重量部未満であると、セルロース系フィルム表面を溶解・膨潤させるのに十分でなく、干渉縞の発生及びハードコート層１２の密着性低下を引き起こしてしまう。一方、溶剤１が８０重量部を越えると、導電性材料が塗液中にて不安定になってしまい、微粒子の凝集等の不具合がおこってしまう。
【００３３】
（低屈折率層１３）
本発明の反射防止フィルム１０は、低屈折率層１３を有しており、ハードコート層１２の上に形成される。これによって反射防止フィルム１０における反射防止機能等の光学特性を良好なものとすることができる。
低屈折率層１３は、ハードコート層１２よりも低い屈折率を有するものが好ましい。本発明の好ましい形態としては、ハードコート層１２の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層１３の屈折率が１．５未満であり、より好ましくは１．４５以下、更に好ましくは１．３５以下である。屈折率が１．５以上であると低屈折率層１３とハードコート層１２の屈折率差が小さいために反射が高くなってしまうことから、屈折率は低い方が望ましい。
【００３４】
低屈折率層１３の形成は、例えば次の方法を採用する。すなわち、低屈折率層１３形成用樹脂として１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマー、中空シリカ微粒子、及び必要に応じて添加剤（重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を低屈折率層１３形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、紫外線照射あるいは加熱等により硬化させることで低屈折率層１３を得る。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は公知のものを使用することができる。
前記低屈折率層１３形成用樹脂の１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーとしては、ハードコート層１２形成時に用いる電離放射線硬化型樹脂にて記載している樹脂等を使用することができる。
【００３５】
低屈折率層１３は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、組成物の安定性、ハードコート層１２に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。中でも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡが好ましい。また、組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良く、公知の装置を使用して混合分散することができる。
【００３６】
低屈折率層１３は、前述したウェットコーティング法により表面処理を行ったハードコート層１２上に塗工され、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。また、低屈折率層１３の形成は、前記ハードコート層１２の形成方法と同様にマイクログラビア法を用いると好ましい。
なお、低屈折率層１３を形成する時の膜厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（１）を満足するものが好ましい。
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ）・・・（１）
ここで、式（１）中、ｎＡは低屈折率層１３の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である。
【実施例】
【００３７】
以下、本発明の具体的な実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
前記実施形態に基づき、図１に示すように、第１の透明基材１１としては、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用意した。
第１の透明基材１１上に、ハードコート層処方を撹拌混合した塗布液を、バーコーティング法により乾燥後の膜厚が６μｍ程度になるように塗布、乾燥させ、高圧水銀灯により６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、ハードコート層を形成した。
【００３８】
前記ハードコート層処方においては、以下の処方にておこなった。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
上記ハードコート層の上に、低屈折率層処方をおこなった塗布液を塗布した後、温度５０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が３００ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、０．２ｇ／ｃｍ２乾燥時）の低屈折率層を形成させて、反射防止フィルムを作製した。
【００３９】
前記低屈折率層処方においては、以下の処方にておこなった。
＜低屈折率層処方＞
・中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分は２０重量％溶液；メチルイソブチルケトン、粒子径５０ナノメートル） ７０重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ３０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１２７ チバ・ジャパン社製） ３．０重量部
・メチルイソブチルケトン ５０重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ５０重量部
【００４０】
（実施例２）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ６５重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３；ダイアセトンアルコール １５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４１】
（実施例３）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９５重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） ５重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ３．５重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４２】
（実施例４）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＡ３０６Ｈ 共栄社化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ３．５重量部
・溶剤１：酢酸エチル ７０重量部
・溶剤２：イソブチルアルコール ２０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
本発明の溶剤組成による性能と比較するための比較例として（比較例１）、（比較例２）及び（比較例３）、その他性能を比較するため（比較例４）を作製した。
【００４３】
（比較例１）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ５０重量部
・溶剤２：エタノール ３５重量部
・溶剤３：アセチルアセトン １５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４４】
（比較例２）
前記（実施例１）同様に、以下のハードコート層処方においてハードコート層を形成した。この際、乾燥風が直接塗布面に当たらないようにして、風ムラが発生しないようにして実施した。
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ８５重量部
・溶剤２：エタノール １０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン ５重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４５】
（比較例３）
＜ハードコート層処方＞
・ウレタンアクリレート（ＵＶ−１７００Ｂ 日本合成化学社製） ９０重量部
・導電性金属酸化物（五酸化アンチモン、屈折率ｎ＝１．６０） １０重量部
・光重合開始剤（イルガキュアー１８４ チバ・ジャパン社製） ５．０重量部
・溶剤１：アセトン ７０重量部
・溶剤２：エタノール ３０重量部
・溶剤３：アセチルアセトン ０重量部
それ以外の形成方法及び低屈折率層の形成においては、（実施例１）と同様にして光学積層体を作製した。
【００４６】
前記（実施例１）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例１）、（比較例２）（比較例３）の、それぞれの反射防止フィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。評価結果について表１に示す。
「表面粗さ（中心線平均粗さＲａ）
得られた反射防止フィルムについて、低屈折率層表面の中心線平均粗さＲａをＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠して求めた。
【００４７】
「干渉縞観察」
得られた反射防止フィルムについて、透明基材１１であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下で低屈折率層表面の干渉縞を目視にて確認した。
目視にて確認した評価は、
○：暗い環境下でも色ムラが確認されない。
×：暗い環境下でも色ムラがはっきりと確認される。
【００４８】
「モアレ観察」
得られた反射防止フィルムを、Ａ３ケミカルガラスの両面に貼り付けた状態で、４６インチの液晶ディスプレイを緑色表示にし、ガラスとディスプレイ表面のギャップを１ｍｍにした状態でモアレを目視にて確認した。
目視にて確認した評価は、
○：暗い環境下においてモアレが確認されない。
×：暗い環境下においてモアレがはっきりと確認される。
【００４９】
（ｂ）表面抵抗値
「表面抵抗」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、ＪＩＳ−Ｋ６９１１−１９９４に準拠して高抵抗抵抗率計（株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）を用いて測定した。
【００５０】
（ｃ）機械強度
「耐擦傷性試験」
学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に２５０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
目視にて確認した評価は、
○：傷を確認することが出来ない。
△：数本傷を確認できる。
×：傷が多数確認できる。
【００５１】
「密着性試験」
得られた反射防止フィルムについて、塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０の付着性試験方法（碁盤目テープ法）に準拠して、低屈折率層表面の塗膜の残存数にて評価した。
目視にて確認した評価は、
○：剥離が確認することが出来ない。
△：２０マス以下の剥離が確認できる。
×：２０マス以上の剥離が確認できる。
このフィルムの性能評価結果を（表１）に示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】
表１から分かるように、（実施例１）、（実施例２）、（実施例３）、（実施例４）で得られた本発明の反射防止フィルムは、耐擦傷性に優れ、干渉縞が認められず、モアレが観測されない優れた塗膜平滑性を有するハードコート層と反射防止層を備えるものである。
これに対して（比較例１）で得られた本発明の反射防止フィルムは、基材に対して浸透性をもつ溶剤１の含有量が少ないため、基材を充分溶解することができず、干渉縞が発生し、耐擦傷性が低下してしまった。（比較例２）は、塗液状態を安定に保つ役割の溶剤２が含まれていないため、金属酸化物微粒子の凝集が起こり、調液後塗液がゲル化してしまった。（比較例３）は、塗液の遅口化により塗膜の表面平滑性を高めるための溶剤３が含まれていないため、塗膜表面の凹凸を抑制できず、モアレが発生してしまった。
【符号の説明】
【００５４】
１０ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ ハードコート層
１３ 低屈折率層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材表面への塗布によりハードコート層を形成するためのハードコート塗布液であって、
１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とするハードコート塗布液。
【請求項２】
前記電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよびオリゴマーの少なくとも一方からなり、その電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲内に対し、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲内で含むことを特徴とする請求項１に記載したハードコート塗布液。
【請求項３】
前記溶剤１は、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤２は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤３は、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下の範囲内であり、前記溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上の範囲内であり、前記溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載したハードコート塗布液。
【請求項４】
透明基材の少なくとも片面に対しハードコート層及び低屈折率層がこの順番で積層された反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載したハードコート塗布液を塗布することで形成されたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層のバインダマトリックス形成材料の固形分濃度が４５％以上５２％以下であり、前記反射防止層を積層した状態における、フィルム表面の中心線平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）が０．０１μｍ以上０．００２μｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載した反射防止フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層は、少なくとも１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子とを含有しており、低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内に調整されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載した記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記透明基材は、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載した反射防止フィルム。
【請求項１】
透明基材表面への塗布によりハードコート層を形成するためのハードコート塗布液であって、
１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に有する多官能性モノマーを含有する電離放射線硬化型樹脂と、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３の金属酸化物粒子のうち少なくとも１種類以上を含有する導電性材料に、透明基材を溶解または膨潤させる一種類以上の溶剤１と、導電性材料が安定に分散される溶剤２と、一種類以上の高沸点溶剤３と、が含有されていることを特徴とするハードコート塗布液。
【請求項２】
前記電離放射線硬化型樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートモノマーおよびオリゴマーの少なくとも一方からなり、その電離放射線硬化型樹脂が固形分に対して９０重量部以上９９重量部以下の範囲内に対し、導電性材料が固形分に対して１０重量部以下１重量部以上の範囲内で含むことを特徴とする請求項１に記載したハードコート塗布液。
【請求項３】
前記溶剤１は、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトン、シクロヘキサノンのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤２は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ペンタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、セロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤３は、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、ブチルセロソルブのうち少なくとも１種類を含んでおり、
前記溶剤１が６０重量部以上８０重量部以下の範囲内であり、前記溶剤２が２５重量部以下１５重量部以上の範囲内であり、前記溶剤３が１５重量部以下５重量部以上の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載したハードコート塗布液。
【請求項４】
透明基材の少なくとも片面に対しハードコート層及び低屈折率層がこの順番で積層された反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載したハードコート塗布液を塗布することで形成されたことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層のバインダマトリックス形成材料の固形分濃度が４５％以上５２％以下であり、前記反射防止層を積層した状態における、フィルム表面の中心線平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）が０．０１μｍ以上０．００２μｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載した反射防止フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層は、少なくとも１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を分子中に含有する多官能性モノマーと、低屈折率微粒子とを含有しており、低屈折率層の屈折率が１．３以上１．５以下の範囲内に調整されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載した記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記透明基材は、セルロース系フィルムであることを特徴とする請求項４〜請求項６のいずれか１項に記載した反射防止フィルム。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−６８４１５（Ｐ２０１２−６８４１５Ａ）
【公開日】平成２４年４月５日（２０１２．４．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２１２８０９（Ｐ２０１０−２１２８０９）
【出願日】平成２２年９月２２日（２０１０．９．２２）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年４月５日（２０１２．４．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月２２日（２０１０．９．２２）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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