パターニング楕円偏光板
【課題】安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有する偏光板の提供。
【解決手段】互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【解決手段】互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターニング楕円偏光板に関する。より詳しくは、本発明はパターニングされた位相差層とパターニングされた偏光層とを積層することにより作製されたパターニング楕円偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の吸収軸の方向をパターン状に有するパターニング偏光板は、複雑な複屈折条件の実用化に役立つと考えられる。
特許文献１にはゲスト−ホスト型偏光子の記載があり、パターニング可能との記述がある。しかし具体的な作製法は開示されていない。また、液晶表示装置に適用する場合には位相差板と組み合わさっていないため、視野角依存性が大きいという問題点がある。
【０００３】
特許文献２には二色性色素が一軸配向している配向色素含有膜と、それを用いた偏光素子およびＴＮ及びＳＴＮ液晶表示装置が開示されている。フッ素樹脂配向膜上で配向色素膜を作成し、目的物に転写する製造方法が採られており、フォトレジストで配向膜をパターニングすることにより、配向色素含有膜の有無をパターニングすることができるとの開示がある。しかし、位相差板と組み合わせる方法についての開示はない。また、フッ素樹脂配向膜は、加熱した基板にフッ素樹脂の塊を圧力で付着させることにより作製されるため、均一な膜を得ることは困難であるという問題がある。
【０００４】
特許文献３にはカラーフィルタと偏光子が一体化したゲスト−ホスト型偏光子が開示されている。該偏光子の製造工程においては、配向している偏光子用染料と直交する光を配向しているカラーフィルタ用染料が吸収している。開示されている偏光子はさらに光熱変換層を備えており、光熱間相互作用を用いてパターン転写している。しかし、位相差板と組み合わせる方法についての開示はない。また、光熱間相互作用を用いた転写を行うため、パターニングの微細性が悪いという問題点がある。
【０００５】
特許文献４には、多層膜スパッタ形成法によるフォトニック結晶を用いたパターニング位相差板及びパターニング偏光板、ならびにそれらを受光素子アレイと組み合わせた偏光解析装置についての開示があるが、この方法はフォトニック結晶方式を用いているため、電子ビームリソグラフィ、ドライエッチング装置又は スパッタリング装置などの高価な装置を必要とするという問題点がある。また、何層も薄膜を積層しなければならないので、生産性が低い。
【特許文献１】特表2007-510946号公報
【特許文献２】特開平 9-73015号公報
【特許文献３】特表 2003-513298号公報
【特許文献４】国際公開ＷＯ2004/008196号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有する偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題の解決のために鋭意研究を行った結果、配向性基を有する高分子を使用することによって、安価にパターニング偏光板の作製が可能であることを見出し、この知見をもとに本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記［１］〜［１６］を提供するものである
［１］互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【０００８】
［２］前記パターニング偏光層が、二色性色素及び側鎖に配向性基を有する高分子を含有する［１］に記載の楕円偏光板。
［３］前記パターニング位相差層が液晶性化合物を含む［１］又は［２］に記載の楕円偏光板。
［４］前記パターニング偏光層が液晶性化合物を含む［１］〜［３］のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
［５］配向層１、前記パターニング偏光層、配向層２、及び前記パターニング位相差層をこの順に有し、かつ
配向層１及び前記パターニング偏光層、並びに配向層２及び前記パターニング位相差層はそれぞれ隣接している［１］〜［４］のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【０００９】
［６］楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１１）〜（１３）を含む製造方法：
（１１）支持体又はパターニング偏光層上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング偏光層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１２）工程（１１）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１３）工程（１２）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング位相差層を作製する工程。
【００１０】
［７］楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１４）〜（１６）を含む製造方法：
（１４）支持体又はパターニング位相差層上に光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング位相差層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１５）工程（１４）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子及び二色性色素を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１６）工程（１５）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング偏光層を作製する工程。
【００１１】
［８］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が熱現像用重合性液晶性化合物を含み、かつ、前記現像が５０℃〜４００℃での熱処理により行われる［６］又は［７］に記載の製造方法。
［９］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液がアルカリ現像性重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像がｐH１０以上１４以下の水溶液で行われる［６］又は［７］に記載の製造方法。
［１０］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像が有機溶媒現像である［６］又は［７］に記載の製造方法。
【００１２】
［１１］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む液晶表示装置。
［１２］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含むイメージセンサ。
［１３］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む偏光測定装置。
［１４］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む１次元センサアレイ。
［１５］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む膜厚測定装置。
［１６］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む３Ｄディスプレイ装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有するパターニング楕円偏光板が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１５】
本明細書において、角度について「同一」とは、角度の差異が±５°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は、±４°未満であることが好ましく、±３°未満であることがより好ましい。したがって、例えば、「軸の向きが同一である」というとき、軸の向きの差異が±５°未満の範囲内であることを意味し、「軸の向きが異なっている」というとき、軸の向きの差異が±５°以上であることを意味する。
【００１６】
本明細書において、位相差、レターデーション又はＲｅは、面内レターデーションを表す。面内レターデーション（Ｒｅ(λ)）はKOBRA 21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるレターデーション又はＲｅは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍの波長で測定されたものを意味し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍの波長で測定されたものを意味する。
【００１７】
本発明の楕円偏光板は、軸方向がパターニングされた偏光板であり、遅相軸方向ならびに位相差層量がパターニングされたパターニング位相差層と、吸収軸方向および層の有無がパターニングされたパターニング偏光層とを含む。
なお、「軸方向」には、軸方向を有さない状態も含むものとする。また、軸方向を有さない状態には層が欠落している状態を含むものとする。すなわち、本発明の楕円偏光板においては層の有無がパターン状に形成されている場合がある。なお、本明細書において、「軸方向」は面内の軸方向を意味するものとする。
【００１８】
なお、本明細書において、「パターニング」とは、フィルム状の対象物に、吸収軸若しくは遅相軸の方向、又は層の有無などにより光学的性質が互いに異なる領域を2つ以上作製すること、または、同領域を2つ以上有することを意味する。ここで、光学的な性質が同一である領域は互いに連続的である必要はなく、パターン状に分布していてもよい。また、存在する2つ以上の光学的性質が互いに異なる領域が集合して連続的なフィルム状の対象物を形成しているものとする。（図１参照）
【００１９】
以下、本発明のパターニング楕円偏光板について、材料、製造方法等を、詳細に説明する。ただし、本発明はこの態様に限定されるものではなく、他の態様についても、以下の記載および従来公知の方法を参考にして実施可能であって、本発明は以下に説明する態様に限定されるものではない。
本発明の楕円偏光板はパターニング位相差層及びパターニング偏光層を含む。以下ではまずパターニング位相差層及びパターニング偏光層の製造方法につき説明する。
【００２０】
（位相差層）
パターニング位相差層は位相差層をパターニングすることにより形成できる。位相差層は位相差を測定したときにＲｅが実質的に０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有する層であればよい。本発明のパターニング楕円偏光板において、位相差層は、側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物から形成される。配向性基は一様な方向に並び易い性質を持つため、側鎖に配向性基を有する高分子を用いることにより軸方向の制御が容易になる。
【００２１】
（配向性基を有する高分子）
配向性基を有する高分子は、高分子主鎖と高分子側鎖から構成される。高分子主鎖の構成要素はいかなるものであってもよいが、例として、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリシロキサン，ポリビニルが挙げられる。配向性基は、高分子側鎖中に含まれる。配向性基は、液晶性を示す機能を付与する部分構造（メソゲン）を有する。
液晶性を示す機能を与える部分構造としては、いかなる構造であってもよいが、例として、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧、丸善、２０００年の第３章、第８節の「高分子液晶」に記載されているものが挙げられる。
【００２２】
位相差層は、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含むことも好ましい。上記の側鎖に配向性基を有する高分子が、液晶性化合物であってもよい。少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含む組成物から位相差層を形成することによって、後述の配向層などによる遅相軸方向の制御等が容易になる。このような位相差層は、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製することができる。このような作製方法につき、以下に説明する。
【００２３】
［液晶性化合物］
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
【００２４】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む位相差層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
【００２５】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００２６】
【化１】
【００２７】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００２８】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００２９】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００３０】
【化２】
【００３１】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法で合成することができる。
【００３２】
【化３】
【００３３】
【化４】
【００３４】
【化５】
【００３５】
【化６】
【００３６】
【化７】
【００３７】
【化８】
【００３８】
本発明の他の態様として、前記位相差層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記位相差層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００３９】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００４０】
【化９】
【００４１】
【化１０】
【００４２】
【化１１】
【００４３】
【化１２】
【００４４】
【化１３】
【００４５】
【化１４】
【００４６】
位相差層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であることが好ましい。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００４７】
液晶性化合物を含む組成物からなる位相差層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物を含む組成物からなる層と棒状性液晶性化合物を含む組成物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の位相差層を積層してもよいし、異なる配向状態の位相差層を積層してもよい。
【００４８】
位相差層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００４９】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
【００５０】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５１】
［偏光照射による光配向］
前記位相差層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。この偏光照射は上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねてもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよいが、偏光照射のみを行うか先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行うことが望ましい。偏光照射が上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねる場合であってかつ重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合、偏光照射は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５２】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記位相差層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射してもよい。最初の偏光照射の後に偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良し、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は不活性ガス置換してもしなくてもよいが、特に重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５３】
［水平配向剤］
前記位相差層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１）〜（４）について、順に説明する。
【００５４】
【化１５】
【００５５】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−およびＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００５６】
【化１６】
【００５７】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００５８】
【化１７】
【００５９】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（１）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００６０】
【化１８】
【００６１】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８および特開２００６−９１２０５に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００６２】
［位相差層の後処理］
作製された位相差層を改質するために、様々な後処理を行ってもよい。後処理としては例えば、密着性向上の為のコロナ処理や、柔軟性向上の為の可塑剤添加、保存性向上の為の熱重合禁止剤添加、反応性向上の為のカップリング処理などが挙げられる。また、光学異方性層中の高分子が未反応の反応性基を有する場合、該反応性基に対応する重合開始剤を添加することも有効な改質手段である。可塑剤や光重合開始剤の添加手段としては、例えば、光学異方性層を該当する添加剤の溶液に浸漬する手段や、光学異方性層の上に該当する添加剤の溶液を塗布して浸透させる手段などが挙げられる。また、光学異方性層の上に他の層を塗布する際にその層の塗布液に添加剤を添加しておき、光学異方性層に浸漬させる方法もあげられる。
【００６３】
なお、後述の現像工程によって、軸の有無及び層の有無をパターニングすることができるが、現像の種類によって現像で溶解できる液晶性化合物の種類が異なるため、層の有無のパターニングを行うためには液晶性化合物の種類を適正に選択すればよい。例えば、
アルカリ現像性の重合性液晶性化合物として、特開２００７−１９９６６１号公報中の「００６３」〜「００７６」に記載の化合物を選択することができる。また、熱現像用の重合性液晶性化合物として、化合物Ｉ−１〜Ｉ−２５を選択することができる。さらに、有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物として化合物Ｉ−１〜Ｉ−２５を選択することができる。
【００６４】
（偏光層）
パターニング偏光層は偏光層をパターニングすることなどによって形成できる。偏光層の種類は特に限定されるものではなく、パターニングが可能であれば、特に限定されるものではないが、本発明のパターニング偏光板における偏光層は吸収軸方向、又は層の有無のパターニングを容易にするため、上記の位相差層と同様に、側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物から形成されていることが好ましく、さらに該組成物は液晶性化合物を含む組成物であることが好ましい。この組成物に二色性色素をさらに含ませることによって、上記位相差層と同様に形成される層に偏光層としての機能を付与することができる。液晶性化合物及び二色性色素を含む組成物から形成される偏光層から形成されるパターニング偏光層は、液晶性化合物を含む組成物から形成される位相差層から形成されるパターニング位相差層と同様に製造することができる。
【００６５】
（二色性色素）
二色性色素は、ホスト液晶中に溶解し、光を吸収する機能を有する化合物と定義される。二色性色素の吸収極大ならびに吸収帯に関しては特に制限はないが、イエロー域（Ｙ）、マゼンタ域（Ｍ）、あるいはシアン域（Ｃ）に吸収極大を有する色素が好ましい。
【００６６】
組成物に用いられる二色性色素は、単独で使用してもよいが、複数を混合したものであってもよい。複数の色素を混合する場合には、同一種の発色団を有する色素同士を混合してもよいし、互いに異なる発色団を有する二色性色素を混合してもよく、Ｙ、Ｍ、Ｃに吸収極大を有する二色性色素の混合物を用いることが好ましい。
公知の二色性色素としては、例えば、A. V. Ivashchenko著、Diachronic Dyes for Liquid Crystal Display、CRC社、1994年に記載のものが挙げられる。
前記二色性色素の発色団は特に限定されないが、例えば、アゾ色素、アントラキノン色素、ペリレン色素、メロシアニン色素、アゾメチン色素、フタロペリレン色素、インジゴ色素、アズレン色素、ジオキサジン色素、ポリチオフェン色素、フェノキサジン色素などが挙げられる。好ましくはアゾ色素、アントラキノン色素、フェノキサジン色素である。
【００６７】
アゾ色素はモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などいかなるものであってもよいが、好ましくはモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族基（ベンゼン環、ナフタレン環など）のほかにも複素環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など）であってもよい。
【００６８】
アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置は特に限定されないが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【００６９】
フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。
本発明に用いられる二色性色素は、アスペクト比（分子長軸長さ／分子短軸長さ）が好ましくは２以上、更に好ましくは３以上であり、分子軸と遷移モーメントとのなす角が好ましくは２０°以内であり、色素分子の長軸方向における最大吸収波長での吸光度と短軸方向の吸光度との比が好ましくは５以上、更に好ましくは８以上、特に好ましくは１０以上である。前記のようなものであれば、本発明に用いられる二色性色素としては、染料、顔料を問わず使用できる。特に、従来の染料系偏光フィルムやゲスト−ホスト型液晶ディスプレイに使用される二色性色素のうち、ネマチック液晶に溶解させて液晶セルに入れて配向させる方法、延伸配向したＰＶＡ又はその誘導体フィルムに吸着させる方法等により色素を配向させた場合に、特定の吸収波長での配向方向における吸光度と、それと直交する方向における吸光度との比の最大値が５以上、好ましくは８以上、更に好ましくは１０以上となるものが好適に用いられる。
【００７０】
二色性色素としては、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、アントラキノン系、アゾ系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、テトラジン系などが知られており、耐候性等で実用的に使用されるアゾ系、アントラキノン系の二色性色素が好ましい。特にアゾ系色素ではジスアゾ系とトリスアゾ系が例示される。一方、偏光フィルムに用いられる二色性色素としては、ポリアゾ系色素、アントラキノン系染料が例示される。ポリアゾ系色素としてさらに詳しくはスチルベン系、ベンジジン系等が例示される。
【００７１】
具体的には、特開平９−７３０１５号公報の段落番号「００１２」〜「００２５」に記載の化合物を挙げることができる。
また、二色性色素が側鎖に配向性基を有する高分子であってもよい。
【００７２】
［配向層］
上記した様に、位相差層及び偏光層の形成には、配向層を利用してもよい。本明細書において配向層は配向膜という場合がある。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能するため、配向膜の機能をパターニングすることによって、パターニング位相差層及びパターニング偏光層を容易に得ることができる。配向層は、一般に後述の支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、位相差層及び偏光層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよいが、典型的な例としては光配向層及びラビング配向層が挙げられる。
なお、配向層の種類は後述の現像の種類に関わらず選択して用いることができる。
【００７３】
（光配向層）
光配向層は光配向材料から作製することができる。光配向材料としては、主に偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに分類される。光配向層は上記光異性化材料及び光反応材料のいずれを用いてもよいが、光反応材料を用いることがより好ましい。上述したように光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になることから、配向規制力の経時安定性が優れるからである。
【００７４】
上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においてはこのような光二量化型材料、光分解型材料、光結合型材料および光分解−結合型材料のいずれを用いてもよいが、なかでも光二量化型材料を用いることがより好ましい。
以下に光配向材料の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。尚、式中のｘ、ｙ、ｚは各繰り返し単位のモル百分率を示す。
【００７５】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
（ラビング配向層）
配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【００７６】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルピロリドン、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００７７】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。
【００７８】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００７９】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００８０】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【００８１】
（パターニングの方法）
［パターン露光］
液晶性化合物を含む位相差層及び液晶性化合物を含む偏光層のいずれにおいても、層のパターニングのために、パターン露光を行うことができる。通常パターン露光は、層につき、複屈折性又は偏光性を残したい領域を露光するように行う。
また、光配向材料を含む光配向層形成用組成物に偏光紫外光のパターン露光を行うことにより、パターン状に配向方向が規定された光配向層を得ることができる。
パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などでもよいし、レーザーや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画してもよい。前記露光の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００８２】
[現像]
層の有無、又は軸方向として軸の有無のパターニングは現像によって行うことが可能である。
上記の熱現像用の液晶性化合物を用いて位相差層又は偏光層を作製して熱現像を行うことにより、層の露光部は紫外光露光により液晶分子の配向が固定され軸方向を生じる。一方で層の未露光部は液晶分子の配向が固定されず配向が熱によりランダム化され軸方向を生じないため、軸の有無のパターニングが可能である。
上記のアルカリ現像性液晶性化合物を用いて位相差層もしくは偏光層を作製してアルカリ液現像を行うことにより、又は上記の有機溶媒現像用液晶性化合物を用いて位相差層もしくは偏光層を作製して有機溶媒現像を行うことにより、層の露光部は紫外光露光により液晶分子の配向が固定され現像液で溶解しない。一方で層の未露光部は液晶分子の配向が固定されないので溶解し、層の有無（層の未欠落部分及び層の欠落部分）のパターニングが可能である。
【００８３】
（熱現像）
パターン露光された層に対して８０℃以上４００℃以下でベークを行うことにより軸の有無を作製することができる。さらには位相差量のパターニングも可能である。
ベークによって層中の未露光部のレターデーションが低下し、一方で露光部はレターデーションの低下が小さく、もしくは全く低下しないかあるいは上昇し、結果として未露光部のレターデーションが露光部のレターデーションに比較して小さくなり、軸の有無又は位相差量のパターンが作製される。
光学上の効果を発揮するため、ベーク後の露光部のレターデーションは５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。５ｎｍ以下では作製された複屈折パターンの目視による識別が困難となる。
【００８４】
また、光学上の効果を発揮するため、層中の未露光部のベーク後のレターデーションはベーク前の８０％以下となることが好ましく、ベーク前の６０％以下となることがより好ましく、ベーク前の２０％以下となることがさらに好ましく、５ｎｍ未満となることが最も好ましい。
【００８５】
（アルカリ現像）
アルカリ現像に用いられるアルカリ水溶液としては、特に限定されないが、代表的なものを例示すると、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、トリエタノールアミンなどの水溶液が挙げられる。水溶液のｐＨとしては、７．１〜１４．０であればよいが、現像性と廃液処理の観点から、好ましくは７．１〜１２．０、より好ましくは８．０〜１０．０がよい。該アルカリ水溶液は、さらに現像性を高めるために、界面活性剤や水と混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。該界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤を使用することができる。これらの中でも、溶液の透明性の観点から、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤の使用が好ましい。これらは併用して使用することもできる。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等を挙げることができる。これら有機溶剤の含有率としては、全溶媒に対して、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらにより好ましくは、３０質量％以下である。
【００８６】
（有機溶媒現像）
有機溶媒現像に用いられる有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。これらのうち、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８７】
固定化されずに溶解した部分の除去方法としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００８８】
［軸方向のパターニング］
軸方向のパターニングの方法については、特に限定されないが、上記のように、好ましくは配向層を利用して、位相差層における遅相軸及び偏光層における吸収軸の方向のパターニングを行うことができる。
光配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくは光配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されると、光配向層が作製された偏光紫外光の偏光方向に、液晶分子が配向する。同様に、ラビング配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくはラビング配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されるとラビングされた方向に液晶分子が配向する。
【００８９】
従って、光配向層上にパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける際には、光配向材料を含む光配向層形成用組成物から形成された層にマスク等を介して、偏光紫外光を照射し、この層の光配向性をパターニングする。得られた光配向層の上に液晶性化合物を含む組成物を塗布、乾燥等させた後、紫外光を照射することにより軸方向がパターニングされた位相差層又は偏光層を得ることができる。同様に、ラビング配向層上にパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける際には、ラビング配向層形成用組成物から形成されたラビング前の層にマスク等を介して、ラビングを行い、この層のラビング方向をパターニングする。得られたラビング配向層の上に液晶性化合物を含む組成物を塗布、乾燥等させた後、紫外光を照射することにより軸方向がパターニングされた位相差層又は偏光層を得ることができる。
【００９０】
液晶性化合物を含む組成物からなる偏光層又は位相差層の、層の有無及び軸方向のパターニングの方法の例のフロー図を図２〜６に示す。
【００９１】
（その他の層）
［支持体］
本発明のパターニング偏光板、又は該パターニング偏光板製造に用いられるパターニング偏光層もしくはパターニング位相差層は支持体を有してもよい。支持体は特に限定はなく、剛直なものでもフレキシブルなものでもよい。パターニング偏光層もしくはパターニング位相差層における支持体は、両者を張り合わせた後に、剥離されてもよい。
剛直な支持体としては特に限定はないが表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、アルミ板、鉄板、ＳＵＳ板などの金属板、樹脂板、セラミック板、石板などが挙げられる。フレキシブルな支持体としては特に限定はないがセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。取扱いの容易さから、剛直な支持体の膜厚としては、１００〜３０００μｍが好ましく、３００〜１５００μｍがより好ましい。フレキシブルな支持体の膜厚としては、３〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましい。
【００９２】
（転写材料を用いた作製方法）
パターニング偏光層又はパターニング位相差層の作製は転写材料を用いて行ってもよい。その場合のフローを図７に示す。
転写材料を用いて、パターニング楕円偏光板を作成することも可能である。パターニング位相差層の作製にのみ転写材料を用いてもよいし、パターニング偏光層の作製にのみ転写材料を用いてもよいし、パターニング位相差層及びパターニング偏光層の双方の作製に転写材料を用いてもよい。転写材料を用いることにより、有機溶剤を利用する塗布を、パターニング材料を作製する場所と別の場所で行うことができ、パターニング材料を使用する際の作業および設備負担が軽減する。
以下転写材料において有用な機能性層について説明する
【００９３】
［仮支持体］
転写材料は仮支持体を有することが好ましい。仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００９４】
［転写用接着層］
転写材料は転写接着層を有することが好ましい。転写接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層、感光性樹脂層などが挙げられるが、液晶表示装置用基板等に用いられる場合に必要な耐ベーク性から感光性もしくは感熱性樹脂層が望ましい。
【００９５】
［粘着層］
粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等が挙げられる。粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【００９６】
［感圧性樹脂層」
感圧性樹脂層としては、圧力をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感圧性接着剤には、ゴム系，アクリル系，ビニルエーテル系，シリコーン系の各粘着剤が使用できる。粘着剤の製造段階，塗工段階の形態では、溶剤型粘着剤，非水系エマルジョン型粘着剤，水系エマルジョン型粘着剤，水溶性型粘着剤，ホットメルト型粘着剤，液状硬化型粘着剤，ディレードタック型粘着剤等が使用できる。ゴム系粘着剤は、新高分子文庫１３「粘着技術」（株）高分子刊行会Ｐ．４１（１９８７）に記述されている。ビニルエーテル系粘着剤は、炭素数２〜４のアルキルビニルエーテル重合物を主剤としたもの，塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体，酢酸ビニル重合体，ポリビニルブチラール等に可塑剤を混合したものがある。シリコーン系粘着剤は、フィルム形成と膜の凝縮力を与えるためゴム状シロキサンを使い、粘着性や接着性を与えるために樹脂状シロキサンを使ったものが使用できる。
【００９７】
［感熱性樹脂層」
感熱性樹脂層としては、熱をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感熱性接着剤としては、熱溶融性化合物、熱可塑性樹脂などを挙げることができる。前記熱溶融性化合物としては、例えば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の低分子量物、カルナバワックス、モクロウ、キャンデリラワックス、ライスワックス、及び、オウリキュリーワックス等の植物系ワックス類、蜜ロウ、昆虫ロウ、セラック、及び、鯨ワックスなどの動物系ワックス類、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、エステルワックス、及び、酸化ワックスなどの石油系ワックス類、モンタンロウ、オゾケライト、及びセレシンワックスなどの鉱物系ワックス類等の各種ワックス類を挙げることができる。さらに、ロジン、水添ロジン、重合ロジン、ロジン変性グリセリン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性ポリエステル樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、及びエステルガム等のロジン誘導体、フェノール樹脂、テルペン樹脂、ケトン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、及び脂環族系炭化水素樹脂などを挙げることができる。
【００９８】
なお、これらの熱溶融性化合物は、分子量が通常１０，０００以下、特に５，０００以下で融点もしくは軟化点が５０〜１５０℃の範囲にあるものが好ましい。これらの熱溶融性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、前記熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、及びセルロース系樹脂などを挙げることができる。これらのなかでも、特に、エチレン系共重合体等が好適に使用される。
【００９９】
［感光性樹脂層］
感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、ポジ型でもネガ型でもよく特に限定はなく、市販のレジスト材料を用いることもでき合、光照射によって接着性を発現することが好ましい。また、液晶表示装置用基板等の物品の製造工程における環境上や防爆上の問題から、有機溶剤が５％以下の水系現像であることが好ましく、アルカリ現像であることが特に好ましい。また、感光性樹脂層は少なくとも（１）ポリマーと、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。
【０１００】
以下、これら（１）〜（３）の成分について説明する。
（１）ポリマー
ポリマー（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーからなるアルカリ可溶性樹脂が好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報および特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。全固形分に対するポリマーの含有量は２０〜７０質量％が一般的であり、２５〜６５質量％が好ましく、２５〜４５質量％がより好ましい。
【０１０１】
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマーおよびオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートおよびフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【０１０２】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報および特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報および特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【０１０３】
（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書および同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾールおよびトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
【０１０４】
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【０１０５】
感光性樹脂層は、ムラを効果的に防止するという観点から、適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、および/又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）および、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。
【０１０６】
【化２７】
【０１０７】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、ｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。
【０１０８】
特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣmＦ2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。ＣmＦ2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ1は水素原子またはメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ2およびＲ3は、各々独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐおよびｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐおよびｑは好ましくは２〜８である。
【０１０９】
また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
【０１１０】
モノマー（ａ）および（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレンおよびその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。
特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造および／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、およびポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させると、表示ムラが改良される点で好ましい。
【０１１１】
好ましいフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開２００４−１６３６１０号公報の段落番号［００５４］〜［００６３］に記載の化合物が挙げられる。また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。本発明においては、一般式（ａ）で表されるモノマーを含まないフッ素系界面活性剤である、特開２００４−３３１８１２号公報の段落番号［００４６］〜［００５２］に記載の化合物を用いることも好ましい。
【０１１２】
［力学特性制御層］
転写材料の、仮支持体と位相差層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、柔軟な弾性を示すもの、熱により軟化するもの、熱により流動性を呈するものなどが好ましく、熱可塑性樹脂層が特に好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１１３】
［剥離層］
転写材料は仮支持体の上に剥離層を有してもよい。剥離層は仮支持体と剥離層間の、あるいは剥離層とその直上層の間の密着力を制御し、位相差層を転写した後の仮支持体の剥離を助ける役目を負う。また前述の他の機能層、例えば配向層や力学特性制御層などが剥離層としての機能を有してもよい。
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。
【０１１４】
［表面保護層］
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い表面保護層を設けることが好ましい。表面保護層の性質は特に限定されず、仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、隣接する層（例えば転写接着層）から容易に分離されねばならない。表面保護層の材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【０１１５】
位相差層、感光性樹脂層、転写接着層、配向層、熱可塑性樹脂層、力学特性制御層および中間層等の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１１６】
［転写材料を被転写材料上に転写する方法］
転写材料を支持体（基板）等の被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記位相差層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した転写材料を、転写接着層面を被転写材料表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
被転写材料としては、支持体、支持体及び他の機能性層を含む積層体が挙げられる。
【０１１７】
（パターニング楕円偏光板の作製）
パターニング楕円偏光板は、上記のように作製したパターニング位相差層上に、上述のように配向層と偏光層を順次塗布して、パターニング偏光層を設けることによって、又は、上記のように作製したパターニング偏光層上に、上述のように配向層と位相差層を順次塗布して、パターニング位相差層を設けることによって、作製することができる。さらには、パターニング楕円偏光板は、パターニング位相差板とパターニング偏光板を貼り合わせてつくることもできる。貼り合わせる際には、粘着剤を用いることが望ましい。
粘着剤は、転写用接着層と同様のものを用いることができる。
【０１１８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
まず、各材料の準備法、作製法について説明する。
（ガラス基板の準備法）
ガラス基板に、平滑化剤（富士フィルムエレクトロマテリアルズ社製 COLOR MOSAIC CT-2000L）をスピンコート法（１０００ｒｐｍ ３０秒）により塗布し、オーブンで２００℃１時間加熱する。
（光配向膜Ｈ−１の作製法）
下記化合物P-16（x=0.9, y=0.1）の１質量％テトラヒドロフラン溶液を調製する。この溶液をスピンコート法（３５００ｒｐｍ、２０秒間）により、乾燥後厚みが０．０５〜０．１５μｍ程度となるよう、上記のガラス基板上に塗布し、100℃で2分間乾燥させる。
【０１１９】
【化２８】
【０１２０】
上記で得られた膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射する。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を方向１にセットして、さらにマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を通して、露光を行う。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２１】
さらに１質量％光酸発生剤 (Chiba製、UVI-6974)のメタノール溶液を塗布した後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線をガラス基板全面に照射して、それぞれ光配向膜Ｈ−１を作製する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において２６０ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において２６００ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２２】
（ラビング用配向膜Ｈ−２の作製法）
配向膜塗布液RN−1199（日産化学工業社製）を、ガラス基板上にスピンコート塗布（3000rpm/30秒）し、80℃オーブンで3分間乾燥させる。その後さらに、220℃のクリーンオーブンで60分間加熱する。
特開2006-221189号公報の段落番号「０１８１」の記載を参照して得られた基板上にマスクを設置し、その上から方向１にラビングを行う。
【０１２３】
（位相差層の作製法）
アルカリ現像性液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
（位相差層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、位相差層用塗布液ＬＣ−１として用いる。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成する。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成する。
────────────────────────────────────────
位相差層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン） ２５．４２
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
────────────────────────────────────────
【０１２４】
（パターニング露光法）
上記で作製した光配向膜Ｈ−１又はラビング配向膜Ｈ−２上に、ＬＣ−１液を＃６のワイヤーバーコーターで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して、均一な液晶相を有する層を形成する。その後、マスクをかけ、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気化において、照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2で、ＵＶ光を照射する。
【０１２５】
（現像法）
2.38 % のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドと、有機溶剤としてlogP = −0.27のメタノール５０％を含む水溶液を現像液として用い、３０℃でコーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像しつつ、回転ブラシで表面の現像残渣を除去して、得られた基板の現像を行った。引き続き、洗浄剤（リン酸塩，ケイ酸塩，ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名 Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）を用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行う。さらに超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光で、ポスト露光後、２２０℃１５分熱処理し、５００ｍＪ純水シャワー洗浄を行い、100℃で２分間乾燥する。
【０１２６】
熱現像用液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
（位相差層用塗布液ＬＣ−２の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、位相差層用塗布液ＬＣ−２として用いる。
ＬＣ−２−１は特開２００４−１２３８８２に記載の方法を基に合成した。ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−２−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成する。
──────────────────────────────────―────
位相差層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―────
棒状液晶（ＬＣ−２−１） １９．５７
水平配向剤（ＬＣ−２−２） ０．０１
カチオン系光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル製） ０．４０
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０２
メチルエチルケトン ８０．０
──────────────────────────────────―────
【０１２７】
上記で作製した光配向膜Ｈ−１又はラビング配向膜Ｈ−２上に、位相差層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ２．４μｍの位相差層を形成して位相差層サンプルを作製する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ｂ領域（波長２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ｂ領域において３５ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２８】
（重合開始剤供給塗布液ＡＤ−１の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、重合開始剤供給塗布液ＡＤ−１として用いる。
──────────────────────────────────―
転写接着層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────―
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル
＝３５．９／２２．４／４１．７モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．８万） ８．０５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ４．８３
ラジカル光重合開始剤（２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
１，３，４−オキサジアゾール） ０．１２
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４．８０
メチルエチルケトン ５０．５３８
メタノール １．６１
──────────────────────────────────―
【０１２９】
（パターン露光法）
上記で得られた位相差層サンプルの上に重合開始剤供給層液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの重合開始剤供給層を形成した後、位相差層サンプルに対して、ミカサ社製Ｍ−３Ｌマスクアライナーと石英ガラス上にクロムでパターンが作られたフォトマスクを用いて露光量５０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光を行う。
【０１３０】
（現像法）
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、対応するレターデーションパターンを作製する。
【０１３１】
有機溶媒現像用液晶性組成物の塗布・パターニング露光・現像
上記と同様に、光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ、ＬＣ−２の塗布及び紫外線照射を行う。
次いで、得られた基板をメチルエチルケトンに浸漬してブラシ洗浄を行い、対応するレターデーションパターンを作製した。その後１００℃２分間、乾燥させる。
【０１３２】
（偏光層の作製法）
アルカリ現像性液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
アルカリ液晶現像性液晶性組成物として、下記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−４を調製して用いた以外は上記アルカリ現像位相差層と同様に、光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
（偏光層用塗布液ＬＣ−４の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、偏光層用塗布液ＬＣ−４として用いる。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成する。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成する。
────────────────────────────────────────
偏光層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン） ２４．１５
二色性色素（Ｇ−２３９，林原生物化学研究所製） １．２７
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
────────────────────────────────────────
【０１３３】
熱現像用液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
熱現像用液晶性組成物として、下記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−５を用いた以外は上記熱現像用位相差層と同様に光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
【０１３４】
（偏光層用塗布液ＬＣ−５の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、偏光層用塗布液ＬＣ−５として用いる。
ＬＣ−１−１は特開２００４−１２３８８２に記載の方法を基に合成した。ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−１−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成する。
──────────────────────────────────―────
偏光層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―────
棒状液晶（ＬＣ−１−１） １８．５９
二色性色素（Ｇ−２３９，林原生物化学研究所製） ０．９８
水平配向剤（ＬＣ−１−２） ０．０１
カチオン系光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル製） ０．４０
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０２
メチルエチルケトン ８０．０
──────────────────────────────────―────
【０１３５】
（有機溶媒現像用液晶の塗布、パターニング露光、及び現像法）
有機溶媒現像用液晶性組成物として、上記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−５を調製して用いた以外は上記有機溶媒現像用位相差層と同様に光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
【０１３６】
（楕円偏光膜の作製）
上記材料および方法を用い、下記表の組み合わせで楕円偏光膜（実施例１〜７）を作製した。
具体的手順としては、ガラス基板上に、位相差層用配向層、パターニング位相差層、偏光層用配向層、パターニング偏光層を順番に積層して、この順に各層が積層した楕円偏光膜を作製した。
【０１３７】
実施例１〜７の試料のいずれについても同様に、位相差膜については配向処理パターン１に従い、偏光膜について配向処理パターン２に従い、配向処理を行った。
マスクパターンとしては図８に示すＭ−１〜Ｍ−８を用い、図９に示すＲ−１〜Ｒ−３のラビング方向又は偏光方向を用いて配向処理を行った。いずれの実施例においても、位相差膜の遅相軸方向は図１０のパターン１の矢印のように、偏光膜の吸収軸方向は図１０のパターン２の矢印のようになった。位相差膜の位相差量は、約１４０ｎｍであった。また、完成した楕円偏光板の吸収軸は、パターン３のようになった（時計回りの矢印部分は時計回りの円偏光を吸収し、反時計回りの矢印部分は反時計回りの円偏光を吸収することを示す）。
なお、図８に示すマスクの一マス（正方形の一辺）は、２００μｍである。この実施例では、マスクの一マスは２００μｍだが、より小サイズにすることも可能である。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
【表２】
【０１４０】
なお、上記の光学特性の測定は図１１に示す光学系で行った。ハロゲン光源にはモリテックス社製ハロゲン光源 MHF-D100LR、光検出器にはオーシャンオプティクス社製ファイバマルチチャンネル分光器 USB2000を用いた。
図１１に示す光学系は測定位置制限用マスクで、測定位置を制限し、マスク一マスの光学特性を測定することができる。偏光板の方向とλ／４板の方向を変えることにより、任意の楕円偏光を発生させる。光の楕円偏光状態が偏光膜の楕円偏光状態と合致すれば、光は吸収され、光検出ができなくなる。直交している場合が、もっともよく光が透過する。サンプルと偏光板とλ／４板の角度関係によって、偏光板の楕円偏光状態が正確に分かる。
【０１４１】
（転写材料を用いた例：実施例８）
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────―────―熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────────――メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学（株）製） ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────────―
【０１４２】
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
【０１４３】
（位相差膜転写材料Ｔ−１の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ１４．６μｍ、１．６μｍであった。さらに
配向処理パターン１に従って、マスクラビングを行い、次いで、ワイヤーバーを用いてＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ３．５μｍの位相差層を形成し、最後に、感光性転写接着層用塗布液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの感光性樹脂層を形成し乾燥した後に、さらに、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、位相差膜の転写材料Ｔ−１を作製した。
【０１４４】
（偏光膜転写材料Ｔ−２の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ１４．６μｍ、１．６μｍであった。さらに配向処理パターン２に従って用いて、マスクラビングを行い、次いで、ワイヤーバーを用いてＬＣ−５を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ３．５μｍの位相差層を形成し、最後に、感光性転写接着層用塗布液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの感光性樹脂層を形成し乾燥した後に、さらに、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、偏光膜の転写材料Ｔ−２を作製した。
【０１４５】
（レターデーションパターンの作製）
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ−６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記複屈折パターン作製用転写材料Ｔ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離して複屈折パターン作製材料を作製した。
【０１４６】
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し力学特性制御層と配向層を除去した
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、レターデーションパターンサンプルを作製した。
【０１４７】
（偏光膜パターンの作製）
前記偏光パターン作製用転写材料Ｔ−２の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱したレターデーションパターンサンプルに、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離して楕円偏光パターン作製材料を作製した。
【０１４８】
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し力学特性制御層と配向層を除去した
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、対応する楕円偏光パターンサンプルを作製した。
作製した楕円偏光パターンサンプルの光学特性を測定したところ、パターン３のような光学特性になっていることが分かった。
【０１４９】
（インセル型半透過型液晶表示装置の作製：実施例９）
（液晶表示装置用基板の作製）
小林駿介編著、カラー液晶ディスプレイ、２４０頁、産業図書（１９９４）に記載の一般的な方法で、ガラス基板上にブラックマトリクス３１およびＲＧＢの３色のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板３２を形成した。その上に、実施例１と同様な方法で、パターニング楕円偏光材料を作成した。
【０１５０】
（半透過型ＬＣＤの作製）
液晶表示装置用基板上に透明電極、ポリイミドからなる配向膜を形成し、対向の液晶表示装置用基板に反射板４６付きＴＦＴ基板を用いて、半透過型ＥＣＢ−ＬＣＤを作製した。（図１２）
【０１５１】
（イメージセンサの作製：実施例１０）
特開2007-86720号公報の記載を参考に、CCDやCMOSのようなイメージセンサ上に、実施例1のように作成したパターニング楕円偏光膜を張り合わせることにより、楕円偏光膜を搭載した、イメージセンサを作製することができる。
【０１５２】
（偏光解析装置の作製：実施例１１）
特開2007-86720号公報の記載を参考に、実施例1のように作製した図１３ （矢印は吸収偏光を示す）のようなパターンのパターニング楕円偏光膜をイメージセンサ上に貼り付けることによって、ストークスメータを作製した。
【０１５３】
（１次元偏光センサアレイの作製：実施例１２）
実施例1のように作成した図１４（矢印は吸収偏光を示す）のようなパターンを作成した、パターニング楕円偏光膜を、フォトディテクタアレイ上に貼り付けることにより、１次元偏光センサアレイを作製することができる。
【０１５４】
（膜厚測定装置の作製：実施例１３）
特開2005-114704号公報の記載を参考に、実施例１の楕円偏光膜を用いて、膜厚測定装置を作製することができる。
特開２００５−１１４７０４号公報に記載のように、方向を変えた位相差膜（図１５（a−１））と方向を変えた偏光層（図１５（a−２））を組み合わせた楕円偏光膜、あるいは位相差を変えた位相差層（図１５（ｂ−１））と方向を変えた偏光層（図１５（b−２））を組み合わせた楕円偏光膜を作成し、イメージセンサ全面に貼りつける。
膜厚を測定したいサンプルに対して、斜め方向から偏光状態が既知の光を当て、反射波を上記イメージセンサで観察を行う。各楕円偏光画素の光強度を測定し、解析を行うことにより、サンプルの膜厚と屈折率を求める。
【０１５５】
（３Dディスプレイ装置の作製：実施例１４）
液晶ディスプレイやプラズマテレビやＣＲＴのような画像表示装置の前に、画像表示装置の画素にサイズをあわせた、位相差層に図１６（ａ）のような遅相軸パターン、偏光層に図１６（ｂ）の吸収軸のパターンを作製したパターニング楕円偏光膜を貼りつける。観察者は、左右の目にそれぞれ縦偏光および横偏光の偏光板がついたサングラスをかけて、画像表示装置を観察する。左目用と右目用のそれぞれにあわせた画像を画像表示装置に表示することにより、３D表示が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】「パターニング」の意味を模式的に示す図である。
【図２】光配向膜のパターニングのフローを示す図である。
【図３】ラビング用配向膜のパターニングのフローを示す図である。
【図４】配向膜状に設けられたアルカリ現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図５】配向膜状に設けられた熱現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図６】配向膜状に設けられた有機溶媒現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図７】転写材料を用いてパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける場合のフローを示す図である。
【図８】実施例で用いられているマスクパターンを示す図である。
【図９】実施例で用いられているラビング方向又は偏光方向を示す図である。
【図１０】実施例で作製された位相差層のパターン１（図中の矢印は遅相軸を示す）、偏光層（図中の矢印は吸収軸を示す）のパターン２、及びパターニング楕円偏光板のパターン３（図中の矢印は吸収偏光を示す）を示す図である。
【図１１】実施例で作製したパターニング楕円偏光板の偏光状態の測定に用いた光学系を示す図である。
【図１２】実施例で作製した半透過方液晶表示装置の概略図を示す図である。
【図１３】実施例で作製した偏光解析装置のパターンを示す図である。
【図１４】実施例で作製した一次元偏光センサアレイのパターンを示す図である。
【図１５】実施例で作製した膜厚測定装置におけるパターンニング偏光板の位相差層及び偏光層のパターンを示す図である。
【図１６】実施例で作製した３Ｄディスプレイ装置におけるパターンニング偏光板の位相差層及び偏光層のパターンを示す図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１ ハロゲン光源
２ ピンホール
３ レンズ
４ 偏光板と回転ホルダ
５ λ／４板と回転ホルダ
６ サンプルとＸＹステージ
７ 測定位置制限用マスク（２００μｍ×２００μｍの正方形の穴が開いている）
８ 光検出器
１１ 基板
３１ ブラックマトリクス
３２ カラーフィルタ基板
３３ 平滑化層
３４ 配向膜
３５ 偏光膜
３６ 位相差層
４１ 偏光層
４２ セルロースアセテートフィルム
４３ セルロースアセテートフィルム
４４ 粘着層
４５ 駆動素子
４６ 反射板
４７ 液晶
４９ 偏光板
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターニング楕円偏光板に関する。より詳しくは、本発明はパターニングされた位相差層とパターニングされた偏光層とを積層することにより作製されたパターニング楕円偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
複数の吸収軸の方向をパターン状に有するパターニング偏光板は、複雑な複屈折条件の実用化に役立つと考えられる。
特許文献１にはゲスト−ホスト型偏光子の記載があり、パターニング可能との記述がある。しかし具体的な作製法は開示されていない。また、液晶表示装置に適用する場合には位相差板と組み合わさっていないため、視野角依存性が大きいという問題点がある。
【０００３】
特許文献２には二色性色素が一軸配向している配向色素含有膜と、それを用いた偏光素子およびＴＮ及びＳＴＮ液晶表示装置が開示されている。フッ素樹脂配向膜上で配向色素膜を作成し、目的物に転写する製造方法が採られており、フォトレジストで配向膜をパターニングすることにより、配向色素含有膜の有無をパターニングすることができるとの開示がある。しかし、位相差板と組み合わせる方法についての開示はない。また、フッ素樹脂配向膜は、加熱した基板にフッ素樹脂の塊を圧力で付着させることにより作製されるため、均一な膜を得ることは困難であるという問題がある。
【０００４】
特許文献３にはカラーフィルタと偏光子が一体化したゲスト−ホスト型偏光子が開示されている。該偏光子の製造工程においては、配向している偏光子用染料と直交する光を配向しているカラーフィルタ用染料が吸収している。開示されている偏光子はさらに光熱変換層を備えており、光熱間相互作用を用いてパターン転写している。しかし、位相差板と組み合わせる方法についての開示はない。また、光熱間相互作用を用いた転写を行うため、パターニングの微細性が悪いという問題点がある。
【０００５】
特許文献４には、多層膜スパッタ形成法によるフォトニック結晶を用いたパターニング位相差板及びパターニング偏光板、ならびにそれらを受光素子アレイと組み合わせた偏光解析装置についての開示があるが、この方法はフォトニック結晶方式を用いているため、電子ビームリソグラフィ、ドライエッチング装置又は スパッタリング装置などの高価な装置を必要とするという問題点がある。また、何層も薄膜を積層しなければならないので、生産性が低い。
【特許文献１】特表2007-510946号公報
【特許文献２】特開平 9-73015号公報
【特許文献３】特表 2003-513298号公報
【特許文献４】国際公開ＷＯ2004/008196号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有する偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題の解決のために鋭意研究を行った結果、配向性基を有する高分子を使用することによって、安価にパターニング偏光板の作製が可能であることを見出し、この知見をもとに本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記［１］〜［１６］を提供するものである
［１］互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【０００８】
［２］前記パターニング偏光層が、二色性色素及び側鎖に配向性基を有する高分子を含有する［１］に記載の楕円偏光板。
［３］前記パターニング位相差層が液晶性化合物を含む［１］又は［２］に記載の楕円偏光板。
［４］前記パターニング偏光層が液晶性化合物を含む［１］〜［３］のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
［５］配向層１、前記パターニング偏光層、配向層２、及び前記パターニング位相差層をこの順に有し、かつ
配向層１及び前記パターニング偏光層、並びに配向層２及び前記パターニング位相差層はそれぞれ隣接している［１］〜［４］のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【０００９】
［６］楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１１）〜（１３）を含む製造方法：
（１１）支持体又はパターニング偏光層上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング偏光層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１２）工程（１１）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１３）工程（１２）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング位相差層を作製する工程。
【００１０】
［７］楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１４）〜（１６）を含む製造方法：
（１４）支持体又はパターニング位相差層上に光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング位相差層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１５）工程（１４）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子及び二色性色素を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１６）工程（１５）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング偏光層を作製する工程。
【００１１】
［８］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が熱現像用重合性液晶性化合物を含み、かつ、前記現像が５０℃〜４００℃での熱処理により行われる［６］又は［７］に記載の製造方法。
［９］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液がアルカリ現像性重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像がｐH１０以上１４以下の水溶液で行われる［６］又は［７］に記載の製造方法。
［１０］側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像が有機溶媒現像である［６］又は［７］に記載の製造方法。
【００１２】
［１１］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む液晶表示装置。
［１２］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含むイメージセンサ。
［１３］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む偏光測定装置。
［１４］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む１次元センサアレイ。
［１５］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む膜厚測定装置。
［１６］［１］〜［５］のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む３Ｄディスプレイ装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、安価に製造が可能である、パターニング位相差層とパターニング偏光層とを有するパターニング楕円偏光板が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１５】
本明細書において、角度について「同一」とは、角度の差異が±５°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は、±４°未満であることが好ましく、±３°未満であることがより好ましい。したがって、例えば、「軸の向きが同一である」というとき、軸の向きの差異が±５°未満の範囲内であることを意味し、「軸の向きが異なっている」というとき、軸の向きの差異が±５°以上であることを意味する。
【００１６】
本明細書において、位相差、レターデーション又はＲｅは、面内レターデーションを表す。面内レターデーション（Ｒｅ(λ)）はKOBRA 21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるレターデーション又はＲｅは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍの波長で測定されたものを意味し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍの波長で測定されたものを意味する。
【００１７】
本発明の楕円偏光板は、軸方向がパターニングされた偏光板であり、遅相軸方向ならびに位相差層量がパターニングされたパターニング位相差層と、吸収軸方向および層の有無がパターニングされたパターニング偏光層とを含む。
なお、「軸方向」には、軸方向を有さない状態も含むものとする。また、軸方向を有さない状態には層が欠落している状態を含むものとする。すなわち、本発明の楕円偏光板においては層の有無がパターン状に形成されている場合がある。なお、本明細書において、「軸方向」は面内の軸方向を意味するものとする。
【００１８】
なお、本明細書において、「パターニング」とは、フィルム状の対象物に、吸収軸若しくは遅相軸の方向、又は層の有無などにより光学的性質が互いに異なる領域を2つ以上作製すること、または、同領域を2つ以上有することを意味する。ここで、光学的な性質が同一である領域は互いに連続的である必要はなく、パターン状に分布していてもよい。また、存在する2つ以上の光学的性質が互いに異なる領域が集合して連続的なフィルム状の対象物を形成しているものとする。（図１参照）
【００１９】
以下、本発明のパターニング楕円偏光板について、材料、製造方法等を、詳細に説明する。ただし、本発明はこの態様に限定されるものではなく、他の態様についても、以下の記載および従来公知の方法を参考にして実施可能であって、本発明は以下に説明する態様に限定されるものではない。
本発明の楕円偏光板はパターニング位相差層及びパターニング偏光層を含む。以下ではまずパターニング位相差層及びパターニング偏光層の製造方法につき説明する。
【００２０】
（位相差層）
パターニング位相差層は位相差層をパターニングすることにより形成できる。位相差層は位相差を測定したときにＲｅが実質的に０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有する層であればよい。本発明のパターニング楕円偏光板において、位相差層は、側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物から形成される。配向性基は一様な方向に並び易い性質を持つため、側鎖に配向性基を有する高分子を用いることにより軸方向の制御が容易になる。
【００２１】
（配向性基を有する高分子）
配向性基を有する高分子は、高分子主鎖と高分子側鎖から構成される。高分子主鎖の構成要素はいかなるものであってもよいが、例として、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリシロキサン，ポリビニルが挙げられる。配向性基は、高分子側鎖中に含まれる。配向性基は、液晶性を示す機能を付与する部分構造（メソゲン）を有する。
液晶性を示す機能を与える部分構造としては、いかなる構造であってもよいが、例として、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧、丸善、２０００年の第３章、第８節の「高分子液晶」に記載されているものが挙げられる。
【００２２】
位相差層は、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含むことも好ましい。上記の側鎖に配向性基を有する高分子が、液晶性化合物であってもよい。少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含む組成物から位相差層を形成することによって、後述の配向層などによる遅相軸方向の制御等が容易になる。このような位相差層は、少なくとも１つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射して重合固定化して作製することができる。このような作製方法につき、以下に説明する。
【００２３】
［液晶性化合物］
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
【００２４】
液晶性化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む位相差層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。
【００２５】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表す。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００２６】
【化１】
【００２７】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００２８】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、およびアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００２９】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００３０】
【化２】
【００３１】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報（ＷＯ９７／００６００）に記載の方法で合成することができる。
【００３２】
【化３】
【００３３】
【化４】
【００３４】
【化５】
【００３５】
【化６】
【００３６】
【化７】
【００３７】
【化８】
【００３８】
本発明の他の態様として、前記位相差層にディスコティック液晶を使用した態様がある。前記位相差層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００３９】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００４０】
【化９】
【００４１】
【化１０】
【００４２】
【化１１】
【００４３】
【化１２】
【００４４】
【化１３】
【００４５】
【化１４】
【００４６】
位相差層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であることが好ましい。
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００４７】
液晶性化合物を含む組成物からなる位相差層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物を含む組成物からなる層と棒状性液晶性化合物を含む組成物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の位相差層を積層してもよいし、異なる配向状態の位相差層を積層してもよい。
【００４８】
位相差層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００４９】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
【００５０】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００５１】
［偏光照射による光配向］
前記位相差層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現あるいは増加した層であってもよい。この偏光照射は上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねてもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよいが、偏光照射のみを行うか先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行うことが望ましい。偏光照射が上記配向固定化における光重合プロセスを兼ねる場合であってかつ重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合、偏光照射は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５２】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記位相差層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射してもよい。最初の偏光照射の後に偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良し、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は不活性ガス置換してもしなくてもよいが、特に重合開始剤としてラジカル重合開始剤を用いる場合は酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００５３】
［水平配向剤］
前記位相差層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１）〜（４）について、順に説明する。
【００５４】
【化１５】
【００５５】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−およびＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００５６】
【化１６】
【００５７】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００５８】
【化１７】
【００５９】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（１）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００６０】
【化１８】
【００６１】
式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１以上１２以下の整数を表す。一般式（４）を含む含フッ素ポリマー以外にも、塗布におけるムラ改良ポリマーとして特開２００５−２０６６３８および特開２００６−９１２０５に記載の化合物を水平配向剤として用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００６２】
［位相差層の後処理］
作製された位相差層を改質するために、様々な後処理を行ってもよい。後処理としては例えば、密着性向上の為のコロナ処理や、柔軟性向上の為の可塑剤添加、保存性向上の為の熱重合禁止剤添加、反応性向上の為のカップリング処理などが挙げられる。また、光学異方性層中の高分子が未反応の反応性基を有する場合、該反応性基に対応する重合開始剤を添加することも有効な改質手段である。可塑剤や光重合開始剤の添加手段としては、例えば、光学異方性層を該当する添加剤の溶液に浸漬する手段や、光学異方性層の上に該当する添加剤の溶液を塗布して浸透させる手段などが挙げられる。また、光学異方性層の上に他の層を塗布する際にその層の塗布液に添加剤を添加しておき、光学異方性層に浸漬させる方法もあげられる。
【００６３】
なお、後述の現像工程によって、軸の有無及び層の有無をパターニングすることができるが、現像の種類によって現像で溶解できる液晶性化合物の種類が異なるため、層の有無のパターニングを行うためには液晶性化合物の種類を適正に選択すればよい。例えば、
アルカリ現像性の重合性液晶性化合物として、特開２００７−１９９６６１号公報中の「００６３」〜「００７６」に記載の化合物を選択することができる。また、熱現像用の重合性液晶性化合物として、化合物Ｉ−１〜Ｉ−２５を選択することができる。さらに、有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物として化合物Ｉ−１〜Ｉ−２５を選択することができる。
【００６４】
（偏光層）
パターニング偏光層は偏光層をパターニングすることなどによって形成できる。偏光層の種類は特に限定されるものではなく、パターニングが可能であれば、特に限定されるものではないが、本発明のパターニング偏光板における偏光層は吸収軸方向、又は層の有無のパターニングを容易にするため、上記の位相差層と同様に、側鎖に配向性基を有する高分子を含有する組成物から形成されていることが好ましく、さらに該組成物は液晶性化合物を含む組成物であることが好ましい。この組成物に二色性色素をさらに含ませることによって、上記位相差層と同様に形成される層に偏光層としての機能を付与することができる。液晶性化合物及び二色性色素を含む組成物から形成される偏光層から形成されるパターニング偏光層は、液晶性化合物を含む組成物から形成される位相差層から形成されるパターニング位相差層と同様に製造することができる。
【００６５】
（二色性色素）
二色性色素は、ホスト液晶中に溶解し、光を吸収する機能を有する化合物と定義される。二色性色素の吸収極大ならびに吸収帯に関しては特に制限はないが、イエロー域（Ｙ）、マゼンタ域（Ｍ）、あるいはシアン域（Ｃ）に吸収極大を有する色素が好ましい。
【００６６】
組成物に用いられる二色性色素は、単独で使用してもよいが、複数を混合したものであってもよい。複数の色素を混合する場合には、同一種の発色団を有する色素同士を混合してもよいし、互いに異なる発色団を有する二色性色素を混合してもよく、Ｙ、Ｍ、Ｃに吸収極大を有する二色性色素の混合物を用いることが好ましい。
公知の二色性色素としては、例えば、A. V. Ivashchenko著、Diachronic Dyes for Liquid Crystal Display、CRC社、1994年に記載のものが挙げられる。
前記二色性色素の発色団は特に限定されないが、例えば、アゾ色素、アントラキノン色素、ペリレン色素、メロシアニン色素、アゾメチン色素、フタロペリレン色素、インジゴ色素、アズレン色素、ジオキサジン色素、ポリチオフェン色素、フェノキサジン色素などが挙げられる。好ましくはアゾ色素、アントラキノン色素、フェノキサジン色素である。
【００６７】
アゾ色素はモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、ペンタキスアゾ色素などいかなるものであってもよいが、好ましくはモノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素である。
アゾ色素に含まれる環構造としては芳香族基（ベンゼン環、ナフタレン環など）のほかにも複素環（キノリン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリミジン環など）であってもよい。
【００６８】
アントラキノン色素の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。該置換基の置換数はいかなる数であってもよいが、ジ置換、トリ置換、テトラキス置換が好ましく、特に好ましくはジ置換、トリ置換である。該置換基の置換位置は特に限定されないが、好ましくは１，４位ジ置換、１，５位ジ置換、１，４，５位トリ置換、１，２，４位トリ置換、１，２，５位トリ置換、１，２，４，５位テトラ置換、１，２，５，６位テトラ置換構造である。
【００６９】
フェノキサゾン色素（フェノキサジン−３−オン）の置換基としては、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含むものが好ましく、例えば、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ基である。
本発明に用いられる二色性色素は、アスペクト比（分子長軸長さ／分子短軸長さ）が好ましくは２以上、更に好ましくは３以上であり、分子軸と遷移モーメントとのなす角が好ましくは２０°以内であり、色素分子の長軸方向における最大吸収波長での吸光度と短軸方向の吸光度との比が好ましくは５以上、更に好ましくは８以上、特に好ましくは１０以上である。前記のようなものであれば、本発明に用いられる二色性色素としては、染料、顔料を問わず使用できる。特に、従来の染料系偏光フィルムやゲスト−ホスト型液晶ディスプレイに使用される二色性色素のうち、ネマチック液晶に溶解させて液晶セルに入れて配向させる方法、延伸配向したＰＶＡ又はその誘導体フィルムに吸着させる方法等により色素を配向させた場合に、特定の吸収波長での配向方向における吸光度と、それと直交する方向における吸光度との比の最大値が５以上、好ましくは８以上、更に好ましくは１０以上となるものが好適に用いられる。
【００７０】
二色性色素としては、メロシアニン系、スチリル系、アゾメチン系、アントラキノン系、アゾ系、キノン系、キノフタロン系、ペリレン系、インジゴ系、テトラジン系などが知られており、耐候性等で実用的に使用されるアゾ系、アントラキノン系の二色性色素が好ましい。特にアゾ系色素ではジスアゾ系とトリスアゾ系が例示される。一方、偏光フィルムに用いられる二色性色素としては、ポリアゾ系色素、アントラキノン系染料が例示される。ポリアゾ系色素としてさらに詳しくはスチルベン系、ベンジジン系等が例示される。
【００７１】
具体的には、特開平９−７３０１５号公報の段落番号「００１２」〜「００２５」に記載の化合物を挙げることができる。
また、二色性色素が側鎖に配向性基を有する高分子であってもよい。
【００７２】
［配向層］
上記した様に、位相差層及び偏光層の形成には、配向層を利用してもよい。本明細書において配向層は配向膜という場合がある。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能するため、配向膜の機能をパターニングすることによって、パターニング位相差層及びパターニング偏光層を容易に得ることができる。配向層は、一般に後述の支持体もしくは仮支持体上又は支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、位相差層及び偏光層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよいが、典型的な例としては光配向層及びラビング配向層が挙げられる。
なお、配向層の種類は後述の現像の種類に関わらず選択して用いることができる。
【００７３】
（光配向層）
光配向層は光配向材料から作製することができる。光配向材料としては、主に偏光を照射することにより分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに分類される。光配向層は上記光異性化材料及び光反応材料のいずれを用いてもよいが、光反応材料を用いることがより好ましい。上述したように光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になることから、配向規制力の経時安定性が優れるからである。
【００７４】
上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、および、光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においてはこのような光二量化型材料、光分解型材料、光結合型材料および光分解−結合型材料のいずれを用いてもよいが、なかでも光二量化型材料を用いることがより好ましい。
以下に光配向材料の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例に制限されるものではない。尚、式中のｘ、ｙ、ｚは各繰り返し単位のモル百分率を示す。
【００７５】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
（ラビング配向層）
配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【００７６】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルピロリドン、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
【００７７】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。
【００７８】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００７９】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００８０】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【００８１】
（パターニングの方法）
［パターン露光］
液晶性化合物を含む位相差層及び液晶性化合物を含む偏光層のいずれにおいても、層のパターニングのために、パターン露光を行うことができる。通常パターン露光は、層につき、複屈折性又は偏光性を残したい領域を露光するように行う。
また、光配向材料を含む光配向層形成用組成物に偏光紫外光のパターン露光を行うことにより、パターン状に配向方向が規定された光配向層を得ることができる。
パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などでもよいし、レーザーや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画してもよい。前記露光の光源の照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。感光性樹脂層により同時に段差を形成する場合には樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射することも好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常３〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度、さらに好ましくは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2程度、最も好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００８２】
[現像]
層の有無、又は軸方向として軸の有無のパターニングは現像によって行うことが可能である。
上記の熱現像用の液晶性化合物を用いて位相差層又は偏光層を作製して熱現像を行うことにより、層の露光部は紫外光露光により液晶分子の配向が固定され軸方向を生じる。一方で層の未露光部は液晶分子の配向が固定されず配向が熱によりランダム化され軸方向を生じないため、軸の有無のパターニングが可能である。
上記のアルカリ現像性液晶性化合物を用いて位相差層もしくは偏光層を作製してアルカリ液現像を行うことにより、又は上記の有機溶媒現像用液晶性化合物を用いて位相差層もしくは偏光層を作製して有機溶媒現像を行うことにより、層の露光部は紫外光露光により液晶分子の配向が固定され現像液で溶解しない。一方で層の未露光部は液晶分子の配向が固定されないので溶解し、層の有無（層の未欠落部分及び層の欠落部分）のパターニングが可能である。
【００８３】
（熱現像）
パターン露光された層に対して８０℃以上４００℃以下でベークを行うことにより軸の有無を作製することができる。さらには位相差量のパターニングも可能である。
ベークによって層中の未露光部のレターデーションが低下し、一方で露光部はレターデーションの低下が小さく、もしくは全く低下しないかあるいは上昇し、結果として未露光部のレターデーションが露光部のレターデーションに比較して小さくなり、軸の有無又は位相差量のパターンが作製される。
光学上の効果を発揮するため、ベーク後の露光部のレターデーションは５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。５ｎｍ以下では作製された複屈折パターンの目視による識別が困難となる。
【００８４】
また、光学上の効果を発揮するため、層中の未露光部のベーク後のレターデーションはベーク前の８０％以下となることが好ましく、ベーク前の６０％以下となることがより好ましく、ベーク前の２０％以下となることがさらに好ましく、５ｎｍ未満となることが最も好ましい。
【００８５】
（アルカリ現像）
アルカリ現像に用いられるアルカリ水溶液としては、特に限定されないが、代表的なものを例示すると、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、トリエタノールアミンなどの水溶液が挙げられる。水溶液のｐＨとしては、７．１〜１４．０であればよいが、現像性と廃液処理の観点から、好ましくは７．１〜１２．０、より好ましくは８．０〜１０．０がよい。該アルカリ水溶液は、さらに現像性を高めるために、界面活性剤や水と混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。該界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤を使用することができる。これらの中でも、溶液の透明性の観点から、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤の使用が好ましい。これらは併用して使用することもできる。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等を挙げることができる。これら有機溶剤の含有率としては、全溶媒に対して、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらにより好ましくは、３０質量％以下である。
【００８６】
（有機溶媒現像）
有機溶媒現像に用いられる有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。これらのうち、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８７】
固定化されずに溶解した部分の除去方法としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００８８】
［軸方向のパターニング］
軸方向のパターニングの方法については、特に限定されないが、上記のように、好ましくは配向層を利用して、位相差層における遅相軸及び偏光層における吸収軸の方向のパターニングを行うことができる。
光配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくは光配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されると、光配向層が作製された偏光紫外光の偏光方向に、液晶分子が配向する。同様に、ラビング配向層上に設けられた液晶性化合物を含む層、好ましくはラビング配向層上に直接設けられた液晶性化合物を含む層は、紫外光が照射されるとラビングされた方向に液晶分子が配向する。
【００８９】
従って、光配向層上にパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける際には、光配向材料を含む光配向層形成用組成物から形成された層にマスク等を介して、偏光紫外光を照射し、この層の光配向性をパターニングする。得られた光配向層の上に液晶性化合物を含む組成物を塗布、乾燥等させた後、紫外光を照射することにより軸方向がパターニングされた位相差層又は偏光層を得ることができる。同様に、ラビング配向層上にパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける際には、ラビング配向層形成用組成物から形成されたラビング前の層にマスク等を介して、ラビングを行い、この層のラビング方向をパターニングする。得られたラビング配向層の上に液晶性化合物を含む組成物を塗布、乾燥等させた後、紫外光を照射することにより軸方向がパターニングされた位相差層又は偏光層を得ることができる。
【００９０】
液晶性化合物を含む組成物からなる偏光層又は位相差層の、層の有無及び軸方向のパターニングの方法の例のフロー図を図２〜６に示す。
【００９１】
（その他の層）
［支持体］
本発明のパターニング偏光板、又は該パターニング偏光板製造に用いられるパターニング偏光層もしくはパターニング位相差層は支持体を有してもよい。支持体は特に限定はなく、剛直なものでもフレキシブルなものでもよい。パターニング偏光層もしくはパターニング位相差層における支持体は、両者を張り合わせた後に、剥離されてもよい。
剛直な支持体としては特に限定はないが表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、アルミ板、鉄板、ＳＵＳ板などの金属板、樹脂板、セラミック板、石板などが挙げられる。フレキシブルな支持体としては特に限定はないがセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。取扱いの容易さから、剛直な支持体の膜厚としては、１００〜３０００μｍが好ましく、３００〜１５００μｍがより好ましい。フレキシブルな支持体の膜厚としては、３〜５００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましい。
【００９２】
（転写材料を用いた作製方法）
パターニング偏光層又はパターニング位相差層の作製は転写材料を用いて行ってもよい。その場合のフローを図７に示す。
転写材料を用いて、パターニング楕円偏光板を作成することも可能である。パターニング位相差層の作製にのみ転写材料を用いてもよいし、パターニング偏光層の作製にのみ転写材料を用いてもよいし、パターニング位相差層及びパターニング偏光層の双方の作製に転写材料を用いてもよい。転写材料を用いることにより、有機溶剤を利用する塗布を、パターニング材料を作製する場所と別の場所で行うことができ、パターニング材料を使用する際の作業および設備負担が軽減する。
以下転写材料において有用な機能性層について説明する
【００９３】
［仮支持体］
転写材料は仮支持体を有することが好ましい。仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００９４】
［転写用接着層］
転写材料は転写接着層を有することが好ましい。転写接着層としては、透明で着色がなく、十分な転写性を有していれば特に制限はなく、粘着剤による粘着層、感圧性樹脂層、感熱性樹脂層、感光性樹脂層などが挙げられるが、液晶表示装置用基板等に用いられる場合に必要な耐ベーク性から感光性もしくは感熱性樹脂層が望ましい。
【００９５】
［粘着層］
粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等が挙げられる。粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【００９６】
［感圧性樹脂層」
感圧性樹脂層としては、圧力をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感圧性接着剤には、ゴム系，アクリル系，ビニルエーテル系，シリコーン系の各粘着剤が使用できる。粘着剤の製造段階，塗工段階の形態では、溶剤型粘着剤，非水系エマルジョン型粘着剤，水系エマルジョン型粘着剤，水溶性型粘着剤，ホットメルト型粘着剤，液状硬化型粘着剤，ディレードタック型粘着剤等が使用できる。ゴム系粘着剤は、新高分子文庫１３「粘着技術」（株）高分子刊行会Ｐ．４１（１９８７）に記述されている。ビニルエーテル系粘着剤は、炭素数２〜４のアルキルビニルエーテル重合物を主剤としたもの，塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体，酢酸ビニル重合体，ポリビニルブチラール等に可塑剤を混合したものがある。シリコーン系粘着剤は、フィルム形成と膜の凝縮力を与えるためゴム状シロキサンを使い、粘着性や接着性を与えるために樹脂状シロキサンを使ったものが使用できる。
【００９７】
［感熱性樹脂層」
感熱性樹脂層としては、熱をかけることによって接着性を発現すれば特に限定はなく、感熱性接着剤としては、熱溶融性化合物、熱可塑性樹脂などを挙げることができる。前記熱溶融性化合物としては、例えば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の低分子量物、カルナバワックス、モクロウ、キャンデリラワックス、ライスワックス、及び、オウリキュリーワックス等の植物系ワックス類、蜜ロウ、昆虫ロウ、セラック、及び、鯨ワックスなどの動物系ワックス類、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス、エステルワックス、及び、酸化ワックスなどの石油系ワックス類、モンタンロウ、オゾケライト、及びセレシンワックスなどの鉱物系ワックス類等の各種ワックス類を挙げることができる。さらに、ロジン、水添ロジン、重合ロジン、ロジン変性グリセリン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性ポリエステル樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、及びエステルガム等のロジン誘導体、フェノール樹脂、テルペン樹脂、ケトン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族系炭化水素樹脂、及び脂環族系炭化水素樹脂などを挙げることができる。
【００９８】
なお、これらの熱溶融性化合物は、分子量が通常１０，０００以下、特に５，０００以下で融点もしくは軟化点が５０〜１５０℃の範囲にあるものが好ましい。これらの熱溶融性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、前記熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン系共重合体、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、及びセルロース系樹脂などを挙げることができる。これらのなかでも、特に、エチレン系共重合体等が好適に使用される。
【００９９】
［感光性樹脂層］
感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、ポジ型でもネガ型でもよく特に限定はなく、市販のレジスト材料を用いることもでき合、光照射によって接着性を発現することが好ましい。また、液晶表示装置用基板等の物品の製造工程における環境上や防爆上の問題から、有機溶剤が５％以下の水系現像であることが好ましく、アルカリ現像であることが特に好ましい。また、感光性樹脂層は少なくとも（１）ポリマーと、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系とを含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。
【０１００】
以下、これら（１）〜（３）の成分について説明する。
（１）ポリマー
ポリマー（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーからなるアルカリ可溶性樹脂が好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報および特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。全固形分に対するポリマーの含有量は２０〜７０質量％が一般的であり、２５〜６５質量％が好ましく、２５〜４５質量％がより好ましい。
【０１０１】
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマーおよびオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートおよびフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【０１０２】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報および特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報および特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【０１０３】
（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書および同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾールおよびトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
【０１０４】
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【０１０５】
感光性樹脂層は、ムラを効果的に防止するという観点から、適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、および/又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）および、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。
【０１０６】
【化２７】
【０１０７】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、ｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。
【０１０８】
特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣmＦ2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。ＣmＦ2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ1は水素原子またはメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ2およびＲ3は、各々独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐおよびｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐおよびｑは好ましくは２〜８である。
【０１０９】
また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
【０１１０】
モノマー（ａ）および（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレンおよびその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。
特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造および／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、およびポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させると、表示ムラが改良される点で好ましい。
【０１１１】
好ましいフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開２００４−１６３６１０号公報の段落番号［００５４］〜［００６３］に記載の化合物が挙げられる。また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。本発明においては、一般式（ａ）で表されるモノマーを含まないフッ素系界面活性剤である、特開２００４−３３１８１２号公報の段落番号［００４６］〜［００５２］に記載の化合物を用いることも好ましい。
【０１１２】
［力学特性制御層］
転写材料の、仮支持体と位相差層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために力学特性制御層を形成することが好ましい。力学特性制御層としては、柔軟な弾性を示すもの、熱により軟化するもの、熱により流動性を呈するものなどが好ましく、熱可塑性樹脂層が特に好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１１３】
［剥離層］
転写材料は仮支持体の上に剥離層を有してもよい。剥離層は仮支持体と剥離層間の、あるいは剥離層とその直上層の間の密着力を制御し、位相差層を転写した後の仮支持体の剥離を助ける役目を負う。また前述の他の機能層、例えば配向層や力学特性制御層などが剥離層としての機能を有してもよい。
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜や、前記光学異方性形成用の配向層を用いることが好ましい。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールもしくはポリビニルピロリドンとそれらの変性物の一つもしくは複数を混合してなる層である。前記熱可塑性樹脂層や前記酸素遮断膜、前記配向層を兼用することもできる。
【０１１４】
［表面保護層］
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い表面保護層を設けることが好ましい。表面保護層の性質は特に限定されず、仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、隣接する層（例えば転写接着層）から容易に分離されねばならない。表面保護層の材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【０１１５】
位相差層、感光性樹脂層、転写接着層、配向層、熱可塑性樹脂層、力学特性制御層および中間層等の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１１６】
［転写材料を被転写材料上に転写する方法］
転写材料を支持体（基板）等の被転写材料上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記位相差層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した転写材料を、転写接着層面を被転写材料表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
被転写材料としては、支持体、支持体及び他の機能性層を含む積層体が挙げられる。
【０１１７】
（パターニング楕円偏光板の作製）
パターニング楕円偏光板は、上記のように作製したパターニング位相差層上に、上述のように配向層と偏光層を順次塗布して、パターニング偏光層を設けることによって、又は、上記のように作製したパターニング偏光層上に、上述のように配向層と位相差層を順次塗布して、パターニング位相差層を設けることによって、作製することができる。さらには、パターニング楕円偏光板は、パターニング位相差板とパターニング偏光板を貼り合わせてつくることもできる。貼り合わせる際には、粘着剤を用いることが望ましい。
粘着剤は、転写用接着層と同様のものを用いることができる。
【０１１８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
まず、各材料の準備法、作製法について説明する。
（ガラス基板の準備法）
ガラス基板に、平滑化剤（富士フィルムエレクトロマテリアルズ社製 COLOR MOSAIC CT-2000L）をスピンコート法（１０００ｒｐｍ ３０秒）により塗布し、オーブンで２００℃１時間加熱する。
（光配向膜Ｈ−１の作製法）
下記化合物P-16（x=0.9, y=0.1）の１質量％テトラヒドロフラン溶液を調製する。この溶液をスピンコート法（３５００ｒｐｍ、２０秒間）により、乾燥後厚みが０．０５〜０．１５μｍ程度となるよう、上記のガラス基板上に塗布し、100℃で2分間乾燥させる。
【０１１９】
【化２８】
【０１２０】
上記で得られた膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射する。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を方向１にセットして、さらにマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を通して、露光を行う。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２１】
さらに１質量％光酸発生剤 (Chiba製、UVI-6974)のメタノール溶液を塗布した後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線をガラス基板全面に照射して、それぞれ光配向膜Ｈ−１を作製する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において２６０ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において２６００ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２２】
（ラビング用配向膜Ｈ−２の作製法）
配向膜塗布液RN−1199（日産化学工業社製）を、ガラス基板上にスピンコート塗布（3000rpm/30秒）し、80℃オーブンで3分間乾燥させる。その後さらに、220℃のクリーンオーブンで60分間加熱する。
特開2006-221189号公報の段落番号「０１８１」の記載を参照して得られた基板上にマスクを設置し、その上から方向１にラビングを行う。
【０１２３】
（位相差層の作製法）
アルカリ現像性液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
（位相差層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、位相差層用塗布液ＬＣ−１として用いる。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成する。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成する。
────────────────────────────────────────
位相差層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン） ２５．４２
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
────────────────────────────────────────
【０１２４】
（パターニング露光法）
上記で作製した光配向膜Ｈ−１又はラビング配向膜Ｈ−２上に、ＬＣ−１液を＃６のワイヤーバーコーターで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して、均一な液晶相を有する層を形成する。その後、マスクをかけ、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気化において、照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2で、ＵＶ光を照射する。
【０１２５】
（現像法）
2.38 % のテトラメチルアンモニウムヒドロキシドと、有機溶剤としてlogP = −0.27のメタノール５０％を含む水溶液を現像液として用い、３０℃でコーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像しつつ、回転ブラシで表面の現像残渣を除去して、得られた基板の現像を行った。引き続き、洗浄剤（リン酸塩，ケイ酸塩，ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名 Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）を用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行う。さらに超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光で、ポスト露光後、２２０℃１５分熱処理し、５００ｍＪ純水シャワー洗浄を行い、100℃で２分間乾燥する。
【０１２６】
熱現像用液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
（位相差層用塗布液ＬＣ−２の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、位相差層用塗布液ＬＣ−２として用いる。
ＬＣ−２−１は特開２００４−１２３８８２に記載の方法を基に合成した。ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−２−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成する。
──────────────────────────────────―────
位相差層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―────
棒状液晶（ＬＣ−２−１） １９．５７
水平配向剤（ＬＣ−２−２） ０．０１
カチオン系光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル製） ０．４０
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０２
メチルエチルケトン ８０．０
──────────────────────────────────―────
【０１２７】
上記で作製した光配向膜Ｈ−１又はラビング配向膜Ｈ−２上に、位相差層用塗布液ＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射してその配向状態を固定化して厚さ２．４μｍの位相差層を形成して位相差層サンプルを作製する。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ｂ領域（波長２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ｂ領域において３５ｍＪ／ｃｍ2とする。
【０１２８】
（重合開始剤供給塗布液ＡＤ−１の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、重合開始剤供給塗布液ＡＤ−１として用いる。
──────────────────────────────────―
転写接着層用塗布液組成（質量％）
──────────────────────────────────―
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル
＝３５．９／２２．４／４１．７モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．８万） ８．０５
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ４．８３
ラジカル光重合開始剤（２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
１，３，４−オキサジアゾール） ０．１２
ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ化学工業（株）製） ０．０５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３４．８０
メチルエチルケトン ５０．５３８
メタノール １．６１
──────────────────────────────────―
【０１２９】
（パターン露光法）
上記で得られた位相差層サンプルの上に重合開始剤供給層液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの重合開始剤供給層を形成した後、位相差層サンプルに対して、ミカサ社製Ｍ−３Ｌマスクアライナーと石英ガラス上にクロムでパターンが作られたフォトマスクを用いて露光量５０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光を行う。
【０１３０】
（現像法）
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、対応するレターデーションパターンを作製する。
【０１３１】
有機溶媒現像用液晶性組成物の塗布・パターニング露光・現像
上記と同様に、光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ、ＬＣ−２の塗布及び紫外線照射を行う。
次いで、得られた基板をメチルエチルケトンに浸漬してブラシ洗浄を行い、対応するレターデーションパターンを作製した。その後１００℃２分間、乾燥させる。
【０１３２】
（偏光層の作製法）
アルカリ現像性液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
アルカリ液晶現像性液晶性組成物として、下記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−４を調製して用いた以外は上記アルカリ現像位相差層と同様に、光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
（偏光層用塗布液ＬＣ−４の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、偏光層用塗布液ＬＣ−４として用いる。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成する。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ ２１に記載の方法により合成する。
────────────────────────────────────────
偏光層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────────────
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン） ２４．１５
二色性色素（Ｇ−２３９，林原生物化学研究所製） １．２７
４，４'−アゾキシジアニソール ０．５２
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２） １．３６
メチルエチルケトン ６６．０
────────────────────────────────────────
【０１３３】
熱現像用液晶性組成物の塗布、パターニング露光、及び現像
熱現像用液晶性組成物として、下記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−５を用いた以外は上記熱現像用位相差層と同様に光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
【０１３４】
（偏光層用塗布液ＬＣ−５の調製法）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、偏光層用塗布液ＬＣ−５として用いる。
ＬＣ−１−１は特開２００４−１２３８８２に記載の方法を基に合成した。ＬＣ−１−１は２つの反応性基を有する液晶化合物であり、２つの反応性基の片方はラジカル性の反応性基であるアクリル基、他方はカチオン性の反応性基であるオキセタン基である。
ＬＣ−１−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法に準じて合成する。
──────────────────────────────────―────
偏光層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────―────
棒状液晶（ＬＣ−１−１） １８．５９
二色性色素（Ｇ−２３９，林原生物化学研究所製） ０．９８
水平配向剤（ＬＣ−１−２） ０．０１
カチオン系光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル製） ０．４０
重合制御剤（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
０．０２
メチルエチルケトン ８０．０
──────────────────────────────────―────
【０１３５】
（有機溶媒現像用液晶の塗布、パターニング露光、及び現像法）
有機溶媒現像用液晶性組成物として、上記組成の偏光層用塗布液ＬＣ−５を調製して用いた以外は上記有機溶媒現像用位相差層と同様に光配向膜Ｈ−１上又はラビング配向膜Ｈ−２上へ塗布、パターニング露光、及び現像を行う。
【０１３６】
（楕円偏光膜の作製）
上記材料および方法を用い、下記表の組み合わせで楕円偏光膜（実施例１〜７）を作製した。
具体的手順としては、ガラス基板上に、位相差層用配向層、パターニング位相差層、偏光層用配向層、パターニング偏光層を順番に積層して、この順に各層が積層した楕円偏光膜を作製した。
【０１３７】
実施例１〜７の試料のいずれについても同様に、位相差膜については配向処理パターン１に従い、偏光膜について配向処理パターン２に従い、配向処理を行った。
マスクパターンとしては図８に示すＭ−１〜Ｍ−８を用い、図９に示すＲ−１〜Ｒ−３のラビング方向又は偏光方向を用いて配向処理を行った。いずれの実施例においても、位相差膜の遅相軸方向は図１０のパターン１の矢印のように、偏光膜の吸収軸方向は図１０のパターン２の矢印のようになった。位相差膜の位相差量は、約１４０ｎｍであった。また、完成した楕円偏光板の吸収軸は、パターン３のようになった（時計回りの矢印部分は時計回りの円偏光を吸収し、反時計回りの矢印部分は反時計回りの円偏光を吸収することを示す）。
なお、図８に示すマスクの一マス（正方形の一辺）は、２００μｍである。この実施例では、マスクの一マスは２００μｍだが、より小サイズにすることも可能である。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
【表２】
【０１４０】
なお、上記の光学特性の測定は図１１に示す光学系で行った。ハロゲン光源にはモリテックス社製ハロゲン光源 MHF-D100LR、光検出器にはオーシャンオプティクス社製ファイバマルチチャンネル分光器 USB2000を用いた。
図１１に示す光学系は測定位置制限用マスクで、測定位置を制限し、マスク一マスの光学特性を測定することができる。偏光板の方向とλ／４板の方向を変えることにより、任意の楕円偏光を発生させる。光の楕円偏光状態が偏光膜の楕円偏光状態と合致すれば、光は吸収され、光検出ができなくなる。直交している場合が、もっともよく光が透過する。サンプルと偏光板とλ／４板の角度関係によって、偏光板の楕円偏光状態が正確に分かる。
【０１４１】
（転写材料を用いた例：実施例８）
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────―────―熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────────――メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学（株）製） ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製） ０．５５
メタノール １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ６．４３
メチルエチルケトン ５２．９７
──────────────────────────────────────―
【０１４２】
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
【０１４３】
（位相差膜転写材料Ｔ−１の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ１４．６μｍ、１．６μｍであった。さらに
配向処理パターン１に従って、マスクラビングを行い、次いで、ワイヤーバーを用いてＬＣ−２を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ３．５μｍの位相差層を形成し、最後に、感光性転写接着層用塗布液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの感光性樹脂層を形成し乾燥した後に、さらに、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、位相差膜の転写材料Ｔ−１を作製した。
【０１４４】
（偏光膜転写材料Ｔ−２の作製）
厚さ１００μｍの易接着ポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績（株）製）の仮支持体の上に、ワイヤーバーを用いて順に、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥した。乾燥膜厚はそれぞれ１４．６μｍ、１．６μｍであった。さらに配向処理パターン２に従って用いて、マスクラビングを行い、次いで、ワイヤーバーを用いてＬＣ−５を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥し、液晶相状態とした後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２４０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射してその配向状態を固定化して、厚さ３．５μｍの位相差層を形成し、最後に、感光性転写接着層用塗布液ＡＤ−１を塗布、乾燥して１．０μｍの感光性樹脂層を形成し乾燥した後に、さらに、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着し、偏光膜の転写材料Ｔ−２を作製した。
【０１４５】
（レターデーションパターンの作製）
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ−６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記複屈折パターン作製用転写材料Ｔ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離して複屈折パターン作製材料を作製した。
【０１４６】
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し力学特性制御層と配向層を除去した
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、レターデーションパターンサンプルを作製した。
【０１４７】
（偏光膜パターンの作製）
前記偏光パターン作製用転写材料Ｔ−２の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱したレターデーションパターンサンプルに、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。ラミネート後、仮支持体を剥離して楕円偏光パターン作製材料を作製した。
【０１４８】
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し力学特性制御層と配向層を除去した
次いで、２３０℃のクリーンオーブンで１時間のベークを行い、対応する楕円偏光パターンサンプルを作製した。
作製した楕円偏光パターンサンプルの光学特性を測定したところ、パターン３のような光学特性になっていることが分かった。
【０１４９】
（インセル型半透過型液晶表示装置の作製：実施例９）
（液晶表示装置用基板の作製）
小林駿介編著、カラー液晶ディスプレイ、２４０頁、産業図書（１９９４）に記載の一般的な方法で、ガラス基板上にブラックマトリクス３１およびＲＧＢの３色のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板３２を形成した。その上に、実施例１と同様な方法で、パターニング楕円偏光材料を作成した。
【０１５０】
（半透過型ＬＣＤの作製）
液晶表示装置用基板上に透明電極、ポリイミドからなる配向膜を形成し、対向の液晶表示装置用基板に反射板４６付きＴＦＴ基板を用いて、半透過型ＥＣＢ−ＬＣＤを作製した。（図１２）
【０１５１】
（イメージセンサの作製：実施例１０）
特開2007-86720号公報の記載を参考に、CCDやCMOSのようなイメージセンサ上に、実施例1のように作成したパターニング楕円偏光膜を張り合わせることにより、楕円偏光膜を搭載した、イメージセンサを作製することができる。
【０１５２】
（偏光解析装置の作製：実施例１１）
特開2007-86720号公報の記載を参考に、実施例1のように作製した図１３ （矢印は吸収偏光を示す）のようなパターンのパターニング楕円偏光膜をイメージセンサ上に貼り付けることによって、ストークスメータを作製した。
【０１５３】
（１次元偏光センサアレイの作製：実施例１２）
実施例1のように作成した図１４（矢印は吸収偏光を示す）のようなパターンを作成した、パターニング楕円偏光膜を、フォトディテクタアレイ上に貼り付けることにより、１次元偏光センサアレイを作製することができる。
【０１５４】
（膜厚測定装置の作製：実施例１３）
特開2005-114704号公報の記載を参考に、実施例１の楕円偏光膜を用いて、膜厚測定装置を作製することができる。
特開２００５−１１４７０４号公報に記載のように、方向を変えた位相差膜（図１５（a−１））と方向を変えた偏光層（図１５（a−２））を組み合わせた楕円偏光膜、あるいは位相差を変えた位相差層（図１５（ｂ−１））と方向を変えた偏光層（図１５（b−２））を組み合わせた楕円偏光膜を作成し、イメージセンサ全面に貼りつける。
膜厚を測定したいサンプルに対して、斜め方向から偏光状態が既知の光を当て、反射波を上記イメージセンサで観察を行う。各楕円偏光画素の光強度を測定し、解析を行うことにより、サンプルの膜厚と屈折率を求める。
【０１５５】
（３Dディスプレイ装置の作製：実施例１４）
液晶ディスプレイやプラズマテレビやＣＲＴのような画像表示装置の前に、画像表示装置の画素にサイズをあわせた、位相差層に図１６（ａ）のような遅相軸パターン、偏光層に図１６（ｂ）の吸収軸のパターンを作製したパターニング楕円偏光膜を貼りつける。観察者は、左右の目にそれぞれ縦偏光および横偏光の偏光板がついたサングラスをかけて、画像表示装置を観察する。左目用と右目用のそれぞれにあわせた画像を画像表示装置に表示することにより、３D表示が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】「パターニング」の意味を模式的に示す図である。
【図２】光配向膜のパターニングのフローを示す図である。
【図３】ラビング用配向膜のパターニングのフローを示す図である。
【図４】配向膜状に設けられたアルカリ現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図５】配向膜状に設けられた熱現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図６】配向膜状に設けられた有機溶媒現像性重合性液晶組成物からなる層のパターニングのフローを示す図である。
【図７】転写材料を用いてパターニング位相差層又はパターニング偏光層を設ける場合のフローを示す図である。
【図８】実施例で用いられているマスクパターンを示す図である。
【図９】実施例で用いられているラビング方向又は偏光方向を示す図である。
【図１０】実施例で作製された位相差層のパターン１（図中の矢印は遅相軸を示す）、偏光層（図中の矢印は吸収軸を示す）のパターン２、及びパターニング楕円偏光板のパターン３（図中の矢印は吸収偏光を示す）を示す図である。
【図１１】実施例で作製したパターニング楕円偏光板の偏光状態の測定に用いた光学系を示す図である。
【図１２】実施例で作製した半透過方液晶表示装置の概略図を示す図である。
【図１３】実施例で作製した偏光解析装置のパターンを示す図である。
【図１４】実施例で作製した一次元偏光センサアレイのパターンを示す図である。
【図１５】実施例で作製した膜厚測定装置におけるパターンニング偏光板の位相差層及び偏光層のパターンを示す図である。
【図１６】実施例で作製した３Ｄディスプレイ装置におけるパターンニング偏光板の位相差層及び偏光層のパターンを示す図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１ ハロゲン光源
２ ピンホール
３ レンズ
４ 偏光板と回転ホルダ
５ λ／４板と回転ホルダ
６ サンプルとＸＹステージ
７ 測定位置制限用マスク（２００μｍ×２００μｍの正方形の穴が開いている）
８ 光検出器
１１ 基板
３１ ブラックマトリクス
３２ カラーフィルタ基板
３３ 平滑化層
３４ 配向膜
３５ 偏光膜
３６ 位相差層
４１ 偏光層
４２ セルロースアセテートフィルム
４３ セルロースアセテートフィルム
４４ 粘着層
４５ 駆動素子
４６ 反射板
４７ 液晶
４９ 偏光板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【請求項２】
前記パターニング偏光層が、二色性色素及び側鎖に配向性基を有する高分子を含有する請求項１に記載の楕円偏光板。
【請求項３】
前記パターニング位相差層が液晶性化合物を含む請求項１又は２に記載の楕円偏光板。
【請求項４】
前記パターニング偏光層が液晶性化合物を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【請求項５】
配向層１、前記パターニング偏光層、配向層２、及び前記パターニング位相差層をこの順に有し、かつ
配向層１及び前記パターニング偏光層、並びに配向層２及び前記パターニング位相差層はそれぞれ隣接している請求項１〜４のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【請求項６】
楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１１）〜（１３）を含む製造方法：
（１１）支持体又はパターニング偏光層上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング偏光層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１２）工程（１１）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１３）工程（１２）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング位相差層を作製する工程。
【請求項７】
楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１４）〜（１６）を含む製造方法：
（１４）支持体又はパターニング位相差層上に光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング位相差層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１５）工程（１４）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子及び二色性色素を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１６）工程（１５）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング偏光層を作製する工程。
【請求項８】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が熱現像用重合性液晶性化合物を含み、かつ、前記現像が５０℃〜４００℃での熱処理により行われる請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項９】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液がアルカリ現像性重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像がｐH１０以上１４以下の水溶液で行われる請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項１０】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像が有機溶媒現像である請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含むイメージセンサ。
【請求項１３】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む偏光測定装置。
【請求項１４】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む１次元センサアレイ。
【請求項１５】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む膜厚測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む３Ｄディスプレイ装置。
【請求項１】
互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を２つ以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。
【請求項２】
前記パターニング偏光層が、二色性色素及び側鎖に配向性基を有する高分子を含有する請求項１に記載の楕円偏光板。
【請求項３】
前記パターニング位相差層が液晶性化合物を含む請求項１又は２に記載の楕円偏光板。
【請求項４】
前記パターニング偏光層が液晶性化合物を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【請求項５】
配向層１、前記パターニング偏光層、配向層２、及び前記パターニング位相差層をこの順に有し、かつ
配向層１及び前記パターニング偏光層、並びに配向層２及び前記パターニング位相差層はそれぞれ隣接している請求項１〜４のいずれか一項に記載の楕円偏光板。
【請求項６】
楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１１）〜（１３）を含む製造方法：
（１１）支持体又はパターニング偏光層上に、光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング偏光層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１２）工程（１１）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１３）工程（１２）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング位相差層を作製する工程。
【請求項７】
楕円偏光膜の製造方法であって、下記工程（１４）〜（１６）を含む製造方法：
（１４）支持体又はパターニング位相差層上に光配向材料を含む組成物を塗布して乾燥し偏光紫外光のパターン露光を行って配向層を作製するか、又は支持体又はパターニング位相差層上に配向膜溶解液を塗布して乾燥及び焼成した層にマスクを介してラビングを行って配向層を作製する工程；
（１５）工程（１４）で得られる配向層上に側鎖に配向性基を有する高分子及び二色性色素を含む溶液を塗布して乾燥した層に露光を行う工程；
（１６）工程（１５）で得られる露光後の層に現像を行ってパターニング偏光層を作製する工程。
【請求項８】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が熱現像用重合性液晶性化合物を含み、かつ、前記現像が５０℃〜４００℃での熱処理により行われる請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項９】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液がアルカリ現像性重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像がｐH１０以上１４以下の水溶液で行われる請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項１０】
側鎖に配向性基を有する高分子を含む溶液が有機溶媒現像用の重合性液晶性化合物を含み、かつ前記現像が有機溶媒現像である請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含むイメージセンサ。
【請求項１３】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む偏光測定装置。
【請求項１４】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む１次元センサアレイ。
【請求項１５】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む膜厚測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の楕円偏光板を含む３Ｄディスプレイ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２００９−１９３０１４（Ｐ２００９−１９３０１４Ａ）
【公開日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３６２６９（Ｐ２００８−３６２６９）
【出願日】平成２０年２月１８日（２００８．２．１８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月１８日（２００８．２．１８）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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