パターン形成用凸版印刷版
【課題】マージナルを抑制可能な微細パターン印刷用凸版印刷版を提供する。
【解決手段】凸版のレリーフ表面３に複数の窪み４を設け、先端にパターン形成用インクを供給し基板へ転写する。先端部窪み４に滞留したインクは窪み４間の壁により、流動を制限され、マージナル発生が抑制され転写される。この為、均一な厚みの転写インキフィルムを得ることが出来る。
【解決手段】凸版のレリーフ表面３に複数の窪み４を設け、先端にパターン形成用インクを供給し基板へ転写する。先端部窪み４に滞留したインクは窪み４間の壁により、流動を制限され、マージナル発生が抑制され転写される。この為、均一な厚みの転写インキフィルムを得ることが出来る。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキソ印刷などの凸版印刷に使用する凸版印刷版に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示パネル、回路のパターン形成などで微細なサイズのものは一般的にフォトリソ法が用いられてきた。印刷法はフォトリソ法と比較し、処理速度が速い、プロセスに関わる廃棄物が少ない、材料の利用効率が高いなどコスト低減が期待されているが要求に答えきれていなかった。
図２は、凸版印刷に使用する凸版印刷版と課題を示す図である。従来より、レリーフ２の先端にインク６を付着し印刷基板に加圧転写する凸版印刷法が広く普及している。このような凸版の代表例として、版に樹脂材料を使用したフレキソ印刷法を挙げることができる。版が樹脂であるため、加工が比較的容易であること、版材に柔軟性があるため基板へのダメージ、重ね刷り時に於いて先に形成されたパターンへ与えるダメージが低減されること、凸版であるため非画像部にインクが付着しないことなどの特長がある。電子デバイスへの応用を想定した場合は、これらの特長は有利に働く。
【０００３】
しかしながら、微細パターンを印刷形成するための手段としては凸版及び凸版印刷法は殆ど使用されていなかった。その主な理由は、マージナル７の発生というこの方法特有の問題があり、微細パターンを正確に形成することが難しかったからである。
凸版印刷方式においてはインクの転写（図２（ｂ））を行う工程で印圧を加えなければならないが、印刷版のレリーフ２と基板５に挟まれたインクが、レリーフ先端からその周囲にはみ出し、所定の寸法を維持することが困難になる。このように印刷されたパターンの方が印刷版のパターンより大きくなった部分をマージナル７という。更にパターンが微細になりパターン間の距離が小さくなると、マージナルにより隣のパターンと繋ってしまうという問題が発生する。（図３（ａ）） 特に配線や電極など導電性パターンを形成する場合、パターンが繋がることはショートを発生させることになり、正常に機能させることができなくなるという問題があった。
【特許文献１】特許第３４７５４９８号公報
【特許文献２】特開２００２−１１７７５５号公報
【特許文献３】特開２００２−１７８６５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
今までにマージナルを減らすために以下のような方法が提案されてきた。しかしながら、マージナル防止のため版の凸部でインクを固めた後、固化したインク成分を粘着物質を介して基板に転写する方法（特許文献１参照）では、電子デバイスなどにおいて先に形成されたパターンと後から形成されたパターン相互間で、電気的接続を必要とする場合、相互の導通性低下が、また、絶縁層との積層では界面でのトラップ発生によるデバイス特性への影響が、更には強度的に脆弱な薄膜の転写に於いては転写時のストレスにより膜中へクラックが入る問題が考えられる。
版の凸部の周囲に障壁を設ける方法も提案されている（特許文献２参照）が、インクの粘度が低い場合はワークへの押し付けが不均等になり、既にパターンがある場合、段差により障壁で押さえきれずに流れ出す問題が懸念される。
【０００５】
版の凸部に窪みを設け（特許文献３参照）ここに余剰インクを収容する方法も提案されている。しかしながら、繰り返し印刷を行う場合は、余剰インクを収容するためには窪みにインクが無いという条件を満たす必要があるが、インクの残留に不安があり、繰り返し印刷の際、効果の持続性低下が懸念される。
そこで、本発明は、前述のような従来技術が有する問題点を解決し、表示パネルにおける配線、電極、絶縁材料、機能材料や電子回路の配線形成に最適な印刷版を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち、本発明に係る請求項１の版は、版のレリーフ上に供給されたインキを被印刷体へ転写する凸版に於いて、レリーフ上に複数個の窪みを有し、この窪みが独立していることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項２の版は、請求項１に記載の印刷用凸版に於いて、前記窪みがレリーフ上の先端のほぼ全域に渡って形成されていることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に係る請求項３の版は、請求項１又は２のいずれかに記載の版に於いて、微細なセルはレリーフ先端の外周部分を除く部分に形成され、レリーフ先端のエッジ部分には形成されていないことを特徴とする印刷用凸版である。
【０００７】
本発明に係る請求項４の版は、請求項３に記載の版に於いて、レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項５の版は、請求項１から４のいずれかひとつに記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面と窪み内面の表面自由エネルギー差が５×１０−２ｍＪ／ｍ２以上であることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項６の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクをはじき前記レリーフ窪み内部がインクにより濡れる組み合せであることを特徴とする印刷用凸版である。
【０００８】
本発明に関わる請求項７の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクにより濡れ前記レリーフ窪み内部がインクをはじく組み合わせであることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項８の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項９の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも大きいことを特徴とする印刷用凸版である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の印刷版を用いてパターン形成を行えば、凸版のレリーフ先端に設けられた窪みと窪みの間の壁や窪み自身が印刷時のインクの流れ出しを阻止するように働くためマージナルが抑制され、パターン形成においてパターン同士が繋がることを防ぐことができ、印刷法による電子デバイス（配線、電極、絶縁材料、機能材料による機能素子や回路形成）への応用が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の「微細パターン形成用凸版印刷版」について説明する。
本発明における樹脂版は、レリーフ上に窪みを複数個形成する。図１は凸版のレリーフ上に、窪みが複数形成され碁盤の目状に配置された状態を示した図である。図１（ａ）はレリーフの断面を示すものであり、４が窪みである図１（ｂ）はレリーフのインクが付着する面を示したものであり、４が窪みである。
図６はレリーフ上に窪みが複数個形成され、その形成された領域がレリーフ先端部分の全域にわたり、窪みがレリーフのエッジに掛かって形成されていないことを示す図である。図６（ａ）は窪みが円形でレリーフ端部の形状が直線であり、これと窪みの配列方向が同じ場合の図である。図（ｂ）は窪みの形状が四角の場合を示す図である。図６（ｃ）は窪みの配列方向に対し、レリーフ端部の形状が斜め直線を一部含むことを示す図である。この場合、斜め直線部分と重なった窪みは、窪みの側壁が切り落とされた形となりインクを溜める効果が薄れること、かつ斜め直線も途切れるため、窪みの斜め直線と重なる部分は斜め直線と一致した側壁で閉じられている。この斜め直線と一致した部分が、レリーフ端部形状に沿った線部である。図６（ｄ）はレリーフ端部の形状が曲線を一部含む状態を示す図である。この曲線部に重なった窪みは、図６（ｃ）の場合と同様に、窪みの曲線と重なる部分が曲線と一致した側壁で閉じられており、この部分がレリーフ端部形状に沿った線部である。図６（ｂ）は窪みが角柱状の場合を示す図である。図６（ｅ）は曲線状のレリーフに窪みが形成された状態を示す図である。レリーフの曲線に沿って窪みが配列されている状態を示す。図７は窪みが千鳥配列となっており、配列を工夫することで、インクの流れ出しをより効果的に抑制することを狙いとした配置を示す。
【００１１】
図８は、よりマージナルをより減らすため、窪みの大きさに工夫を加えた例を示す図である。図８（ａ）は、レリーフの端部に近い部分ほどインク量を減らすため、窪みの大きさを小さくし、レリーフの外へ流れ出すインクの量を減らすことを目的にした例である。図８（ｂ）は図（ａ）と同様な目的で、レリーフの端部に近い部分ほどインク量を減らすため、窪みの深さを浅くし、レリーフの外側へ流れ出すインクの量を減らすことを目的にした例である。前記いずれの場合に於いても、レリーフ端部の窪みの形状はそのレリーフ端部形状を途切れさせない様配列するか、配列の都合上レリーフ端部に窪みが重なる場合は、窪みの端部と重なる部分が端部形状に一致する側壁で閉じられている必要がある。
次に版の製作方法について述べる。パターンの形成方法は、（１）光により形成する方法、（２）型から複製する方法、（３）彫刻により形成する方法、がある。
【００１２】
（１）光により形成する方法では感光性樹脂が使用可能であり、方法として次の方法が挙げられる。通常の感光性樹脂を用いた方法で、レリーフの形状に合わせ、微細窪みに相当する部分において光を透過しそれ以外の部分では透過しないネガフィルムを準備する。露光前が液状の感光性樹脂を用いる場合、このネガフィルムをガラス板の表面に積層後、その上に液状の感光性樹脂を塗布し、その表面に透明なベースフィルムを積層し、更にその表面にガラス板を積層する。なお感光性樹脂層の厚みは所定の寸法になるよう設定する。
次いでランプを用い、上側のガラス板とベースフィルムを介して紫外線を照射すると共に、下側のガラス板とネガフィルムを介して紫外線を照射する。画像露光用の照射光源は公知のものを使用可能である。上記液状感光性樹脂からなる層の上面全体から入った光と、ネガフィルムの光を透過する部分を透過した光が所定量届いた部分が硬化される。硬化後上下のガラス板、ネガフィルムを取り除き、未硬化部分を洗浄除去し、レリーフ形成側に紫外線を照射し硬化を促進し、印刷用版とする。
別の方法としてレリーフ形成のため、感光性樹脂を硬化可能な波長のレーザー光源を用い、硬化に必要な光量を走査露光しても良い。常温で液状タイプでなく常温で固溶体状の感光性樹脂を用いる場合、加熱して所定の厚みに成形したのち、同様に画像露光以降の操作を行えばよい。さらに、上記はネガタイプの感光性樹脂を使用した際の製作方法であるが、ポジタイプの感光性樹脂をポジフィルムと共に用いることも可能である。
【００１３】
（２）型から複製を作成する方法としては次の方法を挙げることができる。パターンに対応した型を作成し、樹脂にふさわしい方法で型取りする。方法としては、１）光硬化法、２）熱硬化法、を採用することができる。または加熱した型を樹脂に押し付け、パターンに相当する形状を付与する、３）熱転写法（冷却凝固法ともいう）、でも良い。１）には感光性樹脂、２）には室温で液体もしくは固溶体状の熱硬化性樹脂、３）には熱可塑性樹脂
が使用可能である。型は、採用する加工方法、解像度により公知のものから選択すればよい。金属金型、Ｓｉ型、石英型、ＳｉＣ型、Ｎｉ電鋳型、樹脂型などが使用可能である。
【００１４】
（３）彫刻により形成する方法次の方法を挙げることができる。架橋されたゴム系材料や、硬化された熱硬化性樹脂、同じく硬化された光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などに対応可能である。固体の版材料を彫刻する方法としては、レーザーによる彫刻方式を挙げることができる。現実的には必要とする形状の寸法に応じレーザーを使い分ければよい。炭酸ガスレーザー、ＶＡＧ３倍波もしくは４倍波レーザー、さらにはエキシマレーザーなどを解像度や彫刻性により選定して彫刻することができる。
この方法を用いれば、レリーフ頂部表面と溝部の表面自由エネルギーが異なる組み合わせの版も作ることができる。レリーフ先端とその下とで異なる材料を積層する、もしくは異なる材料の塗布やプラズマ処理などで表層と下の層で表面自由エネルギーの異なる組み合わせを作り、レーザーで下の層まで達するよう彫刻する方法を採ることもできる。
【００１５】
本発明の材料には、上記のように室温で固体、高温で流動性を有する熱可塑性樹脂、室温で粘凋、もしくは固溶体状の感光性樹脂、熱硬化性樹脂を可塑性などを用いて版に成型することができる。樹脂の種類について特に制約は無い。版として使用する形態における力学的物性、例えば硬度、ヤング率、反発弾性、引張強伸度や表面張力、耐溶剤性などが所望する印刷に適するように選択、設計すればよい。
ネガタイプの感光性樹脂としては、ラジカル重合系、光カチオン重合系、光アニオン重合系、光二量化反応系などが適用可能である。以下、汎用的なラジカル重合系で説明する。
【００１６】
ラジカル重合性樹脂組成物の多くが本発明に適用し得るが、その中で代表的なものとしてプレポリマー、モノマー、開始剤、重合禁止剤を配合した組成物が使用可能である。
プレポリマーとしては重合性二重結合を分子中少なくとも1個以上有するプレポリマーと光重合開始剤、重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体を含むラジカル重合性樹脂組成物で、例えばプレポリマーとして、不飽和ポリエステル、不飽和ポリウレタン、不飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリレート樹脂、不飽和メタクリレート樹脂およびこれらの各種変性物などを少なくとも１種類用いたものを挙げることができる。
例えばこのうちの感光性樹脂組成物としては特開昭５２−９０８０４号、特公昭４８−１９１２５号、特開昭４９−１０９１０４号、特公昭４８−４１７０８号、等モノマーとしては重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体としては、スチレン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリルシアヌレート、Ｎ，Ｎ‘−メチレンビスアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメタクリルアミド、α−アセトアミド、アクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、α−クロロアクリル酸、パラカルボキシスチレン、２，５−ジヒドロキシスチレン、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート等やフォトポリマー懇話会著、「フォトポリマーハンドブック」、（株）工業調査会刊、１９８９年６月２６日、p．３１-３６記載の材料を用いることができる。
【００１７】
開始剤としてはこれらをエチレン付加重合性不飽和基を用いて三次元架橋反応を行うときは、公知の光重合開始剤を用いることが反応効率上好ましい。
光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、キサントン、チオキサントン、クロロキサントン、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル、２,２−ジメチル−２−ヒドロキシアセトフェノン、（２−アクリロイルオキシエチル）（４−ベンゾイルベンジル）ジメチル臭化アンモニウム、（４−ベンゾイルベンジル）塩化トリメチルアンモニウム、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３−，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オン−メソクロライド，１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏベンゾイル）オキシム、チオフェノール、２−ベンゾチアゾールチオール、２−ベンゾオキサゾールチオール、２−ベンズイミダゾールチオール、ジフェニルスルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジ−ｎ−ブチルジスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジベンゾイルジスルフィド、ジアセチルジスルフィド、ジボルニルジスルフィドジメトキシキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムテトラスルフィド、ベンジルジメチルジチオカーバメイトキノキサリン、１，３−ジオキソラン、Ｎ−ラウリルピリジニウム等が例示できる。
【００１８】
熱重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、２、２−アゾビスイソブチロニトリル、過硫酸塩−亜硫酸水素ナトリウム等の過酸化物、アゾ化合物、レドックス開始剤といった公知のものが使用できる。
具体的には、東レリサーチセンター調査研究事業部編、「フォトポリマー技術の新展開」東レリサーチセンター刊、１９９３年３月１０日、p．頁３５、山岡亜夫監修、「フォトポリマーの基礎と応用」シーエムシー出版、２００３年３月２７日、第４章製版材料とフォトレジスト、や松井真二他監修、「ナノインプリントの開発と応用」、シーエムシー出版刊、２００５年８月３１日、p．５０、p．１５１、記載の材料を用いることができる。同じくp．１５８、p．１５９、記載のフッ素変性したフルオロアルキル基を有するアクリレート、メタクリレートや含フッ素のエポキシ系の感光性樹脂を用いることもできる。
また少なくとも未加硫ゴムと重合性二重結合を有する単量体、重合開始剤からなる光重合性ゴム組成物、いわゆる感光性エラストマーといわれているもの（例えば特開昭５１−１０６５０１号、特開昭４７−３７５２１号）や、発インク性とのバランスが必要だが、ジアルキルシリコン系樹脂の使用も可能である。
【００１９】
熱可塑性樹脂としてはポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルペンテン（ＴＰＸ）、変性ポリフェ二レンエーテル（ＰＰＥ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳｔ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、アクリロニトリル／スチレン（ＡＳ）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン（ＡＢＳ）、フッ素系樹脂ではフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン／ノルボルネン共重合体等のフッ素化ポリオレフィン、含フッ素アクリル樹脂、含フッ素アクリル樹脂、含フッ素ポリイミド樹脂、含フッ素ビニルエーテル樹脂や、これ以外にも熱により加工できるものであれば三羽忠広著、「基礎合成樹脂の科学」、技報堂出版（株）、１９８７年６月１５日、p．１１３−３９７、各論 １．重合型樹脂 ２．縮合型樹脂 記載の熱可塑性樹脂を使用しても良い。
【００２０】
熱硬化性樹脂としては不飽和ポリエステル、不飽和ポリウレタン、不飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリレート、不飽和メタクリレート、樹脂及びこれらの各種変性を少なくとも１種と、重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体に熱重合開始剤を含むラジカル重合性樹脂組成物や、エポキシに硬化剤を添加した樹脂組成物、シリコン系のポリジメチルシロキサン系樹脂を使用しても良い。
フッ素系樹脂では架橋材や、熱によりラジカルの発生する重合開始剤を含むフッ素モノマーや含フッ素オリゴマーを用いた熱硬化性樹脂を使用しても良い。これ以外にも三羽忠広著、「基礎合成樹脂の科学」、技報堂出版（株）、１９８７年６月１５日、p．２４０−３９７各論 ２．縮合型樹脂 記載の熱硬化性樹脂を使用しても良い。
【００２１】
ゴム系材料としては、天然ゴム、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ブチル、エチレンプロピレン、スチレンブタジエン、ポリイソブチレン、スチレンブタジエン、ニトリル、アクリル、エピクロルヒドリン、クロロプレン、ウレタン、二トリル、シリコン、フッ素系ゴムを使用しても良い。以上に記した方法や材料を用いることにより、本発明に係る印刷用凸版を製版することができる。上記に挙げた方法により、本発明に係る印刷用凸版を製版することができる。
次に印刷機について説明する。印刷機は市販されている図１２に示す方式のものを用いることができる。これは一例であり、この方式に限定されるもではない。次に印刷機について説明する。印刷機は市販されている図９に示す方式のものを用いることができる。これは一例であり、この方式に限定されるもではない。印刷は以下のようにして行う。
【００２２】
図９に示した方式の印刷機を使用し、凹凸を設けたアニロックスプレート１１上にインクを置き、ドクターブレード１２を１３の方向に引くことによりインクが計量され、アニロックスプレート１１に版１４を接触させた後分離すると、レリーフ上に形成された窪み４とレリーフ先端の頂部３にインクが付着する。この状態で基板５に押し付けインクを転写する。その後、インクのレベリングが進み均一化する。図１０は版の部分を拡大して示したものであり、（ａ）の印刷機のアニロックスプレート上に展開されたインクが、（ｂ）、（ｃ）に示すように版のレリーフに供給され、（ｃ）から（ｆ）に示すように基板に転写されパターンが形成されるまでを示した図である。図１０（ａ）は印刷機のアニロックスプレート上にインクが展開された状態と、インクが供給される前の版１３を示す。
【００２３】
次にインクをレリーフへ転写するため図１０（ｂ）に示すようにインクの展開されたアニロックスプレートに版のレリーフ先端を押し付ける。この時、インクはレリーフ先端に形成された窪みと頂部に移行する。図１０（ｃ）はインクが版のレリーフ先端部へ供給された状態と印刷される基板を示す。その後インクを基板へ転写させるため、図１０（ｄ）に示すようにレリーフ先端部を基板へ押し付ける。図１０（ｅ）は版のレリーフが基板から離れインクが基板へ転写された状態を示す。さらに図１０（ｆ）は基板上でインクのレベリングが進みパターンが形成された状態を示す。以上の方法にて印刷によりパターンが形成される。
本実施形態によれば、レリーフ上へ窪みを設けることにより、押し付けた時に発生するレリーフ外側へのインクの流れが阻止されるため、マージナルの発生を低減させることができる。レリーフ端部においてはその形状に沿った線部を有する窪みが配置されるため、パターンの再現性も向上する。
【００２４】
次に窪みの形状などについて述べる。窪みの平面形状は円形もしくは直線で構成される三角形、四角形、六角形、それ以上の多角形や直線、曲線で構成された形状を用いることができるが、インクを溜める溝の容積や、インク転写用のアニロックスプレート等との組合わせによるモワレや斑、インクのアニロックスプレートからの転写性、印刷後のレベリングの状況、インクの基板への転写効率を勘案して決めればよい。これらの構成や窪みの配置間隔、深さを変えることでインクの量を調整することもできる。もちろん一つのパターン内でこれらの構成を変えてもよい。
配列に関しては碁盤の目、図６（ａ）、（ｂ）のほか千鳥配列、図７（ａ）、（ｂ）を採ることも可能である。例えば千鳥配列図７（ａ）、（ｂ）では窪み間距離がより均等化することでレベリング性向上が、隣り合う窪みが碁盤の目配列と比較しずれるため、その方向へのインクの流れの抑制に効果があると考えられる。
【００２５】
窪みの大きさは形成するパターンサイズにもよるが、一例を挙げると、線状のレリーフの幅方向に並ぶ個数はエッジやパターン内部の均一性を考慮すると少なくとも２個以上、好ましくは３個以上が良い。例えば６０μｍ幅のラインであれば、３個並べる場合ピッチを２０μｍとし、窪みの大きさと窪みの間隔を等しくすれば、窪みの大きさは１０μｍ、となる。同様に３０μｍ幅のラインの場合で窪みを３個並べる場合はピッチは１０μｍで窪みは５μｍとなる。なお窪みのレリーフの長手方向の大きさは幅方向と同等を基本とするが、必ずしも同等にする必要は無い。窪みの大きさや窪みの間隔は、要求されるパターンの幅や厚み、インク粘度、インクのレベリング性、濃度や版上に乗せるインク量、マージナルの状況などの条件を勘案して調整すればよく、上記範囲に限られるものではない。なお製版方法は必要とされるパターンサイズや窪みの大きさにより選択すればよい。
またレリーフ頂部に形成された窪みの容積は、容積率｛レリーフ上の窪みの容積／（レリーフ上の窪みの深さ×レリーフ面積）｝で表すと０．１から０．９が良い。この値が小さすぎると通常の凸版構造に近く、大きすぎると窪み間の隔壁となる構造が薄くなり脆弱化する。そのためインクが印刷時にレリーフの外側へ流動する動きを抑制する効果が期待できない。
【００２６】
図８はよりマージナルをより抑制するため、レリーフ先端部に乗せるインク量をレリーフの周辺部ほど少なくするための工夫を示した図である。図８（ａ）はレリーフ先端の窪みを周辺部ほど小さくし、ここに溜まるインク量を中央部より減らす工夫を示した図である。窪みの大きさを一定とし、窪みと窪みの間隔を外側ほど大きくする方法でも良い。さらに、図８（ｂ）は窪み間に形成する窪みの深さをレリーフ周辺部ほど浅くし、ここに溜まるインク量を中央部より減らす工夫を示した図である。
マージナルをより抑制するため、版構成として本発明に多層構成を組合わせても良い。 図１１は多層構成を示す図である。（ａ）は単層版を示す。（ｂ）は硬度差を設けた２層構成の多層版を示す。（ｃ）は（ｂ）と同じ構成であるがレリーフ先端（レリーフ先端とレリーフ側面の角度）が鋭角に構成された版を示す。（ｄ）はショルダー角（基部層とレリーフ側面の角度）を示す。即ち、凸版のレリーフの多層化、図１１（ｂ）、或いはレリーフ層と基部層という多層化を併用しても良い。版から転写されたインク皮膜の均一性を高めるにはインクが着肉するレリーフ上部を低硬度（低圧縮モジュラス）とする。但し、低硬度にすると、印刷時のドットゲインが大きくなる傾向があるため、低硬度層の厚みは印刷実験により最適化する必要がある。
逆に、インク着肉性は十分であるがドットゲインが大きい場合、マージナルをより抑制するため、レリーフ上部層の硬度を下部層より高めに設定し、印圧による応力を下部層でより多く吸収することで対応できる場合がある。あまり硬度を低くしすぎると印圧吸収効果が過剰に作用しインクの転移が低下することが見られるため、硬度差の最適化が必要である。
【００２７】
マージナルを抑制する方法としては、レリーフ上部層のショルダーを鋭角的、図１１（ｃ）にする技術が適用出来る。型に未硬化樹脂を流し込んで版を作成するプロセスにおいては、元の型のレリーフ形状を多段に加工すればよい。支持体の下に柔軟な層を設ける手段もあるが、印圧吸収効果は前記方法に比べ低い傾向にある。レリーフの断面形状は傾倒を防ぐためには基部に近いレリーフ形状は富士山のように拡がった、即ちショルダー角、図１４（ｄ）の小さい単層版か下層部ショルダー角の小さい多層レリーフ構成が好ましいと考えられる。
更に窪みの効果に加え、レリーフ頂部表面と溝内部の表面自由エネルギーを違えることによる、マージナル低減効果について説明する。窪み表面自由エネルギーよりレリーフ頂部表面のそれを下げ、頂部表面へインクを濡れ難くした場合（図４）、インクは窪みへ溜まり（図４（ａ））、頂部表面には殆ど無い状態となる。この状態で基板へ押し付けると窪み内部のインクが基板へ押し付けられるが（図４（ｂ））、頂部表面にインクが殆ど無いため過大な印圧で押し付けない限りレリーフ外へ流れ出すインクを押さえることができる。版が基板から離れた後図４（ｃ）、図７（ｄ）のようにインクがレベリングする。
【００２８】
次にレリーフ頂部表面の表面自由エネルギーより窪みのそれを下げ、溝部へインクを濡れ難くした場合について説明する。（図５）インクは頂部表面に付着し窪み内部へは殆ど付着しない。（図５（ａ））この状態で基板へ押し付けて印刷すると、押し圧によりインクが広がり、過剰なインクは窪みへ入り込み（図５（ｂ））、レリーフの外側へ流れ出しが抑制される。窪み内部がインクをはじくように構成されていれば、版が離れるときにインクは基板側へ移り溝内部へは殆ど残らない。そのため繰り返し印刷を行うことができる。版が基板から離れた後図４（ｃ）、図４（ｄ）のようにインクがレベリングする。
更に本発明では印刷方式として、樹脂版によるフレキソ方式を例に挙げて説明したが、典型的なフレキソ印刷のみならず他の凸版印刷方式、例えば凸版オフセット印刷方式の凸版についても同様に実施可能である。
【００２９】
以上に記した方法でマージナルが抑制されることにより、より近接したパターンを独立して形成できるようになる。図３は従来技術と本実施形態のパターン再現性を比較する拡大図である。従来はマージナルによりパターン同士を近づけると、パターンとパターンが繋がってしまう場合があったが（図３（ａ））、本実施形態ではマージナルの低減により繋がりを抑制し（図３（ｂ））、実施しない場合と比較しパターン間隔をより狭めることができる。以上の結果から明らかなように、本発明によれば、周囲へのインクのはみ出しが抑制され、マージナルが押さえられる。従って、パターンとパターンの間隔をより狭くすることが可能となる。
次に、上述した印刷版によりデバイスを形成する方法について、ＴＦＴを例として説明する。まず基板の上にゲート電極及び配線に相当する導電性のパターンを作成する。インクとしては金属微粒子を分散したものや導電性のポリマー等を用いることができる。次に形成したパターン上の所定の位置に合わせ、ＴＦＴのゲート絶縁膜に相当するパターンを印刷する。印刷版は絶縁膜のパターンに相当するものに交換しておく。以後パターンを変更するたびに版は変更する。
【００３０】
インクとしては高分子の樹脂材料を溶剤に溶解したものや無機系の塗布材料、例えばポリシラザン系の材料等が使用可能である。次に所定の位置にソース電極、ドレイン電極、とこれらに接続される配線を形成する。次にソース、ドレイン電極を跨るように半導体のパターンを形成する。インクとしては溶剤に可溶なポリチオフェン系誘導体やポリアセン系などの有機半導体が使用可能である。次いで素子を保護するため、これらのパターンを覆うように保護膜パターンを形成する。材料としては高分子の樹脂材料などを溶剤に溶解したものが使用可能である。
尚、本発明の凸版は、上記ＴＦＴに用いる場合を含め、配線、電極、絶縁膜、シール材や、ＥＬ発光材料、半導体材料、カラーフィルターなどの機能性材料などの印刷に用いることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
本発明は、エレクトロニクス，フォトニクス，バイオエレクトロニクス等に関連するパターン作成を凸版印刷法で実施する場合に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（a）、（ｂ）は印刷用版を示す図である。（a）レリーフ断面を示す。（ｂ）レリーフ先端を示す。
【図２】凸版印刷に使用する凸版印刷版と転写時の課題を示す図である。（a）凸版印刷版を示す。（ｂ）インクを基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）基板へ転写されたインクを示す。
【図３】マージナルによりパターが繋がった状態を示す図である。（ａ）マージナルが大きいためパターンが繋がった状態を示す図である。（ｂ）マージナルが改善されパターンが分離された状態を示す図である。
【図４】頂部部表面の表面自由エネルギーを低くしインクをはじくようにした時のパターン形成過程を示す図である。（ａ）インクを版に供給した状態を示す。（ｂ）版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）インクが基板へ転写した状態を示す。（ｄ）インクが基板上でレベリングした状態を示す。
【図５】溝内部の表面自由エネルギーを低くしインクが溝へ入らないようにした時のパターン形成過程を示す図である。（ａ）インクを版に供給した状態を示す。（ｂ）版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）インクが基板へ転写した状態を示す。（ｄ）インクが基板上でレベリングした状態を示す。
【図６】レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを説明する図である。（ａ）窪みが円形で配列方向とレリーフ端部の方向が一致している場合を示す。（ｂ）窪みが四角形で配列方向とレリーフ端部の方向が一致している場合を示す。（ｃ）パターンの一部が配列方向に対し斜めの直線で構成され窪みをを横切る場合を示す。（ｄ）パターンの一部が曲線で構成され窪みを横切る場合を示す。（ｅ）曲線状パターンに窪みが配列した場合を示す。（ｆ）配列方向とレリーフ端部の方法が一致し、パターンの端部が窪みを横切る場合を示す。
【図７】千鳥配列を示す図である。（ａ）窪み形状が円形の場合の千鳥配列を示す。（ｂ）窪み形状が四角形の場合の千鳥配列を示す。
【図８】レリーフ周辺のインク密度を下げるため窪みの大きさもしくは窪みの深さで調整した例を示す図である。（ａ）周辺部の窪みの大きさを小さくした場合を示す。（ｂ）周辺部の窪みの深さを浅くした場合を示す。
【図９】印刷機を示す図である。
【図１０】印刷工程を示す図である。図はいずれも断面を示す。（ａ）印刷機のアニロックスプレート上にインクが展開された状態を示す。（ｂ）インクが展開されたアニロックスプレート上に版が押し付けられた状態を示す。（ｃ）はレリーフ先端にパターン形成用インクが供給された状態を示す。（ｄ）は版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｅ）は版を基板から離すことにより転写を終えた状態を示す。（f）はインクがレベリングした状態を示す。
【図１１】レリーフ断面形状を示す図である。（ａ）単層版を示す。（ｂ）多層版 硬度差を設けた２層構造を示す。（ｃ）多層版 ショルダー差を設けた２層構造を示す。（ｄ）ショルダー角を示す。
【符号の説明】
【００３３】
１ 版ベース部
２ レリーフ
３ レリーフ先端の頂部
４ 窪み
５ 基板
６ インク
７ マージナル（頂面よりはみ出したインキ）
８ マージナルが無い場合のパターン
９ マージナルにより広がったパターン
１０ 印刷されたパターン
１１ アニロックスプレート
１２ ドクターブレード
１３ ドクターブレード移動方向
１４ 版
１５ 版胴
１６ 版胴移動方向
１７ ショルダー角
１８ 印刷機の印刷基板を載せるベース
１９ 窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキソ印刷などの凸版印刷に使用する凸版印刷版に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示パネル、回路のパターン形成などで微細なサイズのものは一般的にフォトリソ法が用いられてきた。印刷法はフォトリソ法と比較し、処理速度が速い、プロセスに関わる廃棄物が少ない、材料の利用効率が高いなどコスト低減が期待されているが要求に答えきれていなかった。
図２は、凸版印刷に使用する凸版印刷版と課題を示す図である。従来より、レリーフ２の先端にインク６を付着し印刷基板に加圧転写する凸版印刷法が広く普及している。このような凸版の代表例として、版に樹脂材料を使用したフレキソ印刷法を挙げることができる。版が樹脂であるため、加工が比較的容易であること、版材に柔軟性があるため基板へのダメージ、重ね刷り時に於いて先に形成されたパターンへ与えるダメージが低減されること、凸版であるため非画像部にインクが付着しないことなどの特長がある。電子デバイスへの応用を想定した場合は、これらの特長は有利に働く。
【０００３】
しかしながら、微細パターンを印刷形成するための手段としては凸版及び凸版印刷法は殆ど使用されていなかった。その主な理由は、マージナル７の発生というこの方法特有の問題があり、微細パターンを正確に形成することが難しかったからである。
凸版印刷方式においてはインクの転写（図２（ｂ））を行う工程で印圧を加えなければならないが、印刷版のレリーフ２と基板５に挟まれたインクが、レリーフ先端からその周囲にはみ出し、所定の寸法を維持することが困難になる。このように印刷されたパターンの方が印刷版のパターンより大きくなった部分をマージナル７という。更にパターンが微細になりパターン間の距離が小さくなると、マージナルにより隣のパターンと繋ってしまうという問題が発生する。（図３（ａ）） 特に配線や電極など導電性パターンを形成する場合、パターンが繋がることはショートを発生させることになり、正常に機能させることができなくなるという問題があった。
【特許文献１】特許第３４７５４９８号公報
【特許文献２】特開２００２−１１７７５５号公報
【特許文献３】特開２００２−１７８６５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
今までにマージナルを減らすために以下のような方法が提案されてきた。しかしながら、マージナル防止のため版の凸部でインクを固めた後、固化したインク成分を粘着物質を介して基板に転写する方法（特許文献１参照）では、電子デバイスなどにおいて先に形成されたパターンと後から形成されたパターン相互間で、電気的接続を必要とする場合、相互の導通性低下が、また、絶縁層との積層では界面でのトラップ発生によるデバイス特性への影響が、更には強度的に脆弱な薄膜の転写に於いては転写時のストレスにより膜中へクラックが入る問題が考えられる。
版の凸部の周囲に障壁を設ける方法も提案されている（特許文献２参照）が、インクの粘度が低い場合はワークへの押し付けが不均等になり、既にパターンがある場合、段差により障壁で押さえきれずに流れ出す問題が懸念される。
【０００５】
版の凸部に窪みを設け（特許文献３参照）ここに余剰インクを収容する方法も提案されている。しかしながら、繰り返し印刷を行う場合は、余剰インクを収容するためには窪みにインクが無いという条件を満たす必要があるが、インクの残留に不安があり、繰り返し印刷の際、効果の持続性低下が懸念される。
そこで、本発明は、前述のような従来技術が有する問題点を解決し、表示パネルにおける配線、電極、絶縁材料、機能材料や電子回路の配線形成に最適な印刷版を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため、本発明は次のような構成からなる。すなわち、本発明に係る請求項１の版は、版のレリーフ上に供給されたインキを被印刷体へ転写する凸版に於いて、レリーフ上に複数個の窪みを有し、この窪みが独立していることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項２の版は、請求項１に記載の印刷用凸版に於いて、前記窪みがレリーフ上の先端のほぼ全域に渡って形成されていることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に係る請求項３の版は、請求項１又は２のいずれかに記載の版に於いて、微細なセルはレリーフ先端の外周部分を除く部分に形成され、レリーフ先端のエッジ部分には形成されていないことを特徴とする印刷用凸版である。
【０００７】
本発明に係る請求項４の版は、請求項３に記載の版に於いて、レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項５の版は、請求項１から４のいずれかひとつに記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面と窪み内面の表面自由エネルギー差が５×１０−２ｍＪ／ｍ２以上であることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項６の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクをはじき前記レリーフ窪み内部がインクにより濡れる組み合せであることを特徴とする印刷用凸版である。
【０００８】
本発明に関わる請求項７の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクにより濡れ前記レリーフ窪み内部がインクをはじく組み合わせであることを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項８の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする印刷用凸版である。
本発明に関わる請求項９の版は、請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも大きいことを特徴とする印刷用凸版である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の印刷版を用いてパターン形成を行えば、凸版のレリーフ先端に設けられた窪みと窪みの間の壁や窪み自身が印刷時のインクの流れ出しを阻止するように働くためマージナルが抑制され、パターン形成においてパターン同士が繋がることを防ぐことができ、印刷法による電子デバイス（配線、電極、絶縁材料、機能材料による機能素子や回路形成）への応用が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の「微細パターン形成用凸版印刷版」について説明する。
本発明における樹脂版は、レリーフ上に窪みを複数個形成する。図１は凸版のレリーフ上に、窪みが複数形成され碁盤の目状に配置された状態を示した図である。図１（ａ）はレリーフの断面を示すものであり、４が窪みである図１（ｂ）はレリーフのインクが付着する面を示したものであり、４が窪みである。
図６はレリーフ上に窪みが複数個形成され、その形成された領域がレリーフ先端部分の全域にわたり、窪みがレリーフのエッジに掛かって形成されていないことを示す図である。図６（ａ）は窪みが円形でレリーフ端部の形状が直線であり、これと窪みの配列方向が同じ場合の図である。図（ｂ）は窪みの形状が四角の場合を示す図である。図６（ｃ）は窪みの配列方向に対し、レリーフ端部の形状が斜め直線を一部含むことを示す図である。この場合、斜め直線部分と重なった窪みは、窪みの側壁が切り落とされた形となりインクを溜める効果が薄れること、かつ斜め直線も途切れるため、窪みの斜め直線と重なる部分は斜め直線と一致した側壁で閉じられている。この斜め直線と一致した部分が、レリーフ端部形状に沿った線部である。図６（ｄ）はレリーフ端部の形状が曲線を一部含む状態を示す図である。この曲線部に重なった窪みは、図６（ｃ）の場合と同様に、窪みの曲線と重なる部分が曲線と一致した側壁で閉じられており、この部分がレリーフ端部形状に沿った線部である。図６（ｂ）は窪みが角柱状の場合を示す図である。図６（ｅ）は曲線状のレリーフに窪みが形成された状態を示す図である。レリーフの曲線に沿って窪みが配列されている状態を示す。図７は窪みが千鳥配列となっており、配列を工夫することで、インクの流れ出しをより効果的に抑制することを狙いとした配置を示す。
【００１１】
図８は、よりマージナルをより減らすため、窪みの大きさに工夫を加えた例を示す図である。図８（ａ）は、レリーフの端部に近い部分ほどインク量を減らすため、窪みの大きさを小さくし、レリーフの外へ流れ出すインクの量を減らすことを目的にした例である。図８（ｂ）は図（ａ）と同様な目的で、レリーフの端部に近い部分ほどインク量を減らすため、窪みの深さを浅くし、レリーフの外側へ流れ出すインクの量を減らすことを目的にした例である。前記いずれの場合に於いても、レリーフ端部の窪みの形状はそのレリーフ端部形状を途切れさせない様配列するか、配列の都合上レリーフ端部に窪みが重なる場合は、窪みの端部と重なる部分が端部形状に一致する側壁で閉じられている必要がある。
次に版の製作方法について述べる。パターンの形成方法は、（１）光により形成する方法、（２）型から複製する方法、（３）彫刻により形成する方法、がある。
【００１２】
（１）光により形成する方法では感光性樹脂が使用可能であり、方法として次の方法が挙げられる。通常の感光性樹脂を用いた方法で、レリーフの形状に合わせ、微細窪みに相当する部分において光を透過しそれ以外の部分では透過しないネガフィルムを準備する。露光前が液状の感光性樹脂を用いる場合、このネガフィルムをガラス板の表面に積層後、その上に液状の感光性樹脂を塗布し、その表面に透明なベースフィルムを積層し、更にその表面にガラス板を積層する。なお感光性樹脂層の厚みは所定の寸法になるよう設定する。
次いでランプを用い、上側のガラス板とベースフィルムを介して紫外線を照射すると共に、下側のガラス板とネガフィルムを介して紫外線を照射する。画像露光用の照射光源は公知のものを使用可能である。上記液状感光性樹脂からなる層の上面全体から入った光と、ネガフィルムの光を透過する部分を透過した光が所定量届いた部分が硬化される。硬化後上下のガラス板、ネガフィルムを取り除き、未硬化部分を洗浄除去し、レリーフ形成側に紫外線を照射し硬化を促進し、印刷用版とする。
別の方法としてレリーフ形成のため、感光性樹脂を硬化可能な波長のレーザー光源を用い、硬化に必要な光量を走査露光しても良い。常温で液状タイプでなく常温で固溶体状の感光性樹脂を用いる場合、加熱して所定の厚みに成形したのち、同様に画像露光以降の操作を行えばよい。さらに、上記はネガタイプの感光性樹脂を使用した際の製作方法であるが、ポジタイプの感光性樹脂をポジフィルムと共に用いることも可能である。
【００１３】
（２）型から複製を作成する方法としては次の方法を挙げることができる。パターンに対応した型を作成し、樹脂にふさわしい方法で型取りする。方法としては、１）光硬化法、２）熱硬化法、を採用することができる。または加熱した型を樹脂に押し付け、パターンに相当する形状を付与する、３）熱転写法（冷却凝固法ともいう）、でも良い。１）には感光性樹脂、２）には室温で液体もしくは固溶体状の熱硬化性樹脂、３）には熱可塑性樹脂
が使用可能である。型は、採用する加工方法、解像度により公知のものから選択すればよい。金属金型、Ｓｉ型、石英型、ＳｉＣ型、Ｎｉ電鋳型、樹脂型などが使用可能である。
【００１４】
（３）彫刻により形成する方法次の方法を挙げることができる。架橋されたゴム系材料や、硬化された熱硬化性樹脂、同じく硬化された光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などに対応可能である。固体の版材料を彫刻する方法としては、レーザーによる彫刻方式を挙げることができる。現実的には必要とする形状の寸法に応じレーザーを使い分ければよい。炭酸ガスレーザー、ＶＡＧ３倍波もしくは４倍波レーザー、さらにはエキシマレーザーなどを解像度や彫刻性により選定して彫刻することができる。
この方法を用いれば、レリーフ頂部表面と溝部の表面自由エネルギーが異なる組み合わせの版も作ることができる。レリーフ先端とその下とで異なる材料を積層する、もしくは異なる材料の塗布やプラズマ処理などで表層と下の層で表面自由エネルギーの異なる組み合わせを作り、レーザーで下の層まで達するよう彫刻する方法を採ることもできる。
【００１５】
本発明の材料には、上記のように室温で固体、高温で流動性を有する熱可塑性樹脂、室温で粘凋、もしくは固溶体状の感光性樹脂、熱硬化性樹脂を可塑性などを用いて版に成型することができる。樹脂の種類について特に制約は無い。版として使用する形態における力学的物性、例えば硬度、ヤング率、反発弾性、引張強伸度や表面張力、耐溶剤性などが所望する印刷に適するように選択、設計すればよい。
ネガタイプの感光性樹脂としては、ラジカル重合系、光カチオン重合系、光アニオン重合系、光二量化反応系などが適用可能である。以下、汎用的なラジカル重合系で説明する。
【００１６】
ラジカル重合性樹脂組成物の多くが本発明に適用し得るが、その中で代表的なものとしてプレポリマー、モノマー、開始剤、重合禁止剤を配合した組成物が使用可能である。
プレポリマーとしては重合性二重結合を分子中少なくとも1個以上有するプレポリマーと光重合開始剤、重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体を含むラジカル重合性樹脂組成物で、例えばプレポリマーとして、不飽和ポリエステル、不飽和ポリウレタン、不飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリレート樹脂、不飽和メタクリレート樹脂およびこれらの各種変性物などを少なくとも１種類用いたものを挙げることができる。
例えばこのうちの感光性樹脂組成物としては特開昭５２−９０８０４号、特公昭４８−１９１２５号、特開昭４９−１０９１０４号、特公昭４８−４１７０８号、等モノマーとしては重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体としては、スチレン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリルシアヌレート、Ｎ，Ｎ‘−メチレンビスアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメタクリルアミド、α−アセトアミド、アクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、α−クロロアクリル酸、パラカルボキシスチレン、２，５−ジヒドロキシスチレン、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート等やフォトポリマー懇話会著、「フォトポリマーハンドブック」、（株）工業調査会刊、１９８９年６月２６日、p．３１-３６記載の材料を用いることができる。
【００１７】
開始剤としてはこれらをエチレン付加重合性不飽和基を用いて三次元架橋反応を行うときは、公知の光重合開始剤を用いることが反応効率上好ましい。
光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、キサントン、チオキサントン、クロロキサントン、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル、２,２−ジメチル−２−ヒドロキシアセトフェノン、（２−アクリロイルオキシエチル）（４−ベンゾイルベンジル）ジメチル臭化アンモニウム、（４−ベンゾイルベンジル）塩化トリメチルアンモニウム、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３−，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オン−メソクロライド，１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏベンゾイル）オキシム、チオフェノール、２−ベンゾチアゾールチオール、２−ベンゾオキサゾールチオール、２−ベンズイミダゾールチオール、ジフェニルスルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジ−ｎ−ブチルジスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジベンゾイルジスルフィド、ジアセチルジスルフィド、ジボルニルジスルフィドジメトキシキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムテトラスルフィド、ベンジルジメチルジチオカーバメイトキノキサリン、１，３−ジオキソラン、Ｎ−ラウリルピリジニウム等が例示できる。
【００１８】
熱重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、２、２−アゾビスイソブチロニトリル、過硫酸塩−亜硫酸水素ナトリウム等の過酸化物、アゾ化合物、レドックス開始剤といった公知のものが使用できる。
具体的には、東レリサーチセンター調査研究事業部編、「フォトポリマー技術の新展開」東レリサーチセンター刊、１９９３年３月１０日、p．頁３５、山岡亜夫監修、「フォトポリマーの基礎と応用」シーエムシー出版、２００３年３月２７日、第４章製版材料とフォトレジスト、や松井真二他監修、「ナノインプリントの開発と応用」、シーエムシー出版刊、２００５年８月３１日、p．５０、p．１５１、記載の材料を用いることができる。同じくp．１５８、p．１５９、記載のフッ素変性したフルオロアルキル基を有するアクリレート、メタクリレートや含フッ素のエポキシ系の感光性樹脂を用いることもできる。
また少なくとも未加硫ゴムと重合性二重結合を有する単量体、重合開始剤からなる光重合性ゴム組成物、いわゆる感光性エラストマーといわれているもの（例えば特開昭５１−１０６５０１号、特開昭４７−３７５２１号）や、発インク性とのバランスが必要だが、ジアルキルシリコン系樹脂の使用も可能である。
【００１９】
熱可塑性樹脂としてはポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルペンテン（ＴＰＸ）、変性ポリフェ二レンエーテル（ＰＰＥ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳｔ）、塩化ビニル（ＰＶＣ）、塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、アクリロニトリル／スチレン（ＡＳ）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン（ＡＢＳ）、フッ素系樹脂ではフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン／ノルボルネン共重合体等のフッ素化ポリオレフィン、含フッ素アクリル樹脂、含フッ素アクリル樹脂、含フッ素ポリイミド樹脂、含フッ素ビニルエーテル樹脂や、これ以外にも熱により加工できるものであれば三羽忠広著、「基礎合成樹脂の科学」、技報堂出版（株）、１９８７年６月１５日、p．１１３−３９７、各論 １．重合型樹脂 ２．縮合型樹脂 記載の熱可塑性樹脂を使用しても良い。
【００２０】
熱硬化性樹脂としては不飽和ポリエステル、不飽和ポリウレタン、不飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリレート、不飽和メタクリレート、樹脂及びこれらの各種変性を少なくとも１種と、重合性二重結合を有するエチレン性不飽和単量体に熱重合開始剤を含むラジカル重合性樹脂組成物や、エポキシに硬化剤を添加した樹脂組成物、シリコン系のポリジメチルシロキサン系樹脂を使用しても良い。
フッ素系樹脂では架橋材や、熱によりラジカルの発生する重合開始剤を含むフッ素モノマーや含フッ素オリゴマーを用いた熱硬化性樹脂を使用しても良い。これ以外にも三羽忠広著、「基礎合成樹脂の科学」、技報堂出版（株）、１９８７年６月１５日、p．２４０−３９７各論 ２．縮合型樹脂 記載の熱硬化性樹脂を使用しても良い。
【００２１】
ゴム系材料としては、天然ゴム、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ブチル、エチレンプロピレン、スチレンブタジエン、ポリイソブチレン、スチレンブタジエン、ニトリル、アクリル、エピクロルヒドリン、クロロプレン、ウレタン、二トリル、シリコン、フッ素系ゴムを使用しても良い。以上に記した方法や材料を用いることにより、本発明に係る印刷用凸版を製版することができる。上記に挙げた方法により、本発明に係る印刷用凸版を製版することができる。
次に印刷機について説明する。印刷機は市販されている図１２に示す方式のものを用いることができる。これは一例であり、この方式に限定されるもではない。次に印刷機について説明する。印刷機は市販されている図９に示す方式のものを用いることができる。これは一例であり、この方式に限定されるもではない。印刷は以下のようにして行う。
【００２２】
図９に示した方式の印刷機を使用し、凹凸を設けたアニロックスプレート１１上にインクを置き、ドクターブレード１２を１３の方向に引くことによりインクが計量され、アニロックスプレート１１に版１４を接触させた後分離すると、レリーフ上に形成された窪み４とレリーフ先端の頂部３にインクが付着する。この状態で基板５に押し付けインクを転写する。その後、インクのレベリングが進み均一化する。図１０は版の部分を拡大して示したものであり、（ａ）の印刷機のアニロックスプレート上に展開されたインクが、（ｂ）、（ｃ）に示すように版のレリーフに供給され、（ｃ）から（ｆ）に示すように基板に転写されパターンが形成されるまでを示した図である。図１０（ａ）は印刷機のアニロックスプレート上にインクが展開された状態と、インクが供給される前の版１３を示す。
【００２３】
次にインクをレリーフへ転写するため図１０（ｂ）に示すようにインクの展開されたアニロックスプレートに版のレリーフ先端を押し付ける。この時、インクはレリーフ先端に形成された窪みと頂部に移行する。図１０（ｃ）はインクが版のレリーフ先端部へ供給された状態と印刷される基板を示す。その後インクを基板へ転写させるため、図１０（ｄ）に示すようにレリーフ先端部を基板へ押し付ける。図１０（ｅ）は版のレリーフが基板から離れインクが基板へ転写された状態を示す。さらに図１０（ｆ）は基板上でインクのレベリングが進みパターンが形成された状態を示す。以上の方法にて印刷によりパターンが形成される。
本実施形態によれば、レリーフ上へ窪みを設けることにより、押し付けた時に発生するレリーフ外側へのインクの流れが阻止されるため、マージナルの発生を低減させることができる。レリーフ端部においてはその形状に沿った線部を有する窪みが配置されるため、パターンの再現性も向上する。
【００２４】
次に窪みの形状などについて述べる。窪みの平面形状は円形もしくは直線で構成される三角形、四角形、六角形、それ以上の多角形や直線、曲線で構成された形状を用いることができるが、インクを溜める溝の容積や、インク転写用のアニロックスプレート等との組合わせによるモワレや斑、インクのアニロックスプレートからの転写性、印刷後のレベリングの状況、インクの基板への転写効率を勘案して決めればよい。これらの構成や窪みの配置間隔、深さを変えることでインクの量を調整することもできる。もちろん一つのパターン内でこれらの構成を変えてもよい。
配列に関しては碁盤の目、図６（ａ）、（ｂ）のほか千鳥配列、図７（ａ）、（ｂ）を採ることも可能である。例えば千鳥配列図７（ａ）、（ｂ）では窪み間距離がより均等化することでレベリング性向上が、隣り合う窪みが碁盤の目配列と比較しずれるため、その方向へのインクの流れの抑制に効果があると考えられる。
【００２５】
窪みの大きさは形成するパターンサイズにもよるが、一例を挙げると、線状のレリーフの幅方向に並ぶ個数はエッジやパターン内部の均一性を考慮すると少なくとも２個以上、好ましくは３個以上が良い。例えば６０μｍ幅のラインであれば、３個並べる場合ピッチを２０μｍとし、窪みの大きさと窪みの間隔を等しくすれば、窪みの大きさは１０μｍ、となる。同様に３０μｍ幅のラインの場合で窪みを３個並べる場合はピッチは１０μｍで窪みは５μｍとなる。なお窪みのレリーフの長手方向の大きさは幅方向と同等を基本とするが、必ずしも同等にする必要は無い。窪みの大きさや窪みの間隔は、要求されるパターンの幅や厚み、インク粘度、インクのレベリング性、濃度や版上に乗せるインク量、マージナルの状況などの条件を勘案して調整すればよく、上記範囲に限られるものではない。なお製版方法は必要とされるパターンサイズや窪みの大きさにより選択すればよい。
またレリーフ頂部に形成された窪みの容積は、容積率｛レリーフ上の窪みの容積／（レリーフ上の窪みの深さ×レリーフ面積）｝で表すと０．１から０．９が良い。この値が小さすぎると通常の凸版構造に近く、大きすぎると窪み間の隔壁となる構造が薄くなり脆弱化する。そのためインクが印刷時にレリーフの外側へ流動する動きを抑制する効果が期待できない。
【００２６】
図８はよりマージナルをより抑制するため、レリーフ先端部に乗せるインク量をレリーフの周辺部ほど少なくするための工夫を示した図である。図８（ａ）はレリーフ先端の窪みを周辺部ほど小さくし、ここに溜まるインク量を中央部より減らす工夫を示した図である。窪みの大きさを一定とし、窪みと窪みの間隔を外側ほど大きくする方法でも良い。さらに、図８（ｂ）は窪み間に形成する窪みの深さをレリーフ周辺部ほど浅くし、ここに溜まるインク量を中央部より減らす工夫を示した図である。
マージナルをより抑制するため、版構成として本発明に多層構成を組合わせても良い。 図１１は多層構成を示す図である。（ａ）は単層版を示す。（ｂ）は硬度差を設けた２層構成の多層版を示す。（ｃ）は（ｂ）と同じ構成であるがレリーフ先端（レリーフ先端とレリーフ側面の角度）が鋭角に構成された版を示す。（ｄ）はショルダー角（基部層とレリーフ側面の角度）を示す。即ち、凸版のレリーフの多層化、図１１（ｂ）、或いはレリーフ層と基部層という多層化を併用しても良い。版から転写されたインク皮膜の均一性を高めるにはインクが着肉するレリーフ上部を低硬度（低圧縮モジュラス）とする。但し、低硬度にすると、印刷時のドットゲインが大きくなる傾向があるため、低硬度層の厚みは印刷実験により最適化する必要がある。
逆に、インク着肉性は十分であるがドットゲインが大きい場合、マージナルをより抑制するため、レリーフ上部層の硬度を下部層より高めに設定し、印圧による応力を下部層でより多く吸収することで対応できる場合がある。あまり硬度を低くしすぎると印圧吸収効果が過剰に作用しインクの転移が低下することが見られるため、硬度差の最適化が必要である。
【００２７】
マージナルを抑制する方法としては、レリーフ上部層のショルダーを鋭角的、図１１（ｃ）にする技術が適用出来る。型に未硬化樹脂を流し込んで版を作成するプロセスにおいては、元の型のレリーフ形状を多段に加工すればよい。支持体の下に柔軟な層を設ける手段もあるが、印圧吸収効果は前記方法に比べ低い傾向にある。レリーフの断面形状は傾倒を防ぐためには基部に近いレリーフ形状は富士山のように拡がった、即ちショルダー角、図１４（ｄ）の小さい単層版か下層部ショルダー角の小さい多層レリーフ構成が好ましいと考えられる。
更に窪みの効果に加え、レリーフ頂部表面と溝内部の表面自由エネルギーを違えることによる、マージナル低減効果について説明する。窪み表面自由エネルギーよりレリーフ頂部表面のそれを下げ、頂部表面へインクを濡れ難くした場合（図４）、インクは窪みへ溜まり（図４（ａ））、頂部表面には殆ど無い状態となる。この状態で基板へ押し付けると窪み内部のインクが基板へ押し付けられるが（図４（ｂ））、頂部表面にインクが殆ど無いため過大な印圧で押し付けない限りレリーフ外へ流れ出すインクを押さえることができる。版が基板から離れた後図４（ｃ）、図７（ｄ）のようにインクがレベリングする。
【００２８】
次にレリーフ頂部表面の表面自由エネルギーより窪みのそれを下げ、溝部へインクを濡れ難くした場合について説明する。（図５）インクは頂部表面に付着し窪み内部へは殆ど付着しない。（図５（ａ））この状態で基板へ押し付けて印刷すると、押し圧によりインクが広がり、過剰なインクは窪みへ入り込み（図５（ｂ））、レリーフの外側へ流れ出しが抑制される。窪み内部がインクをはじくように構成されていれば、版が離れるときにインクは基板側へ移り溝内部へは殆ど残らない。そのため繰り返し印刷を行うことができる。版が基板から離れた後図４（ｃ）、図４（ｄ）のようにインクがレベリングする。
更に本発明では印刷方式として、樹脂版によるフレキソ方式を例に挙げて説明したが、典型的なフレキソ印刷のみならず他の凸版印刷方式、例えば凸版オフセット印刷方式の凸版についても同様に実施可能である。
【００２９】
以上に記した方法でマージナルが抑制されることにより、より近接したパターンを独立して形成できるようになる。図３は従来技術と本実施形態のパターン再現性を比較する拡大図である。従来はマージナルによりパターン同士を近づけると、パターンとパターンが繋がってしまう場合があったが（図３（ａ））、本実施形態ではマージナルの低減により繋がりを抑制し（図３（ｂ））、実施しない場合と比較しパターン間隔をより狭めることができる。以上の結果から明らかなように、本発明によれば、周囲へのインクのはみ出しが抑制され、マージナルが押さえられる。従って、パターンとパターンの間隔をより狭くすることが可能となる。
次に、上述した印刷版によりデバイスを形成する方法について、ＴＦＴを例として説明する。まず基板の上にゲート電極及び配線に相当する導電性のパターンを作成する。インクとしては金属微粒子を分散したものや導電性のポリマー等を用いることができる。次に形成したパターン上の所定の位置に合わせ、ＴＦＴのゲート絶縁膜に相当するパターンを印刷する。印刷版は絶縁膜のパターンに相当するものに交換しておく。以後パターンを変更するたびに版は変更する。
【００３０】
インクとしては高分子の樹脂材料を溶剤に溶解したものや無機系の塗布材料、例えばポリシラザン系の材料等が使用可能である。次に所定の位置にソース電極、ドレイン電極、とこれらに接続される配線を形成する。次にソース、ドレイン電極を跨るように半導体のパターンを形成する。インクとしては溶剤に可溶なポリチオフェン系誘導体やポリアセン系などの有機半導体が使用可能である。次いで素子を保護するため、これらのパターンを覆うように保護膜パターンを形成する。材料としては高分子の樹脂材料などを溶剤に溶解したものが使用可能である。
尚、本発明の凸版は、上記ＴＦＴに用いる場合を含め、配線、電極、絶縁膜、シール材や、ＥＬ発光材料、半導体材料、カラーフィルターなどの機能性材料などの印刷に用いることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
本発明は、エレクトロニクス，フォトニクス，バイオエレクトロニクス等に関連するパターン作成を凸版印刷法で実施する場合に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（a）、（ｂ）は印刷用版を示す図である。（a）レリーフ断面を示す。（ｂ）レリーフ先端を示す。
【図２】凸版印刷に使用する凸版印刷版と転写時の課題を示す図である。（a）凸版印刷版を示す。（ｂ）インクを基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）基板へ転写されたインクを示す。
【図３】マージナルによりパターが繋がった状態を示す図である。（ａ）マージナルが大きいためパターンが繋がった状態を示す図である。（ｂ）マージナルが改善されパターンが分離された状態を示す図である。
【図４】頂部部表面の表面自由エネルギーを低くしインクをはじくようにした時のパターン形成過程を示す図である。（ａ）インクを版に供給した状態を示す。（ｂ）版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）インクが基板へ転写した状態を示す。（ｄ）インクが基板上でレベリングした状態を示す。
【図５】溝内部の表面自由エネルギーを低くしインクが溝へ入らないようにした時のパターン形成過程を示す図である。（ａ）インクを版に供給した状態を示す。（ｂ）版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｃ）インクが基板へ転写した状態を示す。（ｄ）インクが基板上でレベリングした状態を示す。
【図６】レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを説明する図である。（ａ）窪みが円形で配列方向とレリーフ端部の方向が一致している場合を示す。（ｂ）窪みが四角形で配列方向とレリーフ端部の方向が一致している場合を示す。（ｃ）パターンの一部が配列方向に対し斜めの直線で構成され窪みをを横切る場合を示す。（ｄ）パターンの一部が曲線で構成され窪みを横切る場合を示す。（ｅ）曲線状パターンに窪みが配列した場合を示す。（ｆ）配列方向とレリーフ端部の方法が一致し、パターンの端部が窪みを横切る場合を示す。
【図７】千鳥配列を示す図である。（ａ）窪み形状が円形の場合の千鳥配列を示す。（ｂ）窪み形状が四角形の場合の千鳥配列を示す。
【図８】レリーフ周辺のインク密度を下げるため窪みの大きさもしくは窪みの深さで調整した例を示す図である。（ａ）周辺部の窪みの大きさを小さくした場合を示す。（ｂ）周辺部の窪みの深さを浅くした場合を示す。
【図９】印刷機を示す図である。
【図１０】印刷工程を示す図である。図はいずれも断面を示す。（ａ）印刷機のアニロックスプレート上にインクが展開された状態を示す。（ｂ）インクが展開されたアニロックスプレート上に版が押し付けられた状態を示す。（ｃ）はレリーフ先端にパターン形成用インクが供給された状態を示す。（ｄ）は版を基板へ押し付けた状態を示す。（ｅ）は版を基板から離すことにより転写を終えた状態を示す。（f）はインクがレベリングした状態を示す。
【図１１】レリーフ断面形状を示す図である。（ａ）単層版を示す。（ｂ）多層版 硬度差を設けた２層構造を示す。（ｃ）多層版 ショルダー差を設けた２層構造を示す。（ｄ）ショルダー角を示す。
【符号の説明】
【００３３】
１ 版ベース部
２ レリーフ
３ レリーフ先端の頂部
４ 窪み
５ 基板
６ インク
７ マージナル（頂面よりはみ出したインキ）
８ マージナルが無い場合のパターン
９ マージナルにより広がったパターン
１０ 印刷されたパターン
１１ アニロックスプレート
１２ ドクターブレード
１３ ドクターブレード移動方向
１４ 版
１５ 版胴
１６ 版胴移動方向
１７ ショルダー角
１８ 印刷機の印刷基板を載せるベース
１９ 窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
版のレリーフ上に供給されたインキを被印刷体へ転写する凸版に於いて、レリーフ上の先端に複数個の窪みを有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷用凸版に於いて、前記窪みがレリーフ上の先端の全域に渡って形成されていることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載の版に於いて、窪みがレリーフ上のエッジ部分にかかって形成されていないことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項４】
請求項３に記載の版に於いて、レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかひとつに記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面と窪み内面の表面自由エネルギー差が５×１０-2ｍＪ／ｍ2以上であることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項６】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクをはじき前記レリーフ窪み内部がインクにより濡れる組み合せであることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項７】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクにより濡れ前記レリーフ窪み内部がインクをはじく組み合わせであることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項８】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項９】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも大きいことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項１】
版のレリーフ上に供給されたインキを被印刷体へ転写する凸版に於いて、レリーフ上の先端に複数個の窪みを有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷用凸版に於いて、前記窪みがレリーフ上の先端の全域に渡って形成されていることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれかに記載の版に於いて、窪みがレリーフ上のエッジ部分にかかって形成されていないことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項４】
請求項３に記載の版に於いて、レリーフ端部と窪みが重なる場合、窪みのレリーフ端部側においてレリーフ端部形状に沿った線部を有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかひとつに記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面と窪み内面の表面自由エネルギー差が５×１０-2ｍＪ／ｍ2以上であることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項６】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクをはじき前記レリーフ窪み内部がインクにより濡れる組み合せであることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項７】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面がインクにより濡れ前記レリーフ窪み内部がインクをはじく組み合わせであることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項８】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項９】
請求項５に記載の印刷用凸版に於いて、前記レリーフ頂部表面の表面自由エネルギーが前記レリーフ窪み内部の表面自由エネルギーよりも大きいことを特徴とする印刷用凸版。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００８−９２８（Ｐ２００８−９２８Ａ）
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７０５６２（Ｐ２００６−１７０５６２）
【出願日】平成１８年６月２０日（２００６．６．２０）
【出願人】（０００００００３３）旭化成株式会社 (901)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２０日（２００６．６．２０）
【出願人】（０００００００３３）旭化成株式会社 (901)
【Ｆターム（参考）】
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