パターン形成装置及びパターン形成方法
【課題】基板にパターンを安価に形成できるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】パターン形成装置１は、周方向に沿う露光面２１を有する感光ドラム２と、感光ドラム２の中心軸を中心として当該感光ドラム２を回転させる回転手段３と、露光面２１にトナーが誘着される誘着領域、及び、当該トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段８と、誘着領域にトナーＴを誘着させる誘着手段９と、露光面２１における所定の部位での感光ドラム２の接線に沿って基板ＰＬを移動させる移動手段４と、露光面２１に誘着されたトナーＴを基板ＰＬに付着させて、当該基板ＰＬにパターンを形成するパターン形成手段１０と、を備える。
【解決手段】パターン形成装置１は、周方向に沿う露光面２１を有する感光ドラム２と、感光ドラム２の中心軸を中心として当該感光ドラム２を回転させる回転手段３と、露光面２１にトナーが誘着される誘着領域、及び、当該トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段８と、誘着領域にトナーＴを誘着させる誘着手段９と、露光面２１における所定の部位での感光ドラム２の接線に沿って基板ＰＬを移動させる移動手段４と、露光面２１に誘着されたトナーＴを基板ＰＬに付着させて、当該基板ＰＬにパターンを形成するパターン形成手段１０と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成装置及びパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、左目用画像及び右目用画像を形成して、視差により立体視可能な画像を表示する画像表示装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の画像表示装置は、それぞれ異なる画像を表示する第１画素及び第２画素が交互に複数配列された表示パネルと、視差バリアとを有する。
【０００３】
これらのうち、視差バリアは、表示パネルから出射された光を遮断する遮光部（マスク部）と、当該光を透過させる複数の透過部（開口部）とを有する。そして、当該視差バリアは、第１画素により形成される第１画像を第１視方向に向けると共に、第２画素により形成される第２画像を第２視方向に向けることで、当該第１画像及び第２画像を分離し、それぞれ異なる方向に表示する障壁として機能する。具体的に、視差バリアは、第１画像としての右目用画像を観察者の右目に入射させ、第２画像としての左目用画像を観察者の左目に入射させて、観察者がこれら右目用画像及び左目用画像を右目及び左目によりそれぞれ個別に視認することで、視差により立体画像が観察されることとなる。
【０００４】
ところで、このような視差バリアは、微細な画素に対して精度よく透過部を形成する必要があるため、縮小投影型露光装置により製造される場合がある。この縮小投影型露光装置は、バリアパターンが形成されたレチクル（フォトマスク）を介した光を投影レンズにより縮小し、縮小された光をフォトレジストが塗布された大きな基板の複数箇所に照射して露光する。そして、露光されたフォトレジストを溶かすことで、基板における複数箇所にパターンが形成され、これらバリアパターンの形成箇所を切り出すことで、視差バリアが製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３０９６６１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述の縮小投影型露光装置を用いる場合には、形成されるパターンに応じたレチクルを用意する必要がある他、大きな基板からパターンが形成された領域を切り出す工程が必要になるなど、製造工程も複雑であり、製造コストが高額となりやすい。更に、縮小投影型露光装置は非常に高価であるため、視差バリアの製造コストを更に押し上げる。このため、例えば、視差バリアのバリアパターンを評価するサンプルを製造する場合でも、縮小投影型露光装置を用いると、当該サンプルの製造工程が複雑である他、高コストとなるという問題がある。
【０００７】
本発明の目的は、基板にパターンを安価に形成できるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するために、本発明のパターン形成装置は、基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、周方向に沿う露光面を有する感光ドラムと、前記感光ドラムの中心軸を中心として当該感光ドラムを回転させる回転手段と、前記露光面にトナーが誘着される誘着領域、及び、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段と、前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手段と、前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手段と、前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、当該基板に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、感光ドラムの露光面に形成された誘着領域にトナーが誘着され、当該露光面における所定位置での感光ドラムの接線に沿って移動される基板に、当該トナーが付着されて、パターンが形成される。このようなパターン形成装置は、レーザープリンターの構成を利用して製造できるので、前述の縮小投影型露光装置のような高額な設備を必要としない。この他、パターン形成に際して、縮小投影型露光装置で使用されるレチクルが必要なく、また、大きな基板からパターンが形成された領域を切り出す工程も省略できる。従って、安価かつ簡易にパターンを基板に形成できる。更に、当該縮小投影型露光装置を用いる場合に比べ、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００１０】
本発明では、前記露光面を帯電させる帯電手段を備え、前記基板は、透光性を有し、前記露光面との間に所定の隙間を介して配置され、前記領域形成手段は、前記帯電手段により帯電された前記露光面に光を照射することで除電した前記非誘着領域と、除電されない前記誘着領域とを前記露光面に形成し、前記パターン形成手段は、前記誘着領域に対して、前記基板における前記露光面に対向する側とは反対側から当該基板を介して光を照射して除電し、当該誘着領域から遊離させたトナーを前記基板に付着させて前記パターンを形成することが好ましい。
【００１１】
本発明によれば、誘着領域に誘着されたトナーは、パターン形成手段により光が照射されることで露光面から遊離し、当該露光面との間に所定の隙間を介して配置された基板に付着する。これによれば、露光面と基板とが接触することがないので、当該露光面と基板とのずれを抑制できる。従って、基板上にパターンを適切に形成できる。
【００１２】
本発明では、前記領域形成手段は、前記誘着領域及び前記非誘着領域により構成され、かつ、前記パターンを鏡像反転させた潜像を前記露光面に描画することが好ましい。
本発明によれば、領域形成手段により、形成されるパターンを鏡像反転させた潜像が露光面に描画されるので、当該潜像における誘着領域にトナーが誘着される。この潜像に対してパターン形成手段が光を照射することで、当該潜像における誘着領域に誘着されたトナーが遊離して基板に付着するので、パターン形成手段は、当該潜像に光を照射すれば、基板にパターンが形成される。従って、パターン形成手段による光照射の構成を簡略化できる。
【００１３】
本発明では、前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高いことが好ましい。
なお、露光面の移動速度は、感光ドラムの単位時間当たりの回転数と、当該感光ドラムの円周（露光面における回転方向の寸法）とにより求められる。
本発明によれば、露光面の移動速度が、基板の移動速度より高いことにより、基板にトナーが付着されて形成されるパターンは、露光面に形成された潜像を当該露光面の移動方向に縮小したパターンとなる。これによれば、基板に精度よくパターンを形成できる他、微細なパターンを基板上に形成することも可能となる。
【００１４】
本発明では、前記領域形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿って前記非誘着領域が形成される列と、前記誘着領域が形成される列とが、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に配列された前記潜像を描画することが好ましい。
ここで、パターン形成手段が光を照射して露光面を除電し、当該露光面から標的のトナーを遊離させるときに、当該標的のトナーに隣接する他のトナーの電荷によって、標的のトナーが露光面から遊離しづらくなる可能性が考えられる。
これに対し、本発明では、非誘着領域によって形成されてトナーが誘着されない列と、誘着領域が形成されてトナーが誘着されうる列とが、感光ドラムの回転方向（すなわち、露光面の移動方向）に交互に配列された潜像が描画される。これによれば、他のトナーの電荷によって標的のトナーが遊離しづらくなることを抑制できる。従って、基板に確実にトナーを付着させることができ、当該基板に対するパターンの形成を適切に行うことができる。
【００１５】
或いは、本発明では、前記領域形成手段は、前記誘着領域と前記非誘着領域とが前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に交互に配列された第１列と、前記誘着領域の位置と前記非誘着領域の位置とが反転された第２列とを、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に形成し、前記パターン形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に沿って光を照射して、前記第１列及び前記第２列に形成された前記誘着領域から、前記パターンに応じた位置の誘着領域を選択して除電することが好ましい。
【００１６】
本発明によれば、トナーが誘着される誘着領域の端縁のうち、露光面の移動方向の端縁と、感光ドラムの中心軸に沿う方向の端縁とは、トナーが誘着されない非誘着領域に接する。これによれば、前述のように、パターン形成手段による光の照射によって遊離させる標的のトナーが他のトナーによって遊離しづらくなることを抑制できる。
そして、パターン形成手段が、第１列及び第２列に含まれる誘着領域のうち、基板上に形成されるパターンに応じた位置の誘着領域に光を照射してトナーを遊離させるので、当該基板上にパターンを適切に形成できる。
【００１７】
本発明では、前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高いことが好ましい。
本発明によれば、回転する感光ドラムの露光面から遊離されて基板上に付着されたトナーのうち、第１列の誘着領域に誘着されていたトナーと、第２列の誘着領域に誘着されていたトナーとのずれを小さくできる。従って、適切なパターンを基板上に形成できる。
【００１８】
また、本発明のパターン形成方法は、基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、周方向に沿う露光面を有する感光ドラムを、当該感光ドラムの中心軸を中心として回転させる回転手順と、前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手順と、前記露光面にトナーが誘着される誘着領域と、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手順と、前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手順と、前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、前記パターンを形成する形成手順と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、前述のパターン形成装置と同様の効果を奏することができ、基板にパターンを安価かつ簡易に形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン形成装置の構成を示す模式図。
【図２】前記実施形態における基板に形成されるパターンの一例を示す図。
【図３】前記実施形態における潜像の一部を拡大して示す図。
【図４】前記実施形態における入力手段及び制御手段を示すブロック図。
【図５】前記実施形態におけるパターン形成方法を示すフローチャート。
【図６】本発明の第２実施形態に係るパターン形成装置が形成する潜像を示す図。
【図７】前記実施形態における基板に形成されるパターンの一例を示す図。
【図８】前記実施形態におけるレーザー光が照射される誘着領域の位置及び照射順を示す模式図。
【図９】本発明の第３実施形態に係るパターン形成装置が形成する潜像を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態について、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態に係るパターン形成装置１の構成を示す模式図である。
本実施形態に係るパターン形成装置１は、ガラス及び樹脂等の透光性を有する基板ＰＬの対象面ＰＬ１（後述する露光面２１に対向する面）に所定のパターンを形成するものであり、本実施形態では、視差により立体視可能な画像を表示する画像表示装置に用いられる視差バリアのバリアパターンを当該対象面ＰＬ１に形成するものである。
このパターン形成装置１は、図１に示すように、感光ドラム２、回転手段３、移動手段４、回収手段５、除電手段６、帯電手段７、領域形成手段８、誘着手段９及びパターン形成手段１０を備える。
【００２１】
〔感光ドラム及び回転手段の構成〕
感光ドラム２は、周方向に沿う露光面２１を有する円筒体である。この露光面２１は、暗所では絶縁体の性質を有し、光が入射された位置が導体となって電荷を放出する。
回転手段３は、感光ドラム２を支持するとともに、感光ドラム２の中心軸を中心として当該感光ドラム２をＡ方向に回転させる。このような回転手段３は、後述する制御手段１２の制御下で駆動し、例えば、モーターにより構成できる。
【００２２】
〔移動手段及び回収手段の構成〕
移動手段４は、露光面２１との間に所定の隙間を介してパターン形成対象の基板ＰＬを支持するとともに、当該基板ＰＬを感光ドラム２の接線方向に沿って移動させるものである。この移動手段４による基板ＰＬの移動方向（Ｂ方向）は、露光面２１上の所定位置（基板ＰＬに最も近接する位置）における当該露光面２１の移動方向とは反対方向である。なお、この露光面２１の移動方向は、当該所定位置における回転接線方向であり、詳しくは、当該所定位置における接線に沿う方向のうち、感光ドラム２の回転方向先端側を向く方向である。
【００２３】
このような移動手段４は、本実施形態では、ローラー４１〜４４を有する。
これらのうち、ローラー４１，４２は、基板ＰＬを挟持するとともに、後述する制御手段１２の制御下で駆動するモーターにより回転して、当該基板ＰＬを移動させる。
また、ローラー４３，４４は、定着ローラーであり、基板ＰＬを挟持するとともに、当該基板ＰＬの移動に伴って回転して、基板ＰＬに付着されたトナーＴを定着させる。
回収手段５は、露光面２１から遊離されなかった余分なトナーＴを当該露光面２１から回収する。
【００２４】
〔除電手段及び帯電手段の構成〕
除電手段６、帯電手段７、領域形成手段８、誘着手段９及びパターン形成手段１０は、回転手段３により回転される感光ドラム２の外周面に沿って配置され、回転手段３による感光ドラム２の回転、及び、移動手段４による基板ＰＬの移動とともに機能する。
これらのうち、除電手段６は、露光面２１に近接して設けられ、回収手段５によりトナーＴが回収された露光面２１を除電する。
帯電手段７は、除電手段６により除電された露光面２１を、後述する誘着手段９によって供給されるトナーＴが誘着されるように帯電させる。
【００２５】
〔領域形成手段の構成〕
領域形成手段８は、帯電手段７により帯電された露光面２１にレーザー光を照射して、当該露光面２１の少なくとも一部を除電し、当該露光面２１に、基板ＰＬに形成されるパターンに基づく潜像を描画する。この領域形成手段８によってレーザー光が照射された露光面２１の領域は除電されるので、当該レーザー光が照射されずに帯電手段７により帯電されたままの帯電領域が、トナーＴが誘着される誘着領域ＡＡ（図３参照）となり、一方、レーザー光が照射されて除電された除電領域が、トナーが誘着されない非誘着領域ＮＡ（図３参照）となる。このような領域形成手段８により描画される潜像は、基板ＰＬに形成されるパターンを鏡像反転させ、更に、露光面２１の移動速度及び基板ＰＬの移動速度の比に基づいて、当該露光面２１の移動方向（Ａ方向）に拡大したものである。
【００２６】
図２は、基板ＰＬに形成されるパターンの一例であるパターンＰＴ１の一部を拡大して示す図である。また、図３は、図２に示したパターンＰＴ１を基板ＰＬに形成する際に領域形成手段８により露光面２１に描画される潜像ＰＴ２の一部を拡大して示す図である。なお、図２における斜線部分（後述する遮光部ＰＴ１１）は、基板ＰＬにおいてトナーＴが定着される部分であり、図３における斜線部分は、領域形成手段８によりレーザー光が照射されて除電される非誘着領域ＮＡである。この図３においては、見易さを考慮して、一部の列Ｃ１，Ｃ２、並びに、一部の誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにのみ符号を付す。
例えば、図２に示すパターンＰＴ１を基板ＰＬに形成する場合には、領域形成手段８は、図３に示すように、当該パターンＰＴ１を鏡像反転させたパターンに応じた潜像ＰＴ２を露光面２１に描画する。この潜像ＰＴ２は、本実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度が、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍に設定されているため、パターンＰＴ１を露光面２１の移動方向（Ａ方向）に２倍拡大し、更に鏡像反転させたものである。
【００２７】
このような領域形成手段８は、潜像ＰＴ２を描画する際に、感光ドラム２の軸方向（露光面２１において当該露光面２１の移動方向に直交する方向であり、Ｃ方向）に沿って直径１μｍのレーザー光のスポットを露光面２１上で移動させることで、レーザー光を１列ごとに照射する。
この際、領域形成手段８は、図３に示すように、レーザー光を照射して除電される列Ｃ１を、除電されない列Ｃ２間に介装して潜像ＰＴ２を描画する。すなわち、潜像ＰＴ２は、レーザー光が照射されることで除電されてトナーＴが誘着されない非誘着領域ＮＡにより形成される列Ｃ１（１列全てに斜線が設定された列Ｃ１）と、トナーＴが誘着される誘着領域ＡＡが形成されうる列Ｃ２（形成されるパターンによっては誘着されない場合もある）とが、露光面２１の移動方向（感光ドラム２の回転方向）であるＡ方向に沿って交互に配列されて描画される。換言すると、描画された潜像ＰＴ２においてトナーＴが誘着されうる列Ｃ２は、トナーＴが誘着されない列Ｃ１に挟まれる。
なお、本実施形態では、領域形成手段８は、露光面２１にレーザー光を照射する構成としたが、これに限らず、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の固体光源から出射される光を照射する構成としてもよい。
【００２８】
〔誘着手段の構成〕
誘着手段９は、図１に示すように、露光面２１にトナーＴ（本実施形態では、黒色トナーＴ）を誘着させる。このトナーＴには、磁性を有するキャリアー（搬送体）が含まれており、当該トナーＴは、露光面２１における帯電領域（すなわち誘着領域ＡＡ）に誘着する性質を有する。このため、図３に示した潜像ＰＴ２における白地の部分にトナーＴが誘着する。なお、本実施形態では、粒子の直径が１〜２μｍであるトナーＴが採用されている。
【００２９】
〔パターン形成手段の構成〕
パターン形成手段１０は、露光面２１にレーザー光を照射して露光面２１を除電することで、当該露光面２１上のトナーＴを遊離させて基板ＰＬに付着させる。すなわち、露光面２１に描画され、かつ、トナーＴが誘着された潜像（例えば、潜像ＰＴ２）を基板ＰＬに転写して、当該基板ＰＬにパターン（例えば、パターンＰＴ１）を形成する。
この際、パターン形成手段１０は、基板ＰＬの裏面側（露光面２１に対向する側とは反対側）から、当該基板ＰＬを介してレーザー光を露光面２１に照射する。なお、パターン形成手段１０は、領域形成手段８と同様の構成を有しており、レーザー光のスポットは直径１μｍであり、当該スポットの移動方向は、感光ドラム２の回転軸に沿うＣ方向に設定されている。
【００３０】
ここで、潜像ＰＴ２は、前述のように、誘着領域ＡＡが形成されトナーＴが誘着されうる列と、誘着領域ＡＡが形成されずトナーＴが誘着されない列とが交互に配列されて形成されている。このため、パターン形成手段１０により、トナーが誘着された列にレーザー光が照射されて当該トナーＴが遊離する際に、他の列のトナーＴの電荷により、標的となるトナーＴの遊離が阻害されることが防止される。
また、本実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度は、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍であり、潜像ＰＴ２は、パターンＰＴ１を露光面２１の移動方向に２倍拡大したパターンを鏡像反転したものである。このため、基板ＰＬには、潜像ＰＴ２が鏡像反転され、更に、露光面２１の移動方向に沿って１／２に縮小されたパターン（パターンＰＴ１）が転写されることとなる。これにより、パターンＰＴ１が精度よく基板ＰＬ上に形成される。
このようにして基板ＰＬ上に付着されたトナーＴは、前述の移動手段４を構成するローラー４３，４４により、基板ＰＬ上に定着される。
【００３１】
〔入力手段の構成〕
図４は、入力手段１１及び制御手段１２を示すブロック図である。
パターン形成装置１は、上記構成２〜１０に加えて、図４に示すように、入力手段１１及び制御手段１２を備える。
このうち、入力手段１１は、図示を省略するが、パターン形成装置１を操作するためのキーボード及びポインティングデバイス等の操作装置を備える。また、入力手段１１は、基板ＰＬに形成するパターンの画像データを取得する画像取得装置を備える。このような画像取得装置として、スキャナーや、当該画像が含まれるファイルを記憶する記憶装置と通信する通信手段が挙げられる。そして、入力手段１１は、操作装置に対する入力操作に応じた操作信号を制御手段に出力する他、取得された画像データを制御手段に出力する。
【００３２】
〔制御手段の構成〕
制御手段１２は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）及びＲＯＭ（Read Only Memory）等の回路素子が実装された回路基板として構成され、パターン形成装置１全体を制御する。この制御手段１２は、当該ＲＯＭに記憶されたプログラム及びデータをＣＰＵが処理することにより、画像処理部１２１、回転制御部１２２、移動制御部１２３、領域形成制御部１２４及びパターン形成制御部１２５として示される機能を実現する。
【００３３】
画像処理部１２１は、入力手段１１から入力されるパターンの画像データを処理し、当該画像データに基づいて、領域形成手段８により露光面２１に描画される潜像の画像データを生成する。
回転制御部１２２及び移動制御部１２３は、それぞれ、回転手段３及び移動手段４の駆動を制御する。これら回転制御部１２２及び移動制御部１２３は、回転手段３による露光面２１の移動速度（感光ドラム２の単位時間当たりの回転数と、感光ドラム２の回転方向における露光面２１の寸法とを乗算した速度）が、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍となるように、これら回転手段３及び移動手段４の駆動を制御する。
領域形成制御部１２４は、画像処理部１２１により生成された潜像の画像データに基づいて、当該潜像を露光面２１に描画するように、領域形成手段８の動作を制御する。
パターン形成制御部１２５は、パターン形成手段１０の動作を制御して、トナーＴが誘着した露光面２１にレーザー光を照射させて、当該トナーＴを基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着させる。
【００３４】
〔パターン形成方法〕
図５は、パターン形成装置１を用いて実施されるパターン形成方法を示すフローチャートである。
パターン形成装置１は、以下に示すパターン形成方法を実施することで、基板ＰＬに所定のパターン（例えば、パターンＰＴ１）を形成する。
このパターン形成方法では、図５に示すように、まず、制御手段１２の回転制御部１２２が、回転手段３により感光ドラム２をＡ方向に回転させるとともに（手順Ｓ１）、移動制御部１２３が、移動手段４により基板ＰＬをＢ方向に移動させる（手順Ｓ２）。
【００３５】
これら手順Ｓ１，Ｓ２の実施に伴い、除電手段６が露光面２１を除電し（手順Ｓ３）、帯電手段７が、除電された露光面２１を帯電させる（手順Ｓ４）。
そして、領域形成制御部１２４が、領域形成手段８により、帯電された露光面２１にレーザー光を照射して、画像処理部１２１により生成された画像データに応じた潜像（例えば、潜像ＰＴ２）を当該露光面２１に描画して、非誘着領域ＮＡ及び誘着領域ＡＡを形成する（手順Ｓ５）。この潜像における誘着領域ＡＡに、誘着手段９がトナーＴを誘着させる（手順Ｓ６）。
【００３６】
次に、パターン形成制御部１２５が、パターン形成手段１０により、露光面２１に描画された潜像の列Ｃ２ごとにレーザー光を照射してトナーＴを遊離させ、当該トナーＴを基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着させて、対象面ＰＬ１に潜像の列Ｃ２を転写する（手順Ｓ７）。この後、回収手段５が、余分なトナーＴを露光面２１から除去する（手順Ｓ８）。また、対象面ＰＬ１上のトナーＴは、ローラー４３，４４により定着される。
以上の手順Ｓ３〜Ｓ７が、感光ドラム２が回転し、かつ、基板ＰＬが移動している間、同時に、かつ、繰り返し実施されることで、パターンが基板ＰＬ上に形成される。
【００３７】
〔パターンの構成〕
本実施形態では、基板ＰＬは、前述のように、右目用画像を右目用画素により形成し、かつ、左目用画像を左目用画素により形成して、視差により立体視可能な画像を表示する立体画像表示装置の視差バリアとして構成される。この視差バリアは、右目用画像と左目用画像とを分離して、当該右目用画像及び左目用画像をそれぞれ観察者の右目及び左目に入射させるものである。
このような基板ＰＬに形成されるパターンＰＴ１には、図２に示すように、定着されたトナーＴにより形成される遮光部ＰＴ１１と、右目用画像及び左目用画像を透過させて、それぞれ右目及び左目に入射させる複数の透過部ＰＴ１２とが形成されている。これら透過部ＰＴ１２は、立体画像表示装置に設定された視点上の一方の目（例えば、右目）と、当該一方の目により視認されるべき画像を表示する画素（例えば、右目用画素）とを結ぶ仮想の直線上に形成される。これら透過部ＰＴ１２により、右目用画素は左目ではほぼ視認されずに右目で視認可能となり、左目用画素は右目ではほぼ視認されずに左目で視認可能となる。
【００３８】
ここで、各透過部が、互いに縦横に交互に配列された右目用画素及び左目用画素の配列方向のうちの行方向に沿う２つの短辺と、列方向に沿う２つの長辺とを有する長方形状である場合、当該透過部を透過する光の分布は樽型となる。そして、透過部の各長辺略中央付近から外側に漏出される光は、クロストーク（左右の画像の分離が不完全で二重像が視認されること）の要因となりやすい。
これに対し、各透過部ＰＴ１２は、上記行方向に沿う２つの短辺と、上記列方向に沿う２つの略円弧状の長辺とを有し、当該各長辺の中央部分が互いに近接するボビン型の形状である。このような形状により、透過部の各長辺略中央付近から外側への光の漏出が遮光部ＰＴ１１により抑制され、クロストークの発生を抑制できる。
【００３９】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置１によれば、以下の効果がある。
Ａ方向に回転される感光ドラム２の露光面２１には、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにより構成され、かつ、基板ＰＬに形成されるパターンに基づく潜像が領域形成手段８により描画され、当該潜像の形成位置には、誘着手段９によりトナーＴが誘着される。そして、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡに、パターン形成手段１０による光が照射されることで当該トナーＴが遊離して、移動手段４によりＢ方向に移動する基板ＰＬに付着することで、当該基板ＰＬにパターンが形成される。
これによれば、パターン形成装置１にレーザープリンターの構成を利用できるので、縮小投影型露光装置のような高額な設備を必要とせずに、基板ＰＬにパターンを形成できる。この他、当該パターンの形成に際して、縮小投影型露光装置で使用されるレチクルを用意する必要もなく、また、大きな基板からパターンが形成された領域を切断する処理も省略できる。従って、安価かつ簡易にパターンを基板ＰＬに形成できる。更に、縮小投影型露光装置を用いる場合に比べ、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００４０】
誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴは、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射されることで電荷が失われて露光面２１から遊離し、当該露光面２１との間に所定の隙間を介して配置された基板ＰＬに付着する。これによれば、露光面２１と基板ＰＬとが接触しないので、感光ドラム２の回転及び基板ＰＬの移動による露光面２１と基板ＰＬとのずれの発生を抑制でき、より精密にパターンを基板ＰＬに形成できる。
【００４１】
領域形成手段８が、形成されるパターンを鏡像反転させたパターンに応じた潜像を、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにより描画するので、当該誘着領域ＡＡにトナーＴが誘着される。この潜像に対してパターン形成手段１０が列ごとに光を照射することで、当該潜像における誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴが遊離して基板ＰＬに付着する。これによれば、パターン形成手段１０は、当該潜像に光を照射すれば、基板ＰＬにパターンが形成されることとなるので、パターン形成手段１０によるレーザー光の照射時に、どの誘着領域ＡＡにレーザー光を照射してトナーＴを遊離させるべきかの判定処理を省略できる。従って、パターン形成手段１０による光照射の構成を簡略化でき、パターン形成制御部１２５の処理を簡略化できる。
【００４２】
回転手段３によって回転される感光ドラム２の露光面２１の移動速度は、移動手段４によって移動される基板ＰＬの移動速度より高く設定されている。これによれば、基板ＰＬにトナーＴが付着されて形成されるパターンは、露光面２１に形成された潜像を当該露光面２１の移動方向（Ａ方向）に縮小したパターンとなる。これによれば、基板ＰＬにトナーＴを密に付着させることができ、当該基板ＰＬに精度よくパターンを形成できる。
【００４３】
領域形成手段８は、レーザー光が照射されることで除電されてトナーが誘着されない列Ｃ１（非誘着領域ＮＡからなる列Ｃ１）と、誘着領域ＡＡが形成されてトナーが誘着されうる列Ｃ２とが、露光面２１の移動方向（Ａ方向）に沿って交互に配列された潜像を描画する。これによれば、パターン形成手段１０によりレーザー光を照射して露光面２１から標的のトナーＴを遊離させる際に、他のトナーＴの電荷によって当該標的のトナーＴが遊離しづらくなることを抑制できる。従って、基板ＰＬに対するパターンの形成を適切に行うことができる。
【００４４】
〔第２実施形態〕
以下、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態に係るパターン形成装置は、パターン形成装置１とは、基板ＰＬ上にパターンＰＴ１を形成する工程が異なる。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一または略同一である部分については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４５】
本実施形態に係るパターン形成装置は、パターン形成装置１と同様の構成を有する。
このうち、領域形成手段８は、帯電された露光面２１にレーザー光を照射して除電することでトナーＴが付着されない非誘着領域ＮＡと、トナーＴが付着される誘着領域ＡＡとが交互に配列された潜像ＰＴ４を形成する。
【００４６】
図６は、本実施形態に係るパターン形成装置の領域形成手段８が形成する潜像を示す図である。なお、図６においては、見易さを考慮して、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡのうち一部について符号を付す。
具体的に、領域形成手段８は、図６に示すように、感光ドラム２の中心軸に沿う方向であるＣ方向に沿ってレーザー光を照射して、当該Ｃ方向に沿って非誘着領域ＮＡが形成されトナーＴが誘着されない列ＣＡ１と、当該Ｃ方向に沿って非誘着領域ＮＡと誘着領域ＡＡとが交互に配列される列ＣＡ２とを、当該感光ドラム２の回転方向（露光面２１の移動方向）であるＡ方向に沿って交互に形成する。この際、領域形成手段８は、互いに隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方の列ＣＡ２における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置を、他方の列ＣＡ２とは反転させる。このため、図６において隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、左側の列ＣＡ２と右側の列ＣＡ２とは、誘着領域ＡＡの位置と非誘着領域ＮＡの位置とが逆になっている。これら隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方が本発明の第１列であり、他方が本発明の第２列に相当する。
【００４７】
なお、誘着領域ＡＡの寸法及び非誘着領域ＮＡの寸法（隣り合う誘着領域ＡＡ間の寸法）は、パターン形成手段１０により照射されるレーザースポットの直径、或いは、トナーＴの粒子の直径に応じた寸法に設定されている。このため、本実施形態では、誘着領域ＡＡの寸法と当該スポットの直径（１μｍ）とは略同じであり、トナーＴの粒子も１μｍに設定されている。
【００４８】
パターン形成手段１０は、Ｃ方向にレーザー光のスポットを移動させて露光面２１に当該レーザー光を照射して、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡのうち、基板ＰＬに形成するパターンに応じた位置の誘着領域ＡＡを除電し、当該誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴを遊離させる。これにより、基板ＰＬ上にトナーＴが付着され、基板ＰＬ上にパターンが形成される。この際、誘着領域ＡＡは、非誘着領域ＮＡにより囲まれているので、レーザー光の照射によって遊離される誘着領域ＡＡのトナーＴが、露光面２１から遊離しやすい。
【００４９】
図７は、基板ＰＬ上に形成されるパターンＰＴ３の一例を示す図である。また、図８は、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡのうち、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射される誘着領域ＡＡの位置、及び、当該レーザー光の照射順を示す模式図である。なお、図８におけるレーザー光の照射順を示す数字と、図７における数字とは対応している。
例えば、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３を基板ＰＬ上に形成する場合、パターン形成手段１０は、図８に示すように、露光面２１がＡ方向に移動して、列ＣＡ２（ＣＡ２１〜ＣＡ３０）のうち列ＣＡ２１がレーザー光の照射列となった際に、当該列ＣＡ２１に配列された誘着領域ＡＡのうち「１」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。
【００５０】
また、露光面２１が更に移動して、列ＣＡ２２がレーザー光の照射列となると、パターン形成手段１０は、当該列ＣＡ２２の誘着領域ＡＡのうち「２」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。これにより、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における左側の直線部分（縦線部分）に応じて、基板ＰＬ上にトナーＴが付着される。
なお、このように、形成されるパターンにおいて同じ直線（上記縦線部分）を形成するトナーＴを付着させる場合には、基板ＰＬの移動を停止させてもよい。
【００５１】
そして、パターン形成手段１０は、露光面２１が更に移動して、列ＣＡ２４，ＣＡ２５，ＣＡ２８〜ＣＡ３０がそれぞれレーザー光の照射列となった際に、当該各列ＣＡ２４，ＣＡ２５，ＣＡ２８〜ＣＡ３０の誘着領域ＡＡのうち「３」〜「７」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。これにより、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における斜線部分及び右側の直線部分に応じて、基板ＰＬ上にトナーＴが付着される。
このようにして、基板ＰＬ上に「Ｎ」字様のパターンＰＴ３が形成される。
なお、上記列ＣＡ２３、ＣＡ２６，ＣＡ２７のように、レーザー光が照射されない列が存在するのは、例えば列ＣＡ２１，Ｃ２２の誘着領域ＡＡにより形成されるパターンＰＴ３の左側の列（直線部分）のように、パターンにおける１つの列が２つの列ＣＡ２により形成されるので、当該パターンの形状によってはトナーＴを基板ＰＬに付着させる必要のない列ＣＡ２が存在するためである。
【００５２】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置１Ａによれば、前述のパターン形成装置１と同様の効果を奏することができる他、以下の効果を奏することができる。
すなわち、誘着領域ＡＡにおけるＡ方向及びＣ方向の端縁は、トナーＴが誘着されない非誘着領域ＮＡに接している。これによれば、基板ＰＬに付着させる標的のトナーが他のトナーによって誘着領域ＡＡから遊離しづらくなることを抑制できる。
また、パターン形成手段１０が、列ＣＡ２（例えば列ＣＡ２１）と、当該列ＣＡ２とは誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置とが反転した列ＣＡ２（例えば列ＣＡ２２）とに含まれる誘着領域ＡＡのうち、基板ＰＬに形成されるパターンに応じた位置の誘着領域ＡＡに光を照射してトナーＴを遊離させる。これにより、基板ＰＬにパターンを適切に形成できる。
【００５３】
ここで、感光ドラム２の回転速度（露光面２１の移動速度）が、基板ＰＬの移動速度以下である場合には、前述の「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における縦線部分に付着するトナーＴのうち、列ＣＡ２１の誘着領域ＡＡに誘着されていたトナーＴと、列ＣＡ２２の誘着領域ＡＡに誘着されていたトナーＴとのＢ方向のずれが大きくなる。これに対し、感光ドラム２の回転速度が基板ＰＬの移動速度より高いので、当該ずれを小さくできる。従って、適切なパターンを基板上に形成できる。
なお、前述のように、形成されるパターンにおいて同一の直線部分を形成する際に、基板ＰＬの移動を停止させる構成である場合には、感光ドラム２の回転速度が、基板ＰＬの移動速度より高いことにより、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００５４】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態に係るパターン形成装置は、前述のパターン形成装置１と同様の構成を有する。しかしながら、当該パターン形成装置では、パターン形成速度を向上するために、領域形成手段８が、感光ドラム２の回転に伴って移動する露光面２１の移動方向に対して交差する方向に沿って誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡを有する列を形成し、パターン形成手段１０が、当該列の形成方向に沿ってレーザー光を照射する。この点で、本実施形態に係るパターン形成装置と、パターン形成装置１とは相違する。
【００５５】
図９は、本実施形態に係るパターン形成装置の領域形成手段８が形成する潜像の一部を示す図である。なお、図９においては、見易さを考慮して、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡのうち一部について符号を付す。
具体的に、領域形成手段８は、図９に示すように、Ａ方向に移動する露光面２１にレーザー光を照射して、非誘着領域ＮＡにより形成される列ＣＡ１と、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが交互に配列された列ＣＡ２とを、Ａ方向及びＣ方向に対してそれぞれ交差する方向に沿い、更に、当該列ＣＡ１と列ＣＡ２とがＡ方向に沿って交互に配列された潜像ＰＴ５を露光面２１に形成する。また、前述と同様に、列ＣＡ２を介して互いに隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置と、他方における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置とは逆になっている。
【００５６】
パターン形成手段１０は、Ｃ方向に沿ってレーザー光を照射するが、この際の感光ドラム２の回転は停止されていない。このため、Ａ方向に移動する露光面２１において列ＣＡ２の中心線Ｌ１に沿ってレーザー光が照射される。このような列ＣＡ２の中心線Ｌ１とＣ方向に沿う直線Ｌ２との交差角θは、Ｃ方向に沿って移動するレーザー光のスポットにより除電された１つの列ＣＡ２の誘着領域ＡＡから遊離したトナーＴにより基板ＰＬ上に形成されるトナーＴの列が、当該基板ＰＬ上でＢ方向に対して直交する方向に沿って形成されるように設定されている。換言すると、当該交差角θは、感光ドラム２の回転速度（露光面２１の移動速度）に応じて設定される。
【００５７】
このようなパターン形成手段１０が、各列ＣＡ２のうちレーザー光の照射列における誘着領域ＡＡにレーザー光を照射することで、基板ＰＬ上にトナーＴからなる所望のパターンを形成できる。例えば、パターン形成手段１０が、図９において数字が付された誘着領域ＡＡに対してレーザー光を照射することにより、基板ＰＬ上には、図７に示した「Ｎ」字様のパターンＰＴ４が形成される。
【００５８】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置によれば、前述のパターン形成装置と同様の効果を奏することができる他、以下の効果がある。
すなわち、領域形成手段８により、露光面２１において列ＣＡ１，ＣＡ２がＡ方向及びＣ方向のそれぞれに対して交差する方向に沿って形成されるので、パターン形成手段１０が、Ｃ方向に沿ってレーザー光を移動させる際に、露光面２１を移動させたまま、列ＣＡ２の中心線Ｌ１に沿って当該レーザー光を確実に照射できる。従って、感光ドラム２の回転速度、及び、当該回転速度に基づいて設定される前述の交差角θを最適化することにより、パターンの形成効率を向上できる。
【００５９】
また、非誘着領域ＮＡにより構成される列ＣＡ１がレーザー光の照射列となっている間に、１つの列ＣＡ２にレーザー光を照射したパターン形成手段１０が、当該レーザー光の照射位置を初期位置に戻すことができる。この点においても、露光面２１を移動させたままで、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが配列された列ＣＡ２に対して、レーザー光を適切に照射することができ、基板ＰＬ上にパターンを効率よく形成できる。
【００６０】
なお、本実施形態では、前述の第２実施形態で示した潜像と同様の潜像を領域形成手段８が形成した。しかしながら、前述の第１実施形態と同様に、基板ＰＬに形成されるパターンを鏡像反転させたパターンに応じた潜像を、Ａ方向及びＣ方向に対してそれぞれ交差する方向に沿って、領域形成手段８が形成してもよい。この場合、パターン形成手段１０が、トナーＴが誘着した当該潜像に対してレーザー光を照射することで、基板ＰＬに当該パターンを形成できる。
【００６１】
〔実施形態の変形〕
本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態では、パターン形成装置は、視差により立体視可能な画像を表示する立体画像表示装置に採用される視差バリアのバリアパターンを基板ＰＬに形成するパターン形成装置として構成したが、本発明はこれに限らない。例えば、所定波長の光を透過する粒子を付着させることで所定のパターンが形成されたカラーフィルターを製造してもよく、同様に、偏光フィルターを製造してもよい。更に、それぞれ異なる性質を有する粒子を付着させて、基板ＰＬ上に複数の層を形成してもよい。加えて、基板ＰＬに形成されるパターンは、適宜選択可能である。
【００６２】
前記各実施形態では、基板ＰＬは、感光ドラム２の露光面２１との間に所定の隙間を介して配置されるとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、露光面２１と基板ＰＬとが接触し、当該露光面２１に誘着されたトナーが基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着されることでパターンが形成されるように、パターン形成装置を構成してもよい。
【００６３】
前記各実施形態では、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射される部位、すなわち、露光面２１における基板ＰＬに最も近い部位での当該露光面２１の回転接線方向と、移動手段４により移動される基板ＰＬの移動方向とは、互いに反対方向であるとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、当該回転接線方向と、基板ＰＬの移動方向とが同じ方向となるように、移動手段４が基板ＰＬを移動させる構成としてもよい。
【００６４】
前記各実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度は、移動手段４による基板ＰＬの移動速度より高い（速い）としたが、本発明はこれに限らない。すなわち、露光面２１の移動速度が、基板ＰＬの移動速度より低くてもよく、或いは、それぞれが同じであってもよい。
【００６５】
前記第１実施形態では、領域形成手段８は、トナーＴが付着されうる列と、トナーＴが付着されない列とが、露光面２１の移動方向（感光ドラム２の回転方向）に沿って交互に配列された潜像を形成するとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、当該トナーＴが付着されない列を形成せずに、領域形成手段８が潜像を形成する構成としてもよい。
【００６６】
また、前記第２実施形態では、領域形成手段８は、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが感光ドラム２の中心軸に沿う方向であるＣ方向に交互に配列された列ＣＡ２と、非誘着領域ＮＡが当該Ｃ方向に沿って形成された列ＣＡ１とを、感光ドラム２の回転方向に沿って露光面２１に形成するとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、誘着領域ＡＡと非誘着領域ＮＡとが当該中心軸に沿って交互に形成された列と、当該列とは誘着領域ＡＡの位置と非誘着領域ＮＡの位置とが反転した列とが、感光ドラム２の回転方向に沿って露光面２１に形成されていれば、列ＣＡ１がなくても、誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴの遊離性を向上できる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、基板にパターンを形成するパターン形成装置及びパターン形成装置に利用でき、特に、基板にバリアパターンを形成して視差バリアを製造するパターン形成装置及びパターン形成方法として好適に利用できる。
【符号の説明】
【００６８】
１…パターン形成装置、２…感光ドラム、３…回転手段、４…移動手段、７…帯電手段、８…領域形成手段、９…誘着手段、１０…パターン形成手段、２１…露光面、ＡＡ…誘着領域、Ｃ１…列（非誘着領域が形成される列）、Ｃ２…列（誘着領域が形成される列）、ＣＡ２（ＣＡ２１〜ＣＡ３０）…列、ＮＡ…非誘着領域、ＰＬ…基板、ＰＴ１，ＰＴ３…パターン、ＰＴ２，ＰＴ４，ＰＴ５…潜像、Ｔ…トナー。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成装置及びパターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、左目用画像及び右目用画像を形成して、視差により立体視可能な画像を表示する画像表示装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の画像表示装置は、それぞれ異なる画像を表示する第１画素及び第２画素が交互に複数配列された表示パネルと、視差バリアとを有する。
【０００３】
これらのうち、視差バリアは、表示パネルから出射された光を遮断する遮光部（マスク部）と、当該光を透過させる複数の透過部（開口部）とを有する。そして、当該視差バリアは、第１画素により形成される第１画像を第１視方向に向けると共に、第２画素により形成される第２画像を第２視方向に向けることで、当該第１画像及び第２画像を分離し、それぞれ異なる方向に表示する障壁として機能する。具体的に、視差バリアは、第１画像としての右目用画像を観察者の右目に入射させ、第２画像としての左目用画像を観察者の左目に入射させて、観察者がこれら右目用画像及び左目用画像を右目及び左目によりそれぞれ個別に視認することで、視差により立体画像が観察されることとなる。
【０００４】
ところで、このような視差バリアは、微細な画素に対して精度よく透過部を形成する必要があるため、縮小投影型露光装置により製造される場合がある。この縮小投影型露光装置は、バリアパターンが形成されたレチクル（フォトマスク）を介した光を投影レンズにより縮小し、縮小された光をフォトレジストが塗布された大きな基板の複数箇所に照射して露光する。そして、露光されたフォトレジストを溶かすことで、基板における複数箇所にパターンが形成され、これらバリアパターンの形成箇所を切り出すことで、視差バリアが製造される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３０９６６１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述の縮小投影型露光装置を用いる場合には、形成されるパターンに応じたレチクルを用意する必要がある他、大きな基板からパターンが形成された領域を切り出す工程が必要になるなど、製造工程も複雑であり、製造コストが高額となりやすい。更に、縮小投影型露光装置は非常に高価であるため、視差バリアの製造コストを更に押し上げる。このため、例えば、視差バリアのバリアパターンを評価するサンプルを製造する場合でも、縮小投影型露光装置を用いると、当該サンプルの製造工程が複雑である他、高コストとなるという問題がある。
【０００７】
本発明の目的は、基板にパターンを安価に形成できるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した目的を達成するために、本発明のパターン形成装置は、基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、周方向に沿う露光面を有する感光ドラムと、前記感光ドラムの中心軸を中心として当該感光ドラムを回転させる回転手段と、前記露光面にトナーが誘着される誘着領域、及び、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段と、前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手段と、前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手段と、前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、当該基板に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、感光ドラムの露光面に形成された誘着領域にトナーが誘着され、当該露光面における所定位置での感光ドラムの接線に沿って移動される基板に、当該トナーが付着されて、パターンが形成される。このようなパターン形成装置は、レーザープリンターの構成を利用して製造できるので、前述の縮小投影型露光装置のような高額な設備を必要としない。この他、パターン形成に際して、縮小投影型露光装置で使用されるレチクルが必要なく、また、大きな基板からパターンが形成された領域を切り出す工程も省略できる。従って、安価かつ簡易にパターンを基板に形成できる。更に、当該縮小投影型露光装置を用いる場合に比べ、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００１０】
本発明では、前記露光面を帯電させる帯電手段を備え、前記基板は、透光性を有し、前記露光面との間に所定の隙間を介して配置され、前記領域形成手段は、前記帯電手段により帯電された前記露光面に光を照射することで除電した前記非誘着領域と、除電されない前記誘着領域とを前記露光面に形成し、前記パターン形成手段は、前記誘着領域に対して、前記基板における前記露光面に対向する側とは反対側から当該基板を介して光を照射して除電し、当該誘着領域から遊離させたトナーを前記基板に付着させて前記パターンを形成することが好ましい。
【００１１】
本発明によれば、誘着領域に誘着されたトナーは、パターン形成手段により光が照射されることで露光面から遊離し、当該露光面との間に所定の隙間を介して配置された基板に付着する。これによれば、露光面と基板とが接触することがないので、当該露光面と基板とのずれを抑制できる。従って、基板上にパターンを適切に形成できる。
【００１２】
本発明では、前記領域形成手段は、前記誘着領域及び前記非誘着領域により構成され、かつ、前記パターンを鏡像反転させた潜像を前記露光面に描画することが好ましい。
本発明によれば、領域形成手段により、形成されるパターンを鏡像反転させた潜像が露光面に描画されるので、当該潜像における誘着領域にトナーが誘着される。この潜像に対してパターン形成手段が光を照射することで、当該潜像における誘着領域に誘着されたトナーが遊離して基板に付着するので、パターン形成手段は、当該潜像に光を照射すれば、基板にパターンが形成される。従って、パターン形成手段による光照射の構成を簡略化できる。
【００１３】
本発明では、前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高いことが好ましい。
なお、露光面の移動速度は、感光ドラムの単位時間当たりの回転数と、当該感光ドラムの円周（露光面における回転方向の寸法）とにより求められる。
本発明によれば、露光面の移動速度が、基板の移動速度より高いことにより、基板にトナーが付着されて形成されるパターンは、露光面に形成された潜像を当該露光面の移動方向に縮小したパターンとなる。これによれば、基板に精度よくパターンを形成できる他、微細なパターンを基板上に形成することも可能となる。
【００１４】
本発明では、前記領域形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿って前記非誘着領域が形成される列と、前記誘着領域が形成される列とが、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に配列された前記潜像を描画することが好ましい。
ここで、パターン形成手段が光を照射して露光面を除電し、当該露光面から標的のトナーを遊離させるときに、当該標的のトナーに隣接する他のトナーの電荷によって、標的のトナーが露光面から遊離しづらくなる可能性が考えられる。
これに対し、本発明では、非誘着領域によって形成されてトナーが誘着されない列と、誘着領域が形成されてトナーが誘着されうる列とが、感光ドラムの回転方向（すなわち、露光面の移動方向）に交互に配列された潜像が描画される。これによれば、他のトナーの電荷によって標的のトナーが遊離しづらくなることを抑制できる。従って、基板に確実にトナーを付着させることができ、当該基板に対するパターンの形成を適切に行うことができる。
【００１５】
或いは、本発明では、前記領域形成手段は、前記誘着領域と前記非誘着領域とが前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に交互に配列された第１列と、前記誘着領域の位置と前記非誘着領域の位置とが反転された第２列とを、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に形成し、前記パターン形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に沿って光を照射して、前記第１列及び前記第２列に形成された前記誘着領域から、前記パターンに応じた位置の誘着領域を選択して除電することが好ましい。
【００１６】
本発明によれば、トナーが誘着される誘着領域の端縁のうち、露光面の移動方向の端縁と、感光ドラムの中心軸に沿う方向の端縁とは、トナーが誘着されない非誘着領域に接する。これによれば、前述のように、パターン形成手段による光の照射によって遊離させる標的のトナーが他のトナーによって遊離しづらくなることを抑制できる。
そして、パターン形成手段が、第１列及び第２列に含まれる誘着領域のうち、基板上に形成されるパターンに応じた位置の誘着領域に光を照射してトナーを遊離させるので、当該基板上にパターンを適切に形成できる。
【００１７】
本発明では、前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高いことが好ましい。
本発明によれば、回転する感光ドラムの露光面から遊離されて基板上に付着されたトナーのうち、第１列の誘着領域に誘着されていたトナーと、第２列の誘着領域に誘着されていたトナーとのずれを小さくできる。従って、適切なパターンを基板上に形成できる。
【００１８】
また、本発明のパターン形成方法は、基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、周方向に沿う露光面を有する感光ドラムを、当該感光ドラムの中心軸を中心として回転させる回転手順と、前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手順と、前記露光面にトナーが誘着される誘着領域と、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手順と、前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手順と、前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、前記パターンを形成する形成手順と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、前述のパターン形成装置と同様の効果を奏することができ、基板にパターンを安価かつ簡易に形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン形成装置の構成を示す模式図。
【図２】前記実施形態における基板に形成されるパターンの一例を示す図。
【図３】前記実施形態における潜像の一部を拡大して示す図。
【図４】前記実施形態における入力手段及び制御手段を示すブロック図。
【図５】前記実施形態におけるパターン形成方法を示すフローチャート。
【図６】本発明の第２実施形態に係るパターン形成装置が形成する潜像を示す図。
【図７】前記実施形態における基板に形成されるパターンの一例を示す図。
【図８】前記実施形態におけるレーザー光が照射される誘着領域の位置及び照射順を示す模式図。
【図９】本発明の第３実施形態に係るパターン形成装置が形成する潜像を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態について、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態に係るパターン形成装置１の構成を示す模式図である。
本実施形態に係るパターン形成装置１は、ガラス及び樹脂等の透光性を有する基板ＰＬの対象面ＰＬ１（後述する露光面２１に対向する面）に所定のパターンを形成するものであり、本実施形態では、視差により立体視可能な画像を表示する画像表示装置に用いられる視差バリアのバリアパターンを当該対象面ＰＬ１に形成するものである。
このパターン形成装置１は、図１に示すように、感光ドラム２、回転手段３、移動手段４、回収手段５、除電手段６、帯電手段７、領域形成手段８、誘着手段９及びパターン形成手段１０を備える。
【００２１】
〔感光ドラム及び回転手段の構成〕
感光ドラム２は、周方向に沿う露光面２１を有する円筒体である。この露光面２１は、暗所では絶縁体の性質を有し、光が入射された位置が導体となって電荷を放出する。
回転手段３は、感光ドラム２を支持するとともに、感光ドラム２の中心軸を中心として当該感光ドラム２をＡ方向に回転させる。このような回転手段３は、後述する制御手段１２の制御下で駆動し、例えば、モーターにより構成できる。
【００２２】
〔移動手段及び回収手段の構成〕
移動手段４は、露光面２１との間に所定の隙間を介してパターン形成対象の基板ＰＬを支持するとともに、当該基板ＰＬを感光ドラム２の接線方向に沿って移動させるものである。この移動手段４による基板ＰＬの移動方向（Ｂ方向）は、露光面２１上の所定位置（基板ＰＬに最も近接する位置）における当該露光面２１の移動方向とは反対方向である。なお、この露光面２１の移動方向は、当該所定位置における回転接線方向であり、詳しくは、当該所定位置における接線に沿う方向のうち、感光ドラム２の回転方向先端側を向く方向である。
【００２３】
このような移動手段４は、本実施形態では、ローラー４１〜４４を有する。
これらのうち、ローラー４１，４２は、基板ＰＬを挟持するとともに、後述する制御手段１２の制御下で駆動するモーターにより回転して、当該基板ＰＬを移動させる。
また、ローラー４３，４４は、定着ローラーであり、基板ＰＬを挟持するとともに、当該基板ＰＬの移動に伴って回転して、基板ＰＬに付着されたトナーＴを定着させる。
回収手段５は、露光面２１から遊離されなかった余分なトナーＴを当該露光面２１から回収する。
【００２４】
〔除電手段及び帯電手段の構成〕
除電手段６、帯電手段７、領域形成手段８、誘着手段９及びパターン形成手段１０は、回転手段３により回転される感光ドラム２の外周面に沿って配置され、回転手段３による感光ドラム２の回転、及び、移動手段４による基板ＰＬの移動とともに機能する。
これらのうち、除電手段６は、露光面２１に近接して設けられ、回収手段５によりトナーＴが回収された露光面２１を除電する。
帯電手段７は、除電手段６により除電された露光面２１を、後述する誘着手段９によって供給されるトナーＴが誘着されるように帯電させる。
【００２５】
〔領域形成手段の構成〕
領域形成手段８は、帯電手段７により帯電された露光面２１にレーザー光を照射して、当該露光面２１の少なくとも一部を除電し、当該露光面２１に、基板ＰＬに形成されるパターンに基づく潜像を描画する。この領域形成手段８によってレーザー光が照射された露光面２１の領域は除電されるので、当該レーザー光が照射されずに帯電手段７により帯電されたままの帯電領域が、トナーＴが誘着される誘着領域ＡＡ（図３参照）となり、一方、レーザー光が照射されて除電された除電領域が、トナーが誘着されない非誘着領域ＮＡ（図３参照）となる。このような領域形成手段８により描画される潜像は、基板ＰＬに形成されるパターンを鏡像反転させ、更に、露光面２１の移動速度及び基板ＰＬの移動速度の比に基づいて、当該露光面２１の移動方向（Ａ方向）に拡大したものである。
【００２６】
図２は、基板ＰＬに形成されるパターンの一例であるパターンＰＴ１の一部を拡大して示す図である。また、図３は、図２に示したパターンＰＴ１を基板ＰＬに形成する際に領域形成手段８により露光面２１に描画される潜像ＰＴ２の一部を拡大して示す図である。なお、図２における斜線部分（後述する遮光部ＰＴ１１）は、基板ＰＬにおいてトナーＴが定着される部分であり、図３における斜線部分は、領域形成手段８によりレーザー光が照射されて除電される非誘着領域ＮＡである。この図３においては、見易さを考慮して、一部の列Ｃ１，Ｃ２、並びに、一部の誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにのみ符号を付す。
例えば、図２に示すパターンＰＴ１を基板ＰＬに形成する場合には、領域形成手段８は、図３に示すように、当該パターンＰＴ１を鏡像反転させたパターンに応じた潜像ＰＴ２を露光面２１に描画する。この潜像ＰＴ２は、本実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度が、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍に設定されているため、パターンＰＴ１を露光面２１の移動方向（Ａ方向）に２倍拡大し、更に鏡像反転させたものである。
【００２７】
このような領域形成手段８は、潜像ＰＴ２を描画する際に、感光ドラム２の軸方向（露光面２１において当該露光面２１の移動方向に直交する方向であり、Ｃ方向）に沿って直径１μｍのレーザー光のスポットを露光面２１上で移動させることで、レーザー光を１列ごとに照射する。
この際、領域形成手段８は、図３に示すように、レーザー光を照射して除電される列Ｃ１を、除電されない列Ｃ２間に介装して潜像ＰＴ２を描画する。すなわち、潜像ＰＴ２は、レーザー光が照射されることで除電されてトナーＴが誘着されない非誘着領域ＮＡにより形成される列Ｃ１（１列全てに斜線が設定された列Ｃ１）と、トナーＴが誘着される誘着領域ＡＡが形成されうる列Ｃ２（形成されるパターンによっては誘着されない場合もある）とが、露光面２１の移動方向（感光ドラム２の回転方向）であるＡ方向に沿って交互に配列されて描画される。換言すると、描画された潜像ＰＴ２においてトナーＴが誘着されうる列Ｃ２は、トナーＴが誘着されない列Ｃ１に挟まれる。
なお、本実施形態では、領域形成手段８は、露光面２１にレーザー光を照射する構成としたが、これに限らず、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の固体光源から出射される光を照射する構成としてもよい。
【００２８】
〔誘着手段の構成〕
誘着手段９は、図１に示すように、露光面２１にトナーＴ（本実施形態では、黒色トナーＴ）を誘着させる。このトナーＴには、磁性を有するキャリアー（搬送体）が含まれており、当該トナーＴは、露光面２１における帯電領域（すなわち誘着領域ＡＡ）に誘着する性質を有する。このため、図３に示した潜像ＰＴ２における白地の部分にトナーＴが誘着する。なお、本実施形態では、粒子の直径が１〜２μｍであるトナーＴが採用されている。
【００２９】
〔パターン形成手段の構成〕
パターン形成手段１０は、露光面２１にレーザー光を照射して露光面２１を除電することで、当該露光面２１上のトナーＴを遊離させて基板ＰＬに付着させる。すなわち、露光面２１に描画され、かつ、トナーＴが誘着された潜像（例えば、潜像ＰＴ２）を基板ＰＬに転写して、当該基板ＰＬにパターン（例えば、パターンＰＴ１）を形成する。
この際、パターン形成手段１０は、基板ＰＬの裏面側（露光面２１に対向する側とは反対側）から、当該基板ＰＬを介してレーザー光を露光面２１に照射する。なお、パターン形成手段１０は、領域形成手段８と同様の構成を有しており、レーザー光のスポットは直径１μｍであり、当該スポットの移動方向は、感光ドラム２の回転軸に沿うＣ方向に設定されている。
【００３０】
ここで、潜像ＰＴ２は、前述のように、誘着領域ＡＡが形成されトナーＴが誘着されうる列と、誘着領域ＡＡが形成されずトナーＴが誘着されない列とが交互に配列されて形成されている。このため、パターン形成手段１０により、トナーが誘着された列にレーザー光が照射されて当該トナーＴが遊離する際に、他の列のトナーＴの電荷により、標的となるトナーＴの遊離が阻害されることが防止される。
また、本実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度は、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍であり、潜像ＰＴ２は、パターンＰＴ１を露光面２１の移動方向に２倍拡大したパターンを鏡像反転したものである。このため、基板ＰＬには、潜像ＰＴ２が鏡像反転され、更に、露光面２１の移動方向に沿って１／２に縮小されたパターン（パターンＰＴ１）が転写されることとなる。これにより、パターンＰＴ１が精度よく基板ＰＬ上に形成される。
このようにして基板ＰＬ上に付着されたトナーＴは、前述の移動手段４を構成するローラー４３，４４により、基板ＰＬ上に定着される。
【００３１】
〔入力手段の構成〕
図４は、入力手段１１及び制御手段１２を示すブロック図である。
パターン形成装置１は、上記構成２〜１０に加えて、図４に示すように、入力手段１１及び制御手段１２を備える。
このうち、入力手段１１は、図示を省略するが、パターン形成装置１を操作するためのキーボード及びポインティングデバイス等の操作装置を備える。また、入力手段１１は、基板ＰＬに形成するパターンの画像データを取得する画像取得装置を備える。このような画像取得装置として、スキャナーや、当該画像が含まれるファイルを記憶する記憶装置と通信する通信手段が挙げられる。そして、入力手段１１は、操作装置に対する入力操作に応じた操作信号を制御手段に出力する他、取得された画像データを制御手段に出力する。
【００３２】
〔制御手段の構成〕
制御手段１２は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）及びＲＯＭ（Read Only Memory）等の回路素子が実装された回路基板として構成され、パターン形成装置１全体を制御する。この制御手段１２は、当該ＲＯＭに記憶されたプログラム及びデータをＣＰＵが処理することにより、画像処理部１２１、回転制御部１２２、移動制御部１２３、領域形成制御部１２４及びパターン形成制御部１２５として示される機能を実現する。
【００３３】
画像処理部１２１は、入力手段１１から入力されるパターンの画像データを処理し、当該画像データに基づいて、領域形成手段８により露光面２１に描画される潜像の画像データを生成する。
回転制御部１２２及び移動制御部１２３は、それぞれ、回転手段３及び移動手段４の駆動を制御する。これら回転制御部１２２及び移動制御部１２３は、回転手段３による露光面２１の移動速度（感光ドラム２の単位時間当たりの回転数と、感光ドラム２の回転方向における露光面２１の寸法とを乗算した速度）が、移動手段４による基板ＰＬの移動速度の２倍となるように、これら回転手段３及び移動手段４の駆動を制御する。
領域形成制御部１２４は、画像処理部１２１により生成された潜像の画像データに基づいて、当該潜像を露光面２１に描画するように、領域形成手段８の動作を制御する。
パターン形成制御部１２５は、パターン形成手段１０の動作を制御して、トナーＴが誘着した露光面２１にレーザー光を照射させて、当該トナーＴを基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着させる。
【００３４】
〔パターン形成方法〕
図５は、パターン形成装置１を用いて実施されるパターン形成方法を示すフローチャートである。
パターン形成装置１は、以下に示すパターン形成方法を実施することで、基板ＰＬに所定のパターン（例えば、パターンＰＴ１）を形成する。
このパターン形成方法では、図５に示すように、まず、制御手段１２の回転制御部１２２が、回転手段３により感光ドラム２をＡ方向に回転させるとともに（手順Ｓ１）、移動制御部１２３が、移動手段４により基板ＰＬをＢ方向に移動させる（手順Ｓ２）。
【００３５】
これら手順Ｓ１，Ｓ２の実施に伴い、除電手段６が露光面２１を除電し（手順Ｓ３）、帯電手段７が、除電された露光面２１を帯電させる（手順Ｓ４）。
そして、領域形成制御部１２４が、領域形成手段８により、帯電された露光面２１にレーザー光を照射して、画像処理部１２１により生成された画像データに応じた潜像（例えば、潜像ＰＴ２）を当該露光面２１に描画して、非誘着領域ＮＡ及び誘着領域ＡＡを形成する（手順Ｓ５）。この潜像における誘着領域ＡＡに、誘着手段９がトナーＴを誘着させる（手順Ｓ６）。
【００３６】
次に、パターン形成制御部１２５が、パターン形成手段１０により、露光面２１に描画された潜像の列Ｃ２ごとにレーザー光を照射してトナーＴを遊離させ、当該トナーＴを基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着させて、対象面ＰＬ１に潜像の列Ｃ２を転写する（手順Ｓ７）。この後、回収手段５が、余分なトナーＴを露光面２１から除去する（手順Ｓ８）。また、対象面ＰＬ１上のトナーＴは、ローラー４３，４４により定着される。
以上の手順Ｓ３〜Ｓ７が、感光ドラム２が回転し、かつ、基板ＰＬが移動している間、同時に、かつ、繰り返し実施されることで、パターンが基板ＰＬ上に形成される。
【００３７】
〔パターンの構成〕
本実施形態では、基板ＰＬは、前述のように、右目用画像を右目用画素により形成し、かつ、左目用画像を左目用画素により形成して、視差により立体視可能な画像を表示する立体画像表示装置の視差バリアとして構成される。この視差バリアは、右目用画像と左目用画像とを分離して、当該右目用画像及び左目用画像をそれぞれ観察者の右目及び左目に入射させるものである。
このような基板ＰＬに形成されるパターンＰＴ１には、図２に示すように、定着されたトナーＴにより形成される遮光部ＰＴ１１と、右目用画像及び左目用画像を透過させて、それぞれ右目及び左目に入射させる複数の透過部ＰＴ１２とが形成されている。これら透過部ＰＴ１２は、立体画像表示装置に設定された視点上の一方の目（例えば、右目）と、当該一方の目により視認されるべき画像を表示する画素（例えば、右目用画素）とを結ぶ仮想の直線上に形成される。これら透過部ＰＴ１２により、右目用画素は左目ではほぼ視認されずに右目で視認可能となり、左目用画素は右目ではほぼ視認されずに左目で視認可能となる。
【００３８】
ここで、各透過部が、互いに縦横に交互に配列された右目用画素及び左目用画素の配列方向のうちの行方向に沿う２つの短辺と、列方向に沿う２つの長辺とを有する長方形状である場合、当該透過部を透過する光の分布は樽型となる。そして、透過部の各長辺略中央付近から外側に漏出される光は、クロストーク（左右の画像の分離が不完全で二重像が視認されること）の要因となりやすい。
これに対し、各透過部ＰＴ１２は、上記行方向に沿う２つの短辺と、上記列方向に沿う２つの略円弧状の長辺とを有し、当該各長辺の中央部分が互いに近接するボビン型の形状である。このような形状により、透過部の各長辺略中央付近から外側への光の漏出が遮光部ＰＴ１１により抑制され、クロストークの発生を抑制できる。
【００３９】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置１によれば、以下の効果がある。
Ａ方向に回転される感光ドラム２の露光面２１には、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにより構成され、かつ、基板ＰＬに形成されるパターンに基づく潜像が領域形成手段８により描画され、当該潜像の形成位置には、誘着手段９によりトナーＴが誘着される。そして、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡに、パターン形成手段１０による光が照射されることで当該トナーＴが遊離して、移動手段４によりＢ方向に移動する基板ＰＬに付着することで、当該基板ＰＬにパターンが形成される。
これによれば、パターン形成装置１にレーザープリンターの構成を利用できるので、縮小投影型露光装置のような高額な設備を必要とせずに、基板ＰＬにパターンを形成できる。この他、当該パターンの形成に際して、縮小投影型露光装置で使用されるレチクルを用意する必要もなく、また、大きな基板からパターンが形成された領域を切断する処理も省略できる。従って、安価かつ簡易にパターンを基板ＰＬに形成できる。更に、縮小投影型露光装置を用いる場合に比べ、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００４０】
誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴは、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射されることで電荷が失われて露光面２１から遊離し、当該露光面２１との間に所定の隙間を介して配置された基板ＰＬに付着する。これによれば、露光面２１と基板ＰＬとが接触しないので、感光ドラム２の回転及び基板ＰＬの移動による露光面２１と基板ＰＬとのずれの発生を抑制でき、より精密にパターンを基板ＰＬに形成できる。
【００４１】
領域形成手段８が、形成されるパターンを鏡像反転させたパターンに応じた潜像を、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡにより描画するので、当該誘着領域ＡＡにトナーＴが誘着される。この潜像に対してパターン形成手段１０が列ごとに光を照射することで、当該潜像における誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴが遊離して基板ＰＬに付着する。これによれば、パターン形成手段１０は、当該潜像に光を照射すれば、基板ＰＬにパターンが形成されることとなるので、パターン形成手段１０によるレーザー光の照射時に、どの誘着領域ＡＡにレーザー光を照射してトナーＴを遊離させるべきかの判定処理を省略できる。従って、パターン形成手段１０による光照射の構成を簡略化でき、パターン形成制御部１２５の処理を簡略化できる。
【００４２】
回転手段３によって回転される感光ドラム２の露光面２１の移動速度は、移動手段４によって移動される基板ＰＬの移動速度より高く設定されている。これによれば、基板ＰＬにトナーＴが付着されて形成されるパターンは、露光面２１に形成された潜像を当該露光面２１の移動方向（Ａ方向）に縮小したパターンとなる。これによれば、基板ＰＬにトナーＴを密に付着させることができ、当該基板ＰＬに精度よくパターンを形成できる。
【００４３】
領域形成手段８は、レーザー光が照射されることで除電されてトナーが誘着されない列Ｃ１（非誘着領域ＮＡからなる列Ｃ１）と、誘着領域ＡＡが形成されてトナーが誘着されうる列Ｃ２とが、露光面２１の移動方向（Ａ方向）に沿って交互に配列された潜像を描画する。これによれば、パターン形成手段１０によりレーザー光を照射して露光面２１から標的のトナーＴを遊離させる際に、他のトナーＴの電荷によって当該標的のトナーＴが遊離しづらくなることを抑制できる。従って、基板ＰＬに対するパターンの形成を適切に行うことができる。
【００４４】
〔第２実施形態〕
以下、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態に係るパターン形成装置は、パターン形成装置１とは、基板ＰＬ上にパターンＰＴ１を形成する工程が異なる。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一または略同一である部分については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４５】
本実施形態に係るパターン形成装置は、パターン形成装置１と同様の構成を有する。
このうち、領域形成手段８は、帯電された露光面２１にレーザー光を照射して除電することでトナーＴが付着されない非誘着領域ＮＡと、トナーＴが付着される誘着領域ＡＡとが交互に配列された潜像ＰＴ４を形成する。
【００４６】
図６は、本実施形態に係るパターン形成装置の領域形成手段８が形成する潜像を示す図である。なお、図６においては、見易さを考慮して、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡのうち一部について符号を付す。
具体的に、領域形成手段８は、図６に示すように、感光ドラム２の中心軸に沿う方向であるＣ方向に沿ってレーザー光を照射して、当該Ｃ方向に沿って非誘着領域ＮＡが形成されトナーＴが誘着されない列ＣＡ１と、当該Ｃ方向に沿って非誘着領域ＮＡと誘着領域ＡＡとが交互に配列される列ＣＡ２とを、当該感光ドラム２の回転方向（露光面２１の移動方向）であるＡ方向に沿って交互に形成する。この際、領域形成手段８は、互いに隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方の列ＣＡ２における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置を、他方の列ＣＡ２とは反転させる。このため、図６において隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、左側の列ＣＡ２と右側の列ＣＡ２とは、誘着領域ＡＡの位置と非誘着領域ＮＡの位置とが逆になっている。これら隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方が本発明の第１列であり、他方が本発明の第２列に相当する。
【００４７】
なお、誘着領域ＡＡの寸法及び非誘着領域ＮＡの寸法（隣り合う誘着領域ＡＡ間の寸法）は、パターン形成手段１０により照射されるレーザースポットの直径、或いは、トナーＴの粒子の直径に応じた寸法に設定されている。このため、本実施形態では、誘着領域ＡＡの寸法と当該スポットの直径（１μｍ）とは略同じであり、トナーＴの粒子も１μｍに設定されている。
【００４８】
パターン形成手段１０は、Ｃ方向にレーザー光のスポットを移動させて露光面２１に当該レーザー光を照射して、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡのうち、基板ＰＬに形成するパターンに応じた位置の誘着領域ＡＡを除電し、当該誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴを遊離させる。これにより、基板ＰＬ上にトナーＴが付着され、基板ＰＬ上にパターンが形成される。この際、誘着領域ＡＡは、非誘着領域ＮＡにより囲まれているので、レーザー光の照射によって遊離される誘着領域ＡＡのトナーＴが、露光面２１から遊離しやすい。
【００４９】
図７は、基板ＰＬ上に形成されるパターンＰＴ３の一例を示す図である。また、図８は、トナーＴが誘着された誘着領域ＡＡのうち、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射される誘着領域ＡＡの位置、及び、当該レーザー光の照射順を示す模式図である。なお、図８におけるレーザー光の照射順を示す数字と、図７における数字とは対応している。
例えば、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３を基板ＰＬ上に形成する場合、パターン形成手段１０は、図８に示すように、露光面２１がＡ方向に移動して、列ＣＡ２（ＣＡ２１〜ＣＡ３０）のうち列ＣＡ２１がレーザー光の照射列となった際に、当該列ＣＡ２１に配列された誘着領域ＡＡのうち「１」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。
【００５０】
また、露光面２１が更に移動して、列ＣＡ２２がレーザー光の照射列となると、パターン形成手段１０は、当該列ＣＡ２２の誘着領域ＡＡのうち「２」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。これにより、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における左側の直線部分（縦線部分）に応じて、基板ＰＬ上にトナーＴが付着される。
なお、このように、形成されるパターンにおいて同じ直線（上記縦線部分）を形成するトナーＴを付着させる場合には、基板ＰＬの移動を停止させてもよい。
【００５１】
そして、パターン形成手段１０は、露光面２１が更に移動して、列ＣＡ２４，ＣＡ２５，ＣＡ２８〜ＣＡ３０がそれぞれレーザー光の照射列となった際に、当該各列ＣＡ２４，ＣＡ２５，ＣＡ２８〜ＣＡ３０の誘着領域ＡＡのうち「３」〜「７」と付された誘着領域ＡＡにレーザー光を照射する。これにより、図７に示す「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における斜線部分及び右側の直線部分に応じて、基板ＰＬ上にトナーＴが付着される。
このようにして、基板ＰＬ上に「Ｎ」字様のパターンＰＴ３が形成される。
なお、上記列ＣＡ２３、ＣＡ２６，ＣＡ２７のように、レーザー光が照射されない列が存在するのは、例えば列ＣＡ２１，Ｃ２２の誘着領域ＡＡにより形成されるパターンＰＴ３の左側の列（直線部分）のように、パターンにおける１つの列が２つの列ＣＡ２により形成されるので、当該パターンの形状によってはトナーＴを基板ＰＬに付着させる必要のない列ＣＡ２が存在するためである。
【００５２】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置１Ａによれば、前述のパターン形成装置１と同様の効果を奏することができる他、以下の効果を奏することができる。
すなわち、誘着領域ＡＡにおけるＡ方向及びＣ方向の端縁は、トナーＴが誘着されない非誘着領域ＮＡに接している。これによれば、基板ＰＬに付着させる標的のトナーが他のトナーによって誘着領域ＡＡから遊離しづらくなることを抑制できる。
また、パターン形成手段１０が、列ＣＡ２（例えば列ＣＡ２１）と、当該列ＣＡ２とは誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置とが反転した列ＣＡ２（例えば列ＣＡ２２）とに含まれる誘着領域ＡＡのうち、基板ＰＬに形成されるパターンに応じた位置の誘着領域ＡＡに光を照射してトナーＴを遊離させる。これにより、基板ＰＬにパターンを適切に形成できる。
【００５３】
ここで、感光ドラム２の回転速度（露光面２１の移動速度）が、基板ＰＬの移動速度以下である場合には、前述の「Ｎ」字様のパターンＰＴ３における縦線部分に付着するトナーＴのうち、列ＣＡ２１の誘着領域ＡＡに誘着されていたトナーＴと、列ＣＡ２２の誘着領域ＡＡに誘着されていたトナーＴとのＢ方向のずれが大きくなる。これに対し、感光ドラム２の回転速度が基板ＰＬの移動速度より高いので、当該ずれを小さくできる。従って、適切なパターンを基板上に形成できる。
なお、前述のように、形成されるパターンにおいて同一の直線部分を形成する際に、基板ＰＬの移動を停止させる構成である場合には、感光ドラム２の回転速度が、基板ＰＬの移動速度より高いことにより、パターン形成に要する時間を短縮できる。
【００５４】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態に係るパターン形成装置は、前述のパターン形成装置１と同様の構成を有する。しかしながら、当該パターン形成装置では、パターン形成速度を向上するために、領域形成手段８が、感光ドラム２の回転に伴って移動する露光面２１の移動方向に対して交差する方向に沿って誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡを有する列を形成し、パターン形成手段１０が、当該列の形成方向に沿ってレーザー光を照射する。この点で、本実施形態に係るパターン形成装置と、パターン形成装置１とは相違する。
【００５５】
図９は、本実施形態に係るパターン形成装置の領域形成手段８が形成する潜像の一部を示す図である。なお、図９においては、見易さを考慮して、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡのうち一部について符号を付す。
具体的に、領域形成手段８は、図９に示すように、Ａ方向に移動する露光面２１にレーザー光を照射して、非誘着領域ＮＡにより形成される列ＣＡ１と、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが交互に配列された列ＣＡ２とを、Ａ方向及びＣ方向に対してそれぞれ交差する方向に沿い、更に、当該列ＣＡ１と列ＣＡ２とがＡ方向に沿って交互に配列された潜像ＰＴ５を露光面２１に形成する。また、前述と同様に、列ＣＡ２を介して互いに隣り合う２つの列ＣＡ２のうち、一方における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置と、他方における誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡの位置とは逆になっている。
【００５６】
パターン形成手段１０は、Ｃ方向に沿ってレーザー光を照射するが、この際の感光ドラム２の回転は停止されていない。このため、Ａ方向に移動する露光面２１において列ＣＡ２の中心線Ｌ１に沿ってレーザー光が照射される。このような列ＣＡ２の中心線Ｌ１とＣ方向に沿う直線Ｌ２との交差角θは、Ｃ方向に沿って移動するレーザー光のスポットにより除電された１つの列ＣＡ２の誘着領域ＡＡから遊離したトナーＴにより基板ＰＬ上に形成されるトナーＴの列が、当該基板ＰＬ上でＢ方向に対して直交する方向に沿って形成されるように設定されている。換言すると、当該交差角θは、感光ドラム２の回転速度（露光面２１の移動速度）に応じて設定される。
【００５７】
このようなパターン形成手段１０が、各列ＣＡ２のうちレーザー光の照射列における誘着領域ＡＡにレーザー光を照射することで、基板ＰＬ上にトナーＴからなる所望のパターンを形成できる。例えば、パターン形成手段１０が、図９において数字が付された誘着領域ＡＡに対してレーザー光を照射することにより、基板ＰＬ上には、図７に示した「Ｎ」字様のパターンＰＴ４が形成される。
【００５８】
以上説明した本実施形態に係るパターン形成装置によれば、前述のパターン形成装置と同様の効果を奏することができる他、以下の効果がある。
すなわち、領域形成手段８により、露光面２１において列ＣＡ１，ＣＡ２がＡ方向及びＣ方向のそれぞれに対して交差する方向に沿って形成されるので、パターン形成手段１０が、Ｃ方向に沿ってレーザー光を移動させる際に、露光面２１を移動させたまま、列ＣＡ２の中心線Ｌ１に沿って当該レーザー光を確実に照射できる。従って、感光ドラム２の回転速度、及び、当該回転速度に基づいて設定される前述の交差角θを最適化することにより、パターンの形成効率を向上できる。
【００５９】
また、非誘着領域ＮＡにより構成される列ＣＡ１がレーザー光の照射列となっている間に、１つの列ＣＡ２にレーザー光を照射したパターン形成手段１０が、当該レーザー光の照射位置を初期位置に戻すことができる。この点においても、露光面２１を移動させたままで、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが配列された列ＣＡ２に対して、レーザー光を適切に照射することができ、基板ＰＬ上にパターンを効率よく形成できる。
【００６０】
なお、本実施形態では、前述の第２実施形態で示した潜像と同様の潜像を領域形成手段８が形成した。しかしながら、前述の第１実施形態と同様に、基板ＰＬに形成されるパターンを鏡像反転させたパターンに応じた潜像を、Ａ方向及びＣ方向に対してそれぞれ交差する方向に沿って、領域形成手段８が形成してもよい。この場合、パターン形成手段１０が、トナーＴが誘着した当該潜像に対してレーザー光を照射することで、基板ＰＬに当該パターンを形成できる。
【００６１】
〔実施形態の変形〕
本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態では、パターン形成装置は、視差により立体視可能な画像を表示する立体画像表示装置に採用される視差バリアのバリアパターンを基板ＰＬに形成するパターン形成装置として構成したが、本発明はこれに限らない。例えば、所定波長の光を透過する粒子を付着させることで所定のパターンが形成されたカラーフィルターを製造してもよく、同様に、偏光フィルターを製造してもよい。更に、それぞれ異なる性質を有する粒子を付着させて、基板ＰＬ上に複数の層を形成してもよい。加えて、基板ＰＬに形成されるパターンは、適宜選択可能である。
【００６２】
前記各実施形態では、基板ＰＬは、感光ドラム２の露光面２１との間に所定の隙間を介して配置されるとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、露光面２１と基板ＰＬとが接触し、当該露光面２１に誘着されたトナーが基板ＰＬの対象面ＰＬ１に付着されることでパターンが形成されるように、パターン形成装置を構成してもよい。
【００６３】
前記各実施形態では、パターン形成手段１０によりレーザー光が照射される部位、すなわち、露光面２１における基板ＰＬに最も近い部位での当該露光面２１の回転接線方向と、移動手段４により移動される基板ＰＬの移動方向とは、互いに反対方向であるとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、当該回転接線方向と、基板ＰＬの移動方向とが同じ方向となるように、移動手段４が基板ＰＬを移動させる構成としてもよい。
【００６４】
前記各実施形態では、回転手段３による露光面２１の移動速度は、移動手段４による基板ＰＬの移動速度より高い（速い）としたが、本発明はこれに限らない。すなわち、露光面２１の移動速度が、基板ＰＬの移動速度より低くてもよく、或いは、それぞれが同じであってもよい。
【００６５】
前記第１実施形態では、領域形成手段８は、トナーＴが付着されうる列と、トナーＴが付着されない列とが、露光面２１の移動方向（感光ドラム２の回転方向）に沿って交互に配列された潜像を形成するとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、当該トナーＴが付着されない列を形成せずに、領域形成手段８が潜像を形成する構成としてもよい。
【００６６】
また、前記第２実施形態では、領域形成手段８は、誘着領域ＡＡ及び非誘着領域ＮＡが感光ドラム２の中心軸に沿う方向であるＣ方向に交互に配列された列ＣＡ２と、非誘着領域ＮＡが当該Ｃ方向に沿って形成された列ＣＡ１とを、感光ドラム２の回転方向に沿って露光面２１に形成するとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、誘着領域ＡＡと非誘着領域ＮＡとが当該中心軸に沿って交互に形成された列と、当該列とは誘着領域ＡＡの位置と非誘着領域ＮＡの位置とが反転した列とが、感光ドラム２の回転方向に沿って露光面２１に形成されていれば、列ＣＡ１がなくても、誘着領域ＡＡに誘着されたトナーＴの遊離性を向上できる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、基板にパターンを形成するパターン形成装置及びパターン形成装置に利用でき、特に、基板にバリアパターンを形成して視差バリアを製造するパターン形成装置及びパターン形成方法として好適に利用できる。
【符号の説明】
【００６８】
１…パターン形成装置、２…感光ドラム、３…回転手段、４…移動手段、７…帯電手段、８…領域形成手段、９…誘着手段、１０…パターン形成手段、２１…露光面、ＡＡ…誘着領域、Ｃ１…列（非誘着領域が形成される列）、Ｃ２…列（誘着領域が形成される列）、ＣＡ２（ＣＡ２１〜ＣＡ３０）…列、ＮＡ…非誘着領域、ＰＬ…基板、ＰＴ１，ＰＴ３…パターン、ＰＴ２，ＰＴ４，ＰＴ５…潜像、Ｔ…トナー。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
周方向に沿う露光面を有する感光ドラムと、
前記感光ドラムの中心軸を中心として当該感光ドラムを回転させる回転手段と、
前記露光面にトナーが誘着される誘着領域、及び、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段と、
前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手段と、
前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手段と、
前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、当該基板に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を備える
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置において、
前記露光面を帯電させる帯電手段を備え、
前記基板は、透光性を有し、前記露光面との間に所定の隙間を介して配置され、
前記領域形成手段は、前記帯電手段により帯電された前記露光面に光を照射することで除電した前記非誘着領域と、除電されない前記誘着領域とを前記露光面に形成し、
前記パターン形成手段は、前記誘着領域に対して、前記基板における前記露光面に対向する側とは反対側から当該基板を介して光を照射して除電し、当該誘着領域から遊離させたトナーを前記基板に付着させて前記パターンを形成する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記誘着領域及び前記非誘着領域により構成され、かつ、前記パターンを鏡像反転させた潜像を前記露光面に描画する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のパターン形成装置において、
前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高い
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿って前記非誘着領域が形成される列と、前記誘着領域が形成される列とが、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に配列された前記潜像を描画する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記誘着領域と前記非誘着領域とが前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に交互に配列された第１列と、前記誘着領域の位置と前記非誘着領域の位置とが反転された第２列とを、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に形成し、
前記パターン形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に沿って光を照射して、前記第１列及び前記第２列に形成された前記誘着領域から、前記パターンに応じた位置の誘着領域を選択して除電する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成装置において、
前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高い
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
周方向に沿う露光面を有する感光ドラムを、当該感光ドラムの中心軸を中心として回転させる回転手順と、
前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手順と、
前記露光面にトナーが誘着される誘着領域と、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手順と、
前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手順と、
前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、前記パターンを形成する形成手順と、を有する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１】
基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、
周方向に沿う露光面を有する感光ドラムと、
前記感光ドラムの中心軸を中心として当該感光ドラムを回転させる回転手段と、
前記露光面にトナーが誘着される誘着領域、及び、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手段と、
前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手段と、
前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手段と、
前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、当該基板に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を備える
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン形成装置において、
前記露光面を帯電させる帯電手段を備え、
前記基板は、透光性を有し、前記露光面との間に所定の隙間を介して配置され、
前記領域形成手段は、前記帯電手段により帯電された前記露光面に光を照射することで除電した前記非誘着領域と、除電されない前記誘着領域とを前記露光面に形成し、
前記パターン形成手段は、前記誘着領域に対して、前記基板における前記露光面に対向する側とは反対側から当該基板を介して光を照射して除電し、当該誘着領域から遊離させたトナーを前記基板に付着させて前記パターンを形成する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項３】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記誘着領域及び前記非誘着領域により構成され、かつ、前記パターンを鏡像反転させた潜像を前記露光面に描画する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載のパターン形成装置において、
前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高い
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿って前記非誘着領域が形成される列と、前記誘着領域が形成される列とが、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に配列された前記潜像を描画する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
請求項２に記載のパターン形成装置において、
前記領域形成手段は、前記誘着領域と前記非誘着領域とが前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に交互に配列された第１列と、前記誘着領域の位置と前記非誘着領域の位置とが反転された第２列とを、前記感光ドラムの回転方向に沿って交互に形成し、
前記パターン形成手段は、前記感光ドラムの中心軸に沿う方向に沿って光を照射して、前記第１列及び前記第２列に形成された前記誘着領域から、前記パターンに応じた位置の誘着領域を選択して除電する
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項７】
請求項６に記載のパターン形成装置において、
前記回転手段により回転される前記感光ドラムの前記露光面の移動速度は、前記移動手段により移動される前記基板の移動速度より高い
ことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項８】
基板にパターンを形成するパターン形成方法であって、
周方向に沿う露光面を有する感光ドラムを、当該感光ドラムの中心軸を中心として回転させる回転手順と、
前記露光面における所定位置での前記感光ドラムの接線に沿って前記基板を移動させる移動手順と、
前記露光面にトナーが誘着される誘着領域と、トナーが誘着されない非誘着領域とを形成する領域形成手順と、
前記誘着領域にトナーを誘着させる誘着手順と、
前記露光面に誘着されたトナーを前記基板に付着させて、前記パターンを形成する形成手順と、を有する
ことを特徴とするパターン形成方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−２３７９２０（Ｐ２０１２−２３７９２０Ａ）
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１０７９３６（Ｐ２０１１−１０７９３６）
【出願日】平成２３年５月１３日（２０１１．５．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月６日（２０１２．１２．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月１３日（２０１１．５．１３）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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