ビスイミドフェノール誘導体及びその製造方法並びに高分子化合物
【課題】有機溶剤中での反応に十分な溶解性を有し、単純化された分子構造によって十分なイミド基含量を有する芳香族ビスイミドフェノール化合物から誘導された、耐熱性高分子材料の原料モノマー等として有用な芳香族ビスイミドフェノール誘導体を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５の水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基）に置換されたビスイミドフェノール誘導体。
（Ｒ１は最安定構造の理論計算で、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値｜α｜が４５゜〜９０゜の官能基。Ｒ５は−Ｈ又は｜α｜が０゜以上４５゜未満の官能基。Ｒ２〜Ｒ４は−Ｈ、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の有機基。Ｒ６は炭素数１〜１０の有機基。Ｘは単結合、炭素数１〜２０の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−。ｎ＝０〜３。Ｒ１〜Ｒ６≠ハロゲン原子。Ｒ２〜Ｒ５のうちの一つは水酸基。）
【解決手段】一般式（Ｉ）のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５の水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基）に置換されたビスイミドフェノール誘導体。
（Ｒ１は最安定構造の理論計算で、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値｜α｜が４５゜〜９０゜の官能基。Ｒ５は−Ｈ又は｜α｜が０゜以上４５゜未満の官能基。Ｒ２〜Ｒ４は−Ｈ、−ＯＨ又は炭素数１〜１０の有機基。Ｒ６は炭素数１〜１０の有機基。Ｘは単結合、炭素数１〜２０の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−。ｎ＝０〜３。Ｒ１〜Ｒ６≠ハロゲン原子。Ｒ２〜Ｒ５のうちの一つは水酸基。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規ビスイミドフェノール誘導体及びその製造方法と、このビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
イミド化合物は耐熱性に優れていることが知られており、イミド基を導入したモノマー化合物は、耐熱性が要求される高分子材料の原料として有用である。耐熱性高分子材料の代表的なものとして、芳香族ポリイミド樹脂があるが、融点が非常に高い上、一般的な有機溶剤に対する溶解性が非常に低く、作業性、加工性の面で問題が多い。例えば、ポリイミドを溶液として用いるには、Ｎ−メチルピロリドンのような高極性溶剤が必要であるが、Ｎ−メチルピロリドンのような高極性溶剤は沸点が非常に高いため、除去が困難であり、後工程でフクレの原因となりやすいなどの問題がある。
【０００３】
この対策として、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸の溶液を用い、溶剤を除去した後に加熱或いは化学的手法によってイミド環を閉環してポリイミド樹脂とする方法が知られている（非特許文献１）が、この方法では閉環時の体積収縮によって反りが起こるなどの問題がある。
【０００４】
一方で、ビスイミドフェノール化合物をモノマーとして用いる方法も開示されている（特許文献１〜４）。しかし、これまでに知られているビスイミドフェノール化合物は、一般的な有機溶剤への溶解性が十分でなかったり、また溶解性を付与するために分子構造を複雑にした結果、イミド基の濃度が低下してしまったりするものであった。
また、ビスイミドフェノール化合物は、末端がフェノール基であるため、これ自体のモノマーとしての適用範囲には限界があった。加えて、その溶剤溶解性の低さから、ビスイミドフェノール化合物に他の反応性官能基を導入することは非常に困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−３１９５２８号公報
【特許文献２】特開平２−７０７２２号公報
【特許文献３】特開平３−２０９８５８号公報
【特許文献４】特開２００７−９１７９９号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】「耐熱性高分子電子材料の展開」シーエムシー出版、２００８年、９２頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような状況を鑑みてなされたものであり、その課題は、樹脂の耐熱性改良が期待されるイミド基を含有し、一般的な有機溶剤中での反応に十分な溶解性を有し、また単純化された分子構造によって十分なイミド基含量を有する芳香族ビスイミドフェノール化合物から誘導された、耐熱性高分子材料の原料モノマー等として有用な芳香族ビスイミドフェノール誘導体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、特定の構造を有することで、一般的な有機溶剤への十分な溶解性を発現するビスイミドフェノール化合物に対して、種々の反応性官能基を導入したビスイミドフェノール誘導体を見出した。また、特定のアミノフェノール化合物と芳香族カルボン酸二無水物とを反応させることにより、このビスイミドフェノール化合物を製造し、更にこれを用いて一般的な変換反応で種々のビスイミドフェノール誘導体を製造することができることを見出した。
【０００９】
即ち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するビスイミドフェノール誘導体、に存する。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
【００１２】
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【００１３】
【化２】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００１４】
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian03 x86-Win32版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(3) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【００１５】
【化３】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００１６】
本発明の別の要旨は、下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物とを脱水縮合させることにより、前記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物を合成し、該ビスイミドフェノール化合物のフェノール性水酸基の水素原子をＲ７（Ｒ７は請求項１におけると同義である。）に置換することを特徴とする、上記ビスイミドフェノール誘導体の製造方法、に存する。
【００１７】
【化４】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００１８】
【化５】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００１９】
本発明の更に別の要旨は、上記ビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物、に存する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、樹脂の耐熱性改良が期待されるイミド基を含有するビスイミドフェノール誘導体であって、単純化された分子構造によって十分なイミド基含量を有すると共に、種々の反応性官能基を有することにより、高耐熱性の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂の原料モノマーとして、その他架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用な新規芳香族ビスイミドフェノール誘導体が提供される。
しかも、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、連結基が有し得る−Ｃ（ＣＦ３）２−以外にハロゲン原子を含まない低ハロゲン系化合物、或いは、ハロゲン原子を含まない非ハロゲン系化合物であるので、近年の脱ハロゲン化の流れの中で非常に好適である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２２】
なお、本発明において、「有機基」とは炭素原子を含む基であり、また、「官能基」とは有機基と水酸基などの無機基との総称である。
【００２３】
［ビスイミドフェノール誘導体］
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物（以下、「本発明のビスイミドフェノール化合物」と称す場合がある。）のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するものであり、重合反応等における取り扱い性に優れ、また、各種の反応性官能基に由来する様々な機能を有し、また、分子中のイミド基濃度が高いことから、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等に耐熱性を付与するための原料モノマーとして、その他、架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用である。
【００２４】
【化６】
【００２５】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
【００２６】
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【００２７】
【化７】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００２８】
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian03 x86-Win32版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(3) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【００２９】
【化８】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００３０】
｛ビスイミドフェノール化合物｝
まず、一般式（Ｉ）で表される本発明のビスイミドフェノール化合物について説明する。
このビスイミドフェノール化合物は各種の有機溶剤、特にケトン系溶剤に対する溶解度が高いという利点を有する。
【００３１】
＜溶解性発現の説明＞
イミド基含有化合物、特に芳香族イミド化合物は、イミド基を含む共役平面同士がスタッキングすることによる強い凝集力によって優れた物性を示す一方で、溶剤溶解性が非常に低く、取り扱いが困難であった。
【００３２】
本発明のビスイミドフェノール化合物が溶剤に対する溶解性に優れる理由の詳細は明らかではないが、以下のように推定される。
（１） イミド基のオルト位に適切な大きさの置換基Ｒ１を有することで、イミド基を含む共役平面が捻れを持ち、分子間のスタッキングが適度に阻害される。
（２） イミド基の両オルト位が非対称（Ｒ１≠Ｒ５）であることで結晶性が低下する。
【００３３】
本発明のビスイミドフェノール化合物では、これらの要因が協奏的に作用することによって良好な溶剤溶解性が発現している。
ただし、捻れを生じさせる置換基Ｒ１が大きすぎる場合は、イミド化合物の特徴である分子間のスタッキングを完全に阻害してしまい、十分な物性が得られない可能性があるため、該置換基Ｒ１は適度な大きさに留めるのが好ましい。
【００３４】
＜Ｒ１＞
Ｒ１は上記｜α｜が４５゜以上、９０゜以下の、ハロゲン原子以外の一価の官能基である。Ｒ１の｜α｜の下限は、分子間の重なりによる溶剤溶解性低下が起こりにくいことから、好ましくは４８°、より好ましくは５１°である。一方、｜α｜の上限は、置換基がイミド化合物の特徴である分子間のスタッキングの起きる適度な大きさであることから、好ましくは７５°、より好ましくは６０°である。
【００３５】
Ｒ１は、上記｜α｜を満たした上で、炭素イミドフェノール分子中のイミド基濃度、及び、イミド化合物に期待される物性が発現しやすい、即ち、分子量が過度に大きくないことにより、イミド基含量を十分なものとし、また、イミド化合物に期待される物性が、立体障害により分子間の相互作用が阻害されることにより損なわれないと思われることから、炭素数１〜１０の有機基が好ましく、炭素数１〜３の有機基が更に好ましく、炭素数１〜２の有機基が特に好ましい。
【００３６】
Ｒ１の具体例は、炭化水素基、芳香族基、アシル基（アルデヒド、ケトン）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、アルコキシル基、アリ−ロキシル基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいカルボキサミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ−ルチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基、トリアルキルシリル基等が挙げられる。中でも、｜α｜が好適範囲であることから、直鎖又は二級炭化水素基、アシル基（アルデヒド、ケトン）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、アルコキシル基、アリ−ロキシル基、置換されたアミノ基、置換されたカルボキサミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ−ルチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基が好ましく、とりわけ、直鎖炭化水素基、ホルミル基を除くアシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、置換されたアミノ基、スルホニル基、スルホ基が好ましい。
【００３７】
なお、｜α｜が４５〜９０°の官能基を表１に、また、これらのうち特にＲ１として好適な官能基（｜α｜＝４８〜７５°）について、その｜α｜と共に表２に示す（以下においてＰｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を示す。）。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
表２に示す官能基のうち、Ｒ１としては特に下記表３に示すもの（｜α｜＝５１〜６０°）が好ましい。
【００４１】
【表３】
【００４２】
＜Ｒ５＞
Ｒ５は、水素原子又は上記｜α｜が０°以上、４５°未満のハロゲン原子以外の一価の官能基である。｜α｜が０°となるのは、Ｒ５がイミド基のカルボニル酸素と強く相互作用するルイス酸性を有した置換基の場合であり、こうした場合にはＲ１による二面角の形成をＲ５が阻害し、十分な溶解性を確保できない可能性があることから、｜α｜の下限は、好ましくは１０°、より好ましくは２０°である。また、大きな捻れを生じさせる置換基は、Ｒ１によって生じた二面角を更に増大し、好ましい範囲を逸脱させるおそれがあることから、｜α｜の上限は、好ましくは４３°である。
【００４３】
Ｒ５の具体例としては、下記表４に｜α｜を示す水素原子又は官能基のような立体的に小さい水素原子又は官能基が挙げられ、この内、水素原子又は水酸基などの、立体的に小さく、ルイス酸性が小さい水素原子又は官能基が好ましい。
【００４４】
【表４】
【００４５】
＜Ｒ２〜Ｒ４＞
Ｒ２〜Ｒ４は、各々独立に、水素原子、水酸基、又は炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の一価の有機基を示すが、Ｒ２〜Ｒ４のうち、隣接する２つの基が互いに結合してベンゼン環に縮合する、炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ２〜Ｒ４としての炭素数１〜１０の有機基としては、特に限定されないが、各基の分子量が大きくなると相対的なイミド基含量が低下するため、炭素数３以下の有機基であることが好ましい。
【００４６】
Ｒ２〜Ｒ４の具体例としては、各々独立に、水素原子、炭化水素基、芳香族基（複素環基を含む）、カルボニル基（アルデヒド、ケトン、エステル、アミド等）、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、ジアルキルアミノ基が挙げられる。Ｒ２〜Ｒ４が炭化水素基の場合、炭素数が１０以下であれば置換基を有していてもよく、該置換基としては、複素環基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、シリル基が挙げられる。
【００４７】
Ｒ２〜Ｒ４としては、各々独立に、水素原子、水酸基又はメチル基であることが好ましい。
【００４８】
＜Ｒ２〜Ｒ５の水酸基＞
本発明のビスイミドフェノール化合物においては、Ｒ２〜Ｒ５のうち、いずれか一つは水酸基である必要がある。
これは、本発明のビスイミドフェノール化合物を原料モノマーとして用いて高分子量化する場合に、反応可能な置換基がないと重合できないこと、また、最も汎用性の高い反応性の置換基が水酸基であることによる。
ただし、一分子中に水酸基が３個以上あり、３官能以上になるとゲル化するので、Ｒ２〜Ｒ５のいずれか一つずつが水酸基であり、一分子中のイミド基に結合した２個のベンゼン環に各々１個ずつの水酸基が結合していればよい。
【００４９】
＜Ｒ６＞
Ｒ６は、各々独立に、炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の一価の有機基を示し、１つのベンゼン環上でＲ６が隣接する位置にある場合、隣接する２つのＲ６は互いに結合してベンゼン環に縮合する、炭素数２０以下の環を形成していてもよい。
Ｒ６としては、炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の有機基であれば、特に限定されないが、各基の分子量が大きくなると、相対的なイミド基含量が低下するため、炭素数３以下の有機基であることが好ましい。
【００５０】
Ｒ６の具体例としては、各々独立に、炭化水素基、芳香族基（複素環基を含む）、カルボニル基（アルデヒド、ケトン、エステル、アミド等）、ジアルキルアミノ基が挙げられる。Ｒ６が炭化水素基の場合、炭素数が１０以下であれば置換基を有していてもよく、該置換基としては、複素環基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、シリル基が挙げられる。
【００５１】
＜Ｘ＞
Ｘは単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−、又は−ＳＯ２−を示す。Ｘが二価の有機基の場合、その分子量が大きくなると相対的にイミド基含量が低下するため、炭素数１〜１０の有機基であることが好ましく、炭素数１〜３の有機基であることが好ましい。炭素数１〜３の二価の有機基としては具体的には、メチレン基、２，２−プロピリデン基、オキシメチレン基等が挙げられる。
【００５２】
Ｘとしては、特に単結合、オキシメチレン基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−、又は−ＳＯ２−が好ましい。
【００５３】
＜ｎ＞
ｎは０〜３の整数であるが、ｎが大きく、ビスイミドフェノール化合物の分子量が大きくなると、相対的なイミド基含量が低下するため、ｎは０又は１が好ましい。
【００５４】
＜対称性＞
本発明のビスイミドフェノール化合物において、連結基Ｘで連結される左右の環構造のベンゼン環部分に結合するＲ１〜Ｒ６と、Ｒ６の個数を表すｎは、左右で各々同一でも異なってもよいが、同一の方が分子の対称性がよく、高分子量化した際にイミドの特徴である凝集力を損なわないことから好ましい。
【００５５】
＜分子量＞
本発明のビスイミドフェノール化合物の分子量の下限は５０４であるが、その上限としては、１０００以下、特に８００以下、とりわけ６００以下であることが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール化合物の分子量が過度に小さいと、本発明のビスイミドフェノール化合物の分子設計が不可能であり、逆に過度に大きいと、ビスイミドフェノール化合物、ひいては本発明のビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量が小さくなり、好ましくない。
【００５６】
＜イミド基含量＞
本発明のビスイミドフェノール化合物のイミド基含量（本発明のビスイミドフェノール化合物１ｇ当たりのイミド基のモル量）は、本発明のビスイミドフェノール誘導体がイミド基含量の多い、耐熱性高分子材料の原料モノマーとして有用なビスイミドフェノール誘導体となり得ることから、０．２２ｍｍｏｌ／ｇ以上、特に１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上、とりわけ２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましい。なお、イミド基含量の最大値は、理論的には４．０ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５７】
イミド基含量等の本発明のビスイミドフェノール化合物の構造は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル分析法：重ジメチルスルホキシド溶媒）、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル法）、ＭＳ（質量分析法）によって確認することができる。
【００５８】
＜溶剤に対する溶解度＞
本発明のビスイミドフェノール化合物は、ケトン系溶剤に対する溶解度が高い。具体的には、本発明のビスイミドフェノール化合物の内、好ましいものは、ケトン系溶剤に対し、６０℃で０．５重量％以上の溶解度を示し、更に好ましいものは１．０重量％以上の溶解度を示し、特に好ましいものは２．０重量％以上の溶解度を示し、最も好ましいものは３．０重量％以上の溶解度を示す。
【００５９】
ここで、ケトン系溶剤とは、ケトン基を有する液体を指す。中でも、ビスイミドフェノールの反応を妨げないように非プロトン性であることが望ましく、例えばアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ジイソプロピルケトン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘキシルメチルケトン、アセトフェノン、アセチルアセトン等が挙げられる。
【００６０】
これらのケトン系溶剤をはじめとして、各種の有機溶剤に対する溶解度がごく僅かであっても、部分的にでも溶解していれば温度や時間をかけることで反応は進行するが、実際の作業性を考慮すると溶解度は高いことが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール化合物が溶剤溶解性を有することで、種々の本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造が容易となり、好ましい。
【００６１】
なお、本発明のビスイミドフェノール化合物の溶剤に対する溶解度の測定方法は以下の通りである。
【００６２】
（溶解度の測定方法）
サンプル瓶に、ビスイミドフェノール化合物と溶剤を入れ、時々手で振り混ぜながら、油浴中で６０℃で２時間加熱した際の溶解性を目視で確認する。高濃度から測定を開始し、溶け残りがある場合には少量ずつ溶剤を足して濃度を下げ、完全に溶解した時点の濃度を溶解度とする。
【００６３】
｛ビスイミドフェノール誘導体｝
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述の本発明のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するものである。
【００６４】
＜Ｒ２〜Ｒ５の−Ｏ−Ｒ７＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体においては、前述の一般式（Ｉ）におけるＲ２〜Ｒ５のうち、何れか１つは−Ｏ−Ｒ７である。
ここで、Ｒ７は、反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基であり、複数のＲ７を有する場合は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ここで、Ｒ７の炭素数は反応性官能基の炭素数も含めたＲ７全体の炭素数である。
【００６５】
Ｒ７の炭素数は、ビスイミドフェノール誘導体中におけるイミド基濃度を高くしやすい点では、少ない方が好ましいが、また、一方で、ビスイミドフェノール誘導体の溶剤溶解性の点では、多い方が好ましい。具体的には、炭素数が１６以下であるのが好ましく、８以下であるのが更に好ましく、６以下であるのが特に好ましく、４以下が最も好ましい。
【００６６】
Ｒ７が有する反応性官能基とは、それ自体、又は他の官能基と化学反応することで共有結合を生成し、高分子量化されることが可能な官能基全般を指す。
【００６７】
Ｒ７が有する反応性官能基としては、例えば、エポキシ基、ビニル基、エチニル基、アミノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、エピチオ基、カルボキシ基、チオカルボキシ基、ジチオカルボキシ基、酸無水物基、アルコキシカルボニル基、ハロホルミル基、ヒドラジノ基、ホルミル基、チオホルミル基、アジド基等が挙げられる。これらのうち、エポキシ基及び不飽和結合を有する官能基（ビニル基、エチニル基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、アジド基等）が好ましく、エポキシ基及びオレフィン性官能基（ビニル基、エチニル基等）が更に好ましい。
【００６８】
Ｒ７の具体例としては、例えば以下のような構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、以下の構造式において、Ｑは任意の置換基を表すが、Ｒ７全体としての炭素数は２０以下であり、複数のＱは互いに同一でも異なっていてもよい。また、※は一般式（Ｉ）における両端のベンゼン環への結合位置を示す。ｍは０〜４の整数を示し、ｐは０〜３の整数を示す。
【００６９】
【化９】
【００７０】
＜分子量＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子量の下限は５５２であるが、その上限としては、１２００以下、特に１００００以下、とりわけ８００以下であることが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子量が過度に小さいと、本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子設計が不可能であり、逆に過度に大きいと、ビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量が少なくなり、好ましくない。
【００７１】
＜イミド基含量＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量（本発明のビスイミドフェノール誘導体１ｇ当たりのイミド基のモル量）は、イミド基含量の多い、耐熱性高分子材料の原料モノマーとして有用なビスイミドフェノール誘導体となり得ることから、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上、特に０．８ｍｍｏｌ／ｇ以上、とりわけ１．８ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましい。なお、イミド基含量の最大値は、理論的には３．６ｍｍｏｌ／ｇである。
【００７２】
イミド基含量等の本発明のビスイミドフェノール誘導体の構造は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル分析法：重クロロホルム又は重ジメチルスルホキシド溶媒）、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル法）、ＭＳ（質量分析法）によって確認することができる。
【００７３】
＜用途＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体の用途としては、特に制限はないが、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、例えば、高耐熱の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂原料、架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用である。
【００７４】
［ビスイミドフェノール誘導体の製造方法］
本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法には特に制限はないが、例えば、前述の本発明のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基の水素原子を、前述のＲ７に置換することにより製造することができる。
以下に、本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法を、本発明のビスイミドフェノール化合物を製造し、得られたビスイミドフェノール化合物の水酸基の変換反応で製造する方法について説明するが、本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法は何ら以下の方法に限定されるものではない。
【００７５】
｛ビスイミドフェノール化合物の製造方法｝
本発明のビスイミドフェノール化合物の製造方法には特に制限はないが、例えば、下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物を脱水縮合させる本発明の製造方法により製造することができる。
【００７６】
【化１０】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００７７】
【化１１】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００７８】
前記一般式（II）で表されるアミノフェノール（以下、単に「アミノフェノール」と称す。）と、前記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物（以下単に「芳香族カルボン酸二無水物」と称す。）の脱水縮合は、フェノール性水酸基によるエステル生成の副反応を最小化する観点から、イミド閉環（脱水）が起こらない温度条件でこれらの原料をアミック酸としてから（以下「一段目反応」と称す場合がある。）、反応温度を上げてイミド環を形成させる（以下「二段目反応］と称す場合がある。）手法で行うのが好ましい。
【００７９】
アミック酸を生成させる際に、活性プロトンが存在すると酸無水物基と副反応を起こし、アミック酸の生成を阻害することから、アミック酸の生成は非プロトン性の有機溶剤中で加熱して行うのが好ましい。
アミック酸からイミド環を形成させる脱水反応は、生成したアミック酸を更に加熱して行ってもよく、また、脱水剤を用いて行ってもよい。この脱水反応は、溶剤存在下でも不在下でも構わない。
【００８０】
以下、アミノフェノールと芳香族カルボン酸二無水物との脱水縮合反応による本発明のビスイミドフェノール化合物の製造方法につき、詳細に説明する。
【００８１】
＜アミノフェノール＞
前記一般式（II）で表されるアミノフェノールとしては、例えば、次のようなものが挙げられる。
【００８２】
（｜α｜＝５１°〜６０°のもの）
<安息香酸類：Ｒ１＝ＣＯＯＨ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−プロピル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，５−ジメチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，６−ジメチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エチルチオ安息香酸、２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、６−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸、２−アミノ−５−エトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−５−ベンジロキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−メチル−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−６−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、６−アミノ−３−エチル−２−ヒドロキシ安息香酸
【００８３】
<安息香酸メチル類：Ｒ１＝ＣＯＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸メチル、２−アミノ−５−エトキシ−３−ヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−メトキシカルボニル−２−アミノフェノール、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−６−［（２−トリメチルシリルエトキシ）メトキシ］安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸メチル、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル安息香酸メチル、２−アミノ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−メトキシカルボニル−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ベンゾイルオキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−６−ヒドロキシ安息香酸メチル、６−アミノ−３−エチル−２−ヒドロキシ安息香酸メチル
【００８４】
<アセトフェノン類：Ｒ１＝ＣＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−６−メチルアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，６−ジメチルアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−プロピルアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−６−フェニルアセトフェノン、２−アミノ−５−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−３−メトキシ−５−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−６−メチルアセトフェノン、２−アミノ−６−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−メチルアセトフェノン
【００８５】
<ジメチルアニリン類：Ｒ１＝ＮＭｅ２>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
【００８６】
<アセチルアニリン類：Ｒ１＝ＮＨＣＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−カルボキシ−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−アセチル−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン
【００８７】
<スルホン酸メチル類：Ｒ１＝ＳＯ３Ｍｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−５−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−６−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル
【００８８】
<メチルスルホン類：Ｒ１＝ＳＯ２Ｍｅ>
（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−５−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−６−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン
【００８９】
<アミノフェノール類：Ｒ１＝Ｍｅ>
４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、３−アミノ−４−メチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジメチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，３，４−トリメチルフェノール、５−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，５，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５，６−テトラメチルフェノール
２−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、２−アミノ−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール、２−アミノ−３−メチル−６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−アミノ−２，３−ジメチル−６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−アミノ−３−メチル−５−（２−トリル）フェノール、２−（１−アダマンチル）−５−アミノ−４−メチルフェノール、４−アミノ−２−イソプロピル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−（１，１−ジメチルプロピル）−５−メチルフェノール、４−アミノ−５−メチル−２−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、４−アミノ−２−（４−シクロヘキシルブチル）−５−メチルフェノール、４−アミノ−６−エチル−２，３−ジメチルフェノール、２−ヒドロキシ−６−メチル−３−アニシジン、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチル−５−アニシジン、２−ヒドロキシ−６−メチル−４−アニシジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−３−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−アニシジン、２−アミノ−５−ヘキサデシルオキシ−４−イソブチル−３−メチルフェノール、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸、３−アミノ−５−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３−イソプロピル−６−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチルアセトフェノン、４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルアセトフェノン、２−アミノ−４−シアノ−３，５−ジメチルフェノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−アミノ−４，５−ジメチル−２−ヒドロキシベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド、２−アミノ−５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−３−メチルフェノール、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチルベンゾフェノン、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノン、２−アセトキシ−４−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、２−アセチルアミノ−４−アミノ−５−メチルフェノール、４−アセチルアミノ−２−アミノ−３−メチルフェノール、６−アセチルアミノ−２−アミノ−３−メチルフェノール、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−２−（４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパンアミド、２−アミノ−３−メチル−４，６−ビス（Ｎ−ピペリジニルメチル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−２，６−ビス（Ｎ−ピペリジニルメチル）フェノール、２−アミノ−３−メチル−４，６−ビス（Ｎ−ピロリジニルメチル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−２−（３−チオフェニル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−６−（３−チオフェニル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−６−（３−チオフェニルメチル）フェノール
【００９０】
（｜α｜＝４８°〜７５°のもの）
<Ｒ１＝Ｅｔ>
３−アミノ−２−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチル−２，６−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジエチルフェノール、３−アミノ−４−エチルフェノール、５−アミノ−４−エチル−２−メトキシカルボニルフェノール、２−アミノ−３−エチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジエチルフェノール
【００９１】
<Ｒ１＝ｉＰｒ>
３−アミノ−２−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、２−アセチル−４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、４−アミノ−６−カルボキシ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−２，５−ジイソプロピルフェノール、３−アミノ−４−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール
【００９２】
<Ｒ１＝ＯＭｅ>
３−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２，５−ジメトキシアニリン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−エトキシカルボニル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−２，５−ジメトキシアニリン、４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−２−アニシジン、４−アミノ−２，３−ジメトキシ−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメトキシフェノール、４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、５−ヒドロキシ−３−メチル−２，４−ジメトキシアニリン、５−ヒドロキシ−４−ベンゾイルアミノ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−アセチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−［２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル］−２−アニシジン、２−ヒドロキシ−３−カルボキシメチル−４，６−ジメトキシアニリン、６−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、３−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、２，３，４−トリメトキシ−６−アミノフェノール
【００９３】
<Ｒ１＝ＳＭｅ>
２−メチルチオ−３−アミノフェノール、３−メチルチオ−４−アミノフェノール、４−メチルチオ−３−アミノフェノール、２−メトキシ−４−メチルチオ−５−アミノフェノール、２，４−メチルチオ−５−アミノフェノール、３−メチルチオ−２−アミノフェノール
【００９４】
<Ｒ１＝ＣＯＮＨ２>
２−アミノ−６−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−５−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシベンズアミド、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−エトキシカルボニルベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド
【００９５】
（｜α｜＝４５°〜９０°のもの）
<Ｒ１＝ｔＢｕ>
３−アミノ−２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
【００９６】
<Ｒ１＝Ｐｈ>
３−アミノ−２−フェニルフェノール、４−アミノ−３−フェニルフェノール、４−アミノ−２，５−ジフェニルフェノール、３−アミノ−４−フェニルフェノール、５−アミノ−２−メトキシカルボニル−４−フェニルフェノール、２−アミノ−３−フェニルフェノール
【００９７】
<Ｒ１＝ＳｉＭｅ３>
３−アミノ−２−トリメチルシリルフェノール、４−アミノ−３−トリメチルシリルフェノール、３−アミノ−４−トリメチルシリルフェノール、２−アミノ−３−トリメチルシリルフェノール
【００９８】
<Ｒ１＝ＣＯＮＨＭｅ>
２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド
【００９９】
中でも、分子量が小さく、置換基の反応性が低いことから、以下のものが好ましい。
<Ｒ１＝ＮＭｅ２>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
【０１００】
<Ｒ１＝Ｍｅ>
４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、３−アミノ−４−メチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジメチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，３，４−トリメチルフェノール、５−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，５，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５，６−テトラメチルフェノール、２−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、４−アミノ−２−イソプロピル−５−メチルフェノール、４−アミノ−６−エチル−２，３−ジメチルフェノール、２−ヒドロキシ−６−メチル−３−アニシジン、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチル−５−アニシジン、２−ヒドロキシ−６−メチル−４−アニシジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−３−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−アニシジン、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸、３−アミノ−５−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３−イソプロピル−６−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル
【０１０１】
<Ｒ１＝Ｅｔ>
３−アミノ−２−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチル−２，６−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジエチルフェノール、３−アミノ−４−エチルフェノール、２−アミノ−３−エチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジエチルフェノール
【０１０２】
<Ｒ１＝ｉＰｒ>
３−アミノ−２−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、２−アセチル−４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジイソプロピルフェノール、３−アミノ−４−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール
【０１０３】
<Ｒ１＝ＯＭｅ>
３−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−５−メトキシ−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−２−アニシジン、４−アミノ−２，３−ジメトキシ−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメトキシフェノール、５−ヒドロキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メトキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メトキシ−３−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−アセチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−［２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル］−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、３−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、２，３，４−トリメトキシ−６−アミノフェノール
【０１０４】
これらのうち、特に、４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノールなどが、得られるビスイミドフェノール化合物の溶解性と凝集力のバランスや、入手の容易さから好ましい。
【０１０５】
これらのアミノフェノールは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、対称性のよいビスイミドフェノール化合物を製造する上で、好ましくは１種のみを用いる。
【０１０６】
＜芳香族カルボン酸二無水物＞
前記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ａ−ＢＰＤＡ）、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）等のテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物等の（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等のベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。中でも、それ自体の分子の対称性がよく、ビスイミドフェノール化合物全体としての対称性をよくしてイミドの性質を十分に発揮させ、前記｜α｜を適切に設定することで必要な溶解性を確保することができ、また、入手容易であることから、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などが好ましい。
なお、これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０７】
＜溶剤＞
一段目反応に用いられる溶剤は、前述の如く、活性プロトンが存在すると酸無水物基と反応する可能性があり、アミック酸生成を妨げることから、非プロトン性有機溶剤が好ましい。二段目反応に溶剤を用いる場合、その溶剤には特に制限はない。この場合、アミック酸を生成する一段目反応とイミド環を生成する二段目反応で用いる溶剤は、同一でも異なってもよいが、簡便性の点では、溶剤交換の煩雑さを避けるために同一とするか、或いは異なる溶剤を用いる場合は二段目反応において、更に別の溶剤を追加するようにすることが好ましい。
【０１０８】
一段目のアミック酸を生成する際に用いる有機溶剤は、芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールを部分的にでも溶解可能で、かつ反応条件において原料と反応しない非プロトン性有機溶剤であればよく、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル系溶剤；トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、アニソール等の芳香族系溶剤などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。混合して用いる場合は、反応初期から混合されていてもよく、また反応の途中で添加されてもよい。
【０１０９】
＜原料比率・原料温度＞
反応に供する芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールとのモル比率は、両原料が残留しない反応当量の１：２が最も好ましい。しかしながら、除去容易なアミノフェノールが芳香族カルボン酸二無水物に対し、必要量以上（芳香族カルボン酸二無水物１モルに対し２モル以上）であっても構わない。即ち、アミノフェノールは酸処理によって水溶化するため、反応後に残留しても除去が容易である。一方、酸無水物基は、アルカリ処理によってジカルボン酸のアルカリ塩とし、水溶化することは可能であるが、生成したビスイミドフェノールもアルカリ塩となることから、アミノフェノールに比べて芳香族カルボン酸二無水物は、分離、精製しにくい。反応に供する芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールのモル比率としては、芳香族カルボン酸二無水物：アミノフェノールが１：２〜１：４が好ましく、１：２〜１：３が更に好ましく、１：２が特に好ましい。
【０１１０】
一段目反応と二段目反応を溶剤を用いて行う場合、アミノフェノールの反応溶液中濃度としては０．２〜９５重量％、特に１〜５５重量％、とりわけ３〜３５重量％とすることが好ましい。また、芳香族カルボン酸二無水物の反応溶液中濃度としては０．０２〜８８重量％、特に２〜６４重量％、とりわけ、５〜５０重量％とすることが好ましい。
また、反応溶液中の芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールの合計濃度は特に限定されないが、作業性の問題から、アミック酸を生成する一段目反応では８〜８５重量％が好ましく、イミド環を生成する二段目反応では５重量％以上が好ましい。なお、この二段目反応は無溶剤で行われても構わない。
【０１１１】
＜触媒＞
一段目反応も、二段目反応も、多くの場合、無触媒でも十分に反応は進行するが、必要に応じて触媒を用いてもよい。触媒としては、例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンのような芳香族アミン；トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルフォリン、Ｎ−メチルピペリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ウロトロピン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミンのような３級アミン化合物；酢酸、トリフルオロ酢酸、フェノール化合物、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ホウ酸、リン酸のようなブレンステッド酸性化合物；アルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマス、ランタノイド類、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、マンガン、レニウム、鉄、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛等を含むルイス酸性化合物等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
触媒の使用量には特に制限はないが、反応点となる酸無水物基に対して概ね１０モル％以下、例えば１〜５モル％程度とするのが好ましい。
なお、触媒の有無により、以下に記載する反応条件を変える必要はない。
【０１１３】
＜脱水剤＞
二段目反応の脱水反応を脱水剤を用いる化学的手法で行う場合、その方法としては、例えば無水酢酸とピリジンのように酸無水物と塩基を併用する方法や、酸ハライドと塩基を併用する方法、またＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド系化合物やリン酸系の脱水縮合剤を用いる方法が挙げられる。
【０１１４】
これらの脱水剤の使用量としては特に制限はないが、例えば酸無水物基に対して１．０〜２．０モル当量程度とすることが好ましい。
これらの脱水剤を用いる場合、一段目反応終了後に、上記適当量の脱水剤を反応系に添加して二段目反応を行えばよい。
【０１１５】
＜反応条件＞
反応温度、反応時間などの反応条件は、イミド環が生成される条件であればよいが、作業性の観点から以下の範囲内が好ましい。
【０１１６】
即ち、アミック酸を生成する一段目反応では、反応温度は、イミドの閉環反応（脱水）が起こらない条件が望ましいことから、上限として１１０℃が好ましく、１００℃が更に好ましく、９５℃が特に好ましく、９０℃が最も好ましい。また、同下限は、低すぎると反応速度が遅くなり効率が低下することから、５℃が好ましく、４０℃が更に好ましく、６０℃が特に好ましい。この一段目反応のアミック酸の生成反応の反応時間は温度にもよるが、下限が通常０．５時間、好ましくは１時間、同上限が通常１２時間、好ましくは６時間である。
反応圧力は、常圧又は加圧が好ましく、常圧が更に好ましい。
【０１１７】
一段目反応において、加熱時の突沸を防ぐため、反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラーを用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
【０１１８】
二段目反応のイミド環の生成段階で、加熱による脱水を行う場合の反応温度は、水が揮発して反応系外に除去されるに十分な温度が必要であることから、下限は好ましくは１２０℃、より好ましくは１３０℃、特に好ましくは１４０℃であり、同上限は、生成物の熱分解を防ぐ観点から、好ましくは２５０℃、より好ましくは２００℃がよい。脱水反応は、除去された水の量が理論量に達するまで行われ、ほとんどの場合２４時間以内である。
【０１１９】
脱水剤を用いる化学的手法によって脱水を行う場合の反応温度は、水を加熱留去する必要性がないことから、通常５〜１００℃とする。
脱水剤を用いて脱水を行う場合、溶剤を必要とするが、加熱による脱水を行う場合は、溶剤は存在してもしなくてもよく、例えばある溶剤中でアミック酸を生成させた後に、別の高沸点の溶剤に置換して加熱脱水を行ったり、或いはアミック酸から溶剤を留去して無溶剤で加熱脱水を行ったりすることもできる。
【０１２０】
二段目反応において、溶剤を用いる場合、反応圧力は常圧でよく、溶剤を用いない場合には常圧でも減圧でもよいが、脱水をスムーズに進行させるためには減圧であることが好ましい。また、溶剤を用いる場合、一段目反応と同様に加熱時の突沸を防ぐため、反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラーを用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
二段目反応を無溶剤で行う場合には継続的な撹拌は不要である。
【０１２１】
＜その他の添加剤＞
本発明の方法では、本発明の反応を大幅に妨げなければ、反応系に、酸化防止剤、界面活性剤等の添加剤を加えてもよいが、イミド化の反応を妨げないよう必要最低限に止めるべきであり、これらの添加剤を添加する場合、添加量は原料の５重量％以下とすることが好ましい。
これらの添加剤としては、イミド環の形成の点から、原料以外の１級アミン、２級アミン、フェノール類を除くアルコール、原料以外の酸無水物、イソシアネート化合物等以外の物質が好ましい。
【０１２２】
＜反応の進行状況の確認＞
反応の進行は、薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）やガスクロマトグラフィ（ＧＣ）、液体クロマトグラフィ（ＬＣ）等によって原料の消費をモニターすることで確認することができる。また、加熱脱水法においてはより簡便に、除去された水の量によって反応の進行を確認することができる。例えば、溶媒を用いる方法においては、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管を用いることで水の量を測定することができ、溶媒を用いない方法においては、重量の減少によって除去された水の量を知ることができ、これによって反応の進行を確認することができる。
【０１２３】
＜生成物の回収、精製＞
一段目反応及び二段目反応を経て生成したビスイミドフェノール化合物は、溶剤を用いた場合には溶液となるか、あるいは析出して分散液か沈殿物となる。溶液となっている場合には溶剤を蒸発させて除去したり、又はビスイミドフェノール化合物が溶解しない貧溶媒を混合することで析出させたりして固体として得ることができる。分散液や沈殿物となっている場合にはそのまま濾取することも可能であるし、貧溶媒と混合することでさらに濾取しやすくすることもできる。濾過は加圧、常圧、減圧濾過のいずれを用いてもよい。
【０１２４】
濾取したビスイミドフェノールは、原料の比率が適切であれば十分な純度で得られるが、残留アミノフェノールや微量の着色成分等の不純物が問題となる場合には、更に精製することもできる。
【０１２５】
精製法としては、ビスイミドフェノールが溶解せず、不純物が溶解する溶剤を用いて洗浄除去する方法が最も簡便であり、この場合、用いる溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。どの溶剤が適切であるかは、ビスイミドフェノールによって異なる。また、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の酸で洗浄することで、残留アミノフェノールをより効率的に除去することができる。
【０１２６】
不純物が結晶中に取り込まれて、洗浄では除去が困難である場合には、再結晶法が有効である。再結晶は、濾取したビスイミドフェノールを一旦溶剤に溶解し、貧溶媒を加えて再度析出させた後、濾取することにより行うことができる。ビスイミドフェノールを溶解する溶剤と貧溶媒の組み合わせとしては特に限定されないが、例えばアセトン／水、Ｎ−メチルピロリドン／水、Ｎ−メチルピロリドン／トルエン等が挙げられる。更にこれを濾取した後、前述の洗浄を行ってもよい。
【０１２７】
ビスイミドフェノールの乾燥法は特に限定されず、加温されていてもいなくてもよく、減圧されていてもいなくてもよい。
【０１２８】
上記の好ましい条件で反応及び精製を行えば、収率は良好であり、通常、本発明の方法によれば、８０〜１００％の収率で目的とするビスイミドフェノール化合物を得ることができる。
【０１２９】
なお、不純物として混入する可能性のあるものとしては、例えば、未反応の原料、アミノフェノール中に含まれる不純物のジアミンが反応してできたイミドオリゴマー、残留溶剤、アミンの酸化物等が挙げられる。
【０１３０】
｛ビスイミドフェノール誘導体の製造方法｝
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述の本発明のビスイミドフェノール化合物を原料とし、例えば、Ｒ８−Ｌ（Ｒ８は前述のＲ７又はその前駆体基であり、Ｌは、ビスイミドフェノール化合物との反応でＲ８を分離し得る相手基である。）で表される種々の反応剤を反応させて化学変換を経ることで製造される。この化学変換は一段階でもよいし、二段階以上の複数の工程を経てもよい。また複数の工程を経る場合は、ワンポットで行われてもよく、工程毎に単離・精製されてもよい。即ち、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述のビスイミドフェノール化合物を原料として、そのフェノール性水酸基の水素原子をＲ７に置換することにより製造されるが、Ｒ７は、ビスイミドフェノール化合物に直接１段反応で導入してもよいし、ビスイミドフェノール化合物にＲ７の前駆体基を導入してこれをＲ７に変える多段反応で導入してもよい。
また、化学変換の原料となる本発明のビスイミドフェノール化合物は、精製されたものであってもよく、精製前の不純物を含むものであってもよい。
【０１３１】
反応性官能基を有する置換基Ｒ７を導入する方法としては、従来公知のいずれの方法でもよく、例えば以下の文献に記載されている方法を用いることができる。
「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ ２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ」Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、１９９９年
「Ｍｅｔａｌ−ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ」Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、１９９８年
【０１３２】
＜溶剤＞
ビスイミドフェノール化合物の化学変換反応（以下「本発明の変換反応」と称す場合がある。）には溶剤を用いてもよい。ここで用いる溶剤としては、原料となるビスイミドフェノールを僅かでも溶解することができれば使用が可能であるが、作業上の簡便さや反応性を考慮するとビスイミドフェノール化合物の溶解度が高い溶剤であることが好ましい。例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素等のアミド系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチロラクトン、カプロラクトン等のエステル系溶剤；ピリジン、トリエチルアミン等のアミン系溶剤；ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホン系溶剤等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、単独ではビスイミドフェノール化合物を溶解できない溶剤であっても、これらの溶剤と混合することで反応に適した溶剤を併用することも可能であり、例えばトルエン、キシレン、メシチレン、クメン、アニソール等の芳香族系溶剤や、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロメチルベンゼン等のハロゲン系溶剤を上記の溶剤と混合して用いることができる。混合して用いる場合は、反応初期から混合されていてもよく、また反応の途中で添加されてもよい。
【０１３３】
＜比率・濃度＞
本発明の変換反応に供するビスイミドフェノール化合物と反応剤とのモル比率は、両原料が残留しない反応当量の１：２が最も好ましい。しかしながら、反応系によっては反応剤が水分や酸素等で容易に分解してしまい、当量がずれるおそれがあるため、反応剤を過剰量用いることができる。また、平衡反応であるために当量では反応が完結しない反応系もあり、こうした場合にはいずれかを過剰量用いて平衡を生成物側に偏らせるようにしてもよい。さらに、原料のビスイミドフェノール化合物は一般に生成物よりも溶剤溶解性が悪く、これを有効に活用して、反応剤を当量より少なく用い、反応後、溶解度の低い原料のビスイミドフェノール化合物を濾過で除くことにより生成物を容易に分取することも可能である。
このようなことから、ビスイミドフェノール化合物と反応剤のモル比率としては、ビスイミドフェノール化合物：反応剤が１：１〜１：１０が好ましく、１：１．５〜１：６が更に好ましく、１：１．８〜１：３が特に好ましい。
【０１３４】
本反応に用いる原料の反応溶液中濃度としては、両原料の合計（ビスイミドフェノール化合物と反応剤の合計）の固形分濃度として０．２〜９５重量％、特に１〜７５重量％、とりわけ２〜５５重量％とすることが好ましい。
【０１３５】
＜触媒・その他の添加剤＞
本発明の変換反応は無触媒で進行するものもあるが、必要に応じて触媒や縮合剤、発生するプロトンのアクセプタ、酸化防止剤や重合禁止剤等の添加剤を加えてもよい。
【０１３６】
触媒としては塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸；ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸；アルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマス、ランタノイド類、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、マンガン、レニウム、鉄、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛等を含むルイス酸性化合物や金属錯体；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、フッ化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、イミダゾール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ウロトロピン、トリアルキルホスフィン類等の有機塩基等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１３７】
縮合剤としてはＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、ジフェニルリン酸アジド（ＤＰＰＡ）、ＢＯＰ試薬（Ｃａｓｔｒｏ試薬）、ＰｙＢＯＰ、ＴＢＴＵ、ＣＤＭＴ、ＤＭＴ−ＭＭ、２，４，６−トリクロロベンゾイルクロリド等が挙げられ、また触媒として挙げた無機酸、有機酸、ルイス酸性化合物も触媒的脱水縮合剤と解釈することができる。
【０１３８】
プロトンのアクセプタとしては、触媒として挙げた無機塩基、有機塩基等が挙げられる。
【０１３９】
酸化防止剤、重合禁止剤としては公知のものが用いられる。
【０１４０】
上記触媒、縮合剤、プロトンアクセプタ、酸化防止剤、重合禁止剤等の各種添加剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１４１】
＜反応条件（温度、時間、圧力）＞
本発明の変換反応の反応条件は、用いる反応剤の種類によって異なるが、反応温度の上限は、最も安定性が高いと思われるエチニル基の反応開始温度である２００℃以下、好ましくは１００℃以下である。また同下限は、簡便に取り扱える低温条件として−７８℃以上、好ましくは０℃以上である。
【０１４２】
反応時間も反応系によって異なり、反応温度にも依存するが、下限が０．５時間、同上限は通常４８時間、好ましくは２４時間である。
【０１４３】
反応圧力は、常圧、減圧、加圧のいずれでもよく、反応系によって最適な条件を選べばよい。例えば揮発性の高い化合物を使用して加熱したい場合は加圧下で、反応副生成物を揮発させて除去したい場合は減圧下で行うなど、化学反応を行う上での常識的な判断に従えばよい。
【０１４４】
反応時は反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラー等を用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
【０１４５】
＜反応の進行状況の確認＞
反応の進行は、薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）やガスクロマトグラフィ（ＧＣ）、液体クロマトグラフィ（ＬＣ）等によって原料の消費をモニターすることで確認することができる。
【０１４６】
＜生成物の回収、精製＞
本発明の変換反応で生成したビスイミドフェノール誘導体は、溶剤を用いた場合には溶液となるか、あるいは析出して分散液か沈殿物となる。溶液となっている場合には溶剤を蒸発させて除去したり、又はビスイミドフェノール誘導体が溶解しない貧溶媒を混合することで析出させたりして固体として得ることができる。逆に、残留した原料のビスイミドフェノール化合物の溶剤溶解性が低いことを利用し、生成物のみを溶液として不溶物を濾取し、濾液を濃縮することでビスイミドフェノール誘導体を分離回収することができる。また水や無機塩の水溶液を加えて分液することで、水溶性の不純物を分離した後、前述の方法を用いて固体として得ることもできる。分散液や沈殿物となっている場合にはそのまま濾取することも可能であるし、貧溶媒と混合することでさらに濾取しやすくすることもできる。濾過は加圧、常圧、減圧濾過のいずれを用いてもよい。
【０１４７】
本反応のビスイミドフェノール誘導体は、原料の比率が適切であれば十分な純度で得られるが、残留する原料や添加剤、微量の着色成分等の不純物が問題となる場合には、更に精製することもできる。
【０１４８】
精製法としては、ビスイミドフェノール誘導体が溶解せず、不純物が溶解する溶剤を用いて洗浄除去する方法が最も簡便であり、この場合、用いる溶剤としては、例えば水；塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の酸性水溶液；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性水溶液；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等のハロゲン系溶剤等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。どのような溶剤が適切であるかは、ビスイミドフェノール誘導体によって異なる。
【０１４９】
不純物が結晶中に取り込まれて、洗浄では除去が困難である場合には、再結晶法が有効である。再結晶は、濾取したビスイミドフェノール誘導体を一旦溶剤に溶解し、再度析出させた後、濾取することにより行うことができる。この際、貧溶媒を加えても加えなくてもよい。貧溶媒を加える場合、ビスイミドフェノール誘導体を溶解する溶剤と貧溶媒の組み合わせとしては特に限定されないが、例えばアセトン／水、ジクロロメタン／ヘキサン、Ｎ−メチルピロリドン／トルエン、Ｎ−メチルピロリドン／水等が挙げられる。更にこれを濾取した後、前述の洗浄を行ってもよい。
【０１５０】
また、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィも用いることができる。即ち、不純物を含む粗生成物をシリカゲルに吸着させ、適当な溶出溶媒で分離・流出させることで精製が可能であり、コスト面では不利であるが、小スケールの合成で簡便に純度の高い生成物を得ることができる。
【０１５１】
これらの精製法は単独で用いるだけでなく、任意の順で適宜組み合わせて用いることができる。
【０１５２】
また、生成したビスイミドフェノール誘導体の乾燥法は特に限定されず、加温しても加温しなくてもよく、減圧しても減圧しなくてもよい。ただし、反応性の官能基が自己反応を開始しない条件を選ぶことが必要であり、誘導体の種類によって窒素下での乾燥、酸素存在下での乾燥、低温での乾燥等を使い分けることが好ましい。
上記の好ましい条件で反応及び精製を行えば、収率は良好であり、通常、本発明の変換反応によれば、５０〜１００％の収率で目的とするビスイミドフェノール誘導体を得ることができる。
なお、不純物として混入する可能性のあるものとしては、例えば、未反応の原料、原料に元々含まれる不純物、反応剤の分解物、フェノール性水酸基以外の部位にＲ７が導入された副生成物、原料の酸化物、残留添加剤、残留溶剤等が挙げられる。
【０１５３】
［高分子化合物］
本発明の高分子化合物は、上述の本発明のビスイミドフェノール誘導体を原料モノマーの少なくとも一部として用い、これを重合するか、或いは他のモノマーと共重合してなるものであり、具体的にはエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、トリアゾール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリチオエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂等、又はこれらの樹脂が複合された樹脂（例えばポリイミドポリエステル、ポリエステルポリウレタン、ポリイミドアクリル、ポリアクリルウレタン等）が挙げられる。
【実施例】
【０１５４】
以下に製造例、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５５】
なお、以下において、純度を示す「％」はすべて「重量％」である。
また、合成された化合物の１Ｈ−ＮＭＲは、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＶ４００Ｍを用いて、重ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）又は重クロロホルム溶媒中、室温で測定した。また、ＩＲは、ＦＴ／ＩＲ−２３０（日本分光（株）製）を用いて、ＫＢｒ錠剤を作成し、透過法で測定した。ＭＳはＰｏｌａｒｉｓ Ｑ（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用い、イオン源温度２００℃、イオン化法はＥＩ、イオン化エネルギー７０ｅＶで、直接導入法で測定した。
【０１５６】
［製造例１：本発明のビスイミドフェノール化合物の製造］
メカニカルスターラー、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管、及び還流冷却管を装備した２Ｌフラスコに、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ、三菱化学（株）製、純度９９．８％）１００ｇ（３４０ｍｍｏｌ）とＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ、三菱化学（株）製、純度９９．９％）３００ｍｌを加え、撹拌しながら４−アミノ−ｍ−クレゾール（製品名）（又は４−アミノ−３−メチルフェノール（別名））（和光純薬工業（株）製、純度９８％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）を投入した。これを８０℃の油浴で２時間加熱した後、トルエン１５０ｍｌを加え、油浴温度を１６０℃に上げた。トルエンが還流開始してから３時間後、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管にほぼ理論量の水が留出したことを確認し、油浴を外して室温まで撹拌しながら冷却した。ここに１．５Ｌの蒸留水を加えると、生成物が析出した。これをブフナー漏斗で濾取し、３Ｌの水、１Ｌのエタノールで洗浄した後、１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ａ１−１）で表される、薄黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（以下、「ビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）」と称す。）を得た。収量１６７ｇ（３３２ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当するメチル基（Ｍｅ）の｜α｜は５５．８°である。
【０１５７】
【化１２】
【０１５８】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.05(6H,s,-CH3),6.72(2H,dd,J=2.8,8.0Hz,Ar-H),6.79(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.15(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.38(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.41(2H,s,Ar-H),9.71(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3448,1774,1709,1618,1504,1460,1421,1383,1300,1257,1111,744,546cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,31%),506([M+]+2,6.2%)
【０１５９】
［実施例１：エポキシ誘導体の製造］
メカニカルスターラー、環流冷却管を備えた２Ｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）１０３．３ｇ（２００ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬工業（株）製、特級）３００ｍｌ、炭酸カリウム（和光純薬工業(株)製、特級）１３８．２ｇ（１ｍｏｌ）を加え、撹拌しながら臭化アリル（和光純薬工業(株)製、特級）６０．５ｇ（５００ｍｍｏｌ）を滴下した。これを４５℃の油浴で７時間加熱し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、蒸留水１．５Ｌを加えた。析出した固体をブフナー漏斗（濾紙５Ｃ）で濾取し、２Ｌの蒸留水、１Ｌのアルコール混媒（ソルミックスＡ−１１、日本アルコール製）で洗浄した。これを１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ｃ１−１）で表される灰白色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−アリロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１１５．４ｇ（１９７．３ｍｍｏｌ、収率９８．７％）。
【０１６０】
【化１３】
【０１６１】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H‐NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.20(6H,s,−CH3),4.58(4H,d,J=5.2Hz,CH2),5.32(2H,dd,J=2.8,10.4Hz,allyl
C-H）,5.44(2H,dd,J=2.8,17.2Hz,allyl
C-H),6.06(2H,ddd,J=5.2,10.4,17.2Hz,allyl
C-H),6.88(2H,dd,J=2.8,8.8Hz,Ar-H),6.92(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.13(2H,d,J=8.8Hz,Ar-H),8.07(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.24(2H,s,Ar-H)
【０１６２】
このＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−アリロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド１．１７ｇ（２ｍｍｏｌ）とクロロホルム５０ｍｌ（和光純薬工業(株)製、特級）を、スターラーチップと環流冷却管を備えた３００ｍｌフラスコに加え、撹拌しながら氷浴で０℃に冷却した。ここに、ｍ−クロロ過安息香酸１．１ｇ（和光純薬工業(株)製、水分含有量約７０％、４．４ｍｍｏｌ）を少しずつ加えた。これを４０℃で２時間、５０℃で４時間、６０℃で７時間加熱撹拌し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、室温まで冷却してから亜硫酸水素ナトリウムの飽和水溶液２０ｍｌを加えて過剰のｍ−クロロ過安息香酸を分解し、更に炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液を３０ｍｌ加えて中和した。反応溶液を分液漏斗に移し、更に炭酸水素ナトリウム飽和水溶液２０ｍｌ、飽和食塩水２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過、濃縮すると、下記式（Ｃ１−２）で表される淡黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−グリシジルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドが得られた。収量１．１９ｇ（１．９３ｍｍｏｌ、収率９６．５％）。また、分析用のサンプルとしてこの一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液：酢酸エチル／ジクロロメタン＝１／２０→１／１０）で更に精製すると、非常に純度の高い上記化合物が、僅かに黄色味がかった白色固体として得られた。
【０１６３】
【化１４】
【０１６４】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.20(6H,s,-CH3),2.78(2H,ｄｄ,Ｊ=2.4,4.8Hz,epoxy O-CH2-CH),2.93(2H,dd,J=4.0,4.8Hz,epoxy O-CH2-CH),3.38(2H,dddd,Ｊ=2.4,3.2,4.8,6.0Hz,CH2-CH),4.00(2H,dd,J=6.0,11.2Hz,CH2),4.26(2H,ｄｄ,J=3.2,11.2Hz,CH2),6.88(2H,ｄｄ,J=2.8,8.4Hz,Ar-H),6.94(2H,ｄ,J=2.8Hz,Ar-H),7.15(2H,ｄ,J=8.4Hz,Ar-H),8.07(2H,ｄ,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,ｄ,J=8.0Hz,Ar-H),8.24(2H,ｓ,Ar-H)
IR(KBr)：1774,1713,1616,1503,1419,1379,1298,1286,1249,1171,1110,1089,1043,744cm‐1
MS：m/z616([M+],100%),617([M+]+1,39%),618([M+]+2,8.3%)
【０１６５】
［実施例２：プロパルジル誘導体の製造]
スターラーチップ、環流冷却管を備えた３００ｍｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）２．５８ｇ（５．０ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬工業（株）製、特級）５０ｍｌ、炭酸カリウム（和光純薬工業(株)製、特級）６．９ｇ（５０ｍｍｏｌ）を加え、撹拌しながら臭化プロパルジル（和光純薬工業(株)製、特級）０．８３ｍｌ（１１ｍｍｏｌ）を滴下した。これを４０℃の油浴で５時間加熱し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、蒸留水２００Ｌを加えた。析出した固体をブフナー漏斗（濾紙５Ｃ）で濾取し、５００ｍＬの蒸留水、５００ｍＬのアルコール混媒（ソルミックスＡ−１１、日本アルコール製）で洗浄した。これを１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ｃ２）で表される灰白色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−プロパルジルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量２．６２ｇ（４．５ｍｍｏｌ、収率９０．３％）。
【０１６６】
【化１５】
【０１６７】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.13(6H,s,-CH３),3.62(2H,t,J=2.4Hz,C≡CH),4.87(4H,d,Ｊ=2.4Hz,C≡C-CH2),6.98(2Ｈ,dd,J=2.8,8.4Hz,Ar-H),7.04(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.33(2H,d,J=8.4Hz,Ar-H),8.11(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.39(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.42(2H,s,Ar-H)
IR(KBr)：3281,1772,1713,1604,1504,1421,1380,1310,1241,1168,1110,1088,1034,844,822,745cm-1
MS:m/z580([M+],100％),581([M+]+1,3％)582([M+]+2,9.4％)
【０１６８】
［実施例３：メタクリル誘導体の製造]
マグネチックスターラー、環流冷却管を備えた２００ｍｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）５．１６ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）とジクロロメタン３５ｍｌ（和光純薬工業(株)製、特級）、ピリジン１５ｍｌ（和光純薬工業(株)製、）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１２２ｍｇ（東京化成工業(株)製、特級）を加えて撹拌し、均一な溶液とした。ここに、塩化メタクリロイル（和光純薬工業(株)製、特級）４．８ｍｌ（４８ｍｍｏｌ）を滴下し、４０℃で７時間撹拌した。ＴＬＣで原料の消失を確認した後、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液と飽和食塩水を加えて分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶剤を留去し、５０℃で減圧乾燥して、下記式（Ｃ３）で表される淡黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−メタクリルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量４．４８ｇ（７．０ｍｏｌ、収率７０．０％）。また、分析用のサンプルとしてこの一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液：酢酸エチル／ジクロロメタン＝１／１０）で更に精製すると、非常に純度の高い上記化合物が、白色固体として得られた。
【０１６９】
【化１６】
【０１７０】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.04(6H,s,Ar-CH3),2.18(6H,s,CH3-C-C(=O)),5.95(2H,s,C=CH2),6.33(2H,s,C=CH2),7.19(2H,ｄｄ,Ｊ=2.4,8.8Hz,Ar-H),7.28(2H,ｄ,Ｊ=2.8Hz,Ar-H),7.48(2H,ｄ,Ｊ=8.8Hz,Ar-H),8.13(2H,d,Ｊ=7.6Hz,Ar-H),8.42(2H,ｄ,Ｊ=7.6Hz,Ar-H),8.48(2H,s,Ar-H)
ＩR(KBr)：1774,1730,1714,1500,1420,1376,1320,1294,1239,1161,1132,1108,887,743ｃｍ-1
MS：m/z640([M+],100％),641([M+]+1,41％),642([M+]+2,9.5％)
【０１７１】
［製造例２］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ１−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．１２８７６１−４３−３）を得た。収量１５９ｇ（３３５ｍｍｏｌ、収率９８％）。
【０１７２】
【化１７】
【０１７３】
［製造例３］
４−アミノ−３−メチルフェノールを４−アミノ−３，５−キシレノール（東京化成工業（株）製、純度９８％以上）９３ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ１−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１７７ｇ（３３３ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１，Ｒ５に相当するメチル基（Ｍｅ）の｜α｜は５５．８°である。
【０１７４】
【化１８】
【０１７５】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.00(12H,s,-CH３),6.63(4H,s,Ar-H),8.12(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.40(2H,dd,J=0.8,8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,d,J=0.8Hz,Ar-H),9.64(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3371,1770,1707,1597,1475,1423,1377,1321,1271,1161,1113,1028,889,847,748,692,557,538cm-1
MS:m/z532([M+],100%),533([M+]+1,38.1%),534([M+]+2,7.5%),535([M+]+3,1.0%)
【０１７６】
［製造例４］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ２−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．２９５３４８−３２−２）を得た。収量１５２ｇ（３１９ｍｍｏｌ、収率９４％）。
【０１７７】
【化１９】
【０１７８】
［製造例５］
４−アミノ−３−メチルフェノールを５−アミノ−ｏ−クレゾール（和光純薬工業（株）製、純度９７％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ２−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−メチル−３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１５１ｇ（３００ｍｍｏｌ、収率８８％）。
【０１７９】
【化２０】
【０１８０】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.19(6H,s,-CH３),6.80(2H,dd,J=2.0,8.0Hz,Ar-H),6.89(2H,d,J=2.0Hz,Ar-H),7.20(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.08(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.37(2H,dd,J=1.2,7.6Hz,Ar-H),8.41(2H,d,J=1.2Hz,Ar-H),9.67(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3471,1770,1718,1618,1599,1523,1427,1369,1281,1265,1232,1186,1128,1095,796,741,553cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,３4.0%),506([M+]+2,6.9%)
【０１８１】
［製造例６］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｏ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９７％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１６０ｇ（３３７ｍｍｏｌ、収率９９％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８２】
【化２１】
【０１８３】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ6.94(2H,ddd,J=1.2,7.6,7.6Hz,Ar-H),7.01(2H,dd,J=1.2,7.6Hz,Ar-H),7.30(2H,dd,J=1.6,7.6Hz,Ar-H),7.34(2H,ddd,J=1.2,7.6,7.6Hz,Ar-H),8.01(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,dd,J=1.6,8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,d,J=1.6Hz,Ar-H),9.90(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3317,1768,1701,1620,1601,1512,1464,1425,1389,1300,1286,1198,1111,1090,893,872,758,744,631cm-1
MS:m/z476([M+],100%),477([M+]+1,３３.0%),478([M+]+2,6.5%)
【０１８４】
［製造例７］
４−アミノ−３−メチルフェノールを６−アミノ−ｍ−クレゾール（和光純薬工業（株）製、純度９０％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１６８ｇ（３３３ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８５】
【化２２】
【０１８６】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.26(6H,s,-CH3),6.90(2H,d,J=8.4Hz,Ar-H),7.09(2H,d,J=2.4Hz,Ar-H),7.14(2H,dd,J=2.4,8.4Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.39(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.43(2H,s,Ar-H),9.62(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3398,1774,1718,1618,1512,1425,1375,1336,1292,1277,1188,1140,1109,1088,820,768,742,557cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,34.6%),506([M+]+2,7.3%)
【０１８７】
［製造例８］
４−アミノ−３−メチルフェノールを２−アミノ−ｐ−クレゾール（東京化成工業（株）製、純度９８％）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−３）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１５８ｇ（３１３ｍｍｏｌ、収率９２％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８８】
【化２３】
【０１８９】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.32(6H,s,-CH3),6.75(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),6.82(2H,s,Ar-H),7.15(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.08(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.38(2H,dd,J=1.6,7.6Hz,Ar-H),8.42(2H,d,J=1.6Hz,Ar-H),9.73(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3556,３47３,1768,1707,1616,1527,1427,1383,1３04,1279,1171,1117,891,808,746,559cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,33.9%),506([M+]+2,7.0%)
【０１９０】
［製造例９］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を４，４’−オキシジフタル酸無水物（製品名）（又は３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（別名））（東京化成工業（株）製、純度９８％）１００ｇ（３２２ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）７０ｇ（６４４ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ４−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキシジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．９５５７６−７３−１）を得た。収量１５７ｇ（３２０ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９１】
【化２４】
【０１９２】
［製造例１０］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を４，４’−オキシジフタル酸無水物（製品名）（又は３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（別名））（東京化成工業（株）製、純度９８％）１００ｇ（３２２ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）７０ｇ（６４４ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ４−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキシジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５０４４４−３０−９）を得た。収量１５７ｇ（３２０ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９３】
【化２５】
【０１９４】
［製造例１１］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（東京化成工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（２７９ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）６１ｇ（５５８ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ５−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−スルホニルジフタルイミドを得た。収量１４９ｇ（２７６ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９５】
【化２６】
【０１９６】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ6.88(4H,dd,J=2.0,6.8Hz,Ar-H),7.20(4H,dd,J=2.0,6.8Hz,Ar-H),8.17(2H,dd,J=0.8,8.0Hz,Ar-H),8.61(2H,dd,J=1.6,8.0Hz,Ar-H),8.6３(2H,dd,J=0.8,1.6Hz,Ar-H),9.79(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3450,1778,1711,1599,1518,1452,1３89,1３19,1242,1178,1149,1119,1095,1059,837,742,675,638,598,563,526cm-1
MS:m/z540([M+],100%),541([M+]+1,31.3%),542([M+]+2,12.0%),543([M+]+3,2.6%)
【０１９７】
［製造例１２］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（東京化成工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（２７９ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）６１ｇ（５５８ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ５−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−スルホニルジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．１２９２０９−４０−１）を得た。収量１４９ｇ（２７６ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９８】
【化２７】
【０１９９】
［製造例１３］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（３１０ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）６８ｇ（６２０ｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ６−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキソメチレンジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５３４１７−１８−８）を得た。収量１５５ｇ（３０７ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０２００】
【化２８】
【０２０１】
［製造例１４］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（３１０ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）６８ｇ（６２０ｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ６−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキソメチレンジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５４９４２−２０−０）を得た。収量１５０ｇ（２９８ｍｍｏｌ、収率９６％）。
【０２０２】
【化２９】
【０２０３】
［比較例１〜１３］
製造例２〜１４で合成した各化合物を、それぞれ製造例３におけるビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）の代わりに反応系に適用しようとしたが、溶剤溶解性が不足しており、ほとんど反応が進行しなかった。
【０２０４】
以上のように、原料として溶剤溶解性の高いビスイミドフェノール化合物を用いた場合は、耐熱性高分子材料の原料等として有用である種々の反応性官能基を有するビスイミドフェノール誘導体を製造することが可能であるが、製造例２〜１４のビスイミドフェノール化合物は溶剤溶解性が悪いため、変換反応そのものがほとんど進行しないことがわかる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規ビスイミドフェノール誘導体及びその製造方法と、このビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
イミド化合物は耐熱性に優れていることが知られており、イミド基を導入したモノマー化合物は、耐熱性が要求される高分子材料の原料として有用である。耐熱性高分子材料の代表的なものとして、芳香族ポリイミド樹脂があるが、融点が非常に高い上、一般的な有機溶剤に対する溶解性が非常に低く、作業性、加工性の面で問題が多い。例えば、ポリイミドを溶液として用いるには、Ｎ−メチルピロリドンのような高極性溶剤が必要であるが、Ｎ−メチルピロリドンのような高極性溶剤は沸点が非常に高いため、除去が困難であり、後工程でフクレの原因となりやすいなどの問題がある。
【０００３】
この対策として、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸の溶液を用い、溶剤を除去した後に加熱或いは化学的手法によってイミド環を閉環してポリイミド樹脂とする方法が知られている（非特許文献１）が、この方法では閉環時の体積収縮によって反りが起こるなどの問題がある。
【０００４】
一方で、ビスイミドフェノール化合物をモノマーとして用いる方法も開示されている（特許文献１〜４）。しかし、これまでに知られているビスイミドフェノール化合物は、一般的な有機溶剤への溶解性が十分でなかったり、また溶解性を付与するために分子構造を複雑にした結果、イミド基の濃度が低下してしまったりするものであった。
また、ビスイミドフェノール化合物は、末端がフェノール基であるため、これ自体のモノマーとしての適用範囲には限界があった。加えて、その溶剤溶解性の低さから、ビスイミドフェノール化合物に他の反応性官能基を導入することは非常に困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−３１９５２８号公報
【特許文献２】特開平２−７０７２２号公報
【特許文献３】特開平３−２０９８５８号公報
【特許文献４】特開２００７−９１７９９号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】「耐熱性高分子電子材料の展開」シーエムシー出版、２００８年、９２頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような状況を鑑みてなされたものであり、その課題は、樹脂の耐熱性改良が期待されるイミド基を含有し、一般的な有機溶剤中での反応に十分な溶解性を有し、また単純化された分子構造によって十分なイミド基含量を有する芳香族ビスイミドフェノール化合物から誘導された、耐熱性高分子材料の原料モノマー等として有用な芳香族ビスイミドフェノール誘導体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、特定の構造を有することで、一般的な有機溶剤への十分な溶解性を発現するビスイミドフェノール化合物に対して、種々の反応性官能基を導入したビスイミドフェノール誘導体を見出した。また、特定のアミノフェノール化合物と芳香族カルボン酸二無水物とを反応させることにより、このビスイミドフェノール化合物を製造し、更にこれを用いて一般的な変換反応で種々のビスイミドフェノール誘導体を製造することができることを見出した。
【０００９】
即ち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するビスイミドフェノール誘導体、に存する。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
【００１２】
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【００１３】
【化２】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００１４】
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian03 x86-Win32版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(3) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【００１５】
【化３】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００１６】
本発明の別の要旨は、下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物とを脱水縮合させることにより、前記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物を合成し、該ビスイミドフェノール化合物のフェノール性水酸基の水素原子をＲ７（Ｒ７は請求項１におけると同義である。）に置換することを特徴とする、上記ビスイミドフェノール誘導体の製造方法、に存する。
【００１７】
【化４】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００１８】
【化５】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００１９】
本発明の更に別の要旨は、上記ビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物、に存する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、樹脂の耐熱性改良が期待されるイミド基を含有するビスイミドフェノール誘導体であって、単純化された分子構造によって十分なイミド基含量を有すると共に、種々の反応性官能基を有することにより、高耐熱性の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂の原料モノマーとして、その他架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用な新規芳香族ビスイミドフェノール誘導体が提供される。
しかも、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、連結基が有し得る−Ｃ（ＣＦ３）２−以外にハロゲン原子を含まない低ハロゲン系化合物、或いは、ハロゲン原子を含まない非ハロゲン系化合物であるので、近年の脱ハロゲン化の流れの中で非常に好適である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２２】
なお、本発明において、「有機基」とは炭素原子を含む基であり、また、「官能基」とは有機基と水酸基などの無機基との総称である。
【００２３】
［ビスイミドフェノール誘導体］
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物（以下、「本発明のビスイミドフェノール化合物」と称す場合がある。）のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するものであり、重合反応等における取り扱い性に優れ、また、各種の反応性官能基に由来する様々な機能を有し、また、分子中のイミド基濃度が高いことから、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等に耐熱性を付与するための原料モノマーとして、その他、架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用である。
【００２４】
【化６】
【００２５】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
【００２６】
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【００２７】
【化７】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００２８】
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian03 x86-Win32版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(3) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【００２９】
【化８】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【００３０】
｛ビスイミドフェノール化合物｝
まず、一般式（Ｉ）で表される本発明のビスイミドフェノール化合物について説明する。
このビスイミドフェノール化合物は各種の有機溶剤、特にケトン系溶剤に対する溶解度が高いという利点を有する。
【００３１】
＜溶解性発現の説明＞
イミド基含有化合物、特に芳香族イミド化合物は、イミド基を含む共役平面同士がスタッキングすることによる強い凝集力によって優れた物性を示す一方で、溶剤溶解性が非常に低く、取り扱いが困難であった。
【００３２】
本発明のビスイミドフェノール化合物が溶剤に対する溶解性に優れる理由の詳細は明らかではないが、以下のように推定される。
（１） イミド基のオルト位に適切な大きさの置換基Ｒ１を有することで、イミド基を含む共役平面が捻れを持ち、分子間のスタッキングが適度に阻害される。
（２） イミド基の両オルト位が非対称（Ｒ１≠Ｒ５）であることで結晶性が低下する。
【００３３】
本発明のビスイミドフェノール化合物では、これらの要因が協奏的に作用することによって良好な溶剤溶解性が発現している。
ただし、捻れを生じさせる置換基Ｒ１が大きすぎる場合は、イミド化合物の特徴である分子間のスタッキングを完全に阻害してしまい、十分な物性が得られない可能性があるため、該置換基Ｒ１は適度な大きさに留めるのが好ましい。
【００３４】
＜Ｒ１＞
Ｒ１は上記｜α｜が４５゜以上、９０゜以下の、ハロゲン原子以外の一価の官能基である。Ｒ１の｜α｜の下限は、分子間の重なりによる溶剤溶解性低下が起こりにくいことから、好ましくは４８°、より好ましくは５１°である。一方、｜α｜の上限は、置換基がイミド化合物の特徴である分子間のスタッキングの起きる適度な大きさであることから、好ましくは７５°、より好ましくは６０°である。
【００３５】
Ｒ１は、上記｜α｜を満たした上で、炭素イミドフェノール分子中のイミド基濃度、及び、イミド化合物に期待される物性が発現しやすい、即ち、分子量が過度に大きくないことにより、イミド基含量を十分なものとし、また、イミド化合物に期待される物性が、立体障害により分子間の相互作用が阻害されることにより損なわれないと思われることから、炭素数１〜１０の有機基が好ましく、炭素数１〜３の有機基が更に好ましく、炭素数１〜２の有機基が特に好ましい。
【００３６】
Ｒ１の具体例は、炭化水素基、芳香族基、アシル基（アルデヒド、ケトン）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、アルコキシル基、アリ−ロキシル基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいカルボキサミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ−ルチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基、トリアルキルシリル基等が挙げられる。中でも、｜α｜が好適範囲であることから、直鎖又は二級炭化水素基、アシル基（アルデヒド、ケトン）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、アルコキシル基、アリ−ロキシル基、置換されたアミノ基、置換されたカルボキサミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ−ルチオ基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基が好ましく、とりわけ、直鎖炭化水素基、ホルミル基を除くアシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（エステル）、置換されたアミノ基、スルホニル基、スルホ基が好ましい。
【００３７】
なお、｜α｜が４５〜９０°の官能基を表１に、また、これらのうち特にＲ１として好適な官能基（｜α｜＝４８〜７５°）について、その｜α｜と共に表２に示す（以下においてＰｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を示す。）。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
表２に示す官能基のうち、Ｒ１としては特に下記表３に示すもの（｜α｜＝５１〜６０°）が好ましい。
【００４１】
【表３】
【００４２】
＜Ｒ５＞
Ｒ５は、水素原子又は上記｜α｜が０°以上、４５°未満のハロゲン原子以外の一価の官能基である。｜α｜が０°となるのは、Ｒ５がイミド基のカルボニル酸素と強く相互作用するルイス酸性を有した置換基の場合であり、こうした場合にはＲ１による二面角の形成をＲ５が阻害し、十分な溶解性を確保できない可能性があることから、｜α｜の下限は、好ましくは１０°、より好ましくは２０°である。また、大きな捻れを生じさせる置換基は、Ｒ１によって生じた二面角を更に増大し、好ましい範囲を逸脱させるおそれがあることから、｜α｜の上限は、好ましくは４３°である。
【００４３】
Ｒ５の具体例としては、下記表４に｜α｜を示す水素原子又は官能基のような立体的に小さい水素原子又は官能基が挙げられ、この内、水素原子又は水酸基などの、立体的に小さく、ルイス酸性が小さい水素原子又は官能基が好ましい。
【００４４】
【表４】
【００４５】
＜Ｒ２〜Ｒ４＞
Ｒ２〜Ｒ４は、各々独立に、水素原子、水酸基、又は炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の一価の有機基を示すが、Ｒ２〜Ｒ４のうち、隣接する２つの基が互いに結合してベンゼン環に縮合する、炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ２〜Ｒ４としての炭素数１〜１０の有機基としては、特に限定されないが、各基の分子量が大きくなると相対的なイミド基含量が低下するため、炭素数３以下の有機基であることが好ましい。
【００４６】
Ｒ２〜Ｒ４の具体例としては、各々独立に、水素原子、炭化水素基、芳香族基（複素環基を含む）、カルボニル基（アルデヒド、ケトン、エステル、アミド等）、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、ジアルキルアミノ基が挙げられる。Ｒ２〜Ｒ４が炭化水素基の場合、炭素数が１０以下であれば置換基を有していてもよく、該置換基としては、複素環基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、シリル基が挙げられる。
【００４７】
Ｒ２〜Ｒ４としては、各々独立に、水素原子、水酸基又はメチル基であることが好ましい。
【００４８】
＜Ｒ２〜Ｒ５の水酸基＞
本発明のビスイミドフェノール化合物においては、Ｒ２〜Ｒ５のうち、いずれか一つは水酸基である必要がある。
これは、本発明のビスイミドフェノール化合物を原料モノマーとして用いて高分子量化する場合に、反応可能な置換基がないと重合できないこと、また、最も汎用性の高い反応性の置換基が水酸基であることによる。
ただし、一分子中に水酸基が３個以上あり、３官能以上になるとゲル化するので、Ｒ２〜Ｒ５のいずれか一つずつが水酸基であり、一分子中のイミド基に結合した２個のベンゼン環に各々１個ずつの水酸基が結合していればよい。
【００４９】
＜Ｒ６＞
Ｒ６は、各々独立に、炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の一価の有機基を示し、１つのベンゼン環上でＲ６が隣接する位置にある場合、隣接する２つのＲ６は互いに結合してベンゼン環に縮合する、炭素数２０以下の環を形成していてもよい。
Ｒ６としては、炭素数１〜１０のハロゲン原子以外の有機基であれば、特に限定されないが、各基の分子量が大きくなると、相対的なイミド基含量が低下するため、炭素数３以下の有機基であることが好ましい。
【００５０】
Ｒ６の具体例としては、各々独立に、炭化水素基、芳香族基（複素環基を含む）、カルボニル基（アルデヒド、ケトン、エステル、アミド等）、ジアルキルアミノ基が挙げられる。Ｒ６が炭化水素基の場合、炭素数が１０以下であれば置換基を有していてもよく、該置換基としては、複素環基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキルチオ基、アリ−ロキシ基、シリル基が挙げられる。
【００５１】
＜Ｘ＞
Ｘは単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−、又は−ＳＯ２−を示す。Ｘが二価の有機基の場合、その分子量が大きくなると相対的にイミド基含量が低下するため、炭素数１〜１０の有機基であることが好ましく、炭素数１〜３の有機基であることが好ましい。炭素数１〜３の二価の有機基としては具体的には、メチレン基、２，２−プロピリデン基、オキシメチレン基等が挙げられる。
【００５２】
Ｘとしては、特に単結合、オキシメチレン基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−、又は−ＳＯ２−が好ましい。
【００５３】
＜ｎ＞
ｎは０〜３の整数であるが、ｎが大きく、ビスイミドフェノール化合物の分子量が大きくなると、相対的なイミド基含量が低下するため、ｎは０又は１が好ましい。
【００５４】
＜対称性＞
本発明のビスイミドフェノール化合物において、連結基Ｘで連結される左右の環構造のベンゼン環部分に結合するＲ１〜Ｒ６と、Ｒ６の個数を表すｎは、左右で各々同一でも異なってもよいが、同一の方が分子の対称性がよく、高分子量化した際にイミドの特徴である凝集力を損なわないことから好ましい。
【００５５】
＜分子量＞
本発明のビスイミドフェノール化合物の分子量の下限は５０４であるが、その上限としては、１０００以下、特に８００以下、とりわけ６００以下であることが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール化合物の分子量が過度に小さいと、本発明のビスイミドフェノール化合物の分子設計が不可能であり、逆に過度に大きいと、ビスイミドフェノール化合物、ひいては本発明のビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量が小さくなり、好ましくない。
【００５６】
＜イミド基含量＞
本発明のビスイミドフェノール化合物のイミド基含量（本発明のビスイミドフェノール化合物１ｇ当たりのイミド基のモル量）は、本発明のビスイミドフェノール誘導体がイミド基含量の多い、耐熱性高分子材料の原料モノマーとして有用なビスイミドフェノール誘導体となり得ることから、０．２２ｍｍｏｌ／ｇ以上、特に１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上、とりわけ２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましい。なお、イミド基含量の最大値は、理論的には４．０ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５７】
イミド基含量等の本発明のビスイミドフェノール化合物の構造は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル分析法：重ジメチルスルホキシド溶媒）、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル法）、ＭＳ（質量分析法）によって確認することができる。
【００５８】
＜溶剤に対する溶解度＞
本発明のビスイミドフェノール化合物は、ケトン系溶剤に対する溶解度が高い。具体的には、本発明のビスイミドフェノール化合物の内、好ましいものは、ケトン系溶剤に対し、６０℃で０．５重量％以上の溶解度を示し、更に好ましいものは１．０重量％以上の溶解度を示し、特に好ましいものは２．０重量％以上の溶解度を示し、最も好ましいものは３．０重量％以上の溶解度を示す。
【００５９】
ここで、ケトン系溶剤とは、ケトン基を有する液体を指す。中でも、ビスイミドフェノールの反応を妨げないように非プロトン性であることが望ましく、例えばアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、ジイソプロピルケトン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘキシルメチルケトン、アセトフェノン、アセチルアセトン等が挙げられる。
【００６０】
これらのケトン系溶剤をはじめとして、各種の有機溶剤に対する溶解度がごく僅かであっても、部分的にでも溶解していれば温度や時間をかけることで反応は進行するが、実際の作業性を考慮すると溶解度は高いことが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール化合物が溶剤溶解性を有することで、種々の本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造が容易となり、好ましい。
【００６１】
なお、本発明のビスイミドフェノール化合物の溶剤に対する溶解度の測定方法は以下の通りである。
【００６２】
（溶解度の測定方法）
サンプル瓶に、ビスイミドフェノール化合物と溶剤を入れ、時々手で振り混ぜながら、油浴中で６０℃で２時間加熱した際の溶解性を目視で確認する。高濃度から測定を開始し、溶け残りがある場合には少量ずつ溶剤を足して濃度を下げ、完全に溶解した時点の濃度を溶解度とする。
【００６３】
｛ビスイミドフェノール誘導体｝
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述の本発明のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するものである。
【００６４】
＜Ｒ２〜Ｒ５の−Ｏ−Ｒ７＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体においては、前述の一般式（Ｉ）におけるＲ２〜Ｒ５のうち、何れか１つは−Ｏ−Ｒ７である。
ここで、Ｒ７は、反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基であり、複数のＲ７を有する場合は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ここで、Ｒ７の炭素数は反応性官能基の炭素数も含めたＲ７全体の炭素数である。
【００６５】
Ｒ７の炭素数は、ビスイミドフェノール誘導体中におけるイミド基濃度を高くしやすい点では、少ない方が好ましいが、また、一方で、ビスイミドフェノール誘導体の溶剤溶解性の点では、多い方が好ましい。具体的には、炭素数が１６以下であるのが好ましく、８以下であるのが更に好ましく、６以下であるのが特に好ましく、４以下が最も好ましい。
【００６６】
Ｒ７が有する反応性官能基とは、それ自体、又は他の官能基と化学反応することで共有結合を生成し、高分子量化されることが可能な官能基全般を指す。
【００６７】
Ｒ７が有する反応性官能基としては、例えば、エポキシ基、ビニル基、エチニル基、アミノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、エピチオ基、カルボキシ基、チオカルボキシ基、ジチオカルボキシ基、酸無水物基、アルコキシカルボニル基、ハロホルミル基、ヒドラジノ基、ホルミル基、チオホルミル基、アジド基等が挙げられる。これらのうち、エポキシ基及び不飽和結合を有する官能基（ビニル基、エチニル基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、アジド基等）が好ましく、エポキシ基及びオレフィン性官能基（ビニル基、エチニル基等）が更に好ましい。
【００６８】
Ｒ７の具体例としては、例えば以下のような構造が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なお、以下の構造式において、Ｑは任意の置換基を表すが、Ｒ７全体としての炭素数は２０以下であり、複数のＱは互いに同一でも異なっていてもよい。また、※は一般式（Ｉ）における両端のベンゼン環への結合位置を示す。ｍは０〜４の整数を示し、ｐは０〜３の整数を示す。
【００６９】
【化９】
【００７０】
＜分子量＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子量の下限は５５２であるが、その上限としては、１２００以下、特に１００００以下、とりわけ８００以下であることが好ましい。
本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子量が過度に小さいと、本発明のビスイミドフェノール誘導体の分子設計が不可能であり、逆に過度に大きいと、ビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量が少なくなり、好ましくない。
【００７１】
＜イミド基含量＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体のイミド基含量（本発明のビスイミドフェノール誘導体１ｇ当たりのイミド基のモル量）は、イミド基含量の多い、耐熱性高分子材料の原料モノマーとして有用なビスイミドフェノール誘導体となり得ることから、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上、特に０．８ｍｍｏｌ／ｇ以上、とりわけ１．８ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましい。なお、イミド基含量の最大値は、理論的には３．６ｍｍｏｌ／ｇである。
【００７２】
イミド基含量等の本発明のビスイミドフェノール誘導体の構造は、１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴スペクトル分析法：重クロロホルム又は重ジメチルスルホキシド溶媒）、ＩＲ（赤外線吸収スペクトル法）、ＭＳ（質量分析法）によって確認することができる。
【００７３】
＜用途＞
本発明のビスイミドフェノール誘導体の用途としては、特に制限はないが、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、例えば、高耐熱の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂原料、架橋剤、硬化剤、反応性希釈剤、物性改良剤等として有用である。
【００７４】
［ビスイミドフェノール誘導体の製造方法］
本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法には特に制限はないが、例えば、前述の本発明のビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基の水素原子を、前述のＲ７に置換することにより製造することができる。
以下に、本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法を、本発明のビスイミドフェノール化合物を製造し、得られたビスイミドフェノール化合物の水酸基の変換反応で製造する方法について説明するが、本発明のビスイミドフェノール誘導体の製造方法は何ら以下の方法に限定されるものではない。
【００７５】
｛ビスイミドフェノール化合物の製造方法｝
本発明のビスイミドフェノール化合物の製造方法には特に制限はないが、例えば、下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物を脱水縮合させる本発明の製造方法により製造することができる。
【００７６】
【化１０】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００７７】
【化１１】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【００７８】
前記一般式（II）で表されるアミノフェノール（以下、単に「アミノフェノール」と称す。）と、前記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物（以下単に「芳香族カルボン酸二無水物」と称す。）の脱水縮合は、フェノール性水酸基によるエステル生成の副反応を最小化する観点から、イミド閉環（脱水）が起こらない温度条件でこれらの原料をアミック酸としてから（以下「一段目反応」と称す場合がある。）、反応温度を上げてイミド環を形成させる（以下「二段目反応］と称す場合がある。）手法で行うのが好ましい。
【００７９】
アミック酸を生成させる際に、活性プロトンが存在すると酸無水物基と副反応を起こし、アミック酸の生成を阻害することから、アミック酸の生成は非プロトン性の有機溶剤中で加熱して行うのが好ましい。
アミック酸からイミド環を形成させる脱水反応は、生成したアミック酸を更に加熱して行ってもよく、また、脱水剤を用いて行ってもよい。この脱水反応は、溶剤存在下でも不在下でも構わない。
【００８０】
以下、アミノフェノールと芳香族カルボン酸二無水物との脱水縮合反応による本発明のビスイミドフェノール化合物の製造方法につき、詳細に説明する。
【００８１】
＜アミノフェノール＞
前記一般式（II）で表されるアミノフェノールとしては、例えば、次のようなものが挙げられる。
【００８２】
（｜α｜＝５１°〜６０°のもの）
<安息香酸類：Ｒ１＝ＣＯＯＨ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−プロピル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，５−ジメチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，６−ジメチル安息香酸、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−エチルチオ安息香酸、２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、６−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸、２−アミノ−５−エトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−５−ベンジロキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−メチル−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−４−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−６−ヒドロキシ安息香酸、２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、６−アミノ−３−エチル−２−ヒドロキシ安息香酸
【００８３】
<安息香酸メチル類：Ｒ１＝ＣＯＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸メチル、２−アミノ−５−エトキシ−３−ヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−メトキシカルボニル−２−アミノフェノール、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ安息香酸メチル、２−アミノ−３−ヒドロキシ−６−［（２−トリメチルシリルエトキシ）メトキシ］安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸メチル、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル安息香酸メチル、２−アミノ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−メトキシカルボニル−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−ベンゾイルオキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−４−メトキシ−５−ヒドロキシ安息香酸メチル、２−アミノ−６−ヒドロキシ安息香酸メチル、６−アミノ−３−エチル−２−ヒドロキシ安息香酸メチル
【００８４】
<アセトフェノン類：Ｒ１＝ＣＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−６−メチルアセトフェノン、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４，６−ジメチルアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−プロピルアセトフェノン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−６−フェニルアセトフェノン、２−アミノ−５−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−３−メトキシ−５−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−６−メチルアセトフェノン、２−アミノ−６−ヒドロキシアセトフェノン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−４−メチルアセトフェノン
【００８５】
<ジメチルアニリン類：Ｒ１＝ＮＭｅ２>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
【００８６】
<アセチルアニリン類：Ｒ１＝ＮＨＣＯＭｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−カルボキシ−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−４−アセチル−５−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ−アセチルアニリン
【００８７】
<スルホン酸メチル類：Ｒ１＝ＳＯ３Ｍｅ>
２−アミノ−３−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−４−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−５−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル、２−アミノ−６−ヒドロキシフェニルスルホン酸メチル
【００８８】
<メチルスルホン類：Ｒ１＝ＳＯ２Ｍｅ>
（２−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−５−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン、（２−アミノ−６−ヒドロキシフェニル）メチルスルホン
【００８９】
<アミノフェノール類：Ｒ１＝Ｍｅ>
４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、３−アミノ−４−メチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジメチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，３，４−トリメチルフェノール、５−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，５，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５，６−テトラメチルフェノール
２−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、２−アミノ−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール、２−アミノ−３−メチル−６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−アミノ−２，３−ジメチル−６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−アミノ−３−メチル−５−（２−トリル）フェノール、２−（１−アダマンチル）−５−アミノ−４−メチルフェノール、４−アミノ−２−イソプロピル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール、４−アミノ−２−（１，１−ジメチルプロピル）−５−メチルフェノール、４−アミノ−５−メチル−２−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、４−アミノ−２−（４−シクロヘキシルブチル）−５−メチルフェノール、４−アミノ−６−エチル−２，３−ジメチルフェノール、２−ヒドロキシ−６−メチル−３−アニシジン、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチル−５−アニシジン、２−ヒドロキシ−６−メチル−４−アニシジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−３−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−アニシジン、２−アミノ−５−ヘキサデシルオキシ−４−イソブチル−３−メチルフェノール、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸、３−アミノ−５−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３−イソプロピル−６−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチルアセトフェノン、４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルアセトフェノン、２−アミノ−４−シアノ−３，５−ジメチルフェノール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−アミノ−４，５−ジメチル−２−ヒドロキシベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド、２−アミノ−５−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）−３−メチルフェノール、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチルベンゾフェノン、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチルベンゾフェノン、２−アセトキシ−４−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、２−アセチルアミノ−４−アミノ−５−メチルフェノール、４−アセチルアミノ−２−アミノ−３−メチルフェノール、６−アセチルアミノ−２−アミノ−３−メチルフェノール、Ｎ，Ｎ−ジベンジル−２−（４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパンアミド、２−アミノ−３−メチル−４，６−ビス（Ｎ−ピペリジニルメチル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−２，６−ビス（Ｎ−ピペリジニルメチル）フェノール、２−アミノ−３−メチル−４，６−ビス（Ｎ−ピロリジニルメチル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−２−（３−チオフェニル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−６−（３−チオフェニル）フェノール、４−アミノ−３−メチル−６−（３−チオフェニルメチル）フェノール
【００９０】
（｜α｜＝４８°〜７５°のもの）
<Ｒ１＝Ｅｔ>
３−アミノ−２−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチル−２，６−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジエチルフェノール、３−アミノ−４−エチルフェノール、５−アミノ−４−エチル−２−メトキシカルボニルフェノール、２−アミノ−３−エチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジエチルフェノール
【００９１】
<Ｒ１＝ｉＰｒ>
３−アミノ−２−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、２−アセチル−４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、４−アミノ−６−カルボキシ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−２，５−ジイソプロピルフェノール、３−アミノ−４−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール
【００９２】
<Ｒ１＝ＯＭｅ>
３−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２，５−ジメトキシアニリン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−エトキシカルボニル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−２，５−ジメトキシアニリン、４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−２−アニシジン、４−アミノ−２，３−ジメトキシ−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメトキシフェノール、４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、５−ヒドロキシ−３−メチル−２，４−ジメトキシアニリン、５−ヒドロキシ−４−ベンゾイルアミノ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−アセチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−［２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル］−２−アニシジン、２−ヒドロキシ−３−カルボキシメチル−４，６−ジメトキシアニリン、６−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、３−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、２，３，４−トリメトキシ−６−アミノフェノール
【００９３】
<Ｒ１＝ＳＭｅ>
２−メチルチオ−３−アミノフェノール、３−メチルチオ−４−アミノフェノール、４−メチルチオ−３−アミノフェノール、２−メトキシ−４−メチルチオ−５−アミノフェノール、２，４−メチルチオ−５−アミノフェノール、３−メチルチオ−２−アミノフェノール
【００９４】
<Ｒ１＝ＣＯＮＨ２>
２−アミノ−６−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−５−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシベンズアミド、５−アセチル−２−アミノ−４−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−５−エトキシカルボニルベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド
【００９５】
（｜α｜＝４５°〜９０°のもの）
<Ｒ１＝ｔＢｕ>
３−アミノ−２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、３−アミノ−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
【００９６】
<Ｒ１＝Ｐｈ>
３−アミノ−２−フェニルフェノール、４−アミノ−３−フェニルフェノール、４−アミノ−２，５−ジフェニルフェノール、３−アミノ−４−フェニルフェノール、５−アミノ−２−メトキシカルボニル−４−フェニルフェノール、２−アミノ−３−フェニルフェノール
【００９７】
<Ｒ１＝ＳｉＭｅ３>
３−アミノ−２−トリメチルシリルフェノール、４−アミノ−３−トリメチルシリルフェノール、３−アミノ−４−トリメチルシリルフェノール、２−アミノ−３−トリメチルシリルフェノール
【００９８】
<Ｒ１＝ＣＯＮＨＭｅ>
２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド、２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ−メチルベンズアミド
【００９９】
中でも、分子量が小さく、置換基の反応性が低いことから、以下のものが好ましい。
<Ｒ１＝ＮＭｅ２>
２−アミノ−３−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−５−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
【０１００】
<Ｒ１＝Ｍｅ>
４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、３−アミノ−４−メチルフェノール、３−アミノ−２，６−ジメチルフェノール、３−アミノ−２，５−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、５−アミノ−２，３，４−トリメチルフェノール、５−アミノ−２，３，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノール、２−アミノ−３，６−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジメチルフェノール、２−アミノ−３，４，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，５，６−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５−トリメチルフェノール、２−アミノ−３，４，５，６−テトラメチルフェノール、２−アミノ−６−イソプロピル−３−メチルフェノール、４−アミノ−２−イソプロピル−５−メチルフェノール、４−アミノ−６−エチル−２，３−ジメチルフェノール、２−ヒドロキシ−６−メチル−３−アニシジン、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチル−５−アニシジン、２−ヒドロキシ−６−メチル−４−アニシジン、３−ヒドロキシ−２−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−３−メチル−４−アニシジン、５−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−アニシジン、３−アミノ−５−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸、３−アミノ−５−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、５−アミノ−２−ヒドロキシ−３−イソプロピル−６−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸、４−アミノ−２−ヒドロキシ−３，６−ジメチル安息香酸、３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−メチル安息香酸メチル、４−アミノ−２−ヒドロキシ−５−メチル安息香酸メチル
【０１０１】
<Ｒ１＝Ｅｔ>
３−アミノ−２−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチルフェノール、４−アミノ−３−エチル−２，６−ジメチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジエチルフェノール、３−アミノ−４−エチルフェノール、２−アミノ−３−エチルフェノール、２−アミノ−３，５−ジエチルフェノール
【０１０２】
<Ｒ１＝ｉＰｒ>
３−アミノ−２−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピルフェノール、４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、２−アセチル−４−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，５−ジイソプロピルフェノール、３−アミノ−４−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピルフェノール、２−アミノ−３−イソプロピル−６−メチルフェノール
【０１０３】
<Ｒ１＝ＯＭｅ>
３−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−２−アニシジン、４−ヒドロキシ−３−メチル−５−メトキシ−２−アニシジン、５−アセチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−２−アニシジン、４−アミノ−２，３−ジメトキシ−６−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメトキシフェノール、５−ヒドロキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メチル−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メトキシ−２−アニシジン、５−ヒドロキシ−４−メトキシ−３−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−メチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−アセチル−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−５−［２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）エチル］−２−アニシジン、６−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、３−ヒドロキシ−２，４−ジメトキシアニリン、２，３，４−トリメトキシ−６−アミノフェノール
【０１０４】
これらのうち、特に、４−アミノ−３−メチルフェノール、４−アミノ−２，３−ジメチルフェノール、３−アミノ−２−メチルフェノール、２−アミノ−３−メチルフェノールなどが、得られるビスイミドフェノール化合物の溶解性と凝集力のバランスや、入手の容易さから好ましい。
【０１０５】
これらのアミノフェノールは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、対称性のよいビスイミドフェノール化合物を製造する上で、好ましくは１種のみを用いる。
【０１０６】
＜芳香族カルボン酸二無水物＞
前記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ａ−ＢＰＤＡ）、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）等のテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物等の（２，２−ジフェニルプロパン）テトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等のベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物；２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３’，３，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等のジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。中でも、それ自体の分子の対称性がよく、ビスイミドフェノール化合物全体としての対称性をよくしてイミドの性質を十分に発揮させ、前記｜α｜を適切に設定することで必要な溶解性を確保することができ、また、入手容易であることから、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ）、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などが好ましい。
なお、これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０７】
＜溶剤＞
一段目反応に用いられる溶剤は、前述の如く、活性プロトンが存在すると酸無水物基と反応する可能性があり、アミック酸生成を妨げることから、非プロトン性有機溶剤が好ましい。二段目反応に溶剤を用いる場合、その溶剤には特に制限はない。この場合、アミック酸を生成する一段目反応とイミド環を生成する二段目反応で用いる溶剤は、同一でも異なってもよいが、簡便性の点では、溶剤交換の煩雑さを避けるために同一とするか、或いは異なる溶剤を用いる場合は二段目反応において、更に別の溶剤を追加するようにすることが好ましい。
【０１０８】
一段目のアミック酸を生成する際に用いる有機溶剤は、芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールを部分的にでも溶解可能で、かつ反応条件において原料と反応しない非プロトン性有機溶剤であればよく、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル系溶剤；トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クメン、アニソール等の芳香族系溶剤などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。混合して用いる場合は、反応初期から混合されていてもよく、また反応の途中で添加されてもよい。
【０１０９】
＜原料比率・原料温度＞
反応に供する芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールとのモル比率は、両原料が残留しない反応当量の１：２が最も好ましい。しかしながら、除去容易なアミノフェノールが芳香族カルボン酸二無水物に対し、必要量以上（芳香族カルボン酸二無水物１モルに対し２モル以上）であっても構わない。即ち、アミノフェノールは酸処理によって水溶化するため、反応後に残留しても除去が容易である。一方、酸無水物基は、アルカリ処理によってジカルボン酸のアルカリ塩とし、水溶化することは可能であるが、生成したビスイミドフェノールもアルカリ塩となることから、アミノフェノールに比べて芳香族カルボン酸二無水物は、分離、精製しにくい。反応に供する芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールのモル比率としては、芳香族カルボン酸二無水物：アミノフェノールが１：２〜１：４が好ましく、１：２〜１：３が更に好ましく、１：２が特に好ましい。
【０１１０】
一段目反応と二段目反応を溶剤を用いて行う場合、アミノフェノールの反応溶液中濃度としては０．２〜９５重量％、特に１〜５５重量％、とりわけ３〜３５重量％とすることが好ましい。また、芳香族カルボン酸二無水物の反応溶液中濃度としては０．０２〜８８重量％、特に２〜６４重量％、とりわけ、５〜５０重量％とすることが好ましい。
また、反応溶液中の芳香族カルボン酸二無水物とアミノフェノールの合計濃度は特に限定されないが、作業性の問題から、アミック酸を生成する一段目反応では８〜８５重量％が好ましく、イミド環を生成する二段目反応では５重量％以上が好ましい。なお、この二段目反応は無溶剤で行われても構わない。
【０１１１】
＜触媒＞
一段目反応も、二段目反応も、多くの場合、無触媒でも十分に反応は進行するが、必要に応じて触媒を用いてもよい。触媒としては、例えばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンのような芳香族アミン；トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジルアミン、Ｎ−メチルモルフォリン、Ｎ−メチルピペリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ウロトロピン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミンのような３級アミン化合物；酢酸、トリフルオロ酢酸、フェノール化合物、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ホウ酸、リン酸のようなブレンステッド酸性化合物；アルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマス、ランタノイド類、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、マンガン、レニウム、鉄、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛等を含むルイス酸性化合物等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
触媒の使用量には特に制限はないが、反応点となる酸無水物基に対して概ね１０モル％以下、例えば１〜５モル％程度とするのが好ましい。
なお、触媒の有無により、以下に記載する反応条件を変える必要はない。
【０１１３】
＜脱水剤＞
二段目反応の脱水反応を脱水剤を用いる化学的手法で行う場合、その方法としては、例えば無水酢酸とピリジンのように酸無水物と塩基を併用する方法や、酸ハライドと塩基を併用する方法、またＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドのようなカルボジイミド系化合物やリン酸系の脱水縮合剤を用いる方法が挙げられる。
【０１１４】
これらの脱水剤の使用量としては特に制限はないが、例えば酸無水物基に対して１．０〜２．０モル当量程度とすることが好ましい。
これらの脱水剤を用いる場合、一段目反応終了後に、上記適当量の脱水剤を反応系に添加して二段目反応を行えばよい。
【０１１５】
＜反応条件＞
反応温度、反応時間などの反応条件は、イミド環が生成される条件であればよいが、作業性の観点から以下の範囲内が好ましい。
【０１１６】
即ち、アミック酸を生成する一段目反応では、反応温度は、イミドの閉環反応（脱水）が起こらない条件が望ましいことから、上限として１１０℃が好ましく、１００℃が更に好ましく、９５℃が特に好ましく、９０℃が最も好ましい。また、同下限は、低すぎると反応速度が遅くなり効率が低下することから、５℃が好ましく、４０℃が更に好ましく、６０℃が特に好ましい。この一段目反応のアミック酸の生成反応の反応時間は温度にもよるが、下限が通常０．５時間、好ましくは１時間、同上限が通常１２時間、好ましくは６時間である。
反応圧力は、常圧又は加圧が好ましく、常圧が更に好ましい。
【０１１７】
一段目反応において、加熱時の突沸を防ぐため、反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラーを用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
【０１１８】
二段目反応のイミド環の生成段階で、加熱による脱水を行う場合の反応温度は、水が揮発して反応系外に除去されるに十分な温度が必要であることから、下限は好ましくは１２０℃、より好ましくは１３０℃、特に好ましくは１４０℃であり、同上限は、生成物の熱分解を防ぐ観点から、好ましくは２５０℃、より好ましくは２００℃がよい。脱水反応は、除去された水の量が理論量に達するまで行われ、ほとんどの場合２４時間以内である。
【０１１９】
脱水剤を用いる化学的手法によって脱水を行う場合の反応温度は、水を加熱留去する必要性がないことから、通常５〜１００℃とする。
脱水剤を用いて脱水を行う場合、溶剤を必要とするが、加熱による脱水を行う場合は、溶剤は存在してもしなくてもよく、例えばある溶剤中でアミック酸を生成させた後に、別の高沸点の溶剤に置換して加熱脱水を行ったり、或いはアミック酸から溶剤を留去して無溶剤で加熱脱水を行ったりすることもできる。
【０１２０】
二段目反応において、溶剤を用いる場合、反応圧力は常圧でよく、溶剤を用いない場合には常圧でも減圧でもよいが、脱水をスムーズに進行させるためには減圧であることが好ましい。また、溶剤を用いる場合、一段目反応と同様に加熱時の突沸を防ぐため、反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラーを用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
二段目反応を無溶剤で行う場合には継続的な撹拌は不要である。
【０１２１】
＜その他の添加剤＞
本発明の方法では、本発明の反応を大幅に妨げなければ、反応系に、酸化防止剤、界面活性剤等の添加剤を加えてもよいが、イミド化の反応を妨げないよう必要最低限に止めるべきであり、これらの添加剤を添加する場合、添加量は原料の５重量％以下とすることが好ましい。
これらの添加剤としては、イミド環の形成の点から、原料以外の１級アミン、２級アミン、フェノール類を除くアルコール、原料以外の酸無水物、イソシアネート化合物等以外の物質が好ましい。
【０１２２】
＜反応の進行状況の確認＞
反応の進行は、薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）やガスクロマトグラフィ（ＧＣ）、液体クロマトグラフィ（ＬＣ）等によって原料の消費をモニターすることで確認することができる。また、加熱脱水法においてはより簡便に、除去された水の量によって反応の進行を確認することができる。例えば、溶媒を用いる方法においては、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管を用いることで水の量を測定することができ、溶媒を用いない方法においては、重量の減少によって除去された水の量を知ることができ、これによって反応の進行を確認することができる。
【０１２３】
＜生成物の回収、精製＞
一段目反応及び二段目反応を経て生成したビスイミドフェノール化合物は、溶剤を用いた場合には溶液となるか、あるいは析出して分散液か沈殿物となる。溶液となっている場合には溶剤を蒸発させて除去したり、又はビスイミドフェノール化合物が溶解しない貧溶媒を混合することで析出させたりして固体として得ることができる。分散液や沈殿物となっている場合にはそのまま濾取することも可能であるし、貧溶媒と混合することでさらに濾取しやすくすることもできる。濾過は加圧、常圧、減圧濾過のいずれを用いてもよい。
【０１２４】
濾取したビスイミドフェノールは、原料の比率が適切であれば十分な純度で得られるが、残留アミノフェノールや微量の着色成分等の不純物が問題となる場合には、更に精製することもできる。
【０１２５】
精製法としては、ビスイミドフェノールが溶解せず、不純物が溶解する溶剤を用いて洗浄除去する方法が最も簡便であり、この場合、用いる溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。どの溶剤が適切であるかは、ビスイミドフェノールによって異なる。また、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の酸で洗浄することで、残留アミノフェノールをより効率的に除去することができる。
【０１２６】
不純物が結晶中に取り込まれて、洗浄では除去が困難である場合には、再結晶法が有効である。再結晶は、濾取したビスイミドフェノールを一旦溶剤に溶解し、貧溶媒を加えて再度析出させた後、濾取することにより行うことができる。ビスイミドフェノールを溶解する溶剤と貧溶媒の組み合わせとしては特に限定されないが、例えばアセトン／水、Ｎ−メチルピロリドン／水、Ｎ−メチルピロリドン／トルエン等が挙げられる。更にこれを濾取した後、前述の洗浄を行ってもよい。
【０１２７】
ビスイミドフェノールの乾燥法は特に限定されず、加温されていてもいなくてもよく、減圧されていてもいなくてもよい。
【０１２８】
上記の好ましい条件で反応及び精製を行えば、収率は良好であり、通常、本発明の方法によれば、８０〜１００％の収率で目的とするビスイミドフェノール化合物を得ることができる。
【０１２９】
なお、不純物として混入する可能性のあるものとしては、例えば、未反応の原料、アミノフェノール中に含まれる不純物のジアミンが反応してできたイミドオリゴマー、残留溶剤、アミンの酸化物等が挙げられる。
【０１３０】
｛ビスイミドフェノール誘導体の製造方法｝
本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述の本発明のビスイミドフェノール化合物を原料とし、例えば、Ｒ８−Ｌ（Ｒ８は前述のＲ７又はその前駆体基であり、Ｌは、ビスイミドフェノール化合物との反応でＲ８を分離し得る相手基である。）で表される種々の反応剤を反応させて化学変換を経ることで製造される。この化学変換は一段階でもよいし、二段階以上の複数の工程を経てもよい。また複数の工程を経る場合は、ワンポットで行われてもよく、工程毎に単離・精製されてもよい。即ち、本発明のビスイミドフェノール誘導体は、上述のビスイミドフェノール化合物を原料として、そのフェノール性水酸基の水素原子をＲ７に置換することにより製造されるが、Ｒ７は、ビスイミドフェノール化合物に直接１段反応で導入してもよいし、ビスイミドフェノール化合物にＲ７の前駆体基を導入してこれをＲ７に変える多段反応で導入してもよい。
また、化学変換の原料となる本発明のビスイミドフェノール化合物は、精製されたものであってもよく、精製前の不純物を含むものであってもよい。
【０１３１】
反応性官能基を有する置換基Ｒ７を導入する方法としては、従来公知のいずれの方法でもよく、例えば以下の文献に記載されている方法を用いることができる。
「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ ２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ」Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、１９９９年
「Ｍｅｔａｌ−ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ」Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ、１９９８年
【０１３２】
＜溶剤＞
ビスイミドフェノール化合物の化学変換反応（以下「本発明の変換反応」と称す場合がある。）には溶剤を用いてもよい。ここで用いる溶剤としては、原料となるビスイミドフェノールを僅かでも溶解することができれば使用が可能であるが、作業上の簡便さや反応性を考慮するとビスイミドフェノール化合物の溶解度が高い溶剤であることが好ましい。例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素等のアミド系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチロラクトン、カプロラクトン等のエステル系溶剤；ピリジン、トリエチルアミン等のアミン系溶剤；ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホン系溶剤等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、単独ではビスイミドフェノール化合物を溶解できない溶剤であっても、これらの溶剤と混合することで反応に適した溶剤を併用することも可能であり、例えばトルエン、キシレン、メシチレン、クメン、アニソール等の芳香族系溶剤や、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロメチルベンゼン等のハロゲン系溶剤を上記の溶剤と混合して用いることができる。混合して用いる場合は、反応初期から混合されていてもよく、また反応の途中で添加されてもよい。
【０１３３】
＜比率・濃度＞
本発明の変換反応に供するビスイミドフェノール化合物と反応剤とのモル比率は、両原料が残留しない反応当量の１：２が最も好ましい。しかしながら、反応系によっては反応剤が水分や酸素等で容易に分解してしまい、当量がずれるおそれがあるため、反応剤を過剰量用いることができる。また、平衡反応であるために当量では反応が完結しない反応系もあり、こうした場合にはいずれかを過剰量用いて平衡を生成物側に偏らせるようにしてもよい。さらに、原料のビスイミドフェノール化合物は一般に生成物よりも溶剤溶解性が悪く、これを有効に活用して、反応剤を当量より少なく用い、反応後、溶解度の低い原料のビスイミドフェノール化合物を濾過で除くことにより生成物を容易に分取することも可能である。
このようなことから、ビスイミドフェノール化合物と反応剤のモル比率としては、ビスイミドフェノール化合物：反応剤が１：１〜１：１０が好ましく、１：１．５〜１：６が更に好ましく、１：１．８〜１：３が特に好ましい。
【０１３４】
本反応に用いる原料の反応溶液中濃度としては、両原料の合計（ビスイミドフェノール化合物と反応剤の合計）の固形分濃度として０．２〜９５重量％、特に１〜７５重量％、とりわけ２〜５５重量％とすることが好ましい。
【０１３５】
＜触媒・その他の添加剤＞
本発明の変換反応は無触媒で進行するものもあるが、必要に応じて触媒や縮合剤、発生するプロトンのアクセプタ、酸化防止剤や重合禁止剤等の添加剤を加えてもよい。
【０１３６】
触媒としては塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸；ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸；アルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、ビスマス、ランタノイド類、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、マンガン、レニウム、鉄、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛等を含むルイス酸性化合物や金属錯体；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、フッ化セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、イミダゾール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ウロトロピン、トリアルキルホスフィン類等の有機塩基等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１３７】
縮合剤としてはＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、ジフェニルリン酸アジド（ＤＰＰＡ）、ＢＯＰ試薬（Ｃａｓｔｒｏ試薬）、ＰｙＢＯＰ、ＴＢＴＵ、ＣＤＭＴ、ＤＭＴ−ＭＭ、２，４，６−トリクロロベンゾイルクロリド等が挙げられ、また触媒として挙げた無機酸、有機酸、ルイス酸性化合物も触媒的脱水縮合剤と解釈することができる。
【０１３８】
プロトンのアクセプタとしては、触媒として挙げた無機塩基、有機塩基等が挙げられる。
【０１３９】
酸化防止剤、重合禁止剤としては公知のものが用いられる。
【０１４０】
上記触媒、縮合剤、プロトンアクセプタ、酸化防止剤、重合禁止剤等の各種添加剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１４１】
＜反応条件（温度、時間、圧力）＞
本発明の変換反応の反応条件は、用いる反応剤の種類によって異なるが、反応温度の上限は、最も安定性が高いと思われるエチニル基の反応開始温度である２００℃以下、好ましくは１００℃以下である。また同下限は、簡便に取り扱える低温条件として−７８℃以上、好ましくは０℃以上である。
【０１４２】
反応時間も反応系によって異なり、反応温度にも依存するが、下限が０．５時間、同上限は通常４８時間、好ましくは２４時間である。
【０１４３】
反応圧力は、常圧、減圧、加圧のいずれでもよく、反応系によって最適な条件を選べばよい。例えば揮発性の高い化合物を使用して加熱したい場合は加圧下で、反応副生成物を揮発させて除去したい場合は減圧下で行うなど、化学反応を行う上での常識的な判断に従えばよい。
【０１４４】
反応時は反応系を撹拌することが好ましく、撹拌にはメカニカルスターラーやマグネチックスターラー等を用いることができる。撹拌速度は特に限定されない。
【０１４５】
＜反応の進行状況の確認＞
反応の進行は、薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）やガスクロマトグラフィ（ＧＣ）、液体クロマトグラフィ（ＬＣ）等によって原料の消費をモニターすることで確認することができる。
【０１４６】
＜生成物の回収、精製＞
本発明の変換反応で生成したビスイミドフェノール誘導体は、溶剤を用いた場合には溶液となるか、あるいは析出して分散液か沈殿物となる。溶液となっている場合には溶剤を蒸発させて除去したり、又はビスイミドフェノール誘導体が溶解しない貧溶媒を混合することで析出させたりして固体として得ることができる。逆に、残留した原料のビスイミドフェノール化合物の溶剤溶解性が低いことを利用し、生成物のみを溶液として不溶物を濾取し、濾液を濃縮することでビスイミドフェノール誘導体を分離回収することができる。また水や無機塩の水溶液を加えて分液することで、水溶性の不純物を分離した後、前述の方法を用いて固体として得ることもできる。分散液や沈殿物となっている場合にはそのまま濾取することも可能であるし、貧溶媒と混合することでさらに濾取しやすくすることもできる。濾過は加圧、常圧、減圧濾過のいずれを用いてもよい。
【０１４７】
本反応のビスイミドフェノール誘導体は、原料の比率が適切であれば十分な純度で得られるが、残留する原料や添加剤、微量の着色成分等の不純物が問題となる場合には、更に精製することもできる。
【０１４８】
精製法としては、ビスイミドフェノール誘導体が溶解せず、不純物が溶解する溶剤を用いて洗浄除去する方法が最も簡便であり、この場合、用いる溶剤としては、例えば水；塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の酸性水溶液；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性水溶液；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類；クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等のハロゲン系溶剤等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。どのような溶剤が適切であるかは、ビスイミドフェノール誘導体によって異なる。
【０１４９】
不純物が結晶中に取り込まれて、洗浄では除去が困難である場合には、再結晶法が有効である。再結晶は、濾取したビスイミドフェノール誘導体を一旦溶剤に溶解し、再度析出させた後、濾取することにより行うことができる。この際、貧溶媒を加えても加えなくてもよい。貧溶媒を加える場合、ビスイミドフェノール誘導体を溶解する溶剤と貧溶媒の組み合わせとしては特に限定されないが、例えばアセトン／水、ジクロロメタン／ヘキサン、Ｎ−メチルピロリドン／トルエン、Ｎ−メチルピロリドン／水等が挙げられる。更にこれを濾取した後、前述の洗浄を行ってもよい。
【０１５０】
また、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィも用いることができる。即ち、不純物を含む粗生成物をシリカゲルに吸着させ、適当な溶出溶媒で分離・流出させることで精製が可能であり、コスト面では不利であるが、小スケールの合成で簡便に純度の高い生成物を得ることができる。
【０１５１】
これらの精製法は単独で用いるだけでなく、任意の順で適宜組み合わせて用いることができる。
【０１５２】
また、生成したビスイミドフェノール誘導体の乾燥法は特に限定されず、加温しても加温しなくてもよく、減圧しても減圧しなくてもよい。ただし、反応性の官能基が自己反応を開始しない条件を選ぶことが必要であり、誘導体の種類によって窒素下での乾燥、酸素存在下での乾燥、低温での乾燥等を使い分けることが好ましい。
上記の好ましい条件で反応及び精製を行えば、収率は良好であり、通常、本発明の変換反応によれば、５０〜１００％の収率で目的とするビスイミドフェノール誘導体を得ることができる。
なお、不純物として混入する可能性のあるものとしては、例えば、未反応の原料、原料に元々含まれる不純物、反応剤の分解物、フェノール性水酸基以外の部位にＲ７が導入された副生成物、原料の酸化物、残留添加剤、残留溶剤等が挙げられる。
【０１５３】
［高分子化合物］
本発明の高分子化合物は、上述の本発明のビスイミドフェノール誘導体を原料モノマーの少なくとも一部として用い、これを重合するか、或いは他のモノマーと共重合してなるものであり、具体的にはエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、トリアゾール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリチオエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂等、又はこれらの樹脂が複合された樹脂（例えばポリイミドポリエステル、ポリエステルポリウレタン、ポリイミドアクリル、ポリアクリルウレタン等）が挙げられる。
【実施例】
【０１５４】
以下に製造例、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５５】
なお、以下において、純度を示す「％」はすべて「重量％」である。
また、合成された化合物の１Ｈ−ＮＭＲは、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＶ４００Ｍを用いて、重ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）又は重クロロホルム溶媒中、室温で測定した。また、ＩＲは、ＦＴ／ＩＲ−２３０（日本分光（株）製）を用いて、ＫＢｒ錠剤を作成し、透過法で測定した。ＭＳはＰｏｌａｒｉｓ Ｑ（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用い、イオン源温度２００℃、イオン化法はＥＩ、イオン化エネルギー７０ｅＶで、直接導入法で測定した。
【０１５６】
［製造例１：本発明のビスイミドフェノール化合物の製造］
メカニカルスターラー、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管、及び還流冷却管を装備した２Ｌフラスコに、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ｓ−ＢＰＤＡ、三菱化学（株）製、純度９９．８％）１００ｇ（３４０ｍｍｏｌ）とＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ、三菱化学（株）製、純度９９．９％）３００ｍｌを加え、撹拌しながら４−アミノ−ｍ−クレゾール（製品名）（又は４−アミノ−３−メチルフェノール（別名））（和光純薬工業（株）製、純度９８％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）を投入した。これを８０℃の油浴で２時間加熱した後、トルエン１５０ｍｌを加え、油浴温度を１６０℃に上げた。トルエンが還流開始してから３時間後、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管にほぼ理論量の水が留出したことを確認し、油浴を外して室温まで撹拌しながら冷却した。ここに１．５Ｌの蒸留水を加えると、生成物が析出した。これをブフナー漏斗で濾取し、３Ｌの水、１Ｌのエタノールで洗浄した後、１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ａ１−１）で表される、薄黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（以下、「ビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）」と称す。）を得た。収量１６７ｇ（３３２ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当するメチル基（Ｍｅ）の｜α｜は５５．８°である。
【０１５７】
【化１２】
【０１５８】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.05(6H,s,-CH3),6.72(2H,dd,J=2.8,8.0Hz,Ar-H),6.79(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.15(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.38(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.41(2H,s,Ar-H),9.71(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3448,1774,1709,1618,1504,1460,1421,1383,1300,1257,1111,744,546cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,31%),506([M+]+2,6.2%)
【０１５９】
［実施例１：エポキシ誘導体の製造］
メカニカルスターラー、環流冷却管を備えた２Ｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）１０３．３ｇ（２００ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬工業（株）製、特級）３００ｍｌ、炭酸カリウム（和光純薬工業(株)製、特級）１３８．２ｇ（１ｍｏｌ）を加え、撹拌しながら臭化アリル（和光純薬工業(株)製、特級）６０．５ｇ（５００ｍｍｏｌ）を滴下した。これを４５℃の油浴で７時間加熱し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、蒸留水１．５Ｌを加えた。析出した固体をブフナー漏斗（濾紙５Ｃ）で濾取し、２Ｌの蒸留水、１Ｌのアルコール混媒（ソルミックスＡ−１１、日本アルコール製）で洗浄した。これを１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ｃ１−１）で表される灰白色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−アリロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１１５．４ｇ（１９７．３ｍｍｏｌ、収率９８．７％）。
【０１６０】
【化１３】
【０１６１】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H‐NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.20(6H,s,−CH3),4.58(4H,d,J=5.2Hz,CH2),5.32(2H,dd,J=2.8,10.4Hz,allyl
C-H）,5.44(2H,dd,J=2.8,17.2Hz,allyl
C-H),6.06(2H,ddd,J=5.2,10.4,17.2Hz,allyl
C-H),6.88(2H,dd,J=2.8,8.8Hz,Ar-H),6.92(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.13(2H,d,J=8.8Hz,Ar-H),8.07(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.24(2H,s,Ar-H)
【０１６２】
このＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−アリロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド１．１７ｇ（２ｍｍｏｌ）とクロロホルム５０ｍｌ（和光純薬工業(株)製、特級）を、スターラーチップと環流冷却管を備えた３００ｍｌフラスコに加え、撹拌しながら氷浴で０℃に冷却した。ここに、ｍ−クロロ過安息香酸１．１ｇ（和光純薬工業(株)製、水分含有量約７０％、４．４ｍｍｏｌ）を少しずつ加えた。これを４０℃で２時間、５０℃で４時間、６０℃で７時間加熱撹拌し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、室温まで冷却してから亜硫酸水素ナトリウムの飽和水溶液２０ｍｌを加えて過剰のｍ−クロロ過安息香酸を分解し、更に炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液を３０ｍｌ加えて中和した。反応溶液を分液漏斗に移し、更に炭酸水素ナトリウム飽和水溶液２０ｍｌ、飽和食塩水２０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過、濃縮すると、下記式（Ｃ１−２）で表される淡黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−グリシジルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドが得られた。収量１．１９ｇ（１．９３ｍｍｏｌ、収率９６．５％）。また、分析用のサンプルとしてこの一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液：酢酸エチル／ジクロロメタン＝１／２０→１／１０）で更に精製すると、非常に純度の高い上記化合物が、僅かに黄色味がかった白色固体として得られた。
【０１６３】
【化１４】
【０１６４】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.20(6H,s,-CH3),2.78(2H,ｄｄ,Ｊ=2.4,4.8Hz,epoxy O-CH2-CH),2.93(2H,dd,J=4.0,4.8Hz,epoxy O-CH2-CH),3.38(2H,dddd,Ｊ=2.4,3.2,4.8,6.0Hz,CH2-CH),4.00(2H,dd,J=6.0,11.2Hz,CH2),4.26(2H,ｄｄ,J=3.2,11.2Hz,CH2),6.88(2H,ｄｄ,J=2.8,8.4Hz,Ar-H),6.94(2H,ｄ,J=2.8Hz,Ar-H),7.15(2H,ｄ,J=8.4Hz,Ar-H),8.07(2H,ｄ,J=8.0Hz,Ar-H),8.09(2H,ｄ,J=8.0Hz,Ar-H),8.24(2H,ｓ,Ar-H)
IR(KBr)：1774,1713,1616,1503,1419,1379,1298,1286,1249,1171,1110,1089,1043,744cm‐1
MS：m/z616([M+],100%),617([M+]+1,39%),618([M+]+2,8.3%)
【０１６５】
［実施例２：プロパルジル誘導体の製造]
スターラーチップ、環流冷却管を備えた３００ｍｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）２．５８ｇ（５．０ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬工業（株）製、特級）５０ｍｌ、炭酸カリウム（和光純薬工業(株)製、特級）６．９ｇ（５０ｍｍｏｌ）を加え、撹拌しながら臭化プロパルジル（和光純薬工業(株)製、特級）０．８３ｍｌ（１１ｍｍｏｌ）を滴下した。これを４０℃の油浴で５時間加熱し、ＴＬＣで原料の消失を確認した後、蒸留水２００Ｌを加えた。析出した固体をブフナー漏斗（濾紙５Ｃ）で濾取し、５００ｍＬの蒸留水、５００ｍＬのアルコール混媒（ソルミックスＡ−１１、日本アルコール製）で洗浄した。これを１３５℃で減圧乾燥して溶剤を除去し、下記式（Ｃ２）で表される灰白色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−プロパルジルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量２．６２ｇ（４．５ｍｍｏｌ、収率９０．３％）。
【０１６６】
【化１５】
【０１６７】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.13(6H,s,-CH３),3.62(2H,t,J=2.4Hz,C≡CH),4.87(4H,d,Ｊ=2.4Hz,C≡C-CH2),6.98(2Ｈ,dd,J=2.8,8.4Hz,Ar-H),7.04(2H,d,J=2.8Hz,Ar-H),7.33(2H,d,J=8.4Hz,Ar-H),8.11(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.39(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.42(2H,s,Ar-H)
IR(KBr)：3281,1772,1713,1604,1504,1421,1380,1310,1241,1168,1110,1088,1034,844,822,745cm-1
MS:m/z580([M+],100％),581([M+]+1,3％)582([M+]+2,9.4％)
【０１６８】
［実施例３：メタクリル誘導体の製造]
マグネチックスターラー、環流冷却管を備えた２００ｍｌフラスコに、製造例１で合成したビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）５．１６ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）とジクロロメタン３５ｍｌ（和光純薬工業(株)製、特級）、ピリジン１５ｍｌ（和光純薬工業(株)製、）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１２２ｍｇ（東京化成工業(株)製、特級）を加えて撹拌し、均一な溶液とした。ここに、塩化メタクリロイル（和光純薬工業(株)製、特級）４．８ｍｌ（４８ｍｍｏｌ）を滴下し、４０℃で７時間撹拌した。ＴＬＣで原料の消失を確認した後、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液と飽和食塩水を加えて分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶剤を留去し、５０℃で減圧乾燥して、下記式（Ｃ３）で表される淡黄色のＮ，Ｎ’−ビス（２−メチル−４−メタクリルオキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量４．４８ｇ（７．０ｍｏｌ、収率７０．０％）。また、分析用のサンプルとしてこの一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（溶出液：酢酸エチル／ジクロロメタン＝１／１０）で更に精製すると、非常に純度の高い上記化合物が、白色固体として得られた。
【０１６９】
【化１６】
【０１７０】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H-NMR(400MHz,CDCl3)：δ2.04(6H,s,Ar-CH3),2.18(6H,s,CH3-C-C(=O)),5.95(2H,s,C=CH2),6.33(2H,s,C=CH2),7.19(2H,ｄｄ,Ｊ=2.4,8.8Hz,Ar-H),7.28(2H,ｄ,Ｊ=2.8Hz,Ar-H),7.48(2H,ｄ,Ｊ=8.8Hz,Ar-H),8.13(2H,d,Ｊ=7.6Hz,Ar-H),8.42(2H,ｄ,Ｊ=7.6Hz,Ar-H),8.48(2H,s,Ar-H)
ＩR(KBr)：1774,1730,1714,1500,1420,1376,1320,1294,1239,1161,1132,1108,887,743ｃｍ-1
MS：m/z640([M+],100％),641([M+]+1,41％),642([M+]+2,9.5％)
【０１７１】
［製造例２］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ１−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．１２８７６１−４３−３）を得た。収量１５９ｇ（３３５ｍｍｏｌ、収率９８％）。
【０１７２】
【化１７】
【０１７３】
［製造例３］
４−アミノ−３−メチルフェノールを４−アミノ−３，５−キシレノール（東京化成工業（株）製、純度９８％以上）９３ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ１−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１７７ｇ（３３３ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１，Ｒ５に相当するメチル基（Ｍｅ）の｜α｜は５５．８°である。
【０１７４】
【化１８】
【０１７５】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.00(12H,s,-CH３),6.63(4H,s,Ar-H),8.12(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.40(2H,dd,J=0.8,8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,d,J=0.8Hz,Ar-H),9.64(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3371,1770,1707,1597,1475,1423,1377,1321,1271,1161,1113,1028,889,847,748,692,557,538cm-1
MS:m/z532([M+],100%),533([M+]+1,38.1%),534([M+]+2,7.5%),535([M+]+3,1.0%)
【０１７６】
［製造例４］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ２−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．２９５３４８−３２−２）を得た。収量１５２ｇ（３１９ｍｍｏｌ、収率９４％）。
【０１７７】
【化１９】
【０１７８】
［製造例５］
４−アミノ−３−メチルフェノールを５−アミノ−ｏ−クレゾール（和光純薬工業（株）製、純度９７％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ２−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−メチル−３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１５１ｇ（３００ｍｍｏｌ、収率８８％）。
【０１７９】
【化２０】
【０１８０】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.19(6H,s,-CH３),6.80(2H,dd,J=2.0,8.0Hz,Ar-H),6.89(2H,d,J=2.0Hz,Ar-H),7.20(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.08(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.37(2H,dd,J=1.2,7.6Hz,Ar-H),8.41(2H,d,J=1.2Hz,Ar-H),9.67(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3471,1770,1718,1618,1599,1523,1427,1369,1281,1265,1232,1186,1128,1095,796,741,553cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,３4.0%),506([M+]+2,6.9%)
【０１８１】
［製造例６］
４−アミノ−３−メチルフェノールをｏ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９７％）７４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１６０ｇ（３３７ｍｍｏｌ、収率９９％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８２】
【化２１】
【０１８３】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ6.94(2H,ddd,J=1.2,7.6,7.6Hz,Ar-H),7.01(2H,dd,J=1.2,7.6Hz,Ar-H),7.30(2H,dd,J=1.6,7.6Hz,Ar-H),7.34(2H,ddd,J=1.2,7.6,7.6Hz,Ar-H),8.01(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,dd,J=1.6,8.0Hz,Ar-H),8.44(2H,d,J=1.6Hz,Ar-H),9.90(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3317,1768,1701,1620,1601,1512,1464,1425,1389,1300,1286,1198,1111,1090,893,872,758,744,631cm-1
MS:m/z476([M+],100%),477([M+]+1,３３.0%),478([M+]+2,6.5%)
【０１８４】
［製造例７］
４−アミノ−３−メチルフェノールを６−アミノ−ｍ−クレゾール（和光純薬工業（株）製、純度９０％以上）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１６８ｇ（３３３ｍｍｏｌ、収率９８％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８５】
【化２２】
【０１８６】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.26(6H,s,-CH3),6.90(2H,d,J=8.4Hz,Ar-H),7.09(2H,d,J=2.4Hz,Ar-H),7.14(2H,dd,J=2.4,8.4Hz,Ar-H),8.09(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.39(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H),8.43(2H,s,Ar-H),9.62(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3398,1774,1718,1618,1512,1425,1375,1336,1292,1277,1188,1140,1109,1088,820,768,742,557cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,34.6%),506([M+]+2,7.3%)
【０１８７】
［製造例８］
４−アミノ−３−メチルフェノールを２−アミノ−ｐ−クレゾール（東京化成工業（株）製、純度９８％）８４ｇ（６８０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ３−３）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−４，４’−ジフタルイミドを得た。収量１５８ｇ（３１３ｍｍｏｌ、収率９２％）。この化合物において、一般式（Ｉ）のＲ１に相当する水酸基（ＯＨ）の｜α｜は４２．３°である。
【０１８８】
【化２３】
【０１８９】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ2.32(6H,s,-CH3),6.75(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),6.82(2H,s,Ar-H),7.15(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.08(2H,d,J=7.6Hz,Ar-H),8.38(2H,dd,J=1.6,7.6Hz,Ar-H),8.42(2H,d,J=1.6Hz,Ar-H),9.73(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3556,３47３,1768,1707,1616,1527,1427,1383,1３04,1279,1171,1117,891,808,746,559cm-1
MS:m/z504([M+],100%),505([M+]+1,33.9%),506([M+]+2,7.0%)
【０１９０】
［製造例９］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を４，４’−オキシジフタル酸無水物（製品名）（又は３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（別名））（東京化成工業（株）製、純度９８％）１００ｇ（３２２ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）７０ｇ（６４４ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ４−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキシジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．９５５７６−７３−１）を得た。収量１５７ｇ（３２０ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９１】
【化２４】
【０１９２】
［製造例１０］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を４，４’−オキシジフタル酸無水物（製品名）（又は３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物（別名））（東京化成工業（株）製、純度９８％）１００ｇ（３２２ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）７０ｇ（６４４ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ４−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキシジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５０４４４−３０−９）を得た。収量１５７ｇ（３２０ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９３】
【化２５】
【０１９４】
［製造例１１］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（東京化成工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（２７９ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）６１ｇ（５５８ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ５−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−スルホニルジフタルイミドを得た。収量１４９ｇ（２７６ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９５】
【化２６】
【０１９６】
この化合物の分析結果は以下の通りである。
1H NMR(400MHz,DMSO-d6)：δ6.88(4H,dd,J=2.0,6.8Hz,Ar-H),7.20(4H,dd,J=2.0,6.8Hz,Ar-H),8.17(2H,dd,J=0.8,8.0Hz,Ar-H),8.61(2H,dd,J=1.6,8.0Hz,Ar-H),8.6３(2H,dd,J=0.8,1.6Hz,Ar-H),9.79(2H,s,-OH)
IR(KBr)：3450,1778,1711,1599,1518,1452,1３89,1３19,1242,1178,1149,1119,1095,1059,837,742,675,638,598,563,526cm-1
MS:m/z540([M+],100%),541([M+]+1,31.3%),542([M+]+2,12.0%),543([M+]+3,2.6%)
【０１９７】
［製造例１２］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物（東京化成工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（２７９ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）６１ｇ（５５８ｍｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ５−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−スルホニルジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．１２９２０９−４０−１）を得た。収量１４９ｇ（２７６ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０１９８】
【化２７】
【０１９９】
［製造例１３］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（３１０ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｐ−アミノフェノール（製品名）（和光純薬工業（株）製、純度９８％）６８ｇ（６２０ｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ６−１）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキソメチレンジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５３４１７−１８−８）を得た。収量１５５ｇ（３０７ｍｍｏｌ、収率９９％）。
【０２００】
【化２８】
【０２０１】
［製造例１４］
３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（和光純薬工業（株）製、純度９６％以上）１００ｇ（３１０ｍｍｏｌ）とし、４−アミノ−３−メチルフェノールをｍ−アミノフェノール（和光純薬工業（株）製、純度９８．５％）６８ｇ（６２０ｍｏｌ）とした以外は、製造例１と同様に行って、下記式（Ｂ６−２）で表されるＮ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−４，４’−オキソメチレンジフタルイミド（ＣＡＳ Ｎｏ．５４９４２−２０−０）を得た。収量１５０ｇ（２９８ｍｍｏｌ、収率９６％）。
【０２０２】
【化２９】
【０２０３】
［比較例１〜１３］
製造例２〜１４で合成した各化合物を、それぞれ製造例３におけるビスイミドフェノール化合物（Ａ１−１）の代わりに反応系に適用しようとしたが、溶剤溶解性が不足しており、ほとんど反応が進行しなかった。
【０２０４】
以上のように、原料として溶剤溶解性の高いビスイミドフェノール化合物を用いた場合は、耐熱性高分子材料の原料等として有用である種々の反応性官能基を有するビスイミドフェノール誘導体を製造することが可能であるが、製造例２〜１４のビスイミドフェノール化合物は溶剤溶解性が悪いため、変換反応そのものがほとんど進行しないことがわかる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するビスイミドフェノール誘導体。
【化１】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【化２】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian0３ x86-Win３2版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(３) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【化３】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【請求項２】
下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物とを脱水縮合させることにより、前記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物を合成し、該ビスイミドフェノール化合物のフェノール性水酸基の水素原子をＲ７（Ｒ７は請求項１におけると同義である。）に置換することを特徴とする、請求項１に記載のビスイミドフェノール誘導体の製造方法。
【化４】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【化５】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【請求項３】
請求項１に記載のビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物。
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物のＲ２〜Ｒ５のいずれか一つの水酸基が−Ｏ−Ｒ７（Ｒ７は反応性官能基を有する炭素数１〜２０の有機基を表し、化合物中の複数のＲ７は同一であってもよく、異なっていてもよい。）に置換された構造を有するビスイミドフェノール誘導体。
【化１】
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１は、以下に定義される｜α｜が４５゜以上、９０゜以下となる一価の官能基を示し、Ｒ５は、水素原子又は以下に定義される｜α｜が０゜以上、４５゜未満となる一価の官能基を示す。
Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、水酸基又は炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｒ６は、炭素数１〜１０の有機基を示すが、隣接する２つの基が結合してベンゼン環に縮合する炭素数２０以下の環を形成してもよい。
Ｘは、単結合、置換されていてもよい炭素数１〜２０の二価の有機基、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−Ｏ−又は−ＳＯ２−を示す。
ｎは０〜３の整数である。
複数のＲ１〜Ｒ６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。ただし、Ｒ１〜Ｒ６はハロゲン原子であることはなく、また、各Ｒ２〜Ｒ５のうちのいずれか一つは水酸基であることにより、化合物中には２個の水酸基を有する。）
｛｜α｜の定義｝
｜α｜とは、下記式（Ｉ−１）に示す構造において、理論計算に基づいた最安定構造を算出した際、２つの共役平面の成す二面角αの絶対値である。
【化２】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
ここで、二面角の理論計算は、ＯＳとして「Microsoft社製Windows XP Professional Version 2002 Service Pack2」、ソフトに「Gaussian社製Gaussian0３ x86-Win３2版Rev.B.05」を用いて、ＡＭ１法（オプションとして「opt=verytight」を指定）により、最安定構造を計算して行われる。
αとしては、隣接する４つの原子、Ｃ（イミドのカルボニル炭素）−Ｎ（イミドの窒素）−Ｃ（芳香環）−Ｃ（芳香環）の成す以下の(1)〜(4)の４種の二面角の内、絶対値が最小のものとする。なお、Ｃ１〜Ｃ５は下記式（Ｉ−Ｉａ）に示される。
(1) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(2) Ｃ１−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
(３) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ４
(4) Ｃ３−Ｃ２−Ｎ−Ｃ５
【化３】
（式中、ＲはＲ１又はＲ５に該当する。）
【請求項２】
下記一般式（II）で表されるアミノフェノールと、下記一般式(III)で表される芳香族カルボン酸二無水物とを脱水縮合させることにより、前記一般式（Ｉ）で表されるビスイミドフェノール化合物を合成し、該ビスイミドフェノール化合物のフェノール性水酸基の水素原子をＲ７（Ｒ７は請求項１におけると同義である。）に置換することを特徴とする、請求項１に記載のビスイミドフェノール誘導体の製造方法。
【化４】
（一般式（II）において、Ｒ１〜Ｒ５はそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【化５】
（一般式(III)において、Ｘ、Ｒ６及びｎはそれぞれ一般式（Ｉ）におけると同義である。）
【請求項３】
請求項１に記載のビスイミドフェノール誘導体をモノマーの少なくとも一部として重合して得られる高分子化合物。
【公開番号】特開２０１１−１７３８２７（Ｐ２０１１−１７３８２７Ａ）
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−３８７８６（Ｐ２０１０−３８７８６）
【出願日】平成２２年２月２４日（２０１０．２．２４）
【出願人】（０００００５９６８）三菱化学株式会社 (4,356)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月８日（２０１１．９．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月２４日（２０１０．２．２４）
【出願人】（０００００５９６８）三菱化学株式会社 (4,356)
【Ｆターム（参考）】
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