ピロリジン誘導体の合成方法
【課題】本発明の目的は、カイニン酸などの合成に適用可能であり、短工程かつ各工程の変換効率が高い効率的なピロリジンジカルボン酸化合物の合成方法を提供することである。
【解決手段】 本発明により、例えば式Ｂ−Ｉ：
［式中、Ｌ、Ｚ２およびＲ２２は、明細書中に定義したとおりである］の化合物を原料として、式Ｉ：
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＺは、明細書中に定義されたとおりである］の化合物を製造する方法が提供される。
【解決手段】 本発明により、例えば式Ｂ−Ｉ：
［式中、Ｌ、Ｚ２およびＲ２２は、明細書中に定義したとおりである］の化合物を原料として、式Ｉ：
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＺは、明細書中に定義されたとおりである］の化合物を製造する方法が提供される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
［式中、Ｒ１およびＲ３は、独立に、水素原子およびＣ１−６アルキルから選択され、ここで当該アルキルは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシおよびアリールから選択される１以上の置換基により置換されていてもよく；Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は、独立に、水素原子、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ２−１０アルケニルおよびＣ２−１０アルキニルから選択され、ここで当該アルキル、アルケニルおよびアルキニルは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、Ｃ１−６アルコキシカルボニルおよびアリールから選択される１以上の置換基により置換されていてもよく；および、Ｚは、水素原子または２級アミノ基の保護基である］
の化合物の製造方法であって、
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化２】
［式中、Ｒ２１はエステル形成基であり；Ｒ２２はＲ２の定義と同様であり（但し、Ｒ２に含まれうる官能基は保護基により保護されていてもよい）；Ｚ１は２級アミノ基の保護基であり；Ｘは脱離基である］
の化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩ：
【化３】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および、式Ａ−ＩＩの化合物を式Ｉの化合物に変換する工程を含む、前記製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の式Ｉの化合物の製造方法であって、
ａ−１）式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化４】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩ：
【化５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ａ−２）式Ａ−ＩＩの化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩＩ：
【化６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ２３はエステル形成基である］
の化合物に変換する工程；
ａ−３）式Ａ−ＩＩＩの化合物を、式Ａ−ＩＶ：
【化７】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に酸化する工程；
ａ−４）式Ａ−ＩＶの化合物を式Ａ−Ｖ
【化８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ２４およびＲ２５は、それぞれＲ４およびＲ５の定義と同様である（但し、Ｒ２４およびＲ２５に含まれうる官能基は保護基により保護されていてもよい）］
の化合物に変換する工程；
を含み、さらに式Ａ−Ｖの化合物が保護基を含む場合は脱保護の工程、および／またはエステルをカルボキシル基に変換する工程を含んでもよい、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
工程ａ−１において式Ａ−ＩａまたはＡ−ＸＩａ：
【化９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を使用し、最終生成物として式Ｉａ：
【化１０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＺは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を得る、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化１１】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］］
の化合物を製造する方法であって、
ｂ−１）式Ｂ−Ｉ：
【化１２】
［式中、Ｒ２２は、既に定義したとおりであり；Ｚ２はヒドロキシの保護基であり；Ｌは脱離基である］
の化合物をアルキル化し、および窒素原子上に置換基を導入することにより、式Ｂ−ＩＩ：
【化１３】
［式中、Ｒ２２およびＺ２は、既に定義したとおりであり；Ｒ３１はエステル形成基であり；Ｚ３は、Ｃ１−６アルキルまたは窒素原子の保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｂ−２）式Ｂ−ＩＩの化合物を還元することにより、式Ｂ−ＩＩＩ：
【化１４】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｚ２およびＺ３は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｂ−３）式Ｂ−ＩＩＩの化合物を、式Ｂ−ＩＶ：
【化１５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｚ２およびＺ３は、既に定義したとおりであり；Ｚ４は、Ｃ１−６アルキルスルホニル（当該アルキルスルホニルは１以上のハロゲン原子で置換されていてもよい）、アリールスルホニル（当該アリールスルホニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）から選択されるか、またはＺ１として請求項１で定義される２級アミノ基の保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｂ−４）式Ｂ−ＩＶの化合物を、式Ｂ−Ｖ：
【化１６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ３およびＺ４は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および
ｂ−５）式Ｂ−Ｖの化合物を、式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩの化合物に変換する工程；
を含み、さらに任意の段階においてＺ４を、Ｚ１として定義される基に変換する工程を含んでいてもよい前記製造方法。
【請求項５】
工程ｂ−１において式Ｂ−Ｉａ：
【化１７】
［式中、Ｒ２２、Ｚ２およびＬは、請求項４に定義したとおりである］
の化合物を使用し、最終生成物として式Ａ−ＩａまたはＡ−ＸＩａ：
【化１８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項４に定義したとおりである］
の化合物を得る、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
Ｘが、ハロゲン原子、−ＮＲ８Ｒ９、−Ｎ＋Ｒ５１Ｒ５２Ｒ５３、−ＯＲ１０または−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１１であり；Ｒ８およびＲ９は、独立に、Ｃ１−６アルキル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリール（当該アリールは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、Ｃ７−１４アラルキル、Ｃ１−６アルキルカルボニル（当該アルキルカルボニルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリールカルボニル（当該アリールカルボニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、Ｃ７−１４アラルキルカルボニル、−ＣＯＯＲ１１、アリールスルホニル（当該アリールスルホニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）およびＣ１−１０アルキルスルホニル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）から選択され；Ｒ１０は、Ｃ１−６アルキル、アリール、Ｃ７−１４アラルキル、Ｃ１−６アルキルカルボニル、アリールカルボニル、Ｃ７−１４アラルキルカルボニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、アリールスルホニルまたはＣ７−１４アラルキルスルホニルであり；Ｒ１１は、Ｃ１−２０アルキル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリール（当該アリールは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）またはＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ５１、Ｒ５２およびＲ５２は、独立に、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニルおよびＣ７−１４アラルキルから選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
式Ａ−Ｉａ：
【化１９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を製造する方法であって、
ｃ−１）式Ｃ−Ｉ：
【化２０】
［式中、Ｒ３２は、Ｃ１−６アルキル、アリールまたはＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ３５は、水素原子、Ｃ１−６アルキル、アリールおよびＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ３３およびＲ３４は、独立に、水素原子およびＣ１−６アルキル、アリールおよびＣ７−１４アラルキルから選択される］
の化合物をアルデヒド：Ｒ２２ＣＨＯ（式中、Ｒ２２は既に定義したとおりである）と反応させ、さらに保護基を導入することにより、式Ｃ−ＩＩ：
【化２１】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は、既に定義したとおりであり；Ｚ５は、ヒドロキシの保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｃ−２）式Ｃ−ＩＩの化合物を還元することにより、式Ｃ−ＩＩＩ：
【化２２】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＺ５は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｃ−３）式Ｃ−ＩＩＩの化合物を、グリシン誘導体またはその塩と反応させ、さらに保護基を導入することにより、式Ｃ−ＩＶ：
【化２３】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３５、Ｚ１およびＺ５は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｃ−４）式Ｃ−ＩＶの化合物を、脱保護およびエステル化により式Ｃ−Ｖ：
【化２４】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３５およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ３６は、水素原子、Ｃ１−６アルキル、アリールまたはＣ７−１４アラルキルである］
の化合物に変換する工程；および
ｃ−４）式Ｃ−Ｖの化合物を触媒存在下、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む前記製造方法。
【請求項８】
式Ａ−Ｉａ：
【化２５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を製造する方法であって、
ｄ−１）請求項７に記載した式Ｃ−ＩＶの化合物を、酸化することにより式Ｄ−Ｉ：
【化２６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＺ５は、請求項７に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｄ−２）式Ｄ−Ｉの化合物を、式Ｄ−ＩＩ：
【化２７】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＺ５は、既に定義したとおりであり；Ｒ３７はエステル形成基である］
の化合物に変換する工程；
ｄ−３）式Ｄ−ＩＩの化合物を、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む前記製造方法。
【請求項９】
式Ｄ−ＩＩの化合物が、式Ｄ−ＩＩ−ｃｉｓ：
【化２８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３７、Ｚ１およびＺ５は、請求項８に定義したとおりである］
の化合物である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
工程ｄ−３が、式Ｄ−ＩＩの化合物を、ヒドロキシ基の脱保護、およびチオール：Ｒ３８−ＳＨ（式中、Ｒ３８は、Ｃ１−２０アルキル、アリールまたはＣ７−２０アラルキルである）と反応させることにより、式Ｄ−ＩＩＩ：
【化２９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項８に定義したとおりであり、Ｒ３８は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および式Ｄ−ＩＩＩの化合物を、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１１】
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩＩ：
【化３０】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は請求項１に定義したとおりであり；Ｘ１１は、アミノ、ヒドロキシ、または請求項１もしくは６においてＸとして定義された基である］
の化合物またはその塩。
【請求項１２】
式Ａ−ＩＩ：
【化３１】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は請求項１に定義したとおりである］
の化合物またはその塩。
【請求項１３】
式Ｃ−ＶＩ：
【化３２】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺは請求項１に定義したとおりであり；Ｒ６は、−ＣＨ＝ＣＨＲ３５、−ＣＨ＝ＣＨＣＯ２Ｒ３７またはホルミルであり；Ｒ７は、水素原子、Ｚ５または−ＣＯＣＨ＝ＣＨＲ３６であり；Ｚ５、Ｒ３５、Ｒ３６およびＲ３７は、請求項７または８に定義したとおりである］
の化合物またはその塩。
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
［式中、Ｒ１およびＲ３は、独立に、水素原子およびＣ１−６アルキルから選択され、ここで当該アルキルは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシおよびアリールから選択される１以上の置換基により置換されていてもよく；Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は、独立に、水素原子、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ２−１０アルケニルおよびＣ２−１０アルキニルから選択され、ここで当該アルキル、アルケニルおよびアルキニルは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、カルボキシ、Ｃ１−６アルコキシカルボニルおよびアリールから選択される１以上の置換基により置換されていてもよく；および、Ｚは、水素原子または２級アミノ基の保護基である］
の化合物の製造方法であって、
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化２】
［式中、Ｒ２１はエステル形成基であり；Ｒ２２はＲ２の定義と同様であり（但し、Ｒ２に含まれうる官能基は保護基により保護されていてもよい）；Ｚ１は２級アミノ基の保護基であり；Ｘは脱離基である］
の化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩ：
【化３】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および、式Ａ−ＩＩの化合物を式Ｉの化合物に変換する工程を含む、前記製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の式Ｉの化合物の製造方法であって、
ａ−１）式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化４】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩ：
【化５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ａ−２）式Ａ−ＩＩの化合物を塩基の存在下、式Ａ−ＩＩＩ：
【化６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ２３はエステル形成基である］
の化合物に変換する工程；
ａ−３）式Ａ−ＩＩＩの化合物を、式Ａ−ＩＶ：
【化７】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＺ１は、既に定義したとおりである］
の化合物に酸化する工程；
ａ−４）式Ａ−ＩＶの化合物を式Ａ−Ｖ
【化８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ２４およびＲ２５は、それぞれＲ４およびＲ５の定義と同様である（但し、Ｒ２４およびＲ２５に含まれうる官能基は保護基により保護されていてもよい）］
の化合物に変換する工程；
を含み、さらに式Ａ−Ｖの化合物が保護基を含む場合は脱保護の工程、および／またはエステルをカルボキシル基に変換する工程を含んでもよい、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
工程ａ−１において式Ａ−ＩａまたはＡ−ＸＩａ：
【化９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を使用し、最終生成物として式Ｉａ：
【化１０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＺは、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を得る、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩ：
【化１１】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項１に定義したとおりである］］
の化合物を製造する方法であって、
ｂ−１）式Ｂ−Ｉ：
【化１２】
［式中、Ｒ２２は、既に定義したとおりであり；Ｚ２はヒドロキシの保護基であり；Ｌは脱離基である］
の化合物をアルキル化し、および窒素原子上に置換基を導入することにより、式Ｂ−ＩＩ：
【化１３】
［式中、Ｒ２２およびＺ２は、既に定義したとおりであり；Ｒ３１はエステル形成基であり；Ｚ３は、Ｃ１−６アルキルまたは窒素原子の保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｂ−２）式Ｂ−ＩＩの化合物を還元することにより、式Ｂ−ＩＩＩ：
【化１４】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｚ２およびＺ３は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｂ−３）式Ｂ−ＩＩＩの化合物を、式Ｂ−ＩＶ：
【化１５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｚ２およびＺ３は、既に定義したとおりであり；Ｚ４は、Ｃ１−６アルキルスルホニル（当該アルキルスルホニルは１以上のハロゲン原子で置換されていてもよい）、アリールスルホニル（当該アリールスルホニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）から選択されるか、またはＺ１として請求項１で定義される２級アミノ基の保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｂ−４）式Ｂ−ＩＶの化合物を、式Ｂ−Ｖ：
【化１６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ３およびＺ４は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および
ｂ−５）式Ｂ−Ｖの化合物を、式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩの化合物に変換する工程；
を含み、さらに任意の段階においてＺ４を、Ｚ１として定義される基に変換する工程を含んでいてもよい前記製造方法。
【請求項５】
工程ｂ−１において式Ｂ−Ｉａ：
【化１７】
［式中、Ｒ２２、Ｚ２およびＬは、請求項４に定義したとおりである］
の化合物を使用し、最終生成物として式Ａ−ＩａまたはＡ−ＸＩａ：
【化１８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＸは、請求項４に定義したとおりである］
の化合物を得る、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
Ｘが、ハロゲン原子、−ＮＲ８Ｒ９、−Ｎ＋Ｒ５１Ｒ５２Ｒ５３、−ＯＲ１０または−Ｓ（Ｏ）ｎＲ１１であり；Ｒ８およびＲ９は、独立に、Ｃ１−６アルキル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリール（当該アリールは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、Ｃ７−１４アラルキル、Ｃ１−６アルキルカルボニル（当該アルキルカルボニルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリールカルボニル（当該アリールカルボニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、Ｃ７−１４アラルキルカルボニル、−ＣＯＯＲ１１、アリールスルホニル（当該アリールスルホニルは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）およびＣ１−１０アルキルスルホニル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）から選択され；Ｒ１０は、Ｃ１−６アルキル、アリール、Ｃ７−１４アラルキル、Ｃ１−６アルキルカルボニル、アリールカルボニル、Ｃ７−１４アラルキルカルボニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、アリールスルホニルまたはＣ７−１４アラルキルスルホニルであり；Ｒ１１は、Ｃ１−２０アルキル（当該アルキルは、ハロゲン原子から選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）、アリール（当該アリールは、ニトロ、シアノ、ハロゲン原子およびＣ１−６ハロアルキルから選択される１以上の置換基により置換されていてもよい）またはＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ５１、Ｒ５２およびＲ５２は、独立に、Ｃ１−１０アルキル、Ｃ２−１０アルケニル、Ｃ２−１０アルキニルおよびＣ７−１４アラルキルから選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
式Ａ−Ｉａ：
【化１９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を製造する方法であって、
ｃ−１）式Ｃ−Ｉ：
【化２０】
［式中、Ｒ３２は、Ｃ１−６アルキル、アリールまたはＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ３５は、水素原子、Ｃ１−６アルキル、アリールおよびＣ７−１４アラルキルであり；Ｒ３３およびＲ３４は、独立に、水素原子およびＣ１−６アルキル、アリールおよびＣ７−１４アラルキルから選択される］
の化合物をアルデヒド：Ｒ２２ＣＨＯ（式中、Ｒ２２は既に定義したとおりである）と反応させ、さらに保護基を導入することにより、式Ｃ−ＩＩ：
【化２１】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は、既に定義したとおりであり；Ｚ５は、ヒドロキシの保護基である］
の化合物に変換する工程；
ｃ−２）式Ｃ−ＩＩの化合物を還元することにより、式Ｃ−ＩＩＩ：
【化２２】
［式中、Ｒ２２、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５およびＺ５は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｃ−３）式Ｃ−ＩＩＩの化合物を、グリシン誘導体またはその塩と反応させ、さらに保護基を導入することにより、式Ｃ−ＩＶ：
【化２３】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３５、Ｚ１およびＺ５は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｃ−４）式Ｃ−ＩＶの化合物を、脱保護およびエステル化により式Ｃ−Ｖ：
【化２４】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３５およびＺ１は、既に定義したとおりであり；Ｒ３６は、水素原子、Ｃ１−６アルキル、アリールまたはＣ７−１４アラルキルである］
の化合物に変換する工程；および
ｃ−４）式Ｃ−Ｖの化合物を触媒存在下、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む前記製造方法。
【請求項８】
式Ａ−Ｉａ：
【化２５】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項１に定義したとおりである］
の化合物を製造する方法であって、
ｄ−１）請求項７に記載した式Ｃ−ＩＶの化合物を、酸化することにより式Ｄ−Ｉ：
【化２６】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＺ５は、請求項７に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；
ｄ−２）式Ｄ−Ｉの化合物を、式Ｄ−ＩＩ：
【化２７】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｚ１およびＺ５は、既に定義したとおりであり；Ｒ３７はエステル形成基である］
の化合物に変換する工程；
ｄ−３）式Ｄ−ＩＩの化合物を、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む前記製造方法。
【請求項９】
式Ｄ−ＩＩの化合物が、式Ｄ−ＩＩ−ｃｉｓ：
【化２８】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３７、Ｚ１およびＺ５は、請求項８に定義したとおりである］
の化合物である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
工程ｄ−３が、式Ｄ−ＩＩの化合物を、ヒドロキシ基の脱保護、およびチオール：Ｒ３８−ＳＨ（式中、Ｒ３８は、Ｃ１−２０アルキル、アリールまたはＣ７−２０アラルキルである）と反応させることにより、式Ｄ−ＩＩＩ：
【化２９】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は、請求項８に定義したとおりであり、Ｒ３８は、既に定義したとおりである］
の化合物に変換する工程；および式Ｄ−ＩＩＩの化合物を、式Ａ−Ｉａの化合物に変換する工程；
を含む、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１１】
式Ａ−ＩまたはＡ−ＸＩＩ：
【化３０】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は請求項１に定義したとおりであり；Ｘ１１は、アミノ、ヒドロキシ、または請求項１もしくは６においてＸとして定義された基である］
の化合物またはその塩。
【請求項１２】
式Ａ−ＩＩ：
【化３１】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺ１は請求項１に定義したとおりである］
の化合物またはその塩。
【請求項１３】
式Ｃ−ＶＩ：
【化３２】
［式中、Ｒ２１、Ｒ２２およびＺは請求項１に定義したとおりであり；Ｒ６は、−ＣＨ＝ＣＨＲ３５、−ＣＨ＝ＣＨＣＯ２Ｒ３７またはホルミルであり；Ｒ７は、水素原子、Ｚ５または−ＣＯＣＨ＝ＣＨＲ３６であり；Ｚ５、Ｒ３５、Ｒ３６およびＲ３７は、請求項７または８に定義したとおりである］
の化合物またはその塩。
【公開番号】特開２００８−１６２５（Ｐ２００８−１６２５Ａ）
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１７１９４９（Ｐ２００６−１７１９４９）
【出願日】平成１８年６月２１日（２００６．６．２１）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 平成１８年２月１日に公開の日本薬学会 年会Ｗｅｂページ
【出願人】（５０４１３７９１２）国立大学法人 東京大学 (1,942)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月１０日（２００８．１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月２１日（２００６．６．２１）
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第１項適用申請有り 平成１８年２月１日に公開の日本薬学会 年会Ｗｅｂページ
【出願人】（５０４１３７９１２）国立大学法人 東京大学 (1,942)
【Ｆターム（参考）】
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