ファインダー装置
【課題】有機ＥＬ素子が設けられたファインダー光学系において、有機ＥＬ層による発光表示のコントラストを高める。
【解決手段】発光表示部１６は、ファインダー装置において、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置する。発光表示部１６は、透明基板４１と、密閉空間３９を形成するために設けられる封止部材４２と、密閉空間３９内に配置される発光部２６Ｃを備える。ファインダー装置において、透明基板４１を接眼側に、封止部材４３を対物側に配置する。透明基板４１と共に、発光部２６Ｃの有機ＥＬ層３３ｂを挟むように、封止部材４２上に第１の遮光マスク５１を形成する。
【解決手段】発光表示部１６は、ファインダー装置において、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置する。発光表示部１６は、透明基板４１と、密閉空間３９を形成するために設けられる封止部材４２と、密閉空間３９内に配置される発光部２６Ｃを備える。ファインダー装置において、透明基板４１を接眼側に、封止部材４３を対物側に配置する。透明基板４１と共に、発光部２６Ｃの有機ＥＬ層３３ｂを挟むように、封止部材４２上に第１の遮光マスク５１を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ファインダー装置、及びそれを備えたカメラ等の光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、一眼レフカメラ等のファインダー装置において、ペンタプリズムと焦点板の間の被写体結像位置近傍に有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）から構成される発光表示部が配置されることが知られている。この有機ＥＬ素子は、例えば被写体観察に使用される撮影視野領域において、セグメント表示を構成し、数字等を発光表示することができる（特許文献１参照）。
【０００３】
また、特許文献２には、撮影視野領域の外側に有機ＥＬ素子が設けられ、この有機ＥＬ素子を用いて、撮影視野領域の外側に所定の文字パターンを発光表示させる構成が開示されている。特許文献２においては、有機ＥＬ素子の発光層の接眼側にさらに遮光部材が積層され、その遮光部材によって発光層の発光の一部が遮光され、所定の文字パターンが発光表示される。
【特許文献１】特開２０００−２２１５７８号公報
【特許文献２】特許第３５３９２５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ファインダー装置に使用される有機ＥＬ素子は、被写体からの光を透過するために、封止部材及び基板の両方を透明材料から形成させる必要がある。したがって、特許文献１では数字等を表示されるために設けられたセグメント表示部の周辺においても、被写体からの光が透過することとなる。しかし、セグメント表示部の周辺に被写体からの光が透過すると、セグメント表示部の発光表示と被写体からの光が重なり、セグメントで表示された数字が鮮明に観察されない場合がある。
【０００５】
一方、特許文献２においても、有機発光層の周辺部は、遮光されているわけではなく、被写体からの光が透過し、この透過光によって、有機発光層から発せられる光のコントラストが特許文献１と同様に低下させられる。また、遮光部材を有機発光層の上にパターンニングして積層するのは、製造工程上複雑である。
【０００６】
そこで、本発明は上記問題点に鑑みて成されたものであり、ファインダー装置に使用される有機ＥＬ素子において、簡単な構成で各種情報を高いコントラストで発光表示させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るファインダー装置は、透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され第１の基板に対向して設けられると共に、第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、第１の基板が接眼側に、第２の基板が対物側に配置され、第１の基板と共に有機ＥＬ層を挟むように、有機ＥＬ層より対物側に配置される第１の遮光マスクを備えることを特徴とする。
【０００８】
有機ＥＬ層より接眼側に配置される第２の遮光マスクを備え、発光表示部は、被写体からの光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域を含み、第２の遮光マスクは、撮影視野領域の外側の領域を遮光するように配置されることが好ましい。
【０００９】
第２の遮光マスクは第１の開口部を有し、発光表示部において、第１の開口部に対応する領域は、撮影視野領域として形成されることが好ましい。第２の遮光マスクは、第２の開口部を有していても良い。この場合、接眼側から見ると、第２の開口部の内部に配置されるように有機ＥＬ層が設けられる。また、第１の遮光マスクは、対物側から見ると、第２の開口部を覆うように形成されることが好ましい。さらには、第２の開口部内に配置される偏光板を有していても良い。
【００１０】
また、第２の遮光マスクは、第１の基板の接眼側又は対物側の面に形成されることが好ましく、第１の遮光マスクは、第２の基板の対物側又は接眼側の面に形成されることが好ましい。また、第１の遮光マスクは、密閉空間に配置される吸着剤であっても良い。
【００１１】
有機ＥＬ層は、例えば、所定の形状にパターニングされて積層されており、これにより遮光マスクを用いなくても、所定のマークやセグメント等を発光表示可能である。
【００１２】
本発明に係る別のファインダー装置は、第１の基板の対物側の面に、開口部を有する遮光マスクを形成し、有機ＥＬ層は、対物側から見ると開口部に重なるように配置されることを特徴とする。
【００１３】
発光表示部は有機ＥＬ層に電圧を印加するための第１及び第２の電極を備え、対物側から見ると開口部に重ねられるように、第１の電極、有機ＥＬ層、及び第２の電極が第１の基板側からこの順で積層されて配置され、第１の電極は透明電極であるとともに、第２の電極は非透明電極であって、有機ＥＬ層の発光表示は、開口部を介して接眼側に出射されることが好ましい。
【００１４】
この場合、第２の電極はブラックカソードであることが好ましい。ブラックカソードは例えば、遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料層、光吸収性材料から形成される薄膜層、及び遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料薄膜層がこの順に積層されて構成される。この場合、第１の遮光マスクは、ブラックカソードを形成するために使用される光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成された、光吸収性材料層、陰極金属材料薄膜層が積層されて構成されることが好ましい。
【００１５】
本発明に係る別のファインダー装置は、有機ＥＬ層より対物側、及び接眼側それぞれに配置される第１及び第２の偏光板を備え、第１の偏光板は、第２の偏光板と共に有機ＥＬ層を挟み込むように配置されることを特徴とする。また、本発明に係る光学機器は、例えば一眼レフカメラ等のカメラであって、上記ファインダー装置を備えることを特徴とする。なお、本発明においては、第１の基板は、有機ＥＬ層が積層されるための透明基板、第２の基板は封止部材であっても良いが、勿論第１の基板が封止部材、第２の基板が透明基板であっても良い。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明では、有機ＥＬ層と重なるように配置される遮光マスクが有機ＥＬ層より対物側に設けられることにより、有機ＥＬ層の周辺部に透過光が入射されることが防止される。したがって、各種情報を有機ＥＬ層によって高いコントラストで発光表示させることができる。また、第１の基板の所定位置に遮光マスクを形成し、または、第１及び第２の偏光板を用いることによっても同様に、各種情報を高いコントラストで発光表示させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。
図１は、本実施形態が適用された一眼レフカメラのファインダー装置を示す。なお、以下の説明においては、一眼レフカメラに適用された場合を説明するが、本発明は、顕微鏡、コンパクトカメラ等のその他の光学機器にも適用することが可能である。
【００１８】
ファインダー装置１０は、対物レンズ１１と、クイックリターンミラー１２と、ピント板１３と、ペンタプリズム１４と、接眼レンズ１５と、発光表示部１６と、ファインダー窓１７とを備える。
【００１９】
被写体で反射された反射光は、対物レンズ１１を介して、クイックリターンミラー１２で反射され、ピント板１３に導かれ、ピント板１３で一旦結像される。その後上記反射光は、ペンタプリズム１４で２回反射され、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７に入射され、ファインダー窓１７からピント板１３に結像された被写体像が視認される。クイックリターンミラー１２はレリーズスイッチ（不図示）が押されると、光路上から退避させられ、対物レンズ１１によって導かれた反射光は、ＣＣＤやフィルム等に導かれ、これらを露光する。
【００２０】
発光表示部１６は、ピント板１３と、ペンタプリズム１４の間で、被写体からの光が通過する光路に交差する横断領域上に配置される。すなわち、発光表示部１６は被写体結像位置近傍に配設される。発光表示部１６から発せられた光も、ペンタプリズム１４、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７内に入射される。なお、発光表示部１６は、クイックリターンミラー１２とピント板１３の間に配置することも可能である。
【００２１】
発光表示部１６をファインダー窓から観察したときの模式的な平面図を図２に示す。なお、本明細書において“対物側”、“接眼側”とは、それぞれ、光路に沿った“対物側”、“接眼側”であることを意味し、図１における発光表示部１６の下面側が“対物側”、上面側が“接眼側”となる。また、接眼側から見ると、第１の遮光マスク５１は視認できないが、図２においては第１の遮光マスク５１の輪郭は２点鎖線で示す。
【００２２】
第１の発光表示部１６は、矩形のファインダー視野領域２１と、ファインダー視野領域２１の上下左右の外側を囲み、枠状に形成されたファインダー視野外領域１９とを含む。ファインダー視野領域２１は、ファインダー窓１７から視認可能な領域であるが、ファインダー視野外領域１９はファインダー窓１７から視認することができない領域である。なお、ファインダー視野領域２１は、図２においては点線で囲まれた領域である。
【００２３】
発光表示部１６の対物側には第１の遮光マスク５１が設けられ、対物側から発光表示部１６に入射される光の一部を遮光する。発光表示部１６の接眼側には、第１および第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が設けられ、発光表示部１６からファインダー窓１７に入射される光の一部を遮光する。
【００２４】
第２の遮光マスク５２は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１及び第２の開口部５３、５４が設けられた部分以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部５３は、接眼側から見ると縦横比が例えば約４：３の略矩形を呈する。第２の開口部５４は横方向の長さが第１の開口部５３と略同一であり、かつ縦方向の長さが第１の開口部５３より短く形成された横長の矩形を呈する。
【００２５】
第１の開口部５３によって開口された矩形状の部分は、被写体からの反射光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。また、ファインダー視野領域２１において、撮影視野領域２２を取り囲む四角枠状の領域は各種情報を表示するための情報表示領域２３として形成される。情報表示領域２３には被写体からの反射光が入射されず、この領域では被写体を観察することはできない。
【００２６】
第２の開口部５４は、情報表示領域２３内であって、撮影視野領域２２（すなわち、第１の開口部５３）の下方に配置される。第２の開口部５４の内部には、接眼側から見ると、有機ＥＬ素子から構成される複数の発光部２６Ａ〜２６Ｅが配置されている。発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第２の開口部５４を介して発光表示部１６から出射され、ファインダー窓１７に入射される。
【００２７】
第１の遮光マスク５１は、第２の開口部５４と同様に情報表示領域２３内であって、撮影視野領域２２の下方に配置される。第１の遮光マスク５１は、第２の開口部５４よりわずかに大きい横長の矩形形状を呈し、対物側（すなわち、図２における裏側）から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように配置されている。
【００２８】
発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃは、それぞれ花、山、稲妻の形状にパターニングされ、そのパターニングされた形状に応じた光を発することができる。すなわち、発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃは、花、山、及び稲妻のシンボルマークを発光表示させることができる。発光部２６Ａ、２６Ｂは撮影モードを表示するために使用されると共に、発光部２６Ｃはストロボ発光の有無を表示するために使用される。発光部２６Ｄ、２６Ｅは、それぞれ複数の発光要素から成るセグメント発光部であって、各発光要素は各セグメントの形状にパターニングされている。各セグメントは、適宜発光することにより、発光部２６Ｄ、２６Ｅは数字、文字を発光表示することができる。発光部２６Ｄ、２６Ｅは、例えばシャッタースピード、絞り値を表示するために使用される。
【００２９】
撮影視野領域２２（すなわち、接眼側から見ると第１の開口部５３の内部）にも有機ＥＬ素子から構成される複数の発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆが設けられる。各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、所定形状にパターニングされて形成され、そのパターニングされた形状に応じた光を発することができる。発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第１の開口部５３を介して発光表示部１６から出射され、ファインダー窓１７に入射される。
【００３０】
発光部２５Ａ〜２５Ｋは、略方形にパターニングして形成され、撮影視野領域２２の中央領域Ｃにおいて、３×３設けられるとともに、中央領域Ｃを挟むように、中央領域Ｃの左右の外側に１つずつ設けられる。本実施形態の一眼レフカメラは、多点測距が可能であり、各発光部２５Ａ〜２５Ｋは、各測距点に対応した位置に設けられ、合焦ポイントとして使用される。例えばオートフォーカスで撮影されるとき、各合焦ポイントの位置における測距が行われ、ピントが合った１つの合焦ポイントが発光表示させられ、これにより観察者は合焦位置を確認することができる。
【００３１】
発光部２７Ａ、２７Ｂはそれぞれ円弧状にパターニングされ、撮影視野領域２２の中心点を左右から挟むマークとして形成される。発光部２７Ｃ〜２７Ｆは、それぞれ両端が内側に折り曲げられた上下に延びる棒状にパターニングされ、発光部２７Ｃ、２７Ｄは中央領域Ｃを左右から挟むマークとして形成される。また、発光部２７Ｅ、２７Ｆは、中央領域Ｃの外側に設けられた２点の合焦マーク２５Ｊ、２５Ｋを左右から挟むマークとして形成される。発光部２７Ａ〜２７Ｆによってパターニングされたマークは、ＡＦエリアを示すためのフォーカスエリアの指標として使用される。
【００３２】
各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、２７Ａ〜２７Ｆそれぞれ（但し、発光部２６Ｄ、２６Ｅにおいては各発光要素）には、ファインダー視野外領域１９から延ばされる陽極線３１、及び陰極線３２が接続され、これら陽極線３１、及び陰極線３２を介して、各発光部又は発光要素に電圧が印加される。なお、図２においては、発光部２７Ｃ、２７Ｄに接続される陽極線３１、陰極線３２のみを示したが、他の発光部にも同様に陽極線３１、陰極線３２が接続される。このような構成により、各発光部（又はセグメント）に入力される電流は、それぞれ独立に制御することが可能である。但し、各発光部（又はセグメント）に入力される電流が独立制御できるのであれば、１本の陽極線３１又は１本の陰極線３２が複数の発光部（またはセグメント）に接続されていても良い。なお、陽極線３１、及び陰極線３２は、後述するように透明材料で形成され、被写体観察の妨げとはならない。
【００３３】
図３は、本実施形態に係る発光表示部１６の断面図である。なお、図３では、代表的に発光部２６Ｃ、２７Ｃの構成を示す。図３に示すように、発光表示部１６は、透明基板４１（第１の基板）と、透明基板４１に対向して設けられる封止部材４２とを備える。透明基板４１及び封止部材４２はガラス、プラスチック等の透明材料から形成される。透明基板４１は平板状に形成されると共に、封止部材４２はキャップ構造を有し、平板状のベース部４３（第２の基板）とその周縁から下方に向けて立設される側壁部４４とから一体的に形成される。
【００３４】
封止部材４２は、側壁部４４の先端部が、接着剤３７を介して透明基板４１に接着され、透明基板４１と封止部材４２との間に密閉空間３９が形成される。ファインダー装置１０においては、図３における下側（すなわち、透明基板４１側）が接眼側、上側（すなわち、封止部材４２側）が対物側に配置される。
【００３５】
撮影視野領域２２における透明基板４１の上には、上述した発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び発光部２７Ａ〜２７Ｆ（図２参照）が形成される。撮影視野領域２２に形成された各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び発光部２７Ａ〜２７Ｆは、それぞれ透明基板４１の上面４１Ｕに積層された陽極３４ａと、陽極３４ａの上に積層された有機ＥＬ層３３ａと、有機ＥＬ層３３ａの上にさらに積層された陰極３５ａとを備える。
【００３６】
情報表示領域２３における透明基板４１の上には、発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、それぞれ透明基板４１の上面４１Ｕに積層された陽極３４ｂと、陽極３４ｂの上に積層された有機ＥＬ層３３ｂと、各有機ＥＬ層３３ｂの上にさらに積層された陰極３５ｂとを備える。
【００３７】
なお、陽極３４ａ、３４ｂ、有機ＥＬ層３３ａ、３３ｂ、及び陰極３５ａ、３５ｂは、各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、及び２７Ａ〜２７Ｆ毎（ただし、発光部２６Ｄ，２６Ｅにおいては発光要素毎）に設けられ、これにより、各発光部は、それぞれ独立に発光することが可能である。但し、各発光部がそれぞれ独立に発光可能な構成であれば、１つの陽極３４ａ（又は３４ｂ）の上に、複数の有機ＥＬ層が積層されていても良いし、１つの陰極３５ａ（又は３５ｂ）が２つ以上の有機ＥＬ層の上に跨るように積層されていても良い。各陽極３４ａ、３４ｂは、それぞれ陽極線３１（図２参照）に接続されると共に、各陰極３５ａ、３５ｂはそれぞれ陰極線３２（図２参照）に接続される。
【００３８】
各発光部又は発光要素は、上述したように、所定のシンボルマーク、セグメント等を発光表示するために、所定の形状にパターニングされている。例えば、発光部２６Ｃにおける陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、及び陰極３５ｂは、接眼側から見るとこれらが重ねられた部分が、稲妻の形状を呈するように積層されている。他の発光部、発光要素についても、同様に形成される。
【００３９】
陽極３４ａ、３４ｂ、陽極線３１、及び陰極線３２（図２参照）は、透明電極であって、例えばITO（Indium Tin Oxide）、ATO(antimony doped tindioxide)、ZnO（zinc oxide）等の透明導電性金属化合物から形成される。有機ＥＬ層３３ａ、３３ｂは、陽極側から順に例えば正孔輸送材料で構成される正孔輸送層、有機発光材料で構成される有機発光層、電子輸送材料で構成される電子輸送層等が積層されて構成され、適宜赤、緑、青、又は白色の光を発するように構成される。発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆそれぞれの陰極３５ａは透明電極であって、例えばITO、ATO、ZnO等の透明導電性金属化合物のみから形成されても良いが、好ましくは以下に示すように２層構造で形成される。
【００４０】
すなわち、陰極３５ａは、有機ＥＬ層の上に積層される第１の陰極層と、第１の陰極層の上に積層される第２の陰極層とによって構成されることが好ましい。第１の陰極層は、例えばアルミニウム、インジウム、マグネシウム、カルシウム、チタニウム、イットリウム、リチウム、及びこれらの合金等の遮光性の陰極金属材料から形成されるとともに、第２の陰極層は、ITO、ATO、ZnO等の透明導電性金属化合物から形成される。第１の陰極層は遮光性物質によって構成されるが、その層厚が例えば１００Å以下に設定されることにより、実質的に光透過性を有し、これにより陰極３５ａは透明電極に構成される。なお、この場合、第１の陰極層と各有機ＥＬ層の間には、電子注入層が積層されていたほうが良い。電子注入層は例えばLiFによって形成され、その厚さは例えば７Åである。なお、第２の陰極層の厚さは例えば２０００Åである。
【００４１】
陰極３５ａがITO等の透明導電性金属化合物のみから形成されると仕事関数が高くなり電子の注入性が低下する。しかし、陰極３５ａが第１及び第２の陰極層から構成され、かつ第１の陰極層に上述したような低仕事関数の陰極金属材料が用いられる場合、電子の注入性の低下を最小限に抑制することができる。
【００４２】
発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、透明材料である陽極３４ａ、有機ＥＬ層３３ａ、陰極３５ａから構成され、被写体からの光を透過するので、非発光時、被写体観察の妨げと成らない。なお、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆの陰極３５ａは、後述する発光部２６Ａ〜２６Ｅの陰極３５ｂと同様に非透明電極で構成されていても良い。この場合、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、被写体からの光を遮光するため、その遮光により非発光時でも合焦マーク等が遮光表示されることとなる。
【００４３】
発光部２６Ａ〜２６Ｅは、情報表示領域２３に設けられ、被写体からの光を透過させる必要がないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅを構成する陰極３５ｂは非透明電極で構成され、上述したアルミニウム等の遮光性の陰極金属材料から形成される。これにより、陰極３５ｂは仕事関数が低くなり電子の注入性に優れるため、発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光効率は、撮影視野領域２２に設けられた発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆの発光効率より優れる。
【００４４】
密閉空間３９内には、密閉空間３９内の水分を吸収し、除去するための吸着剤４０が設けられる。吸着剤４０は撮影視野領域２２を避けるように設けられ、例えば図３に示すように情報表示領域２３に設けられる。吸着剤４０は例えばベース部４３の下面４３Ｄに接着して設けられる。吸着剤４０としては、例えば酸化バリウム、酸化カルシウム、モレキュラーシーブス、シリカゲル等の非透明材料から成る吸着剤や、アルミニウム錯体を主成分とする透明材料から成る吸着剤を使用することができる。
【００４５】
第２の遮光マスク５２は、透明基板４１の下面４１Ｄに形成され、これにより発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、及び２７Ａ〜２７Ｆより接眼側に配置される。第２の開口部５４の内部であって、透明基板４１の下面４１Ｄには、位相差板付き偏光板５５が配置される。
【００４６】
第１の遮光マスク５１は、ベース部４３の上面４３Ｕ（すなわち、対物側の面）に形成されると共に、上述したように、対物側から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように形成される。これにより、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１と共に発光表示部２６Ａ〜２６Ｅ（すなわち、有機ＥＬ層３３ｂ）を挟むように、発光部２６Ａ〜２６Ｅより対物側に配置される。
【００４７】
第１及び第２の遮光マスク５１、５２は例えば黒色顔料、黒色染料等を配合した合成樹脂、塗料等を、フォトレジスト、スクリーン印刷等によって、それぞれベース部４３の上面４３Ｕ及び透明基板４１の下面４１Ｄに被膜、塗布することにより形成される。また、例えば、ベース部４３の上面４３Ｕ及び透明基板４１の下面４１Ｄをスリ面にし、そのスリ面にカーボンブラック等の顔料、染料等を分散した水溶液を塗布後、乾燥することにより形成される。また、例えばクロム、ニッケル、銅等の金属又はこれらの金属酸化物の薄膜により形成される。この場合、第１の遮光マスク５１は、例えばスパッタリング、真空蒸着等により成膜される。但し、第１及び第２の遮光マスク５１、５２は、黒色に限らず他の色の遮光マスクに形成することも可能である。
【００４８】
次に、本実施形態の作用について説明する。本実施形態においては、発光表示部１６に対物側から被写体からの反射光がベース部４３を介して入射されるが、第１の遮光マスク５１が設けられた領域では、被写体からの光が入射されない。また、発光表示部１６に入射された被写体からの光は、一部が接眼側に設けられた第２の遮光マスク５２によって遮光されると共に、一部が第１の開口部５３を介して透明基板４１の下面４１Ｄから出射され、被写体像として観察される。なお、上述したように第１の開口部５３からは、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆからの発光も出射し、被写体像と共に、合焦マークやフォーカスエリアの指標もファインダー窓１７において観察される。
【００４９】
第２の遮光マスク５２は、第２の開口部５４も有するが、対物側から見ると（図２参照）、第２の開口部５４は第１の遮光マスク５１に完全に覆われているので、第２の開口部５４が設けられた領域には、被写体からの光が入射されない。したがって、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されることはない。一方、発光部２６Ａ〜２６Ｅからの光は、第２の開口部５４から出射され、シンボルマークや数字等がファインダー窓１７において観察される。
【００５０】
このように、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されず、発光部２６Ａ〜２６Ｅからの光のみが出射されることとなる。したがって、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００５１】
また、本実施形態では、第２の開口部５４の内部には被写体からの光を遮光するためのマスクを形成する必要は無いので、第２の開口部５４の内部には上述したように偏光板５５を設けることができる。
【００５２】
第２の開口部５４の内部に偏光板５５が設けられることにより、第２の開口部５４から発光表示部１６内に入射される外部光は円偏光される。したがって、第２の開口部５４から入射される外部光の一部は、発光部２６Ａ〜２６Ｆを構成する陰極３５ｂで反射されるが、その反射光は、再び第２の開口部５４を介して発光表示部１６の外部に出射されない。一方、有機ＥＬ層３３ｂから発せられた光は、陰極３５ｂで反射した光を含め、第２の開口部５４を介して発光表示部１６の外部に出射される。すなわち本実施形態では、偏光板５５が設けられたことによっても、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストを向上させることができる。
【００５３】
本実施形態では、第２の遮光マスク５２は透明基板４１の接眼側の面（下面４１Ｄ）に形成されたが、後述する第３の実施形態のような構成を用いて、透明基板４１の対物側の面（上面４１Ｕ）に形成されても良い。
【００５４】
図４は第１の実施形態の第１の変形例を示す。第１の実施形態では、第１の遮光マスク５１はベース部４３の上面４３Ｕに形成されていたが、本変形例では、第１の遮光マスク５１は、密閉空間３９内部であって、ベース部４３の下面４３Ｄ（接眼側の面）に形成さる。なお、密閉空間３９内には、上述したように吸着剤が配置されるので、吸着剤が第１の遮光マスク５１として使用されても良い。この場合、吸着剤には非透過性のものが使用され、好ましくは黒色顔料、黒色塗料等により適宜着色されていても良い。なお、本変形例では、その他の構成は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００５５】
図５は第１の実施形態の第２の変形例を示す。第１の実施形態では、矩形状に形成された第１及び第２の開口部５３、５４の内周面は、４辺ともが遮光マスクによって形成され閉塞されていたが、例えば、図５に示すように、左辺が開口されていても良い。このような場合、第１及び第２の開口部５３，５４は、ファインダー視野領域２１のみならず、ファインダー視野外領域１９に形成されることとなると共に、情報表示領域２３はコの字状に形成される。
【００５６】
図６は、第２の実施形態に係る発光表示部を示す。第１の実施形態では、第１の遮光マスク５１は有機ＥＬ層より対物側に設けられたが、本実施形態では、第１の遮光マスク５１は有機ＥＬ層より接眼側に設けられる。以下、第２の実施形態について、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００５７】
第２の実施形態においては、第１の遮光マスク５１は透明基板４１の上面４１Ｕの上に形成される。第１の遮光マスク５１は、花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされた複数の第３の開口部５６を有する。但し、図６においては、発光部２６Ｃに対応して形成される第３の開口部５６のみを示す。
【００５８】
本実施形態における第１の遮光マスク５１は、第１の実施形態と同様の材料に形成されても良いが、好ましくは、例えばクロム、ニッケル、銅等の金属又はこれらの金属酸化物の薄膜により形成される。この場合、第１の遮光マスク５１は、例えばスパッタリング、真空蒸着等により成膜後、例えばフォトリソグラフィーによりパターニングされて、第３の開口部５６が形成される。
【００５９】
第１の遮光マスク５１の上面を平坦化すると共に、第１の遮光マスク５１を保護するために、第１の遮光マスク５１の上面及び第３の開口部５６の内部には平坦化膜５７が積層されている。平坦化膜５７は、例えば透明樹脂材料から形成され、その上面は平坦面に形成される。平坦化膜５７は、例えば第１の遮光マスク５１の上面に、合成樹脂が塗布された後、乾燥又は硬化されて形成される。
【００６０】
平坦化膜５７の上面には、さらに無機酸化物層５８が積層される。無機酸化物層５８は、透明で電気絶縁性を有する酸化ケイ素（SiO2）、酸化アルミニウム（AlO2）、又は酸化チタン（TiO2）等の無機酸化物が被膜されて形成される。無機酸化物層５８が設けられることにより、平坦化膜５７及び第１の遮光マスク５１から発生する水分や酸素を遮断することができる。
【００６１】
無機酸化物層５８の上面には、第１の実施形態と同様に、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂがこの順で積層され、各発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、第１の実施形態と同様に、花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされている。このようにパターニングされた各発光部２６Ａ〜２６Ｅ（陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂ）は、それぞれ対物側から見ると、パターニングして形成された各第３の開口部５６に重なり、かつ覆うように形成されている。
【００６２】
但し、本実施形態においてシンボルマークを発光表示するために使用される各発光部２６Ａ〜２６Ｃは、所定の形状にパターニングされていなくても良い。有機ＥＬ層３３ｂより接眼側に設けられた第１の遮光マスク５１は、所定形状にパターニングされた第３の開口部５６を有し、各発光部２６Ａ〜２６Ｅから発した光は、シンボルマークに応じてパターニングされた第３の開口部５６を介して出射されるからである。
【００６３】
透明基板４１の下面４１Ｄには、第１の実施形態と同様に第１及び第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が形成される。第２の開口部５４は、対物側から見ると、第１の遮光マスク５１及び陰極３５ｂによって覆い隠されるように配置される。すなわち、第２の開口部５４は、第３の開口部５６が設けられた部分以外においては、第１の遮光マスク５１によって覆われると共に、第３の開口部５６が設けられた部分においては、陰極３５ｂによって覆われる。
【００６４】
次に、本実施形態における作用を説明する。撮影視野領域２２においては、第１の実施形態と同様に、対物側から被写体からの反射光が発光表示部１６を透過して、第１の開口部５３を介してファインダー窓１７に入射され、被写体像として観察される。
【００６５】
また、情報表示領域２３において、第２の開口部５４は、上述したように、対物側から見ると、第１の遮光マスク５１及び陰極（非透明電極）３５ｂによって覆い隠されている。したがって、情報表示領域２３において、発光表示部１６に入射された光は、陰極３５ｂ、第１及び第２の遮光マスク５１、５２のいずれかによって遮光され、発光表示部１６の接眼側から出射されることはない。
【００６６】
したがって、第２の開口部５４からは、被写体からの反射光が出射されることはなく、発光表示部２６Ａ〜２６Ｅから発せられた光のみが出射することとなる。これにより、本実施形態でも、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。また、第１の実施形態と同様に、偏光板５５が設けられているので、この偏光板５５によっても発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストを向上させることができる。
【００６７】
なお、第１および第２の実施形態では、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１の下面４１Ｄ上であって、第２の開口部５４内に設けられることも考えられる。しかし、第１の遮光マスク５１を第２の開口部５４内に設けると、偏光板５５が設けられなくなるので、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１の上面４１Ｕ又はベース部４３の上面４３Ｕ上に形成したほうが良い。また、第２の実施形態では、平坦化膜５７、無機酸化物層５８は適宜いずれか一方または両方が省略されていても良い。
【００６８】
図７は、第２の実施形態の第１の変形例を示す。第１の変形例における第１の遮光マスク５１は、第２の実施形態と同様に、透明基板４１の上面４１Ｕに形成されるが、その構成が第２の実施形態と異なる。また、陰極３５ｂはブラックカソードとして形成されている点も相違する。以下これら相違点を中心に説明する。
【００６９】
本変形例において、情報表示領域２３における透明基板４１の上面４１Ｕには、第２の実施形態と同様に、発光部２６Ａ〜２６Ｅが設けられる。各発光部２６Ａ〜２６Ｅはそれぞれ、第１の実施形態と同様に、透明基板４１の上に、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂがこの順に積層されて構成される。
【００７０】
陰極３５ｂは、上述したようにブラックカソードで構成され、例えば、有機ＥＬ層３３ｂ側（すなわち、図７における下側）から順に陰極金属材料層、光吸収性薄膜層、陰極金属材料薄膜層が積層されてから形成される。陰極金属材料（薄膜）層は例えば上述したアルミニウム等の遮光性の陰極金属材料から形成される。また、光吸収性薄膜層は光を吸収し外光の反射を低減させるものであればよく、例えばCuPc（銅フタロシアニン）等の絶縁材料によって形成される。また、透明基板４１の上には、各発光部２６Ａ〜２６Ｅを取り囲むように、第１の遮光マスク５１が積層される。すなわち、第１の遮光マスク５１は、各発光部２６Ａ〜２６Ｅが積層された部分を内部に配置するように開口され、その開口された部分が第３の開口部５６として形成される。
【００７１】
第１の遮光マスク５１は、例えば透明基板４１側から順に上記CuPc等で形成された光吸収性材料層、遮光性のある陰極金属材料から形成される陰極金属材料層が積層されて構成され、黒色遮光マスクに形成される。なお、透明基板４１の上には、上述したように陽極線３１及び陰極線３２が配線され、第１の遮光マスク５１の一部はこれらの上に積層されることとなる。しかし、第１の遮光マスク５１の一部を構成する陰極金属材料と陽極線３１及び陰極線３２は、光吸収性材料層がCuPcのような絶縁材料であれば、それによって絶縁されることとなる。したがって、第１の遮光マスク５１を積層したことによって、陽極線３１及び陰極線３２がショートすることはない。なお、本実施形態においては、上記絶縁を確実にするために、第１の遮光マスク５１において、CuPcよりさらに透明基板４１側には上述した無機酸化物層が積層されていても良い。
【００７２】
対物側から発光表示部１６を見ると、第２の実施形態と同様に、第２の開口部５４は、陰極３５ｂ（ブラックカソード）及び第１の遮光マスク５１によって、覆われていることとなる。したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３において、発光表示部１６に入射された光は、第１及び第２の遮光マスク５１、５２又は陰極３５ｂのいずれかに遮光されることとなり、発光表示部１６の接眼側から出射されることはない。
【００７３】
すなわち、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されることはなく、発光部２６Ａ〜２６Ｅから発せられた光のみが出射することとなる。これにより、本変形例でも、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、対物側から入射した光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。また、ブラックカソードを用いることにより、第２の開口部５４を介して発光表示部１６内に入射された外部光が陰極３５ｂで反射されることが防止される。したがって、本変形例では、図７に示すように、偏光板５５が設けられなくても良い。もちろんコントラストを高めるために偏光板を設けることも可能である。さらに、第１の遮光マスク５１は、ブラックカソードを形成するために使用される光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成されるので、第１の遮光マスク５１は簡単に形成することができる。但し、第１の遮光マスク５１は、第２の実施形態と同様の構成を有していても良い。
【００７４】
図８は、第３の実施形態に係る発光表示部を示す。第１及び第２の実施形態においては、遮光マスクは第１及び第２の遮光マスクとして異なる面上に形成されるが、本実施形態では、遮光マスクは同一の面上に形成される。以下、本実施形態について、第１の実施形態との相違点を説明する。
【００７５】
図８に示すように、本実施形態では、透明基板４１の上面４１Ｕの上に第１及び第３の開口部６３、６６を有する遮光マスク６０が形成される。遮光マスク６０は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１及び第３の開口部６３、６６の内部以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部６３は、第１の実施形態の第１の開口部５３と同様に配置され、第１の開口部６３によって開口された矩形状の部分は、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。また、第３の開口部６６は、第２の実施形態における第３の開口部５６と同様に、情報表示領域２３に複数設けられ、それぞれ花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされる。
【００７６】
遮光マスク６０の上には、第２の実施形態と同様に、平坦化膜５７が積層される。平坦化膜５７は、第３の開口部６６の内部にも積層され、情報表示領域２３において、遮光マスク６０の上面を平坦化するが、第１の開口部６３の内部には積層されない。平坦化膜５７の上には、第２の実施形態と同様に、無機酸化物層５８が積層される。
【００７７】
情報表示領域２３において、無機酸化物層５８の上には、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂが積層され、発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。ここで、各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、第２の実施形態と同様に、第３の開口部６６に対応するように所定の形状にパターニングされる。すなわち、各発光部２６Ａ〜２６Ｃは、それぞれ花、山、稲妻の形状にパターニングされるとともに、発光部２６Ｄ，２６Ｅは複数の発光要素から構成され、各発光要素が各セグメントの形状にパターニングされる。このような構成により、第３の開口部６６は、対物側から見ると、発光部２６Ａ〜２６Ｅ（非透明電極である陰極３５ｂ）に覆われていることになる。
【００７８】
したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３において、対物側から入射された被写体からの光は、陰極３５ｂ又は遮光マスク６０のいずれかによって遮光され、透明基板４１の下面４１Ｄから出射されることはない。これにより、本実施形態においても、第３の開口部６６から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、対物側から入射された被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００７９】
なお、撮影視野領域２２においては、第１の実施形態と同様に発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び２７Ａ〜２７Ｆが形成され、撮影視野領域２２では、被写体観察に加えて、これら発光部の発光表示も観察される。また、第２の実施形態のように、陰極３５ｂはブラックカソードとして形成されても良い。
【００８０】
図９は、第４の実施形態に係る発光表示部を示す。第１の実施形態においては、遮光マスクが第１および第２の遮光マスクとして２面上に形成されるが、本実施形態では、第３の実施形態と同様に、遮光マスクは１面上に形成される。以下、本実施形態について、第１の実施形態との相違点を説明する。
【００８１】
図９に示すように、本実施形態では、ベース部４３の上面４３Ｕの上に、第１の開口部７３を有する遮光マスク７０が形成される。遮光マスク７０は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１の開口部７３の内部以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部７３は、第１の実施形態の第１の開口部５３と同様に設けられ、第１の開口部７３によって開口された矩形状の部分は、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。
【００８２】
以上の構成により、本実施形態では、情報表示領域２３の全てが遮光マスク７０によって覆われることになる。したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３では、対物側から入射される被写体の光の全てが、遮光マスク７０によって遮光され、透明基板４１の下面４１Ｄから出射されることはない。すなわち、本実施形態においても、情報表示領域２３において発せられる発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００８３】
図１０は、第４の実施形態の第１の変形例を示す。第４の実施形態においては、遮光マスク７０は、ベース部４３の上面４３Ｕに形成されたが、本実施形態では、ベース部４３の下面４３Ｄに形成される。
【００８４】
本変形例でも、遮光マスク７０は、ファインダー視野領域２１の第１の開口部７３が設けられた部分以外の全ての部分と、ファインダー視野外領域１９を覆うように形成される。但し、側壁部４４が設けられた部分には、遮光マスク７０が形成されないので、ファインダー視野外領域１９の一部には遮光マスク７０が形成されない。以上の本変形例でも、情報表示領域２３の全てが遮光マスク７０によって覆われることとなるので、情報表示領域２３に形成された発光部２６Ａ〜２６Ｅから発する光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００８５】
なお、第４の実施形態において、遮光マスク７０は第１の実施形態の遮光マスク５１、５２と同様の構成を有する。また、第１及び第４の実施形態の変形例において、第１の遮光マスク５１または遮光マスク７０が密閉空間３９内に配置される場合、遮光マスクの下面側には、例えば水分やガスの遮蔽のために、無機酸化物層が積層されていても良い。
【００８６】
図１１は、第５の実施形態に係る発光表示部１６を示す。本実施形態においては、第１の遮光マスク５１の代わりに第１の偏光板８１が設けられる点、陰極３５ｂが透明導電性金属化合物から形成され、透明電極で構成される点を除いては、第１の実施形態と同様の構成を有する。
【００８７】
本実施形態では、第１の実施形態と同様に、第１及び第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が形成される。また、第２の開口部５４の内部であって、透明基板４１の下面４１Ｄには、第２の偏光板８２が配置されている。第１の偏光板８１は、第１の実施形態の第１の遮光マスク５１と同様に、ベース部４３の上面４３Ｕに形成されると共に、対物側から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように形成される。なお、第１及び第２の偏光板８１は、偏光方向が互いに垂直な方向に組合されている。
【００８８】
発光部２６Ａ〜２６Ｅは、接眼側から見ると、第１の実施形態と同様に（図２参照）、第２の開口部５４の内部に配置されている。すなわち、本実施形態では、第１の偏光板８１は、第２の偏光板８２と共に発光部２６Ａ〜２６Ｅ（陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂ）を挟み込むように配置される。
【００８９】
本実施形態では、第２の開口部５４内部には、第２の偏光板８２が配置され、また、対物側から見ると、その第２の偏光板８２には、第１の偏光板８１が重ねられるように配置されている。ここで、第１及び第２の偏光板８１、８２は、偏光方向が互いに垂直な方向に組合されているので、対物側から入射された被写体からの光は、第２の開口部５４を介して接眼側に出射されない。一方、発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第２の開口部５４（第２の偏光板８２）を介して接眼側に出射される。したがって、本実施形態においても、他の実施形態と同様に、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】カメラのファインダー光学系の平面図である。
【図２】発光表示部の平面図である。
【図３】第１の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図４】第１の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図５】第１の実施形態の第２の変形例における発光表示部の平面図である。
【図６】第２の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図７】第２の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図８】第３の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図９】第４の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図１０】第４の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図１１】第５の実施形態における発光表示部の断面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０ ファインダー装置
１６ 発光表示部
１７ ファインダー窓
１９ ファインダー視野外領域
２１ ファインダー視野領域
２２ 撮影視野領域
２３ 情報表示領域
３３ａ、３３ｂ 有機ＥＬ層
３４ａ、３４ｂ 陽極（第１の電極）
３５ａ、３５ｂ 陽極（第２の電極）
５１ 第１の遮光マスク
５２ 第２の遮光マスク
５３、６３、７３ 第１の開口部
５４ 第２の開口部
５５ 偏光板（位相差板付き偏光板）
５６、６６ 第３の開口部
６０、７０ 遮光マスク
８１ 第１の偏光板
８２ 第２の偏光板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ファインダー装置、及びそれを備えたカメラ等の光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、一眼レフカメラ等のファインダー装置において、ペンタプリズムと焦点板の間の被写体結像位置近傍に有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）から構成される発光表示部が配置されることが知られている。この有機ＥＬ素子は、例えば被写体観察に使用される撮影視野領域において、セグメント表示を構成し、数字等を発光表示することができる（特許文献１参照）。
【０００３】
また、特許文献２には、撮影視野領域の外側に有機ＥＬ素子が設けられ、この有機ＥＬ素子を用いて、撮影視野領域の外側に所定の文字パターンを発光表示させる構成が開示されている。特許文献２においては、有機ＥＬ素子の発光層の接眼側にさらに遮光部材が積層され、その遮光部材によって発光層の発光の一部が遮光され、所定の文字パターンが発光表示される。
【特許文献１】特開２０００−２２１５７８号公報
【特許文献２】特許第３５３９２５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ファインダー装置に使用される有機ＥＬ素子は、被写体からの光を透過するために、封止部材及び基板の両方を透明材料から形成させる必要がある。したがって、特許文献１では数字等を表示されるために設けられたセグメント表示部の周辺においても、被写体からの光が透過することとなる。しかし、セグメント表示部の周辺に被写体からの光が透過すると、セグメント表示部の発光表示と被写体からの光が重なり、セグメントで表示された数字が鮮明に観察されない場合がある。
【０００５】
一方、特許文献２においても、有機発光層の周辺部は、遮光されているわけではなく、被写体からの光が透過し、この透過光によって、有機発光層から発せられる光のコントラストが特許文献１と同様に低下させられる。また、遮光部材を有機発光層の上にパターンニングして積層するのは、製造工程上複雑である。
【０００６】
そこで、本発明は上記問題点に鑑みて成されたものであり、ファインダー装置に使用される有機ＥＬ素子において、簡単な構成で各種情報を高いコントラストで発光表示させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るファインダー装置は、透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され第１の基板に対向して設けられると共に、第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、第１の基板が接眼側に、第２の基板が対物側に配置され、第１の基板と共に有機ＥＬ層を挟むように、有機ＥＬ層より対物側に配置される第１の遮光マスクを備えることを特徴とする。
【０００８】
有機ＥＬ層より接眼側に配置される第２の遮光マスクを備え、発光表示部は、被写体からの光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域を含み、第２の遮光マスクは、撮影視野領域の外側の領域を遮光するように配置されることが好ましい。
【０００９】
第２の遮光マスクは第１の開口部を有し、発光表示部において、第１の開口部に対応する領域は、撮影視野領域として形成されることが好ましい。第２の遮光マスクは、第２の開口部を有していても良い。この場合、接眼側から見ると、第２の開口部の内部に配置されるように有機ＥＬ層が設けられる。また、第１の遮光マスクは、対物側から見ると、第２の開口部を覆うように形成されることが好ましい。さらには、第２の開口部内に配置される偏光板を有していても良い。
【００１０】
また、第２の遮光マスクは、第１の基板の接眼側又は対物側の面に形成されることが好ましく、第１の遮光マスクは、第２の基板の対物側又は接眼側の面に形成されることが好ましい。また、第１の遮光マスクは、密閉空間に配置される吸着剤であっても良い。
【００１１】
有機ＥＬ層は、例えば、所定の形状にパターニングされて積層されており、これにより遮光マスクを用いなくても、所定のマークやセグメント等を発光表示可能である。
【００１２】
本発明に係る別のファインダー装置は、第１の基板の対物側の面に、開口部を有する遮光マスクを形成し、有機ＥＬ層は、対物側から見ると開口部に重なるように配置されることを特徴とする。
【００１３】
発光表示部は有機ＥＬ層に電圧を印加するための第１及び第２の電極を備え、対物側から見ると開口部に重ねられるように、第１の電極、有機ＥＬ層、及び第２の電極が第１の基板側からこの順で積層されて配置され、第１の電極は透明電極であるとともに、第２の電極は非透明電極であって、有機ＥＬ層の発光表示は、開口部を介して接眼側に出射されることが好ましい。
【００１４】
この場合、第２の電極はブラックカソードであることが好ましい。ブラックカソードは例えば、遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料層、光吸収性材料から形成される薄膜層、及び遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料薄膜層がこの順に積層されて構成される。この場合、第１の遮光マスクは、ブラックカソードを形成するために使用される光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成された、光吸収性材料層、陰極金属材料薄膜層が積層されて構成されることが好ましい。
【００１５】
本発明に係る別のファインダー装置は、有機ＥＬ層より対物側、及び接眼側それぞれに配置される第１及び第２の偏光板を備え、第１の偏光板は、第２の偏光板と共に有機ＥＬ層を挟み込むように配置されることを特徴とする。また、本発明に係る光学機器は、例えば一眼レフカメラ等のカメラであって、上記ファインダー装置を備えることを特徴とする。なお、本発明においては、第１の基板は、有機ＥＬ層が積層されるための透明基板、第２の基板は封止部材であっても良いが、勿論第１の基板が封止部材、第２の基板が透明基板であっても良い。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように、本発明では、有機ＥＬ層と重なるように配置される遮光マスクが有機ＥＬ層より対物側に設けられることにより、有機ＥＬ層の周辺部に透過光が入射されることが防止される。したがって、各種情報を有機ＥＬ層によって高いコントラストで発光表示させることができる。また、第１の基板の所定位置に遮光マスクを形成し、または、第１及び第２の偏光板を用いることによっても同様に、各種情報を高いコントラストで発光表示させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。
図１は、本実施形態が適用された一眼レフカメラのファインダー装置を示す。なお、以下の説明においては、一眼レフカメラに適用された場合を説明するが、本発明は、顕微鏡、コンパクトカメラ等のその他の光学機器にも適用することが可能である。
【００１８】
ファインダー装置１０は、対物レンズ１１と、クイックリターンミラー１２と、ピント板１３と、ペンタプリズム１４と、接眼レンズ１５と、発光表示部１６と、ファインダー窓１７とを備える。
【００１９】
被写体で反射された反射光は、対物レンズ１１を介して、クイックリターンミラー１２で反射され、ピント板１３に導かれ、ピント板１３で一旦結像される。その後上記反射光は、ペンタプリズム１４で２回反射され、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７に入射され、ファインダー窓１７からピント板１３に結像された被写体像が視認される。クイックリターンミラー１２はレリーズスイッチ（不図示）が押されると、光路上から退避させられ、対物レンズ１１によって導かれた反射光は、ＣＣＤやフィルム等に導かれ、これらを露光する。
【００２０】
発光表示部１６は、ピント板１３と、ペンタプリズム１４の間で、被写体からの光が通過する光路に交差する横断領域上に配置される。すなわち、発光表示部１６は被写体結像位置近傍に配設される。発光表示部１６から発せられた光も、ペンタプリズム１４、接眼レンズ１５を介してファインダー窓１７内に入射される。なお、発光表示部１６は、クイックリターンミラー１２とピント板１３の間に配置することも可能である。
【００２１】
発光表示部１６をファインダー窓から観察したときの模式的な平面図を図２に示す。なお、本明細書において“対物側”、“接眼側”とは、それぞれ、光路に沿った“対物側”、“接眼側”であることを意味し、図１における発光表示部１６の下面側が“対物側”、上面側が“接眼側”となる。また、接眼側から見ると、第１の遮光マスク５１は視認できないが、図２においては第１の遮光マスク５１の輪郭は２点鎖線で示す。
【００２２】
第１の発光表示部１６は、矩形のファインダー視野領域２１と、ファインダー視野領域２１の上下左右の外側を囲み、枠状に形成されたファインダー視野外領域１９とを含む。ファインダー視野領域２１は、ファインダー窓１７から視認可能な領域であるが、ファインダー視野外領域１９はファインダー窓１７から視認することができない領域である。なお、ファインダー視野領域２１は、図２においては点線で囲まれた領域である。
【００２３】
発光表示部１６の対物側には第１の遮光マスク５１が設けられ、対物側から発光表示部１６に入射される光の一部を遮光する。発光表示部１６の接眼側には、第１および第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が設けられ、発光表示部１６からファインダー窓１７に入射される光の一部を遮光する。
【００２４】
第２の遮光マスク５２は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１及び第２の開口部５３、５４が設けられた部分以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部５３は、接眼側から見ると縦横比が例えば約４：３の略矩形を呈する。第２の開口部５４は横方向の長さが第１の開口部５３と略同一であり、かつ縦方向の長さが第１の開口部５３より短く形成された横長の矩形を呈する。
【００２５】
第１の開口部５３によって開口された矩形状の部分は、被写体からの反射光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。また、ファインダー視野領域２１において、撮影視野領域２２を取り囲む四角枠状の領域は各種情報を表示するための情報表示領域２３として形成される。情報表示領域２３には被写体からの反射光が入射されず、この領域では被写体を観察することはできない。
【００２６】
第２の開口部５４は、情報表示領域２３内であって、撮影視野領域２２（すなわち、第１の開口部５３）の下方に配置される。第２の開口部５４の内部には、接眼側から見ると、有機ＥＬ素子から構成される複数の発光部２６Ａ〜２６Ｅが配置されている。発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第２の開口部５４を介して発光表示部１６から出射され、ファインダー窓１７に入射される。
【００２７】
第１の遮光マスク５１は、第２の開口部５４と同様に情報表示領域２３内であって、撮影視野領域２２の下方に配置される。第１の遮光マスク５１は、第２の開口部５４よりわずかに大きい横長の矩形形状を呈し、対物側（すなわち、図２における裏側）から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように配置されている。
【００２８】
発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃは、それぞれ花、山、稲妻の形状にパターニングされ、そのパターニングされた形状に応じた光を発することができる。すなわち、発光部２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃは、花、山、及び稲妻のシンボルマークを発光表示させることができる。発光部２６Ａ、２６Ｂは撮影モードを表示するために使用されると共に、発光部２６Ｃはストロボ発光の有無を表示するために使用される。発光部２６Ｄ、２６Ｅは、それぞれ複数の発光要素から成るセグメント発光部であって、各発光要素は各セグメントの形状にパターニングされている。各セグメントは、適宜発光することにより、発光部２６Ｄ、２６Ｅは数字、文字を発光表示することができる。発光部２６Ｄ、２６Ｅは、例えばシャッタースピード、絞り値を表示するために使用される。
【００２９】
撮影視野領域２２（すなわち、接眼側から見ると第１の開口部５３の内部）にも有機ＥＬ素子から構成される複数の発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆが設けられる。各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、所定形状にパターニングされて形成され、そのパターニングされた形状に応じた光を発することができる。発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第１の開口部５３を介して発光表示部１６から出射され、ファインダー窓１７に入射される。
【００３０】
発光部２５Ａ〜２５Ｋは、略方形にパターニングして形成され、撮影視野領域２２の中央領域Ｃにおいて、３×３設けられるとともに、中央領域Ｃを挟むように、中央領域Ｃの左右の外側に１つずつ設けられる。本実施形態の一眼レフカメラは、多点測距が可能であり、各発光部２５Ａ〜２５Ｋは、各測距点に対応した位置に設けられ、合焦ポイントとして使用される。例えばオートフォーカスで撮影されるとき、各合焦ポイントの位置における測距が行われ、ピントが合った１つの合焦ポイントが発光表示させられ、これにより観察者は合焦位置を確認することができる。
【００３１】
発光部２７Ａ、２７Ｂはそれぞれ円弧状にパターニングされ、撮影視野領域２２の中心点を左右から挟むマークとして形成される。発光部２７Ｃ〜２７Ｆは、それぞれ両端が内側に折り曲げられた上下に延びる棒状にパターニングされ、発光部２７Ｃ、２７Ｄは中央領域Ｃを左右から挟むマークとして形成される。また、発光部２７Ｅ、２７Ｆは、中央領域Ｃの外側に設けられた２点の合焦マーク２５Ｊ、２５Ｋを左右から挟むマークとして形成される。発光部２７Ａ〜２７Ｆによってパターニングされたマークは、ＡＦエリアを示すためのフォーカスエリアの指標として使用される。
【００３２】
各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、２７Ａ〜２７Ｆそれぞれ（但し、発光部２６Ｄ、２６Ｅにおいては各発光要素）には、ファインダー視野外領域１９から延ばされる陽極線３１、及び陰極線３２が接続され、これら陽極線３１、及び陰極線３２を介して、各発光部又は発光要素に電圧が印加される。なお、図２においては、発光部２７Ｃ、２７Ｄに接続される陽極線３１、陰極線３２のみを示したが、他の発光部にも同様に陽極線３１、陰極線３２が接続される。このような構成により、各発光部（又はセグメント）に入力される電流は、それぞれ独立に制御することが可能である。但し、各発光部（又はセグメント）に入力される電流が独立制御できるのであれば、１本の陽極線３１又は１本の陰極線３２が複数の発光部（またはセグメント）に接続されていても良い。なお、陽極線３１、及び陰極線３２は、後述するように透明材料で形成され、被写体観察の妨げとはならない。
【００３３】
図３は、本実施形態に係る発光表示部１６の断面図である。なお、図３では、代表的に発光部２６Ｃ、２７Ｃの構成を示す。図３に示すように、発光表示部１６は、透明基板４１（第１の基板）と、透明基板４１に対向して設けられる封止部材４２とを備える。透明基板４１及び封止部材４２はガラス、プラスチック等の透明材料から形成される。透明基板４１は平板状に形成されると共に、封止部材４２はキャップ構造を有し、平板状のベース部４３（第２の基板）とその周縁から下方に向けて立設される側壁部４４とから一体的に形成される。
【００３４】
封止部材４２は、側壁部４４の先端部が、接着剤３７を介して透明基板４１に接着され、透明基板４１と封止部材４２との間に密閉空間３９が形成される。ファインダー装置１０においては、図３における下側（すなわち、透明基板４１側）が接眼側、上側（すなわち、封止部材４２側）が対物側に配置される。
【００３５】
撮影視野領域２２における透明基板４１の上には、上述した発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び発光部２７Ａ〜２７Ｆ（図２参照）が形成される。撮影視野領域２２に形成された各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び発光部２７Ａ〜２７Ｆは、それぞれ透明基板４１の上面４１Ｕに積層された陽極３４ａと、陽極３４ａの上に積層された有機ＥＬ層３３ａと、有機ＥＬ層３３ａの上にさらに積層された陰極３５ａとを備える。
【００３６】
情報表示領域２３における透明基板４１の上には、発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、それぞれ透明基板４１の上面４１Ｕに積層された陽極３４ｂと、陽極３４ｂの上に積層された有機ＥＬ層３３ｂと、各有機ＥＬ層３３ｂの上にさらに積層された陰極３５ｂとを備える。
【００３７】
なお、陽極３４ａ、３４ｂ、有機ＥＬ層３３ａ、３３ｂ、及び陰極３５ａ、３５ｂは、各発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、及び２７Ａ〜２７Ｆ毎（ただし、発光部２６Ｄ，２６Ｅにおいては発光要素毎）に設けられ、これにより、各発光部は、それぞれ独立に発光することが可能である。但し、各発光部がそれぞれ独立に発光可能な構成であれば、１つの陽極３４ａ（又は３４ｂ）の上に、複数の有機ＥＬ層が積層されていても良いし、１つの陰極３５ａ（又は３５ｂ）が２つ以上の有機ＥＬ層の上に跨るように積層されていても良い。各陽極３４ａ、３４ｂは、それぞれ陽極線３１（図２参照）に接続されると共に、各陰極３５ａ、３５ｂはそれぞれ陰極線３２（図２参照）に接続される。
【００３８】
各発光部又は発光要素は、上述したように、所定のシンボルマーク、セグメント等を発光表示するために、所定の形状にパターニングされている。例えば、発光部２６Ｃにおける陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、及び陰極３５ｂは、接眼側から見るとこれらが重ねられた部分が、稲妻の形状を呈するように積層されている。他の発光部、発光要素についても、同様に形成される。
【００３９】
陽極３４ａ、３４ｂ、陽極線３１、及び陰極線３２（図２参照）は、透明電極であって、例えばITO（Indium Tin Oxide）、ATO(antimony doped tindioxide)、ZnO（zinc oxide）等の透明導電性金属化合物から形成される。有機ＥＬ層３３ａ、３３ｂは、陽極側から順に例えば正孔輸送材料で構成される正孔輸送層、有機発光材料で構成される有機発光層、電子輸送材料で構成される電子輸送層等が積層されて構成され、適宜赤、緑、青、又は白色の光を発するように構成される。発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆそれぞれの陰極３５ａは透明電極であって、例えばITO、ATO、ZnO等の透明導電性金属化合物のみから形成されても良いが、好ましくは以下に示すように２層構造で形成される。
【００４０】
すなわち、陰極３５ａは、有機ＥＬ層の上に積層される第１の陰極層と、第１の陰極層の上に積層される第２の陰極層とによって構成されることが好ましい。第１の陰極層は、例えばアルミニウム、インジウム、マグネシウム、カルシウム、チタニウム、イットリウム、リチウム、及びこれらの合金等の遮光性の陰極金属材料から形成されるとともに、第２の陰極層は、ITO、ATO、ZnO等の透明導電性金属化合物から形成される。第１の陰極層は遮光性物質によって構成されるが、その層厚が例えば１００Å以下に設定されることにより、実質的に光透過性を有し、これにより陰極３５ａは透明電極に構成される。なお、この場合、第１の陰極層と各有機ＥＬ層の間には、電子注入層が積層されていたほうが良い。電子注入層は例えばLiFによって形成され、その厚さは例えば７Åである。なお、第２の陰極層の厚さは例えば２０００Åである。
【００４１】
陰極３５ａがITO等の透明導電性金属化合物のみから形成されると仕事関数が高くなり電子の注入性が低下する。しかし、陰極３５ａが第１及び第２の陰極層から構成され、かつ第１の陰極層に上述したような低仕事関数の陰極金属材料が用いられる場合、電子の注入性の低下を最小限に抑制することができる。
【００４２】
発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、透明材料である陽極３４ａ、有機ＥＬ層３３ａ、陰極３５ａから構成され、被写体からの光を透過するので、非発光時、被写体観察の妨げと成らない。なお、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆの陰極３５ａは、後述する発光部２６Ａ〜２６Ｅの陰極３５ｂと同様に非透明電極で構成されていても良い。この場合、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆは、被写体からの光を遮光するため、その遮光により非発光時でも合焦マーク等が遮光表示されることとなる。
【００４３】
発光部２６Ａ〜２６Ｅは、情報表示領域２３に設けられ、被写体からの光を透過させる必要がないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅを構成する陰極３５ｂは非透明電極で構成され、上述したアルミニウム等の遮光性の陰極金属材料から形成される。これにより、陰極３５ｂは仕事関数が低くなり電子の注入性に優れるため、発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光効率は、撮影視野領域２２に設けられた発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆの発光効率より優れる。
【００４４】
密閉空間３９内には、密閉空間３９内の水分を吸収し、除去するための吸着剤４０が設けられる。吸着剤４０は撮影視野領域２２を避けるように設けられ、例えば図３に示すように情報表示領域２３に設けられる。吸着剤４０は例えばベース部４３の下面４３Ｄに接着して設けられる。吸着剤４０としては、例えば酸化バリウム、酸化カルシウム、モレキュラーシーブス、シリカゲル等の非透明材料から成る吸着剤や、アルミニウム錯体を主成分とする透明材料から成る吸着剤を使用することができる。
【００４５】
第２の遮光マスク５２は、透明基板４１の下面４１Ｄに形成され、これにより発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２６Ａ〜２６Ｅ、及び２７Ａ〜２７Ｆより接眼側に配置される。第２の開口部５４の内部であって、透明基板４１の下面４１Ｄには、位相差板付き偏光板５５が配置される。
【００４６】
第１の遮光マスク５１は、ベース部４３の上面４３Ｕ（すなわち、対物側の面）に形成されると共に、上述したように、対物側から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように形成される。これにより、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１と共に発光表示部２６Ａ〜２６Ｅ（すなわち、有機ＥＬ層３３ｂ）を挟むように、発光部２６Ａ〜２６Ｅより対物側に配置される。
【００４７】
第１及び第２の遮光マスク５１、５２は例えば黒色顔料、黒色染料等を配合した合成樹脂、塗料等を、フォトレジスト、スクリーン印刷等によって、それぞれベース部４３の上面４３Ｕ及び透明基板４１の下面４１Ｄに被膜、塗布することにより形成される。また、例えば、ベース部４３の上面４３Ｕ及び透明基板４１の下面４１Ｄをスリ面にし、そのスリ面にカーボンブラック等の顔料、染料等を分散した水溶液を塗布後、乾燥することにより形成される。また、例えばクロム、ニッケル、銅等の金属又はこれらの金属酸化物の薄膜により形成される。この場合、第１の遮光マスク５１は、例えばスパッタリング、真空蒸着等により成膜される。但し、第１及び第２の遮光マスク５１、５２は、黒色に限らず他の色の遮光マスクに形成することも可能である。
【００４８】
次に、本実施形態の作用について説明する。本実施形態においては、発光表示部１６に対物側から被写体からの反射光がベース部４３を介して入射されるが、第１の遮光マスク５１が設けられた領域では、被写体からの光が入射されない。また、発光表示部１６に入射された被写体からの光は、一部が接眼側に設けられた第２の遮光マスク５２によって遮光されると共に、一部が第１の開口部５３を介して透明基板４１の下面４１Ｄから出射され、被写体像として観察される。なお、上述したように第１の開口部５３からは、発光部２５Ａ〜２５Ｋ、２７Ａ〜２７Ｆからの発光も出射し、被写体像と共に、合焦マークやフォーカスエリアの指標もファインダー窓１７において観察される。
【００４９】
第２の遮光マスク５２は、第２の開口部５４も有するが、対物側から見ると（図２参照）、第２の開口部５４は第１の遮光マスク５１に完全に覆われているので、第２の開口部５４が設けられた領域には、被写体からの光が入射されない。したがって、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されることはない。一方、発光部２６Ａ〜２６Ｅからの光は、第２の開口部５４から出射され、シンボルマークや数字等がファインダー窓１７において観察される。
【００５０】
このように、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されず、発光部２６Ａ〜２６Ｅからの光のみが出射されることとなる。したがって、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００５１】
また、本実施形態では、第２の開口部５４の内部には被写体からの光を遮光するためのマスクを形成する必要は無いので、第２の開口部５４の内部には上述したように偏光板５５を設けることができる。
【００５２】
第２の開口部５４の内部に偏光板５５が設けられることにより、第２の開口部５４から発光表示部１６内に入射される外部光は円偏光される。したがって、第２の開口部５４から入射される外部光の一部は、発光部２６Ａ〜２６Ｆを構成する陰極３５ｂで反射されるが、その反射光は、再び第２の開口部５４を介して発光表示部１６の外部に出射されない。一方、有機ＥＬ層３３ｂから発せられた光は、陰極３５ｂで反射した光を含め、第２の開口部５４を介して発光表示部１６の外部に出射される。すなわち本実施形態では、偏光板５５が設けられたことによっても、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストを向上させることができる。
【００５３】
本実施形態では、第２の遮光マスク５２は透明基板４１の接眼側の面（下面４１Ｄ）に形成されたが、後述する第３の実施形態のような構成を用いて、透明基板４１の対物側の面（上面４１Ｕ）に形成されても良い。
【００５４】
図４は第１の実施形態の第１の変形例を示す。第１の実施形態では、第１の遮光マスク５１はベース部４３の上面４３Ｕに形成されていたが、本変形例では、第１の遮光マスク５１は、密閉空間３９内部であって、ベース部４３の下面４３Ｄ（接眼側の面）に形成さる。なお、密閉空間３９内には、上述したように吸着剤が配置されるので、吸着剤が第１の遮光マスク５１として使用されても良い。この場合、吸着剤には非透過性のものが使用され、好ましくは黒色顔料、黒色塗料等により適宜着色されていても良い。なお、本変形例では、その他の構成は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００５５】
図５は第１の実施形態の第２の変形例を示す。第１の実施形態では、矩形状に形成された第１及び第２の開口部５３、５４の内周面は、４辺ともが遮光マスクによって形成され閉塞されていたが、例えば、図５に示すように、左辺が開口されていても良い。このような場合、第１及び第２の開口部５３，５４は、ファインダー視野領域２１のみならず、ファインダー視野外領域１９に形成されることとなると共に、情報表示領域２３はコの字状に形成される。
【００５６】
図６は、第２の実施形態に係る発光表示部を示す。第１の実施形態では、第１の遮光マスク５１は有機ＥＬ層より対物側に設けられたが、本実施形態では、第１の遮光マスク５１は有機ＥＬ層より接眼側に設けられる。以下、第２の実施形態について、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００５７】
第２の実施形態においては、第１の遮光マスク５１は透明基板４１の上面４１Ｕの上に形成される。第１の遮光マスク５１は、花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされた複数の第３の開口部５６を有する。但し、図６においては、発光部２６Ｃに対応して形成される第３の開口部５６のみを示す。
【００５８】
本実施形態における第１の遮光マスク５１は、第１の実施形態と同様の材料に形成されても良いが、好ましくは、例えばクロム、ニッケル、銅等の金属又はこれらの金属酸化物の薄膜により形成される。この場合、第１の遮光マスク５１は、例えばスパッタリング、真空蒸着等により成膜後、例えばフォトリソグラフィーによりパターニングされて、第３の開口部５６が形成される。
【００５９】
第１の遮光マスク５１の上面を平坦化すると共に、第１の遮光マスク５１を保護するために、第１の遮光マスク５１の上面及び第３の開口部５６の内部には平坦化膜５７が積層されている。平坦化膜５７は、例えば透明樹脂材料から形成され、その上面は平坦面に形成される。平坦化膜５７は、例えば第１の遮光マスク５１の上面に、合成樹脂が塗布された後、乾燥又は硬化されて形成される。
【００６０】
平坦化膜５７の上面には、さらに無機酸化物層５８が積層される。無機酸化物層５８は、透明で電気絶縁性を有する酸化ケイ素（SiO2）、酸化アルミニウム（AlO2）、又は酸化チタン（TiO2）等の無機酸化物が被膜されて形成される。無機酸化物層５８が設けられることにより、平坦化膜５７及び第１の遮光マスク５１から発生する水分や酸素を遮断することができる。
【００６１】
無機酸化物層５８の上面には、第１の実施形態と同様に、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂがこの順で積層され、各発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、第１の実施形態と同様に、花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされている。このようにパターニングされた各発光部２６Ａ〜２６Ｅ（陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂ）は、それぞれ対物側から見ると、パターニングして形成された各第３の開口部５６に重なり、かつ覆うように形成されている。
【００６２】
但し、本実施形態においてシンボルマークを発光表示するために使用される各発光部２６Ａ〜２６Ｃは、所定の形状にパターニングされていなくても良い。有機ＥＬ層３３ｂより接眼側に設けられた第１の遮光マスク５１は、所定形状にパターニングされた第３の開口部５６を有し、各発光部２６Ａ〜２６Ｅから発した光は、シンボルマークに応じてパターニングされた第３の開口部５６を介して出射されるからである。
【００６３】
透明基板４１の下面４１Ｄには、第１の実施形態と同様に第１及び第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が形成される。第２の開口部５４は、対物側から見ると、第１の遮光マスク５１及び陰極３５ｂによって覆い隠されるように配置される。すなわち、第２の開口部５４は、第３の開口部５６が設けられた部分以外においては、第１の遮光マスク５１によって覆われると共に、第３の開口部５６が設けられた部分においては、陰極３５ｂによって覆われる。
【００６４】
次に、本実施形態における作用を説明する。撮影視野領域２２においては、第１の実施形態と同様に、対物側から被写体からの反射光が発光表示部１６を透過して、第１の開口部５３を介してファインダー窓１７に入射され、被写体像として観察される。
【００６５】
また、情報表示領域２３において、第２の開口部５４は、上述したように、対物側から見ると、第１の遮光マスク５１及び陰極（非透明電極）３５ｂによって覆い隠されている。したがって、情報表示領域２３において、発光表示部１６に入射された光は、陰極３５ｂ、第１及び第２の遮光マスク５１、５２のいずれかによって遮光され、発光表示部１６の接眼側から出射されることはない。
【００６６】
したがって、第２の開口部５４からは、被写体からの反射光が出射されることはなく、発光表示部２６Ａ〜２６Ｅから発せられた光のみが出射することとなる。これにより、本実施形態でも、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。また、第１の実施形態と同様に、偏光板５５が設けられているので、この偏光板５５によっても発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストを向上させることができる。
【００６７】
なお、第１および第２の実施形態では、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１の下面４１Ｄ上であって、第２の開口部５４内に設けられることも考えられる。しかし、第１の遮光マスク５１を第２の開口部５４内に設けると、偏光板５５が設けられなくなるので、第１の遮光マスク５１は、透明基板４１の上面４１Ｕ又はベース部４３の上面４３Ｕ上に形成したほうが良い。また、第２の実施形態では、平坦化膜５７、無機酸化物層５８は適宜いずれか一方または両方が省略されていても良い。
【００６８】
図７は、第２の実施形態の第１の変形例を示す。第１の変形例における第１の遮光マスク５１は、第２の実施形態と同様に、透明基板４１の上面４１Ｕに形成されるが、その構成が第２の実施形態と異なる。また、陰極３５ｂはブラックカソードとして形成されている点も相違する。以下これら相違点を中心に説明する。
【００６９】
本変形例において、情報表示領域２３における透明基板４１の上面４１Ｕには、第２の実施形態と同様に、発光部２６Ａ〜２６Ｅが設けられる。各発光部２６Ａ〜２６Ｅはそれぞれ、第１の実施形態と同様に、透明基板４１の上に、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂがこの順に積層されて構成される。
【００７０】
陰極３５ｂは、上述したようにブラックカソードで構成され、例えば、有機ＥＬ層３３ｂ側（すなわち、図７における下側）から順に陰極金属材料層、光吸収性薄膜層、陰極金属材料薄膜層が積層されてから形成される。陰極金属材料（薄膜）層は例えば上述したアルミニウム等の遮光性の陰極金属材料から形成される。また、光吸収性薄膜層は光を吸収し外光の反射を低減させるものであればよく、例えばCuPc（銅フタロシアニン）等の絶縁材料によって形成される。また、透明基板４１の上には、各発光部２６Ａ〜２６Ｅを取り囲むように、第１の遮光マスク５１が積層される。すなわち、第１の遮光マスク５１は、各発光部２６Ａ〜２６Ｅが積層された部分を内部に配置するように開口され、その開口された部分が第３の開口部５６として形成される。
【００７１】
第１の遮光マスク５１は、例えば透明基板４１側から順に上記CuPc等で形成された光吸収性材料層、遮光性のある陰極金属材料から形成される陰極金属材料層が積層されて構成され、黒色遮光マスクに形成される。なお、透明基板４１の上には、上述したように陽極線３１及び陰極線３２が配線され、第１の遮光マスク５１の一部はこれらの上に積層されることとなる。しかし、第１の遮光マスク５１の一部を構成する陰極金属材料と陽極線３１及び陰極線３２は、光吸収性材料層がCuPcのような絶縁材料であれば、それによって絶縁されることとなる。したがって、第１の遮光マスク５１を積層したことによって、陽極線３１及び陰極線３２がショートすることはない。なお、本実施形態においては、上記絶縁を確実にするために、第１の遮光マスク５１において、CuPcよりさらに透明基板４１側には上述した無機酸化物層が積層されていても良い。
【００７２】
対物側から発光表示部１６を見ると、第２の実施形態と同様に、第２の開口部５４は、陰極３５ｂ（ブラックカソード）及び第１の遮光マスク５１によって、覆われていることとなる。したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３において、発光表示部１６に入射された光は、第１及び第２の遮光マスク５１、５２又は陰極３５ｂのいずれかに遮光されることとなり、発光表示部１６の接眼側から出射されることはない。
【００７３】
すなわち、第２の開口部５４からは、被写体からの光が出射されることはなく、発光部２６Ａ〜２６Ｅから発せられた光のみが出射することとなる。これにより、本変形例でも、第２の開口部５４から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、対物側から入射した光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。また、ブラックカソードを用いることにより、第２の開口部５４を介して発光表示部１６内に入射された外部光が陰極３５ｂで反射されることが防止される。したがって、本変形例では、図７に示すように、偏光板５５が設けられなくても良い。もちろんコントラストを高めるために偏光板を設けることも可能である。さらに、第１の遮光マスク５１は、ブラックカソードを形成するために使用される光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成されるので、第１の遮光マスク５１は簡単に形成することができる。但し、第１の遮光マスク５１は、第２の実施形態と同様の構成を有していても良い。
【００７４】
図８は、第３の実施形態に係る発光表示部を示す。第１及び第２の実施形態においては、遮光マスクは第１及び第２の遮光マスクとして異なる面上に形成されるが、本実施形態では、遮光マスクは同一の面上に形成される。以下、本実施形態について、第１の実施形態との相違点を説明する。
【００７５】
図８に示すように、本実施形態では、透明基板４１の上面４１Ｕの上に第１及び第３の開口部６３、６６を有する遮光マスク６０が形成される。遮光マスク６０は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１及び第３の開口部６３、６６の内部以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部６３は、第１の実施形態の第１の開口部５３と同様に配置され、第１の開口部６３によって開口された矩形状の部分は、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。また、第３の開口部６６は、第２の実施形態における第３の開口部５６と同様に、情報表示領域２３に複数設けられ、それぞれ花、山、稲妻、及びセグメント形状にパターニングされる。
【００７６】
遮光マスク６０の上には、第２の実施形態と同様に、平坦化膜５７が積層される。平坦化膜５７は、第３の開口部６６の内部にも積層され、情報表示領域２３において、遮光マスク６０の上面を平坦化するが、第１の開口部６３の内部には積層されない。平坦化膜５７の上には、第２の実施形態と同様に、無機酸化物層５８が積層される。
【００７７】
情報表示領域２３において、無機酸化物層５８の上には、陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂが積層され、発光部２６Ａ〜２６Ｅが形成される。ここで、各発光部２６Ａ〜２６Ｅは、第２の実施形態と同様に、第３の開口部６６に対応するように所定の形状にパターニングされる。すなわち、各発光部２６Ａ〜２６Ｃは、それぞれ花、山、稲妻の形状にパターニングされるとともに、発光部２６Ｄ，２６Ｅは複数の発光要素から構成され、各発光要素が各セグメントの形状にパターニングされる。このような構成により、第３の開口部６６は、対物側から見ると、発光部２６Ａ〜２６Ｅ（非透明電極である陰極３５ｂ）に覆われていることになる。
【００７８】
したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３において、対物側から入射された被写体からの光は、陰極３５ｂ又は遮光マスク６０のいずれかによって遮光され、透明基板４１の下面４１Ｄから出射されることはない。これにより、本実施形態においても、第３の開口部６６から出射される発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、対物側から入射された被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００７９】
なお、撮影視野領域２２においては、第１の実施形態と同様に発光部２５Ａ〜２５Ｋ、及び２７Ａ〜２７Ｆが形成され、撮影視野領域２２では、被写体観察に加えて、これら発光部の発光表示も観察される。また、第２の実施形態のように、陰極３５ｂはブラックカソードとして形成されても良い。
【００８０】
図９は、第４の実施形態に係る発光表示部を示す。第１の実施形態においては、遮光マスクが第１および第２の遮光マスクとして２面上に形成されるが、本実施形態では、第３の実施形態と同様に、遮光マスクは１面上に形成される。以下、本実施形態について、第１の実施形態との相違点を説明する。
【００８１】
図９に示すように、本実施形態では、ベース部４３の上面４３Ｕの上に、第１の開口部７３を有する遮光マスク７０が形成される。遮光マスク７０は、ファインダー視野外領域１９の全てと、ファインダー視野領域２１の第１の開口部７３の内部以外の全てを覆うように形成される。第１の開口部７３は、第１の実施形態の第１の開口部５３と同様に設けられ、第１の開口部７３によって開口された矩形状の部分は、被写体観察に使用される撮影視野領域２２として使用される。
【００８２】
以上の構成により、本実施形態では、情報表示領域２３の全てが遮光マスク７０によって覆われることになる。したがって、本実施形態でも、情報表示領域２３では、対物側から入射される被写体の光の全てが、遮光マスク７０によって遮光され、透明基板４１の下面４１Ｄから出射されることはない。すなわち、本実施形態においても、情報表示領域２３において発せられる発光部２６Ａ〜２６Ｅの光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００８３】
図１０は、第４の実施形態の第１の変形例を示す。第４の実施形態においては、遮光マスク７０は、ベース部４３の上面４３Ｕに形成されたが、本実施形態では、ベース部４３の下面４３Ｄに形成される。
【００８４】
本変形例でも、遮光マスク７０は、ファインダー視野領域２１の第１の開口部７３が設けられた部分以外の全ての部分と、ファインダー視野外領域１９を覆うように形成される。但し、側壁部４４が設けられた部分には、遮光マスク７０が形成されないので、ファインダー視野外領域１９の一部には遮光マスク７０が形成されない。以上の本変形例でも、情報表示領域２３の全てが遮光マスク７０によって覆われることとなるので、情報表示領域２３に形成された発光部２６Ａ〜２６Ｅから発する光は、被写体からの光と重なることがないので、発光部２６Ａ〜２６Ｅの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【００８５】
なお、第４の実施形態において、遮光マスク７０は第１の実施形態の遮光マスク５１、５２と同様の構成を有する。また、第１及び第４の実施形態の変形例において、第１の遮光マスク５１または遮光マスク７０が密閉空間３９内に配置される場合、遮光マスクの下面側には、例えば水分やガスの遮蔽のために、無機酸化物層が積層されていても良い。
【００８６】
図１１は、第５の実施形態に係る発光表示部１６を示す。本実施形態においては、第１の遮光マスク５１の代わりに第１の偏光板８１が設けられる点、陰極３５ｂが透明導電性金属化合物から形成され、透明電極で構成される点を除いては、第１の実施形態と同様の構成を有する。
【００８７】
本実施形態では、第１の実施形態と同様に、第１及び第２の開口部５３、５４を有する第２の遮光マスク５２が形成される。また、第２の開口部５４の内部であって、透明基板４１の下面４１Ｄには、第２の偏光板８２が配置されている。第１の偏光板８１は、第１の実施形態の第１の遮光マスク５１と同様に、ベース部４３の上面４３Ｕに形成されると共に、対物側から見ると、第２の開口部５４を完全に覆うように形成される。なお、第１及び第２の偏光板８１は、偏光方向が互いに垂直な方向に組合されている。
【００８８】
発光部２６Ａ〜２６Ｅは、接眼側から見ると、第１の実施形態と同様に（図２参照）、第２の開口部５４の内部に配置されている。すなわち、本実施形態では、第１の偏光板８１は、第２の偏光板８２と共に発光部２６Ａ〜２６Ｅ（陽極３４ｂ、有機ＥＬ層３３ｂ、陰極３５ｂ）を挟み込むように配置される。
【００８９】
本実施形態では、第２の開口部５４内部には、第２の偏光板８２が配置され、また、対物側から見ると、その第２の偏光板８２には、第１の偏光板８１が重ねられるように配置されている。ここで、第１及び第２の偏光板８１、８２は、偏光方向が互いに垂直な方向に組合されているので、対物側から入射された被写体からの光は、第２の開口部５４を介して接眼側に出射されない。一方、発光部２６Ａ〜２６Ｅの発光表示は、第２の開口部５４（第２の偏光板８２）を介して接眼側に出射される。したがって、本実施形態においても、他の実施形態と同様に、発光部２６Ａ〜２６Ｆの表示コントラストは向上し、視認性の高い発光表示を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】カメラのファインダー光学系の平面図である。
【図２】発光表示部の平面図である。
【図３】第１の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図４】第１の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図５】第１の実施形態の第２の変形例における発光表示部の平面図である。
【図６】第２の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図７】第２の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図８】第３の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図９】第４の実施形態における発光表示部の断面図である。
【図１０】第４の実施形態の第１の変形例における発光表示部の断面図である。
【図１１】第５の実施形態における発光表示部の断面図である。
【符号の説明】
【００９１】
１０ ファインダー装置
１６ 発光表示部
１７ ファインダー窓
１９ ファインダー視野外領域
２１ ファインダー視野領域
２２ 撮影視野領域
２３ 情報表示領域
３３ａ、３３ｂ 有機ＥＬ層
３４ａ、３４ｂ 陽極（第１の電極）
３５ａ、３５ｂ 陽極（第２の電極）
５１ 第１の遮光マスク
５２ 第２の遮光マスク
５３、６３、７３ 第１の開口部
５４ 第２の開口部
５５ 偏光板（位相差板付き偏光板）
５６、６６ 第３の開口部
６０、７０ 遮光マスク
８１ 第１の偏光板
８２ 第２の偏光板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記第１の基板と共に前記有機ＥＬ層を挟むように、前記有機ＥＬ層より対物側に配置される第１の遮光マスクを備えることを特徴とするファインダー装置。
【請求項２】
前記有機ＥＬ層より接眼側に配置される第２の遮光マスクを備え、
前記発光表示部は、被写体からの光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域を含み、
前記第２の遮光マスクは、前記撮影視野領域の外側の領域を遮光するように配置されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項３】
前記第２の遮光マスクは第１の開口部を有し、
前記発光表示部において、前記第１の開口部に対応する領域は、前記撮影視野領域として形成されることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項４】
前記第２の遮光マスクは、第２の開口部を有し、
接眼側から見ると、前記第２の開口部の内部に配置されるように前記有機ＥＬ層を設けることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項５】
前記第１の遮光マスクは、対物側から見ると、前記第２の開口部を覆うように形成されることを特徴とする請求項４に記載のファインダー装置。
【請求項６】
前記第２の開口部内に配置される偏光板を有することを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項７】
前記第２の遮光マスクは、前記第１の基板の接眼側又は対物側の面に形成されることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項８】
前記第１の遮光マスクは、前記第２の基板の対物側又は接眼側の面に形成されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項９】
前記第１の遮光マスクは、前記密閉空間に配置される吸着剤であることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ層は、所定の形状にパターニングされて積層されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項１１】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、その発光表示により各種情報を表示する有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記第１の基板の対物側の面に、開口部を有する遮光マスクを形成し、
前記有機ＥＬ層は、前記対物側から見ると前記開口部に重なるように配置されることを特徴とするファインダー装置。
【請求項１２】
前記発光表示部は前記有機ＥＬ層に電圧を印加するための第１及び第２の電極を備え、
対物側から見ると前記開口部に重ねられるように、前記第１の電極、前記有機ＥＬ層、及び前記第２の電極が第１の基板側からこの順で積層されて配置され、
前記第１の電極は透明電極であるとともに、前記第２の電極は非透明電極であって、前記有機ＥＬ層の発光表示は、前記開口部を介して接眼側に出射されることを特徴とする請求項１１に記載のファインダー装置。
【請求項１３】
前記第２の電極はブラックカソードであることを特徴とする請求項１２に記載のファインダー装置。
【請求項１４】
前記ブラックカソードは、遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料層、光吸収性材料から形成される薄膜層、陰極金属材料から形成される陰極金属材料薄膜層がこの順に積層されて構成されることを特徴とする請求項１３に記載のファインダー装置。
【請求項１５】
前記第１の遮光マスクは、前記ブラックカソードを形成するために使用される前記光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成された、光吸収性材料層、陰極金属材料薄膜層が積層されて構成されることを特徴とする請求項１４に記載のファインダー装置。
【請求項１６】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記有機ＥＬ層より対物側、及び接眼側それぞれに配置される第１及び第２の偏光板を備え、前記第１の偏光板は、前記第２の偏光板と共に前記有機ＥＬ層を挟み込むように配置されることを特徴とするファインダー装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６に記載されたファインダー装置を備えた光学機器。
【請求項１】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記第１の基板と共に前記有機ＥＬ層を挟むように、前記有機ＥＬ層より対物側に配置される第１の遮光マスクを備えることを特徴とするファインダー装置。
【請求項２】
前記有機ＥＬ層より接眼側に配置される第２の遮光マスクを備え、
前記発光表示部は、被写体からの光を透過させ、被写体観察に使用される撮影視野領域を含み、
前記第２の遮光マスクは、前記撮影視野領域の外側の領域を遮光するように配置されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項３】
前記第２の遮光マスクは第１の開口部を有し、
前記発光表示部において、前記第１の開口部に対応する領域は、前記撮影視野領域として形成されることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項４】
前記第２の遮光マスクは、第２の開口部を有し、
接眼側から見ると、前記第２の開口部の内部に配置されるように前記有機ＥＬ層を設けることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項５】
前記第１の遮光マスクは、対物側から見ると、前記第２の開口部を覆うように形成されることを特徴とする請求項４に記載のファインダー装置。
【請求項６】
前記第２の開口部内に配置される偏光板を有することを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項７】
前記第２の遮光マスクは、前記第１の基板の接眼側又は対物側の面に形成されることを特徴とする請求項２に記載のファインダー装置。
【請求項８】
前記第１の遮光マスクは、前記第２の基板の対物側又は接眼側の面に形成されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項９】
前記第１の遮光マスクは、前記密閉空間に配置される吸着剤であることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ層は、所定の形状にパターニングされて積層されることを特徴とする請求項１に記載のファインダー装置。
【請求項１１】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、その発光表示により各種情報を表示する有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記第１の基板の対物側の面に、開口部を有する遮光マスクを形成し、
前記有機ＥＬ層は、前記対物側から見ると前記開口部に重なるように配置されることを特徴とするファインダー装置。
【請求項１２】
前記発光表示部は前記有機ＥＬ層に電圧を印加するための第１及び第２の電極を備え、
対物側から見ると前記開口部に重ねられるように、前記第１の電極、前記有機ＥＬ層、及び前記第２の電極が第１の基板側からこの順で積層されて配置され、
前記第１の電極は透明電極であるとともに、前記第２の電極は非透明電極であって、前記有機ＥＬ層の発光表示は、前記開口部を介して接眼側に出射されることを特徴とする請求項１１に記載のファインダー装置。
【請求項１３】
前記第２の電極はブラックカソードであることを特徴とする請求項１２に記載のファインダー装置。
【請求項１４】
前記ブラックカソードは、遮光性の陰極金属材料から形成される陰極金属材料層、光吸収性材料から形成される薄膜層、陰極金属材料から形成される陰極金属材料薄膜層がこの順に積層されて構成されることを特徴とする請求項１３に記載のファインダー装置。
【請求項１５】
前記第１の遮光マスクは、前記ブラックカソードを形成するために使用される前記光吸収性材料及び陰極金属材料それぞれを用いて形成された、光吸収性材料層、陰極金属材料薄膜層が積層されて構成されることを特徴とする請求項１４に記載のファインダー装置。
【請求項１６】
透明材料から形成される第１の基板と、透明材料から形成され前記第１の基板に対向して設けられると共に、前記第１の基板との間に密閉空間を形成する第２の基板と、有機発光材料を含み、前記密閉空間に配置されると共に、発光表示により各種情報を表示するための有機ＥＬ層とを備える発光表示部が、被写体からの光が通過する光路に交差するように配置され、前記各種情報をファインダー窓から観察させるファインダー装置であって、
前記第１の基板が接眼側に、前記第２の基板が対物側に配置され、
前記有機ＥＬ層より対物側、及び接眼側それぞれに配置される第１及び第２の偏光板を備え、前記第１の偏光板は、前記第２の偏光板と共に前記有機ＥＬ層を挟み込むように配置されることを特徴とするファインダー装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６に記載されたファインダー装置を備えた光学機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００８−１２９０４２（Ｐ２００８−１２９０４２Ａ）
【公開日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３１００６１（Ｐ２００６−３１００６１）
【出願日】平成１８年１１月１６日（２００６．１１．１６）
【出願人】（００００００５２７）ペンタックス株式会社 (1,878)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１１月１６日（２００６．１１．１６）
【出願人】（００００００５２７）ペンタックス株式会社 (1,878)
【Ｆターム（参考）】
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