フェロセンジホスフィン配位子
ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式Ｉ（式中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；Ｒ１は、Ｃ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基またはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基であり；Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはフェニルであり；ｍは、１〜３であり；ｎは、０または１〜５である）で示される化合物は、鏡像異性選択性のある均一触媒としての遷移金属の錯体のための配位子である。置換の結果として、転化率、立体選択性および／または形成される付加物の配置に影響を与えることができ、そしてこの方法で触媒の最適化が可能になる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロペンタジエニル環中で置換された１−sec−ホスフィノメチル−２−sec−ホスフィノフェロセン；それらを製造する方法；遷移金属と配位子としてのこれらのジホスフィンとの金属錯体；不斉または対称付加反応における均一触媒としての金属錯体の使用；および好ましくはプロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化の方法に関する。
【０００２】
式：
【０００３】
【化７】
【０００４】
で示されるフェロセンジホスフィンは、公知である。ＧＢ２２８９８５５Ａには、この種のジホスフィン、例えば［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］メチルジシクロヘキシルホスフィン、およびアイソタクチックポリマーを製造するためのそのＰｄ錯体が記載されている。ＷＯ０１／３８３３６には、付加反応（特に水素化）で不斉触媒として作用する金属錯体のために、この種の配位子が提案されている。良好な転化率および立体選択性は、基質にもよるが、触媒を用いて達成することができる。これらの配位子の欠点は、反応の最適化のためにホスフィノ基中の改良のみが可能なことである。その上、そのような触媒の活性および／または選択性を更に増大させて、可能な適用例の範囲を広げることが必要とされている。
【０００５】
予期しないことには、置換基をシクロペンタジエニル環中に導入すると、転化率および／または選択性の両方、ならびに形成される付加物の配置に影響を及ぼし得ることがここに見出された。転化率の上昇、光学収率の上昇、またはその両方の効果、あるいは所望の光学異性体の形成が観察された。適切な非置換配位子が特定の反応で同定されれば、これらの置換された配位子は、最適化に非常に適している。配位子は、新規な製造方法を通して得ることができる。
【０００６】
本発明は、第一に、ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式Ｉ：
【０００７】
【化８】
【０００８】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ｒ１は、Ｃ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基またはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基であり、ｍ＞１の場合の基：Ｒ１は、同一または異なっており；
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはフェニルであり；
ｍは、１〜３であり；
ｎは、０または１〜５である）
で示される化合物を提供する。
【０００９】
例示の目的で、後に示す式にも同様に適用される他の鏡像異性体の代表的な式を、以下に示す。
【００１０】
【化９】
【００１１】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、２個の同一または２個の異なる炭化水素基を含むことができる。後者の場合、第二級ホスフィノ基は、Ｐ−キラルである。第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、好ましくは、それぞれ、２個の同一炭化水素基を含む。更に第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっていてもよい。
【００１２】
炭化水素基は、非置換もしくは置換されていてもよく、そして／またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよい。それらは、炭素原子を１〜２２個、好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜１４個含んでいてもよい。好ましい第二級ホスフィノ基は、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル；非置換、またはＣ１〜Ｃ６−アルキル−もしくはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−置換のＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキルまたはＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキル−ＣＨ２−；フェニル、ナフチル、フリル、またはベンジル；ならびにハロゲン（例えば、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルキル（例えばトリフルオロメチル）、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルコキシ（例えばトリフルオロメトキシ）、（Ｃ５Ｈ６）３Ｓｉ、（Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉ、第二級アミノまたは−ＣＯ２−Ｃ１〜Ｃ６−アルキル（例えば−ＣＯ２ＣＨ３）により置換されたフェニルおよびベンジルからなる群から選択される同一または異なる基を２個含むものである。
【００１３】
好ましくは炭素原子を１〜６個含むＰ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ならびにペンチルおよびヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシルおよびジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−、ハロアルコキシ−およびハロゲン−置換のフェニルおよびベンジル置換基の例は、ｏ−、ｍ−またはｐ−フルオロフェニル、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロフェニル、ジフルオロフェニル、ジクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル、および３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００１４】
好ましい第二級ホスフィノ基は、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、ベンジル、および特にフェニル（非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ１〜Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換されていてもよい）からなる群から選択される同一の基を含むものである。置換基：Ｆは、４〜５回存在してもよい。
【００１５】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、好ましくは、互いに独立して式：−ＰＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、炭素原子を１〜１８個有する炭化水素基であり、非置換であるか、またはハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルコキシ、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２アミノ、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉもしくは−ＣＯ２−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルにより置換されており、そして／あるいはヘテロ原子：Ｏを含む）に対応する。
【００１６】
Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、フリル、ノルボルニル、アダマンチル、非置換のベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたベンジル（特に非置換のフェニル）、およびＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ１〜Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００１７】
Ｒ３およびＲ４は、特に好ましくは、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、非置換のフェニル、ならびにＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、および／またはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルキル基１〜３個により置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００１８】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、環状sec−ホスフィノ、例えば、非置換であるか、または−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルフェニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシベンジルオキシ、およびＣ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換されている、式：
【００１９】
【化１０】
【００２０】
で示される基であってもよい。
【００２１】
置換基は、キラル炭素原子を導入するために、Ｐ原子に対してα位の一方または両方で結合していてもよい。α位の一方または両方の置換基は、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはベンジル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたは−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールである。
【００２２】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ベンジルオキシ、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）−Ｏ−であってもよい。幾つかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（フェニル）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−、および−Ｏ−Ｃ（メチル）２−Ｏ−である。
【００２３】
先の式で示される基において、脂肪族５−もしくは６−員環、またはベンゼンは、隣接する炭素原子２個に縮合していてもよい。
【００２４】
他の公知で適切な第二級ホスフィノ基は、環中に炭素原子を７個有する環状キラルホスホランのもの、例えば式：
【００２５】
【化１１】
【００２６】
（式中、芳香族環は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、またはＣ１〜Ｃ４−アルキレンジオキシルにより置換されていてもよい）で示されるものである（ＵＳ２００３／００７３８６８ Ａ１およびＷＯ０２／０４８１６１参照）。
【００２７】
置換の型および置換基の数に応じて、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル、またはＣ−およびＰ−キラルであってもよい。
【００２８】
環状sec−ホスフィノ基は、例えば、式：
【００２９】
【化１２】
【００３０】
（式中、基：Ｒ′およびＲ″は、それぞれＣ１〜Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたは−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールであり、Ｒ′およびＲ″は、同一または異なる）に対応してもよい（可能なジアステレオマーを１種だけ図示した）。Ｒ′およびＲ″が、同じ炭素原子に結合している場合、それらが一緒になって、Ｃ４〜Ｃ５−アルキレン基をなしていてもよい。
【００３１】
好ましい実施形態において、式Ｉで示される化合物中のＸ１およびＸ２は、特に好ましくは、−Ｐ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７〜Ｃ１２−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群から選択される同一または異なる非環式sec−ホスフィノ、あるいは非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、および非置換もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換された、
【００３２】
【化１３】
【００３３】
からなる群から選択される環状ホスフィノである。
【００３４】
具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、および式：
【００３５】
【化１４】
【００３６】
（式中、Ｒ′は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ″は、独立して、Ｒ′の意味の一つを有する）で示される基である。
【００３７】
式Ｉで示される化合物の好ましい実施形態において、Ｒ２は、好ましくはメチルである。式Ｉにおけるｎは、特に好ましくは０であり、言い換えれば、その場合Ｒ２は、水素原子である。
【００３８】
置換基：Ｒ１は、シクロペンタジエニル環中に１〜３回、特に好ましくは１または２回存在してもよい。置換基：Ｒ１の好ましい位置は、３、４および５位である。好ましい置換様式は、３位、５位、ならびに二重置換の場合の３および５位である。
【００３９】
式Ｉで示される特に好ましい実施形態において、置換基は、５位で結合され、この置換基は、かさ高な置換基（例えば、分枝状アルキル、置換された直鎖状もしくは分枝状アルキル、トリメチルシリル、または置換もしくは非置換の環状置換基［（ヘテロ）シクロアルキルまたは（ヘテロ）アリール］である。
【００４０】
置換基：Ｒ１は、アキラルであってもよく、または少なくとも１個の不斉炭素原子を含んでいてもよい。不斉炭素原子は、好ましくはＲ１が結合するシクロペンタジエニル環中の炭素原子に関してα、βまたはγ位に位置する。
【００４１】
置換基：Ｒ１は、１個以上の置換基、例えば１〜３個の置換基、好ましくは１または２個の置換基、例えばハロゲン（Ｆ、ＣｌまたはＢｒ、特にＦ）、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＮ、−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−Ｒ０３、−Ｐ（ＯＲ０３）２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ０３）２、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−Ｓ（Ｏ）−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ０４、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシ（式中、Ｒ０１およびＲ０２は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジルであるか、またはＲ０１およびＲ０２が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンタン−１，５−ジイルを形成しており、Ｒ０３は、水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、Ｒ０４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１２−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４−ヒドロキシアルキル、Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール（例えばフェニルまたはナフチル）またはＣ７〜Ｃ１２−アラルキル（例えばベンジル）である）により置換されていてもよい。２個の置換基は、環状置換基中で結合する炭素原子と一緒になって、飽和または不飽和の脂肪族または芳香族炭化水素環または複素環（縮合環および／または架橋環）も形成している。
【００４２】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ１〜Ｃ１２−アルキル（好ましくはＣ１〜Ｃ８−アルキル、特に好ましくはＣ１〜Ｃ４−アルキル）、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル（好ましくはＣ２〜Ｃ８−アルケニル、特に好ましくはＣ２〜Ｃ４−アルケニル）であってもよい。例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ならびにペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルおよびドデシルの異性体、ならびにビニルおよびプロペニルである。
【００４３】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ８−シクロアルキルであってもよい。例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシルおよびシクロドデシルである。
【００４４】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキルアルキルであってもよい。例は、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、およびシクロオクチルメチルである。
【００４５】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ６〜Ｃ１８−アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ１０−アリールであってもよい。例は、フェニル、ナフチル、アントラセニルおよびフェナントリルである。
【００４６】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２−アラルキル（例えば、ベンジルまたは１−フェニルエタ−２−イル）であってもよい。
【００４７】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばトリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉまたはトリフェニルシリルであってもよい。トリアルキルシリルの例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリルおよびジメチル−ｔ−ブチルシリルである。
【００４８】
置換基：Ｒ１は、例えばハロゲンであってもよい。例は、Ｆ、ＣｌおよびＢｒである。
【００４９】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、式：−ＳＲ０５、−Ｓ（Ｏ）Ｒ０５、および−Ｓ（Ｏ）２Ｒ０５（式中、Ｒ０５は、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ８−アルキル、特に好ましくはＣ１〜Ｃ４−アルキル；Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキル；Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ１０−アリール；またはＣ７〜Ｃ１２−アラルキルである）で示されるチオ基、またはスルホキシドもしくはスルホン基であってもよい。これらの炭化水素基の例は、先に列挙した。
【００５０】
置換基：Ｒ１は、例えば、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、または−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールであってもよい。
【００５１】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−ＣＯ２Ｒ０３または−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２基（式中、Ｒ０１、Ｒ０２およびＲ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５２】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、および−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ０１Ｒ０２基（式中、Ｒ０１、Ｒ０２およびＲ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５３】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｐ（ＯＲ０３）２または−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ０３）２基（式中、Ｒ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５４】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２または−Ｐ（Ｓ）（ＯＲ０３）２基（式中、Ｒ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５５】
置換基：Ｒ１の好ましい群において、これらは、置換または非置換のＣ１〜Ｃ６−アルキル、置換または非置換のフェニルまたはナフチル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン（特に、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、−ＳＲ０６、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨＲ０６ＯＨ、−ＣＲ０６Ｒ′０６ＯＨ、−ＣＨ２Ｏ−Ｒ０６、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒ０６（式中、Ｒ０６は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基である）、および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２（式中、Ｒ０３は、先に定義したとおりである）から選択される。
【００５６】
置換または非置換の置換基：Ｒ１の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−およびｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、ジシクロヘキシルメチル、フェニル、ナフチル、ベンジル、ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリメチルシリル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、メチルチオ、メチルスルホニル、メチルスルホキシル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルホキシル、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ３、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ２Ｈ５、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣＨ３、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＳＯ３Ｈ、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣ２Ｈ５、−Ｓ（Ｏ）２−ＯＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）２−ＯＣ２Ｈ５、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＨＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｎ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ＯＨ）２、−ＰＯ（ＯＨ）２、−Ｐ（ＯＣＨ３）２、−Ｐ（ＯＣ２Ｈ５）２、−ＰＯ（ＯＣＨ３）２、−ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）２、トリフルオロメチル、メチルシクロヘキシル、メチルシクロヘキシルメチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチル、γ−ヒドロキシプロピル、Ｃ６Ｈ５ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ６Ｈ５ＣＨ（ＯＣＨ３）−、ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）−、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）−、Ｃ２Ｈ５ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ２Ｈ５ＣＨ（ＯＣＨ３）−、（ＣＨ３）２Ｃ（ＯＨ）−、（ＣＨ３）２Ｃ（ＯＣＨ３）−、−ＣＨ２ＮＨ２、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、ＨＳ−ＣＨ２−、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３Ｓ−ＣＨ２−、ＣＨ３Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ、−ＣＨ２−ＳＯ３ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＳＯ３ＣＨ３、−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ２、−ＣＨ２−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２−ＰＯ３Ｈ２、−ＣＨ２ＣＨ２−ＰＯ３Ｈ２、−ＣＨ２−ＰＯ（ＯＣＨ３）、−ＣＨ２ＣＨ２−ＰＯ（ＯＣＨ３）２、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−Ｃ６Ｈ４−Ｓ（Ｏ）２ＯＨ、−Ｃ６Ｈ４−Ｓ（Ｏ）２ＯＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）２、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）２、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）２、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）２、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、ならびに−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールである。
【００５７】
式Ｉで示される好ましい化合物は、式Ｉａ：
【００５８】
【化１５】
【００５９】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり、
Ｒ１は、炭素原子またはＳｉ原子を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基である）
で示されるラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体に対応する。
【００６０】
例示の目的で、他の鏡像異性体の式Ｉｂを示す。
【００６１】
【化１６】
【００６２】
（ここでの表現は、後の式に同様に適用される）
【００６３】
式Ｉａで示される化合物において、Ｒ１は、好ましくは、置換もしくは非置換の直鎖状もしく分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ１８−アリール、置換もしくは非置換のＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ−、トリフェニルシリル、またはＦ、ＣｌおよびＢｒである。
【００６４】
式Ｉで示される化合物は、置換基が導入される位置に応じて、様々な方法で製造することができる。シクロペンタジエニル（以後、短縮してｃｐと呼ぶ）基中の基：Ｘ１に対してオルト位は、３位である。ｃｐ基における基：−ＣＨ２Ｘ２に対してオルト位は、５位である。４位は、３位と５位の間に位置する。
【００６５】
中心の前駆体（central precursor）は、式II：
【００６６】
【化１７】
【００６７】
（式中、
Ａ１は、開鎖または環状、アキラルsec−アミノまたはキラルsec−アミノであり、その少なくとも１個の炭素原子は、好ましくはＮ原子に対してα、βまたはγ位で、ジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）アミノまたはＣ１〜Ｃ４−アルコキシにより置換されている）で示される化合物であり、それは、オルト位の一方で選択的に金属化(metallate)され、その後、更に修飾することができる。式IIで示される化合物の幾つかは、公知であるか［I. Fleischer et al. Coll. Czech. Chem. Comm., 69(2), (2004), p330-338およびW. Weissensteiner et al. J. Org. Chem. 66, (2001), p8912-8919］、または公知の方法と同様の方法で製造することができる。
【００６８】
開鎖または環状sec−アミノ基：Ａ１は、式：Ｒ５Ｒ６Ｎ−（式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキルであるか、またはＮ原子と一緒になって、３〜８員、好ましくは５〜８員Ｎ−複素環を形成しており、Ａ１が、キラルsec−アミノである場合には、Ｒ５およびＲ６の少なくとも一方、ならびに／または複素環は、Ｏ−またはＮ−含有置換基を含む）に対応してもよい。
【００６９】
好ましくは直鎖状であるアルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルである。シクロアルキルの例は、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロオクチルである。シクロアルキルの例は、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。sec−アミノが、Ｎ−複素環を形成する場合、Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、好ましくは、テトラメチレン、ペンタメチレン、３−オキサペンチレンまたは３−（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｎ−ペンチレンをなしている。適切な置換基は、例えば、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルおよび（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルである。置換基は、例えばsec−アミノ基のＮ原子に対してγ位に、好ましくはαまたはβ位に位置する。Ｒ５およびＲ６は、更に、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルにより置換されていてもよい。
【００７０】
好ましい実施形態において、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ、メチル、エチル、シクロヘキシルであるか、またはＲ５およびＲ６が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンチレンをなしており、それぞれが、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルおよび（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルにより、そして所望なら更にＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルにより置換されている。
【００７１】
Ａ１の特に好ましい例は、式：
【００７２】
【化１８】
【００７３】
（式中、Ｓは、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルまたは（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルであり、「＊」は、不斉中心を表す）で示されるsec−アミノ基である。
【００７４】
式Ｉで示される化合物の全ての置換様式を含む可能な製造方法は、以下の２種の反応スキーム１および２に示される。
【００７５】
スキーム１：４および５位における基の導入
【００７６】
【化１９】
【００７７】
スキーム２：３、４および５位における基の導入
【００７８】
【化２０】
【００７９】
臭素の代わりに、ヨウ素を用いることもできる。
【００８０】
上記式中のＲ１′およびＲ１″は、互いに独立して、Ｒ１と同じ意味を有する。
【００８１】
ステップａ）：Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位における置換基の導入
最初に、金属化試薬（例えばアルキルリチウム）を用いて金属化を実施し、次に金属化生成物を求電子性化合物と反応させる。
【００８２】
ステップｂ）：Ｈまたは置換基によるＢｒまたはＩの置換
例えばアルキルリチウムを用いた金属化の後、金属化生成物を水（Ｈの導入）または求電子性化合物のいずれかと反応させる。基：Ｒ１を導入する触媒的方法、例えばSuzukiカップリングおよびHeck反応も公知である。
【００８３】
ステップｃ）：ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）に対してオルト位における置換基の導入
更なる工程ステップにおいて、ハロゲンに対してオルト位を、Ｌｉアミドにより選択的にリチウム化し、その後、適切な求電子性物質との反応により、所望の置換基を第２の工程ステップで導入する。
【００８４】
ステップｄ）：Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位におけるＸ１の導入
最初に、金属化試薬（例えばアルキルリチウム）を用いて金属化を実施し、次にリチウム化生成物をハロゲン：Ｘ１と反応させる。
【００８５】
ステップｅ）：Ｘ２によるＡ１の置換
第二級ホスフィン（好ましくは式：Ｒ３Ｒ４ＰＨで示されるもの）を用い、それ自体が公知の手法で、基：Ａ１を置換する。
【００８６】
ステップｆ）：Ｘ１によるＢｒまたはＩの置換
例えばアルキルリチウムを用いた金属化の後、金属化生成物をハロゲン：Ｘ１と反応させる。
【００８７】
反応順序によるが、導入された置換基は、第二級ホスフィノ基によるＡ１の置換の際に、金属化試薬に対し、そして／または反応条件下で不活性であるべきである。別の可能性は、公知の保護基使用であり、それにより選択される反応条件に感受性がある基を分離することができる。
【００８８】
ステップｃ）以外の各工程ステップは公知であり、文献に広範に記載されている。
【００８９】
フェロセンの金属化は、例えば、W. Weissensteiner et al., J. Org. Chem., 66(2001)8912-9, W Weissensteiner eｔ al., Synthesis 8(1999), pages 1354-1362, T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53(1980), pages 1138-1151またはJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis(Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamom Press(2002)に記載された公知の反応を必要とする。アルキルリチウム中のアルキルは、例えば、炭素原子を１〜４個含むことができる。多くの場合、メチルリチウムおよびブチルリチウムを使用する。マグネシウムGrignard化合物は、好ましくは式（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）ＭｇＸ０（式中、Ｘ０は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）の１種である。
【００９０】
反応は、有利には低温で、例えば２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で実施する。反応時間は、約２〜２０時間である。反応は、有利には不活性保護気体（例えば窒素）または貴ガス（例えばアルゴン）の下で実施する。
【００９１】
反応は、有利には不活性溶媒の存在下で実施する。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素、ならびに開鎖または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルまたはジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンである。
【００９２】
ハロゲンの導入は、一般に、同様の反応混合物中での金属化の後、金属化と類似の反応条件を保持しながら、直ちに実施する。好ましくは、１〜１．４当量のハロゲン化試薬を用いることができる。ハロゲン化試薬は、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩを導入するためのハロゲン（Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２）、インターハロゲン（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ３Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ２Ｃ−ＣＦ２Ｂｒ）；またはフッ素を導入するためのＮ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミンである。
【００９３】
Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位における金属化および求電子性物質の導入は、位置選択的に進行し、中間体が高収率で得られる。反応は、キラル基：Ａ１ＣＨ２−の存在下では立体選択的でもある。更に必要であれば、この段階で、例えばキラルカラムを用いたクロマトグラフィーにより、光学異性体を分離することが可能である。
【００９４】
工程ステップｃ）において、ハロゲン原子に対してオルト位の酸性Ｈ原子を置換するのに十分な金属アミドを用いて、同じシクロペンタジエニル環のハロゲン原子に対してオルト位で、フェロセン骨格を再度、位置選択的に金属化する。フェロセンのシクロペンタジエニル環中のＣＨ基あたり、少なくとも１〜５当量の脂肪族リチウムsec−アミドまたはＣｌＭｇ sec−アミド、ＢｒＭｇ sec−アミドもしくはＩＭｇ sec−アミドが用いられる。
【００９５】
脂肪族リチウムsec−アミドまたはハロゲンＭｇ sec−アミドは、炭素原子を２〜１８個、好ましくは２〜１２個、特に好ましくは２〜１０個含む第二級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合した脂肪族基は、アルキル、シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキルであってもよく、または炭素原子を４〜１２個、好ましくは５〜７個有するＮ−複素環であってもよい。Ｎ原子に結合する基の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｍ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよびアザノルボルナンである。好ましい実施形態において、アミドは、式：Ｌｉ−Ｎ（Ｃ３〜Ｃ４−アルキル）２またはＸ２Ｍｇ−Ｎ（Ｃ３〜Ｃ４−アルキル）２（式中、アルキルは、特にｉ−プロピルである）に対応する。別の好ましい実施形態において、アミドは、Ｌｉ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）に対応する。
【００９６】
基：Ｒ１を形成するための反応性求電子性化合物の例は：
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを導入するためのハロゲン（Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２）、インターハロゲン（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ３Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ２Ｃ−ＣＦ２Ｂｒ、Ｎ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミン）；カルボキシル基：−ＣＯ２Ｈを導入するためのＣＯ２；
カルボキシラート基を導入するためのクロロカルボナートまたはブロモカルボナート［Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ］（式中、Ｒは、炭素原子を１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個有し、非置換であるか、または不活性置換基（例えばsec−ホスフィノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ１〜Ｃ８−アルキルもしくは−ＯＣ１〜Ｃ８−アルキル（金属または金属基に対してより反応性がある基、例えば−ＣＨＯが、式Ｉで示される化合物中に同時に存在する場合、またはＣｌとＢｒ、ＣｌとＩ、またはＢｒとＩが、好ましくは芳香族炭化水素基中の結合形態に同時に存在する場合、不活性置換基は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩなどの反応性基も含む）により置換された炭化水素基（アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、へテロアラルキル）である）；
基：−ＣＨ（Ｏ）を導入するためのジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）ホルムアミド、例えばジメチルホルムアミドまたはジエチルホルムアミド；
−Ｃ（Ｏ）−Ｒ基を導入するためのジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）カルボキシアミド；
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ基を導入するための、非置換であるか、もしくは基：Ｒ中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよいアルデヒド、または−ＣＨ２ＯＨ基を導入するためのパラホルムアルデヒド；
−Ｃ（ＯＨ）ＲＲａ基（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲａが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成している）を導入するための、非置換であるか、またはＲもしくはＲａ基中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよい対称または非対称ケトン；
−Ｃ−Ｃ−ＯＨ基（式中、Ｃ原子は、ＨまたはＲにより置換されていてもよい）を導入するためのエポキシド；
式：（ＣＨ３）２Ｎ＋＝ＣＨ２ｘｌ−で示されるEschenmoser塩；
基：−ＣＨ（Ｒ）−ＮＨＲａ（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲａが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成し、ＲおよびＲａは、同時に水素にはならない）を導入するためのイミン：Ｒ−ＣＨ＝Ｎ−Ｒａ；
基：−Ｃ（Ｒ）（Ｒｂ）−ＮＨＲａ（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲ′が一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成し、Ｒｂは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲｂが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成している）を導入するためのイミン：Ｒ−Ｃ（Ｒｂ）＝Ｎ−Ｒａ；
炭化水素およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ１４−アラルキル）を導入するための、モノハロゲン化炭化水素およびモノハロゲン化へテロ炭化水素（特に、塩化物、臭化物およびヨウ化物）；
炭化水素およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ１４−アラルキル）を導入するための、反応性が異なるハロゲン原子（特に、塩素原子と臭素原子またはヨウ素原子の組合わせ、臭素原子とヨウ素原子または２個の臭素原子またはヨウ素原子の組合わせ）を有するハロ炭化水素およびハロへテロ炭化水素；
アリールおよびヘテロアリール基を導入するためのアリールホウ酸；
アルケニル基（例えばアリルおよびビニル）を導入するためのハロゲン化（特に、塩化、臭化およびヨウ化）アルケニル；
トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｓｉ−基を導入するためのハロゲン化（特に、塩化、臭化）トリ（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）シリル；
トリフェニルシリル基を導入するためのハロゲン化トリフェニルシリル；
ホスホン酸エステル基（例えば、（ＣＨ３Ｏ）２（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）２（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）２（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−）を導入するためのモノハロゲン化（塩化、臭化）リン酸エステル；
ホスホン酸チオエステル基（例えば（ＣＨ３Ｏ）２（Ｓ）Ｐ−、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）（Ｓ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）２（Ｓ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｓ）Ｐ−）を導入するためのモノハロゲン化（塩化、臭化）リン酸チオエステル；
−ＳＲ基を導入するための有機ジスルフィド：Ｒ−ＳＳ−Ｒ；ならびに
−ＳＨ基を導入するための硫黄（Ｓ８）、
である。求電子性物質中の有機基は、前記のとおり置換されていてもよい。
【００９７】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である（E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,およびB. Cornils et al., Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds, Volume 1,Second Edition, Wiley VCH-Verlag (2002)参照）。
【００９８】
本発明の式Ｉで示される化合物は、不斉合成（例えば、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化）のための優れた触媒または触媒前駆体である、周期表の遷移金属、好ましくはＴＭ８金属の群、特に好ましくはＲｕ、ＲｈおよびＩｒからなる群から選択される金属の錯体のための配位子である。プロキラル不飽和有機化合物が用いられる場合、非常に高過剰の光学異性体を有機化合物の合成で誘導することができ、高度の化学的変換を短い反応時間で実現することができる。実現し得るエナンチオ選択性および触媒活性は、優れており、不斉水素化においては、冒頭で述べた公知の非置換配位子の場合よりもかなり高い。その上、そのような配位子は、他の不斉添加または環化反応にも用いることができる。
【００９９】
本発明は、更に、周期表の遷移金属の群から選択される金属と、配位子としての式Ｉで示される化合物の一種との錯体を提供する。
【０１００】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。好ましい金属は、ロジウムおよびイリジウム、ならびにルテニウム、白金、パラジウムおよび銅である。
【０１０１】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【０１０２】
金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に応じて、更なる配位子および／または陰イオンを含むことができる。それらは、陽イオン性金属錯体であってもよい。そのような類似の金属錯体およびそれらの製造は、文献に広範に記載されている。
【０１０３】
金属錯体は、例えば、一般式IIIおよびIV：
【０１０４】
【化２１】
【０１０５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子であればｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子であればｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、金属は、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
陰イオン性配位子は、金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に対応する。
【０１０６】
上記の好適さおよび実施形態が、式Ｉで示される化合物に関して適用される。
【０１０７】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒和性溶媒（ニトリル、直鎖状または環状エーテル、非アルキル化またはＮ−アルキル化アミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素、および一酸化炭素からなる群から選択することができる。
【０１０８】
適切な多座陰イオン性配位子は、例えば、アリル（アリル、２−メタリル）、シクロペンタジエニルまたは脱プロトン化１，３−ジケト化合物、例えばアセチルアセトナートである。
【０１０９】
単座陰イオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアニド、シアナート、イソシアナート）、ならびにカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸の陰イオン（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）からなる群から選択することができる。
【０１１０】
二座非イオン性配位子は、例えば、直鎖状または環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノジニトリル）、非アルキル化またはＮ−アルキル化カルボン酸ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルからなる群から選択することができる。
【０１１１】
二座陰イオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）からなる群から選択することができる。
【０１１２】
好ましい金属錯体は、Ｅが、−Ｃｌ−、−Ｂｒ−、−Ｉ−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−、テトラアリールボラート（例えば、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−およびＢ（４−メチルフェニル）４−）、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−またはＳｂＦ６−であるものも包含する。
【０１１３】
水素化に特に適した特に好ましい金属錯体は、式ＶおよびVI：
【０１１４】
【化２２】
【０１１５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｍｅは、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙ１は、２種のオレフィンまたは１種のジエンであり；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ１−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンである）に対応する。
【０１１６】
先に記載した実施形態および好適さは、式Ｉで示される化合物に適用される。
【０１１７】
オレフィン：Ｙ１は、Ｃ２〜Ｃ１２−オレフィン、好ましくはＣ２〜Ｃ６−オレフィン、特に好ましくはＣ２〜Ｃ４−オレフィンであってもよい。例は、プロペン、１−ブテンであり、特にエチレンである。ジエンは、炭素原子を５〜１２個、好ましくは５〜８個有していてもよく、開鎖、環状、または多環式ジエンであってもよい。ジエンのオレフィン基２個は、好ましくは、ＣＨ２基１または２個に結合している。例は、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエン、およびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、エチレン２分子、または１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンもしくはノルボルナジエンである。
【０１１８】
式Ｖにおいて、Ｚは、好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ１の例は、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−、またはＳｂＦ６−である。
【０１１９】
本発明の金属錯体は、文献で知られる方法により製造される（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto(Eds), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、および本明細書に引用された参考文献も参照）。
【０１２０】
ルテニウム錯体は、例えば、式VII：
【０１２１】
【化２３】
【０１２２】
（式中、
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ３は、式Ｉで示される化合物であり；Ｌは、同一もしくは異なる配位子を表し；Ｅ−は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位が可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり、ｂは、０〜４であり、ｃは、０〜６であり、ｄは、１〜３であり、ｅは、０〜４であり、ｆは、１〜３であり、ｇは、１〜４であり、ｈは、０〜６であり、ｋは、１〜４であり、錯体の電荷の合計は、０である）に対応してもよい。
【０１２３】
Ｚ、Ａ３、ＬおよびＥ１−に関して先に示した好適さが、式VIIで示される化合物に適用される。配位子：Ｌは、更に、アレーンまたはヘテロアレーン（例えば、ベンゼン、ナフタレン、メチルベンゼン、キシレン、クメン、１，３，５−メシチレン、ピリジン、ビフェニル、ピロール、ベンゾイミダゾールまたはシクロペンタジエニル）およびLewis酸官能基を有する金属塩（例えば、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＴｉＣｌ４およびＳｎＣｌ４）であってもよい。溶媒配位子は、例えば、アルコール、アミン、酸アミド、ラクタムおよびスルホンであってもよい。
【０１２４】
この種の錯体は、以下に挙げた文献およびその中に引用された参考文献に記載されている：
【表１】
【０１２５】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である。
【０１２６】
金属錯体は、例えば、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に用いることができる。可溶性均一金属錯体を用いるそのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138(1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含む。本発明によれば、好ましくは、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムの金属錯体が、水素化に用いられる。
【０１２７】
本発明は、更に、キラル有機化合物を製造するため、好ましくはプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に水素を不斉付加するための均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１２８】
本発明は、少なくとも１種の本発明の金属錯体の触媒量の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下、プロキラル有機化合物中で炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に水素を不斉付加することにより、キラル有機化合物を製造する方法も提供する。
【０１２９】
水素化される好ましいプロキラル不飽和化合物は、開鎖または環状有機化合物中に同一または異なる基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを１個以上含んでいてもよく、ここで、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏは、環系の一部または環外基であってもよい。プロキラル不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン、開鎖または環状ケトン、α，β−ジケトン、αまたはβ−ケトカルボン酸、ならびにそれらのα，β−ケトアセタールまたは−ケトケタール、エステル、アミド、ケチミン、およびケトヒドラゾン（kethydrazones）であってもよい。
【０１３０】
不飽和有機化合物の幾つかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換またはＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン、非置換または置換ベンゾシクロヘキサノンまたはベンゾシクロペンタノンおよび対応するイミン、非置換または置換されたテトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジンおよびジヒドロピロールからなる群からのイミン、ならびに不飽和カルボン酸、エステル、アミドおよび塩、例えばα−および（適切ならば）β−置換アクリル酸またはクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【０１３１】
【化２４】
【０１３２】
（式中、Ｒ１０１は、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６−アルキル１〜４個により置換されたＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシまたはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、あるいは非置換のＣ６〜Ｃ１０−アリール（好ましくはフェニル）またはＣ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシもしくはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜４個により置換されたＣ６〜Ｃ１０−アリール（好ましくはフェニル）であり、Ｒ１０２は、それぞれの場合に、非置換であるか、または先に定義したとおり置換されていてもよい、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６−アルキル（例えばイソプロピル）、またはシクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、または保護アミド（例えばアセチルアミノ）である）で示されるもの、ならびにその塩、エステルおよびアミドである。
【０１３３】
本発明の方法は、低温または高温、例えば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃の温度で実施してもよい。光学収率は、一般に高温よりも比較的低温で良好である。
【０１３４】
本発明の方法は、大気圧または超大気圧で実施することができる。圧力は、例えば、１０５〜２×１０７Ｐａ（パスカル）であってもよい。水素化は、大気圧または超大気圧で実施することができる。
【０１３５】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは０．００１〜１０モル％、特に０．０１〜５モル％の量で用いる。
【０１３６】
配位子および触媒の製造、ならびに水素化は、溶媒の非存在下または不活性溶媒の存在下で実施することができ、溶媒１種または溶媒の混合物を用いることができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、およびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルまたはエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチルまたはメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換のラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキシアミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）、スルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）、アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル）、および水である。溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。
【０１３７】
反応は、共触媒、例えば第四級ハロゲン化アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下、および／またはプロトン酸（例えば鉱酸）の存在下で実施してもよい（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、およびＥＰ−Ａ−０，６９１，９４９参照）。同じく、１，１，１−トリフルオロエタノールなどのフッ素化アルコールの存在が、触媒反応を促進することができる。
【０１３８】
触媒として用いられる金属錯体は、別個に製造して単離した化合物として添加してもよいが、またはそれを反応の前にその場で形成させ、その後、水素化する基質と混合してもよい。単離した金属錯体を用いた反応では更なる配位子を添加することが有利となり得るが、またはそのものの位置で製造する場合には、過剰の配位子を用いることが有利となり得る。過剰は、製造に用いる金属化合物に基づいて、例えば１〜６モル、好ましくは１〜２モルであってもよい。
【０１３９】
本発明の方法は、好ましくは触媒を充填し、その後、基質と、所望なら反応助剤および追加の化合物を添加し、次に反応を開始することにより実施される。追加の気体化合物、例えば水素またはアンモニアは、好ましくは圧力下で導入する。方法は、様々な型の反応器で、連続式またはバッチ式で実施してもよい。
【０１４０】
本発明により製造され得るキラル有機化合物は、特に調味料、香料、医薬品および農薬の製造の分野の、そのような物質を製造するための活性物質または中間体である。
【０１４１】
以下の実施例は、本発明を例示している。
【０１４２】
Ａ）置換されたフェロセンジホスフィンの製造
略語：Ｍｅはメチルであり、Ｅｔはエチルであり、Ｂｕはブチルであり、Ｐｈはフェニルであり、Ｃｙはシクロヘキシルであり、Ｘｙｌは３，５−ジメチルフェン−１−イルであり、ＰＥは石油エーテルであり、Ｅｔ２Ｏはジエチルエーテルであり、ｎｂｄはノルボルナジエンであり、ＣＯＤはシクロオクタジエンである。
【０１４３】
実施例Ａ１：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ１）の製造
【０１４４】
【化２５】
【０１４５】
ａ）化合物（１）の製造
化合物（１）は文献：I. Feischer, S. Toma, Coll. Czech. Chem. Comm., 69(2), (2004)330-338に記載されている。
【０１４６】
ｂ）（１Ｒ，２Ｓ，Ｓｐ）−Ｎ−（１−ジフェニルホスフィノ−３−メチルフェロセン−２−イルメチル）−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１−フェニルプロパ−２−イルアミン（２）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）６．６ml（８．５mmol）を、無水ジエチルエーテル８０ml中の化合物（１）２．７８ｇ（７．１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を−７８℃で１時間、そして−３０℃で４０分間撹拌した。続いて、ＣｌＰＰｈ２ １．９２ml（１０．６mmol）を添加した。−３０℃での１時間後に、混合物を室温で更に１６時間撹拌した。１Ｍ水性ＮａＯＨ溶液を添加して反応を停止させた。水相をジエチルエーテルで抽出し、その後、ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（１０：１）］で精製した。これにより、化合物（２）を黄色固体として得た（３ｇ、５．２mmol、理論値の７３％）。
【表２】
【０１４７】
ｃ）表題化合物Ａ１の製造
ＨＰＣｙ２ ０．４３ml（２．０９mmol）を、酢酸１２ml中の化合物（２）１ｇ（１．７４mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（４０：１：０．４）］で精製した。これにより、表題化合物：Ａ１を黄色固体として得た（０．８５ｇ、１４．３mmol、理論値の８２％）。
【表３】
【０１４８】
実施例Ａ２：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ２）の製造
ＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２ ０．４８ml（２．６１mmol）を、酢酸１２ml中の化合物（２）１ｇ（１．７４mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（４０：１：０．１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色固体として得た（０．７１ｇ、１３．１mmol、理論値の７５％）。
【表４】
【０１４９】
実施例Ａ３：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ３）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（０．７ｇ、２．９０mmol）の溶液２．８９mlを、酢酸１３ml中の化合物（２）１．１１ｇ（１．９３mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５：１）］で精製した。これにより、表題化合物を黄色固体として得た（０．７７ｇ、１２．１mmol、理論値の６３％）。
【表５】
【０１５０】
実施例Ａ４：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−フェニルフェロセンの製造
【０１５１】
【化２６】
【０１５２】
ａ）化合物（３）の製造
化合物（３）は文献：W. Weissensteiner et al., J. Org. Chem., 66(2001) 8912-9に記載されている。
【０１５３】
ｂ）化合物（４）の製造
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４ ０．６６ｇ（０．５mmol）を、室温で、トルエン１２５ml中の化合物（３）６．６５ｇ（１３．２mmol）と、エタノール１４ml中のフェニルホウ酸３．２２ｇ（２６．４mmol）と、２Ｍ水性Ｎａ２ＣＯ３溶液２７．７mlとの脱気混合物に添加した。反応混合物をもう一度脱気して、１６時間還流した。混合物を放冷して有機相を分別し、その後、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：３：１）］で精製した。これにより、化合物（４）を黄色油状物として得た（３．０ｇ、６．２mmol、理論値の５０％）。
【表６】
【０１５４】
ｃ）化合物（５）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）３．８ml（４．９mmol）を、０℃の無水ジエチルエーテル１５ml中の化合物（４）１．７ｇ（３．８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を０℃で２時間撹拌した。それにＣｌＰＰｈ２ １．３９ｇ（６．２９mmol）を添加し、混合物を０℃で更に１時間、続いて室温で１６時間撹拌した。水を添加して、水相をジクロロメタンで抽出した。ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：１：１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色泡状物として得た（１．６２ｇ、２．５４mmol、理論値の６８％）。
【表７】
【０１５５】
ｄ）表題化合物（Ａ４）の製造
ＨＰＣｙ２ ０．４３ml（２．１２mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（５）０．９ｇ（１．４１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色固体として得た（０．６８ｇ、１．０４mmol、理論値の７４％）。
【表８】
【０１５６】
実施例Ａ５：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−フェニルフェロセン（Ａ５）の製造
酢酸（１０％）中のＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２の溶液５．２ml（２．８２mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（５）１．２ｇ（１．８８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物（Ａ５）を黄色固体として得た（０．８６ｇ、１．４２mmol、理論値の７４％）。
【表９】
【０１５７】
実施例Ａ６：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノメチル−３−フェニルフェロセン（Ａ６）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（０．６ｇ、２．４９mmol）の溶液２．４８mlを、酢酸１３ml中の化合物（５）０．８６ｇ（１．７１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（１０：１）］で精製した。これにより、表題化合物（Ａ６）を黄色固体として得た（０．７ｇ、１．０mmol、理論値の５９％）。
【表１０】
【０１５８】
実施例Ａ７：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ７）の製造
【０１５９】
【化２７】
【０１６０】
ａ）化合物（６）の製造
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４ ０．１２ｇ（０．１mmol）を、室温で、トルエン２０ml中の化合物３ １．０ｇ（２mmol）と、エタノール３ml中の（３，５−ジメチルフェン−１−イル）ホウ酸０．６ｇ（４mmol）と、２Ｍ水性Ｎａ２ＣＯ３溶液４．２mlとの脱気混合物に添加した。反応混合物をもう一度脱気して、１６時間還流した。混合物を放冷して有機相を分別し、その後、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（２０：１：０．２）］で精製した。これにより、化合物（６）を黄色油状物として得た（０．８ｇ、１．６mmol、理論値の８０％）。
【表１１】
【０１６１】
ｂ）化合物（７）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）５．８ml（７．６mmol）を、０℃の無水ジエチルエーテル３５ml中の化合物（６）２．８ｇ（５．８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を０℃で２時間撹拌した。それにＣｌＰＰｈ２ １．９３ｇ（８．７mmol）を添加し、その後、混合物を０℃で更に１時間、続いて室温で１６時間撹拌した。水を添加して、水相をジクロロメタンで抽出した。ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：１：０．３）］で精製した。これにより、化合物（７）を黄色泡状物として得た（３．２５ｇ、４．８８mmol、理論値の８４％）。
【表１２】
【０１６２】
ｃ）表題化合物（Ａ７）の製造
ＨＰ（Ｃ６Ｈ１１）２ ０．４８ml（２．３９mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（７）１．０６ｇ（１．５９mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を黄色泡状物として得た（０．６２ｇ、１．０４mmol、理論値の５７％）。
【表１３】
【０１６３】
実施例Ａ８：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ８）の製造
酢酸（１０％）中のＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２の溶液３．３ml（１．８０mmol）を、酢酸１０ml中の化合物（７）０．７５ｇ（１．１２mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を橙色泡状物として得た（０．６ｇ、０．９５mmol、理論値の８５％）。
【表１４】
【０１６４】
実施例Ａ９：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルホスフィノ）メチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ９）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（５４mg、０．２２mmol）の溶液０．２mlを、酢酸５ml中の化合物（７）０．１ｇ（０．１５mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（３０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を橙色泡状物として得た（５０mg、０．０７mmol、４６％）。
【表１５】
【０１６５】
Ｂ）金属錯体の製造
【０１６６】
実施例Ｂ１：
［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４ ５．１mg（０．０１３６mmol）および実施例Ａ６からの配位子Ａ１ １０．４mg（０．０１６３mmol）を、磁器撹拌機を取付けたSchlenk管に計量して入れ、真空およびアルゴンで空気を排出させた。脱気メタノール０．８mlを撹拌しながら添加した後、金属錯体の橙色溶液（触媒溶液）を得た。均一なＣ２−対称錯体が形成された。
【０１６７】
Ｃ）使用例
【０１６８】
実施例Ｃ１：不飽和化合物の水素化
水素化の実施方法および光学収率：ｅｅの測定は、W. Weissensteiner et al. Organometallics 21(2002), p1766-1774の一般用語に記載されている。触媒は、溶媒中で配位子と触媒前駆体としての金属錯体（＝他に断りがなければ［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４）とを混合することにより、「そのものの位置で」製造した。他に断りがなければ、基質濃度は０．２５mol/lであり、金属に対する基質のモル比は２００であり、金属に対する配位子のモル比は１．０５であった。
【０１６９】
水素化：
基質：ＭＡＣおよびＤＭＩの反応条件
金属に対する基質のモル比＝２００；触媒前駆体＝［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４;溶媒＝ＭｅＯＨ；水素圧＝１バール；温度＝２５℃；反応時間１時間。
【０１７０】
【化２８】
【０１７１】
基質：ＭＥＡの反応条件
金属に対する基質のモル比＝１００；触媒前駆体＝［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］２;溶媒＝トルエン；添加：Ｉｒ １当量あたりヨウ化テトラブチルアンモニウム２当量およびトルエン１０mlあたりトリフルオロ酢酸０．０３ml；水素圧＝８０バール；温度＝２５℃；反応時間＝１６時間。
【０１７２】
【化２９】
【０１７３】
水素化の結果を、以下の表１に報告する。「ｅｅ」は、鏡像体過剰率である。配置をカッコ内に示す。表１の比較の配位子および置換された配位子での結果から、置換が予期しないことには配置に影響を及ぼし、配置を反転させ得ることが理解できる。その上、置換基を導入した場合の光学収率の上昇が理解できる。
【０１７４】
比較の配位子：Ｃ１、Ｃ２およびＣ３の構造を以下に示す。
【０１７５】
【化３０】
【０１７６】
【表１６】
【０１７７】
実施例Ｃ２：Ｎ−（２′−メチル−６′−エチルフェン−１′−イル）−１−メトキシメチルエチルアミンの製造
［Ｉｒ（シクロオクタジエン）Ｃｌ］２ １．６５mg、配位子２．８mg、ヨウ化テトラブチルアンモニウム７０mgおよび酢酸１０mlを、オートクレーブ内でイミン（１）１０５ｇに添加した。条件は、イリジウムに対する基質の比１０００００に対応した。オートクレーブを閉じて、アルゴンでフラッシュした。その後、水素をでラッシュすることによりアルゴンを置換して、オートクレーブを水素（８０バール）で加圧した。撹拌器を入力することにより、水素化を開始した。水素化の後、ＨＰＬＣ［Chiracel OD；溶離液 ヘキサン／ｉ−プロパノール（９９．６：０．４）、流速：１ml／分］により、転化率および光学収率（ｅｅ）を測定した。光学収率に対する配置（ＲまたはＳ配置）をはじめとする結果を、以下の表２に報告する。
【０１７８】
【表１７】
【０１７９】
＊）逆の配置を有する生成物は、他の鏡像異性体形態の配位子を用いることにより得られた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シクロペンタジエニル環中で置換された１−sec−ホスフィノメチル−２−sec−ホスフィノフェロセン；それらを製造する方法；遷移金属と配位子としてのこれらのジホスフィンとの金属錯体；不斉または対称付加反応における均一触媒としての金属錯体の使用；および好ましくはプロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化の方法に関する。
【０００２】
式：
【０００３】
【化７】
【０００４】
で示されるフェロセンジホスフィンは、公知である。ＧＢ２２８９８５５Ａには、この種のジホスフィン、例えば［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］メチルジシクロヘキシルホスフィン、およびアイソタクチックポリマーを製造するためのそのＰｄ錯体が記載されている。ＷＯ０１／３８３３６には、付加反応（特に水素化）で不斉触媒として作用する金属錯体のために、この種の配位子が提案されている。良好な転化率および立体選択性は、基質にもよるが、触媒を用いて達成することができる。これらの配位子の欠点は、反応の最適化のためにホスフィノ基中の改良のみが可能なことである。その上、そのような触媒の活性および／または選択性を更に増大させて、可能な適用例の範囲を広げることが必要とされている。
【０００５】
予期しないことには、置換基をシクロペンタジエニル環中に導入すると、転化率および／または選択性の両方、ならびに形成される付加物の配置に影響を及ぼし得ることがここに見出された。転化率の上昇、光学収率の上昇、またはその両方の効果、あるいは所望の光学異性体の形成が観察された。適切な非置換配位子が特定の反応で同定されれば、これらの置換された配位子は、最適化に非常に適している。配位子は、新規な製造方法を通して得ることができる。
【０００６】
本発明は、第一に、ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式Ｉ：
【０００７】
【化８】
【０００８】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ｒ１は、Ｃ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基またはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基であり、ｍ＞１の場合の基：Ｒ１は、同一または異なっており；
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはフェニルであり；
ｍは、１〜３であり；
ｎは、０または１〜５である）
で示される化合物を提供する。
【０００９】
例示の目的で、後に示す式にも同様に適用される他の鏡像異性体の代表的な式を、以下に示す。
【００１０】
【化９】
【００１１】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、２個の同一または２個の異なる炭化水素基を含むことができる。後者の場合、第二級ホスフィノ基は、Ｐ−キラルである。第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、好ましくは、それぞれ、２個の同一炭化水素基を含む。更に第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっていてもよい。
【００１２】
炭化水素基は、非置換もしくは置換されていてもよく、そして／またはＯ、ＳおよびＮからなる群から選択されるヘテロ原子を含んでいてもよい。それらは、炭素原子を１〜２２個、好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜１４個含んでいてもよい。好ましい第二級ホスフィノ基は、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル；非置換、またはＣ１〜Ｃ６−アルキル−もしくはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−置換のＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキルまたはＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキル−ＣＨ２−；フェニル、ナフチル、フリル、またはベンジル；ならびにハロゲン（例えば、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルキル（例えばトリフルオロメチル）、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルコキシ（例えばトリフルオロメトキシ）、（Ｃ５Ｈ６）３Ｓｉ、（Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉ、第二級アミノまたは−ＣＯ２−Ｃ１〜Ｃ６−アルキル（例えば−ＣＯ２ＣＨ３）により置換されたフェニルおよびベンジルからなる群から選択される同一または異なる基を２個含むものである。
【００１３】
好ましくは炭素原子を１〜６個含むＰ上のアルキル置換基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ならびにペンチルおよびヘキシルの異性体である。Ｐ上の非置換またはアルキル置換のシクロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシルおよびジメチルシクロヘキシルである。Ｐ上のアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−、ハロアルコキシ−およびハロゲン−置換のフェニルおよびベンジル置換基の例は、ｏ−、ｍ−またはｐ−フルオロフェニル、ｏ−、ｍ−またはｐ−クロロフェニル、ジフルオロフェニル、ジクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、ビストリフルオロメトキシフェニル、および３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００１４】
好ましい第二級ホスフィノ基は、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、ベンジル、および特にフェニル（非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ１〜Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換されていてもよい）からなる群から選択される同一の基を含むものである。置換基：Ｆは、４〜５回存在してもよい。
【００１５】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、好ましくは、互いに独立して式：−ＰＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ互いに独立して、炭素原子を１〜１８個有する炭化水素基であり、非置換であるか、またはハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−ハロアルコキシ、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２アミノ、（Ｃ６Ｈ５）３Ｓｉ、（Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）３Ｓｉもしくは−ＣＯ２−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルにより置換されており、そして／あるいはヘテロ原子：Ｏを含む）に対応する。
【００１６】
Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、直鎖状もしくは分枝状Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたシクロペンチルもしくはシクロヘキシル、フリル、ノルボルニル、アダマンチル、非置換のベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜３個により置換されたベンジル（特に非置換のフェニル）、およびＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、−ＮＨ２、−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ１〜Ｃ４−フルオロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルコキシ基１〜３個により置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００１７】
Ｒ３およびＲ４は、特に好ましくは、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フリル、非置換のフェニル、ならびにＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、および／またはＣ１〜Ｃ４−フルオロアルキル基１〜３個により置換されたフェニルからなる群から選択される同一の基である。
【００１８】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２は、環状sec−ホスフィノ、例えば、非置換であるか、または−ＯＨ、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、フェニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルフェニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシフェニル、ベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルベンジル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシベンジルオキシ、およびＣ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換されている、式：
【００１９】
【化１０】
【００２０】
で示される基であってもよい。
【００２１】
置換基は、キラル炭素原子を導入するために、Ｐ原子に対してα位の一方または両方で結合していてもよい。α位の一方または両方の置換基は、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはベンジル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたは−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールである。
【００２２】
β、γ位の置換基は、例えば、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ベンジルオキシ、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）−Ｏ−であってもよい。幾つかの例は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、−Ｏ−ＣＨ（フェニル）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（メチル）−Ｏ−、および−Ｏ−Ｃ（メチル）２−Ｏ−である。
【００２３】
先の式で示される基において、脂肪族５−もしくは６−員環、またはベンゼンは、隣接する炭素原子２個に縮合していてもよい。
【００２４】
他の公知で適切な第二級ホスフィノ基は、環中に炭素原子を７個有する環状キラルホスホランのもの、例えば式：
【００２５】
【化１１】
【００２６】
（式中、芳香族環は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、またはＣ１〜Ｃ４−アルキレンジオキシルにより置換されていてもよい）で示されるものである（ＵＳ２００３／００７３８６８ Ａ１およびＷＯ０２／０４８１６１参照）。
【００２７】
置換の型および置換基の数に応じて、環状ホスフィノ基は、Ｃ−キラル、Ｐ−キラル、またはＣ−およびＰ−キラルであってもよい。
【００２８】
環状sec−ホスフィノ基は、例えば、式：
【００２９】
【化１２】
【００３０】
（式中、基：Ｒ′およびＲ″は、それぞれＣ１〜Ｃ４−アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ベンジル、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたは−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールであり、Ｒ′およびＲ″は、同一または異なる）に対応してもよい（可能なジアステレオマーを１種だけ図示した）。Ｒ′およびＲ″が、同じ炭素原子に結合している場合、それらが一緒になって、Ｃ４〜Ｃ５−アルキレン基をなしていてもよい。
【００３１】
好ましい実施形態において、式Ｉで示される化合物中のＸ１およびＸ２は、特に好ましくは、−Ｐ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７〜Ｃ１２−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群から選択される同一または異なる非環式sec−ホスフィノ、あるいは非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、および非置換もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換された、
【００３２】
【化１３】
【００３３】
からなる群から選択される環状ホスフィノである。
【００３４】
具体的な例は、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、および式：
【００３５】
【化１４】
【００３６】
（式中、Ｒ′は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ″は、独立して、Ｒ′の意味の一つを有する）で示される基である。
【００３７】
式Ｉで示される化合物の好ましい実施形態において、Ｒ２は、好ましくはメチルである。式Ｉにおけるｎは、特に好ましくは０であり、言い換えれば、その場合Ｒ２は、水素原子である。
【００３８】
置換基：Ｒ１は、シクロペンタジエニル環中に１〜３回、特に好ましくは１または２回存在してもよい。置換基：Ｒ１の好ましい位置は、３、４および５位である。好ましい置換様式は、３位、５位、ならびに二重置換の場合の３および５位である。
【００３９】
式Ｉで示される特に好ましい実施形態において、置換基は、５位で結合され、この置換基は、かさ高な置換基（例えば、分枝状アルキル、置換された直鎖状もしくは分枝状アルキル、トリメチルシリル、または置換もしくは非置換の環状置換基［（ヘテロ）シクロアルキルまたは（ヘテロ）アリール］である。
【００４０】
置換基：Ｒ１は、アキラルであってもよく、または少なくとも１個の不斉炭素原子を含んでいてもよい。不斉炭素原子は、好ましくはＲ１が結合するシクロペンタジエニル環中の炭素原子に関してα、βまたはγ位に位置する。
【００４１】
置換基：Ｒ１は、１個以上の置換基、例えば１〜３個の置換基、好ましくは１または２個の置換基、例えばハロゲン（Ｆ、ＣｌまたはＢｒ、特にＦ）、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＮ、−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−Ｒ０３、−Ｐ（ＯＲ０３）２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ０３）２、−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ０１Ｒ０２、−Ｏ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−Ｓ（Ｏ）−Ｒ０４、−Ｒ０１Ｎ−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ０４、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ベンジル、フェノキシまたはベンジルオキシ（式中、Ｒ０１およびＲ０２は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジルであるか、またはＲ０１およびＲ０２が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンタン−１，５−ジイルを形成しており、Ｒ０３は、水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルであり、Ｒ０４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１２−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ４−ヒドロキシアルキル、Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル（例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル）、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール（例えばフェニルまたはナフチル）またはＣ７〜Ｃ１２−アラルキル（例えばベンジル）である）により置換されていてもよい。２個の置換基は、環状置換基中で結合する炭素原子と一緒になって、飽和または不飽和の脂肪族または芳香族炭化水素環または複素環（縮合環および／または架橋環）も形成している。
【００４２】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ１〜Ｃ１２−アルキル（好ましくはＣ１〜Ｃ８−アルキル、特に好ましくはＣ１〜Ｃ４−アルキル）、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル（好ましくはＣ２〜Ｃ８−アルケニル、特に好ましくはＣ２〜Ｃ４−アルケニル）であってもよい。例は、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブチル、ならびにペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシルおよびドデシルの異性体、ならびにビニルおよびプロペニルである。
【００４３】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ８−シクロアルキルであってもよい。例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシルおよびシクロドデシルである。
【００４４】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキルアルキルであってもよい。例は、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、およびシクロオクチルメチルである。
【００４５】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ６〜Ｃ１８−アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ１０−アリールであってもよい。例は、フェニル、ナフチル、アントラセニルおよびフェナントリルである。
【００４６】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２−アラルキル（例えば、ベンジルまたは１−フェニルエタ−２−イル）であってもよい。
【００４７】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えばトリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉまたはトリフェニルシリルであってもよい。トリアルキルシリルの例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−ブチルシリルおよびジメチル−ｔ−ブチルシリルである。
【００４８】
置換基：Ｒ１は、例えばハロゲンであってもよい。例は、Ｆ、ＣｌおよびＢｒである。
【００４９】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、式：−ＳＲ０５、−Ｓ（Ｏ）Ｒ０５、および−Ｓ（Ｏ）２Ｒ０５（式中、Ｒ０５は、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ８−アルキル、特に好ましくはＣ１〜Ｃ４−アルキル；Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキル；Ｃ６〜Ｃ１８−アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ１０−アリール；またはＣ７〜Ｃ１２−アラルキルである）で示されるチオ基、またはスルホキシドもしくはスルホン基であってもよい。これらの炭化水素基の例は、先に列挙した。
【００５０】
置換基：Ｒ１は、例えば、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、または−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールであってもよい。
【００５１】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−ＣＯ２Ｒ０３または−Ｃ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２基（式中、Ｒ０１、Ｒ０２およびＲ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５２】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｓ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｏ−Ｒ０３、−Ｓ（Ｏ）−ＮＲ０１Ｒ０２、および−Ｓ（Ｏ）２−ＮＲ０１Ｒ０２基（式中、Ｒ０１、Ｒ０２およびＲ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５３】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｐ（ＯＲ０３）２または−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ０３）２基（式中、Ｒ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５４】
置換または非置換の置換基：Ｒ１は、例えば、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２または−Ｐ（Ｓ）（ＯＲ０３）２基（式中、Ｒ０３は、好適さを含め先に示した意味を有する）であってもよい。
【００５５】
置換基：Ｒ１の好ましい群において、これらは、置換または非置換のＣ１〜Ｃ６−アルキル、置換または非置換のフェニルまたはナフチル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン（特に、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、−ＳＲ０６、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨＲ０６ＯＨ、−ＣＲ０６Ｒ′０６ＯＨ、−ＣＨ２Ｏ−Ｒ０６、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒ０６（式中、Ｒ０６は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基である）、および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２（式中、Ｒ０３は、先に定義したとおりである）から選択される。
【００５６】
置換または非置換の置換基：Ｒ１の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−およびｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、ジシクロヘキシルメチル、フェニル、ナフチル、ベンジル、ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリメチルシリル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、メチルチオ、メチルスルホニル、メチルスルホキシル、フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルホキシル、−ＣＨ（Ｏ）、−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ３、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ２Ｈ５、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨＣＨ３、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＳＯ３Ｈ、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）−ＯＣ２Ｈ５、−Ｓ（Ｏ）２−ＯＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）２−ＯＣ２Ｈ５、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−Ｓ（Ｏ）−ＮＨ２、−Ｓ（Ｏ）２−ＮＨＣＨ３、−Ｓ（Ｏ）２−Ｎ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ＯＨ）２、−ＰＯ（ＯＨ）２、−Ｐ（ＯＣＨ３）２、−Ｐ（ＯＣ２Ｈ５）２、−ＰＯ（ＯＣＨ３）２、−ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）２、トリフルオロメチル、メチルシクロヘキシル、メチルシクロヘキシルメチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチル、γ−ヒドロキシプロピル、Ｃ６Ｈ５ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ６Ｈ５ＣＨ（ＯＣＨ３）−、ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）−、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）−、Ｃ２Ｈ５ＣＨ（ＯＨ）−、Ｃ２Ｈ５ＣＨ（ＯＣＨ３）−、（ＣＨ３）２Ｃ（ＯＨ）−、（ＣＨ３）２Ｃ（ＯＣＨ３）−、−ＣＨ２ＮＨ２、−ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、ＨＳ−ＣＨ２−、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３Ｓ−ＣＨ２−、ＣＨ３Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２、−ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ２−ＳＯ３Ｈ、−ＣＨ２−ＳＯ３ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＳＯ３ＣＨ３、−ＣＨ２−ＳＯ２ＮＨ２、−ＣＨ２−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）２、−ＣＨ２−ＰＯ３Ｈ２、−ＣＨ２ＣＨ２−ＰＯ３Ｈ２、−ＣＨ２−ＰＯ（ＯＣＨ３）、−ＣＨ２ＣＨ２−ＰＯ（ＯＣＨ３）２、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｏ）ＯＨ、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３、−Ｃ６Ｈ４−Ｓ（Ｏ）２ＯＨ、−Ｃ６Ｈ４−Ｓ（Ｏ）２ＯＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、−ＣＨ２−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−Ｓ（Ｏ）２ＣＨ３、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）２、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）２、−Ｐ（Ｏ）（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）２、−Ｐ（Ｓ）（Ｃ６〜Ｃ１０−アリール）２、−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、ならびに−Ｃ（Ｏ）−Ｃ６〜Ｃ１０−アリールである。
【００５７】
式Ｉで示される好ましい化合物は、式Ｉａ：
【００５８】
【化１５】
【００５９】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり、
Ｒ１は、炭素原子またはＳｉ原子を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基である）
で示されるラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体に対応する。
【００６０】
例示の目的で、他の鏡像異性体の式Ｉｂを示す。
【００６１】
【化１６】
【００６２】
（ここでの表現は、後の式に同様に適用される）
【００６３】
式Ｉａで示される化合物において、Ｒ１は、好ましくは、置換もしくは非置換の直鎖状もしく分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ１８−アリール、置換もしくは非置換のＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ−、トリフェニルシリル、またはＦ、ＣｌおよびＢｒである。
【００６４】
式Ｉで示される化合物は、置換基が導入される位置に応じて、様々な方法で製造することができる。シクロペンタジエニル（以後、短縮してｃｐと呼ぶ）基中の基：Ｘ１に対してオルト位は、３位である。ｃｐ基における基：−ＣＨ２Ｘ２に対してオルト位は、５位である。４位は、３位と５位の間に位置する。
【００６５】
中心の前駆体（central precursor）は、式II：
【００６６】
【化１７】
【００６７】
（式中、
Ａ１は、開鎖または環状、アキラルsec−アミノまたはキラルsec−アミノであり、その少なくとも１個の炭素原子は、好ましくはＮ原子に対してα、βまたはγ位で、ジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）アミノまたはＣ１〜Ｃ４−アルコキシにより置換されている）で示される化合物であり、それは、オルト位の一方で選択的に金属化(metallate)され、その後、更に修飾することができる。式IIで示される化合物の幾つかは、公知であるか［I. Fleischer et al. Coll. Czech. Chem. Comm., 69(2), (2004), p330-338およびW. Weissensteiner et al. J. Org. Chem. 66, (2001), p8912-8919］、または公知の方法と同様の方法で製造することができる。
【００６８】
開鎖または環状sec−アミノ基：Ａ１は、式：Ｒ５Ｒ６Ｎ−（式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキルであるか、またはＮ原子と一緒になって、３〜８員、好ましくは５〜８員Ｎ−複素環を形成しており、Ａ１が、キラルsec−アミノである場合には、Ｒ５およびＲ６の少なくとも一方、ならびに／または複素環は、Ｏ−またはＮ−含有置換基を含む）に対応してもよい。
【００６９】
好ましくは直鎖状であるアルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオクチルである。シクロアルキルの例は、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロオクチルである。シクロアルキルの例は、特にシクロペンチルおよびシクロヘキシルである。sec−アミノが、Ｎ−複素環を形成する場合、Ｒ５およびＲ６は、一緒になって、好ましくは、テトラメチレン、ペンタメチレン、３−オキサペンチレンまたは３−（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｎ−ペンチレンをなしている。適切な置換基は、例えば、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルおよび（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルである。置換基は、例えばsec−アミノ基のＮ原子に対してγ位に、好ましくはαまたはβ位に位置する。Ｒ５およびＲ６は、更に、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルにより置換されていてもよい。
【００７０】
好ましい実施形態において、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ、メチル、エチル、シクロヘキシルであるか、またはＲ５およびＲ６が、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンもしくは３−オキサペンチレンをなしており、それぞれが、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルおよび（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルにより、そして所望なら更にＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、またはベンジルにより置換されている。
【００７１】
Ａ１の特に好ましい例は、式：
【００７２】
【化１８】
【００７３】
（式中、Ｓは、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシメチル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシエチル、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−メチルまたは（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−エチルであり、「＊」は、不斉中心を表す）で示されるsec−アミノ基である。
【００７４】
式Ｉで示される化合物の全ての置換様式を含む可能な製造方法は、以下の２種の反応スキーム１および２に示される。
【００７５】
スキーム１：４および５位における基の導入
【００７６】
【化１９】
【００７７】
スキーム２：３、４および５位における基の導入
【００７８】
【化２０】
【００７９】
臭素の代わりに、ヨウ素を用いることもできる。
【００８０】
上記式中のＲ１′およびＲ１″は、互いに独立して、Ｒ１と同じ意味を有する。
【００８１】
ステップａ）：Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位における置換基の導入
最初に、金属化試薬（例えばアルキルリチウム）を用いて金属化を実施し、次に金属化生成物を求電子性化合物と反応させる。
【００８２】
ステップｂ）：Ｈまたは置換基によるＢｒまたはＩの置換
例えばアルキルリチウムを用いた金属化の後、金属化生成物を水（Ｈの導入）または求電子性化合物のいずれかと反応させる。基：Ｒ１を導入する触媒的方法、例えばSuzukiカップリングおよびHeck反応も公知である。
【００８３】
ステップｃ）：ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）に対してオルト位における置換基の導入
更なる工程ステップにおいて、ハロゲンに対してオルト位を、Ｌｉアミドにより選択的にリチウム化し、その後、適切な求電子性物質との反応により、所望の置換基を第２の工程ステップで導入する。
【００８４】
ステップｄ）：Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位におけるＸ１の導入
最初に、金属化試薬（例えばアルキルリチウム）を用いて金属化を実施し、次にリチウム化生成物をハロゲン：Ｘ１と反応させる。
【００８５】
ステップｅ）：Ｘ２によるＡ１の置換
第二級ホスフィン（好ましくは式：Ｒ３Ｒ４ＰＨで示されるもの）を用い、それ自体が公知の手法で、基：Ａ１を置換する。
【００８６】
ステップｆ）：Ｘ１によるＢｒまたはＩの置換
例えばアルキルリチウムを用いた金属化の後、金属化生成物をハロゲン：Ｘ１と反応させる。
【００８７】
反応順序によるが、導入された置換基は、第二級ホスフィノ基によるＡ１の置換の際に、金属化試薬に対し、そして／または反応条件下で不活性であるべきである。別の可能性は、公知の保護基使用であり、それにより選択される反応条件に感受性がある基を分離することができる。
【００８８】
ステップｃ）以外の各工程ステップは公知であり、文献に広範に記載されている。
【００８９】
フェロセンの金属化は、例えば、W. Weissensteiner et al., J. Org. Chem., 66(2001)8912-9, W Weissensteiner eｔ al., Synthesis 8(1999), pages 1354-1362, T. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53(1980), pages 1138-1151またはJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis(Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamom Press(2002)に記載された公知の反応を必要とする。アルキルリチウム中のアルキルは、例えば、炭素原子を１〜４個含むことができる。多くの場合、メチルリチウムおよびブチルリチウムを使用する。マグネシウムGrignard化合物は、好ましくは式（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）ＭｇＸ０（式中、Ｘ０は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）の１種である。
【００９０】
反応は、有利には低温で、例えば２０〜−１００℃、好ましくは０〜−８０℃で実施する。反応時間は、約２〜２０時間である。反応は、有利には不活性保護気体（例えば窒素）または貴ガス（例えばアルゴン）の下で実施する。
【００９１】
反応は、有利には不活性溶媒の存在下で実施する。そのような溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。溶媒の例は、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水素、ならびに開鎖または環状エーテルである。具体的な例は、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルまたはジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンである。
【００９２】
ハロゲンの導入は、一般に、同様の反応混合物中での金属化の後、金属化と類似の反応条件を保持しながら、直ちに実施する。好ましくは、１〜１．４当量のハロゲン化試薬を用いることができる。ハロゲン化試薬は、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩを導入するためのハロゲン（Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２）、インターハロゲン（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ３Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ２Ｃ−ＣＦ２Ｂｒ）；またはフッ素を導入するためのＮ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミンである。
【００９３】
Ａ１ＣＨ２−基に対してオルト位における金属化および求電子性物質の導入は、位置選択的に進行し、中間体が高収率で得られる。反応は、キラル基：Ａ１ＣＨ２−の存在下では立体選択的でもある。更に必要であれば、この段階で、例えばキラルカラムを用いたクロマトグラフィーにより、光学異性体を分離することが可能である。
【００９４】
工程ステップｃ）において、ハロゲン原子に対してオルト位の酸性Ｈ原子を置換するのに十分な金属アミドを用いて、同じシクロペンタジエニル環のハロゲン原子に対してオルト位で、フェロセン骨格を再度、位置選択的に金属化する。フェロセンのシクロペンタジエニル環中のＣＨ基あたり、少なくとも１〜５当量の脂肪族リチウムsec−アミドまたはＣｌＭｇ sec−アミド、ＢｒＭｇ sec−アミドもしくはＩＭｇ sec−アミドが用いられる。
【００９５】
脂肪族リチウムsec−アミドまたはハロゲンＭｇ sec−アミドは、炭素原子を２〜１８個、好ましくは２〜１２個、特に好ましくは２〜１０個含む第二級アミンから誘導することができる。Ｎ原子に結合した脂肪族基は、アルキル、シクロアルキルもしくはシクロアルキルアルキルであってもよく、または炭素原子を４〜１２個、好ましくは５〜７個有するＮ−複素環であってもよい。Ｎ原子に結合する基の例は、メチル、エチル、ｎ−およびｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘキシルメチルである。Ｎ−複素環の例は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、Ｍ−メチルピペラジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよびアザノルボルナンである。好ましい実施形態において、アミドは、式：Ｌｉ−Ｎ（Ｃ３〜Ｃ４−アルキル）２またはＸ２Ｍｇ−Ｎ（Ｃ３〜Ｃ４−アルキル）２（式中、アルキルは、特にｉ−プロピルである）に対応する。別の好ましい実施形態において、アミドは、Ｌｉ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）に対応する。
【００９６】
基：Ｒ１を形成するための反応性求電子性化合物の例は：
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを導入するためのハロゲン（Ｃｌ２、Ｂｒ２、Ｉ２）、インターハロゲン（Ｃｌ−Ｂｒ、Ｃｌ−Ｉ）および脂肪族過ハロゲン化炭化水素（Ｃｌ３Ｃ−ＣＣｌ３またはＢｒＦ２Ｃ−ＣＦ２Ｂｒ、Ｎ−フルオロビス（フェニル）スルホニルアミン）；カルボキシル基：−ＣＯ２Ｈを導入するためのＣＯ２；
カルボキシラート基を導入するためのクロロカルボナートまたはブロモカルボナート［Ｃｌ−Ｃ（Ｏ）−ＯＲ］（式中、Ｒは、炭素原子を１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個有し、非置換であるか、または不活性置換基（例えばsec−ホスフィノ、ジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）２Ｎ−、−Ｃ（Ｏ）−ＯＣ１〜Ｃ８−アルキルもしくは−ＯＣ１〜Ｃ８−アルキル（金属または金属基に対してより反応性がある基、例えば−ＣＨＯが、式Ｉで示される化合物中に同時に存在する場合、またはＣｌとＢｒ、ＣｌとＩ、またはＢｒとＩが、好ましくは芳香族炭化水素基中の結合形態に同時に存在する場合、不活性置換基は、Ｃｌ、ＢｒまたはＩなどの反応性基も含む）により置換された炭化水素基（アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、へテロアラルキル）である）；
基：−ＣＨ（Ｏ）を導入するためのジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）ホルムアミド、例えばジメチルホルムアミドまたはジエチルホルムアミド；
−Ｃ（Ｏ）−Ｒ基を導入するためのジ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）カルボキシアミド；
−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ基を導入するための、非置換であるか、もしくは基：Ｒ中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよいアルデヒド、または−ＣＨ２ＯＨ基を導入するためのパラホルムアルデヒド；
−Ｃ（ＯＨ）ＲＲａ基（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲａが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成している）を導入するための、非置換であるか、またはＲもしくはＲａ基中のsec−ホスフィノにより置換されていてもよい対称または非対称ケトン；
−Ｃ−Ｃ−ＯＨ基（式中、Ｃ原子は、ＨまたはＲにより置換されていてもよい）を導入するためのエポキシド；
式：（ＣＨ３）２Ｎ＋＝ＣＨ２ｘｌ−で示されるEschenmoser塩；
基：−ＣＨ（Ｒ）−ＮＨＲａ（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲａが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成し、ＲおよびＲａは、同時に水素にはならない）を導入するためのイミン：Ｒ−ＣＨ＝Ｎ−Ｒａ；
基：−Ｃ（Ｒ）（Ｒｂ）−ＮＨＲａ（式中、Ｒａは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲ′が一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成し、Ｒｂは、独立して、Ｒの意味の一つを有するか、またはＲおよびＲｂが一緒になって、３〜８員を有する脂環式化合物を形成している）を導入するためのイミン：Ｒ−Ｃ（Ｒｂ）＝Ｎ−Ｒａ；
炭化水素およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ１４−アラルキル）を導入するための、モノハロゲン化炭化水素およびモノハロゲン化へテロ炭化水素（特に、塩化物、臭化物およびヨウ化物）；
炭化水素およびヘテロ炭化水素基（例えば、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１４−アリール、Ｃ７〜Ｃ１４−アラルキル）を導入するための、反応性が異なるハロゲン原子（特に、塩素原子と臭素原子またはヨウ素原子の組合わせ、臭素原子とヨウ素原子または２個の臭素原子またはヨウ素原子の組合わせ）を有するハロ炭化水素およびハロへテロ炭化水素；
アリールおよびヘテロアリール基を導入するためのアリールホウ酸；
アルケニル基（例えばアリルおよびビニル）を導入するためのハロゲン化（特に、塩化、臭化およびヨウ化）アルケニル；
トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）−Ｓｉ−基を導入するためのハロゲン化（特に、塩化、臭化）トリ（Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）シリル；
トリフェニルシリル基を導入するためのハロゲン化トリフェニルシリル；
ホスホン酸エステル基（例えば、（ＣＨ３Ｏ）２（Ｏ）Ｐ−、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）２（Ｏ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）２（Ｏ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｏ）Ｐ−）を導入するためのモノハロゲン化（塩化、臭化）リン酸エステル；
ホスホン酸チオエステル基（例えば（ＣＨ３Ｏ）２（Ｓ）Ｐ−、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）（Ｓ）Ｐ−、（シクロヘキシルＯ）２（Ｓ）Ｐ−、（エチレンジオキシル）（Ｓ）Ｐ−）を導入するためのモノハロゲン化（塩化、臭化）リン酸チオエステル；
−ＳＲ基を導入するための有機ジスルフィド：Ｒ−ＳＳ−Ｒ；ならびに
−ＳＨ基を導入するための硫黄（Ｓ８）、
である。求電子性物質中の有機基は、前記のとおり置換されていてもよい。
【００９７】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である（E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999,およびB. Cornils et al., Applied Homogeneous Catalysis with Organometallic Compounds, Volume 1,Second Edition, Wiley VCH-Verlag (2002)参照）。
【００９８】
本発明の式Ｉで示される化合物は、不斉合成（例えば、プロキラル不飽和有機化合物の不斉水素化）のための優れた触媒または触媒前駆体である、周期表の遷移金属、好ましくはＴＭ８金属の群、特に好ましくはＲｕ、ＲｈおよびＩｒからなる群から選択される金属の錯体のための配位子である。プロキラル不飽和有機化合物が用いられる場合、非常に高過剰の光学異性体を有機化合物の合成で誘導することができ、高度の化学的変換を短い反応時間で実現することができる。実現し得るエナンチオ選択性および触媒活性は、優れており、不斉水素化においては、冒頭で述べた公知の非置換配位子の場合よりもかなり高い。その上、そのような配位子は、他の不斉添加または環化反応にも用いることができる。
【００９９】
本発明は、更に、周期表の遷移金属の群から選択される金属と、配位子としての式Ｉで示される化合物の一種との錯体を提供する。
【０１００】
可能な金属は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔである。好ましい金属は、ロジウムおよびイリジウム、ならびにルテニウム、白金、パラジウムおよび銅である。
【０１０１】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムである。
【０１０２】
金属錯体は、金属原子の酸化数および配位数に応じて、更なる配位子および／または陰イオンを含むことができる。それらは、陽イオン性金属錯体であってもよい。そのような類似の金属錯体およびそれらの製造は、文献に広範に記載されている。
【０１０３】
金属錯体は、例えば、一般式IIIおよびIV：
【０１０４】
【化２１】
【０１０５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子であればｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子であればｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、金属は、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
陰イオン性配位子は、金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に対応する。
【０１０６】
上記の好適さおよび実施形態が、式Ｉで示される化合物に関して適用される。
【０１０７】
単座非イオン性配位子は、例えば、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン）、溶媒和性溶媒（ニトリル、直鎖状または環状エーテル、非アルキル化またはＮ−アルキル化アミドおよびラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素、および一酸化炭素からなる群から選択することができる。
【０１０８】
適切な多座陰イオン性配位子は、例えば、アリル（アリル、２−メタリル）、シクロペンタジエニルまたは脱プロトン化１，３−ジケト化合物、例えばアセチルアセトナートである。
【０１０９】
単座陰イオン性配位子は、例えば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアニド、シアナート、イソシアナート）、ならびにカルボン酸、スルホン酸およびホスホン酸の陰イオン（カルボナート、ホルマート、アセタート、プロピオナート、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナート、トシラート）からなる群から選択することができる。
【０１１０】
二座非イオン性配位子は、例えば、直鎖状または環状ジオレフィン（例えば、ヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロノジニトリル）、非アルキル化またはＮ−アルキル化カルボン酸ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステルおよびジスルホン酸ジエステルからなる群から選択することができる。
【０１１１】
二座陰イオン性配位子は、例えば、ジカルボン酸、ジスルホン酸およびジホスホン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸およびメチレンジホスホン酸）からなる群から選択することができる。
【０１１２】
好ましい金属錯体は、Ｅが、−Ｃｌ−、−Ｂｒ−、−Ｉ−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ−、テトラアリールボラート（例えば、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−およびＢ（４−メチルフェニル）４−）、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−またはＳｂＦ６−であるものも包含する。
【０１１３】
水素化に特に適した特に好ましい金属錯体は、式ＶおよびVI：
【０１１４】
【化２２】
【０１１５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｍｅは、ロジウムまたはイリジウムであり；
Ｙ１は、２種のオレフィンまたは１種のジエンであり；
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；
Ｅ１−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンである）に対応する。
【０１１６】
先に記載した実施形態および好適さは、式Ｉで示される化合物に適用される。
【０１１７】
オレフィン：Ｙ１は、Ｃ２〜Ｃ１２−オレフィン、好ましくはＣ２〜Ｃ６−オレフィン、特に好ましくはＣ２〜Ｃ４−オレフィンであってもよい。例は、プロペン、１−ブテンであり、特にエチレンである。ジエンは、炭素原子を５〜１２個、好ましくは５〜８個有していてもよく、開鎖、環状、または多環式ジエンであってもよい。ジエンのオレフィン基２個は、好ましくは、ＣＨ２基１または２個に結合している。例は、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−または１，５−ヘプタジエン、１，４−または１，５−シクロヘプタジエン、１，４−または１，５−オクタジエン、１，４−または１，５−シクロオクタジエン、およびノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、エチレン２分子、または１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンもしくはノルボルナジエンである。
【０１１８】
式Ｖにおいて、Ｚは、好ましくはＣｌまたはＢｒである。Ｅ１の例は、ＢＦ４−、ＣｌＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＨＳＯ４−、Ｂ（フェニル）４−、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］４−、ＰＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＡｓＦ６−、またはＳｂＦ６−である。
【０１１９】
本発明の金属錯体は、文献で知られる方法により製造される（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、E. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto(Eds), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999、および本明細書に引用された参考文献も参照）。
【０１２０】
ルテニウム錯体は、例えば、式VII：
【０１２１】
【化２３】
【０１２２】
（式中、
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ３は、式Ｉで示される化合物であり；Ｌは、同一もしくは異なる配位子を表し；Ｅ−は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位が可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり、ｂは、０〜４であり、ｃは、０〜６であり、ｄは、１〜３であり、ｅは、０〜４であり、ｆは、１〜３であり、ｇは、１〜４であり、ｈは、０〜６であり、ｋは、１〜４であり、錯体の電荷の合計は、０である）に対応してもよい。
【０１２３】
Ｚ、Ａ３、ＬおよびＥ１−に関して先に示した好適さが、式VIIで示される化合物に適用される。配位子：Ｌは、更に、アレーンまたはヘテロアレーン（例えば、ベンゼン、ナフタレン、メチルベンゼン、キシレン、クメン、１，３，５−メシチレン、ピリジン、ビフェニル、ピロール、ベンゾイミダゾールまたはシクロペンタジエニル）およびLewis酸官能基を有する金属塩（例えば、ＺｎＣｌ２、ＡｌＣｌ３、ＴｉＣｌ４およびＳｎＣｌ４）であってもよい。溶媒配位子は、例えば、アルコール、アミン、酸アミド、ラクタムおよびスルホンであってもよい。
【０１２４】
この種の錯体は、以下に挙げた文献およびその中に引用された参考文献に記載されている：
【表１】
【０１２５】
本発明の金属錯体は、反応条件下で活性化し得て、プロキラル不飽和有機化合物上での不斉付加反応に用い得る、均一触媒または触媒前駆体である。
【０１２６】
金属錯体は、例えば、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の不斉水素化（水素の付加）に用いることができる。可溶性均一金属錯体を用いるそのような水素化は、例えば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pp. 131-138(1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを含む。本発明によれば、好ましくは、ルテニウム、ロジウムおよびイリジウムの金属錯体が、水素化に用いられる。
【０１２７】
本発明は、更に、キラル有機化合物を製造するため、好ましくはプロキラル有機化合物中の炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に水素を不斉付加するための均一触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【０１２８】
本発明は、少なくとも１種の本発明の金属錯体の触媒量の存在下で、付加反応を実施することを特徴とする、触媒の存在下、プロキラル有機化合物中で炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に水素を不斉付加することにより、キラル有機化合物を製造する方法も提供する。
【０１２９】
水素化される好ましいプロキラル不飽和化合物は、開鎖または環状有機化合物中に同一または異なる基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏを１個以上含んでいてもよく、ここで、基：Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎおよび／またはＣ＝Ｏは、環系の一部または環外基であってもよい。プロキラル不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン、開鎖または環状ケトン、α，β−ジケトン、αまたはβ−ケトカルボン酸、ならびにそれらのα，β−ケトアセタールまたは−ケトケタール、エステル、アミド、ケチミン、およびケトヒドラゾン（kethydrazones）であってもよい。
【０１３０】
不飽和有機化合物の幾つかの例は、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換またはＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン、非置換または置換ベンゾシクロヘキサノンまたはベンゾシクロペンタノンおよび対応するイミン、非置換または置換されたテトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジンおよびジヒドロピロールからなる群からのイミン、ならびに不飽和カルボン酸、エステル、アミドおよび塩、例えばα−および（適切ならば）β−置換アクリル酸またはクロトン酸である。好ましいカルボン酸は、式：
【０１３１】
【化２４】
【０１３２】
（式中、Ｒ１０１は、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルまたはＣ１〜Ｃ６−アルキル１〜４個により置換されたＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシまたはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、あるいは非置換のＣ６〜Ｃ１０−アリール（好ましくはフェニル）またはＣ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシもしくはＣ１〜Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基１〜４個により置換されたＣ６〜Ｃ１０−アリール（好ましくはフェニル）であり、Ｒ１０２は、それぞれの場合に、非置換であるか、または先に定義したとおり置換されていてもよい、直鎖状または分枝状Ｃ１〜Ｃ６−アルキル（例えばイソプロピル）、またはシクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル、または保護アミド（例えばアセチルアミノ）である）で示されるもの、ならびにその塩、エステルおよびアミドである。
【０１３３】
本発明の方法は、低温または高温、例えば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃の温度で実施してもよい。光学収率は、一般に高温よりも比較的低温で良好である。
【０１３４】
本発明の方法は、大気圧または超大気圧で実施することができる。圧力は、例えば、１０５〜２×１０７Ｐａ（パスカル）であってもよい。水素化は、大気圧または超大気圧で実施することができる。
【０１３５】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは０．００１〜１０モル％、特に０．０１〜５モル％の量で用いる。
【０１３６】
配位子および触媒の製造、ならびに水素化は、溶媒の非存在下または不活性溶媒の存在下で実施することができ、溶媒１種または溶媒の混合物を用いることができる。適切な溶媒は、例えば、脂肪族、脂環式、および芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、およびテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルまたはエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステルおよびラクトン（酢酸エチルまたはメチル、バレロラクトン）、Ｎ−置換のラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキシアミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）、スルホキシドおよびスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）、アルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル）、および水である。溶媒は、単独で、または少なくとも２種の溶媒の混合物として用いることができる。
【０１３７】
反応は、共触媒、例えば第四級ハロゲン化アンモニウム（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在下、および／またはプロトン酸（例えば鉱酸）の存在下で実施してもよい（例えば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１、およびＥＰ−Ａ−０，６９１，９４９参照）。同じく、１，１，１−トリフルオロエタノールなどのフッ素化アルコールの存在が、触媒反応を促進することができる。
【０１３８】
触媒として用いられる金属錯体は、別個に製造して単離した化合物として添加してもよいが、またはそれを反応の前にその場で形成させ、その後、水素化する基質と混合してもよい。単離した金属錯体を用いた反応では更なる配位子を添加することが有利となり得るが、またはそのものの位置で製造する場合には、過剰の配位子を用いることが有利となり得る。過剰は、製造に用いる金属化合物に基づいて、例えば１〜６モル、好ましくは１〜２モルであってもよい。
【０１３９】
本発明の方法は、好ましくは触媒を充填し、その後、基質と、所望なら反応助剤および追加の化合物を添加し、次に反応を開始することにより実施される。追加の気体化合物、例えば水素またはアンモニアは、好ましくは圧力下で導入する。方法は、様々な型の反応器で、連続式またはバッチ式で実施してもよい。
【０１４０】
本発明により製造され得るキラル有機化合物は、特に調味料、香料、医薬品および農薬の製造の分野の、そのような物質を製造するための活性物質または中間体である。
【０１４１】
以下の実施例は、本発明を例示している。
【０１４２】
Ａ）置換されたフェロセンジホスフィンの製造
略語：Ｍｅはメチルであり、Ｅｔはエチルであり、Ｂｕはブチルであり、Ｐｈはフェニルであり、Ｃｙはシクロヘキシルであり、Ｘｙｌは３，５−ジメチルフェン−１−イルであり、ＰＥは石油エーテルであり、Ｅｔ２Ｏはジエチルエーテルであり、ｎｂｄはノルボルナジエンであり、ＣＯＤはシクロオクタジエンである。
【０１４３】
実施例Ａ１：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ１）の製造
【０１４４】
【化２５】
【０１４５】
ａ）化合物（１）の製造
化合物（１）は文献：I. Feischer, S. Toma, Coll. Czech. Chem. Comm., 69(2), (2004)330-338に記載されている。
【０１４６】
ｂ）（１Ｒ，２Ｓ，Ｓｐ）−Ｎ−（１−ジフェニルホスフィノ−３−メチルフェロセン−２−イルメチル）−Ｎ−メチル−１−メトキシ−１−フェニルプロパ−２−イルアミン（２）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）６．６ml（８．５mmol）を、無水ジエチルエーテル８０ml中の化合物（１）２．７８ｇ（７．１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を−７８℃で１時間、そして−３０℃で４０分間撹拌した。続いて、ＣｌＰＰｈ２ １．９２ml（１０．６mmol）を添加した。−３０℃での１時間後に、混合物を室温で更に１６時間撹拌した。１Ｍ水性ＮａＯＨ溶液を添加して反応を停止させた。水相をジエチルエーテルで抽出し、その後、ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（１０：１）］で精製した。これにより、化合物（２）を黄色固体として得た（３ｇ、５．２mmol、理論値の７３％）。
【表２】
【０１４７】
ｃ）表題化合物Ａ１の製造
ＨＰＣｙ２ ０．４３ml（２．０９mmol）を、酢酸１２ml中の化合物（２）１ｇ（１．７４mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（４０：１：０．４）］で精製した。これにより、表題化合物：Ａ１を黄色固体として得た（０．８５ｇ、１４．３mmol、理論値の８２％）。
【表３】
【０１４８】
実施例Ａ２：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ２）の製造
ＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２ ０．４８ml（２．６１mmol）を、酢酸１２ml中の化合物（２）１ｇ（１．７４mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（４０：１：０．１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色固体として得た（０．７１ｇ、１３．１mmol、理論値の７５％）。
【表４】
【０１４９】
実施例Ａ３：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノメチル−３−メチルフェロセン（Ａ３）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（０．７ｇ、２．９０mmol）の溶液２．８９mlを、酢酸１３ml中の化合物（２）１．１１ｇ（１．９３mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５：１）］で精製した。これにより、表題化合物を黄色固体として得た（０．７７ｇ、１２．１mmol、理論値の６３％）。
【表５】
【０１５０】
実施例Ａ４：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−フェニルフェロセンの製造
【０１５１】
【化２６】
【０１５２】
ａ）化合物（３）の製造
化合物（３）は文献：W. Weissensteiner et al., J. Org. Chem., 66(2001) 8912-9に記載されている。
【０１５３】
ｂ）化合物（４）の製造
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４ ０．６６ｇ（０．５mmol）を、室温で、トルエン１２５ml中の化合物（３）６．６５ｇ（１３．２mmol）と、エタノール１４ml中のフェニルホウ酸３．２２ｇ（２６．４mmol）と、２Ｍ水性Ｎａ２ＣＯ３溶液２７．７mlとの脱気混合物に添加した。反応混合物をもう一度脱気して、１６時間還流した。混合物を放冷して有機相を分別し、その後、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：３：１）］で精製した。これにより、化合物（４）を黄色油状物として得た（３．０ｇ、６．２mmol、理論値の５０％）。
【表６】
【０１５４】
ｃ）化合物（５）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）３．８ml（４．９mmol）を、０℃の無水ジエチルエーテル１５ml中の化合物（４）１．７ｇ（３．８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を０℃で２時間撹拌した。それにＣｌＰＰｈ２ １．３９ｇ（６．２９mmol）を添加し、混合物を０℃で更に１時間、続いて室温で１６時間撹拌した。水を添加して、水相をジクロロメタンで抽出した。ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：１：１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色泡状物として得た（１．６２ｇ、２．５４mmol、理論値の６８％）。
【表７】
【０１５５】
ｄ）表題化合物（Ａ４）の製造
ＨＰＣｙ２ ０．４３ml（２．１２mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（５）０．９ｇ（１．４１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、所望の生成物を黄色固体として得た（０．６８ｇ、１．０４mmol、理論値の７４％）。
【表８】
【０１５６】
実施例Ａ５：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−フェニルフェロセン（Ａ５）の製造
酢酸（１０％）中のＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２の溶液５．２ml（２．８２mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（５）１．２ｇ（１．８８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物（Ａ５）を黄色固体として得た（０．８６ｇ、１．４２mmol、理論値の７４％）。
【表９】
【０１５７】
実施例Ａ６：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノメチル−３−フェニルフェロセン（Ａ６）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（０．６ｇ、２．４９mmol）の溶液２．４８mlを、酢酸１３ml中の化合物（５）０．８６ｇ（１．７１mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（１０：１）］で精製した。これにより、表題化合物（Ａ６）を黄色固体として得た（０．７ｇ、１．０mmol、理論値の５９％）。
【表１０】
【０１５８】
実施例Ａ７：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジシクロヘキシルホスフィノメチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ７）の製造
【０１５９】
【化２７】
【０１６０】
ａ）化合物（６）の製造
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４ ０．１２ｇ（０．１mmol）を、室温で、トルエン２０ml中の化合物３ １．０ｇ（２mmol）と、エタノール３ml中の（３，５−ジメチルフェン−１−イル）ホウ酸０．６ｇ（４mmol）と、２Ｍ水性Ｎａ２ＣＯ３溶液４．２mlとの脱気混合物に添加した。反応混合物をもう一度脱気して、１６時間還流した。混合物を放冷して有機相を分別し、その後、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させた。溶媒を減圧下で除去し、粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（２０：１：０．２）］で精製した。これにより、化合物（６）を黄色油状物として得た（０．８ｇ、１．６mmol、理論値の８０％）。
【表１１】
【０１６１】
ｂ）化合物（７）の製造
ｓ−ブチルリチウム（シクロヘキサン中の１．３Ｍ）５．８ml（７．６mmol）を、０℃の無水ジエチルエーテル３５ml中の化合物（６）２．８ｇ（５．８mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物を０℃で２時間撹拌した。それにＣｌＰＰｈ２ １．９３ｇ（８．７mmol）を添加し、その後、混合物を０℃で更に１時間、続いて室温で１６時間撹拌した。水を添加して、水相をジクロロメタンで抽出した。ひとまとめにした有機相を飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ：Ｅｔ３Ｎ（３０：１：０．３）］で精製した。これにより、化合物（７）を黄色泡状物として得た（３．２５ｇ、４．８８mmol、理論値の８４％）。
【表１２】
【０１６２】
ｃ）表題化合物（Ａ７）の製造
ＨＰ（Ｃ６Ｈ１１）２ ０．４８ml（２．３９mmol）を、酢酸５０ml中の化合物（７）１．０６ｇ（１．５９mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を黄色泡状物として得た（０．６２ｇ、１．０４mmol、理論値の５７％）。
【表１３】
【０１６３】
実施例Ａ８：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノメチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ８）の製造
酢酸（１０％）中のＨＰ（ｔ−Ｂｕ）２の溶液３．３ml（１．８０mmol）を、酢酸１０ml中の化合物（７）０．７５ｇ（１．１２mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（５０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を橙色泡状物として得た（０．６ｇ、０．９５mmol、理論値の８５％）。
【表１４】
【０１６４】
実施例Ａ９：（Ｓｐ）−１−ジフェニルホスフィノ−２−ビス（３，５−ジメチルホスフィノ）メチル−３−（３，５−ジメチルフェン−１−イル）フェロセン（Ａ９）の製造
トルエン（２４．３％）中のＨＰ［３，５−（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ３］２（５４mg、０．２２mmol）の溶液０．２mlを、酢酸５ml中の化合物（７）０．１ｇ（０．１５mmol）の脱気溶液に、シリンジで滴下した。反応混合物をもう一度脱気して、１００℃で１６時間撹拌した。続いて酢酸を減圧下で除去した。残渣をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ３溶液、水および飽和水性ＮａＣｌ溶液で洗浄した。有機相をＭｇＳＯ４で乾燥させ、溶媒を減圧下で除去した。粗生成物をクロマトグラフィー［Ａｌ２Ｏ３、ＰＥ：Ｅｔ２Ｏ（３０：１）］で精製した。これにより、表題化合物を橙色泡状物として得た（５０mg、０．０７mmol、４６％）。
【表１５】
【０１６５】
Ｂ）金属錯体の製造
【０１６６】
実施例Ｂ１：
［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４ ５．１mg（０．０１３６mmol）および実施例Ａ６からの配位子Ａ１ １０．４mg（０．０１６３mmol）を、磁器撹拌機を取付けたSchlenk管に計量して入れ、真空およびアルゴンで空気を排出させた。脱気メタノール０．８mlを撹拌しながら添加した後、金属錯体の橙色溶液（触媒溶液）を得た。均一なＣ２−対称錯体が形成された。
【０１６７】
Ｃ）使用例
【０１６８】
実施例Ｃ１：不飽和化合物の水素化
水素化の実施方法および光学収率：ｅｅの測定は、W. Weissensteiner et al. Organometallics 21(2002), p1766-1774の一般用語に記載されている。触媒は、溶媒中で配位子と触媒前駆体としての金属錯体（＝他に断りがなければ［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４）とを混合することにより、「そのものの位置で」製造した。他に断りがなければ、基質濃度は０．２５mol/lであり、金属に対する基質のモル比は２００であり、金属に対する配位子のモル比は１．０５であった。
【０１６９】
水素化：
基質：ＭＡＣおよびＤＭＩの反応条件
金属に対する基質のモル比＝２００；触媒前駆体＝［Ｒｈ（ノルボルナジエン）２］ＢＦ４;溶媒＝ＭｅＯＨ；水素圧＝１バール；温度＝２５℃；反応時間１時間。
【０１７０】
【化２８】
【０１７１】
基質：ＭＥＡの反応条件
金属に対する基質のモル比＝１００；触媒前駆体＝［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］２;溶媒＝トルエン；添加：Ｉｒ １当量あたりヨウ化テトラブチルアンモニウム２当量およびトルエン１０mlあたりトリフルオロ酢酸０．０３ml；水素圧＝８０バール；温度＝２５℃；反応時間＝１６時間。
【０１７２】
【化２９】
【０１７３】
水素化の結果を、以下の表１に報告する。「ｅｅ」は、鏡像体過剰率である。配置をカッコ内に示す。表１の比較の配位子および置換された配位子での結果から、置換が予期しないことには配置に影響を及ぼし、配置を反転させ得ることが理解できる。その上、置換基を導入した場合の光学収率の上昇が理解できる。
【０１７４】
比較の配位子：Ｃ１、Ｃ２およびＣ３の構造を以下に示す。
【０１７５】
【化３０】
【０１７６】
【表１６】
【０１７７】
実施例Ｃ２：Ｎ−（２′−メチル−６′−エチルフェン−１′−イル）−１−メトキシメチルエチルアミンの製造
［Ｉｒ（シクロオクタジエン）Ｃｌ］２ １．６５mg、配位子２．８mg、ヨウ化テトラブチルアンモニウム７０mgおよび酢酸１０mlを、オートクレーブ内でイミン（１）１０５ｇに添加した。条件は、イリジウムに対する基質の比１０００００に対応した。オートクレーブを閉じて、アルゴンでフラッシュした。その後、水素をでラッシュすることによりアルゴンを置換して、オートクレーブを水素（８０バール）で加圧した。撹拌器を入力することにより、水素化を開始した。水素化の後、ＨＰＬＣ［Chiracel OD；溶離液 ヘキサン／ｉ−プロパノール（９９．６：０．４）、流速：１ml／分］により、転化率および光学収率（ｅｅ）を測定した。光学収率に対する配置（ＲまたはＳ配置）をはじめとする結果を、以下の表２に報告する。
【０１７８】
【表１７】
【０１７９】
＊）逆の配置を有する生成物は、他の鏡像異性体形態の配位子を用いることにより得られた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式Ｉ：
【化１】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ｒ１は、Ｃ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基またはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基であり、ｍ＞１の場合の基：Ｒ１は、同一または異なっており；
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはフェニルであり；
ｍは、１〜３であり；
ｎは、０または１〜５である）
で示される化合物。
【請求項２】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２が、２個の同一または２個の異なる炭化水素基を含むこと、ならびに第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２が、同一または異なっていることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｘ１およびＸ２が、−Ｐ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７〜Ｃ１２−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群から選択される同一または異なる非環式sec−ホスフィノ基、あるいは非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、および非置換もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換された、
【化２】
からなる群から選択される環状ホスフィンであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｘ１およびＸ２が、それぞれ、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、または式：
【化３】
（式中、Ｒ′は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ″は、Ｒ′の意味の一つを有する）の一つを有する基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
式Ｉ中のｎが、０であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
置換基：Ｒ１が、５位で結合されており、置換基が、かさ高な置換基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項７】
置換基：Ｒ１が、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換または非置換のフェニル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン、−ＳＲ０６、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨＲ０６ＯＨ、−ＣＲ０６Ｒ′０６ＯＨ、−ＣＨ２Ｏ−Ｒ０６、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒ０６（式中、Ｒ０６は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基であり、Ｒ′０６Ｏは、独立して、Ｒ′０６の意味の一つを有する）、および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２（式中、Ｒ０３は、水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルである）から選択されることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
式Ｉで示される化合物が、式Ｉａ：
【化４】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり、
Ｒ１は、炭素原子またはＳｉ原子を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基である）
で示されるラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体に対応することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１が、置換もしくは非置換の直鎖状もしく分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ１８−アリール、置換もしくは非置換のＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ−、トリフェニルシリル、またはＦ、ＣｌおよびＢｒであることを特徴とする、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
元素周期表の遷移金属の群、好ましくはＣｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔの群から選択される金属と、配位子としての式Ｉで示される化合物との錯体。
【請求項１１】
式IIIおよびIV：
【化５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子であればｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子であればｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、金属は、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
陰イオン性配位子は、金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に対応する、請求項１０記載の金属錯体。
【請求項１２】
式VII：
【化６】
（式中、
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ３は、式Ｉで示される化合物であり；Ｌは、同一もしくは異なる配位子を表し；Ｅ−は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位が可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり、ｂは、０〜４であり、ｃは、０〜６であり、ｄは、１〜３であり、ｅは、０〜４であり、ｆは、１〜３であり、ｇは、１〜４であり、ｈは、０〜６であり、ｋは、１〜４であり、錯体の電荷の合計は、０である）に対応する、請求項１０記載の金属錯体。
【請求項１３】
触媒の存在下、プロキラル有機化合物中で水素を炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に不斉付加することにより、キラル有機化合物を製造する方法であって、請求項１０記載の少なくとも１種の金属錯体の触媒量の存在下で付加反応を実施することを特徴とする方法。
【請求項１４】
キラル有機化合物の製造のための、好ましくはプロキラル有機化合物中で水素を炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に不斉付加するための均一触媒としての、請求項１０記載の金属錯体の使用。
【請求項１】
ラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体の形態の式Ｉ：
【化１】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり；
Ｒ１は、Ｃ原子、Ｎ原子、Ｓ原子、Ｓｉ原子、Ｐ（Ｏ）基またはＰ（Ｓ）基を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基であり、ｍ＞１の場合の基：Ｒ１は、同一または異なっており；
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルまたはフェニルであり；
ｍは、１〜３であり；
ｎは、０または１〜５である）
で示される化合物。
【請求項２】
第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２が、２個の同一または２個の異なる炭化水素基を含むこと、ならびに第二級ホスフィノ基：Ｘ１およびＸ２が、同一または異なっていることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｘ１およびＸ２が、−Ｐ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２、−Ｐ（Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル）２、−Ｐ（Ｃ７〜Ｃ１２−ビシクロアルキル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリス（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）２Ｃ６Ｈ３］２および−Ｐ［３，５−ビス（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２−４−（Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ）Ｃ６Ｈ２］２からなる群から選択される同一または異なる非環式sec−ホスフィノ基、あるいは非置換であるか、またはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１〜Ｃ２−アルキル、フェニル、ベンジル、ベンジルオキシ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキリデンジオキシル、および非置換もしくはフェニル置換のメチレンジオキシルから選択される置換基１個以上により置換された、
【化２】
からなる群から選択される環状ホスフィンであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｘ１およびＸ２が、それぞれ、−Ｐ（ＣＨ３）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ３Ｈ７）２、−Ｐ（ｎ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（ｉ−Ｃ４Ｈ９）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２、−Ｐ（ノルボルニル）２、−Ｐ（ｏ−フリル）２、−Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、−Ｐ［２−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［２−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［４−（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ４］２、−Ｐ［３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，５−ビス（メトキシ）Ｃ６Ｈ３］２、−Ｐ［３，４，５−トリ（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、−Ｐ［３，５−ビス（メチル）２−４−（メトキシ）Ｃ６Ｈ２］２、または式：
【化３】
（式中、Ｒ′は、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、またはベンジルオキシメチルであり、Ｒ″は、Ｒ′の意味の一つを有する）の一つを有する基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
式Ｉ中のｎが、０であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
置換基：Ｒ１が、５位で結合されており、置換基が、かさ高な置換基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項７】
置換基：Ｒ１が、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換または非置換のフェニル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ、トリフェニルシリル、ハロゲン、−ＳＲ０６、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨＲ０６ＯＨ、−ＣＲ０６Ｒ′０６ＯＨ、−ＣＨ２Ｏ−Ｒ０６、−ＣＨ（Ｏ）、−ＣＯ２Ｈ、−ＣＯ２Ｒ０６（式中、Ｒ０６は、炭素原子を１〜１０個有する炭化水素基であり、Ｒ′０６Ｏは、独立して、Ｒ′０６の意味の一つを有する）、および−Ｐ（Ｏ）（Ｒ０３）２（式中、Ｒ０３は、水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルキル、フェニルまたはベンジルである）から選択されることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
式Ｉで示される化合物が、式Ｉａ：
【化４】
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、それぞれ互いに独立して、第二級ホスフィノ基であり、
Ｒ１は、炭素原子またはＳｉ原子を介してシクロペンタジエニル環に結合したハロゲン原子または置換基である）
で示されるラセミ体、立体異性体の混合物、または光学的に純粋な立体異性体に対応することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１が、置換もしくは非置換の直鎖状もしく分枝状Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル−Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ１８−アリール、置換もしくは非置換のＣ７〜Ｃ１８−アラルキル、トリ（Ｃ１〜Ｃ４−アルキル）Ｓｉ−、トリフェニルシリル、またはＦ、ＣｌおよびＢｒであることを特徴とする、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
元素周期表の遷移金属の群、好ましくはＣｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、ＲｕおよびＰｔの群から選択される金属と、配位子としての式Ｉで示される化合物との錯体。
【請求項１１】
式IIIおよびIV：
【化５】
（式中、
Ａ３は、式Ｉで示される化合物の１種であり；
Ｌは、同一もしくは異なる単座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表すか、またはＬは、同一もしくは異なる二座陰イオン性もしくは非イオン性配位子を表し；
Ｌが単座配位子であればｒは２、３もしくは４であり、またはＬが二座配位子であればｎは１もしくは２であり；
ｚは、１、２または３であり；
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ、およびＲｕからなる群から選択される金属であり、金属は、酸化状態：０、１、２、３または４を有し；
Ｅ−は、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；
陰イオン性配位子は、金属の酸化状態：１、２、３または４の電荷と均衡を保っている）に対応する、請求項１０記載の金属錯体。
【請求項１２】
式VII：
【化６】
（式中、
Ｚは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；Ａ３は、式Ｉで示される化合物であり；Ｌは、同一もしくは異なる配位子を表し；Ｅ−は、オキソ酸、鉱酸または錯酸の陰イオンであり；Ｓは、配位子として配位が可能な溶媒であり；ａは、１〜３であり、ｂは、０〜４であり、ｃは、０〜６であり、ｄは、１〜３であり、ｅは、０〜４であり、ｆは、１〜３であり、ｇは、１〜４であり、ｈは、０〜６であり、ｋは、１〜４であり、錯体の電荷の合計は、０である）に対応する、請求項１０記載の金属錯体。
【請求項１３】
触媒の存在下、プロキラル有機化合物中で水素を炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に不斉付加することにより、キラル有機化合物を製造する方法であって、請求項１０記載の少なくとも１種の金属錯体の触媒量の存在下で付加反応を実施することを特徴とする方法。
【請求項１４】
キラル有機化合物の製造のための、好ましくはプロキラル有機化合物中で水素を炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合に不斉付加するための均一触媒としての、請求項１０記載の金属錯体の使用。
【公表番号】特表２００９−５０４６１８（Ｐ２００９−５０４６１８Ａ）
【公表日】平成２１年２月５日（２００９．２．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５２５５８４（Ｐ２００８−５２５５８４）
【出願日】平成１８年８月１０日（２００６．８．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６５１９６
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０１７５２２
【国際公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【出願人】（５９９１６３１５９）ソルヴィーアス アクチェンゲゼルシャフト (22)
【氏名又は名称原語表記】Ｓｏｌｖｉａｓ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年２月５日（２００９．２．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年８月１０日（２００６．８．１０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６５１９６
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０１７５２２
【国際公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【出願人】（５９９１６３１５９）ソルヴィーアス アクチェンゲゼルシャフト (22)
【氏名又は名称原語表記】Ｓｏｌｖｉａｓ ＡＧ
【Ｆターム（参考）】
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