プライミング処理方法及びプライミング処理装置
【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取り、その後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４に巻き取られた塗布液膜の自然乾燥を促し、所定時間経過後にプライミングローラ１４の回転を停止させて該塗布液膜を所定の待機用回転角位置に着かせ、該塗布液膜の自然乾燥を継続する。その後、この塗布液膜を洗浄によって除去する。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取り、その後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４に巻き取られた塗布液膜の自然乾燥を促し、所定時間経過後にプライミングローラ１４の回転を停止させて該塗布液膜を所定の待機用回転角位置に着かせ、該塗布液膜の自然乾燥を継続する。その後、この塗布液膜を洗浄によって除去する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法およびプライミング処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のスリットノズルを走査して被処理基板（たとえばガラス基板）上にレジスト液を塗布するスピンレス法が多く用いられている。
【０００３】
このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスがノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たすために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。
【０００４】
代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置までスリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミングローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにしてプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリットノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残る。
【０００５】
従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、１回のプライミング処理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液をこそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそれぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。
【０００６】
しかしながら、１回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミングローラの全周（３６０°）を必要とするものではなく、通常は半周（１８０°）以下であり、１／４周（９０°）以下あるいは１／５周（７２°）以下で済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングローラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体（全周）に洗浄液を噴き付けるため、洗浄液（通常シンナー）を多量に使用するという問題があった。
【０００７】
本出願人は、この問題を解決するために、特許文献１において、１回のプライミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液または塗布液（たとえばレジスト液）を吐出させるとともにプライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理法を開示している。
【０００８】
このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割してそれらの分割領域（部分的表面領域）を連続する所定回数のプライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこすげ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防止することもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−２３７０４６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、本出願人が上記特許文献１で開示したプライミング処理法の改良版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現するものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と、前記第３の工程と前記第４の工程との間で、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第３の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第７の工程とを有する。
【００１３】
また、本発明の第１の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、前記プライミングローラの外周面の上に前記第１の塗布液膜を巻き取ってから前記プライミングローラの回転を停止させるまでの間、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記回転機構による前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる。
【００１４】
上記第１の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上に形成される塗布液膜は、その巻き取りの直後に行われる継続回転動作の間に液垂れを起こさないのはもちろん、継続回転運動中に前端の液溜まり部がある程度均されることにより、待機用回転角位置で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなる。つまり、待機用回転角位置の設定範囲を拡張できる効果が得られる。
【００１５】
本発明の第２の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程とを有し、前記第６の工程において、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち塗布膜液が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。
【００１６】
また、本発明の第２の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、前記洗浄機構により前記プライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。
【００１７】
上記第２の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上で、塗布液膜の液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれがないことに加えて、洗浄工程ではプライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００１８】
本発明の第３の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程とを有し、前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する。
【００１９】
また、本発明の第３の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定するための液膜測定部と、洗浄処理の前に、前記液膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記塗布液膜の前記洗浄処理で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記液膜測定部および前記洗浄液使用量決定部によって決定された使用量の洗浄液を用いて、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する。
【００２０】
上記第３の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上で、塗布液膜の液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれがないことに加えて、洗浄液の使用量を液膜測定および演算に基づいて最適化し、洗浄液の更なる節減を実現することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図３】第１の実施例において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図４】第１の実施例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図５】第１の実施例においてプライミングローラの一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図６】図５のプライミング処理動作および一括洗浄処理におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図７】洗浄工程におけるプライミング処理装置の作用を説明するための図である。
【図８】第１の実施例の一変形例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図９】上記変形例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１０】第１の実施例の別の変形例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１１】上記変形例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１２】第２の方式において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１３】第２の方式において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図１４】第２の実施例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１５】第２の実施例において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。
［プライミング処理装置の構成］
【００２４】
図１に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばＬＣＤ製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置（図示せず）に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ（図示せず）の近くに配置される。
【００２５】
図示のプライミング処理装置において、ハウジング１０は、上面にスリット状の開口部１２を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ１４をその頂部が開口部１２を介して上方に露出するように軸受（図示せず）で水平かつ回転可能に支持している。
【００２６】
プライミングローラ１４は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円柱状のローラであり、一定の外径（たとえば１００〜１５０ｍｍ）と後述するスリットノズル７２の全長をカバーする長さを有している。ハウジング１０も、たとえばステンレス鋼で作られてよい。
【００２７】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４の頂部または最上部を基準位置Ｐ0（０°）として、正回転（図１では反時計回り）の周回方向で好ましくは回転角位置９０°〜１８０°の区間内に、洗浄機構１６の洗浄ノズル１８が設けられている。この洗浄ノズル１８は、好ましくは長尺形の２流体ジェットノズルからなり、プライミングローラ１４の全長をカバーする長さでそれと平行に配置され、配管２０，２２を介して洗浄液供給部２４およびガス供給部２６に接続されている。配管２４，２６の途中には開閉弁２８，３０がそれぞれ設けられている。
【００２８】
プライミングローラ１４を洗浄する時は、開閉弁２８，３０が開けられ、２流体ジェットノズル１８は、洗浄液供給部２４およびガス供給部２６よりそれぞれ洗浄液（たとえばシンナー）およびガス（たとえばエアまたは窒素ガス）を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまたは多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ１６の外周面に噴き付けるように構成されている。洗浄制御部２５は、洗浄液供給部２４、ガス供給部２６および開閉弁２８，３０を制御し、特に後述する主制御部７０からの指示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになっている。
【００２９】
開口部１２と洗浄機構１６との間の区間は、ハウジング１０の内壁がプライミングローラ１４の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミスト遮蔽部３２となっている。プライミングローラ１４を洗浄する時に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部３２の隙間を通って開口部１２側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。
【００３０】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４を中心にしてミスト遮蔽部３２および洗浄機構１６の反対側に、ミスト引き込み部３４、吸引口３６および強制乾燥部３８が設けられている。
【００３１】
ミスト引き込み部３４は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部を基準位置Ｐ0（０°）として正回転の周回方向で回転角位置１８０°〜２７０°の区間内に設けられる。図示の構成例のミスト引き込み部３４は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間４０を有している。
【００３２】
強制乾燥部３８は、好ましくは、ミスト引き込み部３４よりも下流側で回転角位置２７０°〜３６０°の区間内に設けられる。図示の構成例の強制乾燥部３８は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成された液切り用の隙間４２を有している。
【００３３】
吸引口３６は、バキューム通路４４およびバキューム管４６を介して、たとえば真空ポンプまたは吸気ファン（図示せず）およびミストトラップまたはフィルタ等を有するバキューム装置４８に通じている。バキューム通路４４の終端付近には、排気弁制御部５０によって開閉制御される排気ダンパ５２が設けられている。バキューム装置４８をオンにして、排気ダンパ５２を開状態にすると、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８が作動し、ミスト引き込み用の隙間４０および液切り用の隙間４２に外から吸気口３６に向ってミスト引き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排気ダンパ５２を閉じると、バキューム装置４８がオンしていても、吸気口３６にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８はオフ状態になる。
【００３４】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４の周囲を強制的に排気するための排気機構４５は、上記のようにミスト引き込み部３４、吸引口３６、強制乾燥部３８、バキューム装置４８、排気弁制御部５０および排気ダンパ５２を備えている。
【００３５】
ハウジング１０の底には、プライミングローラ１４の真下の位置にドレイン口５４が形成されている。このドレイン口５４は排液管５６を介してドレインタンク５８に通じている。
【００３６】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４を回転させるための回転機構６５は、モータ６０、回転制御部６２およびエンコーダ６４を備えている。モータ６０は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構（図示せず）を介してプライミングローラ１４の回転軸に接続されている。回転制御部６２は、モータ６０の基本動作（回転、停止、速度制御等）だけでなく、エンコーダ６４を通じてモータ６０の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。
【００３７】
このプライミング処理装置には、プライミングローラ１４上のレジスト膜の膜厚を測定するための膜厚測定部６７が設けられている。膜厚測定部６７は、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８を有している。
【００３８】
膜厚センサ６６は、スリットノズル７２と干渉を起こさないように開口部１２の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ１４の外周面上に付着しているレジスト液膜の膜厚を非接触式つまり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ６６をたとえば支持アーム等で可動に支持し、スリットノズル７２がハウジング１０の開口部１２から遠ざかっているときに、膜厚センサ６６を開口部１２の上に位置合わせしてもよい。
【００３９】
膜厚演算部６８は、膜厚センサ６６の出力信号を入力して、プライミングローラ１４上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミングローラ１４の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ６６が一列に配置され、プライミングローラ１４の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部６７で得られる膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部７０に送られる。
【００４０】
主制御部７０は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構１６、排気機構４５、回転機構６５および膜厚測定部６７の動作を統括して制御する。図示の構成例では、主制御部７０が、バキューム装置４８、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部２５、排気弁制御部５０および回転制御部６２を通じて２流体ジェットノズル１８、排気ダンパ５２およびモータ６０の各動作を制御する。さらに、主制御部７０は、回転機構６５の回転制御部６２を通じてプライミングローラ１４の回転量および回転角位置を把握ないし制御できるようになっている。
【００４１】
また、主制御部７０は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル７２の一切の動作を制御するようになっている。
【００４２】
すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリットノズル７２には、レジスト供給部７６よりレジスト供給管７８を介してレジスト液が供給される。ここで、レジスト供給管７８には開閉弁８０が設けられている。プライミング処理に関しては、主制御部７０が、ノズル移動機構７４、レジスト供給部７６、開閉弁８０を通じて、スリットノズル７２の移動や位置決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。
［プライミング処理方法の第１の実施例］
【００４３】
次に、図２〜図１１につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第１の実施例を説明する。
【００４４】
このプライミング処理装置が組み込まれる当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行われる。
【００４５】
図２に、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから最初（１回目）のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図３に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００４６】
このプライミング処理では、先ず、図１に示すように、スリットノズル７２の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数十〜数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通じてスリットノズル７２を位置決めする。この場面では、洗浄機構１６はもちろん、排気機構４５も止めたままにしておく。
【００４７】
次に、図２のＩ（吐出・放置）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたまま、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に所定時間（ｔ0〜ｔ1：たとえば１秒間）を費やして一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、その直後に所定時間（ｔ1〜ｔ2：たとえば３秒間）そのまま放置する。スリットノズル７２より吐出されたレジスト液Ｒは、放置時間（ｔ1〜ｔ2）中にスリットノズル７２の吐出口付近およびプライミングローラ１４の頂部付近でノズル長手方向およびローラ周回方向で周囲に広がる。
【００４８】
次いで、回転機構６５により所定のタイミング（図３の時点ｔ2）でプライミングローラ１４に正方向の回転動作を開始させ、図２のII（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるようにして、プライミングローラ１４の外周面上に設定された第１の分割領域１４(1)にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで、レジスト液Ｒを巻き取るときのローラ回転速度Ｖaは、レジスト液Ｒの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で数１０ｍｍ／秒に選ばれる。
【００４９】
次いで、所定のタイミング（図３の時点ｔ3）でプライミングローラ１４の回転速度を一気に上げる。これによって、図２のIII（切り離し）に示すように、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル７２を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル７２には、ノズル吐出口から背面下端部７２ａにかけてレジスト液の液膜ＲＦが残る。
【００５０】
一方、プライミングローラ１４の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ1が第１のレジスト液膜（塗布液膜）として残る。ここで、プライミングローラ１４の正回転方向において第の１レジスト液膜ＲＭ1の前端部に断面瘤状の液溜まり部ｍ1が生じる傾向がある。
【００５１】
たとえば、プライミングローラ１４の外周面を周回方向で４等分に分割して各分割領域１４(n) （ｎ＝1〜４）を１回分のプライミング処理に充てる場合、各分割領域１４(n)に形成される各レジスト液膜ＲＭnの周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば７５°〜８５°のサイズに設定することができる。
【００５２】
こうしてスリットノズル７２から第１のレジスト液膜ＲＭ1を切り離した後は、プライミングローラ１４の回転を止めずに、第１のレジスト液膜ＲＭ1を図２のIV（停止・待機）に示すような第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞まで回転移動させ、そこでプライミングローラ１４の回転を停止させる。
【００５３】
この場合、レジスト液膜ＲＭ1を切り離してから停止するまで（ｔ4〜ｔ5）のプライミングローラ１４の回転速度特性は、任意に設定可能であるが、図３に示すように切り離し速度Ｖbよりも一段高い速度Ｖcに上げてから一定のレート（負の加速度）で減速させる特性に定型化するのが好ましい。
【００５４】
こうして、回転運動中のプライミングローラ１４上で第１のレジスト液膜ＲＭ1（特に液溜まり部ｍ1）からレジスト液が重力で垂れることなく、つまりプライミングローラ１４の外周面上の他の分割領域（未使用領域）を汚すことなく、第１のレジスト液膜ＲＭ1を第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞まで安定に移動させることができる。
【００５５】
すなわち、レジスト液膜ＲＭnを切り離した直後に、プライミングローラ１４の回転を止めたならば、レジスト液膜ＲＭnには重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミングローラ１４の外周面上でレジスト液膜ＲＭnが下または前方に垂れる。スリットノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常２０ｃｐ以下の低粘度レジスト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の液垂れが生じやすい。しかるに、この実施例では、プライミングローラ１４の回転を止めずにそのまま継続させることによって、レジスト液膜ＲＭnに働く重力の作用（液垂れを誘引する力）を実質的にキャンセルし、プライミングローラ１４上に巻き取ったレジスト液膜ＲＭnを液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域（分割領域）内に止めておくことができる。
【００５６】
第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞として、好ましくは、図２のIV（停止・待機）に示すように、第１のレジスト液膜ＲＭ1の中心がローラ最下部（１８０°）に着く位置を選定することができる。この場合、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において、第１のレジスト液膜ＲＭ1の前端は２２５°の回転角位置よりも上流側に収まり、第１のレジスト液膜ＲＭ1の後端は１３５°の回転角位置よりも下流側に収まる。
【００５７】
この第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で第１のレジスト液膜ＲＭ1を静止させておくことにより、たとえ第１のレジスト液膜ＲＭ1の中で液の移動があっても、特に液溜まり部ｍ1から低位の部位へレジスト液の移動があっても、第１のレジスト液膜ＲＭ1の膜厚が均される方向に作用するだけであり、隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００５８】
こうして、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、次回（２回目）のプライミング処理が行われるまで、プライミングローラ１４上の第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で静止した状態で所定時間（ｔ4〜ｔ5：たとえば４０〜５０秒間）周囲の空気または自然乾燥に晒される。
【００５９】
この間に、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって塗布ステージへ送られ、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処理を終えると、スリットノズル７２は、再びこのプライミング処理装置へ戻ってきて、図１に示すように、その吐出口がプライミングローラ１４の頂部に対して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。
【００６０】
図４に、２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。好ましくは、プライミングローラ１４の外周面上で第１のレジスト液膜ＲＭ1の下流側隣の分割領域１４(2)が２回目のプライミング処理に充てられる。このために、２回目のプライミング処理を開始する直前に、プライミングローラ１４を所定の回転角だけ正方向に回転させておく。
【００６１】
この２回目のプライミング処理では、図４のＩ（吐出・放置）に示すように、プライミングローラ１４の外周面上の分割領域１４(2)（より正確には、この分割領域の前端部）をプライミングローラ１４の頂部に位置させ、１回目のプライミング処理のときと全く同じ動作およびタイミングで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、直後に所定時間そのまま放置する。
【００６２】
次いで、図４に示すように、やはり１回目のプライミング処理のときと同じ動作およびタイミングで、レジスト液Ｒの巻き取り（II）、切り離し（III）、停止・待機（IV）の各工程が順次行われる。
【００６３】
この場合も、１回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り（II）および切り離し（III）の工程により、プライミングローラ１４の外周面上に所定の周回方向サイズ（回転角度範囲で７５°〜８５°）でレジスト液Ｒが巻き取られて第２のレジスト液膜ＲＭ2が形成される。そして、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続して切り離し（III）の位置から第２の待機用回転角位置＜Ｐ２＞まで第２のレジスト液膜ＲＭ2を移動させる。
【００６４】
こうして、回転運動中のプライミングローラ１４上で第２のレジスト液膜ＲＭ2（特に液溜まり部ｍ2）からレジスト液が重力で垂れることなく、第２レジスト液膜ＲＭ2を第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞まで安定に移動させることができる。
【００６５】
第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞も、好ましくは、図４のIV（停止・待機）に示すように、第２のレジスト液膜ＲＭ2の中心がローラ最下部（１８０°）に来る位置を選定することができる。この場合、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において、第２のレジスト液膜ＲＭ2の前端は回転角２２５°の位置よりも下流側に収まり、第２のレジスト液膜ＲＭ2の後端は１３５°の回転角位置よりも上流側に収まる。この第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞で第２のレジスト液膜ＲＭ2を静止させておくことにより、たとえ第２のレジスト液膜ＲＭ2の中で液の移動があっても、隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００６６】
なお、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において第２のレジスト液膜ＲＭ2の上流側隣、つまり回転角位置４５°〜１３５°の範囲内で待機することなる。ここで、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、１回目のプライミング処理が終了した時から２回目のプライミング処理が開始されるまでの間に、第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で自然乾燥を受けていたために、その液膜表面がある程度乾いており、第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞から外れた位置（４５°〜１３５°の範囲内）で静止しても液垂れを起こし難くなっている。また、仮に、プライミングローラ１４上で、第１のレジスト液膜ＲＭ1の前端部（液溜まり部ｍ1）から低位の場所（第２のレジスト液膜ＲＭ2の後端部側）へレジスト液の移動（液垂れ）があるとしても、その場所は使用済みの分割領域１４(1)〜１４(2)内であり、何の支障も生じない（未使用領域を汚すことはない）。
【００６７】
３回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した１回目および２回目のプライミング処理と全く同じ手順および動作で行われる。結果として、プライミングローラ１４上で、第１および第２のレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2とは異なる領域に、通常は正回転の周回方向において第２のレジスト液膜ＲＭ2の下流側隣の分割領域１４(3)に、３回目のプライミング処理に付随した残存物として第３のレジスト液膜ＲＭ3が所定の周回方向サイズ（７５°〜８５°）で形成される。この第３のレジスト液膜ＲＭ3は、プライミングローラ１４の巻き取られた直後にローラ最下部（１８０°）付近に設定された第３の待機用回転角位置＜Ｐ3＞に移動し、そこで自然乾燥を受ける。
【００６８】
図示省略するが、プライミングローラ１４上で、第３のレジスト液膜ＲＭ3がローラ最下部（１８０°）の第３の待機用回転角位置＜Ｐ3＞で待機する間、第２のレジスト液膜ＲＭ2は第３のレジスト液膜ＲＭ3の上流側隣つまり回転角位置４５°〜１３５°の領域内で待機し、第１のレジスト液膜ＲＭ1は第２のレジスト液膜ＲＭ1の上流側隣つまり回転角位置４５°〜４５°の領域内で待機することになる。
【００６９】
この場合、第２レジスト液膜ＲＭ2については、上述したような２回目のプライミング処理後の第１のレジスト液膜ＲＭ1と同じことがあてはまり、液垂れの問題はない。また、第１レジスト液膜ＲＭ1は、その中心部がローラ最上部に位置し、その後端部が隣の未使用領域つまり第４の分割領域１４(4)よりも高位置になる。しかし、第１のレジスト液膜ＲＭ1は相当長時間（通常１００秒以上）の自然乾燥に晒されてきているので、第１のレジスト液膜ＲＭ1の後端部から隣の未使用領域（第４の分割領域１４(4)）へ液が垂れることはない。
【００７０】
この第１の実施例では、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから所定回数たとえば４回のプライミング処理を続けて行った後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周の清浄化）を行うようにしている。
【００７１】
図５に、プライミングローラ１４の一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図６に、図５のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００７２】
最終回（４回目）のプライミング処理でも、図５に示すように、レジスト液Ｒの吐出・放置（Ｉ）、レジスト液膜ＲＭ4の巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は１回目〜３回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ１４の外周面上には第３のレジスト液膜ＲＭ3の下流側隣の第４分割領域１４(4)に第４のレジスト液膜ＲＭ4が巻き取られる。
【００７３】
しかし、切り離し（III）の後は、停止・待機（IV）の工程をスキップして、プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。
【００７４】
なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着しているレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3,ＲＭ4の範囲（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト液膜の総レジスト量（範囲×膜厚）を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値（総レジスト量）に等しい値に決定してよい。
【００７５】
また、レジスト液膜測定に関しては、通常はプライミングローラ１４上で同じプライミング処理が繰り返されるので、各分割領域１４(n)に付着しているレジスト液膜ＲＭnの範囲および膜厚は同じであるとみなし、その中の一つ、たとえば第１のレジスト液膜ＲＭ1の範囲（面積）および膜厚だけの測定で済ましてもよい。
【００７６】
洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部７０は、２流体ジェットノズル１８がプライミングローラ１４の外周面の中でレジスト液膜ＲＭ1〜Ｍ4が付着している領域または部位のみに洗浄液およびエアの２流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構６５と洗浄機構１６とを連動（連携）させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。
【００７７】
こうして、２流体ジェットノズル１８より噴射される２流体ジェット流の強い衝撃力により、プライミングローラ１４の外周面上に付着したばかりの第４レジスト液膜ＲＭ4はもちろん自然乾燥によって生乾きまたは半乾き状態になっている他の全てのレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレイン口５４へ落下し、残りはミストｍａに変じて付近に飛散する。こうして一括洗浄中に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａのうち上方へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部３２に遮られ、ハウジング１０の開口部１２側に出ることはほとんどない。
【００７８】
一方、排気機構４５では、排気ダンパ５２が開いて、バキューム装置４８からのバキュームがバキューム管４６、バキューム通路４４および吸引口３６を介してミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８に供給される。
【００７９】
図７に示すように、ミスト引き込み部３４は、２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａを隙間４０の下端から中に吸い込み、隙間４０の中でミストｍａをプライミングローラ１４の外周面に沿って回転方向に流し、隙間４０の上端から吸引口３６に出たミストｍａをバキューム装置４８へ送る。強制乾燥部３８は、開口部１２を介して上方の大気空間よりエアを隙間４２の中に吸い込んで、隙間４２の中でエアをプライミングローラ１４の外周に沿って回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ１４の外周面に残っている液をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間４２の下端から吸引口３６に出たミストｍｂをバキューム装置４８へ送る。このように、バキュームを利用してプライミングローラ１４の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて液切りし、その液切りで発生したミストｍｂをそのままバキュームで回収するので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。
【００８０】
上記のような洗浄（V）の工程を開始してから所定時間が経過した時（図６の時点ｔG）に洗浄機構１６をオフして、２流体ジェット洗浄を止める。その後は、プライミングローラ１４を連続回転させたまま排気機構４５（ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８）の動作だけを継続させ、プライミングローラ１４の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥（VI）の工程に切り換える。そして、所定時間の経過後に排気ダンパ５２を閉じて排気機構４５をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了する。
【００８１】
なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制乾燥（VI）を合わせた全処理時間（図６のｔ4〜ｔH）が、移動・待機（IV）の所要時間（図３のｔ4〜ｔ6）と同じ長さ（たとえば６０秒）に設定されるのが好ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間（図６のｔ4〜ｔG）がたとえば２０秒に設定され、強制乾燥（VI）の処理時間（図６のｔG〜ｔH）がたとえば４０秒に設定されてよい。
【００８２】
上述したように、この第１の実施例によれば、プライミングローラ１４の外周面をその周回方向に複数（たとえば４つ）に分割してそれらの分割領域１４(1)〜１４(4)を連続する所定回数（４回）のプライミング処理にそれぞれ割り当てて使用する。そして、最終回（４回目）のプライミング処理を除く各プライミング処理においては、各レジスト液膜ＲＭnをプライミングローラ１４上に巻き取った直後に特別な待機用回転角位置＜Ｐn＞へ着かせて、次のプライミング処理が行われるまでその待機用回転角位置＜Ｐn＞で待機させることによって、各レジスト液膜ＲＭn（特に液溜め部ｍn）からの液垂れを防止して自然乾燥の生乾きまたは半乾き状態にすることができる。
【００８３】
このように、プライミングローラ１４上で、レジスト液膜ＲＭnの液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続のプライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。
【００８４】
また、プライミングローラ１４上に付着したレジスト液膜ＲＭnは自然乾燥による生乾き状態のレジスト液膜として、あるいは完全な液状状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構１６の負担を軽減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。
【００８５】
さらに、一括洗浄では、プライミングローラ１４の外周面のうちレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3，ＲＭ4が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００８６】
なお、図示の例では、プライミングローラ１４の外周面を周回方向で４等分に分割し、１回のプライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを７５°〜８５°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たとえば１回当たりの周回方向巻き取りサイズを７２°以下で済まし、プライミングローラ１４の外周面を５分割して５回連続使用することも可能である。
【００８７】
また、待機用回転角位置＜Ｐn＞に関する別の好適な例として、たとえば図８（１回目のプライミング処理）および図９（２回目のプライミング処理）に示すように、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られて切り取られた直後のレジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着くような回転角位置を設定することも可能である。図示のような待機用回転角位置＜Ｐn＞でレジスト液膜ＲＭnを待機（静止）させておくことにより、たとえ当該レジスト液膜ＲＭ1の中で液の移動があっても、最下位の液溜まり部ｍnに集まり（止まり）、下流側隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００８８】
要するに、基本的に、待機用回転角位置＜Ｐn＞は、レジスト液膜ＲＭnの中心がローラ最下部に着く回転角位置（図２、図４）と、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く回転角位置（図８、図９）との範囲内に設定されるのが好ましい。
【００８９】
待機用回転角位置＜Ｐn＞に関する更に別の好適な例として、たとえば図１０（１回目のプライミング処理）および図１１（２回目のプライミング処理）に示すように、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られて切り取られた直後のレジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最上部に着くような回転角位置を設定することも可能である。図示のような待機用回転角位置＜Ｐn＞でレジスト液膜ＲＭnを待機（静止）させておくことにより、最も液垂れを起こしやすい液溜まり部ｍnが略水平なローラ頂面に載っているため、そこから下流側隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
［プライミング処理方法の第２の方式］
【００９０】
次に、図１２および図１３につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第２の方式を説明する。
【００９１】
図１２に、第２の方式において、プライミングローラ１４上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図１３に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００９２】
この第２の方式は、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られるレジスト液膜ＲＭnの前端部に液溜め部ｍnを生じさせないことを特徴とする。そのための手法として、レジスト吐出工程（I）の直後に、しばらくそのまま放置するのではなくて、図１２のIIＡに示すように、先ずプライミングローラ１４を巻き取り速度Ｖaよりも低い速度（たとえば周速度で１０ｍｍ／秒以下）Ｖeで所定の回転角（たとえば３０°〜５０°）または所定時間（図１３のｔ1〜ｔN：たとえば約１．５秒）だけ正方向に回転させる。次に、つまりプライミングローラ１４の低速正回転を停止させた後、図１２のIIBに示すように、プライミングローラ１４を今度は同一または同程度の低速度Ｖfで略同一の回転角または所定時間（図１３のｔN〜ｔ2：たとえば約１．５秒）だけ逆方向に回転させる。
【００９３】
このようなプライミングローラ１４の好ましくは低速の往復回転運動によって、レジストノズル７２よりプライミングローラ１４上に吐出されたばかりのレジスト液Ｒがレジストノズル７２の吐出部（下端面）によりローラ周回方向で均され、液膜端部に液溜まり（ｍn）が生じ難くなる。また、付随的効果として、レジストノズル７２において、その吐出口付近に形成されるレジスト液のビードの均一性が向上する。
【００９４】
こうして、レジストノズル７２の吐出口回りでレジスト液Ｒをローラ周回方向において（更にはノズル長手方向においても）十全に均してから、上述した第１の実施例と同様の動作およびタイミングで、巻き取り動作(III）、切り離し（IV）、および待機用回転角位置＜Ｐn＞への移動・停止(V)の各工程を実行する。その結果、プライミングローラ１４上には液溜まり（ｍn）の無い平坦なレジスト液膜ＲＭnが巻き取られ、この平坦なレジスト液膜ＲＭnが待機用回転角位置＜Ｐn＞で自然乾燥に晒される。
【００９５】
この第２の方式において、プライミングローラ１４上に形成されるレジスト液膜ＲＭnは、待機用回転角位置＜Ｐn＞へ移動する途中で液垂れを起こさないのはもちろん、液溜まり（ｍn）が無いので、待機用回転角位置＜Ｐn＞で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなっている。つまり、待機用回転角位置＜Ｐn＞の設定範囲を拡張できる効果が得られる。たとえば、図１２に示すように、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く位置＜ＡＰn＞はもちろん、限界位置としてレジスト液膜ＲＭnの前端が２７０°の回転角位置に着く位置＜ＢＰn＞でも液垂れを起こさないようにすることが可能である。
【００９６】
この第２の方式の変形例として、特にプライミングローラ１４の往復回転動作(IIＡ，IIＢ)に関する変形例として、往復回数を２回以上とすること、逆回転から先に行うこと、正回転動作と逆回転動作の条件（速度、時間、移動距離等）を独立に設定すること等が可能である。
［プライミング処理方法の第２の実施例］
【００９７】
次に、図１４および図１５につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第２の実施例を説明する。
【００９８】
図１４に、第２の実施例において、プライミングローラ１４上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図１５に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００９９】
この第２の実施例は、プライミングローラ１４上にレジスト液膜ＲＭnを巻き取って切り離した直後に、プライミングローラ１４の回転運動をそのまま一定速度（たとえば切り離し速度Ｖaと同じ速度）で所定時間（図１５のｔ4〜ｔJ：好ましくは１０秒以上）継続させる継続回転の動作(Q）を行ってから、最後に（図１５のｔJ〜ｔKで）所定の待機用回転角位置＜Ｐn＞へ着ける動作(IV)を行う。
【０１００】
継続回転動作(Q）の間は、排気機構４５は止めておく。すなわち、排気機構４５をオンにしてプライミングローラ１４を回転させると、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ1が強制乾燥部３８の隙間４２の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい。特に、強制乾燥部３８の隙間４２内でレジスト液膜ＲＭnに加わる逆風の圧力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜ＲＭnの表面に周回方向に延びる筋状の凹凸が付きやすい。排気機構４５を止めておけば、プライミングローラ１４の回転中にその外周面上のレジスト液膜ＲＭnは隙間４２を通過する時でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合と同等の自然乾燥をより効果的に受けられる。
【０１０１】
この第２の実施例においても、プライミングローラ１４上に形成されるレジスト液膜ＲＭnは、継続回転動作(Q）の間に液垂れを起こさないのはもちろん、回転運動中に前端の液溜まり部（ｍn）がある程度均されることによって、待機用回転角位置＜Ｐn＞で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなっている。つまり、第２の実施例と同様に、待機用回転角位置＜Ｐn＞の設定範囲を拡張できる効果が得られる。たとえば、図１４に示すように、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く位置＜ＡＰn＞はもちろん、限界位置としてレジスト液膜ＲＭnの前端が２７０°の回転角位置に着く位置＜ＢＰn＞でも液垂れを起こさないようにすることが可能である。
［他の実施例］
【０１０２】
この第２の実施例を上記第１の実施例と組み合わせることも可能であり、その場合は相乗作用によって液垂れ防止効果を一層向上させることができる。
【０１０３】
一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ１４の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。
【０１０４】
プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のものに限定されない。たとえば、洗浄機構１６において２流体ジェットノズル以外の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構４５の各部、特に強制乾燥部３８の構成を種種変形することができる。
【０１０５】
本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
【符号の説明】
【０１０６】
１４ プライミングローラ
１６ 洗浄機構
１８ 洗浄ノズル
２４ 洗浄液供給部
２５ 洗浄制御部
４８ バキューム装置
６０ モータ
６２ 回転制御部
６５ 回転機構
６６ 膜厚センサ
６８ 膜厚演算部
７０ 主制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理方法およびプライミング処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、スリット状の吐出口を有する長尺形のスリットノズルを走査して被処理基板（たとえばガラス基板）上にレジスト液を塗布するスピンレス法が多く用いられている。
【０００３】
このようなスピンレス法においては、レジスト乾燥膜の膜厚の不均一性や塗布ムラを防止するうえで、塗布走査中に基板上に吐出されたレジスト液が走査方向においてスリットノズルの背面側に回って形成されるメニスカスがノズル長手方向で水平一直線に揃うのが望ましく、そのためには塗布走査の開始直前にスリットノズルの吐出口と基板との間の塗布ギャップが隙間なく適量のレジスト液で塞がることが必要条件となっている。この要件を満たすために、塗布走査の下準備としてスリットノズルの吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜を形成するプライミング処理が行われている。
【０００４】
代表的なプライミング処理法は、スリットノズルと同等またはそれ以上の長さを有する円筒状のプライミングローラを塗布処理部の近くで水平に設置し、微小なギャップを介してプライミングローラの頂部と対向する位置までスリットノズルを近づけてレジスト液を吐出させ、その直後にプライミングローラを所定方向に回転させる。そうすると、プライミングローラの頂部付近に吐出されたレジスト液がスリットノズルの背面下部に回り込むようにしてプライミングローラの外周面上に巻き取られ、スリットノズル側とプライミングローラ側とに分かれる形でレジスト液の液膜が切り離される。スリットノズルには、ノズル吐出口から背面下端部にかけてレジスト液の液膜が残る。
【０００５】
従来一般のプライミング処理装置は、プライミングローラを回転駆動する回転機構だけでなく、プライミングローラをクリーニングするためのスクレーパや洗浄ノズルおよび乾燥ノズル等を備えており、１回のプライミング処理が終了すると、その後処理として、回転機構によりプライミングローラを連続回転させ、スクレーパでプライミングローラの外周面からレジスト液をこそげ落とし、洗浄ノズルおよび乾燥ノズルより洗浄液および乾燥ガスをそれぞれプライミングローラの外周面に噴き付けるようにしている。
【０００６】
しかしながら、１回のプライミング処理でスリットノズルより吐出されるレジスト液を受けて巻き取るために使用されるプライミングローラ上の領域は、スリットノズルやプライミングローラのサイズによって異なるが、プライミングローラの全周（３６０°）を必要とするものではなく、通常は半周（１８０°）以下であり、１／４周（９０°）以下あるいは１／５周（７２°）以下で済ますことも可能である。しかるに、従来一般のプライミング処理装置は、プライミング処理を実行する度毎に後処理として上記のようにプライミングローラを連続回転させてプライミングローラの外周面全体（全周）に洗浄液を噴き付けるため、洗浄液（通常シンナー）を多量に使用するという問題があった。
【０００７】
本出願人は、この問題を解決するために、特許文献１において、１回のプライミング処理のために、スリットノズルの吐出口とプライミングローラの上端とを所定のギャップを隔てて対向させ、スリットノズルより一定量の処理液または塗布液（たとえばレジスト液）を吐出させるとともにプライミングローラを所定の回転角だけ回転させて、プライミングローラの半周以下の部分的表面領域を当該プライミング処理に使用し、連続した所定回数のプライミング処理が終了した後にプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するプライミング処理法を開示している。
【０００８】
このプライミング処理法は、プライミングローラの外周面をその周回方向に複数に分割してそれらの分割領域（部分的表面領域）を連続する所定回数のプライミング処理に順次割り当てて使用し、その後にプライミングローラの外周面を全周に亘って一括洗浄する。この一括洗浄処理は、回転機構によりプライミングローラを連続回転させながら洗浄機構と乾燥部とを作動させてプライミングローラの外周面を全周に亘ってまとめて洗浄するものであり、各プライミング処理の際にプライミングローラの表面に巻き取られた塗布液の液膜をこすげ落とすためのスクレーパは不要であり、プライミング処理後の洗浄処理で消費する洗浄液を節減できるとともに、洗浄処理の際にパーティクルの発生を防止することもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−２３７０４６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、本出願人が上記特許文献１で開示したプライミング処理法の改良版であるとともに、独自の観点から、プライミング処理の歩留まりないし信頼性にも配慮しつつプライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減を実現するものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減できるプライミング処理方法およびプライミング処理装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と、前記第３の工程と前記第４の工程との間で、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第３の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第７の工程とを有する。
【００１３】
また、本発明の第１の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、前記プライミングローラの外周面の上に前記第１の塗布液膜を巻き取ってから前記プライミングローラの回転を停止させるまでの間、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記回転機構による前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる。
【００１４】
上記第１の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上に形成される塗布液膜は、その巻き取りの直後に行われる継続回転動作の間に液垂れを起こさないのはもちろん、継続回転運動中に前端の液溜まり部がある程度均されることにより、待機用回転角位置で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなる。つまり、待機用回転角位置の設定範囲を拡張できる効果が得られる。
【００１５】
本発明の第２の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程とを有し、前記第６の工程において、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち塗布膜液が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。
【００１６】
また、本発明の第２の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、前記洗浄機構により前記プライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける。
【００１７】
上記第２の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上で、塗布液膜の液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれがないことに加えて、洗浄工程ではプライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００１８】
本発明の第３の観点におけるプライミング処理方法は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程とを有し、前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する。
【００１９】
また、本発明の第３の観点におけるプライミング処理装置は、長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定するための液膜測定部と、洗浄処理の前に、前記液膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記塗布液膜の前記洗浄処理で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部とを有し、１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、前記液膜測定部および前記洗浄液使用量決定部によって決定された使用量の洗浄液を用いて、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する。
【００２０】
上記第３の観点のプライミング処理方法またはプライミング処理装置においては、プライミングローラ上で、塗布液膜の液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれがないことに加えて、洗浄液の使用量を液膜測定および演算に基づいて最適化し、洗浄液の更なる節減を実現することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のプライミング処理方法またはプライミング処理装置によれば、上記のような構成および作用により、プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図３】第１の実施例において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図４】第１の実施例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図５】第１の実施例においてプライミングローラの一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図６】図５のプライミング処理動作および一括洗浄処理におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図７】洗浄工程におけるプライミング処理装置の作用を説明するための図である。
【図８】第１の実施例の一変形例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図９】上記変形例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１０】第１の実施例の別の変形例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１１】上記変形例において２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１２】第２の方式において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１３】第２の方式において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【図１４】第２の実施例において１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を模式的に示す図である。
【図１５】第２の実施例において１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラの回転速度特性を時間軸上の波形で示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付図を参照して本発明の好適な実施の形態を説明する。
［プライミング処理装置の構成］
【００２４】
図１に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばＬＣＤ製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置（図示せず）に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ（図示せず）の近くに配置される。
【００２５】
図示のプライミング処理装置において、ハウジング１０は、上面にスリット状の開口部１２を有する長尺形の筐体からなり、収容するプライミングローラ１４をその頂部が開口部１２を介して上方に露出するように軸受（図示せず）で水平かつ回転可能に支持している。
【００２６】
プライミングローラ１４は、たとえばステンレス鋼からなる円筒状または円柱状のローラであり、一定の外径（たとえば１００〜１５０ｍｍ）と後述するスリットノズル７２の全長をカバーする長さを有している。ハウジング１０も、たとえばステンレス鋼で作られてよい。
【００２７】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４の頂部または最上部を基準位置Ｐ0（０°）として、正回転（図１では反時計回り）の周回方向で好ましくは回転角位置９０°〜１８０°の区間内に、洗浄機構１６の洗浄ノズル１８が設けられている。この洗浄ノズル１８は、好ましくは長尺形の２流体ジェットノズルからなり、プライミングローラ１４の全長をカバーする長さでそれと平行に配置され、配管２０，２２を介して洗浄液供給部２４およびガス供給部２６に接続されている。配管２４，２６の途中には開閉弁２８，３０がそれぞれ設けられている。
【００２８】
プライミングローラ１４を洗浄する時は、開閉弁２８，３０が開けられ、２流体ジェットノズル１８は、洗浄液供給部２４およびガス供給部２６よりそれぞれ洗浄液（たとえばシンナー）およびガス（たとえばエアまたは窒素ガス）を所望の流量で受け取り、ノズル内で洗浄液とガスとを混合してスリットまたは多孔型の吐出口よりジェット流でプライミングローラ１６の外周面に噴き付けるように構成されている。洗浄制御部２５は、洗浄液供給部２４、ガス供給部２６および開閉弁２８，３０を制御し、特に後述する主制御部７０からの指示の下で洗浄液およびガスの流量を個別的かつ任意に制御できるようになっている。
【００２９】
開口部１２と洗浄機構１６との間の区間は、ハウジング１０の内壁がプライミングローラ１４の外周面と接触しない程度の僅かな隙間を残して近接し、ミスト遮蔽部３２となっている。プライミングローラ１４を洗浄する時に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストは、ミスト遮蔽部３２の隙間を通って開口部１２側へ出ることはなく、そこで遮断されるようになっている。
【００３０】
ハウジング１０内には、プライミングローラ１４を中心にしてミスト遮蔽部３２および洗浄機構１６の反対側に、ミスト引き込み部３４、吸引口３６および強制乾燥部３８が設けられている。
【００３１】
ミスト引き込み部３４は、好ましくは、プライミングローラ１４の頂部を基準位置Ｐ0（０°）として正回転の周回方向で回転角位置１８０°〜２７０°の区間内に設けられる。図示の構成例のミスト引き込み部３４は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成されたミスト引き込み用の隙間４０を有している。
【００３２】
強制乾燥部３８は、好ましくは、ミスト引き込み部３４よりも下流側で回転角位置２７０°〜３６０°の区間内に設けられる。図示の構成例の強制乾燥部３８は、該区間内でハウジング１０の内壁とプライミングローラ１４の外周面との間に形成された液切り用の隙間４２を有している。
【００３３】
吸引口３６は、バキューム通路４４およびバキューム管４６を介して、たとえば真空ポンプまたは吸気ファン（図示せず）およびミストトラップまたはフィルタ等を有するバキューム装置４８に通じている。バキューム通路４４の終端付近には、排気弁制御部５０によって開閉制御される排気ダンパ５２が設けられている。バキューム装置４８をオンにして、排気ダンパ５２を開状態にすると、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８が作動し、ミスト引き込み用の隙間４０および液切り用の隙間４２に外から吸気口３６に向ってミスト引き込み用の気流および液切り用の気流がそれぞれ流れるようになっている。排気ダンパ５２を閉じると、バキューム装置４８がオンしていても、吸気口３６にはバキュームが及ばず、ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８はオフ状態になる。
【００３４】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４の周囲を強制的に排気するための排気機構４５は、上記のようにミスト引き込み部３４、吸引口３６、強制乾燥部３８、バキューム装置４８、排気弁制御部５０および排気ダンパ５２を備えている。
【００３５】
ハウジング１０の底には、プライミングローラ１４の真下の位置にドレイン口５４が形成されている。このドレイン口５４は排液管５６を介してドレインタンク５８に通じている。
【００３６】
このプライミング処理装置において、プライミングローラ１４を回転させるための回転機構６５は、モータ６０、回転制御部６２およびエンコーダ６４を備えている。モータ６０は、好ましくはサーボモータからなり、その回転駆動軸はたとえばプーリや伝動ベルト等の伝動機構（図示せず）を介してプライミングローラ１４の回転軸に接続されている。回転制御部６２は、モータ６０の基本動作（回転、停止、速度制御等）だけでなく、エンコーダ６４を通じてモータ６０の回転量および回転角度位置を任意に制御できるようになっている。
【００３７】
このプライミング処理装置には、プライミングローラ１４上のレジスト膜の膜厚を測定するための膜厚測定部６７が設けられている。膜厚測定部６７は、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８を有している。
【００３８】
膜厚センサ６６は、スリットノズル７２と干渉を起こさないように開口部１２の近傍に設置または配置され、その位置から真向かいのプライミングローラ１４の外周面上に付着しているレジスト液膜の膜厚を非接触式つまり光学式で測定する。別の構成例として、膜厚センサ６６をたとえば支持アーム等で可動に支持し、スリットノズル７２がハウジング１０の開口部１２から遠ざかっているときに、膜厚センサ６６を開口部１２の上に位置合わせしてもよい。
【００３９】
膜厚演算部６８は、膜厚センサ６６の出力信号を入力して、プライミングローラ１４上のレジスト液膜の膜厚測定値を演算する。好ましくは、プライミングローラ１４の軸方向に一定間隔で複数個の膜厚センサ６６が一列に配置され、プライミングローラ１４の周回方向だけでなく軸方向においてもレジスト液膜の膜厚分布特性を測定できるようになっている。膜厚測定部６７で得られる膜厚測定値ないし膜厚分布特性測定値は、主制御部７０に送られる。
【００４０】
主制御部７０は、所定のソフトウェアにしたがって動作するマイクロコンピュータを含み、このプライミング処理装置内の洗浄機構１６、排気機構４５、回転機構６５および膜厚測定部６７の動作を統括して制御する。図示の構成例では、主制御部７０が、バキューム装置４８、膜厚センサ６６および膜厚演算部６８の各動作を直接制御するとともに、洗浄制御部２５、排気弁制御部５０および回転制御部６２を通じて２流体ジェットノズル１８、排気ダンパ５２およびモータ６０の各動作を制御する。さらに、主制御部７０は、回転機構６５の回転制御部６２を通じてプライミングローラ１４の回転量および回転角位置を把握ないし制御できるようになっている。
【００４１】
また、主制御部７０は、このプライミング処理装置内の全体のシーケンスを統括して制御するとともに、少なくともプライミング処理に関しては、当該レジスト塗布装置に備わっているレジスト塗布処理用のスリットノズル７２の一切の動作を制御するようになっている。
【００４２】
すなわち、当該レジスト塗布装置において、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって支持され、かつ予め設定されたスペース内で任意の位置に搬送され、任意の位置に位置決めされるようになっている。また、スリットノズル７２には、レジスト供給部７６よりレジスト供給管７８を介してレジスト液が供給される。ここで、レジスト供給管７８には開閉弁８０が設けられている。プライミング処理に関しては、主制御部７０が、ノズル移動機構７４、レジスト供給部７６、開閉弁８０を通じて、スリットノズル７２の移動や位置決め、およびレジスト液吐出動作を制御するようになっている。
［プライミング処理方法の第１の実施例］
【００４３】
次に、図２〜図１１につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第１の実施例を説明する。
【００４４】
このプライミング処理装置が組み込まれる当該レジスト塗布装置においては、塗布ステージ上で基板一枚分の塗布処理が終了する度毎に次の塗布処理の下準備としてこのプライミング処理装置で１回分のプライミング処理が行われる。
【００４５】
図２に、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから最初（１回目）のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図３に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００４６】
このプライミング処理では、先ず、図１に示すように、スリットノズル７２の吐出口がプライミングローラ１４の頂部と所定のギャップ（たとえば数十〜数百μｍ）を隔てて平行に対向するように、ノズル移動機構７４を通じてスリットノズル７２を位置決めする。この場面では、洗浄機構１６はもちろん、排気機構４５も止めたままにしておく。
【００４７】
次に、図２のＩ（吐出・放置）に示すように、プライミングローラ１４を静止させたまま、レジスト供給部７６を通じてスリットノズル７２に所定時間（ｔ0〜ｔ1：たとえば１秒間）を費やして一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、その直後に所定時間（ｔ1〜ｔ2：たとえば３秒間）そのまま放置する。スリットノズル７２より吐出されたレジスト液Ｒは、放置時間（ｔ1〜ｔ2）中にスリットノズル７２の吐出口付近およびプライミングローラ１４の頂部付近でノズル長手方向およびローラ周回方向で周囲に広がる。
【００４８】
次いで、回転機構６５により所定のタイミング（図３の時点ｔ2）でプライミングローラ１４に正方向の回転動作を開始させ、図２のII（巻き取り）に示すように、レジスト液Ｒをスリットノズル７２の背面下部７２ａに回り込ませるようにして、プライミングローラ１４の外周面上に設定された第１の分割領域１４(1)にレジスト液Ｒを巻き取る。ここで、レジスト液Ｒを巻き取るときのローラ回転速度Ｖaは、レジスト液Ｒの液膜を早急に断ち切ってしまわないような比較的低い速度が好ましく、たとえば周速度で数１０ｍｍ／秒に選ばれる。
【００４９】
次いで、所定のタイミング（図３の時点ｔ3）でプライミングローラ１４の回転速度を一気に上げる。これによって、図２のIII（切り離し）に示すように、レジスト液Ｒの液膜が切り離されて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれる。この際、スリットノズル７２を上昇させると、レジスト液膜の分離を所定の部位でより円滑かつ確実に行うことができる。こうして、スリットノズル７２には、ノズル吐出口から背面下端部７２ａにかけてレジスト液の液膜ＲＦが残る。
【００５０】
一方、プライミングローラ１４の外周面上には、上記のようにして巻き取られたレジスト液の液膜ＲＭ1が第１のレジスト液膜（塗布液膜）として残る。ここで、プライミングローラ１４の正回転方向において第の１レジスト液膜ＲＭ1の前端部に断面瘤状の液溜まり部ｍ1が生じる傾向がある。
【００５１】
たとえば、プライミングローラ１４の外周面を周回方向で４等分に分割して各分割領域１４(n) （ｎ＝1〜４）を１回分のプライミング処理に充てる場合、各分割領域１４(n)に形成される各レジスト液膜ＲＭnの周回方向巻き取りサイズは、回転角度範囲でたとえば７５°〜８５°のサイズに設定することができる。
【００５２】
こうしてスリットノズル７２から第１のレジスト液膜ＲＭ1を切り離した後は、プライミングローラ１４の回転を止めずに、第１のレジスト液膜ＲＭ1を図２のIV（停止・待機）に示すような第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞まで回転移動させ、そこでプライミングローラ１４の回転を停止させる。
【００５３】
この場合、レジスト液膜ＲＭ1を切り離してから停止するまで（ｔ4〜ｔ5）のプライミングローラ１４の回転速度特性は、任意に設定可能であるが、図３に示すように切り離し速度Ｖbよりも一段高い速度Ｖcに上げてから一定のレート（負の加速度）で減速させる特性に定型化するのが好ましい。
【００５４】
こうして、回転運動中のプライミングローラ１４上で第１のレジスト液膜ＲＭ1（特に液溜まり部ｍ1）からレジスト液が重力で垂れることなく、つまりプライミングローラ１４の外周面上の他の分割領域（未使用領域）を汚すことなく、第１のレジスト液膜ＲＭ1を第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞まで安定に移動させることができる。
【００５５】
すなわち、レジスト液膜ＲＭnを切り離した直後に、プライミングローラ１４の回転を止めたならば、レジスト液膜ＲＭnには重力によって周回方向下向きの力が持続的に働いて、プライミングローラ１４の外周面上でレジスト液膜ＲＭnが下または前方に垂れる。スリットノズルを使用するスピンレス塗布法では、通常２０ｃｐ以下の低粘度レジスト液が使用されるため、プライミングローラ上で上記のようなレジスト液膜の液垂れが生じやすい。しかるに、この実施例では、プライミングローラ１４の回転を止めずにそのまま継続させることによって、レジスト液膜ＲＭnに働く重力の作用（液垂れを誘引する力）を実質的にキャンセルし、プライミングローラ１４上に巻き取ったレジスト液膜ＲＭnを液垂れで広げることなく表面張力で所定の領域（分割領域）内に止めておくことができる。
【００５６】
第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞として、好ましくは、図２のIV（停止・待機）に示すように、第１のレジスト液膜ＲＭ1の中心がローラ最下部（１８０°）に着く位置を選定することができる。この場合、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において、第１のレジスト液膜ＲＭ1の前端は２２５°の回転角位置よりも上流側に収まり、第１のレジスト液膜ＲＭ1の後端は１３５°の回転角位置よりも下流側に収まる。
【００５７】
この第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で第１のレジスト液膜ＲＭ1を静止させておくことにより、たとえ第１のレジスト液膜ＲＭ1の中で液の移動があっても、特に液溜まり部ｍ1から低位の部位へレジスト液の移動があっても、第１のレジスト液膜ＲＭ1の膜厚が均される方向に作用するだけであり、隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００５８】
こうして、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、次回（２回目）のプライミング処理が行われるまで、プライミングローラ１４上の第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で静止した状態で所定時間（ｔ4〜ｔ5：たとえば４０〜５０秒間）周囲の空気または自然乾燥に晒される。
【００５９】
この間に、スリットノズル７２は、ノズル移動機構７４によって塗布ステージへ送られ、そこで基板一枚分のレジスト塗布処理に供される。そして、レジスト塗布処理を終えると、スリットノズル７２は、再びこのプライミング処理装置へ戻ってきて、図１に示すように、その吐出口がプライミングローラ１４の頂部に対して所定のギャップを隔てて平行に対向するように位置決めされる。
【００６０】
図４に、２回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。好ましくは、プライミングローラ１４の外周面上で第１のレジスト液膜ＲＭ1の下流側隣の分割領域１４(2)が２回目のプライミング処理に充てられる。このために、２回目のプライミング処理を開始する直前に、プライミングローラ１４を所定の回転角だけ正方向に回転させておく。
【００６１】
この２回目のプライミング処理では、図４のＩ（吐出・放置）に示すように、プライミングローラ１４の外周面上の分割領域１４(2)（より正確には、この分割領域の前端部）をプライミングローラ１４の頂部に位置させ、１回目のプライミング処理のときと全く同じ動作およびタイミングで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、直後に所定時間そのまま放置する。
【００６２】
次いで、図４に示すように、やはり１回目のプライミング処理のときと同じ動作およびタイミングで、レジスト液Ｒの巻き取り（II）、切り離し（III）、停止・待機（IV）の各工程が順次行われる。
【００６３】
この場合も、１回目のプライミング処理のときと同様に、巻き取り（II）および切り離し（III）の工程により、プライミングローラ１４の外周面上に所定の周回方向サイズ（回転角度範囲で７５°〜８５°）でレジスト液Ｒが巻き取られて第２のレジスト液膜ＲＭ2が形成される。そして、プライミングローラ１４の回転をそのまま継続して切り離し（III）の位置から第２の待機用回転角位置＜Ｐ２＞まで第２のレジスト液膜ＲＭ2を移動させる。
【００６４】
こうして、回転運動中のプライミングローラ１４上で第２のレジスト液膜ＲＭ2（特に液溜まり部ｍ2）からレジスト液が重力で垂れることなく、第２レジスト液膜ＲＭ2を第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞まで安定に移動させることができる。
【００６５】
第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞も、好ましくは、図４のIV（停止・待機）に示すように、第２のレジスト液膜ＲＭ2の中心がローラ最下部（１８０°）に来る位置を選定することができる。この場合、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において、第２のレジスト液膜ＲＭ2の前端は回転角２２５°の位置よりも下流側に収まり、第２のレジスト液膜ＲＭ2の後端は１３５°の回転角位置よりも上流側に収まる。この第２の待機用回転角位置＜Ｐ2＞で第２のレジスト液膜ＲＭ2を静止させておくことにより、たとえ第２のレジスト液膜ＲＭ2の中で液の移動があっても、隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００６６】
なお、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、プライミングローラ１４の正回転の周回方向において第２のレジスト液膜ＲＭ2の上流側隣、つまり回転角位置４５°〜１３５°の範囲内で待機することなる。ここで、第１のレジスト液膜ＲＭ1は、１回目のプライミング処理が終了した時から２回目のプライミング処理が開始されるまでの間に、第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞で自然乾燥を受けていたために、その液膜表面がある程度乾いており、第１の待機用回転角位置＜Ｐ1＞から外れた位置（４５°〜１３５°の範囲内）で静止しても液垂れを起こし難くなっている。また、仮に、プライミングローラ１４上で、第１のレジスト液膜ＲＭ1の前端部（液溜まり部ｍ1）から低位の場所（第２のレジスト液膜ＲＭ2の後端部側）へレジスト液の移動（液垂れ）があるとしても、その場所は使用済みの分割領域１４(1)〜１４(2)内であり、何の支障も生じない（未使用領域を汚すことはない）。
【００６７】
３回目のプライミング処理も、図示省略するが、上述した１回目および２回目のプライミング処理と全く同じ手順および動作で行われる。結果として、プライミングローラ１４上で、第１および第２のレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2とは異なる領域に、通常は正回転の周回方向において第２のレジスト液膜ＲＭ2の下流側隣の分割領域１４(3)に、３回目のプライミング処理に付随した残存物として第３のレジスト液膜ＲＭ3が所定の周回方向サイズ（７５°〜８５°）で形成される。この第３のレジスト液膜ＲＭ3は、プライミングローラ１４の巻き取られた直後にローラ最下部（１８０°）付近に設定された第３の待機用回転角位置＜Ｐ3＞に移動し、そこで自然乾燥を受ける。
【００６８】
図示省略するが、プライミングローラ１４上で、第３のレジスト液膜ＲＭ3がローラ最下部（１８０°）の第３の待機用回転角位置＜Ｐ3＞で待機する間、第２のレジスト液膜ＲＭ2は第３のレジスト液膜ＲＭ3の上流側隣つまり回転角位置４５°〜１３５°の領域内で待機し、第１のレジスト液膜ＲＭ1は第２のレジスト液膜ＲＭ1の上流側隣つまり回転角位置４５°〜４５°の領域内で待機することになる。
【００６９】
この場合、第２レジスト液膜ＲＭ2については、上述したような２回目のプライミング処理後の第１のレジスト液膜ＲＭ1と同じことがあてはまり、液垂れの問題はない。また、第１レジスト液膜ＲＭ1は、その中心部がローラ最上部に位置し、その後端部が隣の未使用領域つまり第４の分割領域１４(4)よりも高位置になる。しかし、第１のレジスト液膜ＲＭ1は相当長時間（通常１００秒以上）の自然乾燥に晒されてきているので、第１のレジスト液膜ＲＭ1の後端部から隣の未使用領域（第４の分割領域１４(4)）へ液が垂れることはない。
【００７０】
この第１の実施例では、プライミングローラ１４の外周面が全周にわたり清浄な状態にリセットされてから所定回数たとえば４回のプライミング処理を続けて行った後に、プライミングローラ１４の一括洗浄（外周面全周の清浄化）を行うようにしている。
【００７１】
図５に、プライミングローラ１４の一周内で最後（４回目）のプライミング処理および直後の一括洗浄処理が行われるときの各段階を示す。図６に、図５のプライミング処理動作および一括洗浄処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００７２】
最終回（４回目）のプライミング処理でも、図５に示すように、レジスト液Ｒの吐出・放置（Ｉ）、レジスト液膜ＲＭ4の巻き取り（II）および切り離し（III）の各工程は１回目〜３回目の各プライミング処理のときと同じであり、プライミングローラ１４の外周面上には第３のレジスト液膜ＲＭ3の下流側隣の第４分割領域１４(4)に第４のレジスト液膜ＲＭ4が巻き取られる。
【００７３】
しかし、切り離し（III）の後は、停止・待機（IV）の工程をスキップして、プライミングローラ１４の回転を継続したまま、洗浄(V)の工程に移行する。この洗浄(V)の工程では、洗浄機構１６および排気機構４５を作動させる。
【００７４】
なお、洗浄(V)の工程を開始する前に、主制御部７０は、回転機構６５および膜厚測定部６７を通じて、プライミングローラ１４上に付着しているレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3,ＲＭ4の範囲（面積）および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて洗浄(V)の工程における洗浄液の使用量を演算によって決定する。たとえば、プライミングローラ１４上に付着している全てのレジスト液膜の総レジスト量（範囲×膜厚）を基準値とし、洗浄液使用量をその基準値（総レジスト量）に等しい値に決定してよい。
【００７５】
また、レジスト液膜測定に関しては、通常はプライミングローラ１４上で同じプライミング処理が繰り返されるので、各分割領域１４(n)に付着しているレジスト液膜ＲＭnの範囲および膜厚は同じであるとみなし、その中の一つ、たとえば第１のレジスト液膜ＲＭ1の範囲（面積）および膜厚だけの測定で済ましてもよい。
【００７６】
洗浄(V)の工程における好適な一態様として、主制御部７０は、２流体ジェットノズル１８がプライミングローラ１４の外周面の中でレジスト液膜ＲＭ1〜Ｍ4が付着している領域または部位のみに洗浄液およびエアの２流体ジェット流を噴き付けるように、回転機構６５と洗浄機構１６とを連動（連携）させて制御する。ここで、洗浄液の流量ないし使用量は、上記のようなレジスト膜測定に基づいて決定されたものである。
【００７７】
こうして、２流体ジェットノズル１８より噴射される２流体ジェット流の強い衝撃力により、プライミングローラ１４の外周面上に付着したばかりの第４レジスト液膜ＲＭ4はもちろん自然乾燥によって生乾きまたは半乾き状態になっている他の全てのレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3も容易に洗い落とされ、その多くは洗浄液に混じって直下のドレイン口５４へ落下し、残りはミストｍａに変じて付近に飛散する。こうして一括洗浄中に２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａのうち上方へ舞い上がったものは、ミスト遮蔽部３２に遮られ、ハウジング１０の開口部１２側に出ることはほとんどない。
【００７８】
一方、排気機構４５では、排気ダンパ５２が開いて、バキューム装置４８からのバキュームがバキューム管４６、バキューム通路４４および吸引口３６を介してミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８に供給される。
【００７９】
図７に示すように、ミスト引き込み部３４は、２流体ジェットノズル１８の周囲で発生するミストｍａを隙間４０の下端から中に吸い込み、隙間４０の中でミストｍａをプライミングローラ１４の外周面に沿って回転方向に流し、隙間４０の上端から吸引口３６に出たミストｍａをバキューム装置４８へ送る。強制乾燥部３８は、開口部１２を介して上方の大気空間よりエアを隙間４２の中に吸い込んで、隙間４２の中でエアをプライミングローラ１４の外周に沿って回転方向と逆向きに流し、プライミングローラ１４の外周面に残っている液をエアの圧力で削ぎ落として液滴化し、隙間４２の下端から吸引口３６に出たミストｍｂをバキューム装置４８へ送る。このように、バキュームを利用してプライミングローラ１４の外周面に対して回転方向と逆向きのエア流を当てて液切りし、その液切りで発生したミストｍｂをそのままバキュームで回収するので、乾燥効率が高いうえミストの飛散を防止することができる。
【００８０】
上記のような洗浄（V）の工程を開始してから所定時間が経過した時（図６の時点ｔG）に洗浄機構１６をオフして、２流体ジェット洗浄を止める。その後は、プライミングローラ１４を連続回転させたまま排気機構４５（ミスト引き込み部３４および強制乾燥部３８）の動作だけを継続させ、プライミングローラ１４の外周面を全周に亘りバキュームの力で乾かす強制乾燥（VI）の工程に切り換える。そして、所定時間の経過後に排気ダンパ５２を閉じて排気機構４５をオフにして乾燥処理を停止し、これで一括洗浄処理の全工程を終了する。
【００８１】
なお、タクトを揃える観点から、一括洗浄処理において洗浄(V)および強制乾燥（VI）を合わせた全処理時間（図６のｔ4〜ｔH）が、移動・待機（IV）の所要時間（図３のｔ4〜ｔ6）と同じ長さ（たとえば６０秒）に設定されるのが好ましい。この場合、洗浄(V)の処理時間（図６のｔ4〜ｔG）がたとえば２０秒に設定され、強制乾燥（VI）の処理時間（図６のｔG〜ｔH）がたとえば４０秒に設定されてよい。
【００８２】
上述したように、この第１の実施例によれば、プライミングローラ１４の外周面をその周回方向に複数（たとえば４つ）に分割してそれらの分割領域１４(1)〜１４(4)を連続する所定回数（４回）のプライミング処理にそれぞれ割り当てて使用する。そして、最終回（４回目）のプライミング処理を除く各プライミング処理においては、各レジスト液膜ＲＭnをプライミングローラ１４上に巻き取った直後に特別な待機用回転角位置＜Ｐn＞へ着かせて、次のプライミング処理が行われるまでその待機用回転角位置＜Ｐn＞で待機させることによって、各レジスト液膜ＲＭn（特に液溜め部ｍn）からの液垂れを防止して自然乾燥の生乾きまたは半乾き状態にすることができる。
【００８３】
このように、プライミングローラ１４上で、レジスト液膜ＲＭnの液垂れを防止できるので、隣の未使用分割領域を汚すおそれはなく、したがって後続のプライミング処理が前のプライミング処理によって影響を受けることはなく、プライミング処理の再現性および信頼性を向上させることができる。
【００８４】
また、プライミングローラ１４上に付着したレジスト液膜ＲＭnは自然乾燥による生乾き状態のレジスト液膜として、あるいは完全な液状状態で洗浄されるので、洗い落としが容易であり、洗浄機構１６の負担を軽減し、洗浄液の使用量を少なくすることができる。
【００８５】
さらに、一括洗浄では、プライミングローラ１４の外周面のうちレジスト液膜ＲＭ1，ＲＭ2，ＲＭ3，ＲＭ4が付着している領域のみに適量の洗浄液を噴き付けるので、洗浄液の使用量を一層削減することができる。
【００８６】
なお、図示の例では、プライミングローラ１４の外周面を周回方向で４等分に分割し、１回のプライミング処理における周回方向のレジスト液巻き取りサイズを７５°〜８５°とした。しかし、任意の分割数および巻き取りサイズが可能であり、たとえば１回当たりの周回方向巻き取りサイズを７２°以下で済まし、プライミングローラ１４の外周面を５分割して５回連続使用することも可能である。
【００８７】
また、待機用回転角位置＜Ｐn＞に関する別の好適な例として、たとえば図８（１回目のプライミング処理）および図９（２回目のプライミング処理）に示すように、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られて切り取られた直後のレジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着くような回転角位置を設定することも可能である。図示のような待機用回転角位置＜Ｐn＞でレジスト液膜ＲＭnを待機（静止）させておくことにより、たとえ当該レジスト液膜ＲＭ1の中で液の移動があっても、最下位の液溜まり部ｍnに集まり（止まり）、下流側隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
【００８８】
要するに、基本的に、待機用回転角位置＜Ｐn＞は、レジスト液膜ＲＭnの中心がローラ最下部に着く回転角位置（図２、図４）と、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く回転角位置（図８、図９）との範囲内に設定されるのが好ましい。
【００８９】
待機用回転角位置＜Ｐn＞に関する更に別の好適な例として、たとえば図１０（１回目のプライミング処理）および図１１（２回目のプライミング処理）に示すように、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られて切り取られた直後のレジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最上部に着くような回転角位置を設定することも可能である。図示のような待機用回転角位置＜Ｐn＞でレジスト液膜ＲＭnを待機（静止）させておくことにより、最も液垂れを起こしやすい液溜まり部ｍnが略水平なローラ頂面に載っているため、そこから下流側隣の分割領域（未使用領域）へはみ出ることはない。
［プライミング処理方法の第２の方式］
【００９０】
次に、図１２および図１３につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第２の方式を説明する。
【００９１】
図１２に、第２の方式において、プライミングローラ１４上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図１３に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００９２】
この第２の方式は、プライミングローラ１４の外周面に巻き取られるレジスト液膜ＲＭnの前端部に液溜め部ｍnを生じさせないことを特徴とする。そのための手法として、レジスト吐出工程（I）の直後に、しばらくそのまま放置するのではなくて、図１２のIIＡに示すように、先ずプライミングローラ１４を巻き取り速度Ｖaよりも低い速度（たとえば周速度で１０ｍｍ／秒以下）Ｖeで所定の回転角（たとえば３０°〜５０°）または所定時間（図１３のｔ1〜ｔN：たとえば約１．５秒）だけ正方向に回転させる。次に、つまりプライミングローラ１４の低速正回転を停止させた後、図１２のIIBに示すように、プライミングローラ１４を今度は同一または同程度の低速度Ｖfで略同一の回転角または所定時間（図１３のｔN〜ｔ2：たとえば約１．５秒）だけ逆方向に回転させる。
【００９３】
このようなプライミングローラ１４の好ましくは低速の往復回転運動によって、レジストノズル７２よりプライミングローラ１４上に吐出されたばかりのレジスト液Ｒがレジストノズル７２の吐出部（下端面）によりローラ周回方向で均され、液膜端部に液溜まり（ｍn）が生じ難くなる。また、付随的効果として、レジストノズル７２において、その吐出口付近に形成されるレジスト液のビードの均一性が向上する。
【００９４】
こうして、レジストノズル７２の吐出口回りでレジスト液Ｒをローラ周回方向において（更にはノズル長手方向においても）十全に均してから、上述した第１の実施例と同様の動作およびタイミングで、巻き取り動作(III）、切り離し（IV）、および待機用回転角位置＜Ｐn＞への移動・停止(V)の各工程を実行する。その結果、プライミングローラ１４上には液溜まり（ｍn）の無い平坦なレジスト液膜ＲＭnが巻き取られ、この平坦なレジスト液膜ＲＭnが待機用回転角位置＜Ｐn＞で自然乾燥に晒される。
【００９５】
この第２の方式において、プライミングローラ１４上に形成されるレジスト液膜ＲＭnは、待機用回転角位置＜Ｐn＞へ移動する途中で液垂れを起こさないのはもちろん、液溜まり（ｍn）が無いので、待機用回転角位置＜Ｐn＞で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなっている。つまり、待機用回転角位置＜Ｐn＞の設定範囲を拡張できる効果が得られる。たとえば、図１２に示すように、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く位置＜ＡＰn＞はもちろん、限界位置としてレジスト液膜ＲＭnの前端が２７０°の回転角位置に着く位置＜ＢＰn＞でも液垂れを起こさないようにすることが可能である。
【００９６】
この第２の方式の変形例として、特にプライミングローラ１４の往復回転動作(IIＡ，IIＢ)に関する変形例として、往復回数を２回以上とすること、逆回転から先に行うこと、正回転動作と逆回転動作の条件（速度、時間、移動距離等）を独立に設定すること等が可能である。
［プライミング処理方法の第２の実施例］
【００９７】
次に、図１４および図１５につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第２の実施例を説明する。
【００９８】
図１４に、第２の実施例において、プライミングローラ１４上で１回目のプライミング処理が行われるときの各段階を示す。図１５に、１回分のプライミング処理動作におけるプライミングローラ１４の回転速度特性を時間軸上の波形で示す。
【００９９】
この第２の実施例は、プライミングローラ１４上にレジスト液膜ＲＭnを巻き取って切り離した直後に、プライミングローラ１４の回転運動をそのまま一定速度（たとえば切り離し速度Ｖaと同じ速度）で所定時間（図１５のｔ4〜ｔJ：好ましくは１０秒以上）継続させる継続回転の動作(Q）を行ってから、最後に（図１５のｔJ〜ｔKで）所定の待機用回転角位置＜Ｐn＞へ着ける動作(IV)を行う。
【０１００】
継続回転動作(Q）の間は、排気機構４５は止めておく。すなわち、排気機構４５をオンにしてプライミングローラ１４を回転させると、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ1が強制乾燥部３８の隙間４２の中で逆風による大きなストレスを受けて、膜厚均一性を低下させやすい。特に、強制乾燥部３８の隙間４２内でレジスト液膜ＲＭnに加わる逆風の圧力に軸方向でばらつきがあると、レジスト液膜ＲＭnの表面に周回方向に延びる筋状の凹凸が付きやすい。排気機構４５を止めておけば、プライミングローラ１４の回転中にその外周面上のレジスト液膜ＲＭnは隙間４２を通過する時でも逆風の圧力を受けることはなく、大気中に静止状態で放置されていた場合と同等の自然乾燥をより効果的に受けられる。
【０１０１】
この第２の実施例においても、プライミングローラ１４上に形成されるレジスト液膜ＲＭnは、継続回転動作(Q）の間に液垂れを起こさないのはもちろん、回転運動中に前端の液溜まり部（ｍn）がある程度均されることによって、待機用回転角位置＜Ｐn＞で停止した時ないし静止した状態でも液垂れを一層起こし難くなっている。つまり、第２の実施例と同様に、待機用回転角位置＜Ｐn＞の設定範囲を拡張できる効果が得られる。たとえば、図１４に示すように、レジスト液膜ＲＭnの前端がローラ最下部に着く位置＜ＡＰn＞はもちろん、限界位置としてレジスト液膜ＲＭnの前端が２７０°の回転角位置に着く位置＜ＢＰn＞でも液垂れを起こさないようにすることが可能である。
［他の実施例］
【０１０２】
この第２の実施例を上記第１の実施例と組み合わせることも可能であり、その場合は相乗作用によって液垂れ防止効果を一層向上させることができる。
【０１０３】
一括洗浄処理においては、洗浄液の使用量は増えるが、プライミングローラ１４の外周面全周に洗浄液を噴き付けることも可能である。
【０１０４】
プライミング処理装置内の各部の構成または機能も上述した実施形態のものに限定されない。たとえば、洗浄機構１６において２流体ジェットノズル以外の洗浄ツールたとえばスクレーパも使用または併用可能であり、排気機構４５の各部、特に強制乾燥部３８の構成を種種変形することができる。
【０１０５】
本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。
【符号の説明】
【０１０６】
１４ プライミングローラ
１６ 洗浄機構
１８ 洗浄ノズル
２４ 洗浄液供給部
２５ 洗浄制御部
４８ バキューム装置
６０ モータ
６２ 回転制御部
６５ 回転機構
６６ 膜厚センサ
６８ 膜厚演算部
７０ 主制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄により除去する第６の工程と、
前記第３の工程と前記第４の工程との間で、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第３の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第７の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項２】
別の１回分の第２のプライミング処理のために、前記プライミングローラを所定角度だけ回転させることによって、前記第１の塗布液膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第８の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第９の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第２の塗布液膜として巻き取る第１０の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第２の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第２の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第１１の工程と、
前記第２の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第２の塗布液膜を自然乾燥させる第１２の工程と
有し、
前記第６の工程において、前記プライミングローラ上の前記第１および第２の塗布液膜を洗浄によって一括除去する、
請求項１に記載のプライミング処理方法。
【請求項３】
前記第１０の工程と前記第１１の工程との間で、前記第２の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第１０の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第１３の工程を有する、請求項２に記載のプライミング処理方法。
【請求項４】
前記第２のプライミング処理が前記第１のプライミング処理の次に行われるプライミング処理であるときは、前記プライミングローラの正回転の周回方向において前記第２の塗布液膜が前記第１の塗布液膜の下流側隣に形成されるように、前記第２のプライミング処理のために前記プライミングローラの外周面上の所定の領域が充てられる、請求項２または請求項３に記載のプライミング処理方法。
【請求項５】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と
を有し、
前記第６の工程において、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち塗布膜液が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、
プライミング処理方法。
【請求項６】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と
を有し、
前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する、
プライミング処理方法。
【請求項７】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、
前記プライミングローラの外周面の上に前記第１の塗布液膜を巻き取ってから前記プライミングローラの回転を停止させるまでの間、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記回転機構による前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる、
プライミング処理装置。
【請求項８】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、
前記洗浄機構により前記プライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、
プライミング処理装置。
【請求項９】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定するための液膜測定部と、
洗浄処理の前に、前記液膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記塗布液膜の前記洗浄処理で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記液膜測定部および前記洗浄液使用量決定部によって決定された使用量の洗浄液を用いて、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する、
プライミング処理装置。
【請求項１】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄により除去する第６の工程と、
前記第３の工程と前記第４の工程との間で、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第３の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第７の工程と
を有するプライミング処理方法。
【請求項２】
別の１回分の第２のプライミング処理のために、前記プライミングローラを所定角度だけ回転させることによって、前記第１の塗布液膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第８の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第９の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第２の塗布液膜として巻き取る第１０の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第２の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第２の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させる第１１の工程と、
前記第２の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第２の塗布液膜を自然乾燥させる第１２の工程と
有し、
前記第６の工程において、前記プライミングローラ上の前記第１および第２の塗布液膜を洗浄によって一括除去する、
請求項１に記載のプライミング処理方法。
【請求項３】
前記第１０の工程と前記第１１の工程との間で、前記第２の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記第１０の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる第１３の工程を有する、請求項２に記載のプライミング処理方法。
【請求項４】
前記第２のプライミング処理が前記第１のプライミング処理の次に行われるプライミング処理であるときは、前記プライミングローラの正回転の周回方向において前記第２の塗布液膜が前記第１の塗布液膜の下流側隣に形成されるように、前記第２のプライミング処理のために前記プライミングローラの外周面上の所定の領域が充てられる、請求項２または請求項３に記載のプライミング処理方法。
【請求項５】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と
を有し、
前記第６の工程において、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち塗布膜液が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、
プライミング処理方法。
【請求項６】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させる第１の工程と、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置する第２の工程と、
前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取る第３の工程と、
前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させる第４の工程と、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を自然乾燥させる第５の工程と、
前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する第６の工程と
を有し、
前記第６の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第６の工程における洗浄液の使用量を決定する、
プライミング処理方法。
【請求項７】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせて、前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、
前記プライミングローラの外周面の上に前記第１の塗布液膜を巻き取ってから前記プライミングローラの回転を停止させるまでの間、前記第１の塗布液膜の自然乾燥を促すために、前記回転機構による前記プライミングローラの回転をそのまま所定時間継続させる、
プライミング処理装置。
【請求項８】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去し、
前記洗浄機構により前記プライミングローラの外周面のうち塗布液膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、
プライミング処理装置。
【請求項９】
長尺形のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄部および前記排気部の各動作を制御する制御部と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している塗布液膜の範囲および膜厚を測定するための液膜測定部と、
洗浄処理の前に、前記液膜測定部で得られる測定結果に基づいて前記塗布液膜の前記洗浄処理で使用する洗浄液の量を決定する洗浄液使用量決定部と
を有し、
１回分の第１のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させ、
前記塗布液の吐出直後に前記プライミングローラを静止させた状態で所定時間そのまま放置し、
前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に吐出された前記塗布液の一部を第１の塗布液膜として巻き取り、
前記回転機構により前記第１の塗布液膜を巻き取った後も前記プライミングローラをそのまま回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた前記第１の塗布液膜を次回のプライミング処理が行われる時まで待機させておくための第１の待機用回転角位置に着かせ、そこで前記プライミングローラの回転を停止させ、
前記第１の待機用回転角位置で前記プライミングローラ上の第１の塗布液膜を自然乾燥させ、
前記液膜測定部および前記洗浄液使用量決定部によって決定された使用量の洗浄液を用いて、前記洗浄機構と前記排気機構とを作動させて前記プライミングローラ上の前記第１の塗布液膜を洗浄によって除去する、
プライミング処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１３−５６３４０（Ｐ２０１３−５６３４０Ａ）
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２４２５２６（Ｐ２０１２−２４２５２６）
【出願日】平成２４年１１月２日（２０１２．１１．２）
【分割の表示】特願２００９−２４３４３７（Ｐ２００９−２４３４３７）の分割
【原出願日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２８日（２０１３．３．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１１月２日（２０１２．１１．２）
【分割の表示】特願２００９−２４３４３７（Ｐ２００９−２４３４３７）の分割
【原出願日】平成２１年１０月２２日（２００９．１０．２２）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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