ベンゾトリアゾール誘導体化合物
【課題】特に、いわゆる青色レーザー用の波長に対応した吸収帯を有する有機色素及び製膜が容易な新規有機化合物を提供すること。
【解決手段】有機色素の新規化合物として下記一般式（Ａ）のベンゾトリアゾール誘導体を用いる。
【効果】 これら誘導体はいずれも近紫外域により近い長波長側の紫外域に吸収を持ち、一部は
近紫外域まで吸収を示すものである。 この吸収特性はいわゆる青色レーザーの波長に対応し、かつ従来のアゾやシアニン系の有機色素にはない優れた耐光性を持つため、次世代媒体などへの応用が可能である。
【解決手段】有機色素の新規化合物として下記一般式（Ａ）のベンゾトリアゾール誘導体を用いる。
【効果】 これら誘導体はいずれも近紫外域により近い長波長側の紫外域に吸収を持ち、一部は
近紫外域まで吸収を示すものである。 この吸収特性はいわゆる青色レーザーの波長に対応し、かつ従来のアゾやシアニン系の有機色素にはない優れた耐光性を持つため、次世代媒体などへの応用が可能である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規なベンゾトリアゾール誘導体化合物に関し、また当該新規化合物を含有する有機色素および紫外線吸収剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ，ＭＯなどへの媒体の書き込み、読みとりには、いわゆる赤色レーザーが普及している。これに使用する媒体には、当該赤色レーザーの波長に対応した波長を吸収する色素が表面にコーティングされている。これらの機能性色素には大きく分けると有機色素と無機物の２種類があり、応答速度が速い、化合物コストが安いなどの利点から有機色素が一般によく使用されている。
【０００３】
一方で、近年になってさらに大きな記録容量を必要とする状況がある。 映像が現在よりもクリアーで、大容量な画像を記録するためには先に述べた媒体では対応できない。そこで更なる高密度の記録を可能にすべく、いわゆる青色レーザーを用いた機器の開発が進んでいる。青色レーザー用の媒体に用いる色素は、レーザーの波長に対応すべく、４０５ｎｍ付近の波長を効率的に吸収する色素でなければならない。すでに無機物による実用化はすでに開発が進んでおり、実際に商品としてコンシューマー向けにも販売されている。 しかしながら先に述べたように、コストが高い、応答速度が遅い等大きな問題があり、これらの欠点を補える有機色素の開発が望まれている。
【０００４】
有機色素においてこのような波長領域に吸収を持つ化合物としては、例えば、特許文献１〜４に記載されているような有機色素の基本骨格としてピラン化合物の誘導体、ポリアセンジイミド系色素の誘導体、シアニン系色素の混合物、メチン基のパラ位に特定のアミノ基を導入したベンゼン誘導体を用いる方法などが提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３２２５６４号公報
【特許文献２】特開２００４−０９０３７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６９５４号公報
【特許文献４】特開２００３−１０３９３５号公報
【０００５】
これらの化合物を有機色素として記録媒体に用いる場合には、スピンコート法など溶媒に溶かして有機色素の薄膜層を形成するのが一般的である。また、記録内容の長期間保持という点から、耐光性の良い材料が求められる。さらに、レーザーが当たった際に、有機色素がピットに流れ出ないようにするため、高融点であることが求められる。 さらに熱や光の影響で容易に分解しない事が必須である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記材料においては、高い溶解度、高い耐光性、高融点、物質としての安定性のいずれかの性能を満足するものであったとしても、これらすべての性能について十分といえるものではかった。 あるいは近年において、いわゆるエンジニアリングプラスティックといわれる高い機能性を持つ樹脂に好適な紫外線吸収剤の開発が求められている。例えば、先に述べたような記録媒体自身は、ポリカーボネート樹脂で作られており、あるいはこの樹脂は、自動車の軽量化を目的として従来は、ガラスや金属が使われていた多くの箇所に急速に置き換わっている。ポリカーボネート樹脂が使われる場面は、直射日光などの強い紫外線に長期に渡って曝されることが多いため、耐光性が高く、樹脂との相溶性に優れた材料が求められる。 また、これらの樹脂に練り込む場合、高温下で行われるので、物質としての安定性に優れたものや、昇華しにくい材料でなければならないが、必ずしも満足できる紫外線吸収剤が開発されていないのは、特開２００６−４５４５８などでも問題提起されている。 そこで本発明における課題は、これらの問題がなく、高い溶解性、高い耐光性、高融点、物質としての安定性のいずれの性能についても満足できる有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることができる化合物を提供することにある。
【特許文献５】特開２００６−４５４５８号公報
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、下記（化１）に示した一般式（Ａ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体の内、Ｒ１〜Ｒ１０ がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンゾトリアゾール誘導体を含有する新規化合物を、有機色素や、紫外線吸収剤として用いることを上記課題の主要な解決手段とする。
【０００８】
【化１】
Ｒ１ 、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、（任意の位置で枝分かれしているものを含む）
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、
ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル
Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）
【発明の効果】
【０００９】
本発明の化合物は、可視光青色領域から紫外光領域に渡って広い吸収帯域を有する化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤として好適に用いることができるものである。また広い吸収帯を有し、耐光性にも優れた化合物である。
【００１０】
本発明の化合物は、ベンゾトリアゾールのメチレンビス体であるが、過去にも類似構造物として
特開２００５−２０６７２０などでも紹介されている。ただし、これらの化合物における吸収波長域は、４００ｎｍ付近での吸収がほとんどなく、本発明である有機色素の用途としては不適である。
また、紫外線吸収剤としても紫外線長波長域のいわゆるＵＶ−Ａ領域全域をカバーすることができない。近年においては、４００ｎｍ付近における紫外線の影響が指摘されており、以前よりもさらに可視光域に近い紫外線吸収を求められている。本発明における化合物は、このような長波長域においても吸収を持つすぐれた材料である。 特に驚くべきことに、ベンゾトリアゾールの５位に水酸基、またはアルキルエーテル基を修飾した（ｆ）、（ｇ）の化合物におけるモル吸光係数は４００００前後と非常に大きなものであり、大容量光記録媒体の有機色素やエンジニアリングプラスチックの材料としてきわめて有用であることを見出した。
【特許文献６】特開２００５−２０６７２０号公報
【００１１】
本発明の化合物は、融点が高く、長期間経過後も結晶化することなく、嵩高いアモルファス状態を維持することができる。
【００１２】
また、本発明の化合物は、クロロホルムなど有機溶媒に対する溶解度が大きいものである。
【００１３】
なかでも、下記構造式で表されるベンゾトリアゾール誘導体は、有機溶媒が揮発する際にも結晶化しにくく、かつ、トルエンやクロロホルムなど有機溶媒に対する溶解性に優れている有機化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤にも好適に用いることができることが実験的にも明確となった。
【００１４】
化合物（ａ）
【００１５】
【化２】
化合物（ｂ）
【００１６】
【化３】
化合物（ｃ）
【００１７】
【化４】
化合物（ｄ）
【００１８】
【化５】
化合物（ｅ）
【００１９】
【化６】
化合物（ｆ）
【００２０】
【化７】
化合物（ｇ）
【００２１】
【化８】
化合物（ｈ）
【００２２】
【化９】
さらに、本発明の有機色素は、上記キャスティング法のような湿式塗布以外にも蒸着法スパッタリング法によっても基板上に成膜させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に本発明につき詳細に説明する。本発明は、有機色素として、下記一般式（Ａ）によって示される有機化合物を用いたものである。以下に前記一般式（Ａ）において表される化合物について説明する。
【００２４】
Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）を表す。 該置換基はさらに置換されていても良い。該任意の置換基の例としてＲ１，Ｒ２は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基、又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、n−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基，ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクトキシカルボニル基、イソオクトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２５】
該任意の置換基の例としてＲ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基，ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクトキシカルボニル基、イソオクトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２６】
該任意の置換基の例としてＲ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２７】
一般式（Ａ）で表される本発明化合物は、例えば下記（化１０，化１１）の示した反応式を経て合成することができる。
「マンニッヒ反応工程」
【００２８】
【化１０】
「縮合工程」
【００２９】
【化１１】
ベンゾトリアゾール誘導体に高沸点溶媒である商品名「ソルベッソ１５０」（エクソンモービル社製）溶媒下、パラホルムアルデヒドとジエチルアミン等の低級アミンを反応させてマンニッヒベースとし、さらにベンゾトリアゾール誘導体と縮合させることで本発明の上記ベンゾトリアゾール誘導体化合物を合成できる。反応の溶媒としては、上記「ソルベッソ１５０」以外に例えばキシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ヘプタン、オクタン等の鎖状炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素を用いることができる。また、再結晶の際に用いる再結晶溶媒としては、メチルイソブチルケトン以外に例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の低級エステル類等があげられる。
【００３０】
本発明の有機色素を製膜して用いる方法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等などが一般的であるが、コスト面ではスピンコート法が望ましい。
【００３１】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により塗布する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であれば良く、特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。また、基板に関しては、ガラスや、金属製の基板などに置き換わる動きも見られることから、例えばトルエン、キシレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアセトアミド、ジメチルスルホキシドのように樹脂製の基板を侵すような溶媒であっても、将来的には、使用できる可能性がある。
【００３２】
以下に本発明で実施した本発明の有機色素に用いる化合物の合成法および化合物の特性を示す。
ただし合成方法はこれに限定されるものではない。
【００３３】
（実施例１）
〔化合物の合成〕
化合物（ａ）
イ）２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノールの合成
１０００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イルフェノール）（商品名「シーソーブ７０９」シプロ化成社製）９６．９ｇ（０．３０モル）、ジエチルアミン６５．７ｇ（０．９０モル）、９２％パラホルムアルデヒド２９．４ｇ（０．９０モル）、を入れ、９５〜１００℃にて８時間撹拌した。 次いでｎ−ヘキサン２４０ｍLを加えて７０℃の温水１００ｍＬで３回洗浄し、冷却して析出した結晶をブフナーロートに濾過し取った。 乾燥機にて６０℃で乾燥し、微黄色の結晶であるマンニッヒ塩基体９８．０ｇを得た。 融点１０２．２〜１０３．１℃ 、収率８０％であった。
＜測定条件＞
装置：ＬＣ−６Ａ （（株）島津製作所製）
使用カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ ６ｍｍφ×１５ｃｍ
カラム温度：４０℃
移動相：メタノール：水＝９５：５
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
なお、下記ロ）のＨＰＬＣ面百純度も上記と同様の条件で行った。
【００３４】
ロ）化合物（ａ）の合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、イ）で合成したマンニッヒ塩基化合物２５．０ｇ（０．０６１ｍｏｌ）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル２３．４ｇ（０．０６１ｍｏｌ）、キシレン３０ｍＬ、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液０．１９ｇを加え、１４５℃で１０時間反応させた。 この際、留出したキシレン、ジエチルアミンは、留去しつつ反応させた。次に加熱、減圧下、キシレンを完全に留去してから１１０℃まで冷却してトルエン１０ｍＬを加え、酢酸０．１ｍＬにて反応物を中和した。 温水１０ｍＬで２回洗浄し、減圧下でトルエンを除去、次いでメタノールを加えて結晶を析出させた後、この結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量１３．２ｇ、収率６０．１％、ＨＰＬＣ純度７９．１％の粗結晶を得た。この粗結晶２ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコに入れ、トルエン３ｍＬとメタノール３０ｍＬの混合溶媒で加熱して１μｍのメンブランフィルターで濾過した後、再結晶させた。ブフナーロートでこの結晶を濾過し取り、さらにメタノールで洗浄してから乾燥させ、化合物（ａ）である微黄色の粉末結晶を得た。 収率は粗結晶体より５５．７％、ＨＰＬＣ純度８５．７％、融点１３３．４〜１３９．０℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲにより、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１〜２に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７１６．４０５に対して、ｐＭＳ＝ ７１７．３、ｎＭＳ＝ ７１５．５のピークが観測された。
【００３５】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物(a)の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５４ｎｍにあり、εは３２７００であった。 このスペクトルを図３に示す。また測定条件については以下の通りである。
＜測定条件＞
装置：ＵＶ−２４５０（（株）島津製作所製）
測定波長：２５０〜５００ｎｍ
また以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で紫外〜近紫外吸収スペクトルの測定を行った。
【００３６】
＜溶解性評価＞
化合物（ａ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００３７】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ａ）をクロロホルムに対して２．０ｗｔ％になるように調製した。
次にガラス板（７．５ｃｍ×２．５ｃｍ、厚さ約１ｍｍ）をポリカーボネート円盤に貼り付けて回転数５００〜６００ｒｐｍで回転させた。回転している円盤上に上記化合物（ａ）のクロロホルム溶液を滴下し、風乾させることで化合物（ａ）が膜化して付着しているガラス板を得た。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５５ｎｍであった。
【００３８】
（実施例２）
〔化合物の合成〕
化合物（ｂ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−ターシャリブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル３．２５ｇ（０．０１モル）、ジエチルアミン０．８ｇ（０．０１１モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．３３ｇ（０．０１モル）、ソルベッソ１５０ ３０ｍＬを入れ、９５〜９８℃にて１３時間撹拌した。 次いで７０℃の温水３０ｍＬで２回洗浄し、３２％ＮａＯＨ ０．２５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら１０時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン３０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、１．１７ｇの粗結晶を得た。 収率は３５．２％であった。
次にこの結晶１．１７ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン５ｍＬと共に入れ、加熱溶解後、メンブランフィルターで濾過してからメタノール２０ｍＬで置き換えた後に再結晶させ、この結晶をブフナーロートで濾過し取った。 収量は０．８９ｇ、収率２６．８％、ＨＰＬＣ純度９６．８％で微黄色粉末状である（ｂ）の結晶を得た。また、融点２２２．４〜２２３．２℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図４〜５に示す。 またＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ６６２．２８５に対して、ｐＭＳ＝ ６６３．２、ｎＭＳ＝ ６６１．４のピークが観測された。
【００３９】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｂ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６０ｎｍにあり、εは３６７００であった。 このスペクトルを図６に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｂ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４０】
＜塗布膜としたときの評価＞
溶媒をジクロロメタンにて実施したこと以外は、すべて実施例１と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６２ｎｍであった。
【００４１】
（実施例３）
〔化合物の合成〕
化合物（ｃ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−ターシャリブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドイソプロピルエステル３．５３ｇ（０．０１モル）、ジエチルアミン１．４６ｇ（０．０２モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．６６ｇ（０．０２モル）、ソルベッソ１５０ ３０ｍＬを入れ、８５〜９０℃にて１０時間撹拌した。 次いで７０℃の温水３０ｍＬで２回洗浄し、３２％ＮａＯＨ ０．２５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら１１時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン３０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、１．３６ｇの粗結晶を得た。 収率は３７．８％であった。 またＨＰＬＣ純度は９０．４％であった。次にこの結晶１．３６ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン５ｍＬと共に入れ、加熱溶解後、メンブランフィルターで濾過してからイソプロパノール４０ｍＬで置き換えた後に再結晶させ、この結晶をブフナーロートで濾過し取った。 収量は１．０４ｇ、収率２８．９％、ＨＰＬＣ純度９９．４％で微黄色粉末状である（ｃ）の結晶を得た。また、融点１７４．７〜１７６．０℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図７〜８に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７１８．３４８に対して、ｐＭＳ＝ ７１９．１、ｎＭＳ＝ ７１７．２のピークが観測された。
【００４２】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｃ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６０ｎｍにあり、εは３６６００であった。 このスペクトルを図９に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｃ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４３】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６３ｎｍであった。
【００４４】
（実施例４）
〔化合物の合成〕
化合物（ｄ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール２．０４ｇ（０．００５モル）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドイソプロピルエステル２．０５ｇ（０．００５モル）、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液 ０．１９ｇ、キシレン３０ｍＬを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら７時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、トルエン１０ｍＬを加え、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いで温水で洗浄し、メンブランフィルターで濾過してからトルエンを減圧留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、０．８８ｇの結晶を得た。 収率は２３．６％であった。 ＨＰＬＣ純度は８２．３％であった。この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１０〜１１に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７４４．４３６に対して、ｐＭＳ＝ ７４５．２、ｎＭＳ＝ ７４３．４のピークが観測された。
【００４５】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｄ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍにあり、εは３０９００であった。 このスペクトルを図１２に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｄ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４６】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍであった。
【００４７】
（実施例５）
〔化合物の合成〕
化合物（ｅ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（５−ターシャリブチル）−フェノール１．７６ｇ（０．００５モル）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル１．９１ｇ（０．００５モル）、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液 ０．１９ｇ、キシレン３０ｍＬを加え、実施例４と同様に行った。収量１．４ｇ、収率は４２．３％であった。 ＨＰＬＣ純度は７４．０％、融点は１４９．２〜１５５．１℃であった。この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、ＬＣ−ＭＳ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１３〜１４に示す。 また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ６６０．３４２に対して、ｐＭＳ ＝ ６６１．２、ｎＭＳ ＝ ６５９．３のピークが観測された。
【００４８】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｅ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５１ｎｍにあり、εは３１３００であった。 このスペクトル図を図１５に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｅ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４９】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍであった。
【００５０】
（実施例６）
〔化合物の合成〕
化合物（ｆ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−メトキシベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノール５．１１ｇ（０．０２モル）、ジエチルアミン２．９２ｇ（０．０４モル）、９２％パラホルムアルデヒド１．３１ｇ（０．０４モル）を入れ、１０５℃にて１０時間撹拌した。 次いでキシレン５０ｍＬを加えて抽出し、７０℃の温水５０ｍＬで２回洗浄し、この中に３２％ＮａＯＨ０．５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら５時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．２ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン５０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶８．０ｇを２００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン１００ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は７．７ｇ、収率７３．７％、ＨＰＬＣ純度９７．３％で淡褐色粉末状である（ｆ）の結晶を得た。融点は３００℃以上であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１６〜１７に示す。 また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ ＝ ５２２．２０２に対して、ｐＭＳ ＝ ５２３．０、ｎＭＳ ＝ ５２１．２のピークが観測された。
【００５１】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｆ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５２ｎｍにあり、εは４３３００であった。 このスペクトル図を図１８に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｆ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５２】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５３】
（実施例７）
〔化合物の合成〕
化合物（ｇ）
イ）２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−ターシャリブチル−フェノールの合成
１０００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ターシャリブチル−２−イルフェノール（商品名「シーソーブ７０８」シプロ化成社製）８０．１ｇ（０．３０モル）、ジエチルアミン６５．７ｇ（０．９０モル）、９２％パラホルムアルデヒド２９．４ｇ（０．９０モル）、を入れ、８０〜９０℃にて８時間撹拌した。 次いでｎ−ヘキサン２００ｍＬを加えて７０℃の温水１００ｍＬで３回洗浄し、冷却して析出した結晶をブフナーロートに濾過し取った。 乾燥機にて６０℃で乾燥し、微黄色の結晶であるマンニッヒ塩基体８２．９ｇを得た。 収率７８．４％であった。
ロ）化合物（ｇ）の合成
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−オール４．４４ｇ（０．０１８４モル）、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−ターシャリブチル−フェノール６．４８ｇ（０．０１８４モル）、 キシレン１００ｍＬ、３２％ＮａＯＨ１．０ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら８時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．５ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン１００ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶を１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 粗結晶としての収量は７．７ｇ。 次にこの粗結晶を１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は５．７ｇ、収率５９．６％、ＨＰＬＣ純度９７．０％で灰白色粉末状である（ｇ）の結晶を得た。 融点は２２４．２〜２２７．８℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図２２〜２３に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ５７６．２８５に対して、ｐＭＳ＝ ５７７．２、ｎＭＳ ＝５７５．３のピークが観測された。
【００５４】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｇ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３４２ｎｍにあり、εは３９０００であった。 このスペクトル図を図２４に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｇ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５５】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５６】
（実施例８）
〔化合物の合成〕
化合物（ｈ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−オール４．８３ｇ（０．０２モル）、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール８．１７ｇ（０．０２０モル）、 キシレン１００ｍＬ、３２％ＮａＯＨ１．０ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら８時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．５ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン１００ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶５．２ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は２．０ｇ、収率４１．７％、ＨＰＬＣ純度９９．２％で灰白色粉末状である（ｈ）の結晶を得た。融点は１６５．８〜１６８．２℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図２２〜２３に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ ＝５７６．２８５に対して、ｐＭＳ ＝５７７．２、ｎＭＳ＝５７５．３のピークが観測された。
【００５７】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｈ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３４４ｎｍにあり、εは３３０００であった。 このスペクトル図を図２４に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｈ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５８】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５９】
実施例１〜８の化合物（ａ）〜（ｈ）の特性をまとめて表１に示す。なお、塗布膜としたときの結晶性の有無も併せて示す。評価基準は下記の通りである。
○：結晶析出が認められない。
△：塗布膜の縁にわずかに結晶析出が認められる。
×：塗布膜の縁に明確に結晶析出が認められるか、又は塗布膜の縁以外の部分に結晶析出が認められる。
【００６０】
【表１】
（紫外線吸収剤としての評価）
実施例３で合成した化合物（ｃ）、実施例６で合成した化合物（ｆ）、および実施例８で合成した化合物（ｈ）の新規ベンゾトリアゾール化合物の１．００ｇを加熱ブロックにて２００℃にて１時間保持した後、物性の変化について測定した。
【００６１】
その結果を表２に示す。
【００６２】
いずれも外観色として若干の着色は見られるが、加熱後の紫外線吸収データ（ＵＶデータ）にほとんど変化が見られなかった。 またこれだけの加熱条件下でも減量はわずかであった。 これらの試験結果から非常に優れた対蒸散性、耐熱性を有する化合物であることがわかる。
【００６３】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明の化合物は、近紫外から紫外領域に広い吸収を持ち、かつ非結晶性が高いので、有機色素として塗料や写真薬など一般の色剤、また蒸散性に優れ、既存の紫外線吸収剤よりも可視光域に近い領域の紫外線を吸収する紫外線吸収剤として好適に使用できる。なかでも有機色素としては、いわゆる青色レーザーを用いる光記録媒体用に添加する色素として、紫外線吸収剤としては、ポリカーボネート樹脂のようなエンジニアリングプラスチックに対して好適に利用できる。また、本発明の化合物は、金属錯体の配位子としても利用でき、本発明の化合物を配位子とした有機金属錯体もまた有機色素として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】化合物（ａ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２】化合物（ａ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図３】化合物（ａ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図４】化合物（ｂ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図５】化合物（ｂ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図６】化合物（ｂ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図７】化合物（ｃ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図８】化合物（ｃ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図９】化合物（ｃ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１０】化合物（ｄ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１１】化合物（ｄ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１２】化合物（ｄ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１３】化合物（ｅ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１４】化合物（ｅ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１５】化合物（ｅ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１６】化合物（ｆ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１７】化合物（ｆ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１８】化合物（ｆ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１９】化合物（ｇ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２０】化合物（ｇ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図２１】化合物（ｇ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図２２】化合物（ｈ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２３】化合物（ｈ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図２４】化合物（ｈ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規なベンゾトリアゾール誘導体化合物に関し、また当該新規化合物を含有する有機色素および紫外線吸収剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ，ＭＯなどへの媒体の書き込み、読みとりには、いわゆる赤色レーザーが普及している。これに使用する媒体には、当該赤色レーザーの波長に対応した波長を吸収する色素が表面にコーティングされている。これらの機能性色素には大きく分けると有機色素と無機物の２種類があり、応答速度が速い、化合物コストが安いなどの利点から有機色素が一般によく使用されている。
【０００３】
一方で、近年になってさらに大きな記録容量を必要とする状況がある。 映像が現在よりもクリアーで、大容量な画像を記録するためには先に述べた媒体では対応できない。そこで更なる高密度の記録を可能にすべく、いわゆる青色レーザーを用いた機器の開発が進んでいる。青色レーザー用の媒体に用いる色素は、レーザーの波長に対応すべく、４０５ｎｍ付近の波長を効率的に吸収する色素でなければならない。すでに無機物による実用化はすでに開発が進んでおり、実際に商品としてコンシューマー向けにも販売されている。 しかしながら先に述べたように、コストが高い、応答速度が遅い等大きな問題があり、これらの欠点を補える有機色素の開発が望まれている。
【０００４】
有機色素においてこのような波長領域に吸収を持つ化合物としては、例えば、特許文献１〜４に記載されているような有機色素の基本骨格としてピラン化合物の誘導体、ポリアセンジイミド系色素の誘導体、シアニン系色素の混合物、メチン基のパラ位に特定のアミノ基を導入したベンゼン誘導体を用いる方法などが提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３２２５６４号公報
【特許文献２】特開２００４−０９０３７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６９５４号公報
【特許文献４】特開２００３−１０３９３５号公報
【０００５】
これらの化合物を有機色素として記録媒体に用いる場合には、スピンコート法など溶媒に溶かして有機色素の薄膜層を形成するのが一般的である。また、記録内容の長期間保持という点から、耐光性の良い材料が求められる。さらに、レーザーが当たった際に、有機色素がピットに流れ出ないようにするため、高融点であることが求められる。 さらに熱や光の影響で容易に分解しない事が必須である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記材料においては、高い溶解度、高い耐光性、高融点、物質としての安定性のいずれかの性能を満足するものであったとしても、これらすべての性能について十分といえるものではかった。 あるいは近年において、いわゆるエンジニアリングプラスティックといわれる高い機能性を持つ樹脂に好適な紫外線吸収剤の開発が求められている。例えば、先に述べたような記録媒体自身は、ポリカーボネート樹脂で作られており、あるいはこの樹脂は、自動車の軽量化を目的として従来は、ガラスや金属が使われていた多くの箇所に急速に置き換わっている。ポリカーボネート樹脂が使われる場面は、直射日光などの強い紫外線に長期に渡って曝されることが多いため、耐光性が高く、樹脂との相溶性に優れた材料が求められる。 また、これらの樹脂に練り込む場合、高温下で行われるので、物質としての安定性に優れたものや、昇華しにくい材料でなければならないが、必ずしも満足できる紫外線吸収剤が開発されていないのは、特開２００６−４５４５８などでも問題提起されている。 そこで本発明における課題は、これらの問題がなく、高い溶解性、高い耐光性、高融点、物質としての安定性のいずれの性能についても満足できる有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることができる化合物を提供することにある。
【特許文献５】特開２００６−４５４５８号公報
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、下記（化１）に示した一般式（Ａ）で示されるベンゾトリアゾール誘導体の内、Ｒ１〜Ｒ１０ がそれぞれ下記の官能基または原子のうちいずれかであるベンゾトリアゾール誘導体を含有する新規化合物を、有機色素や、紫外線吸収剤として用いることを上記課題の主要な解決手段とする。
【０００８】
【化１】
Ｒ１ 、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、（任意の位置で枝分かれしているものを含む）
Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、
ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル
Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）
【発明の効果】
【０００９】
本発明の化合物は、可視光青色領域から紫外光領域に渡って広い吸収帯域を有する化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤として好適に用いることができるものである。また広い吸収帯を有し、耐光性にも優れた化合物である。
【００１０】
本発明の化合物は、ベンゾトリアゾールのメチレンビス体であるが、過去にも類似構造物として
特開２００５−２０６７２０などでも紹介されている。ただし、これらの化合物における吸収波長域は、４００ｎｍ付近での吸収がほとんどなく、本発明である有機色素の用途としては不適である。
また、紫外線吸収剤としても紫外線長波長域のいわゆるＵＶ−Ａ領域全域をカバーすることができない。近年においては、４００ｎｍ付近における紫外線の影響が指摘されており、以前よりもさらに可視光域に近い紫外線吸収を求められている。本発明における化合物は、このような長波長域においても吸収を持つすぐれた材料である。 特に驚くべきことに、ベンゾトリアゾールの５位に水酸基、またはアルキルエーテル基を修飾した（ｆ）、（ｇ）の化合物におけるモル吸光係数は４００００前後と非常に大きなものであり、大容量光記録媒体の有機色素やエンジニアリングプラスチックの材料としてきわめて有用であることを見出した。
【特許文献６】特開２００５−２０６７２０号公報
【００１１】
本発明の化合物は、融点が高く、長期間経過後も結晶化することなく、嵩高いアモルファス状態を維持することができる。
【００１２】
また、本発明の化合物は、クロロホルムなど有機溶媒に対する溶解度が大きいものである。
【００１３】
なかでも、下記構造式で表されるベンゾトリアゾール誘導体は、有機溶媒が揮発する際にも結晶化しにくく、かつ、トルエンやクロロホルムなど有機溶媒に対する溶解性に優れている有機化合物であり、有機色素、紫外線吸収剤にも好適に用いることができることが実験的にも明確となった。
【００１４】
化合物（ａ）
【００１５】
【化２】
化合物（ｂ）
【００１６】
【化３】
化合物（ｃ）
【００１７】
【化４】
化合物（ｄ）
【００１８】
【化５】
化合物（ｅ）
【００１９】
【化６】
化合物（ｆ）
【００２０】
【化７】
化合物（ｇ）
【００２１】
【化８】
化合物（ｈ）
【００２２】
【化９】
さらに、本発明の有機色素は、上記キャスティング法のような湿式塗布以外にも蒸着法スパッタリング法によっても基板上に成膜させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に本発明につき詳細に説明する。本発明は、有機色素として、下記一般式（Ａ）によって示される有機化合物を用いたものである。以下に前記一般式（Ａ）において表される化合物について説明する。
【００２４】
Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）を表す。 該置換基はさらに置換されていても良い。該任意の置換基の例としてＲ１，Ｒ２は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基、又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、n−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基，ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクトキシカルボニル基、イソオクトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の置換されても良い炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２５】
該任意の置換基の例としてＲ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基；カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基，ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクトキシカルボニル基、イソオクトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２６】
該任意の置換基の例としてＲ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基，ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキル基又は水素原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクトキシ基、イソオクトキシ基、ｔｅｒｔ−オクトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルコキシ基またはヒドロキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、又は分岐のアルキルカルボニル基またはカルボキシル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子などがあげられる。
【００２７】
一般式（Ａ）で表される本発明化合物は、例えば下記（化１０，化１１）の示した反応式を経て合成することができる。
「マンニッヒ反応工程」
【００２８】
【化１０】
「縮合工程」
【００２９】
【化１１】
ベンゾトリアゾール誘導体に高沸点溶媒である商品名「ソルベッソ１５０」（エクソンモービル社製）溶媒下、パラホルムアルデヒドとジエチルアミン等の低級アミンを反応させてマンニッヒベースとし、さらにベンゾトリアゾール誘導体と縮合させることで本発明の上記ベンゾトリアゾール誘導体化合物を合成できる。反応の溶媒としては、上記「ソルベッソ１５０」以外に例えばキシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ヘプタン、オクタン等の鎖状炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素を用いることができる。また、再結晶の際に用いる再結晶溶媒としては、メチルイソブチルケトン以外に例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の低級エステル類等があげられる。
【００３０】
本発明の有機色素を製膜して用いる方法としては真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等などが一般的であるが、コスト面ではスピンコート法が望ましい。
【００３１】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により塗布する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であれば良く、特に限定されない。具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。また、基板に関しては、ガラスや、金属製の基板などに置き換わる動きも見られることから、例えばトルエン、キシレン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアセトアミド、ジメチルスルホキシドのように樹脂製の基板を侵すような溶媒であっても、将来的には、使用できる可能性がある。
【００３２】
以下に本発明で実施した本発明の有機色素に用いる化合物の合成法および化合物の特性を示す。
ただし合成方法はこれに限定されるものではない。
【００３３】
（実施例１）
〔化合物の合成〕
化合物（ａ）
イ）２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノールの合成
１０００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イルフェノール）（商品名「シーソーブ７０９」シプロ化成社製）９６．９ｇ（０．３０モル）、ジエチルアミン６５．７ｇ（０．９０モル）、９２％パラホルムアルデヒド２９．４ｇ（０．９０モル）、を入れ、９５〜１００℃にて８時間撹拌した。 次いでｎ−ヘキサン２４０ｍLを加えて７０℃の温水１００ｍＬで３回洗浄し、冷却して析出した結晶をブフナーロートに濾過し取った。 乾燥機にて６０℃で乾燥し、微黄色の結晶であるマンニッヒ塩基体９８．０ｇを得た。 融点１０２．２〜１０３．１℃ 、収率８０％であった。
＜測定条件＞
装置：ＬＣ−６Ａ （（株）島津製作所製）
使用カラム：ＳＵＭＩＰＡＸ ＯＤＳ Ａ−２１２ ５μｍ ６ｍｍφ×１５ｃｍ
カラム温度：４０℃
移動相：メタノール：水＝９５：５
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
なお、下記ロ）のＨＰＬＣ面百純度も上記と同様の条件で行った。
【００３４】
ロ）化合物（ａ）の合成
５００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、イ）で合成したマンニッヒ塩基化合物２５．０ｇ（０．０６１ｍｏｌ）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル２３．４ｇ（０．０６１ｍｏｌ）、キシレン３０ｍＬ、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液０．１９ｇを加え、１４５℃で１０時間反応させた。 この際、留出したキシレン、ジエチルアミンは、留去しつつ反応させた。次に加熱、減圧下、キシレンを完全に留去してから１１０℃まで冷却してトルエン１０ｍＬを加え、酢酸０．１ｍＬにて反応物を中和した。 温水１０ｍＬで２回洗浄し、減圧下でトルエンを除去、次いでメタノールを加えて結晶を析出させた後、この結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量１３．２ｇ、収率６０．１％、ＨＰＬＣ純度７９．１％の粗結晶を得た。この粗結晶２ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコに入れ、トルエン３ｍＬとメタノール３０ｍＬの混合溶媒で加熱して１μｍのメンブランフィルターで濾過した後、再結晶させた。ブフナーロートでこの結晶を濾過し取り、さらにメタノールで洗浄してから乾燥させ、化合物（ａ）である微黄色の粉末結晶を得た。 収率は粗結晶体より５５．７％、ＨＰＬＣ純度８５．７％、融点１３３．４〜１３９．０℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲにより、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１〜２に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７１６．４０５に対して、ｐＭＳ＝ ７１７．３、ｎＭＳ＝ ７１５．５のピークが観測された。
【００３５】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物(a)の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５４ｎｍにあり、εは３２７００であった。 このスペクトルを図３に示す。また測定条件については以下の通りである。
＜測定条件＞
装置：ＵＶ−２４５０（（株）島津製作所製）
測定波長：２５０〜５００ｎｍ
また以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で紫外〜近紫外吸収スペクトルの測定を行った。
【００３６】
＜溶解性評価＞
化合物（ａ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００３７】
＜塗布膜としたときの評価＞
上記で得られた化合物（ａ）をクロロホルムに対して２．０ｗｔ％になるように調製した。
次にガラス板（７．５ｃｍ×２．５ｃｍ、厚さ約１ｍｍ）をポリカーボネート円盤に貼り付けて回転数５００〜６００ｒｐｍで回転させた。回転している円盤上に上記化合物（ａ）のクロロホルム溶液を滴下し、風乾させることで化合物（ａ）が膜化して付着しているガラス板を得た。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５５ｎｍであった。
【００３８】
（実施例２）
〔化合物の合成〕
化合物（ｂ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−ターシャリブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル３．２５ｇ（０．０１モル）、ジエチルアミン０．８ｇ（０．０１１モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．３３ｇ（０．０１モル）、ソルベッソ１５０ ３０ｍＬを入れ、９５〜９８℃にて１３時間撹拌した。 次いで７０℃の温水３０ｍＬで２回洗浄し、３２％ＮａＯＨ ０．２５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら１０時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン３０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、１．１７ｇの粗結晶を得た。 収率は３５．２％であった。
次にこの結晶１．１７ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン５ｍＬと共に入れ、加熱溶解後、メンブランフィルターで濾過してからメタノール２０ｍＬで置き換えた後に再結晶させ、この結晶をブフナーロートで濾過し取った。 収量は０．８９ｇ、収率２６．８％、ＨＰＬＣ純度９６．８％で微黄色粉末状である（ｂ）の結晶を得た。また、融点２２２．４〜２２３．２℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図４〜５に示す。 またＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ６６２．２８５に対して、ｐＭＳ＝ ６６３．２、ｎＭＳ＝ ６６１．４のピークが観測された。
【００３９】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｂ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６０ｎｍにあり、εは３６７００であった。 このスペクトルを図６に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｂ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４０】
＜塗布膜としたときの評価＞
溶媒をジクロロメタンにて実施したこと以外は、すべて実施例１と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６２ｎｍであった。
【００４１】
（実施例３）
〔化合物の合成〕
化合物（ｃ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−ターシャリブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドイソプロピルエステル３．５３ｇ（０．０１モル）、ジエチルアミン１．４６ｇ（０．０２モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．６６ｇ（０．０２モル）、ソルベッソ１５０ ３０ｍＬを入れ、８５〜９０℃にて１０時間撹拌した。 次いで７０℃の温水３０ｍＬで２回洗浄し、３２％ＮａＯＨ ０．２５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら１１時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン３０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、１．３６ｇの粗結晶を得た。 収率は３７．８％であった。 またＨＰＬＣ純度は９０．４％であった。次にこの結晶１．３６ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン５ｍＬと共に入れ、加熱溶解後、メンブランフィルターで濾過してからイソプロパノール４０ｍＬで置き換えた後に再結晶させ、この結晶をブフナーロートで濾過し取った。 収量は１．０４ｇ、収率２８．９％、ＨＰＬＣ純度９９．４％で微黄色粉末状である（ｃ）の結晶を得た。また、融点１７４．７〜１７６．０℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図７〜８に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７１８．３４８に対して、ｐＭＳ＝ ７１９．１、ｎＭＳ＝ ７１７．２のピークが観測された。
【００４２】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｃ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６０ｎｍにあり、εは３６６００であった。 このスペクトルを図９に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｃ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４３】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３６３ｎｍであった。
【００４４】
（実施例４）
〔化合物の合成〕
化合物（ｄ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール２．０４ｇ（０．００５モル）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドイソプロピルエステル２．０５ｇ（０．００５モル）、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液 ０．１９ｇ、キシレン３０ｍＬを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら７時間反応させた。薄層クロマトにより未反応が消失していることを確認した後、トルエン１０ｍＬを加え、酢酸０．１ｍＬで反応物を中和した。次いで温水で洗浄し、メンブランフィルターで濾過してからトルエンを減圧留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取り、０．８８ｇの結晶を得た。 収率は２３．６％であった。 ＨＰＬＣ純度は８２．３％であった。この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１０〜１１に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ７４４．４３６に対して、ｐＭＳ＝ ７４５．２、ｎＭＳ＝ ７４３．４のピークが観測された。
【００４５】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｄ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍにあり、εは３０９００であった。 このスペクトルを図１２に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｄ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４６】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍであった。
【００４７】
（実施例５）
〔化合物の合成〕
化合物（ｅ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（５−ターシャリブチル）−フェノール１．７６ｇ（０．００５モル）、２−［２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシリックアシドメチルエステル１．９１ｇ（０．００５モル）、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液 ０．１９ｇ、キシレン３０ｍＬを加え、実施例４と同様に行った。収量１．４ｇ、収率は４２．３％であった。 ＨＰＬＣ純度は７４．０％、融点は１４９．２〜１５５．１℃であった。この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、ＬＣ−ＭＳ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１３〜１４に示す。 また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ６６０．３４２に対して、ｐＭＳ ＝ ６６１．２、ｎＭＳ ＝ ６５９．３のピークが観測された。
【００４８】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｅ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５１ｎｍにあり、εは３１３００であった。 このスペクトル図を図１５に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｅ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００４９】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
また、塗膜したガラス板の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５３ｎｍであった。
【００５０】
（実施例６）
〔化合物の合成〕
化合物（ｆ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（５−メトキシベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノール５．１１ｇ（０．０２モル）、ジエチルアミン２．９２ｇ（０．０４モル）、９２％パラホルムアルデヒド１．３１ｇ（０．０４モル）を入れ、１０５℃にて１０時間撹拌した。 次いでキシレン５０ｍＬを加えて抽出し、７０℃の温水５０ｍＬで２回洗浄し、この中に３２％ＮａＯＨ０．５ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら５時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．２ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン５０ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールに置き替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶８．０ｇを２００ｍＬの四つ口フラスコにトルエン１００ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は７．７ｇ、収率７３．７％、ＨＰＬＣ純度９７．３％で淡褐色粉末状である（ｆ）の結晶を得た。融点は３００℃以上であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図１６〜１７に示す。 また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ ＝ ５２２．２０２に対して、ｐＭＳ ＝ ５２３．０、ｎＭＳ ＝ ５２１．２のピークが観測された。
【００５１】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｆ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３５２ｎｍにあり、εは４３３００であった。 このスペクトル図を図１８に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｆ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５２】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５３】
（実施例７）
〔化合物の合成〕
化合物（ｇ）
イ）２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−ターシャリブチル−フェノールの合成
１０００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ターシャリブチル−２−イルフェノール（商品名「シーソーブ７０８」シプロ化成社製）８０．１ｇ（０．３０モル）、ジエチルアミン６５．７ｇ（０．９０モル）、９２％パラホルムアルデヒド２９．４ｇ（０．９０モル）、を入れ、８０〜９０℃にて８時間撹拌した。 次いでｎ−ヘキサン２００ｍＬを加えて７０℃の温水１００ｍＬで３回洗浄し、冷却して析出した結晶をブフナーロートに濾過し取った。 乾燥機にて６０℃で乾燥し、微黄色の結晶であるマンニッヒ塩基体８２．９ｇを得た。 収率７８．４％であった。
ロ）化合物（ｇ）の合成
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−オール４．４４ｇ（０．０１８４モル）、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−ターシャリブチル−フェノール６．４８ｇ（０．０１８４モル）、 キシレン１００ｍＬ、３２％ＮａＯＨ１．０ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら８時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．５ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン１００ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶を１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 粗結晶としての収量は７．７ｇ。 次にこの粗結晶を１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は５．７ｇ、収率５９．６％、ＨＰＬＣ純度９７．０％で灰白色粉末状である（ｇ）の結晶を得た。 融点は２２４．２〜２２７．８℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図２２〜２３に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ＝ ５７６．２８５に対して、ｐＭＳ＝ ５７７．２、ｎＭＳ ＝５７５．３のピークが観測された。
【００５４】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｇ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３４２ｎｍにあり、εは３９０００であった。 このスペクトル図を図２４に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｇ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５５】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５６】
（実施例８）
〔化合物の合成〕
化合物（ｈ）
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−オール４．８３ｇ（０．０２モル）、実施例１−イ）で合成した２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール８．１７ｇ（０．０２０モル）、 キシレン１００ｍＬ、３２％ＮａＯＨ１．０ｇを加え、１４０〜１５０℃、減圧下で揮発分を留去しながら８時間反応させた。ＨＰＬＣにより未反応が消失していることを確認した後、酢酸０．５ｍＬで反応物を中和した。次いでトルエン１００ｍＬを加えて、８０℃まで加熱して溶解させ、温水で洗浄し、トルエンを留去してイソプロパノールにおき替えて結晶を析出させた。 この結晶をブフナーロートで濾過し取った。次にこの粗結晶５．２ｇを１００ｍＬの四つ口フラスコにイソプロパノール５０ｍＬと共に入れ、加熱後、冷却してこの結晶をブフナーロートに濾過し取った。 収量は２．０ｇ、収率４１．７％、ＨＰＬＣ純度９９．２％で灰白色粉末状である（ｈ）の結晶を得た。融点は１６５．８〜１６８．２℃であった。 この化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ解析により、いずれも推定構造を支持するものであった。 これらのチャートを図２２〜２３に示す。また、ＬＣ−ＭＳにより、ＭＳ ＝５７６．２８５に対して、ｐＭＳ ＝５７７．２、ｎＭＳ＝５７５．３のピークが観測された。
【００５７】
＜紫外〜近紫外吸収スペクトル＞
化合物（ｈ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルを測定したところ、極大吸収波長λｍａｘが３４４ｎｍにあり、εは３３０００であった。 このスペクトル図を図２４に示す。
＜溶解性評価＞
化合物（ｈ）について各種溶媒に溶解させたときの溶解度を調べた結果を表１に示す。 イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、トリフルオロプロパノールに対しての溶解度は低いが、クロロホルム、トルエン、キシレンへの溶解性が優れていた。
【００５８】
＜塗布膜としたときの評価＞
すべて実施例２と同様に行った。
滴下した溶液の縁に結晶化が見られたが、中心部はアモルファス状態を維持していた。
【００５９】
実施例１〜８の化合物（ａ）〜（ｈ）の特性をまとめて表１に示す。なお、塗布膜としたときの結晶性の有無も併せて示す。評価基準は下記の通りである。
○：結晶析出が認められない。
△：塗布膜の縁にわずかに結晶析出が認められる。
×：塗布膜の縁に明確に結晶析出が認められるか、又は塗布膜の縁以外の部分に結晶析出が認められる。
【００６０】
【表１】
（紫外線吸収剤としての評価）
実施例３で合成した化合物（ｃ）、実施例６で合成した化合物（ｆ）、および実施例８で合成した化合物（ｈ）の新規ベンゾトリアゾール化合物の１．００ｇを加熱ブロックにて２００℃にて１時間保持した後、物性の変化について測定した。
【００６１】
その結果を表２に示す。
【００６２】
いずれも外観色として若干の着色は見られるが、加熱後の紫外線吸収データ（ＵＶデータ）にほとんど変化が見られなかった。 またこれだけの加熱条件下でも減量はわずかであった。 これらの試験結果から非常に優れた対蒸散性、耐熱性を有する化合物であることがわかる。
【００６３】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明の化合物は、近紫外から紫外領域に広い吸収を持ち、かつ非結晶性が高いので、有機色素として塗料や写真薬など一般の色剤、また蒸散性に優れ、既存の紫外線吸収剤よりも可視光域に近い領域の紫外線を吸収する紫外線吸収剤として好適に使用できる。なかでも有機色素としては、いわゆる青色レーザーを用いる光記録媒体用に添加する色素として、紫外線吸収剤としては、ポリカーボネート樹脂のようなエンジニアリングプラスチックに対して好適に利用できる。また、本発明の化合物は、金属錯体の配位子としても利用でき、本発明の化合物を配位子とした有機金属錯体もまた有機色素として好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】化合物（ａ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２】化合物（ａ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図３】化合物（ａ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図４】化合物（ｂ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図５】化合物（ｂ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図６】化合物（ｂ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図７】化合物（ｃ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図８】化合物（ｃ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図９】化合物（ｃ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１０】化合物（ｄ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１１】化合物（ｄ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１２】化合物（ｄ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１３】化合物（ｅ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１４】化合物（ｅ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１５】化合物（ｅ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１６】化合物（ｆ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図１７】化合物（ｆ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図１８】化合物（ｆ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図１９】化合物（ｇ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２０】化合物（ｇ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図２１】化合物（ｇ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【図２２】化合物（ｈ）の１Ｈ−ＮＭＲである。
【図２３】化合物（ｈ）の１３Ｃ−ＮＭＲである。
【図２４】化合物（ｈ）の紫外〜近紫外吸収スペクトルである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記に示した一般式（A）で示されるベンゾトリアゾール誘導体
【化１】
Ｒ１ 、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）。
【請求項２】
前記一般式（Ａ）におけるＲ１〜Ｒ１０が、下記（ａ） 〜 （ｈ）記載の組み合わせのいずれかであるベンゾトリアゾール誘導体化合物。
（ａ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｂ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、Ｒ５，Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｃ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ５，Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ（ＣＨ３）２
（ｄ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ（ＣＨ３）２
（ｅ）
Ｒ１＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｆ）
Ｒ１，Ｒ２＝ＣＨ３
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ５，Ｒ８＝ＯＣＨ３
（ｇ）
Ｒ１＝ＣＨ３
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＯＨ
（ｈ）
Ｒ１＝ＣＨ３
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＯＨ
【請求項３】
請求項１記載のベンゾトリアゾール誘導体化合物を含有する有機色素
【請求項４】
請求項１記載のベンゾトリアゾール誘導体化合物を含有する紫外線吸収剤
【請求項１】
下記に示した一般式（A）で示されるベンゾトリアゾール誘導体
【化１】
Ｒ１ 、Ｒ２は、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル、Ｒ４，Ｒ５，Ｒ８，Ｒ９は、カルボキシル基または、炭素数１〜２０のカルボン酸エステル、ヒドロキシル基、または、炭素数１〜２０のアルキルエーテル（任意の位置で枝分かれしているものを含む）、Ｒ３，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ１０ は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（任意の位置で枝分かれしているものを含む）。
【請求項２】
前記一般式（Ａ）におけるＲ１〜Ｒ１０が、下記（ａ） 〜 （ｈ）記載の組み合わせのいずれかであるベンゾトリアゾール誘導体化合物。
（ａ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｂ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、Ｒ５，Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｃ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ５，Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ（ＣＨ３）２
（ｄ）
Ｒ１，Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ（ＣＨ３）２
（ｅ）
Ｒ１＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＣＯＯＣＨ３
（ｆ）
Ｒ１，Ｒ２＝ＣＨ３
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ５，Ｒ８＝ＯＣＨ３
（ｇ）
Ｒ１＝ＣＨ３
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＯＨ
（ｈ）
Ｒ１＝ＣＨ３
Ｒ２＝ｔｅｒｔ−Ｏｃｔｙｌ
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ９，Ｒ１０＝Ｈ、 Ｒ８＝ＯＨ
【請求項３】
請求項１記載のベンゾトリアゾール誘導体化合物を含有する有機色素
【請求項４】
請求項１記載のベンゾトリアゾール誘導体化合物を含有する紫外線吸収剤
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【公開番号】特開２００８−１９５６７０（Ｐ２００８−１９５６７０Ａ）
【公開日】平成２０年８月２８日（２００８．８．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３３９１７（Ｐ２００７−３３９１７）
【出願日】平成１９年２月１４日（２００７．２．１４）
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年８月２８日（２００８．８．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月１４日（２００７．２．１４）
【出願人】（３０１０００６７５）シプロ化成株式会社 (33)
【Ｆターム（参考）】
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