ポジ型平版印刷版前駆体の処理
それらの共役酸が９を超えるｐＫａ及び１５０℃を超える沸点を有している、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はその混合物を含む現像溶液を使用して、ポジ型画像形成性要素を画像形成して処理することができる。画像形成性要素は、基板と赤外線吸収化合物とを有する単層赤外線感光性ポジ型画像形成性要素である。画像形成性要素はまた、現像性向上化合物と、反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むポリ（ビニルアセタール）とを含む画像形成性層を有している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のポリ（ビニルアセタール）バインダーを含有するポジ型画像形成性要素から、有機アミンを含有する単一の現像溶液を使用して、画像形成された要素、例えば平版印刷版を調製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷の場合、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。表面が水で湿潤され、そしてインクが着けられると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、そしてインク受容領域はインクを受容して水を弾く。次いでインクは画像が再現されるべき好適な材料の表面に転写される。いくつかの事例では、インクは中間ブランケットに先ず転写することができ、このブランケットは、画像が再現されるべき材料の表面にインクを転写するために使用される。
【０００３】
平版（又はオフセット）印刷版を調製するのに有用な画像形成性要素は、典型的には、基板（又は中間層）の親水性表面上に適用された１つ又は２つ以上の画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散された１種又は２種以上の輻射線感光性成分を含むことができる。画像形成に続いて、画像形成性層の露光された領域又は非露光領域が、好適な現像剤によって除去され、下側に位置する親水性の基板表面を露出する。露光された領域が除去される場合には、要素はポジ型と考えられる。逆に、非画像形成領域が除去される場合には、要素はネガ型と考えられる。それぞれの事例において、残される画像形成性層領域はインク受容性であり、そして、現像処理によって露出された親水性表面領域は、水及び水溶液（典型的には湿し水溶液）を受容し、そしてインクを弾く。
【０００４】
同様に、プリント基板（ＰＣＢ）生産におけるレジスト・パターン、薄膜・厚膜回路、レジスタ、キャパシタ、及びインダクタ、マルチチップ・デバイス、集積回路、及びアクティブ半導体デバイスを形成するために、ポジ型組成物を使用することもできる。
【０００５】
コンピュータからのデジタルデータを使用してオフセット印刷版又はプリント基板を直接形成する「レーザーダイレクト画像形成」法（ＬＤＩ）が知られており、これらの方法は、写真フィルムのマスキングを用いた以前の方法を凌ぐ数多くの利点をもたらす。より効率的なレーザー、改善された画像形成性組成物、及びこれらの成分から、この分野ではかなりの開発が進んでいる。
【０００６】
感熱性画像形成性要素は、適量の熱エネルギーに対する曝露、又は適量の熱エネルギーの吸収に応答して化学変換させられる要素として分類することができる。熱誘発型化学変換は、要素中の画像形成性組成物をアブレートすること、又は特定の現像剤中の溶解度を変化させること、又は感熱性層の表面層の粘着性又は親水性又は疎水性を変化させることである。このようなものとして、平版印刷表面又はＰＣＢ生産におけるレジスト・パターンとして役立つことができる所定の画像形成性層領域を露出させるために、熱画像形成を用いることができる。
【０００７】
ノボラック又は他のフェノール高分子バインダー及びジアゾキノン画像形成成分を含有するポジ型画像形成性組成物が、長年にわたって平版印刷版及びフォトレジストの業界において優勢である。種々のフェノール樹脂及び赤外線吸収化合物を基剤とする画像形成性組成物も良く知られている。
【０００８】
国際公開第２００４／０８１６６２号パンフレット（Memetea他）には、所要画像形成エネルギーが低減されるようにポジ型組成物及び要素の感度を向上させるために、フェノールポリマー又はポリ（ビニルアセタール）を含む酸性の種々の現像性向上化合物を使用することが記載されている。このような組成物及び要素に特に有用なポリ（ビニルアセタール）のうちのいくつかが、米国特許第６，２５５，０３３号（Levanon他）及び同第６，５４１，１８１号（Levanon他）の各明細書に記載されている。
【０００９】
特定の現像性向上材料とポリ（ビニルアセタール）とを含有する熱画像形成性要素が、同一譲受人による同時係属中の米国特許出願公開第２００８／０２０６６７８号明細書（Levanon他）、同第２００９／０００４５９９号明細書（Levanon他）、及び米国特許出願第１１／９５９，４９２号明細書（Nakash及びLevanonにより2007年12月18日付けで出願）に記載されている。
【００１０】
フェノール樹脂を含有する画像形成性要素が米国特許第６，４１０，２０３号明細書（Nakamura）に記載されている。画像形成後、要素は、ケイ酸塩含有現像剤、炭酸塩現像剤、リン酸塩現像剤、及びホウ酸塩現像剤を含む種々様々な現像剤のいずれかで現像される。
【００１１】
同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１２／０２５，０８９号明細書（Levanon, Nakash及びKurtserにより2008年2月4日付けで出願）、及び同第１２／１２５，０８４号明細書（Levanon及びNakashにより2008年5月22日付けで出願）には、特定のポリ（ビニルアセタール）を含有するポジ型画像形成性要素を処理するために、炭酸塩現像剤を使用することが記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ポジ型画像形成性要素は、一般的に、画像形成され、ケイ酸塩又はメタケイ酸塩を含有する種々の高アルカリ性現像剤を使用して現像される。このような現像剤は、画像形成性層の画像形成された部分を除去するのに効果的ではあるものの、これらはアルミニウム基板と好ましくなく反応して、廃棄物処理の問題を招く毒性廃液を生成させるおそれがある。さらに、ケイ酸塩は、処理装置の管や他の部分内に蓄積することがある。
【００１３】
加えて、種々の現像剤の使用後、印刷版は通常、画像形成された表面上に保護層を提供するように、コンベンショナルなガム溶液で「ガミング処理」される。このような、画像形成、現像、水での濯ぎ、及びガミング処理が、処理装置内で複数の工程及びステーションを必要とする。
【００１４】
画像形成されたポジ型画像形成性要素、特に、ポリ（ビニルアセタール）バインダー樹脂を含有する単一画像形成性層を有する画像形成されたポジ型画像形成性要素を現像するための、環境的により容認され得る、より低廉な方法を見いだす必要がある。また、平版印刷版に、印刷可能な画像を提供する過程を単純化する必要もある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、
要素に画像を形成する方法であって：
Ａ） 親水性表面と赤外線吸収化合物とを有し、そして前記親水性表面上に、現像性向上化合物と、反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むポリ（ビニルアセタール）とを含む画像形成性層を有する基板を含んで成る赤外線感光性ポジ型画像形成性要素を像様露光することにより、前記画像形成性層内に露光された領域及び非露光領域を提供する工程、そして
Ｂ） 前記像様露光された画像形成性要素に現像溶液を適用することによって、前記露光された領域内において、前記画像形成性層を除去し、そしてこれにより主として前記親水性表面のみを露出させる工程、
を含み、
前記現像溶液が、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はその混合物を含み、それらの共役酸が９を超えるｐＫａ及び１５０℃を超える沸点を有する、
要素に画像を形成する方法を提供する。
【００１６】
本発明は、画像形成された要素、例えば、アルミニウム含有親水性基板を有する平版印刷版を提供するために用いることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、環境的により容認され得る形で、高感度のポジ型前駆体から画像形成された要素を提供する。周知の高アルカリ性のケイ酸塩含有現像剤に関わる問題点が回避される。加えて、現像条件は、周知の方法で用いられているものと比較して、比較的穏やか（１２未満のｐＨ）である。さらに、画像形成された要素の処理が、所望の場合には、単一の現像溶液を使用して、現像機能及び「ガミング」機能を達成し得る点で単純化される。これらの利点は、本明細書中に規定される有機アミンを含有する比較的単純な現像溶液を使用して達成される。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
定義
文脈上異なることを示すのでない限り、「輻射線感光性組成物」、「画像形成性要素」、「ポジ型画像形成性要素」及び「現像溶液」の用語は本明細書中に使用される場合には、本発明において有用な態様を意味するものとする。
【００１９】
加えて、文脈上異なることを示すのでない限り、本明細書中に記載された種々の成分、例えば、「ポリ（ビニルアセタール）」、「輻射線吸収化合物」、「現像性向上化合物」、及び「有機アミン」は、このような成分の混合物をも意味する。従って、単数を表す冠詞の使用は、単一の成分だけを必ずしも意味するものではない。
【００２０】
他に示すのでない限り、パーセンテージは、輻射線感光性組成物又は配合物の総固形分、又は層の乾燥塗膜重量を同等に基準とした重量パーセントを意味する。
【００２１】
「単層画像形成性要素」という用語は、画像形成のために唯１つの層を有する画像形成性要素を意味するが、しかし下でより詳細に指摘するように、このような要素は、種々の特性を提供するために画像形成性層の下又は上に１つ又は２つ以上の層（例えばトップ塗膜）を含んでもよい。
【００２２】
本明細書中に使用された「輻射線吸収化合物」とは、或る特定の輻射線波長に対して感度を有し、これらが配置された層内部で光子を熱に変換することができる化合物を意味する。これらの化合物は「光熱変換材料」、「増感剤」、又は「光−熱変換体」としても知られ得る。
【００２３】
「フェノール」、「ナフトール」、及び「アントラセノール」は、単一のヒドロキシル置換基を有するフェニル、ナフチル、及びアントリル環を意味する。
【００２４】
「電子求引基」は、０．２を上回るハメット−シグマ値（シグマ−para又はシグマ−meta）を有する、フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基上の置換基を意味する。このような求引基の例としては、ニトロ、トリフルオロメチル、カルボニル、及びハロゲン基が挙げられる。
【００２５】
ポリマーに関連するあらゆる用語の定義を明らかにするために、International Union of Pure and Applied Chemistry(「IUPAC」)によって発行された「Glossary of Basic Terms in Polymer Science」Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311(1996)を参照されたい。しかし、本明細書中のあらゆる種々異なる定義が支配的なものと見なされるべきである。
【００２６】
「ポリマー」という用語（例えばポリビニルアセタール）は、オリゴマーを含む高分子量及び低分子量ポリマーを意味し、ホモポリマー及びコポリマーの両方を含む。
【００２７】
「コポリマー」という用語は、２種又は３種以上の異なるモノマーから誘導されたポリマー、又は、たとえ同じモノマーから誘導されるとしても、２種又は３種以上の異なる反復単位を有するポリマーを意味する。
【００２８】
「主鎖」という用語は、複数のペンダント基が結合されているポリマー中の原子鎖を意味する。このような主鎖の例は、１種又は２種以上のエチレン系不飽和重合性モノマーの重合から得られた「全炭素」主鎖である。しかしながら、他の主鎖がヘテロ原子を含むこともでき、この場合、ポリマーは、縮合反応又は何らかの他の手段によって形成される。
【００２９】
用途
本明細書に記載された輻射線感光性組成物及び画像形成性要素は、プリント基板（ＰＣＢ）生産におけるレジスト・パターン、薄膜・厚膜回路、レジスタ、キャパシタ、インダクタ、マルチチップ・デバイス、集積回路、及びアクティブ半導体デバイスを形成するために使用することができる。加えて、これらは、親水性表面を備えた基板を有する平版印刷版を提供するために使用することもできる。他の用途は当業者には容易に明らかであろう。
【００３０】
輻射線感光性組成物及び画像形成性要素
輻射線感光性組成物は、一次高分子バインダーとして、１種又は２種以上の現像溶液可溶性ポリ（ビニルアセタール）高分子バインダーを含む。ポリ（ビニルアセタール）の重量平均分子量（Ｍw）は、標準的な手順を用いて測定して、一般に少なくとも５，０００であり、そして最大１５，０００であってよく、そして典型的には２０，０００〜６０，０００である。最適なＭwは、具体的なポリマークラス及びその使用に伴って変化し得る。
【００３１】
ポリ（ビニルアセタール）は、輻射線感光性組成物（又は画像形成性層）中の唯一のバインダーであってよいが、しかしより一般的には、これらは、全ての高分子バインダーの乾燥重量を基準として、少なくとも１０重量％、より典型的には少なくとも５０重量％、そして最大１００重量％を占める。いくつかの態様の場合、ポリ（ビニルアセタール）の量は、全ての高分子バインダーの乾燥重量を基準として、５０〜９０重量％であってよい。
【００３２】
ポリ（ビニルアセタール）は、これらの総反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基（上で規定）、例えば１〜３つのニトロ基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むように、構成されている。
【００３３】
例えば、有用な高分子バインダーは、下記構造（Ｉｃ）：
【００３４】
【化１】
【００３５】
によって表される反復単位を、少なくとも２５モル％且つ最大８０モル％含むポリ（ビニルアセタール）であってよく、
上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基である（下でより詳細に規定する）。
【００３６】
Ｒ3は、１つ又は２つ以上の電子求引基を置換基として有するフェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である。一般に、これらの芳香環上には、１〜３つの電子求引置換基があり、この場合ニトロ、ニトリル、及びトリフルオロメチル基が特に有用であるが、しかし、フェノール基上のニトロ基のような唯１つのこのような置換基があるのが典型的である。これらのペンダント・フェノール、ナフトール、及びアントラセノール基は必要に応じて、電子求引基の他に追加の置換基を有することができる。このような置換基の一例としては、ヒドロキシ、メトキシ、及び他のアルコキシ基、アリールオキシ、チオアリールオキシ、ハロメチル、トリハロメチル、ハロ、アゾ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノ、アミノ、カルボキシ、エテニル、カルボキシアルキル、フェニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及び複素脂環式基が挙げられる。例えば、Ｒ3は、ニトロ置換型フェノール又はニトロ置換型ナフトール基であってよく、これらの基も、追加のヒドロキシル基又は１つ又は２つ以上のハロ置換基を含む。
【００３７】
いくつかの有用なポリ（ビニルアセタール）樹脂は、一例として例示の反復単位を含む下記構造（Ｉ）によって表すことができ、
【００３８】
【化２】
【００３９】
上記式中：
Ａは、下記構造（Ｉａ）によって表される反復単位を表し、
【００４０】
【化３】
【００４１】
Ｂは、下記構造（Ｉｂ）によって表される反復単位を表し、
【００４２】
【化４】
【００４３】
Ｃは、上で規定した構造（Ｉｃ）によって表される反復単位を表し、
Ｄは、下記構造（Ｉｄ）によって表される反復単位を表し、
【００４４】
【化５】
【００４５】
ｋは１〜２０モル％（典型的には２〜１２モル％）であり、ｌは５〜５０モル％（典型的には２０〜３５モル％）であり、ｍは２５〜８０モル％（典型的には３５〜７０モル％）であり、そしてｎは０〜４０モル％（典型的には１０〜３０モル％）である。
【００４６】
Ｒ及びＲ’は、独立して水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、クロロメチル、トリクロロメチル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル及びイソ−ヘキシル基）、又は環内炭素原子数３〜６の置換型もしくは無置換型シクロアルキル環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシル、及びシクロヘキシル基）、又はハロ基（例えばフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨード）である。典型的には、Ｒ及びＲ’は、独立して水素、又は置換型もしくは無置換型メチル又はクロロ基であり、又は例えば、これらは独立して水素、又は無置換型メチルである。言うまでもなく、高分子バインダー内の異なる反復単位のＲ及びＲ’基は、上記規定から選ばれた同じか又は異なる基であることが可能である。
【００４７】
構造（Ｉ）において、Ｒ1は、例えば式−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｒ5基を有する置換型又は無置換型のアルキル又はアリールカルボン酸エステルであり、ここでＲ5は、炭素原子数１〜１２の置換型もしくは無置換型アルキル基（線状又は分枝状）、又は芳香環内炭素原子数６もしくは１０の置換型又は無置換型アリール基である。典型的には、Ｒ5は、炭素原子数１〜６の置換型又は無置換型アルキル基、例えば無置換型メチル基である。
【００４８】
Ｒ2はヒドロキシ基である。
【００４９】
Ｒ4は、炭素原子数１〜１２の置換型又は無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、メトキシメチル、クロロメチル、トリクロロメチル、ベンジル、シナモイル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル、及びイソ−ヘキシル基）、環内炭素原子数３〜６の置換型又は無置換型シクロアルキル環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシル、及びシクロヘキシル基）、又はフェノール又はナフトール以外の芳香環内炭素原子数６もしくは１０の置換型又は無置換型アリール基（例えばフェニル、キシリル、トルリル、ｐ−メトキシフェニル、３−クロロフェニル、及びナフチルを含む置換型又は無置換型のフェニル及びナフチル基）である。典型的には、Ｒ4は、炭素原子数１〜６の置換型又は無置換型アルキル基、例えばｎ−プロピルである。
【００５０】
構造（Ｉ）内の反復単位の比によって示されるように、ポリ（ビニルアセタール）は、存在する異なる反復単位の数に応じて少なくとも三量体であってよい。例えば、構造（Ｉａ）から（Ｉｄ）までの規定された反復単位クラスのうちのいずれかから形成された複数のタイプの反復単位があってよい。例えば構造（Ｉ）のポリ（ビニルアセタール）は、異なるＲ1基を有する構造（Ｉａ）反復単位を有していてよい。このような多様な反復単位は、構造（Ｉｂ）〜（Ｉｄ）のいずれかによって表される反復単位にも当てはまる。
【００５１】
構造（Ｉ）によって表される高分子バインダーは、構造（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）によって規定されたもの以外の反復単位を含有してよく、このような反復単位は当業者には明らかであろう。従って、構造（Ｉ）は最も広い意味において、規定された反復単位に限定されることはないが、しかしいくつかの態様の場合には、構造（Ｉ）内の反復単位だけが存在する。他の可能な反復単位が、例えば米国特許第６，２５５，０３３号明細書（上記）、並びに米国特許出願第１１／６７７，５９９号、同第１１／７６９，７６６号、及び同第１１／９５９，４９２号の各明細書に記載されている。
【００５２】
輻射線感光性層又は画像形成性層を形成する輻射線感光性組成物中のポリ（ビニルアセタール）の含有率は、一般には総乾燥重量の１０〜９９％であり、また典型的には総乾燥重量の３０〜９５％である。多くの態様は、組成物又は層の総乾燥重量の５０〜９０％の量のポリ（ビニルアセタール）を含む。
【００５３】
本明細書中に記載されたポリ（ビニルアセタール）は、米国特許第６，５４１，１８１号明細書（上記）に記載されたものを含む公知の出発材料及び反応条件を用いて調製することができる。
【００５４】
例えば米国特許第４，６６５，１２４号（Dhillon他）、同第４，９４０，６４６号（Pawlowski)、同第５，１６９，８９８号（Walls他)、同第５，７００，６１９号（Dwars他)、及び同第５，７９２，８２３号（Kim他）の各明細書、及び特開平０９−３２８，５１９号公報（Yoshinaga)に記載されているような公知の標準的な方法に従って、ポリビニルアルコールのアセタール化が行われる。
【００５５】
このアセタール化反応は一般に、強無機触媒酸又は強有機触媒酸を添加することを必要とする。触媒酸の例は、塩酸、硫酸、リン酸、及びｐ−トルエンスルホン酸である。その他の強酸、例えばペルフルオロアルキルスルホン酸及び他のペルフルオロ活性化酸も有用である。酸の量は、プロトン化が生じるのを効果的に可能にするべきであるが、しかし、アセタール基の望まれない加水分解を引き起こすことにより最終生成物を著しく変化させることがない量である。アセタール化の反応温度は、アルデヒドの種類並びに所望の置換レベルに依存する。この温度は０℃と、適用可能であるならば溶剤の沸点との間である。有機溶剤並びに水と有機溶剤との混合物が反応のために使用される。例えば、好適な有機溶剤はアルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びグリコールエーテル）、環状エーテル（例えば１，４−ジオキサン）、及び双極性非プロトン性溶剤（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン又はジメチルスルホキシド）である。有機溶剤中又は有機溶剤と水との混合物中でアセタール化を実施する場合には、出発ポリビニルアルコールが完全には溶解されなくても、反応生成物が溶液中にしばしば残る。有機溶剤中の出発ポリビニルアルコールの溶解が不完全であることの欠点は、再生不能な変換度及び異なる生成物を招くおそれがあることである。ポリビニルアルコール、及びアセタール化の結果としての再生可能な生成物の完全な溶解を達成するために、水、又は有機溶剤と水との混合物を使用するべきである。種々のアセタール化剤の添加順序は、多くの場合さほど重要ではなく、種々異なる調製順序から同等に完成生成物が得られる。固形物としての完成生成物を単離するために、ポリマー溶液は、強力に攪拌しながら、非溶剤中に導入され、濾過され、そして乾燥させられる。水が、ポリマーのための非溶剤として特に適している。
【００５６】
ヒドロキシル置換型芳香族アルデヒドによるアセタール化によって達成されるアセタール基の望まれない加水分解は、同じ合成条件において脂肪族又は無置換型芳香族アルデヒドから、又はカルボキシル部分を含有するアルデヒドから形成されたアセタールの場合よりも著しく容易に生じる。反応混合物中に水が少量でも存在すると、アセタール化度が低くなり、使用される芳香族ヒドロキシアルデヒドの変換が不完全になる。他方において、水が存在しなければ、ヒドロキシ置換型芳香族アルデヒドが、アルコールのヒドロキシル基とすぐに、ほとんど１００％の変換率で反応することが判った。従って、所望のポリビニルアセタールを得るために、ヒドロキシ置換型芳香族アルデヒドによってポリビニルアルコールをアセタール化するプロセスは、当業者に知られた手順とは異なる手順で行うことができる。水は合成中に減圧下での蒸留によって反応混合物から除去し、そして有機溶剤と交換することができる。残りの水は、水と容易に反応する有機材料を混合物に添加し、そして反応の結果として揮発性材料又は不活性化合物を生成することにより、除去することができる。これらの材料は、炭酸塩、水と容易に反応する炭酸又はカルボン酸のオルトエステル、シリカ含有化合物、例えば炭酸ジエチル、オルト蟻酸トリメチル、炭酸テトラエチル、及びケイ酸テトラエチルから選択されてよい。反応混合物へこれらの材料を添加すると、使用されたアルデヒドの変換率が１００％になる。
【００５７】
このように、有用なポリ（ビニルアセタール）の調製は、８０〜９０℃のＤＭＳＯ中に出発ポリビニルアルコールを溶解することで始まることができ、次いでこの溶液を６０℃まで冷却し、そして有機溶剤中に溶解された酸性触媒を添加する。次いでこの溶液に、同じ溶剤中の脂肪族アルデヒドの溶液を添加し、溶液を６０℃で３０分間にわたって保持し、そして同じ溶剤中の芳香族アルデヒド及び／又はカルボン酸置換型アルデヒド、又は他のアルデヒドの溶液を添加する。反応混合物にアニソールを添加し、水とアニソールとの共沸混合物を蒸留によって除去し、そしてこれを有機溶剤と交換する。この段階で、芳香族ヒドロキシアルデヒドの変換率は９５〜９８％に達する。反応混合物中の酸を中和し、そして混合物を水とブレンドすることによりポリマーを沈殿させ、これを濾過し、水で洗浄し、そして乾燥させる。芳香族ヒドロキシアルデヒドからベンザルへの変換率１００％を達成するための第２の方法は、反応混合物にアルデヒドを添加したあと、水を除去する有機材料（例えば炭酸塩又はオルト蟻酸塩）を添加することである。
【００５８】
ポリ（ビニルアセタール）樹脂との混和物の形で、画像形成性層内には種々のフェノール樹脂が「二次」ポリマーとして存在していてよい。
【００５９】
フェノール樹脂として、ノボラック樹脂、例えばフェノールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｍ−／ｐ−混合型クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、又はｍ−／ｐ−混合物）とホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ピロガロールとアセトンとの縮合コポリマーを含む（これらに限定されない）、種々のフェノール樹脂を使用することができる。さらに、側鎖中にフェノール基を含む化合物を共重合することにより得られるコポリマーを使用することもできる。このような高分子バインダーの混合物を使用することもできる。
【００６０】
重量平均分子量が少なくとも１５００であり、また数平均分子量が少なくとも３００であるノボラック樹脂が有用である。一般に、重量平均分子量は、３，０００〜３００，０００であり、数平均分子量は、５００〜２５０，０００であり、そして分散度は（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０である。
【００６１】
１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）と１種又は２種以上のフェノール樹脂との混合物を含む、上記一次高分子バインダーの特定の混合物を使用することができる。例えば、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）と、１種又は２種以上のノボラック又はレゾール樹脂（又はノボラック及びレゾール樹脂の双方）との混合物を使用することができる。
【００６２】
他の有用な樹脂は、フェノールヒドロキシル基を有するポリビニル化合物を含み、ポリ（ヒドロキシスチレン）、及びヒドロキシスチレンの反復単位を含有するコポリマー、及び置換型ヒドロキシスチレンの反復単位を含有するポリマー及びコポリマーを含む。
【００６３】
例えば米国特許第５，５５４，７１９号明細書（Sounik）、米国特許第６，５５１，７５８号明細書（Ohsawa他）、米国特許出願公開第２００３／００５０１９１号明細書（Bhatt他）、及び米国特許出願公開第２００５／００５１０５３号明細書（Wisnudel他）、及び米国特許出願公開第２００８／０００８９５６号明細書（Levanon他）に記載されているように、４−ヒドロキシスチレンから誘導された複数の分枝状ヒドロキシスチレン反復単位を有する分枝状ポリ（ヒドロキシスチレン）も有用である。例えばこのような分枝状ヒドロキシスチレンポリマーは、ヒドロキシスチレン、例えば４−ヒドロキシスチレンから誘導された反復単位を含み、これらの反復単位はさらに、ヒドロキシ基に対してorthoに位置する反復ヒドロキシスチレン単位（例えば４−ヒドロキシスチレン単位）で置換されている。これらの分枝状ポリマーの重量平均分子量（Ｍw）は、１，０００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜１０，０００、より好ましくは３，０００〜７，０００であり得る。加えて、これらの多分散度は２未満、好ましくは１．５〜１．９であってよい。分枝状ポリ（ヒドロキシスチレン）は、非分枝状のヒドロキシスチレン反復単位を有するホモポリマー又はコポリマーであることが可能である。
【００６４】
さらに他の「二次」高分子バインダーの例は、主鎖及び／又は側鎖（ペンダント基）上に下記（１）〜（５）の酸性基を有する下記クラスのポリマーを含む。
（１） スルホンアミド（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）、
（２） 置換型スルホンアミドに基づく酸基（以後、活性イミド基と呼ぶ）［例えば−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ］、
（３） カルボン酸基（−ＣＯ2Ｈ）、
（４） スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）、及び
（５） リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）。
上述の基（１）〜（５）におけるＲは、水素又は炭化水素基を表す。
【００６５】
基（１）スルホンアミド基を有する代表的な二次高分子バインダーは例えば、スルホンアミド基を有する化合物から誘導される主成分としての最小構成単位から成るポリマーである。従って、このような化合物の例は、少なくとも１つの水素原子が窒素原子に結合されている少なくとも１つのスルホンアミド基と、少なくとも１つの重合性不飽和基とを、その分子中に有する化合物を含む。これらの化合物の中では、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、及びＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドがある。こうして、スルホンアミド基、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、又はＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドを有する重合モノマーから成るホモポリマー又はコポリマーを使用することができる。
【００６６】
基（２）活性化イミド基を有する二次高分子バインダーの例は、主成分として活性化イミド基を有する化合物から誘導された反復単位を含むポリマーである。このような化合物の例は、下記構造式によって規定された部分を有する重合性不飽和化合物を含む。
【００６７】
【化６】
【００６８】
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド及びＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミドは、このような重合性化合物の例である。
【００６９】
基（３）〜（５）のいずれかを有する二次高分子バインダーは、所望の酸性基、又は重合後にこのような酸性基に変換することができる基を有するエチレン系不飽和重合性モノマーを反応させることにより容易に調製されたバインダーを含む。
【００７０】
（１）〜（５）から選択された酸性基を有する最小構成単位に関しては、ポリマー中に唯１種の酸性基を使用する必要はなく、またいくつかの態様の場合、少なくとも２種の酸性基を有することが有用であり得る。言うまでもなく、二次高分子バインダー中の反復単位毎に酸性基のうちの１つを有する必要はなく、通常は少なくとも１０モル％及び典型的には少なくとも２０モル％が、上記酸性基のうちの１つを有する反復単位を含む。
【００７１】
二次高分子バインダーは、重量平均分子量が少なくとも２，０００であり、また数平均分子量が少なくとも５００であることが可能である。典型的には、重量平均分子量は５，０００〜３００，０００であり、数平均分子量は８００〜２５０，０００であり、そして分散度は（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０である。
【００７２】
二次高分子バインダーの混合物を、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）高分子バインダーと一緒に使用してもよい。二次高分子バインダーは、輻射線感光性組成物又は画像形成性層内の総高分子バインダーの乾燥重量を基準として、少なくとも１重量％から最大５０重量％までの量で、また典型的には５〜３０重量％の量で存在することができる。
【００７３】
輻射線感光性組成物はさらに、１種又は２種以上のクラスの化合物から選択することができる現像性向上化合物を含む。例えば、有用な現像性向上化合物が、国際公開第２００４／０８１６６２号パンフレット（上記）に記載されている。
【００７４】
他の有用な現像性向上化合物は、１つ又は２つ以上のアミノ基及び１つ又は２つ以上のカルボン酸（カルボキシ）基で置換された有機酸（特に芳香族酸）である。このような基は、１つ又は２つ以上の脂肪族もしくは芳香族基を介して結合することができる。例えば、アミノ基は、より詳細に下で規定するアルキレン、アリーレン、及びシクロアルキレン基に直接に結合することができる。加えて、アミノ基は、芳香族又は非芳香族の複素環式Ｎ含有環の部分であることが可能である。アミノ基及びカルボン酸基のそれぞれのうちの最大４つの基が、現像性向上化合物分子中に存在してよく、そして具体的には、少なくとも１つのアミノ基が存在し、そして置換型又は無置換型アリール基（例えば置換型又は無置換型フェニル基）に直接に結合することができる。
【００７５】
代表的な現像性向上化合物は、下記構造（ＤＥＣ）：
【００７６】
【化７】
【００７７】
によって規定することができ、また同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１１／９５９，４９２号明細書（上記）にさらに詳しく記載されている。
【００７８】
構造ＤＥＣにおいて、Ｒ1及びＲ2は同じか又は異なる水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、クロロメチル、トリクロロメチル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル及びイソ−ヘキシル基）、又は炭化水素環内炭素原子数５〜１０の置換型もしくは無置換型シクロアルキル基、又は芳香環内炭素原子数６、１０又は１４の置換型もしくは無置換型アリール基であることが可能である。いくつかの態様の場合、Ｒ1及びＲ2は、同じか又は異なる置換型もしくは無置換型アリール基（例えばフェニル又はナフチル基）であることが可能であり、そして、Ａが−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合されているアルキレン基を含む場合には、Ｒ1及びＲ2のうちの少なくとも一方は、置換型又は無置換型アリール基であることが特に有用である。
【００７９】
他の態様において、構造（ＤＥＣ）におけるＲ1及びＲ2は同じか又は異なる水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（上記の通り）、置換型又は無置換型シクロアルキル基、又は置換型もしくは無置換型のフェニル又はナフチル基であり得る。
【００８０】
構造（ＤＥＣ）において、Ａは、鎖内に少なくとも１つの炭素、窒素、硫黄、又は酸素原子を有する置換型もしくは無置換型の有機結合基であり、Ａはまた−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合された置換型又は無置換型アリーレン基（例えば置換型又は無置換型フェニレン基）を含む。こうして、Ａは、１つ又は２つ以上のアリーレン（例えば芳香環内炭素原子数６又は１０）、シクロアルキレン（例えば炭素環内炭素原子数５〜１０）、アルキレン（例えば鎖内炭素原子数１〜１２、線状及び分枝状基を含む）、オキシ、チオ、アミド、カルボニル、カルボンアミド、スルホンアミド、エテニレン（−ＣＨ＝ＣＨ−）、エチニレン（−ＣＨ≡ＣＨ−）、又はセレノ基、又はこれらの任意の組み合わせを含むことができる。いくつかの特に有用な態様の場合、Ａは、置換型又は無置換型アリーレン基（例えば置換型又は無置換型フェニレン基）から成る。
【００８１】
構造（ＤＥＣ）において、ｍは整数１〜４（典型的１又は２）、そしてｎは整数１〜４（典型的１又は２）であり、ｍとｎとは同じであっても異なっていてもよい。
【００８２】
現像性向上化合物は、下記構造（ＤＥＣ1）によって規定することができ、
【００８３】
【化８】
【００８４】
上記式中：
Ｒ1及びＲ2は上で規定した通りであり、Ａは、−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合された置換型又は無置換型フェニレンを有する有機結合基であり、Ｂは、単結合、又は鎖内に少なくとも１つの炭素、酸素、硫黄、又は窒素原子を有する有機結合基であり、ｍは整数１又は２であり、ｎは整数１又は２である。「Ｂ」有機結合基は、Ｂがアリーレン基を含有することが必要とされないことを除けば、Ａが上で規定されたのと同じように規定することができ、また通常Ｂはこれが存在する場合はＡとは異なる。
【００８５】
本明細書中に記載されたアリール（及びアリーレン）、シクロアルキル、及びアルキル（及びアルキレン）基は、必要に応じて最大４つの置換基を有することができる。これらの置換基の一例としては、ヒドロキシ、メトキシ及び他のアルコキシ基、アリールオキシ基、例えばフェニルオキシ、チオアリールオキシ基、ハロメチル、トリハロメチル、ハロ、ニトロ、アゾ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ基、例えばチオメチル、シアノ、アミノ、カルボキシ、エテニル及び他のアルケニル基、カルボキシアルキル、アリール基、例えばフェニル、アルキル基、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロアリール、及び複素脂環式基が挙げられる。
【００８６】
画像形成性要素は、１種又は２種以上のアミノ安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸、アミノサリチル酸、インドール酢酸、アニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、又はこれらの任意の組み合わせを、現像性向上化合物として含むことができる。例えば、このような化合物の一例としては、４−アミノ安息香酸、４−（Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノ）安息香酸、アニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、３−インドール酢酸、及び４−アミノサリチル酸が挙げられる。
【００８７】
さらに他の有用な現像性向上化合物は、酸性現像性向上化合物（ＡＤＥＣ）、例えばカルボン酸又は環状酸無水物、スルホン酸、スルフィン酸、アルキル硫酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、ホスホン酸エステル、フェノール、スルホンアミド、又はスルホンイミドとの組み合わせで使用することも可能である。それというのも、このような組み合わせは、さらに改善された現像ラチチュード及び印刷耐久性を許すことができるからである。このような化合物の代表例は、米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書（上記）の［００３０］〜［００３６］において示されている。これを酸性現像性向上化合物に関して本明細書中に引用する。
【００８８】
ここでもまた、現像性向上化合物は、同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１１／６７７，５９９号明細書（上記）に記載された塩基性現像性向上化合物であってよい。このような化合物は、下記構造（ＢＤＥＣ）によって規定することができ、
【００８９】
【化９】
【００９０】
上記ｔは１〜６であり、ｓは０、１、又は２であり、そしてｖは１〜３であり、但しｓとｖとの和が３であることを条件とする。ｓが１である場合には、Ｒ7は、水素、又はアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、そして、ｓが２である場合には、複数のＲ7基は、同じか又は異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、或いは、２つのＲ7基は、窒素原子と一緒に、置換型又は無置換型の複素環を形成することもできる。Ｒ8及びＲ9は独立して水素、又はアルキル基である。
【００９１】
このような有機ＢＤＥＣ化合物の例は、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシメチル−１．３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミン、３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］プロピオニトリル、及びヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジンである。これらの化合物のうちの２種又は３種以上の混合物も有用である。
【００９２】
輻射線感光性組成物は、画像形成性層に関して下で説明する他の添加物を必要に応じて含むことができる。
【００９３】
一般に、画像形成性要素は、画像形成性層を形成するために、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）樹脂を含む１種又は２種以上の高分子バインダー、１種又は２種以上の現像性向上化合物、及び輻射線吸収化合物（下記）、並びに他の任意選択的な添加物（例えばフェノール樹脂、コントラスト色素、着色剤、顔料、又はこれらのうちのいずれか）を、好適な基板に好適に適用することによって形成される。この基板は、配合物の適用の前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布することができる。例えば、基板は、改善された付着性又は親水性のために「中間層」を提供するように処理することができ、そして画像形成層は中間層上に適用される。
【００９４】
基板は一般に、親水性表面、又は画像形成側上の適用された画像形成用配合物よりも高親水性である表面を有している。基板は、画像形成性要素、例えば平版印刷版を調製するために従来より使用されている任意の材料から構成され得る支持体を含む。基板は通常、シート、フィルム、又はフォイルの形態を成しており、そして強固であり、安定であり、そして可撓性であり、また色記録がフルカラー画像を見当合わせするような使用条件下では耐寸法変化性である。典型的には、支持体は、高分子フィルム（例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー、及びポリスチレンフィルム）、ガラス、セラミック、金属シート又はフォイル、又は硬質紙（樹脂塗布紙及び金属化紙を含む）、又はこれらの材料のうちのいずれかのラミネーション（例えばポリエステルフィルム上へのアルミニウムホイルのラミネーション）を含むいかなる自立型材料であってもよい。金属支持体は、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又はフォイルを含む。
【００９５】
高分子フィルム支持体の一方又は両方の表面を、親水性を高めるために「下塗り」層で改質することができ、或いは、平坦性を高めるために、紙支持体を同様に塗布することができる。下塗り層材料の一例としては、アルコキシシラン、アミノ−プロピルトリエトキシシラン、グリシジオキシプロピル−トリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマー、並びに、ハロゲン化銀写真フィルム内に使用されるコンベンショナルな親水性下塗り材料（例えばゼラチン、及びその他の天然型及び合成型の親水性コロイド、並びに塩化ビニリデンコポリマーを含むビニルポリマー）が挙げられる。
【００９６】
１つの基板は、物理的グレイニング、電気化学的グレイニング、化学的グレイニング、及びこれに続く陽極酸化を含む、当業者に知られた技術によって塗布又は処理することができるアルミニウム支持体から構成される。アルミニウム・シートは、化学的又は電気化学的にグレイニングし、リン酸又は硫酸、及びコンベンショナルな手順を用いて陽極酸化することができる。
【００９７】
例えばケイ酸塩、デキストリン、フッ化カルシウムジルコニウム、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化ナトリウム、ポリ(ビニルホスホン酸)（ＰＶＰＡ）、ビニルホスホン酸コポリマー、ポリ(アクリル酸)、又はアクリル酸コポリマー溶液でアルミニウム支持体を処理することにより、任意選択的な中間層を形成することができる。グレイニング及び陽極酸化が施されたアルミニウム支持体は、表面親水性を改善するために周知の手順を用いてポリ（アクリル酸）で処理することができる。
【００９８】
基板の厚さは多様であることが可能であるが、しかし、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、しかも印刷版の周りに巻き付けるのに十分に薄くあるべきである。好ましい態様は、厚さ１００μｍ〜６００μｍの処理されたアルミニウムホイルを含む。
【００９９】
基板の裏側（非画像形成側）には、画像形成性要素の取り扱い及び「感触」を改善するために、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を被覆することができる。
【０１００】
基板は、輻射線感光性組成物が適用された円筒形表面であってもよく、ひいては印刷プレスの一体部分であってもよい。このような画像形成された胴の使用は、例えば米国特許第５，７１３，２８７号明細書（Gelbart）に記載されている。
【０１０１】
画像形成性層は典型的には、１種又は２種以上の輻射線吸収化合物を含む。これらの化合物は、１５０〜１５００ｎｍの任意の好適なエネルギー形態(例えばＵＶ、可視、及びＩＲ線)に対して感度を有することができるが、これらは典型的には赤外線に対して感度を有し、このように、輻射線吸収化合物は、６００〜１４００ｎｍ、より適切には７００〜１２００ｎｍの輻射線を吸収する赤外線吸収化合物(「ＩＲ吸収化合物」)として知られる。画像形成性層は一般には、画像形成性要素中の最外層である。
【０１０２】
好適なＩＲ吸収化合物の一例としては、例えばアゾ色素、スクアリリウム色素、クロコネート色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、インドリウム色素、オキソノール色素、オキサゾリウム色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、インドシアニン色素、インドトリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、ストレプトシアニン色素、オキサトリカルボシアニン色素、チオシアニン色素、チアトリカルボシアニン色素、メロシアニン色素、クリプトシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポリアニリン色素、ポリピロール色素、ポリチオフェン色素、カルコゲノピリロアリーリデン及びビ(カルコゲノピリロ)ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ピリリウム色素、ピラゾリンアゾ色素、及びオキサジン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、キノンイミン色素、メチン色素、アリールメチン色素、ポリメチン色素、スクアリン色素、オキサゾール色素、クロコニン色素、ポルフィリン色素、及び前記色素クラスの任意の置換形態又はイオン形態を含むＩＲ色素が挙げられる。好適な色素は、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（DeBoer）、及び同第５，２０８，１３５号明細書（Patel他）、同第５，２４４，７７１号明細書（Jandrue Sr.他）、及び同第５，４０１，６１８号明細書（Chapman他）、及び欧州特許出願公開第０ ８２３ ３２７号明細書（Nagasaka他）に開示されている。
【０１０３】
アニオン性発色団を有するシアニン色素も有用である。例えば、シアニン色素は、２つの複素環式基を有する発色団を有することができる。別の態様の場合、シアニン色素は、少なくとも２つのスルホン酸基、例えば２つのスルホン酸基と２つのインドレニン基とを有することができる。このタイプの有用なＩＲ感光性シアニン色素が、米国特許出願公開第２００５−０１３００５９号明細書（Tao）に記載されている。
【０１０４】
好適なシアニン色素の有用なクラスに関する全般的な説明が、国際公開第２００４／１０１２８０号パンフレット（Munnelly他）の［００２６］における式によって示されている。
【０１０５】
低分子量ＩＲ吸収色素に加えて、ポリマーに結合されたＩＲ色素部分を使用することもできる。さらに、ＩＲ色素カチオンを使用することができ、すなわち、このカチオンは、カルボキシ、スルホ、ホスホ、又はホスホノ基を側鎖内に含むポリマーとイオン相互作用する色素塩のＩＲ吸収部分である。
【０１０６】
近赤外線吸収シアニン色素も有用であり、そして例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Hauck他）、同第６，２６４，９２０号明細書（Achilefu他）、同第６，１５３，３５６号明細書（Urano他）、同第５，４９６，９０３号明細書（Watanate他）に記載されている。好適な色素は、コンベンショナルな方法及び出発材料を用いて形成することができ、或いは、American Dye Source（カナダ国ケベック州Baie D'Urfe）及びFEW Chemicals（ドイツ国）を含む種々の商業的供給元から得ることができる。近赤外線ダイオード・レーザービームのための他の有用な色素が、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（上記）に記載されている。
【０１０７】
有用なＩＲ吸収化合物はまた、カーボンブラック、例えば当業者によく知られているように可溶化基で表面官能化されたカーボンブラックを含む種々の顔料を含む。親水性、非イオン性ポリマーにグラフトされるカーボンブラック、例えばFX-GE-003（Nippon Shokubai製）、又はアニオン基で表面官能化されたカーボンブラック、例えばCAB-O-JET（登録商標）200又はCAB-O-JET（登録商標）300（Cabot Corporation製）も有用である。他の有用な顔料としては、ヘリオゲン・グリーン、ニグロシン・ベース、酸化鉄（ＩＩＩ）、酸化マンガン、プリシアン・ブルー、及びパリス・ブルーが挙げられる。顔料粒子のサイズは、画像形成性層の厚さを上回るべきではなく、典型的には、粒子のサイズは、画像形成性層の厚さの半分未満になる。
【０１０８】
画像形成性要素において、輻射線吸収化合物は一般には、０．１〜３０重量％、又は典型的には０．５〜２０重量％の乾燥被覆率で存在する。この目的に必要な特定の量は、使用される具体的な化合物に応じて、当業者には容易に明らかである。
【０１０９】
或いは、輻射線吸収化合物は、単一の画像形成性層と熱的に接触する異なる層内に含まれてもよい。従って画像形成中に、該異なる層内の輻射線吸収化合物の作用を、化合物がもともと内蔵されていない画像形成性層に伝達すことができる。
【０１１０】
画像形成性層は、着色剤色素として作用する１種又は２種以上の追加の化合物を含むこともできる。アルカリ現像剤中に可溶性の着色剤色素が有用である。着色剤色素のための有用な極性基の一例として、エーテル基、アミン基、アゾ基、ニトロ基、フェロセニウム基、スルホキシド基、スルホン基、ジアゾ基、ジアゾニウム基、ケト基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基、トリアリールメタン基、オニウム基（例えばスルホニウム、ヨードニウム、及びホスホニウム基）、窒素原子が複素環内に内蔵されている基、及び正電荷原子を含有する基（例えば四級化アンモニウム基）が挙げられる。溶解抑制剤として有用な正電荷窒素原子を含有する化合物は、例えばテトラルキルアンモニウム化合物、及び四級化複素環化合物、例えばキノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリウム化合物を含む。有用な着色剤色素は、トリアリールメタン色素、例えばエチル・バイオレット、クリスタル・バイオレット、マラカイト・グリーン、ブリリアント・グリーン、ビクトリア・ブルーＢ、ビクトリア・ブルーＲ、及びビクトリア・ピュアブルーＢＯ、BASONYL（登録商標）バイオレット610及びD11(仏国Longjumeau在、PCAS)を含む。これらの化合物は、現像された画像形成性要素内の非露光（非画像形成）領域を露光された（画像形成された）領域から区別するコントラスト色素として作用することもできる。
【０１１１】
いくつかの態様の場合、画像形成性層は赤外線吸収化合物を含み、さらに着色剤を含み、そして赤外線吸収化合物及び着色剤のうちの少なくとも一方が顔料であるか、或いはその両方が顔料である。
【０１１２】
着色剤色素が画像形成性層内に存在する場合には、その量は極めて多様であり得るが、しかし一般には、（総乾燥層重量を基準として）０．５重量％〜３０重量％の量で存在する。
【０１１３】
画像形成性層はさらに、分散剤、保湿剤、殺生物剤、可塑剤、塗布可能性又はその他の特性のための非イオン性又は両性界面活性剤（例えばフルオロポリマー）、耐摩耗性ポリマー（例えばポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、及びアクリル樹脂）、粘度形成剤、充填剤及び増量剤、書き込まれた画像の視覚化を可能にするための色素又は着色剤、ｐＨ調整剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、現像助剤、レオロジー調整剤、又はこれらの組み合わせ、又は平版印刷分野において共通に使用される任意のその他の添加物を、コンベンショナルな量（例えばNagashimaの米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書に記載）で含む種々の添加剤を含む。
【０１１４】
ポジ型画像形成性要素は、コンベンショナルな塗布法又はラミネーション法を用いて、基板の表面（及び表面上に設けられた任意のその他の親水性層）の上方に画像形成性層配合物を適用することにより調製することができる。こうして、好適な塗布用溶剤中に所望の成分を分散又は溶解させることにより配合物を適用することができ、そして結果として生じた配合物は、好適な装置及び手順、例えばスピン塗布、ナイフ塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、バー塗布、ワイヤロッド塗布、ローラ塗布、又は押し出しホッパー塗布を用いて、基板に適用される。配合物は、好適な支持体（例えば機上印刷シリンダ）上に噴霧することにより適用することもできる。
【０１１５】
単一の画像形成性層の塗布重量は、０．５〜３ｇ／ｍ2、好ましくは１〜２ｇ／ｍ2である。
【０１１６】
層配合物を塗布するために使用される溶剤は、配合物中の高分子バインダー及びその他の高分子材料及び非高分子成分の性質に応じて選択される。一般に、画像形成性層配合物は、当業者によく知られている条件及び技術を用いて、アセトン、メチルエチルケトン、又は別のケトン、テトラヒドロフラン、１−メトキシプロパン−２−オール（又は１−メトキシ−２−プロパノール）、Ｎ−メチルピロリドン、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、γ−ブチロラクトン、及びこれらの混合物から塗布される。
【０１１７】
或いは、それぞれの層組成物の溶融混合物からコンベンショナルな押し出し塗布法によって層を適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は、揮発性有機溶剤を含有しない。
【０１１８】
他の配合物の塗布前に溶剤を除去するために、種々の層配合物の適用間に、中間乾燥工程を用いることができる。乾燥工程は、種々の層の混和を防止するのを助けることもできる。
【０１１９】
ポジ型単層画像形成性要素を調製して使用する代表的な方法を、下記例において説明する。
【０１２０】
基板上で画像形成性層配合物を乾燥させた後（すなわち、塗膜が自己支持になり、指触乾燥状態になった後）、要素を少なくとも４時間、典型的には少なくとも２０時間にわたって、又は少なくとも２４時間にわたって、４０℃〜９０℃（典型的には５０〜７０℃）で熱処理する。最大熱処理時間は９６時間もの長さであってよいが、しかし熱処理のための最適な時間及び温度は、日常の試験によって容易に決定することができる。このような処理は、例えば欧州特許第８２３，３２７号明細書（Nagasaka他）及び同第１，０２４，９５８号明細書（McCullough他）に記載されている。
【０１２１】
熱処理中、画像形成性要素は、前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリアを形成するために、不透水性シート材料内に包まれるか又は収容される。画像形成性要素の個々のスタック又はコイル体のためのこのコンディショニング法の更なる詳細は、米国特許第７，１７５，９６９号明細書（Ray他）に記載されている。
【０１２２】
画像形成
本発明の実施に使用される画像形成性要素は、例えば印刷版前駆体、印刷胴、印刷スリーブ、及び印刷テープ（可撓性印刷ウェブを含む）を含むいかなる有用な形態をも有することができる。例えば、画像形成性部材は、平版印刷版を形成するように設計された平版印刷版前駆体である。
【０１２３】
印刷版前駆体は、好適な基板上に配置された所要の画像形成性層を有する、任意の有用なサイズ及び形状（例えば正方形又は長方形）から成ることができる。印刷胴及びスリーブは、円筒形態の基板と画像形成層とを有する回転印刷部材として知られる。印刷スリーブのための基板として、中空又は中実の金属コアを使用することができる。
【０１２４】
使用中、画像形成性要素は、輻射線感光性組成物中に存在する輻射線吸収化合物に応じて、波長１５０〜１５００ｎｍの輻射線、例えばＵＶ、可視線、又は赤外線の好適な源に暴露される。大抵の態様の場合、画像形成は、波長７００〜１４００ｎｍの赤外線又は近赤外線レーザーを使用して行われる。画像形成部材に露光を施すために使用されるレーザーは、ダイオード・レーザー・システムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、ダイオード・レーザーであることが可能であるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に入手可能なイメージセッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザー・ダイオードは、波長８００〜８５０ｎｍ又は１０６０〜１１２０ｎｍの赤外線を放射する。
【０１２５】
画像形成装置は、プレートセッターとしてだけ機能することができ、或いは、平版印刷機内にこれを直接的に内蔵することもできる。後者の場合、印刷は画像形成直後に開始することができ、これにより印刷機設定時間をかなり軽減することができる。画像形成装置は、画像形成性部材をドラムの内側又は外側の円筒面に装着した状態で、平床型記録器として、又はドラム型記録器として構成することができる。有用な画像形成装置は、波長約８３０ｎｍの近赤外線を発光するレーザー・ダイオードを含有する、Eastman Kodak Company（カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby）から入手可能なKodak（登録商標） Trendsetterイメージセッターのモデルとして入手することができる。他の好適な輻射線源は、波長１０６４ｎｍで作動するCrescent 42T プレートセッター（イリノイ州Chicago在、Gerber Scientificから入手可能）、及びScreen PlateRite 4300シリーズ又は8600シリーズのプレートセッター（イリノイ州Chicago在、Screenから入手可能）を含む。追加の有用な輻射線源は、要素が印刷版胴に取り付けられている間に要素に画像を形成するために使用することができるダイレクト画像形成プレスを含む。好適なダイレクト画像形成プレスの例は、Heidelberg SM74-DIプレス（オハイオ州Dayton在、Heidelbergから入手可能）を含む。
【０１２６】
ＩＲ画像形成スピードは、最大３００ｍＪ／ｃｍ2、又は典型的には１００〜２５０ｍＪ／ｃｍ2となることができる。
【０１２７】
画像形成は一般に、ダイレクト・デジタル画像形成によって実施される。画像信号は、コンピュータ上のビットマップ・データ・ファイルとして記憶される。このようなファイルは、ラスター画像プロセッサー（ＲＩＰ）、又はその他の好適な手段によって生成することができる。ビットマップは、カラーの色相、並びにスクリーンの周波数及び角度を規定するために構成される。
【０１２８】
現像及び印刷
画像形成性要素に画像を形成することにより、画像形成された（露光された）領域と非画像形成（非露光）領域とから成る潜像を含む画像形成された要素を生成する。好適な現像溶液（下で説明する）を用いて画像形成された要素を処理することによって、主として画像形成性層及びその下側の任意の層の露光された領域だけを除去し、ひいて基板の親水性表面を露出させる。従って、このような画像形成性要素は、「ポジ型」である（例えば「ポジ型」平版印刷版前駆体）。
【０１２９】
従って、処理は、画像形成性層の主として画像形成された（露光された）領域だけを除去するのに十分な時間にわたって、しかし当業者には明らかなように、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域の大部分を除去するほどには長くない時間にわたって実施される。従って、画像形成性層の画像形成された（露光された）領域は、単一の現像溶液中で「可溶性」又は「除去可能」と記述される。なぜならば、これらの領域は、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域よりも容易に、単一の現像溶液中で除去、溶解又は分散されるからである。従って「可溶性」という用語は、「分散性」であることをも意味する。
【０１３０】
画像形成された要素は、ケイ酸塩及びメタケイ酸塩を含まない現像溶液、又は大抵のコンベンショナルな現像剤中に見いだされる他の無機塩基を含まない現像溶液を使用して現像される。現像溶液のｐＨは一般に１２未満であり、概ね１１〜１１．９であり、そして例えば１１．４〜１１．７又は少なくとも１２未満である。
【０１３１】
現像溶液は、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はこれらのアミンのうちのいくつかのアミンの混合物を含み、それらの共役酸のｐＫａは９を上回り、そして沸点は１５０℃を上回る。有用な有機アミンの一例としては、エタノールアミン、４−アミノピリジン、１，５−ジアミノペンタン、４−（２−アミノエチル）フェノール、１−エフェドリン、２−（エチルアミノ）エタノール、３−アミノ−１−プロパノール、及び２−（２−アミノエチルアミノ）エタノールが挙げられる。共役酸のｐＫａ値及び沸点を考察することにより、他の有用な有機アミンは容易に割り出される。
【０１３２】
現像溶液内の有機アミンの濃度は一般に、少なくとも０．０３Ｎ且つ１．５Ｎ以下であり、典型的には０．０７〜０．６Ｎである。
【０１３３】
処理（現像）は一般に、穏やかな条件下で実施される。例えば、最大３５℃、典型的には２３〜３０℃で、少なくとも０．５分間〜最大３分間（３分間を含む）にわたって処理を行うことができる。
【０１３４】
いくつかの態様の場合、有機溶剤を含有する現像溶液も使用される。水混和性溶剤、例えばベンジルアルコールが存在する場合、これらは最大３重量％又は典型的には最大１重量％の量で存在する。存在してよい他の水混和性溶剤の一例としては、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドとのフェノールの反応生成物［例えばエチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）］、エチレングリコール及びプロピレングリコールの炭素原子数６以下の酸とのエステル、及び炭素原子数６以下のアルキル基を有する、エチレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールのエーテル、例えば２−エチルエタノール、及び２−ブトキシエタノールが挙げられる。単一有機溶剤又は有機溶剤の混合物を使用することができる。「水混和性」によって、我々は、有機溶剤又は有機溶剤の混合物が、水と混和可能であるか、又は相分離が発生しないほど十分に現像溶液中に可溶性であることを意味する。
【０１３５】
いくつかの態様の場合、現像溶液は、主として露光された領域だけを除去することにより、画像形成された要素を「現像」し、そしてまた、画像形成され、現像された表面全体に保護層又は保護塗膜も提供する。この態様において、単一の現像溶液は多少、印刷版上のリソグラフィ画像を汚染又は損傷から（例えば酸化、指紋、ダスト、又は引掻き傷から）保護することができるガムのように挙動することができる。
【０１３６】
一般に、当業者に知られている２つのタイプの「ガム」溶液がある。すなわち、（１）「ベーク」、「ベーキング」、又は「前ベーク」ガムは、平版印刷版を形成するために用いられる通常の前ベーク温度では蒸発しない１種又は２種以上の化合物、典型的にはアニオン性又は非イオン性界面活性剤を通常含有し、そして（２）「仕上げ剤」ガムでは、印刷版上に保護上塗り層を提供するのに有用な、１種又は２種以上の親水性ポリマー（例えばアラビアゴム、セルロース化合物、（メタ）アクリル酸ポリマー、及び多糖）を通常含有する。
【０１３７】
さらに、このような態様の１つの利点は、現像溶液がこのように使用されると、結果として生じる平版印刷版を印刷のために使用する前に、別個の濯ぎ工程が必要でなくなることである。しかしながら、印刷前に、拭い取るか又は装置内のスクイージー又はニップローラ対を使用し、次いで、任意の好適な乾燥手段を使用して必要に応じて乾燥させることにより、いかなる余剰の現像溶液も平版印刷版から除去することができる。この現像溶液は再循環させ、複数回再利用し、必要な場合には補充又は再生し、又は単回使用後に廃棄される新鮮な試料として使用することができる。
【０１３８】
現像溶液は、希釈形態又は濃縮形態で提供されてよい。下記成分量は、本発明の実施において使用する際にとる可能性の高い形態である希釈現像溶液中の量を意味する。ただし言うまでもなく、本発明は濃縮現像溶液を使用することを含んでおり、そして種々の成分（例えば有機アミン及び界面活性剤）の量はこれに相応して高くなる。
【０１３９】
現像機能及びガミング機能を提供するために、現像溶液中には種々の成分が存在することが可能である。
【０１４０】
例えば、現像溶液は主要成分として、１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤を有している。有用なアニオン性界面活性剤は、カルボン酸、スルホン酸、又はホスホン酸基（又はこれらの塩）を有する界面活性剤を含む。スルホン酸基（又はこの塩）を有するアニオン界面活性剤が特に有用である。例えば、このようなアニオン界面活性剤は、脂肪酸塩、アビエテート、ヒドロキシアルカンスルホネート、アルカンスルホネート、ジアルキルスルホスクシネート、アルキルジフェニルオキシドジスルホネート、直鎖状アルキルベンゼンスルホネート、分枝状アルキルベンゼンスルホネート、アルキルナフタレンスルホネート、アルキルフェノキシポリオキシ−エチレンプロピルスルホネート、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテルの塩、ナトリウムＮ−メチル−Ｎ−オレイルタウレート、モノアミドジナトリウムＮ−アルキルスルホスクシネート、石油スルホネート、硫酸化ひまし油、硫酸化タロー油、脂肪族アルキルエステルの硫酸エステルの塩、アルキル硫酸エステルの塩、ポリオキシ−エチレンアルキルエーテルの硫酸エステル、脂肪族モノグリセリドの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、アルキルリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルのリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルのリン酸エステルの塩、無水スチレンマレイン酸コポリマーの部分鹸化化合物、オレフィン−無水マレイン酸コポリマーの部分鹸化化合物、ナフタレンスルホネートホルマリン縮合物を含むことができる。アルキルジフェニルオキシドジスルホネート（例えばナトリウムドデシルフェノキシベンゼンジスルホネート）、アルキル化ナフタレンスルホン酸、硫酸化アルキルジフェニルオキシド、及びメチレンジナフタレンスルホン酸が、一次又は「第１」アニオン性界面活性剤として特に有用である。このような界面活性剤は、McCutcheon's Emulsifiers & Detergents, 2007 Editionに記載されているように、種々の供給元から入手することができる。
【０１４１】
このような界面活性剤の具体例としては、ナトリウムドデシルフェノキシオキシベンゼンジスルホネート、アルキル化ナフタレンスルホネートのナトリウム塩、ジナトリウムメチレン−ジナフタレンジスルホネート、ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート、スルホン化アルキル−ジフェニルオキシド、アンモニウム又はカリウムペルフルオロアルキルスルホネート及びナトリウムジオクチルスルホスクシネートが挙げられる。
【０１４２】
１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤は、少なくとも０．５重量％、そして典型的には５重量％又は８重量％から、最大４５重量％又は最大３０重量％まで（固形分％）の量で一般に存在することができる。いくつかの態様の場合、１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤は、８〜２０重量％の量で存在することができる。
【０１４３】
２種又は３種以上のアニオン性界面活性剤（「第１」、「第２」など）を組み合わせて使用することもできる。このような混合物において、第１アニオン性界面活性剤、例えばアルキルジフェニルオキシドジスルホネートは一般に、少なくとも１重量％、そして典型的には５〜２０重量％の量で存在することができる。第２界面活性剤は少なくとも１重量％、そして典型的には３〜３０重量％の総量で存在することができる（第１アニオン性界面活性剤と同じか又は異なる）。置換型芳香族アルカリアルキルスルホネート及び脂肪族アルカリスルフェートから、第２の又は追加のアニオン性界面活性剤を選択することができる。アニオン性界面活性剤の１つの具体的な組み合わせは、１種又は２種以上のアルキルジフェニルオキシドジスルホネートと、１種又は２種以上の芳香族アルカリアルキルスルホネート（例えばアルカリアルキルナフタレンスルホネート）とを含む。
【０１４４】
本発明において有用な現像溶液は、欧州特許第１，７５１，６２５号明細書（上記）の［００２９］に記載された非イオン性界面活性剤又は［００２４］に記載された親水性ポリマーを含んでいてよい。特に有用な非イオン性界面活性剤は、Mazol（登録商標） PG031-K (トリグリセロールモノオレエート）、Tween（登録商標） 80（ソルビタン誘導体）、Pluronic（登録商標） L62LF（プロピレンオキシドとエチレンオキシドとのブロック・コポリマー）、及びZonyl（登録商標） FSN（フルオロカーボン）、及び印刷版表面上に現像溶液を成功裡に塗布するための非イオン性界面活性剤、例えば非イオン性ポリグリコールを含む。これらの非イオン性界面活性剤は、最大１０重量％、しかし通常は２重量％未満の量で存在することができる。
【０１４５】
保護塗膜を提供するために現像溶液中に存在してよい他の添加剤は、水溶性膜形成疎水性ポリマーを含む。このポリマーの一例としては、アラビアゴム、プルラン、セルロース誘導体、澱粉誘導体、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルピロリドン）、ポリヒドロキシ化合物、例えば多糖、アクリル酸及びメタクリル酸又はアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、及び当業者には容易に明らかな、そのいくつかが例えば欧州特許出願公開第１，８６８，０３６号明細書（Baumann他）の［０１０４］〜［０１１４］に記載されている種々様々な他の化合物が挙げられる。
【０１４６】
現像溶液の他の任意選択の成分は、無機塩（例えば、上記米国特許出願公開第２００５／０２６６３４９号明細書の［００３２］に記載されたもの）、湿潤剤（例えばグリコール）、金属キレート剤、防腐剤、有機アミン、消泡剤、インク受容性剤（例えば米国’３４９の［００３８］に記載されたもの）、及び上記のような粘度増大剤を含む。このような成分の有用な量は、当業者に知られている。他の有用な添加物の一例としては、ホスホン酸又はポリカルボン酸、又は上記アニオン性界面活性剤とは異なるこれらの塩が挙げられる。このようなポリ酸は、少なくとも０．００１重量％、そして典型的には０．００１〜１０重量％（固形分％）の量で存在することができ、そして例えばポリアミノポリカルボン酸、アミノポリカルボン酸、又はこれらの塩、［例えばエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ又はその塩、例えばナトリウム塩）］、有機ホスホン酸、及びこれらの塩、及びホスホノアルカン三酢酸及びこれらの塩を含むことができる。
【０１４７】
現像溶液は、ラビング、噴霧、噴射、ディップ、浸漬、スロットダイ塗布（例えばMaruyama他の米国特許第６，４７８，４８３号明細書の図１及び２参照）、又はリバースロース塗布（Kurui他の米国特許第５，８８７，２１４号明細書の図４に記載）によって、又は外層を現像溶液で拭うか、又はガムを含有するローラ、含浸パッド、又はアプリケータを外層に接触させることにより、画像形成された要素に適用することができる。例えば、画像形成された要素には、現像溶液をブラシ塗布することができ、或いは、例えば欧州特許第１，７８８，４３１号明細書（上記）の［０１２４］及び米国特許第６，９２２，６８８号明細書（Shimazu他）に記載されているようなスプレーノズルシステムを使用して、非露光された領域を除去するのに十分な力で画像形成された表面に噴霧することにより、現像溶液を画像形成された要素上に注ぐか、又は適用することもできる。ここでもやはり、画像形成された要素は、現像溶液中に浸漬し、そして手によって又は装置を用いて擦り着けることができる。
【０１４８】
現像溶液は、好適な装置内の処理ユニット（又はステーション）内で適用することもできる。この処理ユニットは、現像溶液が適用される間、画像形成された要素を擦るか又はブラッシングするための少なくとも１つのローラを有している。このような処理ユニットを使用することにより、画像形成された層の非露光領域は、基板からより完全且つ迅速に除去することができる。残留現像溶液は除去されてよく（例えばスクイージー又はニップローラを使用して）、又はいかなる濯ぎ工程もなしに、結果としての印刷版上に残されてもよい。余剰の現像溶液をタンク内に集め、そして数回使用し、必要な場合にはリザーバーから補充することができる。補充現像溶液は、処理中に用いられるのと同じ濃度を有することができ、或いは濃縮形態で提供して適当な時に水で希釈することもできる。
【０１４９】
現像溶液が画像形成された要素を現像するが、しかしガミング処理を提供することはない態様の場合、処理に続いて、通常の手順を用いて、周知のガミング溶液でガミング工程を実施することができる。
【０１５０】
結果として印刷版は、後ベーキング操作時にベーキングすることもでき、このベーキングは、周知の条件を用いた、ＵＶ線又は可視線によるブランケット又はフラッド状の露光を伴うか、又は伴わずに実施することができる。或いは後ベーキング操作なしで、ブランケットＵＶ線又は可視線による露光を実施することもできる。
【０１５１】
画像形成され現像処理された要素の印刷面に、平版印刷インク及び湿し水溶液を適用することにより印刷が達成される。画像形成された領域、すなわち画像形成・処理工程によって露出された親水性基板の表面によって、湿し水溶液が取り込まれ、そして画像形成された層の非画像形成（非除去）領域はインクを取り込む。インクは次いで、その上に画像の所望の刷り（インプレッション）を提供するために、好適な受容材料（例えば布地、紙、金属、ガラス、又はプラスチック）に転写される。所望の場合、画像形成された部材から受容材料へインクを転写するために、中間「ブランケット」ローラを使用することができる。画像形成性部材は、所望の場合には、コンベンショナルなクリーニング手段を使用して、刷りの間にクリーニングすることができる。
【０１５２】
下記例は、本発明の実施を例示するために提供されるものであって、本発明を限定しようと意図するものでは決してない。
【実施例】
【０１５３】
例：
下記例を調製して実証する上で、下記材料を使用した：
BF-03は、加水分解率９８％、重量平均分子量１５，０００のポリビニルアルコール（Chang Chun Petrochemical Co. LTD）である。
クリスタル・バイオレットは、ヘキサメチルパラロサニリンクロリド（Aldrich Chemical Co.)である。
ＤＭＳＯは、ジメチルスルホキシド（Aldrich Chemical Co.)を表す。
ＤＭＡＢＡは、４−（ジメチルアミノ）安息香酸（Aldrich Chemical Co.)を表す。
LB 9900は、レゾール樹脂（Hexion AG）である。
【０１５４】
Ｍ−１は、３．２％のエタノールアミン、０．６％のジエタノールアミン、１％のベンジルアルコール、及び１％のPelex NBLを水中に含有した。
Ｍ−２は、１．５％のエタノールアミンをMX1591 Gum中に含有した。
Ｍ−３は、１％のベンジルアルコール、０．２％のエタノールアミン、０．６％のジエタノールアミン、０．８％の２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、及び１％のPelex NBLを水中に含有した。
Ｍ−４は、０．５％のエタノールアミンをMX1591 Gum中に含有した。
Ｍ−５は、０．５９Ｎのエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
【０１５５】
Ｍ−６は、０．５９Ｎのジエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
Ｍ−７は、０．５９Ｎのトリエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
ＭＥＫは、メチルエチルケトン（Aldrich Chemical Co.)を表す。
ＭＳＡは、メタンスルホン酸（９９％）（Aldrich）を表す。
MX1591 Gumは、Eastman Kodak Co. (Rochester, NY)から入手可能な前ベークガム溶液である。
【０１５６】
Pelex NBLは、Kao Chemicalsによって製造されたアニオン性界面活性剤である。
N-Phenylimino D.A.はＮ−フェニルイミノ二酢酸を表す。
PF 652は、PolyFox（登録商標）界面活性剤（Omnova）である。
Pig-951-B-18は、ポリビニルアセタールポリマーのＰＭ溶液中に前分散された銅フタロシアニン顔料（１７．２％）である。
ＰＭは１−メトキシ−２−プロパノール、溶剤、Arcosolv（登録商標） PMを表す（Lyondell）。
S 0094は、赤外線吸収色素FEW（λmax＝８１３ｎｍ）(FEW Chemicals）である。
Sudan Black Bは、中性ジアゾ色素（C. I. 26150)（Aldrich Chemical Co.)である。
ＴＥＡはトリエタノールアミン（Aldrich Chemical Co.)である。
【０１５７】
ポリマーＡの調製：
２０ｇのBF-03ポリビニルアルコールを、水冷凝縮器、滴下漏斗、及び温度計を備えた、ＤＭＳＯ（１７０ｇ）を含有する反応容器に添加した。連続的に攪拌しながら、混合物をこれが透明な溶液になるまで、８０℃で３０分間にわたって加熱した。次いで温度を６０℃に調節し、そしてＭＳＡ（１．０ｇ）を添加した。１５分間にわたって、反応混合物にＤＭＳＯ（２０ｇ）中のブチルアルデヒド（５．６ｇ）の溶液を添加し、そしてこれを３０分間にわたって５５〜６０℃で維持した。２−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアルデヒド（５−ニトロ−サリチル酸アルデヒド、１８．７８ｇ）及びＤＭＳＯ（４０ｇ）を反応混合物に添加し、そしてこれを１時間にわたって５５〜６０℃で維持した。次いで、反応混合物をアニゾール（１４０ｇ）で希釈し、そして真空蒸留を開始した。アニゾール：水共沸混合物を反応混合物から蒸留した（０．１％未満の水が溶液中に残った）。反応混合物を室温まで冷却し、そしてＤＭＳＯ（１２０ｇ）中に溶解されたＴＥＡ（２ｇ）で中和し、次いで３．２ｋｇの水とブレンドした。結果として生じた沈殿ポリマーを水で洗浄し、濾過し、そして５０℃で２４時間にわたって真空中で乾燥させることにより、２９．７ｇの乾燥ポリマーＡを得た。ポリマーＡ中の反復単位Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの比を、1Ｈ ＮＭＲによって割り出し、次のように示す。
【０１５８】
【化１０】
ポリマーＡ ｋ＝２％、１＝３１％、ｍ＝３７％、ｎ＝３０％
【０１５９】
発明例１：
下記手順によって画像形成性要素を調製した。下記成分から塗布用溶液を調製する：
【０１６０】
【表１】
【０１６１】
配合物を濾過し、そして一般的な方法によってリン酸ナトリウム／フッ化ナトリウムの水溶液を使用した後処理を施されている、電気化学的粗面化・陽極酸化アルミニウム基板に適用し、そして塗膜を、Glunz&Jensen “Unigraph Quartz”炉内で、８０℃で３０秒間にわたって乾燥させた。画像形成性層の重量は約１．５ｇ／ｍ2であった。結果として生じた画像形成性要素を、２日間にわたって６０℃で、ＲＨ２８％で間紙とともにコンディショニングした。
【０１６２】
画像形成性要素を、６０ｍＪ／ｃｍ2〜１８０ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー範囲で、Kodak（登録商標） Lotem 400 Quantum画像形成装置上で露光し、そしてＭ−１溶液を使用して平皿内で３０℃で、３０秒間にわたって現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例１に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６３】
発明例２：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、ガムＭ−２溶液を使用して平皿内で２６℃で、５０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例２に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６４】
発明例３：
発明例１に記載されているように画像形成性要素を調製したが、しかし下記の画像形成性層塗布用溶液を使用した：
【０１６５】
【表２】
【０１６６】
ガムＭ−３溶液を使用して平皿内で３０℃で、４０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例３に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６７】
発明例４：
発明例１に記載されているように画像形成性要素を調製したが、しかし下記の画像形成性層塗布用溶液を使用した：
【０１６８】
【表３】
【０１６９】
ガムＭ−４溶液を使用して平皿内で３０℃で、４０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例４に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７０】
発明例５：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、ガムＭ−５溶液を使用して平皿内で３０℃で、６０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例５に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７１】
比較例１：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、Ｍ−６溶液を使用して平皿内で３０℃で、１０分間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。比較例１に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７２】
比較例２：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、Ｍ−７溶液を使用して３０℃で１０分間にわたって、（発明例５と同様に）画像形成された要素を平皿内に浸した。次いで印刷版を水で洗浄したが、しかし画像は得られなかった。比較例２に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７３】
【表４】
【０１７４】
表１の結果が示すように、ポリマーＡを含有する配合物で調製された画像形成性要素は、アミンを基剤とするＭ−１又はＭ−３現像剤で現像（潜像を露わにする）することができ、又はアミンとガミング化合物とを含有するガムＭ−２又はＭ−４で単一工程で現像及びガミング処理を施すことができる。加えて、発明例５に関して得られた結果を比較例１及び２の結果と比較すると、上記の印刷版を効率的に現像するためには、その共役酸のｐＫａ値が９を上回る、有機アミン（例えばエタノールアミン）を含有する現像剤が必要とされることが判る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のポリ（ビニルアセタール）バインダーを含有するポジ型画像形成性要素から、有機アミンを含有する単一の現像溶液を使用して、画像形成された要素、例えば平版印刷版を調製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷の場合、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。表面が水で湿潤され、そしてインクが着けられると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、そしてインク受容領域はインクを受容して水を弾く。次いでインクは画像が再現されるべき好適な材料の表面に転写される。いくつかの事例では、インクは中間ブランケットに先ず転写することができ、このブランケットは、画像が再現されるべき材料の表面にインクを転写するために使用される。
【０００３】
平版（又はオフセット）印刷版を調製するのに有用な画像形成性要素は、典型的には、基板（又は中間層）の親水性表面上に適用された１つ又は２つ以上の画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散された１種又は２種以上の輻射線感光性成分を含むことができる。画像形成に続いて、画像形成性層の露光された領域又は非露光領域が、好適な現像剤によって除去され、下側に位置する親水性の基板表面を露出する。露光された領域が除去される場合には、要素はポジ型と考えられる。逆に、非画像形成領域が除去される場合には、要素はネガ型と考えられる。それぞれの事例において、残される画像形成性層領域はインク受容性であり、そして、現像処理によって露出された親水性表面領域は、水及び水溶液（典型的には湿し水溶液）を受容し、そしてインクを弾く。
【０００４】
同様に、プリント基板（ＰＣＢ）生産におけるレジスト・パターン、薄膜・厚膜回路、レジスタ、キャパシタ、及びインダクタ、マルチチップ・デバイス、集積回路、及びアクティブ半導体デバイスを形成するために、ポジ型組成物を使用することもできる。
【０００５】
コンピュータからのデジタルデータを使用してオフセット印刷版又はプリント基板を直接形成する「レーザーダイレクト画像形成」法（ＬＤＩ）が知られており、これらの方法は、写真フィルムのマスキングを用いた以前の方法を凌ぐ数多くの利点をもたらす。より効率的なレーザー、改善された画像形成性組成物、及びこれらの成分から、この分野ではかなりの開発が進んでいる。
【０００６】
感熱性画像形成性要素は、適量の熱エネルギーに対する曝露、又は適量の熱エネルギーの吸収に応答して化学変換させられる要素として分類することができる。熱誘発型化学変換は、要素中の画像形成性組成物をアブレートすること、又は特定の現像剤中の溶解度を変化させること、又は感熱性層の表面層の粘着性又は親水性又は疎水性を変化させることである。このようなものとして、平版印刷表面又はＰＣＢ生産におけるレジスト・パターンとして役立つことができる所定の画像形成性層領域を露出させるために、熱画像形成を用いることができる。
【０００７】
ノボラック又は他のフェノール高分子バインダー及びジアゾキノン画像形成成分を含有するポジ型画像形成性組成物が、長年にわたって平版印刷版及びフォトレジストの業界において優勢である。種々のフェノール樹脂及び赤外線吸収化合物を基剤とする画像形成性組成物も良く知られている。
【０００８】
国際公開第２００４／０８１６６２号パンフレット（Memetea他）には、所要画像形成エネルギーが低減されるようにポジ型組成物及び要素の感度を向上させるために、フェノールポリマー又はポリ（ビニルアセタール）を含む酸性の種々の現像性向上化合物を使用することが記載されている。このような組成物及び要素に特に有用なポリ（ビニルアセタール）のうちのいくつかが、米国特許第６，２５５，０３３号（Levanon他）及び同第６，５４１，１８１号（Levanon他）の各明細書に記載されている。
【０００９】
特定の現像性向上材料とポリ（ビニルアセタール）とを含有する熱画像形成性要素が、同一譲受人による同時係属中の米国特許出願公開第２００８／０２０６６７８号明細書（Levanon他）、同第２００９／０００４５９９号明細書（Levanon他）、及び米国特許出願第１１／９５９，４９２号明細書（Nakash及びLevanonにより2007年12月18日付けで出願）に記載されている。
【００１０】
フェノール樹脂を含有する画像形成性要素が米国特許第６，４１０，２０３号明細書（Nakamura）に記載されている。画像形成後、要素は、ケイ酸塩含有現像剤、炭酸塩現像剤、リン酸塩現像剤、及びホウ酸塩現像剤を含む種々様々な現像剤のいずれかで現像される。
【００１１】
同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１２／０２５，０８９号明細書（Levanon, Nakash及びKurtserにより2008年2月4日付けで出願）、及び同第１２／１２５，０８４号明細書（Levanon及びNakashにより2008年5月22日付けで出願）には、特定のポリ（ビニルアセタール）を含有するポジ型画像形成性要素を処理するために、炭酸塩現像剤を使用することが記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ポジ型画像形成性要素は、一般的に、画像形成され、ケイ酸塩又はメタケイ酸塩を含有する種々の高アルカリ性現像剤を使用して現像される。このような現像剤は、画像形成性層の画像形成された部分を除去するのに効果的ではあるものの、これらはアルミニウム基板と好ましくなく反応して、廃棄物処理の問題を招く毒性廃液を生成させるおそれがある。さらに、ケイ酸塩は、処理装置の管や他の部分内に蓄積することがある。
【００１３】
加えて、種々の現像剤の使用後、印刷版は通常、画像形成された表面上に保護層を提供するように、コンベンショナルなガム溶液で「ガミング処理」される。このような、画像形成、現像、水での濯ぎ、及びガミング処理が、処理装置内で複数の工程及びステーションを必要とする。
【００１４】
画像形成されたポジ型画像形成性要素、特に、ポリ（ビニルアセタール）バインダー樹脂を含有する単一画像形成性層を有する画像形成されたポジ型画像形成性要素を現像するための、環境的により容認され得る、より低廉な方法を見いだす必要がある。また、平版印刷版に、印刷可能な画像を提供する過程を単純化する必要もある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、
要素に画像を形成する方法であって：
Ａ） 親水性表面と赤外線吸収化合物とを有し、そして前記親水性表面上に、現像性向上化合物と、反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むポリ（ビニルアセタール）とを含む画像形成性層を有する基板を含んで成る赤外線感光性ポジ型画像形成性要素を像様露光することにより、前記画像形成性層内に露光された領域及び非露光領域を提供する工程、そして
Ｂ） 前記像様露光された画像形成性要素に現像溶液を適用することによって、前記露光された領域内において、前記画像形成性層を除去し、そしてこれにより主として前記親水性表面のみを露出させる工程、
を含み、
前記現像溶液が、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はその混合物を含み、それらの共役酸が９を超えるｐＫａ及び１５０℃を超える沸点を有する、
要素に画像を形成する方法を提供する。
【００１６】
本発明は、画像形成された要素、例えば、アルミニウム含有親水性基板を有する平版印刷版を提供するために用いることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、環境的により容認され得る形で、高感度のポジ型前駆体から画像形成された要素を提供する。周知の高アルカリ性のケイ酸塩含有現像剤に関わる問題点が回避される。加えて、現像条件は、周知の方法で用いられているものと比較して、比較的穏やか（１２未満のｐＨ）である。さらに、画像形成された要素の処理が、所望の場合には、単一の現像溶液を使用して、現像機能及び「ガミング」機能を達成し得る点で単純化される。これらの利点は、本明細書中に規定される有機アミンを含有する比較的単純な現像溶液を使用して達成される。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
定義
文脈上異なることを示すのでない限り、「輻射線感光性組成物」、「画像形成性要素」、「ポジ型画像形成性要素」及び「現像溶液」の用語は本明細書中に使用される場合には、本発明において有用な態様を意味するものとする。
【００１９】
加えて、文脈上異なることを示すのでない限り、本明細書中に記載された種々の成分、例えば、「ポリ（ビニルアセタール）」、「輻射線吸収化合物」、「現像性向上化合物」、及び「有機アミン」は、このような成分の混合物をも意味する。従って、単数を表す冠詞の使用は、単一の成分だけを必ずしも意味するものではない。
【００２０】
他に示すのでない限り、パーセンテージは、輻射線感光性組成物又は配合物の総固形分、又は層の乾燥塗膜重量を同等に基準とした重量パーセントを意味する。
【００２１】
「単層画像形成性要素」という用語は、画像形成のために唯１つの層を有する画像形成性要素を意味するが、しかし下でより詳細に指摘するように、このような要素は、種々の特性を提供するために画像形成性層の下又は上に１つ又は２つ以上の層（例えばトップ塗膜）を含んでもよい。
【００２２】
本明細書中に使用された「輻射線吸収化合物」とは、或る特定の輻射線波長に対して感度を有し、これらが配置された層内部で光子を熱に変換することができる化合物を意味する。これらの化合物は「光熱変換材料」、「増感剤」、又は「光−熱変換体」としても知られ得る。
【００２３】
「フェノール」、「ナフトール」、及び「アントラセノール」は、単一のヒドロキシル置換基を有するフェニル、ナフチル、及びアントリル環を意味する。
【００２４】
「電子求引基」は、０．２を上回るハメット−シグマ値（シグマ−para又はシグマ−meta）を有する、フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基上の置換基を意味する。このような求引基の例としては、ニトロ、トリフルオロメチル、カルボニル、及びハロゲン基が挙げられる。
【００２５】
ポリマーに関連するあらゆる用語の定義を明らかにするために、International Union of Pure and Applied Chemistry(「IUPAC」)によって発行された「Glossary of Basic Terms in Polymer Science」Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311(1996)を参照されたい。しかし、本明細書中のあらゆる種々異なる定義が支配的なものと見なされるべきである。
【００２６】
「ポリマー」という用語（例えばポリビニルアセタール）は、オリゴマーを含む高分子量及び低分子量ポリマーを意味し、ホモポリマー及びコポリマーの両方を含む。
【００２７】
「コポリマー」という用語は、２種又は３種以上の異なるモノマーから誘導されたポリマー、又は、たとえ同じモノマーから誘導されるとしても、２種又は３種以上の異なる反復単位を有するポリマーを意味する。
【００２８】
「主鎖」という用語は、複数のペンダント基が結合されているポリマー中の原子鎖を意味する。このような主鎖の例は、１種又は２種以上のエチレン系不飽和重合性モノマーの重合から得られた「全炭素」主鎖である。しかしながら、他の主鎖がヘテロ原子を含むこともでき、この場合、ポリマーは、縮合反応又は何らかの他の手段によって形成される。
【００２９】
用途
本明細書に記載された輻射線感光性組成物及び画像形成性要素は、プリント基板（ＰＣＢ）生産におけるレジスト・パターン、薄膜・厚膜回路、レジスタ、キャパシタ、インダクタ、マルチチップ・デバイス、集積回路、及びアクティブ半導体デバイスを形成するために使用することができる。加えて、これらは、親水性表面を備えた基板を有する平版印刷版を提供するために使用することもできる。他の用途は当業者には容易に明らかであろう。
【００３０】
輻射線感光性組成物及び画像形成性要素
輻射線感光性組成物は、一次高分子バインダーとして、１種又は２種以上の現像溶液可溶性ポリ（ビニルアセタール）高分子バインダーを含む。ポリ（ビニルアセタール）の重量平均分子量（Ｍw）は、標準的な手順を用いて測定して、一般に少なくとも５，０００であり、そして最大１５，０００であってよく、そして典型的には２０，０００〜６０，０００である。最適なＭwは、具体的なポリマークラス及びその使用に伴って変化し得る。
【００３１】
ポリ（ビニルアセタール）は、輻射線感光性組成物（又は画像形成性層）中の唯一のバインダーであってよいが、しかしより一般的には、これらは、全ての高分子バインダーの乾燥重量を基準として、少なくとも１０重量％、より典型的には少なくとも５０重量％、そして最大１００重量％を占める。いくつかの態様の場合、ポリ（ビニルアセタール）の量は、全ての高分子バインダーの乾燥重量を基準として、５０〜９０重量％であってよい。
【００３２】
ポリ（ビニルアセタール）は、これらの総反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基（上で規定）、例えば１〜３つのニトロ基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むように、構成されている。
【００３３】
例えば、有用な高分子バインダーは、下記構造（Ｉｃ）：
【００３４】
【化１】
【００３５】
によって表される反復単位を、少なくとも２５モル％且つ最大８０モル％含むポリ（ビニルアセタール）であってよく、
上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基である（下でより詳細に規定する）。
【００３６】
Ｒ3は、１つ又は２つ以上の電子求引基を置換基として有するフェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である。一般に、これらの芳香環上には、１〜３つの電子求引置換基があり、この場合ニトロ、ニトリル、及びトリフルオロメチル基が特に有用であるが、しかし、フェノール基上のニトロ基のような唯１つのこのような置換基があるのが典型的である。これらのペンダント・フェノール、ナフトール、及びアントラセノール基は必要に応じて、電子求引基の他に追加の置換基を有することができる。このような置換基の一例としては、ヒドロキシ、メトキシ、及び他のアルコキシ基、アリールオキシ、チオアリールオキシ、ハロメチル、トリハロメチル、ハロ、アゾ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノ、アミノ、カルボキシ、エテニル、カルボキシアルキル、フェニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、及び複素脂環式基が挙げられる。例えば、Ｒ3は、ニトロ置換型フェノール又はニトロ置換型ナフトール基であってよく、これらの基も、追加のヒドロキシル基又は１つ又は２つ以上のハロ置換基を含む。
【００３７】
いくつかの有用なポリ（ビニルアセタール）樹脂は、一例として例示の反復単位を含む下記構造（Ｉ）によって表すことができ、
【００３８】
【化２】
【００３９】
上記式中：
Ａは、下記構造（Ｉａ）によって表される反復単位を表し、
【００４０】
【化３】
【００４１】
Ｂは、下記構造（Ｉｂ）によって表される反復単位を表し、
【００４２】
【化４】
【００４３】
Ｃは、上で規定した構造（Ｉｃ）によって表される反復単位を表し、
Ｄは、下記構造（Ｉｄ）によって表される反復単位を表し、
【００４４】
【化５】
【００４５】
ｋは１〜２０モル％（典型的には２〜１２モル％）であり、ｌは５〜５０モル％（典型的には２０〜３５モル％）であり、ｍは２５〜８０モル％（典型的には３５〜７０モル％）であり、そしてｎは０〜４０モル％（典型的には１０〜３０モル％）である。
【００４６】
Ｒ及びＲ’は、独立して水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、クロロメチル、トリクロロメチル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル及びイソ−ヘキシル基）、又は環内炭素原子数３〜６の置換型もしくは無置換型シクロアルキル環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシル、及びシクロヘキシル基）、又はハロ基（例えばフルオロ、クロロ、ブロモ、又はヨード）である。典型的には、Ｒ及びＲ’は、独立して水素、又は置換型もしくは無置換型メチル又はクロロ基であり、又は例えば、これらは独立して水素、又は無置換型メチルである。言うまでもなく、高分子バインダー内の異なる反復単位のＲ及びＲ’基は、上記規定から選ばれた同じか又は異なる基であることが可能である。
【００４７】
構造（Ｉ）において、Ｒ1は、例えば式−ＯＣ（＝Ｏ）−Ｒ5基を有する置換型又は無置換型のアルキル又はアリールカルボン酸エステルであり、ここでＲ5は、炭素原子数１〜１２の置換型もしくは無置換型アルキル基（線状又は分枝状）、又は芳香環内炭素原子数６もしくは１０の置換型又は無置換型アリール基である。典型的には、Ｒ5は、炭素原子数１〜６の置換型又は無置換型アルキル基、例えば無置換型メチル基である。
【００４８】
Ｒ2はヒドロキシ基である。
【００４９】
Ｒ4は、炭素原子数１〜１２の置換型又は無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、メトキシメチル、クロロメチル、トリクロロメチル、ベンジル、シナモイル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル、及びイソ−ヘキシル基）、環内炭素原子数３〜６の置換型又は無置換型シクロアルキル環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシル、及びシクロヘキシル基）、又はフェノール又はナフトール以外の芳香環内炭素原子数６もしくは１０の置換型又は無置換型アリール基（例えばフェニル、キシリル、トルリル、ｐ−メトキシフェニル、３−クロロフェニル、及びナフチルを含む置換型又は無置換型のフェニル及びナフチル基）である。典型的には、Ｒ4は、炭素原子数１〜６の置換型又は無置換型アルキル基、例えばｎ−プロピルである。
【００５０】
構造（Ｉ）内の反復単位の比によって示されるように、ポリ（ビニルアセタール）は、存在する異なる反復単位の数に応じて少なくとも三量体であってよい。例えば、構造（Ｉａ）から（Ｉｄ）までの規定された反復単位クラスのうちのいずれかから形成された複数のタイプの反復単位があってよい。例えば構造（Ｉ）のポリ（ビニルアセタール）は、異なるＲ1基を有する構造（Ｉａ）反復単位を有していてよい。このような多様な反復単位は、構造（Ｉｂ）〜（Ｉｄ）のいずれかによって表される反復単位にも当てはまる。
【００５１】
構造（Ｉ）によって表される高分子バインダーは、構造（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉｄ）によって規定されたもの以外の反復単位を含有してよく、このような反復単位は当業者には明らかであろう。従って、構造（Ｉ）は最も広い意味において、規定された反復単位に限定されることはないが、しかしいくつかの態様の場合には、構造（Ｉ）内の反復単位だけが存在する。他の可能な反復単位が、例えば米国特許第６，２５５，０３３号明細書（上記）、並びに米国特許出願第１１／６７７，５９９号、同第１１／７６９，７６６号、及び同第１１／９５９，４９２号の各明細書に記載されている。
【００５２】
輻射線感光性層又は画像形成性層を形成する輻射線感光性組成物中のポリ（ビニルアセタール）の含有率は、一般には総乾燥重量の１０〜９９％であり、また典型的には総乾燥重量の３０〜９５％である。多くの態様は、組成物又は層の総乾燥重量の５０〜９０％の量のポリ（ビニルアセタール）を含む。
【００５３】
本明細書中に記載されたポリ（ビニルアセタール）は、米国特許第６，５４１，１８１号明細書（上記）に記載されたものを含む公知の出発材料及び反応条件を用いて調製することができる。
【００５４】
例えば米国特許第４，６６５，１２４号（Dhillon他）、同第４，９４０，６４６号（Pawlowski)、同第５，１６９，８９８号（Walls他)、同第５，７００，６１９号（Dwars他)、及び同第５，７９２，８２３号（Kim他）の各明細書、及び特開平０９−３２８，５１９号公報（Yoshinaga)に記載されているような公知の標準的な方法に従って、ポリビニルアルコールのアセタール化が行われる。
【００５５】
このアセタール化反応は一般に、強無機触媒酸又は強有機触媒酸を添加することを必要とする。触媒酸の例は、塩酸、硫酸、リン酸、及びｐ−トルエンスルホン酸である。その他の強酸、例えばペルフルオロアルキルスルホン酸及び他のペルフルオロ活性化酸も有用である。酸の量は、プロトン化が生じるのを効果的に可能にするべきであるが、しかし、アセタール基の望まれない加水分解を引き起こすことにより最終生成物を著しく変化させることがない量である。アセタール化の反応温度は、アルデヒドの種類並びに所望の置換レベルに依存する。この温度は０℃と、適用可能であるならば溶剤の沸点との間である。有機溶剤並びに水と有機溶剤との混合物が反応のために使用される。例えば、好適な有機溶剤はアルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びグリコールエーテル）、環状エーテル（例えば１，４−ジオキサン）、及び双極性非プロトン性溶剤（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン又はジメチルスルホキシド）である。有機溶剤中又は有機溶剤と水との混合物中でアセタール化を実施する場合には、出発ポリビニルアルコールが完全には溶解されなくても、反応生成物が溶液中にしばしば残る。有機溶剤中の出発ポリビニルアルコールの溶解が不完全であることの欠点は、再生不能な変換度及び異なる生成物を招くおそれがあることである。ポリビニルアルコール、及びアセタール化の結果としての再生可能な生成物の完全な溶解を達成するために、水、又は有機溶剤と水との混合物を使用するべきである。種々のアセタール化剤の添加順序は、多くの場合さほど重要ではなく、種々異なる調製順序から同等に完成生成物が得られる。固形物としての完成生成物を単離するために、ポリマー溶液は、強力に攪拌しながら、非溶剤中に導入され、濾過され、そして乾燥させられる。水が、ポリマーのための非溶剤として特に適している。
【００５６】
ヒドロキシル置換型芳香族アルデヒドによるアセタール化によって達成されるアセタール基の望まれない加水分解は、同じ合成条件において脂肪族又は無置換型芳香族アルデヒドから、又はカルボキシル部分を含有するアルデヒドから形成されたアセタールの場合よりも著しく容易に生じる。反応混合物中に水が少量でも存在すると、アセタール化度が低くなり、使用される芳香族ヒドロキシアルデヒドの変換が不完全になる。他方において、水が存在しなければ、ヒドロキシ置換型芳香族アルデヒドが、アルコールのヒドロキシル基とすぐに、ほとんど１００％の変換率で反応することが判った。従って、所望のポリビニルアセタールを得るために、ヒドロキシ置換型芳香族アルデヒドによってポリビニルアルコールをアセタール化するプロセスは、当業者に知られた手順とは異なる手順で行うことができる。水は合成中に減圧下での蒸留によって反応混合物から除去し、そして有機溶剤と交換することができる。残りの水は、水と容易に反応する有機材料を混合物に添加し、そして反応の結果として揮発性材料又は不活性化合物を生成することにより、除去することができる。これらの材料は、炭酸塩、水と容易に反応する炭酸又はカルボン酸のオルトエステル、シリカ含有化合物、例えば炭酸ジエチル、オルト蟻酸トリメチル、炭酸テトラエチル、及びケイ酸テトラエチルから選択されてよい。反応混合物へこれらの材料を添加すると、使用されたアルデヒドの変換率が１００％になる。
【００５７】
このように、有用なポリ（ビニルアセタール）の調製は、８０〜９０℃のＤＭＳＯ中に出発ポリビニルアルコールを溶解することで始まることができ、次いでこの溶液を６０℃まで冷却し、そして有機溶剤中に溶解された酸性触媒を添加する。次いでこの溶液に、同じ溶剤中の脂肪族アルデヒドの溶液を添加し、溶液を６０℃で３０分間にわたって保持し、そして同じ溶剤中の芳香族アルデヒド及び／又はカルボン酸置換型アルデヒド、又は他のアルデヒドの溶液を添加する。反応混合物にアニソールを添加し、水とアニソールとの共沸混合物を蒸留によって除去し、そしてこれを有機溶剤と交換する。この段階で、芳香族ヒドロキシアルデヒドの変換率は９５〜９８％に達する。反応混合物中の酸を中和し、そして混合物を水とブレンドすることによりポリマーを沈殿させ、これを濾過し、水で洗浄し、そして乾燥させる。芳香族ヒドロキシアルデヒドからベンザルへの変換率１００％を達成するための第２の方法は、反応混合物にアルデヒドを添加したあと、水を除去する有機材料（例えば炭酸塩又はオルト蟻酸塩）を添加することである。
【００５８】
ポリ（ビニルアセタール）樹脂との混和物の形で、画像形成性層内には種々のフェノール樹脂が「二次」ポリマーとして存在していてよい。
【００５９】
フェノール樹脂として、ノボラック樹脂、例えばフェノールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ｍ−／ｐ−混合型クレゾールとホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、又はｍ−／ｐ−混合物）とホルムアルデヒドとの縮合ポリマー、ピロガロールとアセトンとの縮合コポリマーを含む（これらに限定されない）、種々のフェノール樹脂を使用することができる。さらに、側鎖中にフェノール基を含む化合物を共重合することにより得られるコポリマーを使用することもできる。このような高分子バインダーの混合物を使用することもできる。
【００６０】
重量平均分子量が少なくとも１５００であり、また数平均分子量が少なくとも３００であるノボラック樹脂が有用である。一般に、重量平均分子量は、３，０００〜３００，０００であり、数平均分子量は、５００〜２５０，０００であり、そして分散度は（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０である。
【００６１】
１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）と１種又は２種以上のフェノール樹脂との混合物を含む、上記一次高分子バインダーの特定の混合物を使用することができる。例えば、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）と、１種又は２種以上のノボラック又はレゾール樹脂（又はノボラック及びレゾール樹脂の双方）との混合物を使用することができる。
【００６２】
他の有用な樹脂は、フェノールヒドロキシル基を有するポリビニル化合物を含み、ポリ（ヒドロキシスチレン）、及びヒドロキシスチレンの反復単位を含有するコポリマー、及び置換型ヒドロキシスチレンの反復単位を含有するポリマー及びコポリマーを含む。
【００６３】
例えば米国特許第５，５５４，７１９号明細書（Sounik）、米国特許第６，５５１，７５８号明細書（Ohsawa他）、米国特許出願公開第２００３／００５０１９１号明細書（Bhatt他）、及び米国特許出願公開第２００５／００５１０５３号明細書（Wisnudel他）、及び米国特許出願公開第２００８／０００８９５６号明細書（Levanon他）に記載されているように、４−ヒドロキシスチレンから誘導された複数の分枝状ヒドロキシスチレン反復単位を有する分枝状ポリ（ヒドロキシスチレン）も有用である。例えばこのような分枝状ヒドロキシスチレンポリマーは、ヒドロキシスチレン、例えば４−ヒドロキシスチレンから誘導された反復単位を含み、これらの反復単位はさらに、ヒドロキシ基に対してorthoに位置する反復ヒドロキシスチレン単位（例えば４−ヒドロキシスチレン単位）で置換されている。これらの分枝状ポリマーの重量平均分子量（Ｍw）は、１，０００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜１０，０００、より好ましくは３，０００〜７，０００であり得る。加えて、これらの多分散度は２未満、好ましくは１．５〜１．９であってよい。分枝状ポリ（ヒドロキシスチレン）は、非分枝状のヒドロキシスチレン反復単位を有するホモポリマー又はコポリマーであることが可能である。
【００６４】
さらに他の「二次」高分子バインダーの例は、主鎖及び／又は側鎖（ペンダント基）上に下記（１）〜（５）の酸性基を有する下記クラスのポリマーを含む。
（１） スルホンアミド（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）、
（２） 置換型スルホンアミドに基づく酸基（以後、活性イミド基と呼ぶ）［例えば−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ］、
（３） カルボン酸基（−ＣＯ2Ｈ）、
（４） スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）、及び
（５） リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）。
上述の基（１）〜（５）におけるＲは、水素又は炭化水素基を表す。
【００６５】
基（１）スルホンアミド基を有する代表的な二次高分子バインダーは例えば、スルホンアミド基を有する化合物から誘導される主成分としての最小構成単位から成るポリマーである。従って、このような化合物の例は、少なくとも１つの水素原子が窒素原子に結合されている少なくとも１つのスルホンアミド基と、少なくとも１つの重合性不飽和基とを、その分子中に有する化合物を含む。これらの化合物の中では、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、及びＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドがある。こうして、スルホンアミド基、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、又はＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドを有する重合モノマーから成るホモポリマー又はコポリマーを使用することができる。
【００６６】
基（２）活性化イミド基を有する二次高分子バインダーの例は、主成分として活性化イミド基を有する化合物から誘導された反復単位を含むポリマーである。このような化合物の例は、下記構造式によって規定された部分を有する重合性不飽和化合物を含む。
【００６７】
【化６】
【００６８】
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド及びＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミドは、このような重合性化合物の例である。
【００６９】
基（３）〜（５）のいずれかを有する二次高分子バインダーは、所望の酸性基、又は重合後にこのような酸性基に変換することができる基を有するエチレン系不飽和重合性モノマーを反応させることにより容易に調製されたバインダーを含む。
【００７０】
（１）〜（５）から選択された酸性基を有する最小構成単位に関しては、ポリマー中に唯１種の酸性基を使用する必要はなく、またいくつかの態様の場合、少なくとも２種の酸性基を有することが有用であり得る。言うまでもなく、二次高分子バインダー中の反復単位毎に酸性基のうちの１つを有する必要はなく、通常は少なくとも１０モル％及び典型的には少なくとも２０モル％が、上記酸性基のうちの１つを有する反復単位を含む。
【００７１】
二次高分子バインダーは、重量平均分子量が少なくとも２，０００であり、また数平均分子量が少なくとも５００であることが可能である。典型的には、重量平均分子量は５，０００〜３００，０００であり、数平均分子量は８００〜２５０，０００であり、そして分散度は（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０である。
【００７２】
二次高分子バインダーの混合物を、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）高分子バインダーと一緒に使用してもよい。二次高分子バインダーは、輻射線感光性組成物又は画像形成性層内の総高分子バインダーの乾燥重量を基準として、少なくとも１重量％から最大５０重量％までの量で、また典型的には５〜３０重量％の量で存在することができる。
【００７３】
輻射線感光性組成物はさらに、１種又は２種以上のクラスの化合物から選択することができる現像性向上化合物を含む。例えば、有用な現像性向上化合物が、国際公開第２００４／０８１６６２号パンフレット（上記）に記載されている。
【００７４】
他の有用な現像性向上化合物は、１つ又は２つ以上のアミノ基及び１つ又は２つ以上のカルボン酸（カルボキシ）基で置換された有機酸（特に芳香族酸）である。このような基は、１つ又は２つ以上の脂肪族もしくは芳香族基を介して結合することができる。例えば、アミノ基は、より詳細に下で規定するアルキレン、アリーレン、及びシクロアルキレン基に直接に結合することができる。加えて、アミノ基は、芳香族又は非芳香族の複素環式Ｎ含有環の部分であることが可能である。アミノ基及びカルボン酸基のそれぞれのうちの最大４つの基が、現像性向上化合物分子中に存在してよく、そして具体的には、少なくとも１つのアミノ基が存在し、そして置換型又は無置換型アリール基（例えば置換型又は無置換型フェニル基）に直接に結合することができる。
【００７５】
代表的な現像性向上化合物は、下記構造（ＤＥＣ）：
【００７６】
【化７】
【００７７】
によって規定することができ、また同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１１／９５９，４９２号明細書（上記）にさらに詳しく記載されている。
【００７８】
構造ＤＥＣにおいて、Ｒ1及びＲ2は同じか又は異なる水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、クロロメチル、トリクロロメチル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、ｔ−ブチル、イソ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチル及びイソ−ヘキシル基）、又は炭化水素環内炭素原子数５〜１０の置換型もしくは無置換型シクロアルキル基、又は芳香環内炭素原子数６、１０又は１４の置換型もしくは無置換型アリール基であることが可能である。いくつかの態様の場合、Ｒ1及びＲ2は、同じか又は異なる置換型もしくは無置換型アリール基（例えばフェニル又はナフチル基）であることが可能であり、そして、Ａが−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合されているアルキレン基を含む場合には、Ｒ1及びＲ2のうちの少なくとも一方は、置換型又は無置換型アリール基であることが特に有用である。
【００７９】
他の態様において、構造（ＤＥＣ）におけるＲ1及びＲ2は同じか又は異なる水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型の線状又は分枝状アルキル基（上記の通り）、置換型又は無置換型シクロアルキル基、又は置換型もしくは無置換型のフェニル又はナフチル基であり得る。
【００８０】
構造（ＤＥＣ）において、Ａは、鎖内に少なくとも１つの炭素、窒素、硫黄、又は酸素原子を有する置換型もしくは無置換型の有機結合基であり、Ａはまた−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合された置換型又は無置換型アリーレン基（例えば置換型又は無置換型フェニレン基）を含む。こうして、Ａは、１つ又は２つ以上のアリーレン（例えば芳香環内炭素原子数６又は１０）、シクロアルキレン（例えば炭素環内炭素原子数５〜１０）、アルキレン（例えば鎖内炭素原子数１〜１２、線状及び分枝状基を含む）、オキシ、チオ、アミド、カルボニル、カルボンアミド、スルホンアミド、エテニレン（−ＣＨ＝ＣＨ−）、エチニレン（−ＣＨ≡ＣＨ−）、又はセレノ基、又はこれらの任意の組み合わせを含むことができる。いくつかの特に有用な態様の場合、Ａは、置換型又は無置換型アリーレン基（例えば置換型又は無置換型フェニレン基）から成る。
【００８１】
構造（ＤＥＣ）において、ｍは整数１〜４（典型的１又は２）、そしてｎは整数１〜４（典型的１又は２）であり、ｍとｎとは同じであっても異なっていてもよい。
【００８２】
現像性向上化合物は、下記構造（ＤＥＣ1）によって規定することができ、
【００８３】
【化８】
【００８４】
上記式中：
Ｒ1及びＲ2は上で規定した通りであり、Ａは、−［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）］nに直接に結合された置換型又は無置換型フェニレンを有する有機結合基であり、Ｂは、単結合、又は鎖内に少なくとも１つの炭素、酸素、硫黄、又は窒素原子を有する有機結合基であり、ｍは整数１又は２であり、ｎは整数１又は２である。「Ｂ」有機結合基は、Ｂがアリーレン基を含有することが必要とされないことを除けば、Ａが上で規定されたのと同じように規定することができ、また通常Ｂはこれが存在する場合はＡとは異なる。
【００８５】
本明細書中に記載されたアリール（及びアリーレン）、シクロアルキル、及びアルキル（及びアルキレン）基は、必要に応じて最大４つの置換基を有することができる。これらの置換基の一例としては、ヒドロキシ、メトキシ及び他のアルコキシ基、アリールオキシ基、例えばフェニルオキシ、チオアリールオキシ基、ハロメチル、トリハロメチル、ハロ、ニトロ、アゾ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ基、例えばチオメチル、シアノ、アミノ、カルボキシ、エテニル及び他のアルケニル基、カルボキシアルキル、アリール基、例えばフェニル、アルキル基、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロアリール、及び複素脂環式基が挙げられる。
【００８６】
画像形成性要素は、１種又は２種以上のアミノ安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸、アミノサリチル酸、インドール酢酸、アニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、又はこれらの任意の組み合わせを、現像性向上化合物として含むことができる。例えば、このような化合物の一例としては、４−アミノ安息香酸、４−（Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノ）安息香酸、アニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、３−インドール酢酸、及び４−アミノサリチル酸が挙げられる。
【００８７】
さらに他の有用な現像性向上化合物は、酸性現像性向上化合物（ＡＤＥＣ）、例えばカルボン酸又は環状酸無水物、スルホン酸、スルフィン酸、アルキル硫酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、ホスホン酸エステル、フェノール、スルホンアミド、又はスルホンイミドとの組み合わせで使用することも可能である。それというのも、このような組み合わせは、さらに改善された現像ラチチュード及び印刷耐久性を許すことができるからである。このような化合物の代表例は、米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書（上記）の［００３０］〜［００３６］において示されている。これを酸性現像性向上化合物に関して本明細書中に引用する。
【００８８】
ここでもまた、現像性向上化合物は、同一譲受人による同時係属中の米国特許出願第１１／６７７，５９９号明細書（上記）に記載された塩基性現像性向上化合物であってよい。このような化合物は、下記構造（ＢＤＥＣ）によって規定することができ、
【００８９】
【化９】
【００９０】
上記ｔは１〜６であり、ｓは０、１、又は２であり、そしてｖは１〜３であり、但しｓとｖとの和が３であることを条件とする。ｓが１である場合には、Ｒ7は、水素、又はアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、そして、ｓが２である場合には、複数のＲ7基は、同じか又は異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、或いは、２つのＲ7基は、窒素原子と一緒に、置換型又は無置換型の複素環を形成することもできる。Ｒ8及びＲ9は独立して水素、又はアルキル基である。
【００９１】
このような有機ＢＤＥＣ化合物の例は、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシメチル−１．３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミン、３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］プロピオニトリル、及びヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジンである。これらの化合物のうちの２種又は３種以上の混合物も有用である。
【００９２】
輻射線感光性組成物は、画像形成性層に関して下で説明する他の添加物を必要に応じて含むことができる。
【００９３】
一般に、画像形成性要素は、画像形成性層を形成するために、１種又は２種以上のポリ（ビニルアセタール）樹脂を含む１種又は２種以上の高分子バインダー、１種又は２種以上の現像性向上化合物、及び輻射線吸収化合物（下記）、並びに他の任意選択的な添加物（例えばフェノール樹脂、コントラスト色素、着色剤、顔料、又はこれらのうちのいずれか）を、好適な基板に好適に適用することによって形成される。この基板は、配合物の適用の前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布することができる。例えば、基板は、改善された付着性又は親水性のために「中間層」を提供するように処理することができ、そして画像形成層は中間層上に適用される。
【００９４】
基板は一般に、親水性表面、又は画像形成側上の適用された画像形成用配合物よりも高親水性である表面を有している。基板は、画像形成性要素、例えば平版印刷版を調製するために従来より使用されている任意の材料から構成され得る支持体を含む。基板は通常、シート、フィルム、又はフォイルの形態を成しており、そして強固であり、安定であり、そして可撓性であり、また色記録がフルカラー画像を見当合わせするような使用条件下では耐寸法変化性である。典型的には、支持体は、高分子フィルム（例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー、及びポリスチレンフィルム）、ガラス、セラミック、金属シート又はフォイル、又は硬質紙（樹脂塗布紙及び金属化紙を含む）、又はこれらの材料のうちのいずれかのラミネーション（例えばポリエステルフィルム上へのアルミニウムホイルのラミネーション）を含むいかなる自立型材料であってもよい。金属支持体は、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又はフォイルを含む。
【００９５】
高分子フィルム支持体の一方又は両方の表面を、親水性を高めるために「下塗り」層で改質することができ、或いは、平坦性を高めるために、紙支持体を同様に塗布することができる。下塗り層材料の一例としては、アルコキシシラン、アミノ−プロピルトリエトキシシラン、グリシジオキシプロピル−トリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマー、並びに、ハロゲン化銀写真フィルム内に使用されるコンベンショナルな親水性下塗り材料（例えばゼラチン、及びその他の天然型及び合成型の親水性コロイド、並びに塩化ビニリデンコポリマーを含むビニルポリマー）が挙げられる。
【００９６】
１つの基板は、物理的グレイニング、電気化学的グレイニング、化学的グレイニング、及びこれに続く陽極酸化を含む、当業者に知られた技術によって塗布又は処理することができるアルミニウム支持体から構成される。アルミニウム・シートは、化学的又は電気化学的にグレイニングし、リン酸又は硫酸、及びコンベンショナルな手順を用いて陽極酸化することができる。
【００９７】
例えばケイ酸塩、デキストリン、フッ化カルシウムジルコニウム、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化ナトリウム、ポリ(ビニルホスホン酸)（ＰＶＰＡ）、ビニルホスホン酸コポリマー、ポリ(アクリル酸)、又はアクリル酸コポリマー溶液でアルミニウム支持体を処理することにより、任意選択的な中間層を形成することができる。グレイニング及び陽極酸化が施されたアルミニウム支持体は、表面親水性を改善するために周知の手順を用いてポリ（アクリル酸）で処理することができる。
【００９８】
基板の厚さは多様であることが可能であるが、しかし、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、しかも印刷版の周りに巻き付けるのに十分に薄くあるべきである。好ましい態様は、厚さ１００μｍ〜６００μｍの処理されたアルミニウムホイルを含む。
【００９９】
基板の裏側（非画像形成側）には、画像形成性要素の取り扱い及び「感触」を改善するために、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を被覆することができる。
【０１００】
基板は、輻射線感光性組成物が適用された円筒形表面であってもよく、ひいては印刷プレスの一体部分であってもよい。このような画像形成された胴の使用は、例えば米国特許第５，７１３，２８７号明細書（Gelbart）に記載されている。
【０１０１】
画像形成性層は典型的には、１種又は２種以上の輻射線吸収化合物を含む。これらの化合物は、１５０〜１５００ｎｍの任意の好適なエネルギー形態(例えばＵＶ、可視、及びＩＲ線)に対して感度を有することができるが、これらは典型的には赤外線に対して感度を有し、このように、輻射線吸収化合物は、６００〜１４００ｎｍ、より適切には７００〜１２００ｎｍの輻射線を吸収する赤外線吸収化合物(「ＩＲ吸収化合物」)として知られる。画像形成性層は一般には、画像形成性要素中の最外層である。
【０１０２】
好適なＩＲ吸収化合物の一例としては、例えばアゾ色素、スクアリリウム色素、クロコネート色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、インドリウム色素、オキソノール色素、オキサゾリウム色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、インドシアニン色素、インドトリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、ストレプトシアニン色素、オキサトリカルボシアニン色素、チオシアニン色素、チアトリカルボシアニン色素、メロシアニン色素、クリプトシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポリアニリン色素、ポリピロール色素、ポリチオフェン色素、カルコゲノピリロアリーリデン及びビ(カルコゲノピリロ)ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ピリリウム色素、ピラゾリンアゾ色素、及びオキサジン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、キノンイミン色素、メチン色素、アリールメチン色素、ポリメチン色素、スクアリン色素、オキサゾール色素、クロコニン色素、ポルフィリン色素、及び前記色素クラスの任意の置換形態又はイオン形態を含むＩＲ色素が挙げられる。好適な色素は、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（DeBoer）、及び同第５，２０８，１３５号明細書（Patel他）、同第５，２４４，７７１号明細書（Jandrue Sr.他）、及び同第５，４０１，６１８号明細書（Chapman他）、及び欧州特許出願公開第０ ８２３ ３２７号明細書（Nagasaka他）に開示されている。
【０１０３】
アニオン性発色団を有するシアニン色素も有用である。例えば、シアニン色素は、２つの複素環式基を有する発色団を有することができる。別の態様の場合、シアニン色素は、少なくとも２つのスルホン酸基、例えば２つのスルホン酸基と２つのインドレニン基とを有することができる。このタイプの有用なＩＲ感光性シアニン色素が、米国特許出願公開第２００５−０１３００５９号明細書（Tao）に記載されている。
【０１０４】
好適なシアニン色素の有用なクラスに関する全般的な説明が、国際公開第２００４／１０１２８０号パンフレット（Munnelly他）の［００２６］における式によって示されている。
【０１０５】
低分子量ＩＲ吸収色素に加えて、ポリマーに結合されたＩＲ色素部分を使用することもできる。さらに、ＩＲ色素カチオンを使用することができ、すなわち、このカチオンは、カルボキシ、スルホ、ホスホ、又はホスホノ基を側鎖内に含むポリマーとイオン相互作用する色素塩のＩＲ吸収部分である。
【０１０６】
近赤外線吸収シアニン色素も有用であり、そして例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Hauck他）、同第６，２６４，９２０号明細書（Achilefu他）、同第６，１５３，３５６号明細書（Urano他）、同第５，４９６，９０３号明細書（Watanate他）に記載されている。好適な色素は、コンベンショナルな方法及び出発材料を用いて形成することができ、或いは、American Dye Source（カナダ国ケベック州Baie D'Urfe）及びFEW Chemicals（ドイツ国）を含む種々の商業的供給元から得ることができる。近赤外線ダイオード・レーザービームのための他の有用な色素が、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（上記）に記載されている。
【０１０７】
有用なＩＲ吸収化合物はまた、カーボンブラック、例えば当業者によく知られているように可溶化基で表面官能化されたカーボンブラックを含む種々の顔料を含む。親水性、非イオン性ポリマーにグラフトされるカーボンブラック、例えばFX-GE-003（Nippon Shokubai製）、又はアニオン基で表面官能化されたカーボンブラック、例えばCAB-O-JET（登録商標）200又はCAB-O-JET（登録商標）300（Cabot Corporation製）も有用である。他の有用な顔料としては、ヘリオゲン・グリーン、ニグロシン・ベース、酸化鉄（ＩＩＩ）、酸化マンガン、プリシアン・ブルー、及びパリス・ブルーが挙げられる。顔料粒子のサイズは、画像形成性層の厚さを上回るべきではなく、典型的には、粒子のサイズは、画像形成性層の厚さの半分未満になる。
【０１０８】
画像形成性要素において、輻射線吸収化合物は一般には、０．１〜３０重量％、又は典型的には０．５〜２０重量％の乾燥被覆率で存在する。この目的に必要な特定の量は、使用される具体的な化合物に応じて、当業者には容易に明らかである。
【０１０９】
或いは、輻射線吸収化合物は、単一の画像形成性層と熱的に接触する異なる層内に含まれてもよい。従って画像形成中に、該異なる層内の輻射線吸収化合物の作用を、化合物がもともと内蔵されていない画像形成性層に伝達すことができる。
【０１１０】
画像形成性層は、着色剤色素として作用する１種又は２種以上の追加の化合物を含むこともできる。アルカリ現像剤中に可溶性の着色剤色素が有用である。着色剤色素のための有用な極性基の一例として、エーテル基、アミン基、アゾ基、ニトロ基、フェロセニウム基、スルホキシド基、スルホン基、ジアゾ基、ジアゾニウム基、ケト基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基、トリアリールメタン基、オニウム基（例えばスルホニウム、ヨードニウム、及びホスホニウム基）、窒素原子が複素環内に内蔵されている基、及び正電荷原子を含有する基（例えば四級化アンモニウム基）が挙げられる。溶解抑制剤として有用な正電荷窒素原子を含有する化合物は、例えばテトラルキルアンモニウム化合物、及び四級化複素環化合物、例えばキノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリウム化合物を含む。有用な着色剤色素は、トリアリールメタン色素、例えばエチル・バイオレット、クリスタル・バイオレット、マラカイト・グリーン、ブリリアント・グリーン、ビクトリア・ブルーＢ、ビクトリア・ブルーＲ、及びビクトリア・ピュアブルーＢＯ、BASONYL（登録商標）バイオレット610及びD11(仏国Longjumeau在、PCAS)を含む。これらの化合物は、現像された画像形成性要素内の非露光（非画像形成）領域を露光された（画像形成された）領域から区別するコントラスト色素として作用することもできる。
【０１１１】
いくつかの態様の場合、画像形成性層は赤外線吸収化合物を含み、さらに着色剤を含み、そして赤外線吸収化合物及び着色剤のうちの少なくとも一方が顔料であるか、或いはその両方が顔料である。
【０１１２】
着色剤色素が画像形成性層内に存在する場合には、その量は極めて多様であり得るが、しかし一般には、（総乾燥層重量を基準として）０．５重量％〜３０重量％の量で存在する。
【０１１３】
画像形成性層はさらに、分散剤、保湿剤、殺生物剤、可塑剤、塗布可能性又はその他の特性のための非イオン性又は両性界面活性剤（例えばフルオロポリマー）、耐摩耗性ポリマー（例えばポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミド、及びアクリル樹脂）、粘度形成剤、充填剤及び増量剤、書き込まれた画像の視覚化を可能にするための色素又は着色剤、ｐＨ調整剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、現像助剤、レオロジー調整剤、又はこれらの組み合わせ、又は平版印刷分野において共通に使用される任意のその他の添加物を、コンベンショナルな量（例えばNagashimaの米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書に記載）で含む種々の添加剤を含む。
【０１１４】
ポジ型画像形成性要素は、コンベンショナルな塗布法又はラミネーション法を用いて、基板の表面（及び表面上に設けられた任意のその他の親水性層）の上方に画像形成性層配合物を適用することにより調製することができる。こうして、好適な塗布用溶剤中に所望の成分を分散又は溶解させることにより配合物を適用することができ、そして結果として生じた配合物は、好適な装置及び手順、例えばスピン塗布、ナイフ塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、バー塗布、ワイヤロッド塗布、ローラ塗布、又は押し出しホッパー塗布を用いて、基板に適用される。配合物は、好適な支持体（例えば機上印刷シリンダ）上に噴霧することにより適用することもできる。
【０１１５】
単一の画像形成性層の塗布重量は、０．５〜３ｇ／ｍ2、好ましくは１〜２ｇ／ｍ2である。
【０１１６】
層配合物を塗布するために使用される溶剤は、配合物中の高分子バインダー及びその他の高分子材料及び非高分子成分の性質に応じて選択される。一般に、画像形成性層配合物は、当業者によく知られている条件及び技術を用いて、アセトン、メチルエチルケトン、又は別のケトン、テトラヒドロフラン、１−メトキシプロパン−２−オール（又は１−メトキシ−２−プロパノール）、Ｎ−メチルピロリドン、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、γ−ブチロラクトン、及びこれらの混合物から塗布される。
【０１１７】
或いは、それぞれの層組成物の溶融混合物からコンベンショナルな押し出し塗布法によって層を適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は、揮発性有機溶剤を含有しない。
【０１１８】
他の配合物の塗布前に溶剤を除去するために、種々の層配合物の適用間に、中間乾燥工程を用いることができる。乾燥工程は、種々の層の混和を防止するのを助けることもできる。
【０１１９】
ポジ型単層画像形成性要素を調製して使用する代表的な方法を、下記例において説明する。
【０１２０】
基板上で画像形成性層配合物を乾燥させた後（すなわち、塗膜が自己支持になり、指触乾燥状態になった後）、要素を少なくとも４時間、典型的には少なくとも２０時間にわたって、又は少なくとも２４時間にわたって、４０℃〜９０℃（典型的には５０〜７０℃）で熱処理する。最大熱処理時間は９６時間もの長さであってよいが、しかし熱処理のための最適な時間及び温度は、日常の試験によって容易に決定することができる。このような処理は、例えば欧州特許第８２３，３２７号明細書（Nagasaka他）及び同第１，０２４，９５８号明細書（McCullough他）に記載されている。
【０１２１】
熱処理中、画像形成性要素は、前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリアを形成するために、不透水性シート材料内に包まれるか又は収容される。画像形成性要素の個々のスタック又はコイル体のためのこのコンディショニング法の更なる詳細は、米国特許第７，１７５，９６９号明細書（Ray他）に記載されている。
【０１２２】
画像形成
本発明の実施に使用される画像形成性要素は、例えば印刷版前駆体、印刷胴、印刷スリーブ、及び印刷テープ（可撓性印刷ウェブを含む）を含むいかなる有用な形態をも有することができる。例えば、画像形成性部材は、平版印刷版を形成するように設計された平版印刷版前駆体である。
【０１２３】
印刷版前駆体は、好適な基板上に配置された所要の画像形成性層を有する、任意の有用なサイズ及び形状（例えば正方形又は長方形）から成ることができる。印刷胴及びスリーブは、円筒形態の基板と画像形成層とを有する回転印刷部材として知られる。印刷スリーブのための基板として、中空又は中実の金属コアを使用することができる。
【０１２４】
使用中、画像形成性要素は、輻射線感光性組成物中に存在する輻射線吸収化合物に応じて、波長１５０〜１５００ｎｍの輻射線、例えばＵＶ、可視線、又は赤外線の好適な源に暴露される。大抵の態様の場合、画像形成は、波長７００〜１４００ｎｍの赤外線又は近赤外線レーザーを使用して行われる。画像形成部材に露光を施すために使用されるレーザーは、ダイオード・レーザー・システムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、ダイオード・レーザーであることが可能であるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に入手可能なイメージセッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザー・ダイオードは、波長８００〜８５０ｎｍ又は１０６０〜１１２０ｎｍの赤外線を放射する。
【０１２５】
画像形成装置は、プレートセッターとしてだけ機能することができ、或いは、平版印刷機内にこれを直接的に内蔵することもできる。後者の場合、印刷は画像形成直後に開始することができ、これにより印刷機設定時間をかなり軽減することができる。画像形成装置は、画像形成性部材をドラムの内側又は外側の円筒面に装着した状態で、平床型記録器として、又はドラム型記録器として構成することができる。有用な画像形成装置は、波長約８３０ｎｍの近赤外線を発光するレーザー・ダイオードを含有する、Eastman Kodak Company（カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby）から入手可能なKodak（登録商標） Trendsetterイメージセッターのモデルとして入手することができる。他の好適な輻射線源は、波長１０６４ｎｍで作動するCrescent 42T プレートセッター（イリノイ州Chicago在、Gerber Scientificから入手可能）、及びScreen PlateRite 4300シリーズ又は8600シリーズのプレートセッター（イリノイ州Chicago在、Screenから入手可能）を含む。追加の有用な輻射線源は、要素が印刷版胴に取り付けられている間に要素に画像を形成するために使用することができるダイレクト画像形成プレスを含む。好適なダイレクト画像形成プレスの例は、Heidelberg SM74-DIプレス（オハイオ州Dayton在、Heidelbergから入手可能）を含む。
【０１２６】
ＩＲ画像形成スピードは、最大３００ｍＪ／ｃｍ2、又は典型的には１００〜２５０ｍＪ／ｃｍ2となることができる。
【０１２７】
画像形成は一般に、ダイレクト・デジタル画像形成によって実施される。画像信号は、コンピュータ上のビットマップ・データ・ファイルとして記憶される。このようなファイルは、ラスター画像プロセッサー（ＲＩＰ）、又はその他の好適な手段によって生成することができる。ビットマップは、カラーの色相、並びにスクリーンの周波数及び角度を規定するために構成される。
【０１２８】
現像及び印刷
画像形成性要素に画像を形成することにより、画像形成された（露光された）領域と非画像形成（非露光）領域とから成る潜像を含む画像形成された要素を生成する。好適な現像溶液（下で説明する）を用いて画像形成された要素を処理することによって、主として画像形成性層及びその下側の任意の層の露光された領域だけを除去し、ひいて基板の親水性表面を露出させる。従って、このような画像形成性要素は、「ポジ型」である（例えば「ポジ型」平版印刷版前駆体）。
【０１２９】
従って、処理は、画像形成性層の主として画像形成された（露光された）領域だけを除去するのに十分な時間にわたって、しかし当業者には明らかなように、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域の大部分を除去するほどには長くない時間にわたって実施される。従って、画像形成性層の画像形成された（露光された）領域は、単一の現像溶液中で「可溶性」又は「除去可能」と記述される。なぜならば、これらの領域は、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域よりも容易に、単一の現像溶液中で除去、溶解又は分散されるからである。従って「可溶性」という用語は、「分散性」であることをも意味する。
【０１３０】
画像形成された要素は、ケイ酸塩及びメタケイ酸塩を含まない現像溶液、又は大抵のコンベンショナルな現像剤中に見いだされる他の無機塩基を含まない現像溶液を使用して現像される。現像溶液のｐＨは一般に１２未満であり、概ね１１〜１１．９であり、そして例えば１１．４〜１１．７又は少なくとも１２未満である。
【０１３１】
現像溶液は、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はこれらのアミンのうちのいくつかのアミンの混合物を含み、それらの共役酸のｐＫａは９を上回り、そして沸点は１５０℃を上回る。有用な有機アミンの一例としては、エタノールアミン、４−アミノピリジン、１，５−ジアミノペンタン、４−（２−アミノエチル）フェノール、１−エフェドリン、２−（エチルアミノ）エタノール、３−アミノ−１−プロパノール、及び２−（２−アミノエチルアミノ）エタノールが挙げられる。共役酸のｐＫａ値及び沸点を考察することにより、他の有用な有機アミンは容易に割り出される。
【０１３２】
現像溶液内の有機アミンの濃度は一般に、少なくとも０．０３Ｎ且つ１．５Ｎ以下であり、典型的には０．０７〜０．６Ｎである。
【０１３３】
処理（現像）は一般に、穏やかな条件下で実施される。例えば、最大３５℃、典型的には２３〜３０℃で、少なくとも０．５分間〜最大３分間（３分間を含む）にわたって処理を行うことができる。
【０１３４】
いくつかの態様の場合、有機溶剤を含有する現像溶液も使用される。水混和性溶剤、例えばベンジルアルコールが存在する場合、これらは最大３重量％又は典型的には最大１重量％の量で存在する。存在してよい他の水混和性溶剤の一例としては、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドとのフェノールの反応生成物［例えばエチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）］、エチレングリコール及びプロピレングリコールの炭素原子数６以下の酸とのエステル、及び炭素原子数６以下のアルキル基を有する、エチレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールのエーテル、例えば２−エチルエタノール、及び２−ブトキシエタノールが挙げられる。単一有機溶剤又は有機溶剤の混合物を使用することができる。「水混和性」によって、我々は、有機溶剤又は有機溶剤の混合物が、水と混和可能であるか、又は相分離が発生しないほど十分に現像溶液中に可溶性であることを意味する。
【０１３５】
いくつかの態様の場合、現像溶液は、主として露光された領域だけを除去することにより、画像形成された要素を「現像」し、そしてまた、画像形成され、現像された表面全体に保護層又は保護塗膜も提供する。この態様において、単一の現像溶液は多少、印刷版上のリソグラフィ画像を汚染又は損傷から（例えば酸化、指紋、ダスト、又は引掻き傷から）保護することができるガムのように挙動することができる。
【０１３６】
一般に、当業者に知られている２つのタイプの「ガム」溶液がある。すなわち、（１）「ベーク」、「ベーキング」、又は「前ベーク」ガムは、平版印刷版を形成するために用いられる通常の前ベーク温度では蒸発しない１種又は２種以上の化合物、典型的にはアニオン性又は非イオン性界面活性剤を通常含有し、そして（２）「仕上げ剤」ガムでは、印刷版上に保護上塗り層を提供するのに有用な、１種又は２種以上の親水性ポリマー（例えばアラビアゴム、セルロース化合物、（メタ）アクリル酸ポリマー、及び多糖）を通常含有する。
【０１３７】
さらに、このような態様の１つの利点は、現像溶液がこのように使用されると、結果として生じる平版印刷版を印刷のために使用する前に、別個の濯ぎ工程が必要でなくなることである。しかしながら、印刷前に、拭い取るか又は装置内のスクイージー又はニップローラ対を使用し、次いで、任意の好適な乾燥手段を使用して必要に応じて乾燥させることにより、いかなる余剰の現像溶液も平版印刷版から除去することができる。この現像溶液は再循環させ、複数回再利用し、必要な場合には補充又は再生し、又は単回使用後に廃棄される新鮮な試料として使用することができる。
【０１３８】
現像溶液は、希釈形態又は濃縮形態で提供されてよい。下記成分量は、本発明の実施において使用する際にとる可能性の高い形態である希釈現像溶液中の量を意味する。ただし言うまでもなく、本発明は濃縮現像溶液を使用することを含んでおり、そして種々の成分（例えば有機アミン及び界面活性剤）の量はこれに相応して高くなる。
【０１３９】
現像機能及びガミング機能を提供するために、現像溶液中には種々の成分が存在することが可能である。
【０１４０】
例えば、現像溶液は主要成分として、１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤を有している。有用なアニオン性界面活性剤は、カルボン酸、スルホン酸、又はホスホン酸基（又はこれらの塩）を有する界面活性剤を含む。スルホン酸基（又はこの塩）を有するアニオン界面活性剤が特に有用である。例えば、このようなアニオン界面活性剤は、脂肪酸塩、アビエテート、ヒドロキシアルカンスルホネート、アルカンスルホネート、ジアルキルスルホスクシネート、アルキルジフェニルオキシドジスルホネート、直鎖状アルキルベンゼンスルホネート、分枝状アルキルベンゼンスルホネート、アルキルナフタレンスルホネート、アルキルフェノキシポリオキシ−エチレンプロピルスルホネート、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテルの塩、ナトリウムＮ−メチル−Ｎ−オレイルタウレート、モノアミドジナトリウムＮ−アルキルスルホスクシネート、石油スルホネート、硫酸化ひまし油、硫酸化タロー油、脂肪族アルキルエステルの硫酸エステルの塩、アルキル硫酸エステルの塩、ポリオキシ−エチレンアルキルエーテルの硫酸エステル、脂肪族モノグリセリドの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルの硫酸エステルの塩、アルキルリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルのリン酸エステルの塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルのリン酸エステルの塩、無水スチレンマレイン酸コポリマーの部分鹸化化合物、オレフィン−無水マレイン酸コポリマーの部分鹸化化合物、ナフタレンスルホネートホルマリン縮合物を含むことができる。アルキルジフェニルオキシドジスルホネート（例えばナトリウムドデシルフェノキシベンゼンジスルホネート）、アルキル化ナフタレンスルホン酸、硫酸化アルキルジフェニルオキシド、及びメチレンジナフタレンスルホン酸が、一次又は「第１」アニオン性界面活性剤として特に有用である。このような界面活性剤は、McCutcheon's Emulsifiers & Detergents, 2007 Editionに記載されているように、種々の供給元から入手することができる。
【０１４１】
このような界面活性剤の具体例としては、ナトリウムドデシルフェノキシオキシベンゼンジスルホネート、アルキル化ナフタレンスルホネートのナトリウム塩、ジナトリウムメチレン−ジナフタレンジスルホネート、ナトリウムドデシルベンゼンスルホネート、スルホン化アルキル−ジフェニルオキシド、アンモニウム又はカリウムペルフルオロアルキルスルホネート及びナトリウムジオクチルスルホスクシネートが挙げられる。
【０１４２】
１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤は、少なくとも０．５重量％、そして典型的には５重量％又は８重量％から、最大４５重量％又は最大３０重量％まで（固形分％）の量で一般に存在することができる。いくつかの態様の場合、１種又は２種以上のアニオン性界面活性剤は、８〜２０重量％の量で存在することができる。
【０１４３】
２種又は３種以上のアニオン性界面活性剤（「第１」、「第２」など）を組み合わせて使用することもできる。このような混合物において、第１アニオン性界面活性剤、例えばアルキルジフェニルオキシドジスルホネートは一般に、少なくとも１重量％、そして典型的には５〜２０重量％の量で存在することができる。第２界面活性剤は少なくとも１重量％、そして典型的には３〜３０重量％の総量で存在することができる（第１アニオン性界面活性剤と同じか又は異なる）。置換型芳香族アルカリアルキルスルホネート及び脂肪族アルカリスルフェートから、第２の又は追加のアニオン性界面活性剤を選択することができる。アニオン性界面活性剤の１つの具体的な組み合わせは、１種又は２種以上のアルキルジフェニルオキシドジスルホネートと、１種又は２種以上の芳香族アルカリアルキルスルホネート（例えばアルカリアルキルナフタレンスルホネート）とを含む。
【０１４４】
本発明において有用な現像溶液は、欧州特許第１，７５１，６２５号明細書（上記）の［００２９］に記載された非イオン性界面活性剤又は［００２４］に記載された親水性ポリマーを含んでいてよい。特に有用な非イオン性界面活性剤は、Mazol（登録商標） PG031-K (トリグリセロールモノオレエート）、Tween（登録商標） 80（ソルビタン誘導体）、Pluronic（登録商標） L62LF（プロピレンオキシドとエチレンオキシドとのブロック・コポリマー）、及びZonyl（登録商標） FSN（フルオロカーボン）、及び印刷版表面上に現像溶液を成功裡に塗布するための非イオン性界面活性剤、例えば非イオン性ポリグリコールを含む。これらの非イオン性界面活性剤は、最大１０重量％、しかし通常は２重量％未満の量で存在することができる。
【０１４５】
保護塗膜を提供するために現像溶液中に存在してよい他の添加剤は、水溶性膜形成疎水性ポリマーを含む。このポリマーの一例としては、アラビアゴム、プルラン、セルロース誘導体、澱粉誘導体、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルピロリドン）、ポリヒドロキシ化合物、例えば多糖、アクリル酸及びメタクリル酸又はアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、及び当業者には容易に明らかな、そのいくつかが例えば欧州特許出願公開第１，８６８，０３６号明細書（Baumann他）の［０１０４］〜［０１１４］に記載されている種々様々な他の化合物が挙げられる。
【０１４６】
現像溶液の他の任意選択の成分は、無機塩（例えば、上記米国特許出願公開第２００５／０２６６３４９号明細書の［００３２］に記載されたもの）、湿潤剤（例えばグリコール）、金属キレート剤、防腐剤、有機アミン、消泡剤、インク受容性剤（例えば米国’３４９の［００３８］に記載されたもの）、及び上記のような粘度増大剤を含む。このような成分の有用な量は、当業者に知られている。他の有用な添加物の一例としては、ホスホン酸又はポリカルボン酸、又は上記アニオン性界面活性剤とは異なるこれらの塩が挙げられる。このようなポリ酸は、少なくとも０．００１重量％、そして典型的には０．００１〜１０重量％（固形分％）の量で存在することができ、そして例えばポリアミノポリカルボン酸、アミノポリカルボン酸、又はこれらの塩、［例えばエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ又はその塩、例えばナトリウム塩）］、有機ホスホン酸、及びこれらの塩、及びホスホノアルカン三酢酸及びこれらの塩を含むことができる。
【０１４７】
現像溶液は、ラビング、噴霧、噴射、ディップ、浸漬、スロットダイ塗布（例えばMaruyama他の米国特許第６，４７８，４８３号明細書の図１及び２参照）、又はリバースロース塗布（Kurui他の米国特許第５，８８７，２１４号明細書の図４に記載）によって、又は外層を現像溶液で拭うか、又はガムを含有するローラ、含浸パッド、又はアプリケータを外層に接触させることにより、画像形成された要素に適用することができる。例えば、画像形成された要素には、現像溶液をブラシ塗布することができ、或いは、例えば欧州特許第１，７８８，４３１号明細書（上記）の［０１２４］及び米国特許第６，９２２，６８８号明細書（Shimazu他）に記載されているようなスプレーノズルシステムを使用して、非露光された領域を除去するのに十分な力で画像形成された表面に噴霧することにより、現像溶液を画像形成された要素上に注ぐか、又は適用することもできる。ここでもやはり、画像形成された要素は、現像溶液中に浸漬し、そして手によって又は装置を用いて擦り着けることができる。
【０１４８】
現像溶液は、好適な装置内の処理ユニット（又はステーション）内で適用することもできる。この処理ユニットは、現像溶液が適用される間、画像形成された要素を擦るか又はブラッシングするための少なくとも１つのローラを有している。このような処理ユニットを使用することにより、画像形成された層の非露光領域は、基板からより完全且つ迅速に除去することができる。残留現像溶液は除去されてよく（例えばスクイージー又はニップローラを使用して）、又はいかなる濯ぎ工程もなしに、結果としての印刷版上に残されてもよい。余剰の現像溶液をタンク内に集め、そして数回使用し、必要な場合にはリザーバーから補充することができる。補充現像溶液は、処理中に用いられるのと同じ濃度を有することができ、或いは濃縮形態で提供して適当な時に水で希釈することもできる。
【０１４９】
現像溶液が画像形成された要素を現像するが、しかしガミング処理を提供することはない態様の場合、処理に続いて、通常の手順を用いて、周知のガミング溶液でガミング工程を実施することができる。
【０１５０】
結果として印刷版は、後ベーキング操作時にベーキングすることもでき、このベーキングは、周知の条件を用いた、ＵＶ線又は可視線によるブランケット又はフラッド状の露光を伴うか、又は伴わずに実施することができる。或いは後ベーキング操作なしで、ブランケットＵＶ線又は可視線による露光を実施することもできる。
【０１５１】
画像形成され現像処理された要素の印刷面に、平版印刷インク及び湿し水溶液を適用することにより印刷が達成される。画像形成された領域、すなわち画像形成・処理工程によって露出された親水性基板の表面によって、湿し水溶液が取り込まれ、そして画像形成された層の非画像形成（非除去）領域はインクを取り込む。インクは次いで、その上に画像の所望の刷り（インプレッション）を提供するために、好適な受容材料（例えば布地、紙、金属、ガラス、又はプラスチック）に転写される。所望の場合、画像形成された部材から受容材料へインクを転写するために、中間「ブランケット」ローラを使用することができる。画像形成性部材は、所望の場合には、コンベンショナルなクリーニング手段を使用して、刷りの間にクリーニングすることができる。
【０１５２】
下記例は、本発明の実施を例示するために提供されるものであって、本発明を限定しようと意図するものでは決してない。
【実施例】
【０１５３】
例：
下記例を調製して実証する上で、下記材料を使用した：
BF-03は、加水分解率９８％、重量平均分子量１５，０００のポリビニルアルコール（Chang Chun Petrochemical Co. LTD）である。
クリスタル・バイオレットは、ヘキサメチルパラロサニリンクロリド（Aldrich Chemical Co.)である。
ＤＭＳＯは、ジメチルスルホキシド（Aldrich Chemical Co.)を表す。
ＤＭＡＢＡは、４−（ジメチルアミノ）安息香酸（Aldrich Chemical Co.)を表す。
LB 9900は、レゾール樹脂（Hexion AG）である。
【０１５４】
Ｍ−１は、３．２％のエタノールアミン、０．６％のジエタノールアミン、１％のベンジルアルコール、及び１％のPelex NBLを水中に含有した。
Ｍ−２は、１．５％のエタノールアミンをMX1591 Gum中に含有した。
Ｍ−３は、１％のベンジルアルコール、０．２％のエタノールアミン、０．６％のジエタノールアミン、０．８％の２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、及び１％のPelex NBLを水中に含有した。
Ｍ−４は、０．５％のエタノールアミンをMX1591 Gum中に含有した。
Ｍ−５は、０．５９Ｎのエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
【０１５５】
Ｍ−６は、０．５９Ｎのジエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
Ｍ−７は、０．５９Ｎのトリエタノールアミンを、１％ベンジルアルコール及び１％Pelex NBLの水溶液中に含有した。
ＭＥＫは、メチルエチルケトン（Aldrich Chemical Co.)を表す。
ＭＳＡは、メタンスルホン酸（９９％）（Aldrich）を表す。
MX1591 Gumは、Eastman Kodak Co. (Rochester, NY)から入手可能な前ベークガム溶液である。
【０１５６】
Pelex NBLは、Kao Chemicalsによって製造されたアニオン性界面活性剤である。
N-Phenylimino D.A.はＮ−フェニルイミノ二酢酸を表す。
PF 652は、PolyFox（登録商標）界面活性剤（Omnova）である。
Pig-951-B-18は、ポリビニルアセタールポリマーのＰＭ溶液中に前分散された銅フタロシアニン顔料（１７．２％）である。
ＰＭは１−メトキシ−２−プロパノール、溶剤、Arcosolv（登録商標） PMを表す（Lyondell）。
S 0094は、赤外線吸収色素FEW（λmax＝８１３ｎｍ）(FEW Chemicals）である。
Sudan Black Bは、中性ジアゾ色素（C. I. 26150)（Aldrich Chemical Co.)である。
ＴＥＡはトリエタノールアミン（Aldrich Chemical Co.)である。
【０１５７】
ポリマーＡの調製：
２０ｇのBF-03ポリビニルアルコールを、水冷凝縮器、滴下漏斗、及び温度計を備えた、ＤＭＳＯ（１７０ｇ）を含有する反応容器に添加した。連続的に攪拌しながら、混合物をこれが透明な溶液になるまで、８０℃で３０分間にわたって加熱した。次いで温度を６０℃に調節し、そしてＭＳＡ（１．０ｇ）を添加した。１５分間にわたって、反応混合物にＤＭＳＯ（２０ｇ）中のブチルアルデヒド（５．６ｇ）の溶液を添加し、そしてこれを３０分間にわたって５５〜６０℃で維持した。２−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアルデヒド（５−ニトロ−サリチル酸アルデヒド、１８．７８ｇ）及びＤＭＳＯ（４０ｇ）を反応混合物に添加し、そしてこれを１時間にわたって５５〜６０℃で維持した。次いで、反応混合物をアニゾール（１４０ｇ）で希釈し、そして真空蒸留を開始した。アニゾール：水共沸混合物を反応混合物から蒸留した（０．１％未満の水が溶液中に残った）。反応混合物を室温まで冷却し、そしてＤＭＳＯ（１２０ｇ）中に溶解されたＴＥＡ（２ｇ）で中和し、次いで３．２ｋｇの水とブレンドした。結果として生じた沈殿ポリマーを水で洗浄し、濾過し、そして５０℃で２４時間にわたって真空中で乾燥させることにより、２９．７ｇの乾燥ポリマーＡを得た。ポリマーＡ中の反復単位Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの比を、1Ｈ ＮＭＲによって割り出し、次のように示す。
【０１５８】
【化１０】
ポリマーＡ ｋ＝２％、１＝３１％、ｍ＝３７％、ｎ＝３０％
【０１５９】
発明例１：
下記手順によって画像形成性要素を調製した。下記成分から塗布用溶液を調製する：
【０１６０】
【表１】
【０１６１】
配合物を濾過し、そして一般的な方法によってリン酸ナトリウム／フッ化ナトリウムの水溶液を使用した後処理を施されている、電気化学的粗面化・陽極酸化アルミニウム基板に適用し、そして塗膜を、Glunz&Jensen “Unigraph Quartz”炉内で、８０℃で３０秒間にわたって乾燥させた。画像形成性層の重量は約１．５ｇ／ｍ2であった。結果として生じた画像形成性要素を、２日間にわたって６０℃で、ＲＨ２８％で間紙とともにコンディショニングした。
【０１６２】
画像形成性要素を、６０ｍＪ／ｃｍ2〜１８０ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー範囲で、Kodak（登録商標） Lotem 400 Quantum画像形成装置上で露光し、そしてＭ−１溶液を使用して平皿内で３０℃で、３０秒間にわたって現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例１に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６３】
発明例２：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、ガムＭ−２溶液を使用して平皿内で２６℃で、５０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例２に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６４】
発明例３：
発明例１に記載されているように画像形成性要素を調製したが、しかし下記の画像形成性層塗布用溶液を使用した：
【０１６５】
【表２】
【０１６６】
ガムＭ−３溶液を使用して平皿内で３０℃で、４０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例３に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１６７】
発明例４：
発明例１に記載されているように画像形成性要素を調製したが、しかし下記の画像形成性層塗布用溶液を使用した：
【０１６８】
【表３】
【０１６９】
ガムＭ−４溶液を使用して平皿内で３０℃で、４０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例４に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７０】
発明例５：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、ガムＭ−５溶液を使用して平皿内で３０℃で、６０秒間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。発明例５に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７１】
比較例１：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、Ｍ−６溶液を使用して平皿内で３０℃で、１０分間にわたって画像形成された要素を現像した。印刷版を水で洗浄した後、これを、感度（クリアリング・ポイント：画像形成された領域が現像剤によって完全に除去される際の最低画像形成エネルギー）、リニアリティ・ポイント（２００ ｌｐｉスクリーンにおける５０％のドットが５０％±０．２％のドットとして再現されるエネルギー）、及び非画像形成領域内のシアン密度損失に関して評価した。比較例１に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７２】
比較例２：
発明例１におけるように画像形成性要素を調製したが、しかしこの場合には、Ｍ−７溶液を使用して３０℃で１０分間にわたって、（発明例５と同様に）画像形成された要素を平皿内に浸した。次いで印刷版を水で洗浄したが、しかし画像は得られなかった。比較例２に関して得られた結果を下記表Ｉに示す。
【０１７３】
【表４】
【０１７４】
表１の結果が示すように、ポリマーＡを含有する配合物で調製された画像形成性要素は、アミンを基剤とするＭ−１又はＭ−３現像剤で現像（潜像を露わにする）することができ、又はアミンとガミング化合物とを含有するガムＭ−２又はＭ−４で単一工程で現像及びガミング処理を施すことができる。加えて、発明例５に関して得られた結果を比較例１及び２の結果と比較すると、上記の印刷版を効率的に現像するためには、その共役酸のｐＫａ値が９を上回る、有機アミン（例えばエタノールアミン）を含有する現像剤が必要とされることが判る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
要素に画像を形成する方法であって：
Ａ） 親水性表面と赤外線吸収化合物とを有し、そして前記親水性表面上に、現像性向上化合物と、反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むポリ（ビニルアセタール）とを含む画像形成性層を有する基板を含んで成る赤外線感光性ポジ型画像形成性要素を像様露光することにより、前記画像形成性層内に露光された領域及び非露光領域を提供する工程、そして
Ｂ） 前記像様露光された画像形成性要素に現像溶液を適用することによって、前記露光された領域内において、前記画像形成性層を除去し、そしてこれにより主として前記親水性表面のみを露出させる工程、
を含み、
前記現像溶液が、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はその混合物を含み、それらの共役酸が９を超えるｐＫａ及び１５０℃を超える沸点を有する、
要素に画像を形成する方法。
【請求項２】
前記ポリ（ビニルアセタール）が、１つ又は２つ以上のニトロ基で置換されたペンダント・フェノール基を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機アミンがエタノールアミンである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記現像溶液が、最大３重量％の１種又は２種以上の水混和性有機溶剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記現像溶液が、少なくとも０．５重量％の１種又は２種以上の界面活性剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記現像溶液が、前記露光された領域において、前記親水性表面上に保護層を提供するために、不揮発性材料をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記有機アミンが、０．０３〜１．５Ｎの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記有機アミンが、０．０７〜０．６Ｎの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリ（ビニルアセタール）が、下記構造（ＰＶＡｃ）：
【化１】
によって表される反復単位を、総反復単位を基準として少なくとも４０モル％且つ最大８０モル％含み、
上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基であり、そしてＲ3は、１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたフェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である、
請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基が、１〜３つのニトロ基で置換されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
Ｒ3が、１つのニトロ基で置換されたフェノール基である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記画像形成性要素が、波長７００〜１４００ｎｍで画像形成され、そして前記赤外線吸収化合物が、前記画像形成性層内に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板がアルミニウムを含み、そして親水性表面を有し、前記画像形成性層がその上に配置されている、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記画像形成性層が、前記赤外線吸収化合物を含み、そして着色剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記赤外線吸収化合物及び前記着色剤のうちの一方又は両方が顔料である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記現像溶液が無機塩基及びケイ酸塩を実質的に含まない、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記現像溶液のｐＨが１１〜１２未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記現像溶液のｐＨが１１．４〜１１．７である、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記有機アミンが、０．０７〜０．６Ｎの量で存在し、そして前記現像溶液のｐＨが１１．４〜１２未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項１】
要素に画像を形成する方法であって：
Ａ） 親水性表面と赤外線吸収化合物とを有し、そして前記親水性表面上に、現像性向上化合物と、反復単位の少なくとも２５モル％が１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたペンダント・フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基を含むポリ（ビニルアセタール）とを含む画像形成性層を有する基板を含んで成る赤外線感光性ポジ型画像形成性要素を像様露光することにより、前記画像形成性層内に露光された領域及び非露光領域を提供する工程、そして
Ｂ） 前記像様露光された画像形成性要素に現像溶液を適用することによって、前記露光された領域内において、前記画像形成性層を除去し、そしてこれにより主として前記親水性表面のみを露出させる工程、
を含み、
前記現像溶液が、少なくとも０．０３Ｎの有機アミン又はその混合物を含み、それらの共役酸が９を超えるｐＫａ及び１５０℃を超える沸点を有する、
要素に画像を形成する方法。
【請求項２】
前記ポリ（ビニルアセタール）が、１つ又は２つ以上のニトロ基で置換されたペンダント・フェノール基を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機アミンがエタノールアミンである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記現像溶液が、最大３重量％の１種又は２種以上の水混和性有機溶剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記現像溶液が、少なくとも０．５重量％の１種又は２種以上の界面活性剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記現像溶液が、前記露光された領域において、前記親水性表面上に保護層を提供するために、不揮発性材料をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記有機アミンが、０．０３〜１．５Ｎの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記有機アミンが、０．０７〜０．６Ｎの量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリ（ビニルアセタール）が、下記構造（ＰＶＡｃ）：
【化１】
によって表される反復単位を、総反復単位を基準として少なくとも４０モル％且つ最大８０モル％含み、
上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基であり、そしてＲ3は、１つ又は２つ以上の電子求引基で置換されたフェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である、
請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基が、１〜３つのニトロ基で置換されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
Ｒ3が、１つのニトロ基で置換されたフェノール基である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記画像形成性要素が、波長７００〜１４００ｎｍで画像形成され、そして前記赤外線吸収化合物が、前記画像形成性層内に存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板がアルミニウムを含み、そして親水性表面を有し、前記画像形成性層がその上に配置されている、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記画像形成性層が、前記赤外線吸収化合物を含み、そして着色剤をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記赤外線吸収化合物及び前記着色剤のうちの一方又は両方が顔料である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記現像溶液が無機塩基及びケイ酸塩を実質的に含まない、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記現像溶液のｐＨが１１〜１２未満である、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記現像溶液のｐＨが１１．４〜１１．７である、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記有機アミンが、０．０７〜０．６Ｎの量で存在し、そして前記現像溶液のｐＨが１１．４〜１２未満である、請求項１に記載の方法。
【公表番号】特表２０１２−５００４１９（Ｐ２０１２−５００４１９Ａ）
【公表日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５２３８１１（Ｐ２０１１−５２３８１１）
【出願日】平成２１年８月１９日（２００９．８．１９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／００４７２０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０２１７０４
【国際公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（５９００００８４６）イーストマン コダック カンパニー (1,594)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月１９日（２００９．８．１９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／００４７２０
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０２１７０４
【国際公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【出願人】（５９００００８４６）イーストマン コダック カンパニー (1,594)
【Ｆターム（参考）】
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