ポリカーボネート積層体およびその製造方法
【構成】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなることを特徴とするポリカーボネート積層体およびその製造方法。
【効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な装置を用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れたポリカーボネート樹脂積層体を提供することが出来る。また、本発明で製造された積層体は、リサイクルすることが可能である。
【効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な装置を用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れたポリカーボネート樹脂積層体を提供することが出来る。また、本発明で製造された積層体は、リサイクルすることが可能である。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ラミネーション成形による耐候性、透明性、リサイクル性に優れたポリカーボネート積層体およびその製造方法に関する。。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、耐熱性などに優れており、建築材料、道路用資材、自動車部品などに広く用いられているが、透明材料であるアクリル樹脂に比べ耐候性に劣っており、その利用分野、特に屋外分野での使用において種々制約を受けている。
【０００３】このため、ポリカーボネート樹脂にアクリル樹脂を共押出する方法（特公昭４７−１９１１９、特開昭５５５９９２９）が提案されているが、ポリカーボネート樹脂の耐衝撃性が著しく低下するとともに、両樹脂の屈折率が相違するため、共押出シートの耳部のリサイクルを行なうと透明感が失われるといった問題がある。
【０００４】一方、紫外線吸収剤を含有してなるポリカーボネート樹脂組成物とポリカーボネート樹脂とを共押出することにより、耐衝撃性の低下防止ならびにリサイクルを可能とする複合体が新たに提案（特開昭５５−５９９２９、特開昭５９−１０１３６０）されているが、共押出法には特殊なダイス構造を有する複雑で、かつ高価な装置ならびに被覆層の厚み調整に高度な技術を必要とするため、工業的生産法としては最良なる方法とは言いがたい。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の問題点に鑑み鋭意研究した結果、特定の紫外線吸収剤を含有してなるポリカーボネートフィルムをポリカーボネート基材にラミネーション成形することにより、ポリカーボネート樹脂本来の特長である透明性、耐衝撃性、耐熱性を保持するとともに優れた耐候性を有し、かつリサイクル可能なポリカーボネート積層体を製造することが出来ることを見出し、本発明に到達したものである。さらに本発明のポリカーボネート積層体の製造方法においては、特殊な共押出装置を必要とせず、従来押出加工に用いられていた装置で積層体を生産することが出来る。
【０００６】すなわち、本発明は、分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなる耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性に優れるポリカーボネート積層体およびその製造方法を提供するものである。
【０００７】以下に、本発明のポリカーボネート積層体およびその製造方法につき、詳細に説明する。
【０００８】本発明において使用されるポリカーボネート樹脂とは、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシジアリール化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸エステルとを反応させるエステル交換法によって得られる重合体であり、代表的なものとしては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）から製造されたポリカーボネート樹脂が挙げられる。
【０００９】上記ジヒドロキシジアリール化合物としては、ビスフェノールＡの他に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパンのようなビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンのようなビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルのようなジヒドロキシジアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィドのようなジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシドのようなジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンのようなジヒドロキシジアリールスルホン類等が挙げられる。
【００１０】これらは単独または２種類以上混合して使用されるが、これらの他に、ピペラジン、ジピペリジルハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル等を混合して使用してもよい。
【００１１】さらに、上記のジヒドロキシアリール化合物と以下に示すような３価以上のフェノール化合物を混合使用してもよい。
【００１２】３価以上のフェノールとしてはフロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゾール、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンおよび２，２−ビス−〔４，４−（４，４’−ジヒドロキシジフェニル）−シクロヘキシル〕−プロパンなどがあげられる。
【００１３】ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は通常１０，０００〜１００，０００、好ましくは１５，０００〜３５，０００である。かかるポリカーボネート樹脂を製造するに際し、分子量調節剤、触媒等を必要に応じて使用することができる。
【００１４】本発明のポリカーボネート積層体およびその製造方法におけるフィルムおよび基材として用いられるポリカーボネート樹脂の組成、分子量には特に制限はなく、同一の組成ならびに分子量を有するポリカーボネート樹脂をフィルムと基材の両方に用いることもできるが、積層体の耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性、さらにはリサイクル性の面より、フィルムと基材におけるポリカーボネート樹脂の組成が同一で、かつフィルムに用いられるポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が、基材におけるそれよりも１０００以上低いことが望ましい。特にフィルムにおけるポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が１０，０００〜３０，０００であることが好ましい。
【００１５】次に、本発明において使用される紫外線吸収剤とは、分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である。分子量３８０未満のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、たとえば分子量３２３の２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールでは、フィルム加工時、ポリカーボネート樹脂組成物の粘度低下が起こり、厚みの均一なフィルムを得ることが出来ない。好ましくは３８０〜７００のものである。
【００１６】なお、分子量３８０以上の紫外線吸収剤でも、ベンゾトリアゾール系以外の化合物、例えばベンゾフェノン系やヒンダードアミン系紫外線吸収剤では、耐候性の改善効果に劣る。
【００１７】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２，２−メチレン−ビス−［６−（２Ｈベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチル）−フェノール］、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３（３，４，５，６−テトラ−ヒドロフタリミド−メチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾールが例示され、一種または二種以上用いることが出来る。
【００１８】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、フィルムを構成するポリカーボネート樹脂組成物に１〜３０重量％含有される。１重量％未満では耐候性に劣り、また３０重量部を越すとフィルム加工が困難となる。耐候性およびフィルム加工性の面よりかかる紫外線吸収剤３〜１５重量％含有のポリカーボネート樹脂組成物が好ましい。
【００１９】ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法には何ら制限はなく、上述の紫外線吸収剤を重合途中又は重合後のポリカーボネート樹脂に配合することにより得ることが出来る。配合に際しては、バンバリーミキサー、押出機、ロール等公知の混合機を用いることが出来る。
【００２０】なお、フィルムとなるポリカーボネート樹脂組成物に対し、必要に応じて他の添加剤、例えば着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤などを適宜配合することも出来る。
【００２１】上述のポリカーボネート樹脂組成物を用いて５〜５００μのフィルムを作成する方法にも特に制限はなく、Ｔダイフィルムキャスト押出機、インフレーションフィルム装置などの公知にフィルム押出装置にて作成することが出来る。
【００２２】５μ未満のフィルムではポリカーボネート積層体の耐候性に劣る。また、５μ未満のフィルム作成自身困難となる。５００μを越すフィルムではラミネーションによる貼合が困難となる。
【００２３】積層材作成までの間、かかるフィルムを巻き取って置く場合には、フィルムの片面または両面にシボ加工を施したり、あるいは樹脂組成物中に酸化ケイ素などのフィルム滑性剤を含有させることによって、フィルム巻取り性を向上させることが望ましい。
【００２４】基材となるポリカーボネート樹脂に対しても、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤などの公知の添加剤を、バンバリーミキサー、押出機、ロール等公知の混合機を用いて配合することが出来る。もちろん、各種の紫外線吸収剤を配合することもできるが、コストの面より、フィルムに配合されている量（重量％）よりも少ないことが望ましい。
【００２５】ポリカーボネート樹脂基材の厚みには特に制限はないが、積層材の透明性、耐衝撃性、耐候性などの面より０．１〜３０ミリ、特に０．５〜１５ミリであることが好ましい。
【００２６】上述のフィルムと基材とからなる積層体の形状には特に制限はなく、平板、波板、ハニカム構造体等が例示される。
【００２７】以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はそれら実施例に限定されるものでない。また、“部”は重量基準に基づく。
【００２８】
【実施例】
実施例 １〜３ および 比較例 １〜３粘度平均分子量２３，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）に、表１に示す各種紫外線吸収剤を配合したのち、２８０℃で、幅４００ｍｍ、厚さ５０μのフィルムを作成。ロール状に巻き取る。フィルム加工性を表１に示す。
【００２９】粘度平均分子量２８，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）を用いて、２８０℃で、幅４００ｍｍ、厚さ３ｍｍのシートを押出成形する。その際、Ｔダイにて予め作成していたフィルムをラミネートした。なお、比較例３では、ポリカーボネート樹脂組成物のフィルムの代わりに市販のアクリルフィルム（幅４００ｍｍ、厚さ５０μ）を用いた。得られたポリカーボネート樹脂積層体の透明性、耐衝撃性、耐候性を表２に示す。
【００３０】実施例および比較例で得られたポリカーボネート樹脂積層体を粉砕し、粘度平均分子量２８，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）に配合（配合量２０％）した後、試験片を作成。未配合品と比較した。結果をリサイクル性として表２に示す。
【００３１】評価方法を以下に示す。
フィルム加工性；Ｔダイキャスト法によるフィルムの成膜性を評価する。
良；○、不良；×
【００３２】透明性；分光光度計にて光線透過率（％）を測定する。数値の大きい方が優れている。
【００３３】耐衝撃性；５Ｋｇの鋼球を厚み３ｍｍ＋５０μの切出し試験片の上方（最大１ｍ）より落下させ、破壊およびクラックを生じない最大エネルギー（Ｋｇ・ｍ）を測定する。数値の大きい方が優れている。最大高さ１ｍより落下させても破壊もクラックも生じない場合は、ＮＢ（非破壊）とする。
【００３４】耐候性；岩崎電気製紫外線照射装置（アイスーパー）にて、５００時間照射後のＹＩ値（黄変度）。数値の小さい方が優れている。
【００３５】リサイクル性；積層体を粉砕した後、粉砕品１００％で再びシート成形（３ｍｍ厚み）し、分光光度計にてヘイズ（雲価）（％）を測定する。ヘイズ（雲価）（％）の小さい方が優れている。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】
【発明の効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な装置を用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れたポリカーボネート樹脂積層体を提供することが出来る。また、本発明で製造された積層体は、リサイクルすることが可能である。
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ラミネーション成形による耐候性、透明性、リサイクル性に優れたポリカーボネート積層体およびその製造方法に関する。。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、耐熱性などに優れており、建築材料、道路用資材、自動車部品などに広く用いられているが、透明材料であるアクリル樹脂に比べ耐候性に劣っており、その利用分野、特に屋外分野での使用において種々制約を受けている。
【０００３】このため、ポリカーボネート樹脂にアクリル樹脂を共押出する方法（特公昭４７−１９１１９、特開昭５５５９９２９）が提案されているが、ポリカーボネート樹脂の耐衝撃性が著しく低下するとともに、両樹脂の屈折率が相違するため、共押出シートの耳部のリサイクルを行なうと透明感が失われるといった問題がある。
【０００４】一方、紫外線吸収剤を含有してなるポリカーボネート樹脂組成物とポリカーボネート樹脂とを共押出することにより、耐衝撃性の低下防止ならびにリサイクルを可能とする複合体が新たに提案（特開昭５５−５９９２９、特開昭５９−１０１３６０）されているが、共押出法には特殊なダイス構造を有する複雑で、かつ高価な装置ならびに被覆層の厚み調整に高度な技術を必要とするため、工業的生産法としては最良なる方法とは言いがたい。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の問題点に鑑み鋭意研究した結果、特定の紫外線吸収剤を含有してなるポリカーボネートフィルムをポリカーボネート基材にラミネーション成形することにより、ポリカーボネート樹脂本来の特長である透明性、耐衝撃性、耐熱性を保持するとともに優れた耐候性を有し、かつリサイクル可能なポリカーボネート積層体を製造することが出来ることを見出し、本発明に到達したものである。さらに本発明のポリカーボネート積層体の製造方法においては、特殊な共押出装置を必要とせず、従来押出加工に用いられていた装置で積層体を生産することが出来る。
【０００６】すなわち、本発明は、分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなる耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性に優れるポリカーボネート積層体およびその製造方法を提供するものである。
【０００７】以下に、本発明のポリカーボネート積層体およびその製造方法につき、詳細に説明する。
【０００８】本発明において使用されるポリカーボネート樹脂とは、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシジアリール化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸エステルとを反応させるエステル交換法によって得られる重合体であり、代表的なものとしては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）から製造されたポリカーボネート樹脂が挙げられる。
【０００９】上記ジヒドロキシジアリール化合物としては、ビスフェノールＡの他に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパンのようなビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンのようなビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルのようなジヒドロキシジアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィドのようなジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシドのようなジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンのようなジヒドロキシジアリールスルホン類等が挙げられる。
【００１０】これらは単独または２種類以上混合して使用されるが、これらの他に、ピペラジン、ジピペリジルハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル等を混合して使用してもよい。
【００１１】さらに、上記のジヒドロキシアリール化合物と以下に示すような３価以上のフェノール化合物を混合使用してもよい。
【００１２】３価以上のフェノールとしてはフロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゾール、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンおよび２，２−ビス−〔４，４−（４，４’−ジヒドロキシジフェニル）−シクロヘキシル〕−プロパンなどがあげられる。
【００１３】ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は通常１０，０００〜１００，０００、好ましくは１５，０００〜３５，０００である。かかるポリカーボネート樹脂を製造するに際し、分子量調節剤、触媒等を必要に応じて使用することができる。
【００１４】本発明のポリカーボネート積層体およびその製造方法におけるフィルムおよび基材として用いられるポリカーボネート樹脂の組成、分子量には特に制限はなく、同一の組成ならびに分子量を有するポリカーボネート樹脂をフィルムと基材の両方に用いることもできるが、積層体の耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性、さらにはリサイクル性の面より、フィルムと基材におけるポリカーボネート樹脂の組成が同一で、かつフィルムに用いられるポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が、基材におけるそれよりも１０００以上低いことが望ましい。特にフィルムにおけるポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が１０，０００〜３０，０００であることが好ましい。
【００１５】次に、本発明において使用される紫外線吸収剤とは、分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である。分子量３８０未満のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、たとえば分子量３２３の２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾールでは、フィルム加工時、ポリカーボネート樹脂組成物の粘度低下が起こり、厚みの均一なフィルムを得ることが出来ない。好ましくは３８０〜７００のものである。
【００１６】なお、分子量３８０以上の紫外線吸収剤でも、ベンゾトリアゾール系以外の化合物、例えばベンゾフェノン系やヒンダードアミン系紫外線吸収剤では、耐候性の改善効果に劣る。
【００１７】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２，２−メチレン−ビス−［６−（２Ｈベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチル）−フェノール］、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３（３，４，５，６−テトラ−ヒドロフタリミド−メチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾールが例示され、一種または二種以上用いることが出来る。
【００１８】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、フィルムを構成するポリカーボネート樹脂組成物に１〜３０重量％含有される。１重量％未満では耐候性に劣り、また３０重量部を越すとフィルム加工が困難となる。耐候性およびフィルム加工性の面よりかかる紫外線吸収剤３〜１５重量％含有のポリカーボネート樹脂組成物が好ましい。
【００１９】ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法には何ら制限はなく、上述の紫外線吸収剤を重合途中又は重合後のポリカーボネート樹脂に配合することにより得ることが出来る。配合に際しては、バンバリーミキサー、押出機、ロール等公知の混合機を用いることが出来る。
【００２０】なお、フィルムとなるポリカーボネート樹脂組成物に対し、必要に応じて他の添加剤、例えば着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤などを適宜配合することも出来る。
【００２１】上述のポリカーボネート樹脂組成物を用いて５〜５００μのフィルムを作成する方法にも特に制限はなく、Ｔダイフィルムキャスト押出機、インフレーションフィルム装置などの公知にフィルム押出装置にて作成することが出来る。
【００２２】５μ未満のフィルムではポリカーボネート積層体の耐候性に劣る。また、５μ未満のフィルム作成自身困難となる。５００μを越すフィルムではラミネーションによる貼合が困難となる。
【００２３】積層材作成までの間、かかるフィルムを巻き取って置く場合には、フィルムの片面または両面にシボ加工を施したり、あるいは樹脂組成物中に酸化ケイ素などのフィルム滑性剤を含有させることによって、フィルム巻取り性を向上させることが望ましい。
【００２４】基材となるポリカーボネート樹脂に対しても、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤などの公知の添加剤を、バンバリーミキサー、押出機、ロール等公知の混合機を用いて配合することが出来る。もちろん、各種の紫外線吸収剤を配合することもできるが、コストの面より、フィルムに配合されている量（重量％）よりも少ないことが望ましい。
【００２５】ポリカーボネート樹脂基材の厚みには特に制限はないが、積層材の透明性、耐衝撃性、耐候性などの面より０．１〜３０ミリ、特に０．５〜１５ミリであることが好ましい。
【００２６】上述のフィルムと基材とからなる積層体の形状には特に制限はなく、平板、波板、ハニカム構造体等が例示される。
【００２７】以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はそれら実施例に限定されるものでない。また、“部”は重量基準に基づく。
【００２８】
【実施例】
実施例 １〜３ および 比較例 １〜３粘度平均分子量２３，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）に、表１に示す各種紫外線吸収剤を配合したのち、２８０℃で、幅４００ｍｍ、厚さ５０μのフィルムを作成。ロール状に巻き取る。フィルム加工性を表１に示す。
【００２９】粘度平均分子量２８，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）を用いて、２８０℃で、幅４００ｍｍ、厚さ３ｍｍのシートを押出成形する。その際、Ｔダイにて予め作成していたフィルムをラミネートした。なお、比較例３では、ポリカーボネート樹脂組成物のフィルムの代わりに市販のアクリルフィルム（幅４００ｍｍ、厚さ５０μ）を用いた。得られたポリカーボネート樹脂積層体の透明性、耐衝撃性、耐候性を表２に示す。
【００３０】実施例および比較例で得られたポリカーボネート樹脂積層体を粉砕し、粘度平均分子量２８，０００のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）に配合（配合量２０％）した後、試験片を作成。未配合品と比較した。結果をリサイクル性として表２に示す。
【００３１】評価方法を以下に示す。
フィルム加工性；Ｔダイキャスト法によるフィルムの成膜性を評価する。
良；○、不良；×
【００３２】透明性；分光光度計にて光線透過率（％）を測定する。数値の大きい方が優れている。
【００３３】耐衝撃性；５Ｋｇの鋼球を厚み３ｍｍ＋５０μの切出し試験片の上方（最大１ｍ）より落下させ、破壊およびクラックを生じない最大エネルギー（Ｋｇ・ｍ）を測定する。数値の大きい方が優れている。最大高さ１ｍより落下させても破壊もクラックも生じない場合は、ＮＢ（非破壊）とする。
【００３４】耐候性；岩崎電気製紫外線照射装置（アイスーパー）にて、５００時間照射後のＹＩ値（黄変度）。数値の小さい方が優れている。
【００３５】リサイクル性；積層体を粉砕した後、粉砕品１００％で再びシート成形（３ｍｍ厚み）し、分光光度計にてヘイズ（雲価）（％）を測定する。ヘイズ（雲価）（％）の小さい方が優れている。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】
【発明の効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な装置を用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れたポリカーボネート樹脂積層体を提供することが出来る。また、本発明で製造された積層体は、リサイクルすることが可能である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムが、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーションしてなることを特徴とするポリカーボネート積層体。
【請求項２】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなることを特徴とするポリカーボネート積層体の製造方法。
【請求項１】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムが、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーションしてなることを特徴とするポリカーボネート積層体。
【請求項２】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなることを特徴とするポリカーボネート積層体の製造方法。
【公開番号】特開平６−６４１２３
【公開日】平成６年（１９９４）３月８日
【国際特許分類】
【出願番号】特願平４−２４７３３１
【出願日】平成４年（１９９２）８月２４日
【出願人】（０００１８３２８８）住友ダウ株式会社 (1)
【公開日】平成６年（１９９４）３月８日
【国際特許分類】
【出願日】平成４年（１９９２）８月２４日
【出願人】（０００１８３２８８）住友ダウ株式会社 (1)
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