ポリヒドロキシ、ジエニルラクトン誘導体の合成方法及び中間体
【課題】ジスコデルモリド類などのラクトン−含有化合物、その化学的及び/または生物学的活性に似た化合物、並びにそれらの製造で有用な方法及び中間体を提供する。
【解決手段】下記化合物を基にしたジスコデルモリドの化学的及び/又は生物学的活性に似た化合物、それらの中間体、並びにそれらの製造法。
【解決手段】下記化合物を基にしたジスコデルモリドの化学的及び/又は生物学的活性に似た化合物、それらの中間体、並びにそれらの製造法。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式:
【化1】
〔式中、R11及びR12は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R14及びR15は独立して、酸不安定性保護基であり;そして
R16は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択される〕の化合物の製造法であって、式:
【化2】
〔式中、R22はC1〜C10アルキルである〕を有するアルデヒドと式:
【化3】
〔式中、R50は酸不安定性保護基である〕のエノールエーテルとを、式:
【化4】
のエノンを形成するのに有効な時間及び条件下でルイス酸の存在下で接触させ;前記エノンと還元剤とを、対応するエノールが形成するのに有効な時間及び条件下で接触させ;
前記エノールと、式R−L(式中、Lは離脱基であり、Rは酸不安定性保護基である)を有する化合物とを接触させ、前記接触は保護化エノールを形成するのに有効な時間及び条件下で実施し;次いで
前記保護化エノールと酸化剤とを、前記保護化エノールの前記炭素−炭素二重結合を酸化するのに有効な時間及び条件下で接触させる、各段階を含む方法。
【請求項2】
R11、R12、及びR22が独立してC1〜C4アルキルである、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
R11、R12、及びR22がメチルである、請求項2に記載の方法。
【請求項4】
式:
【化5】
〔式中、R6は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
Xはハロゲンである〕をもつハロゲン化オレフィンの製造方法であって、式:
【化6】
を有するアルデヒドと、式:
【化7】
を有するα−ハロスルホンとを、前記ハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下で接触させる段階を含む方法。
【請求項5】
R6、R7、及びR8が独立して、C1〜C4アルキルである、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
式:
【化8】
〔式中、R6は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
Xはハロゲンである〕を有するハロゲン化オレフィンの製造方法であって、式:
【化9】
を有する化合物とトリフェニルホスフィン及び四塩化炭素とを、式:
【化10】
〔式中、X1及びX2はハロゲンである〕を有するジハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下で接触させ;次いで
前記ジハロゲン化オレフィンと有機金属化合物とを、前記ハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下、触媒の存在下で接触させる、各段階を含む方法。
【請求項7】
R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項6に記載の方法。
【請求項8】
前記触媒がパラジウムまたはニッケルである、請求項6に記載の方法。
【請求項9】
式:
【化11】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立してC1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R10及びR2は独立して、酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項10】
R1、R2、R3、R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項9に記載の化合物。
【請求項11】
式:
【化12】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;そして
R10及びR25は、酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項12】
R1、R2、R3、R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項11に記載の化合物。
【請求項13】
R4及びR9はt−ブチルジメチルシリルであり;及びR10及びR25はp−メトキシベンジルである、請求項11に記載の化合物。
【請求項14】
式:
【化13】
〔式中、R7及びR8は独立してC1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項15】
R7及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項14に記載の化合物。
【請求項16】
式:
【化14】
〔式中、R7、R8、R11、R12、及びR13は独立して、C1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
MはLi、Cu、Mg、またはZnであり;
R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル基であり;そして
R16はH及びC1〜C6アルキルからなる群から選択される〕のひとつを有する化合物。
【請求項17】
式:
【化15】
〔式中、R1、R2、R7、R8、R11、R12、及びR13は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
Zは0であり;
R4、R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R16は、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R24は水素であり;そして
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項18】
式:
【化16】
を有する化合物の製造方法であって、式:
【化17】
の化合物と、式:
【化18】
〔式中、R1、R2、R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4、R9、及びR14は、酸不安定性保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;
R25は酸安定性保護基であり;そして
JはC1〜C10アルキル、C6〜C14アリール、C2〜C10ヘテロシクロアルキルまたは、C2〜C10ヘテロシクロアルケニルである〕のホスホニウム塩及び塩基とを接触させることを含む前記方法。
【請求項19】
R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルであり;
R6は水素またはC1〜C10アルキルであり;
R3は水素またはC1〜C10アルキルであり;そして
Jはメチル、フェニル、ピラニル、またはピランエニルである、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
式:
【化19】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C10アルキルを含む群から選択され;そして
JはC1〜C10アルキル、C6〜C14アリール、C2〜C10ヘテロシクロアルキル、またはC2〜C10ヘテロシクロアルケニルである〕を有する化合物。
【請求項21】
式:
【化20】
〔式中、R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
ArはC6〜C14アリールである〕を有するアミドの製造方法であって、式:
【化21】
を有する化合物と、式:
【化22】
を有する化合物とを、前記アミドが形成するのに有効な時間及び条件下で接触させる段階を含む方法。
【請求項22】
式:
【化23】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;
Xはハロゲンであり;そして
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕の化合物の製造方法であって、式:
【化24】
を有するハロゲン化アルキルと、P(R18)3とを、前記化合物を製造するのに有効な時間及び条件下で接触させることを含む方法。
【請求項23】
式:
【化25】
〔式中、R1、R2、R3、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
R6はH及びC1〜C10アルキルからなる群から選択され;
Z1及びZ2は独立して、O、SまたはNR'であり;
R4、及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R5はC6〜C14アリールであり;そして
R18はC6〜C14アリールである〕の化合物の製造方法であって、式:
【化26】
を有するハロゲン化アルキルと、P(R18)3とを、前記化合物を製造するのに有効な時間及び条件下で接触させることを含む方法。
【請求項24】
前記接触を、約5Kbar〜約20Kbarの圧力で、有機溶媒中で実施する、請求項23に記載の方法。
【請求項25】
以下の式:
【化27】
〔式中、R1、R2、R7、R8、R11、及びR12は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4、R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R16は、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択さる〕のひとつを有する化合物。
【請求項1】
式:
【化1】
〔式中、R11及びR12は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R14及びR15は独立して、酸不安定性保護基であり;そして
R16は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択される〕の化合物の製造法であって、式:
【化2】
〔式中、R22はC1〜C10アルキルである〕を有するアルデヒドと式:
【化3】
〔式中、R50は酸不安定性保護基である〕のエノールエーテルとを、式:
【化4】
のエノンを形成するのに有効な時間及び条件下でルイス酸の存在下で接触させ;前記エノンと還元剤とを、対応するエノールが形成するのに有効な時間及び条件下で接触させ;
前記エノールと、式R−L(式中、Lは離脱基であり、Rは酸不安定性保護基である)を有する化合物とを接触させ、前記接触は保護化エノールを形成するのに有効な時間及び条件下で実施し;次いで
前記保護化エノールと酸化剤とを、前記保護化エノールの前記炭素−炭素二重結合を酸化するのに有効な時間及び条件下で接触させる、各段階を含む方法。
【請求項2】
R11、R12、及びR22が独立してC1〜C4アルキルである、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
R11、R12、及びR22がメチルである、請求項2に記載の方法。
【請求項4】
式:
【化5】
〔式中、R6は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
Xはハロゲンである〕をもつハロゲン化オレフィンの製造方法であって、式:
【化6】
を有するアルデヒドと、式:
【化7】
を有するα−ハロスルホンとを、前記ハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下で接触させる段階を含む方法。
【請求項5】
R6、R7、及びR8が独立して、C1〜C4アルキルである、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
式:
【化8】
〔式中、R6は水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
Xはハロゲンである〕を有するハロゲン化オレフィンの製造方法であって、式:
【化9】
を有する化合物とトリフェニルホスフィン及び四塩化炭素とを、式:
【化10】
〔式中、X1及びX2はハロゲンである〕を有するジハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下で接触させ;次いで
前記ジハロゲン化オレフィンと有機金属化合物とを、前記ハロゲン化オレフィンを形成するのに有効な時間及び条件下、触媒の存在下で接触させる、各段階を含む方法。
【請求項7】
R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項6に記載の方法。
【請求項8】
前記触媒がパラジウムまたはニッケルである、請求項6に記載の方法。
【請求項9】
式:
【化11】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立してC1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R10及びR2は独立して、酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項10】
R1、R2、R3、R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項9に記載の化合物。
【請求項11】
式:
【化12】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;そして
R10及びR25は、酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項12】
R1、R2、R3、R6、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項11に記載の化合物。
【請求項13】
R4及びR9はt−ブチルジメチルシリルであり;及びR10及びR25はp−メトキシベンジルである、請求項11に記載の化合物。
【請求項14】
式:
【化13】
〔式中、R7及びR8は独立してC1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
R9は酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項15】
R7及びR8は独立して、C1〜C4アルキルである、請求項14に記載の化合物。
【請求項16】
式:
【化14】
〔式中、R7、R8、R11、R12、及びR13は独立して、C1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
MはLi、Cu、Mg、またはZnであり;
R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル基であり;そして
R16はH及びC1〜C6アルキルからなる群から選択される〕のひとつを有する化合物。
【請求項17】
式:
【化15】
〔式中、R1、R2、R7、R8、R11、R12、及びR13は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
Zは0であり;
R4、R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R16は、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R24は水素であり;そして
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕を有する化合物。
【請求項18】
式:
【化16】
を有する化合物の製造方法であって、式:
【化17】
の化合物と、式:
【化18】
〔式中、R1、R2、R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4、R9、及びR14は、酸不安定性保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;
R25は酸安定性保護基であり;そして
JはC1〜C10アルキル、C6〜C14アリール、C2〜C10ヘテロシクロアルキルまたは、C2〜C10ヘテロシクロアルケニルである〕のホスホニウム塩及び塩基とを接触させることを含む前記方法。
【請求項19】
R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C4アルキルであり;
R6は水素またはC1〜C10アルキルであり;
R3は水素またはC1〜C10アルキルであり;そして
Jはメチル、フェニル、ピラニル、またはピランエニルである、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
式:
【化19】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R6及びR3は独立して、水素及びC1〜C10アルキルを含む群から選択され;そして
JはC1〜C10アルキル、C6〜C14アリール、C2〜C10ヘテロシクロアルキル、またはC2〜C10ヘテロシクロアルケニルである〕を有する化合物。
【請求項21】
式:
【化20】
〔式中、R7及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R10は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
ArはC6〜C14アリールである〕を有するアミドの製造方法であって、式:
【化21】
を有する化合物と、式:
【化22】
を有する化合物とを、前記アミドが形成するのに有効な時間及び条件下で接触させる段階を含む方法。
【請求項22】
式:
【化23】
〔式中、R1、R2、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R18はC6〜C14アリールであり;
Xはハロゲンであり;そして
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基である〕の化合物の製造方法であって、式:
【化24】
を有するハロゲン化アルキルと、P(R18)3とを、前記化合物を製造するのに有効な時間及び条件下で接触させることを含む方法。
【請求項23】
式:
【化25】
〔式中、R1、R2、R3、R7、及びR8は独立して、C1〜C10アルキルであり;
Xはハロゲンであり;
R6はH及びC1〜C10アルキルからなる群から選択され;
Z1及びZ2は独立して、O、SまたはNR'であり;
R4、及びR9は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R5はC6〜C14アリールであり;そして
R18はC6〜C14アリールである〕の化合物の製造方法であって、式:
【化26】
を有するハロゲン化アルキルと、P(R18)3とを、前記化合物を製造するのに有効な時間及び条件下で接触させることを含む方法。
【請求項24】
前記接触を、約5Kbar〜約20Kbarの圧力で、有機溶媒中で実施する、請求項23に記載の方法。
【請求項25】
以下の式:
【化27】
〔式中、R1、R2、R7、R8、R11、及びR12は独立して、C1〜C10アルキルであり;
R3及びR6は独立して、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択され;
R4、R9、R14、及びR15は独立して、酸不安定性ヒドロキシル保護基であり;
R25は酸安定性ヒドロキシル保護基であり;そして
R16は、水素及びC1〜C6アルキルからなる群から選択さる〕のひとつを有する化合物。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図20】
【図21】
【図22】
【図24】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図37】
【図38】
【図40】
【図41】
【図42】
【図7】
【図14】
【図19】
【図23】
【図25】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図39】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図20】
【図21】
【図22】
【図24】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図37】
【図38】
【図40】
【図41】
【図42】
【図7】
【図14】
【図19】
【図23】
【図25】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図39】
【公開番号】特開2011−46714(P2011−46714A)
【公開日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−204706(P2010−204706)
【出願日】平成22年9月13日(2010.9.13)
【分割の表示】特願2000−560858(P2000−560858)の分割
【原出願日】平成11年7月20日(1999.7.20)
【出願人】(500429103)ザ・トラスティーズ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・ペンシルバニア (102)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成23年3月10日(2011.3.10)
【国際特許分類】
【出願日】平成22年9月13日(2010.9.13)
【分割の表示】特願2000−560858(P2000−560858)の分割
【原出願日】平成11年7月20日(1999.7.20)
【出願人】(500429103)ザ・トラスティーズ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・ペンシルバニア (102)
【Fターム(参考)】
[ Back to top ]