ポリマー成形体の製造方法
【課題】ポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することが可能なポリマー成形体の製造方法及びそれにより得られるポリマー成形体を提供すること。
【解決手段】
ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法。
【解決手段】
ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー成形体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ポリマー材料は、その種類ごとに有している弾性率、強度等の機械的性質、溶剤溶解性、親水性、疎水性等の化学的性質、耐熱性等の熱的性質に応じて、フィルム状、繊維状、板状、粒状等の各種形状に成形加工され、様々な分野で使用されている。また、有機ポリマー材料からなる構造体に細孔を施すことも検討されている。
【０００３】
例えば、特許文献１〜３では、各種パターンを有するフォトレジストをマスクとして用い、ポリイミド膜等の有機高分子構造体をエッチングすることが開示されている。また、特許文献４及び５では、プラスチックフィルムのエンボスされた部分に細孔を形成する方法が開示されている。さらに、特許文献６では、開口を有する金属箔を表面に備えるプラスチックシートに、エキシマレーザー光の照射により貫通孔を形成する方法が開示されている。特許文献７では、流体音波により薄いシート材料に微小孔を形成する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平９−２９６０５７号公報
【特許文献２】特開２００１−３０５７５０号公報
【特許文献３】特開昭６０−１１１２４３号公報
【特許文献４】特開昭６２−２６７３３６号公報
【特許文献５】特開平５−８６２１６号公報
【特許文献６】特開平５−１５９８７号公報
【特許文献７】特開平６−１９８５９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献に記載の方法では、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体をエッチングし、凹部を形成することが困難であった。また、特許文献１〜３に記載の方法は、ウェットエッチングを用いているため、廃溶剤の処理の問題がある。さらに、特許文献４〜７に記載の方法では多孔化するための工程が繁雑となってしまう傾向がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することが可能なポリマー成形体の製造方法及びそれにより得られるポリマー成形体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法を提供する。
【０００７】
本発明者らは、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体のエッチング方法について鋭意検討した結果、上記エッチング条件を選択することにより、ポリグリコール酸以外のポリマー成分はエッチングされずに、ポリグリコール酸のみを良好にエッチングすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。上記製造方法では、従来のような複雑な工程を経ることなく、かつ、ウエットプロセスのように廃液の発生もなく、簡便なプロセスでポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することができる。また、ポリマー構造体がポリグリコール酸のみから構成される場合、所定のパターンを備えるマスクを介してエッチングすることにより、マスクの開口部に対応する位置に凹部が形成されたポリマー成形体を得ることができる。さらに、ポリマー構造体がポリグリコール酸と、ポリグリコール酸以外のポリマー成分とを含む場合、ポリマー構造体の表面付近に存在するポリグリコール酸部分のみが選択的にエッチングされて凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【０００８】
上記製造方法において、ドライエッチングはアルゴンイオンエッチングであることが好ましい。アルゴンイオンエッチングは垂直方向のエッチング性に優れるため、エッチング形状の整った（サイドエッチングが生じ難い）凹部を有するポリマー成形体をより温和な条件で形成することができる。
【０００９】
本発明は、また、上記ポリマー成形体の製造方法により得ることのできるポリマー成形体を提供する。ポリマー構造体がポリグリコール酸のみからなる場合、ポリグリコール酸は生分解性ポリマーであることから、上記凹部が形成されたポリマー成形体は、生細胞の培養基材として使用することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することが可能なポリマー成形体の製造方法及びそれにより得られるポリマー成形体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００１２】
本発明のポリマー成形体の製造方法は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備えるものである。
【００１３】
上記ポリマー構造体は、使用目的に応じてポリグリコール酸を含むポリマーをフィルム状、シート状、板状等に成形したものである。
【００１４】
ポリグリコール酸（以下、「ＰＧＡ」と表記する）は、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ）−で表わされるグリコール酸繰り返し単位のみからなるグリコール酸の単独重合体又は上記グリコール酸繰り返し単位を有するグリコール酸共重合体を含むものである。ポリグリコール酸がグリコール酸共重合体である場合、上記繰り返し単位を、５０質量％以上含むことが好ましく、７５質量％以上含むことがより好ましく、９０質量％以上含むことが更に好ましく、９９質量％以上含むことが特に好ましい。
【００１５】
グリコール酸共重合体は、例えば、シュウ酸エチレン（即ち、１，４−ジオキサン−２，３−ジオン）、ラクチド類、ラクトン類（例えば、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、β−ピバロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン）、カーボネート類（例えば、トリメチリンカーボネート）、エーテル類（例えば１，３−ジオキサン）、エーテルエステル類（例えば、ジオキサノン）、アミド類（例えば、ε−カプロラクタム）等の環状モノマー；乳酸、３−ヒドロキシプロパン酸、３−ヒドロキシブタン酸、４−ヒドロキシブタン酸、６−ヒドロキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸又はそのアルキルエステル；エチレングリコール、１，４−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、コハク酸、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸類又はそのアルキルエステル類をコモノマーとして用い、グリコール酸モノマーと共重合したものである。上記コモノマーは、１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。ポリマー構造体が、ポリグリコール酸共重合体を含む場合、ポリグリコール酸繰り返し単位部分が選択的にドライエッチングされたポリマー成形体を作製することができる。
【００１６】
また、ポリマー構造体は、ＰＧＡ以外のポリマー、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ乳酸、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートを含むポリマーブレンドであってもよい。ポリマー構造体が、ＰＧＡ以外のポリマーを含む場合、ポリマー構造体表面（エッチング面）に存在するＰＧＡ部分が選択的にドライエッチングされて凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【００１７】
ポリマー構造体は、ドライエッチングの容易性の観点から、フィルム状であることがより好ましい。この場合の膜厚は０．１〜５００μｍであることが好ましく、１〜２００μｍであることがより好ましく、２〜５０μｍであることがさらに好ましい。ポリマーフィルムの膜厚が０．１μｍ未満では、取り扱い難くなる傾向があり、５００μｍを超えると、エッチング時間が長くなり、凹部の形成がし難くなる傾向がある。
【００１８】
ポリグリコール酸のみからなるポリマー構造体に凹部を形成するための具体的な方法について、以下に説明する。
【００１９】
ここで、本明細書における「凹部」とは、ポリマー構造体の表面をエッチングすることによりポリマー構造体の膜厚方向に形成されるくぼみやへこみ（「インデント」ともいう）又は貫通孔を意味する。本発明の製造方法により得られるポリマー成形体には、これらのいずれかが形成されている。
【００２０】
図１は、本発明の製造方法により得られるポリマー成形体の実施形態を示す斜視図である。図１に示すポリマー成形体１はフィルム状を成しており、その厚さ方向に凹部３が複数形成されている。凹部３はそれぞれ独立し規則的に配列されている。
【００２１】
図１に示すポリマー成形体１は、図２に示す工程により作製することができる。図２は、本発明に係るポリマー成形体１の製造方法の実施形態を斜視図により示す工程図である。まず、ポリマー構造体２、所定の開口部を有する第１のマスク４及び第２のマスク６を準備する。（図２（ａ））。次に、ポリマー構造体２上に、第１のマスク４と、第２のマスク６とをこの順に積層する。（図２（ｂ））。次いで、ドライエッチング装置８から第２のマスク６上に反応性のガス等を照射してポリマー構造体２をドライエッチングし、ポリマー構造体２に凹部を形成する（図２（ｃ））。そして、第１及び第２のマスクを除去し、ポリマー成形体１が製造される（図２（ｄ））。
【００２２】
第１のマスク４及び第２のマスク６には、複数の開口が形成されている。そして、本発明においては、第１のマスク４の平均開口径より、第２のマスク６の平均開口径が大きいことが好ましい。平均開口径は、表面に形成された開口部の面積を計算し、その開口部面積を持つ真円の直径として計算する。第２のマスク６の平均開口径は、第１のマスク４の平均開口径の５〜１００倍であることが好ましく、７〜６０倍であることがより好ましく、８〜２０倍であることがさらに好ましい。第２のマスク６の平均開口径が第１のマスク４の平均開口径の５倍未満又は１００倍を超えると、本発明の効果を奏し難くなる。
【００２３】
平均開口径を具体的な数値で表すと、第１のマスクの平均開口径は、０．１〜１０００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましい。第１のマスクの平均開口径が０．１μｍ未満では、凹部の形成がし難くなり、１００μｍを超えると、形成した凹部が大きくなりすぎる。
【００２４】
第２のマスクの平均開口径は、２００〜５０００μｍであることが好ましく、４００〜２５００μｍであることがより好ましい。第２のマスクの平均開口径が２００μｍ未満では、第１のマスクとの開口径に対応した凹部が得られ難い傾向があり、５０００μｍを超えると、第１のマスクとポリマー構造体との密着性が低下する傾向がある。
【００２５】
また、第１及び第２のマスクとして、平織り状の網目を有する網を用いる場合は、平均開口径の代わりに「メッシュ数」で表すこともできる。メッシュとは、１インチ（２．５４×１０４μｍ）間に存在する網目を形成する糸の本数をいい、メッシュ数が大きいほど網目が細かいことを意味する。図３に、平織りメッシュ１０の模式図を示す。図３中、糸と糸の間の距離を目開き１２といい、下記式１に示すように、目開き１２はメッシュ数と糸の線径１４から算出することができる。この目開き１２は平均開口径にほぼ対応しており、目開きに基づき好適なメッシュ数を選択することができる。
目開き（μｍ）＝２．５４×１０４／メッシュ数−線径（μｍ） （１）
【００２６】
第１及び第２マスクの材質としては、ポリマー構造体２とのエッチング時の選択比が大きいものが好ましく、例えば、シリカ系、含フッ素ポリマー系、金属系、ポリエステル系、ポリアミド系のマスクを用いることができる。本発明においては、エッチング選択性の観点から、第１及び第２のマスクが同じ材質であることが好ましく、第１及び第２のマスクはＳＵＳ等の金属系マスクであることがより好ましい。
【００２７】
第１及び第２のマスクの厚さとしては、特に限定されないが、第２のマスクは補強材として使用されるため、第１のマスクの厚さよりも第２のマスクの厚さが厚いほうが好ましい。
【００２８】
上述したように、本発明では、平均開口径の異なる２種類のマスクを用いることが好ましい。第１のマスク上に第２のマスクを積層ことにより、第１のマスクをポリマー構造体により密着させることができる。これにより、ドライエッチング時における第１のマスクとポリマー構造体とを平坦に保つことができ、垂直方向へのエッチングがより有効となる。そして、第１のマスクの開口径に応じ、ポリマー構造体に目的とするサイズの凹部を確実に形成することができる。
【００２９】
（エッチング条件）
本発明におけるドライエッチングとは、反応性のガス、イオン又はラジカル等によって、材料をエッチングする方法である。ドライエッチングとしては、プラズマエッチング、イオンエッチング、集束イオンビームエッチング等の公知の方法が利用できる。
【００３０】
イオンエッチングは、ヘリウム(Ｈｅ）、アルゴン(Ａｒ）、ネオン(Ｎｅ）及びその組合せを含む不活性ガス等で、固体表面をエッチングする方法である。本発明においては、垂直なエッチングが可能であり、エッチング形状の整った凹部を形成できることから、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いることがより好ましく、アルゴンガスを用いたアルゴンイオンエッチングであることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明において、ドライエッチングは、真空度５０ｍＴｏｒｒ（６．７Ｐａ）以下で行う。真空度は、３０〜５０ｍＴｏｒｒであることが好ましく、３５〜４５ｍＴｏｒｒであることがより好ましい。真空度が５０ｍＴｏｒｒを超えると、放電が発生しエッチングが困難となる。一方、真空度が３０ｍＴｏｒｒ未満では、電流値が小さくなり、Ａｒイオン濃度が低下するため、エッチングし難くなる傾向がある。
【００３２】
ドライエッチング時の電流値は、３ｍＡ以下であり、０．５〜３ｍＡであることが好ましく、１〜３ｍＡであることがより好ましい。エッチング時の電流が３ｍＡを超えると、放電が発生しエッチングが困難となる。
【００３３】
ドライエッチング時の出力は、１〜６Ｗであり、２〜５Ｗであることが好ましく、３〜４Ｗであることがより好ましい。エッチング時の出力が６Ｗを超えると、放電が発生しエッチングが困難となり、１Ｗ未満では、凹部の形成に長時間を要する。
【００３４】
エッチング時間としては、０．５〜６０分であることが好ましく、１〜１０分であることがより好ましく、２〜５分であることが更に好ましい。エッチング時間が０．５分未満では、凹部を形成し難くなり、６０分を越えると、工業的な生産に適合し難くなる。なお、エッチング時間を適宜調整することにより、凹部を貫通孔とすることができる。
【００３５】
本発明においては、上述の条件、すなわち、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下の範囲内でドライエッチング条件を適宜設定することにより、ＰＧＡのみを選択的にかつ良好にエッチングすることができる。
【００３６】
ポリマー構造体がＰＧＡのみからなる場合、エッチング時に所定の開口パターンを備えるマスクを用いることにより、開口パターンに対応した形状であって、エッチング形状の整った凹部を有するＰＧＡ成形体が得られる。また、ＰＧＡは生分解性ポリマーであることから、得られるＰＧＡ成形体は、生細胞の培養基材として使用することができる。
【００３７】
一方、ＰＧＡ以外のポリマー、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ乳酸、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートからなるポリマー構造体では、上記エッチング条件では全くエッチングされないか、表面がわずかに削れる程度のエッチングしかされず、凹部を形成することができない。
【００３８】
よって、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーのブレンドである場合は、上述したような第１及び第２のマスクを使用せずに、直接ポリマー構造体をドライエッチングすることができる。すなわち、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーのブレンドである場合、ドライエッチング装置からポリマー構造体上に反応性のガス等を直接照射してポリマー構造体をドライエッチングし、ポリマー構造体に凹部を形成する（図示せず）。この場合、ポリマー構造体の表面付近に存在するＰＧＡ部分のみが選択的にエッチングされ、凹部を形成する。このようなポリマー構造体においては、ＰＧＡ以外のポリマーがマスクの役割を果たすため、その下部（ポリマー構造体の内部）に存在するＰＧＡはエッチングされない。
【００３９】
なお、凹部の形成状態は、作製したポリマー成形体の表面及び断面を走査型電子顕微鏡で観察すること、表面粗さ計で測定すること等で確認することができる。
【００４０】
以上のように、本発明においては、上記製造方法により、凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【００４１】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明した。しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の好適な実施例について更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
膜厚１３．５μｍのポリグリコール酸（以下、「ＰＧＡ」と表記する）フィルム上に、第１のマスクである３００メッシュのＳＵＳメッシュ（太陽金網社製、商品名「アヤ織金網」）、第２のマスクである４０メッシュのＳＵＳメッシュ（太陽金網社製、商品名「平織金網」）の順に積層した試料を準備した。上記試料をエッチング装置（エーコーエンジニアリング社製、商品名「ＩＥ−１０」）のベルジャー内にセットした。約６ｍＴｏｒｒで１時間脱気後、アルゴンガスを注入し、真空度約４０ｍＴｏｒｒにコントロール（電圧１．５ｋＶ、電流値１．５ｍＡになるようアルゴンガスの注入量を調製）しながら、４０メッシュのＳＵＳメッシュ上から、ＰＧＡフィルムを３０分間エッチングし、ＰＧＡ成形体を作製した。
【００４４】
（実施例２〜１０）
表１に示す条件で実施例１と同様の操作を行い、ＰＧＡ成形体をそれぞれ作製した。
【００４５】
（実施例１１）
ＰＧＡとポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＥＴ＝５／９５（質量部））を準備し、第１及び２のマスクは積層せずにエッチング装置（エーコーエンジニアリング社製、商品名「ＩＥ−１０」）のベルジャー内にセットした。約６ｍＴｏｒｒで１時間脱気後、アルゴンガスを注入し、真空度約４０ｍＴｏｒｒにコントロール（電圧１．５ｋＶ、電流値１．５ｍＡになるようアルゴンガスの注入量を調製）しながら、ＰＧＡ／ＰＥＴフィルムを２分間エッチングし、ＰＧＡ／ＰＥＴ成形体を作製した。
【００４６】
（実施例１２）
ＰＧＡとポリプロピレン（以下、「ＰＰ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＰ＝２０／８０（質量部））を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体を作製した。
【００４７】
（実施例１３）
ＰＧＡとポリ乳酸（以下、「ＰＬＡ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＬＡ＝２５／７５（質量部））を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体を作製した。
【００４８】
（比較例１、２）
表１に示す条件で実施例１と同様の操作を行い、ＰＧＡ成形体の作製をそれぞれ試みた。
【００４９】
（比較例３）
ＰＥＴフィルム（帝人デュポン社製、商品名「テトロンフィルム」）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＥＴ成形体の作製を試みた。
【００５０】
（比較例４）
ＰＰフィルム（東洋紡社製、商品名「パイレンフィルム」）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体の作製を試みた。
【００５１】
（比較例５）
ポリフッ化ビニリデン（以下、「ＰＶＤＦ」と表記する）フィルム（クレハ社製）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＶＤＦ成形体の作製を試みた。
【００５２】
（エッチング状態の観察）
実施例及び比較例で作製したフィルムの表面及び断面を走査型電子顕微鏡（以下、「ＳＥＭ」と表記する）で観察した。観察結果を表１に示す。表中、Ａ：３００メッシュの開口部に応じた貫通孔が形成、Ｂ：３００メッシュの開口部に応じた凹部（インデント）が形成、Ｃ：表面付近のＰＧＡ部分のみがエッチングされ凹部（インデント）を形成、Ｄ：エッチングされないことを意味する。
【００５３】
【表１】
【００５４】
実施例１〜１０で作製したＰＧＡ成形体では、３００メッシュの開口部に対応した凹部が形成されているこが確認された。これに対し、比較例１では放電が発生しエッチングすることができず、比較例２では、出力が足らず、凹部を形成することができなかった。
【００５５】
実施例１〜１０の代表的なＳＥＭ画像として、実施例１で作製したＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像を図４に、実施例７で作製したＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像を図５にそれぞれ示す。なお、図４及び５において、（ｂ）の画像は（ａ）の画像を拡大したものである。
【００５６】
図６は、実施例１１のＰＧＡ／ＰＥＴ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像であり、図７は、実施例１２のＰＧＡ／ＰＰ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像であり、図８は、実施例１３のＰＧＡ／ＰＬＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。図６〜８から表面付近に凹部が形成していることが確認できる。よって、実施例１１〜１３のようにＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーとのブレンドフィルムを用いた場合、表面（エッチング面）付近に存在するＰＧＡのみが選択的にエッチングされることが確認できた。
【００５７】
図９は、比較例５のエッチング後のＰＶＤＦフィルムをエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。図９からわかるように、ＰＶＤＦフィルムには凹部が形成されていない。比較例３〜５のようにＰＧＡを含まないポリマー成形体の場合、本発明の製造方法に係る条件では、ドライエッチングにより凹部を形成できないことが確認された。
【００５８】
以上のことから、本発明のポリマー成形体の製造方法によれば、フォトレジストプロセス等の複雑な工程を経ることなく、簡便なプロセスによりポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することができることがわかった。また、ポリマー構造体がＰＧＡのみから構成される場合は、凹部を有するＰＧＡ形成体を作製することができる。さらに、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーとから構成される場合は、表面付近のＰＧＡ部分がエッチングされて形成された凹部を有するポリマー形成体を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の製造方法により得られるポリマー成形体の実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明に係るポリマー成形体の製造方法の実施形態を斜視図により示す工程図である。
【図３】平織りメッシュを表す模式図である。
【図４】実施例１で得られたＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図５】実施例７で得られたＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図６】実施例１１で得られたＰＧＡ／ＰＥＴ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図７】実施例１２で得られたＰＧＡ／ＰＰフ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図８】実施例１３で得られたＰＧＡ／ＰＬＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図９】比較例５で得られたエッチング後のＰＶＤＦフィルムをエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【符号の説明】
【００６０】
１…ポリマー成形体、２…ポリマー構造体、３…凹部、４…第１のマスク、６…第２のマスク、８…ドライエッチング装置、１０…平織りメッシュ、１２…目開き、１４…線径。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマー成形体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ポリマー材料は、その種類ごとに有している弾性率、強度等の機械的性質、溶剤溶解性、親水性、疎水性等の化学的性質、耐熱性等の熱的性質に応じて、フィルム状、繊維状、板状、粒状等の各種形状に成形加工され、様々な分野で使用されている。また、有機ポリマー材料からなる構造体に細孔を施すことも検討されている。
【０００３】
例えば、特許文献１〜３では、各種パターンを有するフォトレジストをマスクとして用い、ポリイミド膜等の有機高分子構造体をエッチングすることが開示されている。また、特許文献４及び５では、プラスチックフィルムのエンボスされた部分に細孔を形成する方法が開示されている。さらに、特許文献６では、開口を有する金属箔を表面に備えるプラスチックシートに、エキシマレーザー光の照射により貫通孔を形成する方法が開示されている。特許文献７では、流体音波により薄いシート材料に微小孔を形成する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平９−２９６０５７号公報
【特許文献２】特開２００１−３０５７５０号公報
【特許文献３】特開昭６０−１１１２４３号公報
【特許文献４】特開昭６２−２６７３３６号公報
【特許文献５】特開平５−８６２１６号公報
【特許文献６】特開平５−１５９８７号公報
【特許文献７】特開平６−１９８５９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献に記載の方法では、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体をエッチングし、凹部を形成することが困難であった。また、特許文献１〜３に記載の方法は、ウェットエッチングを用いているため、廃溶剤の処理の問題がある。さらに、特許文献４〜７に記載の方法では多孔化するための工程が繁雑となってしまう傾向がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することが可能なポリマー成形体の製造方法及びそれにより得られるポリマー成形体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法を提供する。
【０００７】
本発明者らは、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体のエッチング方法について鋭意検討した結果、上記エッチング条件を選択することにより、ポリグリコール酸以外のポリマー成分はエッチングされずに、ポリグリコール酸のみを良好にエッチングすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。上記製造方法では、従来のような複雑な工程を経ることなく、かつ、ウエットプロセスのように廃液の発生もなく、簡便なプロセスでポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することができる。また、ポリマー構造体がポリグリコール酸のみから構成される場合、所定のパターンを備えるマスクを介してエッチングすることにより、マスクの開口部に対応する位置に凹部が形成されたポリマー成形体を得ることができる。さらに、ポリマー構造体がポリグリコール酸と、ポリグリコール酸以外のポリマー成分とを含む場合、ポリマー構造体の表面付近に存在するポリグリコール酸部分のみが選択的にエッチングされて凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【０００８】
上記製造方法において、ドライエッチングはアルゴンイオンエッチングであることが好ましい。アルゴンイオンエッチングは垂直方向のエッチング性に優れるため、エッチング形状の整った（サイドエッチングが生じ難い）凹部を有するポリマー成形体をより温和な条件で形成することができる。
【０００９】
本発明は、また、上記ポリマー成形体の製造方法により得ることのできるポリマー成形体を提供する。ポリマー構造体がポリグリコール酸のみからなる場合、ポリグリコール酸は生分解性ポリマーであることから、上記凹部が形成されたポリマー成形体は、生細胞の培養基材として使用することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することが可能なポリマー成形体の製造方法及びそれにより得られるポリマー成形体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００１２】
本発明のポリマー成形体の製造方法は、ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、上記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備えるものである。
【００１３】
上記ポリマー構造体は、使用目的に応じてポリグリコール酸を含むポリマーをフィルム状、シート状、板状等に成形したものである。
【００１４】
ポリグリコール酸（以下、「ＰＧＡ」と表記する）は、−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＯ）−で表わされるグリコール酸繰り返し単位のみからなるグリコール酸の単独重合体又は上記グリコール酸繰り返し単位を有するグリコール酸共重合体を含むものである。ポリグリコール酸がグリコール酸共重合体である場合、上記繰り返し単位を、５０質量％以上含むことが好ましく、７５質量％以上含むことがより好ましく、９０質量％以上含むことが更に好ましく、９９質量％以上含むことが特に好ましい。
【００１５】
グリコール酸共重合体は、例えば、シュウ酸エチレン（即ち、１，４−ジオキサン−２，３−ジオン）、ラクチド類、ラクトン類（例えば、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、β−ピバロラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン）、カーボネート類（例えば、トリメチリンカーボネート）、エーテル類（例えば１，３−ジオキサン）、エーテルエステル類（例えば、ジオキサノン）、アミド類（例えば、ε−カプロラクタム）等の環状モノマー；乳酸、３−ヒドロキシプロパン酸、３−ヒドロキシブタン酸、４−ヒドロキシブタン酸、６−ヒドロキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸又はそのアルキルエステル；エチレングリコール、１，４−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、コハク酸、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸類又はそのアルキルエステル類をコモノマーとして用い、グリコール酸モノマーと共重合したものである。上記コモノマーは、１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。ポリマー構造体が、ポリグリコール酸共重合体を含む場合、ポリグリコール酸繰り返し単位部分が選択的にドライエッチングされたポリマー成形体を作製することができる。
【００１６】
また、ポリマー構造体は、ＰＧＡ以外のポリマー、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ乳酸、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートを含むポリマーブレンドであってもよい。ポリマー構造体が、ＰＧＡ以外のポリマーを含む場合、ポリマー構造体表面（エッチング面）に存在するＰＧＡ部分が選択的にドライエッチングされて凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【００１７】
ポリマー構造体は、ドライエッチングの容易性の観点から、フィルム状であることがより好ましい。この場合の膜厚は０．１〜５００μｍであることが好ましく、１〜２００μｍであることがより好ましく、２〜５０μｍであることがさらに好ましい。ポリマーフィルムの膜厚が０．１μｍ未満では、取り扱い難くなる傾向があり、５００μｍを超えると、エッチング時間が長くなり、凹部の形成がし難くなる傾向がある。
【００１８】
ポリグリコール酸のみからなるポリマー構造体に凹部を形成するための具体的な方法について、以下に説明する。
【００１９】
ここで、本明細書における「凹部」とは、ポリマー構造体の表面をエッチングすることによりポリマー構造体の膜厚方向に形成されるくぼみやへこみ（「インデント」ともいう）又は貫通孔を意味する。本発明の製造方法により得られるポリマー成形体には、これらのいずれかが形成されている。
【００２０】
図１は、本発明の製造方法により得られるポリマー成形体の実施形態を示す斜視図である。図１に示すポリマー成形体１はフィルム状を成しており、その厚さ方向に凹部３が複数形成されている。凹部３はそれぞれ独立し規則的に配列されている。
【００２１】
図１に示すポリマー成形体１は、図２に示す工程により作製することができる。図２は、本発明に係るポリマー成形体１の製造方法の実施形態を斜視図により示す工程図である。まず、ポリマー構造体２、所定の開口部を有する第１のマスク４及び第２のマスク６を準備する。（図２（ａ））。次に、ポリマー構造体２上に、第１のマスク４と、第２のマスク６とをこの順に積層する。（図２（ｂ））。次いで、ドライエッチング装置８から第２のマスク６上に反応性のガス等を照射してポリマー構造体２をドライエッチングし、ポリマー構造体２に凹部を形成する（図２（ｃ））。そして、第１及び第２のマスクを除去し、ポリマー成形体１が製造される（図２（ｄ））。
【００２２】
第１のマスク４及び第２のマスク６には、複数の開口が形成されている。そして、本発明においては、第１のマスク４の平均開口径より、第２のマスク６の平均開口径が大きいことが好ましい。平均開口径は、表面に形成された開口部の面積を計算し、その開口部面積を持つ真円の直径として計算する。第２のマスク６の平均開口径は、第１のマスク４の平均開口径の５〜１００倍であることが好ましく、７〜６０倍であることがより好ましく、８〜２０倍であることがさらに好ましい。第２のマスク６の平均開口径が第１のマスク４の平均開口径の５倍未満又は１００倍を超えると、本発明の効果を奏し難くなる。
【００２３】
平均開口径を具体的な数値で表すと、第１のマスクの平均開口径は、０．１〜１０００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましい。第１のマスクの平均開口径が０．１μｍ未満では、凹部の形成がし難くなり、１００μｍを超えると、形成した凹部が大きくなりすぎる。
【００２４】
第２のマスクの平均開口径は、２００〜５０００μｍであることが好ましく、４００〜２５００μｍであることがより好ましい。第２のマスクの平均開口径が２００μｍ未満では、第１のマスクとの開口径に対応した凹部が得られ難い傾向があり、５０００μｍを超えると、第１のマスクとポリマー構造体との密着性が低下する傾向がある。
【００２５】
また、第１及び第２のマスクとして、平織り状の網目を有する網を用いる場合は、平均開口径の代わりに「メッシュ数」で表すこともできる。メッシュとは、１インチ（２．５４×１０４μｍ）間に存在する網目を形成する糸の本数をいい、メッシュ数が大きいほど網目が細かいことを意味する。図３に、平織りメッシュ１０の模式図を示す。図３中、糸と糸の間の距離を目開き１２といい、下記式１に示すように、目開き１２はメッシュ数と糸の線径１４から算出することができる。この目開き１２は平均開口径にほぼ対応しており、目開きに基づき好適なメッシュ数を選択することができる。
目開き（μｍ）＝２．５４×１０４／メッシュ数−線径（μｍ） （１）
【００２６】
第１及び第２マスクの材質としては、ポリマー構造体２とのエッチング時の選択比が大きいものが好ましく、例えば、シリカ系、含フッ素ポリマー系、金属系、ポリエステル系、ポリアミド系のマスクを用いることができる。本発明においては、エッチング選択性の観点から、第１及び第２のマスクが同じ材質であることが好ましく、第１及び第２のマスクはＳＵＳ等の金属系マスクであることがより好ましい。
【００２７】
第１及び第２のマスクの厚さとしては、特に限定されないが、第２のマスクは補強材として使用されるため、第１のマスクの厚さよりも第２のマスクの厚さが厚いほうが好ましい。
【００２８】
上述したように、本発明では、平均開口径の異なる２種類のマスクを用いることが好ましい。第１のマスク上に第２のマスクを積層ことにより、第１のマスクをポリマー構造体により密着させることができる。これにより、ドライエッチング時における第１のマスクとポリマー構造体とを平坦に保つことができ、垂直方向へのエッチングがより有効となる。そして、第１のマスクの開口径に応じ、ポリマー構造体に目的とするサイズの凹部を確実に形成することができる。
【００２９】
（エッチング条件）
本発明におけるドライエッチングとは、反応性のガス、イオン又はラジカル等によって、材料をエッチングする方法である。ドライエッチングとしては、プラズマエッチング、イオンエッチング、集束イオンビームエッチング等の公知の方法が利用できる。
【００３０】
イオンエッチングは、ヘリウム(Ｈｅ）、アルゴン(Ａｒ）、ネオン(Ｎｅ）及びその組合せを含む不活性ガス等で、固体表面をエッチングする方法である。本発明においては、垂直なエッチングが可能であり、エッチング形状の整った凹部を形成できることから、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いることがより好ましく、アルゴンガスを用いたアルゴンイオンエッチングであることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明において、ドライエッチングは、真空度５０ｍＴｏｒｒ（６．７Ｐａ）以下で行う。真空度は、３０〜５０ｍＴｏｒｒであることが好ましく、３５〜４５ｍＴｏｒｒであることがより好ましい。真空度が５０ｍＴｏｒｒを超えると、放電が発生しエッチングが困難となる。一方、真空度が３０ｍＴｏｒｒ未満では、電流値が小さくなり、Ａｒイオン濃度が低下するため、エッチングし難くなる傾向がある。
【００３２】
ドライエッチング時の電流値は、３ｍＡ以下であり、０．５〜３ｍＡであることが好ましく、１〜３ｍＡであることがより好ましい。エッチング時の電流が３ｍＡを超えると、放電が発生しエッチングが困難となる。
【００３３】
ドライエッチング時の出力は、１〜６Ｗであり、２〜５Ｗであることが好ましく、３〜４Ｗであることがより好ましい。エッチング時の出力が６Ｗを超えると、放電が発生しエッチングが困難となり、１Ｗ未満では、凹部の形成に長時間を要する。
【００３４】
エッチング時間としては、０．５〜６０分であることが好ましく、１〜１０分であることがより好ましく、２〜５分であることが更に好ましい。エッチング時間が０．５分未満では、凹部を形成し難くなり、６０分を越えると、工業的な生産に適合し難くなる。なお、エッチング時間を適宜調整することにより、凹部を貫通孔とすることができる。
【００３５】
本発明においては、上述の条件、すなわち、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下の範囲内でドライエッチング条件を適宜設定することにより、ＰＧＡのみを選択的にかつ良好にエッチングすることができる。
【００３６】
ポリマー構造体がＰＧＡのみからなる場合、エッチング時に所定の開口パターンを備えるマスクを用いることにより、開口パターンに対応した形状であって、エッチング形状の整った凹部を有するＰＧＡ成形体が得られる。また、ＰＧＡは生分解性ポリマーであることから、得られるＰＧＡ成形体は、生細胞の培養基材として使用することができる。
【００３７】
一方、ＰＧＡ以外のポリマー、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリ乳酸、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリカーボネートからなるポリマー構造体では、上記エッチング条件では全くエッチングされないか、表面がわずかに削れる程度のエッチングしかされず、凹部を形成することができない。
【００３８】
よって、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーのブレンドである場合は、上述したような第１及び第２のマスクを使用せずに、直接ポリマー構造体をドライエッチングすることができる。すなわち、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーのブレンドである場合、ドライエッチング装置からポリマー構造体上に反応性のガス等を直接照射してポリマー構造体をドライエッチングし、ポリマー構造体に凹部を形成する（図示せず）。この場合、ポリマー構造体の表面付近に存在するＰＧＡ部分のみが選択的にエッチングされ、凹部を形成する。このようなポリマー構造体においては、ＰＧＡ以外のポリマーがマスクの役割を果たすため、その下部（ポリマー構造体の内部）に存在するＰＧＡはエッチングされない。
【００３９】
なお、凹部の形成状態は、作製したポリマー成形体の表面及び断面を走査型電子顕微鏡で観察すること、表面粗さ計で測定すること等で確認することができる。
【００４０】
以上のように、本発明においては、上記製造方法により、凹部が形成されたポリマー成形体を作製することができる。
【００４１】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明した。しかし、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の好適な実施例について更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４３】
（実施例１）
膜厚１３．５μｍのポリグリコール酸（以下、「ＰＧＡ」と表記する）フィルム上に、第１のマスクである３００メッシュのＳＵＳメッシュ（太陽金網社製、商品名「アヤ織金網」）、第２のマスクである４０メッシュのＳＵＳメッシュ（太陽金網社製、商品名「平織金網」）の順に積層した試料を準備した。上記試料をエッチング装置（エーコーエンジニアリング社製、商品名「ＩＥ−１０」）のベルジャー内にセットした。約６ｍＴｏｒｒで１時間脱気後、アルゴンガスを注入し、真空度約４０ｍＴｏｒｒにコントロール（電圧１．５ｋＶ、電流値１．５ｍＡになるようアルゴンガスの注入量を調製）しながら、４０メッシュのＳＵＳメッシュ上から、ＰＧＡフィルムを３０分間エッチングし、ＰＧＡ成形体を作製した。
【００４４】
（実施例２〜１０）
表１に示す条件で実施例１と同様の操作を行い、ＰＧＡ成形体をそれぞれ作製した。
【００４５】
（実施例１１）
ＰＧＡとポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＥＴ＝５／９５（質量部））を準備し、第１及び２のマスクは積層せずにエッチング装置（エーコーエンジニアリング社製、商品名「ＩＥ−１０」）のベルジャー内にセットした。約６ｍＴｏｒｒで１時間脱気後、アルゴンガスを注入し、真空度約４０ｍＴｏｒｒにコントロール（電圧１．５ｋＶ、電流値１．５ｍＡになるようアルゴンガスの注入量を調製）しながら、ＰＧＡ／ＰＥＴフィルムを２分間エッチングし、ＰＧＡ／ＰＥＴ成形体を作製した。
【００４６】
（実施例１２）
ＰＧＡとポリプロピレン（以下、「ＰＰ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＰ＝２０／８０（質量部））を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体を作製した。
【００４７】
（実施例１３）
ＰＧＡとポリ乳酸（以下、「ＰＬＡ」と表記する）とのブレンドフィルム（ブレンド比：ＰＧＡ／ＰＬＡ＝２５／７５（質量部））を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体を作製した。
【００４８】
（比較例１、２）
表１に示す条件で実施例１と同様の操作を行い、ＰＧＡ成形体の作製をそれぞれ試みた。
【００４９】
（比較例３）
ＰＥＴフィルム（帝人デュポン社製、商品名「テトロンフィルム」）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＥＴ成形体の作製を試みた。
【００５０】
（比較例４）
ＰＰフィルム（東洋紡社製、商品名「パイレンフィルム」）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＧＡ／ＰＰ成形体の作製を試みた。
【００５１】
（比較例５）
ポリフッ化ビニリデン（以下、「ＰＶＤＦ」と表記する）フィルム（クレハ社製）を用いた以外は実施例１１と同様の操作を行い、表１に示す条件でＰＶＤＦ成形体の作製を試みた。
【００５２】
（エッチング状態の観察）
実施例及び比較例で作製したフィルムの表面及び断面を走査型電子顕微鏡（以下、「ＳＥＭ」と表記する）で観察した。観察結果を表１に示す。表中、Ａ：３００メッシュの開口部に応じた貫通孔が形成、Ｂ：３００メッシュの開口部に応じた凹部（インデント）が形成、Ｃ：表面付近のＰＧＡ部分のみがエッチングされ凹部（インデント）を形成、Ｄ：エッチングされないことを意味する。
【００５３】
【表１】
【００５４】
実施例１〜１０で作製したＰＧＡ成形体では、３００メッシュの開口部に対応した凹部が形成されているこが確認された。これに対し、比較例１では放電が発生しエッチングすることができず、比較例２では、出力が足らず、凹部を形成することができなかった。
【００５５】
実施例１〜１０の代表的なＳＥＭ画像として、実施例１で作製したＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像を図４に、実施例７で作製したＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像を図５にそれぞれ示す。なお、図４及び５において、（ｂ）の画像は（ａ）の画像を拡大したものである。
【００５６】
図６は、実施例１１のＰＧＡ／ＰＥＴ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像であり、図７は、実施例１２のＰＧＡ／ＰＰ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像であり、図８は、実施例１３のＰＧＡ／ＰＬＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。図６〜８から表面付近に凹部が形成していることが確認できる。よって、実施例１１〜１３のようにＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーとのブレンドフィルムを用いた場合、表面（エッチング面）付近に存在するＰＧＡのみが選択的にエッチングされることが確認できた。
【００５７】
図９は、比較例５のエッチング後のＰＶＤＦフィルムをエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。図９からわかるように、ＰＶＤＦフィルムには凹部が形成されていない。比較例３〜５のようにＰＧＡを含まないポリマー成形体の場合、本発明の製造方法に係る条件では、ドライエッチングにより凹部を形成できないことが確認された。
【００５８】
以上のことから、本発明のポリマー成形体の製造方法によれば、フォトレジストプロセス等の複雑な工程を経ることなく、簡便なプロセスによりポリグリコール酸を含むポリマー構造体に凹部を形成することができることがわかった。また、ポリマー構造体がＰＧＡのみから構成される場合は、凹部を有するＰＧＡ形成体を作製することができる。さらに、ポリマー構造体がＰＧＡとＰＧＡ以外のポリマーとから構成される場合は、表面付近のＰＧＡ部分がエッチングされて形成された凹部を有するポリマー形成体を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の製造方法により得られるポリマー成形体の実施形態を示す斜視図である。
【図２】本発明に係るポリマー成形体の製造方法の実施形態を斜視図により示す工程図である。
【図３】平織りメッシュを表す模式図である。
【図４】実施例１で得られたＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図５】実施例７で得られたＰＧＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図６】実施例１１で得られたＰＧＡ／ＰＥＴ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図７】実施例１２で得られたＰＧＡ／ＰＰフ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図８】実施例１３で得られたＰＧＡ／ＰＬＡ成形体をエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【図９】比較例５で得られたエッチング後のＰＶＤＦフィルムをエッチング表面から観察したＳＥＭ画像である。
【符号の説明】
【００６０】
１…ポリマー成形体、２…ポリマー構造体、３…凹部、４…第１のマスク、６…第２のマスク、８…ドライエッチング装置、１０…平織りメッシュ、１２…目開き、１４…線径。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、前記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法。
【請求項２】
前記ドライエッチングがアルゴンイオンエッチングである、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の製造方法により得ることのできる、ポリマー成形体。
【請求項１】
ポリグリコール酸を含むポリマー構造体を、真空度５０ｍＴｏｒｒ以下、出力１〜６Ｗかつ電流３ｍＡ以下でドライエッチングして、前記ポリマー構造体に凹部を形成する工程を備える、ポリマー成形体の製造方法。
【請求項２】
前記ドライエッチングがアルゴンイオンエッチングである、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載の製造方法により得ることのできる、ポリマー成形体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−２３５１９０（Ｐ２００９−２３５１９０Ａ）
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−８１２７４（Ｐ２００８−８１２７４）
【出願日】平成２０年３月２６日（２００８．３．２６）
【出願人】（０００００１１００）株式会社クレハ (477)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２６日（２００８．３．２６）
【出願人】（０００００１１００）株式会社クレハ (477)
【Ｆターム（参考）】
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