マスクレスめっき装置
【課題】 めっきの各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができるマスクレスめっき装置を提供する。
【解決手段】 各工程に、槽が仕切り板１ｄにより仕切られ、仕切り板１ｄから処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽１ａとオーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽１ｂと仕切り板１ｄの壁面に設けられ処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板４と長孔を貫通して仕切り板の壁面に螺合するボルト６とを有し、長孔の位置を上下にずらして液面レベル調整板４の高さを調節してボルト６で液面レベル調整板４を仕切り板１ｄに固定するようにしためっき槽１、流出槽１ｂから流出した処理液を収容するめっき予備槽２、めっき予備槽２からめっき槽１へ処理液を送給し、循環させるポンプを備える構成とする。
【解決手段】 各工程に、槽が仕切り板１ｄにより仕切られ、仕切り板１ｄから処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽１ａとオーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽１ｂと仕切り板１ｄの壁面に設けられ処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板４と長孔を貫通して仕切り板の壁面に螺合するボルト６とを有し、長孔の位置を上下にずらして液面レベル調整板４の高さを調節してボルト６で液面レベル調整板４を仕切り板１ｄに固定するようにしためっき槽１、流出槽１ｂから流出した処理液を収容するめっき予備槽２、めっき予備槽２からめっき槽１へ処理液を送給し、循環させるポンプを備える構成とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクレスで部分めっきの処理を実施することができるマスクレスめっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の部分めっきの方法として、めっき部分を残して部品にマスキング塗料、テープ等でマスキングし、めっき工程終了後、マスキングを剥離する方法があるが、この方法ではマスキングを施す作業、及びマスキングを剥離する作業に多くの時間を費やす。
【０００３】
これに対し、特許文献１に開示された方法では、槽内に送給されるめっき液をロート状部分からオーバーフローさせてめっき液面を一定に保つ方法が開示されている。この方法では、ねじが形成されたロート状部分と、ロート状部分のねじと螺合するねじ部が形成されたパイプとをねじ部で接続し、ねじ部の回転によってロート状部分の高さ位置を微調整する。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−９８４９０号公報（第２−３頁、図１−３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
めっきの工程には、部品に生成されている酸化被膜を酸洗で除去する等の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程があり、各工程においてマスクレスで処理液に部品を浸漬して部分めっきを施そうとした場合、各工程毎に処理液に部品を浸漬する深さが異なる。
【０００６】
前処理工程においては、めっき工程における浸漬深さより深くし、前処理工程の後の水洗工程においては、前処理工程における浸漬深さより深くし、めっき工程の後の水洗工程においては、他の工程より浸漬深さを深くする必要があるので、各工程において処理液の液面レベルを調整することが必要になる。
【０００７】
上記特許文献１に開示された液面を一定に保つ方法では、液面レベルを調整するためにねじ部の回転によってロート状部分の高さ位置を調整するものであるので、調整に手間が掛かるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、めっきの各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができるマスクレスめっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るマスクレスめっき装置は、順次、めっき部品の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程を有するマスクレスめっき装置において、
各工程に、槽が仕切り板により仕切られ、上記仕切り板から上記処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽部と上記オーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽部と上記仕切り板の壁面に設けられ上記処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板と上記長孔を貫通して上記仕切り板の壁面に螺合するボルトとを有し、上記長孔の位置を上下にずらして上記液面レベル調整板の高さを調節して上記ボルトで上記液面レベル調整板を上記仕切り板の壁面に固定するようにしためっき槽、
上記めっき槽の流出槽部から流出した上記処理液を収容するめっき予備槽、
上記めっき予備槽から上記めっき槽へ上記処理液を送給し、上記処理液を上記めっき予備槽と上記めっき槽との間を循環させるポンプを備え、
電流を供給するためのブスバーに吊り具で吊り下げられた上記めっき部品を、上記ブスバーの高さ位置を全工程で一定として上記各工程に備えられためっき槽の液槽部に順次浸漬して処理するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係るマスクレスめっき装置によれば、各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
図１は、本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１を示す断面図であり、図２は、液面レベル調整板の構造を示す断面図（ａ）及び側面図（ｂ）であり、図３は、各処理工程における液面レベルの調整状態を示す断面図である。
【００１２】
図１に示したように、マスクレスめっき装置の処理液槽は、めっき槽１と予備槽２とを備えている。めっき槽１は、めっき液等の処理液を収容する液槽１ａと、流出槽１ｂとを備えている。液槽１ａと流出槽１ｂとの間の仕切板１ｄの高さが液槽１ａの他の３つの壁の高さより低く、処理液を供給したときにオーバーフローする。オーバーフローした処理液は、流出槽１ｂに流れ込み、流出槽１ｂの底部の流出口１ｃから流出する。
【００１３】
めっき予備槽２は流出槽１ｂから流れ出た処理液を受け、めっき予備槽２の処理液は、循環ポンプ３によってめっき槽１に戻される。
【００１４】
液面レベル調整板４は、液槽１ａと流出槽１ｂとの間の仕切板１ｄに設けられ、その高さ位置を調節することができ液槽１ａにおける処理液の液面レベルを調整することができる。処理液は液面レベル調整板４によって調整された液面レベルを保って、めっき予備槽２とめっき槽１との間を循環し、めっき部品５の浸漬深さは常に一定の深さに保たれる。
【００１５】
図２に示したように、液面レベル調整板４は上下方向に長径を有する長孔４ａが設けられ、調整板固定ボルト６をゆるめて長孔４ａ位置をずらすことにより液面レベル調整板４の高さ位置を簡単に調整することができ、また、調整位置において調整板固定ボルト６を締め付けることにより液面レベル調整板４を仕切板１ｄに固定することができる。
【００１６】
図３に示したように、前処理工程（ａ）、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）、めっき工程（ｃ）、めっき工程の後の水洗工程（ｄ）それぞれに図１に示しためっき槽１及びめっき予備槽２が設置され、めっき用ブスバー７に吊り下げられたられためっき用部品５は、順次、めっき用ブスバー７に吊り下げられたまま、前処理工程（ａ）、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）、めっき工程（ｃ）、めっき工程の後の水洗工程（ｄ）に移動され、全行程においてめっき用ブスバー７の高さが一定の高さに保持された状態で、めっき用部品５は各工程において必要とする浸漬深さに浸漬されて各処理が施される。なお、図３において、循環ポンプは省略している。
【００１７】
図３に示したように、液面レベルは、前処理工程（ａ）においては、めっき工程（ｃ）における浸漬深さより深くなり、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）においては、前処理工程（ａ）における浸漬深さより深くなり、めっき工程（ｃ）の後の水洗工程（ｄ）においては、他の工程より浸漬深さが深くなるように調節する。
【００１８】
本実施の形態１のマスクレスめっき装置によれば、仕切り板１ｄの壁面に設けられた長孔４ａを有する液面レベル調整板４の長孔４ａの位置を上下にずらすことで処理液の液面を調節することができるので、各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができる。
【００１９】
実施の形態２．
図４は、めっき部品をめっき用ブスバーに所定の距離の位置に吊り下げるための、めっき部品位置決め装置である。
【００２０】
図４に示したように、めっき部品位置決め装置は、油圧あるいはモータ等を備えた昇降装置９と、昇降装置９により上昇及び下降する昇降テーブル９ａと、昇降装置９の操作盤８と、昇降テーブル９ａの昇降方向に立てられた支柱９ｂと、支柱９ｂに設けられた深さゲージ１０とを備えている。
【００２１】
めっき用ブスバー７は、支柱９ｂによって支持され、吊り具１１に固定されためっき部品５は昇降テーブル９ａ上に載置され、操作盤８を操作して昇降テーブル９ａを上昇・下降させて、深さゲージ１０によりめっき部品５のめっき深さ（黒塗り部分）の位置合わせを実施し、吊り具１１をめっき用ブスバー７に固定する。
【００２２】
本実施の形態２によれば、めっき部品５のめっき深さの位置合わせを簡単に実施することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
本発明に係るマスクレスめっき装置は、電気部品等の部分めっきに有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１を示す断面図である。
【図２】本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１における液面レベル調整板の構造を示す断面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
【図３】各処理工程における液面レベルの調整状態を示す断面図である。
【図４】めっき部品をブスバーに所定の距離の位置に吊り下げるための、めっき部品位置決め装置である。
【符号の説明】
【００２５】
１ めっき槽、１ａ 液槽、１ｂ 流出槽、１ｃ 流出口、１ｄ 仕切板、
２ めっき予備槽、３ 循環ポンプ、４ 液面レベル調整板、４ａ 長孔、
５ めっき部品、６ 調整板固定ボルト、７ めっき用ブスバー、８ 操作盤、
９ 昇降装置、９ａ 昇降テーブル、９ｂ 支柱、１０ 深さゲージ、１１ 吊り具。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクレスで部分めっきの処理を実施することができるマスクレスめっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の部分めっきの方法として、めっき部分を残して部品にマスキング塗料、テープ等でマスキングし、めっき工程終了後、マスキングを剥離する方法があるが、この方法ではマスキングを施す作業、及びマスキングを剥離する作業に多くの時間を費やす。
【０００３】
これに対し、特許文献１に開示された方法では、槽内に送給されるめっき液をロート状部分からオーバーフローさせてめっき液面を一定に保つ方法が開示されている。この方法では、ねじが形成されたロート状部分と、ロート状部分のねじと螺合するねじ部が形成されたパイプとをねじ部で接続し、ねじ部の回転によってロート状部分の高さ位置を微調整する。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−９８４９０号公報（第２−３頁、図１−３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
めっきの工程には、部品に生成されている酸化被膜を酸洗で除去する等の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程があり、各工程においてマスクレスで処理液に部品を浸漬して部分めっきを施そうとした場合、各工程毎に処理液に部品を浸漬する深さが異なる。
【０００６】
前処理工程においては、めっき工程における浸漬深さより深くし、前処理工程の後の水洗工程においては、前処理工程における浸漬深さより深くし、めっき工程の後の水洗工程においては、他の工程より浸漬深さを深くする必要があるので、各工程において処理液の液面レベルを調整することが必要になる。
【０００７】
上記特許文献１に開示された液面を一定に保つ方法では、液面レベルを調整するためにねじ部の回転によってロート状部分の高さ位置を調整するものであるので、調整に手間が掛かるという問題がある。
【０００８】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、めっきの各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができるマスクレスめっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るマスクレスめっき装置は、順次、めっき部品の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程を有するマスクレスめっき装置において、
各工程に、槽が仕切り板により仕切られ、上記仕切り板から上記処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽部と上記オーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽部と上記仕切り板の壁面に設けられ上記処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板と上記長孔を貫通して上記仕切り板の壁面に螺合するボルトとを有し、上記長孔の位置を上下にずらして上記液面レベル調整板の高さを調節して上記ボルトで上記液面レベル調整板を上記仕切り板の壁面に固定するようにしためっき槽、
上記めっき槽の流出槽部から流出した上記処理液を収容するめっき予備槽、
上記めっき予備槽から上記めっき槽へ上記処理液を送給し、上記処理液を上記めっき予備槽と上記めっき槽との間を循環させるポンプを備え、
電流を供給するためのブスバーに吊り具で吊り下げられた上記めっき部品を、上記ブスバーの高さ位置を全工程で一定として上記各工程に備えられためっき槽の液槽部に順次浸漬して処理するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係るマスクレスめっき装置によれば、各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
図１は、本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１を示す断面図であり、図２は、液面レベル調整板の構造を示す断面図（ａ）及び側面図（ｂ）であり、図３は、各処理工程における液面レベルの調整状態を示す断面図である。
【００１２】
図１に示したように、マスクレスめっき装置の処理液槽は、めっき槽１と予備槽２とを備えている。めっき槽１は、めっき液等の処理液を収容する液槽１ａと、流出槽１ｂとを備えている。液槽１ａと流出槽１ｂとの間の仕切板１ｄの高さが液槽１ａの他の３つの壁の高さより低く、処理液を供給したときにオーバーフローする。オーバーフローした処理液は、流出槽１ｂに流れ込み、流出槽１ｂの底部の流出口１ｃから流出する。
【００１３】
めっき予備槽２は流出槽１ｂから流れ出た処理液を受け、めっき予備槽２の処理液は、循環ポンプ３によってめっき槽１に戻される。
【００１４】
液面レベル調整板４は、液槽１ａと流出槽１ｂとの間の仕切板１ｄに設けられ、その高さ位置を調節することができ液槽１ａにおける処理液の液面レベルを調整することができる。処理液は液面レベル調整板４によって調整された液面レベルを保って、めっき予備槽２とめっき槽１との間を循環し、めっき部品５の浸漬深さは常に一定の深さに保たれる。
【００１５】
図２に示したように、液面レベル調整板４は上下方向に長径を有する長孔４ａが設けられ、調整板固定ボルト６をゆるめて長孔４ａ位置をずらすことにより液面レベル調整板４の高さ位置を簡単に調整することができ、また、調整位置において調整板固定ボルト６を締め付けることにより液面レベル調整板４を仕切板１ｄに固定することができる。
【００１６】
図３に示したように、前処理工程（ａ）、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）、めっき工程（ｃ）、めっき工程の後の水洗工程（ｄ）それぞれに図１に示しためっき槽１及びめっき予備槽２が設置され、めっき用ブスバー７に吊り下げられたられためっき用部品５は、順次、めっき用ブスバー７に吊り下げられたまま、前処理工程（ａ）、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）、めっき工程（ｃ）、めっき工程の後の水洗工程（ｄ）に移動され、全行程においてめっき用ブスバー７の高さが一定の高さに保持された状態で、めっき用部品５は各工程において必要とする浸漬深さに浸漬されて各処理が施される。なお、図３において、循環ポンプは省略している。
【００１７】
図３に示したように、液面レベルは、前処理工程（ａ）においては、めっき工程（ｃ）における浸漬深さより深くなり、前処理工程の後の水洗工程（ｂ）においては、前処理工程（ａ）における浸漬深さより深くなり、めっき工程（ｃ）の後の水洗工程（ｄ）においては、他の工程より浸漬深さが深くなるように調節する。
【００１８】
本実施の形態１のマスクレスめっき装置によれば、仕切り板１ｄの壁面に設けられた長孔４ａを有する液面レベル調整板４の長孔４ａの位置を上下にずらすことで処理液の液面を調節することができるので、各処理工程における液面レベルを簡単に調整することができる。
【００１９】
実施の形態２．
図４は、めっき部品をめっき用ブスバーに所定の距離の位置に吊り下げるための、めっき部品位置決め装置である。
【００２０】
図４に示したように、めっき部品位置決め装置は、油圧あるいはモータ等を備えた昇降装置９と、昇降装置９により上昇及び下降する昇降テーブル９ａと、昇降装置９の操作盤８と、昇降テーブル９ａの昇降方向に立てられた支柱９ｂと、支柱９ｂに設けられた深さゲージ１０とを備えている。
【００２１】
めっき用ブスバー７は、支柱９ｂによって支持され、吊り具１１に固定されためっき部品５は昇降テーブル９ａ上に載置され、操作盤８を操作して昇降テーブル９ａを上昇・下降させて、深さゲージ１０によりめっき部品５のめっき深さ（黒塗り部分）の位置合わせを実施し、吊り具１１をめっき用ブスバー７に固定する。
【００２２】
本実施の形態２によれば、めっき部品５のめっき深さの位置合わせを簡単に実施することができる。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
本発明に係るマスクレスめっき装置は、電気部品等の部分めっきに有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１を示す断面図である。
【図２】本発明に係るマスクレスめっき装置の実施の形態１における液面レベル調整板の構造を示す断面図（ａ）及び側面図（ｂ）である。
【図３】各処理工程における液面レベルの調整状態を示す断面図である。
【図４】めっき部品をブスバーに所定の距離の位置に吊り下げるための、めっき部品位置決め装置である。
【符号の説明】
【００２５】
１ めっき槽、１ａ 液槽、１ｂ 流出槽、１ｃ 流出口、１ｄ 仕切板、
２ めっき予備槽、３ 循環ポンプ、４ 液面レベル調整板、４ａ 長孔、
５ めっき部品、６ 調整板固定ボルト、７ めっき用ブスバー、８ 操作盤、
９ 昇降装置、９ａ 昇降テーブル、９ｂ 支柱、１０ 深さゲージ、１１ 吊り具。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
順次、めっき部品の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程を有するマスクレスめっき装置において、
各工程に、槽が仕切り板により仕切られ、上記仕切り板から上記処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽部と上記オーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽部と上記仕切り板の壁面に設けられ上記処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板と上記長孔を貫通して上記仕切り板の壁面に螺合するボルトとを有し、上記長孔の位置を上下にずらして上記液面レベル調整板の高さを調節して上記ボルトで上記液面レベル調整板を上記仕切り板の壁面に固定するようにしためっき槽、
上記めっき槽の流出槽部から流出した上記処理液を収容するめっき予備槽、
上記めっき予備槽から上記めっき槽へ上記処理液を送給し、上記処理液を上記めっき予備槽と上記めっき槽との間を循環させるポンプを備え、
電流を供給するためのブスバーに吊り具で吊り下げられた上記めっき部品を、上記ブスバーの高さ位置を全工程で一定として上記各工程に備えられためっき槽の液槽部に順次浸漬して処理することを特徴とするマスクレスめっき装置。
【請求項２】
上記吊り具で吊り下げられためっき部品を載置する昇降テーブルと、
上記昇降テーブルを昇降させる昇降装置と、
上記昇降テーブルの昇降方向に直立し、上記ブスバーを支持するための一対の支柱と、
上記支柱に設けられた深さゲージとを備えためっき部品位置決め装置、
を有することを特徴とする請求項１記載のマスクレスめっき装置。
【請求項１】
順次、めっき部品の前処理工程、前処理工程の後の水洗工程、めっき工程、めっき工程の後の水洗工程を有するマスクレスめっき装置において、
各工程に、槽が仕切り板により仕切られ、上記仕切り板から上記処理液がオーバーフローするように処理液を収容する液槽部と上記オーバーフローした処理液が流入し底部の流出口から流出する流出槽部と上記仕切り板の壁面に設けられ上記処理液の液面を調節するための長孔を有する液面レベル調整板と上記長孔を貫通して上記仕切り板の壁面に螺合するボルトとを有し、上記長孔の位置を上下にずらして上記液面レベル調整板の高さを調節して上記ボルトで上記液面レベル調整板を上記仕切り板の壁面に固定するようにしためっき槽、
上記めっき槽の流出槽部から流出した上記処理液を収容するめっき予備槽、
上記めっき予備槽から上記めっき槽へ上記処理液を送給し、上記処理液を上記めっき予備槽と上記めっき槽との間を循環させるポンプを備え、
電流を供給するためのブスバーに吊り具で吊り下げられた上記めっき部品を、上記ブスバーの高さ位置を全工程で一定として上記各工程に備えられためっき槽の液槽部に順次浸漬して処理することを特徴とするマスクレスめっき装置。
【請求項２】
上記吊り具で吊り下げられためっき部品を載置する昇降テーブルと、
上記昇降テーブルを昇降させる昇降装置と、
上記昇降テーブルの昇降方向に直立し、上記ブスバーを支持するための一対の支柱と、
上記支柱に設けられた深さゲージとを備えためっき部品位置決め装置、
を有することを特徴とする請求項１記載のマスクレスめっき装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００６−３０７２９９（Ｐ２００６−３０７２９９Ａ）
【公開日】平成１８年１１月９日（２００６．１１．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１３３７６５（Ｐ２００５−１３３７６５）
【出願日】平成１７年５月２日（２００５．５．２）
【出願人】（０００００６０１３）三菱電機株式会社 (33,312)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１１月９日（２００６．１１．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年５月２日（２００５．５．２）
【出願人】（０００００６０１３）三菱電機株式会社 (33,312)
【Ｆターム（参考）】
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