ミスト発生装置及びこれを備える美容装置
【課題】殺菌部内での液体の殺菌効果のばらつきを少なくすることができるミスト発生装置及びこれを備える美容装置を提供する。
【解決手段】美顔器の冷ミスト生成機構は、給水タンク３６から供給された水を殺菌する殺菌部５１と、殺菌部５１で殺菌された水をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えている。殺菌部５１は、その上端が給水タンク３６内において水が収容される収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置されている。
【解決手段】美顔器の冷ミスト生成機構は、給水タンク３６から供給された水を殺菌する殺菌部５１と、殺菌部５１で殺菌された水をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えている。殺菌部５１は、その上端が給水タンク３６内において水が収容される収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体のミストを発生させるミスト発生装置及びこれを備える美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、スチーム（「温ミスト」ともいう。）を生成するためのスチーム生成機構及びミスト（「冷ミスト」ともいう。）を生成するためのミスト生成機構を備える美容装置として、例えば特許文献１に記載の美容装置が提案されている。この美容装置のミスト生成機構には、給水タンクから供給された水（液体）をヒーターによって殺菌する殺菌部と、該殺菌部で殺菌された水をミスト化させるミスト生成部とが設けられている。
【０００３】
殺菌部の上端は、鉛直方向において給水タンクの下端よりも上方に位置している。こうした殺菌部内には、給水タンクに収容される水の水面と殺菌部内に貯留される水の水面との水頭差を利用し、給水タンクから水が供給される。そして、殺菌部で殺菌された水は、供給されたミスト生成部でミスト化され、ミストがミストノズルから放出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１８７７６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、殺菌部内には、給水タンク内の水面と殺菌部内の水面との水頭差を利用して水が供給される。そのため、殺菌部の上端が給水タンクの下端よりも上方に位置する配置構成の場合には、給水タンク内における水の収容量に応じて、殺菌部内に供給される水量が変動するおそれがある。このように殺菌部内への水の供給量が変動すると、殺菌部内への水の流入に伴う殺菌部内での水温の変動量が異なる。その結果、殺菌部による殺菌効果にばらつきが生じる。こうした殺菌効果のばらつきを抑えるためには、殺菌部内への水の供給量が一定となるように工夫する必要がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、殺菌部内での液体の殺菌効果のばらつきを少なくすることができるミスト発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、液体収容部から供給された液体を殺菌する殺菌部と、前記殺菌部で殺菌された液体をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えたミスト発生装置において、前記殺菌部を、その上端が前記液体収容部内において液体が収容される液体収容空間の下端よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置したことを要旨とする。
【０００８】
本発明のミスト発生装置は、前記殺菌部内で液体に乱流を発生させるための乱流発生部をさらに備えることが好ましい。
本発明のミスト発生装置において、前記乱流発生部は、前記殺菌部内での液体の流動方向が変わるように構成されていることが好ましい。
【０００９】
本発明のミスト発生装置において、前記乱流発生部は、前記殺菌部内への液体の流入口と、前記殺菌部内からの液体の流出口とを一直線で結ぶ方向と交差する方向に延びる板部を有することが好ましい。
【００１０】
本発明のミスト発生装置において、前記殺菌部内からの液体の流出口は、前記殺菌部内への液体の流入口よりも鉛直方向上側に配置され、前記流出口には、液体の供給方向において前記流出口から離間するほど通路断面積が狭くなるように形成された絞り部が接続されていることを特徴とすることが好ましい。
【００１１】
本発明のミスト発生装置は、加熱装置による加熱によって液体をスチーム化するスチーム生成機構をさらに備え、前記殺菌部は、該殺菌部内の液体を前記加熱装置の余熱で殺菌することが好ましい。
【００１２】
本発明の美容装置は、上記ミスト発生装置を備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、殺菌部内での液体の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明のミスト発生装置を備える美容装置の一実施形態である美顔器を示す斜視図。
【図２】美顔器を示す背面図。
【図３】給水タンク及びタンクホルダーを示す断面図。
【図４】美顔器本体を示す背面図。
【図５】タンクホルダーに接続される管路を示す斜視図。
【図６】図２における６−６線矢視断面図。
【図７】美顔器本体を後方側から見た斜視図。
【図８】給水タンクと殺菌部との配置態様を説明する断面図。
【図９】殺菌部の構成を説明する断面図。
【図１０】別の実施形態の連通路の構成を説明する模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を、ミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器に具体化した一実施形態を図１〜図９に従って説明する。なお、以下の説明において、「前後方向」、「左右方向」、「上下方向」をいう場合には、図中における矢印に示す方向を示すものとする。
【００１６】
図１に示すように、本実施形態の美顔器１０における有底略円筒状の本体ケース１１内には美顔器本体１２が収容されている。また、本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。そして、ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００１７】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面の中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂ、冷ミストを放出するミストノズル１７、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル１８を有している。そして、ミストノズル１７が左右方向中央位置に、スチームノズル１６ａがその右側に、スチームノズル１６ｂが左側に、イオンノズル１８がミストノズル１７の上側にそれぞれ配置されている。なお、スチームノズル１６ａ，１６ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００１８】
また、スチームノズル１６ａ，１６ｂ、ミストノズル１７、及びイオンノズル１８の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定されている。すなわち、美顔器１０の前側と使用者とが対向するように使用されたときに、その使用者の顔表面に向けて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１９が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の露出・隠蔽が可能とされている。
【００１９】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２０、運転制御スイッチ２１、及びコース選択スイッチ２２が設けられている。電源スイッチ２０は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものである。また、運転制御スイッチ２１及びコース選択スイッチ２２は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースや、スチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２０】
また、メインカバー１５の前端部には、開閉操作部２３として、開閉操作板２４及び開閉操作カバー２５が設けられている。開閉操作板２４は、メインカバー１５に図示しない締結ねじにより固定された開閉操作カバー２５に対して、その後端部が回動可能に取り付けられており、この開閉操作板２４の前端部にはフック部２６が設けられている。そして、開閉操作板２４のフック部２６は、メインカバー１５が閉じられた際に、美顔器本体１２の上面の前端部に設けられたフック受け部２７に対して図示しないばねの付勢力に基づき掛止することにより、メインカバー１５の開放動作をロックするようになっている。また、開閉操作カバー２５の後端部にはフック部２８が設けられており、このフック部２８にはミストノズル１７を掃除するためのミスト針２９が着脱自在に取り付けられている。
【００２１】
また、図２に示すように、美顔器本体１２の後方下部における右寄りの位置には、インレットプラグ３０が設けられている。そして、このインレットプラグ３０には、外部から電源を供給するための電源コード３１が着脱可能に取り付けられている。
【００２２】
また、美顔器本体１２の後方下部における左寄りの位置には、美顔器本体１２の内部から水（液体）を排水するための排水口３２、及び該排水口３２を通じた排水動作を操作するための排水操作板３３が設けられている。そして、本体ケース１１には、排水口３２及び排水操作板３３を覆うように排水カバー３４が回動自在に取り付けられている。
【００２３】
また、図１に示すように、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンクホルダー３５が設けられており、該タンクホルダー３５内には、本体ケース１１の開口部と面一となるように液体収容部としての給水タンク３６が着脱可能に収容されている。
【００２４】
具体的には、図３に示すように、タンクホルダー３５において給水タンク３６を収容する内面には、給水タンク３６を相対移動不能に係止させるタンク固定部３７が設けられている。このタンク固定部３７は、先端部３８ａが凸状をなすタンクフック３８と、該タンクフック３８をその先端部３８ａがタンクホルダー３５の内側に向くようにして基端側から付勢するタンクフックバネ３９とを備えている。そして、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して装着されると、タンクホルダー３５の内側に付勢されたタンクフック３８の先端部３８ａが、給水タンク３６の外側面に設けられた凹部４０に対して係合することにより、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して相対移動不能に係止されるようになっている。
【００２５】
また、図４及び図５に示すように、タンクホルダー３５の下部からは、図２に示した排水口３２に連なる排出チューブ４１が延設されている。この排出チューブ４１の途中には分岐部４２が設けられ、その分岐部４２には下流側が二股状に分岐した給水チューブ４３の上流端が接続されている。そして、この給水チューブ４３の各下流端は、給水タンク３６から給水された水からスチーム（温ミスト）を発生させるスチーム生成機構４４（図６参照）、及び給水タンク３６から給水された水から冷ミストを生成する冷ミスト生成機構４５に対してそれぞれ接続されている。なお、排出チューブ４１における分岐部４２よりも上流側及び給水チューブ４３における分岐位置よりも上流側となる各位置からは分岐チューブ４１ａ，４３ａが鉛直方向上側に延びるように分岐し、それらの各上端がタンクホルダー３５に接続されている。そして、排出チューブ４１内及び給水チューブ４３内から気泡が各分岐チューブ４１ａ，４３ａ及びタンクホルダー３５を通じて外部に排出されるようになっている。
【００２６】
図６に示すように、スチーム生成機構４４は、美顔器本体１２の中央よりも前側に備えられており、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒーター４６ａ，４６ｂを前側と後側にそれぞれ備えている。そして、スチーム生成機構４４は、給水タンク３６から給水チューブ４３を介してＰＴＣヒーター４６ａ，４６ｂの内側のボイラー室４７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。
【００２７】
ボイラー室４７の上部には、生成したスチームを一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂまで案内するためのスチーム案内管路４８が接続されている。そのため、ボイラー室４７にて生成されたスチームはスチーム案内管路４８を通って各スチームノズル１６ａ，１６ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラー室４７やスチーム案内管路４８内は高圧となるため、各スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。なお、スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００２８】
また、スチーム案内管路４８の途中位置には、スチーム放電部４９が備えられている。スチーム放電部４９は、自身の放電により、通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム放電部４９では、抗酸化作用があり肌にも良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させている。
【００２９】
冷ミスト生成機構４５は、図６に示すように、スチーム生成機構４４よりも後側に配置されており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。こうした冷ミスト生成機構４５は、後側のＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面（図６では後面）４６ｂ１に対向して配置されるボイラーブロック６０を備えている。このボイラーブロック６０には、給水チューブ４３を介して供給された給水タンク３６からの水を、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１からの熱（余熱）を用いて殺菌する殺菌部５１が形成されている。この殺菌部５１では、給水チューブ４３を介して供給された水が、例えば８０℃以上、３０秒以上で殺菌処理される。
【００３０】
ボイラーブロック６０の上側には、殺菌済みとなった水を一時的に貯留する気液分離部７０が設けられている。この気液分離部７０内の気液分離室７１では、殺菌部５１から供給された水と、該水に含まれる気泡とが分離される。そのため、気液分離室７１内では、気泡を多く含んだ水が供給されるほど水位が下方に変位する。
【００３１】
また、気液分離部７０には、該気液分離部７０の上側から下方に突出する筒形状の給水ノズル（突出部材）７２が接続されている。この給水ノズル７２の鉛直方向における中途よりも下側の部位は、気液分離室７１内に位置している。
【００３２】
給水ノズル７２の上端は、上方に配置される異物捕捉部８０内とミスト継手８１を介して連通している。異物捕捉部８０内には、下方（給水ノズル７２側）から上方に流動する水に含まれる異物を捕捉するためのミストフィルター８３が設けられている。こうした異物捕捉部８０の上端には、継手８４を介してミストチューブ８５が接続されている。そして、このミストチューブ８５の下流端には、ベンチュリー構造のミストノズル１７が接続されている。その結果、ミストフィルター８３を通過した殺菌済みの水がミストノズル１７に供給され、該ミストノズル１７では、ベンチュリー効果によって、美容に適した衛生状態に保たれた冷ミストが生成される。こうした冷ミストが、ミストノズル１７から放出される。
【００３３】
また、図６及び図７に示すように、冷ミスト生成機構４５には、ボイラーブロック６０からミストノズル１７までの水の供給経路を左右方向から挟むように一対のポンプブロック５２が設けられている。これら各ポンプブロック５２は、電源モーターを駆動源としたポンプ５３と、該ポンプ５３から送出される空気をミストノズル１７に向けて流動させる第１エアチューブ５４とを備えている。各第１エアチューブ５４の下流端は、３つ股状のエアパイプ５５に接続されている。こうしたエアパイプ５５は、第２エアチューブ５６を介してミストノズル１７に接続されている。つまり、ミストノズル１７には、各ポンプ５３の駆動によって各ポンプブロック５２から送出された空気が合流した状態で供給される。
【００３４】
その結果、ポンプが一つの場合と比較してミストノズル１７に送出される空気の風量が増大し、ミストノズル１７からは、より多くの冷ミストが放出される。したがって、本実施形態では、ミストノズル１７、各ポンプブロック５２、エアパイプ５５及び第２エアチューブ５６により、殺菌部５１で殺菌された水をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部が構成される。
【００３５】
次に、ボイラーブロック６０について説明する。なお、以降において上下方向とは、美顔器１０を水平面に設置した場合の上下方向と一致するものとする。
図６及び図８に示すように、ボイラーブロック６０内には、水を殺菌する殺菌部５１と、該殺菌部５１の上側に位置する連通路６１とが形成されている。この連通路６１は、殺菌部５１で殺菌済みとなった水を気液分離部７０に導くための通路である。
【００３６】
殺菌部５１には、該殺菌部５１内の水面と給水タンク３６内の水面との高さ、即ち水頭差を利用し、給水タンク３６から水が供給される。こうした殺菌部５１は、その上端が給水タンク３６内において水を収容する収容空間（液体収容空間）３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置するように配置されている。なお、本実施形態では、殺菌部５１の上端は、収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下方に位置するタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２と上下方向において略同一位置に位置している。
【００３７】
図８及び図９に示すように、殺菌部５１において、その下端側に流入口６２が形成されると共に、その上端側に流出口６３が形成されている。そして、給水チューブ４３からの水は、流入口６２を介して殺菌部５１内に流入する。また、殺菌部５１内の水は、流出口６３から連通路６１に流出し、該連通路６１を介して気液分離室７１内に供給される。
【００３８】
こうした殺菌部５１内には、流入口６２と流出口６３とを一直線で結ぶ方向に延びる仮想線Ｓ１と交差する方向（図９では左右方向）に延びる複数（本実施形態では５つ）の板部（乱流発生部）６４が設けられている。これら各板部６４は、上下方向にほぼ等間隔に配置されている。各板部６４は、下から順に、板部６４Ａ、板部６４Ｂ、板部６４Ｃ、板部６４Ｄ、板部６４Ｅとする。そして、こうした各板部６４によって、殺菌部５１内には、流入口６２から流出口６３に至るまでの蛇行した経路が形成される。
【００３９】
すなわち、流入口６２を介して殺菌部５１内に流入した水は、殺菌部５１の下壁５１Ａと板部６４Ａとの間の第１の経路６５１を図９における左方に流動する。第１の経路６５１の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ａと板部６４Ｂとの間の第２の経路６５２を図９における右方に流動する。第２の経路６５２の下流端（図９では右端）に到達した水は、板部６４Ｂと板部６４Ｃとの間の第３の経路６５３を図９における左方に流動する。第３の経路６５３の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ｃと板部６４Ｄとの間の第４の経路６５４を図９における右方に流動する。第４の経路６５４の下流端（図９では右端）に到達した水は、板部６４Ｃと板部６４Ｄとの間の第５の経路６５５を図９における左方に流動する。第５の経路６５５の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ｄと殺菌部５１の上壁５１Ｂとの間の第６の経路６５６を図９における右方に流動する。そして、第５の経路６５５を通過した水は、流出口６３を介して殺菌部５１外に流出する。
【００４０】
このとき、殺菌部５１内において水の流動方向が変更される部分６６（図９では一点鎖線で囲まれた部分）では、水の乱流が発生する。その結果、温度の低い水と高い水とが混ざり合うため、殺菌部５１内において水温の均一化が図られる。
【００４１】
次に、本実施形態の殺菌部５１の作用について説明する。
さて、殺菌部５１の水が気液分離部７０側に供給されると、その供給量とほぼ同等の水が、給水タンク３６から給水チューブ４３を介して供給される。そして、殺菌部５１では、ＰＴＣヒーター４６ｂの余熱によって、殺菌部５１内の水が殺菌される。
【００４２】
しかも、殺菌部５１の上端は、給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置している（図８参照）。そのため、給水タンク３６から気液分離室７１までの水の供給経路においては、給水タンク３６内の水位の変動によって、殺菌部５１よりも下流側（即ち、殺菌部５１の上側）で水位が変動する。その結果、給水タンク３６内の水の収容量が多い場合であっても少なく場合であっても、殺菌部５１で貯留される水量はほぼ一定である。すなわち、給水タンク３６に収容される水の収容量に関係なく、殺菌部５１内に供給される水の供給量はほぼ一定となる。したがって、ＰＴＣヒーター４６ｂによる加熱性能に変化がないのであれば、殺菌部５１での殺菌作用のばらつきの程度が小さくなる。
【００４３】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）殺菌部５１の上端は、給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置している。そのため、給水タンク３６内に水が収容されていれば、殺菌部５１で貯留される水量は一定である。給水タンク３６に収容される水の収容量に関係なく、殺菌部５１内に供給される水の供給量はほぼ一定となる。したがって、殺菌部５１の上端が収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置する場合と比較して、殺菌部５１内での水の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【００４４】
（２）本実施形態では、殺菌部５１の上端は、タンクホルダー３５の下端Ｐ２と上下方向において略同一位置に位置している。そのため、給水タンク３６内に収容される水が無くなったとしても、タンクホルダー３５内に水が収容されていれば、殺菌部５１で貯留される水量はほぼ一定である。そのため、給水タンク３６内に水が無くなった状態で美顔器１０を利用する場合であっても、殺菌部５１内での水の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【００４５】
（３）殺菌部５１では水に乱流を発生させている。そのため、殺菌部５１内に流入したばかりの温度の低い水と、殺菌部５１内で既に暖められた温度の高い水とが混じり合う。そのため、殺菌部５１内での水温の均一化を図ることができ、殺菌部５１内で殺菌された水を、気液分離部７０側に供給することができる。すなわち、美容に適した衛生状態に保たれた冷ミストを、ミストノズル１７から放出させることができる。
【００４６】
（４）本実施形態の殺菌部５１では、複数の板部６４を設けることにより、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１に沿って水が蛇行するように流動する。つまり、殺菌部５１内の水は、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１の各部位によって満遍なく加熱される。したがって、殺菌部５１内では、水を好適に殺菌することができる。
【００４７】
（５）また、本実施形態の殺菌部５１は、スチーム生成機構４４を構成するＰＴＣヒーター４６ｂからの余熱を利用して水を殺菌している。そのため、殺菌専用の加熱装置をＰＴＣヒーター４６ｂとは別に設ける場合と比較して、美顔器１０全体の小型化、低コスト化及び省電力化に貢献することができる。
【００４８】
（６）また、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１から放出される熱が、殺菌部５１内の水に吸収される。つまり、殺菌部５１が放熱面４６ｂ１から離間した位置に配置される場合と比較して、放熱面４６ｂ１からの放熱効率を向上させることができる。その結果、スチーム生成機構４４でのスチームの生成効率を向上させることができる。
【００４９】
なお、本実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・実施形態において、殺菌部５１と気液分離部７０との間に位置する連通路６１に、図１０に示すように、殺菌部５１の流出口６３から離間するほど通路断面積が狭くなる絞り部６１Ａを設けてもよい。この場合、連通路６１において絞り部６１Ａよりも下流側の部位（即ち、絞り部６１Ａよりも上側の部位）の通路断面積を狭くすることができる。これにより、殺菌部５１への給水タンク３６側からの水の単位時間あたりの流入量は、絞り部６１Ａを設けない場合と比較して少なくなる。その結果、殺菌部５１への給水タンク３６側からの水の流入に起因した、殺菌部５１内での水温の低下量を少なくすることができる。
【００５０】
なお、こうした絞り部６１Ａを備える連通路６１と気液分離部７０との間には、連結用管路を設けてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１に設けられる板部６４の数は、５つ以外の任意数（例えば３つや６つ）であってもよい。
【００５１】
・実施形態において、板部６４Ａ〜６４Ｅは、上記仮想線Ｓ１と交差する方向に延びる構成であれば、任意の方向に延びる構成であってもよい。例えば、板部６４と仮想線Ｓ１とが交差する角度を、任意の角度（例えば、９０°）としてもよい。
【００５２】
また、各板部６４Ａ〜６４Ｅと仮想線Ｓ１とが交差する角度を、板部６４Ａ〜６４Ｅ毎に個別に設定してもよい。
また、板部６４は、一方向に延びる構成以外の任意の構成（例えば、円弧状をなす構成）であってもよい。
【００５３】
・実施形態において、乱流発生部は、殺菌部５１内で水に乱流を発生させることが可能な構成であれば、任意の構成であってもよい。例えば、乱流発生部は、殺菌部５１内での水の流動によって回転する水車であってもよい。
【００５４】
・実施形態において、ボイラーブロック６０の代わりに、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１に沿って水を流動させるための流動管路を設けてもよい。この場合、流動管路が、殺菌部として機能する。
【００５５】
こうした流動管路を放熱面４６ｂ１に沿って蛇行させた構成としてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１内に、乱流発生部を設けなくてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１を、その上端がタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２よりも下方となるように配置してもよい。
【００５６】
・実施形態において、殺菌部５１の上端が給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下方に位置するのであれば、殺菌部５１を、その上端がタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２よりも上方となるように配置してもよい。
【００５７】
・実施形態において、殺菌部５１を、その上端が給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１と同一位置となるように配置してもよい。
・実施形態において、殺菌専用の加熱装置を、ＰＴＣヒーター４６ｂとは別途設けてもよい。この場合、殺菌部５１を、ＰＴＣヒーター４６ｂから離間した位置に配置してもよい。
【００５８】
殺菌専用の加熱装置を備えた美顔器１０は、スチーム生成機構４４を備えない構成であってもよい。
・各実施形態において、冷ミスト生成機構４５では、ベンチュリー効果を利用しない他の任意の方法（例えば、超音波を利用する方法）で冷ミストを発生させてもよい。
【００５９】
・各実施形態において、冷ミスト生成機構４５には、水以外の任意の液体を供給するようにしてもよい。液体としては、例えば、アルカリイオン水、美容液を含んだ水、電解水、芳香剤を含んだ水などが挙げられる。
【００６０】
・本発明のミスト発生装置を、美容器１１以外の他の任意の装置（例えば、ミストドライヤーや加湿器等）に具体化してもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０…ミスト発生装置、美容装置の一例としての美顔器、１７…ミスト生成部を構成するミストノズル、３６…液体収容部の一例としての給水タンク、３６Ａ…液体収容空間の一例としての収容空間、４４…スチーム生成機構、４６ｂ…加熱装置の一例としてのＰＴＣヒーター、５１…殺菌部、５２…ミスト生成部を構成するポンプブロック、５５…ミスト生成部を構成するエアパイプ、５６…ミスト生成部を構成する第２エアチューブ、６１Ａ…絞り部、６２…流入口、６３…流出口、６４，６４Ａ〜６４Ｅ…乱流発生部の一例としての板部。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体のミストを発生させるミスト発生装置及びこれを備える美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、スチーム（「温ミスト」ともいう。）を生成するためのスチーム生成機構及びミスト（「冷ミスト」ともいう。）を生成するためのミスト生成機構を備える美容装置として、例えば特許文献１に記載の美容装置が提案されている。この美容装置のミスト生成機構には、給水タンクから供給された水（液体）をヒーターによって殺菌する殺菌部と、該殺菌部で殺菌された水をミスト化させるミスト生成部とが設けられている。
【０００３】
殺菌部の上端は、鉛直方向において給水タンクの下端よりも上方に位置している。こうした殺菌部内には、給水タンクに収容される水の水面と殺菌部内に貯留される水の水面との水頭差を利用し、給水タンクから水が供給される。そして、殺菌部で殺菌された水は、供給されたミスト生成部でミスト化され、ミストがミストノズルから放出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１８７７６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、殺菌部内には、給水タンク内の水面と殺菌部内の水面との水頭差を利用して水が供給される。そのため、殺菌部の上端が給水タンクの下端よりも上方に位置する配置構成の場合には、給水タンク内における水の収容量に応じて、殺菌部内に供給される水量が変動するおそれがある。このように殺菌部内への水の供給量が変動すると、殺菌部内への水の流入に伴う殺菌部内での水温の変動量が異なる。その結果、殺菌部による殺菌効果にばらつきが生じる。こうした殺菌効果のばらつきを抑えるためには、殺菌部内への水の供給量が一定となるように工夫する必要がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、殺菌部内での液体の殺菌効果のばらつきを少なくすることができるミスト発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、液体収容部から供給された液体を殺菌する殺菌部と、前記殺菌部で殺菌された液体をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えたミスト発生装置において、前記殺菌部を、その上端が前記液体収容部内において液体が収容される液体収容空間の下端よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置したことを要旨とする。
【０００８】
本発明のミスト発生装置は、前記殺菌部内で液体に乱流を発生させるための乱流発生部をさらに備えることが好ましい。
本発明のミスト発生装置において、前記乱流発生部は、前記殺菌部内での液体の流動方向が変わるように構成されていることが好ましい。
【０００９】
本発明のミスト発生装置において、前記乱流発生部は、前記殺菌部内への液体の流入口と、前記殺菌部内からの液体の流出口とを一直線で結ぶ方向と交差する方向に延びる板部を有することが好ましい。
【００１０】
本発明のミスト発生装置において、前記殺菌部内からの液体の流出口は、前記殺菌部内への液体の流入口よりも鉛直方向上側に配置され、前記流出口には、液体の供給方向において前記流出口から離間するほど通路断面積が狭くなるように形成された絞り部が接続されていることを特徴とすることが好ましい。
【００１１】
本発明のミスト発生装置は、加熱装置による加熱によって液体をスチーム化するスチーム生成機構をさらに備え、前記殺菌部は、該殺菌部内の液体を前記加熱装置の余熱で殺菌することが好ましい。
【００１２】
本発明の美容装置は、上記ミスト発生装置を備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、殺菌部内での液体の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明のミスト発生装置を備える美容装置の一実施形態である美顔器を示す斜視図。
【図２】美顔器を示す背面図。
【図３】給水タンク及びタンクホルダーを示す断面図。
【図４】美顔器本体を示す背面図。
【図５】タンクホルダーに接続される管路を示す斜視図。
【図６】図２における６−６線矢視断面図。
【図７】美顔器本体を後方側から見た斜視図。
【図８】給水タンクと殺菌部との配置態様を説明する断面図。
【図９】殺菌部の構成を説明する断面図。
【図１０】別の実施形態の連通路の構成を説明する模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を、ミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器に具体化した一実施形態を図１〜図９に従って説明する。なお、以下の説明において、「前後方向」、「左右方向」、「上下方向」をいう場合には、図中における矢印に示す方向を示すものとする。
【００１６】
図１に示すように、本実施形態の美顔器１０における有底略円筒状の本体ケース１１内には美顔器本体１２が収容されている。また、本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。そして、ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００１７】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面の中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂ、冷ミストを放出するミストノズル１７、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル１８を有している。そして、ミストノズル１７が左右方向中央位置に、スチームノズル１６ａがその右側に、スチームノズル１６ｂが左側に、イオンノズル１８がミストノズル１７の上側にそれぞれ配置されている。なお、スチームノズル１６ａ，１６ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００１８】
また、スチームノズル１６ａ，１６ｂ、ミストノズル１７、及びイオンノズル１８の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定されている。すなわち、美顔器１０の前側と使用者とが対向するように使用されたときに、その使用者の顔表面に向けて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１９が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の露出・隠蔽が可能とされている。
【００１９】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２０、運転制御スイッチ２１、及びコース選択スイッチ２２が設けられている。電源スイッチ２０は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものである。また、運転制御スイッチ２１及びコース選択スイッチ２２は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースや、スチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２０】
また、メインカバー１５の前端部には、開閉操作部２３として、開閉操作板２４及び開閉操作カバー２５が設けられている。開閉操作板２４は、メインカバー１５に図示しない締結ねじにより固定された開閉操作カバー２５に対して、その後端部が回動可能に取り付けられており、この開閉操作板２４の前端部にはフック部２６が設けられている。そして、開閉操作板２４のフック部２６は、メインカバー１５が閉じられた際に、美顔器本体１２の上面の前端部に設けられたフック受け部２７に対して図示しないばねの付勢力に基づき掛止することにより、メインカバー１５の開放動作をロックするようになっている。また、開閉操作カバー２５の後端部にはフック部２８が設けられており、このフック部２８にはミストノズル１７を掃除するためのミスト針２９が着脱自在に取り付けられている。
【００２１】
また、図２に示すように、美顔器本体１２の後方下部における右寄りの位置には、インレットプラグ３０が設けられている。そして、このインレットプラグ３０には、外部から電源を供給するための電源コード３１が着脱可能に取り付けられている。
【００２２】
また、美顔器本体１２の後方下部における左寄りの位置には、美顔器本体１２の内部から水（液体）を排水するための排水口３２、及び該排水口３２を通じた排水動作を操作するための排水操作板３３が設けられている。そして、本体ケース１１には、排水口３２及び排水操作板３３を覆うように排水カバー３４が回動自在に取り付けられている。
【００２３】
また、図１に示すように、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンクホルダー３５が設けられており、該タンクホルダー３５内には、本体ケース１１の開口部と面一となるように液体収容部としての給水タンク３６が着脱可能に収容されている。
【００２４】
具体的には、図３に示すように、タンクホルダー３５において給水タンク３６を収容する内面には、給水タンク３６を相対移動不能に係止させるタンク固定部３７が設けられている。このタンク固定部３７は、先端部３８ａが凸状をなすタンクフック３８と、該タンクフック３８をその先端部３８ａがタンクホルダー３５の内側に向くようにして基端側から付勢するタンクフックバネ３９とを備えている。そして、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して装着されると、タンクホルダー３５の内側に付勢されたタンクフック３８の先端部３８ａが、給水タンク３６の外側面に設けられた凹部４０に対して係合することにより、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して相対移動不能に係止されるようになっている。
【００２５】
また、図４及び図５に示すように、タンクホルダー３５の下部からは、図２に示した排水口３２に連なる排出チューブ４１が延設されている。この排出チューブ４１の途中には分岐部４２が設けられ、その分岐部４２には下流側が二股状に分岐した給水チューブ４３の上流端が接続されている。そして、この給水チューブ４３の各下流端は、給水タンク３６から給水された水からスチーム（温ミスト）を発生させるスチーム生成機構４４（図６参照）、及び給水タンク３６から給水された水から冷ミストを生成する冷ミスト生成機構４５に対してそれぞれ接続されている。なお、排出チューブ４１における分岐部４２よりも上流側及び給水チューブ４３における分岐位置よりも上流側となる各位置からは分岐チューブ４１ａ，４３ａが鉛直方向上側に延びるように分岐し、それらの各上端がタンクホルダー３５に接続されている。そして、排出チューブ４１内及び給水チューブ４３内から気泡が各分岐チューブ４１ａ，４３ａ及びタンクホルダー３５を通じて外部に排出されるようになっている。
【００２６】
図６に示すように、スチーム生成機構４４は、美顔器本体１２の中央よりも前側に備えられており、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒーター４６ａ，４６ｂを前側と後側にそれぞれ備えている。そして、スチーム生成機構４４は、給水タンク３６から給水チューブ４３を介してＰＴＣヒーター４６ａ，４６ｂの内側のボイラー室４７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。
【００２７】
ボイラー室４７の上部には、生成したスチームを一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂまで案内するためのスチーム案内管路４８が接続されている。そのため、ボイラー室４７にて生成されたスチームはスチーム案内管路４８を通って各スチームノズル１６ａ，１６ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラー室４７やスチーム案内管路４８内は高圧となるため、各スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。なお、スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００２８】
また、スチーム案内管路４８の途中位置には、スチーム放電部４９が備えられている。スチーム放電部４９は、自身の放電により、通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム放電部４９では、抗酸化作用があり肌にも良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させている。
【００２９】
冷ミスト生成機構４５は、図６に示すように、スチーム生成機構４４よりも後側に配置されており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。こうした冷ミスト生成機構４５は、後側のＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面（図６では後面）４６ｂ１に対向して配置されるボイラーブロック６０を備えている。このボイラーブロック６０には、給水チューブ４３を介して供給された給水タンク３６からの水を、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１からの熱（余熱）を用いて殺菌する殺菌部５１が形成されている。この殺菌部５１では、給水チューブ４３を介して供給された水が、例えば８０℃以上、３０秒以上で殺菌処理される。
【００３０】
ボイラーブロック６０の上側には、殺菌済みとなった水を一時的に貯留する気液分離部７０が設けられている。この気液分離部７０内の気液分離室７１では、殺菌部５１から供給された水と、該水に含まれる気泡とが分離される。そのため、気液分離室７１内では、気泡を多く含んだ水が供給されるほど水位が下方に変位する。
【００３１】
また、気液分離部７０には、該気液分離部７０の上側から下方に突出する筒形状の給水ノズル（突出部材）７２が接続されている。この給水ノズル７２の鉛直方向における中途よりも下側の部位は、気液分離室７１内に位置している。
【００３２】
給水ノズル７２の上端は、上方に配置される異物捕捉部８０内とミスト継手８１を介して連通している。異物捕捉部８０内には、下方（給水ノズル７２側）から上方に流動する水に含まれる異物を捕捉するためのミストフィルター８３が設けられている。こうした異物捕捉部８０の上端には、継手８４を介してミストチューブ８５が接続されている。そして、このミストチューブ８５の下流端には、ベンチュリー構造のミストノズル１７が接続されている。その結果、ミストフィルター８３を通過した殺菌済みの水がミストノズル１７に供給され、該ミストノズル１７では、ベンチュリー効果によって、美容に適した衛生状態に保たれた冷ミストが生成される。こうした冷ミストが、ミストノズル１７から放出される。
【００３３】
また、図６及び図７に示すように、冷ミスト生成機構４５には、ボイラーブロック６０からミストノズル１７までの水の供給経路を左右方向から挟むように一対のポンプブロック５２が設けられている。これら各ポンプブロック５２は、電源モーターを駆動源としたポンプ５３と、該ポンプ５３から送出される空気をミストノズル１７に向けて流動させる第１エアチューブ５４とを備えている。各第１エアチューブ５４の下流端は、３つ股状のエアパイプ５５に接続されている。こうしたエアパイプ５５は、第２エアチューブ５６を介してミストノズル１７に接続されている。つまり、ミストノズル１７には、各ポンプ５３の駆動によって各ポンプブロック５２から送出された空気が合流した状態で供給される。
【００３４】
その結果、ポンプが一つの場合と比較してミストノズル１７に送出される空気の風量が増大し、ミストノズル１７からは、より多くの冷ミストが放出される。したがって、本実施形態では、ミストノズル１７、各ポンプブロック５２、エアパイプ５５及び第２エアチューブ５６により、殺菌部５１で殺菌された水をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部が構成される。
【００３５】
次に、ボイラーブロック６０について説明する。なお、以降において上下方向とは、美顔器１０を水平面に設置した場合の上下方向と一致するものとする。
図６及び図８に示すように、ボイラーブロック６０内には、水を殺菌する殺菌部５１と、該殺菌部５１の上側に位置する連通路６１とが形成されている。この連通路６１は、殺菌部５１で殺菌済みとなった水を気液分離部７０に導くための通路である。
【００３６】
殺菌部５１には、該殺菌部５１内の水面と給水タンク３６内の水面との高さ、即ち水頭差を利用し、給水タンク３６から水が供給される。こうした殺菌部５１は、その上端が給水タンク３６内において水を収容する収容空間（液体収容空間）３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置するように配置されている。なお、本実施形態では、殺菌部５１の上端は、収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下方に位置するタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２と上下方向において略同一位置に位置している。
【００３７】
図８及び図９に示すように、殺菌部５１において、その下端側に流入口６２が形成されると共に、その上端側に流出口６３が形成されている。そして、給水チューブ４３からの水は、流入口６２を介して殺菌部５１内に流入する。また、殺菌部５１内の水は、流出口６３から連通路６１に流出し、該連通路６１を介して気液分離室７１内に供給される。
【００３８】
こうした殺菌部５１内には、流入口６２と流出口６３とを一直線で結ぶ方向に延びる仮想線Ｓ１と交差する方向（図９では左右方向）に延びる複数（本実施形態では５つ）の板部（乱流発生部）６４が設けられている。これら各板部６４は、上下方向にほぼ等間隔に配置されている。各板部６４は、下から順に、板部６４Ａ、板部６４Ｂ、板部６４Ｃ、板部６４Ｄ、板部６４Ｅとする。そして、こうした各板部６４によって、殺菌部５１内には、流入口６２から流出口６３に至るまでの蛇行した経路が形成される。
【００３９】
すなわち、流入口６２を介して殺菌部５１内に流入した水は、殺菌部５１の下壁５１Ａと板部６４Ａとの間の第１の経路６５１を図９における左方に流動する。第１の経路６５１の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ａと板部６４Ｂとの間の第２の経路６５２を図９における右方に流動する。第２の経路６５２の下流端（図９では右端）に到達した水は、板部６４Ｂと板部６４Ｃとの間の第３の経路６５３を図９における左方に流動する。第３の経路６５３の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ｃと板部６４Ｄとの間の第４の経路６５４を図９における右方に流動する。第４の経路６５４の下流端（図９では右端）に到達した水は、板部６４Ｃと板部６４Ｄとの間の第５の経路６５５を図９における左方に流動する。第５の経路６５５の下流端（図９では左端）に到達した水は、板部６４Ｄと殺菌部５１の上壁５１Ｂとの間の第６の経路６５６を図９における右方に流動する。そして、第５の経路６５５を通過した水は、流出口６３を介して殺菌部５１外に流出する。
【００４０】
このとき、殺菌部５１内において水の流動方向が変更される部分６６（図９では一点鎖線で囲まれた部分）では、水の乱流が発生する。その結果、温度の低い水と高い水とが混ざり合うため、殺菌部５１内において水温の均一化が図られる。
【００４１】
次に、本実施形態の殺菌部５１の作用について説明する。
さて、殺菌部５１の水が気液分離部７０側に供給されると、その供給量とほぼ同等の水が、給水タンク３６から給水チューブ４３を介して供給される。そして、殺菌部５１では、ＰＴＣヒーター４６ｂの余熱によって、殺菌部５１内の水が殺菌される。
【００４２】
しかも、殺菌部５１の上端は、給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置している（図８参照）。そのため、給水タンク３６から気液分離室７１までの水の供給経路においては、給水タンク３６内の水位の変動によって、殺菌部５１よりも下流側（即ち、殺菌部５１の上側）で水位が変動する。その結果、給水タンク３６内の水の収容量が多い場合であっても少なく場合であっても、殺菌部５１で貯留される水量はほぼ一定である。すなわち、給水タンク３６に収容される水の収容量に関係なく、殺菌部５１内に供給される水の供給量はほぼ一定となる。したがって、ＰＴＣヒーター４６ｂによる加熱性能に変化がないのであれば、殺菌部５１での殺菌作用のばらつきの程度が小さくなる。
【００４３】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）殺菌部５１の上端は、給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置している。そのため、給水タンク３６内に水が収容されていれば、殺菌部５１で貯留される水量は一定である。給水タンク３６に収容される水の収容量に関係なく、殺菌部５１内に供給される水の供給量はほぼ一定となる。したがって、殺菌部５１の上端が収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下側に位置する場合と比較して、殺菌部５１内での水の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【００４４】
（２）本実施形態では、殺菌部５１の上端は、タンクホルダー３５の下端Ｐ２と上下方向において略同一位置に位置している。そのため、給水タンク３６内に収容される水が無くなったとしても、タンクホルダー３５内に水が収容されていれば、殺菌部５１で貯留される水量はほぼ一定である。そのため、給水タンク３６内に水が無くなった状態で美顔器１０を利用する場合であっても、殺菌部５１内での水の殺菌効果のばらつきを少なくすることができる。
【００４５】
（３）殺菌部５１では水に乱流を発生させている。そのため、殺菌部５１内に流入したばかりの温度の低い水と、殺菌部５１内で既に暖められた温度の高い水とが混じり合う。そのため、殺菌部５１内での水温の均一化を図ることができ、殺菌部５１内で殺菌された水を、気液分離部７０側に供給することができる。すなわち、美容に適した衛生状態に保たれた冷ミストを、ミストノズル１７から放出させることができる。
【００４６】
（４）本実施形態の殺菌部５１では、複数の板部６４を設けることにより、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１に沿って水が蛇行するように流動する。つまり、殺菌部５１内の水は、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１の各部位によって満遍なく加熱される。したがって、殺菌部５１内では、水を好適に殺菌することができる。
【００４７】
（５）また、本実施形態の殺菌部５１は、スチーム生成機構４４を構成するＰＴＣヒーター４６ｂからの余熱を利用して水を殺菌している。そのため、殺菌専用の加熱装置をＰＴＣヒーター４６ｂとは別に設ける場合と比較して、美顔器１０全体の小型化、低コスト化及び省電力化に貢献することができる。
【００４８】
（６）また、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１から放出される熱が、殺菌部５１内の水に吸収される。つまり、殺菌部５１が放熱面４６ｂ１から離間した位置に配置される場合と比較して、放熱面４６ｂ１からの放熱効率を向上させることができる。その結果、スチーム生成機構４４でのスチームの生成効率を向上させることができる。
【００４９】
なお、本実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・実施形態において、殺菌部５１と気液分離部７０との間に位置する連通路６１に、図１０に示すように、殺菌部５１の流出口６３から離間するほど通路断面積が狭くなる絞り部６１Ａを設けてもよい。この場合、連通路６１において絞り部６１Ａよりも下流側の部位（即ち、絞り部６１Ａよりも上側の部位）の通路断面積を狭くすることができる。これにより、殺菌部５１への給水タンク３６側からの水の単位時間あたりの流入量は、絞り部６１Ａを設けない場合と比較して少なくなる。その結果、殺菌部５１への給水タンク３６側からの水の流入に起因した、殺菌部５１内での水温の低下量を少なくすることができる。
【００５０】
なお、こうした絞り部６１Ａを備える連通路６１と気液分離部７０との間には、連結用管路を設けてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１に設けられる板部６４の数は、５つ以外の任意数（例えば３つや６つ）であってもよい。
【００５１】
・実施形態において、板部６４Ａ〜６４Ｅは、上記仮想線Ｓ１と交差する方向に延びる構成であれば、任意の方向に延びる構成であってもよい。例えば、板部６４と仮想線Ｓ１とが交差する角度を、任意の角度（例えば、９０°）としてもよい。
【００５２】
また、各板部６４Ａ〜６４Ｅと仮想線Ｓ１とが交差する角度を、板部６４Ａ〜６４Ｅ毎に個別に設定してもよい。
また、板部６４は、一方向に延びる構成以外の任意の構成（例えば、円弧状をなす構成）であってもよい。
【００５３】
・実施形態において、乱流発生部は、殺菌部５１内で水に乱流を発生させることが可能な構成であれば、任意の構成であってもよい。例えば、乱流発生部は、殺菌部５１内での水の流動によって回転する水車であってもよい。
【００５４】
・実施形態において、ボイラーブロック６０の代わりに、ＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面４６ｂ１に沿って水を流動させるための流動管路を設けてもよい。この場合、流動管路が、殺菌部として機能する。
【００５５】
こうした流動管路を放熱面４６ｂ１に沿って蛇行させた構成としてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１内に、乱流発生部を設けなくてもよい。
・実施形態において、殺菌部５１を、その上端がタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２よりも下方となるように配置してもよい。
【００５６】
・実施形態において、殺菌部５１の上端が給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１よりも下方に位置するのであれば、殺菌部５１を、その上端がタンクホルダー３５の下端（即ち、底部）Ｐ２よりも上方となるように配置してもよい。
【００５７】
・実施形態において、殺菌部５１を、その上端が給水タンク３６内の収容空間３６Ａの下端Ｐ１と同一位置となるように配置してもよい。
・実施形態において、殺菌専用の加熱装置を、ＰＴＣヒーター４６ｂとは別途設けてもよい。この場合、殺菌部５１を、ＰＴＣヒーター４６ｂから離間した位置に配置してもよい。
【００５８】
殺菌専用の加熱装置を備えた美顔器１０は、スチーム生成機構４４を備えない構成であってもよい。
・各実施形態において、冷ミスト生成機構４５では、ベンチュリー効果を利用しない他の任意の方法（例えば、超音波を利用する方法）で冷ミストを発生させてもよい。
【００５９】
・各実施形態において、冷ミスト生成機構４５には、水以外の任意の液体を供給するようにしてもよい。液体としては、例えば、アルカリイオン水、美容液を含んだ水、電解水、芳香剤を含んだ水などが挙げられる。
【００６０】
・本発明のミスト発生装置を、美容器１１以外の他の任意の装置（例えば、ミストドライヤーや加湿器等）に具体化してもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０…ミスト発生装置、美容装置の一例としての美顔器、１７…ミスト生成部を構成するミストノズル、３６…液体収容部の一例としての給水タンク、３６Ａ…液体収容空間の一例としての収容空間、４４…スチーム生成機構、４６ｂ…加熱装置の一例としてのＰＴＣヒーター、５１…殺菌部、５２…ミスト生成部を構成するポンプブロック、５５…ミスト生成部を構成するエアパイプ、５６…ミスト生成部を構成する第２エアチューブ、６１Ａ…絞り部、６２…流入口、６３…流出口、６４，６４Ａ〜６４Ｅ…乱流発生部の一例としての板部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体収容部から供給された液体を殺菌する殺菌部と、
前記殺菌部で殺菌された液体をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えたミスト発生装置において、
前記殺菌部を、その上端が前記液体収容部内において液体が収容される液体収容空間の下端よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置したことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
前記殺菌部内で液体に乱流を発生させるための乱流発生部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項３】
前記乱流発生部は、前記殺菌部内での液体の流動方向が変わるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
前記乱流発生部は、前記殺菌部内への液体の流入口と、前記殺菌部内からの液体の流出口とを一直線で結ぶ方向と交差する方向に延びる板部を有することを特徴とする請求項３に記載のミスト発生装置。
【請求項５】
前記殺菌部内からの液体の流出口は、前記殺菌部内への液体の流入口よりも鉛直方向上側に配置され、
前記流出口には、液体の供給方向において前記流出口から離間するほど通路断面積が狭くなるように形成された絞り部が接続されていることを特徴とすることを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項６】
加熱装置による加熱によって液体をスチーム化するスチーム生成機構をさらに備え、
前記殺菌部は、前記加熱装置の余熱で液体を殺菌することを特徴とする請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載のミスト発生装置を備えることを特徴とする美容装置。
【請求項１】
液体収容部から供給された液体を殺菌する殺菌部と、
前記殺菌部で殺菌された液体をミスト化し、該ミストを外部に放出するミスト生成部と、を備えたミスト発生装置において、
前記殺菌部を、その上端が前記液体収容部内において液体が収容される液体収容空間の下端よりも鉛直方向において同一位置又は下方に位置するように配置したことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
前記殺菌部内で液体に乱流を発生させるための乱流発生部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。
【請求項３】
前記乱流発生部は、前記殺菌部内での液体の流動方向が変わるように構成されていることを特徴とする請求項２に記載のミスト発生装置。
【請求項４】
前記乱流発生部は、前記殺菌部内への液体の流入口と、前記殺菌部内からの液体の流出口とを一直線で結ぶ方向と交差する方向に延びる板部を有することを特徴とする請求項３に記載のミスト発生装置。
【請求項５】
前記殺菌部内からの液体の流出口は、前記殺菌部内への液体の流入口よりも鉛直方向上側に配置され、
前記流出口には、液体の供給方向において前記流出口から離間するほど通路断面積が狭くなるように形成された絞り部が接続されていることを特徴とすることを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項６】
加熱装置による加熱によって液体をスチーム化するスチーム生成機構をさらに備え、
前記殺菌部は、前記加熱装置の余熱で液体を殺菌することを特徴とする請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載のミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載のミスト発生装置を備えることを特徴とする美容装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−２０５７３１（Ｐ２０１２−２０５７３１Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７３２６２（Ｐ２０１１−７３２６２）
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
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