ミスト発生装置及び美容装置

【課題】簡易な構成でありながら、放電部分の液体の滞留を防止して放電を安定して行うことができるミスト発生装置を備えた美容装置を提供する。
【解決手段】第１電極部８０，８１において、付着する液体の滞留を防止するための手段として、第１電極部８０，８１に屈曲部８０ｂ，８１ｂを設け、先端部８０ａ，８１ａを上方に向けるようにし、その先端部８０ａ，８１ａに付着する液体を屈曲部８０ｂ，８１ｂまで離間、また屈曲部８０ｂ，８１ｂから滴下も可能とし、放電部分であるその先端部８０ａ，８１ａへの液体の滞留が防止される構成とした。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体からミストを生成するミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させて気化させたスチーム（温ミスト）や、超音波にて霧化させたミスト（冷ミスト）を顔などの人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果やスキンケアを目的とした装置として用いられている。尚、ミストとは、前述のように液体を気化させたスチーム（温ミスト）や、液体を霧化させた冷ミスト等のことを指し、これ以降同様の意味として使用する。
【０００３】
特許文献１のミスト発生装置は、液体からミストを生成するミスト発生機構と、該ミスト発生機構にて生成されたミストを放電により微細化する放電部とで構成されていて、放電部は、一対の第１電極部と、該第１電極部の間に配置される第２電極部とを備えている。そして、第１電極部及び第２電極部間で放電を行うことで、生成されたミストを微細化して使用者に向けて放出し、微細化されたミストは使用者の肌に潤いとハリを与えて高い美容作用や健康作用が得られるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２９５８１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記のようなミスト発生装置において、放電部に設けられる電極部に液体（ミスト）の付着が生じ、電極部での放電が不安定になる。そのため、特許文献１では第１電極部に別途吸水体が装着されて第１電極部に付着した液体を吸収し、放電の阻害が抑止されるようになっている。
【０００６】
しかしながら、電極部に吸水体を別途装着する態様では、ミスト発生装置の部品点数が増加して組立作業が煩雑となる等の問題が生じる。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、簡易な構成でありながら、放電部分の液体の滞留を防止して放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、液体からミストを生成するミスト発生機構と、前記ミスト発生機構にて生成されたミストを放電により微細化するための電極部を有する放電部とを備えたミスト発生装置であって、前記電極部において、付着する液体の放電部分での滞留を防止するための防止手段が一体に備えられたことをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、電極部において、付着する液体の滞留を防止するための防止手段が一体に備えられるため、電極部に防止手段を別途装着する態様と比較して、部品点数の削減が可能で簡易な構成であり、放電部分の液体の滞留を防止して放電を安定して行うことが可能となる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記防止手段は、付着する液体を放電部分から離間又は電極部から滴下させるような前記電極部の屈曲にて構成されたことをその要旨とする。
【００１０】
この発明では、付着する液体を放電部分から離間又は電極部から滴下させるように電極部を屈曲することで防止手段が構成されるため、電極部への一体的な防止手段の構成が容易となる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のミスト発生措置において、前記放電部は、一対の第１電極部と、前記第１電極部の間に配置される第２電極部とを備え、少なくとも一方の前記電極部に前記防止手段を備えたことをその要旨とする。
【００１２】
この発明では、放電部は、一対の第１電極部と、該第１電極部の間に配置される第２電極部とを備え、少なくとも一方の電極部に防止手段が備えられるため、防止手段を備えた第１又は第２電極部において、放電部分での液体の滞留が防止されて安定的に放電を行うことが可能となる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のミスト発生装置において、前記第２電極部は、前記第１電極部の放電部分よりも上方に配置され、前記第１電極部の先端が前記第２電極部に向けて上方に屈曲されてなることをその要旨とする。
【００１４】
この発明では、第２電極部は、第１電極部の放電部分よりも上方に配置され、第１電極部の先端が第２電極部に向けて上方に屈曲されてなるため、第２電極部と対向する第１電極部の先端の放電部分に滞留する液体をより確実に離間又電極部から滴下させることが可能で、第１電極部及び第２電極間での放電をより安定的に行うことが可能となる。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載のミスト発生装置において、前記第１電極部は、前記第２電極部に向けて複数に分岐し、分岐先に放電部分を有することをその要旨とする。
【００１６】
この発明では、第１電極部は、第２電極部に向けて複数に分岐し、分岐先に放電部分を有するため、仮に第１電極部において分岐先の放電部分のうちの一つに液体が滞留しても、他の分岐先の放電部分にて放電可能となる。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のミスト発生装置において、前記第１電極部の分岐先の放電部分は、対向する前記第２電極部から等距離に設定されたことをその要旨とする。
【００１８】
この発明では、第１電極部の分岐先の放電部分は、対向する第２電極部から等距離に設定されるため、分岐先毎で安定した放電が可能となる。
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置である。
【００１９】
この発明では、請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えることで、請求項１〜６のいずれか一項に記載の効果と同様の効果を奏することができる美容装置を提供できる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、簡易な構成でありながら、放電部分の液体の滞留を防止して放電を安定して行うことができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施形態における美顔器を示す斜視図。
【図２】同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図。
【図３】同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図。
【図４】同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図。
【図５】同美顔器の管路及び整流部部分の拡大断面図。
【図６】同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図。
【図７】同美顔器の放電部の断面図。
【図８】同美顔器の放電部の断面図。
【図９】同美顔器の第２電極部の取り付け構造を説明するための斜視図。
【図１０】別例における端部を屈曲させた第２電極部を示す模式図。
【図１１】別例における下方に屈曲させた第１電極部を示す模式図。
【図１２】別例における垂直方向に分岐した第１電極部を示す模式図。
【図１３】別例における水平方向に分岐した第１電極部を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００２３】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル（温ミストノズル）２１ａ，２１ｂ、冷ミストを放出するミストノズル（冷ミストノズル）２２、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２３を有し、ミストノズル２２が左右方向中央位置に、スチームノズル２１ａがその右側に、スチームノズル２１ｂが左側に、そしてイオンノズル２３がミストノズル２２の上側にそれぞれ配置されている。尚、スチームノズル２１ａ及び２１ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００２４】
またスチームノズル２１ａ，２１ｂ、ミストノズル２２、及びイオンノズル２３の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１ａ，２１ｂ，２２，２３の露出・隠蔽が可能とされている。
【００２５】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００２６】
また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。
【００２７】
美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム発生機構を構成するスチーム生成部３１と、ミスト発生機構を構成するミスト生成部３２と、マイナスイオンを生成するマイナスイオン生成部３３が備えられている。
【００２８】
ミスト発生機構を構成するスチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有する殺菌機構及び加熱装置としてのＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図６参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。
【００２９】
ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１ａ，２１ｂまで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、その途中に分岐部４２を有している。スチーム案内管路４１は、図５に示すように、分岐部４２から二股に分かれるように分岐部４２からスチームノズル２１ａまでを接続する第１案内管路４１ａと，分岐部４２からスチームノズル２１ｂまでを接続する第２案内管路４１ｂとを有し、第１案内管路４１ａの長さ（距離）Ｌ１及び第２案内管路４１ｂの長さ（距離）Ｌ２が等しくなるように構成されている。そのため、ボイラ室３７にて生成したスチームが分岐部４２から分かれて第１案内管路４１ａ及び第２案内管路４１ｂを通って各スチームノズル２１ａ，２１ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。尚、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００３０】
また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、スチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、この放電部４３を通過するスチームをより微細化するとともに、放電を利用して金属微粒子（例えばＰｔなど）を発生させるものである。尚、スチーム用放電部４３については詳しく後述する。
【００３１】
スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、整流機構としての整流部４４が備えられている。この整流部４４は、図５に示すように、スチーム案内管路４１内に中空形状の中空部としての円筒部４４ａと、該円筒部４４ａから延出形成されて円筒部４４ａを管路４１の径方向中心で支持する３本のリブ４４ｂとが設けられて構成されている。そして、放電部４３にて微細化したスチームが、その円筒部４４ａの内部及び３本のリブ４４ｂ間を通過する際に整流され、分岐部４２から先の各スチームノズル２１ａ，２１ｂに同量のスチームが分岐されるようなっている。尚、円筒部４４ａの内径は、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径より大きく、且つ該放出孔の内径の１．５倍以下の大きさである例えば４．５ｍｍに設定されている。
【００３２】
ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２２まで送水する管路部材としての送水管路５１が備えられている。送水管路５１は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面（放熱面）方向に大きく３度蛇行（屈曲）して該放熱面３６ａに当接させて配置される管路部材としての当接管路５１ａを有している。尚、当接管路５１ａを蛇行させることで当接管路５１ａ内で液体の層流が抑制されるようになっている。
【００３３】
図２に示すように、送水管路５１の当接管路５１ａは、その全体が前記放熱面３６ａから離間されないように離間防止部材ＲＢにて放熱面３６ａ側に押し付け固定されている。更に、送水管路５１の当接管路５１ａは、図２に示すように、その径方向断面が楕円形状とされ、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（放熱面）方向に送水管路５１の断面の長手方向（図２において紙面上下方向）が沿うように配置されている。このように構成された当接管路５１ａの内部には、所定の水量（例えば所定コース中において放出するミスト量よりも多い水量）が保持されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の熱（余熱）により、冷ミスト用の水が例えば８０度、３０秒以上で殺菌処理されるようになっている。そのため、前記ミストノズル２２から放出される冷ミストは、美容に適した衛生状態が保たれている。
【００３４】
また、送水管路５１のミストノズル２２の直前位置にはその管内に濾過機構としてのフィルタ５２が装着されている。このフィルタ５２は、管路部材としての送水管路５１や当接管路５１ａ等で発生した水垢やゴミ、カスと、ミストを生成するための液体（水）自身に含まれるゴミやカスなどがミストノズル２２に流れ込むことを抑制させるものであり、このためミストノズル２２のつまりを抑えることができるため、ミストノズル２２からミストが安定して放出されるようになっている。そのため、本装置１０を使用するにあたって使用者の肌（顔面）に対して快適にミストをあて、美容効果（スキンケア効果）を高めることができる。
【００３５】
また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２２の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。
【００３６】
マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２３に形成される収容凹部２３ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２３ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３と対向電極６４とはそれぞれリード線６５が接続されて電極ホルダ６２から導出され、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。
【００３７】
因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。これは、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが針電極６３に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量が減少してしまうためであって、浮遊シリコンの針電極６３への付着が未然に防止されている。
【００３８】
制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図６に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。そのため、マイナスイオン及びスチーム（温ミスト）による美容効果やマイナスイオン及びミスト（冷ミスト）による美容効果を得ることができる。
【００３９】
そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、イオンノズル２３から外部に放出される。
【００４０】
次に、上記のように構成された美顔器１０の放電部としてのスチーム用放電部４３について図７〜９を用いて詳細に説明する。
図７に示すように、スチーム用放電部４３は、スチーム案内管路４１内において放電を行うものであり、一対の第１電極部８０，８１と、この第１電極部８０，８１間に配置される第２電極部８２とを備えている。
【００４１】
第１電極部８０，８１は、細長円柱状をなし、スチーム案内管路４１の両側にそれぞれ固定される電極ホルダ８３によって同一高さで支持されている。第１電極部８０，８１は、放電部分である先端部８０ａ，８１ａが水平状態から斜め約４５°上方に向くように、中間部分に屈曲部８０ｂ，８１ｂを有する形状をなしている。即ち、第１電極部８０，８１の先端部８０ａ，８１ａは、この第１電極部８０，８１の上方に位置する第２電極部８２の端部８２ａ，８２ｂに向けられている。尚、第１電極部８０，８１を支持する電極ホルダ８３は、その基端側（第１電極部８０，８１を支持している方向とは反対側）が図示しない防水パッキンにて防水されており、スチーム案内管路４１からスチーム（温ミスト）が流出することが防止されている。
【００４２】
また、第２電極部８２は、Ｐｔ含有の細長円柱状の金属部材にて構成されており、スチーム案内管路４１に固定されるピンプレート８４の先端部に着脱可能に支持されている。第２電極部８２は、第１電極部８０，８１の先端部８０ａ，８１ａよりも高い位置となるように配置されている。因みに、第２電極部８２を支持するピンプレート８４は、スチーム案内管路４１の内壁面間に跨って形成される支持部８５に装着されている。この支持部８５には保持片８５ａ及び係止突起８５ｂが形成され、またピンプレート８４の基端部にはＵ字状装着部８４ａ及び係止孔８４ｂが形成されている。そして、Ｕ字状装着部８４ａが支持部８５を下側から抱え込むようにして保持片８５ａにて保持されるとともに係止孔８４ｂが係止突起８５ｂと係止することで、ピンプレート８４が支持部８５に対して着脱可能に装着される。
【００４３】
このようなスチーム用放電部４３では、スチーム案内管路４１内、即ちスチーム（温ミスト）の流動経路中に位置することから、第１電極部８０，８１及び第２電極部８２に液体が付着する。しかしながら、電極部８０〜８２への液体の付着は放電を阻害する要因となるため、本実施形態では第１電極部８０，８１に屈曲部８０ｂ，８１ｂを設け、先端部８０ａ，８１ａを上方に向けるようにし、その先端部８０ａ，８１ａに付着する液体を屈曲部８０ｂ，８１ｂまで離間、また屈曲部８０ｂ，８１ｂから滴下も可能とし、放電部分であるその先端部８０ａ，８１ａへの液体の滞留が防止されている。
【００４４】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、第１電極部８０，８１において、付着する液体の滞留を防止するための手段として、第１電極部８０，８１に屈曲部８０ｂ，８１ｂを設け、先端部８０ａ，８１ａを上方に向けるようにし、先端部８０ａ，８１ａに付着する液体を屈曲部８０ｂ，８１ｂまで離間、また屈曲部８０ｂ，８１ｂから滴下も可能な構成としている。また本実施形態では、先端部８０ａ，８１ａは第１電極部８０，８１より上方に位置する第２電極部８２に向けて屈曲されている。このため、第１電極部８０，８１に付着する液体の滞留を防止するための防止手段が一体に備えられ、第１電極部８０，８１に防止手段を別途装着する態様と比較して、部品点数の削減が可能で簡易な構成であり、放電部分である第１電極部８０，８１の先端部８０ａ，８１ａへの液体の滞留を防止して放電を安定して行うことができる。
【００４５】
（２）本実施形態では、付着する液体を放電部分から離間又は第１電極部８０，８１から滴下させるように第１電極部８０，８１を屈曲することで防止手段が構成されるため、第１電極部８０，８１への一体的な防止手段の構成が容易である。
【００４６】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、放電部分の液体の滞留防止として第１電極部８０，８１の先端側を上方斜めに屈曲する態様としたが、これに限定されるものではなく、第２電極部８２も含めてその態様を適宜変更してもよい。
【００４７】
例えば直線状の第２電極部８２に対し、図１０に示すように、第１電極部８０，８１と同様に、第２電極部８２の放電部分である端部８２ａ，８２ｂを下方斜め４５°に向け、第１電極部８０，８１の先端部８０ａ，８１ａに向ける屈曲部８２ｃ，８２ｄを形成してもよい。これにより、第２電極部８２においても放電部分である端部８２ａ，８２ｂに付着する液体はその端部８２ａ，８２ｂから滴下し、放電部分である端部８２ａ，８２ｂへの液体の滞留が防止され、放電をより安定的に行うことが可能となる。
【００４８】
また例えば図１１に示すように、第１電極部８０，８１において、先端部８０ａ，８１ａを真下方向に向ける屈曲部８０ｂ，８１ｂとし、該屈曲部８０ｂ，８１ｂの角部を第２電極部８２との放電部分としてもよい。尚、図１１の態様でも第２電極部８２は第１電極部８０，８１より若干上方に位置している。このようにしても、放電部分である屈曲部８０ｂ，８１ｂに付着する液体は先端部８０ａ，８１ａ側に向けて移動（離間）し、また滴下も可能となる。
【００４９】
また、屈曲部８０ｂ，８１ｂは電極部８０，８１の中間部分でなく、根元としてもよい。
また例えば図１２に示すように、第１電極部８０，８１において、垂直面において先端側を上下斜め４５°にそれぞれ向けて二股に屈曲させた分岐部８０ｃ，８１ｃをそれぞれ構成してもよい。尚、図１２の態様では、第２電極部８２は上下方向に向けてピンプレート８４にて支持されている。このようにすれば、放電部分である先端部８０ａ，８１ａに付着する液体の離間及び滴下が可能となり、また仮に先端部８０ａ，８１ａの一方に液体が付着したとしても他方側にて放電が継続できるように冗長性が確保されている。また、分岐した先の各先端部８０ａ，８１ａと第２電極部８２の外周面８２ｅとを等距離に設定することで、分岐先毎で安定した放電が可能となる。尚、分岐は３以上であってもよく、分岐部分は電極部８０，８１の中間位置でなく、根元部分であってもよい。
【００５０】
尚、図１３に示すように、水平面において第１電極部８０，８１の先端側を左右斜め４５°にそれぞれ向けて二股に屈曲させた分岐部８０ｃ，８１ｃをそれぞれ構成しても、上記の冗長性が確保できる。これら各分岐部８０ｃ，８１ｃを上方又は下方に向けて屈曲させてもよい。
【００５１】
・上記実施形態では、第１電極部８０，８１よりも第２電極部８２を上方に位置させたが、配置位置はこれに限定されるものではなく、例えば第１電極部８０，８１と第２電極部８２とを同じ高さで配置してもよい。屈曲方向はこれに対応させて、放電部分から液体が離間又は滴下するように適宜変更する。
【００５２】
・上記実施形態では、第１電極部８０，８１を２つ、つまり一対の電極を設けたが、例えば電極部８０，８１を１つとしてもよい。また、第２電極部８２を省略する構成でもよい。
【００５３】
・上記実施形態では、美顔器１０にて美容装置を構成したが、美顔器１０以外の美容装置に本発明を適用してもよい。
【符号の説明】
【００５４】
１０…美容装置としての美顔器、３１…ミスト発生機構及びミスト発生装置を構成するスチーム生成部、４３…放電部としてのスチーム用放電部、８０，８１…電極部としての第１電極部、８０ａ，８１ａ…先端部、８０ｂ，８１ｂ…屈曲部、８０ｃ，８１ｃ…分岐部、８２…電極部としての第２電極部、８２ｃ，８２ｄ…屈曲部。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体からミストを生成するミスト発生機構と、前記ミスト発生機構にて生成されたミストを放電により微細化するための電極部を有する放電部とを備えたミスト発生装置であって、
前記電極部において、付着する液体の放電部分での滞留を防止するための防止手段が一体に備えられたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記防止手段は、付着する液体を放電部分から離間又は電極部から滴下させるような前記電極部の屈曲にて構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のミスト発生措置において、
前記放電部は、一対の第１電極部と、前記第１電極部の間に配置される第２電極部とを備え、少なくとも一方の前記電極部に前記防止手段を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項３に記載のミスト発生装置において、
前記第２電極部は、前記第１電極部の放電部分よりも上方に配置され、
前記第１電極部の先端が前記第２電極部に向けて上方に屈曲されてなることを特徴とするミスト発生装置。
【請求項５】
請求項３に記載のミスト発生装置において、
前記第１電極部は、前記第２電極部に向けて複数に分岐し、分岐先に放電部分を有することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項６】
請求項５に記載のミスト発生装置において、
前記第１電極部の分岐先の放電部分は、対向する前記第２電極部から等距離に設定されたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置。

【図１】