リソバクチン誘導体の製造法
分子内環化による、下記式（Ｉ）
【化１】
を有する環状デプシペプチドの製造法。
【化１】
を有する環状デプシペプチドの製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下記式（Ｉ）
【化１】
［式中、
Ｒ１は、ＨまたはＣＨ３であり、
Ｒ２は、水素、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルケニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、５−から７−員ヘテロシクリルメチル、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、１−メチルプロプ−１−イル、２−メチルプロプ−１−イル、２，２−ジメチルプロプ−１−イル、１，１−ジメチルプロプ−１−イル、１−エチルプロプ−１−イル、１−エチル−１−メチルプロプ−１−イル、ｎ−ブチル、２−メチルブト−１−イル、３−メチルブト−１−イル、１−エチルブト−１−イル、ｔｅｒｔ−ブチル、４−メチルペント−１−イル、ｎ−ヘキシル、アルケニルまたはアリールであり、
｛ここで、Ｒ２は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、トリメチルシリル、アルキル、アルコキシ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、アリール、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、アリールおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）｝、
Ｒ３は水素またはＣ１−Ｃ４−アルキルであるか、
または、
Ｒ２およびＲ３は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキル、アルコキシおよびアルキルカルボニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
Ｒ４は、アルキル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、５−から７−員ヘテロシクリル、アリール、５−もしくは６−員ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルカルボニル、５−から７−員ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、５−もしくは６−員ヘテロアリールカルボニルまたはアルキルアミノカルボニルであり、
｛ここで、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルおよびアルキルアミノカルボニルは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、アミノまたはアルキルアミノ置換基で置換されており、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、さらに０、１または２個のハロゲン、ヒドロキシ、トリメチルシリル、アルコキシ、アルキルチオ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アリールカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい、
（ここで、フェニルおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）、
または、アルキルカルボニルにおける同じ炭素原子上の２個の置換基は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成する
（ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキルおよびアルコキシから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよいか、
または、
ここで、シクロアルキル環は、ベンゾ−縮合されていてよい）｝、
Ｒ５は、水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルであるか、
または、
Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している窒素原子と一体となって、５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、ヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、アルキル、アルコキシおよびアルキルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい］
で示される環状デプシペプチドの製造法、
ならびに、この方法における有用な化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記環状デプシペプチドは、とりわけ、リソバクチン（lysobactin）およびカタノシンＡとして称される２種の天然物を含む。これらの物質は、細胞壁生合成の阻害剤であり、したがって抗菌活性を有する。
【化２】
【０００３】
細菌の細胞壁は、数々の酵素により合成され（細胞壁生合成）、微生物の生存および生殖に必須である。この巨大分子の構造ならびにその合成に関与するタンパク質および生合成中間体（“前駆体”）は、細菌類内で高度に保存されている。その本質的な性質および均一性のために、細胞壁生合成は新規抗生物質の理想的な攻撃点である。
【０００４】
バンコマイシンおよびペニシリン類は、細菌の細胞壁生合成の阻害剤であり、この作用原理による抗菌力の成功例である。それらは、とりわけグラム陽性病原体による細菌感染の処置のために、数十年間臨床的に用いられてきた。例えばメチシリン耐性ブドウ球菌、ペニシリン耐性肺炎球菌およびバンコマイシン耐性腸球菌、並びに、最近初めてのバンコマイシン耐性ブドウ球菌の耐性微生物の発生が増えているために、これらの物質はそれらの治療効力を次第に失いつつある。
【０００５】
リソバクチンは、今まで、例えばリソバクター属ｓｐ． ＳＣ １４０６７を使用する発酵により得てきた。さらに、ＷＯ ２００４／０９９２３９ Ａ１から、直線セグメントを形成する２個のロイシン単位を除去し、それらを他の基で置換することが知られている。直線セグメントに変異を有するリソバクチン、カタノシンＡまたはそれらの誘導体の完全合成による製造法は、今まで知られていない。
【発明の開示】
【０００６】
したがって、本発明の１つの目的は、上記式（Ｉ）の環状デプシペプチドの製造法を提供することである。
【０００７】
この目的は、式（Ｉ）の環状デプシペプチドの製造法であって、下記式（ＩＩ）
【化３】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｘは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲン（例えばアジド）またはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物を分子内環化し、
そして、次に環状中間体を脱保護することにより、式（Ｉ）の環状デプシペプチドを形成する方法によって達成される。
【０００８】
この方法は、Ｏ３でエステル化したβ−ヒドロキシα−アミノ酸（ここでは、β−フェニルセリン＝β−ヒドロキシフェニルアラニン）を環化工程で化学的に活性化し、次にそれがアシルドナーとして働くことを特徴とする。環化は、エステル化反応（ラクトン形成）ではなくアミド結合（ラクタム形成）で実施する。
【０００９】
該方法は、さらにデプシペプチド投げ縄（lasso）構造の環状セグメントを橋頭アミノ酸（ここでは、β−ヒドロキシフェニルアラニン）で環化することにより製造することを特徴とする。
【００１０】
本発明の目的上、置換基は、特に記載のない限り、下記の意味を有する：
アルキル自体ならびにアルコキシ、アルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニルおよびアルキルカルボニルアミノの“アルコ（alk）”および“アルキル”は、一般に１から６個、好ましくは１から４個、特に好ましくは１から３個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルキル基、例えば、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルおよびｎ−ヘキシルを表す。
【００１１】
アルコキシは、例えば、好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシおよびｎ−ヘキソキシを表す。
【００１２】
アルケニルは、２から６個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルケニルを表す。好ましくは２から４個、特に好ましくは２から３個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルケニルである。挙げられる好ましい例は：ビニル、アリル、ｎ−プロプ−１−エン−１−イル、ｎ−ブト−２−エン−１−イル、２−メチルプロプ−１−エン−１−イルおよび２−メチルプロプ−２−エン−１−イルである。
【００１３】
アルキルアミノは、１個または２個のアルキル置換基（互いに独立して選択される）を有するアルキルアミノ基、例えば、好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノおよびＮ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノを表す。
【００１４】
アリールアミノは、１個のアリール置換基、所望によりさらなる置換基、例えば、アリールまたはアルキルを有するアリールアミノ基、例えば、好ましくは、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、フェニルメチルアミノまたはジフェニルアミノを表す。
【００１５】
アルキルカルボニルは、１個のアルキル置換基を有するアルキルカルボニル基、例えば、好ましくは、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ｎ−ペンチルカルボニルおよびｎ−ヘキシルカルボニルを表す。
【００１６】
アルコキシカルボニルは、１個のアルコキシ置換基を有するアルコキシカルボニル基、例えば、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペントキシカルボニルおよびｎ−ヘキソキシカルボニルを表す。
【００１７】
シクロアルキルカルボニルは、１個のシクロアルキル置換基を有するシクロアルキルカルボニル基、例えば、好ましくは、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニルおよびシクロヘキシルカルボニルを表す。
【００１８】
ヘテロシクリルカルボニルは、１個のヘテロシクリル置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基、例えば、好ましくは、テトラヒドロフラン−２−イルカルボニル、ピロリジン−２−イルカルボニル、ピロリジン−３−イルカルボニル、ピロリニルカルボニル、ピペリジニルカルボニル、モルホリニルカルボニルおよびペルヒドロアゼピニルカルボニルを表す。
【００１９】
アリールカルボニルは、１個のアリール置換基を有するアリールカルボニル基、例えば、好ましくは、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニルおよびフェナントレニルカルボニルを表す。
【００２０】
ヘテロアリールカルボニルは、１個のヘテロアリール置換基を有するヘテロアリールカルボニル基、例えば、好ましくは、チエニルカルボニル、フリルカルボニル、ピロリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、ピリジルカルボニル、ピリミジルカルボニル、ピリダジニルカルボニル、インドリルカルボニル、インダゾリルカルボニル、ベンゾフラニルカルボニル、ベンゾチオフェニルカルボニル、キノリニルカルボニルおよびイソキノリニルカルボニルを表す。
【００２１】
アルキルカルボニルアミノは、１個のアルキル置換基を有するアルキルカルボニルアミノ基、例えば、好ましくは、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ｎ−プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ｎ−ペンチルカルボニルアミノおよびｎ−ヘキシルカルボニルアミノを表す。
【００２２】
アリールカルボニルアミノは、１個のアリール置換基を有するアリールカルボニルアミノ基、例えば、好ましくは、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノおよびフェナントレニルカルボニルアミノを表す。
【００２３】
アルキルアミノカルボニルは、１または２個のアルキル置換基（互いに独立して選択される）を有するアルキルアミノカルボニル基、例えば、好ましくは、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、ｎ−プロピルアミノカルボニル、イソプロピルアミノカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル、ｎ−ペンチルアミノカルボニル、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノカルボニルおよびＮ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノカルボニルを表す。
【００２４】
シクロアルキルは、一般に３から６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、例えば、好ましくは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを表す。
【００２５】
シクロアルケニルは、一般に５から６個の炭素原子および１または２個の二重結合を有するシクロアルケニル基、例えば、好ましくは、シクロペンタ−１−エン−１−イル、シクロペンタ−２−エン−１−イル、シクロペンタ−３−エン−１−イル、シクロヘキサ−１−エン−１−イル、シクロヘキサ−２−エン−１−イルおよびシクロヘキサ−３−エン−１−イルを表す。
【００２６】
アリールは、一般に６から１４個の炭素原子を有する単環式から三環式の芳香族性の炭素環式基；例えば、好ましくは、フェニル、ナフチルおよびフェナントレニルを表す。
【００２７】
ヘテロシクリルは、一般に５から７個の環原子および３個まで、好ましくは２個までのＮ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２の一群からのヘテロ原子および／またはヘテロ基を有する単環式または多環式、好ましくは単環式または二環式のヘテロ環式基を表す。ヘテロシクリル基は、飽和または部分的に不飽和であり得る。好ましくは、２個までのＯ、ＮおよびＳの一群からのヘテロ原子を有する５から７員単環式飽和ヘテロシクリル基、例えば、好ましくは、テトラヒドロフラン−２−イル、ピロリジン−２−イル、ピロリジン−３−イル、ピロリニル、ピペリジニル、モルホリニルおよびペルヒドロアゼピニルを表す。
【００２８】
ヘテロアリールは、一般に５から１０個、好ましくは５から６個の環原子および５個までの、好ましくは４個までの、Ｓ、ＯおよびＮの一群からのヘテロ原子を有する芳香族性単環式もしくは二環式基、例えば、好ましくは、好ましくはチエニル、フリル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、インダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、キノリニルおよびイソキノリニルを表す。
【００２９】
カルボニル−結合アミノ酸は、アミノ酸官能基のカルボニル基を介して結合しているアミノ酸を表す。これに関して、好ましくは、Ｌ−またはＤ−配置のα−アミノ酸、特に天然α−アミノ酸、例えば、グリシン、Ｌ−アラニン、Ｌ−バリン、Ｌ−ロイシン、Ｌ−イソロイシン、Ｌ−プロリン、Ｌ−フェニルアラニン、Ｌ−トリプトファン、または、非天然Ｄ−配置の天然α−アミノ酸、例えば、Ｄ−アラニン、Ｄ−バリン、Ｄ−ロイシン、Ｄ−イソロイシン、Ｄ−プロリン、Ｄ−フェニルアラニン、Ｄ−トリプトファン、または、アミノ酸のα−炭素原子に結合した側基、例えば、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、エチル、ｎ−プロピル、２，２−ジメチルプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘキシルまたはアリルを有するか、または、側鎖がアミノ酸のα−炭素原子と共に、環、例えば、シクロプロピル（アミノ酸：１−アミノ−１−シクロプロパンカルボン酸）、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルを形成している非天然のアミノ酸、またはβ−アミノ酸（名称に関して：D. Seebach, M. Overhand, F. N. M. Kuhnle, B. Martinoni, L. Oberer, U. Hommel, H. Widmer, Helv. Chim. Acta 1996, 79, 913-941参照）、例えば、β−アラニン、β−フェニルアラニン、β−Ａｉｂ（α−メチルアラニン）または２，３−ジアミノプロピオン酸の誘導体（例えば２，３−ジアミノ−３−フェニルプロピオン酸）である。
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素、好ましくはフッ素および塩素を表す。
【００３０】
活性エステルなる用語は、当業者に既知のすべての活性エステルを含む。本発明において好ましい活性エステルの例は、シアノメチルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ｏ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェニルエステル、２，４，５−トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステル（Ｐｆｐ）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（Ｏ−Ｓｕ）、１−ヒドロキシピペリジンエステル、５−クロロ−８−ヒドロキシキノリンエステルを含む。
【００３１】
分子内環化は、原則として当業者に既知のすべての工程により達成できるアミド結合の形成を含む。
したがって、環化は下記求核攻撃により実施する。
【化４】
【００３２】
Ｘが活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンを示すとき、反応は、一般的に、不活性溶媒中、脱水剤の存在下、必要に応じて塩基の存在下、好ましくは−３０℃ないし５０℃の温度範囲で、大気圧下で行う。
【００３３】
不活性溶媒の例は、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ピリジン、ジオキサン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、酢酸エチルまたはジメチルホルムアミドであり、塩化メチレンまたはジメチルホルムアミドがより好ましい。
【００３４】
塩基の例は、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチルアミンまたはＮ−メチルモルホリンであり、トリイソプロピルエチルアミンがより好ましい。
【００３５】
ＸがＯＨを示すとき、反応は、一般的に、不活性溶媒中、脱水剤の存在下、必要に応じて塩基の存在下、好ましくは−３０℃ないし５０℃の温度範囲で、大気圧下で行う。
【００３６】
不活性溶媒の例は、ジクロロメタンもしくはトリクロロメタンなどのハロ炭化水素類、ベンゼンなどの炭化水素、ニトロメタン、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリルである。溶媒の混合物を用いることも同様に可能である。ジクロロメタンおよびジメチルホルムアミドが特に好ましい。
【００３７】
適する脱水剤の例は、カルボジイミド類、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノイソプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）、Ｎ−シクロヘキシルカルボジイミド−Ｎ’−プロピルオキシメチルポリスチレン（ＰＳ−カルボジイミド）、またはカルボニル化合物、例えばカルボニルジイミダゾール、または、１，２−オキサゾリウム化合物、例えば２−エチル−５−フェニル−１，２−オキサゾリウム−３−サルフェート、または２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルイソオキサゾリウムパークロレート、または、アシルアミノ化合物、例えば２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、またはプロパンホスホン酸無水物、または、イソブチルクロロホルメート、または、ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）−ホスホリルクロリド、または、ベンゾトリアジルオキシトリ（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、または、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、２−（２−オキソ−１−（２Ｈ）−ピリジル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＰＴＵ）またはＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、または、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、または、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、または、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ピロリジノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、またはこれらの塩基との混合物である。
【００３８】
塩基の例は、アルカリ金属炭素塩、例えば、炭酸ナトリウムまたはカリウム、または、重炭素塩、有機塩基、例えばトリエチルアミンなどのトリアルキルアミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、４−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジンもしくはジイソプロピルエチルアミンである。
【００３９】
反応は、好ましくは、４−メチルモルホリンの存在下、ＨＡＴＵを用いて実施する。
式（ＩＩ）の化合物は、これらの場合において、式（ＩＩ）の化合物の分子内環化に続き、当業者に既知の方法による保護基の除去ができるように、必要に応じて保護基を有する。
【００４０】
本明細書で使用される“適当な保護基”なる用語は、当業者に既知であり、特定の官能基を覆うために使用でき、その後、脱保護される分子においてさらなる変化を起こすことなく再び除去できる、すべての保護基を含む。
【００４１】
例えば、一級または二級ヒドロキシ基は、開裂可能なエーテル、特にメトキシメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル、ベンジル、ｔｅｒｔ−ブチル、テトラヒドロピラニル、アリル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ニトロフェニルまたはトリフェニルメチルエーテルとして保護され得る。シリルエーテルは、ヒドロキシ基、例えばトリメチルシリル（ＴＭＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）またはトリフェニルシリルエーテルを保護するためのさらなる可能性を表す。ヒドロキシ基は、さらにまた、エステル基、例えばアセチル、ベンゾイル、プロピオニル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルまたはクロチルエステルにより保護され得る。その上、これらの炭酸塩、例えば、炭酸メチル、炭酸アリル、炭酸ベンジルは、また、アルコールを保護するために適当である。さらにアルコールに対する保護基として硫酸またはスルホン酸のエステル、例えば、硫酸エステル、硫酸アリル、ｐ−トルエンスルホネート（トシレート）または硫酸メチルを使用することが可能である。
【００４２】
ヒドロキシ基に対する好ましい保護基は、ｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはシリルエーテル、とりわけｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテルである。
グアニジノ基に対する適当な保護基は、原則としてヒドロキシ基に対するものと同じであり、この場合好ましくは（２，２，５，７，８−ペンタメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−クロメン−６−イル）スルホニル基（ＰＭＣ基）である。
【００４３】
カルボキシ基は、これらのアルキル、シリル、アリールアルキルまたはアリールエステル、例えばメチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ベンジル、ピコリル、トリクロロエチルまたはトリメチルシリルエステルの形態で保護され得る。カルボキシ基は、また、様々なアミド、アニリドまたはヒドラジド、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミド、ピロリジニルアミド、ピペリジニルアミド、ｏ−ニトロアニリド、Ｎ−７−ニトロインドリルアミドまたはＮ−フェニルヒドラジドの形態で保護され得る。その上、これらは、また、オルトエステル、例えばトリメチルオルトエステルとして保護され得る。カルボン酸は、好ましくはこれらのエステル、とりわけメチルまたはトリメチルシリルエチルエステルの形態で保護され得る。
【００４４】
アミノ基を保護するために特に適当な基は、開裂可能なカルバメート、例えばメトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル（ＣＢｚまたはＺ）、アリルオキシカルボニル（ａｌｌｏｃ）、９−フルオロエニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルボニル、１−アダマンチルカルボニル、ｍ−ニトロフェニル基を有するものである。アミノ基は、さらにまた、簡単に開裂可能なアミドまたはイミド、例えばホルムアミド、クロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリフルオロアセトアミド、ベンゾイルアミド、ｏ−ニトロフェニルアセトアミド、フタリミド、テトラクロロフタリミドまたはニトロフタリミドの形態で保護され得る。特定のアルキル基、例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基、メチル基、トリフェニルメチル基、フェロセンメチル基またはアリル基、または、アリール基、例えば、２，４−ジニトロフェニル基を有する開裂可能なアミンの形成が、アミノ基を保護するためのさらなる可能性である。
【００４５】
カルバメートは、中でも、特にｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル（ＣＢｚまたはＺ）または９−フルオロエニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）は、アミノ基を保護するために好ましく使用する。
【００４６】
ここに挙げられた保護基は単に例を提供するものであり、可能性のあるすべてを網羅していない。この範囲のさらなる広範な処理は、とりわけT. W. Greene, P. G. M. Wuts Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd Edition, John Wiley & Sons Inc. 1999で見られる。
【００４７】
本明細書で使用されるＰＧにより示される基は、１個の分子において、同じまたは異なる適当な保護基、または同じまたは異なる保護基とＨの組合せ、または独占的にＨであり得る。
【００４８】
式（ＩＩ）の化合物は、好ましくは下記式（ＩＩａ）
【化５】
［式中、
ＸおよびＲ１は、上記定義のとおりであり、
Ｒ６は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、３−ピリジルメチル、４−トリフルオロメチル−３−ピリジルメチル、ベンジルまたはトリメチルシリルメチルであり、
Ｒ７は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、トリメチルシリルメチルまたはベンジルであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００４９】
Ｒ６は、好ましくはイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたは３−ピリジルメチルであり、特にＲ６はイソプロピルメチルである。
Ｒ７は、好ましくはイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたはトリメチルシリルメチルであり、特にＲ７はイソプロピルメチルである。
Ｘは好ましくはＯＨである。
Ｒ１は好ましくはＣＨ３である。
【００５０】
本発明のさらなる態様において、化合物（ＩＩ）は、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物と下記式（ＩＶ）で示される化合物
【化６】
【化７】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｙは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護し、かつ、必要に応じて３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基を式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ（ここで、Ｘは上記定義のとおりである）の基に変換することにより製造する。
【００５１】
式（ＩＩＩ）で示される化合物は、特に下記式（ＩＩＩａ）
【化８】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００５２】
カップリングは、分子内環化ついて上記したものと同じかまたは異なる条件下で実施できる。したがって、カップリングは下記求核攻撃により実施する。
【００５３】
３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基の式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘの基への変換は当業者に既知の方法により実施できる。
【化９】
【００５４】
中間体において存在する保護基は、所望の生成物のものに、完全または部分的に対応してもよく、または全く対応しなくてもよい。これらは、必要に応じて当業者に既知の方法により除去、置換または結合させ得る。
【００５５】
本発明のさらなる態様において、式（ＩＩＩ）で示される化合物は、下記式（Ｖ）で示される化合物と下記式（ＶＩ）で示される化合物
【化１０】
【化１１】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することにより製造する。
【００５６】
式（Ｖ）で示される化合物は、したがって特に下記式（Ｖａ）
【化１２】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００５７】
カップリングは、上記カップリングまたは分子内環化について上記したものと同じかまたは異なる条件下で実施できる。したがって、カップリングは下記求核攻撃により実施する。
【化１３】
【００５８】
中間体において存在する保護基は、所望の生成物のものに、完全または部分的に対応してもよく、または全く対応しなくてもよい。これらは、必要に応じて当業者に既知の方法により除去、置換または結合させ得る。
【００５９】
本発明は、さらに下記式（ＩＩＩ）
【化１４】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
特に、下記式（ＩＩＩａ）
【化１５】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
とりわけ下記式（ＩＩＩｂ）
【化１６】
で示される化合物に関する。
【００６０】
本発明はさらに式（Ｖ）で示される化合物と式（ＶＩ）で示される化合物をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む、式（ＩＩＩ）で示される化合物の製造法に関する。
【００６１】
本発明はさらに下記式（ＶＩ）
【化１７】
［式中、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
特に、下記式（ＶＩａ）
【化１８】
で示される化合物
ならびに式（ＶＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ）で示される化合物と下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物
【化１９】
【化２０】
［式中、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法に関する。
【００６２】
したがって、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物は、特に、各々下記式（ＶＩＩａ）および（ＶＩＩＩａ）の化合物である。
【化２１】
【化２２】
【００６３】
本発明の製造法および本発明の化合物の製造法を、リソバクチンの合成に関する下記合成スキームにより、より詳細に説明する。
【００６４】
この方法は、様々なフラグメントのモジュール構築を基礎とし、次にこれを組合せ、式（ＩＩ）の化合物を得る。式（ＩＩ）の化合物を、次に分子内環化に付し、そして、必要に応じて、所望の生成物を得るために脱保護する。
【００６５】
驚くべきことに、本発明において、構成要素の選択および結合させる順序により影響されて、それらの鎖中にエステル結合をすでに有する式（ＩＩ）の開鎖分子を製造できることが明らかになった。さらに、これらの開鎖化合物はエステル結合の存在下で環化でき、所望の環状デプシペプチドを得ることができることを見いだした。
【００６６】
合成スキーム１にしたがって、フラグメント１は、（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸およびＢｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステルから出発して合成する。
【化２３】
【００６７】
フラグメント２は、合成スキーム２にしたがって、３−ヒドロキシフェニルアラニンから出発して合成する。
【化２４】
【００６８】
フラグメント３は、合成スキーム３にしたがって、Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシンおよびメチルＬ−ロイシナートから出発して合成する。任意のＲ２からＲ５基を有する式（Ｉ）の化合物は、この工程で２個のロイシン誘導体を置換することにより製造できる。
【００６９】
次にフラグメント２および３を、次に合成スキーム４にしたがってカップリングし、部分的に脱保護し、得られた中間体をＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｌ−セリンと反応させ、さらなる脱保護後、部分的に脱保護されたフラグメント４を得る。
【化２５】
【化２６】
【００７０】
この方法で得られたフラグメント４を、合成スキーム５にしたがってフラグメント１とカップリングし、部分的脱保護後、フラグメント５を得る。
【化２７】
【００７１】
次に、フラグメント５を、合成スキーム６にしたがって、フラグメント６とカップリングする。このフラグメント６は、既知の方法により製造できるペンタペプチドである。リソバクチンの代わりに、フラグメント６の２位のロイシンをバリンで置換することによりカタノシンＡを製造することが可能である。得られた中間体を脱保護し、式（ＩＩ）の化合物を表すフラグメント７を得る。合成スキーム７にしたがって、分子内環化し、次に脱保護し、所望の環状デプシペプチド、この場合はリソバクチン、を得る。
【化２８】
【化２９】
【実施例】
【００７２】
リソバクチンのデノボ合成
略号
【表１】
【００７３】
物質および方法
分析法−ＨＰＬＣ／ＵＶ
方法１
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １１００ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２ μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分．２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７４】
方法２
装置：ＨＰ １１００ ＤＡＤ検出；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ １００ ＲＰ−１８、６０ｍｍ×２．１ｍｍ、３．５μｍ；溶離剤：Ａ＝５ｍｌのＨＣｌＯ４（７０％）／ｌのＨ２Ｏ、Ｂ＝ＡＣＮ；勾配：０分 ２％Ｂ、０．５分 ２％Ｂ、４．５分 ９０％Ｂ、９分 ９０％Ｂ、９．２分．２％Ｂ、１０分 ２％Ｂ；流速：０．７５ｍｌ／分；カラム 温度：３０℃；検出：ＵＶ２１０ｎｍ。
【００７５】
方法３
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ １１００ ＤＡＤ（Ｇ１３１５Ｂ）、バイナリポンプ（Ｇ１３１２Ａ）、オートサンプラー（Ｇ１３１３Ａ）、溶媒ガス除去装置（Ｇ１３７９Ａ）およびカラムサーモスタット（Ｇ１３１６Ａ）；カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｚｏｒｂａｘ Ｅｃｌｉｐｓｅ ＸＤＢ−Ｃ８ ４．６×１５０×５ｍｍ；カラム温度：３０℃；溶離剤Ａ：０．０５％の水中で７０％の過塩素酸；溶離剤Ｂ：アセトニトリル；流速：２．００ｍｌ／分；勾配：０−１分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、４−５分 ９０％Ｂ、ｒａｍｐ、５．５分 １０％Ｂ。
【００７６】
方法４
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １０５０ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｚｏｒｂａｘ ３００ ｍＳＢ−Ｃ１８ ３．５μ、４．６ｍｍ×１５０ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：０．１％のＴＦＡを有する水中で６０％のアセトニトリル；勾配：０．０分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、１８．０分 ８０％Ｂ、２０．０分 １００％Ｂ、２５．０分 １００％Ｂ．流速：１ｍｌ／分；オーブン：４０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７７】
方法５
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １０５０ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｚｏｒｂａｘ ３００ ｍＳＢ−Ｃ１８ ３．５μ、４．６ｍｍ×１５０ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：０．１％のＴＦＡを有する水中で６０％のアセトニトリル；勾配：０．０分 １０％Ｂ、２．００分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、５０．０分 ８０％Ｂ、５２．０分 １００％Ｂ、５５分 １００％Ｂ．流速：０．７ｍｌ／分；オーブン：４０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７８】
方法６
Ａｇｉｌｅｎｔ １１００ ＤＡＤ（Ｇ１３１５Ｂ）、バイナリポンプ（Ｇ１３１２Ａ）、オートサンプラー（Ｇ１３１３Ａ）、ガス除去装置（Ｇ１３７９Ａ）およびカラムサーモスタット（Ｇ１３１６Ａ）；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ ５ｍ Ｃ １８、５０×２ｍｍ；オーブン温度：４０℃；溶離剤Ａ：水＋０．１％のギ酸；溶離剤Ｂ：アセトニトリル；流速：２．００ｍｌ／分；勾配：０−１分 ０％Ｂ、ｒａｍｐ、０ ５分 １００％Ｂ、５．５０分 １００％Ｂ。
【００７９】
方法７
Ｄａｉｃｅｌ Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＤ−Ｈ ５ｍｍ ２５０ｍｍ×２．０ｍｍ、ｎ−ヘプタン／エタノール ９５＋５、流速：０．２ｍｌ／分、ＵＶ検出 ２２０ｎｍ。
【００８０】
分析法−ＨＰＬＣ／ＭＳ、ＭＡＬＤＩ、ＨＲ−ＭＳ
方法８
ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５／ＨＰ １１００；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８１】
方法９
ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５／ＨＰ １１００；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ ３μ Ｃ−１８ １００Å、３０ｍｍ×３ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８２】
方法１０
ＵＶ検出：２１０ｎｍ．ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８３】
方法１１
装置：ＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ シリーズ １１００を備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ Ｐｌａｔｆｏｒｍ ＬＣＺ ；カラム：Ｔｈｅｒｍｏ Ｈｙｐｅｒｓｉｌ ＧＯＬＤ ３μ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 １００％Ａ→０．２分 １００％Ａ→２．９分 ３０％Ａ→３．１分 １０％Ａ→５．５分 １０％Ａ；オーブン：５０℃；流速：０．８ｍｌ／分；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８４】
方法１２
装置：ＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ シリーズ １１００を備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ Ｐｌａｔｆｏｒｍ ＬＣＺカラム：Ｔｈｅｒｍｏ ＨｙＰＵＲＩＴＹ Ａｑｕａｓｔａｒ ３μ ５０ｍｍ×２．１ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 １００％Ａ→０．２分 １００％Ａ→２．９分 ３０％Ａ→３．１分 １０％Ａ→５．５分 １０％Ａ；オーブン：５０℃；流速：０．８ｍｌ／分；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８５】
方法１３
装置：ＤＡＤおよびオートサンプラーを備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ ＬＣＴ；イオン化：ＥＳＩ ｐｏｓｉｔｉｖｅ／ｎｅｇａｔｉｖｅ；ＨＰ１１００；オーブン ４０℃；カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｓｙｍｍｅｔｒｙ Ｃ−１８、５０×２．１ｍｍ、３．５μｍ；溶離剤Ａ：０．１％のギ酸／アセトニトリル、溶離剤Ｂ：０．１％のギ酸／水；流速：０．５ｍｌ／分；勾配：０−１分 ０％Ａ、１−６分 ９０％Ａ、６−８分 １００％Ａ、８−１０分 １００％Ａ、１０−１５ ０％ Ａ。
【００８６】
方法１４
ＴＯＦ−ＨＲ−ＭＳ−ＥＳＩ＋スペクトルをＭｉｃｒｏｍａｓｓ ＬＣＴ 装置（キャピラリー電圧：３．２ＫＶ、コーン電圧：４２Ｖ、ソース温度：１２０℃、脱溶媒和温度：２８０℃）で記録する。シリンジポンプ（Ｈａｒｖａｒｄ Ａｐｐａｒａｔｕｓ）は、この方法で、サンプルを供給するために使用される。ロイシン−エンケファリン（Ｔｙｒ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｐｈｅ−Ｌｅｕ）を標準として使用する。
【００８７】
分取的分離法−ＨＰＬＣ、ゲルクロマトグラフィー
方法１５
装置：Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；バイナリポンプシステム；カラム：Ｎｕｃｌｅｏｄｕｒ Ｃ１８ Ｇｒａｖｉｔｙ、Ｍａｃｈｅｒｅｙ−Ｎａｇｅｌ、５μｍ；２５０×２１ｍｍ；溶離剤Ａ：水／０．０５％−０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル；勾配：０−８分 ５％Ｂ、８−４０分 ５−６０％Ｂ、４０−６０分 ６０％Ｂ、６０−７５分 ６０−１００％Ｂ、７５−８０分 １００％Ｂ、そして次にクロマトグラフィーカラムの再生；流速：７−１５ｍｌ／分；ＵＶ検出２１０ｎｍ。
【００８８】
方法１６
装置：Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；バイナリポンプシステム；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ−１００Ａ Ｃ１８、５μｍ；２５０×３０ｍｍ；溶離剤Ａ：水／０．０５−０．５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル；勾配：０−５分 ５％Ｂ、５．０１−１０分 １０％Ｂ、１０．０１−２０分 ４０％Ｂ、２０．０１−２７分 ５０％Ｂ、２７．０１−４０分 ６０％Ｂ、４０．０１−４５分 ９０％Ｂ、４５．０１−６０分 １００％Ｂ；流速：１５−６０ｍｌ／分；ＵＶ検出２１０ｎｍ。
【００８９】
方法１７
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ ＲＰ−１８ ５μｍ、１００Å、２５０×２０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：１０ｍｌ／分；０−３分 ５％Ｂ、ｒａｍｐ、３５分 ９０％Ｂ。
【００９０】
方法１８
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｇｒｏｍｓｉｌ ＯＤＳ−４ＨＥ １０μｍ、２５０×４０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：２０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３５分 ９０％Ｂ、３５−４０分 ９０％Ｂ。
【００９１】
方法１９
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｓｙｍｍｅｔｒｙ−ＰｒｅｐＴＭ Ｃ−１８、７μｍ、３００×１９ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：１０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３８分 ９０％Ｂ、３８−４５分 １０％Ｂ。
【００９２】
方法２０
ゲルクロマトグラフィーは、圧力なしでＳｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ−２０（Ｐｈａｒｍａｃｉａ）で実施する。画分をＵＶ活性（ＵＶ検出器 ２５４ｎｍ、Ｋｎａｕｅｒ）にしたがって（ＩＳＣＯ Ｆｏｘｙ ２００ ｆｒａｃｔｉｏｎ ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ）で取る。カラム寸法：３２×７ｃｍ（１０００−１００μｍｏｌスケール）；３０×４ｃｍ（１００−１０μｍｏｌスケール）；２５×２ｃｍ（１０−１μｍｏｌスケール）。メタノールを溶離剤として使用する。
【００９３】
方法２１
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出 ２１０ｎｍ；カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ Ｆｌａｓｈ４０ ＲＰ−１８または互換モジュール Ｖａｒｉａｎ Ｍｅｔａｆｌａｓｈ Ｃ１８ ４０Ｍ、３５μｍ、１５０×４０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：４０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３８分 ９０％Ｂ、３８−４５分 １０％Ｂ。
【００９４】
一般的実施方法
製造法１
出発物質を３０％のＴＦＡ（ジクロロメタン中の溶液）に取り、室温で３０分撹拌する。次に溶媒を浴温度が３０℃を超えないようにしながら真空蒸留する。次に生成物をオイルポンプ真空下で一定重量に乾燥する。
【００９５】
Ａ．化合物の製造
実施例化合物１Ａ：Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−アロスレオニン
【化３０】
Ｌ−アロ−スレオニン（３．１５ｇ、２６．４４ｍｍｏｌ）を水−ジオキサン（１＋２、７５ｍｌ）に溶解し、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（６．３５ｇ、２９．０９ｍｍｏｌ、１．１当量）およびトリエチルアミン（４．７９ｍｌ、３４．３８ｍｍｏｌ、１．３当量）を加え、混合物を室温で一晩撹拌する。溶媒を次に真空除去する。残渣を酢酸エチルに取り、１Ｍのクエン酸で抽出する。水性相を生成物がもはや（ＨＰＬＣ、方法３）で観察できなるまで酢酸エチルで抽出する。合わせた有機抽出物を次に硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、オイルポンプ真空下で一定重量に乾燥する。生成物をさらに精製することなく反応させる。収量：６．５ｇの粗生成物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．２３分。ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．５１分、ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝２１７．８（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ (ppm) = 1.08 (d, J = 5.4 Hz, 3H), 1.38 (s, 9H), 3.72-3.84 (m, 2H), 6.77 (d, J = 7.4 Hz, 1H)。
【００９６】
実施例化合物２Ａ：ベンジルＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−アロトレオニネート
【化３１】
方法は下記文献と同様に実施した：S. B. Cohen, R. Halcomb, J. Am. Chem. Soc 2004, 124, 2534-2543. W. Jiang, J. Wanner, R. J. Lee, P.-Y. Bounaud, D. L. Boger, J. Am. Chem. Soc 2003, 125, 1877-1887。
実施例化合物１Ａ（６．８ｇの粗生成物、２６．４４ｍｍｏｌ）をメタノール（１７７ｍｌ）に取り、炭酸セシウム（５．５６ｇ、１７．０６ｍｍｏｌ、０．６３当量）を加え、混合物を溶解が完了するまで撹拌する。溶媒を次に蒸留により除去し、ＤＭＦ（４２ｍｌ）、次に臭化ベンジル（４．０６ｍｌ、３４．１２ｍｍｏｌ、１．２６当量）を加える。混合物を１６時間撹拌し、次に大部分のＤＭＦを真空除去する。残渣を水に取り、３部のジクロロメタンで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。粗生成物をＢｉｏｔａｇｅ ＲＰ１８−Ｆｌａｓｈ（水−アセトニトリル勾配：０−５分 １０％のＡＣＮ、３−３０分 １０−９０％のＡＣＮ、３０−３５分 ９０％のＡＣＮ；流速：２０ｍｌ／分）で精製する。生成物含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：５．００ｇ（１６．１６ｍｍｏｌ、理論値の５２％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．３６分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．３９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３３２．６（２５）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.09 (d, J = 6.4, 3H), 1.37 (s, 9H), 3.82 (m, 1H), 3.95 (dd, J = 6.4, J = 8.1 Hz), 4.98 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.16 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.31-7.37 (m, 5H)。
【００９７】
実施例化合物３Ａ：ベンジルＬ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３２】
５３０ｍｇの実施例化合物２Ａを、製造法１にしたがって、８．０ｍｌのＴＦＡ溶液と反応させる。粗生成物（５８９ｍｇ、定量）をさらに精製することなくさらに反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．１８分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．２４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２１０．０（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.15 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 4.09-4.10 (m, 2H), 5.26 (s, 2H), 7.36-7.44 (m, 5H), 8.34 (br. S, 2H)。
【００９８】
実施例化合物４Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−イソロイシル］−Ｌ−アロトレオニネート
【化３３】
実施例化合物３Ａ（２．３０ｇ、７．１２ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−イソロイシン（２．１４ｇ、９．２５ｍｍｏｌ、１．３当量）をＤＭＦ（２１．０ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（１．３ｍｌ、１２．０２ｍｍｏｌ、１．７当量）およびＨＡＴＵ（３．５２ｇ、９．２５ｍｍｏｌ、１．３当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次に、最初に方法２０にしたがって、次に方法２１にしたがって、クロマトグラフィーにより精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。薄いベージュ色不定形固体として収量：１．７５ｇ（４．１４ｍｍｏｌ、理論値の５８％）。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．５９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．５６分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝４２３．８（７０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.74-0.78 (m, 6H), 1.01-1.07 (m, 2H), 1.10 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 1.37 (s, 9H), 1.64-1.66 (m, 1H), 3.86-3.94 (m, 1H), 4.28 (dd, J = 7.3, J = 7.3 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 5.6 Hz), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.13 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 6.70 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.31-7.36 (m, 5H), 8.11 (d, J = 8.1 Hz)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ２２Ｈ３５Ｎ２Ｏ６計算値４２３．２４９０、実測値４２３．２４８９［Ｍ＋Ｈ］＋。
【００９９】
実施例化合物５Ａ：ベンジルＬ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３４】
実施例化合物４Ａ（２２４ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を製造法１にしたがって、８．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２５３ｍｇの実施例５Ａの粗生成物（約９１％純粋、０．５３ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．５１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．５８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３２３．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.86 (m, 6H), 1.02 (m, 1H), 1.15 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.45 (m, 1H), 1.77 (m, 1H), 3.97 (m, 1H), 4.34 (m, 1H), 5.11 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 5.16 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 7.37-7.39 (m, 5H), 7.47 (m, 1H), 8.07-8.08 (m, 3H), 8.69 (d, J = 7.3 Hz, 1H)。
【０１００】
実施例化合物６Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−アルギニル］−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネート
【化３５】
実施例化合物５Ａ（２５３ｍｇ、９１％純粋、０．５３ｍｍｏｌ）およびＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−アルギニン（１４５ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（３．０ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（７６μｌ、０．７０ｍｍｏｌ、１．３当量）およびＨＡＴＵ（２２１ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ、１．１当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次にＨＰＬＣカラムに置き、クロマトグラフィー（方法１８）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：３６４ｍｇ（０．５３ｍｍｏｌ、理論値の９９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．９１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．０４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５７９．９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.72-1.16 (m, 8H), 1.37 (s, 9H), 1.46 (m, 2H), 1.60 (m, 1H), 1.69 (m, 1H), 3.06 (m, 2H), 3.93-4.01 (m, 2H), 4.25 (m, 1H), 4.33 (m, 1H), 5.07-5.14 (m, 2H), 6.96 (d, J = 7.8, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.45 (m, 1H), 7.66 (d, J = 8.8), 8.33 (m, 1H)。
【０１０１】
実施例化合物７Ａ：ベンジルＤ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートビストリフルオロアセテート
【化３６】
実施例化合物６Ａ（２３７ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）を、製造法１にしたがって、２．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２５５ｍｇの実施例化合物７Ａの粗生成物（９４％純粋、０．３４ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．４２分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．４２分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝４７９．３（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.73-0.81 (m, 5H), 1.11-1.19 (m, 5H), 1.33-1.49 (m, 3H), 1.74 (m, 3H), 3.10 (m, 2H), 3.88-3.95 (m, 2H), 4.25 (dd, J = 6.8, J = 7.1 Hz, 1H), 4.46 (dd, J = 7.3, J = 8.8 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 5.15 (dd, J = 12.5 Hz), 7.36 (m, 5H), 7.61 (m, 1H), 8.10 (m, 2H), 8.51 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.57 (d, J = 9.0 Hz, 1H)。
【０１０２】
実施例化合物８Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３７】
実施例化合物７Ａ（２４０ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシン（７９ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ、１当量）をジクロロメタン−ＤＭＦ（５＋１、６ｍｌ）に溶解する。ジイソプロピルエチルアミン（２９６μｌ、１．７０ｍｍｏｌ、５当量）およびＨＡＴＵ（１９４ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ、１．５当量）を加え、混合物を室温で２４時間撹拌する。完全な混合物を次にゲルクロマトグラフィーカラムに置き、クロマトグラフィー（方法２０、溶離剤はメタノールである）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、濃縮する。収量：１４６ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ、理論値の５３％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．１５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．９２分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６９２．８（１００）、［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.72-1.23 (m, 22H), 1.37 (s, 9H), 1.38-1.71 (m, 3H), 3.08 (m, 2H), 3.91-4.00 (m, 2H), 4.26 (m, 1H), 4.33-4.42 (m, 2H), 5.07-5.15 (m, 2H), 6.92 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.47 (m, 1H), 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.93 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 7.3 Hz, 1H)。
【０１０３】
実施例化合物９Ａ：ベンジルＬ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートビストリフルオロアセテート
【化３８】
実施例化合物８Ａ（２２０ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を、製造法１にしたがって、２．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２２３ｍｇの実施例９Ａの粗生成物（０．２７ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法２）：Ｒｔ＝３．８０。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．５４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５９２．４（２）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.73-1.11 (m, 13H), 1.22-1.74 (m, 12H), 3.11 (m, 4H), 3.60 (m, 2H), 3.87 (m, 1H), 3.95 (m, 1H), 4.25 (m, 1H), 4.38 (dd, J = 7.8, J = 8.6 Hz, 1H), 4.64 (dd, J = 7.8, J = 13.7 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.13 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.58 (m, 1H), 8.07 (m, 2H), 8.25 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 8.39 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.77 (d, J = 8.3 Hz, 1H)。
【０１０４】
実施例化合物１０Ａ：ベンジル［（３Ｒ）−Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３９】
実施例化合物９Ａ（２２３ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシン（８９ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ、１．２２当量）をＤＭＦ（６ｍｌ）に溶解し、溶液を−２０℃に冷却する。４−メチルモルホリン（１５０μｌ、１．３６ｍｍｏｌ、５当量）およびＨＡＴＵ（１６５ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ、１．６当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次にゲルクロマトグラフィーカラムに置き、クロマトグラフィー（方法２０、溶離剤はメタノールである）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、濃縮する。収量：１８８ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、理論値の７４％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．２４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．９９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝８２１．９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.71-0.90 (m, 15H), 1.00 (m, 1H), 1.10 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.24-1.26 (m, 3H), 1.38 (s, 9H), 1.42-1.71 (m, 6H), 3.06-3.17 (m, 3H), 3.45 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 3.93 (m, 1H),
4.05 (m, 1H), 4.26 (m, 1H), 4.35 (m, 2H), 4.54 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 5.07-5.15 (m, 2H), 5.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.46 (m, 1H), 7.85 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.89 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 7.6 Hz, 1H)。
【０１０５】
実施例化合物１１Ａ：［（３Ｒ）−Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロスレオニントリフルオロアセテート
【化４０】
実施例化合物１０Ａ（１００ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を氷酢酸（４．３ｍｌ）に溶解し、１０％のパラジウム活性炭素（２２ｍｇ）を加え、混合物を大気圧下で室温で２時間水素化する。触媒を濾去し、濾液を凍結乾燥する。粗生成物をクロマトグラフィー（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。５８ｍｇ（６０μｍｏｌ、理論値の５５％）の表題化合物を得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．７５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．８０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７３１．８（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１０６】
実施例化合物１２Ａ：［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−グリシル］−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｏ４−メチル−Ｌ−アスパラギン酸
【化４１】
（３Ｓ）−３−ヒドロキシアスパラギン酸をG. Cardillo, L. Gentilucci, A. Tolomelli, C. Tomasini, Synlett 1999, 1727-1730の方法にしたがって製造し、P. G. Mattingly, M. J. Miller, J. Org. Chem. 1983, 48, 3556-3559に類似して密閉反応器中でマイクロウェーブを使用して、（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸ヒドロクロライドに変換する。
（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸ヒドロクロライド（４４７ｍｇ、２．２４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（９ｍｌ）に溶解する。溶液を０℃に冷却し、Ｂｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（７６３ｍｇ、２．９１ｍｍｏｌ、１．３当量）、ＤＭＡＰ（１４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ、０．０５当量）および最後にＤＩＥＡ（１１７０μｌ、６．７２ｍｍｏｌ、３当量）を加える。混合物をゆっくり室温に温め、次にさらに２時間撹拌する。混合物を氷酢酸で酸性化し、アセトニトリルと混合し、Ｓｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ２０（方法２０）のクロマトグラフィーに付す。生成物−含有画分を合わせ、濃縮し、再びクロマトグラフィー（方法２１）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。得られた生成物（７６１ｍｇ、定量）をさらに精製することなくさらに反応させる。分析目的のため、純粋なサンプルをＨＰＬＣ（方法１９）により得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．１５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．１７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏＳ）＝３２１．２［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝＋３９°（ｃ＝０．５５、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.40 (s, 9H), 3.49-3.60 (m, 2H), 3.61 (s, 3H), 4.29 (m, 1H), 4.73 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.01 (m, 1H), 7.49 (d, J = 6.99 Hz, 1H)。
13C-NMR (d6-アセトン, 126 MHz, DEPT) δ(ppm) = 28.5 (CH3), 42.2 (CH2), 51.8 (CH3), 53.7 (CH), 56.0 (CH), 79.2 (quat), 169.6 (quat), 169.7 (quat), 172.8 (quat), 173.8 (quat)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ１２Ｈ２２Ｎ２Ｏ８［Ｍ＋Ｈ］＋計算値：３２１．１２９８、実測値：３２１．１２９９。
【０１０７】
実施例化合物１３Ａ：［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−グリシル］−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギン
【化４２】
実施例化合物１２Ａ（３５３ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）を２５％の水性アンモニア（１．７０ｍｌ）に溶解し、混合物をＲＴで約２時間撹拌する。反応が完了したらすぐに（ＨＰＬＣにより検出、方法３）、混合物をオイルポンプ真空下で乾燥濃縮し、残渣をＨＰＬＣ（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：無色固体として１７２ｍｇ（理論値の５１％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝２．７０分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．２１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３０６（７０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１０８】
実施例化合物１４Ａ：（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化４３】
この実施例化合物をBelokon (Y. N. Belokon, K. A. Kochetkov, N. S. Ikonnikov, T. V. Strelkova, S. R. Harutyunyan, A. S. Saghiyan, Tetrahedron: Asymmetry 2001, 12, 481-485)の方法にしたがって合成する。
ＬＣ−ＭＳ（方法１２）：Ｒｔ＝０．４１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１８２．１（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝−２１°（ｃ＝０．１、ＭｅＯＨ）。Lit (D. Alker, G. Hamblett, L. M. Harwood, S. M. Robertson, D. J. Watkin, C. E. Williams, Tetrahedron 1998, 54, 6089-6098)：［α］２２Ｎａ＝−２０°（ｃ＝０．８、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ(ppm) = 3.84 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 4.64 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 7.30-7.36 (m, 5H)。
【０１０９】
実施例化合物１５Ａ：Ｎ−ブトキシカルボニル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化４４】
実施例化合物１４Ａ（０．５ｇ、２．７６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン−水（２＋１、９ｍｌ）に取り、トリエチルアミン（５００μｌ、３．５９ｍｍｏｌ、１．３当量）およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（６６０ｍｇ、３．０４ｍｍｏｌ、１．３当量）を加える。混合物を室温で１６時間撹拌し、次に１Ｍのクエン酸を使用して停止する。混合物を、生成物がもはや水性相でＨＰＬＣ（方法３）により検出できなくなるまで、酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮する。７５９ｍｇ（２．７０ｍｍｏｌ、理論値の９８％）の表題化合物を残渣中で無色油状物として得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．８９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．８７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２８２．３（４０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ (ppm) = 1.27 (s, 9H, COC(CH3)3), 4.21 (m, 1H), 5.09 (s, 1H), 6.30 (d, J = 9.8 Hz), 7.22-7.34 (m, 5H)。
キラルＨＰＬＣ（方法７）：ｅ．ｅ．９４．１％。
【０１１０】
実施例化合物１６Ａ：メチルＮ−ブトキシカルボニル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニネート
【化４５】
実施例化合物１６Ａ（３３１ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン−メタノール（５＋１、１２ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却し、トリメチルシリルジアゾメタン（ＴＨＦ中で２Ｍ、１．６６ｍｌ、３．３２ｍｍｏｌ、３当量）を滴下する。混合物を０℃でさらに３０分撹拌し、次に数滴のＴＦＡを脱色が起こるまで加える。溶媒を留去し、残渣として表題化合物（３４５ｍｇ、ＨＰＬＣにしたがって９５％純粋）を定量的収量で黄色がかった油状物として残る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．２６分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．１１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２９６．３（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.27 (s, 9H, COC(CH3)3), 3.60 (s, 3H, OCH3), 4.31 (dd, J = 3.8, J = 9.3 Hz, 1H), 5.03 (d, J = 3.4 Hz, 1H), 5.68 (br s, 1H), 6.62 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 7.23-7.34 (m, 5H)。
【０１１１】
実施例化合物１７Ａ：メチル（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化４６】
実施例化合物１６Ａ（３４５ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）中の３０％のＴＦＡに溶解し、ＲＴで１５分撹拌する。溶媒を次に留去する。残渣を一定重量にオイルポンプ真空下で乾燥させる。黄色油状物として収量：４０１ｍｇ（定量）、これをさらに精製することなく次の工程で使用する。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝２．５１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝０．３０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１９６．１（２０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１２】
実施例化合物１８Ａ：メチル［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシナート
【化４７】
Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシン（ＢＡＣＨＥＭ Ｃａｔ Ｎｏ ｚｌ３３５１．）（６．３７ｇ、２４ｍｍｏｌ）およびメチルＬ−ロイシナート（３．４９ｇ、２４ｍｍｏｌ、１当量）を０℃でＤＭＦ（７５ｍｌ）に溶解し、次にＮＭＭ（５．２８ｍｌ、４８ｍｍｏｌ、２当量）およびＨＡＴＵ（１３．６９ｇ、３６ｍｍｏｌ、１．５当量）を加える。混合物を室温で３時間撹拌する。ＭＴＢＥおよび飽和重炭酸ナトリウム溶液を加え、抽出を行う。水性相を再び２部のＭＴＢＥで抽出し、合わせた有機相を次に１Ｍのクエン酸および再び飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣を２部のクロマトグラフィー（Ｂｉｏｔａｇｅ ４０Ｍ、シクロヘキサン／酢酸エチル３＋１）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：７．８５ｇ（理論値の８０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．８２分。
ＬＣＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．６５分；ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ．）：ｍ／ｚ（％）＝３９３（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝−５．２°（ｃ＝０．５２、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.92 (m, 12H), 1.31-1.66 (m, 6H), 3.60 (s, 3H), 4.10 (m, 1H), 4.28 (m, 1H), 5.02 (s, 2H), 7.25-7.38 (m, 6H), 8.23 (d, 1H)。
13C-NMR (126 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 21.1 (CH3), 21.5 (CH3), 22.8 (CH3), 22.9 (CH3), 24.2 (CH), 41.0 (CH2), 50.0 (CH), 51.8 (CH3, OCH3), 52.9 (CH), 65.3 (CH2, OCH2Ph), 127.6 (CH, ar-C), 127.7 (CH, ar-C), 128.3 (CH, ar-C), 137.1 (C quat, ar-C), 155.8 (C quat, NCOC(CH3)3), 172.4 (C quat, C=O), 172.9 (C quat, C=O)。
【０１１３】
実施例化合物１９Ａ：［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシン
【化４８】
実施例化合物１８Ａ（７．７０ｇ、１９．６２ｍｍｏｌ）を２００ｍｌのＴＨＦ／水（３＋１）に取り、０℃に冷却し、水酸化リチウム一水和物（１．６５ｇ、３９．２４ｍｍｏｌ、２ｅｑ．）を加える。混合物を、ＨＰＬＣモニタリング（方法３）にしたがって反応が完全に進行するまで（約４５分）、０℃で撹拌する。大部分のＴＨＦを真空留去し、混合物をクエン酸を加えることにより約ｐＨ４に調整し、混合物を２部の酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮する。生成物を、無色不定形物質として、収量６．８７ｇ（理論値の８９％）で得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．４５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．３９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）ｍ／ｚ（％）＝３７９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋、７５７（４０）［２Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝＋４．７°（ｃ＝０．５０、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (300 MHz,d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.92 (m, 12H), 1.34-1.68 (m, 6H), 4.04-4.26 (m, 2H), 5.02 (s, 2H), 7.25-7.38 (m, 6H), 8.12 (d, 1H), 12.50 (br. s, 1H)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ２０Ｈ３１Ｎ２Ｏ５［Ｍ＋Ｈ］＋計算値３７９．２２２８、実測値３７９．２２１６。
【０１１４】
実施例化合物２０Ａ：メチル［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニネート
【化４９】
実施例化合物１９Ａ（５５０ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）および実施例化合物１７Ａ（４４９ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ、１当量）を０℃でＤＭＦ（１２ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（３２０μｌ、２．９ｍｍｏｌ、２当量）およびＨＡＴＵ（６６３ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ、１．２当量）を次に加え、混合物を０℃で１５分撹拌する。次にさらに４−メチルモルホリン（１６０μｌ、１．４５ｍｍｏｌ、１当量）を加え、混合物をＲＴで１６時間撹拌する。混合物を次に酢酸エチルと濃重炭酸ナトリウムで抽出し、有機相を０．５Ｍのクエン酸および再び濃重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：６２６ｍｇ（１．１３ｍｍｏｌ、理論値の７８％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．６９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．５８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５５６．５（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.76-0.88 (m, 12H), 1.23-1.60 (m, 6H), 3.54 (s, 3H, OCH3), 4.06-4.11 (m, 1H), 4.43 (dd, J = 8.3, J = 14.9 Hz, 1H), 4.52 (dd, J = 4.1, J = 7.7 Hz, 1H), 5.02-5.06 (m, 3H), 5.87 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 7.20-7.40 (m, 11H), 8.01 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 8.08 (d, J = 8.5 Hz, 1H)。
【０１１５】
実施例化合物２１Ａ：［Ｎ２−（ベンジルオキシ）カルボニル−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化５０】
実施例化合物２０Ａ（６５０ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ）をアルゴン下でＴＨＦ−水（２＋１、３０ｍｌ）に溶解する。０℃で、水酸化リチウム水溶液（５７ｍｇ、２．４０ｍｍｏｌ、８．６５ｍｌの水中で４当量）を滴下する。４５分後（ＨＰＬＣ、方法１）、反応が完全に進行した。氷酢酸を加え、混合物を濃縮する。粗生成物をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：６１８ｍｇ（理論値の９８％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．４４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１３）Ｒｔ＝６．０４；ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）ｍ／ｚ（％）＝５４２．５（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋、１８３．８（８０）［２Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝５４０．４（４０）［Ｍ−Ｈ］−；１０８１．７０（１００）［２Ｍ−Ｈ］−。
【０１１６】
実施例化合物２２Ａ：２−（トリメチルシリル）エチル−Ｎ２−［ベンジルオキシカルボニル−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５１】
実施例化合物２１Ａ（１５０ｍｇ、２７７μｍｏｌ）および２−（トリメチルシリル）エタノール（７９０μｌ、５．５４ｍｍｏｌ、２０当量）および約４Åモレキュラー・シーブを乾燥ジクロロメタン（３．０ｍｌ）に溶解し、−３０℃で約１時間撹拌する。ＤＣＣ（１１４ｍｇ、５５３ｍｏｌ、２当量）およびＤＭＡＰ（３４ｍｇ、２７７μｍｏｌ、１当量）を次に加え、混合物を一晩撹拌し、この間にゆっくり室温にする。混合物を次に真空濃縮し、クロマトグラフィー（方法１６）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１０８ｍｇ（理論値の６０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．１４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．９７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６４２．３（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１７】
実施例化合物２３Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−Ｌ−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５２】
実施例化合物２２Ａ（１０４ｍｇ、１６２μｍｏｌ）およびＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｌ−セリン（４７ｍｇ、１７８μｍｏｌ、１．１当量）を乾燥ジクロロメタン（２．０ｍｌ）に溶解し、約４Åのモレキュラー・シーブを加える。ＤＣＣ（７０ｍｇ、３４０ｍｏｌ、２．１当量）およびＤＭＡＰ（２３ｍｇ、１９４μｍｏｌ、１．２当量）を次に加え、混合物を一晩撹拌し、この間にゆっくり室温にする。混合物を次に真空濃縮し、クロマトグラフィー（方法１６）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１２０ｍｇ（理論値の８４％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．４９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝３．３８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝８８５．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ４６Ｈ７３Ｎ４Ｏ１１Ｓｉ計算値８８５．５０４０、実測値８８５．５０３１［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１８】
実施例化合物２４Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−Ｌ−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５３】
実施例化合物２３Ａ（１１７ｍｇ、１３２μｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解する。ジクロロメタン（２０ｍｌ）中の１５％のＴＦＡを加え、１０分後、混合物を乾燥濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１００ｍｇ（理論値の８３％）。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．４０分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．２８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７８５．４（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１９】
実施例化合物２５Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５４】
実施例化合物２４Ａ（９６ｍｇ、１０７μｍｏｌ）および実施例化合物１３Ａ（３３ｍｇ、１０７μｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（２．０ｍｌ）に溶解し、−３０℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１２２ｍｇ、３２０μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（８６ｍｇ、８５４μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、この温度で１２時間放置する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：９２ｍｇ（理論値の８９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．２２分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝３．２１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１０７２．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１０７０．５（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ５２Ｈ８２Ｎ７Ｏ１５Ｓｉ計算値１０７２．５６３３、実測値１０７２．５６６７［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２０】
実施例化合物２６Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５５】
実施例化合物２５Ａ（９０ｍｇ、８４μｍｏｌ）をジクロロメタン（３．０ｍｌ）に溶解する。ジクロロメタン（２０ｍｌ）中の１５％のＴＦＡを加え、１０分後、混合物を乾燥濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：７３ｍｇ（理論値の８０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．６５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．１３分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝９７２．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝９７０．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ４７Ｈ７４Ｎ７Ｏ１３Ｓｉ計算値９７２．５１０９、実測値９７２．５１０３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２１】
実施例化合物２７Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５６】
実施例化合物２６Ａ（１０．０ｍｇ、９．２μｍｏｌ）および実施例化合物１１Ａ（８．２ｍｇ、１０７μｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（０．５ｍｌ）に溶解し、−３０℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１０．５ｍｇ、２７．６μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（７．５ｍｇ、７４μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、この温度で１２時間放置する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１０．７ｍｇ（理論値の６５％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．９９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．４０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１６８５．８（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１６８３．８（５０）［Ｍ−Ｈ］−、１７２８．８（１００）［Ｍ＋ＨＣＯＯＨ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ８０Ｈ１３４Ｎ１５Ｏ２２Ｓｉ計算値１６８４．９５９２、実測値１６８４．９５７３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２２】
実施例化合物２８Ａ：Ｎ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニントリフルオロアセテート
【化５７】
方法Ａ：
実施例化合物２７Ａ（１０ｍｇ、５．６μｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（０．５ｍｌ）に溶解する。ＴＢＡＦ（１７．４ｍｇ、６７μｍｏｌ、１２当量）を加え、混合物をＲＴで１時間撹拌する。ＨＰＬＣ分析（方法１）にしたがって、反応が完了したら、反応を氷酢酸（６μｌ）で止め、混合物を濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：２．５ｍｇ（約６９％純粋、理論値の１８％）の表題化合物。
方法Ｂ：
化合物２７Ａ（２５ｍｇ、１３．９μｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（２．５ｍｌ）に溶解する。硫酸ナトリウム（無水、２００ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加え、懸濁液を３０分撹拌する。ＴＢＡＦ溶液（ＴＨＦ中で１Ｍの無水物、８４μｌ、６当量）を加え、混合物をＲＴで４５分撹拌する。ＨＰＬＣ分析（方法１）にしたがって、反応の完了とする。反応を氷酢酸（１６μｌ）で止め、混合物を濾過し、濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）に付す。収量：２１ｍｇ（＞９５％純粋、理論値の８９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法６）：Ｒｔ＝２．９９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．３４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１５８５．６（２０）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１５８３．４（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ７５Ｈ１２１Ｎ１５Ｏ２３計算値１５８４．８８８４、実測値１５８４．８８４３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２３】
実施例化合物２９Ａ：Ｎ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニンビストリフルオロアセテート
【化５８】
実施例化合物２８Ａ（２．５ｍｇ、１．５μｍｏｌ）とトリイソプロピルシラン（１２．５μｌ）および水（２．８μｌ）を反応させ、０．５ｍｌのＴＦＡを加える。混合物を次に室温で１時間撹拌し、最後に溶媒を真空除去する。残渣をクロマトグラフィー（方法１５）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：２ｍｇ（理論値の８２％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法６）：Ｒｔ＝２．００分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．６０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７１４．９（１００）［Ｍ＋２Ｈ］２＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝１４２７．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ６６Ｈ１０６Ｎ１５Ｏ２０計算値１４２８．７７３４、実測値１４２８．７７００［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２４】
実施例化合物３０Ａ：Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−リソバクチントリフルオロアセテート
【化５９】
実施例化合物２９Ａ（１．０ｍｇ、１．１μｍｏｌ）をＤＭＦ（０．９ｍｌ）に溶解し、−１５℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１．２ｍｇ、３．３μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（０．９ｍｌのＤＭＦ中の１００μｌの４−メチルモルホリンの１１ｍｌの溶液、８．７μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、室温で３時間撹拌する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１．２ｍｇ（理論値の７３％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．１７分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．００分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１４１０．８（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝１４０８．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ６６Ｈ１０４Ｎ１５Ｏ１９計算値１４１０．７６２８、実測値１４１０．７６３９［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２５】
実施例化合物３１Ａ：リソバクチンビストリフルオロアセテート
【化６０】
実施例化合物３０Ａ（１．０ｍｇ、０．６６μｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍｌ）に溶解し、０．７５ｍｌの０．１％のＴＦＡ水溶液およびスパチュラ先端付着量の１０％のＰｄ／Ｃを加え、混合物を大気圧下でＲＴで１５分水素化する。生成物を濾過し、触媒を除去し、濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）により精製する。収量：０．６ｍｇ（理論値の６１％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法４）：Ｒｔ＝１６．３１分。合成された生成物３１Ａの同一性は、（ＷＯ２００４／０９９２３９（Ａ１）に記載されている方法により得られた）認証リソバクチンとの結合により確認した。
ＨＰＬＣ（方法５）Ｒｔ＝３８．１０分。合成された生成物３１Ａの同一性は、（ＷＯ２００４／０９９２３９（Ａ１）に記載されている方法により得られた）認証リソバクチンとの結合により確認した。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．４０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６３８．９（１００）［Ｍ＋２Ｈ］２＋、１２７６．８（５）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝６３７．０（１００）［Ｍ−２Ｈ］２−、１２７４．７（４０）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ５８Ｈ９８Ｎ１５Ｏ１７計算値１２７６．７２６０、実測値１２７６．７２６４［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２６】
Ｂ. 生理活性の評価
本発明の化合物のインビトロの効果は、以下のアッセイで示すことができる：
最低阻害濃度（ＭＩＣ）の決定：
ＮＣＣＬＳのガイドラインに準じる液体希釈試験でＭＩＣを決定する。黄色ブドウ球菌１３３、エンテロコッカス・フェカリスＩＣＢ２７１５９および肺炎連鎖球菌Ｇ９ａの終夜培養物を、１：２希釈系列の記載した試験物質と共にインキュベートする。ＭＩＣの決定は、Isosensitest 培地 (Difco, Irvine/USA）中、１ｍｌ当たり微生物１０５個の細胞数で実施し、肺炎連鎖球菌は例外とし、これは１０％ウシ血清を含むＢＨＩブロス (Difco, Irvine/USA) 中、微生物１０６個の細胞数で試験する。培養物を３７℃で１８−２４時間、肺炎連鎖球菌は１０％ＣＯ２の存在下で、インキュベートする。
ＭＩＣは、もはや視認できる細菌の増殖が起こらない各物質の最低濃度と定義される。ＭＩＣ値は、μｇ／ｍｌで報告する。
完全合成により製造されるリソバクチンと発酵によるリソバクチンで現れる生理活性に有意な差はない。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下記式（Ｉ）
【化１】
［式中、
Ｒ１は、ＨまたはＣＨ３であり、
Ｒ２は、水素、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルケニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、５−から７−員ヘテロシクリルメチル、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、１−メチルプロプ−１−イル、２−メチルプロプ−１−イル、２，２−ジメチルプロプ−１−イル、１，１−ジメチルプロプ−１−イル、１−エチルプロプ−１−イル、１−エチル−１−メチルプロプ−１−イル、ｎ−ブチル、２−メチルブト−１−イル、３−メチルブト−１−イル、１−エチルブト−１−イル、ｔｅｒｔ−ブチル、４−メチルペント−１−イル、ｎ−ヘキシル、アルケニルまたはアリールであり、
｛ここで、Ｒ２は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、トリメチルシリル、アルキル、アルコキシ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、アリール、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、アリールおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）｝、
Ｒ３は水素またはＣ１−Ｃ４−アルキルであるか、
または、
Ｒ２およびＲ３は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキル、アルコキシおよびアルキルカルボニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
Ｒ４は、アルキル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、５−から７−員ヘテロシクリル、アリール、５−もしくは６−員ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルカルボニル、５−から７−員ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、５−もしくは６−員ヘテロアリールカルボニルまたはアルキルアミノカルボニルであり、
｛ここで、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルおよびアルキルアミノカルボニルは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、アミノまたはアルキルアミノ置換基で置換されており、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、さらに０、１または２個のハロゲン、ヒドロキシ、トリメチルシリル、アルコキシ、アルキルチオ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アリールカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい、
（ここで、フェニルおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）、
または、アルキルカルボニルにおける同じ炭素原子上の２個の置換基は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成する
（ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキルおよびアルコキシから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよいか、
または、
ここで、シクロアルキル環は、ベンゾ−縮合されていてよい）｝、
Ｒ５は、水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルであるか、
または、
Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している窒素原子と一体となって、５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、ヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、アルキル、アルコキシおよびアルキルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい］
で示される環状デプシペプチドの製造法、
ならびに、この方法における有用な化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記環状デプシペプチドは、とりわけ、リソバクチン（lysobactin）およびカタノシンＡとして称される２種の天然物を含む。これらの物質は、細胞壁生合成の阻害剤であり、したがって抗菌活性を有する。
【化２】
【０００３】
細菌の細胞壁は、数々の酵素により合成され（細胞壁生合成）、微生物の生存および生殖に必須である。この巨大分子の構造ならびにその合成に関与するタンパク質および生合成中間体（“前駆体”）は、細菌類内で高度に保存されている。その本質的な性質および均一性のために、細胞壁生合成は新規抗生物質の理想的な攻撃点である。
【０００４】
バンコマイシンおよびペニシリン類は、細菌の細胞壁生合成の阻害剤であり、この作用原理による抗菌力の成功例である。それらは、とりわけグラム陽性病原体による細菌感染の処置のために、数十年間臨床的に用いられてきた。例えばメチシリン耐性ブドウ球菌、ペニシリン耐性肺炎球菌およびバンコマイシン耐性腸球菌、並びに、最近初めてのバンコマイシン耐性ブドウ球菌の耐性微生物の発生が増えているために、これらの物質はそれらの治療効力を次第に失いつつある。
【０００５】
リソバクチンは、今まで、例えばリソバクター属ｓｐ． ＳＣ １４０６７を使用する発酵により得てきた。さらに、ＷＯ ２００４／０９９２３９ Ａ１から、直線セグメントを形成する２個のロイシン単位を除去し、それらを他の基で置換することが知られている。直線セグメントに変異を有するリソバクチン、カタノシンＡまたはそれらの誘導体の完全合成による製造法は、今まで知られていない。
【発明の開示】
【０００６】
したがって、本発明の１つの目的は、上記式（Ｉ）の環状デプシペプチドの製造法を提供することである。
【０００７】
この目的は、式（Ｉ）の環状デプシペプチドの製造法であって、下記式（ＩＩ）
【化３】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｘは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲン（例えばアジド）またはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物を分子内環化し、
そして、次に環状中間体を脱保護することにより、式（Ｉ）の環状デプシペプチドを形成する方法によって達成される。
【０００８】
この方法は、Ｏ３でエステル化したβ−ヒドロキシα−アミノ酸（ここでは、β−フェニルセリン＝β−ヒドロキシフェニルアラニン）を環化工程で化学的に活性化し、次にそれがアシルドナーとして働くことを特徴とする。環化は、エステル化反応（ラクトン形成）ではなくアミド結合（ラクタム形成）で実施する。
【０００９】
該方法は、さらにデプシペプチド投げ縄（lasso）構造の環状セグメントを橋頭アミノ酸（ここでは、β−ヒドロキシフェニルアラニン）で環化することにより製造することを特徴とする。
【００１０】
本発明の目的上、置換基は、特に記載のない限り、下記の意味を有する：
アルキル自体ならびにアルコキシ、アルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニルおよびアルキルカルボニルアミノの“アルコ（alk）”および“アルキル”は、一般に１から６個、好ましくは１から４個、特に好ましくは１から３個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルキル基、例えば、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルおよびｎ−ヘキシルを表す。
【００１１】
アルコキシは、例えば、好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシおよびｎ−ヘキソキシを表す。
【００１２】
アルケニルは、２から６個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルケニルを表す。好ましくは２から４個、特に好ましくは２から３個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルケニルである。挙げられる好ましい例は：ビニル、アリル、ｎ−プロプ−１−エン−１−イル、ｎ−ブト−２−エン−１−イル、２−メチルプロプ−１−エン−１−イルおよび２−メチルプロプ−２−エン−１−イルである。
【００１３】
アルキルアミノは、１個または２個のアルキル置換基（互いに独立して選択される）を有するアルキルアミノ基、例えば、好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノおよびＮ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノを表す。
【００１４】
アリールアミノは、１個のアリール置換基、所望によりさらなる置換基、例えば、アリールまたはアルキルを有するアリールアミノ基、例えば、好ましくは、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、フェニルメチルアミノまたはジフェニルアミノを表す。
【００１５】
アルキルカルボニルは、１個のアルキル置換基を有するアルキルカルボニル基、例えば、好ましくは、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ｎ−ペンチルカルボニルおよびｎ−ヘキシルカルボニルを表す。
【００１６】
アルコキシカルボニルは、１個のアルコキシ置換基を有するアルコキシカルボニル基、例えば、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペントキシカルボニルおよびｎ−ヘキソキシカルボニルを表す。
【００１７】
シクロアルキルカルボニルは、１個のシクロアルキル置換基を有するシクロアルキルカルボニル基、例えば、好ましくは、シクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニルおよびシクロヘキシルカルボニルを表す。
【００１８】
ヘテロシクリルカルボニルは、１個のヘテロシクリル置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基、例えば、好ましくは、テトラヒドロフラン−２−イルカルボニル、ピロリジン−２−イルカルボニル、ピロリジン−３−イルカルボニル、ピロリニルカルボニル、ピペリジニルカルボニル、モルホリニルカルボニルおよびペルヒドロアゼピニルカルボニルを表す。
【００１９】
アリールカルボニルは、１個のアリール置換基を有するアリールカルボニル基、例えば、好ましくは、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニルおよびフェナントレニルカルボニルを表す。
【００２０】
ヘテロアリールカルボニルは、１個のヘテロアリール置換基を有するヘテロアリールカルボニル基、例えば、好ましくは、チエニルカルボニル、フリルカルボニル、ピロリルカルボニル、チアゾリルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、イミダゾリルカルボニル、ピリジルカルボニル、ピリミジルカルボニル、ピリダジニルカルボニル、インドリルカルボニル、インダゾリルカルボニル、ベンゾフラニルカルボニル、ベンゾチオフェニルカルボニル、キノリニルカルボニルおよびイソキノリニルカルボニルを表す。
【００２１】
アルキルカルボニルアミノは、１個のアルキル置換基を有するアルキルカルボニルアミノ基、例えば、好ましくは、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ｎ−プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ｎ−ペンチルカルボニルアミノおよびｎ−ヘキシルカルボニルアミノを表す。
【００２２】
アリールカルボニルアミノは、１個のアリール置換基を有するアリールカルボニルアミノ基、例えば、好ましくは、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノおよびフェナントレニルカルボニルアミノを表す。
【００２３】
アルキルアミノカルボニルは、１または２個のアルキル置換基（互いに独立して選択される）を有するアルキルアミノカルボニル基、例えば、好ましくは、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、ｎ−プロピルアミノカルボニル、イソプロピルアミノカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルアミノカルボニル、ｎ−ペンチルアミノカルボニル、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−エチル−Ｎ−ｎ−ペンチルアミノカルボニルおよびＮ−ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノカルボニルを表す。
【００２４】
シクロアルキルは、一般に３から６個の炭素原子を有するシクロアルキル基、例えば、好ましくは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルを表す。
【００２５】
シクロアルケニルは、一般に５から６個の炭素原子および１または２個の二重結合を有するシクロアルケニル基、例えば、好ましくは、シクロペンタ−１−エン−１−イル、シクロペンタ−２−エン−１−イル、シクロペンタ−３−エン−１−イル、シクロヘキサ−１−エン−１−イル、シクロヘキサ−２−エン−１−イルおよびシクロヘキサ−３−エン−１−イルを表す。
【００２６】
アリールは、一般に６から１４個の炭素原子を有する単環式から三環式の芳香族性の炭素環式基；例えば、好ましくは、フェニル、ナフチルおよびフェナントレニルを表す。
【００２７】
ヘテロシクリルは、一般に５から７個の環原子および３個まで、好ましくは２個までのＮ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２の一群からのヘテロ原子および／またはヘテロ基を有する単環式または多環式、好ましくは単環式または二環式のヘテロ環式基を表す。ヘテロシクリル基は、飽和または部分的に不飽和であり得る。好ましくは、２個までのＯ、ＮおよびＳの一群からのヘテロ原子を有する５から７員単環式飽和ヘテロシクリル基、例えば、好ましくは、テトラヒドロフラン−２−イル、ピロリジン−２−イル、ピロリジン−３−イル、ピロリニル、ピペリジニル、モルホリニルおよびペルヒドロアゼピニルを表す。
【００２８】
ヘテロアリールは、一般に５から１０個、好ましくは５から６個の環原子および５個までの、好ましくは４個までの、Ｓ、ＯおよびＮの一群からのヘテロ原子を有する芳香族性単環式もしくは二環式基、例えば、好ましくは、好ましくはチエニル、フリル、ピロリル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、インダゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、キノリニルおよびイソキノリニルを表す。
【００２９】
カルボニル−結合アミノ酸は、アミノ酸官能基のカルボニル基を介して結合しているアミノ酸を表す。これに関して、好ましくは、Ｌ−またはＤ−配置のα−アミノ酸、特に天然α−アミノ酸、例えば、グリシン、Ｌ−アラニン、Ｌ−バリン、Ｌ−ロイシン、Ｌ−イソロイシン、Ｌ−プロリン、Ｌ−フェニルアラニン、Ｌ−トリプトファン、または、非天然Ｄ−配置の天然α−アミノ酸、例えば、Ｄ−アラニン、Ｄ−バリン、Ｄ−ロイシン、Ｄ−イソロイシン、Ｄ−プロリン、Ｄ−フェニルアラニン、Ｄ−トリプトファン、または、アミノ酸のα−炭素原子に結合した側基、例えば、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、エチル、ｎ−プロピル、２，２−ジメチルプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、３−メチルブチル、ｎ−ヘキシルまたはアリルを有するか、または、側鎖がアミノ酸のα−炭素原子と共に、環、例えば、シクロプロピル（アミノ酸：１−アミノ−１−シクロプロパンカルボン酸）、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルを形成している非天然のアミノ酸、またはβ−アミノ酸（名称に関して：D. Seebach, M. Overhand, F. N. M. Kuhnle, B. Martinoni, L. Oberer, U. Hommel, H. Widmer, Helv. Chim. Acta 1996, 79, 913-941参照）、例えば、β−アラニン、β−フェニルアラニン、β−Ａｉｂ（α−メチルアラニン）または２，３−ジアミノプロピオン酸の誘導体（例えば２，３−ジアミノ−３−フェニルプロピオン酸）である。
ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素、好ましくはフッ素および塩素を表す。
【００３０】
活性エステルなる用語は、当業者に既知のすべての活性エステルを含む。本発明において好ましい活性エステルの例は、シアノメチルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、ｏ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェニルエステル、２，４，５−トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステル（Ｐｆｐ）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（Ｏ−Ｓｕ）、１−ヒドロキシピペリジンエステル、５−クロロ−８−ヒドロキシキノリンエステルを含む。
【００３１】
分子内環化は、原則として当業者に既知のすべての工程により達成できるアミド結合の形成を含む。
したがって、環化は下記求核攻撃により実施する。
【化４】
【００３２】
Ｘが活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンを示すとき、反応は、一般的に、不活性溶媒中、脱水剤の存在下、必要に応じて塩基の存在下、好ましくは−３０℃ないし５０℃の温度範囲で、大気圧下で行う。
【００３３】
不活性溶媒の例は、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ピリジン、ジオキサン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、酢酸エチルまたはジメチルホルムアミドであり、塩化メチレンまたはジメチルホルムアミドがより好ましい。
【００３４】
塩基の例は、トリエチルアミン、トリイソプロピルエチルアミンまたはＮ−メチルモルホリンであり、トリイソプロピルエチルアミンがより好ましい。
【００３５】
ＸがＯＨを示すとき、反応は、一般的に、不活性溶媒中、脱水剤の存在下、必要に応じて塩基の存在下、好ましくは−３０℃ないし５０℃の温度範囲で、大気圧下で行う。
【００３６】
不活性溶媒の例は、ジクロロメタンもしくはトリクロロメタンなどのハロ炭化水素類、ベンゼンなどの炭化水素、ニトロメタン、ジオキサン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリルである。溶媒の混合物を用いることも同様に可能である。ジクロロメタンおよびジメチルホルムアミドが特に好ましい。
【００３７】
適する脱水剤の例は、カルボジイミド類、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノイソプロピル）−Ｎ’−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）、Ｎ−シクロヘキシルカルボジイミド−Ｎ’−プロピルオキシメチルポリスチレン（ＰＳ−カルボジイミド）、またはカルボニル化合物、例えばカルボニルジイミダゾール、または、１，２−オキサゾリウム化合物、例えば２−エチル−５−フェニル−１，２−オキサゾリウム−３−サルフェート、または２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルイソオキサゾリウムパークロレート、または、アシルアミノ化合物、例えば２−エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロキノリン、またはプロパンホスホン酸無水物、または、イソブチルクロロホルメート、または、ビス（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）−ホスホリルクロリド、または、ベンゾトリアジルオキシトリ（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、または、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、２−（２−オキソ−１−（２Ｈ）−ピリジル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＰＴＵ）またはＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、または、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、または、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、または、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ピロリジノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、またはこれらの塩基との混合物である。
【００３８】
塩基の例は、アルカリ金属炭素塩、例えば、炭酸ナトリウムまたはカリウム、または、重炭素塩、有機塩基、例えばトリエチルアミンなどのトリアルキルアミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、４−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン、４−ジメチルアミノピリジンもしくはジイソプロピルエチルアミンである。
【００３９】
反応は、好ましくは、４−メチルモルホリンの存在下、ＨＡＴＵを用いて実施する。
式（ＩＩ）の化合物は、これらの場合において、式（ＩＩ）の化合物の分子内環化に続き、当業者に既知の方法による保護基の除去ができるように、必要に応じて保護基を有する。
【００４０】
本明細書で使用される“適当な保護基”なる用語は、当業者に既知であり、特定の官能基を覆うために使用でき、その後、脱保護される分子においてさらなる変化を起こすことなく再び除去できる、すべての保護基を含む。
【００４１】
例えば、一級または二級ヒドロキシ基は、開裂可能なエーテル、特にメトキシメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル、ベンジル、ｔｅｒｔ−ブチル、テトラヒドロピラニル、アリル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ニトロフェニルまたはトリフェニルメチルエーテルとして保護され得る。シリルエーテルは、ヒドロキシ基、例えばトリメチルシリル（ＴＭＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）またはトリフェニルシリルエーテルを保護するためのさらなる可能性を表す。ヒドロキシ基は、さらにまた、エステル基、例えばアセチル、ベンゾイル、プロピオニル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルまたはクロチルエステルにより保護され得る。その上、これらの炭酸塩、例えば、炭酸メチル、炭酸アリル、炭酸ベンジルは、また、アルコールを保護するために適当である。さらにアルコールに対する保護基として硫酸またはスルホン酸のエステル、例えば、硫酸エステル、硫酸アリル、ｐ−トルエンスルホネート（トシレート）または硫酸メチルを使用することが可能である。
【００４２】
ヒドロキシ基に対する好ましい保護基は、ｔｅｒｔ−ブチルエーテルまたはシリルエーテル、とりわけｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテルである。
グアニジノ基に対する適当な保護基は、原則としてヒドロキシ基に対するものと同じであり、この場合好ましくは（２，２，５，７，８−ペンタメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−クロメン−６−イル）スルホニル基（ＰＭＣ基）である。
【００４３】
カルボキシ基は、これらのアルキル、シリル、アリールアルキルまたはアリールエステル、例えばメチル、エチル、ｔｅｒｔ−ブチル、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ベンジル、ピコリル、トリクロロエチルまたはトリメチルシリルエステルの形態で保護され得る。カルボキシ基は、また、様々なアミド、アニリドまたはヒドラジド、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミド、ピロリジニルアミド、ピペリジニルアミド、ｏ−ニトロアニリド、Ｎ−７−ニトロインドリルアミドまたはＮ−フェニルヒドラジドの形態で保護され得る。その上、これらは、また、オルトエステル、例えばトリメチルオルトエステルとして保護され得る。カルボン酸は、好ましくはこれらのエステル、とりわけメチルまたはトリメチルシリルエチルエステルの形態で保護され得る。
【００４４】
アミノ基を保護するために特に適当な基は、開裂可能なカルバメート、例えばメトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル（ＣＢｚまたはＺ）、アリルオキシカルボニル（ａｌｌｏｃ）、９−フルオロエニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、２−トリメチルシリルエチルカルボニル、１−アダマンチルカルボニル、ｍ−ニトロフェニル基を有するものである。アミノ基は、さらにまた、簡単に開裂可能なアミドまたはイミド、例えばホルムアミド、クロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリフルオロアセトアミド、ベンゾイルアミド、ｏ−ニトロフェニルアセトアミド、フタリミド、テトラクロロフタリミドまたはニトロフタリミドの形態で保護され得る。特定のアルキル基、例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基、メチル基、トリフェニルメチル基、フェロセンメチル基またはアリル基、または、アリール基、例えば、２，４−ジニトロフェニル基を有する開裂可能なアミンの形成が、アミノ基を保護するためのさらなる可能性である。
【００４５】
カルバメートは、中でも、特にｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル（ＣＢｚまたはＺ）または９−フルオロエニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）は、アミノ基を保護するために好ましく使用する。
【００４６】
ここに挙げられた保護基は単に例を提供するものであり、可能性のあるすべてを網羅していない。この範囲のさらなる広範な処理は、とりわけT. W. Greene, P. G. M. Wuts Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd Edition, John Wiley & Sons Inc. 1999で見られる。
【００４７】
本明細書で使用されるＰＧにより示される基は、１個の分子において、同じまたは異なる適当な保護基、または同じまたは異なる保護基とＨの組合せ、または独占的にＨであり得る。
【００４８】
式（ＩＩ）の化合物は、好ましくは下記式（ＩＩａ）
【化５】
［式中、
ＸおよびＲ１は、上記定義のとおりであり、
Ｒ６は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、３−ピリジルメチル、４−トリフルオロメチル−３−ピリジルメチル、ベンジルまたはトリメチルシリルメチルであり、
Ｒ７は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、トリメチルシリルメチルまたはベンジルであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００４９】
Ｒ６は、好ましくはイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたは３−ピリジルメチルであり、特にＲ６はイソプロピルメチルである。
Ｒ７は、好ましくはイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたはトリメチルシリルメチルであり、特にＲ７はイソプロピルメチルである。
Ｘは好ましくはＯＨである。
Ｒ１は好ましくはＣＨ３である。
【００５０】
本発明のさらなる態様において、化合物（ＩＩ）は、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物と下記式（ＩＶ）で示される化合物
【化６】
【化７】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｙは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護し、かつ、必要に応じて３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基を式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ（ここで、Ｘは上記定義のとおりである）の基に変換することにより製造する。
【００５１】
式（ＩＩＩ）で示される化合物は、特に下記式（ＩＩＩａ）
【化８】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００５２】
カップリングは、分子内環化ついて上記したものと同じかまたは異なる条件下で実施できる。したがって、カップリングは下記求核攻撃により実施する。
【００５３】
３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基の式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘの基への変換は当業者に既知の方法により実施できる。
【化９】
【００５４】
中間体において存在する保護基は、所望の生成物のものに、完全または部分的に対応してもよく、または全く対応しなくてもよい。これらは、必要に応じて当業者に既知の方法により除去、置換または結合させ得る。
【００５５】
本発明のさらなる態様において、式（ＩＩＩ）で示される化合物は、下記式（Ｖ）で示される化合物と下記式（ＶＩ）で示される化合物
【化１０】
【化１１】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することにより製造する。
【００５６】
式（Ｖ）で示される化合物は、したがって特に下記式（Ｖａ）
【化１２】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物である。
【００５７】
カップリングは、上記カップリングまたは分子内環化について上記したものと同じかまたは異なる条件下で実施できる。したがって、カップリングは下記求核攻撃により実施する。
【化１３】
【００５８】
中間体において存在する保護基は、所望の生成物のものに、完全または部分的に対応してもよく、または全く対応しなくてもよい。これらは、必要に応じて当業者に既知の方法により除去、置換または結合させ得る。
【００５９】
本発明は、さらに下記式（ＩＩＩ）
【化１４】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
特に、下記式（ＩＩＩａ）
【化１５】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、上記定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
とりわけ下記式（ＩＩＩｂ）
【化１６】
で示される化合物に関する。
【００６０】
本発明はさらに式（Ｖ）で示される化合物と式（ＶＩ）で示される化合物をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む、式（ＩＩＩ）で示される化合物の製造法に関する。
【００６１】
本発明はさらに下記式（ＶＩ）
【化１７】
［式中、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物、
特に、下記式（ＶＩａ）
【化１８】
で示される化合物
ならびに式（ＶＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ）で示される化合物と下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物
【化１９】
【化２０】
［式中、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法に関する。
【００６２】
したがって、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物は、特に、各々下記式（ＶＩＩａ）および（ＶＩＩＩａ）の化合物である。
【化２１】
【化２２】
【００６３】
本発明の製造法および本発明の化合物の製造法を、リソバクチンの合成に関する下記合成スキームにより、より詳細に説明する。
【００６４】
この方法は、様々なフラグメントのモジュール構築を基礎とし、次にこれを組合せ、式（ＩＩ）の化合物を得る。式（ＩＩ）の化合物を、次に分子内環化に付し、そして、必要に応じて、所望の生成物を得るために脱保護する。
【００６５】
驚くべきことに、本発明において、構成要素の選択および結合させる順序により影響されて、それらの鎖中にエステル結合をすでに有する式（ＩＩ）の開鎖分子を製造できることが明らかになった。さらに、これらの開鎖化合物はエステル結合の存在下で環化でき、所望の環状デプシペプチドを得ることができることを見いだした。
【００６６】
合成スキーム１にしたがって、フラグメント１は、（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸およびＢｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステルから出発して合成する。
【化２３】
【００６７】
フラグメント２は、合成スキーム２にしたがって、３−ヒドロキシフェニルアラニンから出発して合成する。
【化２４】
【００６８】
フラグメント３は、合成スキーム３にしたがって、Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシンおよびメチルＬ−ロイシナートから出発して合成する。任意のＲ２からＲ５基を有する式（Ｉ）の化合物は、この工程で２個のロイシン誘導体を置換することにより製造できる。
【００６９】
次にフラグメント２および３を、次に合成スキーム４にしたがってカップリングし、部分的に脱保護し、得られた中間体をＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｌ−セリンと反応させ、さらなる脱保護後、部分的に脱保護されたフラグメント４を得る。
【化２５】
【化２６】
【００７０】
この方法で得られたフラグメント４を、合成スキーム５にしたがってフラグメント１とカップリングし、部分的脱保護後、フラグメント５を得る。
【化２７】
【００７１】
次に、フラグメント５を、合成スキーム６にしたがって、フラグメント６とカップリングする。このフラグメント６は、既知の方法により製造できるペンタペプチドである。リソバクチンの代わりに、フラグメント６の２位のロイシンをバリンで置換することによりカタノシンＡを製造することが可能である。得られた中間体を脱保護し、式（ＩＩ）の化合物を表すフラグメント７を得る。合成スキーム７にしたがって、分子内環化し、次に脱保護し、所望の環状デプシペプチド、この場合はリソバクチン、を得る。
【化２８】
【化２９】
【実施例】
【００７２】
リソバクチンのデノボ合成
略号
【表１】
【００７３】
物質および方法
分析法−ＨＰＬＣ／ＵＶ
方法１
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １１００ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２ μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分．２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７４】
方法２
装置：ＨＰ １１００ ＤＡＤ検出；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ １００ ＲＰ−１８、６０ｍｍ×２．１ｍｍ、３．５μｍ；溶離剤：Ａ＝５ｍｌのＨＣｌＯ４（７０％）／ｌのＨ２Ｏ、Ｂ＝ＡＣＮ；勾配：０分 ２％Ｂ、０．５分 ２％Ｂ、４．５分 ９０％Ｂ、９分 ９０％Ｂ、９．２分．２％Ｂ、１０分 ２％Ｂ；流速：０．７５ｍｌ／分；カラム 温度：３０℃；検出：ＵＶ２１０ｎｍ。
【００７５】
方法３
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ １１００ ＤＡＤ（Ｇ１３１５Ｂ）、バイナリポンプ（Ｇ１３１２Ａ）、オートサンプラー（Ｇ１３１３Ａ）、溶媒ガス除去装置（Ｇ１３７９Ａ）およびカラムサーモスタット（Ｇ１３１６Ａ）；カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｚｏｒｂａｘ Ｅｃｌｉｐｓｅ ＸＤＢ−Ｃ８ ４．６×１５０×５ｍｍ；カラム温度：３０℃；溶離剤Ａ：０．０５％の水中で７０％の過塩素酸；溶離剤Ｂ：アセトニトリル；流速：２．００ｍｌ／分；勾配：０−１分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、４−５分 ９０％Ｂ、ｒａｍｐ、５．５分 １０％Ｂ。
【００７６】
方法４
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １０５０ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｚｏｒｂａｘ ３００ ｍＳＢ−Ｃ１８ ３．５μ、４．６ｍｍ×１５０ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：０．１％のＴＦＡを有する水中で６０％のアセトニトリル；勾配：０．０分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、１８．０分 ８０％Ｂ、２０．０分 １００％Ｂ、２５．０分 １００％Ｂ．流速：１ｍｌ／分；オーブン：４０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７７】
方法５
ＨＰＬＣ装置タイプ：ＨＰ １０５０ シリーズ；ＵＶ ＤＡＤ；カラム：Ｚｏｒｂａｘ ３００ ｍＳＢ−Ｃ１８ ３．５μ、４．６ｍｍ×１５０ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：０．１％のＴＦＡを有する水中で６０％のアセトニトリル；勾配：０．０分 １０％Ｂ、２．００分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、５０．０分 ８０％Ｂ、５２．０分 １００％Ｂ、５５分 １００％Ｂ．流速：０．７ｍｌ／分；オーブン：４０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００７８】
方法６
Ａｇｉｌｅｎｔ １１００ ＤＡＤ（Ｇ１３１５Ｂ）、バイナリポンプ（Ｇ１３１２Ａ）、オートサンプラー（Ｇ１３１３Ａ）、ガス除去装置（Ｇ１３７９Ａ）およびカラムサーモスタット（Ｇ１３１６Ａ）；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ ５ｍ Ｃ １８、５０×２ｍｍ；オーブン温度：４０℃；溶離剤Ａ：水＋０．１％のギ酸；溶離剤Ｂ：アセトニトリル；流速：２．００ｍｌ／分；勾配：０−１分 ０％Ｂ、ｒａｍｐ、０ ５分 １００％Ｂ、５．５０分 １００％Ｂ。
【００７９】
方法７
Ｄａｉｃｅｌ Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＤ−Ｈ ５ｍｍ ２５０ｍｍ×２．０ｍｍ、ｎ−ヘプタン／エタノール ９５＋５、流速：０．２ｍｌ／分、ＵＶ検出 ２２０ｎｍ。
【００８０】
分析法−ＨＰＬＣ／ＭＳ、ＭＡＬＤＩ、ＨＲ−ＭＳ
方法８
ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５／ＨＰ １１００；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８１】
方法９
ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５／ＨＰ １１００；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ ３μ Ｃ−１８ １００Å、３０ｍｍ×３ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８２】
方法１０
ＵＶ検出：２１０ｎｍ．ＭＳ装置タイプ：Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ ＺＱ；ＨＰＬＣ装置タイプ：Ｗａｔｅｒｓ Ａｌｌｉａｎｃｅ ２７９５；カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ ２μ ヒドロ−ＲＰ Ｍｅｒｃｕｒｙ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 ９０％Ａ→２．５分 ３０％Ａ→３．０分 ５％Ａ→４．５分 ５％Ａ；流速：０．０分 １ｍｌ／分、２．５分／３．０分／４．５分 ２ｍｌ／分；オーブン：５０℃；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８３】
方法１１
装置：ＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ シリーズ １１００を備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ Ｐｌａｔｆｏｒｍ ＬＣＺ ；カラム：Ｔｈｅｒｍｏ Ｈｙｐｅｒｓｉｌ ＧＯＬＤ ３μ ２０ｍｍ×４ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 １００％Ａ→０．２分 １００％Ａ→２．９分 ３０％Ａ→３．１分 １０％Ａ→５．５分 １０％Ａ；オーブン：５０℃；流速：０．８ｍｌ／分；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８４】
方法１２
装置：ＨＰＬＣ Ａｇｉｌｅｎｔ シリーズ １１００を備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ Ｐｌａｔｆｏｒｍ ＬＣＺカラム：Ｔｈｅｒｍｏ ＨｙＰＵＲＩＴＹ Ａｑｕａｓｔａｒ ３μ ５０ｍｍ×２．１ｍｍ；溶離剤Ａ：１ｌの水＋０．５ｍｌの５０％のギ酸、溶離剤Ｂ：１ｌのアセトニトリル＋０．５ｍｌの５０％のギ酸；勾配：０．０分 １００％Ａ→０．２分 １００％Ａ→２．９分 ３０％Ａ→３．１分 １０％Ａ→５．５分 １０％Ａ；オーブン：５０℃；流速：０．８ｍｌ／分；ＵＶ検出：２１０ｎｍ。
【００８５】
方法１３
装置：ＤＡＤおよびオートサンプラーを備えたＭｉｃｒｏｍａｓｓ ＬＣＴ；イオン化：ＥＳＩ ｐｏｓｉｔｉｖｅ／ｎｅｇａｔｉｖｅ；ＨＰ１１００；オーブン ４０℃；カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｓｙｍｍｅｔｒｙ Ｃ−１８、５０×２．１ｍｍ、３．５μｍ；溶離剤Ａ：０．１％のギ酸／アセトニトリル、溶離剤Ｂ：０．１％のギ酸／水；流速：０．５ｍｌ／分；勾配：０−１分 ０％Ａ、１−６分 ９０％Ａ、６−８分 １００％Ａ、８−１０分 １００％Ａ、１０−１５ ０％ Ａ。
【００８６】
方法１４
ＴＯＦ−ＨＲ−ＭＳ−ＥＳＩ＋スペクトルをＭｉｃｒｏｍａｓｓ ＬＣＴ 装置（キャピラリー電圧：３．２ＫＶ、コーン電圧：４２Ｖ、ソース温度：１２０℃、脱溶媒和温度：２８０℃）で記録する。シリンジポンプ（Ｈａｒｖａｒｄ Ａｐｐａｒａｔｕｓ）は、この方法で、サンプルを供給するために使用される。ロイシン−エンケファリン（Ｔｙｒ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｐｈｅ−Ｌｅｕ）を標準として使用する。
【００８７】
分取的分離法−ＨＰＬＣ、ゲルクロマトグラフィー
方法１５
装置：Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；バイナリポンプシステム；カラム：Ｎｕｃｌｅｏｄｕｒ Ｃ１８ Ｇｒａｖｉｔｙ、Ｍａｃｈｅｒｅｙ−Ｎａｇｅｌ、５μｍ；２５０×２１ｍｍ；溶離剤Ａ：水／０．０５％−０．１％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル；勾配：０−８分 ５％Ｂ、８−４０分 ５−６０％Ｂ、４０−６０分 ６０％Ｂ、６０−７５分 ６０−１００％Ｂ、７５−８０分 １００％Ｂ、そして次にクロマトグラフィーカラムの再生；流速：７−１５ｍｌ／分；ＵＶ検出２１０ｎｍ。
【００８８】
方法１６
装置：Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；バイナリポンプシステム；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ−１００Ａ Ｃ１８、５μｍ；２５０×３０ｍｍ；溶離剤Ａ：水／０．０５−０．５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル；勾配：０−５分 ５％Ｂ、５．０１−１０分 １０％Ｂ、１０．０１−２０分 ４０％Ｂ、２０．０１−２７分 ５０％Ｂ、２７．０１−４０分 ６０％Ｂ、４０．０１−４５分 ９０％Ｂ、４５．０１−６０分 １００％Ｂ；流速：１５−６０ｍｌ／分；ＵＶ検出２１０ｎｍ。
【００８９】
方法１７
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｋｒｏｍａｓｉｌ ＲＰ−１８ ５μｍ、１００Å、２５０×２０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：１０ｍｌ／分；０−３分 ５％Ｂ、ｒａｍｐ、３５分 ９０％Ｂ。
【００９０】
方法１８
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｇｒｏｍｓｉｌ ＯＤＳ−４ＨＥ １０μｍ、２５０×４０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：２０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３５分 ９０％Ｂ、３５−４０分 ９０％Ｂ。
【００９１】
方法１９
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出２１０ｎｍ；カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｓｙｍｍｅｔｒｙ−ＰｒｅｐＴＭ Ｃ−１８、７μｍ、３００×１９ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：１０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３８分 ９０％Ｂ、３８−４５分 １０％Ｂ。
【００９２】
方法２０
ゲルクロマトグラフィーは、圧力なしでＳｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ−２０（Ｐｈａｒｍａｃｉａ）で実施する。画分をＵＶ活性（ＵＶ検出器 ２５４ｎｍ、Ｋｎａｕｅｒ）にしたがって（ＩＳＣＯ Ｆｏｘｙ ２００ ｆｒａｃｔｉｏｎ ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ）で取る。カラム寸法：３２×７ｃｍ（１０００−１００μｍｏｌスケール）；３０×４ｃｍ（１００−１０μｍｏｌスケール）；２５×２ｃｍ（１０−１μｍｏｌスケール）。メタノールを溶離剤として使用する。
【００９３】
方法２１
Ｇｉｌｓｏｎ Ａｂｉｍｅｄ ＨＰＬＣ；ＵＶ検出 ２１０ｎｍ；カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ Ｆｌａｓｈ４０ ＲＰ−１８または互換モジュール Ｖａｒｉａｎ Ｍｅｔａｆｌａｓｈ Ｃ１８ ４０Ｍ、３５μｍ、１５０×４０ｍｍ；溶離剤Ａ：水＋０．０５％のＴＦＡ、溶離剤Ｂ：アセトニトリル＋０．０５％のＴＦＡ：流速：４０ｍｌ／分；０−３分 １０％Ｂ、ｒａｍｐ、３０−３８分 ９０％Ｂ、３８−４５分 １０％Ｂ。
【００９４】
一般的実施方法
製造法１
出発物質を３０％のＴＦＡ（ジクロロメタン中の溶液）に取り、室温で３０分撹拌する。次に溶媒を浴温度が３０℃を超えないようにしながら真空蒸留する。次に生成物をオイルポンプ真空下で一定重量に乾燥する。
【００９５】
Ａ．化合物の製造
実施例化合物１Ａ：Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−アロスレオニン
【化３０】
Ｌ−アロ−スレオニン（３．１５ｇ、２６．４４ｍｍｏｌ）を水−ジオキサン（１＋２、７５ｍｌ）に溶解し、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（６．３５ｇ、２９．０９ｍｍｏｌ、１．１当量）およびトリエチルアミン（４．７９ｍｌ、３４．３８ｍｍｏｌ、１．３当量）を加え、混合物を室温で一晩撹拌する。溶媒を次に真空除去する。残渣を酢酸エチルに取り、１Ｍのクエン酸で抽出する。水性相を生成物がもはや（ＨＰＬＣ、方法３）で観察できなるまで酢酸エチルで抽出する。合わせた有機抽出物を次に硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮し、オイルポンプ真空下で一定重量に乾燥する。生成物をさらに精製することなく反応させる。収量：６．５ｇの粗生成物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．２３分。ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．５１分、ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝２１７．８（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ (ppm) = 1.08 (d, J = 5.4 Hz, 3H), 1.38 (s, 9H), 3.72-3.84 (m, 2H), 6.77 (d, J = 7.4 Hz, 1H)。
【００９６】
実施例化合物２Ａ：ベンジルＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−アロトレオニネート
【化３１】
方法は下記文献と同様に実施した：S. B. Cohen, R. Halcomb, J. Am. Chem. Soc 2004, 124, 2534-2543. W. Jiang, J. Wanner, R. J. Lee, P.-Y. Bounaud, D. L. Boger, J. Am. Chem. Soc 2003, 125, 1877-1887。
実施例化合物１Ａ（６．８ｇの粗生成物、２６．４４ｍｍｏｌ）をメタノール（１７７ｍｌ）に取り、炭酸セシウム（５．５６ｇ、１７．０６ｍｍｏｌ、０．６３当量）を加え、混合物を溶解が完了するまで撹拌する。溶媒を次に蒸留により除去し、ＤＭＦ（４２ｍｌ）、次に臭化ベンジル（４．０６ｍｌ、３４．１２ｍｍｏｌ、１．２６当量）を加える。混合物を１６時間撹拌し、次に大部分のＤＭＦを真空除去する。残渣を水に取り、３部のジクロロメタンで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。粗生成物をＢｉｏｔａｇｅ ＲＰ１８−Ｆｌａｓｈ（水−アセトニトリル勾配：０−５分 １０％のＡＣＮ、３−３０分 １０−９０％のＡＣＮ、３０−３５分 ９０％のＡＣＮ；流速：２０ｍｌ／分）で精製する。生成物含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：５．００ｇ（１６．１６ｍｍｏｌ、理論値の５２％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．３６分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．３９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３３２．６（２５）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.09 (d, J = 6.4, 3H), 1.37 (s, 9H), 3.82 (m, 1H), 3.95 (dd, J = 6.4, J = 8.1 Hz), 4.98 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.16 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.31-7.37 (m, 5H)。
【００９７】
実施例化合物３Ａ：ベンジルＬ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３２】
５３０ｍｇの実施例化合物２Ａを、製造法１にしたがって、８．０ｍｌのＴＦＡ溶液と反応させる。粗生成物（５８９ｍｇ、定量）をさらに精製することなくさらに反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．１８分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．２４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２１０．０（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.15 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 4.09-4.10 (m, 2H), 5.26 (s, 2H), 7.36-7.44 (m, 5H), 8.34 (br. S, 2H)。
【００９８】
実施例化合物４Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−イソロイシル］−Ｌ−アロトレオニネート
【化３３】
実施例化合物３Ａ（２．３０ｇ、７．１２ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−イソロイシン（２．１４ｇ、９．２５ｍｍｏｌ、１．３当量）をＤＭＦ（２１．０ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（１．３ｍｌ、１２．０２ｍｍｏｌ、１．７当量）およびＨＡＴＵ（３．５２ｇ、９．２５ｍｍｏｌ、１．３当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次に、最初に方法２０にしたがって、次に方法２１にしたがって、クロマトグラフィーにより精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。薄いベージュ色不定形固体として収量：１．７５ｇ（４．１４ｍｍｏｌ、理論値の５８％）。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．５９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．５６分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝４２３．８（７０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.74-0.78 (m, 6H), 1.01-1.07 (m, 2H), 1.10 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 1.37 (s, 9H), 1.64-1.66 (m, 1H), 3.86-3.94 (m, 1H), 4.28 (dd, J = 7.3, J = 7.3 Hz, 1H), 5.05 (d, J = 5.6 Hz), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.13 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 6.70 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.31-7.36 (m, 5H), 8.11 (d, J = 8.1 Hz)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ２２Ｈ３５Ｎ２Ｏ６計算値４２３．２４９０、実測値４２３．２４８９［Ｍ＋Ｈ］＋。
【００９９】
実施例化合物５Ａ：ベンジルＬ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３４】
実施例化合物４Ａ（２２４ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を製造法１にしたがって、８．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２５３ｍｇの実施例５Ａの粗生成物（約９１％純粋、０．５３ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．５１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．５８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３２３．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.86 (m, 6H), 1.02 (m, 1H), 1.15 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.45 (m, 1H), 1.77 (m, 1H), 3.97 (m, 1H), 4.34 (m, 1H), 5.11 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 5.16 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 7.37-7.39 (m, 5H), 7.47 (m, 1H), 8.07-8.08 (m, 3H), 8.69 (d, J = 7.3 Hz, 1H)。
【０１００】
実施例化合物６Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−アルギニル］−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネート
【化３５】
実施例化合物５Ａ（２５３ｍｇ、９１％純粋、０．５３ｍｍｏｌ）およびＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−アルギニン（１４５ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（３．０ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（７６μｌ、０．７０ｍｍｏｌ、１．３当量）およびＨＡＴＵ（２２１ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ、１．１当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次にＨＰＬＣカラムに置き、クロマトグラフィー（方法１８）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：３６４ｍｇ（０．５３ｍｍｏｌ、理論値の９９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．９１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．０４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５７９．９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.72-1.16 (m, 8H), 1.37 (s, 9H), 1.46 (m, 2H), 1.60 (m, 1H), 1.69 (m, 1H), 3.06 (m, 2H), 3.93-4.01 (m, 2H), 4.25 (m, 1H), 4.33 (m, 1H), 5.07-5.14 (m, 2H), 6.96 (d, J = 7.8, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.45 (m, 1H), 7.66 (d, J = 8.8), 8.33 (m, 1H)。
【０１０１】
実施例化合物７Ａ：ベンジルＤ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートビストリフルオロアセテート
【化３６】
実施例化合物６Ａ（２３７ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）を、製造法１にしたがって、２．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２５５ｍｇの実施例化合物７Ａの粗生成物（９４％純粋、０．３４ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．４２分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．４２分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝４７９．３（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.73-0.81 (m, 5H), 1.11-1.19 (m, 5H), 1.33-1.49 (m, 3H), 1.74 (m, 3H), 3.10 (m, 2H), 3.88-3.95 (m, 2H), 4.25 (dd, J = 6.8, J = 7.1 Hz, 1H), 4.46 (dd, J = 7.3, J = 8.8 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.5 Hz, 1H), 5.15 (dd, J = 12.5 Hz), 7.36 (m, 5H), 7.61 (m, 1H), 8.10 (m, 2H), 8.51 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.57 (d, J = 9.0 Hz, 1H)。
【０１０２】
実施例化合物８Ａ：ベンジル［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３７】
実施例化合物７Ａ（２４０ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシン（７９ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ、１当量）をジクロロメタン−ＤＭＦ（５＋１、６ｍｌ）に溶解する。ジイソプロピルエチルアミン（２９６μｌ、１．７０ｍｍｏｌ、５当量）およびＨＡＴＵ（１９４ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ、１．５当量）を加え、混合物を室温で２４時間撹拌する。完全な混合物を次にゲルクロマトグラフィーカラムに置き、クロマトグラフィー（方法２０、溶離剤はメタノールである）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、濃縮する。収量：１４６ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ、理論値の５３％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．１５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．９２分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６９２．８（１００）、［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.72-1.23 (m, 22H), 1.37 (s, 9H), 1.38-1.71 (m, 3H), 3.08 (m, 2H), 3.91-4.00 (m, 2H), 4.26 (m, 1H), 4.33-4.42 (m, 2H), 5.07-5.15 (m, 2H), 6.92 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.47 (m, 1H), 7.88 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.93 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 7.3 Hz, 1H)。
【０１０３】
実施例化合物９Ａ：ベンジルＬ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートビストリフルオロアセテート
【化３８】
実施例化合物８Ａ（２２０ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を、製造法１にしたがって、２．０ｍｌのＴＦＡ溶液で処理する。２２３ｍｇの実施例９Ａの粗生成物（０．２７ｍｍｏｌ、定量）を得、さらに精製することなく反応させる。
ＨＰＬＣ（方法２）：Ｒｔ＝３．８０。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．５４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５９２．４（２）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.73-1.11 (m, 13H), 1.22-1.74 (m, 12H), 3.11 (m, 4H), 3.60 (m, 2H), 3.87 (m, 1H), 3.95 (m, 1H), 4.25 (m, 1H), 4.38 (dd, J = 7.8, J = 8.6 Hz, 1H), 4.64 (dd, J = 7.8, J = 13.7 Hz, 1H), 5.09 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 5.13 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.58 (m, 1H), 8.07 (m, 2H), 8.25 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 8.39 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.77 (d, J = 8.3 Hz, 1H)。
【０１０４】
実施例化合物１０Ａ：ベンジル［（３Ｒ）−Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニネートトリフルオロアセテート
【化３９】
実施例化合物９Ａ（２２３ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）およびＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシン（８９ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ、１．２２当量）をＤＭＦ（６ｍｌ）に溶解し、溶液を−２０℃に冷却する。４−メチルモルホリン（１５０μｌ、１．３６ｍｍｏｌ、５当量）およびＨＡＴＵ（１６５ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ、１．６当量）を加え、混合物を室温で１６時間撹拌する。完全な混合物を次にゲルクロマトグラフィーカラムに置き、クロマトグラフィー（方法２０、溶離剤はメタノールである）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、濃縮する。収量：１８８ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、理論値の７４％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．２４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．９９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝８２１．９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.71-0.90 (m, 15H), 1.00 (m, 1H), 1.10 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.24-1.26 (m, 3H), 1.38 (s, 9H), 1.42-1.71 (m, 6H), 3.06-3.17 (m, 3H), 3.45 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 3.93 (m, 1H),
4.05 (m, 1H), 4.26 (m, 1H), 4.35 (m, 2H), 4.54 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 5.07-5.15 (m, 2H), 5.45 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.35 (m, 5H), 7.46 (m, 1H), 7.85 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.89 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.97 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 7.6 Hz, 1H)。
【０１０５】
実施例化合物１１Ａ：［（３Ｒ）−Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロスレオニントリフルオロアセテート
【化４０】
実施例化合物１０Ａ（１００ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を氷酢酸（４．３ｍｌ）に溶解し、１０％のパラジウム活性炭素（２２ｍｇ）を加え、混合物を大気圧下で室温で２時間水素化する。触媒を濾去し、濾液を凍結乾燥する。粗生成物をクロマトグラフィー（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。５８ｍｇ（６０μｍｏｌ、理論値の５５％）の表題化合物を得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．７５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．８０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７３１．８（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１０６】
実施例化合物１２Ａ：［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−グリシル］−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｏ４−メチル−Ｌ−アスパラギン酸
【化４１】
（３Ｓ）−３−ヒドロキシアスパラギン酸をG. Cardillo, L. Gentilucci, A. Tolomelli, C. Tomasini, Synlett 1999, 1727-1730の方法にしたがって製造し、P. G. Mattingly, M. J. Miller, J. Org. Chem. 1983, 48, 3556-3559に類似して密閉反応器中でマイクロウェーブを使用して、（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸ヒドロクロライドに変換する。
（２Ｓ，３Ｓ）−２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オキソ酪酸ヒドロクロライド（４４７ｍｇ、２．２４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（９ｍｌ）に溶解する。溶液を０℃に冷却し、Ｂｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（７６３ｍｇ、２．９１ｍｍｏｌ、１．３当量）、ＤＭＡＰ（１４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ、０．０５当量）および最後にＤＩＥＡ（１１７０μｌ、６．７２ｍｍｏｌ、３当量）を加える。混合物をゆっくり室温に温め、次にさらに２時間撹拌する。混合物を氷酢酸で酸性化し、アセトニトリルと混合し、Ｓｅｐｈａｄｅｘ ＬＨ２０（方法２０）のクロマトグラフィーに付す。生成物−含有画分を合わせ、濃縮し、再びクロマトグラフィー（方法２１）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。得られた生成物（７６１ｍｇ、定量）をさらに精製することなくさらに反応させる。分析目的のため、純粋なサンプルをＨＰＬＣ（方法１９）により得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．１５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．１７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏＳ）＝３２１．２［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝＋３９°（ｃ＝０．５５、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.40 (s, 9H), 3.49-3.60 (m, 2H), 3.61 (s, 3H), 4.29 (m, 1H), 4.73 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.01 (m, 1H), 7.49 (d, J = 6.99 Hz, 1H)。
13C-NMR (d6-アセトン, 126 MHz, DEPT) δ(ppm) = 28.5 (CH3), 42.2 (CH2), 51.8 (CH3), 53.7 (CH), 56.0 (CH), 79.2 (quat), 169.6 (quat), 169.7 (quat), 172.8 (quat), 173.8 (quat)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ１２Ｈ２２Ｎ２Ｏ８［Ｍ＋Ｈ］＋計算値：３２１．１２９８、実測値：３２１．１２９９。
【０１０７】
実施例化合物１３Ａ：［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−グリシル］−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギン
【化４２】
実施例化合物１２Ａ（３５３ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）を２５％の水性アンモニア（１．７０ｍｌ）に溶解し、混合物をＲＴで約２時間撹拌する。反応が完了したらすぐに（ＨＰＬＣにより検出、方法３）、混合物をオイルポンプ真空下で乾燥濃縮し、残渣をＨＰＬＣ（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：無色固体として１７２ｍｇ（理論値の５１％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝２．７０分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１１）：Ｒｔ＝２．２１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝３０６（７０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１０８】
実施例化合物１４Ａ：（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化４３】
この実施例化合物をBelokon (Y. N. Belokon, K. A. Kochetkov, N. S. Ikonnikov, T. V. Strelkova, S. R. Harutyunyan, A. S. Saghiyan, Tetrahedron: Asymmetry 2001, 12, 481-485)の方法にしたがって合成する。
ＬＣ−ＭＳ（方法１２）：Ｒｔ＝０．４１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１８２．１（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝−２１°（ｃ＝０．１、ＭｅＯＨ）。Lit (D. Alker, G. Hamblett, L. M. Harwood, S. M. Robertson, D. J. Watkin, C. E. Williams, Tetrahedron 1998, 54, 6089-6098)：［α］２２Ｎａ＝−２０°（ｃ＝０．８、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ(ppm) = 3.84 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 4.64 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 7.30-7.36 (m, 5H)。
【０１０９】
実施例化合物１５Ａ：Ｎ−ブトキシカルボニル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化４４】
実施例化合物１４Ａ（０．５ｇ、２．７６ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン−水（２＋１、９ｍｌ）に取り、トリエチルアミン（５００μｌ、３．５９ｍｍｏｌ、１．３当量）およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（６６０ｍｇ、３．０４ｍｍｏｌ、１．３当量）を加える。混合物を室温で１６時間撹拌し、次に１Ｍのクエン酸を使用して停止する。混合物を、生成物がもはや水性相でＨＰＬＣ（方法３）により検出できなくなるまで、酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮する。７５９ｍｇ（２．７０ｍｍｏｌ、理論値の９８％）の表題化合物を残渣中で無色油状物として得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝３．８９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝１．８７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２８２．３（４０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ (ppm) = 1.27 (s, 9H, COC(CH3)3), 4.21 (m, 1H), 5.09 (s, 1H), 6.30 (d, J = 9.8 Hz), 7.22-7.34 (m, 5H)。
キラルＨＰＬＣ（方法７）：ｅ．ｅ．９４．１％。
【０１１０】
実施例化合物１６Ａ：メチルＮ−ブトキシカルボニル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニネート
【化４５】
実施例化合物１６Ａ（３３１ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン−メタノール（５＋１、１２ｍｌ）に溶解し、０℃に冷却し、トリメチルシリルジアゾメタン（ＴＨＦ中で２Ｍ、１．６６ｍｌ、３．３２ｍｍｏｌ、３当量）を滴下する。混合物を０℃でさらに３０分撹拌し、次に数滴のＴＦＡを脱色が起こるまで加える。溶媒を留去し、残渣として表題化合物（３４５ｍｇ、ＨＰＬＣにしたがって９５％純粋）を定量的収量で黄色がかった油状物として残る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．２６分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．１１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝２９６．３（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 1.27 (s, 9H, COC(CH3)3), 3.60 (s, 3H, OCH3), 4.31 (dd, J = 3.8, J = 9.3 Hz, 1H), 5.03 (d, J = 3.4 Hz, 1H), 5.68 (br s, 1H), 6.62 (d, J = 9.1 Hz, 1H), 7.23-7.34 (m, 5H)。
【０１１１】
実施例化合物１７Ａ：メチル（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化４６】
実施例化合物１６Ａ（３４５ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）中の３０％のＴＦＡに溶解し、ＲＴで１５分撹拌する。溶媒を次に留去する。残渣を一定重量にオイルポンプ真空下で乾燥させる。黄色油状物として収量：４０１ｍｇ（定量）、これをさらに精製することなく次の工程で使用する。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝２．５１分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝０．３０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１９６．１（２０）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１２】
実施例化合物１８Ａ：メチル［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシナート
【化４７】
Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシン（ＢＡＣＨＥＭ Ｃａｔ Ｎｏ ｚｌ３３５１．）（６．３７ｇ、２４ｍｍｏｌ）およびメチルＬ−ロイシナート（３．４９ｇ、２４ｍｍｏｌ、１当量）を０℃でＤＭＦ（７５ｍｌ）に溶解し、次にＮＭＭ（５．２８ｍｌ、４８ｍｍｏｌ、２当量）およびＨＡＴＵ（１３．６９ｇ、３６ｍｍｏｌ、１．５当量）を加える。混合物を室温で３時間撹拌する。ＭＴＢＥおよび飽和重炭酸ナトリウム溶液を加え、抽出を行う。水性相を再び２部のＭＴＢＥで抽出し、合わせた有機相を次に１Ｍのクエン酸および再び飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、真空濃縮する。残渣を２部のクロマトグラフィー（Ｂｉｏｔａｇｅ ４０Ｍ、シクロヘキサン／酢酸エチル３＋１）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：７．８５ｇ（理論値の８０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．８２分。
ＬＣＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．６５分；ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ．）：ｍ／ｚ（％）＝３９３（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝−５．２°（ｃ＝０．５２、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (400 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.92 (m, 12H), 1.31-1.66 (m, 6H), 3.60 (s, 3H), 4.10 (m, 1H), 4.28 (m, 1H), 5.02 (s, 2H), 7.25-7.38 (m, 6H), 8.23 (d, 1H)。
13C-NMR (126 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 21.1 (CH3), 21.5 (CH3), 22.8 (CH3), 22.9 (CH3), 24.2 (CH), 41.0 (CH2), 50.0 (CH), 51.8 (CH3, OCH3), 52.9 (CH), 65.3 (CH2, OCH2Ph), 127.6 (CH, ar-C), 127.7 (CH, ar-C), 128.3 (CH, ar-C), 137.1 (C quat, ar-C), 155.8 (C quat, NCOC(CH3)3), 172.4 (C quat, C=O), 172.9 (C quat, C=O)。
【０１１３】
実施例化合物１９Ａ：［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシン
【化４８】
実施例化合物１８Ａ（７．７０ｇ、１９．６２ｍｍｏｌ）を２００ｍｌのＴＨＦ／水（３＋１）に取り、０℃に冷却し、水酸化リチウム一水和物（１．６５ｇ、３９．２４ｍｍｏｌ、２ｅｑ．）を加える。混合物を、ＨＰＬＣモニタリング（方法３）にしたがって反応が完全に進行するまで（約４５分）、０℃で撹拌する。大部分のＴＨＦを真空留去し、混合物をクエン酸を加えることにより約ｐＨ４に調整し、混合物を２部の酢酸エチルで抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾過し、濃縮する。生成物を、無色不定形物質として、収量６．８７ｇ（理論値の８９％）で得る。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．４５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．３９分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）ｍ／ｚ（％）＝３７９（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋、７５７（４０）［２Ｍ＋Ｈ］＋。
［α］２０Ｎａ＝＋４．７°（ｃ＝０．５０、ＭｅＯＨ）。
1H NMR (300 MHz,d6-DMSO) δ(ppm) = 0.77-0.92 (m, 12H), 1.34-1.68 (m, 6H), 4.04-4.26 (m, 2H), 5.02 (s, 2H), 7.25-7.38 (m, 6H), 8.12 (d, 1H), 12.50 (br. s, 1H)。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ２０Ｈ３１Ｎ２Ｏ５［Ｍ＋Ｈ］＋計算値３７９．２２２８、実測値３７９．２２１６。
【０１１４】
実施例化合物２０Ａ：メチル［Ｎ２−（ベンジルオキシカルボニル）−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニネート
【化４９】
実施例化合物１９Ａ（５５０ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）および実施例化合物１７Ａ（４４９ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ、１当量）を０℃でＤＭＦ（１２ｍｌ）に溶解する。４−メチルモルホリン（３２０μｌ、２．９ｍｍｏｌ、２当量）およびＨＡＴＵ（６６３ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ、１．２当量）を次に加え、混合物を０℃で１５分撹拌する。次にさらに４−メチルモルホリン（１６０μｌ、１．４５ｍｍｏｌ、１当量）を加え、混合物をＲＴで１６時間撹拌する。混合物を次に酢酸エチルと濃重炭酸ナトリウムで抽出し、有機相を０．５Ｍのクエン酸および再び濃重炭酸ナトリウムで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１７）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：６２６ｍｇ（１．１３ｍｍｏｌ、理論値の７８％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法３）：Ｒｔ＝４．６９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法８）：Ｒｔ＝２．５８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝５５６．５（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO) δ(ppm) = 0.76-0.88 (m, 12H), 1.23-1.60 (m, 6H), 3.54 (s, 3H, OCH3), 4.06-4.11 (m, 1H), 4.43 (dd, J = 8.3, J = 14.9 Hz, 1H), 4.52 (dd, J = 4.1, J = 7.7 Hz, 1H), 5.02-5.06 (m, 3H), 5.87 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 7.20-7.40 (m, 11H), 8.01 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 8.08 (d, J = 8.5 Hz, 1H)。
【０１１５】
実施例化合物２１Ａ：［Ｎ２−（ベンジルオキシ）カルボニル−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシフェニルアラニン
【化５０】
実施例化合物２０Ａ（６５０ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ）をアルゴン下でＴＨＦ−水（２＋１、３０ｍｌ）に溶解する。０℃で、水酸化リチウム水溶液（５７ｍｇ、２．４０ｍｍｏｌ、８．６５ｍｌの水中で４当量）を滴下する。４５分後（ＨＰＬＣ、方法１）、反応が完全に進行した。氷酢酸を加え、混合物を濃縮する。粗生成物をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：６１８ｍｇ（理論値の９８％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．４４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１３）Ｒｔ＝６．０４；ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）ｍ／ｚ（％）＝５４２．５（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋、１８３．８（８０）［２Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝５４０．４（４０）［Ｍ−Ｈ］−；１０８１．７０（１００）［２Ｍ−Ｈ］−。
【０１１６】
実施例化合物２２Ａ：２−（トリメチルシリル）エチル−Ｎ２−［ベンジルオキシカルボニル−Ｄ−ロイシル］−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５１】
実施例化合物２１Ａ（１５０ｍｇ、２７７μｍｏｌ）および２−（トリメチルシリル）エタノール（７９０μｌ、５．５４ｍｍｏｌ、２０当量）および約４Åモレキュラー・シーブを乾燥ジクロロメタン（３．０ｍｌ）に溶解し、−３０℃で約１時間撹拌する。ＤＣＣ（１１４ｍｇ、５５３ｍｏｌ、２当量）およびＤＭＡＰ（３４ｍｇ、２７７μｍｏｌ、１当量）を次に加え、混合物を一晩撹拌し、この間にゆっくり室温にする。混合物を次に真空濃縮し、クロマトグラフィー（方法１６）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１０８ｍｇ（理論値の６０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．１４分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．９７分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６４２．３（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１７】
実施例化合物２３Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−Ｌ−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５２】
実施例化合物２２Ａ（１０４ｍｇ、１６２μｍｏｌ）およびＮ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｏ３−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｌ−セリン（４７ｍｇ、１７８μｍｏｌ、１．１当量）を乾燥ジクロロメタン（２．０ｍｌ）に溶解し、約４Åのモレキュラー・シーブを加える。ＤＣＣ（７０ｍｇ、３４０ｍｏｌ、２．１当量）およびＤＭＡＰ（２３ｍｇ、１９４μｍｏｌ、１．２当量）を次に加え、混合物を一晩撹拌し、この間にゆっくり室温にする。混合物を次に真空濃縮し、クロマトグラフィー（方法１６）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１２０ｍｇ（理論値の８４％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．４９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝３．３８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝８８５．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ４６Ｈ７３Ｎ４Ｏ１１Ｓｉ計算値８８５．５０４０、実測値８８５．５０３１［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１８】
実施例化合物２４Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）−Ｌ−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５３】
実施例化合物２３Ａ（１１７ｍｇ、１３２μｍｏｌ）をジクロロメタン（３ｍｌ）に溶解する。ジクロロメタン（２０ｍｌ）中の１５％のＴＦＡを加え、１０分後、混合物を乾燥濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１００ｍｇ（理論値の８３％）。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．４０分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．２８分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７８５．４（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１１９】
実施例化合物２５Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネート
【化５４】
実施例化合物２４Ａ（９６ｍｇ、１０７μｍｏｌ）および実施例化合物１３Ａ（３３ｍｇ、１０７μｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（２．０ｍｌ）に溶解し、−３０℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１２２ｍｇ、３２０μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（８６ｍｇ、８５４μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、この温度で１２時間放置する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：９２ｍｇ（理論値の８９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝３．２２分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝３．２１分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１０７２．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１０７０．５（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ５２Ｈ８２Ｎ７Ｏ１５Ｓｉ計算値１０７２．５６３３、実測値１０７２．５６６７［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２０】
実施例化合物２６Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５５】
実施例化合物２５Ａ（９０ｍｇ、８４μｍｏｌ）をジクロロメタン（３．０ｍｌ）に溶解する。ジクロロメタン（２０ｍｌ）中の１５％のＴＦＡを加え、１０分後、混合物を乾燥濃縮する。残渣をクロマトグラフィー（方法１６）により精製する。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：７３ｍｇ（理論値の８０％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．６５分。
ＬＣ−ＭＳ（方法１０）：Ｒｔ＝２．１３分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝９７２．６（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝９７０．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ４７Ｈ７４Ｎ７Ｏ１３Ｓｉ計算値９７２．５１０９、実測値９７２．５１０３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２１】
実施例化合物２７Ａ：２−（トリメチルシリル）エチルＮ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニネートトリフルオロアセテート
【化５６】
実施例化合物２６Ａ（１０．０ｍｇ、９．２μｍｏｌ）および実施例化合物１１Ａ（８．２ｍｇ、１０７μｍｏｌ、１当量）をＤＭＦ（０．５ｍｌ）に溶解し、−３０℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１０．５ｍｇ、２７．６μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（７．５ｍｇ、７４μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、この温度で１２時間放置する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１０．７ｍｇ（理論値の６５％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．９９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．４０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１６８５．８（５０）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１６８３．８（５０）［Ｍ−Ｈ］−、１７２８．８（１００）［Ｍ＋ＨＣＯＯＨ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ８０Ｈ１３４Ｎ１５Ｏ２２Ｓｉ計算値１６８４．９５９２、実測値１６８４．９５７３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２２】
実施例化合物２８Ａ：Ｎ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［Ｎ２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−Ｏ３−（ｔｅｒｔ−ブチル）セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニントリフルオロアセテート
【化５７】
方法Ａ：
実施例化合物２７Ａ（１０ｍｇ、５．６μｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（０．５ｍｌ）に溶解する。ＴＢＡＦ（１７．４ｍｇ、６７μｍｏｌ、１２当量）を加え、混合物をＲＴで１時間撹拌する。ＨＰＬＣ分析（方法１）にしたがって、反応が完了したら、反応を氷酢酸（６μｌ）で止め、混合物を濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：２．５ｍｇ（約６９％純粋、理論値の１８％）の表題化合物。
方法Ｂ：
化合物２７Ａ（２５ｍｇ、１３．９μｍｏｌ）を無水ＴＨＦ（２．５ｍｌ）に溶解する。硫酸ナトリウム（無水、２００ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加え、懸濁液を３０分撹拌する。ＴＢＡＦ溶液（ＴＨＦ中で１Ｍの無水物、８４μｌ、６当量）を加え、混合物をＲＴで４５分撹拌する。ＨＰＬＣ分析（方法１）にしたがって、反応の完了とする。反応を氷酢酸（１６μｌ）で止め、混合物を濾過し、濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）に付す。収量：２１ｍｇ（＞９５％純粋、理論値の８９％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法６）：Ｒｔ＝２．９９分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．３４分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１５８５．６（２０）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝１５８３．４（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ７５Ｈ１２１Ｎ１５Ｏ２３計算値１５８４．８８８４、実測値１５８４．８８４３［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２３】
実施例化合物２９Ａ：Ｎ２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］−Ｄ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−（３Ｒ）−３−｛［（３Ｒ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−ロイシル−Ｌ−ロイシル−Ｄ−アルギニル−Ｌ−イソロイシル−Ｌ−アロトレオニル−グリシル−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−Ｌ−アスパラギニル−セリル］オキシ｝−Ｌ−フェニルアラニンビストリフルオロアセテート
【化５８】
実施例化合物２８Ａ（２．５ｍｇ、１．５μｍｏｌ）とトリイソプロピルシラン（１２．５μｌ）および水（２．８μｌ）を反応させ、０．５ｍｌのＴＦＡを加える。混合物を次に室温で１時間撹拌し、最後に溶媒を真空除去する。残渣をクロマトグラフィー（方法１５）に付す。生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：２ｍｇ（理論値の８２％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法６）：Ｒｔ＝２．００分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．６０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝７１４．９（１００）［Ｍ＋２Ｈ］２＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝１４２７．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ６６Ｈ１０６Ｎ１５Ｏ２０計算値１４２８．７７３４、実測値１４２８．７７００［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２４】
実施例化合物３０Ａ：Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−リソバクチントリフルオロアセテート
【化５９】
実施例化合物２９Ａ（１．０ｍｇ、１．１μｍｏｌ）をＤＭＦ（０．９ｍｌ）に溶解し、−１５℃に冷却する。ＨＡＴＵ（１．２ｍｇ、３．３μｍｏｌ、３当量）および４−メチルモルホリン（０．９ｍｌのＤＭＦ中の１００μｌの４−メチルモルホリンの１１ｍｌの溶液、８．７μｍｏｌ、８当量）を加え、混合物を次にゆっくり約４℃に温め、室温で３時間撹拌する。粗反応溶液をクロマトグラフィー（方法１５）に付し、生成物−含有画分を合わせ、凍結乾燥する。収量：１．２ｍｇ（理論値の７３％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法１）：Ｒｔ＝２．１７分。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝２．００分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝１４１０．８（１００）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）ｍ／ｚ（％）＝１４０８．７（１００）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ６６Ｈ１０４Ｎ１５Ｏ１９計算値１４１０．７６２８、実測値１４１０．７６３９［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２５】
実施例化合物３１Ａ：リソバクチンビストリフルオロアセテート
【化６０】
実施例化合物３０Ａ（１．０ｍｇ、０．６６μｍｏｌ）をジオキサン（０．５ｍｌ）に溶解し、０．７５ｍｌの０．１％のＴＦＡ水溶液およびスパチュラ先端付着量の１０％のＰｄ／Ｃを加え、混合物を大気圧下でＲＴで１５分水素化する。生成物を濾過し、触媒を除去し、濃縮し、クロマトグラフィー（方法１５）により精製する。収量：０．６ｍｇ（理論値の６１％）の表題化合物。
ＨＰＬＣ（方法４）：Ｒｔ＝１６．３１分。合成された生成物３１Ａの同一性は、（ＷＯ２００４／０９９２３９（Ａ１）に記載されている方法により得られた）認証リソバクチンとの結合により確認した。
ＨＰＬＣ（方法５）Ｒｔ＝３８．１０分。合成された生成物３１Ａの同一性は、（ＷＯ２００４／０９９２３９（Ａ１）に記載されている方法により得られた）認証リソバクチンとの結合により確認した。
ＬＣ−ＭＳ（方法９）：Ｒｔ＝１．４０分、ＭＳ（ＥＳＩｐｏｓ）：ｍ／ｚ（％）＝６３８．９（１００）［Ｍ＋２Ｈ］２＋、１２７６．８（５）［Ｍ＋Ｈ］＋；ＭＳ（ＥＳＩｎｅｇ）：ｍ／ｚ（％）＝６３７．０（１００）［Ｍ−２Ｈ］２−、１２７４．７（４０）［Ｍ−Ｈ］−。
ＨＲ−ＴＯＦ−ＭＳ（方法１４）：Ｃ５８Ｈ９８Ｎ１５Ｏ１７計算値１２７６．７２６０、実測値１２７６．７２６４［Ｍ＋Ｈ］＋。
【０１２６】
Ｂ. 生理活性の評価
本発明の化合物のインビトロの効果は、以下のアッセイで示すことができる：
最低阻害濃度（ＭＩＣ）の決定：
ＮＣＣＬＳのガイドラインに準じる液体希釈試験でＭＩＣを決定する。黄色ブドウ球菌１３３、エンテロコッカス・フェカリスＩＣＢ２７１５９および肺炎連鎖球菌Ｇ９ａの終夜培養物を、１：２希釈系列の記載した試験物質と共にインキュベートする。ＭＩＣの決定は、Isosensitest 培地 (Difco, Irvine/USA）中、１ｍｌ当たり微生物１０５個の細胞数で実施し、肺炎連鎖球菌は例外とし、これは１０％ウシ血清を含むＢＨＩブロス (Difco, Irvine/USA) 中、微生物１０６個の細胞数で試験する。培養物を３７℃で１８−２４時間、肺炎連鎖球菌は１０％ＣＯ２の存在下で、インキュベートする。
ＭＩＣは、もはや視認できる細菌の増殖が起こらない各物質の最低濃度と定義される。ＭＩＣ値は、μｇ／ｍｌで報告する。
完全合成により製造されるリソバクチンと発酵によるリソバクチンで現れる生理活性に有意な差はない。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）
【化１】
［式中、
Ｒ１は、ＨまたはＣＨ３であり、
Ｒ２は、水素、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルケニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、５−から７−員ヘテロシクリルメチル、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、１−メチルプロプ−１−イル、２−メチルプロプ−１−イル、２，２−ジメチルプロプ−１−イル、１，１−ジメチルプロプ−１−イル、１−エチルプロプ−１−イル、１−エチル−１−メチルプロプ−１−イル、ｎ−ブチル、２−メチルブト−１−イル、３−メチルブト−１−イル、１−エチルブト−１−イル、ｔｅｒｔ−ブチル、４−メチルペント−１−イル、ｎ−ヘキシル、アルケニルまたはアリールであり
｛ここで、Ｒ２は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、トリメチルシリル、アルキル、アルコキシ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、アリール、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、アリールおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）｝、
Ｒ３は水素またはＣ１−Ｃ４−アルキルであるか、
または、
Ｒ２およびＲ３は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキル、アルコキシおよびアルキルカルボニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
Ｒ４は、アルキル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、５−から７−員ヘテロシクリル、アリール、５−もしくは６−員ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルカルボニル、５−から７−員ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、５−もしくは６−員ヘテロアリールカルボニルまたはアルキルアミノカルボニルであり、
｛ここで、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルおよびアルキルアミノカルボニルは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、アミノまたはアルキルアミノ置換基で置換されており、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、さらに０、１または２個のハロゲン、ヒドロキシ、トリメチルシリル、アルコキシ、アルキルチオ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アリールカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、フェニルおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）、
または、アルキルカルボニルにおける同じ炭素原子上の２個の置換基は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成する
（ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキルおよびアルコキシから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよいか、
または、
ここで、シクロアルキル環は、ベンゾ−縮合されていてよい）｝、
Ｒ５は、水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルであるか、
または、
Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している窒素原子と一体となって、５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、ヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、アルキル、アルコキシおよびアルキルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい］
で示される環状デプシペプチドの製造法であって、
下記式（ＩＩ）
【化２】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｘは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物を分子内環化し、
そして、次に環状中間体を脱保護することにより、式（Ｉ）の環状デプシペプチドを形成する方法。
【請求項２】
式（ＩＩ）の化合物が下記式（ＩＩａ）
【化３】
［式中、
ＸおよびＲ１は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｒ６は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、３−ピリジルメチル、４−トリフルオロメチル−３−ピリジルメチル、ベンジルまたはトリメチルシリルメチルであり、
Ｒ７は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、トリメチルシリルメチルまたはベンジルであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ６がイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたは３−ピリジルメチルであり、そして、
Ｒ７がイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたはトリメチルシリルメチルであることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ６＝Ｒ７がイソプロピルメチルであることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ＸがＯＨであることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
Ｒ１がＣＨ３であることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
式（ＩＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物と下記式（ＩＶ）で示される化合物
【化４】
【化５】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｙは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護し、かつ、必要に応じて、３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基を式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ（ここで、Ｘは請求項１に定義のとおりである）の基に変換することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
式（ＩＩＩ）で示される化合物が下記式（ＩＩＩａ）
【化６】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（ＩＩＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（Ｖ）で示される化合物と下記式（ＶＩ）で示される化合物
【化７】
【化８】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
式（Ｖ）で示される化合物が下記式（Ｖａ）
【化９】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
下記式（ＩＩＩ）
【化１０】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物。
【請求項１２】
下記式（ＩＩＩａ）
【化１１】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
を有する、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
下記式（ＩＩＩｂ）
【化１２】
を有する、請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
請求項１１に記載の化合物の製造法であって、式（Ｖ）で示される化合物と式（ＶＩ）で示される化合物
【化１３】
【化１４】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法。
【請求項１５】
下記式（ＶＩ）
【化１５】
［式中、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物。
【請求項１６】
下記式（ＶＩａ）
【化１６】
を有する、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
請求項１５に記載の化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ）で示される化合物と下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物
【化１７】
【化１８】
［式中、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法。
【請求項１８】
式（ＶＩＩ）で示される化合物が下記式（ＶＩＩａ）
【化１９】
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
式（ＶＩＩＩ）で示される化合物が下記式（ＶＩＩＩａ）
【化２０】
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項１】
下記式（Ｉ）
【化１】
［式中、
Ｒ１は、ＨまたはＣＨ３であり、
Ｒ２は、水素、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルケニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルメチル、５−から７−員ヘテロシクリルメチル、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、１−メチルプロプ−１−イル、２−メチルプロプ−１−イル、２，２−ジメチルプロプ−１−イル、１，１−ジメチルプロプ−１−イル、１−エチルプロプ−１−イル、１−エチル−１−メチルプロプ−１−イル、ｎ−ブチル、２−メチルブト−１−イル、３−メチルブト−１−イル、１−エチルブト−１−イル、ｔｅｒｔ−ブチル、４−メチルペント−１−イル、ｎ−ヘキシル、アルケニルまたはアリールであり
｛ここで、Ｒ２は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、トリメチルシリル、アルキル、アルコキシ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、アリール、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、アリールおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）｝、
Ｒ３は水素またはＣ１−Ｃ４−アルキルであるか、
または、
Ｒ２およびＲ３は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキル、アルコキシおよびアルキルカルボニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
Ｒ４は、アルキル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、５−から７−員ヘテロシクリル、アリール、５−もしくは６−員ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキルカルボニル、５−から７−員ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、５−もしくは６−員ヘテロアリールカルボニルまたはアルキルアミノカルボニルであり、
｛ここで、アルキル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシカルボニル、シクロアルキルカルボニル、ヘテロシクリルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルおよびアルキルアミノカルボニルは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよく、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、アミノまたはアルキルアミノ置換基で置換されており、
そして、
ここで、アルキルカルボニルは、さらに０、１または２個のハロゲン、ヒドロキシ、トリメチルシリル、アルコキシ、アルキルチオ、ベンジルオキシ、Ｃ３−Ｃ６−シクロアルキル、フェニル、ナフチル、５−から１０−員ヘテロアリール、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アリールカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい
（ここで、フェニルおよびヘテロアリールは、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、アルキル、アルコキシおよびフェニルから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい）、
または、アルキルカルボニルにおける同じ炭素原子上の２個の置換基は、それらが結合している炭素原子と一体となってＣ３−Ｃ６−シクロアルキル環または５−から７−員ヘテロシクリル環を形成する
（ここで、シクロアルキル環およびヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のトリフルオロメチル、アルキルおよびアルコキシから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよいか、
または、
ここで、シクロアルキル環は、ベンゾ−縮合されていてよい）｝、
Ｒ５は、水素、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルであるか、
または、
Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している窒素原子と一体となって、５−から７−員ヘテロシクリル環を形成し、ここで、ヘテロシクリル環は、０、１、２または３個のハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、アルキル、アルコキシおよびアルキルアミノから成る群から互いに独立して選択される置換基で置換されていてもよい］
で示される環状デプシペプチドの製造法であって、
下記式（ＩＩ）
【化２】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、上記定義のとおりであり、
Ｘは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物を分子内環化し、
そして、次に環状中間体を脱保護することにより、式（Ｉ）の環状デプシペプチドを形成する方法。
【請求項２】
式（ＩＩ）の化合物が下記式（ＩＩａ）
【化３】
［式中、
ＸおよびＲ１は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｒ６は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、３−ピリジルメチル、４−トリフルオロメチル−３−ピリジルメチル、ベンジルまたはトリメチルシリルメチルであり、
Ｒ７は、イソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、２，２−ジメチルブト−１−イル、２−エチル−２−メチルブト−１−イル、２，２−ジエチルブト−１−イル、２，２−ジメチルペント−１−イル、トリメチルシリルメチルまたはベンジルであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ６がイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたは３−ピリジルメチルであり、そして、
Ｒ７がイソプロピルメチル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルまたはトリメチルシリルメチルであることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ６＝Ｒ７がイソプロピルメチルであることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ＸがＯＨであることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
Ｒ１がＣＨ３であることを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
式（ＩＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（ＩＩＩ）で示される化合物と下記式（ＩＶ）で示される化合物
【化４】
【化５】
［式中、
Ｒ１からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｙは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護し、かつ、必要に応じて、３−ヒドロキシフェニルアラニンのカルボキシ基を式−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ（ここで、Ｘは請求項１に定義のとおりである）の基に変換することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
式（ＩＩＩ）で示される化合物が下記式（ＩＩＩａ）
【化６】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（ＩＩＩ）で示される化合物の製造法であって、下記式（Ｖ）で示される化合物と下記式（ＶＩ）で示される化合物
【化７】
【化８】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
式（Ｖ）で示される化合物が下記式（Ｖａ）
【化９】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
下記式（ＩＩＩ）
【化１０】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物。
【請求項１２】
下記式（ＩＩＩａ）
【化１１】
［式中、
Ｒ６およびＲ７は、請求項２から４に定義のとおりであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
を有する、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
下記式（ＩＩＩｂ）
【化１２】
を有する、請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
請求項１１に記載の化合物の製造法であって、式（Ｖ）で示される化合物と式（ＶＩ）で示される化合物
【化１３】
【化１４】
［式中、
Ｒ２からＲ５は、請求項１に定義のとおりであり、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法。
【請求項１５】
下記式（ＶＩ）
【化１５】
［式中、
Ｚは、ＯＨ、活性エステル、擬ハロゲンまたはハロゲンであり、そして、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
で示される化合物。
【請求項１６】
下記式（ＶＩａ）
【化１６】
を有する、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
請求項１５に記載の化合物の製造法であって、下記式（ＶＩＩ）で示される化合物と下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物
【化１７】
【化１８】
［式中、
ＰＧは、Ｈまたは適当な保護基である］
をカップリングし、そして、必要に応じて、中間体を部分的または完全に脱保護することを含む方法。
【請求項１８】
式（ＶＩＩ）で示される化合物が下記式（ＶＩＩａ）
【化１９】
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
式（ＶＩＩＩ）で示される化合物が下記式（ＶＩＩＩａ）
【化２０】
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１７または１８に記載の方法。
【公表番号】特表２００９−５３３３７２（Ｐ２００９−５３３３７２Ａ）
【公表日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５０４６５４（Ｐ２００９−５０４６５４）
【出願日】平成１９年４月１３日（２００７．４．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／００３３１３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１８６９３
【国際公開日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【出願人】（５０６２０７９０１）アイキュリス・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト (30)
【氏名又は名称原語表記】ＡｉＣｕｒｉｓ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年９月１７日（２００９．９．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年４月１３日（２００７．４．１３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／００３３１３
【国際公開番号】ＷＯ２００７／１１８６９３
【国際公開日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【出願人】（５０６２０７９０１）アイキュリス・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト (30)
【氏名又は名称原語表記】ＡｉＣｕｒｉｓ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ
【Ｆターム（参考）】
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