レンズ及びレンズの製造方法
【課題】汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ及びレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】
レンズ１は、レンズ基材１１と、このレンズ基材１１に設けられた反射防止層１３とを備え、反射防止層１３に撥水部１４と親水部３０とが異なる位置に設けられている。レンズ１の製造方法は、レンズ基材１１の表面に反射防止層１３と撥水部１４とを順に設ける積層工程と、撥水部１４の表面に、その厚さ方向で少なくとも反射防止層１３の一部に亘って穴部２０を形成する穴部形成工程と、穴部２０における反射防止層１３の内面１３１に親水部３０を形成する親水工程と、を備える。
【解決手段】
レンズ１は、レンズ基材１１と、このレンズ基材１１に設けられた反射防止層１３とを備え、反射防止層１３に撥水部１４と親水部３０とが異なる位置に設けられている。レンズ１の製造方法は、レンズ基材１１の表面に反射防止層１３と撥水部１４とを順に設ける積層工程と、撥水部１４の表面に、その厚さ方向で少なくとも反射防止層１３の一部に亘って穴部２０を形成する穴部形成工程と、穴部２０における反射防止層１３の内面１３１に親水部３０を形成する親水工程と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ及びレンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、眼鏡レンズやカメラレンズなどの表面は、手垢、指紋、汗、化粧料等が付着することで、汚れが目立ちやすく、またその汚れが取れ難いという問題がある。そのため、汚れ難く、あるいは汚れを拭き取りやすくするために、レンズの表面に防汚層として撥水部を設けることがある（特許文献１）。
また、レンズの表面で大気中に含まれる水蒸気が凝結すると、曇りが発生する。そのため、レンズの表面に防曇層として親水部を設けることもある（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３８１７号公報
【特許文献２】特開２００５−２２４７９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載のレンズは、汚れの付着を防止するが、曇りの発生を防止する構成は有していない。
一方、特許文献２に記載のレンズは、曇りの発生を防止するが、汚れの付着を防止する構成は有していない。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ及びレンズの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のレンズは、レンズ基材と、このレンズ基材に設けられた反射防止層とを備えるレンズであって、前記反射防止層に撥水部と親水部とが異なる位置に設けられていることを特徴とする。
この構成の発明では、従来レンズの表面に設けられていた撥水層と同じ材料からなる撥水部を反射防止層に設けるとともに、従来レンズの表面に設けられていた親水層と同じ材料からなる親水部を反射防止層に設ける。
即ち、撥水部と親水部とはそれぞれ反射防止層と馴染みやすいので、撥水部と親水部とを異なる位置で反射防止層に密着させることができる。これにより、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズとすることができる。
【０００７】
また、本発明では、前記反射防止層の表面には、前記撥水部が設けられ、前記撥水部の表面には、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部が設けられ、前記穴部における前記反射防止層の内面に前記親水部が設けられていることが好ましい。
この構成の発明では、反射防止層の表面に撥水部を設け、反射防止層の内面に親水部を設けることにより、撥水部と親水部とが互いに阻害することなく、いずれも反射防止層に安定して密着させることができる。
【０００８】
そして、本発明では、前記穴部における前記レンズ基材側の底面は、前記反射防止層に位置していることが好ましい。
この構成の発明では、穴部の底面を反射防止層に位置させることにより、反射防止層に積極的に親水部を設けることができる。これにより、十分に曇りの発生を防止できる。
【０００９】
さらに、本発明では、前記反射防止層の内面全体に、前記親水部が設けられていることが好ましい。
この構成の発明では、反射防止層の内面に全体的に親水部を設けることにより、さらに曇りの発生を良好に防止できる。
【００１０】
また、本発明では、前記穴部の深さは、０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。
この構成の発明では、０．３μｍ以上とすることにより、曇りの発生を良好に防止できる。一方、１μｍ以下とすることにより、良好な透明性を確保できる。
【００１１】
本発明のレンズの製造方法は、レンズ基材の表面に反射防止層と撥水部とを順に設ける積層工程と、前記撥水部の表面に、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部を形成する穴部形成工程と、前記穴部における前記反射防止層の内面に親水部を形成する親水工程と、を備えることを特徴とする。
この構成の発明では、部分的に撥水部を除去して穴部を形成することにより、撥水部に阻害されること無く、穴部の内部に親水部を形成できる。よって、汚れの付着と曇りの発生を防止できるレンズを得ることができる。
【００１２】
ここで、本発明では、前記穴部形成工程は、前記撥水部の表面に、紫外線パルスレーザーを照射して前記穴部を形成することが好ましい。
この構成の発明では、比較的強度の弱い紫外線パルスレーザーにより穴部を形成するため、穴部が必要以上に拡がって、レンズの光学特性が低下することを抑制できる。
【００１３】
また、本発明では、前記親水工程は、浸漬法により、前記親水部を形成することが好ましい。
この構成の発明では、浸漬法により、穴部の内面に全体的に親水部を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る実施形態のレンズを示す断面図である。
【図２】前記レンズを示す平面図である。
【図３】（Ａ）前記レンズの製造方法における積層工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｂ）前記レンズの製造方法における穴部形成工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｃ）レンズの製造方法における親水工程を説明するためのレンズの断面図である。
【図４】前記レンズを構成する反射防止層と撥水部との関係を説明するための図である。
【図５】前記反射防止層と親水部との関係を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明に係る実施形態のレンズについて図１，２を用いて説明する。図１は、本発明に係る実施形態のレンズを示す断面図であり、図２は、前記レンズを示す平面図である。
本実施形態のレンズは、眼鏡用レンズとして説明するが、カメラレンズ、望遠鏡用レンズ、顕微鏡用レンズ、ステッパー用集光レンズ等の光学レンズでもよい。
【００１６】
＜レンズの構成＞
図１に示すように、レンズ１は、レンズ基材１１の表面に、ハードコート層１２と反射防止層１３と撥水部としての撥水層１４とが順に積層された構成である。そして、撥水層１４の表面１４１には、穴部２０が設けられ、穴部２０における反射防止層１３の内面１３１には、親水部としての親水層３０が設けられている。
すなわち、撥水層１４と親水層３０とは、反射防止層１３の異なる位置に設けられている。
なお、必要に応じて、レンズ基材１１とハードコート層１２との間に、レンズ基材１１とハードコート層１２との密着性を向上させるためのプライマー層を設けてもよい。プライマー層の材料としては、極性を有する有機樹脂ポリマーと、酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子とを含む組成物が挙げられる。有機樹脂ポリマーとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を使用することができる。
【００１７】
レンズ基材１１は、その厚みが１ｍｍ以上２ｍｍ以下程度である。このレンズ基材１１は、屈折率が１．６以上の透明なプラスチック製であることが好ましい。このようなレンズ基材１１の材料としては、アクリル樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が例示できる。なお、レンズ基材１１は、無機ガラス製でもよい。
【００１８】
ハードコート層１２は、レンズ基材１１と反射防止層１３との密着性を向上させるとともに、レンズ基材１１に耐擦傷性を付与するためのものである。ハードコート層１２の厚みは、２μｍ以上３μｍ以下程度である。
ハードコート層１２を形成する材料としては、例えば、オルガノポリシロキサンを主成分とする光硬化性シリコーン組成物、アクリル系紫外線硬化型モノマー組成物、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２などの無機微粒子を有する無機微粒子含有熱硬化性組成物がある。
【００１９】
反射防止層１３は、多層からなる無機層であることが好ましく、その厚みは、例えば、４３２ｎｍ程度である。
このような多層からなる無機層としては、例えば、ハードコート層１２側から順にＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造や、ＳｉＯ２層／ＴｉＯ２層／ＳｉＯ２層／ＴｉＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造がある。ただし、反射防止層１３は、有機層により構成されていてもよい。
なお、図１，３では、説明の都合上、反射防止層１３を構成するＳｉＯ２層などの記載は省略している。
【００２０】
撥水層１４は、撥水性や撥油性を有し、防汚層として機能する。この撥水層１４は、反射防止層１３の表面１３２に設けられる。
撥水層１４の厚みは、０．０５ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、０．１ｎｍ以上１ｎｍ以下がより好ましい。厚みを０．０５ｎｍ以上とすることにより、十分に汚れの付着を防止できる。一方、厚みを１０ｎｍ以下とすることにより、乱反射や干渉が生じるなどの光学的な問題を回避できる。
撥水層１４を形成する材料は、例えば、２種以上のシラン化合物が挙げられ、そのうちの少なくとも１種が含フッ素シラン化合物である。このような含フッ素シラン化合物は、反射防止層１３のＳｉＯ２層とシロキサン結合を形成して、撥水層１４と反射防止層１３とを密着させる。
含フッ素シラン化合物は、例えば、一般式（１）で表されるものを例示できる。なお、一般式（１）中のＲｆは直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基である。
【００２１】
【化１】
【００２２】
穴部２０は、図１、２に示すように、撥水層１４の表面１４１に点状に複数形成され、互いに離間している。穴部２０は、平面視で円形状であるが、半円形状、多角形状でもよい。
また、穴部２０は、撥水層１４の表面１４１から反射防止層１３の厚さ方向の一部に亘って形成されている。つまり、穴部２０は、レンズ基材１１、ハードコート層１２を貫通していない。そして、穴部２０は、周面２１と底面２２とから構成されている。穴部２０のレンズ基材１１側の底面２２は、反射防止層１３に位置している。これら周面２１と底面２２とにより、反射防止層１３の内面１３１が構成されている。
穴部２０の深さ（Ｄ）は、０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい（図１参照）。０．３μｍ以上とすることにより、反射防止層１３の内面１３１に親水層３０を十分に形成することができる。一方、１μｍ以下とすることにより、穴部２０を比較的浅くしてレンズ１の透明性が低下することを抑制できる。
【００２３】
穴部２０の直径（Ｌ）は、１μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、例えば、２０μｍであることが好ましい（図２参照）。
隣り合う穴部２０の中心と穴部２０の中心との距離（ピッチ間隔）（Ｐ）は、５０μｍ以上７０μｍ以下であることが好ましく、例えば、６０μｍであることが好ましい（図２参照）。
このような深さ（Ｄ）、直径（Ｌ）、ピッチ間隔（Ｐ）とすることにより、汚れの付着と曇りの発生とを防止できる。
【００２４】
親水層３０は、反射防止層１３の内面１３１全体に設けられている。
親水層３０の厚みは、０．０５ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、０．１ｎｍ以上１ｎｍ以下がより好ましい。厚みを０．０５ｎｍ以上とすることにより、十分に曇りの発生を防止できる。一方、厚みを１０ｎｍ以下とすることにより、乱反射や干渉が生じるなどの光学的な問題を回避できる。
親水層３０を形成する材料は、例えば、含硫黄親水性シラン化合物である。このような含硫黄親水性シラン化合物は、反射防止層１３のＳｉＯ２層とシロキサン結合を形成して、親水層３０と反射防止層１３とを密着させる。
含硫黄親水性シラン化合物は、例えば、一般式（２）で表されるものを例示できる。
なお、一般式（２）中のＲｓは直鎖状または分岐状の含硫黄親水性基である。
【００２５】
【化２】
【００２６】
なお、含硫黄親水性シラン化合物には、その加水分解物の単体又は２量体以上の縮合物も含まれる。
【００２７】
＜レンズの製造方法の構成＞
本実施形態のレンズの製造方法について図３から５までを用いて説明する。
図３（Ａ）は、本実施形態のレンズの製造方法における積層工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｂ）は、レンズの製造方法における穴部形成工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｃ）は、レンズの製造方法における親水工程を説明するためのレンズの断面図である。
本実施形態のレンズの製造方法は、積層工程と、穴部形成工程と、親水工程とを備える。
【００２８】
積層工程は、図３（Ａ）に示すように、レンズ基材１１の表面にハードコート層１２と、反射防止層１３と撥水層１４とを順に形成する。ハードコート層１２と撥水層１４の形成方法は、浸漬法（ディッピング法）、スピンコート法等である。反射防止層１３の形成方法は、真空蒸着法、イオンプレーティング法等である。
反射防止層１３は、例えば、レンズ基材１１側から順にＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造であり、最表層のＳｉＯ２層に撥水層１４が密着している。
ここで、反射防止層１３に撥水層１４が密着するメカニズムについて図４を用いて説明する。図４は、反射防止層と撥水層との関係を説明するための図である。
【００２９】
撥水層１４の形成は、例えば、含フッ素シラン化合物を含む撥水処理液を用いて行われる。
まず、ハードコート層１２と、反射防止層１３とを有するレンズ基材１１を撥水処理液に浸漬する。これにより、反射防止層１３の表面１３２に撥水処理液を塗布する。
ここで、撥水処理液の溶媒が蒸発することにより、溶媒の気化熱による自己冷却で反射防止層１３の表面１３２の温度が低下し、空気の水分の吸着が起こると考えられる。この過程で、図４に示すように、含フッ素シラン化合物が加水分解する。そして、この状態で、加熱処理することで脱水縮合が起き、反射防止層１３のＳｉＯ２層と、含フッ素シラン化合物とがシロキサン結合を形成する。さらに、含フッ素シラン化合物同士でも、脱水縮合が起こり、シロキサン結合を形成する。このようにして、反射防止層１３の表面１３２と撥水層１４とが強固に密着する。
【００３０】
穴部形成工程は、図３（Ｂ）に示すように、撥水層１４の表面１４１に、紫外線パルスレーザーを照射して、撥水層１４を部分的に除去する。これにより、撥水層１４の表面１４１に、複数の穴部２０が形成される。
具体的には、撥水層１４の表面１４１からその厚さ方向で反射防止層１３の一部に亘って穴部２０を形成する。これにより、穴部２０の底面２２を反射防止層１３の内部に位置させる。
穴部２０の深さ（Ｄ）や直径（Ｌ）は、レーザーの光強度、スポットサイズ、パルスの周波数等を調節することによって調節できる（図１，２参照）。
例えば、レーザーの光強度を０．０２ｍＷ以上２０ｍＷ以下程度とすることにより、穴部２０の深さを０．０５μｍ以上８μｍ以下程度とすることができる。
また、スポットサイズを１５μｍ程度とすることにより、穴部２０の直径（Ｌ）を２０μｍ程度とすることができる。
【００３１】
親水工程は、図３（Ｃ）に示すように、例えば、含硫黄親水性シラン化合物を含む親水処理液を用い、浸漬法により穴部２０の内部に親水層３０を形成する。
これにより、反射防止層１３の内面１３１全体に親水層３０が形成されるとともに、撥水層１４の表面１４１上にも表面親水層３０Ａが形成される。ただし、この表面親水層３０Ａは、撥水層１４にはじかれるため、容易に除去できる。これにより、図１，２に示すようなレンズ１が得られる。
ここで、親水層３０が反射防止層１３の内面１３１に密着するメカニズムについて図５を用いて説明する。ただし、このメカニズムは、上記積層工程における反射防止層１３と撥水層１４とが密着するメカニズムと同様であるので、説明を簡潔にする。図５は、反射防止層と親水層との関係を説明するための図である。
【００３２】
すなわち、レンズ基材１１を、含硫黄親水性シラン化合物を含む親水処理液に浸漬することにより、反射防止層１３の内面１３１に親水処理液を塗布する。その後、含硫黄親水性シラン化合物の加水分解と脱水縮合とを経て、反射防止層１３のＳｉＯ２層と、含硫黄親水性シラン化合物とがシロキサン結合を形成する。さらに、含硫黄親水性シラン化合物同士でも、脱水縮合が起こり、シロキサン結合を形成する。このようにして、反射防止層１３の内面１３１と親水層３０とが強固に密着する。
【００３３】
このような本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）撥水層１４と親水層３０とがそれぞれ反射防止層１３の異なる位置で密着するので、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ１とすることができる。
（２）反射防止層１３の表面１３２に撥水層１４を設け、反射防止層１３の内面１３１に親水層３０を設けることにより、撥水層１４と親水層３０とが互いに阻害することなく、いずれも反射防止層１３に安定して密着させることができる。
（３）穴部２０の底面２２を反射防止層１３に位置させることにより、反射防止層１３に積極的に親水層３０を設けることができる。これにより、十分に曇りを防止できる。
（４）反射防止層１３の内面１３１に全体的に親水層３０を設けることにより、さらに十分に曇りを防止できる。
【００３４】
（５）穴部２０の深さを０．３μｍ以上とすることにより、十分に曇りを防止できる。一方、１μｍ以下とすることにより、良好なレンズ１の透明性を確保できる。
（６）部分的に撥水層１４を除去して穴部２０を形成することにより、撥水層１４に阻害されること無く、穴部２０の内部に親水層３０を形成できる。よって、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ１を得ることができる。
（７）比較的強度の弱い紫外線パルスレーザーにより穴部２０を形成するため、穴部２０が必要以上に拡がって、レンズ１の光学特性が低下することを抑制できる。
（８）浸漬法により、反射防止層１３の内面１３１に全体的に親水層３０を形成できる。
【００３５】
（変形例）
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記実施形態では、反射防止層までしか穴部を設けない構成を説明したが、レンズ基材やハードコート層まで穴部を設けてもよい。
また、前記実施形態では、ハードコート層を有する構成を説明したが、ハードコート層を設けなくてもよい。
さらに、前記実施形態では、穴部が平面視で点状であると説明したが、所定の長さを有する溝状でも良い。
また、前記実施形態では、反射防止層の内面全体に親水層を形成すると説明したが、反射防止層の内面に部分的に親水層を形成してもよい。
【実施例】
【００３６】
実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。なお、本発明はこれらの実施例の記載内容に何ら制限されるものではない。
（実施例１）
実施例１のレンズとして、屈折率１．７４のエピスルフィド系プラスチック（セイコーエプソン（株）製、ＳＥＩＫＯ プレステージ）を使用した。このレンズは、レンズ基材にハードコート層と、反射防止層と、撥水部としての撥水層とが順に積層された構成である。なお、反射防止層の厚みは、４３２ｎｍであり、撥水層の厚みは、1ｎｍである。
次に、レンズへ波長２６６ｎｍのパルスレーザー(パルス周波数１０ｋＨｚ、光強度０．２ｍＷ、スポットサイズ１５μｍ)を照射した。その照射部位に形成された穴部を位相差顕微鏡 ＺＹＧＯ Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ６３００(キヤノン(株)製)にて測定したところ、穴部の直径が２０μｍ、ピッチ間隔が６０μｍ、深さが０．３μｍであった。
【００３７】
次に、親水処理液を準備した。具体的には、３−トリメトキシシリルプロパンスルホン酸イソプロピルエステル０．０１ｍｏｌを氷酢酸６０ｍｌに溶解し、ここに、３０％過酸化水素水３５ｇを、液温を２５℃以上３０℃以下に保った状態で１時間かけて滴下した。
滴下終了後、２５℃で一昼夜攪拌した。このトリシロキシプロパンスルホン酸溶液をエタノールにて０．２％に希釈し、１５０ｇとした。ここにＮ−アミノエチルエタノールアミン０．１ｇを混合し、３０℃で２時間攪拌してＡ液を得た。このＡ液の一部を純水で２０倍に希釈し、Ａ液にラウリル硫酸ナトリウムを親水処理液総量に対し、５０ｐｐｍ加え、親水処理液とした。
そして、上述の穴部を形成した眼鏡レンズを処理液Ａに浸漬し、等速引き上げ装置を用いて１０ｃｍ／分の引き上げ速度で塗工した。その後１２０℃で１時間保持し、親水部として親水層を形成した。これにより、実施例１のレンズを得た。
【００３８】
（実施例２から４まで）
パルスレーザーを照射する際の光強度を変えることにより、穴部の深さを表１のように変えた以外は、実施例１と同様にしてレンズを得た。
（比較例）
パルスレーザーを照射せず、穴部を形成していないレンズを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【００３９】
（評価）
実施例１から４までと比較例とのレンズについて、油性インクの拭き取り性と、初期防曇性と、透明性とを評価した。
（拭き取り性）
レンズの表面に、黒色油性マーカー（「ハイマッキーケア」ゼブラ株式会社製）により約４ｃｍの直線を描いた後５ｍｉｎ放置した。放置後、該マーク部をワイプ紙（「ケイドライ」株式会社クレシア製）によって拭き取りを行い、その拭き取り易さを評価した。その結果、表１の「○」で示すように、１０回以下の拭き取りで完全に除去できた。
【００４０】
（初期防曇性）
実施例１から４までと比較例とのレンズを２０℃で保管した後、温度４０℃、湿度９０％に保った環境中に移し、表面の曇り発生を目視観察した。この曇り方を、下記評価基準にて評価した。
（評価基準）
○：ぜんぜん曇らない。
△：２分後に曇りが消える。
×：２分たっても曇りが消えない。
【００４１】
（透明性）
実施例１から４までと比較例とのレンズについて、下記評価基準で目視により透明性を評価した。
（評価基準）
○：穴部は見えず、十分な透明性を有していた。
×：穴部を視認できた。
【００４２】
【表１】
【００４３】
（結果）
実施例１，２では、拭き取り性、初期防曇性、透明性のいずれも良好であった。実施例３では、拭き取り性、透明性が良好であったが、穴部が浅かったために、実施例１，２，４よりも初期防曇性が悪かった。実施例４では、拭き取り性、初期防曇性が良好であったが、穴部が深すぎたため、実施例１から３までよりも透明性が悪くなった。
一方、比較例では、親水部が設けられていないので初期防曇性が悪かった。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、眼鏡レンズやカメラレンズなどのレンズ及びレンズの製造方法として利用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１…レンズ、１１…レンズ基材、１３…反射防止層、１４…撥水部としての撥水層、２０…穴部、２２…底面、３０…親水部としての親水層、１３１…内面、１３２…表面、１４１…表面
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ及びレンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、眼鏡レンズやカメラレンズなどの表面は、手垢、指紋、汗、化粧料等が付着することで、汚れが目立ちやすく、またその汚れが取れ難いという問題がある。そのため、汚れ難く、あるいは汚れを拭き取りやすくするために、レンズの表面に防汚層として撥水部を設けることがある（特許文献１）。
また、レンズの表面で大気中に含まれる水蒸気が凝結すると、曇りが発生する。そのため、レンズの表面に防曇層として親水部を設けることもある（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−３８１７号公報
【特許文献２】特開２００５−２２４７９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載のレンズは、汚れの付着を防止するが、曇りの発生を防止する構成は有していない。
一方、特許文献２に記載のレンズは、曇りの発生を防止するが、汚れの付着を防止する構成は有していない。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ及びレンズの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のレンズは、レンズ基材と、このレンズ基材に設けられた反射防止層とを備えるレンズであって、前記反射防止層に撥水部と親水部とが異なる位置に設けられていることを特徴とする。
この構成の発明では、従来レンズの表面に設けられていた撥水層と同じ材料からなる撥水部を反射防止層に設けるとともに、従来レンズの表面に設けられていた親水層と同じ材料からなる親水部を反射防止層に設ける。
即ち、撥水部と親水部とはそれぞれ反射防止層と馴染みやすいので、撥水部と親水部とを異なる位置で反射防止層に密着させることができる。これにより、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズとすることができる。
【０００７】
また、本発明では、前記反射防止層の表面には、前記撥水部が設けられ、前記撥水部の表面には、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部が設けられ、前記穴部における前記反射防止層の内面に前記親水部が設けられていることが好ましい。
この構成の発明では、反射防止層の表面に撥水部を設け、反射防止層の内面に親水部を設けることにより、撥水部と親水部とが互いに阻害することなく、いずれも反射防止層に安定して密着させることができる。
【０００８】
そして、本発明では、前記穴部における前記レンズ基材側の底面は、前記反射防止層に位置していることが好ましい。
この構成の発明では、穴部の底面を反射防止層に位置させることにより、反射防止層に積極的に親水部を設けることができる。これにより、十分に曇りの発生を防止できる。
【０００９】
さらに、本発明では、前記反射防止層の内面全体に、前記親水部が設けられていることが好ましい。
この構成の発明では、反射防止層の内面に全体的に親水部を設けることにより、さらに曇りの発生を良好に防止できる。
【００１０】
また、本発明では、前記穴部の深さは、０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。
この構成の発明では、０．３μｍ以上とすることにより、曇りの発生を良好に防止できる。一方、１μｍ以下とすることにより、良好な透明性を確保できる。
【００１１】
本発明のレンズの製造方法は、レンズ基材の表面に反射防止層と撥水部とを順に設ける積層工程と、前記撥水部の表面に、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部を形成する穴部形成工程と、前記穴部における前記反射防止層の内面に親水部を形成する親水工程と、を備えることを特徴とする。
この構成の発明では、部分的に撥水部を除去して穴部を形成することにより、撥水部に阻害されること無く、穴部の内部に親水部を形成できる。よって、汚れの付着と曇りの発生を防止できるレンズを得ることができる。
【００１２】
ここで、本発明では、前記穴部形成工程は、前記撥水部の表面に、紫外線パルスレーザーを照射して前記穴部を形成することが好ましい。
この構成の発明では、比較的強度の弱い紫外線パルスレーザーにより穴部を形成するため、穴部が必要以上に拡がって、レンズの光学特性が低下することを抑制できる。
【００１３】
また、本発明では、前記親水工程は、浸漬法により、前記親水部を形成することが好ましい。
この構成の発明では、浸漬法により、穴部の内面に全体的に親水部を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る実施形態のレンズを示す断面図である。
【図２】前記レンズを示す平面図である。
【図３】（Ａ）前記レンズの製造方法における積層工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｂ）前記レンズの製造方法における穴部形成工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｃ）レンズの製造方法における親水工程を説明するためのレンズの断面図である。
【図４】前記レンズを構成する反射防止層と撥水部との関係を説明するための図である。
【図５】前記反射防止層と親水部との関係を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明に係る実施形態のレンズについて図１，２を用いて説明する。図１は、本発明に係る実施形態のレンズを示す断面図であり、図２は、前記レンズを示す平面図である。
本実施形態のレンズは、眼鏡用レンズとして説明するが、カメラレンズ、望遠鏡用レンズ、顕微鏡用レンズ、ステッパー用集光レンズ等の光学レンズでもよい。
【００１６】
＜レンズの構成＞
図１に示すように、レンズ１は、レンズ基材１１の表面に、ハードコート層１２と反射防止層１３と撥水部としての撥水層１４とが順に積層された構成である。そして、撥水層１４の表面１４１には、穴部２０が設けられ、穴部２０における反射防止層１３の内面１３１には、親水部としての親水層３０が設けられている。
すなわち、撥水層１４と親水層３０とは、反射防止層１３の異なる位置に設けられている。
なお、必要に応じて、レンズ基材１１とハードコート層１２との間に、レンズ基材１１とハードコート層１２との密着性を向上させるためのプライマー層を設けてもよい。プライマー層の材料としては、極性を有する有機樹脂ポリマーと、酸化チタンを含有する金属酸化物微粒子とを含む組成物が挙げられる。有機樹脂ポリマーとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を使用することができる。
【００１７】
レンズ基材１１は、その厚みが１ｍｍ以上２ｍｍ以下程度である。このレンズ基材１１は、屈折率が１．６以上の透明なプラスチック製であることが好ましい。このようなレンズ基材１１の材料としては、アクリル樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が例示できる。なお、レンズ基材１１は、無機ガラス製でもよい。
【００１８】
ハードコート層１２は、レンズ基材１１と反射防止層１３との密着性を向上させるとともに、レンズ基材１１に耐擦傷性を付与するためのものである。ハードコート層１２の厚みは、２μｍ以上３μｍ以下程度である。
ハードコート層１２を形成する材料としては、例えば、オルガノポリシロキサンを主成分とする光硬化性シリコーン組成物、アクリル系紫外線硬化型モノマー組成物、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２などの無機微粒子を有する無機微粒子含有熱硬化性組成物がある。
【００１９】
反射防止層１３は、多層からなる無機層であることが好ましく、その厚みは、例えば、４３２ｎｍ程度である。
このような多層からなる無機層としては、例えば、ハードコート層１２側から順にＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造や、ＳｉＯ２層／ＴｉＯ２層／ＳｉＯ２層／ＴｉＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造がある。ただし、反射防止層１３は、有機層により構成されていてもよい。
なお、図１，３では、説明の都合上、反射防止層１３を構成するＳｉＯ２層などの記載は省略している。
【００２０】
撥水層１４は、撥水性や撥油性を有し、防汚層として機能する。この撥水層１４は、反射防止層１３の表面１３２に設けられる。
撥水層１４の厚みは、０．０５ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、０．１ｎｍ以上１ｎｍ以下がより好ましい。厚みを０．０５ｎｍ以上とすることにより、十分に汚れの付着を防止できる。一方、厚みを１０ｎｍ以下とすることにより、乱反射や干渉が生じるなどの光学的な問題を回避できる。
撥水層１４を形成する材料は、例えば、２種以上のシラン化合物が挙げられ、そのうちの少なくとも１種が含フッ素シラン化合物である。このような含フッ素シラン化合物は、反射防止層１３のＳｉＯ２層とシロキサン結合を形成して、撥水層１４と反射防止層１３とを密着させる。
含フッ素シラン化合物は、例えば、一般式（１）で表されるものを例示できる。なお、一般式（１）中のＲｆは直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基である。
【００２１】
【化１】
【００２２】
穴部２０は、図１、２に示すように、撥水層１４の表面１４１に点状に複数形成され、互いに離間している。穴部２０は、平面視で円形状であるが、半円形状、多角形状でもよい。
また、穴部２０は、撥水層１４の表面１４１から反射防止層１３の厚さ方向の一部に亘って形成されている。つまり、穴部２０は、レンズ基材１１、ハードコート層１２を貫通していない。そして、穴部２０は、周面２１と底面２２とから構成されている。穴部２０のレンズ基材１１側の底面２２は、反射防止層１３に位置している。これら周面２１と底面２２とにより、反射防止層１３の内面１３１が構成されている。
穴部２０の深さ（Ｄ）は、０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい（図１参照）。０．３μｍ以上とすることにより、反射防止層１３の内面１３１に親水層３０を十分に形成することができる。一方、１μｍ以下とすることにより、穴部２０を比較的浅くしてレンズ１の透明性が低下することを抑制できる。
【００２３】
穴部２０の直径（Ｌ）は、１μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、例えば、２０μｍであることが好ましい（図２参照）。
隣り合う穴部２０の中心と穴部２０の中心との距離（ピッチ間隔）（Ｐ）は、５０μｍ以上７０μｍ以下であることが好ましく、例えば、６０μｍであることが好ましい（図２参照）。
このような深さ（Ｄ）、直径（Ｌ）、ピッチ間隔（Ｐ）とすることにより、汚れの付着と曇りの発生とを防止できる。
【００２４】
親水層３０は、反射防止層１３の内面１３１全体に設けられている。
親水層３０の厚みは、０．０５ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、０．１ｎｍ以上１ｎｍ以下がより好ましい。厚みを０．０５ｎｍ以上とすることにより、十分に曇りの発生を防止できる。一方、厚みを１０ｎｍ以下とすることにより、乱反射や干渉が生じるなどの光学的な問題を回避できる。
親水層３０を形成する材料は、例えば、含硫黄親水性シラン化合物である。このような含硫黄親水性シラン化合物は、反射防止層１３のＳｉＯ２層とシロキサン結合を形成して、親水層３０と反射防止層１３とを密着させる。
含硫黄親水性シラン化合物は、例えば、一般式（２）で表されるものを例示できる。
なお、一般式（２）中のＲｓは直鎖状または分岐状の含硫黄親水性基である。
【００２５】
【化２】
【００２６】
なお、含硫黄親水性シラン化合物には、その加水分解物の単体又は２量体以上の縮合物も含まれる。
【００２７】
＜レンズの製造方法の構成＞
本実施形態のレンズの製造方法について図３から５までを用いて説明する。
図３（Ａ）は、本実施形態のレンズの製造方法における積層工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｂ）は、レンズの製造方法における穴部形成工程を説明するためのレンズの断面図である。（Ｃ）は、レンズの製造方法における親水工程を説明するためのレンズの断面図である。
本実施形態のレンズの製造方法は、積層工程と、穴部形成工程と、親水工程とを備える。
【００２８】
積層工程は、図３（Ａ）に示すように、レンズ基材１１の表面にハードコート層１２と、反射防止層１３と撥水層１４とを順に形成する。ハードコート層１２と撥水層１４の形成方法は、浸漬法（ディッピング法）、スピンコート法等である。反射防止層１３の形成方法は、真空蒸着法、イオンプレーティング法等である。
反射防止層１３は、例えば、レンズ基材１１側から順にＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層／ＺｒＯ２層／ＳｉＯ２層の５層構造であり、最表層のＳｉＯ２層に撥水層１４が密着している。
ここで、反射防止層１３に撥水層１４が密着するメカニズムについて図４を用いて説明する。図４は、反射防止層と撥水層との関係を説明するための図である。
【００２９】
撥水層１４の形成は、例えば、含フッ素シラン化合物を含む撥水処理液を用いて行われる。
まず、ハードコート層１２と、反射防止層１３とを有するレンズ基材１１を撥水処理液に浸漬する。これにより、反射防止層１３の表面１３２に撥水処理液を塗布する。
ここで、撥水処理液の溶媒が蒸発することにより、溶媒の気化熱による自己冷却で反射防止層１３の表面１３２の温度が低下し、空気の水分の吸着が起こると考えられる。この過程で、図４に示すように、含フッ素シラン化合物が加水分解する。そして、この状態で、加熱処理することで脱水縮合が起き、反射防止層１３のＳｉＯ２層と、含フッ素シラン化合物とがシロキサン結合を形成する。さらに、含フッ素シラン化合物同士でも、脱水縮合が起こり、シロキサン結合を形成する。このようにして、反射防止層１３の表面１３２と撥水層１４とが強固に密着する。
【００３０】
穴部形成工程は、図３（Ｂ）に示すように、撥水層１４の表面１４１に、紫外線パルスレーザーを照射して、撥水層１４を部分的に除去する。これにより、撥水層１４の表面１４１に、複数の穴部２０が形成される。
具体的には、撥水層１４の表面１４１からその厚さ方向で反射防止層１３の一部に亘って穴部２０を形成する。これにより、穴部２０の底面２２を反射防止層１３の内部に位置させる。
穴部２０の深さ（Ｄ）や直径（Ｌ）は、レーザーの光強度、スポットサイズ、パルスの周波数等を調節することによって調節できる（図１，２参照）。
例えば、レーザーの光強度を０．０２ｍＷ以上２０ｍＷ以下程度とすることにより、穴部２０の深さを０．０５μｍ以上８μｍ以下程度とすることができる。
また、スポットサイズを１５μｍ程度とすることにより、穴部２０の直径（Ｌ）を２０μｍ程度とすることができる。
【００３１】
親水工程は、図３（Ｃ）に示すように、例えば、含硫黄親水性シラン化合物を含む親水処理液を用い、浸漬法により穴部２０の内部に親水層３０を形成する。
これにより、反射防止層１３の内面１３１全体に親水層３０が形成されるとともに、撥水層１４の表面１４１上にも表面親水層３０Ａが形成される。ただし、この表面親水層３０Ａは、撥水層１４にはじかれるため、容易に除去できる。これにより、図１，２に示すようなレンズ１が得られる。
ここで、親水層３０が反射防止層１３の内面１３１に密着するメカニズムについて図５を用いて説明する。ただし、このメカニズムは、上記積層工程における反射防止層１３と撥水層１４とが密着するメカニズムと同様であるので、説明を簡潔にする。図５は、反射防止層と親水層との関係を説明するための図である。
【００３２】
すなわち、レンズ基材１１を、含硫黄親水性シラン化合物を含む親水処理液に浸漬することにより、反射防止層１３の内面１３１に親水処理液を塗布する。その後、含硫黄親水性シラン化合物の加水分解と脱水縮合とを経て、反射防止層１３のＳｉＯ２層と、含硫黄親水性シラン化合物とがシロキサン結合を形成する。さらに、含硫黄親水性シラン化合物同士でも、脱水縮合が起こり、シロキサン結合を形成する。このようにして、反射防止層１３の内面１３１と親水層３０とが強固に密着する。
【００３３】
このような本実施形態によれば、以下の効果を奏することができる。
（１）撥水層１４と親水層３０とがそれぞれ反射防止層１３の異なる位置で密着するので、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ１とすることができる。
（２）反射防止層１３の表面１３２に撥水層１４を設け、反射防止層１３の内面１３１に親水層３０を設けることにより、撥水層１４と親水層３０とが互いに阻害することなく、いずれも反射防止層１３に安定して密着させることができる。
（３）穴部２０の底面２２を反射防止層１３に位置させることにより、反射防止層１３に積極的に親水層３０を設けることができる。これにより、十分に曇りを防止できる。
（４）反射防止層１３の内面１３１に全体的に親水層３０を設けることにより、さらに十分に曇りを防止できる。
【００３４】
（５）穴部２０の深さを０．３μｍ以上とすることにより、十分に曇りを防止できる。一方、１μｍ以下とすることにより、良好なレンズ１の透明性を確保できる。
（６）部分的に撥水層１４を除去して穴部２０を形成することにより、撥水層１４に阻害されること無く、穴部２０の内部に親水層３０を形成できる。よって、汚れの付着と曇りの発生とを防止できるレンズ１を得ることができる。
（７）比較的強度の弱い紫外線パルスレーザーにより穴部２０を形成するため、穴部２０が必要以上に拡がって、レンズ１の光学特性が低下することを抑制できる。
（８）浸漬法により、反射防止層１３の内面１３１に全体的に親水層３０を形成できる。
【００３５】
（変形例）
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記実施形態では、反射防止層までしか穴部を設けない構成を説明したが、レンズ基材やハードコート層まで穴部を設けてもよい。
また、前記実施形態では、ハードコート層を有する構成を説明したが、ハードコート層を設けなくてもよい。
さらに、前記実施形態では、穴部が平面視で点状であると説明したが、所定の長さを有する溝状でも良い。
また、前記実施形態では、反射防止層の内面全体に親水層を形成すると説明したが、反射防止層の内面に部分的に親水層を形成してもよい。
【実施例】
【００３６】
実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。なお、本発明はこれらの実施例の記載内容に何ら制限されるものではない。
（実施例１）
実施例１のレンズとして、屈折率１．７４のエピスルフィド系プラスチック（セイコーエプソン（株）製、ＳＥＩＫＯ プレステージ）を使用した。このレンズは、レンズ基材にハードコート層と、反射防止層と、撥水部としての撥水層とが順に積層された構成である。なお、反射防止層の厚みは、４３２ｎｍであり、撥水層の厚みは、1ｎｍである。
次に、レンズへ波長２６６ｎｍのパルスレーザー(パルス周波数１０ｋＨｚ、光強度０．２ｍＷ、スポットサイズ１５μｍ)を照射した。その照射部位に形成された穴部を位相差顕微鏡 ＺＹＧＯ Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ６３００(キヤノン(株)製)にて測定したところ、穴部の直径が２０μｍ、ピッチ間隔が６０μｍ、深さが０．３μｍであった。
【００３７】
次に、親水処理液を準備した。具体的には、３−トリメトキシシリルプロパンスルホン酸イソプロピルエステル０．０１ｍｏｌを氷酢酸６０ｍｌに溶解し、ここに、３０％過酸化水素水３５ｇを、液温を２５℃以上３０℃以下に保った状態で１時間かけて滴下した。
滴下終了後、２５℃で一昼夜攪拌した。このトリシロキシプロパンスルホン酸溶液をエタノールにて０．２％に希釈し、１５０ｇとした。ここにＮ−アミノエチルエタノールアミン０．１ｇを混合し、３０℃で２時間攪拌してＡ液を得た。このＡ液の一部を純水で２０倍に希釈し、Ａ液にラウリル硫酸ナトリウムを親水処理液総量に対し、５０ｐｐｍ加え、親水処理液とした。
そして、上述の穴部を形成した眼鏡レンズを処理液Ａに浸漬し、等速引き上げ装置を用いて１０ｃｍ／分の引き上げ速度で塗工した。その後１２０℃で１時間保持し、親水部として親水層を形成した。これにより、実施例１のレンズを得た。
【００３８】
（実施例２から４まで）
パルスレーザーを照射する際の光強度を変えることにより、穴部の深さを表１のように変えた以外は、実施例１と同様にしてレンズを得た。
（比較例）
パルスレーザーを照射せず、穴部を形成していないレンズを用いた以外は、実施例１と同様にした。
【００３９】
（評価）
実施例１から４までと比較例とのレンズについて、油性インクの拭き取り性と、初期防曇性と、透明性とを評価した。
（拭き取り性）
レンズの表面に、黒色油性マーカー（「ハイマッキーケア」ゼブラ株式会社製）により約４ｃｍの直線を描いた後５ｍｉｎ放置した。放置後、該マーク部をワイプ紙（「ケイドライ」株式会社クレシア製）によって拭き取りを行い、その拭き取り易さを評価した。その結果、表１の「○」で示すように、１０回以下の拭き取りで完全に除去できた。
【００４０】
（初期防曇性）
実施例１から４までと比較例とのレンズを２０℃で保管した後、温度４０℃、湿度９０％に保った環境中に移し、表面の曇り発生を目視観察した。この曇り方を、下記評価基準にて評価した。
（評価基準）
○：ぜんぜん曇らない。
△：２分後に曇りが消える。
×：２分たっても曇りが消えない。
【００４１】
（透明性）
実施例１から４までと比較例とのレンズについて、下記評価基準で目視により透明性を評価した。
（評価基準）
○：穴部は見えず、十分な透明性を有していた。
×：穴部を視認できた。
【００４２】
【表１】
【００４３】
（結果）
実施例１，２では、拭き取り性、初期防曇性、透明性のいずれも良好であった。実施例３では、拭き取り性、透明性が良好であったが、穴部が浅かったために、実施例１，２，４よりも初期防曇性が悪かった。実施例４では、拭き取り性、初期防曇性が良好であったが、穴部が深すぎたため、実施例１から３までよりも透明性が悪くなった。
一方、比較例では、親水部が設けられていないので初期防曇性が悪かった。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、眼鏡レンズやカメラレンズなどのレンズ及びレンズの製造方法として利用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１…レンズ、１１…レンズ基材、１３…反射防止層、１４…撥水部としての撥水層、２０…穴部、２２…底面、３０…親水部としての親水層、１３１…内面、１３２…表面、１４１…表面
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ基材と、このレンズ基材に設けられた反射防止層とを備えるレンズであって、
前記反射防止層に撥水部と親水部とが異なる位置に設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項２】
請求項１に記載のレンズにおいて、
前記反射防止層の表面には、前記撥水部が設けられ、
前記撥水部の表面には、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部が設けられ、
前記穴部における前記反射防止層の内面に前記親水部が設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のレンズにおいて、
前記穴部における前記レンズ基材側の底面は、前記反射防止層に位置している
ことを特徴とするレンズ。
【請求項４】
請求項３に記載のレンズにおいて、
前記反射防止層の内面全体に、前記親水部が設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかに記載のレンズにおいて、
前記穴部の深さは、０．３μｍ以上１μｍ以下である
ことを特徴とするレンズ。
【請求項６】
レンズ基材の表面に反射防止層と撥水部とを順に設ける積層工程と、
前記撥水部の表面に、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部を形成する穴部形成工程と、
前記穴部における前記反射防止層の内面に親水部を形成する親水工程と、を備える
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載のレンズの製造方法において、
前記穴部形成工程は、前記撥水部の表面に、紫外線パルスレーザーを照射して前記穴部を形成する
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載のレンズの製造方法において、
前記親水工程は、浸漬法により、前記親水部を形成する
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項１】
レンズ基材と、このレンズ基材に設けられた反射防止層とを備えるレンズであって、
前記反射防止層に撥水部と親水部とが異なる位置に設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項２】
請求項１に記載のレンズにおいて、
前記反射防止層の表面には、前記撥水部が設けられ、
前記撥水部の表面には、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部が設けられ、
前記穴部における前記反射防止層の内面に前記親水部が設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のレンズにおいて、
前記穴部における前記レンズ基材側の底面は、前記反射防止層に位置している
ことを特徴とするレンズ。
【請求項４】
請求項３に記載のレンズにおいて、
前記反射防止層の内面全体に、前記親水部が設けられている
ことを特徴とするレンズ。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれかに記載のレンズにおいて、
前記穴部の深さは、０．３μｍ以上１μｍ以下である
ことを特徴とするレンズ。
【請求項６】
レンズ基材の表面に反射防止層と撥水部とを順に設ける積層工程と、
前記撥水部の表面に、その厚さ方向で少なくとも前記反射防止層の一部に亘って穴部を形成する穴部形成工程と、
前記穴部における前記反射防止層の内面に親水部を形成する親水工程と、を備える
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載のレンズの製造方法において、
前記穴部形成工程は、前記撥水部の表面に、紫外線パルスレーザーを照射して前記穴部を形成する
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【請求項８】
請求項６又は請求項７に記載のレンズの製造方法において、
前記親水工程は、浸漬法により、前記親水部を形成する
ことを特徴とするレンズの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１２−１８５３４９（Ｐ２０１２−１８５３４９Ａ）
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４８７１２（Ｐ２０１１−４８７１２）
【出願日】平成２３年３月７日（２０１１．３．７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年９月２７日（２０１２．９．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月７日（２０１１．３．７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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