ロッド塗布方法及びロッド塗布装置
【課題】バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界での塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置の提供。
【解決手段】バー状乃至ロール状の回転体３がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜め部４が形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体３と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、前記バー状乃至ロール状の回転体３により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落されて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布するロッド塗布方法。
【解決手段】バー状乃至ロール状の回転体３がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜め部４が形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体３と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、前記バー状乃至ロール状の回転体３により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落されて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布するロッド塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロッド塗布方法及びロッド塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ロッド塗布方法（バーコート法）は、設備が簡便で薄層塗布が可能であることから、広く用いられている。しかし、光学シート等に代表されるような高品質面状が要求される商品をロッド塗布方法で製造する場合には、塗布スジを発生させることなく製造することは極めて困難であった。
このようなロッド塗布方法における塗布スジ発生の問題を解決するため、種々の方法が提案されている。例えば、コーターのセンターブロック一次側に堰を設けることで、ロッドから戻る塗布液と給液した塗布液との衝突による渦に起因するスジの発生を抑制する方法が提案されている（特許文献１参照）。
また、一次側の堰部材の傾き角度を規定することで、塗布液から揮発する揮発性ガスに濃度分布が生じることに起因する塗布スジの発生を抑制する方法が提案されている（特許文献２参照）。
【０００３】
しかしながら、前記先行技術文献においても、全ての塗布スジの発生が抑制できるわけでなく、塗布スジの発生により面状品質が低下していた。例えば、図１及び図２に示すように、通常ロッド塗布方法では、バー３により掻き上げられた塗布液７の膜幅が、掻き落されて戻る塗布液８の膜幅よりも広く設定されている。即ち、一次側リップ１からオーバーフローする塗布液８の膜幅が、バー３により掻き上げられた塗布液７の膜幅よりも狭くなっているので、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部に塗布スジ９が発生する。これは、図３に示す図２のＡ−Ａ断面では、図４に示す図２のＢ−Ｂ断面に比べて、横側からも塗布液が逃げることができるので、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部で圧力差が生じて、縦方向に塗布スジが発生すると推測されている。
ここで、図５は、実際に、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部に塗布スジが発生した塗布膜の膜厚を接触式膜厚計(フィルムシックネステスタＫＧ６０１Ｂ、アンリツ株式会社製)で測定した結果を示す。図５中、丸で囲った部分では塗布膜の膜厚が急激に変化しているため、塗布スジとして視認されてしまうという課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−７２６４６号公報
【特許文献２】特開２００９−８２８２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することを特徴とするロッド塗布方法である。
該＜１＞に記載のロッド塗布方法においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することにより、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防止して、スジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができる。
＜２＞ 一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布する前記＜１＞に記載のロッド塗布方法である。
＜３＞ 一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜３＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜４＞ 一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜４＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜５＞ 一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜５＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜６＞ 一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜６＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜７＞ 一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜７＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜８＞ バー直径が２０ｍｍ以下である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
＜９＞ 塗布液の２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
＜１０＞ バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布装置において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有することを特徴とするロッド塗布装置である。
該＜１０＞に記載のロッド塗布装置においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有している。その結果、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防止して、スジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができる。
＜１１＞ 一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように構成したコーターを有する前記＜１０＞に記載のロッド塗布装置である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界での塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、従来のロッド塗布方法において塗布スジが発生している状態を示す斜視図である。
【図２】図２は、従来のロッド塗布方法において塗布スジが発生している状態を示す模式図である。
【図３】図３は、図２におけるＡ−Ａ断面を示す概略断面図である。
【図４】図４は、図２におけるＢ−Ｂ断面を示す概略断面図である。
【図５】図５は、境界部に塗布スジが発生した塗布膜の膜厚を接触式膜厚計で測定した結果を示すグラフである。
【図６Ａ】図６Ａは、実施例１のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図６Ａの液溜め部の部分拡大図である。
【図７Ａ】図７Ａは、実施例５のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、図７Ａのダム構造の部分拡大図である。
【図８】図８は、実施例７のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図９】図９は、実施例１０のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図１０】図１０は、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの一例を示す概略図である。
【図１１】図１１は、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの他の一例を示す概略図である。
【図１２】図１２は、実施例１３で用いたコーターの一次側リップの堰の形状を示す概略図である。
【図１３】図１３は、実施例１４で用いたコーターの一次側リップの堰の形状を示す概略図である。
【図１４】図１４は、本発明の一実施態様を示すロッド塗布装置の側面図である。
【図１５】図１５は、本発明のロッド塗布装置を組み込んだ光学補償シートの製造ラインを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（ロッド塗布方法及びロッド塗布装置）
本発明のロッド塗布方法は、バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布する方法である。
前記ロッド塗布方法においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布する。
【００１０】
本発明のロッド塗布装置は、バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布する装置である。
前記ロッド塗布装置においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有する。
この場合、一次側リップ及び二次側リップの少なくともいずれかにおいて、オーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布することが好ましく、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防ぎ、塗布スジの発生のない塗布膜を得ることができる点で、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布することが特に好ましい。
ここで、前記「略同一」とは、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅Ａと、掻き落として戻る塗布液の膜幅Ｂとの差（Ａ−Ｂ）が、０ｍｍ〜１０ｍｍであることを意味し、０ｍｍが最も好ましい。
また、本発明においては、ウエブの搬送方向の「上流側」を「一次側」、「下流側」を「二次側」とそれぞれ定義する。
【００１１】
前記ロッド塗布方法及びロッド塗布装置において、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅が略同一となるようにする方法としては、以下の（１）〜（５）の方法が挙げられ、これらの１つを単独で又は２つ以上を組み合わせて実現することができる。
（１）一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する方法。
（２）一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する方法。
（３）一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する方法。
（４）一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する方法。
（５）一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する方法。
これらの中でも、前記（１）、前記（３）及び前記（４）を組み合わせたもの、前記（２）、前記（３）及び前記（４）を組み合わせたものが、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防ぎ、塗布スジの発生のない塗布膜を得ることができる点で特に好ましい。
【００１２】
以下、前記（１）〜（５）の方法について、詳細に説明する。
（１）一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布することが、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅を略同一にするのに有効であり、液溜め部に塗布液を充填することができ、塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜が得られる点で好ましい。
前記液溜め部の形状、大きさ、構造などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、前記形状としては、例えば断面矩形状、断面長方形状、などが挙げられる。
ここで、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、コーター１００の一次側リップ１内に液溜め部４を設けている。この液溜め部４は、バー３の幅方向に沿って全長にわたって形成されている。なお、図６Ａ中５は、バー３を回転可能に支持する支持部材である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すコーター１００においては、一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップ２の堰２ａの高さと同等又は高く形成され、一次側リップの堰１ａの高さは二次側リップ２の堰２ａの高さより０ｍｍ〜１ｍｍ高く形成することが好ましい。
液溜め部の堰４ａの高さは、一次側リップの堰１ａの高さと同等又は低く形成しており、液溜め部の堰４ａの高さは、一次側リップの堰１ａの高さよりも１ｍｍ〜２ｍｍ低いことが好ましい。
図６Ｂに示すように、液溜め部４は断面略長方形状であり、液溜め部４の深さＤａは５ｍｍ〜２０ｍｍ、液溜め部４の幅Ｌａは１ｍｍ〜５ｍｍ、液溜め部の堰４ａの厚みは０．５ｍｍ〜２ｍｍに形成することが好ましい。
図６Ａ及び図６Ｂに示すコーター１００においては、図６Ａ中矢印で示したように、バー３の回転により掻き上げられた塗布液は、一次側リップ内の液溜め部４内に一時充填された後、該液溜め部からオーバーフローした塗布液が一次側リップの堰１ａを越えて流れ出るので、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
【００１３】
（２）一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有することにより、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅を略同一にするのに有効であり、液溜め部に塗布液を一時充填することができ、塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜が得られる点で好ましい。
前記ダム構造の形状、大きさ、構造などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、前記形状としては、例えば断面略Ｌ字形状、などが挙げられる。
ここで、図７Ａ及び図７Ｂに示すように、一次側リップ１と、バー３を支持する支持部材５との間に塗布液を溜めるダム構造６を有している。ダム構造６は、バー３の幅方向に沿って全長にわたって形成されている。このダム構造６を一次側リップに設けることにより、図６Ａ及び図６Ｂに示す液溜め部４よりも多くの塗布液を一時充填できる。
図７Ｂに示すダム構造では、ダム構造６の深さＤｂは５ｍｍ〜３０ｍｍ、ダム構造の幅Ｌｂは１ｍｍ〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
図７Ａに示すコーター１００においては、一次側リップの堰１ａが二次側リップ２の堰２ａより高く形成しており、一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップ２の堰２ａの高さより１ｍｍ高く形成することが好ましい。
図７Ａに示すコーター１００においては、図７Ａ中矢印で示したように、バー３の回転により掻き上げられた塗布液は、一次側リップ１と支持部材５との間のダム構造６に一時充填された後、該ダム構造からオーバーフローした塗布液が一次側リップの堰１ａを越えて流れ出るので、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
【００１４】
（３）一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成することにより、一次側リップの傾斜面を流れる塗布液の速度が速くなり、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
ここで、図８は、一次側リップ内に液溜め部がなく、一次側リップ１の最大高さ（堰１ａ）を、二次側リップ２の最大高さ（堰２ａ）よりも低く形成したものであり、一次側リップの最大高さは、二次側リップの最大高さよりも１ｍｍ〜３ｍｍ低くすることが好ましい。
【００１５】
（４）一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度は、０°〜４５°が好ましく、１０°〜４５°がより好ましく、３０°〜４５°が更に好ましい。前記傾斜面の角度が、４５°を超えると、傾斜が強くなりすぎて塗布液の流れが一様になりにくく、スジが発生し易くなることがある。
また、前記一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる傾斜面の長さは、１０ｍｍ以下が好ましく、８ｍｍ以下がより好ましい。前記傾斜面の長さが、１５ｍｍを超えると、塗布液の乱れが生じるおそれが高くなることがある。
ここで、図９は、一次側リップ内に液溜め部がなく、一次側リップ１の傾斜面１ｂの長さＬが９ｍｍ、傾斜角度αが４０°であるコーターを用いている。
【００１６】
（５）一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有することにより、一次側リップ全面から塗布液が流れ易くなり、スジの発生を防止できる。
ここで、図１０は、一次側リップ１の幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの一例を示す。図１１に示すように、一次側リップ１の幅方向中央部が最も高く、丸みを帯びた傾斜構造を有するコーターであっても構わない。なお、図１０及び図１１中３は、バーである。
図１２及び図１３に示すように、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造においては、幅方向中央部の最大高さＨａは５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、８ｍｍ〜１５ｍｍがより好ましい。幅方向長さＬｃは６００ｍｍ〜７００ｍｍが好ましい。
【００１７】
前記バー状乃至ロール状の回転体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、断面が円柱状に形成されており、円周方向に一定間隔で溝が形成されているもの、ワイヤーが密に巻回されているもの、又は表面が平滑であるもののいずれであっても構わない。
前記バーは、回転駆動手段に連結されており、ウエブの走行方向と同方向に、かつウエブの走行速度とほぼ同じ速度で回転するものが好ましいが、ウエブと反対方向に回転させてもよく、ウエブの走行速度と異なるように回転させてもよい。
前記バーの直径は、２０ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ〜１５ｍｍがより好ましい。前記バー直径が２０ｍｍを超えると、膜全面で搬送方向に縦スジが発生してしまうことがある。
【００１８】
ここで、図１４は、本発明の一実施態様を示すロッド塗布装置の側面断面図である。この図１４のロッド塗布装置１０は、コーター１２と、該コーター１２を挟んでウエブ走行方向の上流側（一次側）と下流側（二次側）とに設けられた一対のガイドローラ１４、１６とを備えている。そして、ウエブ１８がコーター１２のバー２０にラップされた状態で塗布液が塗布される。
【００１９】
コーター１２は、主に、両端が図示を省略している軸受により回転可能に支持されたバー２０と、該バー２０の全長にわたって支持すると共に、バー２０へ塗布液を供給する給液機構を備えた支持部材２２と、支持部材２２との間に塗布液の給液路２４、２６を形成する一次側リップ２８と二次側リップ３０とから構成されている。
この実施態様では、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布するように構成されている。
【００２０】
給液路２４、２６は、マニホールド３２とスロット３４とより構成され、マニホールド３２に給液された塗布液がスロット３４を介してウエブ１８の幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２０に対してウエブ１８の搬送方向の上流側（一次側）には一次側ビード３６が形成され、下流側（二次側）には二次側ビード３８が形成される。二次側ビード３８は、バー２０と支持部材２２との間に空気を巻き込まないように作用する。
【００２１】
これら一次側ビード３６と二次側のビード（不図示）を形成する塗布液が回転するバー２０によってピックアップされることにより、バー２０にラップして連続走行するウエブ１８に塗布される。給液路２４、２６から一次側ビード３６と二次側のビード（不図示）に供給された塗布液のうち余剰の塗布液は、一次側リップ２８の外側２８Ａ、二次側リップ３０の外側３０Ａを流下する。
【００２２】
バー２０の回転は、ウエブ１８の走行によって従動回転する場合、駆動源を設けて回転駆動する場合のいずれでもよく、また回転駆動する方向はウエブ１８の走行方向と同方向への回転でも、逆方向への回転でもよい。
【００２３】
次に、本発明のロッド塗布装置の適用例について説明する。図１５は、本発明のロッド塗布装置１０を組み込んだ光学補償シートの製造ライン８０である。
【００２４】
この光学補償シートの製造ライン８０は、図１５に示されるように、送出機８２から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１８が送り出される。次に、ウエブ１８はガイドローラ８４によってガイドされてラビング処理装置８６に送り込まれる。そして、ウエブ１８に形成されたポリマー層には、ラビングローラ８８によりラビング処理が施される。ラビングローラ８８の下流には除塵機９０が設けられており、ウエブ１８の表面に付着した塵を取り除くことができる。除塵機９０の下流には本発明のロッド塗布装置１０のコーター１２が設けられている。そして、コーター１２によりディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ１８に塗布される。コーター１２の下流には、乾燥ゾーン９２、加熱ゾーン９４が順次設けられており、ウエブ１８上の塗布液が乾燥・加熱されて液晶層が形成される。更に、この下流には紫外線ランプ９６が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成する。これにより、光学補償シートが製造され、製造された光学補償シートは巻取機９８に巻き取られる。
【００２５】
このように、本発明のロッド塗布装置１０を、光学補償シートの液晶層の塗布（ディスコネマティック液晶を含む塗布液の塗布）に用いるので、縦スジ等のムラのない良好な面質の光学補償シートを製造できる。
【００２６】
前記ウエブ１８としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙等が挙げられる。前記プラスチックフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体；６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル；ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテートなどが挙げられる。前記レジンコーティッド紙における樹脂としては、例えば、ポリエチレン等のポリオレフィンなどが挙げられる。
前記ウエブの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．０１ｍｍ〜１．０ｍｍ程度のものが取扱い、汎用性から見て有利である。
【００２７】
本発明に用いられる塗布液としては、特に制限はなく、高分子化合物の水又は有機溶媒液、顔料分散液、コロイド溶液等が適用できる。特に、薄層塗布を均一かつ高精度に行うことが求められる各種光学シートの塗布液、例えば、液晶性ディスコティック塗布液等が好適である。
前記塗布液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜１０Ｐａ・ｓがより好ましい。
前記塗布液の表面張力は、２５℃で、４０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、１ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍがより好ましい。
前記塗布液の粘度は、例えば、市販の粘度計を用いて測定することができる。また、塗布液の表面張力は、例えば市販の表面張力計を用いて測定することができる。
【００２８】
−用途−
本発明のロッド塗布方法及びロッド塗布装置は、例えば、写真用フィルム、写真用印画紙、磁気記録テープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセット版材、光学補償シート等の各種光学シートなどの製造に好適に用いられる。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。以下の実施例においては、光学補償シートの製造に適用した例で説明するが、これに限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
＜液溜まり部の有りの態様＞
＜＜光学補償シートの作製＞＞
−塗布液の調製−
塗布液としては、下記構造式で表されるディスコティック化合物〔ＴＥ−８のＲが（１）の化合物とＲが（２）の化合物、富士フイルム株式会社製〕を、質量比〔Ｒが（１）の化合物：Ｒが（２）の化合物〕が４：１の混合物に、光重合開始剤(イルガキュア９０７、日本チバガイギー株式会社製)を１質量％添加し、混合物の４０質量％メチルエチルケトン溶液である液晶性化合物を含む塗布液を調製した。この塗布液の粘度は、２５℃で２．４ｍＰａ・ｓであり、表面張力は、２５℃で２２．５ｍＮ／ｍであった。
【化１】
【００３１】
−配向膜用樹脂層の形成−
ウエブとして厚み１００μｍ、全長１，０００ｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フィルム株式会社製）を使用し、ウエブの表面に長鎖アルキル変性ボバール(ＭＰ−２０３、株式会社クラレ製)の２質量％溶液をウエブ上に２５ｃｃ／ｍ２で塗布し、６０℃で１分間乾燥させて、配向膜用樹脂層を形成した。
得られたウエブを２０ｍ／分で搬送しながら、配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。
【００３２】
−ロッド塗布−
次に、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた幅７００ｍｍの配向膜上に、前記塗布液を、図６Ａ及び図６Ｂに示すコーターを用いてロッド塗布を行った。
コーター１００からの塗布液の供給幅は６６０ｍｍ、バー塗布部の長さは６５４ｍｍ、バー直径は２０ｍｍであった。
図６Ａ及び図６Ｂに示すように、コーター１００の一次側リップ１内に液溜め部４を設け、かつ一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ高く、かつ一次側リップの斜面長さＬは１２ｍｍ、傾斜角度αが５０°であるコーターを用いた。
液溜め部４の深さＤａは１０ｍｍ、液溜め部４の幅Ｌａは２ｍｍ、液溜め部の堰４ａの厚みは１ｍｍ、液溜め部の堰４ａの高さは一次側リップの堰１ａの高さよりも２ｍｍ低く形成されている。
【００３３】
次に、ロッド塗布終了後、１００℃で１分間乾燥を行い、１３０℃で１分間ネマチック相の形成を行った後、紫外線照射を行い塗布膜の硬化を行い、ロール状に巻いた。以上により、実施例１の光学補償シートを作製した。
【００３４】
得られた光学補償シートについて、以下のようにして、面状評価を行った。
【００３５】
＜面状評価＞
得られた光学補償シートの表面を目視観察し、下記基準に基づき、面状評価を行った。
〔評価基準〕
◎：製品にまったくスジが発生しない
○：製品に微少なスジは発生しているが、目視では認識できない
△：製品にスジが少し見えるが、製品としては問題ない
×：製品にスジがはっきり見え、製品として成立しない
【００３６】
（実施例２）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さより１ｍｍ低く形成したコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３７】
（実施例３）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さと同じにしたコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例３の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３８】
（実施例４）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例２において、一次側リップ１の堰の高さを二次側リップの堰の高さより１ｍｍ低くし、かつ一次側リップの傾斜面の長さＬを１０ｍｍ、傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例２と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例４の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３９】
（比較例１）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さより１ｍｍ高く形成したコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例１の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４０】
（実施例５）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、図７Ａ及び図７Ｂに示すような一次側リップ１に塗布液を溜めるダム構造６を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例５の光学補償シートを作製した。ここで、図７Ｂに示すダム構造６は、断面略Ｌ字状であり、ダム構造６の深さＤｂは１２ｍｍ、ダム構造の幅Ｌｂは３ｍｍに形成されている。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４１】
（実施例６）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例５において、一次側リップ１の堰の高さを二次側リップの堰の高さより１ｍｍ低くし、かつ一次側リップの傾斜面の長さＬを１０ｍｍ、傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例５と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例６の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４２】
（比較例２）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例５において、一次側リップ１に塗布液を溜めるダム構造６を有さないコーターを用いた以外は、実施例５と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４３】
（実施例７）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、かつ図８に示すような一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップの堰２ａの高さより３ｍｍ低いコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例７の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４４】
（実施例８）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さを二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ低いコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例８の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４５】
（実施例９）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さと二次側リップの堰２ａの高さを同じにしたコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例９の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４６】
（比較例３）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さを二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ高くしたコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例３の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４７】
（実施例１０）
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、かつ図９に示すように一次側リップの傾斜面１ａの長さＬが９ｍｍ、傾斜角度αが４０°であるコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１０の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４８】
（実施例１１）
＜一次側リップの傾斜面長さ及び傾斜角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１０において、一次側リップの傾斜面１ｂの長さＬを１０ｍｍにしたコーターを用いた以外は、実施例１０と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１１の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４９】
（比較例４）
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１０において、一次側リップの傾斜面１ｂの長さＬを１１ｍｍにしたコーターを用いた以外は、実施例１０と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例４の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５０】
（実施例１２）
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１１において、一次側リップの傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例１１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５１】
（比較例５）
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１１において、一次側リップ１の傾斜角度αを５０°にしたコーターを用いた以外は、実施例１１と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例５の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５２】
（実施例１３）
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、図１２に示す一次側リップの堰の形状を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１３の光学補償シートを作製した。なお、図１２に示す一次側リップの堰では、最大高さＨａは１２ｍｍ、堰の長手方向の長さＬｃは６６０ｍｍであり、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有している。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５３】
（実施例１４）
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、図１３に示す一次側リップの堰の形状を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１４の光学補償シートを作製した。なお、図１３に示す一次側リップの堰では、最大高さＨａは１２ｍｍ、堰の長手方向の長さＬｃは６６０ｍｍであり、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有している。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５４】
（実施例１５）
＜バー直径を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、直径１５ｍｍのバーを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１５の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５５】
（実施例１６）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、直径２５ｍｍのバーを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１６の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５６】
次に、実施例１〜１６及び比較例１〜５について、下記表１〜表７に評価結果と共に、まとめて記載した。
【００５７】
＜液溜まり部の有りの態様＞
【表１】
【００５８】
＜ダム構造の有無の態様＞
【表２】
【００５９】
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
【表３】
【００６０】
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
【表４】
【００６１】
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
【表５】
【００６２】
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
【表６】
【００６３】
＜バー直径を変更した態様＞
【表７】
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明のロッド塗布方法及びロッド塗布装置は、例えば、写真用フィルム、写真用印画紙、磁気記録テープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセット版材、光学補償シート等の各種光学シートなどの製造に幅広く用いられる。
【符号の説明】
【００６５】
１ 一次側リップ
１ａ 一次側リップの堰
１ｂ 一次側リップの傾斜面
２ 二次側リップ
２ａ 二次側リップの堰
３ バー
４ 液溜め部
４ａ 液溜め部の堰
５ 支持部材
６ ダム構造
７ バーにより掻き上げられた塗布液
８ 掻き落とされて戻る塗布液
９ スジ
１０ ロッド塗布装置
１２ コーター
１４、１６ ガイドローラ
１８ ウエブ
２０ バー
２２ 支持部材
２４、２６ 給液路
２８ 一次側リップ
３０ 二次側リップ
３２ マニホールド
３４ スロット
３６ 一次側ビード
８０ 光学補償シートの製造ライン
８２ 送出機
８４ ガイドローラ
８６ ラビング処理装置
８８ ラビングローラ
９０ 除塵機
９２ 乾燥ゾーン
９４ 加熱ゾーン
９６ 紫外線ランプ
９８ 巻取機
１００ コーター
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロッド塗布方法及びロッド塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ロッド塗布方法（バーコート法）は、設備が簡便で薄層塗布が可能であることから、広く用いられている。しかし、光学シート等に代表されるような高品質面状が要求される商品をロッド塗布方法で製造する場合には、塗布スジを発生させることなく製造することは極めて困難であった。
このようなロッド塗布方法における塗布スジ発生の問題を解決するため、種々の方法が提案されている。例えば、コーターのセンターブロック一次側に堰を設けることで、ロッドから戻る塗布液と給液した塗布液との衝突による渦に起因するスジの発生を抑制する方法が提案されている（特許文献１参照）。
また、一次側の堰部材の傾き角度を規定することで、塗布液から揮発する揮発性ガスに濃度分布が生じることに起因する塗布スジの発生を抑制する方法が提案されている（特許文献２参照）。
【０００３】
しかしながら、前記先行技術文献においても、全ての塗布スジの発生が抑制できるわけでなく、塗布スジの発生により面状品質が低下していた。例えば、図１及び図２に示すように、通常ロッド塗布方法では、バー３により掻き上げられた塗布液７の膜幅が、掻き落されて戻る塗布液８の膜幅よりも広く設定されている。即ち、一次側リップ１からオーバーフローする塗布液８の膜幅が、バー３により掻き上げられた塗布液７の膜幅よりも狭くなっているので、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部に塗布スジ９が発生する。これは、図３に示す図２のＡ−Ａ断面では、図４に示す図２のＢ−Ｂ断面に比べて、横側からも塗布液が逃げることができるので、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部で圧力差が生じて、縦方向に塗布スジが発生すると推測されている。
ここで、図５は、実際に、バー３により掻き上げられた塗布液７と、掻き落されて戻る塗布液８との境界部に塗布スジが発生した塗布膜の膜厚を接触式膜厚計(フィルムシックネステスタＫＧ６０１Ｂ、アンリツ株式会社製)で測定した結果を示す。図５中、丸で囲った部分では塗布膜の膜厚が急激に変化しているため、塗布スジとして視認されてしまうという課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−７２６４６号公報
【特許文献２】特開２００９−８２８２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することを特徴とするロッド塗布方法である。
該＜１＞に記載のロッド塗布方法においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することにより、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防止して、スジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができる。
＜２＞ 一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布する前記＜１＞に記載のロッド塗布方法である。
＜３＞ 一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜３＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜４＞ 一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜４＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜５＞ 一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜５＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜６＞ 一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜６＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜７＞ 一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
該＜７＞に記載のロッド塗布方法においては、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターを用いて塗布することにより、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となり、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界でのスジの発生を防止できる。
＜８＞ バー直径が２０ｍｍ以下である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
＜９＞ 塗布液の２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のロッド塗布方法である。
＜１０＞ バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布装置において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有することを特徴とするロッド塗布装置である。
該＜１０＞に記載のロッド塗布装置においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有している。その結果、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防止して、スジの発生がなく、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができる。
＜１１＞ 一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように構成したコーターを有する前記＜１０＞に記載のロッド塗布装置である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界での塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、従来のロッド塗布方法において塗布スジが発生している状態を示す斜視図である。
【図２】図２は、従来のロッド塗布方法において塗布スジが発生している状態を示す模式図である。
【図３】図３は、図２におけるＡ−Ａ断面を示す概略断面図である。
【図４】図４は、図２におけるＢ−Ｂ断面を示す概略断面図である。
【図５】図５は、境界部に塗布スジが発生した塗布膜の膜厚を接触式膜厚計で測定した結果を示すグラフである。
【図６Ａ】図６Ａは、実施例１のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図６Ａの液溜め部の部分拡大図である。
【図７Ａ】図７Ａは、実施例５のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、図７Ａのダム構造の部分拡大図である。
【図８】図８は、実施例７のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図９】図９は、実施例１０のロッド塗布に用いたコーターを示す概略図である。
【図１０】図１０は、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの一例を示す概略図である。
【図１１】図１１は、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの他の一例を示す概略図である。
【図１２】図１２は、実施例１３で用いたコーターの一次側リップの堰の形状を示す概略図である。
【図１３】図１３は、実施例１４で用いたコーターの一次側リップの堰の形状を示す概略図である。
【図１４】図１４は、本発明の一実施態様を示すロッド塗布装置の側面図である。
【図１５】図１５は、本発明のロッド塗布装置を組み込んだ光学補償シートの製造ラインを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（ロッド塗布方法及びロッド塗布装置）
本発明のロッド塗布方法は、バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布する方法である。
前記ロッド塗布方法においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布する。
【００１０】
本発明のロッド塗布装置は、バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布する装置である。
前記ロッド塗布装置においては、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有する。
この場合、一次側リップ及び二次側リップの少なくともいずれかにおいて、オーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布することが好ましく、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防ぎ、塗布スジの発生のない塗布膜を得ることができる点で、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布することが特に好ましい。
ここで、前記「略同一」とは、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅Ａと、掻き落として戻る塗布液の膜幅Ｂとの差（Ａ−Ｂ）が、０ｍｍ〜１０ｍｍであることを意味し、０ｍｍが最も好ましい。
また、本発明においては、ウエブの搬送方向の「上流側」を「一次側」、「下流側」を「二次側」とそれぞれ定義する。
【００１１】
前記ロッド塗布方法及びロッド塗布装置において、前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅が略同一となるようにする方法としては、以下の（１）〜（５）の方法が挙げられ、これらの１つを単独で又は２つ以上を組み合わせて実現することができる。
（１）一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する方法。
（２）一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する方法。
（３）一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する方法。
（４）一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する方法。
（５）一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する方法。
これらの中でも、前記（１）、前記（３）及び前記（４）を組み合わせたもの、前記（２）、前記（３）及び前記（４）を組み合わせたものが、オーバーフローする部分とオーバーフローしない部分の境界の塗布液流れの乱れがビード形成部に影響するのを防ぎ、塗布スジの発生のない塗布膜を得ることができる点で特に好ましい。
【００１２】
以下、前記（１）〜（５）の方法について、詳細に説明する。
（１）一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布することが、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅を略同一にするのに有効であり、液溜め部に塗布液を充填することができ、塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜が得られる点で好ましい。
前記液溜め部の形状、大きさ、構造などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、前記形状としては、例えば断面矩形状、断面長方形状、などが挙げられる。
ここで、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、コーター１００の一次側リップ１内に液溜め部４を設けている。この液溜め部４は、バー３の幅方向に沿って全長にわたって形成されている。なお、図６Ａ中５は、バー３を回転可能に支持する支持部材である。
図６Ａ及び図６Ｂに示すコーター１００においては、一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップ２の堰２ａの高さと同等又は高く形成され、一次側リップの堰１ａの高さは二次側リップ２の堰２ａの高さより０ｍｍ〜１ｍｍ高く形成することが好ましい。
液溜め部の堰４ａの高さは、一次側リップの堰１ａの高さと同等又は低く形成しており、液溜め部の堰４ａの高さは、一次側リップの堰１ａの高さよりも１ｍｍ〜２ｍｍ低いことが好ましい。
図６Ｂに示すように、液溜め部４は断面略長方形状であり、液溜め部４の深さＤａは５ｍｍ〜２０ｍｍ、液溜め部４の幅Ｌａは１ｍｍ〜５ｍｍ、液溜め部の堰４ａの厚みは０．５ｍｍ〜２ｍｍに形成することが好ましい。
図６Ａ及び図６Ｂに示すコーター１００においては、図６Ａ中矢印で示したように、バー３の回転により掻き上げられた塗布液は、一次側リップ内の液溜め部４内に一時充填された後、該液溜め部からオーバーフローした塗布液が一次側リップの堰１ａを越えて流れ出るので、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
【００１３】
（２）一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有することにより、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられる塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅を略同一にするのに有効であり、液溜め部に塗布液を一時充填することができ、塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜が得られる点で好ましい。
前記ダム構造の形状、大きさ、構造などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、前記形状としては、例えば断面略Ｌ字形状、などが挙げられる。
ここで、図７Ａ及び図７Ｂに示すように、一次側リップ１と、バー３を支持する支持部材５との間に塗布液を溜めるダム構造６を有している。ダム構造６は、バー３の幅方向に沿って全長にわたって形成されている。このダム構造６を一次側リップに設けることにより、図６Ａ及び図６Ｂに示す液溜め部４よりも多くの塗布液を一時充填できる。
図７Ｂに示すダム構造では、ダム構造６の深さＤｂは５ｍｍ〜３０ｍｍ、ダム構造の幅Ｌｂは１ｍｍ〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
図７Ａに示すコーター１００においては、一次側リップの堰１ａが二次側リップ２の堰２ａより高く形成しており、一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップ２の堰２ａの高さより１ｍｍ高く形成することが好ましい。
図７Ａに示すコーター１００においては、図７Ａ中矢印で示したように、バー３の回転により掻き上げられた塗布液は、一次側リップ１と支持部材５との間のダム構造６に一時充填された後、該ダム構造からオーバーフローした塗布液が一次側リップの堰１ａを越えて流れ出るので、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
【００１４】
（３）一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成することにより、一次側リップの傾斜面を流れる塗布液の速度が速くなり、膜幅を略同一にするのに有効に作用する。
ここで、図８は、一次側リップ内に液溜め部がなく、一次側リップ１の最大高さ（堰１ａ）を、二次側リップ２の最大高さ（堰２ａ）よりも低く形成したものであり、一次側リップの最大高さは、二次側リップの最大高さよりも１ｍｍ〜３ｍｍ低くすることが好ましい。
【００１５】
（４）一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度は、０°〜４５°が好ましく、１０°〜４５°がより好ましく、３０°〜４５°が更に好ましい。前記傾斜面の角度が、４５°を超えると、傾斜が強くなりすぎて塗布液の流れが一様になりにくく、スジが発生し易くなることがある。
また、前記一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる傾斜面の長さは、１０ｍｍ以下が好ましく、８ｍｍ以下がより好ましい。前記傾斜面の長さが、１５ｍｍを超えると、塗布液の乱れが生じるおそれが高くなることがある。
ここで、図９は、一次側リップ内に液溜め部がなく、一次側リップ１の傾斜面１ｂの長さＬが９ｍｍ、傾斜角度αが４０°であるコーターを用いている。
【００１６】
（５）一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有することにより、一次側リップ全面から塗布液が流れ易くなり、スジの発生を防止できる。
ここで、図１０は、一次側リップ１の幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターの一例を示す。図１１に示すように、一次側リップ１の幅方向中央部が最も高く、丸みを帯びた傾斜構造を有するコーターであっても構わない。なお、図１０及び図１１中３は、バーである。
図１２及び図１３に示すように、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造においては、幅方向中央部の最大高さＨａは５ｍｍ〜２０ｍｍが好ましく、８ｍｍ〜１５ｍｍがより好ましい。幅方向長さＬｃは６００ｍｍ〜７００ｍｍが好ましい。
【００１７】
前記バー状乃至ロール状の回転体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、断面が円柱状に形成されており、円周方向に一定間隔で溝が形成されているもの、ワイヤーが密に巻回されているもの、又は表面が平滑であるもののいずれであっても構わない。
前記バーは、回転駆動手段に連結されており、ウエブの走行方向と同方向に、かつウエブの走行速度とほぼ同じ速度で回転するものが好ましいが、ウエブと反対方向に回転させてもよく、ウエブの走行速度と異なるように回転させてもよい。
前記バーの直径は、２０ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ〜１５ｍｍがより好ましい。前記バー直径が２０ｍｍを超えると、膜全面で搬送方向に縦スジが発生してしまうことがある。
【００１８】
ここで、図１４は、本発明の一実施態様を示すロッド塗布装置の側面断面図である。この図１４のロッド塗布装置１０は、コーター１２と、該コーター１２を挟んでウエブ走行方向の上流側（一次側）と下流側（二次側）とに設けられた一対のガイドローラ１４、１６とを備えている。そして、ウエブ１８がコーター１２のバー２０にラップされた状態で塗布液が塗布される。
【００１９】
コーター１２は、主に、両端が図示を省略している軸受により回転可能に支持されたバー２０と、該バー２０の全長にわたって支持すると共に、バー２０へ塗布液を供給する給液機構を備えた支持部材２２と、支持部材２２との間に塗布液の給液路２４、２６を形成する一次側リップ２８と二次側リップ３０とから構成されている。
この実施態様では、一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布するように構成されている。
【００２０】
給液路２４、２６は、マニホールド３２とスロット３４とより構成され、マニホールド３２に給液された塗布液がスロット３４を介してウエブ１８の幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２０に対してウエブ１８の搬送方向の上流側（一次側）には一次側ビード３６が形成され、下流側（二次側）には二次側ビード３８が形成される。二次側ビード３８は、バー２０と支持部材２２との間に空気を巻き込まないように作用する。
【００２１】
これら一次側ビード３６と二次側のビード（不図示）を形成する塗布液が回転するバー２０によってピックアップされることにより、バー２０にラップして連続走行するウエブ１８に塗布される。給液路２４、２６から一次側ビード３６と二次側のビード（不図示）に供給された塗布液のうち余剰の塗布液は、一次側リップ２８の外側２８Ａ、二次側リップ３０の外側３０Ａを流下する。
【００２２】
バー２０の回転は、ウエブ１８の走行によって従動回転する場合、駆動源を設けて回転駆動する場合のいずれでもよく、また回転駆動する方向はウエブ１８の走行方向と同方向への回転でも、逆方向への回転でもよい。
【００２３】
次に、本発明のロッド塗布装置の適用例について説明する。図１５は、本発明のロッド塗布装置１０を組み込んだ光学補償シートの製造ライン８０である。
【００２４】
この光学補償シートの製造ライン８０は、図１５に示されるように、送出機８２から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１８が送り出される。次に、ウエブ１８はガイドローラ８４によってガイドされてラビング処理装置８６に送り込まれる。そして、ウエブ１８に形成されたポリマー層には、ラビングローラ８８によりラビング処理が施される。ラビングローラ８８の下流には除塵機９０が設けられており、ウエブ１８の表面に付着した塵を取り除くことができる。除塵機９０の下流には本発明のロッド塗布装置１０のコーター１２が設けられている。そして、コーター１２によりディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ１８に塗布される。コーター１２の下流には、乾燥ゾーン９２、加熱ゾーン９４が順次設けられており、ウエブ１８上の塗布液が乾燥・加熱されて液晶層が形成される。更に、この下流には紫外線ランプ９６が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成する。これにより、光学補償シートが製造され、製造された光学補償シートは巻取機９８に巻き取られる。
【００２５】
このように、本発明のロッド塗布装置１０を、光学補償シートの液晶層の塗布（ディスコネマティック液晶を含む塗布液の塗布）に用いるので、縦スジ等のムラのない良好な面質の光学補償シートを製造できる。
【００２６】
前記ウエブ１８としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙等が挙げられる。前記プラスチックフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体；６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル；ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテートなどが挙げられる。前記レジンコーティッド紙における樹脂としては、例えば、ポリエチレン等のポリオレフィンなどが挙げられる。
前記ウエブの厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．０１ｍｍ〜１．０ｍｍ程度のものが取扱い、汎用性から見て有利である。
【００２７】
本発明に用いられる塗布液としては、特に制限はなく、高分子化合物の水又は有機溶媒液、顔料分散液、コロイド溶液等が適用できる。特に、薄層塗布を均一かつ高精度に行うことが求められる各種光学シートの塗布液、例えば、液晶性ディスコティック塗布液等が好適である。
前記塗布液の粘度は、２５℃で、１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜１０Ｐａ・ｓがより好ましい。
前記塗布液の表面張力は、２５℃で、４０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、１ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍがより好ましい。
前記塗布液の粘度は、例えば、市販の粘度計を用いて測定することができる。また、塗布液の表面張力は、例えば市販の表面張力計を用いて測定することができる。
【００２８】
−用途−
本発明のロッド塗布方法及びロッド塗布装置は、例えば、写真用フィルム、写真用印画紙、磁気記録テープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセット版材、光学補償シート等の各種光学シートなどの製造に好適に用いられる。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。以下の実施例においては、光学補償シートの製造に適用した例で説明するが、これに限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
＜液溜まり部の有りの態様＞
＜＜光学補償シートの作製＞＞
−塗布液の調製−
塗布液としては、下記構造式で表されるディスコティック化合物〔ＴＥ−８のＲが（１）の化合物とＲが（２）の化合物、富士フイルム株式会社製〕を、質量比〔Ｒが（１）の化合物：Ｒが（２）の化合物〕が４：１の混合物に、光重合開始剤(イルガキュア９０７、日本チバガイギー株式会社製)を１質量％添加し、混合物の４０質量％メチルエチルケトン溶液である液晶性化合物を含む塗布液を調製した。この塗布液の粘度は、２５℃で２．４ｍＰａ・ｓであり、表面張力は、２５℃で２２．５ｍＮ／ｍであった。
【化１】
【００３１】
−配向膜用樹脂層の形成−
ウエブとして厚み１００μｍ、全長１，０００ｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フィルム株式会社製）を使用し、ウエブの表面に長鎖アルキル変性ボバール(ＭＰ−２０３、株式会社クラレ製)の２質量％溶液をウエブ上に２５ｃｃ／ｍ２で塗布し、６０℃で１分間乾燥させて、配向膜用樹脂層を形成した。
得られたウエブを２０ｍ／分で搬送しながら、配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。
【００３２】
−ロッド塗布−
次に、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた幅７００ｍｍの配向膜上に、前記塗布液を、図６Ａ及び図６Ｂに示すコーターを用いてロッド塗布を行った。
コーター１００からの塗布液の供給幅は６６０ｍｍ、バー塗布部の長さは６５４ｍｍ、バー直径は２０ｍｍであった。
図６Ａ及び図６Ｂに示すように、コーター１００の一次側リップ１内に液溜め部４を設け、かつ一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ高く、かつ一次側リップの斜面長さＬは１２ｍｍ、傾斜角度αが５０°であるコーターを用いた。
液溜め部４の深さＤａは１０ｍｍ、液溜め部４の幅Ｌａは２ｍｍ、液溜め部の堰４ａの厚みは１ｍｍ、液溜め部の堰４ａの高さは一次側リップの堰１ａの高さよりも２ｍｍ低く形成されている。
【００３３】
次に、ロッド塗布終了後、１００℃で１分間乾燥を行い、１３０℃で１分間ネマチック相の形成を行った後、紫外線照射を行い塗布膜の硬化を行い、ロール状に巻いた。以上により、実施例１の光学補償シートを作製した。
【００３４】
得られた光学補償シートについて、以下のようにして、面状評価を行った。
【００３５】
＜面状評価＞
得られた光学補償シートの表面を目視観察し、下記基準に基づき、面状評価を行った。
〔評価基準〕
◎：製品にまったくスジが発生しない
○：製品に微少なスジは発生しているが、目視では認識できない
△：製品にスジが少し見えるが、製品としては問題ない
×：製品にスジがはっきり見え、製品として成立しない
【００３６】
（実施例２）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さより１ｍｍ低く形成したコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３７】
（実施例３）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さと同じにしたコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例３の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３８】
（実施例４）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例２において、一次側リップ１の堰の高さを二次側リップの堰の高さより１ｍｍ低くし、かつ一次側リップの傾斜面の長さＬを１０ｍｍ、傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例２と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例４の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００３９】
（比較例１）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、液溜め部の堰４ａの高さを一次側リップの堰１ａの高さより１ｍｍ高く形成したコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例１の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４０】
（実施例５）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、図７Ａ及び図７Ｂに示すような一次側リップ１に塗布液を溜めるダム構造６を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例５の光学補償シートを作製した。ここで、図７Ｂに示すダム構造６は、断面略Ｌ字状であり、ダム構造６の深さＤｂは１２ｍｍ、ダム構造の幅Ｌｂは３ｍｍに形成されている。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４１】
（実施例６）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例５において、一次側リップ１の堰の高さを二次側リップの堰の高さより１ｍｍ低くし、かつ一次側リップの傾斜面の長さＬを１０ｍｍ、傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例５と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例６の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４２】
（比較例２）
＜ダム構造の有無の態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例５において、一次側リップ１に塗布液を溜めるダム構造６を有さないコーターを用いた以外は、実施例５と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４３】
（実施例７）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、かつ図８に示すような一次側リップの堰１ａの高さが二次側リップの堰２ａの高さより３ｍｍ低いコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例７の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４４】
（実施例８）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さを二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ低いコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例８の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４５】
（実施例９）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さと二次側リップの堰２ａの高さを同じにしたコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例９の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４６】
（比較例３）
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
−光学補償シートの作製−
実施例７において、一次側リップの堰１ａの高さを二次側リップの堰２ａの高さより１ｍｍ高くしたコーターを用いた以外は、実施例７と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例３の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４７】
（実施例１０）
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、かつ図９に示すように一次側リップの傾斜面１ａの長さＬが９ｍｍ、傾斜角度αが４０°であるコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１０の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４８】
（実施例１１）
＜一次側リップの傾斜面長さ及び傾斜角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１０において、一次側リップの傾斜面１ｂの長さＬを１０ｍｍにしたコーターを用いた以外は、実施例１０と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１１の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００４９】
（比較例４）
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１０において、一次側リップの傾斜面１ｂの長さＬを１１ｍｍにしたコーターを用いた以外は、実施例１０と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例４の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５０】
（実施例１２）
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１１において、一次側リップの傾斜角度αを４５°にしたコーターを用いた以外は、実施例１１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１２の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５１】
（比較例５）
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１１において、一次側リップ１の傾斜角度αを５０°にしたコーターを用いた以外は、実施例１１と同様にして、ロッド塗布を行い、比較例５の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５２】
（実施例１３）
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、図１２に示す一次側リップの堰の形状を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１３の光学補償シートを作製した。なお、図１２に示す一次側リップの堰では、最大高さＨａは１２ｍｍ、堰の長手方向の長さＬｃは６６０ｍｍであり、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有している。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５３】
（実施例１４）
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、一次側リップ内に液溜め部がなく、図１３に示す一次側リップの堰の形状を有するコーターを用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１４の光学補償シートを作製した。なお、図１３に示す一次側リップの堰では、最大高さＨａは１２ｍｍ、堰の長手方向の長さＬｃは６６０ｍｍであり、一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有している。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５４】
（実施例１５）
＜バー直径を変更した態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、直径１５ｍｍのバーを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１５の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５５】
（実施例１６）
＜液溜まり部の有りの態様＞
−光学補償シートの作製−
実施例１において、直径２５ｍｍのバーを用いた以外は、実施例１と同様にして、ロッド塗布を行い、実施例１６の光学補償シートを作製した。
得られた光学補償シートについて、実施例１と同様にして、面状評価を行った。
【００５６】
次に、実施例１〜１６及び比較例１〜５について、下記表１〜表７に評価結果と共に、まとめて記載した。
【００５７】
＜液溜まり部の有りの態様＞
【表１】
【００５８】
＜ダム構造の有無の態様＞
【表２】
【００５９】
＜一次側リップの堰高さと二次側リップの堰高さの差の影響＞
【表３】
【００６０】
＜一次側リップの傾斜面長さを変更した態様＞
【表４】
【００６１】
＜一次側リップの傾斜面角度を変更した態様＞
【表５】
【００６２】
＜一次側リップの堰の形状を変更した態様＞
【表６】
【００６３】
＜バー直径を変更した態様＞
【表７】
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明のロッド塗布方法及びロッド塗布装置は、例えば、写真用フィルム、写真用印画紙、磁気記録テープ、接着テープ、感圧記録紙、オフセット版材、光学補償シート等の各種光学シートなどの製造に幅広く用いられる。
【符号の説明】
【００６５】
１ 一次側リップ
１ａ 一次側リップの堰
１ｂ 一次側リップの傾斜面
２ 二次側リップ
２ａ 二次側リップの堰
３ バー
４ 液溜め部
４ａ 液溜め部の堰
５ 支持部材
６ ダム構造
７ バーにより掻き上げられた塗布液
８ 掻き落とされて戻る塗布液
９ スジ
１０ ロッド塗布装置
１２ コーター
１４、１６ ガイドローラ
１８ ウエブ
２０ バー
２２ 支持部材
２４、２６ 給液路
２８ 一次側リップ
３０ 二次側リップ
３２ マニホールド
３４ スロット
３６ 一次側ビード
８０ 光学補償シートの製造ライン
８２ 送出機
８４ ガイドローラ
８６ ラビング処理装置
８８ ラビングローラ
９０ 除塵機
９２ 乾燥ゾーン
９４ 加熱ゾーン
９６ 紫外線ランプ
９８ 巻取機
１００ コーター
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することを特徴とするロッド塗布方法。
【請求項２】
一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布する請求項１に記載のロッド塗布方法。
【請求項３】
一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する請求項１から２のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項４】
一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する請求項１から３のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項５】
一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する請求項１から４のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項６】
一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する請求項１から５のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項７】
一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する請求項１から６のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項８】
バー直径が２０ｍｍ以下である請求項１から７のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項９】
塗布液の２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である請求項１から８のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項１０】
バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布装置において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有することを特徴とするロッド塗布装置。
【請求項１１】
一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように構成したコーターを有する請求項１０に記載のロッド塗布装置。
【請求項１】
バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布することを特徴とするロッド塗布方法。
【請求項２】
一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように塗布する請求項１に記載のロッド塗布方法。
【請求項３】
一次側リップ内に設けられた液溜め部に、該一次側リップの高さと同等又は低い堰を有するコーターで塗布する請求項１から２のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項４】
一次側リップと、バー状乃至ロール状の回転体を支持する支持部材との間に塗布液を溜めるダム構造を有するコーターで塗布する請求項１から３のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項５】
一次側リップの最大高さを、二次側リップの最大高さと同等又は低く形成したコーターで塗布する請求項１から４のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項６】
一次側リップからオーバーフローして塗布液が流れる面の傾斜角度が、０°〜４５°であり、かつ前記傾斜面の長さが１０ｍｍ以下であるコーターで塗布する請求項１から５のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項７】
一次側リップの幅方向中央部が最も高く、両端部に向かって漸次低くなる傾斜構造を有するコーターで塗布する請求項１から６のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項８】
バー直径が２０ｍｍ以下である請求項１から７のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項９】
塗布液の２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である請求項１から８のいずれかに記載のロッド塗布方法。
【請求項１０】
バー状乃至ロール状の回転体がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜まりが形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布装置において、
前記バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落とされて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように構成したコーターを有することを特徴とするロッド塗布装置。
【請求項１１】
一次側リップからオーバーフローする塗布液の膜幅が、バー状乃至ロール状の回転体により掻き上げられた塗布液の膜幅と略同一となるように構成したコーターを有する請求項１０に記載のロッド塗布装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−２０６０７０（Ｐ２０１２−２０６０７０Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７５５１０（Ｐ２０１１−７５５１０）
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３０日（２０１１．３．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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