ワイピングクロス
【課題】 高い払拭性能を安定して維持することができるワイピングクロスを提供する。
【解決手段】 製織または編成したパイル布帛を、エアフロー処理などによって分散させて、ナノファイバによって５００μｍ２以下のバンドル状の立毛を有するパイルを形成することによって、摩擦帯電性を低下させ、吸着性の高いワイピングクロスを実現する。
【解決手段】 製織または編成したパイル布帛を、エアフロー処理などによって分散させて、ナノファイバによって５００μｍ２以下のバンドル状の立毛を有するパイルを形成することによって、摩擦帯電性を低下させ、吸着性の高いワイピングクロスを実現する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡、ワイングラスおよび携帯端末画面などの対象物を拭き取った際に埃の再付着が少ない拭き取りクロスなどとして好適に実施することができるワイピングクロスに関する。
【背景技術】
【０００２】
ワイピングクロスおよびその製造方法に係る従来技術は、たとえば特許文献１に記載されている。この従来技術は、マイクロファイバを用いたワイピングクロスに比べて拭き取り性能を向上し、対象物の損傷を防止するために、単繊維直径が１〜５００ｎｍのナノファイバを用いたワイピング用具およびその製造方法を提案する。
【０００３】
他の従来技術は、たとえば特許文献２に記載されている。この従来技術は、少なくとも１成分がポリアミドである熱可塑性ポリマーからなるポリマーアロイ繊維を製糸し、布帛形成後にポリアミド成分以外の成分を溶解させて除去することによって、単繊維直径が１０〜２００ｎｍのナノファイバを生成し、その後に布帛をポリアミド膨潤剤によって処理し、ワイピングクロスとしての布帛を製造することを提案する。
【０００４】
このようなナノファイバは、単繊維直径が２００ｎｍ以下となると、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、マイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性を示す。
【０００５】
このため、ナノファイバは汚れを吸着・吸収しやすくなり、擦って汚れを除去するだけでなく、より対象物に損傷を与えない吸着・吸収というメカニズムでも汚れを除去することができる。吸着・吸収特性をさらに活かすためには、疎水的な汚れに対しては、ポリエステルやポリオレフィンなどの疎水性ポリマーからなるナノファイバが用いられ、親水的な汚れに対しては、ポリアミドなどの親水性ポリマーからなるナノファイバが用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３０７３７９号公報
【特許文献２】特開２００８−２４０１８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記特許文献１の従来技術では、マイクロファイバを用いたワイピングクロスに比べて、対象物の損傷防止、拭き取り性能などの点で改善されるけれども、機械的強度が低いという問題点がある。したがって、液晶表示パネルなどの払拭面積が大きい部品を対象物とし、工場の製造ラインなどに設置された払拭装置およびロボットなどの払拭設備に装備され、大量の対象物を連続的に払拭処理するためなどに用いる場合には、安定した払拭性能で対象物から微細な異物を確実に除去することができないという問題がある。
【０００８】
また前記特許文献２の従来技術では、微細な超毛感を有し、ソフトな風合いを有することはできるけれども、これを拭き取りに使用した場合には、対象物への接触面積が小さいという問題点がある。したがって、大量の対象物を連続的に払拭処理するためなどに用いる場合には、微細な異物を対象物から短時間に除去することができず、また継続して安定した払拭性能を示すこともできないという問題点がある。
【０００９】
本発明の目的は、高い払拭性能を安定して維持することができるワイピングクロスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題の達成が可能な、本発明にかかるワイピングクロスとは次のとおりである。
（１）単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【００１１】
（２）単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【００１２】
（３）前記布帛は、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むことを特徴とする（１）または（２）に記載のワイピングクロス。
【００１３】
（４）温度２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることを特徴とする（３）に記載のワイピングクロス。
【００１４】
（５）前記布帛は、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である複合糸を用いた布帛であることを特徴とする（１）または（２）に記載のワイピングクロス。
【００１５】
（６）前記複合糸の芯糸が公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むフィラメントおよび／またはスパンからなることを特徴とする（５）に記載のワイピングクロス。
【００１６】
（７）前記布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１つに記載のワイピングクロス。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ナノファイバによって断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維の立毛が形成されるパイルを有するパイル布帛からなるので、高密度でナノファイバを露出させて、ワイピングクロスが織物、編物およびパイル編物のいずれであっても、高い拭き取り性能を達成し、さらに公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることによって摩擦帯電性を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】単繊維直径と単位重量あたりの表面積との関係を示すグラフである。
【図２】ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を示す図である。
【図３】本発明に従うワイピングクロスの拭取り試験に用いた試験設備を示す図である。
【図４】拭取り試験設備を側方から見た断面図である。
【図５】拭取り動作を示すガラス基板３０を上方から見た平面図である。
【図６】撮像画像の濃度によるグレースケールを示す図である。
【図７】汚れ付着面積と、拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別との関係を示す図である。
【図８】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて比較例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図９】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１０】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例２の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１１】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例３の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１２】図１２（１）および図１２（２）は実施例２の脱海後のナノファイバをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。
【図１３】図１３（１）および図１３（２）は実施例２の脱海・エアフロー後のナノファイバをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明者らは、安定した拭き取り性能に優れるワイピングクロスについて種々の検討を行ったところ、単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバからなる特定の断面積のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛にすることによって、好ましくは公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることによって、優れた拭き取り性能、制電性を有するワイピングクロスが得られることを見出し、本発明をなすに至った。
【００２０】
本発明においては、単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするものである。
【００２１】
図１は、単繊維直径と単位重量あたりの表面積との関係を示すグラフであり、図２は、ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を示す図である。中でも、パイル長が１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下の布帛であること、パイル密度が２４０本／ｍ２以上、３００００００本／ｍ２以下の布帛であることが好ましい。パイル密度とは、１ｍ２当たりのパイル本数を指す。パイルは、カットパイル、ループパイルのいずれでもよい。
【００２２】
ナノファイバ束繊維を構成する単繊維は、単繊維直径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに繊維のしなやかさを付与する観点から、太繊度の単繊維がほとんど存在しないことが好ましい。より具体的には、単繊維直径が５００ｎｍを超える単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることが好ましく、単繊維直径が２００ｎｍ以上の単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることがより好ましく、単繊維直径が１００ｎｍ以上の単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることがさらに好ましい。
【００２３】
ここで、繊維比率とは、ＴＥＭ観察の単繊維直径データを用い、ナノファイバのそれぞれの単繊維の面積をＳｉとし、その総和を総面積（Ｓ１＋Ｓ２＋…＋Ｓｎ）とする。また、同じ単繊維直径を持つナノファイバの頻度（個数）を数え、それらの合計面積を総面積で割ったものをその単繊維の繊維比率とする。これは全体（ナノファイバ束繊維）に対する各単繊維直径成分の重量分率（体積分率）に相当し、これが大きい単繊維直径成分がナノファイバ束繊維の性質に対する寄与が大きいことになる。
【００２４】
また、本発明で用いるナノファイバにおいて、特に単繊維直径が２００ｎｍ以下になると、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく、繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、従来のマイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性を示す。またパイル布帛によってワイピングクロスを実現しているので、拭取りの対象となる物体表面への接触面積を大きくすることができ、また紙などに比べて機械的強度を強くすることができる。
【００２５】
このため、ナノファイバは汚れを吸着・吸収しやすくなり、擦って汚れを除去するだけでなく、眼鏡レンズなどの光学部品およびワイングラスなどのガラス容器などの拭取り対象物に損傷を与えず、液晶パネルのガラス基板などの精密払拭対象物から微細な汚れを確実に除去することができる。吸着・吸収特性をさらに活かすためには、疎水的な汚れに対してはポリエステルやポリオレフィンなどの疎水性ポリマーからなるナノファイバを、親水的な汚れに対しては、ポリアミドなどの親水性ポリマーからなるナノファイバを用いるようにしてもよい。
【００２６】
さらに、上記吸着・吸収特性は、ナノファイバに様々なガスや液体、また機能性薬剤を坦持することができることを意味するだけでなく、それらの徐放性にも優れている。
【００２７】
また、液体が単繊維間に坦持されるため、液体保持性能が前記従来技術のワイピングクロスに比べて飛躍的に向上され、多量の液体を保持できるだけでなく、ナノファイバ束繊維からこぼれにくいという性質を示すようになる。
【００２８】
ナノファイバの製造方法は特に限定されるものではないが、例えば以下のような方法を採用することができる。すなわち、２種類以上の溶剤に対する溶解性の異なるポリマーをアロイ化したポリマーアロイ溶融体となし、これを紡糸した後、冷却固化して繊維化する。そして必要に応じて延伸・熱処理を施しポリマーアロイ繊維を得る。そして、易溶解性ポリマーを溶剤で除去することによって、ナノファイバ束繊維を得ることができる。こうして、ナノファイバによって断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が作製される。ナノファイバ束繊維の断面積を５００μｍ２以下とすることによって、断面積が５００μｍ２を超える場合に比べて、糸の表面積が格段に大きくなり、これによって、拭き取り効果を向上させることができる。
【００２９】
このように極めて細い繊維が高密度で存在することによって、ナノファイバが対象物表面の細かな凹凸に容易に入り込み、汚れを除去し易くなるのである。さらに、特に織編物ではナノファイバ同士が集合し、ナノファイバ束繊維を形成している場合があるが、本件発明では、このナノファイバ束繊維中の単繊維の数が多い（１万〜２００万本程度）ため、ナノファイバ束繊維が容易に変形することができ、対象物に傷を付けにくいのである。一方、従来のマイクロファイバを用いたワイピングクロスでは、マイクロファイバ束繊維中の単繊維の数が少ない（数十〜２０００本程度）ため、マイクロファイバ束繊維の変形に制限があり、これにより対象物に傷を付ける場合がある。
【００３０】
ナノファイバを用いたワイピングクロスと、マイクロファイバを用いたワイピングクロスとに、同一条件で機械的な処理を行った場合、１つのマイクロファイバ束繊維に含まれるマイクロファイバの単繊維の数は、１つのナノファイバ束繊維に含まれるナノファイバの単繊維の数よりも少なくなる。１つのナノファイバ束繊維に含まれる単繊維は、太くて少数である場合よりも、細くて多数である場合の方が、変形しやすくすることができる。
【００３１】
本発明におけるワイピングクロスにおいて、パイル長が１ｍｍ未満である場合、ナノファイバによる微細な凹凸が対象物に入り込みにくく、汚れを効率的に払拭できない。パイル長が１０ｍｍを超えると、汚れがパイルに付着したままとなり、周囲を汚染する。
【００３２】
また、パイル密度が２４０本／ｍ２未満である場合、対象物への接触面積が小さくなり、汚れを安定して払拭できない。また３００００００本／ｍ２を超えると、布帛の風合いが粗硬となり、拭き取りに適しない。
【００３３】
また、本発明におけるワイピングクロスの目付は、用途に応じて任意に選択することができるが、目付が２０ｇ／ｍ２以上、１００ｇ／ｍ２以下のような薄地とすると、指などに巻き付けて使用したりする際、指などに織物１が貼り付きやすいのでワイピングなどの操作を行いやすい。一方、目付を１００ｇ／ｍ２より大きく３００ｇ／ｍ２以下のような中厚地とすることによって、眼鏡レンズおよびワイングラスなどのガラス容器などの対象物に対する手作業によるワイピングの操作性を向上することができる。
【００３４】
本発明に用いる糸は、形態安定性や嵩高性を確保するため、単繊維直径が１μｍ〜５０μｍの繊維が混用される。このような混用品中のナノファイバの存在形態は、混繊、カバーリング、合撚、混綿、混紗、積層、コーティングなど多様な形態が採用されてもよい。特に、混綿、混紗、コーティング時には、混用する繊維は単繊維直径が１μｍ〜７μｍのマイクロファイバとすることが、ナノファイバとの馴染みの点から好ましい。
また、地組織に伸縮性を付与するため、スパンボンドなどの伸縮糸が挿入されてもよい。
【００３５】
また、該ワイピングクロスはナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることが好ましい。ナノファイバ束繊維が布帛表面に露出することにより、ナノファイバが対象物表面の細かな凹凸に容易に入り込み、汚れを除去し易くなる。
【００３６】
また、本発明の布帛においては、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることが好ましい。前記糸を用いた場合、湿ると分子鎖間の水素結合が弱くなり、イオンが分散しやすい状態となるため、払拭時に対象物との摩擦による静電気の発生を抑制し、高い制電性を実現することができる。
【００３７】
また、本発明においては、２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることが拭き取り性の点で好ましく、さらには、２０００Ｖ以下であることがより好ましい。
【００３８】
さらに、本発明の布帛においては、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維からなる複合糸を用いた布帛であることが好ましい。芯糸は、１または複数本の繊維から形成され、その繊維軸線の周囲の外方から複数本の鞘糸が芯糸を囲繞していることが好ましい。芯糸と鞘糸とは互いに交絡し、芯糸および鞘糸のそれぞれを構成する各繊維は、大略的に互いに平行に延びることがさらに好ましい。該複合糸は、パイル長が０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ未満、パイル数が１００個／ｍ以上のループ部分が形成されていることがさらに好ましい。パイル長が０．１ｍｍ未満の場合、ナノファイバの露出率が低下するため、拭き取り性能に乏しいものとなる。またパイル長が０．５ｍｍを超えると、製織性、製編性が悪くなる傾向があり好ましくない。
【００３９】
さらに、該複合糸の芯糸に公定水分率７％以上の吸湿性繊維からなるフィラメントおよび／またはスパンを用いると、高い制電性を実現することが可能となる。公定水分率７％以上の吸湿性繊維として、例えばセルロース繊維が挙げられるが、分子構造中に複数の水酸基を有するため、払拭時の織物１と対象物との摩擦による静電気の発生を抑制し、高い制電性を実現することができる。
【００４０】
このような制電性の付与は、帯電防止剤などによる表面処理、導電性の高い材料の繊維素材への練込み法、導電性カーボン含有繊維などの導電性繊維の混入法などによっても実現可能であり、要求される制電性に応じてこれらの手法のうちの１つが用いられてもよく、複数の手法を適宜組み合わせて用いられてもよい。
【００４１】
本発明では、単繊維直径５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である鞘糸を、芯糸に対して１５％以上、５０％以下の範囲で過供給して交絡させた複合糸を用いて製織または編成した後、脱海処理することが好ましい。脱海工程では、質量濃度１．０％以上、１０％以下のＮａＯＨ水溶液を用い、処理温度は６０℃以上１２０℃以下とする。ＮａＯＨ濃度が１％未満では、ナノファイバの脱海が完全に行われず、１０％を超えると、ナノファイバに含まれるポリアミド系溶出成分が溶け出してしまう。また処理温度は、６０℃未満ではナノファイバの脱海が完全に行われず、１２０℃よりも高温ではポリアミドが脆化してしまうからである。原糸の鞘糸において島を成す難溶解性ポリマーが、たとえばポリエステルである場合には、処理温度は、１３５℃以下とする。
【００４２】
また脱海処理した後、起毛処理してもよい。このときマイクロファイバ以上に太い繊維を対象にすることは、避けることが好ましい。
【００４３】
本発明の布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることが好ましい。機械的な揉み効果処理とは、エアフロー、ニードルパンチ、カムフィットなどの揉み効果のある機械的な処理を実施して、ナノファイバを分散させ、ナノファイバ束繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を与えることが可能となる。ナノファイバ束繊維の断面積を４００μｍ２以下にすることで、拭き取り性能がさらに向上する。
【００４４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例などにより何ら限定されるものではない。なお、拭き取り試験の測定法、評価法等は下記のとおりである。
【００４５】
（試験設備）
図３は、本発明に従うワイピングクロスの拭取り試験に用いた試験設備を示す図であり、図４は、拭取り試験設備を側方から見た断面図であり、図５は、拭取り動作を示すガラス基板３０を上方から見た平面図である。図６は、撮像画像の濃度によるグレースケールを示す図であり、図７は、汚れ付着面積と、拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別との関係を示す図である。本件発明者は、本発明に従うワイピングクロスの拭取り性能を確認するため、次の拭取り試験を行った。
【００４６】
（試験方法）
ガラス基板３０に定量の汚れ物質３１をスポット状に付着させ、拭取り動作を行った後、拭取り動作の前後にガラス基板３０の表面をカメラで撮像し、画像処理によって拭取り前後の汚れ物質３１の付着状況を、図６に示すように、目視感覚に対応した５段階の濃度に分類してその面積を測定した。
【００４７】
（汚れ付着条件）
平均粒径１３〜９０μｍのカーボンブラック１６．７ｗｔ％、牛脂極度硬化油２０．８ｗｔ％、流動パラフィン６２．５ｗｔ％のペーストを汚れ物質３１として準備し、このペーストを１５ｗｔ％のヘキサン希釈液５０μｍリットルを清浄なガラス基板３０上に滴下し、常温で１時間以上、放置してヘキサンを風乾させて、スポット状に汚れ物質３１を付着させた。
【００４８】
（拭取り条件）
この拭取り試験に用いた拭取り装置は、財団法人 日本化学繊維検査協会の拭取り試験機を用いた。拭取り試験機は、基台３２と直径３ｃｍの直円柱状の金属製摩擦子３３とを備え、この基台３２に厚みが一様な長さ９ｃｍ、幅５ｃｍのガラス基板３０を水平に載置し、このガラス板３０の中心にスポット状の前述の汚れ物質３１を付着させ、汚れを中心とした一定面積Ｓを解析対象として拭き取り前後の汚れ付着状況を撮像し、その撮像画像を画像処理することによって汚れ物質３１の付着状況を数値化し、汚れ付着性を評価した。
【００４９】
撮像画像の取得には、画像解析の容易性、分解性能を考慮してスキャナを用いて撮像した。このスキャナによって汚れの画像を取り込むことによって、基準スケールがなくても、取り込み時の解像度から、汚れの面積の算出が可能となる。スキャナにより取り込む際の解像度は、３００ｄｐｉで、８ｂｉｔのグレースケールの階調表示とした。
【００５０】
汚れ物質３１の拭取り試験では、摩擦子３３の片側の端面に、厚さ２ｍｍのシリコン製ゴム３４を貼り付け、ワイピングクロス３５によって摩擦子３３およびシリコン製ゴム３４を包み、図５の平面視で直交するＸ軸およびＹ軸のＸＹ座標系において、Ｘ軸方向に±６ｃｍ、Ｙ軸方向に±２ｃｍの範囲を、押圧荷重５ｇ／ｃｍ２で押圧した状態でジグザグ状に移動させて拭取りを行った。ガラス基板３０の厚み方向に見たときの摩擦子３３の形状は、図５に示すように円形であり、ガラス基板３０上において摩擦子３３が移動する範囲は、汚れ物質３１をスポット状に付着させた中央位置を中心に、Ｘ軸方向に±６ｃｍ、Ｙ軸方向に±２ｃｍ移動する範囲である。
【００５１】
摩擦子３３の移動は、ＸＹ平面に垂直な回転軸線まわりに回転速度８．３３ｒｐｍで回転させながら、Ｘ軸方向に移動速度１０ｃｍ／ｍｉｎ、Ｙ軸方向に移動速度６６．７ｃｍ／ｍｉｎでガラス基板３０に沿ってジグザグ移動を５往復、繰り返した。画像処理の対象領域Ｓは、Ｘ軸方向に２ｃｍ、Ｙ軸方向に２ｃｍの矩形領域とした。なお、図８〜図１１中の符号「Ｎ」は、テストピースの数を表している。
【００５２】
図８は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて比較例の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図９は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図１０は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例２の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図１１は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例３の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【００５３】
図８〜図１１は拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けてワイピングクロスの拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。同図において、（１）は拭取り前の撮像画像を示し、（２）〜（４）は、ガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行となるように取り付けて拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの拭取り後の撮像画像を示し、（５）〜（７）は、ガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と垂直となるように取り付けて拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す。
【００５４】
また、実施例に用いた複合糸の製造について以下の参考例に示した。
参考例１
芯糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸５６ｄｔｅｘ−１８ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２００ｄｔｅｘ、ループ長０．５ｍｍ以下のループ数が４０５個／ｍ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が２１個／ｍであった。
【００５５】
参考例２
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸１１２ｄｔｅｘ−３６ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２４０ｄｔｅｘ、ループ長０．５以下のループ数が３９８個／ｍ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が１９個／ｍであった。
【００５６】
参考例３
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２５０ｄｔｅｘ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が１０個／ｍであった。
【００５７】
参考例４
芯糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸５６ｄｔｅｘ−１８ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、芯鞘２層構造の複合糸を得た。得られた複合糸にはループを有していなかった。
【００５８】
参考例５
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸１１２ｄｔｅｘ−３６ｆを使用し、芯鞘２層構造の複合糸を得た。得られた複合糸にはループを有していなかった。
【００５９】
実施例１
参考例１の複合ループヤーンを経糸に、参考例２の複合ループヤーンを緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６０】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図９に示す。
【００６１】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、バンドル状になっているナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６２】
実施例２
分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ７８ｄｔｅｘ−２４ｆをパイルに使用し、ポリエステルフィラメント５６ｄｔｅｘ−２４ｆをベース生地とするダブルラッセルを編立後、センターカット処理を行い、パイルを有する経編地を得た。引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施し、さらにエアフロー処理を行い、コース方向の糸密度４７本／２．５４ｃｍ、ウエル方向の糸密度３４本／２．５４ｃｍ、パイル長が１ｍｍ以上、パイル密度が２４０本／ｍ２以上のワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は非常に良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図１０に示す。
【００６３】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６４】
図１２（１）および図１２（２）は実施例２のエアフロー処理前のワイピングクロスをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図であり、図１３（１）および図１３（２）は実施例２の脱海・エアフロー処理後のワイピングクロスをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。前記図面に示すように、エアフローによる揉み効果によって、ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を分散させることができることが確認された。ナノファイバ束繊維の断面積は３００〜５５０μｍ２であったが、エアフロー後、ナノファイバ集合体の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。このようにナノファイバを分散させることによって、単繊維直径が５００ｎｍ以下となり、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、従来のマイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性が得られることが確認された。
【００６５】
実施例３
参考例１の複合ループヤーンを縦糸に、参考例３の複合ループヤーンを緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６６】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６６本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好ではなかったが、固まりの汚れはきれいに拭き取ることができた。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図１１に示す。
【００６７】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６８】
実施例４
参考例４の複合糸を縦糸に、参考例５の複合糸を緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６９】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６６本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。このとき、ナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出していることを確認した。
【００７０】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７１】
実施例５
参考例１の複合ループヤーンを経糸に、参考例２の複合ヤーンを緯糸に用い、パイルを有する綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００７２】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。
【００７３】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７４】
実施例６
参考例１の複合ループヤーンを経糸および緯糸に用い、パイルを有する綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００７５】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は不良であった。
【００７６】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７７】
比較例１
マイクロファイバを用いたワイピングクロスとして市販されている縦編の布帛に対し拭き取り試験を行った。摩擦帯電圧の値も３０００Ｖを超えるものであり、高い払拭性能を有しない。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図８に示す。
【００７８】
（試験結果）
前述の拭き取り試験を実施例１、２、３、比較例１について実施した。その結果は、表１〜表２、図８〜図１１に示すとおりである。図７の縦軸は汚れ付着面積（ｃｍ２）であり、横軸は拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別を示す。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【表２】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡、ワイングラスおよび携帯端末画面などの対象物を拭き取った際に埃の再付着が少ない拭き取りクロスなどとして好適に実施することができるワイピングクロスに関する。
【背景技術】
【０００２】
ワイピングクロスおよびその製造方法に係る従来技術は、たとえば特許文献１に記載されている。この従来技術は、マイクロファイバを用いたワイピングクロスに比べて拭き取り性能を向上し、対象物の損傷を防止するために、単繊維直径が１〜５００ｎｍのナノファイバを用いたワイピング用具およびその製造方法を提案する。
【０００３】
他の従来技術は、たとえば特許文献２に記載されている。この従来技術は、少なくとも１成分がポリアミドである熱可塑性ポリマーからなるポリマーアロイ繊維を製糸し、布帛形成後にポリアミド成分以外の成分を溶解させて除去することによって、単繊維直径が１０〜２００ｎｍのナノファイバを生成し、その後に布帛をポリアミド膨潤剤によって処理し、ワイピングクロスとしての布帛を製造することを提案する。
【０００４】
このようなナノファイバは、単繊維直径が２００ｎｍ以下となると、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、マイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性を示す。
【０００５】
このため、ナノファイバは汚れを吸着・吸収しやすくなり、擦って汚れを除去するだけでなく、より対象物に損傷を与えない吸着・吸収というメカニズムでも汚れを除去することができる。吸着・吸収特性をさらに活かすためには、疎水的な汚れに対しては、ポリエステルやポリオレフィンなどの疎水性ポリマーからなるナノファイバが用いられ、親水的な汚れに対しては、ポリアミドなどの親水性ポリマーからなるナノファイバが用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３０７３７９号公報
【特許文献２】特開２００８−２４０１８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記特許文献１の従来技術では、マイクロファイバを用いたワイピングクロスに比べて、対象物の損傷防止、拭き取り性能などの点で改善されるけれども、機械的強度が低いという問題点がある。したがって、液晶表示パネルなどの払拭面積が大きい部品を対象物とし、工場の製造ラインなどに設置された払拭装置およびロボットなどの払拭設備に装備され、大量の対象物を連続的に払拭処理するためなどに用いる場合には、安定した払拭性能で対象物から微細な異物を確実に除去することができないという問題がある。
【０００８】
また前記特許文献２の従来技術では、微細な超毛感を有し、ソフトな風合いを有することはできるけれども、これを拭き取りに使用した場合には、対象物への接触面積が小さいという問題点がある。したがって、大量の対象物を連続的に払拭処理するためなどに用いる場合には、微細な異物を対象物から短時間に除去することができず、また継続して安定した払拭性能を示すこともできないという問題点がある。
【０００９】
本発明の目的は、高い払拭性能を安定して維持することができるワイピングクロスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題の達成が可能な、本発明にかかるワイピングクロスとは次のとおりである。
（１）単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【００１１】
（２）単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【００１２】
（３）前記布帛は、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むことを特徴とする（１）または（２）に記載のワイピングクロス。
【００１３】
（４）温度２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることを特徴とする（３）に記載のワイピングクロス。
【００１４】
（５）前記布帛は、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である複合糸を用いた布帛であることを特徴とする（１）または（２）に記載のワイピングクロス。
【００１５】
（６）前記複合糸の芯糸が公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むフィラメントおよび／またはスパンからなることを特徴とする（５）に記載のワイピングクロス。
【００１６】
（７）前記布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１つに記載のワイピングクロス。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ナノファイバによって断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維の立毛が形成されるパイルを有するパイル布帛からなるので、高密度でナノファイバを露出させて、ワイピングクロスが織物、編物およびパイル編物のいずれであっても、高い拭き取り性能を達成し、さらに公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることによって摩擦帯電性を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】単繊維直径と単位重量あたりの表面積との関係を示すグラフである。
【図２】ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を示す図である。
【図３】本発明に従うワイピングクロスの拭取り試験に用いた試験設備を示す図である。
【図４】拭取り試験設備を側方から見た断面図である。
【図５】拭取り動作を示すガラス基板３０を上方から見た平面図である。
【図６】撮像画像の濃度によるグレースケールを示す図である。
【図７】汚れ付着面積と、拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別との関係を示す図である。
【図８】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて比較例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図９】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１０】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例２の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１１】拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例３の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【図１２】図１２（１）および図１２（２）は実施例２の脱海後のナノファイバをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。
【図１３】図１３（１）および図１３（２）は実施例２の脱海・エアフロー後のナノファイバをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明者らは、安定した拭き取り性能に優れるワイピングクロスについて種々の検討を行ったところ、単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバからなる特定の断面積のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛にすることによって、好ましくは公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることによって、優れた拭き取り性能、制電性を有するワイピングクロスが得られることを見出し、本発明をなすに至った。
【００２０】
本発明においては、単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするものである。
【００２１】
図１は、単繊維直径と単位重量あたりの表面積との関係を示すグラフであり、図２は、ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を示す図である。中でも、パイル長が１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下の布帛であること、パイル密度が２４０本／ｍ２以上、３００００００本／ｍ２以下の布帛であることが好ましい。パイル密度とは、１ｍ２当たりのパイル本数を指す。パイルは、カットパイル、ループパイルのいずれでもよい。
【００２２】
ナノファイバ束繊維を構成する単繊維は、単繊維直径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに繊維のしなやかさを付与する観点から、太繊度の単繊維がほとんど存在しないことが好ましい。より具体的には、単繊維直径が５００ｎｍを超える単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることが好ましく、単繊維直径が２００ｎｍ以上の単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることがより好ましく、単繊維直径が１００ｎｍ以上の単繊維のナノファイバ全体に対する繊維比率が３％以下であることがさらに好ましい。
【００２３】
ここで、繊維比率とは、ＴＥＭ観察の単繊維直径データを用い、ナノファイバのそれぞれの単繊維の面積をＳｉとし、その総和を総面積（Ｓ１＋Ｓ２＋…＋Ｓｎ）とする。また、同じ単繊維直径を持つナノファイバの頻度（個数）を数え、それらの合計面積を総面積で割ったものをその単繊維の繊維比率とする。これは全体（ナノファイバ束繊維）に対する各単繊維直径成分の重量分率（体積分率）に相当し、これが大きい単繊維直径成分がナノファイバ束繊維の性質に対する寄与が大きいことになる。
【００２４】
また、本発明で用いるナノファイバにおいて、特に単繊維直径が２００ｎｍ以下になると、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく、繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、従来のマイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性を示す。またパイル布帛によってワイピングクロスを実現しているので、拭取りの対象となる物体表面への接触面積を大きくすることができ、また紙などに比べて機械的強度を強くすることができる。
【００２５】
このため、ナノファイバは汚れを吸着・吸収しやすくなり、擦って汚れを除去するだけでなく、眼鏡レンズなどの光学部品およびワイングラスなどのガラス容器などの拭取り対象物に損傷を与えず、液晶パネルのガラス基板などの精密払拭対象物から微細な汚れを確実に除去することができる。吸着・吸収特性をさらに活かすためには、疎水的な汚れに対してはポリエステルやポリオレフィンなどの疎水性ポリマーからなるナノファイバを、親水的な汚れに対しては、ポリアミドなどの親水性ポリマーからなるナノファイバを用いるようにしてもよい。
【００２６】
さらに、上記吸着・吸収特性は、ナノファイバに様々なガスや液体、また機能性薬剤を坦持することができることを意味するだけでなく、それらの徐放性にも優れている。
【００２７】
また、液体が単繊維間に坦持されるため、液体保持性能が前記従来技術のワイピングクロスに比べて飛躍的に向上され、多量の液体を保持できるだけでなく、ナノファイバ束繊維からこぼれにくいという性質を示すようになる。
【００２８】
ナノファイバの製造方法は特に限定されるものではないが、例えば以下のような方法を採用することができる。すなわち、２種類以上の溶剤に対する溶解性の異なるポリマーをアロイ化したポリマーアロイ溶融体となし、これを紡糸した後、冷却固化して繊維化する。そして必要に応じて延伸・熱処理を施しポリマーアロイ繊維を得る。そして、易溶解性ポリマーを溶剤で除去することによって、ナノファイバ束繊維を得ることができる。こうして、ナノファイバによって断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が作製される。ナノファイバ束繊維の断面積を５００μｍ２以下とすることによって、断面積が５００μｍ２を超える場合に比べて、糸の表面積が格段に大きくなり、これによって、拭き取り効果を向上させることができる。
【００２９】
このように極めて細い繊維が高密度で存在することによって、ナノファイバが対象物表面の細かな凹凸に容易に入り込み、汚れを除去し易くなるのである。さらに、特に織編物ではナノファイバ同士が集合し、ナノファイバ束繊維を形成している場合があるが、本件発明では、このナノファイバ束繊維中の単繊維の数が多い（１万〜２００万本程度）ため、ナノファイバ束繊維が容易に変形することができ、対象物に傷を付けにくいのである。一方、従来のマイクロファイバを用いたワイピングクロスでは、マイクロファイバ束繊維中の単繊維の数が少ない（数十〜２０００本程度）ため、マイクロファイバ束繊維の変形に制限があり、これにより対象物に傷を付ける場合がある。
【００３０】
ナノファイバを用いたワイピングクロスと、マイクロファイバを用いたワイピングクロスとに、同一条件で機械的な処理を行った場合、１つのマイクロファイバ束繊維に含まれるマイクロファイバの単繊維の数は、１つのナノファイバ束繊維に含まれるナノファイバの単繊維の数よりも少なくなる。１つのナノファイバ束繊維に含まれる単繊維は、太くて少数である場合よりも、細くて多数である場合の方が、変形しやすくすることができる。
【００３１】
本発明におけるワイピングクロスにおいて、パイル長が１ｍｍ未満である場合、ナノファイバによる微細な凹凸が対象物に入り込みにくく、汚れを効率的に払拭できない。パイル長が１０ｍｍを超えると、汚れがパイルに付着したままとなり、周囲を汚染する。
【００３２】
また、パイル密度が２４０本／ｍ２未満である場合、対象物への接触面積が小さくなり、汚れを安定して払拭できない。また３００００００本／ｍ２を超えると、布帛の風合いが粗硬となり、拭き取りに適しない。
【００３３】
また、本発明におけるワイピングクロスの目付は、用途に応じて任意に選択することができるが、目付が２０ｇ／ｍ２以上、１００ｇ／ｍ２以下のような薄地とすると、指などに巻き付けて使用したりする際、指などに織物１が貼り付きやすいのでワイピングなどの操作を行いやすい。一方、目付を１００ｇ／ｍ２より大きく３００ｇ／ｍ２以下のような中厚地とすることによって、眼鏡レンズおよびワイングラスなどのガラス容器などの対象物に対する手作業によるワイピングの操作性を向上することができる。
【００３４】
本発明に用いる糸は、形態安定性や嵩高性を確保するため、単繊維直径が１μｍ〜５０μｍの繊維が混用される。このような混用品中のナノファイバの存在形態は、混繊、カバーリング、合撚、混綿、混紗、積層、コーティングなど多様な形態が採用されてもよい。特に、混綿、混紗、コーティング時には、混用する繊維は単繊維直径が１μｍ〜７μｍのマイクロファイバとすることが、ナノファイバとの馴染みの点から好ましい。
また、地組織に伸縮性を付与するため、スパンボンドなどの伸縮糸が挿入されてもよい。
【００３５】
また、該ワイピングクロスはナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることが好ましい。ナノファイバ束繊維が布帛表面に露出することにより、ナノファイバが対象物表面の細かな凹凸に容易に入り込み、汚れを除去し易くなる。
【００３６】
また、本発明の布帛においては、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含む糸を用いることが好ましい。前記糸を用いた場合、湿ると分子鎖間の水素結合が弱くなり、イオンが分散しやすい状態となるため、払拭時に対象物との摩擦による静電気の発生を抑制し、高い制電性を実現することができる。
【００３７】
また、本発明においては、２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることが拭き取り性の点で好ましく、さらには、２０００Ｖ以下であることがより好ましい。
【００３８】
さらに、本発明の布帛においては、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維からなる複合糸を用いた布帛であることが好ましい。芯糸は、１または複数本の繊維から形成され、その繊維軸線の周囲の外方から複数本の鞘糸が芯糸を囲繞していることが好ましい。芯糸と鞘糸とは互いに交絡し、芯糸および鞘糸のそれぞれを構成する各繊維は、大略的に互いに平行に延びることがさらに好ましい。該複合糸は、パイル長が０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ未満、パイル数が１００個／ｍ以上のループ部分が形成されていることがさらに好ましい。パイル長が０．１ｍｍ未満の場合、ナノファイバの露出率が低下するため、拭き取り性能に乏しいものとなる。またパイル長が０．５ｍｍを超えると、製織性、製編性が悪くなる傾向があり好ましくない。
【００３９】
さらに、該複合糸の芯糸に公定水分率７％以上の吸湿性繊維からなるフィラメントおよび／またはスパンを用いると、高い制電性を実現することが可能となる。公定水分率７％以上の吸湿性繊維として、例えばセルロース繊維が挙げられるが、分子構造中に複数の水酸基を有するため、払拭時の織物１と対象物との摩擦による静電気の発生を抑制し、高い制電性を実現することができる。
【００４０】
このような制電性の付与は、帯電防止剤などによる表面処理、導電性の高い材料の繊維素材への練込み法、導電性カーボン含有繊維などの導電性繊維の混入法などによっても実現可能であり、要求される制電性に応じてこれらの手法のうちの１つが用いられてもよく、複数の手法を適宜組み合わせて用いられてもよい。
【００４１】
本発明では、単繊維直径５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である鞘糸を、芯糸に対して１５％以上、５０％以下の範囲で過供給して交絡させた複合糸を用いて製織または編成した後、脱海処理することが好ましい。脱海工程では、質量濃度１．０％以上、１０％以下のＮａＯＨ水溶液を用い、処理温度は６０℃以上１２０℃以下とする。ＮａＯＨ濃度が１％未満では、ナノファイバの脱海が完全に行われず、１０％を超えると、ナノファイバに含まれるポリアミド系溶出成分が溶け出してしまう。また処理温度は、６０℃未満ではナノファイバの脱海が完全に行われず、１２０℃よりも高温ではポリアミドが脆化してしまうからである。原糸の鞘糸において島を成す難溶解性ポリマーが、たとえばポリエステルである場合には、処理温度は、１３５℃以下とする。
【００４２】
また脱海処理した後、起毛処理してもよい。このときマイクロファイバ以上に太い繊維を対象にすることは、避けることが好ましい。
【００４３】
本発明の布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることが好ましい。機械的な揉み効果処理とは、エアフロー、ニードルパンチ、カムフィットなどの揉み効果のある機械的な処理を実施して、ナノファイバを分散させ、ナノファイバ束繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を与えることが可能となる。ナノファイバ束繊維の断面積を４００μｍ２以下にすることで、拭き取り性能がさらに向上する。
【００４４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例などにより何ら限定されるものではない。なお、拭き取り試験の測定法、評価法等は下記のとおりである。
【００４５】
（試験設備）
図３は、本発明に従うワイピングクロスの拭取り試験に用いた試験設備を示す図であり、図４は、拭取り試験設備を側方から見た断面図であり、図５は、拭取り動作を示すガラス基板３０を上方から見た平面図である。図６は、撮像画像の濃度によるグレースケールを示す図であり、図７は、汚れ付着面積と、拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別との関係を示す図である。本件発明者は、本発明に従うワイピングクロスの拭取り性能を確認するため、次の拭取り試験を行った。
【００４６】
（試験方法）
ガラス基板３０に定量の汚れ物質３１をスポット状に付着させ、拭取り動作を行った後、拭取り動作の前後にガラス基板３０の表面をカメラで撮像し、画像処理によって拭取り前後の汚れ物質３１の付着状況を、図６に示すように、目視感覚に対応した５段階の濃度に分類してその面積を測定した。
【００４７】
（汚れ付着条件）
平均粒径１３〜９０μｍのカーボンブラック１６．７ｗｔ％、牛脂極度硬化油２０．８ｗｔ％、流動パラフィン６２．５ｗｔ％のペーストを汚れ物質３１として準備し、このペーストを１５ｗｔ％のヘキサン希釈液５０μｍリットルを清浄なガラス基板３０上に滴下し、常温で１時間以上、放置してヘキサンを風乾させて、スポット状に汚れ物質３１を付着させた。
【００４８】
（拭取り条件）
この拭取り試験に用いた拭取り装置は、財団法人 日本化学繊維検査協会の拭取り試験機を用いた。拭取り試験機は、基台３２と直径３ｃｍの直円柱状の金属製摩擦子３３とを備え、この基台３２に厚みが一様な長さ９ｃｍ、幅５ｃｍのガラス基板３０を水平に載置し、このガラス板３０の中心にスポット状の前述の汚れ物質３１を付着させ、汚れを中心とした一定面積Ｓを解析対象として拭き取り前後の汚れ付着状況を撮像し、その撮像画像を画像処理することによって汚れ物質３１の付着状況を数値化し、汚れ付着性を評価した。
【００４９】
撮像画像の取得には、画像解析の容易性、分解性能を考慮してスキャナを用いて撮像した。このスキャナによって汚れの画像を取り込むことによって、基準スケールがなくても、取り込み時の解像度から、汚れの面積の算出が可能となる。スキャナにより取り込む際の解像度は、３００ｄｐｉで、８ｂｉｔのグレースケールの階調表示とした。
【００５０】
汚れ物質３１の拭取り試験では、摩擦子３３の片側の端面に、厚さ２ｍｍのシリコン製ゴム３４を貼り付け、ワイピングクロス３５によって摩擦子３３およびシリコン製ゴム３４を包み、図５の平面視で直交するＸ軸およびＹ軸のＸＹ座標系において、Ｘ軸方向に±６ｃｍ、Ｙ軸方向に±２ｃｍの範囲を、押圧荷重５ｇ／ｃｍ２で押圧した状態でジグザグ状に移動させて拭取りを行った。ガラス基板３０の厚み方向に見たときの摩擦子３３の形状は、図５に示すように円形であり、ガラス基板３０上において摩擦子３３が移動する範囲は、汚れ物質３１をスポット状に付着させた中央位置を中心に、Ｘ軸方向に±６ｃｍ、Ｙ軸方向に±２ｃｍ移動する範囲である。
【００５１】
摩擦子３３の移動は、ＸＹ平面に垂直な回転軸線まわりに回転速度８．３３ｒｐｍで回転させながら、Ｘ軸方向に移動速度１０ｃｍ／ｍｉｎ、Ｙ軸方向に移動速度６６．７ｃｍ／ｍｉｎでガラス基板３０に沿ってジグザグ移動を５往復、繰り返した。画像処理の対象領域Ｓは、Ｘ軸方向に２ｃｍ、Ｙ軸方向に２ｃｍの矩形領域とした。なお、図８〜図１１中の符号「Ｎ」は、テストピースの数を表している。
【００５２】
図８は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて比較例の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図９は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例１の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図１０は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例２の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図であり、図１１は、拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けて実施例３の拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。
【００５３】
図８〜図１１は拭取り試験機にガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行および垂直となるように取り付けてワイピングクロスの拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す図である。同図において、（１）は拭取り前の撮像画像を示し、（２）〜（４）は、ガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と平行となるように取り付けて拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの拭取り後の撮像画像を示し、（５）〜（７）は、ガラス基板３０をその長手方向がＹ軸と垂直となるように取り付けて拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を示す。
【００５４】
また、実施例に用いた複合糸の製造について以下の参考例に示した。
参考例１
芯糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸５６ｄｔｅｘ−１８ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２００ｄｔｅｘ、ループ長０．５ｍｍ以下のループ数が４０５個／ｍ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が２１個／ｍであった。
【００５５】
参考例２
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸１１２ｄｔｅｘ−３６ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２４０ｄｔｅｘ、ループ長０．５以下のループ数が３９８個／ｍ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が１９個／ｍであった。
【００５６】
参考例３
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、鞘糸に捩り変形を与えた後、捩り変形を与えない芯糸と交絡させて複合化し、芯鞘２層構造の複合ループヤーンが得られた。得られた複合ループヤーンは、トータル繊度２５０ｄｔｅｘ、ループ長０．５ｍｍより長いループ数が１０個／ｍであった。
【００５７】
参考例４
芯糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸５６ｄｔｅｘ−１８ｆ、鞘糸として分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ１１２ｄｔｅｘ−３４ｆを使用し、芯鞘２層構造の複合糸を得た。得られた複合糸にはループを有していなかった。
【００５８】
参考例５
芯糸として公定水分率が１０％以上のレーヨン原糸１００ｄｔｅｘ−７２ｆ、鞘糸としてナイロンとポリエステルの海島複合原糸１１２ｄｔｅｘ−３６ｆを使用し、芯鞘２層構造の複合糸を得た。得られた複合糸にはループを有していなかった。
【００５９】
実施例１
参考例１の複合ループヤーンを経糸に、参考例２の複合ループヤーンを緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６０】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図９に示す。
【００６１】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、バンドル状になっているナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６２】
実施例２
分割後の単繊維が５００ｎｍ以下で構成されたナノファイバ７８ｄｔｅｘ−２４ｆをパイルに使用し、ポリエステルフィラメント５６ｄｔｅｘ−２４ｆをベース生地とするダブルラッセルを編立後、センターカット処理を行い、パイルを有する経編地を得た。引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施し、さらにエアフロー処理を行い、コース方向の糸密度４７本／２．５４ｃｍ、ウエル方向の糸密度３４本／２．５４ｃｍ、パイル長が１ｍｍ以上、パイル密度が２４０本／ｍ２以上のワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は非常に良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図１０に示す。
【００６３】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６４】
図１２（１）および図１２（２）は実施例２のエアフロー処理前のワイピングクロスをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図であり、図１３（１）および図１３（２）は実施例２の脱海・エアフロー処理後のワイピングクロスをコース方向に切断した断面を示す電子顕微鏡による拡大写真を示す図である。前記図面に示すように、エアフローによる揉み効果によって、ワイピングクロスを構成するナノファイバ束繊維を分散させることができることが確認された。ナノファイバ束繊維の断面積は３００〜５５０μｍ２であったが、エアフロー後、ナノファイバ集合体の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。このようにナノファイバを分散させることによって、単繊維直径が５００ｎｍ以下となり、比表面積が飛躍的に大きくなるだけでなく繊維間に無数の数ｎｍ〜数百ｎｍの空隙を有するため、従来のマイクロファイバでは見られなかったナノファイバ特有の優れた吸着・吸収特性が得られることが確認された。
【００６５】
実施例３
参考例１の複合ループヤーンを縦糸に、参考例３の複合ループヤーンを緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６６】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６６本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好ではなかったが、固まりの汚れはきれいに拭き取ることができた。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図１１に示す。
【００６７】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００６８】
実施例４
参考例４の複合糸を縦糸に、参考例５の複合糸を緯糸に用い、綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００６９】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６６本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。このとき、ナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出していることを確認した。
【００７０】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７１】
実施例５
参考例１の複合ループヤーンを経糸に、参考例２の複合ヤーンを緯糸に用い、パイルを有する綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００７２】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は良好であった。摩擦帯電圧の値も２０００Ｖ未満と良好であり、風合い・拭取り性に優れるものであった。
【００７３】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７４】
実施例６
参考例１の複合ループヤーンを経糸および緯糸に用い、パイルを有する綾織物をエアジェットルームで製織した。
【００７５】
引き続き、生機を常法に従って精練、脱海、染色、仕上げを実施した後、エアフロー処理を行い、タテ密度１６４本／２．５４ｃｍ、ヨコ密度１００本／２．５４ｃｍのワイピングクロスを得た。ワイピングクロスの拭取り性は不良であった。
【００７６】
このとき、生地を構成するナノファイバの単繊維直径は２０〜１００ｎｍで、ナノファイバ束繊維の断面積は１０〜２５０μｍ２となった。
【００７７】
比較例１
マイクロファイバを用いたワイピングクロスとして市販されている縦編の布帛に対し拭き取り試験を行った。摩擦帯電圧の値も３０００Ｖを超えるものであり、高い払拭性能を有しない。拭取り試験を行ったときの対象領域Ｓの撮像画像を図８に示す。
【００７８】
（試験結果）
前述の拭き取り試験を実施例１、２、３、比較例１について実施した。その結果は、表１〜表２、図８〜図１１に示すとおりである。図７の縦軸は汚れ付着面積（ｃｍ２）であり、横軸は拭取り試験を行った拭取り前と拭取り後のワイピングクロスとの種別を示す。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【表２】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【請求項２】
単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【請求項３】
前記布帛は、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のワイピングクロス。
【請求項４】
温度２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることを特徴とする請求項３に記載のワイピングクロス。
【請求項５】
前記布帛は、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である複合糸を用いた布帛であることを特徴とする請求項１または２に記載のワイピングクロス。
【請求項６】
前記複合糸の芯糸が公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むフィラメントおよび／またはスパンからなることを特徴とする請求項５に記載のワイピングクロス。
【請求項７】
前記布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のワイピングクロス。
【請求項１】
単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維を形成し、該束繊維の立毛が形成されるパイルを有する布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【請求項２】
単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維が布帛表面に露出した布帛からなることを特徴とするワイピングクロス。
【請求項３】
前記布帛は、公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のワイピングクロス。
【請求項４】
温度２０℃、相対湿度４０％の環境下における摩擦帯電圧が３０００Ｖ以下であることを特徴とする請求項３に記載のワイピングクロス。
【請求項５】
前記布帛は、芯糸と鞘糸とが連続交絡した芯鞘２層構造であり、かつ鞘糸が単繊維直径が５００ｎｍ以下のナノファイバが、繊維軸方向に沿って複数本密着したナノファイバ集合体からなる断面積が５００μｍ２以下のナノファイバ束繊維である複合糸を用いた布帛であることを特徴とする請求項１または２に記載のワイピングクロス。
【請求項６】
前記複合糸の芯糸が公定水分率７％以上の吸湿性繊維を含むフィラメントおよび／またはスパンからなることを特徴とする請求項５に記載のワイピングクロス。
【請求項７】
前記布帛は、機械的な揉み効果処理によってナノファイバ束繊維の断面積が４００μｍ２以下に開繊されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のワイピングクロス。
【図１】
【図３】
【図４】
【図７】
【図２】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図３】
【図４】
【図７】
【図２】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１２−７０７９５（Ｐ２０１２−７０７９５Ａ）
【公開日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２１６１４０（Ｐ２０１０−２１６１４０）
【出願日】平成２２年９月２７日（２０１０．９．２７）
【出願人】（０００１８２２４７）サカイオーベックス株式会社 (35)
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【出願人】（５９４１８２７８６）八田経編株式会社 (3)
【出願人】（５９７１２２７９２）原田商事株式会社 (4)
【出願人】（３９２０１７６２４）平松産業株式会社 (15)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月２７日（２０１０．９．２７）
【出願人】（０００１８２２４７）サカイオーベックス株式会社 (35)
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【出願人】（５９４１８２７８６）八田経編株式会社 (3)
【出願人】（５９７１２２７９２）原田商事株式会社 (4)
【出願人】（３９２０１７６２４）平松産業株式会社 (15)
【Ｆターム（参考）】
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