二軸配向ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体
【課題】磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、保存安定性に優れ、スリット性と巻き姿が良好である二軸配向ポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルムとする。
【解決手段】一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルムとする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性や寸法安定性および表面特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムに関するものであり、磁気記録媒体用、電気絶縁用、コンデンサー用、回路材料、太陽電池用材料などに好適に用いることができる二軸配向ポリエステルフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られており、磁気記録媒体には常に高密度記録化が要求されている。更なる高密度記録を達成するためには、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用するとともに、微粒子磁性体を高度に分散させて、磁性層表面の平滑性を高めることや記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有効である。
【０００３】
しかしながら、磁性層表面の平滑性を高めるために基材フィルムを超高精細な表面として平滑性を向上させると、走行性や巻き取り、さらには表面の耐久性が不十分となる。また、記録トラックを小さくすると、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。
【０００４】
したがって、巻き取り性や表面平滑性の両立とテープの使用環境および保管環境における寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。
【０００５】
この観点から、支持体には、強度、寸法安定性の点で二軸配向ポリエステルフィルムよりも優れた剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられることがある。しかしながら芳香族ポリアミドは高価格でコストがかかり、汎用記録媒体の支持体としては現実的ではない。ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、走行性と平滑性を両立したり、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されているが、近年の強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体用支持体に用いる場合には未だ不十分であり、温度や湿度に対する寸法安定性などの厳しい要求を満足することもいまだ困難である。
【０００６】
ポリエステルフィルムの走行性と平滑性を両立させるために、ポリエステルフィルムの両面もしくは片面に磁性層用プライマーを塗設するなどの方法が検討されている（例えば特許文献１）。しかし、磁性層自体の寸法安定性が極めて高い強磁性金属薄膜型磁気記録媒体用支持体を意図しているため、温度や湿度に対する支持体の寸法安定性への要求は大きくなく支持体の幅方向の湿度膨張係数が不十分である。
【０００７】
フィルム表面のうねりを特定の範囲内に制御することで優れた巻き取り性と電磁変換特性を両立したポリエステルフィルムも知られている（例えば特許文献２）。しかし、高精細な表面が要求される強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体用支持体に用いる場合には、ポリエステルフィルム中の粒子による突き上げにより、表面に発生するうねりが大きく未だ不十分であるのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−１５３３２２号公報
【特許文献２】特開２００４−２９９０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、上記の問題を解決し、走行性や巻き取り性、寸法安定性さらに電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることにあり、磁気記録媒体とした際に平滑な磁性層を有すると共に温度や湿度の環境変化や保存による寸法変化を小さくすることができ、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体とすることができる二軸配向ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明は、次の各構成を特徴とするものである。
【００１１】
（１）一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１２】
（２）微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａが１６０〜１９０℃である、上記（１）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１３】
（３）長手方向のヤング率が３．０〜５．０ＧＰａである、上記（１）または（２）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１４】
（４）Ｃ層がコーティングにより設けられた層であり、Ｃ層側表面の中心線表面粗さＲａが０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１５】
（５）Ｃ層側表面とは反対側の表面の中心線表面粗さＲａが３〜１５ｎｍであり、当該表面において、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／mm２未満である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１６】
（６）１００℃で３０分間熱処理を行った後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％である、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１７】
（７）Ｃ層側に磁性層を設けて、磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１８】
（８）塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１９】
（９）上記（７）または（８）に記載の二軸配向ポリエステルフィルムをベースフィルムとして用いた磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、走行性や巻き取り性、寸法安定性さらに電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることにあり、磁気記録媒体とした際に平滑な磁性層を有すると共に温度や湿度の環境変化や保存による寸法変化を小さくすることができ、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体とすることができる二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】幅寸法を測定する際に用いるシート幅測定装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明において用いるポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものを用いることができる。
【００２３】
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００２４】
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００２５】
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
【００２６】
ポリマの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
【００２７】
ポリエステルは、二軸延伸を施せること、および、寸法安定性などの本発明の効果を発現するために、ガラス転移温度が１５０℃未満のものを好適に使用できる。本発明において用いるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）が好ましい。特に、結晶子サイズや結晶配向度を高めるプロセスが適用しやすいことから主成分はポリエチレンテレフタレートが好ましい。ここで、主成分とはフィルム組成中８０質量％以上であることをいう。また、これらの共重合体や変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。特にポリエステルと相溶するポリマーが好ましく、ポリエーテルイミド樹脂などが好ましい。ポリエーテルイミド樹脂としては、例えば以下で示すものを用いることができる。
【００２８】
【化１】
【００２９】
（ただし、上記式中Ｒ１は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ２は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ１、Ｒ２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
【００３０】
【化２】
【００３１】
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
【００３２】
【化３】
【００３３】
または
【００３４】
【化４】
【００３５】
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ１０００」、「Ｕｌｔｅｍ１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ５０００」、「Ｕｌｔｅｍ６０００」および「ＵｌｔｅｍＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。
【００３６】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、一方の表面がＣ層により構成され、このＣ層表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満である。Ｃ層表面のろ波中心線うねりが１０ｎｍ以上であると強磁性六方晶フェライト粉末を含む磁気記録媒体として高感度ＭＲヘッドで信号を再生する磁気記録再生システムでは、記録の再生時にエラーが多発し高出力が得られない。強磁性六方晶フェライト粉末を含む磁気記録媒体は、高密度記録を達成するために非磁性層および磁性層が極めて薄いため、支持体となるフィルムは高精細な表面を要求される。ろ波中心線うねりは、小さければ小さいほど好ましいが、走行性との両立の観点から好ましくは０．８〜６ｎｍ、さらに好ましくは１〜４ｎｍである。
【００３７】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、上記Ｃ層を有し、少なくとも２層以上の積層構成を有するフィルムである。層構成としては、Ｃ層｜Ａ層の２層構成や、Ａ層｜Ｂ層｜Ｃ層の３層構成等を例示することができる。単層フィルムでは本発明の走行性、巻き取り性、電磁変換特性を満足することが困難である。
【００３８】
特に、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内とするには、Ｃ層に隣接する層は、不活性粒子を含有しないポリエステル層からなると効率的に本発明のろ波中心線うねりを得られやすいので好ましいが、平均粒径が０．１μｍ以下の粒子を０．２質量％以下、好ましくは０．１質量％以下の割合で有れば含有していても構わない。隣接する層の粒子の粒径が大きいと、粒子の突き上げによってＣ層表面にうねりが発生するため、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内に制御できない場合がある。
【００３９】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＣ層表面と反対側の表面（上記した層構成の例示ではＡ層）とを重ね合わせたときの空気漏れ指数は３，０００〜６，０００秒であり、好ましくは４，０００〜５，０００秒である。フィルムの空気漏れ指数が３，０００秒より小さいと、ロールとして巻き上げた際にフィルム／フィルム間にかみ込んだ空気の層が少なくなり、フィルム中の粒子による突き上げや転写によって磁性層を設ける側の表面性が低下し、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内とすることができない。また、空気漏れ指数が６，０００秒より大きいと、フィルム／フィルム間にかみ込んだ空気を排出することができず、縦じわやロ−ル端面の不揃い等が発生し巻き特性が不良となる。空気漏れ指数は、フィルム表面の表面粗さが大きくなる程指数は小さくなるため、フィルムの表裏の表面粗さを後述する範囲に設定することで制御が容易となる。特に、空気漏れ指数を３，０００秒以上にするには、Ｃ層表面とは反対側の表面の高さ３００ｎｍ以上の突起個数を後述の範囲以内に設定することは有効であり、空気漏れ指数を６０００秒以下にするには、Ｃ層の塗設により高密度に形成された微細突起とＡ層の表面突起で制御が出来る。
【００４０】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が６ｐｐｍ／％ＲＨより大きいと磁気記録媒体用に用いた場合、湿度変化による変形が大きくなり、寸法安定性が悪化する。より好ましい上限は５．５ｐｐｍ／％ＲＨであり、さらに好ましくは５ｐｐｍ／％ＲＨである。より好ましい範囲は０〜５．５ｐｐｍ／％ＲＨであり、さらに好ましくは０〜５ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数は分子鎖の緊張度合いが影響する物性であり、後述するようにＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比によって制御することができ、また、ＴＤ延伸トータルの倍率やＭＤ延伸倍率との比によっても制御が可能である。ＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比が（ＴＤ１／ＴＤ２）が大きいほど湿度膨張係数は小さくなる。また、ＴＤ延伸トータルの倍率が高いほど湿度膨張係数は小さくなる。
【００４１】
なお、本発明において、ＭＤとはフィルムの長手方向を示し、ＴＤとはフィルムの幅方向または横方向を示す。
【００４２】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、平均屈折率ｎ＿ｂａｒが１．５９０〜１．６８０である。好ましくは平均屈折率ｎ＿ｂａｒが１．５９０〜１．６１５である。ｎ＿ｂａｒが１．５９０よりも小さいと結晶性や配向が不十分であり、保存安定性やスリット性が悪化する。ｎ＿ｂａｒが１．６８０より大きいと配向緩和により結晶性が進みすぎており、寸法安定性が悪化する。ｎ＿ｂａｒは熱固定温度で制御することができ、また、後述するＴＤ延伸１、２の条件によっても制御することができる。なお、ｎ＿ｂａｒは、長手方向の屈折率をｎＭＤとし、幅方向の屈折率をｎＴＤとし、厚み方向の屈折率をｎＺＤとしたとき、（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）にて算出される値をいう。熱固定温度が低いほどｎ＿ｂａｒは低くなる。また、ＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比が（ＴＤ１／ＴＤ２）が大きいほどｎ＿ｂａｒは小さくなる。
【００４３】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａは１６０〜１９０℃であることが好ましい。１６０℃より小さい場合、熱量不足による構造固定が不十分であり、寸法安定性や熱収縮率が悪化する。１９０℃より大きい場合は、過度の熱量により配向緩和が起こり寸法安定性が悪化する。より好ましい上限は１８８℃であり、さらに好ましくは１８５℃である。より好ましい下限は１７０℃であり、さらに好ましくは１７５℃である。より好ましい範囲は１７０〜１８８℃であり、さらに好ましくは１７５〜１８５℃である。Ｔ−ｍｅｔａは熱固定温度で制御することができる。熱固定温度が高いとＴ−ｍｅｔａが高くなる。
【００４４】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率が３〜５ＧＰａが好ましい。長手方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の保管時の張力による保存安定性が良好となる。５ＧＰａよりも大きくするにはＭＤ倍率を上げることになり、製膜性が低下しやすい。長手方向のヤング率の好ましい範囲は３．４〜４．５ＧＰａ、さらに好ましい範囲は３．８〜４．４ＧＰａである。長手方向のヤング率はＭＤ延伸の倍率で制御することができる。ＭＤ倍率が高いほどＭＤヤング率が高くなる。
【００４５】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向のヤング率が６〜１２ＧＰａであることが幅方向の湿度膨張係数の制御の観点から好ましい。幅方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の記録再生時の環境変化による寸法安定性が良好となる。幅方向のヤング率の上限は、より好ましくは１０ＧＰａ、さらに好ましくは９ＧＰａである。幅方向のヤング率の下限は、より好ましくは６．２ＧＰａ、さらに好ましくは６．５ＧＰａである。より好ましい範囲は６．２〜１０ＧＰａ、さらに好ましい範囲は６．５〜９ＧＰａである。幅方向のヤング率は後述するＴＤ延伸１、２の温度や倍率によって制御することができる。特にトータルのＴＤ倍率が影響し、トータルのＴＤ倍率が高いほどＴＤヤング率が高くなる。
【００４６】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの片面を構成するＣ層は、コーティングにより塗設された層であることが好ましい。特に、走行性や巻き特性、表面粗さを本発明の範囲内とする目的で水溶性高分子を含むＣ層が塗設されることが好ましい。水溶性高分子としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリオレフィンなどのイオン変性ポリマーまたはその塩、トラガントゴム、ゼラチン、セルロースおよびそれらの変性体を水に溶解したものであり、それらのブレンド体も使用できる。また、必要に応じてシランカップリング剤やメラミン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。
【００４７】
例えば、Ｃ層を構成するポリエステルとしては、全ジカルボン酸成分中の０．５〜４０モル％をスルホン酸金属塩基含有ジカルボン酸としたジカルボン酸と多価アルコールとからなるポリエステル共重合体を挙げることができる。該スルホン酸金属塩基含有ジカボン酸としては、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５［４−スルホフェノキシ］イソフタル酸等の金属塩が挙げられ、特に好ましいのは、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、ナトリウムスルホテレフタル酸である。あるいは、分子内に遊離カルボン酸およびカルボン酸塩基を少なくとも一種有する水性ポリエステル樹脂と２個以上のエポキシ基を有する架橋剤、および、必要に応じて、反応促進化合物を含むものを挙げることができる。この水性ポリエステル樹脂の分子内にカルボン酸基を導入するためには、例えば無水トリメリット酸、トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ピロメリット酸、トリメシン酸、シクロブタンテトラカルボン酸、ジメチロールプロピオン酸等の多価化合物をポリマ製造原料の一つとして用いることが好ましい。また、カルボン酸塩はポリマ中に導入されたカルボン酸基をアミノ化合物、アンモニア、アルカリ金属等で中和することによって導入することができる。
【００４８】
ウレタンとしては、特に限定されないが、カルボン酸塩基、スルホン酸塩基または硫酸半エステル塩基により水への親和性が高められたポリウレタンを挙げることができる。ただし、カルボン酸塩基、スルホン酸塩基または硫酸半エステル塩基等の塩基の量は０．５〜１５質量％が望ましい。あるいは、アニオン性基を有するポリウレタン系樹脂あるいはそれらに準じたポリウレタン系樹脂を用いることができる。ここでポリウレタン形成成分の主要な構成成分は、ポリイソシアネート、ポリオール、鎖長延長剤、架橋剤等である。また、分子量３００〜２０，０００のポリオール、ポリイソシアネート、反応性水素原子を有する鎖長延長剤およびイソシアネート基と反応する基、およびアニオン性基を少なくとも１個有する化合物からなる樹脂が好ましい。ポリウレタン系樹脂中のアニオン性基は、好ましくは−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｈ、−ＣＯＯＨおよびこれらのアンモニウム塩、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩あるいはマグネシウム塩として用いられる。ポリウレタン系樹脂中のアニオン性基の量は０．０５〜８質量％が望ましい。
【００４９】
ポリアクリルとしては、４０モル％のアクリルおよび／またはメタクリルモノマと、その他の官能基含有モノマ０．１〜２０モル％と一種またはそれ以上のハロゲン非含有エチレン性不飽和モノマ約０〜４９．９モル％とコポリマ、あるいは少なくとも２５モル％のアクリル酸、メタクリル酸またはアクリル酸メタクリル酸のアルキルエステルの中から選ばれたコモノマと１〜５０モル％のビニルスルホン酸およびｐ−スチレンスルホン酸ならびにこれらの酸の中から選ばれたコモノマから導かれる共重合体が望ましい。
【００５０】
これら水溶液における固形分濃度は０．１〜２質量％、特に０．３〜１質量％であることが好ましい。固形分濃度が０．１質量％未満では、水溶性高分子樹脂による微細突起が効率的に形成されないため表面が平滑になり、その結果、空気漏れ指数が大きくなったり、巻き特性が低下することがある。逆に固形分濃度が２質量％を超えると水溶性樹脂による微細突起が大きくなり、ろ波中心線うねりや表面粗さを本発明の範囲内に制御できないことがある。また、製造工程中に受ける応力によって、水溶性高分子樹脂による微細突起自体の耐久性が低下する場合がある。
【００５１】
本発明の二軸配向フィルムのＣ層表面の中心線表面粗さＲａは、０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満であり、好ましくは０．５〜４ｎｍである。Ｃ層表面の中心線表面粗さＲａを本発明の範囲内に制御するには、上記の水溶液における固形分濃度を０．１〜２質量％、特に０．３〜１質量％に調節することが好ましく例示できる。
【００５２】
Ｃ層は、不活性粒子を含有する必要はないが、本発明の表面粗さＲａの制御に支障のない範囲内であれば含有していても構わない。不活性粒子としては、平均粒径が１０〜３０ｎｍのコロイダルシリカ粒子やアクリル粒子、ポリスチレン粒子が例示できる。
【００５３】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＣ層とは反対側の表面（以下、Ａ層表面ということがある。また、Ａ層表面を構成する層をＡ層という）の中心線表面粗さＲａは３〜１５ｎｍであり、好ましくは５〜１２ｎｍである。
【００５４】
Ａ層の表面粗さＲａが３〜１５ｎｍの範囲外であると走行性や巻き取り性が不良となりやすい。Ａ層の表面粗さの制御方法としては、Ａ層に含有される粒子の粒径と含有量によって制御することが可能である。また、Ａ層の積層厚み（ｔ）とＡ層に含有される粒子の平均粒径（ｄ）との関係（ｔ／ｄ）を０．１〜１０、好ましくは０．５〜５に設定することでも制御できる。
【００５５】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＡ層表面には、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／ｍｍ２未満の頻度で形成されていることが電磁変換特性の観点から重要である。好ましくは２０個／ｍｍ２以下であり、さらに好ましくは１０個／ｍｍ２以下である。Ａ層表面の高さ３００ｎｍ以上の突起は、Ａ層表面に突起を形成するだけでなく、反対面のＣ層表面にも突起高さは低いが突起径が大きな盛り上がりを形成することによって、Ｃ層表面の平滑性を低下させる。その結果、Ｃ層表面のろ波中心線うねりを本発明の範囲内に制御できない場合がある。また、Ａ層上にバックコート層を塗設した後もバックコート層表面に該突起に起因する突起が形成され、これがロールエージング時に磁性層表面に転写し磁性層の平滑性を低下させ電磁変換特性を悪化させることがある。
【００５６】
Ａ層の高さ３００ｎｍ以上の突起を上記した個数密度の範囲内に制御するには、平均粒径が０．０５〜０．５μｍの不活性粒子を含有させることが有効である。好ましくは０．１〜０．４５μｍである。含有量は好ましくは０．０５〜０．３質量％であり、より好ましくは０．０８〜０．２５質量％である。不活性粒子としては特に限定されないが、無機粒子、有機粒子、いずれも用いることができる。もちろん、１種類の粒子でも、２種類以上の粒子を併用してもかまわない。具体的な種類としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ珪酸塩、カオリン、タルク、モンモリロナイト、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、シリコーン、イミド等を構成成分とする有機粒子などが添加されてもよい。
【００５７】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの１００℃で３０分間熱処理を施した後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％であり、さらには０．８〜１．２％であることが好ましい。幅方向の熱収縮率は小さいことが磁気記録媒体の製造工程において幅縮みやシワなどの問題が起こりにくくなるため望ましい。一般には、熱収縮はフィルム中の歪みが大きい事により引き起こされるため、熱収縮を低くするには、熱処理温度を高温化することや幅方向の延伸倍率の低倍化によって歪みを小さくすることが有効である。しかし、前述の方法では、本発明の幅方向の湿度膨張係数を達成することが困難となるため、トレードオフの関係にある熱収縮率と湿度膨張係数を両立するには、縦延伸の予熱と延伸温度条件を制御することが重要となる。つまり、ＴＤ延伸１の予熱温度を（ＭＤ延伸後のフィルムの冷結晶化温度（以下Ｔｃｃ．ＢＦという）−５℃）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５℃）の間に設定し、ＴＤ１延伸温度を予熱温度以下に設定する。
【００５８】
本発明において、二軸配向ポリエステルフィルムとしての厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、通常リニア磁気記録媒体用途では１〜７μｍが好ましい。この厚みが１μｍより小さい場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、この厚みが７μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。したがって、高密度磁気記録媒体用途の場合、厚みの下限は、好ましくは２μｍ、より好ましくは３μｍであり、上限は、好ましくは６．５μｍ、より好ましくは６μｍである。より好ましい範囲としては２〜６．５μｍ、さらに好ましい範囲としては３〜６μｍである。
【００５９】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる場合は、Ｃ層側に磁性層を設けることが高密度磁気記録媒体を得る上で重要であり、特に、磁性層に強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体としたときに優れた電磁変換特性を発揮できる。
【００６０】
上記したような本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、たとえば次のように製造される。
【００６１】
まず、二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムを製造する。ポリエステルフィルムを製造するには、たとえばポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。
【００６２】
また、ポリエステルフィルムの表面性を制御しつつ易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、不活性粒子を添加することが好ましい。不活性粒子は無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などが挙げられる。
【００６３】
さらに、本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
【００６４】
続いて、上記シートを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。幅方向の寸法安定性を向上させるために延伸工程は、幅方向において２段階以上に分けることが好ましい。すなわち、再横延伸を行う方法が高寸法安定性の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。
【００６５】
延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法が好ましい。
【００６６】
以下、本発明のフィルムの製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はＰＥＴフィルムに限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。
【００６７】
まず、ポリエチレンテレフタレートを準備する。ポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。
【００６８】
フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させるには、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、ＰＥＴに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。
【００６９】
次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０〜３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けることは本発明の特徴面を形成する上で極めて好ましい。フィルムを積層するには、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層するとよい。
【００７０】
次に、このようにして得られた未延伸フィルムを、数本のロールの配置された縦延伸機を用いて、ロールの周速差を利用して縦方向に延伸し（ＭＤ延伸）、続いてステンターにより横延伸を二段階行う（ＴＤ延伸１、ＴＤ延伸２）二軸延伸方法について説明する。
【００７１】
まず、未延伸フィルムをＭＤ延伸する。ＭＤ延伸の延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Ｔｇを目安として決めることができる。Ｔｇ−１０〜Ｔｇ＋１５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ℃〜Ｔｇ＋１０℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下し、本願の特徴であるＭＤ延伸後の二段階ＴＤ延伸で安定して延伸することが困難となることがある。ＭＤ延伸倍率は２．５〜４．０倍が好ましい。より好ましくは２．８〜３．８倍、さらに好ましくは３．０〜４．０倍である。二段階のＴＤ延伸を安定して行うにはＭＤ延伸後のフィルムにおけるポリマー構造が重要である。ＭＤ方向へ配向させすぎるとＴＤ延伸時に分子鎖が絡み合い局所的に応力が発生するためにフィルム破れが発生する。その局所的な応力発生を防ぐためには、応力の伝搬部として作用する微結晶状態を発生させることや、また適度なＭＤ配向を付与することが重要である。微結晶は熱分析（ＤＳＣ）による結晶化度分析で簡易的に判断することができる。結晶化度は２０〜３０％が好ましく、より好ましくは２３〜２８％である。またＭＤ延伸後の配向パラメータとして複屈折Δｎで判断することができ、Δｎが０．０１１〜０．０１５であることが好ましい。また、冷結晶化温度が９０〜１００℃であることが好ましい。
【００７２】
次に、ステンターを用いて、ＴＤ延伸を行う。幅方向の寸法安定性を向上させ、保存安定性、スリット性、巻き姿が良好な二軸配向ポリエステルフィルムを得るには幅方向に、温度の異なるゾーンで二段階に延伸することが重要である。まず、一段目の延伸（ＴＤ延伸１）の延伸倍率は、好ましくは３．０〜５．０倍であり、より好ましくは３．２〜４．５倍であり、さらに好ましくは３．３〜４．０倍である。また、ＴＤ延伸１の延伸温度は好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ−５）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５）℃の範囲であり、さらに好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ−３）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５）℃の範囲で行う。次にそのままステンター内で二段目の延伸（ＴＤ延伸２）を行う。ＴＤ延伸２の延伸倍率は好ましくは１．０５〜２倍であり、より好ましくは１．１〜１．８倍、さらに好ましくは１．２〜１．５倍である。ＴＤ延伸２の延伸温度は好ましくは（ＴＤ延伸１温度＋５０）〜（ＴＤ延伸１温度＋１００）℃の範囲であり、さらに好ましくは（ＴＤ延伸１温度＋６０）〜（ＴＤ延伸１温度＋９０）℃の範囲で行う。前工程の延伸温度よりも高めることにより、分子鎖の運動性が向上し、前工程での延伸による分子鎖の絡み合いを適度にほどきながら延伸することが可能となる。特にＴＤ延伸１とＴＤ延伸２は同方向に延伸するため温度差を高めることが好ましい。さらに、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの結晶配向度や結晶子サイズを高めて熱収縮率と幅方向の寸法安定性の両立を図るために、ＴＤ延伸１の予熱温度をＭＤ延伸後のフィルムの（Ｔｃｃ．ＢＦ−２）℃〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１５）℃、かつ、上記ＴＤ延伸１の延伸温度より３〜８℃高くすることが好ましい。より好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１０）℃以下である。ＴＤ延伸１の予熱によって、ＭＤ延伸後のフィルムの冷結晶化温度以上の熱を与えることで、フィルム中にＭＤ延伸によって生成した微結晶がさらに成長し、その微結晶が延伸の結節点と作用し、より均一に応力が伝搬することから歪みが小さく均一に分子鎖を配向できる。（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１５）℃より高温であると、生成した微結晶が成長し、延伸性が悪化する傾向にある。さらに、本発明の延伸プロセスを経て熱固定処理を行うと結晶配向が高く、結晶子サイズが幅方向に成長するため、結晶子間の距離が短くなると考えられる。結晶配向度は寸法安定性に大きく寄与し、結晶配向度が高いほど寸法安定性が良好となる。ただし、単純に延伸倍率などを高める方法で結晶配向度を高めようとすると分子鎖に歪みが大きくなり、熱による収縮などが起こりやすい。そのため、磁気テープとする際の工程で幅縮みやシワなどの問題が起こりやすくなる。
【００７３】
続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱固定処理する。熱固定処理条件は、熱固定温度は、１６０〜２００℃が好ましい。熱固定温度の上限は、より好ましくは１９０℃、さらに好ましくは１８５℃である。熱固定温度の下限は、より好ましくは１７０℃、さらに好ましくは１７５℃である。より好ましい範囲は１７０〜１９０℃、さらに好ましくは１７５〜１８５℃である。熱固定処理時間は０．５〜１０秒の範囲、弛緩率は０〜２％で行うのが好ましい。熱固定処理後は把持しているクリップを開放することでフィルムにかかる張力を低減させながら室温へ急冷する。その後、フィルムエッジを除去しロールに巻き取り、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
【００７４】
本願の電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、スリット性、巻き姿を達成するためにはトータルのＴＤ延伸倍率とＭＤ延伸倍率の比が重要である。トータルＴＤ延伸倍率／ＭＤ延伸倍率の値は１．２〜２．０であることが好ましい。より好ましくは１．３〜１．８、さらに好ましくは１．４〜１．６である。トータルＴＤ延伸倍率／ＭＤ延伸倍率の値は分子鎖の配向のバランスを制御する指標となり、特に寸法安定性を高めるにはＴＤ配向を高める必要がある。しかしながら、単純にＴＤ延伸倍率だけを高めてもその効果には限界があり、ＭＤ延伸を適度に制御することによってその後のＴＤ延伸による効果を最大とすることが可能となる。これは、延伸による配向度向上の効果はある程度の分子鎖の絡まりが必要であり、ＴＤ延伸によるＴＤ配向の効果を最大限高めるために必要となる分子鎖の絡まりの程度を、前段のＭＤ延伸により制御することを意味する。このＭＤ延伸倍率の最適値は後段のトータルＴＤ延伸倍率と関係するため、結局、前述のような延伸倍率の比をもって好ましい状態に制御することが可能となる。
【００７５】
また、安定した製膜を行うためにＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の延伸倍率比が重要である。ＴＤ延伸１倍率／ＴＤ延伸２倍率の値は１．８〜４．１が好ましい。より好ましくは２．２〜３．５、さらに好ましくは２．５〜３．０である。ＴＤ延伸は２段階で行うが、ＴＤ延伸１で比較的延伸倍率を高くすることが好ましい。これは、通常ＴＤ配向を高めるには最終延伸での倍率が大きいほど配向を高められるが、ＴＤ延伸２はＴＤ延伸１より高温で延伸することが好ましく、その高温のため結晶を作りやすくなる。本願の寸法安定性は一般的に言われる結晶も含めた配向ではなく、非晶部分の配向が高いことが重要であり、ＴＤ延伸２で高倍率延伸した場合は非晶部の配向が緩和しやすくなる。つまり、ＴＤ延伸１で、ある程度高倍率で延伸し高配向化させ、ＴＤ延伸２ではその高配向化が緩和しない程度に延伸することが好ましい。
【００７６】
ＴＤ延伸後、熱固定処理を行うが、フィルムの配向緩和を抑制するためにＴＤ延伸２とほぼ同等の温度で熱処理を行うことが好ましい。熱固定処理はフィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら、好ましくはＴＤ延伸２延伸温度−５〜ＴＤ延伸２延伸温度＋５℃、より好ましくはＴＤ延伸２延伸温度−３〜ＴＤ延伸２延伸温度＋３℃、さらに好ましくはＴＤ延伸２と同温度で熱固定処理を行う。ＴＤ延伸２の延伸温度と熱固定温度を近づけることで、延伸された状態で分子構造固定が可能で、高配向化を維持したまま、分子鎖の歪みをとり、保存安定性やスリット性の悪化を抑えることが可能となる。また、ＴＤ延伸２の延伸温度と熱固定温度に差があり、熱固定温度が高すぎると緩和しやすく寸法安定性が低下する傾向にあり、熱固定温度が低すぎると結晶性が低くなりやすくスリット性が低下しやすい。
【００７７】
本願はＭＤ−ＴＤ１−ＴＤ２の延伸プロセスを行うことで、電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、スリット性、巻き姿が良好な二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができ、ＭＤ−ＴＤやＭＤ１−ＴＤ１−ＭＤ２−ＴＤ２などの延伸プロセスではすべての物性が良好な二軸配向ポリエステルフィルムは得られにくい。
【００７８】
本発明においてＣ層を塗設する方法としては、上記フィルム製造過程の逐次二軸延伸方法を採用する場合は、最初に縦方向の延伸が完了した後、幅方向に延伸開始する前にＣ層を塗設することが好ましい。また、同時二軸延伸方法を用いる場合は、同時二軸延伸前に塗設することが好ましい。いずれの延伸方法を用いても問題ないが、コロナ放電処理を施しコーティングすることが好ましい。上述の連続製造工程中でＣ層をコーティングすることはコスト的に有利となる。
【００７９】
次に、磁気記録媒体を製造する方法を説明する。
【００８０】
上記のようにして得られた磁気記録媒体用支持体（二軸配向ポリエステルフィルム）を、たとえば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（Ｃ層表面）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより逐次または同時に重層塗布する。なお、上層に磁性塗料を厚み０．１〜０．３μｍで塗布し、下層に非磁性塗料を厚み０．５〜１．５μmで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（Ａ層表面）にバックコートを厚み０．３〜０．８μmで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
【００８１】
ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。
【００８２】
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
・変成ポリウレタン ： １０質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
・２−エチルヘキシルオレート ： １．５質量部
・パルミチン酸 ： １質量部
・カーボンブラック ： １質量部
・アルミナ ： １０質量部
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： １０質量部
・アルミナ ： ０．１質量部
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（例えばリニアテープ式の記録媒体（ＬＴＯ４やＬＴＯ５など））や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。
【００８３】
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
【００８４】
（１）ろ波中心線うねり Ｗｃ
ＩＳＯ４２８７−１９９７に従って、小坂研究所製のｓｕｒｆ−ｃｏｒｄｅｒ ＥＴ−４０００Ａを用いて、ろ波中心線うねりＷｃを測定した。条件は下記のとおりであり、１０回の測定の平均値をもって値とした。
【００８５】
・装置：小坂研究所製“ｓｕｒｆ−ｃｏｒｄｅｒ ＥＴ−４０００Ａ”
・解析ソフト：ｉ−ｓｔａｒ
・ 触針先端半径：０．５μｍ
・ 測定長 ：０．５ｍｍ
・ 針圧 ：５０μＮ
・ カットオフ値：高域−０．０８ｍｍ、低域−０．８ｍｍ
・レベリング：直線（全域）
・フィルター：ガウス
・倍率 縦×２０万倍 横×５００倍
（２）空気漏れ指数
（株）東洋精機製、デジベック平滑度試験機を用いて、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。まず、フィルムを上面がＣ層側になるように２枚を重ね合わせ、そのうち下側の１枚に直径１０ｍｍφの孔をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が試料台の中心にくるようにする。この状態で１ｋｇ／ｃｍ２の荷重を加えて、真空到達度を３８３ｍｍＨｇに設定する。３８３ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろうとするため、フィルムと試料台間を空気が流れ込んでいく。この時、真空度が３８１ｍｍＨｇから３７９ｍｍＨｇになる時間を測定し、空気洩れ指数とした。
【００８６】
（３）幅方向の湿度膨張係数
フィルムの幅方向に対して、下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
【００８７】
・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：フィルム長手方向１０ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
【００８８】
・湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（４）屈折率
ＪＩＳ−Ｋ７１４２（２００８年）に従って、下記測定器を用いて測定した。
【００８９】
・装置：アッベ屈折計 ４Ｔ（株式会社アタゴ社製）
・光源：ナトリウムＤ線
・測定温度：２５℃
・測定湿度：６５％ＲＨ
・マウント液：ヨウ化メチレン、屈折率１．７４以上の場合は硫黄ヨウ化メチレンを用いる。
【００９０】
平均屈折率ｎ＿ｂａｒ＝（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）
複屈折Δｎ＝（ｎＭＤ−ｎＴＤ）
ｎＭＤ；フィルム長手方向の屈折率
ｎＴＤ；フィルム幅方向の屈折率
ｎＺＤ；フィルム厚み方向の屈折率
（５）融点（Ｔｍ）、微小融解ピーク温度（Ｔ−ｍｅｔａ）、融解熱量（ΔＨｍ）
ＪＩＳ−Ｋ７１２１（１９８７年）に従って、示差走査熱量計として、セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ（ＲＤＣ２２０）、データ解析装置として同社製ディスクステーション（ＳＳＣ／５２００）を用いて、試料５ｍｇをアルミニウム製受皿上、２５℃から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融点（Ｔｍ）、Ｔｍの少し低温側に現れる微小吸熱ピーク温度をＴ−ｍｅｔａとした。Ｔｍのピーク面積から算出される熱量を融解熱量ΔＨｍとする。
【００９１】
（６）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記装置および条件で比熱測定を行い、ＪＩＳ−Ｋ７１２１（１９８７年）に従って決定する。
【００９２】
・装置 ：ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製温度変調ＤＳＣ
・測定条件
・加熱温度 ：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
・温度校正 ：高純度インジウムおよびスズの融点
・温度変調振幅：±１Ｋ
・温度変調周期：６０秒
・昇温ステップ：５Ｋ
・試料質量 ：５ｍｇ
・試料容器 ：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
・参照容器 ：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。
【００９３】
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
（７）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９７年）に準拠してフィルムのヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。
【００９４】
・測定装置：インストロン社製超精密材料試験機ＭＯＤＥＬ５８４８
・試料サイズ：
フィルム幅方向のヤング率測定の場合
フィルム長手方向２ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム幅方向に８ｍｍ）
フィルム長手方向のヤング率測定の場合
フィルム幅方向２ｍｍ×フィルム長手方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム長手方向に８ｍｍ）
・引張り速度：１ｍｍ／分
・測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回。
【００９５】
（８）Ｃ層表面の表面粗さＳＲａ、１０点平均粗さＳＲｚ
原子間力顕微鏡を用いて、場所を変えて１０視野測定を行った。サンプルセットは、カンチレバーの走査方向に対して垂直方向（Ｙ軸方向）がサンプルフィルムの長手方向（長手方向とは、フィルムの製造工程においてフィルムが走行する方向）となるようにサンプルをピエゾにセットして測定する。得られた画像について、三次元面粗さをＯｆｆ−Ｌｉｎｅ機能Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａｎａｌｙｓｉｓにて算出し、ＳＲａ、ＳＲｚを測定した。条件は下記のとおりである。
【００９６】
なお、下記の測定装置では、得られた画像のＸ軸方向がカンチレバー走査方向となり、フィルムの幅方向に相当しＹ軸方向がフィルムの長手方向に相当する。
【００９７】
測定装置 ：ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩ ＡＦＭ
（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）
カンチレバー：シリコン単結晶
走査モード ：タッピングモード
走査範囲 ：５μｍ□
走査速度 ：０．５Ｈｚ
Flatten Auto ：オーダー３
（９）Ａ層表面の表面粗さＳＲａ、１０点平均粗さＳＲｚ、突起個数
上記（８）に記載の装置を用いて、走査範囲を１２５μｍ□に変更して測定を行った。場所を変えて得られた画像について、上記（８）と同様の方法で表面粗さＳＲａ、ＳＲｚを測定した。突起個数については、Ｏｆｆ−Ｌｉｎｅ機能のＧｒａｉｎ ＳｉｚｅにてＧｒａｉｎ Ｈｅｉｇｈｔを３００ｎｍに設定して３００ｎｍ以上の突起個数を求めた。
【００９８】
（１０）熱収縮率
フィルムをＭＤ方向あるいはＴＤ方向に幅１０ｍｍ長さ３００ｍｍに切り、１５０ｍｍ間隔にマーキングし支持板に一定張力（５ｇ）下で固定した後、マーキング間隔の原長ａ（ｍｍ）を測定する。次に、無荷重下で１００℃の熱風オーブン中で３０分間静置処理し、原長測定と同様にしてマーキング間隔ｂ（ｍｍ）を測定する。下記の式により熱収縮率を求め、５本の平均値を用いる。
【００９９】
熱収縮率（％）＝（ａ−ｂ）／ａ×１００
（１１）不活性粒子の平均粒径
フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１万倍で観察する。この時、写真上で１ｃｍ以下の粒子が確認できた場合はＴＥＭ観察倍率を５万倍に変えて観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、場所を変えて１００視野測定し、写真に撮影された単分散した粒子全てについて等価円相当径をもとめ、その平均を不活性粒子の平均粒径とした。ここで、１万倍で観察した写真上に不定形の凝集粒子が確認できた場合、これは粒子の平均粒径には含めないこととする。
【０１００】
フィルム中に粒径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合、上記の等価円相当径の個数分布が２個以上のピークを有する分布となる。この場合は、それぞれのピーク値をそれぞれの粒子の平均粒径とする。
【０１０１】
（１２）不活性粒子の含有量
ポリマー１ｇを１Ｎ−ＫＯＨメタノール溶液２００ｍｌに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に２００ｍｌの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を２回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで粒子の含有量を算出した。
【０１０２】
（１３）巻姿
速度２００ｍ／分でフィルムを巻き、巻上がったフィルムロ−ルを見て、しわ等が全然ないものを、巻姿、優、しわ等がある程度見られるが、実用的には問題のないレベルにあるものを巻姿、良、しわ等が多数発生したものを巻姿、不良とした。
【０１０３】
（１４）幅寸法安定性
１ｍ幅にスリットしたフィルムを、張力２００Ｎで搬送させ、支持体の一方の表面（Ｃ層表面）に下記に従って磁性塗料および非磁性塗料を重層塗布し１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、磁気テープとする。
【０１０４】
（以下、「部」とあるのは「質量部」を意味する。）
磁性層形成用塗布液
バリウムフェライト磁性粉末 １００部
〔板径：２０．５ｎｍ、板厚：７．６ｎｍ、板状比：２．７、Ｈｃ：１９１ｋＡ／ｍ（≒２４００Ｏｅ）飽和磁化：４４Ａｍ２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：６０ｍ２／ｇ〕
ポリウレタン樹脂 １２部
質量平均分子量 １０，０００
スルホン酸官能基 ０．５ｍｅｑ／ｇ
α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ８部
カーボンブラック ＃５５（旭カーボン社製）粒子サイズ０．０１５μｍ ０．５部
ステアリン酸 ０．５部
ブチルステアレート ２部
メチルエチルケトン １８０部
シクロヘキサノン １００部
非磁性層形成用塗布液
非磁性粉体 α酸化鉄 １００部
平均長軸長０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ２／ｇ
ｐＨ ７
ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面処理層Ａｌ２Ｏ３ ８質量％
カーボンブラック ２５部
コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １３部
ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部
フェニルホスホン酸 ３．５部
ブチルステアレート １部
ステアリン酸 ２部
メチルエチルケトン ２０５部
シクロヘキサノン １３５部
上記の塗布液のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練した。１．０ｍｍφのジルコニアビーズを分散部の容積に対し６５％充填する量を入れた横型サンドミルに、塗布液をポンプで通液し、２，０００ｒｐｍで１２０分間（実質的に分散部に滞留した時間）、分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗料には５．０部、磁性層の塗料には２．５部を加え、さらにメチルエチルケトン３部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。
【０１０５】
得られた非磁性層形成用塗布液を、ポリエチレンテレフタレートベース上に乾燥後の厚さが１．０μｍになるように塗布乾燥させた後、磁性層形成用塗布液を乾燥後の磁性層の厚さが０．１０μｍになるように逐次重層塗布を行い、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つコバルト磁石と６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥させた。次いで７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行った。その後、厚み０．４μｍのバック層（カーボンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １００部、炭酸カルシウム平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８０部、αアルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部をニトロセルロース樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープを得た。
【０１０６】
磁気テープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
【０１０７】
・測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回測定。
【０１０８】
（幅寸法変化率：寸法安定性）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。具体的には、次の基準で寸法安定性を評価する。
【０１０９】
Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。テープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定した。×を不合格とする。
【０１１０】
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ 張力０．８Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．５Ｎ
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
◎◎：幅寸法変化率の最大値が４５０（ｐｐｍ）未満
◎：幅寸法変化率の最大値が４５０（ｐｐｍ）以上５００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）以上６００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が７００（ｐｐｍ）以上
（１５）電磁変換特性
上記（１４）と同様に、作製したカセットテープを用いて、記録ヘッド（Ｇａｐ＝０．１５μｍ、１．８Ｔ）をドラムテスターに取り付けて、ヘッド−媒体相対速度を１０ｍ／ｓｅｃとしてノイズを測定した。ＳＮは、実施例３を０ｄＢとして表し、１．５ｄＢ以上は○、１．５未満〜０ｄＢは△、０ｄＢ未満は×と判定した。○が望ましいが、△でも実用的には使用可能である。
【０１１１】
（１６）保存安定性
上記（１４）と同様に、作製したカセットテープのカートリッジからテープを取り出し、次の２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＣ、ｌＤ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。
【０１１２】
具体的には、次の基準で寸法安定性を評価する。
【０１１３】
２３℃６５％ＲＨで２４時間経過後ｌＣを測定して、４０℃２０％ＲＨの環境下で１０日間カートリッジを保管後、２３℃６５％ＲＨで２４時間経過後にｌＤを測定する。テープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定した。×を不合格とする。
【０１１４】
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（｜ｌＣ−ｌＤ｜／ｌＣ）
◎：幅寸法変化率の最大値が５０（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５０（ｐｐｍ）以上１００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が１００（ｐｐｍ）以上１５０（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が１５０（ｐｐｍ）以上
（１７）スリット性
上記（１４）と同様に、作製した磁気テープのカートリッジからテープを取り出し、その端部を観察し、スリット時に発生したヒゲを以下に示す方法により評価した。スリッターのスピードは８０ｍ／分とした。ヒゲの評価は、フィルムの端面を走査型電子顕微鏡にて観察し、ヒゲの発生状況を以下の基準にて評価した。なお、ここでいうヒゲとは、繊維状に剥離したフィルム片を意味する。
【０１１５】
◎：ヒゲの発生がほとんどない。
【０１１６】
○：ヒゲの発生が少ない。
【０１１７】
△：ヒゲの発生が多いがスリット可能。
【０１１８】
×：ひげの発生が激しく、スリット中破れが多発でスリット困難。
【実施例】
【０１１９】
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリエチレンナフタレートをＰＥＮ、ポリエーテルイミドをＰＥＩと表記する。
【０１２０】
（１）ＰＥＴペレットの作製：テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を１質量部（リン酸トリメチルとして０．０５質量部）添加した。
【０１２１】
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。
【０１２２】
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットを得た（原料−１）。
【０１２３】
（２−ａ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ａ）を得た。
【０１２４】
（２−ｂ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を得た。
【０１２５】
（２−ｃ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．８μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を得た。
【０１２６】
（２−ｄ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９５質量部と平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を得た。
【０１２７】
（２−ｅ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９０質量部と平均粒径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを１０質量部（コロイダルシリカ粒子として１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を得た。
【０１２８】
（３）２成分組成物（ＰＥＴ／ＰＥＩ）ペレットの作製：温度２８０℃に加熱されたニーデ
ィングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、上記方法で得られたＰＥＴペレット（原料−１）とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のポリエーテルイミド（ＰＥＩ）“Ｕｌｔｅｍ１０１０”のペレットを供給して、剪断速度１００ｓｅｃ−１、滞留時間１分にて溶融押出し、ポリエーテルイミドを５０質量％含有した２成分組成物ペレットを得た。なお、作製した２成分組成物ペレットのガラス転移温度は１５０℃であった（原料−３）。
【０１２９】
（４）ＰＥＮペレットの作成：２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１２８質量部とエチレングリコール６０質量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０２５質量部と酢酸ナトリウム・３水塩０．００５質量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４質量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２質量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３質量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６のＰＥＮペレット（原料−４）を得た。
【０１３０】
（５−ａ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料４）を９５質量部と平均径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量部水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子を０．５質量部含有する固有粘度０．６の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ａ）を得た。
【０１３１】
（５−ｂ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料４）を９０質量部と平均径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量部水スラリーを１０質量部（コロイダルシリカ粒子として１質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子を１質量部含有する固有粘度０．６の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ｂ）を得た。
【０１３２】
（５−ｃ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料−４）を８０質量部と平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量部水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量部含有する固有粘度０．６５の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ｃ）を得た。
【０１３３】
（実施例１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９０質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１３４】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて８７℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムのＢ層上にコロナ放電処理を施した後、次の水溶液を塗布した。
【０１３５】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．１５質量部
シランカップリング剤 ０．０４５質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
固形分塗布濃度 １２ｍｇ／ｍ２
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９０℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．５倍延伸し（ＴＤ延伸１）、さらに続いて１７０℃の温度の加熱ゾーンでに幅方向に１．３倍延伸した（ＴＤ延伸２）。引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで１８０℃の温度で５秒間の熱処理を施し、さらに１８０℃の温度で１％幅方向に弛緩処理を行った。次いで、２５℃に均一に冷却後、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように、磁気テープとして使用した際に電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、巻き姿、スリット性に優れた特性を有していた。
【０１３６】
（実施例２、実施例３）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の倍率を変更した以外は全て実施例１と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１３７】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．０９３質量部
水溶性ポリエステル ０．２８質量部
シランカップリング剤 ０．０１３質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
固形分塗布濃度 １９ｍｇ／ｍ２
（実施例４）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を９７．５質量部、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を２．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。延伸条件は表１に示すとおりであり、Ｃ層の塗液は実施例１で用いた水溶液をＢ層上に塗布した。
【０１３８】
（実施例５）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の倍率を変更した以外は全て実施例４と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１３９】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル ０．３９質量部
シランカップリング剤 ０．０１２質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
メラミン樹脂架橋剤 ０．１２質量部
固形分塗布濃度 １２ｍｇ／ｍ２
（実施例６）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の温度および倍率を変更した以外は全て実施例４と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１４０】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル ０．３９質量部
シランカップリング剤 ０．０１２質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
メラミン樹脂架橋剤 ０．１５質量部
架橋スチレン・アクリル共重合体粒子（平均粒径φ２０ｎｍ） ０．０９質量部
ＰＨ調節剤 ０．０１質量部
（プラスコートＲＹ−２ 互応化学工業（株）製）
固形分塗布濃度 １５ｍｇ／ｍ２
（実施例７）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９４．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）５質量部、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を０．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４１】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて８７℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムのＢ層上にコロナ放電処理を施した後、次の水溶液を塗布し、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施した。
【０１４２】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．０９３質量部
水溶性ポリエステル ０．２８質量部
シランカップリング剤 ０．０１３質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
平均粒径１８ｎｍのコロイダルシリカ ０．１質量部
固形分塗布濃度 １９ｍｇ／ｍ２
（実施例８）
Ａ層積層厚み、熱固定温度を表１の通りに変更した以外は実施例７と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【０１４３】
（実施例９）
Ａ層積層厚み、ＭＤ延伸倍率、ＴＤ２延伸倍率、熱固定温度を表１の通りに変更した以外は実施例７と同様にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。なお、Ｃ層の塗液は実施例５と同様の水溶液を塗布した。
【０１４４】
（実施例１０）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、原料−１を７６．５質量部、２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を１０質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を７．５質量部を配合し１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９４質量部、２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を配合し１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４５】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて９０℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に実施例２で作成した水溶液を塗布後、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施して二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【０１４６】
（実施例１１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）７５質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ｂ）を１０質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−５ｃ）を１５質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、原料−４を８０質量部、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ａ）を２０質量部を配合して１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４７】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１５℃で長手方向に４倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に実施例２で作成した水溶液を塗布し、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施した。
【０１４８】
（比較例１）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を８６．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を１３質量部、平均粒径０．８μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を０．５質量部を１６０℃で８時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を６０質量部を配合し、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を４０質量部１６０℃で８時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１４とし、Ａ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１０℃で長手方向に３．５倍延伸（ＭＤ延伸１）し、この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
【０１４９】
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９５℃で長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．２倍延伸した（ＴＤ延伸１）。引き続いて、続いて１４０℃で長手方向に１．７倍再延伸（ＭＤ延伸２）した。定長下で２１０℃の温度で３秒間の熱処理を施し、幅方向に弛緩処理を行った。厚さ６μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５０】
（比較例２）
Ａ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）７９．５質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ｂ）を１３質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−５ｃ）を７．５質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。Ｂ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）を１００質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝２｜８とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１３５℃で長手方向に５．４倍延伸（ＭＤ延伸１）し急冷した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に下記水溶液を塗布した。
【０１５１】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル １．２質量部
平均粒径３０ｎｍポリメタクリル酸メチル粒子 ０．０６質量部
（日本触媒化学工業（株）製 エポスターＭＡ）
ポリオキシエチレンラウリルエーテル（ｎ＝７） ０．２２５質量部
（三洋化成社製 ナロアクティーＮ７０）
固形分塗布濃度 ３０ｍｇ／ｍ２
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、１５５℃の温度にて長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に４．２倍延伸した（ＴＤ延伸１）。引き続いて、定長下で２０５℃の温度で４秒間の熱処理を施しながら、１．０８倍幅方向に延伸を行い厚さ８．３μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５２】
（比較例３）
Ａ層およびＢ層に用いる原料を比較例１と同様にした。また、Ｃ層の塗液を実施例７で用いた水溶液を塗布し、表１に示す製膜条件に変更して二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５３】
（比較例４）
ＴＤ延伸１の予熱温度条件を表１の通り変更する以外は、全て実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５４】
（比較例５）
Ａ層Ｂ層原料を実施例１で用いた原料と同様にして、Ｂ層表面にコーティングを施さない以外は実施例１と同一の条件にて二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５５】
（比較例６）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を７８．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を２２．５質量部を配合し、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部を配合し、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を２０質量部を配合し、表１に示すＡ層およびＢ層の粒子処方に変更し、Ｂ層表面にコーティングを施さない以外は実施例６と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５６】
（比較例７）
ＴＤ延伸２は実施せずに、ＴＤ延伸１の倍率、熱固定温度を表１の通り変更した以外は全て実施例１０と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５７】
【表１】
【０１５８】
【表２】
【０１５９】
【表３】
【符号の説明】
【０１６０】
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性や寸法安定性および表面特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムに関するものであり、磁気記録媒体用、電気絶縁用、コンデンサー用、回路材料、太陽電池用材料などに好適に用いることができる二軸配向ポリエステルフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られており、磁気記録媒体には常に高密度記録化が要求されている。更なる高密度記録を達成するためには、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用するとともに、微粒子磁性体を高度に分散させて、磁性層表面の平滑性を高めることや記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有効である。
【０００３】
しかしながら、磁性層表面の平滑性を高めるために基材フィルムを超高精細な表面として平滑性を向上させると、走行性や巻き取り、さらには表面の耐久性が不十分となる。また、記録トラックを小さくすると、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。
【０００４】
したがって、巻き取り性や表面平滑性の両立とテープの使用環境および保管環境における寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。
【０００５】
この観点から、支持体には、強度、寸法安定性の点で二軸配向ポリエステルフィルムよりも優れた剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられることがある。しかしながら芳香族ポリアミドは高価格でコストがかかり、汎用記録媒体の支持体としては現実的ではない。ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、走行性と平滑性を両立したり、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されているが、近年の強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体用支持体に用いる場合には未だ不十分であり、温度や湿度に対する寸法安定性などの厳しい要求を満足することもいまだ困難である。
【０００６】
ポリエステルフィルムの走行性と平滑性を両立させるために、ポリエステルフィルムの両面もしくは片面に磁性層用プライマーを塗設するなどの方法が検討されている（例えば特許文献１）。しかし、磁性層自体の寸法安定性が極めて高い強磁性金属薄膜型磁気記録媒体用支持体を意図しているため、温度や湿度に対する支持体の寸法安定性への要求は大きくなく支持体の幅方向の湿度膨張係数が不十分である。
【０００７】
フィルム表面のうねりを特定の範囲内に制御することで優れた巻き取り性と電磁変換特性を両立したポリエステルフィルムも知られている（例えば特許文献２）。しかし、高精細な表面が要求される強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体用支持体に用いる場合には、ポリエステルフィルム中の粒子による突き上げにより、表面に発生するうねりが大きく未だ不十分であるのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−１５３３２２号公報
【特許文献２】特開２００４−２９９０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、上記の問題を解決し、走行性や巻き取り性、寸法安定性さらに電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることにあり、磁気記録媒体とした際に平滑な磁性層を有すると共に温度や湿度の環境変化や保存による寸法変化を小さくすることができ、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体とすることができる二軸配向ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明は、次の各構成を特徴とするものである。
【００１１】
（１）一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１２】
（２）微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａが１６０〜１９０℃である、上記（１）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１３】
（３）長手方向のヤング率が３．０〜５．０ＧＰａである、上記（１）または（２）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１４】
（４）Ｃ層がコーティングにより設けられた層であり、Ｃ層側表面の中心線表面粗さＲａが０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１５】
（５）Ｃ層側表面とは反対側の表面の中心線表面粗さＲａが３〜１５ｎｍであり、当該表面において、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／mm２未満である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１６】
（６）１００℃で３０分間熱処理を行った後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％である、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１７】
（７）Ｃ層側に磁性層を設けて、磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１８】
（８）塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【００１９】
（９）上記（７）または（８）に記載の二軸配向ポリエステルフィルムをベースフィルムとして用いた磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、走行性や巻き取り性、寸法安定性さらに電磁変換特性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを得ることにあり、磁気記録媒体とした際に平滑な磁性層を有すると共に温度や湿度の環境変化や保存による寸法変化を小さくすることができ、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体とすることができる二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】幅寸法を測定する際に用いるシート幅測定装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明において用いるポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものを用いることができる。
【００２３】
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００２４】
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００２５】
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
【００２６】
ポリマの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
【００２７】
ポリエステルは、二軸延伸を施せること、および、寸法安定性などの本発明の効果を発現するために、ガラス転移温度が１５０℃未満のものを好適に使用できる。本発明において用いるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）が好ましい。特に、結晶子サイズや結晶配向度を高めるプロセスが適用しやすいことから主成分はポリエチレンテレフタレートが好ましい。ここで、主成分とはフィルム組成中８０質量％以上であることをいう。また、これらの共重合体や変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。特にポリエステルと相溶するポリマーが好ましく、ポリエーテルイミド樹脂などが好ましい。ポリエーテルイミド樹脂としては、例えば以下で示すものを用いることができる。
【００２８】
【化１】
【００２９】
（ただし、上記式中Ｒ１は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ２は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ１、Ｒ２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
【００３０】
【化２】
【００３１】
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
【００３２】
【化３】
【００３３】
または
【００３４】
【化４】
【００３５】
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ１０００」、「Ｕｌｔｅｍ１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ５０００」、「Ｕｌｔｅｍ６０００」および「ＵｌｔｅｍＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。
【００３６】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、一方の表面がＣ層により構成され、このＣ層表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満である。Ｃ層表面のろ波中心線うねりが１０ｎｍ以上であると強磁性六方晶フェライト粉末を含む磁気記録媒体として高感度ＭＲヘッドで信号を再生する磁気記録再生システムでは、記録の再生時にエラーが多発し高出力が得られない。強磁性六方晶フェライト粉末を含む磁気記録媒体は、高密度記録を達成するために非磁性層および磁性層が極めて薄いため、支持体となるフィルムは高精細な表面を要求される。ろ波中心線うねりは、小さければ小さいほど好ましいが、走行性との両立の観点から好ましくは０．８〜６ｎｍ、さらに好ましくは１〜４ｎｍである。
【００３７】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、上記Ｃ層を有し、少なくとも２層以上の積層構成を有するフィルムである。層構成としては、Ｃ層｜Ａ層の２層構成や、Ａ層｜Ｂ層｜Ｃ層の３層構成等を例示することができる。単層フィルムでは本発明の走行性、巻き取り性、電磁変換特性を満足することが困難である。
【００３８】
特に、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内とするには、Ｃ層に隣接する層は、不活性粒子を含有しないポリエステル層からなると効率的に本発明のろ波中心線うねりを得られやすいので好ましいが、平均粒径が０．１μｍ以下の粒子を０．２質量％以下、好ましくは０．１質量％以下の割合で有れば含有していても構わない。隣接する層の粒子の粒径が大きいと、粒子の突き上げによってＣ層表面にうねりが発生するため、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内に制御できない場合がある。
【００３９】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＣ層表面と反対側の表面（上記した層構成の例示ではＡ層）とを重ね合わせたときの空気漏れ指数は３，０００〜６，０００秒であり、好ましくは４，０００〜５，０００秒である。フィルムの空気漏れ指数が３，０００秒より小さいと、ロールとして巻き上げた際にフィルム／フィルム間にかみ込んだ空気の層が少なくなり、フィルム中の粒子による突き上げや転写によって磁性層を設ける側の表面性が低下し、ろ波中心線うねりを本発明の範囲内とすることができない。また、空気漏れ指数が６，０００秒より大きいと、フィルム／フィルム間にかみ込んだ空気を排出することができず、縦じわやロ−ル端面の不揃い等が発生し巻き特性が不良となる。空気漏れ指数は、フィルム表面の表面粗さが大きくなる程指数は小さくなるため、フィルムの表裏の表面粗さを後述する範囲に設定することで制御が容易となる。特に、空気漏れ指数を３，０００秒以上にするには、Ｃ層表面とは反対側の表面の高さ３００ｎｍ以上の突起個数を後述の範囲以内に設定することは有効であり、空気漏れ指数を６０００秒以下にするには、Ｃ層の塗設により高密度に形成された微細突起とＡ層の表面突起で制御が出来る。
【００４０】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が６ｐｐｍ／％ＲＨより大きいと磁気記録媒体用に用いた場合、湿度変化による変形が大きくなり、寸法安定性が悪化する。より好ましい上限は５．５ｐｐｍ／％ＲＨであり、さらに好ましくは５ｐｐｍ／％ＲＨである。より好ましい範囲は０〜５．５ｐｐｍ／％ＲＨであり、さらに好ましくは０〜５ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数は分子鎖の緊張度合いが影響する物性であり、後述するようにＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比によって制御することができ、また、ＴＤ延伸トータルの倍率やＭＤ延伸倍率との比によっても制御が可能である。ＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比が（ＴＤ１／ＴＤ２）が大きいほど湿度膨張係数は小さくなる。また、ＴＤ延伸トータルの倍率が高いほど湿度膨張係数は小さくなる。
【００４１】
なお、本発明において、ＭＤとはフィルムの長手方向を示し、ＴＤとはフィルムの幅方向または横方向を示す。
【００４２】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、平均屈折率ｎ＿ｂａｒが１．５９０〜１．６８０である。好ましくは平均屈折率ｎ＿ｂａｒが１．５９０〜１．６１５である。ｎ＿ｂａｒが１．５９０よりも小さいと結晶性や配向が不十分であり、保存安定性やスリット性が悪化する。ｎ＿ｂａｒが１．６８０より大きいと配向緩和により結晶性が進みすぎており、寸法安定性が悪化する。ｎ＿ｂａｒは熱固定温度で制御することができ、また、後述するＴＤ延伸１、２の条件によっても制御することができる。なお、ｎ＿ｂａｒは、長手方向の屈折率をｎＭＤとし、幅方向の屈折率をｎＴＤとし、厚み方向の屈折率をｎＺＤとしたとき、（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）にて算出される値をいう。熱固定温度が低いほどｎ＿ｂａｒは低くなる。また、ＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の倍率比が（ＴＤ１／ＴＤ２）が大きいほどｎ＿ｂａｒは小さくなる。
【００４３】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａは１６０〜１９０℃であることが好ましい。１６０℃より小さい場合、熱量不足による構造固定が不十分であり、寸法安定性や熱収縮率が悪化する。１９０℃より大きい場合は、過度の熱量により配向緩和が起こり寸法安定性が悪化する。より好ましい上限は１８８℃であり、さらに好ましくは１８５℃である。より好ましい下限は１７０℃であり、さらに好ましくは１７５℃である。より好ましい範囲は１７０〜１８８℃であり、さらに好ましくは１７５〜１８５℃である。Ｔ−ｍｅｔａは熱固定温度で制御することができる。熱固定温度が高いとＴ−ｍｅｔａが高くなる。
【００４４】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率が３〜５ＧＰａが好ましい。長手方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の保管時の張力による保存安定性が良好となる。５ＧＰａよりも大きくするにはＭＤ倍率を上げることになり、製膜性が低下しやすい。長手方向のヤング率の好ましい範囲は３．４〜４．５ＧＰａ、さらに好ましい範囲は３．８〜４．４ＧＰａである。長手方向のヤング率はＭＤ延伸の倍率で制御することができる。ＭＤ倍率が高いほどＭＤヤング率が高くなる。
【００４５】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向のヤング率が６〜１２ＧＰａであることが幅方向の湿度膨張係数の制御の観点から好ましい。幅方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の記録再生時の環境変化による寸法安定性が良好となる。幅方向のヤング率の上限は、より好ましくは１０ＧＰａ、さらに好ましくは９ＧＰａである。幅方向のヤング率の下限は、より好ましくは６．２ＧＰａ、さらに好ましくは６．５ＧＰａである。より好ましい範囲は６．２〜１０ＧＰａ、さらに好ましい範囲は６．５〜９ＧＰａである。幅方向のヤング率は後述するＴＤ延伸１、２の温度や倍率によって制御することができる。特にトータルのＴＤ倍率が影響し、トータルのＴＤ倍率が高いほどＴＤヤング率が高くなる。
【００４６】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの片面を構成するＣ層は、コーティングにより塗設された層であることが好ましい。特に、走行性や巻き特性、表面粗さを本発明の範囲内とする目的で水溶性高分子を含むＣ層が塗設されることが好ましい。水溶性高分子としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリオレフィンなどのイオン変性ポリマーまたはその塩、トラガントゴム、ゼラチン、セルロースおよびそれらの変性体を水に溶解したものであり、それらのブレンド体も使用できる。また、必要に応じてシランカップリング剤やメラミン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。
【００４７】
例えば、Ｃ層を構成するポリエステルとしては、全ジカルボン酸成分中の０．５〜４０モル％をスルホン酸金属塩基含有ジカルボン酸としたジカルボン酸と多価アルコールとからなるポリエステル共重合体を挙げることができる。該スルホン酸金属塩基含有ジカボン酸としては、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５［４−スルホフェノキシ］イソフタル酸等の金属塩が挙げられ、特に好ましいのは、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、ナトリウムスルホテレフタル酸である。あるいは、分子内に遊離カルボン酸およびカルボン酸塩基を少なくとも一種有する水性ポリエステル樹脂と２個以上のエポキシ基を有する架橋剤、および、必要に応じて、反応促進化合物を含むものを挙げることができる。この水性ポリエステル樹脂の分子内にカルボン酸基を導入するためには、例えば無水トリメリット酸、トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ピロメリット酸、トリメシン酸、シクロブタンテトラカルボン酸、ジメチロールプロピオン酸等の多価化合物をポリマ製造原料の一つとして用いることが好ましい。また、カルボン酸塩はポリマ中に導入されたカルボン酸基をアミノ化合物、アンモニア、アルカリ金属等で中和することによって導入することができる。
【００４８】
ウレタンとしては、特に限定されないが、カルボン酸塩基、スルホン酸塩基または硫酸半エステル塩基により水への親和性が高められたポリウレタンを挙げることができる。ただし、カルボン酸塩基、スルホン酸塩基または硫酸半エステル塩基等の塩基の量は０．５〜１５質量％が望ましい。あるいは、アニオン性基を有するポリウレタン系樹脂あるいはそれらに準じたポリウレタン系樹脂を用いることができる。ここでポリウレタン形成成分の主要な構成成分は、ポリイソシアネート、ポリオール、鎖長延長剤、架橋剤等である。また、分子量３００〜２０，０００のポリオール、ポリイソシアネート、反応性水素原子を有する鎖長延長剤およびイソシアネート基と反応する基、およびアニオン性基を少なくとも１個有する化合物からなる樹脂が好ましい。ポリウレタン系樹脂中のアニオン性基は、好ましくは−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２Ｈ、−ＣＯＯＨおよびこれらのアンモニウム塩、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩あるいはマグネシウム塩として用いられる。ポリウレタン系樹脂中のアニオン性基の量は０．０５〜８質量％が望ましい。
【００４９】
ポリアクリルとしては、４０モル％のアクリルおよび／またはメタクリルモノマと、その他の官能基含有モノマ０．１〜２０モル％と一種またはそれ以上のハロゲン非含有エチレン性不飽和モノマ約０〜４９．９モル％とコポリマ、あるいは少なくとも２５モル％のアクリル酸、メタクリル酸またはアクリル酸メタクリル酸のアルキルエステルの中から選ばれたコモノマと１〜５０モル％のビニルスルホン酸およびｐ−スチレンスルホン酸ならびにこれらの酸の中から選ばれたコモノマから導かれる共重合体が望ましい。
【００５０】
これら水溶液における固形分濃度は０．１〜２質量％、特に０．３〜１質量％であることが好ましい。固形分濃度が０．１質量％未満では、水溶性高分子樹脂による微細突起が効率的に形成されないため表面が平滑になり、その結果、空気漏れ指数が大きくなったり、巻き特性が低下することがある。逆に固形分濃度が２質量％を超えると水溶性樹脂による微細突起が大きくなり、ろ波中心線うねりや表面粗さを本発明の範囲内に制御できないことがある。また、製造工程中に受ける応力によって、水溶性高分子樹脂による微細突起自体の耐久性が低下する場合がある。
【００５１】
本発明の二軸配向フィルムのＣ層表面の中心線表面粗さＲａは、０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満であり、好ましくは０．５〜４ｎｍである。Ｃ層表面の中心線表面粗さＲａを本発明の範囲内に制御するには、上記の水溶液における固形分濃度を０．１〜２質量％、特に０．３〜１質量％に調節することが好ましく例示できる。
【００５２】
Ｃ層は、不活性粒子を含有する必要はないが、本発明の表面粗さＲａの制御に支障のない範囲内であれば含有していても構わない。不活性粒子としては、平均粒径が１０〜３０ｎｍのコロイダルシリカ粒子やアクリル粒子、ポリスチレン粒子が例示できる。
【００５３】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＣ層とは反対側の表面（以下、Ａ層表面ということがある。また、Ａ層表面を構成する層をＡ層という）の中心線表面粗さＲａは３〜１５ｎｍであり、好ましくは５〜１２ｎｍである。
【００５４】
Ａ層の表面粗さＲａが３〜１５ｎｍの範囲外であると走行性や巻き取り性が不良となりやすい。Ａ層の表面粗さの制御方法としては、Ａ層に含有される粒子の粒径と含有量によって制御することが可能である。また、Ａ層の積層厚み（ｔ）とＡ層に含有される粒子の平均粒径（ｄ）との関係（ｔ／ｄ）を０．１〜１０、好ましくは０．５〜５に設定することでも制御できる。
【００５５】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＡ層表面には、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／ｍｍ２未満の頻度で形成されていることが電磁変換特性の観点から重要である。好ましくは２０個／ｍｍ２以下であり、さらに好ましくは１０個／ｍｍ２以下である。Ａ層表面の高さ３００ｎｍ以上の突起は、Ａ層表面に突起を形成するだけでなく、反対面のＣ層表面にも突起高さは低いが突起径が大きな盛り上がりを形成することによって、Ｃ層表面の平滑性を低下させる。その結果、Ｃ層表面のろ波中心線うねりを本発明の範囲内に制御できない場合がある。また、Ａ層上にバックコート層を塗設した後もバックコート層表面に該突起に起因する突起が形成され、これがロールエージング時に磁性層表面に転写し磁性層の平滑性を低下させ電磁変換特性を悪化させることがある。
【００５６】
Ａ層の高さ３００ｎｍ以上の突起を上記した個数密度の範囲内に制御するには、平均粒径が０．０５〜０．５μｍの不活性粒子を含有させることが有効である。好ましくは０．１〜０．４５μｍである。含有量は好ましくは０．０５〜０．３質量％であり、より好ましくは０．０８〜０．２５質量％である。不活性粒子としては特に限定されないが、無機粒子、有機粒子、いずれも用いることができる。もちろん、１種類の粒子でも、２種類以上の粒子を併用してもかまわない。具体的な種類としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ珪酸塩、カオリン、タルク、モンモリロナイト、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、シリコーン、イミド等を構成成分とする有機粒子などが添加されてもよい。
【００５７】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの１００℃で３０分間熱処理を施した後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％であり、さらには０．８〜１．２％であることが好ましい。幅方向の熱収縮率は小さいことが磁気記録媒体の製造工程において幅縮みやシワなどの問題が起こりにくくなるため望ましい。一般には、熱収縮はフィルム中の歪みが大きい事により引き起こされるため、熱収縮を低くするには、熱処理温度を高温化することや幅方向の延伸倍率の低倍化によって歪みを小さくすることが有効である。しかし、前述の方法では、本発明の幅方向の湿度膨張係数を達成することが困難となるため、トレードオフの関係にある熱収縮率と湿度膨張係数を両立するには、縦延伸の予熱と延伸温度条件を制御することが重要となる。つまり、ＴＤ延伸１の予熱温度を（ＭＤ延伸後のフィルムの冷結晶化温度（以下Ｔｃｃ．ＢＦという）−５℃）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５℃）の間に設定し、ＴＤ１延伸温度を予熱温度以下に設定する。
【００５８】
本発明において、二軸配向ポリエステルフィルムとしての厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、通常リニア磁気記録媒体用途では１〜７μｍが好ましい。この厚みが１μｍより小さい場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、この厚みが７μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。したがって、高密度磁気記録媒体用途の場合、厚みの下限は、好ましくは２μｍ、より好ましくは３μｍであり、上限は、好ましくは６．５μｍ、より好ましくは６μｍである。より好ましい範囲としては２〜６．５μｍ、さらに好ましい範囲としては３〜６μｍである。
【００５９】
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる場合は、Ｃ層側に磁性層を設けることが高密度磁気記録媒体を得る上で重要であり、特に、磁性層に強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体としたときに優れた電磁変換特性を発揮できる。
【００６０】
上記したような本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、たとえば次のように製造される。
【００６１】
まず、二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルフィルムを製造する。ポリエステルフィルムを製造するには、たとえばポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。
【００６２】
また、ポリエステルフィルムの表面性を制御しつつ易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、不活性粒子を添加することが好ましい。不活性粒子は無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などが挙げられる。
【００６３】
さらに、本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
【００６４】
続いて、上記シートを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。幅方向の寸法安定性を向上させるために延伸工程は、幅方向において２段階以上に分けることが好ましい。すなわち、再横延伸を行う方法が高寸法安定性の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。
【００６５】
延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法が好ましい。
【００６６】
以下、本発明のフィルムの製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はＰＥＴフィルムに限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。
【００６７】
まず、ポリエチレンテレフタレートを準備する。ポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。
【００６８】
フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させるには、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、ＰＥＴに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。
【００６９】
次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０〜３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けることは本発明の特徴面を形成する上で極めて好ましい。フィルムを積層するには、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層するとよい。
【００７０】
次に、このようにして得られた未延伸フィルムを、数本のロールの配置された縦延伸機を用いて、ロールの周速差を利用して縦方向に延伸し（ＭＤ延伸）、続いてステンターにより横延伸を二段階行う（ＴＤ延伸１、ＴＤ延伸２）二軸延伸方法について説明する。
【００７１】
まず、未延伸フィルムをＭＤ延伸する。ＭＤ延伸の延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Ｔｇを目安として決めることができる。Ｔｇ−１０〜Ｔｇ＋１５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ℃〜Ｔｇ＋１０℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下し、本願の特徴であるＭＤ延伸後の二段階ＴＤ延伸で安定して延伸することが困難となることがある。ＭＤ延伸倍率は２．５〜４．０倍が好ましい。より好ましくは２．８〜３．８倍、さらに好ましくは３．０〜４．０倍である。二段階のＴＤ延伸を安定して行うにはＭＤ延伸後のフィルムにおけるポリマー構造が重要である。ＭＤ方向へ配向させすぎるとＴＤ延伸時に分子鎖が絡み合い局所的に応力が発生するためにフィルム破れが発生する。その局所的な応力発生を防ぐためには、応力の伝搬部として作用する微結晶状態を発生させることや、また適度なＭＤ配向を付与することが重要である。微結晶は熱分析（ＤＳＣ）による結晶化度分析で簡易的に判断することができる。結晶化度は２０〜３０％が好ましく、より好ましくは２３〜２８％である。またＭＤ延伸後の配向パラメータとして複屈折Δｎで判断することができ、Δｎが０．０１１〜０．０１５であることが好ましい。また、冷結晶化温度が９０〜１００℃であることが好ましい。
【００７２】
次に、ステンターを用いて、ＴＤ延伸を行う。幅方向の寸法安定性を向上させ、保存安定性、スリット性、巻き姿が良好な二軸配向ポリエステルフィルムを得るには幅方向に、温度の異なるゾーンで二段階に延伸することが重要である。まず、一段目の延伸（ＴＤ延伸１）の延伸倍率は、好ましくは３．０〜５．０倍であり、より好ましくは３．２〜４．５倍であり、さらに好ましくは３．３〜４．０倍である。また、ＴＤ延伸１の延伸温度は好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ−５）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５）℃の範囲であり、さらに好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ−３）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋５）℃の範囲で行う。次にそのままステンター内で二段目の延伸（ＴＤ延伸２）を行う。ＴＤ延伸２の延伸倍率は好ましくは１．０５〜２倍であり、より好ましくは１．１〜１．８倍、さらに好ましくは１．２〜１．５倍である。ＴＤ延伸２の延伸温度は好ましくは（ＴＤ延伸１温度＋５０）〜（ＴＤ延伸１温度＋１００）℃の範囲であり、さらに好ましくは（ＴＤ延伸１温度＋６０）〜（ＴＤ延伸１温度＋９０）℃の範囲で行う。前工程の延伸温度よりも高めることにより、分子鎖の運動性が向上し、前工程での延伸による分子鎖の絡み合いを適度にほどきながら延伸することが可能となる。特にＴＤ延伸１とＴＤ延伸２は同方向に延伸するため温度差を高めることが好ましい。さらに、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの結晶配向度や結晶子サイズを高めて熱収縮率と幅方向の寸法安定性の両立を図るために、ＴＤ延伸１の予熱温度をＭＤ延伸後のフィルムの（Ｔｃｃ．ＢＦ−２）℃〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１５）℃、かつ、上記ＴＤ延伸１の延伸温度より３〜８℃高くすることが好ましい。より好ましくは（Ｔｃｃ．ＢＦ）〜（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１０）℃以下である。ＴＤ延伸１の予熱によって、ＭＤ延伸後のフィルムの冷結晶化温度以上の熱を与えることで、フィルム中にＭＤ延伸によって生成した微結晶がさらに成長し、その微結晶が延伸の結節点と作用し、より均一に応力が伝搬することから歪みが小さく均一に分子鎖を配向できる。（Ｔｃｃ．ＢＦ＋１５）℃より高温であると、生成した微結晶が成長し、延伸性が悪化する傾向にある。さらに、本発明の延伸プロセスを経て熱固定処理を行うと結晶配向が高く、結晶子サイズが幅方向に成長するため、結晶子間の距離が短くなると考えられる。結晶配向度は寸法安定性に大きく寄与し、結晶配向度が高いほど寸法安定性が良好となる。ただし、単純に延伸倍率などを高める方法で結晶配向度を高めようとすると分子鎖に歪みが大きくなり、熱による収縮などが起こりやすい。そのため、磁気テープとする際の工程で幅縮みやシワなどの問題が起こりやすくなる。
【００７３】
続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱固定処理する。熱固定処理条件は、熱固定温度は、１６０〜２００℃が好ましい。熱固定温度の上限は、より好ましくは１９０℃、さらに好ましくは１８５℃である。熱固定温度の下限は、より好ましくは１７０℃、さらに好ましくは１７５℃である。より好ましい範囲は１７０〜１９０℃、さらに好ましくは１７５〜１８５℃である。熱固定処理時間は０．５〜１０秒の範囲、弛緩率は０〜２％で行うのが好ましい。熱固定処理後は把持しているクリップを開放することでフィルムにかかる張力を低減させながら室温へ急冷する。その後、フィルムエッジを除去しロールに巻き取り、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。
【００７４】
本願の電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、スリット性、巻き姿を達成するためにはトータルのＴＤ延伸倍率とＭＤ延伸倍率の比が重要である。トータルＴＤ延伸倍率／ＭＤ延伸倍率の値は１．２〜２．０であることが好ましい。より好ましくは１．３〜１．８、さらに好ましくは１．４〜１．６である。トータルＴＤ延伸倍率／ＭＤ延伸倍率の値は分子鎖の配向のバランスを制御する指標となり、特に寸法安定性を高めるにはＴＤ配向を高める必要がある。しかしながら、単純にＴＤ延伸倍率だけを高めてもその効果には限界があり、ＭＤ延伸を適度に制御することによってその後のＴＤ延伸による効果を最大とすることが可能となる。これは、延伸による配向度向上の効果はある程度の分子鎖の絡まりが必要であり、ＴＤ延伸によるＴＤ配向の効果を最大限高めるために必要となる分子鎖の絡まりの程度を、前段のＭＤ延伸により制御することを意味する。このＭＤ延伸倍率の最適値は後段のトータルＴＤ延伸倍率と関係するため、結局、前述のような延伸倍率の比をもって好ましい状態に制御することが可能となる。
【００７５】
また、安定した製膜を行うためにＴＤ延伸１とＴＤ延伸２の延伸倍率比が重要である。ＴＤ延伸１倍率／ＴＤ延伸２倍率の値は１．８〜４．１が好ましい。より好ましくは２．２〜３．５、さらに好ましくは２．５〜３．０である。ＴＤ延伸は２段階で行うが、ＴＤ延伸１で比較的延伸倍率を高くすることが好ましい。これは、通常ＴＤ配向を高めるには最終延伸での倍率が大きいほど配向を高められるが、ＴＤ延伸２はＴＤ延伸１より高温で延伸することが好ましく、その高温のため結晶を作りやすくなる。本願の寸法安定性は一般的に言われる結晶も含めた配向ではなく、非晶部分の配向が高いことが重要であり、ＴＤ延伸２で高倍率延伸した場合は非晶部の配向が緩和しやすくなる。つまり、ＴＤ延伸１で、ある程度高倍率で延伸し高配向化させ、ＴＤ延伸２ではその高配向化が緩和しない程度に延伸することが好ましい。
【００７６】
ＴＤ延伸後、熱固定処理を行うが、フィルムの配向緩和を抑制するためにＴＤ延伸２とほぼ同等の温度で熱処理を行うことが好ましい。熱固定処理はフィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら、好ましくはＴＤ延伸２延伸温度−５〜ＴＤ延伸２延伸温度＋５℃、より好ましくはＴＤ延伸２延伸温度−３〜ＴＤ延伸２延伸温度＋３℃、さらに好ましくはＴＤ延伸２と同温度で熱固定処理を行う。ＴＤ延伸２の延伸温度と熱固定温度を近づけることで、延伸された状態で分子構造固定が可能で、高配向化を維持したまま、分子鎖の歪みをとり、保存安定性やスリット性の悪化を抑えることが可能となる。また、ＴＤ延伸２の延伸温度と熱固定温度に差があり、熱固定温度が高すぎると緩和しやすく寸法安定性が低下する傾向にあり、熱固定温度が低すぎると結晶性が低くなりやすくスリット性が低下しやすい。
【００７７】
本願はＭＤ−ＴＤ１−ＴＤ２の延伸プロセスを行うことで、電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、スリット性、巻き姿が良好な二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができ、ＭＤ−ＴＤやＭＤ１−ＴＤ１−ＭＤ２−ＴＤ２などの延伸プロセスではすべての物性が良好な二軸配向ポリエステルフィルムは得られにくい。
【００７８】
本発明においてＣ層を塗設する方法としては、上記フィルム製造過程の逐次二軸延伸方法を採用する場合は、最初に縦方向の延伸が完了した後、幅方向に延伸開始する前にＣ層を塗設することが好ましい。また、同時二軸延伸方法を用いる場合は、同時二軸延伸前に塗設することが好ましい。いずれの延伸方法を用いても問題ないが、コロナ放電処理を施しコーティングすることが好ましい。上述の連続製造工程中でＣ層をコーティングすることはコスト的に有利となる。
【００７９】
次に、磁気記録媒体を製造する方法を説明する。
【００８０】
上記のようにして得られた磁気記録媒体用支持体（二軸配向ポリエステルフィルム）を、たとえば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（Ｃ層表面）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより逐次または同時に重層塗布する。なお、上層に磁性塗料を厚み０．１〜０．３μｍで塗布し、下層に非磁性塗料を厚み０．５〜１．５μmで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（Ａ層表面）にバックコートを厚み０．３〜０．８μmで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
【００８１】
ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。
【００８２】
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末 ： １００質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： １０質量部
・変成ポリウレタン ： １０質量部
・ポリイソシアネート ： ５質量部
・２−エチルヘキシルオレート ： １．５質量部
・パルミチン酸 ： １質量部
・カーボンブラック ： １質量部
・アルミナ ： １０質量部
・メチルエチルケトン ： ７５質量部
・シクロヘキサノン ： ７５質量部
・トルエン ： ７５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： １０質量部
・アルミナ ： ０．１質量部
・変成ポリウレタン ： ２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体 ： ３０質量部
・シクロヘキサノン ： ２００質量部
・メチルエチルケトン ： ３００質量部
・トルエン ： １００質量部
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（例えばリニアテープ式の記録媒体（ＬＴＯ４やＬＴＯ５など））や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。
【００８３】
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
【００８４】
（１）ろ波中心線うねり Ｗｃ
ＩＳＯ４２８７−１９９７に従って、小坂研究所製のｓｕｒｆ−ｃｏｒｄｅｒ ＥＴ−４０００Ａを用いて、ろ波中心線うねりＷｃを測定した。条件は下記のとおりであり、１０回の測定の平均値をもって値とした。
【００８５】
・装置：小坂研究所製“ｓｕｒｆ−ｃｏｒｄｅｒ ＥＴ−４０００Ａ”
・解析ソフト：ｉ−ｓｔａｒ
・ 触針先端半径：０．５μｍ
・ 測定長 ：０．５ｍｍ
・ 針圧 ：５０μＮ
・ カットオフ値：高域−０．０８ｍｍ、低域−０．８ｍｍ
・レベリング：直線（全域）
・フィルター：ガウス
・倍率 縦×２０万倍 横×５００倍
（２）空気漏れ指数
（株）東洋精機製、デジベック平滑度試験機を用いて、２５℃、６５％ＲＨにて測定した。まず、フィルムを上面がＣ層側になるように２枚を重ね合わせ、そのうち下側の１枚に直径１０ｍｍφの孔をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が試料台の中心にくるようにする。この状態で１ｋｇ／ｃｍ２の荷重を加えて、真空到達度を３８３ｍｍＨｇに設定する。３８３ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろうとするため、フィルムと試料台間を空気が流れ込んでいく。この時、真空度が３８１ｍｍＨｇから３７９ｍｍＨｇになる時間を測定し、空気洩れ指数とした。
【００８６】
（３）幅方向の湿度膨張係数
フィルムの幅方向に対して、下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
【００８７】
・測定装置：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ−５０（湿度発生器：アルバック理工製湿度雰囲気調節装置ＨＣ−１）
・試料サイズ：フィルム長手方向１０ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
・荷重：０．５ｇ
・測定回数：３回
・測定温度：３０℃
・測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し時間４０分で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出する。
【００８８】
・湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０６×｛（ΔＬ／１２．６）／（８０−４０）｝
（４）屈折率
ＪＩＳ−Ｋ７１４２（２００８年）に従って、下記測定器を用いて測定した。
【００８９】
・装置：アッベ屈折計 ４Ｔ（株式会社アタゴ社製）
・光源：ナトリウムＤ線
・測定温度：２５℃
・測定湿度：６５％ＲＨ
・マウント液：ヨウ化メチレン、屈折率１．７４以上の場合は硫黄ヨウ化メチレンを用いる。
【００９０】
平均屈折率ｎ＿ｂａｒ＝（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）
複屈折Δｎ＝（ｎＭＤ−ｎＴＤ）
ｎＭＤ；フィルム長手方向の屈折率
ｎＴＤ；フィルム幅方向の屈折率
ｎＺＤ；フィルム厚み方向の屈折率
（５）融点（Ｔｍ）、微小融解ピーク温度（Ｔ−ｍｅｔａ）、融解熱量（ΔＨｍ）
ＪＩＳ−Ｋ７１２１（１９８７年）に従って、示差走査熱量計として、セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ（ＲＤＣ２２０）、データ解析装置として同社製ディスクステーション（ＳＳＣ／５２００）を用いて、試料５ｍｇをアルミニウム製受皿上、２５℃から３００℃まで、昇温速度２０℃／分で昇温した。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融点（Ｔｍ）、Ｔｍの少し低温側に現れる微小吸熱ピーク温度をＴ−ｍｅｔａとした。Ｔｍのピーク面積から算出される熱量を融解熱量ΔＨｍとする。
【００９１】
（６）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記装置および条件で比熱測定を行い、ＪＩＳ−Ｋ７１２１（１９８７年）に従って決定する。
【００９２】
・装置 ：ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製温度変調ＤＳＣ
・測定条件
・加熱温度 ：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
・温度校正 ：高純度インジウムおよびスズの融点
・温度変調振幅：±１Ｋ
・温度変調周期：６０秒
・昇温ステップ：５Ｋ
・試料質量 ：５ｍｇ
・試料容器 ：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
・参照容器 ：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。
【００９３】
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
（７）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２（１９９７年）に準拠してフィルムのヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。
【００９４】
・測定装置：インストロン社製超精密材料試験機ＭＯＤＥＬ５８４８
・試料サイズ：
フィルム幅方向のヤング率測定の場合
フィルム長手方向２ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム幅方向に８ｍｍ）
フィルム長手方向のヤング率測定の場合
フィルム幅方向２ｍｍ×フィルム長手方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム長手方向に８ｍｍ）
・引張り速度：１ｍｍ／分
・測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
・測定回数：５回。
【００９５】
（８）Ｃ層表面の表面粗さＳＲａ、１０点平均粗さＳＲｚ
原子間力顕微鏡を用いて、場所を変えて１０視野測定を行った。サンプルセットは、カンチレバーの走査方向に対して垂直方向（Ｙ軸方向）がサンプルフィルムの長手方向（長手方向とは、フィルムの製造工程においてフィルムが走行する方向）となるようにサンプルをピエゾにセットして測定する。得られた画像について、三次元面粗さをＯｆｆ−Ｌｉｎｅ機能Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａｎａｌｙｓｉｓにて算出し、ＳＲａ、ＳＲｚを測定した。条件は下記のとおりである。
【００９６】
なお、下記の測定装置では、得られた画像のＸ軸方向がカンチレバー走査方向となり、フィルムの幅方向に相当しＹ軸方向がフィルムの長手方向に相当する。
【００９７】
測定装置 ：ＮａｎｏＳｃｏｐｅ ＩＩＩ ＡＦＭ
（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）
カンチレバー：シリコン単結晶
走査モード ：タッピングモード
走査範囲 ：５μｍ□
走査速度 ：０．５Ｈｚ
Flatten Auto ：オーダー３
（９）Ａ層表面の表面粗さＳＲａ、１０点平均粗さＳＲｚ、突起個数
上記（８）に記載の装置を用いて、走査範囲を１２５μｍ□に変更して測定を行った。場所を変えて得られた画像について、上記（８）と同様の方法で表面粗さＳＲａ、ＳＲｚを測定した。突起個数については、Ｏｆｆ−Ｌｉｎｅ機能のＧｒａｉｎ ＳｉｚｅにてＧｒａｉｎ Ｈｅｉｇｈｔを３００ｎｍに設定して３００ｎｍ以上の突起個数を求めた。
【００９８】
（１０）熱収縮率
フィルムをＭＤ方向あるいはＴＤ方向に幅１０ｍｍ長さ３００ｍｍに切り、１５０ｍｍ間隔にマーキングし支持板に一定張力（５ｇ）下で固定した後、マーキング間隔の原長ａ（ｍｍ）を測定する。次に、無荷重下で１００℃の熱風オーブン中で３０分間静置処理し、原長測定と同様にしてマーキング間隔ｂ（ｍｍ）を測定する。下記の式により熱収縮率を求め、５本の平均値を用いる。
【００９９】
熱収縮率（％）＝（ａ−ｂ）／ａ×１００
（１１）不活性粒子の平均粒径
フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１万倍で観察する。この時、写真上で１ｃｍ以下の粒子が確認できた場合はＴＥＭ観察倍率を５万倍に変えて観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、場所を変えて１００視野測定し、写真に撮影された単分散した粒子全てについて等価円相当径をもとめ、その平均を不活性粒子の平均粒径とした。ここで、１万倍で観察した写真上に不定形の凝集粒子が確認できた場合、これは粒子の平均粒径には含めないこととする。
【０１００】
フィルム中に粒径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合、上記の等価円相当径の個数分布が２個以上のピークを有する分布となる。この場合は、それぞれのピーク値をそれぞれの粒子の平均粒径とする。
【０１０１】
（１２）不活性粒子の含有量
ポリマー１ｇを１Ｎ−ＫＯＨメタノール溶液２００ｍｌに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に２００ｍｌの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を２回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで粒子の含有量を算出した。
【０１０２】
（１３）巻姿
速度２００ｍ／分でフィルムを巻き、巻上がったフィルムロ−ルを見て、しわ等が全然ないものを、巻姿、優、しわ等がある程度見られるが、実用的には問題のないレベルにあるものを巻姿、良、しわ等が多数発生したものを巻姿、不良とした。
【０１０３】
（１４）幅寸法安定性
１ｍ幅にスリットしたフィルムを、張力２００Ｎで搬送させ、支持体の一方の表面（Ｃ層表面）に下記に従って磁性塗料および非磁性塗料を重層塗布し１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、磁気テープとする。
【０１０４】
（以下、「部」とあるのは「質量部」を意味する。）
磁性層形成用塗布液
バリウムフェライト磁性粉末 １００部
〔板径：２０．５ｎｍ、板厚：７．６ｎｍ、板状比：２．７、Ｈｃ：１９１ｋＡ／ｍ（≒２４００Ｏｅ）飽和磁化：４４Ａｍ２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：６０ｍ２／ｇ〕
ポリウレタン樹脂 １２部
質量平均分子量 １０，０００
スルホン酸官能基 ０．５ｍｅｑ／ｇ
α−アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ８部
カーボンブラック ＃５５（旭カーボン社製）粒子サイズ０．０１５μｍ ０．５部
ステアリン酸 ０．５部
ブチルステアレート ２部
メチルエチルケトン １８０部
シクロヘキサノン １００部
非磁性層形成用塗布液
非磁性粉体 α酸化鉄 １００部
平均長軸長０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ２／ｇ
ｐＨ ７
ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面処理層Ａｌ２Ｏ３ ８質量％
カーボンブラック ２５部
コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １３部
ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部
フェニルホスホン酸 ３．５部
ブチルステアレート １部
ステアリン酸 ２部
メチルエチルケトン ２０５部
シクロヘキサノン １３５部
上記の塗布液のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練した。１．０ｍｍφのジルコニアビーズを分散部の容積に対し６５％充填する量を入れた横型サンドミルに、塗布液をポンプで通液し、２，０００ｒｐｍで１２０分間（実質的に分散部に滞留した時間）、分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗料には５．０部、磁性層の塗料には２．５部を加え、さらにメチルエチルケトン３部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。
【０１０５】
得られた非磁性層形成用塗布液を、ポリエチレンテレフタレートベース上に乾燥後の厚さが１．０μｍになるように塗布乾燥させた後、磁性層形成用塗布液を乾燥後の磁性層の厚さが０．１０μｍになるように逐次重層塗布を行い、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つコバルト磁石と６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥させた。次いで７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行った。その後、厚み０．４μｍのバック層（カーボンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １００部、炭酸カルシウム平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８０部、αアルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部をニトロセルロース樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープを得た。
【０１０６】
磁気テープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を照射すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
【０１０７】
・測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
・レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機 キーエンス社製ＬＳ−５０４０
・荷重検出器３：ロードセル ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
・恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
・荷重４：分銅（長手方向）
・試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
・保持時間：５時間
・測定回数：３回測定。
【０１０８】
（幅寸法変化率：寸法安定性）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ、ｌＢ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。具体的には、次の基準で寸法安定性を評価する。
【０１０９】
Ａ条件で２４時間経過後ｌＡを測定して、その後Ｂ条件で２４時間経過後にｌＢを測定する。テープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定した。×を不合格とする。
【０１１０】
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ 張力０．８Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ 張力０．５Ｎ
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
◎◎：幅寸法変化率の最大値が４５０（ｐｐｍ）未満
◎：幅寸法変化率の最大値が４５０（ｐｐｍ）以上５００（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５００（ｐｐｍ）以上６００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が６００（ｐｐｍ）以上７００（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が７００（ｐｐｍ）以上
（１５）電磁変換特性
上記（１４）と同様に、作製したカセットテープを用いて、記録ヘッド（Ｇａｐ＝０．１５μｍ、１．８Ｔ）をドラムテスターに取り付けて、ヘッド−媒体相対速度を１０ｍ／ｓｅｃとしてノイズを測定した。ＳＮは、実施例３を０ｄＢとして表し、１．５ｄＢ以上は○、１．５未満〜０ｄＢは△、０ｄＢ未満は×と判定した。○が望ましいが、△でも実用的には使用可能である。
【０１１１】
（１６）保存安定性
上記（１４）と同様に、作製したカセットテープのカートリッジからテープを取り出し、次の２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＣ、ｌＤ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。
【０１１２】
具体的には、次の基準で寸法安定性を評価する。
【０１１３】
２３℃６５％ＲＨで２４時間経過後ｌＣを測定して、４０℃２０％ＲＨの環境下で１０日間カートリッジを保管後、２３℃６５％ＲＨで２４時間経過後にｌＤを測定する。テープカートリッジのはじめから３０ｍ地点から切り出したサンプル、１００ｍ地点から切り出したサンプル、１７０ｍ地点から切り出したサンプルの３点を測定した。×を不合格とする。
【０１１４】
幅寸法変化率（ｐｐｍ）＝１０６×（｜ｌＣ−ｌＤ｜／ｌＣ）
◎：幅寸法変化率の最大値が５０（ｐｐｍ）未満
○：幅寸法変化率の最大値が５０（ｐｐｍ）以上１００（ｐｐｍ）未満
△：幅寸法変化率の最大値が１００（ｐｐｍ）以上１５０（ｐｐｍ）未満
×：幅寸法変化率の最大値が１５０（ｐｐｍ）以上
（１７）スリット性
上記（１４）と同様に、作製した磁気テープのカートリッジからテープを取り出し、その端部を観察し、スリット時に発生したヒゲを以下に示す方法により評価した。スリッターのスピードは８０ｍ／分とした。ヒゲの評価は、フィルムの端面を走査型電子顕微鏡にて観察し、ヒゲの発生状況を以下の基準にて評価した。なお、ここでいうヒゲとは、繊維状に剥離したフィルム片を意味する。
【０１１５】
◎：ヒゲの発生がほとんどない。
【０１１６】
○：ヒゲの発生が少ない。
【０１１７】
△：ヒゲの発生が多いがスリット可能。
【０１１８】
×：ひげの発生が激しく、スリット中破れが多発でスリット困難。
【実施例】
【０１１９】
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリエチレンナフタレートをＰＥＮ、ポリエーテルイミドをＰＥＩと表記する。
【０１２０】
（１）ＰＥＴペレットの作製：テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を１質量部（リン酸トリメチルとして０．０５質量部）添加した。
【０１２１】
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。
【０１２２】
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットを得た（原料−１）。
【０１２３】
（２−ａ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ａ）を得た。
【０１２４】
（２−ｂ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を得た。
【０１２５】
（２−ｃ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部と平均粒径０．８μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを２０質量部（架橋ポリスチレン粒子として２質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を２質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を得た。
【０１２６】
（２−ｄ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９５質量部と平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を得た。
【０１２７】
（２−ｅ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料−１）を９０質量部と平均粒径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量％水スラリーを１０質量部（コロイダルシリカ粒子として１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を得た。
【０１２８】
（３）２成分組成物（ＰＥＴ／ＰＥＩ）ペレットの作製：温度２８０℃に加熱されたニーデ
ィングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、上記方法で得られたＰＥＴペレット（原料−１）とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のポリエーテルイミド（ＰＥＩ）“Ｕｌｔｅｍ１０１０”のペレットを供給して、剪断速度１００ｓｅｃ−１、滞留時間１分にて溶融押出し、ポリエーテルイミドを５０質量％含有した２成分組成物ペレットを得た。なお、作製した２成分組成物ペレットのガラス転移温度は１５０℃であった（原料−３）。
【０１２９】
（４）ＰＥＮペレットの作成：２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１２８質量部とエチレングリコール６０質量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０２５質量部と酢酸ナトリウム・３水塩０．００５質量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４質量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２質量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３質量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６のＰＥＮペレット（原料−４）を得た。
【０１３０】
（５−ａ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料４）を９５質量部と平均径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量部水スラリーを５質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子を０．５質量部含有する固有粘度０．６の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ａ）を得た。
【０１３１】
（５−ｂ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料４）を９０質量部と平均径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子の１０質量部水スラリーを１０質量部（コロイダルシリカ粒子として１質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径１００ｎｍのコロイダルシリカ粒子を１質量部含有する固有粘度０．６の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ｂ）を得た。
【０１３２】
（５−ｃ）粒子含有ＰＥＮペレットの作成：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、ＰＥＮペレット（原料−４）を８０質量部と平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子の１０質量部水スラリーを２０質量部（球状架橋ポリスチレンとして２質量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、平均径０．３μｍの球状架橋ポリスチレン粒子を２質量部含有する固有粘度０．６５の粒子含有ＰＥＮペレット（原料５−ｃ）を得た。
【０１３３】
（実施例１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９０質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）１０質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１３４】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて８７℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムのＢ層上にコロナ放電処理を施した後、次の水溶液を塗布した。
【０１３５】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．１５質量部
シランカップリング剤 ０．０４５質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
固形分塗布濃度 １２ｍｇ／ｍ２
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９０℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．５倍延伸し（ＴＤ延伸１）、さらに続いて１７０℃の温度の加熱ゾーンでに幅方向に１．３倍延伸した（ＴＤ延伸２）。引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで１８０℃の温度で５秒間の熱処理を施し、さらに１８０℃の温度で１％幅方向に弛緩処理を行った。次いで、２５℃に均一に冷却後、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを評価したところ、表３に示すように、磁気テープとして使用した際に電磁変換特性、寸法安定性、保存安定性、巻き姿、スリット性に優れた特性を有していた。
【０１３６】
（実施例２、実施例３）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の倍率を変更した以外は全て実施例１と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１３７】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．０９３質量部
水溶性ポリエステル ０．２８質量部
シランカップリング剤 ０．０１３質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
固形分塗布濃度 １９ｍｇ／ｍ２
（実施例４）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を９７．５質量部、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を２．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。延伸条件は表１に示すとおりであり、Ｃ層の塗液は実施例１で用いた水溶液をＢ層上に塗布した。
【０１３８】
（実施例５）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の倍率を変更した以外は全て実施例４と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１３９】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル ０．３９質量部
シランカップリング剤 ０．０１２質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
メラミン樹脂架橋剤 ０．１２質量部
固形分塗布濃度 １２ｍｇ／ｍ２
（実施例６）
表１に示すように、Ｃ層の塗液を下記の通りとし、Ａ層の積層厚みおよびＴＤ延伸２の温度および倍率を変更した以外は全て実施例４と同様にして厚さ４．８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１４０】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル ０．３９質量部
シランカップリング剤 ０．０１２質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
メラミン樹脂架橋剤 ０．１５質量部
架橋スチレン・アクリル共重合体粒子（平均粒径φ２０ｎｍ） ０．０９質量部
ＰＨ調節剤 ０．０１質量部
（プラスコートＲＹ−２ 互応化学工業（株）製）
固形分塗布濃度 １５ｍｇ／ｍ２
（実施例７）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９４．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）５質量部、平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｂ）を０．５質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を１００質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４１】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて８７℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムのＢ層上にコロナ放電処理を施した後、次の水溶液を塗布し、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施した。
【０１４２】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
メチルセルロース ０．０９３質量部
水溶性ポリエステル ０．２８質量部
シランカップリング剤 ０．０１３質量部
（3-(2-アミノエチルアミノ)フ゜ロヒ゜ルトリメトキシシラン）
平均粒径１８ｎｍのコロイダルシリカ ０．１質量部
固形分塗布濃度 １９ｍｇ／ｍ２
（実施例８）
Ａ層積層厚み、熱固定温度を表１の通りに変更した以外は実施例７と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【０１４３】
（実施例９）
Ａ層積層厚み、ＭＤ延伸倍率、ＴＤ２延伸倍率、熱固定温度を表１の通りに変更した以外は実施例７と同様にて二軸配向ポリエステルフィルムを得た。なお、Ｃ層の塗液は実施例５と同様の水溶液を塗布した。
【０１４４】
（実施例１０）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、原料−１を７６．５質量部、２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｅ）を１０質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を７．５質量部を配合し１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）９４質量部、２成分組成物ペレット（原料−３）６質量部を配合し１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４５】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて９０℃で長手方向に３．５倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に実施例２で作成した水溶液を塗布後、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施して二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【０１４６】
（実施例１１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）７５質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ｂ）を１０質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−５ｃ）を１５質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、原料−４を８０質量部、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ａ）を２０質量部を配合して１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１０とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４７】
この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１５℃で長手方向に４倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に実施例２で作成した水溶液を塗布し、表１に示す条件にてＴＤ延伸を実施した。
【０１４８】
（比較例１）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を８６．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を１３質量部、平均粒径０．８μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ｃ）を０．５質量部を１６０℃で８時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を６０質量部を配合し、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を４０質量部１６０℃で８時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝１｜１４とし、Ａ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１１０℃で長手方向に３．５倍延伸（ＭＤ延伸１）し、この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。
【０１４９】
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の９５℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に９５℃で長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に３．２倍延伸した（ＴＤ延伸１）。引き続いて、続いて１４０℃で長手方向に１．７倍再延伸（ＭＤ延伸２）した。定長下で２１０℃の温度で３秒間の熱処理を施し、幅方向に弛緩処理を行った。厚さ６μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５０】
（比較例２）
Ａ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）７９．５質量部、平均粒径０．１μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−５ｂ）を１３質量部 平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−５ｃ）を７．５質量部を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。Ｂ層原料として、ＰＥＮペレット（原料−４）を１００質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝２｜８とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。この積層未延伸フィルムをロール式延伸機にて１３５℃で長手方向に５．４倍延伸（ＭＤ延伸１）し急冷した。この延伸は２組ずつのロールの周速差を利用して行った。この一軸延伸フィルムにコロナ放電処理を施した後Ｂ層上に下記水溶液を塗布した。
【０１５１】
［Ｂ層側（Ｃ層）の塗液］
水溶性ポリエステル １．２質量部
平均粒径３０ｎｍポリメタクリル酸メチル粒子 ０．０６質量部
（日本触媒化学工業（株）製 エポスターＭＡ）
ポリオキシエチレンラウリルエーテル（ｎ＝７） ０．２２５質量部
（三洋化成社製 ナロアクティーＮ７０）
固形分塗布濃度 ３０ｍｇ／ｍ２
得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、１５５℃の温度にて長手方向に直角な幅方向（ＴＤ方向）に４．２倍延伸した（ＴＤ延伸１）。引き続いて、定長下で２０５℃の温度で４秒間の熱処理を施しながら、１．０８倍幅方向に延伸を行い厚さ８．３μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５２】
（比較例３）
Ａ層およびＢ層に用いる原料を比較例１と同様にした。また、Ｃ層の塗液を実施例７で用いた水溶液を塗布し、表１に示す製膜条件に変更して二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５３】
（比較例４）
ＴＤ延伸１の予熱温度条件を表１の通り変更する以外は、全て実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５４】
（比較例５）
Ａ層Ｂ層原料を実施例１で用いた原料と同様にして、Ｂ層表面にコーティングを施さない以外は実施例１と同一の条件にて二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５５】
（比較例６）
Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を７８．５質量部、平均粒径０．３μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料−２ａ）を２２．５質量部を配合し、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料−１）を８０質量部を配合し、平均粒径６０ｎｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料−２ｄ）を２０質量部を配合し、表１に示すＡ層およびＢ層の粒子処方に変更し、Ｂ層表面にコーティングを施さない以外は実施例６と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５６】
（比較例７）
ＴＤ延伸２は実施せずに、ＴＤ延伸１の倍率、熱固定温度を表１の通り変更した以外は全て実施例１０と同様にして二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
【０１５７】
【表１】
【０１５８】
【表２】
【０１５９】
【表３】
【符号の説明】
【０１６０】
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項２】
微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａが１６０〜１９０℃である、請求項１に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項３】
長手方向のヤング率が３．０〜５．０ＧＰａである、請求項１または２に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項４】
Ｃ層がコーティングにより設けられた層であり、Ｃ層側表面の中心線表面粗さＲａが０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項５】
Ｃ層側表面とは反対側の表面の中心線表面粗さＲａが３〜１５ｎｍであり、当該表面において、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／mm２未満である、請求項１〜４のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項６】
１００℃で３０分間熱処理を行った後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％である、請求項１〜５のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項７】
Ｃ層側に磁性層を設けて、磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、請求項１〜６のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項８】
塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、請求項１〜７のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項９】
請求項７または８に記載の二軸配向ポリエステルフィルムをベースフィルムとして用いた磁気記録媒体。
【請求項１】
一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項２】
微小融解ピーク温度Ｔ−ｍｅｔａが１６０〜１９０℃である、請求項１に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項３】
長手方向のヤング率が３．０〜５．０ＧＰａである、請求項１または２に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項４】
Ｃ層がコーティングにより設けられた層であり、Ｃ層側表面の中心線表面粗さＲａが０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項５】
Ｃ層側表面とは反対側の表面の中心線表面粗さＲａが３〜１５ｎｍであり、当該表面において、高さが３００ｎｍ以上の突起個数が３０個／mm２未満である、請求項１〜４のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項６】
１００℃で３０分間熱処理を行った後の幅方向の熱収縮率が０．５〜１．５％である、請求項１〜５のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項７】
Ｃ層側に磁性層を設けて、磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、請求項１〜６のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項８】
塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる、請求項１〜７のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
【請求項９】
請求項７または８に記載の二軸配向ポリエステルフィルムをベースフィルムとして用いた磁気記録媒体。
【図１】
【公開番号】特開２０１３−１０３３６１（Ｐ２０１３−１０３３６１Ａ）
【公開日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４７０５０（Ｐ２０１１−２４７０５０）
【出願日】平成２３年１１月１１日（２０１１．１１．１１）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月１１日（２０１１．１１．１１）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]