保守装置及び液滴吐出装置
【課題】長期間安定してノズル３２が設けられた面のワイパー１の清掃効果を得る。
【解決手段】印刷を行なう液滴吐出装置６０のヘッド３１の保守装置１０は、付着物を拭き取るワイパー１と、ワイパー１の付着物を吸収する吸収部２１、２２と、ワイパー１を移動させる樹脂ベルト４と、を備え、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触する軌道である。
【解決手段】印刷を行なう液滴吐出装置６０のヘッド３１の保守装置１０は、付着物を拭き取るワイパー１と、ワイパー１の付着物を吸収する吸収部２１、２２と、ワイパー１を移動させる樹脂ベルト４と、を備え、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触する軌道である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は保守装置及び液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１にはノズル面を払拭する払拭部材に付着した液体を拭き取る液体拭き取り部が設けられた液体噴射装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−９５７０４号公報（２００６年４月１３日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の装置では払拭部材の清掃が十分ではなく、払拭部材によるノズル面の清掃効率が低下するという問題がある。
【０００５】
特に乾燥による増粘が発生しやすいインクの場合、ノズル面を払拭するワイパー及びワイパーを清掃する部材に増粘したインクが固着しやすい。特許文献１に記載の装置では、残留したインクが固着しやすく所望の効率でワイパーを清掃できない。長時間にわたる大量印刷を行なうプリンタでは、特に顕著に清掃効率が低くなる。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、より長期間安定してノズルが設けられた面における拭き取り部の清掃効果を得ることができる保守装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る保守装置は、ヘッドに設けられたノズルから液滴を吐出することで被記録媒体に印刷を行なう液滴吐出装置の上記ヘッドの保守装置であって、ヘッドの表面であってノズルが設けられた面上の付着物を拭き取る拭き取り部と、上記拭き取り部の付着物を吸収する吸収部と、上記拭き取り部を移動させる移動機構と、を備え、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が上記吸収部に複数回接触する軌道であることを特徴としている。
【０００８】
拭き取り部が吸収部に複数回接触することで、拭き取り部の付着物を吸収部が除去する効率が向上する。よって、より長期間拭き取り部を清潔に保つことができ、ヘッドのノズルが設けられた面の清掃効率もより長期間保つことができる。よって、長期間安定してノズルが設けられた面の拭き取り部の清掃効果を得ることができる。
【０００９】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部を支持する吸収部支持部と、上記吸収部支持部に支持される上記吸収部を取り替える吸収部取り替え機構と、をさらに備えていることがより好ましい。
【００１０】
拭き取り部が吸収部に接触することで汚染された当該吸収部を、新しい吸収部に取り替えることができる。よって、より長期間、安定した吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定した拭き取り部による清掃効果を得ることができる。
【００１１】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部取り替え機構による上記吸収部の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段をさらに備え、上記吸収部取り替え機構制御手段は、上記吸収部支持部に支持された上記吸収部に上記拭き取り部が予め定められた回数接触した後に、上記吸収部を取り替えるものであることがより好ましい。
【００１２】
予め定められた回数接触した後に新しい吸収部に取り替えることによって、より長期間、安定した吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定した拭き取り部による清掃効果を得ることができる。
【００１３】
本発明に係る保守装置では、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が少なくとも異なる２以上の方向から上記吸収部に接触する軌道であることがより好ましい。
【００１４】
異なる２以上の方向から吸収部に拭き取り部を接触させることで、拭き取り部の様々な方向に付着した付着物を吸収部に吸収させることができる。そのため、吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を向上させ、ひいては拭き取り部による清掃効果をより向上させることができる。
【００１５】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部支持部を複数備え、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの上記吸収部支持部が支持する吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００１６】
複数の吸収部を設け、それぞれに少なくとも１回ずつ付着物を吸着させることによって、吸収部による付着物の除去効果を向上させることができる。また、複数の吸収部を設けることによって、簡単に拭き取り部を吸収部に複数回接触させることができ、保守装置の構造を単純にすることができる。
【００１７】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部支持部は上記吸収部に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることがより好ましい。
【００１８】
溶剤を吸収部に供給することによって、吸収部による拭き取り部の付着物の除去効率をより向上させることができる。
【００１９】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであることがより好ましい。
【００２０】
簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００２１】
本発明に係る保守装置は、上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであり、上記吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、上記吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、複数の上記吸収部支持部に支持された上記吸収部のうち、はじめて複数の上記吸収部支持部のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い上記吸収部に最初に上記拭き取り部が接触する軌道であることが好ましい。
【００２２】
吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、全ての吸収部はシート状部材の一部である。そのため、吸収部を取り替えることによって、いずれかの吸収部支持部に支持された部位の少なくとも一部は、再度別の吸収部支持部に支持されて吸収部として使用される。付着物が付着した吸収部の全てを更新すると付着物による汚染が低度である部位まで更新されてしまいコストが高くなるが、上記の構成によれば、一度吸収部として使用したシート状部材も、汚染が軽度である箇所は再度吸収部として使用することができる。よって、シート状部材の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００２３】
さらに、吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部が最初に拭き取り部に接触するため、拭き取り部との接触回数がより多い吸収部が拭き取り部に最初に接触し、拭き取り部との接触回数がより少ない吸収部が拭き取り部に次に接触する。よって、最も汚染が進んでいる吸収部に最初にある程度の付着物を吸収させた後に、汚染の進んでいない吸収部で拭き取り部を清掃することができ、清掃効率が向上する。
【００２４】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、上記の保守装置を備えている。
【００２５】
上記保守装置を備えることによって、より長期間安定してノズルが設けられた面における拭き取り部の清掃効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明に係る保守装置は、より長期間安定してノズルが設けられた面の拭き取り部の清掃効果を得ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明の一実施形態である保守装置１０の構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０のキャリッジ３０が、矢印Ｘ１方向に往復運動し、メディア１００上を走査していることを示す図である。
【図４】ワイパー１及びワイパー支持部２がワイピング前の配置場所に移動したことを示す図である。
【図５】矢印Ｘ２方向にキャリッジが移動し、保守装置１０上にて停止していることを示す図である。
【図６】ワイパー１が、Ｚ１方向に移動してワイピングを行った後、Ｚ２方向に移動してワイパー清掃部２０によりワイパー１の清掃がなされることを示す図である。
【図７】ワイパー支持部２が矢印Ｙ４方向に往復運動することで、ワイパー１が吸収部２１、２２に清掃されていることを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
〔液滴吐出装置６０の構成〕
まず、本発明に係る液滴吐出装置の一実施形態である液滴吐出装置６０の構成について図１を用いて説明する。図１は、液滴吐出装置６０の構成を模式的に示す図である。
【００２９】
図１に示すように、液滴吐出装置６０は保守装置１０、キャリッジ３０、フラッシング用ステーション４０及びガイド機構５０を備えている。また、液滴吐出装置６０は、メディア（被記録媒体）１００に対して、インク（液滴）を吐出し、図、文字等を印刷するための装置である。
【００３０】
保守装置１０は、ワイパー１を用いて後述するヘッド３１のノズル３２が設けられた面（フェイス）上の付着部を拭き取る（ワイピング）ための装置である。また、保守装置１０は、ヘッド３１の清掃によりワイパー１に付着した付着物をワイパー清掃部２０に吸収させて、ワイパー１を清掃する。なお、保守装置１０の詳しい構成については、後述する。
【００３１】
キャリッジ３０は、ヘッド３１を搭載している。ヘッド３１は、インクを格納し、かつメディア１００に対して、インクを吐出するためのものである。また、ヘッド３１のメディア１００に対向する面には、複数のノズル３２が設けられている。ヘッド３１は、ガイド機構５０に支持されているキャリッジ３０が矢印Ｘ方向に往復運動してメディア１００上を走査しているときに、印刷する図形等の情報に応じてノズル３２からメディア１００にインクを吐出する。
【００３２】
フラッシング用ステーション４０は、フラッシングを行なうための場所であり、保守装置１０に隣接して設けられている。ヘッド３１はフラッシング用ステーション４０上まで移動した後にフラッシングを行い、ノズル３２の清掃が行なわれる。ここで、「フラッシング」とは、ヘッドが備える振動素子（図示せず；例えば圧電素子等）によってノズルに連通するインク貯留室に振動を与えることによって、ノズルからインクを吐出して、ノズル内の混色したインクを吐出することをいう。
【００３３】
ガイド機構５０は、キャリッジ３０を支持しており、キャリッジ３０の移動範囲を規定するものである。キャリッジ３０がメディア１００上を走査しているときは、ガイド機構
５０に沿って、矢印Ｘ方向に往復運動している。また、キャリッジ３０は、ヘッド３１の面上をワイピングする必要が生じたときは、保守装置１０上に移動し、フラッシングが必要なときは、フラッシング用ステーション４０上に移動する。
【００３４】
〔保守装置１０の構成〕
次に、本発明に係る保守装置の一実施形態について図２〜７を用いて説明する。図２は、本発明の一実施形態である保守装置１０の構成を模式的に示す図である。
【００３５】
保守装置１０は、ワイパー（拭き取り部）１、ワイパー支持部２、面状部材３、樹脂ベルト（移動機構）４及びワイパー清掃部２０を備えている。
【００３６】
ワイパー１は、ノズル３２が設けられたヘッド３１の表面に接触した状態のまま移動することによって、当該表面上の付着物を拭き取るための部材である。ワイパー支持部２は、ワイパー１を支持し、ワイパー１を移動させるための部材である。さらに、ワイパー支持部２には、軸部が貫通して設けられている。
【００３７】
なお、ワイパー１はヘッド３１の表面を傷つけない柔軟性を有するもの、例えば、樹脂によって形成されているものが好ましい。ワイパーの材質としては、ヘッドを傷つけない程度の弾性を有し、ある程度の耐薬品性を有する材料が好ましい。例えば、天然ゴムや合成ゴムなどが挙げられる。
【００３８】
面状部材３は、樹脂ベルト４を覆うように配置されており、当該面状部材３には、２列の溝が設けられている。上記溝は、ワイパー１を移動させる方向に沿って設けられており、さらに対向する面状部材３の間にワイパー支持部２が位置している。そして、ワイパー支持部２に設けられている軸部の両端はそれぞれ対面する面状部材３の溝に嵌合しており、当該溝に沿って、ワイパー支持部２は移動する。また、面状部材３の溝はワイパー支持部２の移動範囲及び移動方法を規定している。
【００３９】
樹脂ベルト４はワイパー支持部２を移動させるための移動機構である。樹脂ベルト４上には、溝に嵌合している軸部の両端が載置されている。樹脂ベルト４を稼動させることによって、軸部が樹脂ベルト４に乗って運ばれ、ワイパー支持部２は溝に沿って移動する。
【００４０】
ワイパー清掃部２０は、ワイピングによりワイパー１に付着した付着物を除去するための清掃部材であり、面状部材３上に設けられている。以下、ワイパー清掃部２０について、詳細に説明する。
【００４１】
ワイパー清掃部２０は、吸収部２１、２２、吸収部支持部２３、２４、吸収部材（シート状部材）２５、溶剤供給部２６、吸収部取り替え機構２７及び吸収部取り替え機構制御部（吸収部取り替え機構制御手段）２８を備えている。
【００４２】
吸収部２１、２２は、ワイピング後のワイパー１と接触することにより、ワイパー１に付着した付着物を除去する。吸収部支持部２３、２４は、それぞれ吸収部２１、２２を支持するための部材である。なお、吸収部はいくつ設けてもよく、本実施形態のように２つには限定されない。また、吸収部の個数に合わせて吸収部支持部の個数も変化する。ここで、「吸収部」とは、後述する吸収部材２５の一部であり、吸収部支持部に支持されている部位を指している。
【００４３】
複数の吸収部を設けることによって、より除去効率を向上させることができる。また、簡単に拭き取り部を吸収部に複数回接触させることができ、保守装置１０の構造を単純にすることができる。
【００４４】
吸収部材２５は、シート状の部材であって、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部である。吸収部材２５としては、シート状の部材であれば、布、紙、スポンジ等の任意の部材を使用することができる。
【００４５】
溶剤供給部２６は、吸収部２１、２２に付着物を溶解する溶剤を供給するために、吸収部支持部２３、２４にそれぞれ設けられている。吸収部支持部２３、２４、溶剤供給部２６から供給された溶剤を吸収部２１、２２に供給する。これにより、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効率をより向上させることができる。なお、揮発性を有する溶剤を使用する場合には、揮発する量を抑えるために、ワイパー１に接触する吸収部２１、２２にのみ溶剤を供給し、ワイパー１に接触しない吸収部材２５には供給しないことがより好ましい。
【００４６】
ワイピング後のワイパー１が接触する吸収部２１、２２に溶剤が適宜含浸されている状態が好ましいため、溶剤供給部２６から吸収部支持部２３、２４を介して溶剤が吸収部２１、２２に添加されている。例えば、吸収部支持部２３、２４に穴を開けることで溶剤供給部２６から吸収部２１、２２にそれぞれ溶剤を供給してもよい。
【００４７】
また、キャリッジ３０にヒーター等の熱源を設けている場合であっても、上記のように、ワイパー１が接触する吸収部２１、２２のみに溶剤が含浸されていることによって、熱源による溶剤の揮発を抑えることができる。
【００４８】
吸収部取り替え機構２７は、ワイパー１が吸収部２１、２２に接触することで汚染された当該吸収部を新しい吸収部２１、２２に取り替えることができる。具体的にはシート状の吸収部材２５を送ることによって、吸収部２１、２２を取り替える。よって、汚染されて除去効率が低下した吸収部２１、２２にワイパー１が接触することはなく、より長期間、より安定した清掃効果を得ることができる。
【００４９】
また、本形態において、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２の部位を変更することができる。つまり、簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００５０】
吸収部取り替え機構制御部２８は、吸収部２１、２２にワイパー１が予め定められた回数接触した後に、吸収部２１、２２を取り替えるように吸収部取り替え機構２７を制御している。つまり、汚染されて除去効率が著しく低下する前の接触回数を予め定められた回数に設定することによって、除去効率が著しく低下する前に、新しい吸収部に取り替えることができる。
【００５１】
さらに、吸収部材２５が送られることによって、取り替えられる吸収部材２５がなくなったことを知らせるセンサーをワイパー清掃部２０に設けてもよい。また、新しい吸収部材の設置は、吸収部材を取り替える機構をワイパー清掃部２０内に設けて行なってもよく、また手動によって行なってもよい。
【００５２】
次に、図２〜７を用いて、ヘッド３１の表面をワイピングしてから、ワイパー１をワイパー清掃部２０によって清掃するまでの液滴吐出装置６０の動作について説明する。図３は、本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０のキャリッジ３０が、矢印Ｘ１方向に往復運動し、メディア１００上を走査していることを示す図である。図３に示すようにキャリッジ３０がメディア１００上を走査している間は、図２に示すようにワイパー１及びワイパー支持部２はワイパー清掃部２０の下で待機している。
【００５３】
次に、図４は、ワイパー１及びワイパー支持部２がワイピング前の配置場所に移動したことを示す図であり、図５は、矢印Ｘ２方向にキャリッジ３０が移動し、保守装置１０上にて停止していることを示す図である。キャリッジ３０は、予め定めておいた回数走査した後、又はヘッド３１にインクなどの付着物が一定量付着していることを検出すること等によりヘッド３１の面上を清掃する必要が生じたときは、保守装置１０上に移動する。また、ワイパー支持部２は、キャリッジ３０を保守装置１０上に移動する前に、矢印Ｙ１方向に移動し、保守装置１０の左端に待機する。
【００５４】
なお、ワイピングの前にパージ動作を行ってもよい。ここで「パージ」とは、ヘッドを振動させずに、ヘッドにインクを供給する際の供給圧を上げることでノズルからインクを吐出して、ノズルを清掃することをいう。供給圧は、例えば、大気圧以上に上げることによって、パージが適切に行われる。またパージを行なう場合には、保守装置１０内に、パージによって吐出されるインクを回収する部材を設けてもよい。
【００５５】
図６は、ワイパー１が、Ｚ１方向に移動してワイピングを行なった後、Ｚ２方向に移動してワイパー清掃部２０によりワイパー１が清掃されることを示す図である。また、キャリッジ３０は、保守装置１０上まで移動すると、ワイパー支持部２とワイパー清掃部２０との間に位置することになる。
【００５６】
まず、ワイパー支持部２は、樹脂ベルト４の稼動によって、矢印Ｙ’２方向に移動する。これにより、ワイパー支持部２が位置（ａ）に到達したとき、ワイパー１がフェイスに接触する。このとき、ワイパー１は矢印Ｚ１方向に移動しつつ、ワイピングを行なう。そして、ワイパー支持部２が位置（ｂ）に到達したとき、ワイピングは終了する。ワイピングを行なうことによって、ノズル３２が設けられた面に付着していた付着物は、ワイパー１によって拭き取られて当該面が清掃されるとともに、ワイパー１に当該付着物が付着する。なお、ワイパー支持部２は位置（ａ）から位置（ｂ）の間を往復運動し、ワイピングを行なってもよい。
【００５７】
また、面状部材３に形成されている２列の溝の幅（２列の溝の高低差）は常に一致している必要はなく、図６等のように、２列の溝の幅が広い箇所と狭い箇所とがあってもよい。なお、図２、６の場合には、上側の溝に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に載置させており、図４の場合には、下側の溝に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に接触させている。つまり、樹脂ベルト４を稼動することによって、ワイパー支持部２を溝に沿って移動させる際に、溝の幅が異なることによって、ワイパー１が起き上がったり傾いたりする。なお、軸部を樹脂ベルト４に固定する方法は特に限定されないが、下側の溝（直線状の溝）に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に固定し、上側の溝に嵌合した軸部は樹脂ベルト４に固定しないことが好ましい。直線状の溝に嵌合した軸部に樹脂ベルト４を固定することによって、ワイパー１の角度が変化しても樹脂ベルト４の軌道を一定にすることができ、搬送トルク及び搬送速度への影響を抑制することができる。ワイパー１が起き上がったときにフェイスをワイピングする位置又は吸収部２１、２２に押し付けることができる位置となるように幅を調整すればよい。このように幅を調整するだけでワイパー１の高さを調節できるため、装置の構成が簡易となる。
【００５８】
ワイピングが終了した後において、キャリッジ３０はフラッシング用ステーション４０上までガイド機構５０に沿って移動し、フラッシングを行なってもよい。フラッシングが終了した後、キャリッジ３０はメディア１００上まで移動し、矢印Ｘ１方向に往復運動しつつメディア１００にインクを吐出し、印刷を再開する。
【００５９】
次に、ワイピングを終了した後のワイパー支持部２は矢印Ｙ’２方向に更に移動し、ワイパー清掃部２０の手前まで移動する。次に、ワイパー支持部２は矢印Ｙ’３方向に移動し、ワイパー１が吸収部２１、２２に接触する。これにより、ワイパー１に付着した付着物はワイパー清掃部２０の吸収部２１、２２によって吸収される。このとき、ワイパー１は矢印Ｚ２方向に移動し、まず吸収部２１に接触する。そして、ワイパー１上の付着物の多くが吸収部２１に吸収され、さらに、ワイパー１を矢印Ｚ２方向に移動させることによって、吸収部２２に接触する。そして、吸収部２１に吸収されなかった付着物が吸収部２２に吸収される。このように、樹脂ベルト４によるワイパー１及びワイパー支持部２の移動の軌道は、複数の吸収部２１、２２に少なくとも一回ずつ接触する軌道である。このような軌道にすることによって、より効率よくワイパー１に付着したインクを清掃できる。
【００６０】
また、ここで、吸収部２１は吸収部２２より先にローラーから送られ、吸収部支持部に支持される。つまり、吸収部２１は吸収部支持部２４に支持された後、さらに送られて吸収部支持部２３に支持されている。従って、吸収部２１及び２２のうち、吸収部支持部に支持されてから最も長い時間が経過した吸収部２１に最初にワイパー１が接触する。そして、吸収部２１よりもワイパー１に接触した回数が少ない吸収部２２にワイパー１が接触する。なお、後述のように、吸収部支持部２３、２４によって支持されている吸収部２１、２２の長さ以下の長さで吸収部材２５は送られるので、一旦付着物の吸収に使用された吸収部２２は、必ず、再度、別の吸収部支持部２３にて支持されることになる。よって、吸収部材の使用量を抑えることができコストを削減できる。
【００６１】
次に、ワイパー１を矢印Ｙ４方向に往復運動させて、吸収部２１、２２にワイパー１を複数回接触させている。なお、図７は、ワイパー支持部２が矢印Ｙ４方向に往復運動することで、ワイパー１が吸収部２１、２２に清掃されていることを示す図である。ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触することで、ワイパー１の付着物の除去効率が向上する。
【００６２】
また、このように、樹脂ベルト４によるワイパー１及びワイパー支持部２の移動の軌道を、異なる２以上の方向からワイパー１が吸収部２１、２２に接触する起動とすることによって、複数の方向からワイパー１を清掃することができる。例えば本実施形態のように吸収部２１、２２に対してワイパー１を往復させながら接触させることで、ワイパー１の表及び裏の両面を清掃できる。よって、より長期間ワイパー１を清潔に保つことができ、フェイスの清掃効率もより長期間保つことができる。本発明において、拭き取り部の汚染は拭き取り部によるフェイスの拭き取り方向に依存する。そのため、フェイスを往復運動する拭き取り部の移動経路上に拭き取り部の清掃部（本実施形態のワイパー清掃部２０）を配置すれば、拭き取り部を往復運動することによって、上記拭き取り方向の相違する付着物をそれぞれ吸収部に押し付けることができ、汚染された拭き取り部を効果的に清掃することができる。
【００６３】
また、往復運動させて、吸収部に拭き取り部を複数回接触させた場合には、複数の吸収部を設ける場合と比較して、本発明に係る保守装置を小型化することができる。なお、拭き取り部支持部の往復運動は簡単な制御で行なうことができる。
【００６４】
なお、樹脂ベルト４などの移動機構による拭き取り部の移動する軌道は、当該拭き取り部が異なる３方向以上の方向から吸収部に接触する軌道であってもよい。３方向以上の方向から吸収部に接触する軌道にするためには、ワイパー支持部２の軌道を一直線的ではなく、平面的又は立体的な軌道にすればよい。また、吸収部を複数設けているときは、図６のように、移動機構による拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００６５】
図６において、樹脂ベルト４などの移動機構によるワイパー１の軌道は一直線上になっており、当該一直線上に、ワイピングされるヘッド３１及びワイパー清掃部２０が位置している。また、ワイピングする際にも樹脂ベルト４以外の駆動機構を必要としない。そのため、本発明の一実施形態に係る保守装置１０は簡易な構造で構成することができる。
【００６６】
吸収部２１、２２とワイパー１とが所定の回数接触したとき、ワイパー清掃部２０によるワイパー１の清掃は終了する。ワイパー１の清掃が終了すると、ワイパー支持部２は図２の待機場所に配置される。再度ワイピングが必要になったときにはこれまで説明した動作を繰り返す。
【００６７】
次に、吸収部取り替え機構２７によって新しい吸収部に取り替えられることについて説明する。
【００６８】
ワイパー１が予め定められた回数、吸収部２１、２２に接触した場合には、吸収部取り替え機構制御手段２８が吸収部取り替え機構２７を制御することによって、新しい吸収部２１、２２に取り替えられる。図２において、吸収部取り替え機構２７を稼動させた場合に、吸収部取り替え機構２７は吸収部材２５を送り出す。そして、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部材２５の部位が変更され、新しい吸収部材２５の部位が吸収部２１、２２となり、吸収部支持部２３、２４に支持される。このとき、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さによっては、吸収部支持部２４に支持された部位が、再度吸収部支持部２３に支持され得る。
【００６９】
例えば、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さが、吸収部支持部２３に支持された部位の長さ以下であれば、数回吸収部材２５が送られると、吸収部支持部２４に支持された部位の少なくとも一部は、再度吸収部支持部２３に支持されて吸収部２１として使用される。このとき、一度吸収部２２として使用した部位を再度吸収部２１として使用することができるため、吸収部材２５の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００７０】
また、吸収部２１として使用されていた吸収部材２５の部位は、取り替えられた後は吸収部としては使用せずに、廃棄される。
【００７１】
吸収部支持部２４に支持されていた吸収部材２５の部位が吸収部２１として最初にワイパー１に接触するため、ワイパー１との接触回数がより多い吸収部２１がワイパー１に最初に接触し、ワイパー１との接触回数がより少ない吸収部２２がワイパー１に次に接触する。よって、ワイパーと吸収部２１との最初の接触により、ワイパー１に付着した付着物を効率的に除去することができる。
【００７２】
なお、本実施形態においては、吸収部及び吸収部支持部を２つ設けているが、これに限定されない。つまり、吸収部及び吸収部支持部は１つであっても、ワイパー１が複数回接触することができればよく、吸収部及び吸収部支持部は３つ以上であってもよい。吸収部等が３つ以上ある場合には、拭き取り部の清掃において、拭き取り部が最初に接触する吸収部が吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部となり、拭き取り部が最後に接触する吸収部が吸収部支持部に支持されてからもっとも短い時間が経過した吸収部となる。つまり、最初に接触する吸収部は、他の吸収部と比較して、今までに拭き取り部に接触した回数が多いため、他の吸収部よりも付着物により汚染されていることになり、最初にこの吸収部に接触することによって、拭き取り部に付着した付着物を効率的に除去することができる。
【００７３】
また、図７のようにワイパー１及びワイパー支持部２を往復運動させるときは、吸収部２２だけにワイパー１が繰り返し接触するようにしてもよい。この場合、最初に接触する吸収部２１は付着物が多く吸収され、より汚染されていることから、吸収した汚れが往復運動によって再度ワイパー１に付着することを防止するためである。なお、吸収部が３つ以上ある場合であっても、拭き取り部が最初に接触する吸収部以外の吸収部の間を拭き取り部が往復運動すればよい。
【００７４】
〔付記事項〕
本発明に係る一実施形態である保守装置１０は、ヘッド３１に設けられたノズル３２からインクを吐出することでメディア１００に印刷を行なう液滴吐出装置６０のヘッド３１の保守装置１０であって、ヘッド３１の表面であってノズル３２が設けられた面上の付着物を拭き取るワイパー１と、ワイパー１の付着物を吸収する吸収部２１、２２と、ワイパー１を移動させる樹脂ベルト４と、を備え、上記移動機構によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触する軌道であることを特徴としている。
【００７５】
ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触することで、ワイパー１の付着物を吸収部２１、２２が除去する効率が向上する。よって、より長期間ワイパー１を清潔に保つことができ、ヘッド３１のノズル３２が設けられた面の清掃効率もより長期間保つことができる。よって、長期間安定してノズル３２が設けられた面のワイパー１の清掃効果を得ることができる。
【００７６】
保守装置１０では、吸収部２１、２２を支持する吸収部支持部２３、２４と、吸収部支持部２３、２４に支持される吸収部２１、２２を取り替える吸収部取り替え機構２７と、をさらに備えていることがより好ましい。
【００７７】
ワイパー１が吸収部２１、２２に接触することで汚染された吸収部２１、２２を、新しい吸収部に取り替えることができる。よって、より長期間、安定した吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定したワイパー１による清掃効果を得ることができる。
【００７８】
保守装置１０では、吸収部取り替え機構２７による吸収部２１、２２の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段２８をさらに備え、吸収部取り替え機構制御手段２８は、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２にワイパー１が予め定められた回数接触した後に、吸収部２１、２２を取り替えるものであることがより好ましい。
【００７９】
予め定められた回数接触した後に、新しい吸収部に取り替えることによって、より長期間、安定した吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定したワイパー１による清掃効果を得ることができる。
【００８０】
保守装置１０では、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が少なくとも異なる２以上の方向から吸収部２１、２２に接触する軌道であることがより好ましい。
【００８１】
異なる２以上の方向から吸収部２１、２２にワイパー１を接触させることで、ワイパー１の様々な方向に付着した付着物を吸収部２１、２２に吸収させることができる。そのため、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を向上させ、ひいてはワイピングによる清掃効果をより向上させることができる。
【００８２】
保守装置１０では、吸収部支持部２３、２４を複数備え、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、それぞれの吸収部支持部２３、２４が支持する吸収部２１、２２に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００８３】
複数の吸収部２１、２２を設け、それぞれに少なくとも１回ずつ付着物を吸着させることによって、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を向上させることができる。また、複数の吸収部２１、２２を設けることによって、簡単にワイパー１を吸収部２１、２２に複数回接触させることができ、保守装置１０の構造を単純にすることができる。
【００８４】
保守装置１０では、吸収部支持部２３、２４は吸収部２１、２２に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることがより好ましい。
【００８５】
溶剤を吸収部２１、２２に供給することによって、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効率をより高めることができる。
【００８６】
保守装置１０では、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部であって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位であり、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位を変更するものであることがより好ましい。
【００８７】
簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部２１、２２を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００８８】
保守装置１０では、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部であって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位であり、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位を変更するものであり、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さは、吸収部支持部２３、２４に支持された部位の長さ以下であり、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、複数の吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２のうち、はじめて複数の吸収部支持部２３、２４のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い方の吸収部である吸収部２１に最初にワイパー１が接触する軌道であることが好ましい。
【００８９】
吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さは、吸収部支持部２３、２４に支持された部位の長さ以下であり、全ての吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部である。なお、本実施形態では吸収部２１、２２の長さ（吸収部支持部２３、２４で支持されている部位の長さ）は同じであるが、異なる場合は、上記一回に送る吸収部材２５の長さは、いずれか短い方の長さとなる。このように吸収部を取り替えることによって、例えば、吸収部支持部２４に支持された吸収部２２の部位の少なくとも一部は、再度別の吸収部支持部２３に支持されて吸収部２１として使用される。つまり、一度吸収部２２として使用した吸収部材２５を再度吸収部２１として使用することができるため、吸収部材２５の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００９０】
さらに、吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部である吸収部２１が最初にワイパー１に接触するため、ワイパー１との接触回数がより多い吸収部２１がワイパー１に最初に接触し、ワイパー１との接触回数がより少ない吸収部２２がワイパー１に次に接触する。最も汚染が進んでいる吸収部に最初にある程度の付着物を吸収させた後に、汚染の進んでいない吸収部で拭き取り部を清掃することができ、清掃効率が向上する。
【００９１】
本発明に係る液滴吐出装置６０は、上記の保守装置１０を備えている。
【００９２】
保守装置１０を備えることによって、長期間安定してノズル３２が設けられた面におけるワイパー１の清掃効果を得ることができる。
【００９３】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明に係る保守装置は、インクジェットプリンタ等に利用することができる。
【符号の説明】
【００９５】
１ ワイパー（拭き取り部）
２ ワイパー支持部
３ 面状部材
４ 樹脂ベルト（移動機構）
１０ 保守装置
２０ ワイパー清掃部
２１、２２ 吸収部
２３、２４ 吸収部支持部
２５ 吸収部材（シート状部材）
２６ 溶剤供給部
２７ 吸収部取り替え機構
２８ 吸収部取り替え機構制御手段
３０ キャリッジ
３１ ヘッド
３２ ノズル
４０ フラッシング用ステーション
５０ ガイド機構
６０ 液滴吐出装置
１００ メディア（被記録媒体）
【技術分野】
【０００１】
本発明は保守装置及び液滴吐出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１にはノズル面を払拭する払拭部材に付着した液体を拭き取る液体拭き取り部が設けられた液体噴射装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−９５７０４号公報（２００６年４月１３日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の装置では払拭部材の清掃が十分ではなく、払拭部材によるノズル面の清掃効率が低下するという問題がある。
【０００５】
特に乾燥による増粘が発生しやすいインクの場合、ノズル面を払拭するワイパー及びワイパーを清掃する部材に増粘したインクが固着しやすい。特許文献１に記載の装置では、残留したインクが固着しやすく所望の効率でワイパーを清掃できない。長時間にわたる大量印刷を行なうプリンタでは、特に顕著に清掃効率が低くなる。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、より長期間安定してノズルが設けられた面における拭き取り部の清掃効果を得ることができる保守装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る保守装置は、ヘッドに設けられたノズルから液滴を吐出することで被記録媒体に印刷を行なう液滴吐出装置の上記ヘッドの保守装置であって、ヘッドの表面であってノズルが設けられた面上の付着物を拭き取る拭き取り部と、上記拭き取り部の付着物を吸収する吸収部と、上記拭き取り部を移動させる移動機構と、を備え、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が上記吸収部に複数回接触する軌道であることを特徴としている。
【０００８】
拭き取り部が吸収部に複数回接触することで、拭き取り部の付着物を吸収部が除去する効率が向上する。よって、より長期間拭き取り部を清潔に保つことができ、ヘッドのノズルが設けられた面の清掃効率もより長期間保つことができる。よって、長期間安定してノズルが設けられた面の拭き取り部の清掃効果を得ることができる。
【０００９】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部を支持する吸収部支持部と、上記吸収部支持部に支持される上記吸収部を取り替える吸収部取り替え機構と、をさらに備えていることがより好ましい。
【００１０】
拭き取り部が吸収部に接触することで汚染された当該吸収部を、新しい吸収部に取り替えることができる。よって、より長期間、安定した吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定した拭き取り部による清掃効果を得ることができる。
【００１１】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部取り替え機構による上記吸収部の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段をさらに備え、上記吸収部取り替え機構制御手段は、上記吸収部支持部に支持された上記吸収部に上記拭き取り部が予め定められた回数接触した後に、上記吸収部を取り替えるものであることがより好ましい。
【００１２】
予め定められた回数接触した後に新しい吸収部に取り替えることによって、より長期間、安定した吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定した拭き取り部による清掃効果を得ることができる。
【００１３】
本発明に係る保守装置では、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が少なくとも異なる２以上の方向から上記吸収部に接触する軌道であることがより好ましい。
【００１４】
異なる２以上の方向から吸収部に拭き取り部を接触させることで、拭き取り部の様々な方向に付着した付着物を吸収部に吸収させることができる。そのため、吸収部による拭き取り部の付着物の除去効果を向上させ、ひいては拭き取り部による清掃効果をより向上させることができる。
【００１５】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部支持部を複数備え、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの上記吸収部支持部が支持する吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００１６】
複数の吸収部を設け、それぞれに少なくとも１回ずつ付着物を吸着させることによって、吸収部による付着物の除去効果を向上させることができる。また、複数の吸収部を設けることによって、簡単に拭き取り部を吸収部に複数回接触させることができ、保守装置の構造を単純にすることができる。
【００１７】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部支持部は上記吸収部に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることがより好ましい。
【００１８】
溶剤を吸収部に供給することによって、吸収部による拭き取り部の付着物の除去効率をより向上させることができる。
【００１９】
本発明に係る保守装置では、上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであることがより好ましい。
【００２０】
簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００２１】
本発明に係る保守装置は、上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであり、上記吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、上記吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、複数の上記吸収部支持部に支持された上記吸収部のうち、はじめて複数の上記吸収部支持部のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い上記吸収部に最初に上記拭き取り部が接触する軌道であることが好ましい。
【００２２】
吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、全ての吸収部はシート状部材の一部である。そのため、吸収部を取り替えることによって、いずれかの吸収部支持部に支持された部位の少なくとも一部は、再度別の吸収部支持部に支持されて吸収部として使用される。付着物が付着した吸収部の全てを更新すると付着物による汚染が低度である部位まで更新されてしまいコストが高くなるが、上記の構成によれば、一度吸収部として使用したシート状部材も、汚染が軽度である箇所は再度吸収部として使用することができる。よって、シート状部材の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００２３】
さらに、吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部が最初に拭き取り部に接触するため、拭き取り部との接触回数がより多い吸収部が拭き取り部に最初に接触し、拭き取り部との接触回数がより少ない吸収部が拭き取り部に次に接触する。よって、最も汚染が進んでいる吸収部に最初にある程度の付着物を吸収させた後に、汚染の進んでいない吸収部で拭き取り部を清掃することができ、清掃効率が向上する。
【００２４】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、上記の保守装置を備えている。
【００２５】
上記保守装置を備えることによって、より長期間安定してノズルが設けられた面における拭き取り部の清掃効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明に係る保守装置は、より長期間安定してノズルが設けられた面の拭き取り部の清掃効果を得ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明の一実施形態である保守装置１０の構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０のキャリッジ３０が、矢印Ｘ１方向に往復運動し、メディア１００上を走査していることを示す図である。
【図４】ワイパー１及びワイパー支持部２がワイピング前の配置場所に移動したことを示す図である。
【図５】矢印Ｘ２方向にキャリッジが移動し、保守装置１０上にて停止していることを示す図である。
【図６】ワイパー１が、Ｚ１方向に移動してワイピングを行った後、Ｚ２方向に移動してワイパー清掃部２０によりワイパー１の清掃がなされることを示す図である。
【図７】ワイパー支持部２が矢印Ｙ４方向に往復運動することで、ワイパー１が吸収部２１、２２に清掃されていることを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
〔液滴吐出装置６０の構成〕
まず、本発明に係る液滴吐出装置の一実施形態である液滴吐出装置６０の構成について図１を用いて説明する。図１は、液滴吐出装置６０の構成を模式的に示す図である。
【００２９】
図１に示すように、液滴吐出装置６０は保守装置１０、キャリッジ３０、フラッシング用ステーション４０及びガイド機構５０を備えている。また、液滴吐出装置６０は、メディア（被記録媒体）１００に対して、インク（液滴）を吐出し、図、文字等を印刷するための装置である。
【００３０】
保守装置１０は、ワイパー１を用いて後述するヘッド３１のノズル３２が設けられた面（フェイス）上の付着部を拭き取る（ワイピング）ための装置である。また、保守装置１０は、ヘッド３１の清掃によりワイパー１に付着した付着物をワイパー清掃部２０に吸収させて、ワイパー１を清掃する。なお、保守装置１０の詳しい構成については、後述する。
【００３１】
キャリッジ３０は、ヘッド３１を搭載している。ヘッド３１は、インクを格納し、かつメディア１００に対して、インクを吐出するためのものである。また、ヘッド３１のメディア１００に対向する面には、複数のノズル３２が設けられている。ヘッド３１は、ガイド機構５０に支持されているキャリッジ３０が矢印Ｘ方向に往復運動してメディア１００上を走査しているときに、印刷する図形等の情報に応じてノズル３２からメディア１００にインクを吐出する。
【００３２】
フラッシング用ステーション４０は、フラッシングを行なうための場所であり、保守装置１０に隣接して設けられている。ヘッド３１はフラッシング用ステーション４０上まで移動した後にフラッシングを行い、ノズル３２の清掃が行なわれる。ここで、「フラッシング」とは、ヘッドが備える振動素子（図示せず；例えば圧電素子等）によってノズルに連通するインク貯留室に振動を与えることによって、ノズルからインクを吐出して、ノズル内の混色したインクを吐出することをいう。
【００３３】
ガイド機構５０は、キャリッジ３０を支持しており、キャリッジ３０の移動範囲を規定するものである。キャリッジ３０がメディア１００上を走査しているときは、ガイド機構
５０に沿って、矢印Ｘ方向に往復運動している。また、キャリッジ３０は、ヘッド３１の面上をワイピングする必要が生じたときは、保守装置１０上に移動し、フラッシングが必要なときは、フラッシング用ステーション４０上に移動する。
【００３４】
〔保守装置１０の構成〕
次に、本発明に係る保守装置の一実施形態について図２〜７を用いて説明する。図２は、本発明の一実施形態である保守装置１０の構成を模式的に示す図である。
【００３５】
保守装置１０は、ワイパー（拭き取り部）１、ワイパー支持部２、面状部材３、樹脂ベルト（移動機構）４及びワイパー清掃部２０を備えている。
【００３６】
ワイパー１は、ノズル３２が設けられたヘッド３１の表面に接触した状態のまま移動することによって、当該表面上の付着物を拭き取るための部材である。ワイパー支持部２は、ワイパー１を支持し、ワイパー１を移動させるための部材である。さらに、ワイパー支持部２には、軸部が貫通して設けられている。
【００３７】
なお、ワイパー１はヘッド３１の表面を傷つけない柔軟性を有するもの、例えば、樹脂によって形成されているものが好ましい。ワイパーの材質としては、ヘッドを傷つけない程度の弾性を有し、ある程度の耐薬品性を有する材料が好ましい。例えば、天然ゴムや合成ゴムなどが挙げられる。
【００３８】
面状部材３は、樹脂ベルト４を覆うように配置されており、当該面状部材３には、２列の溝が設けられている。上記溝は、ワイパー１を移動させる方向に沿って設けられており、さらに対向する面状部材３の間にワイパー支持部２が位置している。そして、ワイパー支持部２に設けられている軸部の両端はそれぞれ対面する面状部材３の溝に嵌合しており、当該溝に沿って、ワイパー支持部２は移動する。また、面状部材３の溝はワイパー支持部２の移動範囲及び移動方法を規定している。
【００３９】
樹脂ベルト４はワイパー支持部２を移動させるための移動機構である。樹脂ベルト４上には、溝に嵌合している軸部の両端が載置されている。樹脂ベルト４を稼動させることによって、軸部が樹脂ベルト４に乗って運ばれ、ワイパー支持部２は溝に沿って移動する。
【００４０】
ワイパー清掃部２０は、ワイピングによりワイパー１に付着した付着物を除去するための清掃部材であり、面状部材３上に設けられている。以下、ワイパー清掃部２０について、詳細に説明する。
【００４１】
ワイパー清掃部２０は、吸収部２１、２２、吸収部支持部２３、２４、吸収部材（シート状部材）２５、溶剤供給部２６、吸収部取り替え機構２７及び吸収部取り替え機構制御部（吸収部取り替え機構制御手段）２８を備えている。
【００４２】
吸収部２１、２２は、ワイピング後のワイパー１と接触することにより、ワイパー１に付着した付着物を除去する。吸収部支持部２３、２４は、それぞれ吸収部２１、２２を支持するための部材である。なお、吸収部はいくつ設けてもよく、本実施形態のように２つには限定されない。また、吸収部の個数に合わせて吸収部支持部の個数も変化する。ここで、「吸収部」とは、後述する吸収部材２５の一部であり、吸収部支持部に支持されている部位を指している。
【００４３】
複数の吸収部を設けることによって、より除去効率を向上させることができる。また、簡単に拭き取り部を吸収部に複数回接触させることができ、保守装置１０の構造を単純にすることができる。
【００４４】
吸収部材２５は、シート状の部材であって、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部である。吸収部材２５としては、シート状の部材であれば、布、紙、スポンジ等の任意の部材を使用することができる。
【００４５】
溶剤供給部２６は、吸収部２１、２２に付着物を溶解する溶剤を供給するために、吸収部支持部２３、２４にそれぞれ設けられている。吸収部支持部２３、２４、溶剤供給部２６から供給された溶剤を吸収部２１、２２に供給する。これにより、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効率をより向上させることができる。なお、揮発性を有する溶剤を使用する場合には、揮発する量を抑えるために、ワイパー１に接触する吸収部２１、２２にのみ溶剤を供給し、ワイパー１に接触しない吸収部材２５には供給しないことがより好ましい。
【００４６】
ワイピング後のワイパー１が接触する吸収部２１、２２に溶剤が適宜含浸されている状態が好ましいため、溶剤供給部２６から吸収部支持部２３、２４を介して溶剤が吸収部２１、２２に添加されている。例えば、吸収部支持部２３、２４に穴を開けることで溶剤供給部２６から吸収部２１、２２にそれぞれ溶剤を供給してもよい。
【００４７】
また、キャリッジ３０にヒーター等の熱源を設けている場合であっても、上記のように、ワイパー１が接触する吸収部２１、２２のみに溶剤が含浸されていることによって、熱源による溶剤の揮発を抑えることができる。
【００４８】
吸収部取り替え機構２７は、ワイパー１が吸収部２１、２２に接触することで汚染された当該吸収部を新しい吸収部２１、２２に取り替えることができる。具体的にはシート状の吸収部材２５を送ることによって、吸収部２１、２２を取り替える。よって、汚染されて除去効率が低下した吸収部２１、２２にワイパー１が接触することはなく、より長期間、より安定した清掃効果を得ることができる。
【００４９】
また、本形態において、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２の部位を変更することができる。つまり、簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００５０】
吸収部取り替え機構制御部２８は、吸収部２１、２２にワイパー１が予め定められた回数接触した後に、吸収部２１、２２を取り替えるように吸収部取り替え機構２７を制御している。つまり、汚染されて除去効率が著しく低下する前の接触回数を予め定められた回数に設定することによって、除去効率が著しく低下する前に、新しい吸収部に取り替えることができる。
【００５１】
さらに、吸収部材２５が送られることによって、取り替えられる吸収部材２５がなくなったことを知らせるセンサーをワイパー清掃部２０に設けてもよい。また、新しい吸収部材の設置は、吸収部材を取り替える機構をワイパー清掃部２０内に設けて行なってもよく、また手動によって行なってもよい。
【００５２】
次に、図２〜７を用いて、ヘッド３１の表面をワイピングしてから、ワイパー１をワイパー清掃部２０によって清掃するまでの液滴吐出装置６０の動作について説明する。図３は、本発明の一実施形態である液滴吐出装置６０のキャリッジ３０が、矢印Ｘ１方向に往復運動し、メディア１００上を走査していることを示す図である。図３に示すようにキャリッジ３０がメディア１００上を走査している間は、図２に示すようにワイパー１及びワイパー支持部２はワイパー清掃部２０の下で待機している。
【００５３】
次に、図４は、ワイパー１及びワイパー支持部２がワイピング前の配置場所に移動したことを示す図であり、図５は、矢印Ｘ２方向にキャリッジ３０が移動し、保守装置１０上にて停止していることを示す図である。キャリッジ３０は、予め定めておいた回数走査した後、又はヘッド３１にインクなどの付着物が一定量付着していることを検出すること等によりヘッド３１の面上を清掃する必要が生じたときは、保守装置１０上に移動する。また、ワイパー支持部２は、キャリッジ３０を保守装置１０上に移動する前に、矢印Ｙ１方向に移動し、保守装置１０の左端に待機する。
【００５４】
なお、ワイピングの前にパージ動作を行ってもよい。ここで「パージ」とは、ヘッドを振動させずに、ヘッドにインクを供給する際の供給圧を上げることでノズルからインクを吐出して、ノズルを清掃することをいう。供給圧は、例えば、大気圧以上に上げることによって、パージが適切に行われる。またパージを行なう場合には、保守装置１０内に、パージによって吐出されるインクを回収する部材を設けてもよい。
【００５５】
図６は、ワイパー１が、Ｚ１方向に移動してワイピングを行なった後、Ｚ２方向に移動してワイパー清掃部２０によりワイパー１が清掃されることを示す図である。また、キャリッジ３０は、保守装置１０上まで移動すると、ワイパー支持部２とワイパー清掃部２０との間に位置することになる。
【００５６】
まず、ワイパー支持部２は、樹脂ベルト４の稼動によって、矢印Ｙ’２方向に移動する。これにより、ワイパー支持部２が位置（ａ）に到達したとき、ワイパー１がフェイスに接触する。このとき、ワイパー１は矢印Ｚ１方向に移動しつつ、ワイピングを行なう。そして、ワイパー支持部２が位置（ｂ）に到達したとき、ワイピングは終了する。ワイピングを行なうことによって、ノズル３２が設けられた面に付着していた付着物は、ワイパー１によって拭き取られて当該面が清掃されるとともに、ワイパー１に当該付着物が付着する。なお、ワイパー支持部２は位置（ａ）から位置（ｂ）の間を往復運動し、ワイピングを行なってもよい。
【００５７】
また、面状部材３に形成されている２列の溝の幅（２列の溝の高低差）は常に一致している必要はなく、図６等のように、２列の溝の幅が広い箇所と狭い箇所とがあってもよい。なお、図２、６の場合には、上側の溝に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に載置させており、図４の場合には、下側の溝に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に接触させている。つまり、樹脂ベルト４を稼動することによって、ワイパー支持部２を溝に沿って移動させる際に、溝の幅が異なることによって、ワイパー１が起き上がったり傾いたりする。なお、軸部を樹脂ベルト４に固定する方法は特に限定されないが、下側の溝（直線状の溝）に嵌合した軸部を樹脂ベルト４に固定し、上側の溝に嵌合した軸部は樹脂ベルト４に固定しないことが好ましい。直線状の溝に嵌合した軸部に樹脂ベルト４を固定することによって、ワイパー１の角度が変化しても樹脂ベルト４の軌道を一定にすることができ、搬送トルク及び搬送速度への影響を抑制することができる。ワイパー１が起き上がったときにフェイスをワイピングする位置又は吸収部２１、２２に押し付けることができる位置となるように幅を調整すればよい。このように幅を調整するだけでワイパー１の高さを調節できるため、装置の構成が簡易となる。
【００５８】
ワイピングが終了した後において、キャリッジ３０はフラッシング用ステーション４０上までガイド機構５０に沿って移動し、フラッシングを行なってもよい。フラッシングが終了した後、キャリッジ３０はメディア１００上まで移動し、矢印Ｘ１方向に往復運動しつつメディア１００にインクを吐出し、印刷を再開する。
【００５９】
次に、ワイピングを終了した後のワイパー支持部２は矢印Ｙ’２方向に更に移動し、ワイパー清掃部２０の手前まで移動する。次に、ワイパー支持部２は矢印Ｙ’３方向に移動し、ワイパー１が吸収部２１、２２に接触する。これにより、ワイパー１に付着した付着物はワイパー清掃部２０の吸収部２１、２２によって吸収される。このとき、ワイパー１は矢印Ｚ２方向に移動し、まず吸収部２１に接触する。そして、ワイパー１上の付着物の多くが吸収部２１に吸収され、さらに、ワイパー１を矢印Ｚ２方向に移動させることによって、吸収部２２に接触する。そして、吸収部２１に吸収されなかった付着物が吸収部２２に吸収される。このように、樹脂ベルト４によるワイパー１及びワイパー支持部２の移動の軌道は、複数の吸収部２１、２２に少なくとも一回ずつ接触する軌道である。このような軌道にすることによって、より効率よくワイパー１に付着したインクを清掃できる。
【００６０】
また、ここで、吸収部２１は吸収部２２より先にローラーから送られ、吸収部支持部に支持される。つまり、吸収部２１は吸収部支持部２４に支持された後、さらに送られて吸収部支持部２３に支持されている。従って、吸収部２１及び２２のうち、吸収部支持部に支持されてから最も長い時間が経過した吸収部２１に最初にワイパー１が接触する。そして、吸収部２１よりもワイパー１に接触した回数が少ない吸収部２２にワイパー１が接触する。なお、後述のように、吸収部支持部２３、２４によって支持されている吸収部２１、２２の長さ以下の長さで吸収部材２５は送られるので、一旦付着物の吸収に使用された吸収部２２は、必ず、再度、別の吸収部支持部２３にて支持されることになる。よって、吸収部材の使用量を抑えることができコストを削減できる。
【００６１】
次に、ワイパー１を矢印Ｙ４方向に往復運動させて、吸収部２１、２２にワイパー１を複数回接触させている。なお、図７は、ワイパー支持部２が矢印Ｙ４方向に往復運動することで、ワイパー１が吸収部２１、２２に清掃されていることを示す図である。ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触することで、ワイパー１の付着物の除去効率が向上する。
【００６２】
また、このように、樹脂ベルト４によるワイパー１及びワイパー支持部２の移動の軌道を、異なる２以上の方向からワイパー１が吸収部２１、２２に接触する起動とすることによって、複数の方向からワイパー１を清掃することができる。例えば本実施形態のように吸収部２１、２２に対してワイパー１を往復させながら接触させることで、ワイパー１の表及び裏の両面を清掃できる。よって、より長期間ワイパー１を清潔に保つことができ、フェイスの清掃効率もより長期間保つことができる。本発明において、拭き取り部の汚染は拭き取り部によるフェイスの拭き取り方向に依存する。そのため、フェイスを往復運動する拭き取り部の移動経路上に拭き取り部の清掃部（本実施形態のワイパー清掃部２０）を配置すれば、拭き取り部を往復運動することによって、上記拭き取り方向の相違する付着物をそれぞれ吸収部に押し付けることができ、汚染された拭き取り部を効果的に清掃することができる。
【００６３】
また、往復運動させて、吸収部に拭き取り部を複数回接触させた場合には、複数の吸収部を設ける場合と比較して、本発明に係る保守装置を小型化することができる。なお、拭き取り部支持部の往復運動は簡単な制御で行なうことができる。
【００６４】
なお、樹脂ベルト４などの移動機構による拭き取り部の移動する軌道は、当該拭き取り部が異なる３方向以上の方向から吸収部に接触する軌道であってもよい。３方向以上の方向から吸収部に接触する軌道にするためには、ワイパー支持部２の軌道を一直線的ではなく、平面的又は立体的な軌道にすればよい。また、吸収部を複数設けているときは、図６のように、移動機構による拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００６５】
図６において、樹脂ベルト４などの移動機構によるワイパー１の軌道は一直線上になっており、当該一直線上に、ワイピングされるヘッド３１及びワイパー清掃部２０が位置している。また、ワイピングする際にも樹脂ベルト４以外の駆動機構を必要としない。そのため、本発明の一実施形態に係る保守装置１０は簡易な構造で構成することができる。
【００６６】
吸収部２１、２２とワイパー１とが所定の回数接触したとき、ワイパー清掃部２０によるワイパー１の清掃は終了する。ワイパー１の清掃が終了すると、ワイパー支持部２は図２の待機場所に配置される。再度ワイピングが必要になったときにはこれまで説明した動作を繰り返す。
【００６７】
次に、吸収部取り替え機構２７によって新しい吸収部に取り替えられることについて説明する。
【００６８】
ワイパー１が予め定められた回数、吸収部２１、２２に接触した場合には、吸収部取り替え機構制御手段２８が吸収部取り替え機構２７を制御することによって、新しい吸収部２１、２２に取り替えられる。図２において、吸収部取り替え機構２７を稼動させた場合に、吸収部取り替え機構２７は吸収部材２５を送り出す。そして、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部材２５の部位が変更され、新しい吸収部材２５の部位が吸収部２１、２２となり、吸収部支持部２３、２４に支持される。このとき、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さによっては、吸収部支持部２４に支持された部位が、再度吸収部支持部２３に支持され得る。
【００６９】
例えば、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さが、吸収部支持部２３に支持された部位の長さ以下であれば、数回吸収部材２５が送られると、吸収部支持部２４に支持された部位の少なくとも一部は、再度吸収部支持部２３に支持されて吸収部２１として使用される。このとき、一度吸収部２２として使用した部位を再度吸収部２１として使用することができるため、吸収部材２５の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００７０】
また、吸収部２１として使用されていた吸収部材２５の部位は、取り替えられた後は吸収部としては使用せずに、廃棄される。
【００７１】
吸収部支持部２４に支持されていた吸収部材２５の部位が吸収部２１として最初にワイパー１に接触するため、ワイパー１との接触回数がより多い吸収部２１がワイパー１に最初に接触し、ワイパー１との接触回数がより少ない吸収部２２がワイパー１に次に接触する。よって、ワイパーと吸収部２１との最初の接触により、ワイパー１に付着した付着物を効率的に除去することができる。
【００７２】
なお、本実施形態においては、吸収部及び吸収部支持部を２つ設けているが、これに限定されない。つまり、吸収部及び吸収部支持部は１つであっても、ワイパー１が複数回接触することができればよく、吸収部及び吸収部支持部は３つ以上であってもよい。吸収部等が３つ以上ある場合には、拭き取り部の清掃において、拭き取り部が最初に接触する吸収部が吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部となり、拭き取り部が最後に接触する吸収部が吸収部支持部に支持されてからもっとも短い時間が経過した吸収部となる。つまり、最初に接触する吸収部は、他の吸収部と比較して、今までに拭き取り部に接触した回数が多いため、他の吸収部よりも付着物により汚染されていることになり、最初にこの吸収部に接触することによって、拭き取り部に付着した付着物を効率的に除去することができる。
【００７３】
また、図７のようにワイパー１及びワイパー支持部２を往復運動させるときは、吸収部２２だけにワイパー１が繰り返し接触するようにしてもよい。この場合、最初に接触する吸収部２１は付着物が多く吸収され、より汚染されていることから、吸収した汚れが往復運動によって再度ワイパー１に付着することを防止するためである。なお、吸収部が３つ以上ある場合であっても、拭き取り部が最初に接触する吸収部以外の吸収部の間を拭き取り部が往復運動すればよい。
【００７４】
〔付記事項〕
本発明に係る一実施形態である保守装置１０は、ヘッド３１に設けられたノズル３２からインクを吐出することでメディア１００に印刷を行なう液滴吐出装置６０のヘッド３１の保守装置１０であって、ヘッド３１の表面であってノズル３２が設けられた面上の付着物を拭き取るワイパー１と、ワイパー１の付着物を吸収する吸収部２１、２２と、ワイパー１を移動させる樹脂ベルト４と、を備え、上記移動機構によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触する軌道であることを特徴としている。
【００７５】
ワイパー１が吸収部２１、２２に複数回接触することで、ワイパー１の付着物を吸収部２１、２２が除去する効率が向上する。よって、より長期間ワイパー１を清潔に保つことができ、ヘッド３１のノズル３２が設けられた面の清掃効率もより長期間保つことができる。よって、長期間安定してノズル３２が設けられた面のワイパー１の清掃効果を得ることができる。
【００７６】
保守装置１０では、吸収部２１、２２を支持する吸収部支持部２３、２４と、吸収部支持部２３、２４に支持される吸収部２１、２２を取り替える吸収部取り替え機構２７と、をさらに備えていることがより好ましい。
【００７７】
ワイパー１が吸収部２１、２２に接触することで汚染された吸収部２１、２２を、新しい吸収部に取り替えることができる。よって、より長期間、安定した吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定したワイパー１による清掃効果を得ることができる。
【００７８】
保守装置１０では、吸収部取り替え機構２７による吸収部２１、２２の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段２８をさらに備え、吸収部取り替え機構制御手段２８は、吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２にワイパー１が予め定められた回数接触した後に、吸収部２１、２２を取り替えるものであることがより好ましい。
【００７９】
予め定められた回数接触した後に、新しい吸収部に取り替えることによって、より長期間、安定した吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を得ることができ、ひいては、より長期間、安定したワイパー１による清掃効果を得ることができる。
【００８０】
保守装置１０では、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、ワイパー１が少なくとも異なる２以上の方向から吸収部２１、２２に接触する軌道であることがより好ましい。
【００８１】
異なる２以上の方向から吸収部２１、２２にワイパー１を接触させることで、ワイパー１の様々な方向に付着した付着物を吸収部２１、２２に吸収させることができる。そのため、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を向上させ、ひいてはワイピングによる清掃効果をより向上させることができる。
【００８２】
保守装置１０では、吸収部支持部２３、２４を複数備え、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、それぞれの吸収部支持部２３、２４が支持する吸収部２１、２２に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることがより好ましい。
【００８３】
複数の吸収部２１、２２を設け、それぞれに少なくとも１回ずつ付着物を吸着させることによって、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効果を向上させることができる。また、複数の吸収部２１、２２を設けることによって、簡単にワイパー１を吸収部２１、２２に複数回接触させることができ、保守装置１０の構造を単純にすることができる。
【００８４】
保守装置１０では、吸収部支持部２３、２４は吸収部２１、２２に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることがより好ましい。
【００８５】
溶剤を吸収部２１、２２に供給することによって、吸収部２１、２２によるワイパー１の付着物の除去効率をより高めることができる。
【００８６】
保守装置１０では、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部であって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位であり、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位を変更するものであることがより好ましい。
【００８７】
簡単な構造によって、汚染されて除去効率が低下した吸収部２１、２２を新しい吸収部と取り替えることができる。
【００８８】
保守装置１０では、吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部であって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位であり、吸収部取り替え機構２７は、吸収部材２５を送ることによって、吸収部支持部２３、２４に支持された部位を変更するものであり、吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さは、吸収部支持部２３、２４に支持された部位の長さ以下であり、樹脂ベルト４によるワイパー１の移動する軌道は、複数の吸収部支持部２３、２４に支持された吸収部２１、２２のうち、はじめて複数の吸収部支持部２３、２４のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い方の吸収部である吸収部２１に最初にワイパー１が接触する軌道であることが好ましい。
【００８９】
吸収部取り替え機構２７が一回に送る吸収部材２５の長さは、吸収部支持部２３、２４に支持された部位の長さ以下であり、全ての吸収部２１、２２は、吸収部材２５の一部である。なお、本実施形態では吸収部２１、２２の長さ（吸収部支持部２３、２４で支持されている部位の長さ）は同じであるが、異なる場合は、上記一回に送る吸収部材２５の長さは、いずれか短い方の長さとなる。このように吸収部を取り替えることによって、例えば、吸収部支持部２４に支持された吸収部２２の部位の少なくとも一部は、再度別の吸収部支持部２３に支持されて吸収部２１として使用される。つまり、一度吸収部２２として使用した吸収部材２５を再度吸収部２１として使用することができるため、吸収部材２５の使用量を抑制することができ、コストを削減することができる。
【００９０】
さらに、吸収部支持部に支持されてからもっとも長い時間が経過した吸収部である吸収部２１が最初にワイパー１に接触するため、ワイパー１との接触回数がより多い吸収部２１がワイパー１に最初に接触し、ワイパー１との接触回数がより少ない吸収部２２がワイパー１に次に接触する。最も汚染が進んでいる吸収部に最初にある程度の付着物を吸収させた後に、汚染の進んでいない吸収部で拭き取り部を清掃することができ、清掃効率が向上する。
【００９１】
本発明に係る液滴吐出装置６０は、上記の保守装置１０を備えている。
【００９２】
保守装置１０を備えることによって、長期間安定してノズル３２が設けられた面におけるワイパー１の清掃効果を得ることができる。
【００９３】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明に係る保守装置は、インクジェットプリンタ等に利用することができる。
【符号の説明】
【００９５】
１ ワイパー（拭き取り部）
２ ワイパー支持部
３ 面状部材
４ 樹脂ベルト（移動機構）
１０ 保守装置
２０ ワイパー清掃部
２１、２２ 吸収部
２３、２４ 吸収部支持部
２５ 吸収部材（シート状部材）
２６ 溶剤供給部
２７ 吸収部取り替え機構
２８ 吸収部取り替え機構制御手段
３０ キャリッジ
３１ ヘッド
３２ ノズル
４０ フラッシング用ステーション
５０ ガイド機構
６０ 液滴吐出装置
１００ メディア（被記録媒体）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘッドに設けられたノズルから液滴を吐出することで被記録媒体に印刷を行なう液滴吐出装置の上記ヘッドの保守装置であって、
ヘッドの表面であってノズルが設けられた面上の付着物を拭き取る拭き取り部と、
上記拭き取り部の付着物を吸収する吸収部と、
上記拭き取り部を移動させる移動機構と、を備え、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が上記吸収部に複数回接触する軌道であることを特徴とする保守装置。
【請求項２】
上記吸収部を支持する吸収部支持部と、
上記吸収部支持部に支持される上記吸収部を取り替える吸収部取り替え機構と、をさらに備える請求項１に記載の保守装置。
【請求項３】
上記吸収部取り替え機構による上記吸収部の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段をさらに備え、
上記吸収部取り替え機構制御手段は、上記吸収部支持部に支持された上記吸収部に上記拭き取り部が予め定められた回数接触した後に、上記吸収部を取り替えるものであることを特徴とする請求項２に記載の保守装置。
【請求項４】
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が少なくとも異なる２以上の方向から上記吸収部に接触する軌道であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の保守装置。
【請求項５】
上記吸収部支持部を複数備え、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの上記吸収部支持部が支持する吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることを特徴とする請求項２又は３に記載の保守装置。
【請求項６】
上記吸収部支持部は上記吸収部に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることを特徴とする請求項２、３又は５に記載の保守装置。
【請求項７】
上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、
上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであることを特徴とする請求項２、３、５又は６に記載の保守装置。
【請求項８】
上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、
上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであり、
上記吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、上記吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、複数の上記吸収部支持部に支持された上記吸収部のうち、はじめて複数の上記吸収部支持部のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い上記吸収部に最初に上記拭き取り部が接触する軌道であることを特徴とする請求項５に記載の保守装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の保守装置を備える液滴吐出装置。
【請求項１】
ヘッドに設けられたノズルから液滴を吐出することで被記録媒体に印刷を行なう液滴吐出装置の上記ヘッドの保守装置であって、
ヘッドの表面であってノズルが設けられた面上の付着物を拭き取る拭き取り部と、
上記拭き取り部の付着物を吸収する吸収部と、
上記拭き取り部を移動させる移動機構と、を備え、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が上記吸収部に複数回接触する軌道であることを特徴とする保守装置。
【請求項２】
上記吸収部を支持する吸収部支持部と、
上記吸収部支持部に支持される上記吸収部を取り替える吸収部取り替え機構と、をさらに備える請求項１に記載の保守装置。
【請求項３】
上記吸収部取り替え機構による上記吸収部の取り替えを制御する吸収部取り替え機構制御手段をさらに備え、
上記吸収部取り替え機構制御手段は、上記吸収部支持部に支持された上記吸収部に上記拭き取り部が予め定められた回数接触した後に、上記吸収部を取り替えるものであることを特徴とする請求項２に記載の保守装置。
【請求項４】
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、上記拭き取り部が少なくとも異なる２以上の方向から上記吸収部に接触する軌道であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の保守装置。
【請求項５】
上記吸収部支持部を複数備え、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、それぞれの上記吸収部支持部が支持する吸収部に少なくとも１回ずつ接触する軌道であることを特徴とする請求項２又は３に記載の保守装置。
【請求項６】
上記吸収部支持部は上記吸収部に上記付着物を溶解する溶剤を供給するものであることを特徴とする請求項２、３又は５に記載の保守装置。
【請求項７】
上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、
上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであることを特徴とする請求項２、３、５又は６に記載の保守装置。
【請求項８】
上記吸収部は、シート状部材の一部であって、上記吸収部支持部に支持された部位であり、
上記吸収部取り替え機構は、上記シート状部材を送ることによって、上記吸収部支持部に支持された部位を変更するものであり、
上記吸収部取り替え機構が一回に送るシート状部材の長さは、上記吸収部支持部に支持された部位の長さ以下であり、
上記移動機構による上記拭き取り部の移動する軌道は、複数の上記吸収部支持部に支持された上記吸収部のうち、はじめて複数の上記吸収部支持部のうちのいずれかに支持されてから経過した時間が最も長い上記吸収部に最初に上記拭き取り部が接触する軌道であることを特徴とする請求項５に記載の保守装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の保守装置を備える液滴吐出装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１３−１１１７４８（Ｐ２０１３−１１１７４８Ａ）
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２５６８０１（Ｐ２０１１−２５６８０１）
【出願日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【出願人】（０００１３７８２３）株式会社ミマキエンジニアリング (437)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月２４日（２０１１．１１．２４）
【出願人】（０００１３７８２３）株式会社ミマキエンジニアリング (437)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]