説明

偽造防止媒体およびその製造方法

【課題】本発明は、基材の両面にパターンを形成したものを光で透かして見たときに両面のパターンが合成されて出現する画像を確認することで真偽の判定ができる、偽造が困難な偽造防止媒体およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記第2パターンが、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とする偽造防止媒体を提供することにより、上記課題を解決する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、紙幣、有価証券、証明書等の偽造防止技術に関するものである。
【背景技術】
【0002】
各国紙幣等の一部には光に透かして見ると、表の模様と裏の模様が重なって、完成された模様となって見えるものがある。これは一つの図柄を2分割して、一方を基材の表面に、他方を基材の裏面に印刷したもので、単純なパターンが多い。したがって、通常の複写機を用いても容易に再現でき、偽造防止効果が低かった。
【0003】
なお、印刷方式または印刷加工方式による偽造防止技術については、例えば特許文献1〜4に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2000−272219号公報
【特許文献2】特開2001−39004号公報
【特許文献3】特開2007−253600号公報
【特許文献4】特開2008−12722号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、基材の両面にパターンを形成したものを光で透かして見たときに両面のパターンが合成されて出現する画像を確認することで真偽の判定ができる、偽造が困難な偽造防止媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するために、本発明は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記第2パターンが、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とする偽造防止媒体を提供する。
【0007】
本発明においては、第2パターンが、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられており、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察すると、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターンおよび第2パターンで形成される偽造防止パターンでは、濃淡により錯視が発現する。通常の複写機では、第1パターンおよび第2パターンの高精度な位置合わせが困難である上に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を考慮して第2パターンを複写することも困難である。したがって本発明においては、高い偽造防止効果を達成することができる。
【0008】
上記発明においては、上記偽造防止パターンが、高濃度領域と、中濃度領域と、低濃度領域とを有することが好ましい。この場合、上記高濃度領域が上記第1パターンで構成され、上記中濃度領域が上記第2パターンで構成され、上記低濃度領域が上記基材の両面に上記第1パターンおよび上記第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されていることが好ましい。基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたとき、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することができるからである。
【0009】
さらに本発明は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体の製造方法であって、上記偽造防止媒体は、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、上記基材の他方の面に、上記第2パターンを、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程とを有することを特徴とする偽造防止媒体の製造方法を提供する。
【0010】
本発明においては、第2パターンを、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成することによって、上述したように優れた偽造防止効果を得ることができる。したがって、既存の材料および装置を用いて偽造防止媒体を作製することが可能である。
【発明の効果】
【0011】
本発明においては、偽造防止媒体を光に透かして観察すると偽造防止パターンが出現し錯視が生じるので、偽造防止効果を向上させることが可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】本発明の偽造防止媒体の一例を示す概略平面図および断面図である。
【図2】本発明の偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態の一例を示す模式図である。
【図3】本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図である。
【図4】本発明の偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態の他の例を示す模式図である。
【図5】本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図である。
【図6】本発明の偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態の他の例を示す模式図である。
【図7】本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図である。
【図8】本発明の偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態の他の例を示す模式図である。
【図9】本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略断面図である。
【図10】本発明の偽造防止媒体の製造方法に用いられる錯視図形の一例を示す模式図である。
【図11】本発明の偽造防止媒体の製造方法に用いられる錯視図形を分解したパターンの一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本発明の偽造防止媒体およびその製造方法について詳細に説明する。
【0014】
A.偽造防止媒体
本発明の偽造防止媒体は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記第2パターンが、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とするものである。
【0015】
本発明の偽造防止媒体について図面を参照しながら説明する。
図1(a)〜(c)は本発明の偽造防止媒体の一例を示す概略平面図および断面図であり、図1(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図1(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図、図1(c)は図1(a)、(b)のA−A線断面図である。図1(a)〜(c)に例示するように、偽造防止媒体1は、基材2と、基材2の一方の面に設けられた第1パターン3と、基材2の他方の面に設けられた第2パターン4とを有している。第1パターン3は、正方形が規則的に配列されたパターンであり、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されている。第2パターン4は、第1パターン3の正方形と同じ大きさの正方形の開口部を有する格子のパターンで、さらに格子の交差部分に円形の開口部を有するパターンであり、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されている。これらの第1パターン3および第2パターン4は、第1パターン3の正方形と、第2パターン4の格子の正方形の開口部とが合うように位置合わせされて印刷されている。
【0016】
図2は、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察すると、図2に例示するように、第1パターン3と第2パターン4とにより偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されており、基材2の一方の面を手前にしているので、濃度が維持された状態(例えば黒色)で視認される。第2パターン4は、所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷されており、基材2の一方の面を手前にしているので、濃度が低下した状態(例えば灰色)で視認される。基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分(円形の部分)は、光が透過するので、基材2の色、濃度、透過率等に応じた状態(例えば白色)で視認される。そのため、偽造防止パターン10では、第1パターン3は高濃度領域11を構成し、第2パターン4は中濃度領域12を構成し、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4がいずれも印刷されていない部分は低濃度領域13を構成することになる。
【0017】
このように、偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態では、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるので、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて印刷されている。例えば図2において、偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かしたときに第2パターン4は濃度が低下した状態(例えば灰色)で視認されるので、図1(b)に示すように、第2パターン4は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分に基づいて、所定の濃度(例えば黒色)で印刷されている。
【0018】
本発明において、偽造防止パターンは錯視を発現するものである。図2に示す偽造防止パターン10では、格子の中濃度領域12(灰色)の交差部分にある円形の低濃度領域13(白色)の中に、黒っぽいものが現れたり、消えたりする。これは、実際にはないはずの黒い点がちらついて見えるものであり、きらめき格子錯視(Schrauf, Lingelbach and Wist, 1997)と呼ばれている。
【0019】
なお、本発明において、「錯視」とは、濃淡により生じる錯視をいい、濃淡によって実際の図形とは異なる図形に見えることをいう。
【0020】
図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面から反射光によって見た場合には、偽造防止媒体を基材の一方の面から透過光によって見た場合と比較して、第2パターンはさらに濃度が低下して視認され難くなり、所定の濃淡が出ないために錯視は起こらず、偽造防止パターンは認識できない。また、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の他方の面から反射光によって見た場合には、第1パターンは濃度が低下して視認され難くなり、所定の濃淡が出ないために錯視は起こらず、偽造防止パターンは認識できない。これに対し、図1(a)〜(c)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面から透過光によって見た場合には、図2に例示するように、偽造防止パターン10が出現し、濃淡によって錯視が生じる。
【0021】
このように本発明においては、光に透かして見ると通常では認識できない偽造防止パターンが出現し、錯視が起こるので、偽造防止技術として有効である。通常の複写機では、第1パターンおよび第2パターンの高精度な位置合わせが困難である上に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を考慮して第2パターンを複写することも困難であるため、偽造防止パターンが出現し錯視が発現するように第1パターンおよび第2パターンを再現することは非常に難しい。したがって本発明においては、優れた偽造防止効果を得ることが可能である。
【0022】
以下、本発明の偽造防止媒体における各構成について説明する。
【0023】
1.偽造防止パターン、第1パターン、第2パターン
本発明における偽造防止パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、基材の一方の面に設けられた第1パターンと、基材の他方の面に設けられた第2パターンとにより形成されるものであり、錯視を発現するものである。
【0024】
偽造防止パターンは、濃淡により錯視を発現するものであり、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、第1パターンと第2パターンとにより形成され得るものであれば特に限定されるものではない。濃淡により錯視を発現する錯視図形であればいずれも、偽造防止パターンとして用いることができる。
【0025】
例えば、上述したように、図1(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第1パターン3と、図1(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図2に示す偽造防止パターン10が形成される。この偽造防止パターン10では、上述したように、格子の中濃度領域12(灰色)の交差部分にある円形の低濃度領域13(白色)の中に、黒っぽいものが現れたり、消えたりする。これは、実際にはないはずの黒い点がちらついて見えるものであり、きらめき格子錯視(Schrauf, Lingelbach and Wist(1997))と呼ばれている。
【0026】
図3(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図3(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図3(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図4は、図3(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図3(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第1パターン3と、図3(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図4に示す偽造防止パターン10が形成される。第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、偽造防止パターン10は、第1パターン3で構成される高濃度領域11(例えば黒色)と、第2パターン4で構成される中濃度領域12(例えば灰色)と、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分で構成される低濃度領域11(例えば白色)とを有している。この偽造防止パターン10では、中濃度領域12(灰色)の線が、左もしくは右に傾いて見える。これは、実際にはどれも水平で互いに平行な線が左もしくは右に傾いて見えるものであり、カフェウォール錯視(Fraser(1908)、Gregory and Heard(1979))と呼ばれている。
【0027】
図5(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図5(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図5(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図6は、図5(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図5(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度(例えば薄い灰色および濃い灰色)で印刷された第1パターン3と、図5(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度(例えば黒色)で印刷された第2パターン4とにより、図6に示す偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は、濃い灰色の正方形3aと、薄い灰色の線3bとから構成されている。第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターン3の正方形3aと第2パターン4とは同程度の濃度で視認される。そのため、偽造防止パターン10は、第1パターン3の正方形3aと第2パターン4とで構成される高濃度領域11(例えば濃い灰色)と、第1パターン3の線3bで構成される中濃度領域12(例えば薄い灰色)と、基材2の両面に第1パターン3および第2パターン4のいずれも印刷されていない部分で構成される低濃度領域11(例えば白色)とを有している。この偽造防止パターン10では、中濃度領域12(薄い灰色)の線が、左もしくは右に傾いて見える。これも、実際にはどれも水平で互いに平行な線が左もしくは右に傾いて見えるものである。
【0028】
図5(a)、(b)および図6において、第1パターン3の正方形3aと線3bとは濃度が異なっているが、濃度は同じであってもよい。すなわち、偽造防止パターンにおいて、第1パターンの正方形と第1パターンの線と第2パターンの正方形とはすべて同じ濃度(例えば黒色)で視認されてもよい。この場合にも、同様に、線(黒色)が左もしくは右に傾いて見える。
【0029】
図7(a)、(b)は本発明の偽造防止媒体の他の例を示す概略平面図であり、図7(a)は偽造防止媒体を基材の一方の面から見た平面図、図7(b)は偽造防止媒体を基材の他方の面から見た平面図である。図8は、図7(a)、(b)に示す偽造防止媒体を基材の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。
図7(a)に示す基材2の一方の面に所定の色および濃度で印刷された第1パターン3と、図7(b)に示す基材2の他方の面に所定の色および濃度で印刷された第2パターン4とにより、図8に示す偽造防止パターン10が形成される。第1パターン3は濃度が連続的に変化する階調を有し、上3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。また、第2パターン4も濃度が連続的に変化する階調を有し、上3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の半円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。この場合、第2パターン4は濃度が低下した状態で視認されるので、第1パターン3と第2パターン4との境界部分で濃度が連続的に変化するように、第1パターン3および第2パターン4の階調が調整される。これにより、偽造防止パターン10も濃度が連続的に変化する階調を有するものとなる。偽造防止パターン10において、上3列の楕円は紙面の左から右に向けて濃度が薄くなり、下3列の楕円は紙面の左から右に向けて濃度が濃くなっている。この偽造防止パターン10では、上3列は左に、下3列は右にゆっくりと動いて見える。これは、コントラストの低い領域からコントラストの高い領域の方向に動いて見える錯視であり、中心ドリフト錯視(北岡明佳(2003))と呼ばれている。
【0030】
本発明において、偽造防止パターンは、高濃度領域と、中濃度領域と、低濃度領域とを有することが好ましい。基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することができるからである。また、錯視の発現にはコントラストが影響しており、高濃度領域および低濃度領域でコントラストの高い領域、中濃度領域および低濃度領域でコントラストの低い領域を形成することができる。
【0031】
偽造防止パターンが、高濃度領域と中濃度領域と低濃度領域とを有する場合、通常、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される。高濃度領域は、例えば、図2および図4に示すように第1パターンで構成されていてもよく、図6に示すように第1パターンの一部および第2パターンで構成されていてもよく、図示しないが第2パターンで構成されていてもよい。また、中濃度領域は、例えば、図2および図4に示すように第2パターンで構成されていてもよく、図6に示すように第1パターンの一部で構成されていてもよく、図示しないが第1パターンで構成されていてもよい。
中でも、高濃度領域は第1パターンで構成され、中濃度領域は第2パターンで構成され、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されていることが好ましい。上述したように、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、第2パターンは濃度が低下した状態で視認されるため、基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成される低濃度領域と、第1パターンで構成される高濃度領域とに対して、中間の濃度となる中濃度領域を第2パターンで構成することは容易だからである。
【0032】
第1パターンおよび第2パターンの形状としては、目的とする偽造防止パターンの形状に応じて適宜選択されるものであり、第1パターンのみまたは第2パターンのみで、目的とする偽造防止パターンが発現する錯視を生じるものでなければ、特に限定されるものではない。通常、第1パターンおよび第2パターンの形状は、互いに重なる部分を有さず、隣接する部分を有するような形状とされる。例えば図1(a)、(b)において、第1パターン3は正方形が規則的に配列したパターンであり、第2パターン4は第1パターン3の正方形と同じ大きさの正方形の開口部を有する格子のパターンで、さらに格子の交差部分に円形の開口部を有するパターンである。そして、図1(a)〜(c)に例示するように、第1パターン3および第2パターン4は、第1パターン3の正方形と、第2パターン4の格子の正方形の開口部とが合うように位置合わせされて設けられている。第1パターン3および第1パターン4の形状は、第1パターン3と第2パターン4とが重ならず、第1パターン3の正方形と第2パターン4の格子とが隣接するような形状となっている。同様に、図3(a)、(b)、図5(a)、(b)、図7(a)、(b)においても、第1パターン3および第2パターン4の形状は、第1パターン3と第2パターン4とが重ならず、第1パターン3と第2パターン4とが隣接するような形状となっている。このような位置合わせを必要とする印刷技術は、通常の複写機を用いても容易に再現できるものではなく、偽造防止効果が高い。
【0033】
第1パターンおよび第2パターンの色としては、目的とする偽造防止パターンの色に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではない。
【0034】
基材の一方の面に設けられる第1パターンの濃度は、目的とする偽造防止パターンの濃度に基づいて適宜調整される。
一方、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、濃度が低下した状態で視認されることから、基材の他方の面に設けられる第2パターンの濃度は、目的とする偽造防止パターンの濃度と、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分とに基づいて、適宜調整される。すなわち、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられている。濃度の低下分は、基材の透過率等に応じて異なるものとなる。
【0035】
2.基材
本発明における基材は、一方の面に第1パターンが設けられ、他方の面に第2パターンが設けられるものである。
【0036】
本発明においては、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かして観察することから、基材は光を透過する必要がある。一方、基材の光透過率が高いと、偽造防止媒体を光に透かさなくとも偽造防止パターンが視認されて錯視が生じてしまうおそれがある。したがって、基材の印刷不透明度は、25%〜95%の範囲内であることが好ましい。
ここで、印刷不透明度とは、基材に印刷した画像がその反対面から透き通って見えない程度のことをいう。印刷不透明度は、基材の白紙不透明度(単に不透明度ともいう。)の他にインキの浸透性の影響を受ける。基材の不透明度が高くとも、インキの浸透性が良ければインキが浸透した分だけ、印刷不透明度は低下する。
また、白紙不透明度とは、一枚の基材を透き通して、下の基材の画像が見えない程度のことをいう。
なお、基材の印刷不透明度は、不透明度測定器、ハンター白色度計等により測定することができる。
【0037】
また、基材は裏抜けしにくいものであることが好ましい。第2パターンが裏抜けすると、偽造防止媒体を光に透かさなくとも偽造防止パターンが視認されて錯視が生じてしまうおそれがあるからである。
ここで、裏抜けとは、インキが反対面に抜けることをいう。裏抜けは、基材の光学的特性ではなく、インキの浸透性に起因する。
なお、基材が裏抜けしにくいものであることは、例えば、基材の一方の面を手前にして反射光で見たときの第2パターンの濃度を測定することで、評価することができる。
【0038】
基材としては、上述の特性を満たすものであれば特に限定されるものではなく、例えば、紙、樹脂基材などを用いることができる。また、基材は、透明な樹脂基材上に、上述の特性を満たす下地層が形成されたものであってもよい。下地層の材料としては、上述の特性を満たすものであれば特に限定されるものではないが、中でも、透明な樹脂基材と密着性を有する材料であることが好ましく、例えば、酸化チタンを含有する白色コート剤、顔料インキ、染料インキ、第1パターンおよび第2パターンの印刷に用いられるインキを吸収し得るコーティング材料、多孔質層形成用コーティング材料等が挙げられる。
【0039】
基材を選択するに際しては、上述したように、偽造防止パターンが、高濃度領域と中濃度領域と低濃度領域とを有する場合、通常、低濃度領域は基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されることから、目的とする偽造防止パターンの低濃度領域に応じて、基材を選択することが好ましい。
【0040】
3.保護層
本発明においては、図9に例示するように、基材2の一方の面に第1パターン3を覆うように、第1パターン3を保護する保護層5が形成されていてもよい。また、図9に例示するように基材2の他方の面に第2パターン4を覆うように、第2パターン4を保護する保護層6が形成されていてもよい。
保護層の材料としては、透明性を有し、第1パターンおよび第2パターンを保護することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的な樹脂材料を用いることができる。
【0041】
4.用途
本発明の偽造防止媒体は、例えば、紙幣、商品券、株券、小切手、手形等の各種の有価証券、パスポート、カード等の各種の証明書、機密文書等に用いることができる。
【0042】
B.偽造防止媒体の製造方法
本発明の偽造防止媒体の製造方法は、基材と、上記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、上記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体の製造方法であって、上記偽造防止媒体は、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、上記第1パターンと上記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、上記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、上記基材の他方の面に、上記第2パターンを、上記基材の一方の面を手前にして上記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程とを有することを特徴とするものである。
【0043】
本発明の偽造防止媒体の製造方法について図面を参照しながら説明する。ここでは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに、偽造防止パターンとして図10に例示する錯視図形20が出現する場合を例として挙げる。
図10に例示する錯視図形20は、高濃度領域21(例えば黒色)、中濃度領域22(例えば灰色)および低濃度領域23(例えば白色)の三つの領域を有している。まず、図10に示す錯視図形20を、図11(a)、(b)に示すように、高濃度領域21からなる第1要素20a(図11(a))と、中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20b(図11(b))との二つに分解する。次いで、第1要素20aおよび第2要素20bのいずれを基材の他方の面に印刷するかを決める。第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに濃度が低下した状態で視認されるので、ここでは、中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20bを基材の他方の面に印刷し、高濃度領域21からなる第1要素20aを基材の一方の面に印刷することにする。
【0044】
次に、実際に基材上に印刷される第1パターンおよび第2パターンの濃度を算出する。
基材の一方の面に印刷される第1パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンの濃度と、錯視図形の高濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整される。例えば図10および図11(a)において錯視図形の高濃度領域21が黒色である場合、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンも黒色となるように、基材の一方の面に印刷される第1パターンは黒色とされる。
一方、基材の他方の面に印刷される第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターンの濃度と、錯視図形の中濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整される。このとき、第2パターンは、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときに濃度が低下するので、第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して、設定される。例えば図10および図11(b)において錯視図形の中濃度領域22が灰色である場合、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターンも灰色となるように、基材の他方の面に印刷される第2パターンは黒色とされる。
【0045】
次いで、図11(a)に示す第1要素20aを、図1(a)に示すように基材2の一方の面に予め算出した濃度(例えば黒色)で第1パターン3として印刷する(第1パターン形成工程)。続いて、図11(b)に示す第2要素20bを、図1(b)に示すように基材2の他方の面に予め算出した濃度(例えば黒色)で第2パターン4として印刷する(第2パターン形成工程)。この際、第1パターン3および第2パターン4は互いに位置が合うように印刷される。
【0046】
図2は、図1(a)、(b)に示す偽造防止媒体1を基材2の一方の面を手前にして光に透かして観察した状態を示す模式図である。図1(a)、(b)においては、上述したように、第2パターン4が基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して印刷されているので、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第2パターン4(中濃度領域12)の濃度は、図10に示す錯視図形20の中濃度領域22の濃度と同程度になる。また、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターン3(高濃度領域11)の濃度は、図10に示す錯視図形20の高濃度領域21の濃度と同程度になる。さらに、図2に示すように基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの基材の両面に第1パターンおよび第2パターンがいずれも印刷されていない部分(低濃度領域13)の濃度は、図10に示す錯視図形20の低濃度領域23の濃度と同程度になる。
したがって、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かした状態では、元の錯視図形が再現され、偽造防止パターンが出現し、錯視が発現する。
【0047】
本発明においては、第1パターンおよび第2パターンを形成するに際して、位置合わせの印刷技術については高い精度が必要とされるが、既存の材料や装置を利用して偽造防止媒体を作製することが可能である。
【0048】
なお、偽造防止パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
以下、本発明の偽造防止媒体の製造方法における各工程について説明する。
【0049】
1.第1パターン形成工程
本発明における第1パターン形成工程は、基材の一方の面に第1パターンを形成する工程である。
【0050】
第1パターンの形成方法としては、第1パターンおよび第2パターンを位置合わせして形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、活版印刷、凹版印刷、スクリーン印刷、粉体電子写真方式のデジタル印刷、液体電子写真方式のデジタル印刷、インクジェット方式のデジタル印刷等の印刷法や、転写法が挙げられる。
【0051】
第1パターンを形成するに際しては、第1パターンの濃度を、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの第1パターンの濃度と、目的とする錯視図形(偽造防止パターン)の高濃度領域の濃度とが同程度となるように、調整することが好ましい。濃度は、実際に測定して求めてもよく、シミュレーションにより求めてもよい。
【0052】
なお、第1パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
【0053】
2.第2パターン形成工程
本発明における第2パターン形成工程は、基材の他方の面に、第2パターンを、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する工程である。
【0054】
第2パターンの濃度は、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を予め計算し、決定する。この濃度の低下分は、実際に測定して求めてもよく、検量線を用いて求めてもよく、シミュレーションにより求めてもよい。
検量線を用いる場合には、例えば次のように濃度の低下分を求めることができる。すなわち、まず、基材の他方の面に異なる濃度(少なくとも3種)にて複数のベタの測定用パターンを形成し、次に、基材の他方の面から反射による各測定用パターンの相対濃度(A)を計測し、さらに基材の一方の面から透過による各測定用パターンの相対濃度(B)を計測し、次いで、上記の相対濃度(A)と相対濃度(B)とにより検量線を作成する。この検量線を基に、基材の一方の面を手前にして偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を予測し、第2パターンの形成を施すことができる。同じ基材、同じインキを使用する場合には、作成した検量線を用いて、濃度の低下分を予測し、第2パターンの形成を施すことが可能である。
【0055】
なお、第2パターンの形成方法については、上記第1パターンの形成方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。
また、第2パターンについては、上記「A.偽造防止媒体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
【0056】
3.その他の工程
本発明においては、上記の第1パターン形成工程および第2パターン形成工程の前に、目的とする錯視図形を濃度に応じて2つのパターンに分解する画像処理工程を行ってもよい。
画像処理工程は、例えばコンピューターシステム上の画像処理ソフトウェアを用いて行うことができる。
【0057】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【0058】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
[実施例1](紙媒体きらめき格子錯視)
(画像処理)
CADシステム上にて、図10に示すように、1辺の長さが20mmの黒色の正方形(高濃度領域21)を縦横ともに5個、4mmの間隙をおいて配置し、幅4mmの間隙部分を灰色(中濃度領域22)とし、間隙の交差する部分には直径4mmの白色の円形(低濃度領域23)を配置した、きらめき格子錯視画像(錯視図形20)を作成した。
このきらめき格子錯視画像(錯視図形20)を、図11(a)、(b)に示すように、正方形部分(高濃度領域21からなる第1要素20a)と、その他の部分(中濃度領域22および低濃度領域23からなる第2要素20b)との、2つの画像に分割した。
【0059】
(印刷)
厚さ64g/m2の上質紙の両面に、オフセット印刷機にてブラックインクを用いて、きらめき格子錯視画像を分割した2つの画像をそれぞれ印刷した。上質紙の一方の面には、正方形部分を相対濃度D=1.50にて印刷した(図1(a))。また、上質紙の他方の面には、幅4mmの間隙の交差する部分に直径4mmの円形の開口部を有する間隙部分を相対濃度D=1.50にて印刷した(図1(b))。なお、ここでいう相対濃度は、直径4mmの円形部分の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。この際、両面の画像の印刷位置は、上質紙を光に透かしたときに両面の画像が重なり、画像を2つに分割する前の画像が見える位置とした。
【0060】
(透過検証)
作製した印刷物を、40Wの蛍光灯から2.0m離れた場所にて、一方の面から透かして見たところ、きらめき格子錯視が発現した。
光に透かして見た状態における印刷物の相対濃度は、正方形部分(高濃度領域11)がD=1.50、間隙部分(中濃度領域12)がD=0.30相当であった(図2)。なお、ここでいう相対濃度は、円形部分(低濃度領域13)の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。
【0061】
(反射検証)
作製した印刷物を、一方の面および他方の面から反射光のみで見たところ、一方の面では正方形部分が相対濃度D=1.50、間隙部分が相対濃度D=0.05にて見え、他方の面では正方形部分が相対濃度D=0.05、間隙部分が相対濃度D=1.50にて見え、きらめき格子錯視は発現しなかった。なお、ここでいう相対濃度は、円形部分の濃度をD=0とした場合の濃度をいう。
印刷物は、光に透かして見ることによって、きらめき格子錯視を発現することを確認した。
【符号の説明】
【0062】
1 … 偽造防止媒体
2 … 基材
3 … 第1パターン
4 … 第2パターン
5,6 … 保護層
10 … 偽造防止パターン
11 … 高濃度領域
12 … 中濃度領域
13 … 低濃度領域

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、前記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、前記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体であって、
前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、前記第1パターンと前記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、
前記第2パターンが、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分が計算されて設けられていることを特徴とする偽造防止媒体。
【請求項2】
前記偽造防止パターンが、高濃度領域と、中濃度領域と、低濃度領域とを有することを特徴とする請求項1に記載の偽造防止媒体。
【請求項3】
前記高濃度領域が前記第1パターンで構成され、前記中濃度領域が前記第2パターンで構成され、前記低濃度領域が前記基材の両面に前記第1パターンおよび前記第2パターンがいずれも設けられていない部分で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の偽造防止媒体。
【請求項4】
基材と、前記基材の一方の面に設けられた第1パターンと、前記基材の他方の面に設けられた第2パターンとを有する偽造防止媒体の製造方法であって、
前記偽造防止媒体は、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かして観察した状態にて、前記第1パターンと前記第2パターンとにより錯視を発現する偽造防止パターンが形成されるものであり、
前記基材の一方の面に第1パターンを形成する第1パターン形成工程と、
前記基材の他方の面に、前記第2パターンを、前記基材の一方の面を手前にして前記偽造防止媒体を光に透かしたときの濃度の低下分を計算して形成する第2パターン形成工程と
を有することを特徴とする偽造防止媒体の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【公開番号】特開2012−16898(P2012−16898A)
【公開日】平成24年1月26日(2012.1.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−155950(P2010−155950)
【出願日】平成22年7月8日(2010.7.8)
【出願人】(000002897)大日本印刷株式会社 (14,506)
【Fターム(参考)】