光学フィルム、その製造方法及び画像表示装置
【課題】厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供する。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【解決手段】基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、その製造方法及び当該光学フィルムを備えた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置等の画像表示装置が注目され、その用途の一つとして、携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などへの応用が期待されている。これらの携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などの入力装置としては、画像表示装置の表示素子の上にタッチパネルを載せたものが主流となっている。
【０００３】
タッチパネルとしては、例えば抵抗膜方式等が挙がられ、抵抗膜方式のタッチパネルは、一般にフィルム基材の一方の面にハードコート層を有し（以下、「ハードコートフィルム」という。）、もう一方の面に酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜を有した上部電極となるパネル板と、ガラス基板等の透明基材の一方の面に前記金属酸化物を主成分とした導電性膜を有した下部電極となるパネル板とをスペーサを介して対向配置したものが使用されている。
【０００４】
このようなタッチパネルは、通常、フィルム基材にハードコート層を設けてハードコートフィルムを製造するメーカーと、ガラス基板に酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜を設けるメーカーと、これらを組み立てるメーカーに分かれて製造されている。
【０００５】
一方、タッチパネルで使用されるハードコートフィルムは、導電性膜の接着性やカール防止という観点から実際には、フィルム基材の両面にハードコート層を有するものが多く使用されている。
【０００６】
このようなハードコートフィルムは、一般的に平滑な面をしているため、ハードコートフィルムの製造時にロール状で巻き取る際にブロッキング（フィルム同士の貼りつき）が発生しやすかった。ブロッキングが生じたハードコートフィルムを、導電性膜を設けるメーカーで使用すると、貼りついたハードコートフィルムを剥がす際に静電気が発生し、粉塵を引き付けてしまい、粉塵による異物故障を発生させる問題があった。
【０００７】
さらに、このようなハードコートフィルムを用いてタッチパネルを製造すると、ハードコートフィルムにブロッキングパターンが生じているため、画像表示装置に使用すると美観が著しく損なわれる問題もあった。また、ハードドコートフィルムは平滑な面をしているため、ロール搬送で連続して導電性膜を設ける際、ロールとハードコート面が貼りつき、ロールでハードコート層が擦れるため、搬送傷等が発生する問題もあった。
【０００８】
このため、突起形状を有した表面凹凸を形成することで、フィルム同士のくっつきを防止して、ブロッキングを防止する技術が、例えば特許文献１に開示されている。特許文献１では、二つ以上の反応性官能基を有する樹脂とフッ素化合物が結合した微粒子とを含むハードコート層用硬化性樹脂組成物により、ハードコートフィルムに突起形状を有する表面凹凸を形成する技術である。また、樹脂の相分離や更に微粒子を添加して、突起形状を有する表面凹凸を形成する技術もブロッキング防止に利用でき、この技術については、例えば特許文献２に開示されている。
【０００９】
しかしながら、前記した技術等では、突起形状によってブロッキング防止は、ある程度改善されるものの、ロール搬送で連続して導電性膜を設ける際に、抱き角が深いロールと突起形状面が接触すると、ロールと突起形状面が擦れ、微粒子等の脱落や相分離膜の膜強度が弱く、異物の発生や搬送での擦り傷が発生し、導電性膜を設ける際の問題はいずれとして残っていた。また、タッチパネルでの動作環境を想定した評価である耐ペン摺動性が、耐久試験後に劣化する問題があった。
【００１０】
ブロッキング防止のための凹凸構造を形成する方法としては、表面に凹凸構造が設けられた表面転写ロールでフィルムに凹凸構造を設ける方法も知られている。しかしながら、通常、表面転写ロールは５ｃｍ程度の直径を持つロール形状を有するものであるため、長尺状のロールに凹凸構造を形成した場合には、１５ｃｍ程度の周期を有する形状となる。そのため、非常に長い長尺状のフィルムに表面転写ロールで凹凸を形成した場合には、積層されたフィルム間で部分的に凹凸構造の周期が一致してしまい、一部ブロッキングを引き起こす問題が発生することが明らかになった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１０−２４１９３７号公報
【特許文献２】特開２００７−１８２５１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することである。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、基材フィルムの両面上に相容性樹脂の連続相からなる不規則な形状の突起を有する機能層を設けることにより上記課題を解決することができることを見出し本発明に至った。
【００１４】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１５】
１．基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【００１６】
２．前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。
【００１７】
３．前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。
【００１８】
４．前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００１９】
５．前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２０】
６．温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２１】
７．前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２２】
８．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を８５〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００２３】
９．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【００２４】
１０．第１項か第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の上記手段により、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することができる。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することができる。
【００２６】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００２７】
すなわち、本発明に係る機能性層の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な状態を有している。このため、フィルム同士が重なり合った場合でも、応力が分散しやすく、フィルムをロール状で長尺に巻いてもブロッキング防止の効果が良好に得られる。さらに、耐久試験後も膜強度の劣化が無いため、タッチパネルでの使用環境を想定した評価である耐ペン摺動性に優れ、更にはロール搬送での擦り傷耐性にも優れた光学フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る突起の説明図
【図２】本発明の光学フィルムをタッチパネルに用いた場合の一例
【図３】タッチパネル付き液晶表示装置の模式図
【図４】導電性光学フィルムの模式図
【図５】インナータッチパネルの概略図
【図６】導電性膜形成装置の概略図
【図７】光学フィルムを搬送するゾーンの概略図
【図８】本発明に係る活性光線照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図
【図９】光学干渉式表面粗さ計による機能性層１Ａ及び１Ｂの観察結果を示す図
【図１０】本発明に係る光学フィルムの機能性層の表面に現れる突起のイメージ図
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上（表裏二面上）に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。
【００３０】
この特徴は、請求項１から請求項１０までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００３１】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現、特に耐久性、密着性等の観点から、前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。更には、算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることが、突起形状が得られやすいことから、好ましい。
さらに、本発明においては、前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることが好ましい。
【００３２】
さらに、本発明においては、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。これにより、厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。
【００３３】
また、前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることが好ましい。
【００３４】
本発明の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法としては、２５℃における粘度が２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にある活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を９０〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理する態様の製造方法であることが、所定の突起形状が得られやすいという観点から、好ましい。
【００３５】
本発明の光学フィルムは、画像表示装置に好適に具備され得る。特に、本発明の光学フィルムは、タッチパネルの構成部材として、画像表示装置に好適に具備され得る。
【００３６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３７】
（本発明の光学フィルムの特徴）
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上（表裏二面上）に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。一例として、図１０に示すように、機能性層１の表面に現れる、幅も高さも異なる突起２が、不規則な形状の突起として挙げられる。なお、長手方向とは、光学フィルムの製造時、その組成物塗布液が流延された製膜方向をいう。
【００３８】
従来、相互に非相溶性の複数（例えば二種）の樹脂成分を混合した場合、混合物の高次構造としては、一方の樹脂がマトリクスとなり、他方が分散相となることで海島構造を形成する、すなわち、樹脂成分の片方が連続する相の中に、もう一方が粒子状（島状）に分散している構造を形成することがよく知られている。
【００３９】
この海島構造に対し、本発明に係る機能性層は、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、複数成分のそれぞれが互いに混じりあって連続した相を形成している構造になっている。このため、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。
【００４０】
本願において、機能性層が活性線硬化型樹脂に対して非相溶性である樹脂や粒子を実質的に含有しないという場合、当該非相溶性である樹脂や粒子の含有量が、機能性層の固形分に対して、０．０１質量％以下であることを意味するものとする。ただし、機能性層と基材との界面においては、機能性層を形成する際に基材表面付近の構成成分が機能性層側に抽出される場合があるが、基材から抽出された成分が機能性層と基材との界面付近に局在する場合は、この部分を除くものとする。
【００４１】
本願において、「非相溶性」とは、二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Ｔｍ又はガラス転移点Ｔｇを測定・観察したときに、当該溶融混合物を構成する樹脂それぞれ単独のピークが観察されるものをいう。また、透過型電子顕微鏡観察においてそれぞれの相が実質的に観察されるものをいう。
一方、「相溶性」とは、同種又は二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Ｔｍ又はガラス転移点Ｔｇを測定・観察したときに、当該溶融混合物のピークが１個以下観察されるものをいう。
【００４２】
本発明に係る活性線硬化型樹脂（詳細は後述する。）に対し非相溶性である樹脂としては、不飽和二重結合などの官能基（重合性基）を有さない化合物であり、具体的には（メタ）アクリル系やアクリル系の単量体を重合又は共重合して得られる樹脂やポリエステル樹脂、基材フィルムで後述するアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などが挙げられる。
【００４３】
微粒子としては、無機微粒子や有機微粒子といった微粒子が挙げられ、具体的には無機微粒子としては、酸化珪素、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、などを挙げることができる。また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、又はメラミン系樹脂粉末等を挙げることができる。
【００４４】
本発明に係る機能性層は、上述のように、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため、耐久試験においても劣化等が生じ難く、耐ペン摺動性に優れた光学フィルムを提供できる。また、機能性層の表面凹凸を形成する突起形状は、微粒子を含有させたり、型付けなどによって形成されたものではないため、不規則な状態を有しており、機能性層同士が、重なり有った場合でも、応力が分散しやすく、優れたブロッキング防止の効果が得られるものである。
【００４５】
また、本発明に係る機能性層は微粒子を含有しないため、ロール搬送時に微粒子の脱落などが生じず、更に相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため膜強度に優れ、ロール搬送での擦り傷耐性に優れた光学フィルムを提供することができる。
【００４６】
（機能性層の表面形状）
本発明に係る機能性層の表面の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起をしている。本発明の「長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起」とは、表面凹凸がフィルムの幅手方向にも形や大きさが定まらない不規則な形状であり、表面転写ロールにより形成された表面凹凸のようなフィルムの長さ方向に周期を持たない形状の突起をさす。これらに限定はされないが、例えば、幅も高さも異なる突起が、不規則に配置される。また、「不規則な配置」とは、突起が等間隔に配置されているのではなく、ランダムな間隔で配置され、等方的であっても、異方的であってもよい。なお、突起は、基材フィルムと接していない機能性層の表面上に現れる。
【００４７】
長さ方向に周期を持たない不規則な突起形状を有することで、ロール状にフィルムを巻き取り、フィルム同士が重なり有った場合でも突起形状が重なり合うことなく、ブロッキング防止の効果が得られると推定している。このため、例えば表面転写ロールを押し当てて表面に突起を形成させる方法では、幅方向には、不規則な突起形状を形成できるが、長さ方向は一定の周期を有する突起形状しか得られないため、本発明の目的効果は得られない。
【００４８】
機能性層の表面の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、１８０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、２〜１８０ｎｍ、特に好ましくは２〜１３０ｎｍである。前記範囲の算術平均粗さＲａとすることで、より過酷な耐久試験において、本発明の目的効果が好適に得られるばかりか、密着性にも優れる点で好ましい。
【００４９】
この算術平均粗さＲａとするための突起形状の高さは、２ｎｍ〜４μｍ、が好ましい。また突起形状の幅は５０ｎｍ〜３００μｍ、好ましくは、５０ｎｍ〜１００μｍである。上記突起形状の高さ、及び幅は断面観察から求めることができる。よりわかりやすくするために、図１の（ａ）と（ｂ）に突起の説明図を示した。図１の（ａ）と（ｂ）に示されているように、断面観察の画像に中心線ａを引き、山の麓を形成する線ｂ、ｃと中心線ａとの２つの交点の距離を、突起サイズの幅ｔとした。また、山頂と中心線ａまでの距離を突起サイズの高さｈとして求められる。
【００５０】
機能性層の１０点平均粗さＲｚは、中心線平均粗さＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍは５〜１５０μｍが好ましく、より好ましくは２０〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差は０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面は１０％以上が好ましい。前記した算術平均粗さＲａ、Ｓｍ、Ｒｚは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて光学干渉式表面粗さ計（例えば、ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。
【００５１】
また、機能性層の尖度（Ｒｋｕ）は３以下が好ましい。尖度（Ｒｋｕ）とは、凹凸形状の凸状部分の形状を規定するパラメータであり、この尖度（Ｒｋｕ）の値が大きい程、凹凸形状の凸状部分の形状は、針のように尖った形状であることとなる。尖度（Ｒｋｕ）３を超えるものは、白ボケが発生しやすい。機能性層の尖度（Ｒｋｕ）は、更に好ましくは１．５〜２．８である。また、表面の歪度（Ｒｓｋ）の絶対値は１以下であることが好ましい。前記歪度（Ｒｓｋ）は、凹凸形状の平均面に対する凸状部分と凹状部分との割合を示すパラメータであり、凹凸形状が、平均面に対して凸状部分が多いとプラスに大きな値となり、平均面に対して凹状部分が多いとマイナスに大きな値となる。歪度（Ｒｓｋ）の絶対値が１を超えるものは、白ボケが発生しやすい。歪度（Ｒｓｋ）の絶対値は、好ましくは０．０１〜０．５である。なお、尖度（Ｒｋｕ）及び歪度（Ｒｓｋ）は、上記光学干渉式表面粗さ計を用いて計測できる。
【００５２】
なお、上述したような特徴を有する機能性層の詳細については後述するが、上記突起形状（表面凹凸）は、例えば、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温制御し、樹脂の塗膜対流を発生させ、機能性層表面に不均一な状態を作り、この不均一な表面状態で硬化し、塗膜を形成する方法などによって得ることができる。このような方法で塗膜を形成することで、機能性層の膜強度が向上する。また、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温条件に制御する方法は、生産性にも優れる点で好ましい。
【００５３】
（機能性層）
本発明に係る機能性層は、活性線硬化樹脂を含有する。すなわち、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう。）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層である。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００５４】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。
【００５５】
これらの市販品としては、アデカオプトマーＮシリーズ、サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３、アロニックスＭ−３２７（東亞合成（株）製）、ＮＫ−エステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫ−エステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ（新中村化学工業（株））、ＰＥ−３Ａ（共栄社化学）などが挙げられる。
【００５６】
また、上記活性線硬化樹脂を単独又は二種以上混合しても良い。また、活性線硬化型樹脂の２５℃における粘度は、好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以上、２０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度の樹脂を用いることで、突起形状が得られやすく、更に前述した特に好ましい算術平均粗さＲａの範囲に制御しやく、この結果、本発明の目的効果を好適に得られる。また、樹脂の粘度が３０ｍＰａ・ｓ以上の粘度であれば高官能数のモノマーを用いることができて、十分高い硬化性が得られ、２０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度であれば、乾燥工程において樹脂組成物（活性線硬化型樹脂と溶剤以外の添加剤からなる組成物）の十分な流動性が得られやすい。
【００５７】
活性線硬化型樹脂の粘度は、樹脂をディスパーにて撹拌混合し２５℃の条件にてＢ型粘度計を用いて粘度測定を行うことができる。
【００５８】
なお、上記粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。
【００５９】
また、単官能アクリレートを用いても良い。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
【００６０】
単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０〜９９：２で含有することが好ましい。
【００６１】
また、機能性層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００６２】
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。
【００６３】
機能性層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
【００６４】
機能性層には、塗布性の観点から、アクリル系界面活性剤（アクリル共重合物）、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフト化合物を含有させても良い。また機能性層は ＨＬＢ値が３〜１８の化合物を含有しても良い。ＨＬＢ値が３〜１８の化合物について説明する。ＨＬＢ値とは、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、ＨＬＢ値は以下のような計算式によって求めることができる。
【００６５】
ＨＬＢ＝７＋１１．７Ｌｏｇ（Ｍｗ／Ｍｏ）
式中、Ｍｗは親水基の分子量、Ｍｏは親油基の分子量を表し、Ｍｗ＋Ｍｏ＝Ｍ（化合物の分子量）である。あるいはグリフィン法によれば、ＨＬＢ値＝２０×親水部の式量の総和／分子量（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｃｈｅｍ．，５（１９５４），２９４）等が挙げられる。ＨＬＢ値が３〜１８の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、本発明はこれに限定されるものでない。（ ）内はＨＬＢ値を示す。
【００６６】
花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ（６．３）、エマルゲン１０３（８．１）、エマルゲン１０４Ｐ（９．６）、エマルゲン１０５（９．７）、エマルゲン１０６（１０．５）、エマルゲン１０８（１２．１）、エマルゲン１０９Ｐ（１３．６）、エマルゲン１２０（１５．３）、エマルゲン１２３Ｐ（１６．９）、エマルゲン１４７（１６．３）、エマルゲン２１０Ｐ（１０．７）、エマルゲン２２０（１４．２）、エマルゲン３０６Ｐ（９．４）、エマルゲン３２０Ｐ（１３．９）、エマルゲン４０４（８．８）、エマルゲン４０８（１０．０）、エマルゲン４０９ＰＶ（１２．０）、エマルゲン４２０（１３．６）、エマルゲン４３０（１６．２）、エマルゲン７０５（１０．５）、エマルゲン７０７（１２．１）、エマルゲン７０９（１３．３）、エマルゲン１１０８（１３．５）、エマルゲン１１１８Ｓ−７０（１６．４）、エマルゲン１１３５Ｓ−７０（１７．９）、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ（１３．０）、エマルゲン２０２５Ｇ（１５．７）、エマルゲンＬＳ−１０６（１２．５）、エマルゲンＬＳ−１１０（１３．４）、エマルゲンＬＳ−１１４（１４．０）、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ（４）、サーフィノール１０４Ｈ（４）、サーフィノール１０４Ａ（４）、サーフィノール１０４ＢＣ（４）、サーフィノール１０４ＤＰＭ（４）、サーフィノール１０４ＰＡ（４）、サーフィノール１０４ＰＧ−５０（４）、サーフィノール１０４Ｓ（４）、サーフィノール４２０（４）、サーフィノール４４０（８）、サーフィノール４６５（１３）、サーフィノール４８５（１７）、サーフィノールＳＥ（６）、信越化学工業株式会社製：Ｘ−２２−４２７２（７）、Ｘ−２２−６２６６（８）、ＫＦ−３５１（１２）、ＫＦ−３５２（７）、ＫＦ−３５３（１０）、ＫＦ−３５４Ｌ（１６）、ＫＦ−３５５Ａ（１２）、ＫＦ−６１５Ａ（１０）、ＫＦ−９４５（４）、ＫＦ−６１８（１１）、ＫＦ−６０１１（１２）、ＫＦ−６０１５（４）、ＫＦ−６００４（５）。シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができ、上記信越化学工業社製のＫＦシリーズなどを挙げることができる。アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２などの市販品化合物を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファック ＲＳシリーズ、メガファックＦ−４４４メガファックＦ−５５６などを挙げることができる。フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素−シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．００５質量％以上、５質量％以下の範囲で添加することが好ましい。また、機能性層は、後述する基材フィルムで説明する紫外線吸収剤をさらに含有しても良い。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成としては、機能性層が二層以上で構成され、かつ基材フィルムと接する機能性層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【００６７】
紫外線吸収剤の含有量としては質量比で、紫外線吸収剤：活性線硬化樹脂＝０．０１：１００〜１０：１００で含有することが好ましい。二層以上設ける場合、基材フィルムと接する機能性層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。二層以上の積層は同時重層で形成しても良よいし、遂次重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材フィルム上に二層以上の機能性層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔ（湿式塗布方式）で塗布して、機能性層を形成することである。第１機能性層の上に乾燥工程を経ずに、第２機能性層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
【００６８】
機能性層は、上記した機能性層を形成する成分を溶剤で希釈して機能性層組成物として、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して機能性層を設けることが好ましい。溶剤としては、ケトン類（メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど）、アルコール類（エタノール、メタノール、ブタノ―ル、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコールなど）、炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなど）などを好ましく用いることができる。また、これら溶剤の中でもケトン類、エステル類、グリコールエーテルが好ましい。これら好ましい溶剤の少なくとも一種を活性線硬化樹脂１００質量部に対して、２０〜２００質量部の範囲で用いることで、機能性層組成物を基材フィルムに塗布後、機能性層組成物の溶剤が蒸発しながら、機能性層を形成していく過程で、樹脂の対流が生じやすく、その結果、長手方向に不規則で、かつ基材フィルム上にも不規則な突起形状を有する表面粗れが発現しやすく、算術平均粗さＲａも制御しやすいため好ましい。
【００６９】
機能性層の塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．０５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。機能性層の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。これら塗布方法を用いて機能性層を形成する機能性層組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う）し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた機能性層を得ることができる。
【００７０】
乾燥は、減率乾燥区間の温度を８５℃以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は８５℃以上、１４０℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温処理とすることで、機能性層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じるため、その結果、機能性層表面に不規則な表面粗れが発現しやすく、この結果、前記した算術平均粗さＲａに制御しやすいため好ましい。
【００７１】
一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、活性線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。
【００７２】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００７３】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００７４】
活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
【００７５】
＜光学フィルムの物性＞
（ヘイズ）
光学フィルムの内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズとも記載する）は、０〜１％であることが好ましい。内部散乱を良好に抑性することで、本発明に係る光学フィルムを画像表示装置に用いた場合、優れた視認性が得られる。内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。光学フィルムの表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴滴下し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）２枚で、裏表より挟む。表裏をガラスで挟み込んだ光学フィルムを、完全に２枚のガラス板と光学的に密着させ、この状態でヘイズ（Ｈａ）をＪＩＳ−Ｋ７１０５及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定する。次に、ガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみ数滴滴下して挟み込んでガラスヘイズ（Ｈｂ）を測定する。そして、光学フィルムをガラスで挟み込んだヘイズ（Ｈａ）から、ガラスヘイズ（Ｈｂ）を引くことで、内部ヘイズ（Ｈｉ）は算出できる。また、光学フィルムのヘイズは０．２〜２０％であることが好ましい。
【００７６】
（硬度）
本発明での光学フィルムは、硬度の指標で有る鉛筆硬度がＨ以上、より好ましくは３Ｈ以上である。３Ｈ以上であれば、大型の表示装置や、デジタルサイネージ用表示装置にし、用いた際も優れた機械物性を示す。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、加重５００ｇ条件でＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、機能性層をＪＩＳ Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【００７７】
次いで、基材フィルムについて説明する。
【００７８】
＜基材フィルム＞
基材フィルムは製造が容易であること、機能性層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。
【００７９】
上記性質を有した基材フィルムであればいずれでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を使用することができる。
【００８０】
これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、セルロースエステルフィルムが機能性層で上記した突形状が得られやすいこと、製造性、コスト面から好ましい。
【００８１】
基材フィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、屈折率は、アタゴ社製 アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ Ｋ７１４２の方法で測定する。
【００８２】
（セルロースエステルフィルム）
次に基材フィルムとして好ましいセルロースエステルフィルムについて、より詳細に説明する。
【００８３】
セルロースエステルフィルムは、上記特性を有するものであれば特に限定はされないが、セルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステルともいう。）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
【００８４】
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独あるいは混合して用いることができる。
【００８５】
セルロースジアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５１．０％〜５６．０％が好ましく用いられる。また、市販品としては、ダイセル社Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカル社のＣａ３９８−３、Ｃａ３９８−６、Ｃａ３９８−１０、Ｃａ３９８−３０、Ｃａ３９４−６０Ｓが挙げられる。
【００８６】
セルローストリアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。
【００８７】
セルローストリアセテートとしては、アセチル基置換度が、２．８０〜２．９５であって数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上、１５５０００未満、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるセルローストリアセテートＡ、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上、１８００００未満、Ｍｗは２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎは、１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢを含有することが好ましい。
【００８８】
セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすものが好ましい。
【００８９】
式（Ｉ）： ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）： ０≦Ｘ≦２．５
中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下の通りである。
【００９０】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ
（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００までの１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００９１】
（セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂含有フィルム）
基材フィルムは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であるフィルムを用いても良い。
【００９２】
アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上の単量体を併用して用いることができる。
【００９３】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。
【００９４】
アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では３０〜１００℃、塊状又は溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０、ＢＲ８３、ＢＲ８５、ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は二種以上を併用することもできる。また、アクリル樹脂には、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコア（ｃｏｒｅ）を構成し、その周辺に前記（メタ）アクリル系樹脂がシェル（ｓｈｅｌｌ）を構成するコア−シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。
【００９５】
基材フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。基材フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。
【００９６】
（アクリル粒子）
基材フィルムは、脆性の改善に優れる点から、アクリル粒子を含有しても良い。アクリル粒子とは、前記熱可塑性アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態（非相溶状態ともいう）で存在するアクリル成分を表す。
【００９７】
アクリル粒子は、特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、カネカ社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”及びクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし二種以上を用いることができる。基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。
【００９８】
アクリル微粒子は、該フィルムを構成するアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量＝０．５：１００〜３０：１００の範囲で含有させることで、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量＝１．０：１００〜１５：１００の範囲である。
【００９９】
（微粒子）
本実施形態に係る基材フィルムには、取扱い性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましく用いられる。
【０１００】
微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。
【０１０１】
（その他の添加剤）
基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、糖エステル系、アクリル系ポリマー等が挙げられる。この中では、ポリエステル系、糖エステル系及びアクリル系ポリマーの可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れる。用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。
【０１０２】
ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。またポリエステル系可塑剤の好ましくは、芳香族末端エステル系可塑剤である。芳香族末端エステル系可塑剤としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールとを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましく、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。
【０１０３】
ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、安息香酸であることが最も好ましい。また、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。
【０１０４】
炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が挙げられる。これらの中では特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用してもよい。
【０１０５】
芳香族末端エステル系可塑剤は、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは３５０〜３０００の範囲である。また酸価は、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【０１０６】
具体的には以下に示す化合物などが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０７】
【化１】
【化２】
【化３】
糖エステル系化合物としては、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべて若しくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（１）で表される化合物などを挙げることができる。
【０１０８】
【化４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ８は、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアリールカルボニル基を表し、Ｒ１〜Ｒ８は、同じであっても、異なっていてもよい。）
以下に一般式（１）で示される化合物をより具体的（化合物１−１〜化合物１−２３）に示すが、これらに限定はされない。
【０１０９】
【化５】
【化６】
【化７】
これら可塑剤は、基材フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。
【０１１０】
なお、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【０１１１】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【０１１２】
これらは、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類を好ましく使用できる。
【０１１３】
さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、基材フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【０１１４】
基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる一種、あるいは二種以上の混合物を挙げることができる。具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【０１１５】
近年、液晶表示装置に代表される画像表示装置が大型化され、バックライト光源の輝度が益々高くなっていることに加え、デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、基材フィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、基材フィルムは張力軟化点が、１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。ガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
【０１１６】
基材フィルムは、直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。
【０１１７】
欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。
【０１１８】
欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
【０１１９】
また、目視で確認できない場合でも、機能性層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。また、基材フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
【０１２０】
（光学特性）
基材フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。ヘイズ値は２％以下が好ましく、より好ましくは１．５％以下である。全光線透過率、ヘイズ値はＪＩＳ Ｋ７３６１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。
【０１２１】
かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
【０１２２】
また、基材フィルムの波長５９０ｎｍにおける、面内リターデーションＲｏが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のリターデーションＲｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲である基材フィルムが好ましい。更にＲｏは０〜５ｎｍ、Ｒｔｈは−５〜５ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【０１２３】
Ｒｏ及びＲｔｈは下記式（Ｉａ）及び（IIａ）で定義された値である。
【０１２４】
式（Ｉａ）： Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（IIａ）： Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは基材フィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
上記リターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。
【０１２５】
前記リターデーションに制御した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーションは、前述した可塑剤の種類や添加量、及び基材フィルムの膜厚や延伸条件などで、調整できる。
【０１２６】
（基材フィルムの製膜）
次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
【０１２７】
セルロースエステル樹脂やアクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液製膜が好ましい。また、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上又はエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。
【０１２８】
（有機溶媒）
基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などの樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。
【０１２９】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１３０】
〔溶液流延法〕
基材フィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１３１】
ドープ中の樹脂の濃度は、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１３２】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１３３】
好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１３４】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１３５】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１３６】
基材フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１３７】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１３８】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１３９】
また、セルロースエステルフィルムあるいはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１４０】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１４１】
〔延伸工程〕
延伸工程では、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、あるいはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１４２】
製膜工程のこれらの幅保持あるいは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１４３】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましい。１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
【０１４４】
延伸する際は、基材フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。
【０１４５】
基材フィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上が好ましい。特に好ましくは１５０℃以上である。
【０１４６】
したがってガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１４７】
延伸する際の温度は１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗れるため好ましい。フィルム表面を粗らすことは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特に防眩層の密着性が向上するため好ましい。
【０１４８】
〔溶融製膜法〕
基材フィルムは、溶融製膜法によって製膜しても良い。溶融製膜法は、樹脂及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
【０１４９】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１５０】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。
【０１５１】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
【０１５２】
粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１５３】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１５４】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１５５】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。
【０１５６】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１５７】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１５８】
可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１５９】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
【０１６０】
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、市販されているものを用いることもできる。
【０１６１】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１６２】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１６３】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
【０１６４】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１６５】
（基材フィルムの物性）
本実施形態における基材フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２５０μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。前記範囲とすることで、基材フィルムの取り扱い性に優れる。本発明に係る基材フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０１６６】
また、基材フィルムの長さは、１０００〜１００００ｍが好ましく、より好ましくは３０００ｍ〜８０００ｍである。前記長さの範囲とすることで、機能性層等の塗布における加工適正や基材フィルム自体のハンドリング性に優れる。
【０１６７】
また、基材フィルムの算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定できる。
【０１６８】
＜その他の層＞
本発明の光学フィルムには、機能性層上にクリアハードコート層、反射防止層や透明導電性薄層等、その他の層を設けることができる。
【０１６９】
〈クリアハードコート層〉
クリアハードコート層を形成する成分としては、機能性層の説明で記載した成分を用いることができる。また、膜厚も機能性層で前述した範囲が好ましい。クリアハードコート層は機能性層上に塗布、乾燥、硬化、更に必要に応じて熱処理する方法で、形成することができる。クリアハードコート層は算術平均粗さＲａが、１０ｎｍ未満が好ましい。Ｒａが２ｎｍであれば、クリア性に優れる。
【０１７０】
〈反射防止層〉
本発明に係る光学フィルムは、機能性上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
【０１７１】
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
【０１７２】
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
低屈折率層／機能性層／基材フィルム／機能性層／低屈折率層
＜低屈折率層＞
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０１７３】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０１７４】
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも一種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
【０１７５】
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいはその重縮合物を併せて含有させても良い。
【０１７６】
一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０１７７】
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。またフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び／又は光硬化性を有する化合物を含有しても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
【０１７８】
＜高屈折率層＞
高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４〜２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であるものが好ましく、１．８５〜２．５０であるものが更に好ましい。
【０１７９】
金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
【０１８０】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状あるいは不定形状であることが好ましい。
【０１８１】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。また高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有しても良い。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。
【０１８２】
π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。また、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ４−、ＰＦ６−等の無機イオン系、ＣＦ３ＳＯ２−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、ＣＦ３ＣＯ２−等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率はポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。
【０１８３】
＜導電性膜＞
本発明の光学フィルムには、機能性層の少なくとも一方の面に酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜が設けられて使用されることに適している。設けられる導電性膜は、一般的に広く知られた透明導電性材料を用いることができる。具体的には、前記した金属酸化物以外では、金、銀、パラジウム等の化合物を導電性物質として用いることができる。これら導電性物質を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、機能性膜上に薄膜として形成する。また、前記π共役系導電性ポリマーである有機導電性材料を用いて、導電性薄膜を形成することも可能である。特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストのため、前記導電性物質の中でも酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした導電性材料が好適に使用される。導電性薄膜の厚さは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚さであって、経済性をも考慮すると、１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては導電性膜の厚さムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。導電性薄膜は、非晶質であっても結晶質であっても良いが、導電性膜に電極パターンを設ける場合には、非晶質の方が加工適性の点から好ましい。
【０１８４】
＜導電性層形成＞
図６に導電性膜を形成する蒸着装置の一例を示す。蒸着装置の真空槽１１ｓには、光学フィルム巻出部１２ｓと光学フィルム巻取部５１ｓの他に金属酸化物の膜を成膜するロール１４ｓから成る巻取部、成膜ロール１４ｓ上を光学フィルム基材１ｓが搬送する成膜室と呼ばれる薄膜形成部がある。それらを真空環境下に真空ポンプ１０ｓが設けられている。薄膜形成部には、蒸発材料（金属酸化物）１８ｓとるつぼ１７ｓから成る蒸発源があり、電子ビーム１９ｓによって蒸発材料（金属酸化物）を加熱蒸発し、薄膜を形成することができる。電子ビーム１９ｓは、電子銃１６ｓで生成し、電子銃１６ｓは、熱電子放出型などの一般的な電子銃を用いることができる。また、図６に図示した装置により薄膜の導電性膜を形成する場合は、蒸発材料１８ｓをるつぼ１７ｓに収め、真空室が適度な圧力になるまで真空ポンプ１０ｓで真空排気する。更に、電子ビーム１９ｓが照射できる圧力になった時点で、電子銃１６ｓを動作させ、蒸発材料１８ｓを蒸発するまで加熱する。次いで、成膜ロール１４ｓ上に光学フィルム１ｓを搬送させながら蒸発材料（金属酸化物）１８ｓを蒸着させることで、薄膜導電性膜を形成することができる。
【０１８５】
前記した導電性膜を形成する蒸着装置は、スペースや異物低減から設置されるスペースがコンパクト化されている。このため、光学フィルムを搬送するゾーンは、図７のように搬送ロールに対して、光学フィルムの抱かれる角度が大きくなる。このため、光学フィルムと搬送ロールとの接触面積が大きく、搬送時の摩擦も大きいため、導電性膜形成時の搬送時は、光学フィルムに傷が付きやすい。本発明の光学フィルムは、膜強度に優れるため、図７のような搬送時でも搬送傷が付かず、優れた特性を有する。
【０１８６】
搬送時に使用される搬送ローラの材料としては、通常知られている各種材料が使用できる。具体的には、ステンレス、クロムメッキ、チタンなど金属ローラなどが挙げられる。
【０１８７】
また、搬送ロールの表面をエンボス加工処理（凹凸模様）を施して、搬送ロールと光学フィルムとの接触面積を低減する方法も知られているが、ロール表面にエンボス加工処理を施すことは、高コストであり、また凹凸高さが異なると、搬送時のフィルム摩擦も変化し、その影響で搬送時にフィルムに傷が付くため、エンボス加工処理は精度が求められ、量産性にも問題がある。
【０１８８】
＜画像表示装置＞
本発明の光学フィルムは、画像表示装置に使用することもできる。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙がられる。これら画像表示装置の中でもタッチパネルを含む画像表示装置のタッチパネル用部材に本発明の光学フィルムを用いた場合、高い視認性、及びペン入力に対する耐久性（摺動による傷等）に優れる点で好ましい。
【０１８９】
次に、タッチパネル付き画像表示装置に本発明の光学フィルムを用いた場合の一例を図２に示す。本発明の光学フィルムＴ１１上に導電性膜Ｔ１２を形成し、これを透明導電性薄膜１５が形成されたガラス基板Ｔ１３と、導電性薄膜同士が向き合うように一定の間隔をあけて対向させることにより、抵抗膜方式のタッチパネルＴ１０を構成することができる。光学フィルム１１及びガラス基板Ｔ１３の端部には不図示の電極が配置されている。ユーザが、導電性薄膜１２付きの光学フィルム１１を指やペン等で押下することにより、導電性薄膜Ｔ１２が、ガラス基板Ｔ１３上の導電性薄膜Ｔ１５と接触する。この接触を端部の電極を介して電気的に検出することにより、押下された位置が検出される構成である。ガラス基板Ｔ１３の導電性薄膜１５上には、必要に応じてドット状のスペーサＴ１４が配置される。また、図３に示したように、図２のタッチパネルＴ１０をカラー液晶表示パネルＴ１６の上に搭載することにより、タッチパネル付き画像表示装置Ｔ２０を構成することができる。
【０１９０】
また、本発明の光学フィルムは、例えば液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いるインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。静電容量方式のタッチパネルでは、導電性膜Ｔ１２は、所定ピッチで配置された格子形状などの電極パターンを有することが好ましい。導電性膜の電極パターンは、導電性膜を形成後、導電性膜を電極パターンでマスキングし、アルカリエッチング処理により電極パターンを形成する方法や光学フィルムに所定のレーザー照射を行い、導電膜を連続的にパターニングすることで設けることができる。
【実施例】
【０１９１】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１９２】
実施例１
＜基材フィルム１の作製＞
（二酸化珪素分散液の調製）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均径７ｎｍ）
１０質量部
エタノール ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。
【０１９３】
（ドープ組成物１）
セルローストリアセテート ９０質量部
（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、
Ｍｎ＝１４００００）
ポリエステル系可塑剤（ＡＰ−１５） １０質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ２．５質量部
二酸化珪素分散希釈液 ４質量部
メチレンクロライド ４３２質量部
エタノール ３８質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。
【０１９４】
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．１５倍、ＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍で延伸しながら、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．３３ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、基材フィルム１を得た。基材フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は６０００ｍであった。
【０１９５】
＜光学フィルム１の作製＞
上記作製した基材フィルム１（セルローストリアセテートフィルム）のＡ面（流延ベルトに接していない面）上に、下記の機能性層組成物１を孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、図８に概略図を示した装置を用いて、減圧押出しコーターで基材フィルム１上に塗布し、恒率乾燥区間温度１００℃、減率乾燥区間温度１００℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚６．５μｍの機能性層１Ａを形成した。
【０１９６】
次いで、ターンバーにより、フィルムを反転させ、機能性層１Ａが設けられた逆面（流延ベルトに接していない面）に機能性層組成物１を、減圧押出しコーターを用いて基材フィルム１上に塗布し、恒率乾燥区間温度１１０℃、減率乾燥区間温度１１０℃で乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．１５Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５μｍの機能性層１Ｂを形成した。次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム１を作製した。
【０１９７】
光学フィルム１の機能性層１Ａ及び１Ｂの表面を光学干渉式表面粗さ計（Ｚｙｇｏ社製 ＮｅｗＶｉｅｗ５０３０）で観察した結果、不規則な突起形状が不規則に長さ方向及び幅方向に配列していることが分かった。図９には、機能性層１Ａ及び１Ｂの観察結果を示した。
【０１９８】
［機能性層組成物１］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１とした。
【０１９９】
（活性線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、
新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレートはＰＥＴＡと示した。
【０２００】
＜光学フィルム２の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性組成物１を下記機能性組成物２に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム２を作製した。
【０２０１】
［機能性層組成物２］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物２とした。
【０２０２】
（活性線硬化型樹脂）
トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学工業（株）製） ６０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）
２０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム３の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物３に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム３を作製した。
【０２０３】
［機能性層組成物３］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物３とした。
【０２０４】
（活性線硬化型樹脂）
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム４の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物４に変更し、減率乾燥区間温度を１３５℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム４を作製した。
【０２０５】
［機能性層組成物４］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物４とした。
【０２０６】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレートはＤＰＨＡと示した。
【０２０７】
＜光学フィルム５の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物５に変更し、減率乾燥区間温度を１２０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム５を作製した。
【０２０８】
［機能性層組成物５］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物５とした。
【０２０９】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ３０質量部
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＰＥＴＡ）（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製） ５０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム６の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物６に変更し、減率乾燥区間温度を９５℃に変更した以外は、同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム６を作製した。
【０２１０】
［機能性層組成物６］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物６とした。
【０２１１】
（活性線硬化型樹脂）
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製） ４０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）
４０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム７の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物７に変更し、減率乾燥区間温度を１３５℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム７を作製した。
【０２１２】
［機能性層組成物７］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物７とした。
【０２１３】
（活性線硬化型樹脂）
ウレタンプレポリマーとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物
（ＵＡ−３０６Ｈ、共栄社化学（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム８の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００８−２２５１９５号公報の実施例１を参考にして調整した機能性層組成物８に変更し、更に乾燥温度を特開２００８−２２５１９５号公報の実施例１と同じ７０℃とした以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学性フィルム８を作製した。
【０２１４】
［機能性層組成物８］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物８とした。
【０２１５】
（活性線硬化型樹脂）
サイクロマーＰ（ＡＣＡ）Ｚ３２０（不飽和基含有アクリル樹脂混合物、ダイセル化学工業（株）製） ５．７質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製） ６．３質量部
（添加剤：非相溶性樹脂）
ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量４８００００；三菱レイヨン（株）製、
ＢＲ８８） ０．９質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ０．５質量部
（溶剤）
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ０．１質量部
１−ブタノール ５．４質量部
１−メトキシ−２−プロパノール １．８９質量部
なお、表１の記載において、サイクロマーＰ（ＡＣＡ）Ｚ３２０をＡＣＡ、ポリメタクリル酸メチルをＭＭＡと示した。
【０２１６】
＜光学フィルム９の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００７−５８２０４号公報の実施例３を参考にして調整した機能性層組成物９に変更し、更に乾燥温度を特開２００７−５８２０４号公報の実施例３と同じ８０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム９を作製した。
【０２１７】
［機能性層組成物９］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物９とした。
【０２１８】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製） ９２質量部
（添加剤：非相溶性樹脂）
メタアクリレート共重合ポリマー（サフトマーＳＴ３６００，三菱化学株式会社）
１５質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ４質量部
（溶剤）
エタノール ４５質量部
トルエン １５質量部
なお、表１の記載において、メタアクリレート共重合ポリマーをＡＣＰと示した。
【０２１９】
＜光学フィルム１０の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００７−１８２５１９号公報の実施例５を参考にして調製した機能性層組成物１０に変更し、更に乾燥温度を特開２００７−１８２５１９号公報の実施例５と同じ８０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム１０を作製した。
【０２２０】
［機能性層組成物１０］
（不飽和二重結合含有アクリル共重合体の調製）
イソボロニルメタクリレート１８７．２ｇ、メチルメタクリレート２．８ｇ、メタクリル酸１０．０ｇからなる混合物を混合した。この混合物を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管及び滴下漏斗を備えた１０００ｍｌ反応容器中の、窒素雰囲気下で１１０℃に加温したプロピレングリコールモノメチルエーテル３６０ｇにターシャリーブチルペルオキシ−２−エチルヘキサエート２．０ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルの８０．０ｇ溶液と同時に３時間かけて等速滴下し、その後、１時間、１１０℃で反応させた。
【０２２１】
その後、ターシャリーブチルペルオキシ−２−エチルヘキサエート０．２ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテル１７ｇ溶液を滴下して、１１０℃で３０分反応させた。その反応溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド１．５ｇとハイドロキノン０．１ｇを含む６ｇのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を加え、空気バブリングしながら、更に４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル２４．４ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル５．０ｇの溶液を１時間かけて滴下し、その後５時間かけて更に反応させ、数平均分子量５５００、重量平均分子量１８０００の不飽和結合含有アクリル共重合体を得た。
【０２２２】
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１１とした。
【０２２３】
（活性線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＳＰ値：１２．７）
９８．５質量部
不飽和結合含有アクリル共重合体（ＳＰ値：９．７、Ｍｗ＝１８０００）
１．５質量部
（添加剤：粒子）
オルガノシリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ：シリカ粒子径２０ｎｍ、シリカ濃度３０％、日産化学工業株式会社製） １０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ７質量部
（溶剤）
メチルイソブチルケトン １１４質量部
なお、表１の記載において、不飽和結合含有アクリル共重合体はＡＣＯＰと示した。
【０２２４】
＜光学フィルム１１の作製＞
特開２００６−５３３７１号公報の実施例１を参考にして凹凸付きロールを作製した。この凹凸つきロールを図８における乾燥ゾーン５と、活性光線照射ランプユニット６との間で、機能性層表面に押し当てる工程を設けた以外は、図８と同様の装置を用いた。具体的には、基材フィルム１上に機能性層組成物１１を塗布後、恒率乾燥区間温度６０℃、減率乾燥区間温度６０℃で乾燥後、特開２００６−５３３７１号公報の実施例１を参考にして、機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。
【０２２５】
この密着した状態で、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚６．５μｍの機能性層１１Ａを形成した。次いで、ターンバーにより機能性層１１Ａを形成したフィルムを反転させ、機能性層１１Ａが設けられた逆面に、機能性層組成物１を孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、減圧押出しコーターを用いて塗布後、恒率乾燥区間温度６０℃、減率乾燥区間温度６０℃で乾燥後、更に機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。この密着した状態で、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５μｍの機能性層１１Ｂを形成した。
【０２２６】
次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム１１を作製した。光学フィルム１１の機能性層１１Ａの表面を光学干渉式表面粗さ計（Ｚｙｇｏ社製 Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０３０）で観察した結果、長さ方向に周期を有する突起形状が配列されていた。両面に機能性層が設けられた。
【０２２７】
＜光学フィルム１２の作製＞
特開２０１０−２４１９３７号公報の製造例１を参考にフッ素処理したシリカ微粒子分散液を調整した。前記調整したシリカ微粒子分散液と反応性基含有樹脂とを撹拌して混合し、機能性層組成物１２を調整した。次に、機能性層組成物１２を用いて、乾燥温度を特開２０１０−２４１９３７号公報の実施例３と同じ７０℃に変更した以外は光学フィルム１の作製と同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム１２を得た。
【０２２８】
［機能性層組成物１２］
（フッ素処理したシリカ微粒子分散液の調製）
シリカ微粒子ＳＰ−０３Ｆ（扶桑化学（株）製、粒径０．２〜０．３μｍ）３．００ｇにＫＢＭ７１０３（信越化学（株）製、フルオロアルキルアルコキシシラン） ０．１５ｇ、ＭＩＢＫ ２６．８５ｇを混合した。この混合成分と粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズとを混ぜて、３時間分散したのち、ジルコニアビーズを取り除き、更に分散液を５０℃で１時間加熱処理することで、フッ素処理したシリカ微粒子分散液を得た。
【０２２９】
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１２とした。
【０２３０】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ３０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４ ０．０２質量部
（添加剤：粒子）
アクリロイル基を有するシリカ微粒子（シリカ微粒子３０質量部、ＭＩＢＫ分散液、
粒径４０ｎｍ） ６６質量部
フッ素処理したシリカ微粒子分散液（シリカ微粒子濃度１０．９％） ５．５質量部
（溶剤）
メチルイソブチルケトン ５質量部
《評価》
上記作製した機能性層組成物、及び光学フィルム１〜１２について下記の評価を行った。また、得られた評価結果については表１に示した。
【０２３１】
１．樹脂粘度測定
機能性層組成物１〜１２について、各組成物の樹脂だけをディスパーにて撹拌混合して、２５℃の条件にてＢ型粘度計を用いて粘度測定を行った。
【０２３２】
２．光学フィルムの評価
ａ．算術平均粗さＲａの測定
上記作製した光学フィルム１〜１２の各機能性層について、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）を用いて１０回測定し、その測定結果の平均から各機能性層の算術平均粗さＲａを求めた。
【０２３３】
ｂ．耐ブロッキング性
上記作製したロール状光学フィルム１〜１２を、アルミ防湿シートに包み、長期輸送を想定して８０℃相対湿度８０％の恒温槽で２５日保存した。２５日間保存後、アルミ防湿シートを剥がしてブロッキング性を表面からの目視観察にて、以下の基準で評価した。
【０２３４】
◎：くっつき面積０％、ブロッキングは認められない
○：くっつき面積が２％未満、僅かにブロッキングが発生している
△：くっつき面積が２％以上〜１０％未満、ブロッキングが発生しているものの、
実用上問題ないレベル
×：くっつき面積が１０％以上〜４０％未満、ブロッキングが発生、実用上
極めて問題となる
ｃ．耐ペン摺動性評価
上記作製した光学フィルム１〜１２を、各１０ｃｍ×１０ｃｍサイズで切り出し、屋外での使用を想定してサイクルサーモ（−４０℃・３０分放置、次いで８５℃・３０分放置を交互）に５００サイクル投入後、８５℃相対湿度９０％の恒温槽で５００時間保存し、更に耐光試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、１６８時間光照射した。次いで、耐久性試験後の各光学フィルム１〜１３を２３℃・５５％ＲＨの雰囲気下で１２時間調湿後、光学フィルムの機能性層を先端部が０．０８ｍｍφのポリアセタール製のペンを使用し、荷重２５０ｇ、ペン摺動速度１００ｍｍ／秒で直線４０ｍｍを１５万回往復し、往復後の機能性層の傷つき及び剥れを目視により以下の基準で評価した。
【０２３５】
◎：傷つき及び剥がれ無し
○：傷の本数が１〜２本／ｃｍ幅で、かつ剥がれ無し
△：傷の本数が２本／ｃｍ幅以上で、かつ剥がれ無し（実用上問題の有るレベル）
×：傷が２本／ｃｍ幅以上つき、剥がれも有り
ｄ．搬送傷耐性評価
上記作製した光学フィルム１〜１２について、図８に示す装置でライン搬送だけを実施し、ライン搬送後の光学フィルムの状態を、反射型ＣＣＤを用いて観察して搬送傷を評価した。搬送傷の長さ５ｍｍ以上のものが１０ｍ２につき７本以下を○、１本以下が◎、８本以上を×とした。８本以上あると実用上問題となる。
【０２３６】
【表１】
表１の結果から判るようにフィルム基材上の両面に機能性層を有する光学フィルムにおいて、機能性層が長さ方向に不規則な（周期を持たない）突起形状を有し、かつ微粒子又は活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂を実質的に含有しないことで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性、及び搬送傷耐性に優れた光学フィルムを得ることができる。
【０２３７】
本発明の中でも機能性層が粘度２０〜２０００ｍＰａ・ｓの活性線硬化型樹脂を含有し、かつ機能性層を塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成す、更に前記乾燥工程の減率乾燥区間の温度を９０〜１４０℃の範囲とすることで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して特に優れた光学フィルムを得ることができる。
【０２３８】
実施例２
実施例１の光学フィルム１の作製において、機能性層１Ａ及び１Ｂの減率乾燥区間温度を表２に記載したように変更した以外は同様にして、光学フィルム１３〜１７を作製した。
【０２３９】
次に、実施例１で作製した光学フィルム１、及び光学フィルム１３〜１７について、耐ブロッキング性評価の保存期間を３０日に変更し、ペン摺動の往復回数を２０万に変更し、更に密着評価を行った以外は、実施例１と同様にして評価をした。得られた結果を表に示した。
【０２４０】
耐久試験後の密着評価
（耐候性試験）
光学フィルム１、及び光学フィルム１３〜１７を、各１０ｃｍ×１０ｃｍサイズで切り出し、屋外での使用を想定してオゾン１０ｐｐｍ、３０℃、６０％ＲＨの環境下に１００時間保管後、サイクルサーモ（−４０℃・４５分放置、次いで１１０℃・４５分放置を交互）で５００サイクル投入し、更に耐光試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、２００時間光照射した。
【０２４１】
上記耐候試験を実施した光学フィルムの機能性層表面に、片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で切り込みを１ｍｍ間隔で縦横に１１本入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上に市販のセロハン製テープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を目視で観察し、下記の基準で評価した。
【０２４２】
◎：全く剥離されなかった
○：剥離された面積割合が５％未満であった
△：剥離された面積割合が１０％未満であった。実用上問題無いレベルである
×：剥離された面積割合が１０％以上であった。実用上問題となるレベルである
【表２】
表２の結果から判るように本発明の光学フィルムにおいて、機能性層の突起形状の算術平均粗さＲａを１０〜１３０ｎｍとすることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。
【０２４３】
実施例３
実施例１の基材フィルム１のドープ組成物１の調整において、ポリエステル系可塑剤（ＡＰ−１５）の添加量を５質量部に変更し、更に以下に合成したアクリル系ポリマー１を１３質量部添加した以外は同様にしてドープ組成物２を調整した。次いで、基材フィルム１の作製において、テンターによるＴＤ方向の延伸条件を表３に記載したように変更した以外は、同様にして基材フィルム２〜５を作製した。
【０２４４】
次に、前記作製した基材フィルム２〜５に実施例２の光学フィルム１６の作製と同様にして両面に機能性層を設け、光学フィルム１８〜２１を作製した。
【０２４５】
前記作製した基材フィルムの面内リターデーションＲｏ及び厚さ方向リターデーションＲｔｈを以下の方法で測定した。また、前記作製した光学フィルム１８〜２１及び光学フィルム１６について実施例２と同様にして評価を行った。得られた結果を表３に示す。
【０２４６】
（アクリル系ポリマー１の合成）
メチルアクリレート １０質量部
２−ヒドロキシエチルアクリレート １質量部
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ） １質量部
トルエン ３０質量部
上記組成物を四つ口フラスコ（投入口、温度計、環流冷却管、窒素導入口、攪拌機を装着）に投入し、徐々に８０℃まで昇温し、攪拌しながら５時間重合を行い、重合終了後ポリマー溶液を多量のメタノールに投入して沈殿させ、更にメタノールで洗浄し、精製して乾燥し重量平均分子量５，０００（ＧＰＣにて測定）のアクリル系ポリマー１を得た。
【０２４７】
面内リターデーションＲｏ及び厚さ方向リターデーションＲｔｈ測定自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにおいて、３次元屈折率測定を行い、縦、横、厚さの各方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、下記式よりＲｏ及びＲｔｈを求めた。
【０２４８】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄである。
（式中、ｎｘは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは基材フィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
また、前記作製した光学フィルム１８〜２１及び光学フィルム１６について、以下の方法導電性薄膜を形成し、導電性光学フィルム１〜５を作製した。
【０２４９】
光学フィルム１〜５の機能性層１Ａ及び１Ｂの両面に表面抵抗率が約４００Ωである酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、図４に示した構成の導電性光学フィルム１〜５を作製した。
【０２５０】
次いで、上記作製した導電性光学フィルム１〜５を各二枚ずつ用いて、インナータッチパネルを作製した（図５）。二枚のうちの片方の導電性光学フィルムの導電層膜（１Ａ）に予めドット・スペーサを形成してから、二枚の導電層膜を対向させてインナータッチパネルを作製した。得られたインナータッチパネルを、上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板の構成を有する液晶表示装置の上面側偏光板の下に組み込んで液晶表示装置を作製し、暗室にて、インナータッチパネルを黒表示画面で正面方向や視野方向を変えて見て、視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表３に示した。
【０２５１】
視認性評価
○：タッチパネルの色味変化が無い
Δ：タッチパネルの色味変化が多少観察される
×：タッチパネルの色味変化が大きい
【表３】
本発明に係る光学フィルムにおいて、面内リターデーションＲｏを０〜５ｎｍ、厚さ方向のリターデーションを−１０〜１０ｎｍの範囲に調整した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。また、面内リターデーションＲｏを０〜１０ｎｍ、厚さ方向のリターデーションを−１０〜１０ｎｍの範囲に調整した基材フィルムからなる本発明の光学フィルムを用いた導電性光学フィルムをインナータッチパネルに用いることで、特に優れた視認性が得られる点で好ましいことが判る。
【０２５２】
実施例４
＜導電性光学フィルム６〜１７の作製＞
光学フィルム１〜１２の機能性層１Ａの片面のみに表面抵抗率が約４００Ωである酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の透明導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、導電性光学フィルム６〜１７を作製した。
【０２５３】
＜抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置１〜１２の作製＞
市販の抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置（型名：ＬＣＤ−ＵＳＢ１０ＸＢ−Ｔ、Ｉ−Ｏ ＤＡＴＡ社製）の導電性フィルムを剥がし、上記作製した各導電性光学フィルム６〜１７を図５のように機能性層１Ｂが視認側となるように貼合して、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置１〜１２を作製し、以下項目について評価を行い、表４に結果を示した。
【０２５４】
《評価》
視認性評価（文字ボケ・ムラ）
（文字ボケ）
天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ パナソニック（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した室内で、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を様々な角度から観察し、文字ボケを以下の基準で評価した。
【０２５５】
○：蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
×：蛍光灯の写り込みが気にならないが、フォントの大きさ８以下の文字がボケ、読むのが困難である
（ムラ評価）
上記作製した各抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を、６０℃、９０％ＲＨの条件で１０００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻した。様々な角度から観察し、以下の基準でムラを評価した。
【０２５６】
○：ムラが全く認められない
△：細かなムラが認められる（実害性有り）
×：ムラが認められる
【表４】
評価の結果、本発明の光学フィルムを使用した抵抗膜方式タッチパネル画像表示装置は視認性（文字ボケ、ムラ）も良好であった。
【符号の説明】
【０２５７】
Ｔ１０ 抵抗膜方式のタッチパネル
Ｔ１１ 光学フィルム
Ｔ１２ 透明導電性薄膜
Ｔ１３ ガラス基板
Ｔ１４ ドット・スペーサ
Ｔ１５ 透明導電性薄膜
Ｔ１６ カラー液晶表示パネル
Ｔ２０ 抵抗膜方式のタッチパネルを具備する画像表示装置
Ａ 導電性光学フィルム
１Ａ 機能性層
１Ｂ 機能性層
１Ｃ 基材フィルム
１Ｄ 透明導電性薄膜（ＩＴＯ層）
１Ｅ 液晶セル
１Ｆ 偏光板
１Ｇ 反射板
ＤＳ ドット・スペーサ
１ｓ 光学フィルム
１０ｓ 真空ポンプ
１１ｓ 真空槽
１２ｓ 光学フィルム巻出部
１３ｓ 搬送ロール
１４ｓ 導電膜成膜ロール
１５ｓ 搬送ロール
１６ｓ 電子銃
１７ｓ ルツボ
１８ｓ 蒸発材料
１９ｓ 電子ビーム
２１ｓ 直流電源
２２ｓ 放電電極
５１ｓ 光学フィルム巻取部
Ｙ 長尺フィルム
１ 繰り出しロール（図８）
２ 搬送ローラー（図８）
３ 押出しコータ
４ 対向ロール
５ 乾燥ゾーン
６ 活性光線照射ランプユニット
６ａ 空冷活性光線ランプ
６ｂ 空冷用Ａｉｒ通風口
６ｃ Ｎ２用供給チャンバー
７ 加熱ゾーン
８ 巻き取り室
９ 巻き取りロール
１０ 温風吹き出し口
１２ 移動可能な台車
１５ 巻き取りコア
１ 機能性層（図１０）
２ 突起（図１０）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、その製造方法及び当該光学フィルムを備えた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置等の画像表示装置が注目され、その用途の一つとして、携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などへの応用が期待されている。これらの携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などの入力装置としては、画像表示装置の表示素子の上にタッチパネルを載せたものが主流となっている。
【０００３】
タッチパネルとしては、例えば抵抗膜方式等が挙がられ、抵抗膜方式のタッチパネルは、一般にフィルム基材の一方の面にハードコート層を有し（以下、「ハードコートフィルム」という。）、もう一方の面に酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜を有した上部電極となるパネル板と、ガラス基板等の透明基材の一方の面に前記金属酸化物を主成分とした導電性膜を有した下部電極となるパネル板とをスペーサを介して対向配置したものが使用されている。
【０００４】
このようなタッチパネルは、通常、フィルム基材にハードコート層を設けてハードコートフィルムを製造するメーカーと、ガラス基板に酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜を設けるメーカーと、これらを組み立てるメーカーに分かれて製造されている。
【０００５】
一方、タッチパネルで使用されるハードコートフィルムは、導電性膜の接着性やカール防止という観点から実際には、フィルム基材の両面にハードコート層を有するものが多く使用されている。
【０００６】
このようなハードコートフィルムは、一般的に平滑な面をしているため、ハードコートフィルムの製造時にロール状で巻き取る際にブロッキング（フィルム同士の貼りつき）が発生しやすかった。ブロッキングが生じたハードコートフィルムを、導電性膜を設けるメーカーで使用すると、貼りついたハードコートフィルムを剥がす際に静電気が発生し、粉塵を引き付けてしまい、粉塵による異物故障を発生させる問題があった。
【０００７】
さらに、このようなハードコートフィルムを用いてタッチパネルを製造すると、ハードコートフィルムにブロッキングパターンが生じているため、画像表示装置に使用すると美観が著しく損なわれる問題もあった。また、ハードドコートフィルムは平滑な面をしているため、ロール搬送で連続して導電性膜を設ける際、ロールとハードコート面が貼りつき、ロールでハードコート層が擦れるため、搬送傷等が発生する問題もあった。
【０００８】
このため、突起形状を有した表面凹凸を形成することで、フィルム同士のくっつきを防止して、ブロッキングを防止する技術が、例えば特許文献１に開示されている。特許文献１では、二つ以上の反応性官能基を有する樹脂とフッ素化合物が結合した微粒子とを含むハードコート層用硬化性樹脂組成物により、ハードコートフィルムに突起形状を有する表面凹凸を形成する技術である。また、樹脂の相分離や更に微粒子を添加して、突起形状を有する表面凹凸を形成する技術もブロッキング防止に利用でき、この技術については、例えば特許文献２に開示されている。
【０００９】
しかしながら、前記した技術等では、突起形状によってブロッキング防止は、ある程度改善されるものの、ロール搬送で連続して導電性膜を設ける際に、抱き角が深いロールと突起形状面が接触すると、ロールと突起形状面が擦れ、微粒子等の脱落や相分離膜の膜強度が弱く、異物の発生や搬送での擦り傷が発生し、導電性膜を設ける際の問題はいずれとして残っていた。また、タッチパネルでの動作環境を想定した評価である耐ペン摺動性が、耐久試験後に劣化する問題があった。
【００１０】
ブロッキング防止のための凹凸構造を形成する方法としては、表面に凹凸構造が設けられた表面転写ロールでフィルムに凹凸構造を設ける方法も知られている。しかしながら、通常、表面転写ロールは５ｃｍ程度の直径を持つロール形状を有するものであるため、長尺状のロールに凹凸構造を形成した場合には、１５ｃｍ程度の周期を有する形状となる。そのため、非常に長い長尺状のフィルムに表面転写ロールで凹凸を形成した場合には、積層されたフィルム間で部分的に凹凸構造の周期が一致してしまい、一部ブロッキングを引き起こす問題が発生することが明らかになった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１０−２４１９３７号公報
【特許文献２】特開２００７−１８２５１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することである。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、基材フィルムの両面上に相容性樹脂の連続相からなる不規則な形状の突起を有する機能層を設けることにより上記課題を解決することができることを見出し本発明に至った。
【００１４】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１５】
１．基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【００１６】
２．前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。
【００１７】
３．前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。
【００１８】
４．前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００１９】
５．前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２０】
６．温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２１】
７．前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【００２２】
８．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を８５〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００２３】
９．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【００２４】
１０．第１項か第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の上記手段により、厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に優れ、更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する光学フィルムを提供することができる。また、当該光学フィルムが具備され、文字ボケやムラが無く視認性に優れた画像表示装置を提供することができる。
【００２６】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００２７】
すなわち、本発明に係る機能性層の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な状態を有している。このため、フィルム同士が重なり合った場合でも、応力が分散しやすく、フィルムをロール状で長尺に巻いてもブロッキング防止の効果が良好に得られる。さらに、耐久試験後も膜強度の劣化が無いため、タッチパネルでの使用環境を想定した評価である耐ペン摺動性に優れ、更にはロール搬送での擦り傷耐性にも優れた光学フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る突起の説明図
【図２】本発明の光学フィルムをタッチパネルに用いた場合の一例
【図３】タッチパネル付き液晶表示装置の模式図
【図４】導電性光学フィルムの模式図
【図５】インナータッチパネルの概略図
【図６】導電性膜形成装置の概略図
【図７】光学フィルムを搬送するゾーンの概略図
【図８】本発明に係る活性光線照射後に連続して加熱処理する工程を示した概略図
【図９】光学干渉式表面粗さ計による機能性層１Ａ及び１Ｂの観察結果を示す図
【図１０】本発明に係る光学フィルムの機能性層の表面に現れる突起のイメージ図
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上（表裏二面上）に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。
【００３０】
この特徴は、請求項１から請求項１０までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００３１】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現、特に耐久性、密着性等の観点から、前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。更には、算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることが、突起形状が得られやすいことから、好ましい。
さらに、本発明においては、前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることが好ましい。
【００３２】
さらに、本発明においては、温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。これにより、厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。
【００３３】
また、前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることが好ましい。
【００３４】
本発明の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法としては、２５℃における粘度が２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にある活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を９０〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理する態様の製造方法であることが、所定の突起形状が得られやすいという観点から、好ましい。
【００３５】
本発明の光学フィルムは、画像表示装置に好適に具備され得る。特に、本発明の光学フィルムは、タッチパネルの構成部材として、画像表示装置に好適に具備され得る。
【００３６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３７】
（本発明の光学フィルムの特徴）
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの両面上（表裏二面上）に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。一例として、図１０に示すように、機能性層１の表面に現れる、幅も高さも異なる突起２が、不規則な形状の突起として挙げられる。なお、長手方向とは、光学フィルムの製造時、その組成物塗布液が流延された製膜方向をいう。
【００３８】
従来、相互に非相溶性の複数（例えば二種）の樹脂成分を混合した場合、混合物の高次構造としては、一方の樹脂がマトリクスとなり、他方が分散相となることで海島構造を形成する、すなわち、樹脂成分の片方が連続する相の中に、もう一方が粒子状（島状）に分散している構造を形成することがよく知られている。
【００３９】
この海島構造に対し、本発明に係る機能性層は、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、複数成分のそれぞれが互いに混じりあって連続した相を形成している構造になっている。このため、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする。
【００４０】
本願において、機能性層が活性線硬化型樹脂に対して非相溶性である樹脂や粒子を実質的に含有しないという場合、当該非相溶性である樹脂や粒子の含有量が、機能性層の固形分に対して、０．０１質量％以下であることを意味するものとする。ただし、機能性層と基材との界面においては、機能性層を形成する際に基材表面付近の構成成分が機能性層側に抽出される場合があるが、基材から抽出された成分が機能性層と基材との界面付近に局在する場合は、この部分を除くものとする。
【００４１】
本願において、「非相溶性」とは、二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Ｔｍ又はガラス転移点Ｔｇを測定・観察したときに、当該溶融混合物を構成する樹脂それぞれ単独のピークが観察されるものをいう。また、透過型電子顕微鏡観察においてそれぞれの相が実質的に観察されるものをいう。
一方、「相溶性」とは、同種又は二種類以上の樹脂の溶融混合物の融解温度Ｔｍ又はガラス転移点Ｔｇを測定・観察したときに、当該溶融混合物のピークが１個以下観察されるものをいう。
【００４２】
本発明に係る活性線硬化型樹脂（詳細は後述する。）に対し非相溶性である樹脂としては、不飽和二重結合などの官能基（重合性基）を有さない化合物であり、具体的には（メタ）アクリル系やアクリル系の単量体を重合又は共重合して得られる樹脂やポリエステル樹脂、基材フィルムで後述するアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などが挙げられる。
【００４３】
微粒子としては、無機微粒子や有機微粒子といった微粒子が挙げられ、具体的には無機微粒子としては、酸化珪素、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、などを挙げることができる。また、有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、又はメラミン系樹脂粉末等を挙げることができる。
【００４４】
本発明に係る機能性層は、上述のように、活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は微粒子を実質的に含有せず、相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため、耐久試験においても劣化等が生じ難く、耐ペン摺動性に優れた光学フィルムを提供できる。また、機能性層の表面凹凸を形成する突起形状は、微粒子を含有させたり、型付けなどによって形成されたものではないため、不規則な状態を有しており、機能性層同士が、重なり有った場合でも、応力が分散しやすく、優れたブロッキング防止の効果が得られるものである。
【００４５】
また、本発明に係る機能性層は微粒子を含有しないため、ロール搬送時に微粒子の脱落などが生じず、更に相溶性の高い樹脂成分だけで構成されているため膜強度に優れ、ロール搬送での擦り傷耐性に優れた光学フィルムを提供することができる。
【００４６】
（機能性層の表面形状）
本発明に係る機能性層の表面の突起形状は、長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起をしている。本発明の「長さ方向に周期を持たない不規則な形状の突起」とは、表面凹凸がフィルムの幅手方向にも形や大きさが定まらない不規則な形状であり、表面転写ロールにより形成された表面凹凸のようなフィルムの長さ方向に周期を持たない形状の突起をさす。これらに限定はされないが、例えば、幅も高さも異なる突起が、不規則に配置される。また、「不規則な配置」とは、突起が等間隔に配置されているのではなく、ランダムな間隔で配置され、等方的であっても、異方的であってもよい。なお、突起は、基材フィルムと接していない機能性層の表面上に現れる。
【００４７】
長さ方向に周期を持たない不規則な突起形状を有することで、ロール状にフィルムを巻き取り、フィルム同士が重なり有った場合でも突起形状が重なり合うことなく、ブロッキング防止の効果が得られると推定している。このため、例えば表面転写ロールを押し当てて表面に突起を形成させる方法では、幅方向には、不規則な突起形状を形成できるが、長さ方向は一定の周期を有する突起形状しか得られないため、本発明の目的効果は得られない。
【００４８】
機能性層の表面の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４）は、１８０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、２〜１８０ｎｍ、特に好ましくは２〜１３０ｎｍである。前記範囲の算術平均粗さＲａとすることで、より過酷な耐久試験において、本発明の目的効果が好適に得られるばかりか、密着性にも優れる点で好ましい。
【００４９】
この算術平均粗さＲａとするための突起形状の高さは、２ｎｍ〜４μｍ、が好ましい。また突起形状の幅は５０ｎｍ〜３００μｍ、好ましくは、５０ｎｍ〜１００μｍである。上記突起形状の高さ、及び幅は断面観察から求めることができる。よりわかりやすくするために、図１の（ａ）と（ｂ）に突起の説明図を示した。図１の（ａ）と（ｂ）に示されているように、断面観察の画像に中心線ａを引き、山の麓を形成する線ｂ、ｃと中心線ａとの２つの交点の距離を、突起サイズの幅ｔとした。また、山頂と中心線ａまでの距離を突起サイズの高さｈとして求められる。
【００５０】
機能性層の１０点平均粗さＲｚは、中心線平均粗さＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍは５〜１５０μｍが好ましく、より好ましくは２０〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差は０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面は１０％以上が好ましい。前記した算術平均粗さＲａ、Ｓｍ、Ｒｚは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて光学干渉式表面粗さ計（例えば、ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。
【００５１】
また、機能性層の尖度（Ｒｋｕ）は３以下が好ましい。尖度（Ｒｋｕ）とは、凹凸形状の凸状部分の形状を規定するパラメータであり、この尖度（Ｒｋｕ）の値が大きい程、凹凸形状の凸状部分の形状は、針のように尖った形状であることとなる。尖度（Ｒｋｕ）３を超えるものは、白ボケが発生しやすい。機能性層の尖度（Ｒｋｕ）は、更に好ましくは１．５〜２．８である。また、表面の歪度（Ｒｓｋ）の絶対値は１以下であることが好ましい。前記歪度（Ｒｓｋ）は、凹凸形状の平均面に対する凸状部分と凹状部分との割合を示すパラメータであり、凹凸形状が、平均面に対して凸状部分が多いとプラスに大きな値となり、平均面に対して凹状部分が多いとマイナスに大きな値となる。歪度（Ｒｓｋ）の絶対値が１を超えるものは、白ボケが発生しやすい。歪度（Ｒｓｋ）の絶対値は、好ましくは０．０１〜０．５である。なお、尖度（Ｒｋｕ）及び歪度（Ｒｓｋ）は、上記光学干渉式表面粗さ計を用いて計測できる。
【００５２】
なお、上述したような特徴を有する機能性層の詳細については後述するが、上記突起形状（表面凹凸）は、例えば、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温制御し、樹脂の塗膜対流を発生させ、機能性層表面に不均一な状態を作り、この不均一な表面状態で硬化し、塗膜を形成する方法などによって得ることができる。このような方法で塗膜を形成することで、機能性層の膜強度が向上する。また、機能性層塗布組成物の乾燥工程における減率乾燥区間の処理温度を高温条件に制御する方法は、生産性にも優れる点で好ましい。
【００５３】
（機能性層）
本発明に係る機能性層は、活性線硬化樹脂を含有する。すなわち、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう。）照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層である。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度（耐擦傷性、鉛筆硬度）に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００５４】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。
【００５５】
これらの市販品としては、アデカオプトマーＮシリーズ、サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３、アロニックスＭ−３２７（東亞合成（株）製）、ＮＫ−エステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫ−エステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ（新中村化学工業（株））、ＰＥ−３Ａ（共栄社化学）などが挙げられる。
【００５６】
また、上記活性線硬化樹脂を単独又は二種以上混合しても良い。また、活性線硬化型樹脂の２５℃における粘度は、好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以上、２０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度の樹脂を用いることで、突起形状が得られやすく、更に前述した特に好ましい算術平均粗さＲａの範囲に制御しやく、この結果、本発明の目的効果を好適に得られる。また、樹脂の粘度が３０ｍＰａ・ｓ以上の粘度であれば高官能数のモノマーを用いることができて、十分高い硬化性が得られ、２０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度であれば、乾燥工程において樹脂組成物（活性線硬化型樹脂と溶剤以外の添加剤からなる組成物）の十分な流動性が得られやすい。
【００５７】
活性線硬化型樹脂の粘度は、樹脂をディスパーにて撹拌混合し２５℃の条件にてＢ型粘度計を用いて粘度測定を行うことができる。
【００５８】
なお、上記粘度は、Ｂ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。
【００５９】
また、単官能アクリレートを用いても良い。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
【００６０】
単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝８０：２０〜９９：２で含有することが好ましい。
【００６１】
また、機能性層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００６２】
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。
【００６３】
機能性層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
【００６４】
機能性層には、塗布性の観点から、アクリル系界面活性剤（アクリル共重合物）、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフト化合物を含有させても良い。また機能性層は ＨＬＢ値が３〜１８の化合物を含有しても良い。ＨＬＢ値が３〜１８の化合物について説明する。ＨＬＢ値とは、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、ＨＬＢ値は以下のような計算式によって求めることができる。
【００６５】
ＨＬＢ＝７＋１１．７Ｌｏｇ（Ｍｗ／Ｍｏ）
式中、Ｍｗは親水基の分子量、Ｍｏは親油基の分子量を表し、Ｍｗ＋Ｍｏ＝Ｍ（化合物の分子量）である。あるいはグリフィン法によれば、ＨＬＢ値＝２０×親水部の式量の総和／分子量（Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｃｈｅｍ．，５（１９５４），２９４）等が挙げられる。ＨＬＢ値が３〜１８の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、本発明はこれに限定されるものでない。（ ）内はＨＬＢ値を示す。
【００６６】
花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ（６．３）、エマルゲン１０３（８．１）、エマルゲン１０４Ｐ（９．６）、エマルゲン１０５（９．７）、エマルゲン１０６（１０．５）、エマルゲン１０８（１２．１）、エマルゲン１０９Ｐ（１３．６）、エマルゲン１２０（１５．３）、エマルゲン１２３Ｐ（１６．９）、エマルゲン１４７（１６．３）、エマルゲン２１０Ｐ（１０．７）、エマルゲン２２０（１４．２）、エマルゲン３０６Ｐ（９．４）、エマルゲン３２０Ｐ（１３．９）、エマルゲン４０４（８．８）、エマルゲン４０８（１０．０）、エマルゲン４０９ＰＶ（１２．０）、エマルゲン４２０（１３．６）、エマルゲン４３０（１６．２）、エマルゲン７０５（１０．５）、エマルゲン７０７（１２．１）、エマルゲン７０９（１３．３）、エマルゲン１１０８（１３．５）、エマルゲン１１１８Ｓ−７０（１６．４）、エマルゲン１１３５Ｓ−７０（１７．９）、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ（１３．０）、エマルゲン２０２５Ｇ（１５．７）、エマルゲンＬＳ−１０６（１２．５）、エマルゲンＬＳ−１１０（１３．４）、エマルゲンＬＳ−１１４（１４．０）、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ（４）、サーフィノール１０４Ｈ（４）、サーフィノール１０４Ａ（４）、サーフィノール１０４ＢＣ（４）、サーフィノール１０４ＤＰＭ（４）、サーフィノール１０４ＰＡ（４）、サーフィノール１０４ＰＧ−５０（４）、サーフィノール１０４Ｓ（４）、サーフィノール４２０（４）、サーフィノール４４０（８）、サーフィノール４６５（１３）、サーフィノール４８５（１７）、サーフィノールＳＥ（６）、信越化学工業株式会社製：Ｘ−２２−４２７２（７）、Ｘ−２２−６２６６（８）、ＫＦ−３５１（１２）、ＫＦ−３５２（７）、ＫＦ−３５３（１０）、ＫＦ−３５４Ｌ（１６）、ＫＦ−３５５Ａ（１２）、ＫＦ−６１５Ａ（１０）、ＫＦ−９４５（４）、ＫＦ−６１８（１１）、ＫＦ−６０１１（１２）、ＫＦ−６０１５（４）、ＫＦ−６００４（５）。シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができ、上記信越化学工業社製のＫＦシリーズなどを挙げることができる。アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２などの市販品化合物を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファック ＲＳシリーズ、メガファックＦ−４４４メガファックＦ−５５６などを挙げることができる。フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素−シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。またこれら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．００５質量％以上、５質量％以下の範囲で添加することが好ましい。また、機能性層は、後述する基材フィルムで説明する紫外線吸収剤をさらに含有しても良い。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成としては、機能性層が二層以上で構成され、かつ基材フィルムと接する機能性層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【００６７】
紫外線吸収剤の含有量としては質量比で、紫外線吸収剤：活性線硬化樹脂＝０．０１：１００〜１０：１００で含有することが好ましい。二層以上設ける場合、基材フィルムと接する機能性層の膜厚は、０．０５〜２μｍの範囲であることが好ましい。二層以上の積層は同時重層で形成しても良よいし、遂次重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材フィルム上に二層以上の機能性層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔ（湿式塗布方式）で塗布して、機能性層を形成することである。第１機能性層の上に乾燥工程を経ずに、第２機能性層をｗｅｔ ｏｎ ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。
【００６８】
機能性層は、上記した機能性層を形成する成分を溶剤で希釈して機能性層組成物として、以下の方法でフィルム基材上に塗布、乾燥、硬化して機能性層を設けることが好ましい。溶剤としては、ケトン類（メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど）、アルコール類（エタノール、メタノール、ブタノ―ル、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコールなど）、炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン）、グリコールエーテル類（プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルなど）などを好ましく用いることができる。また、これら溶剤の中でもケトン類、エステル類、グリコールエーテルが好ましい。これら好ましい溶剤の少なくとも一種を活性線硬化樹脂１００質量部に対して、２０〜２００質量部の範囲で用いることで、機能性層組成物を基材フィルムに塗布後、機能性層組成物の溶剤が蒸発しながら、機能性層を形成していく過程で、樹脂の対流が生じやすく、その結果、長手方向に不規則で、かつ基材フィルム上にも不規則な突起形状を有する表面粗れが発現しやすく、算術平均粗さＲａも制御しやすいため好ましい。
【００６９】
機能性層の塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．０５〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。機能性層の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。これら塗布方法を用いて機能性層を形成する機能性層組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う）し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた機能性層を得ることができる。
【００７０】
乾燥は、減率乾燥区間の温度を８５℃以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は８５℃以上、１４０℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温処理とすることで、機能性層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じるため、その結果、機能性層表面に不規則な表面粗れが発現しやすく、この結果、前記した算術平均粗さＲａに制御しやすいため好ましい。
【００７１】
一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、活性線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。
【００７２】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００７３】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００７４】
活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。
【００７５】
＜光学フィルムの物性＞
（ヘイズ）
光学フィルムの内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズとも記載する）は、０〜１％であることが好ましい。内部散乱を良好に抑性することで、本発明に係る光学フィルムを画像表示装置に用いた場合、優れた視認性が得られる。内部ヘイズは以下の手順で測定することができる。光学フィルムの表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴滴下し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）２枚で、裏表より挟む。表裏をガラスで挟み込んだ光学フィルムを、完全に２枚のガラス板と光学的に密着させ、この状態でヘイズ（Ｈａ）をＪＩＳ−Ｋ７１０５及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定する。次に、ガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみ数滴滴下して挟み込んでガラスヘイズ（Ｈｂ）を測定する。そして、光学フィルムをガラスで挟み込んだヘイズ（Ｈａ）から、ガラスヘイズ（Ｈｂ）を引くことで、内部ヘイズ（Ｈｉ）は算出できる。また、光学フィルムのヘイズは０．２〜２０％であることが好ましい。
【００７６】
（硬度）
本発明での光学フィルムは、硬度の指標で有る鉛筆硬度がＨ以上、より好ましくは３Ｈ以上である。３Ｈ以上であれば、大型の表示装置や、デジタルサイネージ用表示装置にし、用いた際も優れた機械物性を示す。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度２３℃、相対湿度５５％の条件で２時間以上調湿した後、加重５００ｇ条件でＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、機能性層をＪＩＳ Ｋ５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
【００７７】
次いで、基材フィルムについて説明する。
【００７８】
＜基材フィルム＞
基材フィルムは製造が容易であること、機能性層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。
【００７９】
上記性質を有した基材フィルムであればいずれでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を使用することができる。
【００８０】
これらの内、セルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、及びＫＣ１２ＵＲ（以上、コニカミノルタオプト（株）製））、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、本発明においては、セルロースエステルフィルムが機能性層で上記した突形状が得られやすいこと、製造性、コスト面から好ましい。
【００８１】
基材フィルムの屈折率は、１．３０〜１．７０であることが好ましく、１．４０〜１．６５であることがより好ましい。屈折率は、屈折率は、アタゴ社製 アッペ屈折率計２Ｔを用いてＪＩＳ Ｋ７１４２の方法で測定する。
【００８２】
（セルロースエステルフィルム）
次に基材フィルムとして好ましいセルロースエステルフィルムについて、より詳細に説明する。
【００８３】
セルロースエステルフィルムは、上記特性を有するものであれば特に限定はされないが、セルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステルともいう。）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
【００８４】
上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独あるいは混合して用いることができる。
【００８５】
セルロースジアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５１．０％〜５６．０％が好ましく用いられる。また、市販品としては、ダイセル社Ｌ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカル社のＣａ３９８−３、Ｃａ３９８−６、Ｃａ３９８−１０、Ｃａ３９８−３０、Ｃａ３９４−６０Ｓが挙げられる。
【００８６】
セルローストリアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。
【００８７】
セルローストリアセテートとしては、アセチル基置換度が、２．８０〜２．９５であって数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上、１５５０００未満、重量平均分子量（Ｍｗ）は、２６５０００以上３１００００未満、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるセルローストリアセテートＡ、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であって数平均分子量（Ｍｎ）が１５５０００以上、１８００００未満、Ｍｗは２９００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎは、１．８〜２．０であるセルローストリアセテートＢを含有することが好ましい。
【００８８】
セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすものが好ましい。
【００８９】
式（Ｉ）： ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）： ０≦Ｘ≦２．５
中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下の通りである。
【００９０】
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ
（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００までの１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００９１】
（セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂含有フィルム）
基材フィルムは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、アクリル樹脂：セルロースエステル樹脂＝９５：５〜５０：５０であるフィルムを用いても良い。
【００９２】
アクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上の単量体を併用して用いることができる。
【００９３】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は８００００〜５０００００であることが好ましく、更に好ましくは、１１００００〜５０００００の範囲内である。
【００９４】
アクリル樹脂の重量平均分子量は、測定条件含めて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁又は乳化重合では３０〜１００℃、塊状又は溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。得られた共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。また、市販品も使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０、ＢＲ８３、ＢＲ８５、ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。アクリル樹脂は二種以上を併用することもできる。また、アクリル樹脂には、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体に（メタ）アクリル系樹脂がグラフトされたグラフト共重合体を用いてもよい。前記グラフト共重合体は、（メタ）アクリル系ゴムと芳香族ビニル化合物の共重合体がコア（ｃｏｒｅ）を構成し、その周辺に前記（メタ）アクリル系樹脂がシェル（ｓｈｅｌｌ）を構成するコア−シェルタイプのグラフト共重合体であることが好ましい。
【００９５】
基材フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、基材フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。基材フィルムは、熱可塑性アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。
【００９６】
（アクリル粒子）
基材フィルムは、脆性の改善に優れる点から、アクリル粒子を含有しても良い。アクリル粒子とは、前記熱可塑性アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂を相溶状態で含有する基材フィルム中に粒子の状態（非相溶状態ともいう）で存在するアクリル成分を表す。
【００９７】
アクリル粒子は、特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、カネカ社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”及びクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし二種以上を用いることができる。基材フィルムにアクリル粒子を添加する場合は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂との混合物の屈折率とアクリル粒子の屈折率が近いことが、透明性が高いフィルムを得る点では好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。
【００９８】
アクリル微粒子は、該フィルムを構成するアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量に対して、含有質量比でアクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂総質量＝０．５：１００〜３０：１００の範囲で含有させることで、目的効果がより良く発揮される点から好ましく、更に好ましくは、アクリル微粒子：アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量＝１．０：１００〜１５：１００の範囲である。
【００９９】
（微粒子）
本実施形態に係る基材フィルムには、取扱い性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましく用いられる。
【０１００】
微粒子の１次平均粒子径としては、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、５〜１２ｎｍである。
【０１０１】
（その他の添加剤）
基材フィルムには、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、糖エステル系、アクリル系ポリマー等が挙げられる。この中では、ポリエステル系、糖エステル系及びアクリル系ポリマーの可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れる。用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が３０質量％以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が４０質量％以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。
【０１０２】
ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。またポリエステル系可塑剤の好ましくは、芳香族末端エステル系可塑剤である。芳香族末端エステル系可塑剤としては、フタル酸、アジピン酸、少なくとも一種のベンゼンモノカルボン酸及び少なくとも一種の炭素数２〜１２のアルキレングリコールとを反応させた構造を有するエステル化合物が好ましく、最終的な化合物の構造としてアジピン酸残基及びフタル酸残基を有していればよく、エステル化合物を製造する際には、ジカルボン酸の酸無水物又はエステル化物として反応させてもよい。
【０１０３】
ベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、安息香酸であることが最も好ましい。また、これらはそれぞれ一種又は二種以上の混合物として使用することができる。
【０１０４】
炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等が挙げられる。これらの中では特に１，２−プロピレングリコールが好ましい。これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用してもよい。
【０１０５】
芳香族末端エステル系可塑剤は、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは３５０〜３０００の範囲である。また酸価は、１．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【０１０６】
具体的には以下に示す化合物などが挙げられるがこれらに限定されない。
【０１０７】
【化１】
【化２】
【化３】
糖エステル系化合物としては、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基のすべて若しくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（１）で表される化合物などを挙げることができる。
【０１０８】
【化４】
（式中、Ｒ１〜Ｒ８は、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換の炭素数２〜２２のアリールカルボニル基を表し、Ｒ１〜Ｒ８は、同じであっても、異なっていてもよい。）
以下に一般式（１）で示される化合物をより具体的（化合物１−１〜化合物１−２３）に示すが、これらに限定はされない。
【０１０９】
【化５】
【化６】
【化７】
これら可塑剤は、基材フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。
【０１１０】
なお、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【０１１１】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは二種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【０１１２】
これらは、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類を好ましく使用できる。
【０１１３】
さらに、基材フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、基材フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【０１１４】
基材フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる一種、あるいは二種以上の混合物を挙げることができる。具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【０１１５】
近年、液晶表示装置に代表される画像表示装置が大型化され、バックライト光源の輝度が益々高くなっていることに加え、デジタルサイネージ等の屋外用途への利用により、基材フィルムはより高温の環境下での使用に耐えられることが求められており、基材フィルムは張力軟化点が、１０５℃〜１４５℃であれば、十分な耐熱性を示すものと判断でき好ましく、特に１１０℃〜１３０℃に制御することが好ましい。張力軟化点の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。ガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。
【０１１６】
基材フィルムは、直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下であることが好ましい。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。
【０１１７】
欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。
【０１１８】
欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。
【０１１９】
また、目視で確認できない場合でも、機能性層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。また、基材フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。
【０１２０】
（光学特性）
基材フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。ヘイズ値は２％以下が好ましく、より好ましくは１．５％以下である。全光線透過率、ヘイズ値はＪＩＳ Ｋ７３６１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。
【０１２１】
かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。
【０１２２】
また、基材フィルムの波長５９０ｎｍにおける、面内リターデーションＲｏが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のリターデーションＲｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲である基材フィルムが好ましい。更にＲｏは０〜５ｎｍ、Ｒｔｈは−５〜５ｎｍの範囲であることがより好ましい。
【０１２３】
Ｒｏ及びＲｔｈは下記式（Ｉａ）及び（IIａ）で定義された値である。
【０１２４】
式（Ｉａ）： Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（IIａ）： Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、ｎｘは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは基材フィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
上記リターデーションは、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍで求めることができる。
【０１２５】
前記リターデーションに制御した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験において、本発明の目的が得られやすい点や後述するインナータッチパネルなどに用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーションは、前述した可塑剤の種類や添加量、及び基材フィルムの膜厚や延伸条件などで、調整できる。
【０１２６】
（基材フィルムの製膜）
次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
【０１２７】
セルロースエステル樹脂やアクリル樹脂を溶解に用いた溶媒の残留抑制の点からは溶融流延製膜法で作製する方法が好ましい。溶融流延によって形成される方法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるフィルムが得られる、溶融押出し法が好ましい。また、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点からは流延法による溶液製膜が好ましい。また、フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラム上又はエンドレスベルト上に押出し製膜する方法も溶融流延製膜法として含まれる。
【０１２８】
（有機溶媒）
基材フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂などの樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。
【０１２９】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１３０】
〔溶液流延法〕
基材フィルムは、溶液流延法によって製造することができる。溶液流延法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
【０１３１】
ドープ中の樹脂の濃度は、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１３２】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
【０１３３】
好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１３４】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１３５】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１３６】
基材フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１３７】
残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１３８】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０１３９】
また、セルロースエステルフィルムあるいはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０１４０】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０１４１】
〔延伸工程〕
延伸工程では、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）、及び幅手方向（ＴＤ方向）に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、あるいはＭＤ／ＴＤ方向同時に広げてＭＤ／ＴＤ両方向に延伸する方法などが挙げられる。
【０１４２】
製膜工程のこれらの幅保持あるいは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０１４３】
テンター内などの製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍが好ましく、１４０Ｎ／ｍ〜２００Ｎ／ｍがさらに好ましい。１４０Ｎ／ｍ〜１６０Ｎ／ｍが最も好ましい。
【０１４４】
延伸する際は、基材フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃、より好ましくは（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃、さらに好ましく（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃である。
【０１４５】
基材フィルムのＴｇは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。本発明の用途においてはフィルムの乾燥時のＴｇは１１０℃以上が好ましく、さらに１２０℃以上が好ましい。特に好ましくは１５０℃以上である。
【０１４６】
したがってガラス転移温度は１９０℃以下、より好ましくは１７０℃以下であることが好ましい。このとき、フィルムのＴｇはＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法などによって求めることができる。
【０１４７】
延伸する際の温度は１５０℃以上、延伸倍率は１．１５倍以上にすると、表面が適度に粗れるため好ましい。フィルム表面を粗らすことは、滑り性を向上させるのみでなく、表面加工性、特に防眩層の密着性が向上するため好ましい。
【０１４８】
〔溶融製膜法〕
基材フィルムは、溶融製膜法によって製膜しても良い。溶融製膜法は、樹脂及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
【０１４９】
加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度などの点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０１５０】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し１軸や２軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。
【０１５１】
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
【０１５２】
粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
【０１５３】
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０１５４】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０１５５】
上記ペレットを１軸や２軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップされ、冷却ロール上で固化させる。
【０１５６】
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１５７】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
【０１５８】
可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。
【０１５９】
冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのＴｇ以上Ｔｇ＋１１０℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。
【０１６０】
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、市販されているものを用いることもできる。
【０１６１】
冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０１６２】
また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。
【０１６３】
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋６０℃の温度範囲で行われることが好ましい。
【０１６４】
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
【０１６５】
（基材フィルムの物性）
本実施形態における基材フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２５０μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。前記範囲とすることで、基材フィルムの取り扱い性に優れる。本発明に係る基材フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０１６６】
また、基材フィルムの長さは、１０００〜１００００ｍが好ましく、より好ましくは３０００ｍ〜８０００ｍである。前記長さの範囲とすることで、機能性層等の塗布における加工適正や基材フィルム自体のハンドリング性に優れる。
【０１６７】
また、基材フィルムの算術平均粗さＲａは、好ましくは２．０ｎｍ〜４．０ｎｍ、より好ましくは２．５ｎｍ〜３．５ｎｍである。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定できる。
【０１６８】
＜その他の層＞
本発明の光学フィルムには、機能性層上にクリアハードコート層、反射防止層や透明導電性薄層等、その他の層を設けることができる。
【０１６９】
〈クリアハードコート層〉
クリアハードコート層を形成する成分としては、機能性層の説明で記載した成分を用いることができる。また、膜厚も機能性層で前述した範囲が好ましい。クリアハードコート層は機能性層上に塗布、乾燥、硬化、更に必要に応じて熱処理する方法で、形成することができる。クリアハードコート層は算術平均粗さＲａが、１０ｎｍ未満が好ましい。Ｒａが２ｎｍであれば、クリア性に優れる。
【０１７０】
〈反射防止層〉
本発明に係る光学フィルムは、機能性上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることができる。
【０１７１】
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、二層以上の高屈折率層と二層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
【０１７２】
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／高屈折率層／低屈折率層
機能性層／基材フィルム／機能性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
低屈折率層／機能性層／基材フィルム／機能性層／低屈折率層
＜低屈折率層＞
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０〜１．４５の範囲であることが好ましい。
【０１７３】
低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【０１７４】
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも一種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。
【０１７５】
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ−１）で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいはその重縮合物を併せて含有させても良い。
【０１７６】
一般式（ＯＳｉ−１）：Ｓｉ（ＯＲ）４
前記一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
【０１７７】
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。またフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び／又は光硬化性を有する化合物を含有しても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。
【０１７８】
＜高屈折率層＞
高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４〜２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ〜１μｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０〜２．６０であるものが好ましく、１．８５〜２．５０であるものが更に好ましい。
【０１７９】
金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はＡｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。
【０１８０】
これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１０〜１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘイズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状あるいは不定形状であることが好ましい。
【０１８１】
金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％〜５質量％、より好ましくは０．５質量％〜３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。また高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有しても良い。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。
【０１８２】
π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。また、イオン性化合物を含有しても良い。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ４−、ＰＦ６−等の無機イオン系、ＣＦ３ＳＯ２−、（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ−、ＣＦ３ＣＯ２−等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率はポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０〜４００質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００〜２００質量部である。
【０１８３】
＜導電性膜＞
本発明の光学フィルムには、機能性層の少なくとも一方の面に酸化錫又は酸化インジウム錫等の金属酸化物を主成分とした導電性膜が設けられて使用されることに適している。設けられる導電性膜は、一般的に広く知られた透明導電性材料を用いることができる。具体的には、前記した金属酸化物以外では、金、銀、パラジウム等の化合物を導電性物質として用いることができる。これら導電性物質を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶液塗布法等により、機能性膜上に薄膜として形成する。また、前記π共役系導電性ポリマーである有機導電性材料を用いて、導電性薄膜を形成することも可能である。特に、透明性、導電性に優れ、比較的低コストのため、前記導電性物質の中でも酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした導電性材料が好適に使用される。導電性薄膜の厚さは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚さであって、経済性をも考慮すると、１０ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては導電性膜の厚さムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。導電性薄膜は、非晶質であっても結晶質であっても良いが、導電性膜に電極パターンを設ける場合には、非晶質の方が加工適性の点から好ましい。
【０１８４】
＜導電性層形成＞
図６に導電性膜を形成する蒸着装置の一例を示す。蒸着装置の真空槽１１ｓには、光学フィルム巻出部１２ｓと光学フィルム巻取部５１ｓの他に金属酸化物の膜を成膜するロール１４ｓから成る巻取部、成膜ロール１４ｓ上を光学フィルム基材１ｓが搬送する成膜室と呼ばれる薄膜形成部がある。それらを真空環境下に真空ポンプ１０ｓが設けられている。薄膜形成部には、蒸発材料（金属酸化物）１８ｓとるつぼ１７ｓから成る蒸発源があり、電子ビーム１９ｓによって蒸発材料（金属酸化物）を加熱蒸発し、薄膜を形成することができる。電子ビーム１９ｓは、電子銃１６ｓで生成し、電子銃１６ｓは、熱電子放出型などの一般的な電子銃を用いることができる。また、図６に図示した装置により薄膜の導電性膜を形成する場合は、蒸発材料１８ｓをるつぼ１７ｓに収め、真空室が適度な圧力になるまで真空ポンプ１０ｓで真空排気する。更に、電子ビーム１９ｓが照射できる圧力になった時点で、電子銃１６ｓを動作させ、蒸発材料１８ｓを蒸発するまで加熱する。次いで、成膜ロール１４ｓ上に光学フィルム１ｓを搬送させながら蒸発材料（金属酸化物）１８ｓを蒸着させることで、薄膜導電性膜を形成することができる。
【０１８５】
前記した導電性膜を形成する蒸着装置は、スペースや異物低減から設置されるスペースがコンパクト化されている。このため、光学フィルムを搬送するゾーンは、図７のように搬送ロールに対して、光学フィルムの抱かれる角度が大きくなる。このため、光学フィルムと搬送ロールとの接触面積が大きく、搬送時の摩擦も大きいため、導電性膜形成時の搬送時は、光学フィルムに傷が付きやすい。本発明の光学フィルムは、膜強度に優れるため、図７のような搬送時でも搬送傷が付かず、優れた特性を有する。
【０１８６】
搬送時に使用される搬送ローラの材料としては、通常知られている各種材料が使用できる。具体的には、ステンレス、クロムメッキ、チタンなど金属ローラなどが挙げられる。
【０１８７】
また、搬送ロールの表面をエンボス加工処理（凹凸模様）を施して、搬送ロールと光学フィルムとの接触面積を低減する方法も知られているが、ロール表面にエンボス加工処理を施すことは、高コストであり、また凹凸高さが異なると、搬送時のフィルム摩擦も変化し、その影響で搬送時にフィルムに傷が付くため、エンボス加工処理は精度が求められ、量産性にも問題がある。
【０１８８】
＜画像表示装置＞
本発明の光学フィルムは、画像表示装置に使用することもできる。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙がられる。これら画像表示装置の中でもタッチパネルを含む画像表示装置のタッチパネル用部材に本発明の光学フィルムを用いた場合、高い視認性、及びペン入力に対する耐久性（摺動による傷等）に優れる点で好ましい。
【０１８９】
次に、タッチパネル付き画像表示装置に本発明の光学フィルムを用いた場合の一例を図２に示す。本発明の光学フィルムＴ１１上に導電性膜Ｔ１２を形成し、これを透明導電性薄膜１５が形成されたガラス基板Ｔ１３と、導電性薄膜同士が向き合うように一定の間隔をあけて対向させることにより、抵抗膜方式のタッチパネルＴ１０を構成することができる。光学フィルム１１及びガラス基板Ｔ１３の端部には不図示の電極が配置されている。ユーザが、導電性薄膜１２付きの光学フィルム１１を指やペン等で押下することにより、導電性薄膜Ｔ１２が、ガラス基板Ｔ１３上の導電性薄膜Ｔ１５と接触する。この接触を端部の電極を介して電気的に検出することにより、押下された位置が検出される構成である。ガラス基板Ｔ１３の導電性薄膜１５上には、必要に応じてドット状のスペーサＴ１４が配置される。また、図３に示したように、図２のタッチパネルＴ１０をカラー液晶表示パネルＴ１６の上に搭載することにより、タッチパネル付き画像表示装置Ｔ２０を構成することができる。
【０１９０】
また、本発明の光学フィルムは、例えば液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いるインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。静電容量方式のタッチパネルでは、導電性膜Ｔ１２は、所定ピッチで配置された格子形状などの電極パターンを有することが好ましい。導電性膜の電極パターンは、導電性膜を形成後、導電性膜を電極パターンでマスキングし、アルカリエッチング処理により電極パターンを形成する方法や光学フィルムに所定のレーザー照射を行い、導電膜を連続的にパターニングすることで設けることができる。
【実施例】
【０１９１】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１９２】
実施例１
＜基材フィルム１の作製＞
（二酸化珪素分散液の調製）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均径７ｎｍ）
１０質量部
エタノール ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。
【０１９３】
（ドープ組成物１）
セルローストリアセテート ９０質量部
（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、
Ｍｎ＝１４００００）
ポリエステル系可塑剤（ＡＰ−１５） １０質量部
チヌビン９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ２．５質量部
二酸化珪素分散希釈液 ４質量部
メチレンクロライド ４３２質量部
エタノール ３８質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。
【０１９４】
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースエステルフィルムのウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、テンターでＴＤ方向（フィルムの幅手方向）に１．１５倍、ＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍で延伸しながら、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。その後、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．３３ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、基材フィルム１を得た。基材フィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍ、巻数は６０００ｍであった。
【０１９５】
＜光学フィルム１の作製＞
上記作製した基材フィルム１（セルローストリアセテートフィルム）のＡ面（流延ベルトに接していない面）上に、下記の機能性層組成物１を孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、図８に概略図を示した装置を用いて、減圧押出しコーターで基材フィルム１上に塗布し、恒率乾燥区間温度１００℃、減率乾燥区間温度１００℃で乾燥の後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚６．５μｍの機能性層１Ａを形成した。
【０１９６】
次いで、ターンバーにより、フィルムを反転させ、機能性層１Ａが設けられた逆面（流延ベルトに接していない面）に機能性層組成物１を、減圧押出しコーターを用いて基材フィルム１上に塗布し、恒率乾燥区間温度１１０℃、減率乾燥区間温度１１０℃で乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．１５Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５μｍの機能性層１Ｂを形成した。次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム１を作製した。
【０１９７】
光学フィルム１の機能性層１Ａ及び１Ｂの表面を光学干渉式表面粗さ計（Ｚｙｇｏ社製 ＮｅｗＶｉｅｗ５０３０）で観察した結果、不規則な突起形状が不規則に長さ方向及び幅方向に配列していることが分かった。図９には、機能性層１Ａ及び１Ｂの観察結果を示した。
【０１９８】
［機能性層組成物１］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１とした。
【０１９９】
（活性線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、
新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレートはＰＥＴＡと示した。
【０２００】
＜光学フィルム２の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性組成物１を下記機能性組成物２に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム２を作製した。
【０２０１】
［機能性層組成物２］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物２とした。
【０２０２】
（活性線硬化型樹脂）
トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学工業（株）製） ６０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）
２０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム３の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物３に変更し、減率乾燥区間温度を１００℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム３を作製した。
【０２０３】
［機能性層組成物３］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物３とした。
【０２０４】
（活性線硬化型樹脂）
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム４の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物４に変更し、減率乾燥区間温度を１３５℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム４を作製した。
【０２０５】
［機能性層組成物４］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物４とした。
【０２０６】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
なお、表１の記載において、多官能アクリレートであるジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレートはＤＰＨＡと示した。
【０２０７】
＜光学フィルム５の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物５に変更し、減率乾燥区間温度を１２０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム５を作製した。
【０２０８】
［機能性層組成物５］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物５とした。
【０２０９】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ３０質量部
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＰＥＴＡ）（ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、新中村化学工業（株）製） ５０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム６の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物６に変更し、減率乾燥区間温度を９５℃に変更した以外は、同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム６を作製した。
【０２１０】
［機能性層組成物６］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物６とした。
【０２１１】
（活性線硬化型樹脂）
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ、新中村化学工業（株）製） ４０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ、大阪有機化学工業（株）製）
４０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム７の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を下記機能性層組成物７に変更し、減率乾燥区間温度を１３５℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム７を作製した。
【０２１２】
［機能性層組成物７］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物７とした。
【０２１３】
（活性線硬化型樹脂）
ウレタンプレポリマーとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物
（ＵＡ−３０６Ｈ、共栄社化学（株）製） ８０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ５質量部
（レベリング剤）
ポリエーテル変性シリコーン（信越化学社製、商品名：ＫＦ−３５２） １．５質量部
（溶剤）
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０質量部
酢酸メチル ３５質量部
メチルエチルケトン ３５質量部
＜光学フィルム８の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００８−２２５１９５号公報の実施例１を参考にして調整した機能性層組成物８に変更し、更に乾燥温度を特開２００８−２２５１９５号公報の実施例１と同じ７０℃とした以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学性フィルム８を作製した。
【０２１４】
［機能性層組成物８］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物８とした。
【０２１５】
（活性線硬化型樹脂）
サイクロマーＰ（ＡＣＡ）Ｚ３２０（不飽和基含有アクリル樹脂混合物、ダイセル化学工業（株）製） ５．７質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製） ６．３質量部
（添加剤：非相溶性樹脂）
ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量４８００００；三菱レイヨン（株）製、
ＢＲ８８） ０．９質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ０．５質量部
（溶剤）
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ０．１質量部
１−ブタノール ５．４質量部
１−メトキシ−２−プロパノール １．８９質量部
なお、表１の記載において、サイクロマーＰ（ＡＣＡ）Ｚ３２０をＡＣＡ、ポリメタクリル酸メチルをＭＭＡと示した。
【０２１６】
＜光学フィルム９の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００７−５８２０４号公報の実施例３を参考にして調整した機能性層組成物９に変更し、更に乾燥温度を特開２００７−５８２０４号公報の実施例３と同じ８０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム９を作製した。
【０２１７】
［機能性層組成物９］
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物９とした。
【０２１８】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック（株）製） ９２質量部
（添加剤：非相溶性樹脂）
メタアクリレート共重合ポリマー（サフトマーＳＴ３６００，三菱化学株式会社）
１５質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ４質量部
（溶剤）
エタノール ４５質量部
トルエン １５質量部
なお、表１の記載において、メタアクリレート共重合ポリマーをＡＣＰと示した。
【０２１９】
＜光学フィルム１０の作製＞
光学フィルム１の作製において、機能性層組成物１を特開２００７−１８２５１９号公報の実施例５を参考にして調製した機能性層組成物１０に変更し、更に乾燥温度を特開２００７−１８２５１９号公報の実施例５と同じ８０℃に変更した以外は同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム１０を作製した。
【０２２０】
［機能性層組成物１０］
（不飽和二重結合含有アクリル共重合体の調製）
イソボロニルメタクリレート１８７．２ｇ、メチルメタクリレート２．８ｇ、メタクリル酸１０．０ｇからなる混合物を混合した。この混合物を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管及び滴下漏斗を備えた１０００ｍｌ反応容器中の、窒素雰囲気下で１１０℃に加温したプロピレングリコールモノメチルエーテル３６０ｇにターシャリーブチルペルオキシ−２−エチルヘキサエート２．０ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルの８０．０ｇ溶液と同時に３時間かけて等速滴下し、その後、１時間、１１０℃で反応させた。
【０２２１】
その後、ターシャリーブチルペルオキシ−２−エチルヘキサエート０．２ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテル１７ｇ溶液を滴下して、１１０℃で３０分反応させた。その反応溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド１．５ｇとハイドロキノン０．１ｇを含む６ｇのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を加え、空気バブリングしながら、更に４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル２４．４ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル５．０ｇの溶液を１時間かけて滴下し、その後５時間かけて更に反応させ、数平均分子量５５００、重量平均分子量１８０００の不飽和結合含有アクリル共重合体を得た。
【０２２２】
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１１とした。
【０２２３】
（活性線硬化型樹脂）
ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＳＰ値：１２．７）
９８．５質量部
不飽和結合含有アクリル共重合体（ＳＰ値：９．７、Ｍｗ＝１８０００）
１．５質量部
（添加剤：粒子）
オルガノシリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ：シリカ粒子径２０ｎｍ、シリカ濃度３０％、日産化学工業株式会社製） １０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ７質量部
（溶剤）
メチルイソブチルケトン １１４質量部
なお、表１の記載において、不飽和結合含有アクリル共重合体はＡＣＯＰと示した。
【０２２４】
＜光学フィルム１１の作製＞
特開２００６−５３３７１号公報の実施例１を参考にして凹凸付きロールを作製した。この凹凸つきロールを図８における乾燥ゾーン５と、活性光線照射ランプユニット６との間で、機能性層表面に押し当てる工程を設けた以外は、図８と同様の装置を用いた。具体的には、基材フィルム１上に機能性層組成物１１を塗布後、恒率乾燥区間温度６０℃、減率乾燥区間温度６０℃で乾燥後、特開２００６−５３３７１号公報の実施例１を参考にして、機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。
【０２２５】
この密着した状態で、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚６．５μｍの機能性層１１Ａを形成した。次いで、ターンバーにより機能性層１１Ａを形成したフィルムを反転させ、機能性層１１Ａが設けられた逆面に、機能性層組成物１を孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、減圧押出しコーターを用いて塗布後、恒率乾燥区間温度６０℃、減率乾燥区間温度６０℃で乾燥後、更に機能性層表面にロールの凹凸を押し当て、機能性層とロールを密着させた。この密着した状態で、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚５μｍの機能性層１１Ｂを形成した。
【０２２６】
次いで、ロール状に巻き取り、光学フィルム１１を作製した。光学フィルム１１の機能性層１１Ａの表面を光学干渉式表面粗さ計（Ｚｙｇｏ社製 Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０３０）で観察した結果、長さ方向に周期を有する突起形状が配列されていた。両面に機能性層が設けられた。
【０２２７】
＜光学フィルム１２の作製＞
特開２０１０−２４１９３７号公報の製造例１を参考にフッ素処理したシリカ微粒子分散液を調整した。前記調整したシリカ微粒子分散液と反応性基含有樹脂とを撹拌して混合し、機能性層組成物１２を調整した。次に、機能性層組成物１２を用いて、乾燥温度を特開２０１０−２４１９３７号公報の実施例３と同じ７０℃に変更した以外は光学フィルム１の作製と同様にして、両面に機能性層が設けられた光学フィルム１２を得た。
【０２２８】
［機能性層組成物１２］
（フッ素処理したシリカ微粒子分散液の調製）
シリカ微粒子ＳＰ−０３Ｆ（扶桑化学（株）製、粒径０．２〜０．３μｍ）３．００ｇにＫＢＭ７１０３（信越化学（株）製、フルオロアルキルアルコキシシラン） ０．１５ｇ、ＭＩＢＫ ２６．８５ｇを混合した。この混合成分と粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズとを混ぜて、３時間分散したのち、ジルコニアビーズを取り除き、更に分散液を５０℃で１時間加熱処理することで、フッ素処理したシリカ微粒子分散液を得た。
【０２２９】
下記材料を攪拌、混合し機能性層組成物１２とした。
【０２３０】
（活性線硬化型樹脂）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製） ３０質量部
（光重合開始剤）
イルガキュア１８４ ０．０２質量部
（添加剤：粒子）
アクリロイル基を有するシリカ微粒子（シリカ微粒子３０質量部、ＭＩＢＫ分散液、
粒径４０ｎｍ） ６６質量部
フッ素処理したシリカ微粒子分散液（シリカ微粒子濃度１０．９％） ５．５質量部
（溶剤）
メチルイソブチルケトン ５質量部
《評価》
上記作製した機能性層組成物、及び光学フィルム１〜１２について下記の評価を行った。また、得られた評価結果については表１に示した。
【０２３１】
１．樹脂粘度測定
機能性層組成物１〜１２について、各組成物の樹脂だけをディスパーにて撹拌混合して、２５℃の条件にてＢ型粘度計を用いて粘度測定を行った。
【０２３２】
２．光学フィルムの評価
ａ．算術平均粗さＲａの測定
上記作製した光学フィルム１〜１２の各機能性層について、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）を用いて１０回測定し、その測定結果の平均から各機能性層の算術平均粗さＲａを求めた。
【０２３３】
ｂ．耐ブロッキング性
上記作製したロール状光学フィルム１〜１２を、アルミ防湿シートに包み、長期輸送を想定して８０℃相対湿度８０％の恒温槽で２５日保存した。２５日間保存後、アルミ防湿シートを剥がしてブロッキング性を表面からの目視観察にて、以下の基準で評価した。
【０２３４】
◎：くっつき面積０％、ブロッキングは認められない
○：くっつき面積が２％未満、僅かにブロッキングが発生している
△：くっつき面積が２％以上〜１０％未満、ブロッキングが発生しているものの、
実用上問題ないレベル
×：くっつき面積が１０％以上〜４０％未満、ブロッキングが発生、実用上
極めて問題となる
ｃ．耐ペン摺動性評価
上記作製した光学フィルム１〜１２を、各１０ｃｍ×１０ｃｍサイズで切り出し、屋外での使用を想定してサイクルサーモ（−４０℃・３０分放置、次いで８５℃・３０分放置を交互）に５００サイクル投入後、８５℃相対湿度９０％の恒温槽で５００時間保存し、更に耐光試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、１６８時間光照射した。次いで、耐久性試験後の各光学フィルム１〜１３を２３℃・５５％ＲＨの雰囲気下で１２時間調湿後、光学フィルムの機能性層を先端部が０．０８ｍｍφのポリアセタール製のペンを使用し、荷重２５０ｇ、ペン摺動速度１００ｍｍ／秒で直線４０ｍｍを１５万回往復し、往復後の機能性層の傷つき及び剥れを目視により以下の基準で評価した。
【０２３５】
◎：傷つき及び剥がれ無し
○：傷の本数が１〜２本／ｃｍ幅で、かつ剥がれ無し
△：傷の本数が２本／ｃｍ幅以上で、かつ剥がれ無し（実用上問題の有るレベル）
×：傷が２本／ｃｍ幅以上つき、剥がれも有り
ｄ．搬送傷耐性評価
上記作製した光学フィルム１〜１２について、図８に示す装置でライン搬送だけを実施し、ライン搬送後の光学フィルムの状態を、反射型ＣＣＤを用いて観察して搬送傷を評価した。搬送傷の長さ５ｍｍ以上のものが１０ｍ２につき７本以下を○、１本以下が◎、８本以上を×とした。８本以上あると実用上問題となる。
【０２３６】
【表１】
表１の結果から判るようにフィルム基材上の両面に機能性層を有する光学フィルムにおいて、機能性層が長さ方向に不規則な（周期を持たない）突起形状を有し、かつ微粒子又は活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂を実質的に含有しないことで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性、及び搬送傷耐性に優れた光学フィルムを得ることができる。
【０２３７】
本発明の中でも機能性層が粘度２０〜２０００ｍＰａ・ｓの活性線硬化型樹脂を含有し、かつ機能性層を塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成す、更に前記乾燥工程の減率乾燥区間の温度を９０〜１４０℃の範囲とすることで、耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して特に優れた光学フィルムを得ることができる。
【０２３８】
実施例２
実施例１の光学フィルム１の作製において、機能性層１Ａ及び１Ｂの減率乾燥区間温度を表２に記載したように変更した以外は同様にして、光学フィルム１３〜１７を作製した。
【０２３９】
次に、実施例１で作製した光学フィルム１、及び光学フィルム１３〜１７について、耐ブロッキング性評価の保存期間を３０日に変更し、ペン摺動の往復回数を２０万に変更し、更に密着評価を行った以外は、実施例１と同様にして評価をした。得られた結果を表に示した。
【０２４０】
耐久試験後の密着評価
（耐候性試験）
光学フィルム１、及び光学フィルム１３〜１７を、各１０ｃｍ×１０ｃｍサイズで切り出し、屋外での使用を想定してオゾン１０ｐｐｍ、３０℃、６０％ＲＨの環境下に１００時間保管後、サイクルサーモ（−４０℃・４５分放置、次いで１１０℃・４５分放置を交互）で５００サイクル投入し、更に耐光試験機（アイスーパーＵＶテスター、岩崎電気株式会社製）にて、２００時間光照射した。
【０２４１】
上記耐候試験を実施した光学フィルムの機能性層表面に、片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で切り込みを１ｍｍ間隔で縦横に１１本入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上に市販のセロハン製テープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を目視で観察し、下記の基準で評価した。
【０２４２】
◎：全く剥離されなかった
○：剥離された面積割合が５％未満であった
△：剥離された面積割合が１０％未満であった。実用上問題無いレベルである
×：剥離された面積割合が１０％以上であった。実用上問題となるレベルである
【表２】
表２の結果から判るように本発明の光学フィルムにおいて、機能性層の突起形状の算術平均粗さＲａを１０〜１３０ｎｍとすることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。
【０２４３】
実施例３
実施例１の基材フィルム１のドープ組成物１の調整において、ポリエステル系可塑剤（ＡＰ−１５）の添加量を５質量部に変更し、更に以下に合成したアクリル系ポリマー１を１３質量部添加した以外は同様にしてドープ組成物２を調整した。次いで、基材フィルム１の作製において、テンターによるＴＤ方向の延伸条件を表３に記載したように変更した以外は、同様にして基材フィルム２〜５を作製した。
【０２４４】
次に、前記作製した基材フィルム２〜５に実施例２の光学フィルム１６の作製と同様にして両面に機能性層を設け、光学フィルム１８〜２１を作製した。
【０２４５】
前記作製した基材フィルムの面内リターデーションＲｏ及び厚さ方向リターデーションＲｔｈを以下の方法で測定した。また、前記作製した光学フィルム１８〜２１及び光学フィルム１６について実施例２と同様にして評価を行った。得られた結果を表３に示す。
【０２４６】
（アクリル系ポリマー１の合成）
メチルアクリレート １０質量部
２−ヒドロキシエチルアクリレート １質量部
アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ） １質量部
トルエン ３０質量部
上記組成物を四つ口フラスコ（投入口、温度計、環流冷却管、窒素導入口、攪拌機を装着）に投入し、徐々に８０℃まで昇温し、攪拌しながら５時間重合を行い、重合終了後ポリマー溶液を多量のメタノールに投入して沈殿させ、更にメタノールで洗浄し、精製して乾燥し重量平均分子量５，０００（ＧＰＣにて測定）のアクリル系ポリマー１を得た。
【０２４７】
面内リターデーションＲｏ及び厚さ方向リターデーションＲｔｈ測定自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにおいて、３次元屈折率測定を行い、縦、横、厚さの各方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、下記式よりＲｏ及びＲｔｈを求めた。
【０２４８】
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄである。
（式中、ｎｘは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎｚは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは基材フィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
また、前記作製した光学フィルム１８〜２１及び光学フィルム１６について、以下の方法導電性薄膜を形成し、導電性光学フィルム１〜５を作製した。
【０２４９】
光学フィルム１〜５の機能性層１Ａ及び１Ｂの両面に表面抵抗率が約４００Ωである酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、図４に示した構成の導電性光学フィルム１〜５を作製した。
【０２５０】
次いで、上記作製した導電性光学フィルム１〜５を各二枚ずつ用いて、インナータッチパネルを作製した（図５）。二枚のうちの片方の導電性光学フィルムの導電層膜（１Ａ）に予めドット・スペーサを形成してから、二枚の導電層膜を対向させてインナータッチパネルを作製した。得られたインナータッチパネルを、上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板の構成を有する液晶表示装置の上面側偏光板の下に組み込んで液晶表示装置を作製し、暗室にて、インナータッチパネルを黒表示画面で正面方向や視野方向を変えて見て、視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表３に示した。
【０２５１】
視認性評価
○：タッチパネルの色味変化が無い
Δ：タッチパネルの色味変化が多少観察される
×：タッチパネルの色味変化が大きい
【表３】
本発明に係る光学フィルムにおいて、面内リターデーションＲｏを０〜５ｎｍ、厚さ方向のリターデーションを−１０〜１０ｎｍの範囲に調整した基材フィルムを用いることで、より厳しい耐久試験後も耐ブロッキング性、耐ペン摺動性及び搬送傷耐性に対して、特に優れた光学フィルムを得ることができる。更には、耐候性試験後の密着性にも優れた性能を発揮する。また、面内リターデーションＲｏを０〜１０ｎｍ、厚さ方向のリターデーションを−１０〜１０ｎｍの範囲に調整した基材フィルムからなる本発明の光学フィルムを用いた導電性光学フィルムをインナータッチパネルに用いることで、特に優れた視認性が得られる点で好ましいことが判る。
【０２５２】
実施例４
＜導電性光学フィルム６〜１７の作製＞
光学フィルム１〜１２の機能性層１Ａの片面のみに表面抵抗率が約４００Ωである酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の透明導電性薄膜を、スパッタリング法を用いて設け、導電性光学フィルム６〜１７を作製した。
【０２５３】
＜抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置１〜１２の作製＞
市販の抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置（型名：ＬＣＤ−ＵＳＢ１０ＸＢ−Ｔ、Ｉ−Ｏ ＤＡＴＡ社製）の導電性フィルムを剥がし、上記作製した各導電性光学フィルム６〜１７を図５のように機能性層１Ｂが視認側となるように貼合して、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置１〜１２を作製し、以下項目について評価を行い、表４に結果を示した。
【０２５４】
《評価》
視認性評価（文字ボケ・ムラ）
（文字ボケ）
天井部に、昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ パナソニック（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして、１．５ｍ間隔で１０セット配置した室内で、抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を様々な角度から観察し、文字ボケを以下の基準で評価した。
【０２５５】
○：蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
×：蛍光灯の写り込みが気にならないが、フォントの大きさ８以下の文字がボケ、読むのが困難である
（ムラ評価）
上記作製した各抵抗膜方式タッチパネル液晶表示装置を、６０℃、９０％ＲＨの条件で１０００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻した。様々な角度から観察し、以下の基準でムラを評価した。
【０２５６】
○：ムラが全く認められない
△：細かなムラが認められる（実害性有り）
×：ムラが認められる
【表４】
評価の結果、本発明の光学フィルムを使用した抵抗膜方式タッチパネル画像表示装置は視認性（文字ボケ、ムラ）も良好であった。
【符号の説明】
【０２５７】
Ｔ１０ 抵抗膜方式のタッチパネル
Ｔ１１ 光学フィルム
Ｔ１２ 透明導電性薄膜
Ｔ１３ ガラス基板
Ｔ１４ ドット・スペーサ
Ｔ１５ 透明導電性薄膜
Ｔ１６ カラー液晶表示パネル
Ｔ２０ 抵抗膜方式のタッチパネルを具備する画像表示装置
Ａ 導電性光学フィルム
１Ａ 機能性層
１Ｂ 機能性層
１Ｃ 基材フィルム
１Ｄ 透明導電性薄膜（ＩＴＯ層）
１Ｅ 液晶セル
１Ｆ 偏光板
１Ｇ 反射板
ＤＳ ドット・スペーサ
１ｓ 光学フィルム
１０ｓ 真空ポンプ
１１ｓ 真空槽
１２ｓ 光学フィルム巻出部
１３ｓ 搬送ロール
１４ｓ 導電膜成膜ロール
１５ｓ 搬送ロール
１６ｓ 電子銃
１７ｓ ルツボ
１８ｓ 蒸発材料
１９ｓ 電子ビーム
２１ｓ 直流電源
２２ｓ 放電電極
５１ｓ 光学フィルム巻取部
Ｙ 長尺フィルム
１ 繰り出しロール（図８）
２ 搬送ローラー（図８）
３ 押出しコータ
４ 対向ロール
５ 乾燥ゾーン
６ 活性光線照射ランプユニット
６ａ 空冷活性光線ランプ
６ｂ 空冷用Ａｉｒ通風口
６ｃ Ｎ２用供給チャンバー
７ 加熱ゾーン
８ 巻き取り室
９ 巻き取りロール
１０ 温風吹き出し口
１２ 移動可能な台車
１５ 巻き取りコア
１ 機能性層（図１０）
２ 突起（図１０）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を８５〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１】
基材フィルムの両面上に、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を有する光学フィルムであって、前記機能性層が、光学フィルムの長手方向に、不規則な形状の突起を有し、突起形状部分と非突起形状部分とが前記活性線硬化型樹脂と相容性の樹脂の連続相になっていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、２〜１８０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記機能性層の突起を有する表面の算術平均粗さＲａが、１０〜１３０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記活性線硬化型樹脂の粘度が、２５℃において、２０〜２０００ｍＰａ・ｓの範囲内にあることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記機能性層における前記活性線硬化型樹脂に対し非相溶性である樹脂又は粒子の含有量が、機能性層の固形分に対し０．０１質量％以下であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
温度２３℃・相対湿度５５％ＲＨの環境下、光波長５９０ｎｍで、前記基材フィルムのリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍの範囲内にあり、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔｈが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記基材フィルムが、セルロースエステルを含有する樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、活性線硬化型樹脂を含有する機能性層を、少なくとも塗布工程、乾燥工程及び硬化工程を経由して形成し、かつ前記乾燥工程における減率乾燥区間の温度を８５〜１４０℃の範囲内に維持した条件下で処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムが、タッチパネルの構成部材として、具備されていることを特徴とする画像表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１３−８８４３８（Ｐ２０１３−８８４３８Ａ）
【公開日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２２５４３２（Ｐ２０１１−２２５４３２）
【出願日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月１３日（２０１３．５．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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