光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
【課題】長期間光が照射されても活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が十分維持され、偏光板保護フィルムとして偏光板に組み込んで高温高湿下で長期間使用されても良好な偏光性能を維持でき、薄手化が可能な光学フィルムを提供する。該光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
【解決手段】セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、前記光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＴＶ用途を中心に液晶表示装置の大型化が進み、これに伴い高画質化と低価格化が益々求められている。また、今後は電子看板用途、及び携帯電話、スマートフォン等のいわゆるモバイル用途等を中心に室外での使用頻度が増加することが予想され、従来よりもさらに過酷な環境下での使用にも耐えうる液晶表示装置が求められている。
【０００３】
一方、視認者側の偏光板の表面については、耐擦傷、反射防止、帯電防止等の機能を付与することが求められる。前記機能を付与する方法としては、セルロースアシレートフィルム等の上に活性エネルギー線硬化層を塗工して、機能層付きの偏光板保護フィルムとすることが一般的である。前記モバイル用途では、部材の薄型化が進行しており偏光板保護フィルムに対しても薄手化の要求が高まっている。
【０００４】
液晶表示装置における偏光板は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とヨウ素を用いた偏光子をセルロースアシレートフィルム等の偏光板保護フィルムで挟みこんだ構成のものが広く使用されている。しかし、ＰＶＡとヨウ素を用いた偏光子は高温高湿環境下で偏光子性能が劣化しやすいという弱点があり、室外用途の要求性能にこたえるには改良が必要である。
【０００５】
屋外用途では上記機能層に対しても室内用途に比べてさらに厳しい耐久性が求められる。なかでも光に対する安定性は特に重要な項目であるが、従来の機能層は長時間光を照射すると活性エネルギー線硬化層がセルロースアシレートフィルムから剥がれやすくなるという問題をかかえており、改良が求められていた。
【０００６】
樹脂フィルムの耐光性を向上させる手段としては、紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加することが一般的であり、例えば特許文献１には紫外線硬化型ハードコート樹脂層にヒンダードアミン系光安定剤を添加した樹脂フィルムが開示されている。また、特許文献２にはヒンダードアミン系酸化防止剤を含むセルロースアシレートフィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−９４５７３号公報
【特許文献２】特開２００６−１２３５１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、本発明者らが特許文献１及び２に記載の方法を検討したところ、これらの方法で得られたフィルムは長時間にわたって光が照射された場合の機能性層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が不十分であった。特に、薄膜のセルロースアシレートフィルムを用いた場合、比較的照射時間の短い段階から機能性層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が不足した。さらに、特許文献１及び２に記載の方法ではヒンダードアミン系化合物の添加により高温高湿環境下で長期間使用された場合の偏光子性能が著しく悪化するという問題があることがわかった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、発明が解決しようとする課題は、長期間光が照射されても活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が十分維持され、偏光板保護フィルムとして偏光板に組み込んで高温高湿下で長期間使用されても良好な偏光性能を維持でき、薄手化が可能な光学フィルムを提供することである。また、発明が解決しようとする課題は、該光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、特許文献１及び２に開示されているよう光学フィルムを使用すると、ヒンダードアミン系化合物が偏光子中のヨウ素錯体の分解を促進し、高温高湿環境下で長期間使用した場合の偏光子性能が著しく劣化してしまうことをつきとめた。
この新規課題に対して、本発明者らは、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる特定の可塑剤を含有するセルロースアシレート上にヒンダードアミン系化合物を含む活性エネルギー線硬化層を設けることにより、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が良好となるばかりでなく、前記特定の可塑剤がセルロースアシレートフィルムの自由体積部を埋める働きをすることにより、ヒンダードアミン系化合物がセルロースアシレートフィルム中を通過して偏光子層へ拡散することが抑制され、高温高湿環境下で長期間使用した場合の偏光子性能の劣化が小さくなり、さらに耐擦傷性も向上することを見出した。
さらに、薄手のセルロースアシレートフィルム上に活性エネルギー線硬化層を設けた場合、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着はセルロースアシレートフィルム表層の物理特性の影響を特に受けやすいことを見出した。すなわち、セルロースアシレートフィルムを薄手化するとセルロースアシレートフィルム表層が硬く脆くなるため、セルロースアシレート表層付近での脆性破壊が起こりやすくなる。このような系ではセルロースアシレートフィルム中にヒンダードアミン系化合物を添加しても十分な密着性改良効果が得られないのに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を添加すると、長時間光を照射した後の、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が著しく向上することを見出した。本発明はこの知見に基づきなされるに至ったものである。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の構成である。
〔１〕
セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
〔２〕
前記セルロースアシレートフィルムの厚みが１０μｍ以上３５μｍ以下である、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕
前記セルロースアシレートフィルムにおける前記可塑剤の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
前記活性エネルギー線硬化層がバインダーを含有し、前記ヒンダードアミン系化合物の含有量が、前記バインダー１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔５〕
偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板。
〔６〕
〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルム又は〔５〕に記載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、長期間光が照射されても活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が十分維持され、偏光板保護フィルムとして偏光板に組み込んで高温高湿下で長期間使用されても良好な偏光性能を維持でき、耐擦傷性に優れる光学フィルムが得られる。さらに本発明によれば、該フィルムを用いた耐久性の高い偏光板を提供することができる。また、該フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、耐久性の改善された液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】共流延用ダイを用いて同時共流延により３層構造のセルロースアシレートフィルムを流涎するときの一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下において、本発明の光学フィルムやその製造方法、それに用いる添加剤などについて詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１４】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、該セルロースアシレートフィルムが炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステル（エステルオリゴマー）の中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ該活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有することを特徴とする。
まず、本発明の光学フィルムが有するセルロースアシレートフィルムについて説明する。
【００１５】
１．セルロースアシレートフィルム
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートと、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及びエステルオリゴマーの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有する。
【００１６】
＜１−１：セルロースアシレート＞
前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００１７】
前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートのアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのひとつがアセチル基であることが好ましく、炭素数２〜４のアシル基としてはプロピオニル基又はブチリル基が好ましい。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低くろ過性のよい溶液の作成が可能となる。
【００１８】
以下、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位に位置するセルロースの水酸基がアシル化している割合（各位における１００％のアシル化は置換度１）の合計を意味する。
【００１９】
前記セルロースアシレートの総アシル置換度は、２．０〜２．９７であることが好ましく、２．５以上２．９７未満であることがより好ましく、２．７０〜２．９５であることが特に好ましい。
【００２０】
前記セルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基（アシル基が炭素原子数２〜４である場合）であり、より特に好ましくはアセチル基（セルロースアシレートが、セルロースアセテートである場合）である。
【００２１】
セルロ−スのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。
【００２２】
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
【００２３】
最も一般的なセルロ−スの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロ−スをアセチル基及び他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）又はそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
【００２４】
前記セルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
【００２５】
前記セルロースアシレートフィルムは、前記樹脂としてセルロースアシレートを５〜９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０〜９９質量％含むことがより好ましく、５０〜９５質量％含むことが特に好ましい。
【００２６】
＜１−２：可塑剤＞
（炭水化物誘導体）
前記炭水化物誘導体としては、単糖あるいは２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体（以下、炭水化物誘導体系可塑剤ともいう）が好ましい。
【００２７】
前記炭水化物誘導体系可塑剤を好ましく構成する単糖又は多糖は、分子中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基など）が置換されていることが好ましい。置換されて形成される構造の例としては、アルキル基、アリール基、アシル基などを挙げることができる。また、水酸基をアルコキシル基によって置換されて形成されるエーテル構造、水酸基をアシル基によって置換されて形成されるエステル構造、アミノ基によって置換されて形成されるアミド構造やイミド構造などを挙げることができる。
前記単糖又は２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、ラクトサミン、ラクチトール、ラクツロース、メリビオース、プリメベロース、ルチノース、シラビオース、スクロース、スクラロース、ツラノース、ビシアノース、セロトリオース、カコトリオース、ゲンチアノース、イソマルトトリオース、イソパノース、マルトトリオース、マンニノトリオース、メレジトース、パノース、プランテオース、ラフィノース、ソラトリオース、ウンベリフェロース、リコテトラオース、マルトテトラオース、スタキオース、バルトペンタオース、ベルバルコース、マルトヘキサオース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００２８】
好ましくは、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、トレハロース、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、スクラロース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールであり、さらに好ましくは、アラビノース、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンであり、特に好ましくは、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、キシリトール、ソルビトールである。
【００２９】
また、前記炭水化物誘導体系可塑剤の置換基の例としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル基、ベンジル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアシル基、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基、ナフタル基など）を挙げることができる。また、アミノ基によって置換されて形成される好ましい構造として、アミド構造（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアミド、例えばホルムアミド、アセトアミドなど）、イミド構造（好ましくは炭素数４〜２２、より好ましくは炭素数４〜１２、特に好ましくは炭素数４〜８のイミド、例えば、スクシイミド、フタルイミドなど）を挙げることができる。
これらの中で、さらに好ましいものはアルキル基、アリール基又はアシル基であり、特に好ましくはアシル基である。
【００３０】
前記炭水化物誘導体系可塑剤の好ましい例としては、以下のものを挙げることができる。ただし、本発明で用いることができる炭水化物誘導体系可塑剤は、これらに限定されるものではない。
キシローステトラアセテート、グルコースペンタアセテート、フルクトースペンタアセテート、マンノースペンタアセテート、ガラクトースペンタアセテート、マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシリトールペンタアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシリトールペンタプロピオネート、ソルビトールヘキサプロピオネート、キシローステトラブチレート、グルコースペンタブチレート、フルクトースペンタブチレート、マンノースペンタブチレート、ガラクトースペンタブチレート、マルトースオクタブチレート、セロビオースオクタブチレート、スクロースオクタブチレート、キシリトールペンタブチレート、ソルビトールヘキサブチレート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどが好ましい。キシローステトラアセテート、グルコースペンタアセテート、フルクトースペンタアセテート、マンノースペンタアセテート、ガラクトースペンタアセテート、マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシリトールペンタアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシリトールペンタプロピオネート、ソルビトールヘキサプロピオネート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどがさらに好ましい。マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどが特に好ましい。
前記炭水化物誘導体はピラノース構造あるいはフラノース構造を有することが好ましい。
【００３１】
本発明に用いられる炭水化物誘導体としては以下に示す化合物が特に好ましい。ただし、本発明で用いることができる炭水化物誘導体は、これらに限定されるものではない。なお、以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。
以下の表において、置換基１、２は、それぞれ、任意の位置のＲを表す。また、置換度は、Ｒが該置換基で表される数を表す。「なし」はＲが水素原子である。
【００３２】
【化１】
【００３３】
【表１】
【００３４】
【化２】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【表３】
【００３８】
【化４】
【００３９】
【表４】
【００４０】
（入手方法）
前記炭水化物誘導体の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００４１】
前記炭水化物誘導体系可塑剤の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００４２】
（多価アルコールエステル）
本発明に用いられる多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがさらに好ましい。保留性の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００４３】
本発明において、多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中の水酸基は全てエステル化してもよいし、一部を水酸基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。
【００４４】
本発明に用いられる多価アルコールエステルの例を以下に示す。
【００４５】
【化５】
【００４６】
【化６】
【００４７】
【化７】
【００４８】
【化８】
【００４９】
上記多価アルコールエステルのうち、トリメチロールプロパントリベンゾエート（ＴＭＰＴＢ）、トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、トリプロピレングリコールジベンゾエート、１，３−ジブチレングリコールジベンゾエート、テトラエチレングリコールジベンゾエート、トリメチロールプロパンと酢酸及び安息香酸との混合エステル、トリメチロールプロパンとシクロヘキサンカルボン酸とのエステル、トリメチロールプロパンと酢酸及びシクロヘキサンカルボン酸との混合エステル、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオールとシクロヘキサンカルボン酸とのエステル、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオールと安息香酸とのエステル、キシリトールと安息香酸とのエステル、キシリトールとシクロヘキサンカルボン酸とのエステルが好ましい。
【００５０】
（重縮合エステル）
前記重縮合エステル（以下、重縮合エステル系可塑剤ともいう。）は、少なくとも一種の芳香環を有するジカルボン酸（芳香族ジカルボン酸とも呼ぶ）と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることが好ましい。また、芳香族ジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸との混合物と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることも好ましい。
【００５１】
前記ジカルボン酸残基の平均炭素数の計算は、ジカルボン酸残基とジオール残基で個別に行う。
前記ジカルボン酸残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値を平均炭素数とする。例えば、アジピン酸残基とフタル酸残基が５０モル％ずつから構成される場合は、平均炭素数７．０となる。
また、前記ジオール残基の場合も同様で、ジオール残基の平均炭素数は、ジオール残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値とする。例えばエチレングリコール残基５０モル％と１，２−プロパンジオール残基５０モル％から構成される場合は平均炭素数２．５となる。
【００５２】
前記重縮合エステルの数平均分子量は５００〜２０００であることが好ましく、６００〜１５００がより好ましく、７００〜１２００がさらに好ましい。重縮合エステルの数平均分子量は５００以上であれば揮発性が低くなり、セルロースエステルフィルムの延伸時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなる。また、２０００以下であればセルロースエステルとの相溶性が高くなり、製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくくなる。
前記重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。また、末端が封止のないポリエステルポリオールの場合、質量あたりのヒドロキシル基の量（以下、水酸基価とも言う）により算出することもできる。本発明において、水酸基価は、ポリエステルポリオールをアセチル化した後、過剰の酢酸の中和に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）を測定する。
【００５３】
芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との混合物をジカルボン酸成分として用いる場合は、ジカルボン酸成分の炭素数の平均が５．５〜１０．０のジカルボン酸であることが好ましく、より好ましくは５．６〜８である。
炭素数の平均が５．５以上であれば耐久性に優れた偏光板を得ることができる。炭素数の平均が１０．０以下であればセルロースエステルへの相溶性が優れ、セルロースエステルフィルムの製膜過程でブリードアウトの発生を抑制することができる。
【００５４】
ジオールと、芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、芳香族ジカルボン酸残基が含まれる。
本明細書中では、残基とは、重縮合エステルの部分構造で、重縮合エステルを形成している単量体の特徴を有する部分構造を表す。例えばジカルボン酸ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるジカルボン酸残基は−ＯＣ−Ｒ−ＣＯ−である。ここで、Ｒは任意の２価の基を表す。
本発明に用いる重縮合エステルの芳香族ジカルボン酸残基比率は４０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、４０ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましい。
芳香族ジカルボン酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースエステルフィルムが得られ、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。また、９５ｍｏｌ％以下であればセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースエステルフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくくすることができる。
【００５５】
本発明に用いることができる重縮合エステルの形成に用いることができる芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸又は２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。その中でもフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましく、フタル酸、テレフタル酸がより好ましく、テレフタル酸がさらに好ましい。
前記重縮合エステルには、混合に用いた芳香族ジカルボン酸に由来する芳香族ジカルボン酸残基が形成される。
すなわち、前記芳香族ジカルボン酸残基は、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、より好ましくはフタル酸残基、テレフタル酸残基の少なくとも１種を含み、さらに好ましくはテレフタル酸残基を含む。
前記重縮合エステルの形成における混合に、芳香族ジカルボン酸としてテレフタル酸を用いることで、よりセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースエステルフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいセルロースエステルフィルムとすることができる。また、前記芳香族ジカルボン酸は１種でも、２種以上を用いてもよい。２種用いる場合は、フタル酸とテレフタル酸を用いることが好ましい。
フタル酸とテレフタル酸の２種の芳香族ジカルボン酸を併用することにより、常温での重縮合エステルを軟化することができ、ハンドリングが容易になる点で好ましい。
前記重縮合エステルのジカルボン酸残基中における、テレフタル酸残基の含有量は４０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％であることが好ましい。
テレフタル酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースエステルフィルムが得られる。
【００５６】
ジオールと、脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、脂肪族ジカルボン酸残基が含まれる。
本発明で好ましく用いることができる重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
重縮合エステルには、混合に用いた脂肪族ジカルボン酸に由来する脂肪族ジカルボン酸残基が形成される。
脂肪族ジカルボン酸残基は、平均炭素数が５．５〜１０．０であることが好ましく、５．５〜８．０であることがより好ましく、５．５〜７．０であることがさらに好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が１０．０以下であれば化合物の加熱減量が低減でき、セルロースアシレートウェブ乾燥時のブリードアウトによる工程汚染が原因と考えられる面状故障の発生を防ぐことができる。また、脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が５．５以上であれば相溶性に優れ、重縮合エステルの析出が起き難く好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸残基は、具体的には、コハク酸残基を含むことが好ましく、２種用いる場合は、コハク酸残基とアジピン酸残基を含むことが好ましい。
すなわち、重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いても、２種以上を用いてもよく、２種用いる場合は、コハク酸とアジピン酸を用いることが好ましい。重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いる場合は、コハク酸を用いることが好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数を所望の値に調整することができ、セルロースエステルとの相溶性の点で好ましい。
【００５７】
本発明において、重縮合エステルの形成における混合には、ジカルボン酸を２種又は３種を用いることが好ましい。２種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを１種ずつ用いることが好ましく、３種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸を１種と芳香族ジカルボン酸を２種又は脂肪族ジカルボン酸を２種と芳香族ジカルボン酸を１種用いることができる。ジカルボン酸残基の平均炭素数の値を調整しやすく、かつ芳香族ジカルボン酸残基の含有量を好ましい範囲とすることができ、偏光子の耐久性を向上し得るためである。
【００５８】
ジオールとジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、ジオール残基が含まれる。
本明細書中では、ジオール（ＨＯ−Ｒ−ＯＨ）より形成されるジオール残基は−Ｏ−Ｒ−Ｏ−である。ここで、Ｒは任意の２価の基を表す。
重縮合エステルを形成するジオールとしては、芳香族ジオール及び脂肪族ジオールが挙げられ、本発明に用いられる前記疎水化剤に用いられる重縮合エステルは少なくとも脂肪族ジオールから形成されることが好ましい。
前記重縮合エステルは、平均炭素数が２．５〜７．０の脂肪族ジオール残基を含むことが好ましく、より好ましくは平均炭素数が２．５〜４．０の脂肪族ジオール残基を含む。前記脂肪族ジオール残基の平均炭素数が７．０以下であればセルロースエステルとの相溶性が改善され、ブリードアウトが生じにくくなり、また、化合物の加熱減量が増大しにくくなり、セルロースアシレートウェブ乾燥時の工程汚染が原因と考えられる面状故障が発生し難くなる。また、脂肪族ジオール残基の平均炭素数が２．５以上であれば合成が容易である。
本発明に用いることができる重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を好ましい例として挙げることができ、例えばエチレングリコール（エタンジオール）、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。
【００５９】
より好ましい前記脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。前記脂肪族ジオールを２種用いて前記重縮合エステルを形成する場合は、エチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。１，２−プロパンジオール、又は１，３−プロパンジオールを用いることにより重縮合エステルの結晶化を防止することができる。
前記重縮合エステルには、混合に用いたジオールによりジオール残基が形成される。
すなわち、前記重縮合エステルは、ジオール残基としてエチレングリコール残基、１，２−プロパンジオール残基、及び１，３−プロパンジオール残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、エチレングリコール残基又は１，２−プロパンジオール残基であることがより好ましい。
前記重縮合エステルに含まれる脂肪族ジオール残基には、エチレングリコール残基が１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることが好ましく、２０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることがより好ましい。
【００６０】
前記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオールあるいはカルボン酸のままとしてもよく、さらにモノカルボン酸類又はモノアルコール類を反応させていわゆる末端の封止を実施してもよい。
封止に用いるモノカルボン酸類としては酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸等が好ましい。封止に用いるモノアルコール類としてはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が好ましく、メタノールが最も好ましい。重縮合エステルの末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が７以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障が発生しない。
前記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオール残基のままであることか、酢酸又はプロピオン酸又は安息香酸によって封止されていることがさらに好ましい。
前記重縮合エステルの両末端は、それぞれ、封止の実施の有無が同一であることを問わない。
縮合体の両末端が未封止の場合、重縮合エステルはポリエステルポリオールであることが好ましい。
前記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５〜８．０であり、重縮合エステルの両末端は未封止である重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端が封止されている場合、モノカルボン酸と反応させて封止することが好ましい。このとき、該重縮合エステルの両末端はモノカルボン酸残基となっている。本明細書中では、モノカルボン酸Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるモノカルボン酸残基はＲ−ＣＯ−である。重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸で封止されている場合、前記モノカルボン酸は脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、モノカルボン酸残基が炭素数２２以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがより好ましく、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがさらに好ましい。また、炭素数２以上の脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
前記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５より大きく７．０以下であり、重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸残基で封止されている重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端を封止しているモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、重縮合エステルの加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することが可能である。
すなわち、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、モノカルボン酸が炭素数２〜２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることがさらに好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。
封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
前記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止が好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基（アセチル残基と称する場合がある）となることが最も好ましい。
前記重縮合エステルの両末端を封止した場合は、常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となり、また湿度安定性、偏光板耐久性に優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
【００６１】
下記表５に前記重縮合エステルの具体例Ｊ−１〜Ｊ−３９を記すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６２】
【表５】
【００６３】
【表６】
【００６４】
【表７】
【００６５】
上記表５〜７中の略称は、それぞれ以下の化合物を表す。ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２，６−ＮＰＡ：２，６−ナフタレンジカルボン酸。
【００６６】
前記重縮合エステルの合成は、常法によりジオールとジカルボン酸とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、前記重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【００６７】
これらの可塑剤の使用量は、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部であることが好ましい。１質量部以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また２０質量部以下であれば、ブリードアウトも発生しにくい。さらに好ましい使用量は２〜１５質量部であり、特に好ましくは５〜１５質量部である。
【００６８】
これらの可塑剤をセルロースアシレートフィルムに添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時セルロースアシレートと混合してもよい。
【００６９】
＜１−３：その他の添加剤＞
前記セルロースアシレートフィルム中には紫外線吸収剤；酸化防止剤；マット剤などの添加剤を加えることもできる。
【００７０】
（酸化防止剤）
本発明においてはセルロースアシレートフィルムに公知の酸化防止剤、例えば、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４、４’−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１、１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２、２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス（４−メトキシ−３、５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２、４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ビス（２、４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、セルロース系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜５．０質量部を添加することが好ましい。
【００７１】
（紫外線吸収剤）
本発明においてはセルロースアシレートフィルムに、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤を加えてもよい。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ、Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１、３、５−トリメチル−２、４、６−トリス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系化合物の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２、２−メチレンビス（４−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、（２、４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１、３、５−トリアジン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ、Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１、３、５−トリメチル−２、４、６−トリス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、光学フィルム全体中に質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。
【００７２】
（マット剤）
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムすべり性、及び安定製造の観点からマット剤を加えてもよい。前記マット剤は、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。
前記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物（例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。前記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。前記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。
前記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００７３】
これらのマット剤をセルロースアシレート溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望のセルロースアシレート溶液を得ることができれば問題ない。例えば、セルロースアシレートと溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、セルロースアシレートと溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開２００３−０５３７５２号公報には、セルロースアシレートフィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Ｌが、主原料配管内径ｄの５倍以下とする事で、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。さらに好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離（Ｌ）が、供給ノズル先端開口部の内径（ｄ）の１０倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器又は動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。さらに具体的には、セルロースアシレートフィルム主原料ドープ／インライン添加液の流量比は、１０／１〜５００／１、好ましくは５０／１〜２００／１であることが開示されている。さらに、添加剤ブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開２００３−０１４９３３号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解又は分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。
【００７４】
前記セルロースアシレートフィルムにおいて、前記マット剤は、多量に添加しなければフィルムのヘイズが大きくならず、実際に液晶表示装置に使用した場合、コントラストの低下、輝点の発生等の不都合が生じにくい。また、少なすぎなければ耐擦傷性を実現することができる。これらの観点から０．０１〜５．０質量％の割合で含めることが好ましく、０．０３〜３．０質量％の割合で含めることがより好ましく、０．０５〜１．０質量％の割合で含めることが特に好ましい。
【００７５】
（フィルムの層構造）
前記セルロースアシレートフィルムは、単層であっても、２層以上の積層体であってもよい。
前記セルロースアシレートフィルムが２層以上の積層体である場合は、コア層と該コア層の少なくとも一方の表面上に少なくとも１層以上のスキン層が積層された積層体であることが好ましい。該積層体は、２層構造又は３層構造であることがより好ましく、３層構造であることが好ましい。３層構造の場合は、本発明のフィルムが溶液製膜で製造する際に前記金属支持体と接する層（以下、支持体面や、スキンＢ層とも言う）と、前記金属支持体とは逆側の空気界面の層（以下、空気面や、スキンＡ層とも言う）と、その間に挟まれた１層のコア層を有することが好ましい。すなわち、本発明のフィルムはスキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造であることが好ましい。
【００７６】
（ヘイズ）
前記セルロースアシレートフィルムは、ヘイズが０．２０％未満であることが好ましく、０．１５％未満であることがより好ましく、０．１０％未満であることが特に好ましい。ヘイズを０．２％未満とすることにより、液晶表示装置に組み込んだ際のコントラスト比を改善することができる。また、フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点もある。
【００７７】
（膜厚）
前記セルロースアシレートフィルムは、膜厚が１０〜１００μｍであることが好ましく、１０〜６０μｍであることがより好ましく、１０〜３５μｍであることがさらに好ましい。１０μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が確保でき、また、３５μｍ以下とすることにより、湿度変化に対応しやすくすることができる。
また、前記セルロースアシレートフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、前記コア層の膜厚は５〜７０μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、５〜３０μｍであることが特に好ましい。本発明のフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、フィルム両面の表面層（スキンＡ層及びスキンＢ層）の膜厚がともに０．５〜２０μｍであることがより好ましく、０．５〜１０μｍであることが特に好ましく、０．５〜３μｍであることがより特に好ましい。
【００７８】
（フィルム幅）
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルム幅が７００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２８００ｍｍであることがより好ましく、１４００〜２５００ｍｍであることが特に好ましい。
【００７９】
＜１−４：セルロースアシレートフィルムの製造方法＞
以下、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムの製造方法について詳細に説明する。
【００８０】
前記セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造されることが好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の公報を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等の各公報を参考にすることができる。
【００８１】
（流延方法）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。またここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
【００８２】
《共流延》
前記セルロースアシレートフィルムの形成においては共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法を用いることが好ましく、特に同時共流延法を用いることが、安定製造及び生産コスト低減の観点から特に好ましい。
共流延法及び逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用のセルロースアセテート溶液（ドープ）を調製する。共流延法（重層同時流延）は、流延用支持体（バンド又はドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でも良い）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。図１に、共流延ギーサ３を用い、流延用支持体４の上に表層用ドープ１とコア層用ドープ２を３層同時に押出して流延する状態を断面図で示した。
【００８３】
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要に応じ第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。塗布法は、一般的には、コア層のフィルムを溶液製膜法によりフィルムに成形し、表層に塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、片面ずつ又は両面同時にフィルムに塗布液を塗布・乾燥して積層構造のフィルムを成形する方法である。
【００８４】
前記セルロースアシレートフィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基又は２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるドープ（樹脂溶液）の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
また、前記金属支持体の材質については特に制限はないが、ＳＵＳ製（例えば、ＳＵＳ ３１６）であることがより好ましい。
【００８５】
（延伸処理）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法では、製膜された延伸する工程を含むことが好ましい。前述の通り、本発明の光学補償フィルムは波長分散特性も改善されていることが好ましいが、延伸処理によってこのような光学性能を付与することが可能となり、さらに前記セルロースアシレートフィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。前記セルロースアシレートフィルムの延伸方向はフィルム搬送方向と搬送方向に直交する方向（巾方向）のいずれでも好ましいが、フィルム搬送方向に直交する方向（幅方向）であることが、後に続く該フィルムを用いた偏光板加工プロセスの観点から特に好ましい。
【００８６】
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【００８７】
前記セルロースアシレートフィルムの延伸倍率は、５％以上２００％以下が好ましく、１０％以上１００％以下がさらに好ましく、２０％以上５０％以下が特に好ましい。
【００８８】
前記セルロースアシレートフィルムを偏光子の保護膜として使用する場合には、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸と本発明の光学フィルムの面内の遅相軸を平行に配置することが好ましい。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状の前記セルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよいが、本発明の製造方法では残留溶媒を含んだ状態で延伸を行うため、製膜工程の途中で延伸することが好ましい。
【００８９】
（乾燥）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法では、前記セルロースアシレートフィルムを乾燥する工程と、乾燥後の本発明の光学フィルムをＴｇ−１０℃以上の温度で延伸する工程とを含むことが、レターデーション発現性の観点から好ましい。
【００９０】
前記セルロースアシレートフィルムの製造に係わる、金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラム又はベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム又はベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【００９１】
（剥離）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法は、前記ドープ膜を前記金属支持体から剥ぎ取る工程を含むことが好ましい。前記セルロースアシレートフィルムの製造方法における剥離の方法については特に制限はなく、公知の方法を用いた場合に剥離性を改善することができる。
【００９２】
フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【００９３】
以上のようにして得られた、前記セルロースアシレートフィルムの長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【００９４】
一般的に、大画面表示装置において、斜め方向のコントラストの低下及び色味付きが顕著となるので、前記セルロースアシレートフィルムは、特に大画面液晶表示装置に用いるのに適している。大画面用液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる場合は、例えば、フィルム幅を１４７０ｍｍ以上として成形するのが好ましい。また、本発明の光学フィルムには、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様のフィルムのみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様のフィルムも含まれる。後者の態様の光学フィルムは、偏光板保護フィルムとしてその状態で保管・搬送等され、実際に液晶表示装置に組み込む際や偏光子等と貼り合わされる際に、所望の大きさに切断されて用いられる。また、同様に長尺状に作製されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子等と、長尺状のまま貼り合わされた後に、実際に液晶表示装置に組み込む際に、所望の大きさに切断されて用いられる。ロール状に巻き上げられた光学補償フィルムの一態様としては、ロール長が２５００ｍ以上のロール状に巻き上げられた態様が挙げられる。
【００９５】
２．活性エネルギー線硬化層
本発明の光学フィルムは、前記セルロースアシレートフィルム上に積層された活性エネルギー線硬化層を有し、該活性エネルギー線硬化層はヒンダードアミン系化合物を含有することを特徴とする。本明細書中、活性エネルギー線硬化層とは、活性エネルギー線によって硬化され得る樹脂（例えば、バインダー）を含み、該樹脂が活性エネルギー線によって硬化された層のことを言う。
以下、前記活性エネルギー線硬化層について説明する。
【００９６】
＜２−１：活性エネルギー線硬化層の組成＞
本発明の光学フィルムは、前記ヒンダードアミン系化合物が、前記活性エネルギー線硬化層中に含まれている。
具体的には、前記ヒンダードアミン系化合物が、前記活性エネルギー線硬化層を構成する樹脂（バインダー）１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部含まれていることが好ましく、０．００５〜５質量部含まれていることがより好ましく、０．０１〜２質量部含まれていることが特に好ましい。
【００９７】
その他、前記活性エネルギー線硬化層には本発明の趣旨に反しない限りにおいて、添加剤を添加してもよい。
【００９８】
（ヒンダードアミン系化合物）
ヒンダードアミン系化合物は、窒素原子近傍にかさ高い有機基（例えば、かさ高い分岐アルキル基）を有する構造である。これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、又はそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。このような化合物には、以下の一般式（２）のものが含まれる。
【００９９】
【化９】
【０１００】
上式中、Ｒ１及びＲ２は、水素原子又は置換基である。ヒンダードアミン系化合物の具体例には、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（４−ｔ−ブチル−２−ブテニル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−エチル−４−サリチロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル−β（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１−ベンジル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニルマレイネート（ｍａｌｅｉｎａｔｅ）、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アジペート、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１−アリル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−フタレート、１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル−アセテート、トリメリト酸−トリ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）エステル、１−アクリロイル−４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ジブチル−マロン酸−ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジベンジル−マロン酸−ジ−（１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジメチル−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オキシ）−シラン，トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフィット、トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフェート，Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアミン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアセトアミド、１−アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセトアミド）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン、４−ベンジルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ′−ジブチル−アジパミド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−（２−ヒドロキシプロピレン）、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｐ−キシリレン−ジアミン、４−（ビス−２−ヒドロキシエチル）−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−メタクリルアミド−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、α−シアノ−β−メチル−β−［Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）］−アミノ−アクリル酸メチルエステルなどが挙げられる。
【０１０１】
更にＮ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ′″−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物（ＢＡＳＦ社製 ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ）、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕（ＢＡＳＦ社製 ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ＦＤＬ）、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量ＨＡＬＳなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物などで、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１０２】
好ましいヒンダードアミン系化合物の例には、以下のＨＡＬＳ−１）及びＨＡＬＳ−２）が含まれる。ｎは繰り返し単位数を表す。
【０１０３】
【化１０】
【０１０４】
上記具体例の中でも、ＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（ＣＡＳ−Ｎｏ． １９２２６８−６４−７）、及びＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ（ＣＡＳ−Ｎｏ．７１８７８−１９−８）、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３（ＣＡＳ−Ｎｏ．１２９７５７−６７−１）、ＴＩＮＵＶＩＮ １５２（ＣＡＳ−Ｎｏ．１９１７４３−７５−６）、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ（ＣＡＳ−Ｎｏ．５２８２９−０７−９）、サンケミカル株式会社製サイアソーブＵＶ−３３４６（ＣＡＳ−Ｎｏ．８２５４１−４８−７）、同サイアソーブＵＶ−３５２９（ＣＡＳ−Ｎｏ．１９３０９８−４０−７）は市販されており入手性に優れるので好適である。
【０１０５】
なお、前記ヒンダードアミン系化合物は、上述のように商業的に入手してもよいが、合成により製造したものを用いてもよい。前記ヒンダードアミン系化合物の合成方法としては特に制限はなく、通常の有機合成における手法により合成可能である。また、生成方法としては、蒸留、再結晶、再沈、ろ過剤・吸着剤を用いる方法を適宜使用することができる。さらに、通常市販される安価に入手可能なものは前記ヒンダードアミン系化合物単独ではなく、混合物であることもあるが、本発明ではいずれの態様であっても商業的に入手してものを、製造方法、組成、融点、酸価等によらず利用することができる。
【０１０６】
本発明に用いられる前記ヒンダードアミン系化合物は、低分子量のものであっても、繰り返し単位を有するポリマーであってもよいが、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルムとの界面近傍にヒンダードアミン系化合物を偏在させるためには高分子量の方が好ましい。一方、分子量が高すぎるとセルロースアシレートとの相溶性が不足し、フィルムのヘイズが高くなってしまう。
前記ヒンダードアミン系化合物は、分子量が３００〜１０００００であることが好ましく、７００〜５００００であることがより好ましく、２０００〜３００００であることが特に好ましい。
【０１０７】
また、本発明に用いられる前記ヒンダードアミン系化合物は、前記ヒンダードアミン系化合物が、ケトン系溶媒に０．０１質量％以上溶解することが好ましい。このような前記ヒンダードアミン系化合物を用いることにより、本発明の光学フィルムを製造するときに前記セルロースアシレートフィルムに添加した前記ヒンダードアミン系化合物が、後述する活性エネルギー線硬化層を形成するときに好ましく用いられるケトン系溶媒に溶解して移動し、最終的に前記活性エネルギー線硬化層に前記ヒンダードアミン系化合物が含まれることとなり、好ましい。
なお、前記ケトン系溶媒の好ましい態様については、活性エネルギー線硬化層の説明において後述する。
【０１０８】
＜２−２：活性エネルギー線硬化層の種類＞
本発明の光学フィルムにおける前記活性エネルギー線硬化層は、前方散乱、アンチグレア（防眩）、ガスバリア、滑り、帯電防止、下塗り、ハードコート、反射防止、保護等の機能を有することが好ましい。すなわち、前記活性エネルギー線硬化層は、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層、ハードコート層、反射防止層又は保護層等の機能層であることが好ましい。
前記活性エネルギー線硬化層は、反射防止層又はハードコート層であることがより好ましく、ハードコート層であることが特に好ましい。
また、これらの機能層は、活性エネルギー線硬化層以外の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいはその他の視野角補償フィルムにおける光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。
これらの活性エネルギー線硬化層は、本発明の光学フィルムにおいて少なくとも一方の表面に設けられていることが好ましい。また、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして偏光子と組み合わせて偏光板を構成するときには、偏光子側及び偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０１０９】
以下、本発明に活性エネルギー線硬化層として用いられる機能層について、説明する。
なお、本発明の光学フィルムは少なくとも一層の活性エネルギー線硬化層を前記セルロースアシレートフィルム上に有していることを特徴とする。本発明の光学フィルムは、活性エネルギー線硬化性である後述の各機能層を有し、さらにその他の活性エネルギー線硬化性ではない後述の各機能層を有していてもよい。また、本発明の光学フィルムにおいて、活性エネルギー線硬化層は１層のみ設けられていても、複数層設けられていてもよい。また、複数の各活性エネルギー線硬化層は同一であっても、異なっていてもよい。
【０１１０】
（１）ハードコート層
本発明の光学フィルムは耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けることが好ましい。
ハードコート層の膜厚は、０．２〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜５０μｍであることがより好ましく、１〜２０μｍであることが特に好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１１１】
ハードコート層を形成する材料（バインダー）としては、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。
前記エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。
また、前記エチレン性不飽和基を含む化合物の市販化合物としては、ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、ビスコート３６０（大阪有機化学工業（株）社製）、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１１２】
また、前記開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０１１３】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、光拡散性の付与、本発明のハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、１ｎｍないし２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０１１４】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０１１５】
ハードコート層は、光及び／又は熱による硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。
さらに、加水分解性官能基含有の有機金属化合物をさらに用いてもよい。前記加水分解性官能基含有の有機金属化合物としては有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
その他、ハードコート層には、重合開始剤、レベリング剤を添加してもよく、いずれも公知の物を採用することができる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ２０００／４６６１７号公報等記載のものを好ましく使用することができる。
【０１１６】
（２）反射防止層
本発明の光学フィルムは、反射防止層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
前記反射防止層は、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度の層、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下の層のいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号などに記載された反射防止層も好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０１１７】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０１１８】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０１１９】
含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０１２０】
低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１２１】
中屈折率層及び高屈折率層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用する（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０１２２】
マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０１２３】
反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１２４】
（３）前方散乱層
本発明の光学フィルムは、前方散乱層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０１２５】
（４）アンチグレア層
本発明の光学フィルムは、アンチグレア層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０１２６】
＜２−３：活性エネルギー線硬化層の製造方法＞
前記活性エネルギー線硬化層の形成方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。その中でも、前記活性エネルギー線硬化層を形成する材料（バインダー）を有機溶媒に溶解させたものを、前記セルロースアシレートフィルム上に塗設して形成することが好ましい。
前記有機溶媒としては、公知の有機溶媒を単独又は複数を混合して用いることができる。その中でも、本発明では、ケトン系溶媒、酢酸エステル系溶媒、炭化水素系溶媒を用いることが好ましい。
前記溶媒としては、例えば、ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、酢酸エチル、トルエンなどを挙げることができる。
【０１２７】
前記活性エネルギー線硬化層を塗工する具体的に方法についても特に制限はないが、マイクログラビア塗工方式を好ましく用いることができる。また、塗布時の搬送速度についても特に制限はなく、搬送速度１〜１００ｍ／分の条件で塗布することが好ましい。塗布後の乾燥についても特に制限はなく、乾燥温度は２５〜１４０℃で３０〜１０００秒乾燥することが好ましい。
前記活性エネルギー線硬化層は、活性エネルギー線の中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
活性エネルギー線を照射するときは、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら行うことが好ましい。活性エネルギー線の強度等についても特に制限はないが、例えば紫外線を照射する場合は、照度１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することが好ましい。
【０１２８】
［偏光板］
また、本発明は、本発明の光学フィルムを少なくとも一枚用いることを特徴とする偏光板にも関する。
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の片面に本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして有することが好ましい。偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、本発明の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板であることがより好ましい。
本発明の光学補償フィルムと同様、本発明の偏光板の態様は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、上記した通り、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。
本発明の偏光板の具体的な構成については、特に制限はなく公知の構成を採用できるが、例えば、特開２００８−２６２１６１号公報の図６に記載の構成を採用することができる。
【０１２９】
（直交透過率変化）
本明細書において、偏光板の直交透過率ＣＴは、ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用いて測定した。測定では、４１０ｎｍで測定し、１０回測定の平均値を用いた。
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行うことができる。ガラスの上に偏光板を貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を本発明の偏光板の直交透過率とする。
本発明の偏光板は、偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。
本発明の偏光板は、６０℃、相対湿度９５％に１０００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）が１．４０％以下であることが好ましい。
６０℃、相対湿度９５％に１０００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）は、１．００％以下であることがより好ましく、０．５０％以下であることが特に好ましい。 ここで、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値である。
上記直交透過率の変化量の範囲を満たせば、偏光板の高温高湿下で長時間使用中あるいは保管中の安定性が確保でき、好ましい。
【０１３０】
［液晶表示装置］
本発明は、本発明の光学フィルム又は本発明の偏光板を有する液晶表示装置にも関する。
本発明の液晶表示装置は液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板の少なくとも一方が本発明の偏光板であることを特徴とするＩＰＳ、ＯＣＢ又はＶＡモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明の液晶表示装置の具体的な構成としては特に制限はなく公知の構成を採用できる。また、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に記載の構成も好ましく採用することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１３２】
［実施例１０１］
（１）セルロースアシレートフィルムの製膜
＜セルロースアシレートの調製＞
アセチル置換度２．８７のセルロースアシレートを調製した。これは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
【０１３３】
＜表層用ドープ（溶液）１０１の調製＞
（セルロースアシレート溶液１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
スクロースベンゾエート（可塑剤） ９．０質量部
イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００（可塑剤） ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３５３．９質量部
メタノール（第２溶媒） ８９．６質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ４．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、上記可塑剤として使用したスクロースベンゾエートは、ベンゾイル基の置換度が８置換体１５モル％以下、７、６置換体合計が７０モル％以下、５〜３置換体合計が４０モル％以下である平均置換度５〜６のスクロースベンゾエートを用いた。
【０１３４】
（マット剤溶液２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ６９．３質量部
メタノール（第２溶媒） １７．５質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ０．９質量部
前記セルロースアシレート溶液１ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３５】
上記マット剤溶液２の１．３質量部とセルロースアシレート溶液１の９８．７質量部を、インラインミキサーを用いて混合し、表層用溶液１０１を調製した。
【０１３６】
＜コア層用ドープ１０１の調製＞
（セルロースアシレート溶液２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、コア層用ドープ１０１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
スクロースベンゾエート（可塑剤） ９．０質量部
イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００（可塑剤） ３．０質量部
下記紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９７．７質量部
メタノール（第２溶媒） ７５．４質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ３．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記可塑剤のスクロースベンゾエートは、セルロースアシレート溶液１で使用したものと同様のものを用いた。
【０１３７】
紫外線吸収剤Ｃ
【０１３８】
【化１１】
【０１３９】
＜流延＞
ドラム流延装置を用い、前記調製したドープ（コア層用ドープ１０１）と、その両側に表層用ドープ１０１とを３層同時にステンレス製の流延支持体（支持体温度−９℃）に流延口から均一に流延した。各層のドープ中の残留溶媒量が略７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、残留溶媒量が３〜５質量％の状態まで、横方向に１．２８倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、実施例１のセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルムの厚みは６０μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
【０１４０】
（２）活性エネルギー線硬化層の製膜
＜ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）の調製＞
各成分を表以下に示す組成で作製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
【０１４１】
ＰＥＴ−３０（バインダー） ２２．９質量部
ビスコート３６０（バインダー） ２２．９質量部
イルガキュア１２７（重合開始剤） １．５質量部
８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）
１質量部
ＭｉＢＫ（溶剤） １９．２質量部
ＭＥＫ ２５質量部
ＦＰ−１３（レベリング剤） ０．１質量部
ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（ヒンダードアミン系化合物）
０．４５８質量部
【０１４２】
上記で使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］；
・ビスコート３６０：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート［大阪有機化学工業（株）社製］；
・８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）：平均粒径８．０μｍ［積水化学（株）製］をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散したＭｉＢＫ分散液）；
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］；
・ＦＰ−１３：特開２００９−０６３９８３号公報［０３４１］に記載のフッ素系表面改質剤（ＭＥＫの１０質量％溶液として溶解した後に使用）
・ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］
なお、上記中、ＭｉＢＫはメチルイソブチルケトンを表し、ＭＥＫはメチルエチルケトンを表し、いずれもケトン系溶媒である。
【０１４３】
＜ハードコート層の形成＞
上記にて製膜したセルロースアシレートフィルムの製膜時に支持体に接していた面（以下支持体面と称す）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の厚みは６μｍであった。
得られたハードコート層つき偏光板保護フィルムを、実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）とした。
【０１４４】
（３）偏光板の作製
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理〕
作製した実施例１０１の偏光板保護フィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）について表面の鹸化処理を行った。
【０１４５】
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した実施例１０１の偏光板保護フィルムにおけるハードコート層とは反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作成した実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作成した実施例１０１の偏光板保護フィルムの遅相軸とは直交するように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸についても、直交するように配置した。
このようにして実施例１０１の偏光板を作製した。
【０１４６】
［実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３］
〔実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）の作製〕
実施例１０１においてセルロースアシレートに添加する可塑剤の種類及び添加量、フィルム厚み、活性エネルギー線硬化層に添加するヒンダードアミン系化合物の種類及び添加量を表８に記載したとおりに変更した以外は同様にして、実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を製造した。
【０１４７】
なお、下記表８中、可塑剤の添加量は、セルロースアシレート樹脂１００質量部に対する質量部を表す。また、下記表８中、スクロースベンゾエートは、ベンゾイル基の置換度が８置換体１５モル％以下、７、６置換体合計が７０モル％以下、５〜３置換体合計が４０モル％以下である平均置換度５〜６のスクロースベンゾエートを表し、スクロースアセテートイソブチレートは、イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００を表す。
【０１４８】
【表８】
【０１４９】
（可塑剤Ａ）
【０１５０】
【化１２】
【０１５１】
（可塑剤Ｂ）
前記重縮合エステルＪ−３９
【０１５２】
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理と偏光板の作製〕
実施例１０２〜１１８の光学フィルム（偏光板保護フィルム）及び比較例２０１〜２０３の偏光板保護フィルムについても、それぞれ実施例１０１と同様にして鹸化処理と偏光板の作製を行い、各実施例及び比較例の偏光板を作製した。
【０１５３】
［評価］
＜密着性の評価＞
まず、上記で作製した各実施例及び比較例のハードコート層つき偏光板保護フィルムに対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に１００時間光を照射した。
次にハードコート層つき偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
Ｄ：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。
得られた結果を上記表８に記載した。
＜鉛筆硬度の評価＞
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価をおこなった。偏光板保護フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定するＨ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にて以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
ｎ＝５の評価において傷なし〜傷１つ：ＯＫ
ｎ＝５の評価において傷が２つ以上 ：ＮＧ
【０１５４】
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各実施例及び比較例の偏光板について、波長４１０ｎｍにおける偏光子の直交透過率を本明細書に記載した方法で測定した。
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間保存した後について同様の手法で直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光子耐久性として上記表８にその結果を記載した。
【０１５５】
上記表８の結果から明らかなように、セルロースアシレートフィルムに可塑剤を含有させない比較例２０１、本発明に係る可塑剤以外の可塑剤を含有させた比較例２０２はいずれも、高温高湿経時後に偏光子の劣化が起こり偏光子耐久性に劣ることがわかる。また、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させない比較例２０３は、密着性に劣ることがわかる。
一方、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた実施例１０１〜１１８の偏光板はいずれも、高温高湿経時後偏光子の劣化が起き難く好ましいことがわかった。また、偏光板保護フィルムとして用いた本発明の光学フィルムは長時間光を照射しても、ハードコート層とセルロースアシレートフィルム間の密着性に優れ剥離が起き難く、かつ耐擦傷性が高く好ましいことがわかった。
【０１５６】
［実施例３０１］
〔液晶表示装置の作製〕
市販の液晶テレビ（ＳＯＮＹ（株）のブラビアＪ５０００）の視認者側の偏光板をはがし、実施例１０１の偏光板保護フィルムを用いた本発明の偏光板を、実施例１０１の偏光板保護フィルムが液晶セル側となるように、粘着剤を介して貼り付けた。視認者側の偏光板の透過軸が上下方向に配置とした。また、比較例２０１〜２０３の偏光板保護フィルムを用いた以外は同様にして、比較例の液晶表示装置を作製した。このようにして作製した本発明の液晶表示装置は、各比較例の偏光板保護フィルムを使用した液晶表示装置に対して、屋外で直射日光のあたる環境下で長時間使用しても、表示性能の劣化が小さく、好ましかった。
【０１５７】
［実施例４０１］
（１）セルロースアシレートフィルムの製膜
（セルロースアシレート溶液４１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液４１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液４１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・可塑剤（Ａ−２） ６．５質量部
・可塑剤（Ｂ−２） １．５質量部
・紫外線吸収剤Ｄ １．５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１２．２質量部
・エタノール（第２溶媒） ３５．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５８】
【化１３】
【０１５９】
（マット剤溶液４２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液４２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液４２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７９．９質量部
エタノール（第２溶媒） ６．９質量部
前記セルロースアシレート溶液４１ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６０】
＜流延＞
上記マット剤溶液４２の１．３質量部と、セルロースアシレート溶液４１を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合した。バンド流延装置を用い、前記調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態で、１２０℃の温度下で幅方向に１．２０倍（２０％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、実施例４０１のセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルムの厚みは３３μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
（２）活性エネルギー線硬化層の製膜
＜ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）の調製＞
各成分を表以下に示す組成で作製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
【０１６１】
ＰＥＴ−３０（バインダー） ２２．９質量部
ビスコート３６０（バインダー） ２２．９質量部
イルガキュア１２７（重合開始剤） １．５質量部
８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）
１質量部
ＭｉＢＫ（溶剤） １９．２質量部
ＭＥＫ ２５質量部
ＦＰ−１３（レベリング剤） ０．１質量部
ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ（ヒンダードアミン系化合物）
０．６８７質量部
【０１６２】
上記で使用した化合物について前掲したもの以外は、以下に示す。
・ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］
【０１６３】
＜ハードコート層の形成＞
上記にて製膜したセルロースアシレートフィルムの製膜時に支持体に接していた面（以下支持体面と称す）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。８０℃で１２０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の厚みは３μｍであった。
得られたハードコート層つき偏光板保護フィルムを、実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）とした。
【０１６４】
（３）偏光板の作製
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理〕
作製した実施例４０１の偏光板保護フィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）について表面の鹸化処理を行った。
【０１６５】
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した実施例４０１の偏光板保護フィルムにおけるハードコート層とは反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士フイルム（株）製）に同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作成した実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作成した実施例４０１の偏光板保護フィルムの遅相軸とは直交するように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸についても、直交するように配置した。
このようにして実施例４０１の偏光板を作製した。
【０１６６】
［比較例４０２〜４０４］
実施例４０１の偏光板作製において、偏光板保護フィルムの厚みを後記の表９の値に変更した以外は実施例４０１と同様にして、実施例４０２〜４０４の偏光板を作製した。
【０１６７】
［比較例４１１］
実施例４０１において、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）にＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］を添加しなかったこと以外は実施例４０１と同様にして、比較例の偏光板４１１を作製した。
【０１６８】
［比較例４１２］
比較例４１１において、セルロースアシレートフィルム中に、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］をセルロースアシレート１００質量部に対して１．５質量部添加したこと以外は比較例４１１と同様にして、セルロースアシレートフィルム４１２を作製した。
【０１６９】
［比較例４１３〜４１５］
比較例４１２において、セルロースアシレートフィルムの厚みを後記の表９の値に変更した以外は比較例４１２と同様にして、セルロースアシレートフィルム４１３〜４１５を作製した。
【０１７０】
［実施例５０１］
（アクリル溶液５１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、アクリル溶液５１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリル溶液５１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・三菱レイヨン（株）製ダイヤナールＢＲ８８ １００．０質量部
・スクロースベンゾエート ７．０質量部
・紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３９３．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５９．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７１】
（セルロースアシレート溶液５２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液５２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液５２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８６、重合度３５０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・スクロースベンゾエート ７．０質量部
・前記紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１４．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、実施例５０１で使用したスクロースベンゾエートは、実施例１０１と同様のものを用いた。
【０１７２】
＜流延＞
前記アクリル溶液５１及びセルロースアシレート溶液５２を用いて、３層共流延が可能な流延ギーサーを通して、金属支持体上に、金属支持体上に近い側から、アクリル層／セルロースアシレート層／アクリル層＝３０μｍ／１０μｍ／３０μｍの層構成となるように流延した。金属支持体上にある間、ドープを４０℃の乾燥風により乾燥してフィルムを形成した後に剥ぎ取り、フィルム両端をピンで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１０５℃の乾燥風で５分間乾燥した。ピンを外した後、更に１３０℃で２０分間乾燥し、積層フィルムの状態で巻き取った。
このようにして製造した積層フィルムから、まず上層のアクリルフィルムを剥離して取り除いた後に、実施例４０１と同様の方法により、セルロースアシレート層上にハードコート層を塗布することにより活性エネルギー線硬化層を製膜した。次に、下層のアクリルフィルムを剥離し、実施例４０１と同様の方法によりけん化処理および貼り合せをおこない、偏光板５０１を作製した。
【０１７３】
［実施例５０２〜５０３］
実施例５０１の偏光板の作製において、偏光板保護フィルムの厚みを下記表９に記載の値に変更した以外は同様にして、実施例５０２及び５０３の偏光板を製造した。
【０１７４】
［評価］
＜密着性の評価＞
まず、上記で作製した各実施例及び比較例のハードコート層つき偏光板に対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に１９６時間光を照射した。
次にハードコート層つき偏光板を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
Ｄ：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。
得られた結果を上記表９に記載した。
【０１７５】
＜鉛筆硬度の評価＞
実施例１０１〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）についてと同様の方法で評価した。
【０１７６】
（偏光板耐久性の評価）
実施例１０１〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）についてと同様の方法で評価した。
下記表９に結果を記載した。
【０１７７】
【表９】
【０１７８】
上記表９の結果から明らかなように、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させた本発明の偏光板（実施例４０１〜４０４、５０１〜５０３）は偏光板保護フィルムの膜厚が薄くなっても良好な密着性を維持できることがわかる。これに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させない比較例４１１〜４１５は密着性が劣ることがわかる。とりわけ、偏光板保護フィルムの膜厚が薄い場合、特開２００６−１２３５１３号公報に記載のような偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）中にヒンダードアミン系化合物を添加する方法では十分な密着改良効果が得られにくいことがわかる。また、同じ膜厚で比較した場合、前記公報に記載のような偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）中にヒンダードアミン系化合物を添加する方法では、６０℃相対湿度９０％の環境下で１０００時間保存後に偏光性能が大幅に劣化するのに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させた本発明の偏光板（実施例４０１〜４０４、５０１〜５０３）は偏光性能の劣化が小さく好ましいことがわかる。
【符号の説明】
【０１７９】
１ 表層用ドープ
２ コア層用ドープ
３ 共流延ギーサ
４ 流延用支持体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、前記光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＴＶ用途を中心に液晶表示装置の大型化が進み、これに伴い高画質化と低価格化が益々求められている。また、今後は電子看板用途、及び携帯電話、スマートフォン等のいわゆるモバイル用途等を中心に室外での使用頻度が増加することが予想され、従来よりもさらに過酷な環境下での使用にも耐えうる液晶表示装置が求められている。
【０００３】
一方、視認者側の偏光板の表面については、耐擦傷、反射防止、帯電防止等の機能を付与することが求められる。前記機能を付与する方法としては、セルロースアシレートフィルム等の上に活性エネルギー線硬化層を塗工して、機能層付きの偏光板保護フィルムとすることが一般的である。前記モバイル用途では、部材の薄型化が進行しており偏光板保護フィルムに対しても薄手化の要求が高まっている。
【０００４】
液晶表示装置における偏光板は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）とヨウ素を用いた偏光子をセルロースアシレートフィルム等の偏光板保護フィルムで挟みこんだ構成のものが広く使用されている。しかし、ＰＶＡとヨウ素を用いた偏光子は高温高湿環境下で偏光子性能が劣化しやすいという弱点があり、室外用途の要求性能にこたえるには改良が必要である。
【０００５】
屋外用途では上記機能層に対しても室内用途に比べてさらに厳しい耐久性が求められる。なかでも光に対する安定性は特に重要な項目であるが、従来の機能層は長時間光を照射すると活性エネルギー線硬化層がセルロースアシレートフィルムから剥がれやすくなるという問題をかかえており、改良が求められていた。
【０００６】
樹脂フィルムの耐光性を向上させる手段としては、紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加することが一般的であり、例えば特許文献１には紫外線硬化型ハードコート樹脂層にヒンダードアミン系光安定剤を添加した樹脂フィルムが開示されている。また、特許文献２にはヒンダードアミン系酸化防止剤を含むセルロースアシレートフィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−９４５７３号公報
【特許文献２】特開２００６−１２３５１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、本発明者らが特許文献１及び２に記載の方法を検討したところ、これらの方法で得られたフィルムは長時間にわたって光が照射された場合の機能性層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が不十分であった。特に、薄膜のセルロースアシレートフィルムを用いた場合、比較的照射時間の短い段階から機能性層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が不足した。さらに、特許文献１及び２に記載の方法ではヒンダードアミン系化合物の添加により高温高湿環境下で長期間使用された場合の偏光子性能が著しく悪化するという問題があることがわかった。
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、発明が解決しようとする課題は、長期間光が照射されても活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が十分維持され、偏光板保護フィルムとして偏光板に組み込んで高温高湿下で長期間使用されても良好な偏光性能を維持でき、薄手化が可能な光学フィルムを提供することである。また、発明が解決しようとする課題は、該光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、特許文献１及び２に開示されているよう光学フィルムを使用すると、ヒンダードアミン系化合物が偏光子中のヨウ素錯体の分解を促進し、高温高湿環境下で長期間使用した場合の偏光子性能が著しく劣化してしまうことをつきとめた。
この新規課題に対して、本発明者らは、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる特定の可塑剤を含有するセルロースアシレート上にヒンダードアミン系化合物を含む活性エネルギー線硬化層を設けることにより、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が良好となるばかりでなく、前記特定の可塑剤がセルロースアシレートフィルムの自由体積部を埋める働きをすることにより、ヒンダードアミン系化合物がセルロースアシレートフィルム中を通過して偏光子層へ拡散することが抑制され、高温高湿環境下で長期間使用した場合の偏光子性能の劣化が小さくなり、さらに耐擦傷性も向上することを見出した。
さらに、薄手のセルロースアシレートフィルム上に活性エネルギー線硬化層を設けた場合、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着はセルロースアシレートフィルム表層の物理特性の影響を特に受けやすいことを見出した。すなわち、セルロースアシレートフィルムを薄手化するとセルロースアシレートフィルム表層が硬く脆くなるため、セルロースアシレート表層付近での脆性破壊が起こりやすくなる。このような系ではセルロースアシレートフィルム中にヒンダードアミン系化合物を添加しても十分な密着性改良効果が得られないのに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を添加すると、長時間光を照射した後の、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着性が著しく向上することを見出した。本発明はこの知見に基づきなされるに至ったものである。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の構成である。
〔１〕
セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
〔２〕
前記セルロースアシレートフィルムの厚みが１０μｍ以上３５μｍ以下である、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕
前記セルロースアシレートフィルムにおける前記可塑剤の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
前記活性エネルギー線硬化層がバインダーを含有し、前記ヒンダードアミン系化合物の含有量が、前記バインダー１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔５〕
偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板。
〔６〕
〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルム又は〔５〕に記載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、長期間光が照射されても活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルム間の密着が十分維持され、偏光板保護フィルムとして偏光板に組み込んで高温高湿下で長期間使用されても良好な偏光性能を維持でき、耐擦傷性に優れる光学フィルムが得られる。さらに本発明によれば、該フィルムを用いた耐久性の高い偏光板を提供することができる。また、該フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、耐久性の改善された液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】共流延用ダイを用いて同時共流延により３層構造のセルロースアシレートフィルムを流涎するときの一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下において、本発明の光学フィルムやその製造方法、それに用いる添加剤などについて詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１４】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、該セルロースアシレートフィルムが炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステル（エステルオリゴマー）の中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ該活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有することを特徴とする。
まず、本発明の光学フィルムが有するセルロースアシレートフィルムについて説明する。
【００１５】
１．セルロースアシレートフィルム
本発明の光学フィルムに用いられるセルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートと、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及びエステルオリゴマーの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有する。
【００１６】
＜１−１：セルロースアシレート＞
前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００１７】
前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートのアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。前記セルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのひとつがアセチル基であることが好ましく、炭素数２〜４のアシル基としてはプロピオニル基又はブチリル基が好ましい。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低くろ過性のよい溶液の作成が可能となる。
【００１８】
以下、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位に位置するセルロースの水酸基がアシル化している割合（各位における１００％のアシル化は置換度１）の合計を意味する。
【００１９】
前記セルロースアシレートの総アシル置換度は、２．０〜２．９７であることが好ましく、２．５以上２．９７未満であることがより好ましく、２．７０〜２．９５であることが特に好ましい。
【００２０】
前記セルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基（アシル基が炭素原子数２〜４である場合）であり、より特に好ましくはアセチル基（セルロースアシレートが、セルロースアセテートである場合）である。
【００２１】
セルロ−スのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、有機酸、例えば、酢酸、メチレンクロライド等が使用される。
【００２２】
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
【００２３】
最も一般的なセルロ−スの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロ−スをアセチル基及び他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）又はそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
【００２４】
前記セルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
【００２５】
前記セルロースアシレートフィルムは、前記樹脂としてセルロースアシレートを５〜９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０〜９９質量％含むことがより好ましく、５０〜９５質量％含むことが特に好ましい。
【００２６】
＜１−２：可塑剤＞
（炭水化物誘導体）
前記炭水化物誘導体としては、単糖あるいは２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の誘導体（以下、炭水化物誘導体系可塑剤ともいう）が好ましい。
【００２７】
前記炭水化物誘導体系可塑剤を好ましく構成する単糖又は多糖は、分子中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基など）が置換されていることが好ましい。置換されて形成される構造の例としては、アルキル基、アリール基、アシル基などを挙げることができる。また、水酸基をアルコキシル基によって置換されて形成されるエーテル構造、水酸基をアシル基によって置換されて形成されるエステル構造、アミノ基によって置換されて形成されるアミド構造やイミド構造などを挙げることができる。
前記単糖又は２〜１０個の単糖単位を含む炭水化物の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、ラクトサミン、ラクチトール、ラクツロース、メリビオース、プリメベロース、ルチノース、シラビオース、スクロース、スクラロース、ツラノース、ビシアノース、セロトリオース、カコトリオース、ゲンチアノース、イソマルトトリオース、イソパノース、マルトトリオース、マンニノトリオース、メレジトース、パノース、プランテオース、ラフィノース、ソラトリオース、ウンベリフェロース、リコテトラオース、マルトテトラオース、スタキオース、バルトペンタオース、ベルバルコース、マルトヘキサオース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００２８】
好ましくは、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、トレハロース、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、スクラロース、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、δ−シクロデキストリン、キシリトール、ソルビトールであり、さらに好ましくは、アラビノース、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンであり、特に好ましくは、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、キシリトール、ソルビトールである。
【００２９】
また、前記炭水化物誘導体系可塑剤の置換基の例としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル基、ベンジル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアシル基、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基、ナフタル基など）を挙げることができる。また、アミノ基によって置換されて形成される好ましい構造として、アミド構造（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアミド、例えばホルムアミド、アセトアミドなど）、イミド構造（好ましくは炭素数４〜２２、より好ましくは炭素数４〜１２、特に好ましくは炭素数４〜８のイミド、例えば、スクシイミド、フタルイミドなど）を挙げることができる。
これらの中で、さらに好ましいものはアルキル基、アリール基又はアシル基であり、特に好ましくはアシル基である。
【００３０】
前記炭水化物誘導体系可塑剤の好ましい例としては、以下のものを挙げることができる。ただし、本発明で用いることができる炭水化物誘導体系可塑剤は、これらに限定されるものではない。
キシローステトラアセテート、グルコースペンタアセテート、フルクトースペンタアセテート、マンノースペンタアセテート、ガラクトースペンタアセテート、マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシリトールペンタアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシリトールペンタプロピオネート、ソルビトールヘキサプロピオネート、キシローステトラブチレート、グルコースペンタブチレート、フルクトースペンタブチレート、マンノースペンタブチレート、ガラクトースペンタブチレート、マルトースオクタブチレート、セロビオースオクタブチレート、スクロースオクタブチレート、キシリトールペンタブチレート、ソルビトールヘキサブチレート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどが好ましい。キシローステトラアセテート、グルコースペンタアセテート、フルクトースペンタアセテート、マンノースペンタアセテート、ガラクトースペンタアセテート、マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシリトールペンタアセテート、ソルビトールヘキサアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシリトールペンタプロピオネート、ソルビトールヘキサプロピオネート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどがさらに好ましい。マルトースオクタアセテート、セロビオースオクタアセテート、スクロースオクタアセテート、キシローステトラプロピオネート、グルコースペンタプロピオネート、フルクトースペンタプロピオネート、マンノースペンタプロピオネート、ガラクトースペンタプロピオネート、マルトースオクタプロピオネート、セロビオースオクタプロピオネート、スクロースオクタプロピオネート、キシローステトラベンゾエート、グルコースペンタベンゾエート、フルクトースペンタベンゾエート、マンノースペンタベンゾエート、ガラクトースペンタベンゾエート、マルトースオクタベンゾエート、セロビオースオクタベンゾエート、スクロースベンゾエート、キシリトールペンタベンゾエート、ソルビトールヘキサベンゾエートなどが特に好ましい。
前記炭水化物誘導体はピラノース構造あるいはフラノース構造を有することが好ましい。
【００３１】
本発明に用いられる炭水化物誘導体としては以下に示す化合物が特に好ましい。ただし、本発明で用いることができる炭水化物誘導体は、これらに限定されるものではない。なお、以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。
以下の表において、置換基１、２は、それぞれ、任意の位置のＲを表す。また、置換度は、Ｒが該置換基で表される数を表す。「なし」はＲが水素原子である。
【００３２】
【化１】
【００３３】
【表１】
【００３４】
【化２】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【化３】
【００３７】
【表３】
【００３８】
【化４】
【００３９】
【表４】
【００４０】
（入手方法）
前記炭水化物誘導体の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００４１】
前記炭水化物誘導体系可塑剤の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００４２】
（多価アルコールエステル）
本発明に用いられる多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがさらに好ましい。保留性の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００４３】
本発明において、多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中の水酸基は全てエステル化してもよいし、一部を水酸基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。
【００４４】
本発明に用いられる多価アルコールエステルの例を以下に示す。
【００４５】
【化５】
【００４６】
【化６】
【００４７】
【化７】
【００４８】
【化８】
【００４９】
上記多価アルコールエステルのうち、トリメチロールプロパントリベンゾエート（ＴＭＰＴＢ）、トリメチロールプロパントリアセテート、トリメチロールプロパントリプロピオネート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、トリプロピレングリコールジベンゾエート、１，３−ジブチレングリコールジベンゾエート、テトラエチレングリコールジベンゾエート、トリメチロールプロパンと酢酸及び安息香酸との混合エステル、トリメチロールプロパンとシクロヘキサンカルボン酸とのエステル、トリメチロールプロパンと酢酸及びシクロヘキサンカルボン酸との混合エステル、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオールとシクロヘキサンカルボン酸とのエステル、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオールと安息香酸とのエステル、キシリトールと安息香酸とのエステル、キシリトールとシクロヘキサンカルボン酸とのエステルが好ましい。
【００５０】
（重縮合エステル）
前記重縮合エステル（以下、重縮合エステル系可塑剤ともいう。）は、少なくとも一種の芳香環を有するジカルボン酸（芳香族ジカルボン酸とも呼ぶ）と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることが好ましい。また、芳香族ジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸との混合物と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることも好ましい。
【００５１】
前記ジカルボン酸残基の平均炭素数の計算は、ジカルボン酸残基とジオール残基で個別に行う。
前記ジカルボン酸残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値を平均炭素数とする。例えば、アジピン酸残基とフタル酸残基が５０モル％ずつから構成される場合は、平均炭素数７．０となる。
また、前記ジオール残基の場合も同様で、ジオール残基の平均炭素数は、ジオール残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値とする。例えばエチレングリコール残基５０モル％と１，２−プロパンジオール残基５０モル％から構成される場合は平均炭素数２．５となる。
【００５２】
前記重縮合エステルの数平均分子量は５００〜２０００であることが好ましく、６００〜１５００がより好ましく、７００〜１２００がさらに好ましい。重縮合エステルの数平均分子量は５００以上であれば揮発性が低くなり、セルロースエステルフィルムの延伸時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなる。また、２０００以下であればセルロースエステルとの相溶性が高くなり、製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくくなる。
前記重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。また、末端が封止のないポリエステルポリオールの場合、質量あたりのヒドロキシル基の量（以下、水酸基価とも言う）により算出することもできる。本発明において、水酸基価は、ポリエステルポリオールをアセチル化した後、過剰の酢酸の中和に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）を測定する。
【００５３】
芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との混合物をジカルボン酸成分として用いる場合は、ジカルボン酸成分の炭素数の平均が５．５〜１０．０のジカルボン酸であることが好ましく、より好ましくは５．６〜８である。
炭素数の平均が５．５以上であれば耐久性に優れた偏光板を得ることができる。炭素数の平均が１０．０以下であればセルロースエステルへの相溶性が優れ、セルロースエステルフィルムの製膜過程でブリードアウトの発生を抑制することができる。
【００５４】
ジオールと、芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、芳香族ジカルボン酸残基が含まれる。
本明細書中では、残基とは、重縮合エステルの部分構造で、重縮合エステルを形成している単量体の特徴を有する部分構造を表す。例えばジカルボン酸ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるジカルボン酸残基は−ＯＣ−Ｒ−ＣＯ−である。ここで、Ｒは任意の２価の基を表す。
本発明に用いる重縮合エステルの芳香族ジカルボン酸残基比率は４０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、４０ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましい。
芳香族ジカルボン酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースエステルフィルムが得られ、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。また、９５ｍｏｌ％以下であればセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースエステルフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくくすることができる。
【００５５】
本発明に用いることができる重縮合エステルの形成に用いることができる芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸又は２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。その中でもフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましく、フタル酸、テレフタル酸がより好ましく、テレフタル酸がさらに好ましい。
前記重縮合エステルには、混合に用いた芳香族ジカルボン酸に由来する芳香族ジカルボン酸残基が形成される。
すなわち、前記芳香族ジカルボン酸残基は、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、より好ましくはフタル酸残基、テレフタル酸残基の少なくとも１種を含み、さらに好ましくはテレフタル酸残基を含む。
前記重縮合エステルの形成における混合に、芳香族ジカルボン酸としてテレフタル酸を用いることで、よりセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースエステルフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいセルロースエステルフィルムとすることができる。また、前記芳香族ジカルボン酸は１種でも、２種以上を用いてもよい。２種用いる場合は、フタル酸とテレフタル酸を用いることが好ましい。
フタル酸とテレフタル酸の２種の芳香族ジカルボン酸を併用することにより、常温での重縮合エステルを軟化することができ、ハンドリングが容易になる点で好ましい。
前記重縮合エステルのジカルボン酸残基中における、テレフタル酸残基の含有量は４０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％であることが好ましい。
テレフタル酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースエステルフィルムが得られる。
【００５６】
ジオールと、脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、脂肪族ジカルボン酸残基が含まれる。
本発明で好ましく用いることができる重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
重縮合エステルには、混合に用いた脂肪族ジカルボン酸に由来する脂肪族ジカルボン酸残基が形成される。
脂肪族ジカルボン酸残基は、平均炭素数が５．５〜１０．０であることが好ましく、５．５〜８．０であることがより好ましく、５．５〜７．０であることがさらに好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が１０．０以下であれば化合物の加熱減量が低減でき、セルロースアシレートウェブ乾燥時のブリードアウトによる工程汚染が原因と考えられる面状故障の発生を防ぐことができる。また、脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が５．５以上であれば相溶性に優れ、重縮合エステルの析出が起き難く好ましい。
前記脂肪族ジカルボン酸残基は、具体的には、コハク酸残基を含むことが好ましく、２種用いる場合は、コハク酸残基とアジピン酸残基を含むことが好ましい。
すなわち、重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いても、２種以上を用いてもよく、２種用いる場合は、コハク酸とアジピン酸を用いることが好ましい。重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いる場合は、コハク酸を用いることが好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数を所望の値に調整することができ、セルロースエステルとの相溶性の点で好ましい。
【００５７】
本発明において、重縮合エステルの形成における混合には、ジカルボン酸を２種又は３種を用いることが好ましい。２種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを１種ずつ用いることが好ましく、３種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸を１種と芳香族ジカルボン酸を２種又は脂肪族ジカルボン酸を２種と芳香族ジカルボン酸を１種用いることができる。ジカルボン酸残基の平均炭素数の値を調整しやすく、かつ芳香族ジカルボン酸残基の含有量を好ましい範囲とすることができ、偏光子の耐久性を向上し得るためである。
【００５８】
ジオールとジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、ジオール残基が含まれる。
本明細書中では、ジオール（ＨＯ−Ｒ−ＯＨ）より形成されるジオール残基は−Ｏ−Ｒ−Ｏ−である。ここで、Ｒは任意の２価の基を表す。
重縮合エステルを形成するジオールとしては、芳香族ジオール及び脂肪族ジオールが挙げられ、本発明に用いられる前記疎水化剤に用いられる重縮合エステルは少なくとも脂肪族ジオールから形成されることが好ましい。
前記重縮合エステルは、平均炭素数が２．５〜７．０の脂肪族ジオール残基を含むことが好ましく、より好ましくは平均炭素数が２．５〜４．０の脂肪族ジオール残基を含む。前記脂肪族ジオール残基の平均炭素数が７．０以下であればセルロースエステルとの相溶性が改善され、ブリードアウトが生じにくくなり、また、化合物の加熱減量が増大しにくくなり、セルロースアシレートウェブ乾燥時の工程汚染が原因と考えられる面状故障が発生し難くなる。また、脂肪族ジオール残基の平均炭素数が２．５以上であれば合成が容易である。
本発明に用いることができる重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を好ましい例として挙げることができ、例えばエチレングリコール（エタンジオール）、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。
【００５９】
より好ましい前記脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。前記脂肪族ジオールを２種用いて前記重縮合エステルを形成する場合は、エチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。１，２−プロパンジオール、又は１，３−プロパンジオールを用いることにより重縮合エステルの結晶化を防止することができる。
前記重縮合エステルには、混合に用いたジオールによりジオール残基が形成される。
すなわち、前記重縮合エステルは、ジオール残基としてエチレングリコール残基、１，２−プロパンジオール残基、及び１，３−プロパンジオール残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、エチレングリコール残基又は１，２−プロパンジオール残基であることがより好ましい。
前記重縮合エステルに含まれる脂肪族ジオール残基には、エチレングリコール残基が１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることが好ましく、２０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることがより好ましい。
【００６０】
前記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオールあるいはカルボン酸のままとしてもよく、さらにモノカルボン酸類又はモノアルコール類を反応させていわゆる末端の封止を実施してもよい。
封止に用いるモノカルボン酸類としては酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸等が好ましい。封止に用いるモノアルコール類としてはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が好ましく、メタノールが最も好ましい。重縮合エステルの末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が７以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障が発生しない。
前記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオール残基のままであることか、酢酸又はプロピオン酸又は安息香酸によって封止されていることがさらに好ましい。
前記重縮合エステルの両末端は、それぞれ、封止の実施の有無が同一であることを問わない。
縮合体の両末端が未封止の場合、重縮合エステルはポリエステルポリオールであることが好ましい。
前記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５〜８．０であり、重縮合エステルの両末端は未封止である重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端が封止されている場合、モノカルボン酸と反応させて封止することが好ましい。このとき、該重縮合エステルの両末端はモノカルボン酸残基となっている。本明細書中では、モノカルボン酸Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるモノカルボン酸残基はＲ−ＣＯ−である。重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸で封止されている場合、前記モノカルボン酸は脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、モノカルボン酸残基が炭素数２２以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがより好ましく、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがさらに好ましい。また、炭素数２以上の脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
前記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５より大きく７．０以下であり、重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸残基で封止されている重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端を封止しているモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、重縮合エステルの加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することが可能である。
すなわち、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、モノカルボン酸が炭素数２〜２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることがさらに好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。
封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
前記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止が好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基（アセチル残基と称する場合がある）となることが最も好ましい。
前記重縮合エステルの両末端を封止した場合は、常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となり、また湿度安定性、偏光板耐久性に優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
【００６１】
下記表５に前記重縮合エステルの具体例Ｊ−１〜Ｊ−３９を記すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６２】
【表５】
【００６３】
【表６】
【００６４】
【表７】
【００６５】
上記表５〜７中の略称は、それぞれ以下の化合物を表す。ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２，６−ＮＰＡ：２，６−ナフタレンジカルボン酸。
【００６６】
前記重縮合エステルの合成は、常法によりジオールとジカルボン酸とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、前記重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【００６７】
これらの可塑剤の使用量は、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部であることが好ましい。１質量部以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また２０質量部以下であれば、ブリードアウトも発生しにくい。さらに好ましい使用量は２〜１５質量部であり、特に好ましくは５〜１５質量部である。
【００６８】
これらの可塑剤をセルロースアシレートフィルムに添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時セルロースアシレートと混合してもよい。
【００６９】
＜１−３：その他の添加剤＞
前記セルロースアシレートフィルム中には紫外線吸収剤；酸化防止剤；マット剤などの添加剤を加えることもできる。
【００７０】
（酸化防止剤）
本発明においてはセルロースアシレートフィルムに公知の酸化防止剤、例えば、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、４、４’−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１、１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２、２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などのフェノール系あるいはヒドロキノン系酸化防止剤を添加することができる。さらに、トリス（４−メトキシ−３、５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２、４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ビス（２、４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防止剤をすることが好ましい。酸化防止剤の添加量は、セルロース系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜５．０質量部を添加することが好ましい。
【００７１】
（紫外線吸収剤）
本発明においてはセルロースアシレートフィルムに、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤を加えてもよい。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばヒンダードフェノール系化合物、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。ヒンダードフェノール系化合物の例としては、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ、Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１、３、５−トリメチル−２、４、６−トリス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系化合物の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２、２−メチレンビス（４−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、（２、４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１、３、５−トリアジン、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ、Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１、３、５−トリメチル−２、４、６−トリス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、２（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕などが挙げられる。これらの紫外線防止剤の添加量は、光学フィルム全体中に質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍがさらに好ましい。
【００７２】
（マット剤）
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムすべり性、及び安定製造の観点からマット剤を加えてもよい。前記マット剤は、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。
前記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物（例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。前記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。前記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。
前記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００７３】
これらのマット剤をセルロースアシレート溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望のセルロースアシレート溶液を得ることができれば問題ない。例えば、セルロースアシレートと溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、セルロースアシレートと溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開２００３−０５３７５２号公報には、セルロースアシレートフィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Ｌが、主原料配管内径ｄの５倍以下とする事で、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。さらに好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離（Ｌ）が、供給ノズル先端開口部の内径（ｄ）の１０倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器又は動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。さらに具体的には、セルロースアシレートフィルム主原料ドープ／インライン添加液の流量比は、１０／１〜５００／１、好ましくは５０／１〜２００／１であることが開示されている。さらに、添加剤ブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開２００３−０１４９３３号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解又は分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。
【００７４】
前記セルロースアシレートフィルムにおいて、前記マット剤は、多量に添加しなければフィルムのヘイズが大きくならず、実際に液晶表示装置に使用した場合、コントラストの低下、輝点の発生等の不都合が生じにくい。また、少なすぎなければ耐擦傷性を実現することができる。これらの観点から０．０１〜５．０質量％の割合で含めることが好ましく、０．０３〜３．０質量％の割合で含めることがより好ましく、０．０５〜１．０質量％の割合で含めることが特に好ましい。
【００７５】
（フィルムの層構造）
前記セルロースアシレートフィルムは、単層であっても、２層以上の積層体であってもよい。
前記セルロースアシレートフィルムが２層以上の積層体である場合は、コア層と該コア層の少なくとも一方の表面上に少なくとも１層以上のスキン層が積層された積層体であることが好ましい。該積層体は、２層構造又は３層構造であることがより好ましく、３層構造であることが好ましい。３層構造の場合は、本発明のフィルムが溶液製膜で製造する際に前記金属支持体と接する層（以下、支持体面や、スキンＢ層とも言う）と、前記金属支持体とは逆側の空気界面の層（以下、空気面や、スキンＡ層とも言う）と、その間に挟まれた１層のコア層を有することが好ましい。すなわち、本発明のフィルムはスキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造であることが好ましい。
【００７６】
（ヘイズ）
前記セルロースアシレートフィルムは、ヘイズが０．２０％未満であることが好ましく、０．１５％未満であることがより好ましく、０．１０％未満であることが特に好ましい。ヘイズを０．２％未満とすることにより、液晶表示装置に組み込んだ際のコントラスト比を改善することができる。また、フィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点もある。
【００７７】
（膜厚）
前記セルロースアシレートフィルムは、膜厚が１０〜１００μｍであることが好ましく、１０〜６０μｍであることがより好ましく、１０〜３５μｍであることがさらに好ましい。１０μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が確保でき、また、３５μｍ以下とすることにより、湿度変化に対応しやすくすることができる。
また、前記セルロースアシレートフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、前記コア層の膜厚は５〜７０μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、５〜３０μｍであることが特に好ましい。本発明のフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、フィルム両面の表面層（スキンＡ層及びスキンＢ層）の膜厚がともに０．５〜２０μｍであることがより好ましく、０．５〜１０μｍであることが特に好ましく、０．５〜３μｍであることがより特に好ましい。
【００７８】
（フィルム幅）
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルム幅が７００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２８００ｍｍであることがより好ましく、１４００〜２５００ｍｍであることが特に好ましい。
【００７９】
＜１−４：セルロースアシレートフィルムの製造方法＞
以下、本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムの製造方法について詳細に説明する。
【００８０】
前記セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造されることが好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の公報を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等の各公報を参考にすることができる。
【００８１】
（流延方法）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。またここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
【００８２】
《共流延》
前記セルロースアシレートフィルムの形成においては共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法を用いることが好ましく、特に同時共流延法を用いることが、安定製造及び生産コスト低減の観点から特に好ましい。
共流延法及び逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用のセルロースアセテート溶液（ドープ）を調製する。共流延法（重層同時流延）は、流延用支持体（バンド又はドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でも良い）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。図１に、共流延ギーサ３を用い、流延用支持体４の上に表層用ドープ１とコア層用ドープ２を３層同時に押出して流延する状態を断面図で示した。
【００８３】
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要に応じ第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。塗布法は、一般的には、コア層のフィルムを溶液製膜法によりフィルムに成形し、表層に塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、片面ずつ又は両面同時にフィルムに塗布液を塗布・乾燥して積層構造のフィルムを成形する方法である。
【００８４】
前記セルロースアシレートフィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基又は２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるドープ（樹脂溶液）の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
また、前記金属支持体の材質については特に制限はないが、ＳＵＳ製（例えば、ＳＵＳ ３１６）であることがより好ましい。
【００８５】
（延伸処理）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法では、製膜された延伸する工程を含むことが好ましい。前述の通り、本発明の光学補償フィルムは波長分散特性も改善されていることが好ましいが、延伸処理によってこのような光学性能を付与することが可能となり、さらに前記セルロースアシレートフィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。前記セルロースアシレートフィルムの延伸方向はフィルム搬送方向と搬送方向に直交する方向（巾方向）のいずれでも好ましいが、フィルム搬送方向に直交する方向（幅方向）であることが、後に続く該フィルムを用いた偏光板加工プロセスの観点から特に好ましい。
【００８６】
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【００８７】
前記セルロースアシレートフィルムの延伸倍率は、５％以上２００％以下が好ましく、１０％以上１００％以下がさらに好ましく、２０％以上５０％以下が特に好ましい。
【００８８】
前記セルロースアシレートフィルムを偏光子の保護膜として使用する場合には、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸と本発明の光学フィルムの面内の遅相軸を平行に配置することが好ましい。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状の前記セルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよいが、本発明の製造方法では残留溶媒を含んだ状態で延伸を行うため、製膜工程の途中で延伸することが好ましい。
【００８９】
（乾燥）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法では、前記セルロースアシレートフィルムを乾燥する工程と、乾燥後の本発明の光学フィルムをＴｇ−１０℃以上の温度で延伸する工程とを含むことが、レターデーション発現性の観点から好ましい。
【００９０】
前記セルロースアシレートフィルムの製造に係わる、金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラム又はベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム又はベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【００９１】
（剥離）
前記セルロースアシレートフィルムの製造方法は、前記ドープ膜を前記金属支持体から剥ぎ取る工程を含むことが好ましい。前記セルロースアシレートフィルムの製造方法における剥離の方法については特に制限はなく、公知の方法を用いた場合に剥離性を改善することができる。
【００９２】
フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【００９３】
以上のようにして得られた、前記セルロースアシレートフィルムの長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【００９４】
一般的に、大画面表示装置において、斜め方向のコントラストの低下及び色味付きが顕著となるので、前記セルロースアシレートフィルムは、特に大画面液晶表示装置に用いるのに適している。大画面用液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる場合は、例えば、フィルム幅を１４７０ｍｍ以上として成形するのが好ましい。また、本発明の光学フィルムには、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様のフィルムのみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様のフィルムも含まれる。後者の態様の光学フィルムは、偏光板保護フィルムとしてその状態で保管・搬送等され、実際に液晶表示装置に組み込む際や偏光子等と貼り合わされる際に、所望の大きさに切断されて用いられる。また、同様に長尺状に作製されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子等と、長尺状のまま貼り合わされた後に、実際に液晶表示装置に組み込む際に、所望の大きさに切断されて用いられる。ロール状に巻き上げられた光学補償フィルムの一態様としては、ロール長が２５００ｍ以上のロール状に巻き上げられた態様が挙げられる。
【００９５】
２．活性エネルギー線硬化層
本発明の光学フィルムは、前記セルロースアシレートフィルム上に積層された活性エネルギー線硬化層を有し、該活性エネルギー線硬化層はヒンダードアミン系化合物を含有することを特徴とする。本明細書中、活性エネルギー線硬化層とは、活性エネルギー線によって硬化され得る樹脂（例えば、バインダー）を含み、該樹脂が活性エネルギー線によって硬化された層のことを言う。
以下、前記活性エネルギー線硬化層について説明する。
【００９６】
＜２−１：活性エネルギー線硬化層の組成＞
本発明の光学フィルムは、前記ヒンダードアミン系化合物が、前記活性エネルギー線硬化層中に含まれている。
具体的には、前記ヒンダードアミン系化合物が、前記活性エネルギー線硬化層を構成する樹脂（バインダー）１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部含まれていることが好ましく、０．００５〜５質量部含まれていることがより好ましく、０．０１〜２質量部含まれていることが特に好ましい。
【００９７】
その他、前記活性エネルギー線硬化層には本発明の趣旨に反しない限りにおいて、添加剤を添加してもよい。
【００９８】
（ヒンダードアミン系化合物）
ヒンダードアミン系化合物は、窒素原子近傍にかさ高い有機基（例えば、かさ高い分岐アルキル基）を有する構造である。これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、又はそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。このような化合物には、以下の一般式（２）のものが含まれる。
【００９９】
【化９】
【０１００】
上式中、Ｒ１及びＲ２は、水素原子又は置換基である。ヒンダードアミン系化合物の具体例には、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（４−ｔ−ブチル−２−ブテニル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−エチル−４−サリチロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル−β（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１−ベンジル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニルマレイネート（ｍａｌｅｉｎａｔｅ）、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アジペート、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１−アリル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−フタレート、１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル−アセテート、トリメリト酸−トリ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）エステル、１−アクリロイル−４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ジブチル−マロン酸−ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジベンジル−マロン酸−ジ−（１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジメチル−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オキシ）−シラン，トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフィット、トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフェート，Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアミン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアセトアミド、１−アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセトアミド）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン、４−ベンジルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ′−ジブチル−アジパミド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−（２−ヒドロキシプロピレン）、Ｎ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｐ−キシリレン−ジアミン、４−（ビス−２−ヒドロキシエチル）−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−メタクリルアミド−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、α−シアノ−β−メチル−β−［Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）］−アミノ−アクリル酸メチルエステルなどが挙げられる。
【０１０１】
更にＮ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ′″−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物（ＢＡＳＦ社製 ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ）、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕（ＢＡＳＦ社製 ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ＦＤＬ）、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量ＨＡＬＳなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物などで、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１０２】
好ましいヒンダードアミン系化合物の例には、以下のＨＡＬＳ−１）及びＨＡＬＳ−２）が含まれる。ｎは繰り返し単位数を表す。
【０１０３】
【化１０】
【０１０４】
上記具体例の中でも、ＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（ＣＡＳ−Ｎｏ． １９２２６８−６４−７）、及びＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ（ＣＡＳ−Ｎｏ．７１８７８−１９−８）、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３（ＣＡＳ−Ｎｏ．１２９７５７−６７−１）、ＴＩＮＵＶＩＮ １５２（ＣＡＳ−Ｎｏ．１９１７４３−７５−６）、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ（ＣＡＳ−Ｎｏ．５２８２９−０７−９）、サンケミカル株式会社製サイアソーブＵＶ−３３４６（ＣＡＳ−Ｎｏ．８２５４１−４８−７）、同サイアソーブＵＶ−３５２９（ＣＡＳ−Ｎｏ．１９３０９８−４０−７）は市販されており入手性に優れるので好適である。
【０１０５】
なお、前記ヒンダードアミン系化合物は、上述のように商業的に入手してもよいが、合成により製造したものを用いてもよい。前記ヒンダードアミン系化合物の合成方法としては特に制限はなく、通常の有機合成における手法により合成可能である。また、生成方法としては、蒸留、再結晶、再沈、ろ過剤・吸着剤を用いる方法を適宜使用することができる。さらに、通常市販される安価に入手可能なものは前記ヒンダードアミン系化合物単独ではなく、混合物であることもあるが、本発明ではいずれの態様であっても商業的に入手してものを、製造方法、組成、融点、酸価等によらず利用することができる。
【０１０６】
本発明に用いられる前記ヒンダードアミン系化合物は、低分子量のものであっても、繰り返し単位を有するポリマーであってもよいが、活性エネルギー線硬化層とセルロースアシレートフィルムとの界面近傍にヒンダードアミン系化合物を偏在させるためには高分子量の方が好ましい。一方、分子量が高すぎるとセルロースアシレートとの相溶性が不足し、フィルムのヘイズが高くなってしまう。
前記ヒンダードアミン系化合物は、分子量が３００〜１０００００であることが好ましく、７００〜５００００であることがより好ましく、２０００〜３００００であることが特に好ましい。
【０１０７】
また、本発明に用いられる前記ヒンダードアミン系化合物は、前記ヒンダードアミン系化合物が、ケトン系溶媒に０．０１質量％以上溶解することが好ましい。このような前記ヒンダードアミン系化合物を用いることにより、本発明の光学フィルムを製造するときに前記セルロースアシレートフィルムに添加した前記ヒンダードアミン系化合物が、後述する活性エネルギー線硬化層を形成するときに好ましく用いられるケトン系溶媒に溶解して移動し、最終的に前記活性エネルギー線硬化層に前記ヒンダードアミン系化合物が含まれることとなり、好ましい。
なお、前記ケトン系溶媒の好ましい態様については、活性エネルギー線硬化層の説明において後述する。
【０１０８】
＜２−２：活性エネルギー線硬化層の種類＞
本発明の光学フィルムにおける前記活性エネルギー線硬化層は、前方散乱、アンチグレア（防眩）、ガスバリア、滑り、帯電防止、下塗り、ハードコート、反射防止、保護等の機能を有することが好ましい。すなわち、前記活性エネルギー線硬化層は、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層、ハードコート層、反射防止層又は保護層等の機能層であることが好ましい。
前記活性エネルギー線硬化層は、反射防止層又はハードコート層であることがより好ましく、ハードコート層であることが特に好ましい。
また、これらの機能層は、活性エネルギー線硬化層以外の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいはその他の視野角補償フィルムにおける光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。
これらの活性エネルギー線硬化層は、本発明の光学フィルムにおいて少なくとも一方の表面に設けられていることが好ましい。また、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして偏光子と組み合わせて偏光板を構成するときには、偏光子側及び偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０１０９】
以下、本発明に活性エネルギー線硬化層として用いられる機能層について、説明する。
なお、本発明の光学フィルムは少なくとも一層の活性エネルギー線硬化層を前記セルロースアシレートフィルム上に有していることを特徴とする。本発明の光学フィルムは、活性エネルギー線硬化性である後述の各機能層を有し、さらにその他の活性エネルギー線硬化性ではない後述の各機能層を有していてもよい。また、本発明の光学フィルムにおいて、活性エネルギー線硬化層は１層のみ設けられていても、複数層設けられていてもよい。また、複数の各活性エネルギー線硬化層は同一であっても、異なっていてもよい。
【０１１０】
（１）ハードコート層
本発明の光学フィルムは耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けることが好ましい。
ハードコート層の膜厚は、０．２〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜５０μｍであることがより好ましく、１〜２０μｍであることが特に好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１１１】
ハードコート層を形成する材料（バインダー）としては、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。
前記エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。
また、前記エチレン性不飽和基を含む化合物の市販化合物としては、ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、ビスコート３６０（大阪有機化学工業（株）社製）、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１１２】
また、前記開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０１１３】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、光拡散性の付与、本発明のハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、１ｎｍないし２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０１１４】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０１１５】
ハードコート層は、光及び／又は熱による硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。
さらに、加水分解性官能基含有の有機金属化合物をさらに用いてもよい。前記加水分解性官能基含有の有機金属化合物としては有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
その他、ハードコート層には、重合開始剤、レベリング剤を添加してもよく、いずれも公知の物を採用することができる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ２０００／４６６１７号公報等記載のものを好ましく使用することができる。
【０１１６】
（２）反射防止層
本発明の光学フィルムは、反射防止層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
前記反射防止層は、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度の層、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下の層のいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号などに記載された反射防止層も好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０１１７】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０１１８】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０１１９】
含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０１２０】
低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１２１】
中屈折率層及び高屈折率層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用する（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０１２２】
マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０１２３】
反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１２４】
（３）前方散乱層
本発明の光学フィルムは、前方散乱層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０１２５】
（４）アンチグレア層
本発明の光学フィルムは、アンチグレア層を活性エネルギー線硬化層として前記セルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０１２６】
＜２−３：活性エネルギー線硬化層の製造方法＞
前記活性エネルギー線硬化層の形成方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。その中でも、前記活性エネルギー線硬化層を形成する材料（バインダー）を有機溶媒に溶解させたものを、前記セルロースアシレートフィルム上に塗設して形成することが好ましい。
前記有機溶媒としては、公知の有機溶媒を単独又は複数を混合して用いることができる。その中でも、本発明では、ケトン系溶媒、酢酸エステル系溶媒、炭化水素系溶媒を用いることが好ましい。
前記溶媒としては、例えば、ＭｉＢＫ（メチルイソブチルケトン）、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、酢酸エチル、トルエンなどを挙げることができる。
【０１２７】
前記活性エネルギー線硬化層を塗工する具体的に方法についても特に制限はないが、マイクログラビア塗工方式を好ましく用いることができる。また、塗布時の搬送速度についても特に制限はなく、搬送速度１〜１００ｍ／分の条件で塗布することが好ましい。塗布後の乾燥についても特に制限はなく、乾燥温度は２５〜１４０℃で３０〜１０００秒乾燥することが好ましい。
前記活性エネルギー線硬化層は、活性エネルギー線の中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
活性エネルギー線を照射するときは、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら行うことが好ましい。活性エネルギー線の強度等についても特に制限はないが、例えば紫外線を照射する場合は、照度１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することが好ましい。
【０１２８】
［偏光板］
また、本発明は、本発明の光学フィルムを少なくとも一枚用いることを特徴とする偏光板にも関する。
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の片面に本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして有することが好ましい。偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、本発明の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板であることがより好ましい。
本発明の光学補償フィルムと同様、本発明の偏光板の態様は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、上記した通り、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。
本発明の偏光板の具体的な構成については、特に制限はなく公知の構成を採用できるが、例えば、特開２００８−２６２１６１号公報の図６に記載の構成を採用することができる。
【０１２９】
（直交透過率変化）
本明細書において、偏光板の直交透過率ＣＴは、ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用いて測定した。測定では、４１０ｎｍで測定し、１０回測定の平均値を用いた。
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行うことができる。ガラスの上に偏光板を貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を本発明の偏光板の直交透過率とする。
本発明の偏光板は、偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。
本発明の偏光板は、６０℃、相対湿度９５％に１０００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）が１．４０％以下であることが好ましい。
６０℃、相対湿度９５％に１０００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量（％）は、１．００％以下であることがより好ましく、０．５０％以下であることが特に好ましい。 ここで、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値である。
上記直交透過率の変化量の範囲を満たせば、偏光板の高温高湿下で長時間使用中あるいは保管中の安定性が確保でき、好ましい。
【０１３０】
［液晶表示装置］
本発明は、本発明の光学フィルム又は本発明の偏光板を有する液晶表示装置にも関する。
本発明の液晶表示装置は液晶セルと該液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板の少なくとも一方が本発明の偏光板であることを特徴とするＩＰＳ、ＯＣＢ又はＶＡモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明の液晶表示装置の具体的な構成としては特に制限はなく公知の構成を採用できる。また、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に記載の構成も好ましく採用することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１３２】
［実施例１０１］
（１）セルロースアシレートフィルムの製膜
＜セルロースアシレートの調製＞
アセチル置換度２．８７のセルロースアシレートを調製した。これは、触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
【０１３３】
＜表層用ドープ（溶液）１０１の調製＞
（セルロースアシレート溶液１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
スクロースベンゾエート（可塑剤） ９．０質量部
イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００（可塑剤） ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３５３．９質量部
メタノール（第２溶媒） ８９．６質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ４．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、上記可塑剤として使用したスクロースベンゾエートは、ベンゾイル基の置換度が８置換体１５モル％以下、７、６置換体合計が７０モル％以下、５〜３置換体合計が４０モル％以下である平均置換度５〜６のスクロースベンゾエートを用いた。
【０１３４】
（マット剤溶液２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ６９．３質量部
メタノール（第２溶媒） １７．５質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ０．９質量部
前記セルロースアシレート溶液１ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３５】
上記マット剤溶液２の１．３質量部とセルロースアシレート溶液１の９８．７質量部を、インラインミキサーを用いて混合し、表層用溶液１０１を調製した。
【０１３６】
＜コア層用ドープ１０１の調製＞
（セルロースアシレート溶液２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、コア層用ドープ１０１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
スクロースベンゾエート（可塑剤） ９．０質量部
イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００（可塑剤） ３．０質量部
下記紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９７．７質量部
メタノール（第２溶媒） ７５．４質量部
ｎ−ブタノール（第３溶媒） ３．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記可塑剤のスクロースベンゾエートは、セルロースアシレート溶液１で使用したものと同様のものを用いた。
【０１３７】
紫外線吸収剤Ｃ
【０１３８】
【化１１】
【０１３９】
＜流延＞
ドラム流延装置を用い、前記調製したドープ（コア層用ドープ１０１）と、その両側に表層用ドープ１０１とを３層同時にステンレス製の流延支持体（支持体温度−９℃）に流延口から均一に流延した。各層のドープ中の残留溶媒量が略７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、残留溶媒量が３〜５質量％の状態まで、横方向に１．２８倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、実施例１のセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルムの厚みは６０μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
【０１４０】
（２）活性エネルギー線硬化層の製膜
＜ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）の調製＞
各成分を表以下に示す組成で作製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
【０１４１】
ＰＥＴ−３０（バインダー） ２２．９質量部
ビスコート３６０（バインダー） ２２．９質量部
イルガキュア１２７（重合開始剤） １．５質量部
８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）
１質量部
ＭｉＢＫ（溶剤） １９．２質量部
ＭＥＫ ２５質量部
ＦＰ−１３（レベリング剤） ０．１質量部
ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（ヒンダードアミン系化合物）
０．４５８質量部
【０１４２】
上記で使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］；
・ビスコート３６０：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート［大阪有機化学工業（株）社製］；
・８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）：平均粒径８．０μｍ［積水化学（株）製］をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散したＭｉＢＫ分散液）；
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］；
・ＦＰ−１３：特開２００９−０６３９８３号公報［０３４１］に記載のフッ素系表面改質剤（ＭＥＫの１０質量％溶液として溶解した後に使用）
・ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］
なお、上記中、ＭｉＢＫはメチルイソブチルケトンを表し、ＭＥＫはメチルエチルケトンを表し、いずれもケトン系溶媒である。
【０１４３】
＜ハードコート層の形成＞
上記にて製膜したセルロースアシレートフィルムの製膜時に支持体に接していた面（以下支持体面と称す）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の厚みは６μｍであった。
得られたハードコート層つき偏光板保護フィルムを、実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）とした。
【０１４４】
（３）偏光板の作製
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理〕
作製した実施例１０１の偏光板保護フィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）について表面の鹸化処理を行った。
【０１４５】
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した実施例１０１の偏光板保護フィルムにおけるハードコート層とは反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作成した実施例１０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作成した実施例１０１の偏光板保護フィルムの遅相軸とは直交するように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸についても、直交するように配置した。
このようにして実施例１０１の偏光板を作製した。
【０１４６】
［実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３］
〔実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）の作製〕
実施例１０１においてセルロースアシレートに添加する可塑剤の種類及び添加量、フィルム厚み、活性エネルギー線硬化層に添加するヒンダードアミン系化合物の種類及び添加量を表８に記載したとおりに変更した以外は同様にして、実施例１０２〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を製造した。
【０１４７】
なお、下記表８中、可塑剤の添加量は、セルロースアシレート樹脂１００質量部に対する質量部を表す。また、下記表８中、スクロースベンゾエートは、ベンゾイル基の置換度が８置換体１５モル％以下、７、６置換体合計が７０モル％以下、５〜３置換体合計が４０モル％以下である平均置換度５〜６のスクロースベンゾエートを表し、スクロースアセテートイソブチレートは、イーストマン・ケミカル社製ＳＡＩＢ１００を表す。
【０１４８】
【表８】
【０１４９】
（可塑剤Ａ）
【０１５０】
【化１２】
【０１５１】
（可塑剤Ｂ）
前記重縮合エステルＪ−３９
【０１５２】
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理と偏光板の作製〕
実施例１０２〜１１８の光学フィルム（偏光板保護フィルム）及び比較例２０１〜２０３の偏光板保護フィルムについても、それぞれ実施例１０１と同様にして鹸化処理と偏光板の作製を行い、各実施例及び比較例の偏光板を作製した。
【０１５３】
［評価］
＜密着性の評価＞
まず、上記で作製した各実施例及び比較例のハードコート層つき偏光板保護フィルムに対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に１００時間光を照射した。
次にハードコート層つき偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
Ｄ：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。
得られた結果を上記表８に記載した。
＜鉛筆硬度の評価＞
ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価をおこなった。偏光板保護フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定するＨ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にて以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
ｎ＝５の評価において傷なし〜傷１つ：ＯＫ
ｎ＝５の評価において傷が２つ以上 ：ＮＧ
【０１５４】
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各実施例及び比較例の偏光板について、波長４１０ｎｍにおける偏光子の直交透過率を本明細書に記載した方法で測定した。
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間保存した後について同様の手法で直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光子耐久性として上記表８にその結果を記載した。
【０１５５】
上記表８の結果から明らかなように、セルロースアシレートフィルムに可塑剤を含有させない比較例２０１、本発明に係る可塑剤以外の可塑剤を含有させた比較例２０２はいずれも、高温高湿経時後に偏光子の劣化が起こり偏光子耐久性に劣ることがわかる。また、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させない比較例２０３は、密着性に劣ることがわかる。
一方、本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた実施例１０１〜１１８の偏光板はいずれも、高温高湿経時後偏光子の劣化が起き難く好ましいことがわかった。また、偏光板保護フィルムとして用いた本発明の光学フィルムは長時間光を照射しても、ハードコート層とセルロースアシレートフィルム間の密着性に優れ剥離が起き難く、かつ耐擦傷性が高く好ましいことがわかった。
【０１５６】
［実施例３０１］
〔液晶表示装置の作製〕
市販の液晶テレビ（ＳＯＮＹ（株）のブラビアＪ５０００）の視認者側の偏光板をはがし、実施例１０１の偏光板保護フィルムを用いた本発明の偏光板を、実施例１０１の偏光板保護フィルムが液晶セル側となるように、粘着剤を介して貼り付けた。視認者側の偏光板の透過軸が上下方向に配置とした。また、比較例２０１〜２０３の偏光板保護フィルムを用いた以外は同様にして、比較例の液晶表示装置を作製した。このようにして作製した本発明の液晶表示装置は、各比較例の偏光板保護フィルムを使用した液晶表示装置に対して、屋外で直射日光のあたる環境下で長時間使用しても、表示性能の劣化が小さく、好ましかった。
【０１５７】
［実施例４０１］
（１）セルロースアシレートフィルムの製膜
（セルロースアシレート溶液４１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液４１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液４１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・可塑剤（Ａ−２） ６．５質量部
・可塑剤（Ｂ−２） １．５質量部
・紫外線吸収剤Ｄ １．５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１２．２質量部
・エタノール（第２溶媒） ３５．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５８】
【化１３】
【０１５９】
（マット剤溶液４２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液４２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液４２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７９．９質量部
エタノール（第２溶媒） ６．９質量部
前記セルロースアシレート溶液４１ ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６０】
＜流延＞
上記マット剤溶液４２の１．３質量部と、セルロースアシレート溶液４１を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合した。バンド流延装置を用い、前記調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態で、１２０℃の温度下で幅方向に１．２０倍（２０％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、実施例４０１のセルロースアシレートフィルムを得た。得られたセルロースアシレートフィルムの厚みは３３μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
（２）活性エネルギー線硬化層の製膜
＜ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）の調製＞
各成分を表以下に示す組成で作製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
【０１６１】
ＰＥＴ−３０（バインダー） ２２．９質量部
ビスコート３６０（バインダー） ２２．９質量部
イルガキュア１２７（重合開始剤） １．５質量部
８μｍ架橋アクリル・スチレン微粒子３０％ＭｉＢＫ分散液（光拡散性粒子）
１質量部
ＭｉＢＫ（溶剤） １９．２質量部
ＭＥＫ ２５質量部
ＦＰ−１３（レベリング剤） ０．１質量部
ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ（ヒンダードアミン系化合物）
０．６８７質量部
【０１６２】
上記で使用した化合物について前掲したもの以外は、以下に示す。
・ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］
【０１６３】
＜ハードコート層の形成＞
上記にて製膜したセルロースアシレートフィルムの製膜時に支持体に接していた面（以下支持体面と称す）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。８０℃で１２０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の厚みは３μｍであった。
得られたハードコート層つき偏光板保護フィルムを、実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）とした。
【０１６４】
（３）偏光板の作製
〔偏光板保護フィルムの鹸化処理〕
作製した実施例４０１の偏光板保護フィルムを、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）について表面の鹸化処理を行った。
【０１６５】
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した実施例４０１の偏光板保護フィルムにおけるハードコート層とは反対側の面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士フイルム（株）製）に同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作成した実施例４０１の光学フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に鹸化処理後のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作成した実施例４０１の偏光板保護フィルムの遅相軸とは直交するように配置した。また、偏光子の透過軸と市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸についても、直交するように配置した。
このようにして実施例４０１の偏光板を作製した。
【０１６６】
［比較例４０２〜４０４］
実施例４０１の偏光板作製において、偏光板保護フィルムの厚みを後記の表９の値に変更した以外は実施例４０１と同様にして、実施例４０２〜４０４の偏光板を作製した。
【０１６７】
［比較例４１１］
実施例４０１において、ハードコート層用塗布液（ＨＣ−１）にＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］を添加しなかったこと以外は実施例４０１と同様にして、比較例の偏光板４１１を作製した。
【０１６８】
［比較例４１２］
比較例４１１において、セルロースアシレートフィルム中に、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤＬ［ＢＡＳＦ社製ヒンダードアミン系化合物］をセルロースアシレート１００質量部に対して１．５質量部添加したこと以外は比較例４１１と同様にして、セルロースアシレートフィルム４１２を作製した。
【０１６９】
［比較例４１３〜４１５］
比較例４１２において、セルロースアシレートフィルムの厚みを後記の表９の値に変更した以外は比較例４１２と同様にして、セルロースアシレートフィルム４１３〜４１５を作製した。
【０１７０】
［実施例５０１］
（アクリル溶液５１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、アクリル溶液５１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリル溶液５１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・三菱レイヨン（株）製ダイヤナールＢＲ８８ １００．０質量部
・スクロースベンゾエート ７．０質量部
・紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ３９３．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ５９．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７１】
（セルロースアシレート溶液５２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液５２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液５２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８６、重合度３５０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・スクロースベンゾエート ７．０質量部
・前記紫外線吸収剤Ｃ ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４１４．０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６２．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、実施例５０１で使用したスクロースベンゾエートは、実施例１０１と同様のものを用いた。
【０１７２】
＜流延＞
前記アクリル溶液５１及びセルロースアシレート溶液５２を用いて、３層共流延が可能な流延ギーサーを通して、金属支持体上に、金属支持体上に近い側から、アクリル層／セルロースアシレート層／アクリル層＝３０μｍ／１０μｍ／３０μｍの層構成となるように流延した。金属支持体上にある間、ドープを４０℃の乾燥風により乾燥してフィルムを形成した後に剥ぎ取り、フィルム両端をピンで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１０５℃の乾燥風で５分間乾燥した。ピンを外した後、更に１３０℃で２０分間乾燥し、積層フィルムの状態で巻き取った。
このようにして製造した積層フィルムから、まず上層のアクリルフィルムを剥離して取り除いた後に、実施例４０１と同様の方法により、セルロースアシレート層上にハードコート層を塗布することにより活性エネルギー線硬化層を製膜した。次に、下層のアクリルフィルムを剥離し、実施例４０１と同様の方法によりけん化処理および貼り合せをおこない、偏光板５０１を作製した。
【０１７３】
［実施例５０２〜５０３］
実施例５０１の偏光板の作製において、偏光板保護フィルムの厚みを下記表９に記載の値に変更した以外は同様にして、実施例５０２及び５０３の偏光板を製造した。
【０１７４】
［評価］
＜密着性の評価＞
まず、上記で作製した各実施例及び比較例のハードコート層つき偏光板に対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に１９６時間光を照射した。
次にハードコート層つき偏光板を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記４段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１〜２升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において３〜１０升の剥がれが認められた（許容範囲内）。
Ｄ：１００升において１１升以上の剥がれが認められた。
得られた結果を上記表９に記載した。
【０１７５】
＜鉛筆硬度の評価＞
実施例１０１〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）についてと同様の方法で評価した。
【０１７６】
（偏光板耐久性の評価）
実施例１０１〜１１８及び比較例２０１〜２０３の光学フィルム（偏光板保護フィルム）についてと同様の方法で評価した。
下記表９に結果を記載した。
【０１７７】
【表９】
【０１７８】
上記表９の結果から明らかなように、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させた本発明の偏光板（実施例４０１〜４０４、５０１〜５０３）は偏光板保護フィルムの膜厚が薄くなっても良好な密着性を維持できることがわかる。これに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させない比較例４１１〜４１５は密着性が劣ることがわかる。とりわけ、偏光板保護フィルムの膜厚が薄い場合、特開２００６−１２３５１３号公報に記載のような偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）中にヒンダードアミン系化合物を添加する方法では十分な密着改良効果が得られにくいことがわかる。また、同じ膜厚で比較した場合、前記公報に記載のような偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）中にヒンダードアミン系化合物を添加する方法では、６０℃相対湿度９０％の環境下で１０００時間保存後に偏光性能が大幅に劣化するのに対し、活性エネルギー線硬化層にヒンダードアミン系化合物を含有させた本発明の偏光板（実施例４０１〜４０４、５０１〜５０３）は偏光性能の劣化が小さく好ましいことがわかる。
【符号の説明】
【０１７９】
１ 表層用ドープ
２ コア層用ドープ
３ 共流延ギーサ
４ 流延用支持体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
【請求項２】
前記セルロースアシレートフィルムの厚みが１０μｍ以上３５μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記セルロースアシレートフィルムにおける前記可塑剤の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化層がバインダーを含有し、前記ヒンダードアミン系化合物の含有量が、前記バインダー１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項５に記載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶表示装置。
【請求項１】
セルロースアシレートフィルムと活性エネルギー線硬化層とを有し、
前記セルロースアシレートフィルムが、炭水化物誘導体、多価アルコールエステル及び重縮合エステルの中から選ばれる少なくとも１種の可塑剤を含有し、かつ
前記活性エネルギー線硬化層がヒンダードアミン系化合物を含有する、光学フィルム。
【請求項２】
前記セルロースアシレートフィルムの厚みが１０μｍ以上３５μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記セルロースアシレートフィルムにおける前記可塑剤の含有量が、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜２０質量部である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化層がバインダーを含有し、前記ヒンダードアミン系化合物の含有量が、前記バインダー１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
偏光子層と少なくとも１枚の光学フィルムを含み、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルムを活性エネルギー線硬化層とは反対側の面が前記偏光子層に近くなるように貼りあわされた偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項５に記載の偏光板を少なくとも１枚有する液晶表示装置。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−２３４１５９（Ｐ２０１２−２３４１５９Ａ）
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−８７７６９（Ｐ２０１２−８７７６９）
【出願日】平成２４年４月６日（２０１２．４．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月２９日（２０１２．１１．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年４月６日（２０１２．４．６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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