光学フィルム、光学フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
【課題】透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿下における帯電防止性が良好である光学フィルムを提供すること。
【解決手段】平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
【解決手段】平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。より詳しくは、セルロースアシレート基材上に帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムであって、帯電防止性、硬度、及び高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性に優れる光学フィルム、及び上述の光学フィルムを含む反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、破損や傷付きを防止し、表示面への埃等の付着による視認性低下や静電気による表示装置の破壊を防止するために、透明で帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを設けることが好適である。特に、近年の画像表示装置の高品位化、大サイズ化、薄層化、長寿命化等に対応し、適用される光学フィルムに対してもハードコート性、帯電防止性に加えてその他の性能も良好で、かつ高耐久性であることが要求されている。
【０００３】
特に液晶表示装置では、ハードコート性と帯電防止性を両立した光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる構成が好適であり、この偏光板形態での偏光子との密着性を良好に保つため、光学フィルムの基材としてはセルロースアシレートフィルムを用いることが一般的である。
【０００４】
上記の観点からセルロースアシレートフィルムには、高い透明性（低ヘイズ）、良好な透湿性、良好な光学性能が必要であり、従来は特定の可塑剤を添加することで性能を満たすように調整していた。しかしながら、可塑剤として代表的なトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）などのリン酸エステル類は、セルロースアシレートフィルムを製膜するときに乾燥工程で揮散してしまい、製造ラインに付着した汚れがフィルム上に落下し面状故障などの問題を引き起こしていた。また、この問題に加え、環境に優しい偏光板保護フィルムおよびその製造方法を提供する観点からも、セルロースアシレートフィルムの可塑剤としてリン酸エステルを用いないことが求められている。
【０００５】
光学フィルム用セルロースフィルムに用いられる可塑剤の用途においても糖類およびその誘導体は適している事が知られてきており、糖類およびその誘導体の中でも糖エステル化合物を用いた例が知られている（特許文献１、特許文献２）。
【０００６】
また、帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを得るためには、透明基材上に、帯電防止剤として４級アンモニウム塩基含有ポリマーなどのイオン伝導性化合物と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用いて帯電防止性ハードコート層を形成することが知られている（例えば特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２４７７１７号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／０３１４６４号
【特許文献３】特開２００９−２６３５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このような状況のもと、本発明者らがトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）などの従来用いられてきた可塑剤を代替または改良する観点から上記特許文献１及び２に記載された糖エステル化合物について、セルロースアシレートフィルムと組合せたときに得られるフィルムの物性を検討した。しかしながら、特許文献１及び２に記載された高置換度の糖エステル化合物を用いた場合には、高硬度、良好な帯電防止性及び高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性を同時に満たすことができず、さらなる改善が求められることがわかった。
【０００９】
本発明の目的は、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿下における帯電防止性が良好である光学フィルムを提供することにある。また、上述の光学フィルムを用いた良好な性能の反射防止フィルム、偏光板、およびこれを使用した画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らが上記課題を解決することを目的として鋭意研究したところ、帯電防止剤として有機系帯電防止剤と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用い、かつ可塑剤として特定のエステル置換度の範囲である糖エステル化合物を含有するセルロースアシレートフィルム基材を組み合わせて使用することで、透明性、ハードコート性、及び帯電防止性に優れ、かつ高温高湿環境下に曝露おける帯電防止性を改善できる光学フィルムが得られることを見出すに至った。
すなわち、上記課題は、以下の構成の本発明によって解決される。
【００１１】
１．
平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
２．
上記複数の糖エステル化合物全体に対するエステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下である上記１に記載の光学フィルム。
３．
上述の帯電防止性ハードコート層が、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものである上記１又は２に記載の光学フィルム。
４．
上記有機系帯電防止剤が、４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤である上記１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
５．
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤の含有率が、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の質量に対して１〜１２質量％である上記４に記載の光学フィルム。
６．
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下である上記１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
７．
上記塗布組成物を塗布、乾燥した後に硬化させる工程を有する、上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
８．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム上に直接、又は他の層を介して低屈折率層を有する反射防止フィルム。
９．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム又は上記８に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１０．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム、上記８に記載の反射防止フィルム、又は上記９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿下に暴露した後の帯電防止性が良好な光学フィルムを提供することができる。また、本発明の光学フィルムを用いることで、埃等の付着による視認性低下や、静電気による表示装置の破壊を防止し、耐久性に優れた反射防止フィルム、偏光板およびこれを使用した画像表示装置を提供することができる
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１４】
本発明の光学フィルムは、平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムである。
【００１５】
［セルロースアシレートフィルム基材］
本発明の光学フィルムにおけるセルロースアシレートフィルム基材は、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物と、セルロースアシレートとを含み、上述の糖エステル化合物の平均エステル置換度が６０％〜９４％である。
【００１６】
＜セルロースアシレート＞
本発明におけるセルロースアシレートは、アセチル置換度が２．７０以上２．９５未満であることが好ましい。アセチル置換度が２．７以上であると、後述する条件を満たす糖エステル化合物（例えば、特定の置換度のスクロースベンゾエートなど）との相溶性が良好であり、フィルムの透明性が良好となるため好ましい。さらに、透明性に加えて、透湿度や含水率が良好となるため好ましい。一方、置換度が２．９５未満であると光学性能が損なわれないため好ましい。
【００１７】
上記セルロースアシレートのアセチル置換度は、２．７５〜２．９０であることがさらに好ましく、２．８２〜２．８７であることが特に好ましい。なお、総アシル置換度の好ましい範囲も、上記アセチル置換度の好ましい範囲と同様である。
なお、アセチル基を含むアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。
【００１８】
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
上記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を上記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、上記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。
【００１９】
上記セルロースアシレートの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で４００００〜４０００００のものが好ましく、１０００００〜３５００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースアシレートはＭｗ／Ｍｎ比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。
本発明において、セルロースアシレート等の平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載の方法により、その比を計算することができる。
【００２０】
＜糖エステル化合物＞
本発明におけるセルロースアシレートフィルム基材は、平均エステル置換度が６０％〜９４％であるエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物を含有する。
上記糖エステル化合物をセルロースアシレートに添加することによりセルロースアシレートフィルム基材を作製し、上述のフィルム基材上に後述する帯電防止性ハードコート層を設けることで、優れた硬度と帯電防止性を有し、かつ高温高湿下に暴露した後の帯電防止性に優れる光学フィルムとすることができる。本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いることにより、正面コントラストを改良できる。
【００２１】
−糖残基−
上記糖エステル化合物とは、上述の化合物を構成する多糖中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基）の少なくとも１つと、少なくとも１種の置換基とがエステル結合されている化合物のことを言う。すなわち、ここで言う糖エステル化合物には広義の糖誘導体類も含まれ、例えばグルコン酸のような糖残基を構造として含む化合物も含まれる。すなわち、上記糖エステル化合物には、グルコースとカルボン酸のエステル体も、グルコン酸とアルコールのエステル体も含まれる。
上記糖エステル化合物を構成する多糖中の置換可能な基は、ヒドロキシル基であることが好ましい。
【００２２】
上記糖エステル化合物中には、糖エステル化合物を構成する多糖由来の構造（以下、糖残基とも言う）が含まれる。上記糖残基の単糖当たりの構造を、糖エステル化合物の構造単位と言う。上記糖エステル化合物の構造単位は、ピラノース構造単位またはフラノース構造単位を含むことが好ましく、全ての糖残基がピラノース構造単位またはフラノース構造単位であることがより好ましい。また、上記糖エステルが多糖から構成される場合は、ピラノース構造単位またはフラノース構造単位をともに含むことが好ましい。
【００２３】
上記糖エステル化合物の糖残基は、５単糖由来であっても６単糖由来であってもよいが、６単糖由来であることが好ましい。
【００２４】
上記糖エステル化合物中に含まれる構造単位の数は、２〜４であることが好ましく、２〜３であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。すなわち、上記糖エステル化合物を構成する糖が２糖類〜４糖類であることが好ましく、２糖類〜３糖類であることがより好ましく、２糖類であることが特に好ましい。
【００２５】
本発明では、上記糖エステル化合物はヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を２〜４個含む糖エステル化合物であることがより好ましく、ヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を２個含む糖エステル化合物であることがより好ましい。
【００２６】
上記単糖または２〜４個の単糖単位を含む糖類の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、ラクトサミン、ラクチトール、ラクツロース、メリビオース、プリメベロース、ルチノース、シラビオース、スクロース、スクラロース、ツラノース、ビシアノース、セロトリオース、カコトリオース、ゲンチアノース、イソマルトトリオース、イソパノース、マルトトリオース、マンニノトリオース、メレジトース、パノース、プランテオース、ラフィノース、ソラトリオース、ウンベリフェロース、リコテトラオース、マルトテトラオース、スタキオース、バルトペンタオース、ベルバルコース、マルトヘキサオース、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００２７】
好ましくは、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、トレハロース、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、スクラロース、キシリトール、ソルビトールであり、さらに好ましくは、アラビノース、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロースであり、特に好ましくは、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、キシリトール、ソルビトールである。
【００２８】
−置換基の構造−
本発明に用いられる上記糖エステル化合物は、用いられる置換基を含め、下記一般式（１）で表される構造を有することがより好ましい。
一般式（１） （ＯＨ）ｐ−Ｇ−（Ｌ１−Ｒ１１）ｑ（Ｏ−Ｒ１２）ｒ
一般式（１）中、Ｇは糖残基を表し、Ｌ１は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ１３−のいずれか一つを表し、Ｒ１１は水素原子または一価の置換基を表し、Ｒ１２はエステル結合で結合した一価の置換基を表す。ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒは上記Ｇが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しい。Ｒ１３は水素原子又は１価の置換基（好ましくはアルキル基）を表す。
【００２９】
上記Ｇの好ましい範囲は、上記糖残基の好ましい範囲と同様である。
【００３０】
上記Ｌ１は、−Ｏ−または−ＣＯ−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。上記Ｌ１が−Ｏ−である場合は、エーテル結合またはエステル結合由来の連結基であることが特に好ましく、エステル結合由来の連結基であることがより特に好ましい。
また、上記Ｌ１が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３１】
Ｒ１１およびＲ１２の少なくとも一方は芳香環を有することが好ましい。
【００３２】
特に、上記Ｌ１が−Ｏ−である場合（すなわち上記糖エステル化合物中のヒドロキシル基にＲ１１、Ｒ１２が置換している場合）、上記Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリール基、あるいは、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアミノ基の中から選択されることが好ましく、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは置換または無置換のアリール基であることがより好ましく、無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは、無置換のアリール基であることが特に好ましい。
また、上記Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３がそれぞれ複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
上記ｐは０以上の整数を表し、好ましい範囲は後述する単糖ユニット当たりのヒドロキシル基の数の好ましい範囲と同様である。
上記ｒは上記Ｇに含まれるピラノース構造単位またはフラノース構造単位の数よりも大きい数を表すことが好ましい。
上記ｑは０であることが好ましい。
また、ｐ＋ｑ＋ｒは上記Ｇが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しいため、上記ｐ、ｑおよびｒの上限値は上記Ｇの構造に応じて一意に決定される。
【００３４】
上記糖エステル化合物の置換基の好ましい例としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル基、ベンジル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアシル基、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基など）、アミド基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアミド、例えばホルムアミド基、アセトアミド基など）、イミド基（好ましくは炭素数４〜２２、より好ましくは炭素数４〜１２、特に好ましくは炭素数４〜８のアミド基、例えば、スクシイミド基、フタルイミド基など）を挙げることができる。その中でも、アルキル基またはアシル基がより好ましく、メチル基、アセチル基、イソブチリル基、ベンゾイル基がより好ましく、ベンゾイル基およびアセチル基のうち少なくとも一方であることが特に好ましく、ベンゾイル基がより特に好ましい。
【００３５】
上記糖エステル化合物の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から商業的に入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００３６】
上記糖エステル化合物は、数平均分子量が、好ましくは２００〜３５００、より好ましくは２００〜３０００、特に好ましくは２５０〜２０００の範囲が好適である。
【００３７】
以下に、本発明で好ましく用いることができる上記糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の態様に限定されるものではない。
【００３８】
以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。下記表１〜４中に記載した置換度は、各々の構造式のエステル置換可能な置換基において、どのような置換基種類で何個置換されたかを示す。例えば、下記例示化合物１１２においては、置換可能な８個の置換基の内、３つの置換基がベンゾイル基でエステル置換されていることを意味し、例示化合物１１７においては、置換可能な８個の置換基の全置換基がベンゾイル基で置換されていることを意味する。後述する実施例で示すこれら化合物のエステル置換度は各々３７．５％、１００％であり、エステル置換度が異なる複数種の化合物を併用する場合は、各化合物のエステル置換度と含有モル比率（モル分率）を掛けた数値の和を平均エステル置換度としている。
【００３９】
【化１】
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【化２】
【００４３】
【表３】
【００４４】
【化３】
【００４５】
【表４】
【００４６】
上記糖エステル化合物は、セルロースアシレートに対し２〜３０質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがより好ましく、５〜１５質量％含有することが特に好ましい。
【００４７】
（異なるエステル置換度の糖エステル化合物の含有割合）
本発明では、エステル置換度が異なる糖エステル化合物を複数含み、上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度が６０％〜９４％である。糖エステル化合物の平均エステル置換度は、６０％〜８５％であることが好ましく、６５％〜８０％であることがより好ましい。このような範囲に上記糖エステル化合物の平均エステル置換度を制御することで、セルロースアシレートフィルム基材上に後述する帯電防止性ハードコート層を設けた場合に、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性に優れる光学フィルムとすることができる。
【００４８】
本発明では、セルロースアシレートフィルム中に含まれるエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物中、エステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下であることが、セルロースアシレートの透明性の観点から好ましい。より好ましくは、エステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が３０〜７５モル％以下であり、４５〜７５モル％以下が更に好ましい。
【００４９】
上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度は６０％〜９４％であり、６０％〜８５％であることが好ましく、６５％〜８０％であることがより好ましい。上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度を上記範囲に制御することは、上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物中の構造単位当たりのヒドロキシル基の平均の数を対応する範囲に制御することを意味する。上記糖エステル化合物中の構造単位当たりのヒドロキシル基の平均の数を制御することで、高温高湿下に曝露された際の、帯電防止性ハードコート層への糖エステル化合物の移動を抑制し、有機系帯電防止剤との相互作用を抑制することで帯電防止性能の耐久性を改善していると考えられる。また、平均エステル置換度を本発明の範囲とすることで、高い弾性率のセルロースアシレート基材フィルムとすることも可能であり、本発明の光学フィルムは高硬度と耐久性の両立が可能となる。
【００５０】
（異なるエステル置換度の複数の糖エステル化合物を調製する方法）
複数の上記エステル置換度が異なる糖エステル化合物を混合する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。また、複数の上記エステル置換度が異なる糖エステル化合物の混合のタイミングは、例えば溶液製膜法を採用する場合、セルロースアシレートドープに添加する前であってもよく、セルロースアシレートドープに複数の糖エステル化合物を個別に添加してもよい。
【００５１】
＜糖エステル化合物以外のその他の添加剤＞
（１）糖エステル化合物以外の可塑剤
本発明のセルロースアシレートフィルムは、上記糖エステル化合物以外の可塑剤として、多価アルコールエステル系疎水化剤、重縮合エステル系疎水化剤および炭水化物誘導体系疎水化剤の中から選ばれる少なくとも一つの疎水化剤を含むことが好ましい。上記疎水化剤としては、フィルムのガラス転移温度をできるだけ下げずに含水率を低減できるものが好ましい。このような疎水化剤を使用することにより高温高湿下においてセルロースアシレートフィルム中の添加剤が偏光子層へ拡散する現象を抑制でき、偏光子性能の劣化を改良することができる。
【００５２】
（多価アルコールエステル系疎水化剤）
上記多価アルコールは次の一般式（Ａ）で表される。
【００５３】
一般式（Ａ） Ｒ３１−（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒ３１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す）
好ましい上記多価アルコール系疎水化剤の例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【００５４】
中でも上記多価アルコール系疎水化剤としては、炭素数５以上の多価アルコールを用いた多価アルコールエステルが好ましい。特に好ましくは炭素数５〜２０である。
【００５５】
上記多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【００５６】
好ましい上記多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、これに限定されるものではない。
【００５７】
上記脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００５８】
好ましい上記脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。
【００５９】
好ましい上記脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。
【００６０】
好ましい上記芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。
【００６１】
上記多価アルコール系疎水化剤の分子量は特に制限はないが、３００〜３０００であることが好ましく、３５０〜１５００であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００６２】
上記多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、上記多価アルコール中のヒドロキシル基は、全てエステル化してもよいし、一部をヒドロキシル基のままで残してもよい。
【００６３】
以下に、上記多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【００６４】
【化４】
【００６５】
【化５】
【００６６】
【化６】
【００６７】
【化７】
【００６８】
（重縮合エステル系疎水化剤）
上記重縮合エステル系疎水化剤は、少なくとも一種の芳香環を有するジカルボン酸（芳香族ジカルボン酸とも呼ぶ）と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることが好ましい。また、芳香族ジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸との混合物、と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることも好ましい。
【００６９】
上記ジカルボン酸残基の平均炭素数の計算は、ジカルボン酸残基とジオール残基で個別に行う。
上記ジカルボン酸残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値を平均炭素数とする。例えば、アジピン酸残基とフタル酸残基が５０モル％ずつから構成される場合は、平均炭素数７．０となる。
また、上記ジオール残基の場合も同様で、ジオール残基の平均炭素数は、ジオール残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値とする。例えばエチレングリコール残基５０モル％と１，２−プロパンジオール残基５０モル％から構成される場合は平均炭素数２．５となる。
【００７０】
上記重縮合エステルの数平均分子量は５００〜２０００であることが好ましく、６００〜１５００がより好ましく、７００〜１２００がさらに好ましい。重縮合エステルの数平均分子量は６００以上であれば揮発性が低くなり、セルロースアシレートフィルムの延伸時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなる。また、２０００以下であればセルロースアシレートとの相溶性が高くなり、製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくくなる。
上記重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。また、末端が封止のないポリエステルポリオールの場合、重量あたりのヒドロキシル基の量（以下、水酸基価とも言う）により算出することもできる。本明細書中において、水酸基価は、ポリエステルポリオールをアセチル化した後、過剰の酢酸の中和に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）を測定する。
【００７１】
芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との混合物をジカルボン酸成分として用いる場合は、ジカルボン酸成分の炭素数の平均が５．５〜１０．０のジカルボン酸であることが好ましく、より好ましくは５．６〜８である。
炭素数の平均が５．５以上であれば耐久性に優れた偏光板を得ることができる。炭素数の平均が１０以下であればセルロースアシレートへの相溶性が優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜過程でブリードアウトの発生を抑制することができる。
【００７２】
ジオールと、芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、芳香族ジカルボン酸残基が含まれる。
本明細書中では、残基とは、重縮合エステルの部分構造で、重縮合エステルを形成している単量体の特徴を有する部分構造を表す。例えばジカルボン酸ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるジカルボン酸残基は−ＯＣ−Ｒ−ＣＯーである。
上記重縮合エステルの芳香族ジカルボン酸残基比率は４０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、４０ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましい。
芳香族ジカルボン酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られ、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。また、９５ｍｏｌ％以下であればセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくくすることができる。
【００７３】
上記重縮合エステル系疎水化剤の形成に用いることができる芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸又は２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。その中でもフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましく、フタル酸、テレフタル酸がより好ましく、テレフタル酸がさらに好ましい。
上記重縮合エステルには、混合に用いた芳香族ジカルボン酸に由来する芳香族ジカルボン酸残基が形成される。
すなわち、上記芳香族ジカルボン酸残基は、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、より好ましくはフタル酸残基、テレフタル酸残基の少なくとも１種を含み、さらに好ましくはテレフタル酸残基を含む。
上記重縮合エステルの形成における混合に、芳香族ジカルボン酸としてテレフタル酸を用いることで、よりセルロースアシレートとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいセルロースアシレートフィルムとすることができる。また、上記芳香族ジカルボン酸は１種でも、２種以上を用いてもよい。２種用いる場合は、フタル酸とテレフタル酸を用いることが好ましい。
フタル酸とテレフタル酸の２種の芳香族ジカルボン酸を併用することにより、常温での重縮合エステルを軟化することができ、ハンドリングが容易になる点で好ましい。
上記重縮合エステルのジカルボン酸残基中における、テレフタル酸残基の含有量は４０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％であることが好ましい。
テレフタル酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られる。
【００７４】
ジオールと、脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、脂肪族ジカルボン酸残基が含まれる。
上記重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
重縮合エステルには、混合に用いた脂肪族ジカルボン酸に由来する脂肪族ジカルボン酸残基が形成される。
脂肪族ジカルボン酸残基は、平均炭素数が５．５〜１０．０であることが好ましく、５．５〜８．０であることがより好ましく、５．５〜７．０であることがさらに好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が１０．０以下であれば化合物の加熱減量が低減でき、セルロースアシレートウェブ乾燥時のブリードアウトによる工程汚染が原因と考えられる面状故障の発生を防ぐことができる。また、脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が５．５以上であれば相溶性に優れ、重縮合エステルの析出が起き難く好ましい。
上記脂肪族ジカルボン酸残基は、具体的には、コハク酸残基を含むことが好ましく、２種用いる場合は、コハク酸残基とアジピン酸残基を含むことが好ましい。
すなわち、重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いても、２種以上を用いてもよく、２種用いる場合は、コハク酸とアジピン酸を用いることが好ましい。重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いる場合は、コハク酸を用いることが好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数を所望の値に調整することができ、セルロースアシレートとの相溶性の点で好ましい。
【００７５】
重縮合エステルの形成における混合には、ジカルボン酸を２種又は３種を用いることが好ましい。２種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを１種ずつ用いることが好ましく、３種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸を１種と芳香族ジカルボン酸を２種又は脂肪族ジカルボン酸を２種と芳香族ジカルボン酸を１種用いることができる。ジカルボン酸残基の平均炭素数の値を調整しやすく、かつ芳香族ジカルボン酸残基の含有量を好ましい範囲とすることができ、偏光子の耐久性を向上し得るためである。
【００７６】
ジオールとジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、ジオール残基が含まれる。
本明細書中では、ジオールＨＯ−Ｒ−ＯＨより形成されるジオール残基は−Ｏ−Ｒ−Ｏ−である。
重縮合エステルを形成するジオールとしては、芳香族ジオール及び脂肪族ジオールが挙げられ、上記疎水化剤に用いられる重縮合エステルは少なくとも脂肪族ジオールから形成されることが好ましい。
上記重縮合エステルは、平均炭素数が２．５〜７．０の脂肪族ジオール残基を含むことが好ましく、より好ましくは平均炭素数が２．５〜４．０の脂肪族ジオール残基を含む。上記脂肪族ジオール残基の平均炭素数が７．０以下であるとセルロースアシレートとの相溶性が改善され、ブリードアウトが生じにくくなり、また、化合物の加熱減量が増大しにくくなり、セルロースアシレートウェブ乾燥時の工程汚染が原因と考えられる面状故障が発生し難くなる。また、脂肪族ジオール残基の平均炭素数が２．５以上であれば合成が容易である。
上記重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を好ましい例として挙げることができ、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。
【００７７】
より好ましい上記脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。上記脂肪族ジオールを２種用いて上記重縮合エステルを形成する場合は、エチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。１，２−プロパンジオール、又は１，３−プロパンジオールを用いることにより重縮合エステルの結晶化を防止することができる。
上記重縮合エステルには、混合に用いたジオールによりジオール残基が形成される。
すなわち、上記重縮合エステルは、ジオール残基としてエチレングリコール残基、１，２−プロパンジオール残基、及び１，３−プロパンジオール残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、エチレングリコール残基又は１，２−プロパンジオール残基であることがより好ましい。
上記重縮合エステルに含まれる脂肪族ジオール残基には、エチレングリコール残基が１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることが好ましく、２０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることがより好ましい。
【００７８】
上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオールあるいはカルボン酸のままとしてもよく、さらにモノカルボン酸類又はモノアルコール類を反応させていわゆる末端の封止を実施してもよい。
封止に用いるモノカルボン酸類としては酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸等が好ましい。封止に用いるモノアルコール類としてはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が好ましく、メタノールが最も好ましい。重縮合エステルの末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が７以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障が発生しない。
上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオール残基のままであることか、酢酸またはプロピオン酸又は安息香酸によって封止されていることがさらに好ましい。
上記重縮合エステルの両末端は、それぞれ、封止の実施の有無が同一であることを問わない。
縮合体の両末端が未封止の場合、重縮合エステルはポリエステルポリオールであることが好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５〜８．０であり、重縮合エステルの両末端は未封止である重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端が封止されている場合、モノカルボン酸と反応させて封止することが好ましい。このとき、上述の重縮合エステルの両末端はモノカルボン酸残基となっている。本明細書中では、モノカルボン酸Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるモノカルボン酸残基はＲ−ＣＯ−である。重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸で封止されている場合、上記モノカルボン酸は脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、モノカルボン酸残基が炭素数２２以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがより好ましく、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがさらに好ましい。また、炭素数２以上の脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５より大きく７．０以下であり、重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸残基で封止されている重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端を封止しているモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、重縮合エステルの加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することが可能である。
すなわち、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、モノカルボン酸が炭素数２から２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることがさらに好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。
封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
上記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止が好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基（アセチル残基と称する場合がある）となることが最も好ましい。
上記重縮合エステルの両末端を封止した場合は、常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となり、また湿度安定性、偏光板耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムを得ることができる。
【００７９】
下記表５に上記重縮合エステルの具体例Ａ−１〜Ａ−３４を記すが、これらに限定されるものではない。
【００８０】
【表５】
【００８１】
上記表５中の略称は、それぞれ以下の化合物を表す。ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２，６−ＮＰＡ：２，６−ナフタレンジカルボン酸。
【００８２】
上記重縮合エステルの合成は、常法によりジオールとジカルボン酸とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、上記重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【００８３】
これらの疎水化剤の添加量は、セルロースアシレートに対して１〜２０質量％であることが好ましい。１質量％以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また２０質量％以下であれば、ブリードアウトも発生しにくい。さらに好ましい添加量は２〜１５質量％であり、特に好ましくは５〜１５質量％である。
【００８４】
これらの疎水化剤をセルロースアシレートフィルムに添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時セルロースアシレートと混合してもよい。
【００８５】
（２）レターデーション発現剤
本発明のフィルムは、レターデーション発現剤を含んでいてもよい。レターデーション発現剤を採用することにより、低延伸倍率で高いＲｅ発現性を得られる。レターデーション発現剤の種類としては、特に定めるものではないが、棒状または円盤状化合物からなるものや、上記非リン酸エステル系の化合物のうちレターデーション発現性を示す化合物を挙げることができる。上記棒状または円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物をレターデーション発現剤として好ましく用いることができる。
二種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【００８６】
レターデーション発現材としては、例えば特開２００４−５０５１６号公報、特開２００７−８６７４８号公報に記載されている化合物を用いることができるが、これらに限定されない。
円盤状化合物としては、例えば欧州特許出願公開第０９１１６５６Ａ２号明細書に記載の化合物、特開２００３−３４４６５５号公報に記載のトリアジン化合物、特開２００８−１５０５９２号公報［００９７］〜［０１０８］に記載されるトリフェニレン化合物も好ましく用いることもできる。
【００８７】
円盤状化合物は、例えば特開２００３−３４４６５５号公報に記載の方法、特開２００５−１３４８８４号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。
【００８８】
前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができ、例えば特開２００８−１５０５９２号公報［０１１０］〜［０１２７］に記載される棒状化合物を好ましく用いることができる。
【００８９】
（３） アクリル系ポリマー
本発明のセルロースアシレートフィルムには、重量平均分子量５００〜１０，０００のアクリル系ポリマーをさらに添加してもよい。好ましくは、重量平均分子量５００〜５０００である。
上記アクリル系ポリマーを添加すると、製膜後のセルロースアシレートフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。上記アクリル系ポリマーについては、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９０】
（４） 酸化防止剤、熱劣化防止剤
本発明では、酸化防止剤、熱劣化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物のものを好ましく用いることができる。上記酸化防止剤、熱劣化防止剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９１】
（５） 着色剤
本発明においては、着色剤を使用してもよい。着色剤と言うのは染料や顔料を意味するが、本発明では、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものを指す。上記着色剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９２】
（６） 微粒子
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
微粒子は珪素を含むものが、ヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましいのは７〜２０ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。
セルロース誘導体フィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．１〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロース誘導体フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００，ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロース誘導体フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。
【００９３】
（７） その他の添加剤
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムには、上記化合物以外に、通常のセルロースアシレートフィルムに添加することのできる添加剤を含有させることができる。
これらの添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤等を挙げることができる。
上記その他の添加剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９４】
＜セルロースアシレートフィルム基材の製造方法＞
本発明のセルロースアシレートフィルム基材を製造する方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いて製膜することができる。具体的には、上記セルロースアシレートを含むフィルムを溶液流延製膜法または溶融製膜法を利用して製膜することができる。フィルムの面状を改善する観点から、本発明のフィルムの製造方法は、上記セルロースアシレートを含むフィルムを溶液流涎製膜により製膜する工程を含むことが好ましい。
以下、本発明のフィルムの製造方法を、溶液流延製膜法を用いる場合を例に説明するが、本発明は溶液流延製膜法に限定されるものではない。なお、本発明のフィルムの製造方法として上記溶融製膜法を用いる場合については、公知の方法を用いることができる。
【００９５】
（膜厚）
本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は２０〜２００μｍであることが好ましく、２０〜８５μｍであることがより好ましく、２５〜６５μｍであることが更に好ましい。膜厚が２０μｍ以上であれば取り扱い性も良好で、機械的強度が不足せず生産時の破断等の故障が起こり難く、フィルム面状に優れる。
【００９６】
［帯電防止性ハードコート層］
本発明の光学フィルムは、上記セルロースアシレートフィルム基材上に少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する。
【００９７】
＜有機系帯電防止剤＞
本発明における有機系帯電防止剤としては、導電性ポリマーが好ましく、導電性ポリマーとしては、イオン導電性化合物（イオン導電性ポリマー）又は電子伝導性化合物（電子伝導性ポリマー）が挙げられ、モノマーや界面活性剤タイプの化合物よりブリードアウトしにくい点、汎用の有機溶媒への溶解性が高い点、帯電防止性に優れるという観点からイオン導電性ポリマーであることが好ましい。
【００９８】
（ａ．１）イオン伝導性化合物
イオン伝導性化合物としては、カチオン性、アニオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。
これらの中では、本発明の効果が得られ易いカチオン性、アニオン性の化合物が好ましく、特に化合物の帯電防止性能が高い観点から４級アンモニウム塩基を有するポリマー（カチオン性化合物）が好適である。
【００９９】
４級アンモニウム塩基含有ポリマーとしては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【０１００】
【化８】
【０１０１】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０１０２】
【化９】
【０１０３】
式中、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【０１０４】
【化１０】
【０１０５】
【化１１】
【０１０６】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−又は−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１及びＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。
Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
【０１０７】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１０８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
【０１０９】
【化１２】
【０１１０】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【０１１１】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｚ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｚ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
【０１１２】
【化１３】
【０１１３】
【化１４】
【０１１４】
【化１５】
【０１１５】
【化１６】
【０１１６】
【化１７】
【０１１７】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止性ハードコート層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
【０１１８】
イオン伝導性化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば、製品名「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」（東洋インキ製造（株）製）、製品名「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」（日本合成化薬（株）製）、「ＡＳＣ−２０９Ｐ」（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
【０１１９】
イオン伝導性化合物として好適に用いられる４級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位（イオン性構造単位）の他に、これ以外の重合単位を有していて良い。
【０１２０】
イオン性構造単位以外の重合単位として用いることができる単量体の例としては、次の化合物が挙げられる。
【０１２１】
＜アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）＞
イオン伝導性化合物がイオン性構造単位以外の構造単位を持つことにより、組成物を作成する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。特に、イオン伝導性化合物がアルキレンオキサイド鎖を有することが好ましい。
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）は、下記一般式（２）で表され、例えば、エチレンオキシドのアルキルアルコールによる開環重合後、（メタ）アクリル酸メチルとのエステル交換反応、もしくは（メタ）アクリル酸クロライドとの反応により得ることができる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ（ＡＯ）ｎＲ６ （２）
（式中、Ｒ５はＨまたはＣＨ３、Ｒ６は水素または炭素数が１〜２２の炭化水素基、ｎは２〜２００の整数、Ａは炭素数が２〜４のアルキレン基を表す。）
【０１２２】
上記一般式（２）において、アルキレンオキサイド基（ＡＯ）は、炭素数２〜４のアルキレンオキサイド基であり、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基が挙げられる。また、同一モノマー内に、炭素数が異なるアルキレンオキサイド基が存在していてもよい。
アルキレンオキサイド基数（ｎ）は２〜２００の整数であり、好ましくは１０〜１００の整数である。２以下、または１０１以上の場合は、後述する、不飽和二重結合を有する化合物との十分な相溶性が得られない場合がある。
Ｒ６は水素または炭素数１〜２２の炭化水素基である。炭素数２３以上では、原料が高価であるため実用的ではない。
炭素数１〜２２の炭化水素基としては、置換又は無置換のものが選択でき、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基が好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。これらは、２種類以上を併用しても良い。
【０１２３】
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）としては、具体的には例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクチルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１２４】
＜（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）＞
さらに必要に応じて任意に上記（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）をラジカル共重合してもよい。
（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）は、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物であればよく、特に限定されるものでないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートやスチレン、メチルスチレン等が挙げられる。
【０１２５】
（ａ．２）電子伝導性化合物
電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である化合物が挙げられる。電子伝導性化合物は、１０−６Ｓ・ｃｍ−１以上の導電性を示すポリマーであることが好ましく、より好ましくは、１０−１Ｓ・ｃｍ−１以上の導電性を有する高分子化合物である。
【０１２６】
電子伝導性高分子は、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における上記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における上記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
【０１２７】
また、非共役高分子又は共役高分子における上記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
【０１２８】
電子伝導性高分子としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２９】
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、電子伝導性高分子を構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
【０１３０】
電子伝導性高分子としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
これら共役高分子は置換基を有していてもよい。これらの共役高分子が有する置換基としては、後述の一般式（ｓ１）においてＲ１１として説明する置換基を挙げることができる。
【０１３１】
特に、電子伝導性高分子が下記一般式（ｓ１）で表される部分構造を有すること（即ちポリチオフェン及びその誘導体であること）が、高い透明性と帯電防止性を両立した光学フィルムを得るという観点から好ましい。
【０１３２】
【化１８】
【０１３３】
一般式（ｓ１）中、Ｒ１１は置換基を表し、ｍ１１は０〜２の整数を表す。ｍ１１が２を表すとき、複数のＲ１１は互いに同一であっても異なってもよく、互いに連結して環を形成してもよい。ｎ１１は１以上の整数を表す。
【０１３４】
Ｒ１１で表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、２−オクテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。）、
【０１３５】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、
【０１３６】
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、
【０１３７】
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、
【０１３８】
ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２で、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。具体的には、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【０１３９】
上記Ｒ１１で表される置換基は、更に置換されていてもよい。また、置換基を複数有する場合、それらの置換基は互いに同じでも異なっていてもよく、また可能な場合は連結して環を形成してもよい。形成される環としては例えば、シクロアルキル環、ベンゼン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジチアン環等が挙げられる。
【０１４０】
Ｒ１１で表される置換基として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、更に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基である。特に好ましくは、ｍ１１が２のとき、２つのＲ１１が環を形成したアルコキシ基、アルキルチオ基であり、ジオキサン環、ジチアン環を形成することが好適である。
【０１４１】
一般式（ｓ１）においてｍ１１が１のとき、Ｒ１１はアルキル基であることが好ましく、炭素数２〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ１１が、アルキル基であるポリ（３−アルキルチオフェン）であるとき、隣り合ったチオフェン環との連結様式はすべて２−５’で連結した立体規則的なものと、２−２’、５−５’連結が含まれる立体不規則的なものがあるが、立体的不規則なものが好ましい。
【０１４２】
本発明では、電子伝導性高分子としては、高い透明性と導電性を両立するという観点から、ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（下記具体例化合物（６）、ＰＥＤＯＴ）であることが特に好ましい。
【０１４３】
一般式（ｓ１）で表されるポリチオフェン及びその誘導体は、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２０７７−２０８８．及びＡｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ２０００，１２（７），ｐａｇｅ ４８１など公知の方法によって作製することができる。また、市販品として、Ｄｅｎａｔｒｏｎ Ｐ５０２（ナガセケムテック社製）、３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ（ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｍ
Ｖ２）、３，４−ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｅｎｅ／ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ （ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ）、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｃ）、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｆ Ｅ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｍ
Ｖ２、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＡＧ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＨＣ Ｖ４、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＨＳ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ ５００、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ ５１０（以上、シュタルク社製）などを入手することができる。
ポリアニリン及びその誘導体としては、ポリアニリン（アルドリッチ社製）、ポリアニリン（エレラルダイン塩）（アルドリッチ社製）などを入手することができる。
ポリピロール及びその誘導体としては、ポリピロール（アルドリッチ社製）などを入手することができる。
【０１４４】
以下に、電子伝導性高分子の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、ｘ及びｙは繰り返し単位の数を表す。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。
【０１４５】
【化１９】
【０１４６】
【化２０】
【０１４７】
（有機溶剤への可溶性）
電子伝導性高分子は、塗布性及び（ｂ）成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。
より具体的には、電子伝導性高分子は、含水率が５質量％以下で比誘電率が２〜３０の有機溶剤中に少なくとも１．０質量％で可溶であることが好ましい。
ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
【０１４８】
一般に、電子伝導性高分子は親水性が高く従来では水を主成分とする溶媒に溶解するが、このような電子伝導性高分子を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性高分子を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば後述の可溶化補助剤等）や、有機溶剤中での分散剤等を添加する方法が挙げられる。また、電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントを用いる場合は、後述するようにポリアニオンドーパントの疎水化処理を行うことが好ましい。
更に、電子伝導性高分子を脱ドープ状態（ドーパントを用いない状態）で有機溶剤への溶解性を向上させおき、塗布膜形成後にドーパントを加えて導電性を発現させる方法も用いることができる。
【０１４９】
上記以外にも、有機溶剤への溶解性を向上させる方法としては下記文献に示す方法を用いることも好ましい。
例えば、特開２００２−１７９９１１号公報では、ポリアニリン組成物を脱ドープ状態で有機溶媒に溶解させておき、上述の素材を基材上に塗布し、乾燥させた後、プロトン酸と酸化剤とを溶解又は分散させた溶液にて酸化及びドーピング処理する事によって導電性を発現させる方法が記載されている。
また、国際公開第０５／０３５６２６号公報には、水層及び有機層からなる混合層においてスルホン酸及びプロトン酸基を有する水不溶性有機高分子化合物の少なくとも一種の存在下にアニリン又はその誘導体を酸化重合するに際し、分子量調整剤及び、必要に応じ、相間移動触媒を共存させることにより有機溶媒に安定に分散する導電性ポリアニリンを製造する方法が記載されている。
【０１５０】
上記有機溶剤としては、例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。以下、具体的化合物を例示する（括弧内に比誘電率を記す。）。
アルコール類としては、例えば１価アルコール又は２価アルコールを挙げることができる。このうち１価アルコールとしては炭素数２〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、エチルアルコール（２５．７）、ｎ−プロピルアルコール（２１．８）、ｉ−プロピルアルコール（１８．６）、ｎ−ブチルアルコール（１７．１）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（１５．５）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（１１．４）などを挙げることができる。
【０１５１】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン（２．３）、トルエン（２．２）、キシレン（２．２）などを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン（７．５）、エチレングリコールモノメチルエーテル（１６）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノエチルエーテル（１４）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノブチルエーテル（９）などを、ケトン類の具体例としては、アセトン（２１．５）、ジエチルケトン（１７．０）、メチルエチルケトン（１５．５）、ジアセトンアルコール（１８．２）、メチルイソブチルケトン（１３．１）、シクロヘキサノン（１８．３）などを、エステル類の具体例としては、酢酸メチル（７．０）、酢酸エチル（６．０）、酢酸プロピル（５．７）、酢酸ブチル（５．０）などを挙げることができる。
【０１５２】
電子伝導性高分子は、有機溶剤中に少なくとも１．０質量％で可溶なものであることが好ましく、少なくとも１．０〜１０．０質量％で可溶であることがより好ましく、少なくとも３．０〜３０．０質量％で可溶であることが更に好ましい。
上記有機溶剤中、電子伝導性高分子は粒子状に存在していてもよい。この場合、平均粒子サイズは３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。上記粒子サイズとすることで、有機溶剤中での沈降を抑制することができる。粒子サイズの下限は特に限定されないが、通常１ｎｍ以上である。
【０１５３】
（疎水化処理）
前述のように電子伝導性高分子と共にポリアニオンドーパントを用いる場合、電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントとを含む組成物に対して疎水化処理を行うことが好ましい。上記組成物に対して疎水化処理を行うことで、電子伝導性高分子の有機溶剤への溶解性を向上させ、（Ｂ）重合性基を二つ以上有する多官能モノマーとの親和性を向上させることができる。疎水化処理は、ポリアニオンドーパントのアニオン基を修飾することにより行うことができる。
具体的には、疎水化処理の第１の方法としては、アニオン基をエステル化、エーテル化、アセチル化、トシル化、トリチル化、アルキルシリル化、アルキルカルボニル化する等の方法が挙げられる。中でもエステル化、エーテル化が好ましい。エステル化により疎水化する方法は、例えば、ポリアニオンドーパントのアニオン基を塩素化剤により塩素化し、その後メタノールやエタノール等のアルコールによりエステル化する方法が挙げられる。また、ヒドロキシル基又はグリシジル基を有する化合物で更に不飽和２重結合性基を有する化合物を用いて、スルホ基やカルボキシ基とエステル化して疎水化することもできる。
本発明においては従来公知の種々の方法を用いることができるが、その一例として、特開２００５−３１４６７１号公報、及び特開２００６−２８４３９号公報等に具体的に記載されている。
【０１５４】
疎水化処理の第２の方法としては、塩基系の化合物をポリアニオンドーパントのアニオン基に結合させて疎水化する方法が挙げられる。塩基系の化合物としてはアミン系の化合物が好ましく、１級アミン、２級アミン、３級アミン、芳香族アミン等が挙げられる。具体的には、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換された１級〜３級のアミン、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換されたイミダゾール、ピリジンなどが挙げられる。有機溶剤への溶解性向上のためにアミンの分子量は５０〜２０００が好ましく、更に好ましくは７０〜１０００、最も好ましくは８０〜５００である。
【０１５５】
塩基系疎水化剤であるアミン化合物の量は、電子伝導性高分子のドープに寄与していないポリアニオンドーパントのアニオン基に対して０．１〜１０．０モル当量であることが好ましく、０．５〜２．０モル当量であることがより好ましく、０．８５〜１．２５モル当量であることが特に好ましい。上記範囲で、有機溶剤への溶解性、導電性、塗膜の強度を満足することができる。
その他疎水化処理の詳細については、特開２００８−１１５２１５号公報、及び特開２００８−１１５２１６号公報等に記載の事項を適用することができる。
【０１５６】
（可溶化補助剤）
上記電子伝導性高分子は、分子内に親水性部位と疎水性部位と好ましくは電離放射線硬化性官能基を有する部位を含む化合物（以下、可溶化補助剤という。）と共に用いることができる。
可溶化補助剤を用いることで、電子伝導性高分子の含水率の低い有機溶剤への可溶化を助け、更には本発明における組成物による層の塗布面状改良や硬化皮膜の強度を上げることができる。
可溶化補助剤は、親水部位、疎水部位、電離放射線硬化性官能基含有部位を有する共重合体であることが好ましく、これら部位がセグメントに分かれているブロック型又はグラフト型の共重合体であることが特に好ましい。このような共重合体は、リビングアニオン重合、リビングラジカル重合、又は上記部位を有したマクロモノマーを用いて重合することができる。
可溶化補助剤については、例えば特開２００６−１７６６８１号公報の［００２２］〜［００３８］等に記載されている。
【０１５７】
（電子伝導性高分子を含む溶液の調製方法）
電子伝導性高分子は、上記有機溶剤を用いて溶液の形態で調製することができる。
電子伝導性高分子の溶液を調製する方法はいくつかの方法があるが、好ましくは以下の３つの方法が挙げられる。
第一の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下で電子伝導性高分子を水中で重合し、その後必要に応じて上記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤を加えて処理し、その後水を有機溶媒に置換する方法である。第二の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下で電子伝導性高分子を水中で重合し、その後必要に応じて上記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤で処理し、水を蒸発乾固させた後に、有機溶剤を加え可溶化する方法である。第三の方法は、π共役系導電性高分子とポリアニオンドーパントをそれぞれ別途調製した後に、両者を溶媒中で混合分散し、ドープ状態の導電性高分子組成物を調製し、溶剤に水を含む場合には水を有機溶媒に置換する方法である。
【０１５８】
上記の方法において、可溶化補助剤の使用量は電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントの合計量に対して、１〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは２〜７０質量％、最も好ましくは５〜５０質量％である。また、第一の方法において水を有機溶剤に置換する方法は、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンのような水混和性の高い溶剤を加えて用いて均一溶液とした後、限外ろ過を行い水を除去する方法が好ましい。また、水混和性の高い溶剤を用いて含水率をある程度低下させた後、より疎水的な溶剤を混合し減圧下で揮発性の高い成分を除去し溶剤組成を調整する方法が挙げられる。また、塩基系疎水化剤を用いて十分な疎水化を行えば、水との混和性の低い有機溶剤を加えて、分離した２相系とし水相中の有機導電性高分子を有機溶剤相に抽出することも可能である。
【０１５９】
帯電防止性の向上、及びブリードアウトによるムラの発生を抑制するという理由から、イオン伝導性化合物の重量平均分子量は２千〜５０万が好ましく、５千〜３０万がより好ましい。電子伝導性化合物の重量平均分子量は２万〜５０万が好ましく、２万〜３０万がより好ましく、２万〜１０万が更に好ましい。ここで重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算重量平均分子量である。
【０１６０】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の導電性ポリマーの含有量は、高硬度で高い帯電防止性能を付与する観点から、上述の塗布組成物の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、１〜１２質量％であることが好ましく、１〜１０質量％がより好ましく、１．５〜８質量％が更に好ましい。１質量％以上であれば帯電防止性能を発現することができる。また、１２質量％以下であれば帯電防止性能と膜強度（鉛筆硬度）を向上させることができ、コストの面からも好ましい。
【０１６１】
＜分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物＞
本発明における帯電防止性ハードコート層は、上記有機系帯電防止剤に加えて、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含有する塗布組成物から形成される。
【０１６２】
分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物はバインダーとして機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましく、（メタ）アクリロイル基を分子中に３つ以上有する多官能モノマーであることがより好ましい。
また、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は電離放射線硬化型の化合物であることが好ましい。
【０１６３】
分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１６４】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学(株)製Ａ−ＴＭＭＴ、同Ａ−ＤＰＨ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１６５】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、良好な硬度と高い帯電防止性能とを達成する観点から、極性基を含有するものが少ない方が好ましく、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基の含有量が少ないものが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって、更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが更に好ましい。
【０１６６】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有量は、塗膜高硬度を達成する観点から、上述の塗布組成物の全固形分に対して、５０〜９５質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％がより好ましく、８０〜９５質量％が更に好ましい。
【０１６７】
＜光重合開始剤＞
帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物は光重合開始剤を含有してもよい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１６８】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１６９】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の光重合開始剤の含有量は塗布組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１７０】
本発明における帯電防止性ハードコート層は、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものであることが特に好ましい。
【０１７１】
（その他の機能性層）
本発明の光学フィルムは帯電防止性ハードコート層以外の機能性層を有していてもよい。機能性層としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。例えば以下の態様の光学フィルムを挙げることができる。
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／ハードコート層／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／防眩層
基材フィルム／防眩層／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／防眩層／低屈折率層
【０１７２】
［帯電防止性ハードコート層の物性］
本発明における帯電防止性ハードコート層は、屈折率が１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。上記範囲内とすることで基材との干渉ムラを抑制し、更に低屈折率層を積層した際の反射色味をニュートラルにすることができるため好ましい。
【０１７３】
帯電防止性ハードコート層の膜厚は、１μｍ以上であることが好ましく、４μｍ〜２０μｍがより好ましく、６μｍ〜１８μｍが更に好ましく、６μｍ〜１５μｍが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と導電性を両立することができる。
また、帯電防止性ハードコート層の強度は高いほど好ましいが、鉛筆硬度試験で、実用的には３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１７４】
帯電防止性ハードコート層の透過率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
【０１７５】
［光学フィルムの物性］
本発明の光学フィルムの表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、２５℃６０％環境下で１０．０以下であることが好ましく、９．３以下であることが更に好ましい。表面抵抗率を上記範囲にすることで表示面への埃等の付着による視認性低下を防止すると共に、静電気による表示装置の破壊防止性を付与することが可能となる。
【０１７６】
本発明の光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳ Ｂ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることが好ましい。各値が上記範囲にあると、透光性や平滑性に優れ、視認性が良好となるため好ましい。
全ヘイズ値としては０．１％以上０．５％未満がより好ましい。Ｒａは０．００１μｍ以上０．０１５μｍ以下であることがより好ましい。
【０１７７】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず帯電防止性ハードコート層形成用組成物が調製される。次に、上述の組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０１７８】
塗布した後、乾燥、光照射して帯電防止性ハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これにより帯電防止性ハードコート層が形成される。必要に応じて、基材フィルム上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層など）を塗設しておき、その上に帯電防止性ハードコート層を形成することも可能であるし、基材フィルム上に本発明の帯電防止性ハードコート層を塗設した上に、その他の層を塗設することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。
本発明の光学フィルムの製造方法としては、透明基材上に上記帯電防止性ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化して帯電防止性ハードコート層を形成する工程を有する方法が好ましい。
【０１７９】
帯電防止性ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子等のマット粒子を含有してもよい。
【０１８０】
帯電防止性ハードコート層のバインダーには、層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を挙げることができる。
【０１８１】
（防眩層）
本発明では上記帯電防止性ハードコート層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１８２】
本発明の光学フィルムで、例えば透明支持体上に防眩層／帯電防止性ハードコート層の２層が積層された構成を得る場合、上記２層を一回の塗布工程で２層の塗布層を同時に塗布形成される方法を用いることもできる。
この際、帯電防止性ハードコート層と防眩層の２層を一回の塗布工程で同時に塗布形成することにより低コストで高い生産性を得る事が可能となる。一回の塗布工程で２層を同時に形成する方法としては、公知の方法を用いることができる。具体的には、特開２００７−２９３３０２号公報の段落番号［００３２］〜［００５６］等に記載の方法を利用することができる。
【０１８３】
（高屈折率層及び中屈折率層）
本発明の光学フィルムは、更に高屈折率層や中屈折率層を有してもよい。
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１８４】
中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。
【０１８５】
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、上記帯電防止性ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
この場合、低屈折率層は、上記帯電防止性ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を有するが、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
【０１８６】
低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。
【０１８７】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１８８】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止性ハードコート層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
【０１８９】
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルロースアセテートフィルムであることが好ましい。
【０１９０】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と上述の偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上述の保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０１９１】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１９２】
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１９３】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０１９４】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、上述の偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１９５】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１９６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１９７】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１９８】
〔実施例Ａ〕
［基材フィルムの作製］
（１）エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の調製
下記表６に記載のエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物を以下の方法で調製した。
まず、上記表１に記載の化合物１１２〜１１７を国際公開第２００９／０３１４６４号〔００５４〕例示化合物３の合成に記載の方法で合成した。
また、その他の化合物（スクロースアセチレートなど）については、同様の方法で合成した。その後、これらを混合し、糖エステル化合物を調製した。なお、合成した糖エステル化合物は、全て反応溶媒であるトルエンの減圧乾燥（１０ｍｍＨｇ以下）を行い、残留溶剤が１００ｐｐｍ未満であるものを使用した。
【０１９９】
（糖エステル化合物の平均置換度の測定法）
以下のＨＰＬＣ条件下で保持時間毎の面積比を測定し、全面積合計値に対する置換度を算出した。
《ＨＰＬＣ測定条件》
カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−１００Ｚ（東ソー）、４．６＊１５０ｍｍ、ロット番号（Ｐ００１４）
溶離液Ａ：Ｈ２Ｏ＝１００、 溶離液Ｂ：ＡＲ＝１００。Ａ，ＢともにＡｃＯＨ、ＮＥｔ３各０．１％入り
流量：１ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度：４０℃、波長：２５４ｎｍ、感度：ＡＵＸ２、注入量：１０μｌ、リンス液：ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ＝９／１（ｖｏｌ比）
サンプル濃度：５ｍｇ／１０ｍｌ（ＴＨＦ）
【０２００】
（２）ドープ調製
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、さらに９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８５、分子量３０万のセルロースアセテート
１００．０質量部
下記表６中比較例１記載のエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物総量
８．０質量部
メチレンクロライド ３６５．８質量部
メタノール ９２．６質量部
ブタノール ４．６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０１】
マット剤分散液
次に上記方法で作成したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・マット剤（平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子、「アエロジルＲ９７２」、日本アエロジル（株）製） ０．２質量部
・メチレンクロライド ６５．７質量部
・メタノール １６．６質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースアシレート溶液１ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記セルロースアシレート溶液１を１００質量部、マット剤分散液をセルロースアセテート樹脂に対して無機微粒子が０．０２質量部となる量を混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２０２】
（３）流延
上述の各ドープを３０℃に加温し、ドラム製膜機を用いて流延した。なお、ドラムはＳＵＳ製でドラムの表面温度は−５℃に、流延部全体の空間温度は１５℃に設定した。
【０２０３】
（４）乾燥
流延されて得られた各ウェブ（フィルム）をドラムから剥ぎ取った後、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用い、上述のテンター装置内で４０℃で風乾燥を行った。
【０２０４】
（５）延伸
乾燥後テンター装置にクリップされた各ウェブ（フィルム）が、フィルム全体の質量に対する残留溶媒量が３０〜５％の状態のときにテンターを用いてフィルム搬送方向に直交する方向（横方向）に１０％延伸した。
その後にセルロースアシレートフィルムからクリップを外して１１０℃で３０分間乾燥させた。このとき、延伸後の膜厚が４０μｍになるように、流延膜厚を調整した。
これら方法により比較例１で用いたセルロースアセテートフィルム基材１を作製した。
【０２０５】
下記表６に示した糖エステル化合物のエステル置換度、比率又は可塑剤の種類となるように変更した以外は比較例１で用いるセルロースアセテートフィルム基材１と同様にして製膜用ドープを調製し、流延、乾燥、延伸を行って、各実施例および比較例のセルロースアセテートフィルム基材を得た。なお、各々のフィルム基材の糖エステル化合物は、表６に示すエステル置換度のものを表６に記載のモル比率（ｍｏｌ％）で混合したものを用いた。
比較例４で用いるフィルム基材は、糖エステル化合物の代わりに、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）とビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）の比率が３：１の混合物を用いて製膜用ドープを作製し、同様の方法でフィルム基材を作製した。
【０２０６】
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液を調製し、フィルム基材上に帯電防止性ハードコート層を形成して、光学フィルムを作製した。
【０２０７】
（帯電防止性ハードコート層形成用塗布液の調製）
下記表７に示す成分をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１〜ＨＣ−１４とした。表７の各成分の添加量の単位は質量部である。
【０２０８】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物 トリアクリレート比率５７％ 新中村化学工業（株）製
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート 新中村化学工業（株）製
ビスコート２９５：トリメチロールプロパントリアクリレート 大阪有機化学(株)製
ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９（ＥＢ−５１２９）：脂肪族６官能ウレタンアクリレート ダイセル化学工業(株)製
ブレンマーＧＭＲ：グリセリンジメタクリレート 日本油脂(株)製
ＳＡＳ−ＰＥ：ポリチオフェンのポリスチレンスルホン酸塩を含有する導電性ポリマー
信越ポリマー(株)製
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン：重合開始剤「イルガキュア１８４」 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【０２０９】
（帯電防止性ハードコート層の作製）
上記方法で得られたセルロースアセテートフィルム基材上に、帯電防止性ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃で約２分間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの帯電防止性ハードコート層を形成し、光学フィルム試料を作製した。
【０２１０】
［帯電防止性（１）］
２５℃、６０％ＲＨ条件下に光学フィルム試料を２時間置いた後、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて表面抵抗を測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）がより小さい方が帯電防止性が良好であり、得られたｌｏｇＳＲについて以下の基準で評価し、結果を表６に示した。
Ａ ：ｌｏｇＳＲ≦９．３
Ｂ ：９．３＜ｌｏｇＳＲ≦１０．０
Ｃ ：１０．０＜ｌｏｇＳＲ＜１０．７
Ｄ：ｌｏｇＳＲ≧１０．７
【０２１１】
［鉛筆硬度］
得られた試料を２３℃、５０％ＲＨの条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５６００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、７５０ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ掻きを、計５回×５セット繰り返した。各試験セット毎に目視評価を行い、５回中３回以上傷が無いまでの鉛筆硬度を５セット平均で０．５Ｈ刻みで算出し、その試料サンプルの硬度とした。尚、ＪＩＳ Ｋ ５４００で定義される傷は塗膜の破れ、塗膜のすり傷であり、塗膜のへこみは対象としないと記載されているが、ここでは、塗膜のへこみも含めて傷と判断して評価した。得られた結果を表６に示した。
【０２１２】
［高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)］
８０℃、９０％ＲＨ条件下に光学フィルム試料を５００時間保管し、取り出して一旦水分が無くなるまで乾燥させた。その後、上記帯電防止性（１）と同様に２５℃、６０％ＲＨ条件で試料を２時間放置して評価を行い、帯電防止性（１）で得られた評価値とのｌｏｇＳＲの差(ΔｌｏｇＳＲ)を評価した。ΔｌｏｇＳＲが小さい程、高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性が良好であることを示しており、以下の基準で評価した。得られた結果を表６に示した。
Ａ ：ΔｌｏｇＳＲ＜０．３
Ｂ ：０．３≦ΔｌｏｇＳＲ＜１．０
Ｃ ：１．０≦ΔｌｏｇＳＲ＜２．０
Ｄ ：ΔｌｏｇＳＲ≧２．０
【０２１３】
【表６】
【０２１４】
【表７】
【０２１５】
〔実施例Ｂ〕
〔反射防止フィルムの作製〕
（パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１の合成）
特開２０１０−１５２３１１号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体（１）と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１を調製した。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった
【０２１６】
【化２１】
【０２１７】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０２１８】
（中空シリカ分散液Ａ−１の調製）
特開２００７−２９８９７４号公報に記載の分散液Ａ−１と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３１の中空シリカ粒子分散液Ａ−１（固形分濃度１８．２質量％）を調製した。
【０２１９】
（低屈折率層形成用組成物Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物Ａ−１（固形分濃度１２．５質量％）とした。
パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１ １４．８質量部
エチルメチルケトン １５７．７質量部
ＤＰＨＡ ３．０質量部
中空シリカ粒子分散液Ａ−１ ２１．２質量部
イルガキュア１２７ １．３質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ ２．１質量部
【０２２０】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・Ｘ２２−１６４Ｃ：反応性シリコーン（信越化学（株）製）
・イルガキュア１２７：光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
【０２２１】
（低屈折率層の作製）
作製した実施例７の光学フィルム（試料Ｎｏ．８）の帯電防止性ハードコート層上に、低屈折率層形成用組成物Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、反射防止フィルム試料Ｒ−１を得た。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
【０２２２】
実施例１０の光学フィルム（試料Ｎｏ．１１）の帯電防止性ハードコート層上にも同様に低屈折率層形成用組成物Ａ−１を塗布し、反射防止フィルム試料Ｒ−２を得た。
【０２２３】
（鏡面反射率）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。結果を表８に併せて示す。なお、表８中の各々の性能は全て反射防止フィルムの形態で評価した結果である。
【０２２４】
【表８】
【０２２５】
〔実施例Ｃ〕
(複数の糖エステル化合物の混合物の調製）
実施例Ａと同様な方法により上記表１に記載の化合物１１２〜１１７、および上記表４に記載の１１８、１２０、１２２を合成した。
その後、下記表９に記載の組成（モル分率にて表示）となるように所定の各糖エステル化合物を混合し、糖エステル化合物の混合物を調製した。
【０２２６】
（セルロースエステル溶液Ｄ−１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ｄ−１を調製した。セルロースエステルのアセチル置換度はＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて測定した。粘度平均重合度は宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定した。
【０２２７】
セルロースエステル溶液Ｄ−１の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物の混合物（表９記載の組成） ４．０質量部
・メチレンクロライド ３７５質量部
・メタノール ８２質量部
・ブタノール ５質量部
【０２２８】
（マット剤分散液Ｍ−１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｍ−１を調製した。
【０２２９】
マット剤分散液Ｍ−１の組成
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製 １０．０質量部
・メチレンクロライド ６２．５質量部
・メタノール １４．１質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−１ １０．３質量部
【０２３０】
（紫外線吸収剤溶液Ｕ−１の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を調製した。
【０２３１】
紫外線吸収剤溶液Ｕ−１の組成
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５４．３質量部
・メタノール １２．０質量部
・ブタノール ０．７質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−１ １２．９質量部
【０２３２】
【化２２】
【０２３３】
（試料３１〜３９の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、表９に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、８．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３４】
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−１を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり、０．０２６質量部となるように加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３５】
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−１を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり、０．０７８質量部となるように加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３６】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が６μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚２９μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚５μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は４℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムを残留溶媒量が２４０％の状態でドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に６％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚は４０μｍであった。
このようにして試料３１〜３９の基材フィルムを作製した。
【０２３７】
(試料３１〜３９の光学フィルムの作製)
実施例Ａで使用した帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液ＨＣ−６を用いて上記の各基材フィルムの第１層側上に帯電防止性ハードコート層を形成した。
実施例Ａと同様にグラビアコーターを使用して塗布を行い、紫外線照射による膜の硬化を行った。帯電防止性ハードコート層の設計膜厚は８μｍであった。
(試料３１〜３９の性能評価)
実施例Ａと同じ方法で、帯電防止性（１）、鉛筆硬度、高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)の３項目の評価を行った。
その結果を表９に記載した。
【０２３８】
【表９】
【０２３９】
〔実施例Ｄ〕
（セルロースエステル溶液Ｄ−２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ｄ−２を調製した。
【０２４０】
セルロースエステル溶液Ｄ−２の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物の混合物（表１０記載の組成） ４．０質量部
・メチレンクロライド ３７５質量部
・メタノール ８２質量部
・ブタノール ５質量部
【０２４１】
（マット剤分散液Ｍ−２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｍ−２を調製した。
【０２４２】
マット剤分散液Ｍ−２の組成
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製 １０．０質量部
・メチレンクロライド ６２．５質量部
・メタノール １４．１質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−２ １０．３質量部
（紫外線吸収剤溶液Ｕ−２の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を調製した。
【０２４３】
紫外線吸収剤溶液Ｕ−２の組成
・紫外線吸収剤（ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５４．３質量部
・メタノール １２．０質量部
・ブタノール ０．７質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−２ １２．９質量部
【０２４４】
（試料４１〜４３の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、表１０に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、８．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４５】
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０２６質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４６】
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０７８質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
表層用ドープに使用する全溶剤中のメチレンクロライドの比率は、８３質量％以上９７質量％以下であることが好ましく、８３質量％以上９２質量％以下であることがより好ましく、その範囲であればセルロースエステルフィルムにハードコート層を塗設した場合の密着性が良好であり、さらに偏光板のリワーク性が良好である。
【０２４７】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が６μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚２９μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚５μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は４℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムを残留溶媒量が２４０％の状態でドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に６％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚を４０μｍとして試料４１〜４３の基材フィルムを作製した。
セルロースエステルフィルムの搬送方向もしくは幅方向の延伸については、ハードコート層付フィルム単体のカール、偏光板形態のカールの調整に有効であり、３％以上２０％以下が好ましく、５％以上１５％以下がより好ましい範囲である。
【０２４８】
（試料４４〜４６の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、表９に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、１１．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０２６質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０７８質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４９】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が２μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚５４μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚４μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は−７℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラム上で３０℃の乾燥風により乾燥させ、残留溶剤が２４０％の状態でドラムより剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に１０％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚は６０μｍであった。
このようにして試料４４〜４６の基材フィルムを作製した。
【０２５０】
(試料４１〜４６の光学フィルムの作製)
実施例Ａで使用した帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液ＨＣ−６を用いて上記の各基材フィルムの第１層側上に帯電防止性ハードコート層を形成した。
実施例Ａと同様にグラビアコーターを使用して塗布を行い、紫外線照射による膜の硬化を行った。帯電防止性ハードコート層の設計膜厚は８μｍであった。
(試料４１〜４６の性能評価)
実施例Ａと同じ方法で、帯電防止性（１）、鉛筆硬度、高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)の３項目の評価を行った。
その結果を表１０に記載した。
【０２５１】
【表１０】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。より詳しくは、セルロースアシレート基材上に帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムであって、帯電防止性、硬度、及び高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性に優れる光学フィルム、及び上述の光学フィルムを含む反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、破損や傷付きを防止し、表示面への埃等の付着による視認性低下や静電気による表示装置の破壊を防止するために、透明で帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを設けることが好適である。特に、近年の画像表示装置の高品位化、大サイズ化、薄層化、長寿命化等に対応し、適用される光学フィルムに対してもハードコート性、帯電防止性に加えてその他の性能も良好で、かつ高耐久性であることが要求されている。
【０００３】
特に液晶表示装置では、ハードコート性と帯電防止性を両立した光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる構成が好適であり、この偏光板形態での偏光子との密着性を良好に保つため、光学フィルムの基材としてはセルロースアシレートフィルムを用いることが一般的である。
【０００４】
上記の観点からセルロースアシレートフィルムには、高い透明性（低ヘイズ）、良好な透湿性、良好な光学性能が必要であり、従来は特定の可塑剤を添加することで性能を満たすように調整していた。しかしながら、可塑剤として代表的なトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）などのリン酸エステル類は、セルロースアシレートフィルムを製膜するときに乾燥工程で揮散してしまい、製造ラインに付着した汚れがフィルム上に落下し面状故障などの問題を引き起こしていた。また、この問題に加え、環境に優しい偏光板保護フィルムおよびその製造方法を提供する観点からも、セルロースアシレートフィルムの可塑剤としてリン酸エステルを用いないことが求められている。
【０００５】
光学フィルム用セルロースフィルムに用いられる可塑剤の用途においても糖類およびその誘導体は適している事が知られてきており、糖類およびその誘導体の中でも糖エステル化合物を用いた例が知られている（特許文献１、特許文献２）。
【０００６】
また、帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを得るためには、透明基材上に、帯電防止剤として４級アンモニウム塩基含有ポリマーなどのイオン伝導性化合物と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用いて帯電防止性ハードコート層を形成することが知られている（例えば特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２４７７１７号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／０３１４６４号
【特許文献３】特開２００９−２６３５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このような状況のもと、本発明者らがトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）などの従来用いられてきた可塑剤を代替または改良する観点から上記特許文献１及び２に記載された糖エステル化合物について、セルロースアシレートフィルムと組合せたときに得られるフィルムの物性を検討した。しかしながら、特許文献１及び２に記載された高置換度の糖エステル化合物を用いた場合には、高硬度、良好な帯電防止性及び高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性を同時に満たすことができず、さらなる改善が求められることがわかった。
【０００９】
本発明の目的は、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿下における帯電防止性が良好である光学フィルムを提供することにある。また、上述の光学フィルムを用いた良好な性能の反射防止フィルム、偏光板、およびこれを使用した画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らが上記課題を解決することを目的として鋭意研究したところ、帯電防止剤として有機系帯電防止剤と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用い、かつ可塑剤として特定のエステル置換度の範囲である糖エステル化合物を含有するセルロースアシレートフィルム基材を組み合わせて使用することで、透明性、ハードコート性、及び帯電防止性に優れ、かつ高温高湿環境下に曝露おける帯電防止性を改善できる光学フィルムが得られることを見出すに至った。
すなわち、上記課題は、以下の構成の本発明によって解決される。
【００１１】
１．
平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
２．
上記複数の糖エステル化合物全体に対するエステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下である上記１に記載の光学フィルム。
３．
上述の帯電防止性ハードコート層が、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものである上記１又は２に記載の光学フィルム。
４．
上記有機系帯電防止剤が、４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤である上記１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
５．
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤の含有率が、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の質量に対して１〜１２質量％である上記４に記載の光学フィルム。
６．
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下である上記１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
７．
上記塗布組成物を塗布、乾燥した後に硬化させる工程を有する、上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
８．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム上に直接、又は他の層を介して低屈折率層を有する反射防止フィルム。
９．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム又は上記８に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１０．
上記１〜６のいずれかに記載の光学フィルム、上記８に記載の反射防止フィルム、又は上記９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿下に暴露した後の帯電防止性が良好な光学フィルムを提供することができる。また、本発明の光学フィルムを用いることで、埃等の付着による視認性低下や、静電気による表示装置の破壊を防止し、耐久性に優れた反射防止フィルム、偏光板およびこれを使用した画像表示装置を提供することができる
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１４】
本発明の光学フィルムは、平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムである。
【００１５】
［セルロースアシレートフィルム基材］
本発明の光学フィルムにおけるセルロースアシレートフィルム基材は、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物と、セルロースアシレートとを含み、上述の糖エステル化合物の平均エステル置換度が６０％〜９４％である。
【００１６】
＜セルロースアシレート＞
本発明におけるセルロースアシレートは、アセチル置換度が２．７０以上２．９５未満であることが好ましい。アセチル置換度が２．７以上であると、後述する条件を満たす糖エステル化合物（例えば、特定の置換度のスクロースベンゾエートなど）との相溶性が良好であり、フィルムの透明性が良好となるため好ましい。さらに、透明性に加えて、透湿度や含水率が良好となるため好ましい。一方、置換度が２．９５未満であると光学性能が損なわれないため好ましい。
【００１７】
上記セルロースアシレートのアセチル置換度は、２．７５〜２．９０であることがさらに好ましく、２．８２〜２．８７であることが特に好ましい。なお、総アシル置換度の好ましい範囲も、上記アセチル置換度の好ましい範囲と同様である。
なお、アセチル基を含むアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。
【００１８】
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
上記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を上記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、上記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。
【００１９】
上記セルロースアシレートの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で４００００〜４０００００のものが好ましく、１０００００〜３５００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースアシレートはＭｗ／Ｍｎ比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。
本発明において、セルロースアシレート等の平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載の方法により、その比を計算することができる。
【００２０】
＜糖エステル化合物＞
本発明におけるセルロースアシレートフィルム基材は、平均エステル置換度が６０％〜９４％であるエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物を含有する。
上記糖エステル化合物をセルロースアシレートに添加することによりセルロースアシレートフィルム基材を作製し、上述のフィルム基材上に後述する帯電防止性ハードコート層を設けることで、優れた硬度と帯電防止性を有し、かつ高温高湿下に暴露した後の帯電防止性に優れる光学フィルムとすることができる。本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いることにより、正面コントラストを改良できる。
【００２１】
−糖残基−
上記糖エステル化合物とは、上述の化合物を構成する多糖中の置換可能な基（例えば、水酸基、カルボキシル基）の少なくとも１つと、少なくとも１種の置換基とがエステル結合されている化合物のことを言う。すなわち、ここで言う糖エステル化合物には広義の糖誘導体類も含まれ、例えばグルコン酸のような糖残基を構造として含む化合物も含まれる。すなわち、上記糖エステル化合物には、グルコースとカルボン酸のエステル体も、グルコン酸とアルコールのエステル体も含まれる。
上記糖エステル化合物を構成する多糖中の置換可能な基は、ヒドロキシル基であることが好ましい。
【００２２】
上記糖エステル化合物中には、糖エステル化合物を構成する多糖由来の構造（以下、糖残基とも言う）が含まれる。上記糖残基の単糖当たりの構造を、糖エステル化合物の構造単位と言う。上記糖エステル化合物の構造単位は、ピラノース構造単位またはフラノース構造単位を含むことが好ましく、全ての糖残基がピラノース構造単位またはフラノース構造単位であることがより好ましい。また、上記糖エステルが多糖から構成される場合は、ピラノース構造単位またはフラノース構造単位をともに含むことが好ましい。
【００２３】
上記糖エステル化合物の糖残基は、５単糖由来であっても６単糖由来であってもよいが、６単糖由来であることが好ましい。
【００２４】
上記糖エステル化合物中に含まれる構造単位の数は、２〜４であることが好ましく、２〜３であることがより好ましく、２であることが特に好ましい。すなわち、上記糖エステル化合物を構成する糖が２糖類〜４糖類であることが好ましく、２糖類〜３糖類であることがより好ましく、２糖類であることが特に好ましい。
【００２５】
本発明では、上記糖エステル化合物はヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を２〜４個含む糖エステル化合物であることがより好ましく、ヒドロキシル基の少なくとも１つがエステル化されたピラノース構造単位またはフラノース構造単位を２個含む糖エステル化合物であることがより好ましい。
【００２６】
上記単糖または２〜４個の単糖単位を含む糖類の例としては、例えば、エリトロース、トレオース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、アロース、アルトロース、グルコース、フルクトース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、トレハロース、イソトレハロース、ネオトレハロース、トレハロサミン、コウジビオース、ニゲロース、マルトース、マルチトール、イソマルトース、ソホロース、ラミナリビオース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、ラクトサミン、ラクチトール、ラクツロース、メリビオース、プリメベロース、ルチノース、シラビオース、スクロース、スクラロース、ツラノース、ビシアノース、セロトリオース、カコトリオース、ゲンチアノース、イソマルトトリオース、イソパノース、マルトトリオース、マンニノトリオース、メレジトース、パノース、プランテオース、ラフィノース、ソラトリオース、ウンベリフェロース、リコテトラオース、マルトテトラオース、スタキオース、バルトペンタオース、ベルバルコース、マルトヘキサオース、キシリトール、ソルビトールなどを挙げることができる。
【００２７】
好ましくは、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、トレハロース、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、スクラロース、キシリトール、ソルビトールであり、さらに好ましくは、アラビノース、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロースであり、特に好ましくは、キシロース、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、マルトース、セロビオース、スクロース、キシリトール、ソルビトールである。
【００２８】
−置換基の構造−
本発明に用いられる上記糖エステル化合物は、用いられる置換基を含め、下記一般式（１）で表される構造を有することがより好ましい。
一般式（１） （ＯＨ）ｐ−Ｇ−（Ｌ１−Ｒ１１）ｑ（Ｏ−Ｒ１２）ｒ
一般式（１）中、Ｇは糖残基を表し、Ｌ１は−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ１３−のいずれか一つを表し、Ｒ１１は水素原子または一価の置換基を表し、Ｒ１２はエステル結合で結合した一価の置換基を表す。ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒは上記Ｇが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しい。Ｒ１３は水素原子又は１価の置換基（好ましくはアルキル基）を表す。
【００２９】
上記Ｇの好ましい範囲は、上記糖残基の好ましい範囲と同様である。
【００３０】
上記Ｌ１は、−Ｏ−または−ＣＯ−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。上記Ｌ１が−Ｏ−である場合は、エーテル結合またはエステル結合由来の連結基であることが特に好ましく、エステル結合由来の連結基であることがより特に好ましい。
また、上記Ｌ１が複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３１】
Ｒ１１およびＲ１２の少なくとも一方は芳香環を有することが好ましい。
【００３２】
特に、上記Ｌ１が−Ｏ−である場合（すなわち上記糖エステル化合物中のヒドロキシル基にＲ１１、Ｒ１２が置換している場合）、上記Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３は置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアリール基、あるいは、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアミノ基の中から選択されることが好ましく、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは置換または無置換のアリール基であることがより好ましく、無置換のアシル基、置換または無置換のアルキル基、あるいは、無置換のアリール基であることが特に好ましい。
また、上記Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３がそれぞれ複数ある場合は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
上記ｐは０以上の整数を表し、好ましい範囲は後述する単糖ユニット当たりのヒドロキシル基の数の好ましい範囲と同様である。
上記ｒは上記Ｇに含まれるピラノース構造単位またはフラノース構造単位の数よりも大きい数を表すことが好ましい。
上記ｑは０であることが好ましい。
また、ｐ＋ｑ＋ｒは上記Ｇが環状アセタール構造の無置換の糖類であると仮定した場合のヒドロキシル基の数と等しいため、上記ｐ、ｑおよびｒの上限値は上記Ｇの構造に応じて一意に決定される。
【００３４】
上記糖エステル化合物の置換基の好ましい例としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、２−シアノエチル基、ベンジル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２のアリール基、例えば、フェニル基、ナフチル基）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアシル基、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基など）、アミド基（好ましくは炭素数１〜２２、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアミド、例えばホルムアミド基、アセトアミド基など）、イミド基（好ましくは炭素数４〜２２、より好ましくは炭素数４〜１２、特に好ましくは炭素数４〜８のアミド基、例えば、スクシイミド基、フタルイミド基など）を挙げることができる。その中でも、アルキル基またはアシル基がより好ましく、メチル基、アセチル基、イソブチリル基、ベンゾイル基がより好ましく、ベンゾイル基およびアセチル基のうち少なくとも一方であることが特に好ましく、ベンゾイル基がより特に好ましい。
【００３５】
上記糖エステル化合物の入手方法としては、市販品として（株）東京化成製、アルドリッチ製等から商業的に入手可能であり、もしくは市販の炭水化物に対して既知のエステル誘導体化法（例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載の方法）を行うことにより合成可能である。
【００３６】
上記糖エステル化合物は、数平均分子量が、好ましくは２００〜３５００、より好ましくは２００〜３０００、特に好ましくは２５０〜２０００の範囲が好適である。
【００３７】
以下に、本発明で好ましく用いることができる上記糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の態様に限定されるものではない。
【００３８】
以下の構造式中、Ｒはそれぞれ独立に任意の置換基を表し、複数のＲは同一であっても、異なっていてもよい。下記表１〜４中に記載した置換度は、各々の構造式のエステル置換可能な置換基において、どのような置換基種類で何個置換されたかを示す。例えば、下記例示化合物１１２においては、置換可能な８個の置換基の内、３つの置換基がベンゾイル基でエステル置換されていることを意味し、例示化合物１１７においては、置換可能な８個の置換基の全置換基がベンゾイル基で置換されていることを意味する。後述する実施例で示すこれら化合物のエステル置換度は各々３７．５％、１００％であり、エステル置換度が異なる複数種の化合物を併用する場合は、各化合物のエステル置換度と含有モル比率（モル分率）を掛けた数値の和を平均エステル置換度としている。
【００３９】
【化１】
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【化２】
【００４３】
【表３】
【００４４】
【化３】
【００４５】
【表４】
【００４６】
上記糖エステル化合物は、セルロースアシレートに対し２〜３０質量％含有することが好ましく、５〜２０質量％含有することがより好ましく、５〜１５質量％含有することが特に好ましい。
【００４７】
（異なるエステル置換度の糖エステル化合物の含有割合）
本発明では、エステル置換度が異なる糖エステル化合物を複数含み、上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度が６０％〜９４％である。糖エステル化合物の平均エステル置換度は、６０％〜８５％であることが好ましく、６５％〜８０％であることがより好ましい。このような範囲に上記糖エステル化合物の平均エステル置換度を制御することで、セルロースアシレートフィルム基材上に後述する帯電防止性ハードコート層を設けた場合に、透明性、ハードコート性、帯電防止性に優れ、かつ高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性に優れる光学フィルムとすることができる。
【００４８】
本発明では、セルロースアシレートフィルム中に含まれるエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物中、エステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下であることが、セルロースアシレートの透明性の観点から好ましい。より好ましくは、エステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が３０〜７５モル％以下であり、４５〜７５モル％以下が更に好ましい。
【００４９】
上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度は６０％〜９４％であり、６０％〜８５％であることが好ましく、６５％〜８０％であることがより好ましい。上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の平均エステル置換度を上記範囲に制御することは、上記エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物中の構造単位当たりのヒドロキシル基の平均の数を対応する範囲に制御することを意味する。上記糖エステル化合物中の構造単位当たりのヒドロキシル基の平均の数を制御することで、高温高湿下に曝露された際の、帯電防止性ハードコート層への糖エステル化合物の移動を抑制し、有機系帯電防止剤との相互作用を抑制することで帯電防止性能の耐久性を改善していると考えられる。また、平均エステル置換度を本発明の範囲とすることで、高い弾性率のセルロースアシレート基材フィルムとすることも可能であり、本発明の光学フィルムは高硬度と耐久性の両立が可能となる。
【００５０】
（異なるエステル置換度の複数の糖エステル化合物を調製する方法）
複数の上記エステル置換度が異なる糖エステル化合物を混合する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。また、複数の上記エステル置換度が異なる糖エステル化合物の混合のタイミングは、例えば溶液製膜法を採用する場合、セルロースアシレートドープに添加する前であってもよく、セルロースアシレートドープに複数の糖エステル化合物を個別に添加してもよい。
【００５１】
＜糖エステル化合物以外のその他の添加剤＞
（１）糖エステル化合物以外の可塑剤
本発明のセルロースアシレートフィルムは、上記糖エステル化合物以外の可塑剤として、多価アルコールエステル系疎水化剤、重縮合エステル系疎水化剤および炭水化物誘導体系疎水化剤の中から選ばれる少なくとも一つの疎水化剤を含むことが好ましい。上記疎水化剤としては、フィルムのガラス転移温度をできるだけ下げずに含水率を低減できるものが好ましい。このような疎水化剤を使用することにより高温高湿下においてセルロースアシレートフィルム中の添加剤が偏光子層へ拡散する現象を抑制でき、偏光子性能の劣化を改良することができる。
【００５２】
（多価アルコールエステル系疎水化剤）
上記多価アルコールは次の一般式（Ａ）で表される。
【００５３】
一般式（Ａ） Ｒ３１−（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒ３１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す）
好ましい上記多価アルコール系疎水化剤の例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【００５４】
中でも上記多価アルコール系疎水化剤としては、炭素数５以上の多価アルコールを用いた多価アルコールエステルが好ましい。特に好ましくは炭素数５〜２０である。
【００５５】
上記多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【００５６】
好ましい上記多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、これに限定されるものではない。
【００５７】
上記脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００５８】
好ましい上記脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。
【００５９】
好ましい上記脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。
【００６０】
好ましい上記芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。
【００６１】
上記多価アルコール系疎水化剤の分子量は特に制限はないが、３００〜３０００であることが好ましく、３５０〜１５００であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００６２】
上記多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、上記多価アルコール中のヒドロキシル基は、全てエステル化してもよいし、一部をヒドロキシル基のままで残してもよい。
【００６３】
以下に、上記多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
【００６４】
【化４】
【００６５】
【化５】
【００６６】
【化６】
【００６７】
【化７】
【００６８】
（重縮合エステル系疎水化剤）
上記重縮合エステル系疎水化剤は、少なくとも一種の芳香環を有するジカルボン酸（芳香族ジカルボン酸とも呼ぶ）と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることが好ましい。また、芳香族ジカルボン酸と少なくとも一種の脂肪族ジカルボン酸との混合物、と少なくとも一種の平均炭素数が２．５〜８．０の脂肪族ジオールとから得られることも好ましい。
【００６９】
上記ジカルボン酸残基の平均炭素数の計算は、ジカルボン酸残基とジオール残基で個別に行う。
上記ジカルボン酸残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値を平均炭素数とする。例えば、アジピン酸残基とフタル酸残基が５０モル％ずつから構成される場合は、平均炭素数７．０となる。
また、上記ジオール残基の場合も同様で、ジオール残基の平均炭素数は、ジオール残基の組成比（モル分率）を構成炭素数に乗じて算出した値とする。例えばエチレングリコール残基５０モル％と１，２−プロパンジオール残基５０モル％から構成される場合は平均炭素数２．５となる。
【００７０】
上記重縮合エステルの数平均分子量は５００〜２０００であることが好ましく、６００〜１５００がより好ましく、７００〜１２００がさらに好ましい。重縮合エステルの数平均分子量は６００以上であれば揮発性が低くなり、セルロースアシレートフィルムの延伸時の高温条件下における揮散によるフィルム故障や工程汚染を生じにくくなる。また、２０００以下であればセルロースアシレートとの相溶性が高くなり、製膜時及び加熱延伸時のブリードアウトが生じにくくなる。
上記重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。また、末端が封止のないポリエステルポリオールの場合、重量あたりのヒドロキシル基の量（以下、水酸基価とも言う）により算出することもできる。本明細書中において、水酸基価は、ポリエステルポリオールをアセチル化した後、過剰の酢酸の中和に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）を測定する。
【００７１】
芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との混合物をジカルボン酸成分として用いる場合は、ジカルボン酸成分の炭素数の平均が５．５〜１０．０のジカルボン酸であることが好ましく、より好ましくは５．６〜８である。
炭素数の平均が５．５以上であれば耐久性に優れた偏光板を得ることができる。炭素数の平均が１０以下であればセルロースアシレートへの相溶性が優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜過程でブリードアウトの発生を抑制することができる。
【００７２】
ジオールと、芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、芳香族ジカルボン酸残基が含まれる。
本明細書中では、残基とは、重縮合エステルの部分構造で、重縮合エステルを形成している単量体の特徴を有する部分構造を表す。例えばジカルボン酸ＨＯＯＣ−Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるジカルボン酸残基は−ＯＣ−Ｒ−ＣＯーである。
上記重縮合エステルの芳香族ジカルボン酸残基比率は４０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、４０ｍｏｌ％〜９５ｍｏｌ％であることがより好ましい。
芳香族ジカルボン酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られ、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。また、９５ｍｏｌ％以下であればセルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくくすることができる。
【００７３】
上記重縮合エステル系疎水化剤の形成に用いることができる芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸又は２，６−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。その中でもフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましく、フタル酸、テレフタル酸がより好ましく、テレフタル酸がさらに好ましい。
上記重縮合エステルには、混合に用いた芳香族ジカルボン酸に由来する芳香族ジカルボン酸残基が形成される。
すなわち、上記芳香族ジカルボン酸残基は、フタル酸残基、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、より好ましくはフタル酸残基、テレフタル酸残基の少なくとも１種を含み、さらに好ましくはテレフタル酸残基を含む。
上記重縮合エステルの形成における混合に、芳香族ジカルボン酸としてテレフタル酸を用いることで、よりセルロースアシレートとの相溶性に優れ、セルロースアシレートフィルムの製膜時及び加熱延伸時においてもブリードアウトを生じにくいセルロースアシレートフィルムとすることができる。また、上記芳香族ジカルボン酸は１種でも、２種以上を用いてもよい。２種用いる場合は、フタル酸とテレフタル酸を用いることが好ましい。
フタル酸とテレフタル酸の２種の芳香族ジカルボン酸を併用することにより、常温での重縮合エステルを軟化することができ、ハンドリングが容易になる点で好ましい。
上記重縮合エステルのジカルボン酸残基中における、テレフタル酸残基の含有量は４０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％であることが好ましい。
テレフタル酸残基比率を４０ｍｏｌ％以上とすることで、十分な光学異方性を示すセルロースアシレートフィルムが得られる。
【００７４】
ジオールと、脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、脂肪族ジカルボン酸残基が含まれる。
上記重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸又は１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
重縮合エステルには、混合に用いた脂肪族ジカルボン酸に由来する脂肪族ジカルボン酸残基が形成される。
脂肪族ジカルボン酸残基は、平均炭素数が５．５〜１０．０であることが好ましく、５．５〜８．０であることがより好ましく、５．５〜７．０であることがさらに好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が１０．０以下であれば化合物の加熱減量が低減でき、セルロースアシレートウェブ乾燥時のブリードアウトによる工程汚染が原因と考えられる面状故障の発生を防ぐことができる。また、脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数が５．５以上であれば相溶性に優れ、重縮合エステルの析出が起き難く好ましい。
上記脂肪族ジカルボン酸残基は、具体的には、コハク酸残基を含むことが好ましく、２種用いる場合は、コハク酸残基とアジピン酸残基を含むことが好ましい。
すなわち、重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いても、２種以上を用いてもよく、２種用いる場合は、コハク酸とアジピン酸を用いることが好ましい。重縮合エステルの形成における混合に、脂肪族ジカルボン酸を１種用いる場合は、コハク酸を用いることが好ましい。脂肪族ジカルボン酸残基の平均炭素数を所望の値に調整することができ、セルロースアシレートとの相溶性の点で好ましい。
【００７５】
重縮合エステルの形成における混合には、ジカルボン酸を２種又は３種を用いることが好ましい。２種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸とを１種ずつ用いることが好ましく、３種を用いる場合は脂肪族ジカルボン酸を１種と芳香族ジカルボン酸を２種又は脂肪族ジカルボン酸を２種と芳香族ジカルボン酸を１種用いることができる。ジカルボン酸残基の平均炭素数の値を調整しやすく、かつ芳香族ジカルボン酸残基の含有量を好ましい範囲とすることができ、偏光子の耐久性を向上し得るためである。
【００７６】
ジオールとジカルボン酸を含むジカルボン酸とから得られた重縮合エステルには、ジオール残基が含まれる。
本明細書中では、ジオールＨＯ−Ｒ−ＯＨより形成されるジオール残基は−Ｏ−Ｒ−Ｏ−である。
重縮合エステルを形成するジオールとしては、芳香族ジオール及び脂肪族ジオールが挙げられ、上記疎水化剤に用いられる重縮合エステルは少なくとも脂肪族ジオールから形成されることが好ましい。
上記重縮合エステルは、平均炭素数が２．５〜７．０の脂肪族ジオール残基を含むことが好ましく、より好ましくは平均炭素数が２．５〜４．０の脂肪族ジオール残基を含む。上記脂肪族ジオール残基の平均炭素数が７．０以下であるとセルロースアシレートとの相溶性が改善され、ブリードアウトが生じにくくなり、また、化合物の加熱減量が増大しにくくなり、セルロースアシレートウェブ乾燥時の工程汚染が原因と考えられる面状故障が発生し難くなる。また、脂肪族ジオール残基の平均炭素数が２．５以上であれば合成が容易である。
上記重縮合エステル系疎水化剤を形成することができる脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を好ましい例として挙げることができ、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が好ましい。これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。
【００７７】
より好ましい上記脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールの少なくとも１種であり、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールの少なくとも１種である。上記脂肪族ジオールを２種用いて上記重縮合エステルを形成する場合は、エチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールを用いることが好ましい。１，２−プロパンジオール、又は１，３−プロパンジオールを用いることにより重縮合エステルの結晶化を防止することができる。
上記重縮合エステルには、混合に用いたジオールによりジオール残基が形成される。
すなわち、上記重縮合エステルは、ジオール残基としてエチレングリコール残基、１，２−プロパンジオール残基、及び１，３−プロパンジオール残基の少なくとも１種を含むことが好ましく、エチレングリコール残基又は１，２−プロパンジオール残基であることがより好ましい。
上記重縮合エステルに含まれる脂肪族ジオール残基には、エチレングリコール残基が１０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることが好ましく、２０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％含まれることがより好ましい。
【００７８】
上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオールあるいはカルボン酸のままとしてもよく、さらにモノカルボン酸類又はモノアルコール類を反応させていわゆる末端の封止を実施してもよい。
封止に用いるモノカルボン酸類としては酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸等が好ましい。封止に用いるモノアルコール類としてはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等が好ましく、メタノールが最も好ましい。重縮合エステルの末端に使用するモノカルボン酸類の炭素数が７以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障が発生しない。
上記重縮合エステルの末端は、封止せずにジオール残基のままであることか、酢酸またはプロピオン酸又は安息香酸によって封止されていることがさらに好ましい。
上記重縮合エステルの両末端は、それぞれ、封止の実施の有無が同一であることを問わない。
縮合体の両末端が未封止の場合、重縮合エステルはポリエステルポリオールであることが好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５〜８．０であり、重縮合エステルの両末端は未封止である重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端が封止されている場合、モノカルボン酸と反応させて封止することが好ましい。このとき、上述の重縮合エステルの両末端はモノカルボン酸残基となっている。本明細書中では、モノカルボン酸Ｒ−ＣＯＯＨより形成されるモノカルボン酸残基はＲ−ＣＯ−である。重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸で封止されている場合、上記モノカルボン酸は脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、モノカルボン酸残基が炭素数２２以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがより好ましく、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸残基であることがさらに好ましい。また、炭素数２以上の脂肪族モノカルボン酸残基であることが好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
上記重縮合エステルの態様の一つとして脂肪族ジオール残基の炭素数が２．５より大きく７．０以下であり、重縮合エステルの両末端がモノカルボン酸残基で封止されている重縮合エステルを挙げることができる。
重縮合エステルの両末端を封止しているモノカルボン酸残基の炭素数が３以下であると、揮発性が低下し、重縮合エステルの加熱による減量が大きくならず、工程汚染の発生や面状故障の発生を低減することが可能である。
すなわち、封止に用いるモノカルボン酸類としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、モノカルボン酸が炭素数２から２２の脂肪族モノカルボン酸であることがより好ましく、炭素数２〜３の脂肪族モノカルボン酸であることがさらに好ましく、炭素数２の脂肪族モノカルボン酸残基であることが特に好ましい。
例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。
封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。
上記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止が好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基（アセチル残基と称する場合がある）となることが最も好ましい。
上記重縮合エステルの両末端を封止した場合は、常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となり、また湿度安定性、偏光板耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムを得ることができる。
【００７９】
下記表５に上記重縮合エステルの具体例Ａ−１〜Ａ−３４を記すが、これらに限定されるものではない。
【００８０】
【表５】
【００８１】
上記表５中の略称は、それぞれ以下の化合物を表す。ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２，６−ＮＰＡ：２，６−ナフタレンジカルボン酸。
【００８２】
上記重縮合エステルの合成は、常法によりジオールとジカルボン酸とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、上記重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号各公報などに記載されている素材を利用することもできる。
【００８３】
これらの疎水化剤の添加量は、セルロースアシレートに対して１〜２０質量％であることが好ましい。１質量％以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また２０質量％以下であれば、ブリードアウトも発生しにくい。さらに好ましい添加量は２〜１５質量％であり、特に好ましくは５〜１５質量％である。
【００８４】
これらの疎水化剤をセルロースアシレートフィルムに添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時セルロースアシレートと混合してもよい。
【００８５】
（２）レターデーション発現剤
本発明のフィルムは、レターデーション発現剤を含んでいてもよい。レターデーション発現剤を採用することにより、低延伸倍率で高いＲｅ発現性を得られる。レターデーション発現剤の種類としては、特に定めるものではないが、棒状または円盤状化合物からなるものや、上記非リン酸エステル系の化合物のうちレターデーション発現性を示す化合物を挙げることができる。上記棒状または円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物をレターデーション発現剤として好ましく用いることができる。
二種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【００８６】
レターデーション発現材としては、例えば特開２００４−５０５１６号公報、特開２００７−８６７４８号公報に記載されている化合物を用いることができるが、これらに限定されない。
円盤状化合物としては、例えば欧州特許出願公開第０９１１６５６Ａ２号明細書に記載の化合物、特開２００３−３４４６５５号公報に記載のトリアジン化合物、特開２００８−１５０５９２号公報［００９７］〜［０１０８］に記載されるトリフェニレン化合物も好ましく用いることもできる。
【００８７】
円盤状化合物は、例えば特開２００３−３４４６５５号公報に記載の方法、特開２００５−１３４８８４号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。
【００８８】
前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができ、例えば特開２００８−１５０５９２号公報［０１１０］〜［０１２７］に記載される棒状化合物を好ましく用いることができる。
【００８９】
（３） アクリル系ポリマー
本発明のセルロースアシレートフィルムには、重量平均分子量５００〜１０，０００のアクリル系ポリマーをさらに添加してもよい。好ましくは、重量平均分子量５００〜５０００である。
上記アクリル系ポリマーを添加すると、製膜後のセルロースアシレートフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。上記アクリル系ポリマーについては、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９０】
（４） 酸化防止剤、熱劣化防止剤
本発明では、酸化防止剤、熱劣化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系化合物のものを好ましく用いることができる。上記酸化防止剤、熱劣化防止剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９１】
（５） 着色剤
本発明においては、着色剤を使用してもよい。着色剤と言うのは染料や顔料を意味するが、本発明では、液晶画面の色調を青色調にする効果またはイエローインデックスの調整、ヘイズの低減を有するものを指す。上記着色剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９２】
（６） 微粒子
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
微粒子は珪素を含むものが、ヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましいのは７〜２０ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されることが好ましい。
セルロース誘導体フィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．１〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成のセルロース誘導体フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００，ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがセルロース誘導体フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。
【００９３】
（７） その他の添加剤
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムには、上記化合物以外に、通常のセルロースアシレートフィルムに添加することのできる添加剤を含有させることができる。
これらの添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤等を挙げることができる。
上記その他の添加剤については、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【００９４】
＜セルロースアシレートフィルム基材の製造方法＞
本発明のセルロースアシレートフィルム基材を製造する方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いて製膜することができる。具体的には、上記セルロースアシレートを含むフィルムを溶液流延製膜法または溶融製膜法を利用して製膜することができる。フィルムの面状を改善する観点から、本発明のフィルムの製造方法は、上記セルロースアシレートを含むフィルムを溶液流涎製膜により製膜する工程を含むことが好ましい。
以下、本発明のフィルムの製造方法を、溶液流延製膜法を用いる場合を例に説明するが、本発明は溶液流延製膜法に限定されるものではない。なお、本発明のフィルムの製造方法として上記溶融製膜法を用いる場合については、公知の方法を用いることができる。
【００９５】
（膜厚）
本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚は２０〜２００μｍであることが好ましく、２０〜８５μｍであることがより好ましく、２５〜６５μｍであることが更に好ましい。膜厚が２０μｍ以上であれば取り扱い性も良好で、機械的強度が不足せず生産時の破断等の故障が起こり難く、フィルム面状に優れる。
【００９６】
［帯電防止性ハードコート層］
本発明の光学フィルムは、上記セルロースアシレートフィルム基材上に少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する。
【００９７】
＜有機系帯電防止剤＞
本発明における有機系帯電防止剤としては、導電性ポリマーが好ましく、導電性ポリマーとしては、イオン導電性化合物（イオン導電性ポリマー）又は電子伝導性化合物（電子伝導性ポリマー）が挙げられ、モノマーや界面活性剤タイプの化合物よりブリードアウトしにくい点、汎用の有機溶媒への溶解性が高い点、帯電防止性に優れるという観点からイオン導電性ポリマーであることが好ましい。
【００９８】
（ａ．１）イオン伝導性化合物
イオン伝導性化合物としては、カチオン性、アニオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。
これらの中では、本発明の効果が得られ易いカチオン性、アニオン性の化合物が好ましく、特に化合物の帯電防止性能が高い観点から４級アンモニウム塩基を有するポリマー（カチオン性化合物）が好適である。
【００９９】
４級アンモニウム塩基含有ポリマーとしては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【０１００】
【化８】
【０１０１】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０１０２】
【化９】
【０１０３】
式中、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【０１０４】
【化１０】
【０１０５】
【化１１】
【０１０６】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−又は−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１及びＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。
Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
【０１０７】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１０８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。
【０１０９】
【化１２】
【０１１０】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【０１１１】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｚ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｚ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
【０１１２】
【化１３】
【０１１３】
【化１４】
【０１１４】
【化１５】
【０１１５】
【化１６】
【０１１６】
【化１７】
【０１１７】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止性ハードコート層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
【０１１８】
イオン伝導性化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば、製品名「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」（東洋インキ製造（株）製）、製品名「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」（日本合成化薬（株）製）、「ＡＳＣ−２０９Ｐ」（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
【０１１９】
イオン伝導性化合物として好適に用いられる４級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位（イオン性構造単位）の他に、これ以外の重合単位を有していて良い。
【０１２０】
イオン性構造単位以外の重合単位として用いることができる単量体の例としては、次の化合物が挙げられる。
【０１２１】
＜アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）＞
イオン伝導性化合物がイオン性構造単位以外の構造単位を持つことにより、組成物を作成する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。特に、イオン伝導性化合物がアルキレンオキサイド鎖を有することが好ましい。
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）は、下記一般式（２）で表され、例えば、エチレンオキシドのアルキルアルコールによる開環重合後、（メタ）アクリル酸メチルとのエステル交換反応、もしくは（メタ）アクリル酸クロライドとの反応により得ることができる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５）ＣＯＯ（ＡＯ）ｎＲ６ （２）
（式中、Ｒ５はＨまたはＣＨ３、Ｒ６は水素または炭素数が１〜２２の炭化水素基、ｎは２〜２００の整数、Ａは炭素数が２〜４のアルキレン基を表す。）
【０１２２】
上記一般式（２）において、アルキレンオキサイド基（ＡＯ）は、炭素数２〜４のアルキレンオキサイド基であり、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基が挙げられる。また、同一モノマー内に、炭素数が異なるアルキレンオキサイド基が存在していてもよい。
アルキレンオキサイド基数（ｎ）は２〜２００の整数であり、好ましくは１０〜１００の整数である。２以下、または１０１以上の場合は、後述する、不飽和二重結合を有する化合物との十分な相溶性が得られない場合がある。
Ｒ６は水素または炭素数１〜２２の炭化水素基である。炭素数２３以上では、原料が高価であるため実用的ではない。
炭素数１〜２２の炭化水素基としては、置換又は無置換のものが選択でき、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基が好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。これらは、２種類以上を併用しても良い。
【０１２３】
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物（ａ−２）としては、具体的には例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクチルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１２４】
＜（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）＞
さらに必要に応じて任意に上記（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）をラジカル共重合してもよい。
（ａ−２）と共重合可能な化合物（ａ−３）は、１つのエチレン性不飽和基を有する化合物であればよく、特に限定されるものでないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートやスチレン、メチルスチレン等が挙げられる。
【０１２５】
（ａ．２）電子伝導性化合物
電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である化合物が挙げられる。電子伝導性化合物は、１０−６Ｓ・ｃｍ−１以上の導電性を示すポリマーであることが好ましく、より好ましくは、１０−１Ｓ・ｃｍ−１以上の導電性を有する高分子化合物である。
【０１２６】
電子伝導性高分子は、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における上記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における上記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。
【０１２７】
また、非共役高分子又は共役高分子における上記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。
【０１２８】
電子伝導性高分子としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２９】
また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、電子伝導性高分子を構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。
【０１３０】
電子伝導性高分子としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。
これら共役高分子は置換基を有していてもよい。これらの共役高分子が有する置換基としては、後述の一般式（ｓ１）においてＲ１１として説明する置換基を挙げることができる。
【０１３１】
特に、電子伝導性高分子が下記一般式（ｓ１）で表される部分構造を有すること（即ちポリチオフェン及びその誘導体であること）が、高い透明性と帯電防止性を両立した光学フィルムを得るという観点から好ましい。
【０１３２】
【化１８】
【０１３３】
一般式（ｓ１）中、Ｒ１１は置換基を表し、ｍ１１は０〜２の整数を表す。ｍ１１が２を表すとき、複数のＲ１１は互いに同一であっても異なってもよく、互いに連結して環を形成してもよい。ｎ１１は１以上の整数を表す。
【０１３４】
Ｒ１１で表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、２−オクテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。）、
【０１３５】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、
【０１３６】
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、
【０１３７】
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、
【０１３８】
ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２で、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。具体的には、例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【０１３９】
上記Ｒ１１で表される置換基は、更に置換されていてもよい。また、置換基を複数有する場合、それらの置換基は互いに同じでも異なっていてもよく、また可能な場合は連結して環を形成してもよい。形成される環としては例えば、シクロアルキル環、ベンゼン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジチアン環等が挙げられる。
【０１４０】
Ｒ１１で表される置換基として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基であり、更に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基である。特に好ましくは、ｍ１１が２のとき、２つのＲ１１が環を形成したアルコキシ基、アルキルチオ基であり、ジオキサン環、ジチアン環を形成することが好適である。
【０１４１】
一般式（ｓ１）においてｍ１１が１のとき、Ｒ１１はアルキル基であることが好ましく、炭素数２〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ１１が、アルキル基であるポリ（３−アルキルチオフェン）であるとき、隣り合ったチオフェン環との連結様式はすべて２−５’で連結した立体規則的なものと、２−２’、５−５’連結が含まれる立体不規則的なものがあるが、立体的不規則なものが好ましい。
【０１４２】
本発明では、電子伝導性高分子としては、高い透明性と導電性を両立するという観点から、ポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン（下記具体例化合物（６）、ＰＥＤＯＴ）であることが特に好ましい。
【０１４３】
一般式（ｓ１）で表されるポリチオフェン及びその誘導体は、Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００５，１５，２０７７−２０８８．及びＡｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ２０００，１２（７），ｐａｇｅ ４８１など公知の方法によって作製することができる。また、市販品として、Ｄｅｎａｔｒｏｎ Ｐ５０２（ナガセケムテック社製）、３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ（ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｍ
Ｖ２）、３，４−ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｅｎｅ／ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ （ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ）、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｃ）、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｆ Ｅ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｍ
Ｖ２、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＡＧ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＨＣ Ｖ４、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）Ｐ ＨＳ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ ５００、ＢＡＹＴＲＯＮ（登録商標）ＰＨ ５１０（以上、シュタルク社製）などを入手することができる。
ポリアニリン及びその誘導体としては、ポリアニリン（アルドリッチ社製）、ポリアニリン（エレラルダイン塩）（アルドリッチ社製）などを入手することができる。
ポリピロール及びその誘導体としては、ポリピロール（アルドリッチ社製）などを入手することができる。
【０１４４】
以下に、電子伝導性高分子の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、ｘ及びｙは繰り返し単位の数を表す。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。
【０１４５】
【化１９】
【０１４６】
【化２０】
【０１４７】
（有機溶剤への可溶性）
電子伝導性高分子は、塗布性及び（ｂ）成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。
より具体的には、電子伝導性高分子は、含水率が５質量％以下で比誘電率が２〜３０の有機溶剤中に少なくとも１．０質量％で可溶であることが好ましい。
ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
【０１４８】
一般に、電子伝導性高分子は親水性が高く従来では水を主成分とする溶媒に溶解するが、このような電子伝導性高分子を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性高分子を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば後述の可溶化補助剤等）や、有機溶剤中での分散剤等を添加する方法が挙げられる。また、電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントを用いる場合は、後述するようにポリアニオンドーパントの疎水化処理を行うことが好ましい。
更に、電子伝導性高分子を脱ドープ状態（ドーパントを用いない状態）で有機溶剤への溶解性を向上させおき、塗布膜形成後にドーパントを加えて導電性を発現させる方法も用いることができる。
【０１４９】
上記以外にも、有機溶剤への溶解性を向上させる方法としては下記文献に示す方法を用いることも好ましい。
例えば、特開２００２−１７９９１１号公報では、ポリアニリン組成物を脱ドープ状態で有機溶媒に溶解させておき、上述の素材を基材上に塗布し、乾燥させた後、プロトン酸と酸化剤とを溶解又は分散させた溶液にて酸化及びドーピング処理する事によって導電性を発現させる方法が記載されている。
また、国際公開第０５／０３５６２６号公報には、水層及び有機層からなる混合層においてスルホン酸及びプロトン酸基を有する水不溶性有機高分子化合物の少なくとも一種の存在下にアニリン又はその誘導体を酸化重合するに際し、分子量調整剤及び、必要に応じ、相間移動触媒を共存させることにより有機溶媒に安定に分散する導電性ポリアニリンを製造する方法が記載されている。
【０１５０】
上記有機溶剤としては、例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。以下、具体的化合物を例示する（括弧内に比誘電率を記す。）。
アルコール類としては、例えば１価アルコール又は２価アルコールを挙げることができる。このうち１価アルコールとしては炭素数２〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、エチルアルコール（２５．７）、ｎ−プロピルアルコール（２１．８）、ｉ−プロピルアルコール（１８．６）、ｎ−ブチルアルコール（１７．１）、ｓｅｃ−ブチルアルコール（１５．５）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（１１．４）などを挙げることができる。
【０１５１】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン（２．３）、トルエン（２．２）、キシレン（２．２）などを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン（７．５）、エチレングリコールモノメチルエーテル（１６）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノエチルエーテル（１４）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（８）、エチレングリコールモノブチルエーテル（９）などを、ケトン類の具体例としては、アセトン（２１．５）、ジエチルケトン（１７．０）、メチルエチルケトン（１５．５）、ジアセトンアルコール（１８．２）、メチルイソブチルケトン（１３．１）、シクロヘキサノン（１８．３）などを、エステル類の具体例としては、酢酸メチル（７．０）、酢酸エチル（６．０）、酢酸プロピル（５．７）、酢酸ブチル（５．０）などを挙げることができる。
【０１５２】
電子伝導性高分子は、有機溶剤中に少なくとも１．０質量％で可溶なものであることが好ましく、少なくとも１．０〜１０．０質量％で可溶であることがより好ましく、少なくとも３．０〜３０．０質量％で可溶であることが更に好ましい。
上記有機溶剤中、電子伝導性高分子は粒子状に存在していてもよい。この場合、平均粒子サイズは３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。上記粒子サイズとすることで、有機溶剤中での沈降を抑制することができる。粒子サイズの下限は特に限定されないが、通常１ｎｍ以上である。
【０１５３】
（疎水化処理）
前述のように電子伝導性高分子と共にポリアニオンドーパントを用いる場合、電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントとを含む組成物に対して疎水化処理を行うことが好ましい。上記組成物に対して疎水化処理を行うことで、電子伝導性高分子の有機溶剤への溶解性を向上させ、（Ｂ）重合性基を二つ以上有する多官能モノマーとの親和性を向上させることができる。疎水化処理は、ポリアニオンドーパントのアニオン基を修飾することにより行うことができる。
具体的には、疎水化処理の第１の方法としては、アニオン基をエステル化、エーテル化、アセチル化、トシル化、トリチル化、アルキルシリル化、アルキルカルボニル化する等の方法が挙げられる。中でもエステル化、エーテル化が好ましい。エステル化により疎水化する方法は、例えば、ポリアニオンドーパントのアニオン基を塩素化剤により塩素化し、その後メタノールやエタノール等のアルコールによりエステル化する方法が挙げられる。また、ヒドロキシル基又はグリシジル基を有する化合物で更に不飽和２重結合性基を有する化合物を用いて、スルホ基やカルボキシ基とエステル化して疎水化することもできる。
本発明においては従来公知の種々の方法を用いることができるが、その一例として、特開２００５−３１４６７１号公報、及び特開２００６−２８４３９号公報等に具体的に記載されている。
【０１５４】
疎水化処理の第２の方法としては、塩基系の化合物をポリアニオンドーパントのアニオン基に結合させて疎水化する方法が挙げられる。塩基系の化合物としてはアミン系の化合物が好ましく、１級アミン、２級アミン、３級アミン、芳香族アミン等が挙げられる。具体的には、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換された１級〜３級のアミン、炭素数が１〜２０のアルキル基で置換されたイミダゾール、ピリジンなどが挙げられる。有機溶剤への溶解性向上のためにアミンの分子量は５０〜２０００が好ましく、更に好ましくは７０〜１０００、最も好ましくは８０〜５００である。
【０１５５】
塩基系疎水化剤であるアミン化合物の量は、電子伝導性高分子のドープに寄与していないポリアニオンドーパントのアニオン基に対して０．１〜１０．０モル当量であることが好ましく、０．５〜２．０モル当量であることがより好ましく、０．８５〜１．２５モル当量であることが特に好ましい。上記範囲で、有機溶剤への溶解性、導電性、塗膜の強度を満足することができる。
その他疎水化処理の詳細については、特開２００８−１１５２１５号公報、及び特開２００８−１１５２１６号公報等に記載の事項を適用することができる。
【０１５６】
（可溶化補助剤）
上記電子伝導性高分子は、分子内に親水性部位と疎水性部位と好ましくは電離放射線硬化性官能基を有する部位を含む化合物（以下、可溶化補助剤という。）と共に用いることができる。
可溶化補助剤を用いることで、電子伝導性高分子の含水率の低い有機溶剤への可溶化を助け、更には本発明における組成物による層の塗布面状改良や硬化皮膜の強度を上げることができる。
可溶化補助剤は、親水部位、疎水部位、電離放射線硬化性官能基含有部位を有する共重合体であることが好ましく、これら部位がセグメントに分かれているブロック型又はグラフト型の共重合体であることが特に好ましい。このような共重合体は、リビングアニオン重合、リビングラジカル重合、又は上記部位を有したマクロモノマーを用いて重合することができる。
可溶化補助剤については、例えば特開２００６−１７６６８１号公報の［００２２］〜［００３８］等に記載されている。
【０１５７】
（電子伝導性高分子を含む溶液の調製方法）
電子伝導性高分子は、上記有機溶剤を用いて溶液の形態で調製することができる。
電子伝導性高分子の溶液を調製する方法はいくつかの方法があるが、好ましくは以下の３つの方法が挙げられる。
第一の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下で電子伝導性高分子を水中で重合し、その後必要に応じて上記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤を加えて処理し、その後水を有機溶媒に置換する方法である。第二の方法は、ポリアニオンドーパントの共存下で電子伝導性高分子を水中で重合し、その後必要に応じて上記可溶化補助剤又は塩基系疎水化剤で処理し、水を蒸発乾固させた後に、有機溶剤を加え可溶化する方法である。第三の方法は、π共役系導電性高分子とポリアニオンドーパントをそれぞれ別途調製した後に、両者を溶媒中で混合分散し、ドープ状態の導電性高分子組成物を調製し、溶剤に水を含む場合には水を有機溶媒に置換する方法である。
【０１５８】
上記の方法において、可溶化補助剤の使用量は電子伝導性高分子とポリアニオンドーパントの合計量に対して、１〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは２〜７０質量％、最も好ましくは５〜５０質量％である。また、第一の方法において水を有機溶剤に置換する方法は、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンのような水混和性の高い溶剤を加えて用いて均一溶液とした後、限外ろ過を行い水を除去する方法が好ましい。また、水混和性の高い溶剤を用いて含水率をある程度低下させた後、より疎水的な溶剤を混合し減圧下で揮発性の高い成分を除去し溶剤組成を調整する方法が挙げられる。また、塩基系疎水化剤を用いて十分な疎水化を行えば、水との混和性の低い有機溶剤を加えて、分離した２相系とし水相中の有機導電性高分子を有機溶剤相に抽出することも可能である。
【０１５９】
帯電防止性の向上、及びブリードアウトによるムラの発生を抑制するという理由から、イオン伝導性化合物の重量平均分子量は２千〜５０万が好ましく、５千〜３０万がより好ましい。電子伝導性化合物の重量平均分子量は２万〜５０万が好ましく、２万〜３０万がより好ましく、２万〜１０万が更に好ましい。ここで重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定されるポリスチレン換算重量平均分子量である。
【０１６０】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の導電性ポリマーの含有量は、高硬度で高い帯電防止性能を付与する観点から、上述の塗布組成物の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、１〜１２質量％であることが好ましく、１〜１０質量％がより好ましく、１．５〜８質量％が更に好ましい。１質量％以上であれば帯電防止性能を発現することができる。また、１２質量％以下であれば帯電防止性能と膜強度（鉛筆硬度）を向上させることができ、コストの面からも好ましい。
【０１６１】
＜分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物＞
本発明における帯電防止性ハードコート層は、上記有機系帯電防止剤に加えて、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含有する塗布組成物から形成される。
【０１６２】
分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物はバインダーとして機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させる観点から、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましく、（メタ）アクリロイル基を分子中に３つ以上有する多官能モノマーであることがより好ましい。
また、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物は電離放射線硬化型の化合物であることが好ましい。
【０１６３】
分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１６４】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学(株)製Ａ−ＴＭＭＴ、同Ａ−ＤＰＨ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１６５】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物としては、良好な硬度と高い帯電防止性能とを達成する観点から、極性基を含有するものが少ない方が好ましく、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基の含有量が少ないものが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって、更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが更に好ましい。
【０１６６】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の含有量は、塗膜高硬度を達成する観点から、上述の塗布組成物の全固形分に対して、５０〜９５質量％であることが好ましく、７０〜９５質量％がより好ましく、８０〜９５質量％が更に好ましい。
【０１６７】
＜光重合開始剤＞
帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物は光重合開始剤を含有してもよい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１６８】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１６９】
本発明における帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物中の光重合開始剤の含有量は塗布組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１７０】
本発明における帯電防止性ハードコート層は、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものであることが特に好ましい。
【０１７１】
（その他の機能性層）
本発明の光学フィルムは帯電防止性ハードコート層以外の機能性層を有していてもよい。機能性層としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。例えば以下の態様の光学フィルムを挙げることができる。
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／ハードコート層／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／防眩層
基材フィルム／防眩層／帯電防止性ハードコート層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／防眩層／低屈折率層
【０１７２】
［帯電防止性ハードコート層の物性］
本発明における帯電防止性ハードコート層は、屈折率が１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。上記範囲内とすることで基材との干渉ムラを抑制し、更に低屈折率層を積層した際の反射色味をニュートラルにすることができるため好ましい。
【０１７３】
帯電防止性ハードコート層の膜厚は、１μｍ以上であることが好ましく、４μｍ〜２０μｍがより好ましく、６μｍ〜１８μｍが更に好ましく、６μｍ〜１５μｍが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と導電性を両立することができる。
また、帯電防止性ハードコート層の強度は高いほど好ましいが、鉛筆硬度試験で、実用的には３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることがより好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１７４】
帯電防止性ハードコート層の透過率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
【０１７５】
［光学フィルムの物性］
本発明の光学フィルムの表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、２５℃６０％環境下で１０．０以下であることが好ましく、９．３以下であることが更に好ましい。表面抵抗率を上記範囲にすることで表示面への埃等の付着による視認性低下を防止すると共に、静電気による表示装置の破壊防止性を付与することが可能となる。
【０１７６】
本発明の光学フィルムの全ヘイズ値が０．１％以上１％未満で、かつＪＩＳ Ｂ０６０１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３μｍ以下であることが好ましい。各値が上記範囲にあると、透光性や平滑性に優れ、視認性が良好となるため好ましい。
全ヘイズ値としては０．１％以上０．５％未満がより好ましい。Ｒａは０．００１μｍ以上０．０１５μｍ以下であることがより好ましい。
【０１７７】
（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず帯電防止性ハードコート層形成用組成物が調製される。次に、上述の組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０１７８】
塗布した後、乾燥、光照射して帯電防止性ハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これにより帯電防止性ハードコート層が形成される。必要に応じて、基材フィルム上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層など）を塗設しておき、その上に帯電防止性ハードコート層を形成することも可能であるし、基材フィルム上に本発明の帯電防止性ハードコート層を塗設した上に、その他の層を塗設することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。
本発明の光学フィルムの製造方法としては、透明基材上に上記帯電防止性ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化して帯電防止性ハードコート層を形成する工程を有する方法が好ましい。
【０１７９】
帯電防止性ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子等のマット粒子を含有してもよい。
【０１８０】
帯電防止性ハードコート層のバインダーには、層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を挙げることができる。
【０１８１】
（防眩層）
本発明では上記帯電防止性ハードコート層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１８２】
本発明の光学フィルムで、例えば透明支持体上に防眩層／帯電防止性ハードコート層の２層が積層された構成を得る場合、上記２層を一回の塗布工程で２層の塗布層を同時に塗布形成される方法を用いることもできる。
この際、帯電防止性ハードコート層と防眩層の２層を一回の塗布工程で同時に塗布形成することにより低コストで高い生産性を得る事が可能となる。一回の塗布工程で２層を同時に形成する方法としては、公知の方法を用いることができる。具体的には、特開２００７−２９３３０２号公報の段落番号［００３２］〜［００５６］等に記載の方法を利用することができる。
【０１８３】
（高屈折率層及び中屈折率層）
本発明の光学フィルムは、更に高屈折率層や中屈折率層を有してもよい。
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１８４】
中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。
【０１８５】
（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、上記帯電防止性ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
この場合、低屈折率層は、上記帯電防止性ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を有するが、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
【０１８６】
低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。
【０１８７】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１８８】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止性ハードコート層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
【０１８９】
本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルロースアセテートフィルムであることが好ましい。
【０１９０】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と上述の偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、上述の保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０１９１】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１９２】
光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１９３】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０１９４】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、上述の偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１９５】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１９６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０１９７】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１９８】
〔実施例Ａ〕
［基材フィルムの作製］
（１）エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物の調製
下記表６に記載のエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物を以下の方法で調製した。
まず、上記表１に記載の化合物１１２〜１１７を国際公開第２００９／０３１４６４号〔００５４〕例示化合物３の合成に記載の方法で合成した。
また、その他の化合物（スクロースアセチレートなど）については、同様の方法で合成した。その後、これらを混合し、糖エステル化合物を調製した。なお、合成した糖エステル化合物は、全て反応溶媒であるトルエンの減圧乾燥（１０ｍｍＨｇ以下）を行い、残留溶剤が１００ｐｐｍ未満であるものを使用した。
【０１９９】
（糖エステル化合物の平均置換度の測定法）
以下のＨＰＬＣ条件下で保持時間毎の面積比を測定し、全面積合計値に対する置換度を算出した。
《ＨＰＬＣ測定条件》
カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−１００Ｚ（東ソー）、４．６＊１５０ｍｍ、ロット番号（Ｐ００１４）
溶離液Ａ：Ｈ２Ｏ＝１００、 溶離液Ｂ：ＡＲ＝１００。Ａ，ＢともにＡｃＯＨ、ＮＥｔ３各０．１％入り
流量：１ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度：４０℃、波長：２５４ｎｍ、感度：ＡＵＸ２、注入量：１０μｌ、リンス液：ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ＝９／１（ｖｏｌ比）
サンプル濃度：５ｍｇ／１０ｍｌ（ＴＨＦ）
【０２００】
（２）ドープ調製
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、さらに９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８５、分子量３０万のセルロースアセテート
１００．０質量部
下記表６中比較例１記載のエステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物総量
８．０質量部
メチレンクロライド ３６５．８質量部
メタノール ９２．６質量部
ブタノール ４．６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０１】
マット剤分散液
次に上記方法で作成したセルロースアシレート溶液を含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤分散液
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・マット剤（平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子、「アエロジルＲ９７２」、日本アエロジル（株）製） ０．２質量部
・メチレンクロライド ６５．７質量部
・メタノール １６．６質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースアシレート溶液１ １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記セルロースアシレート溶液１を１００質量部、マット剤分散液をセルロースアセテート樹脂に対して無機微粒子が０．０２質量部となる量を混合し、製膜用ドープを調製した。
【０２０２】
（３）流延
上述の各ドープを３０℃に加温し、ドラム製膜機を用いて流延した。なお、ドラムはＳＵＳ製でドラムの表面温度は−５℃に、流延部全体の空間温度は１５℃に設定した。
【０２０３】
（４）乾燥
流延されて得られた各ウェブ（フィルム）をドラムから剥ぎ取った後、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用い、上述のテンター装置内で４０℃で風乾燥を行った。
【０２０４】
（５）延伸
乾燥後テンター装置にクリップされた各ウェブ（フィルム）が、フィルム全体の質量に対する残留溶媒量が３０〜５％の状態のときにテンターを用いてフィルム搬送方向に直交する方向（横方向）に１０％延伸した。
その後にセルロースアシレートフィルムからクリップを外して１１０℃で３０分間乾燥させた。このとき、延伸後の膜厚が４０μｍになるように、流延膜厚を調整した。
これら方法により比較例１で用いたセルロースアセテートフィルム基材１を作製した。
【０２０５】
下記表６に示した糖エステル化合物のエステル置換度、比率又は可塑剤の種類となるように変更した以外は比較例１で用いるセルロースアセテートフィルム基材１と同様にして製膜用ドープを調製し、流延、乾燥、延伸を行って、各実施例および比較例のセルロースアセテートフィルム基材を得た。なお、各々のフィルム基材の糖エステル化合物は、表６に示すエステル置換度のものを表６に記載のモル比率（ｍｏｌ％）で混合したものを用いた。
比較例４で用いるフィルム基材は、糖エステル化合物の代わりに、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）とビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）の比率が３：１の混合物を用いて製膜用ドープを作製し、同様の方法でフィルム基材を作製した。
【０２０６】
〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液を調製し、フィルム基材上に帯電防止性ハードコート層を形成して、光学フィルムを作製した。
【０２０７】
（帯電防止性ハードコート層形成用塗布液の調製）
下記表７に示す成分をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１〜ＨＣ−１４とした。表７の各成分の添加量の単位は質量部である。
【０２０８】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物 トリアクリレート比率５７％ 新中村化学工業（株）製
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート 新中村化学工業（株）製
ビスコート２９５：トリメチロールプロパントリアクリレート 大阪有機化学(株)製
ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９（ＥＢ−５１２９）：脂肪族６官能ウレタンアクリレート ダイセル化学工業(株)製
ブレンマーＧＭＲ：グリセリンジメタクリレート 日本油脂(株)製
ＳＡＳ−ＰＥ：ポリチオフェンのポリスチレンスルホン酸塩を含有する導電性ポリマー
信越ポリマー(株)製
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン：重合開始剤「イルガキュア１８４」 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【０２０９】
（帯電防止性ハードコート層の作製）
上記方法で得られたセルロースアセテートフィルム基材上に、帯電防止性ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃で約２分間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍの帯電防止性ハードコート層を形成し、光学フィルム試料を作製した。
【０２１０】
［帯電防止性（１）］
２５℃、６０％ＲＨ条件下に光学フィルム試料を２時間置いた後、超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて表面抵抗を測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）がより小さい方が帯電防止性が良好であり、得られたｌｏｇＳＲについて以下の基準で評価し、結果を表６に示した。
Ａ ：ｌｏｇＳＲ≦９．３
Ｂ ：９．３＜ｌｏｇＳＲ≦１０．０
Ｃ ：１０．０＜ｌｏｇＳＲ＜１０．７
Ｄ：ｌｏｇＳＲ≧１０．７
【０２１１】
［鉛筆硬度］
得られた試料を２３℃、５０％ＲＨの条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５６００が規定する鉛筆硬度評価法に従い、７５０ｇのおもりを用いて各硬度の鉛筆で引っ掻きを、計５回×５セット繰り返した。各試験セット毎に目視評価を行い、５回中３回以上傷が無いまでの鉛筆硬度を５セット平均で０．５Ｈ刻みで算出し、その試料サンプルの硬度とした。尚、ＪＩＳ Ｋ ５４００で定義される傷は塗膜の破れ、塗膜のすり傷であり、塗膜のへこみは対象としないと記載されているが、ここでは、塗膜のへこみも含めて傷と判断して評価した。得られた結果を表６に示した。
【０２１２】
［高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)］
８０℃、９０％ＲＨ条件下に光学フィルム試料を５００時間保管し、取り出して一旦水分が無くなるまで乾燥させた。その後、上記帯電防止性（１）と同様に２５℃、６０％ＲＨ条件で試料を２時間放置して評価を行い、帯電防止性（１）で得られた評価値とのｌｏｇＳＲの差(ΔｌｏｇＳＲ)を評価した。ΔｌｏｇＳＲが小さい程、高温高湿環境下に曝露された後の帯電防止性が良好であることを示しており、以下の基準で評価した。得られた結果を表６に示した。
Ａ ：ΔｌｏｇＳＲ＜０．３
Ｂ ：０．３≦ΔｌｏｇＳＲ＜１．０
Ｃ ：１．０≦ΔｌｏｇＳＲ＜２．０
Ｄ ：ΔｌｏｇＳＲ≧２．０
【０２１３】
【表６】
【０２１４】
【表７】
【０２１５】
〔実施例Ｂ〕
〔反射防止フィルムの作製〕
（パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１の合成）
特開２０１０−１５２３１１号公報に記載のパーフルオロオレフィン共重合体（１）と同様の方法で、パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１を調製した。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であった
【０２１６】
【化２１】
【０２１７】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０２１８】
（中空シリカ分散液Ａ−１の調製）
特開２００７−２９８９７４号公報に記載の分散液Ａ−１と同様の方法を用いて条件を調整し、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３１の中空シリカ粒子分散液Ａ−１（固形分濃度１８．２質量％）を調製した。
【０２１９】
（低屈折率層形成用組成物Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、低屈折率層形成用組成物Ａ−１（固形分濃度１２．５質量％）とした。
パーフルオロオレフィン共重合体Ｐ−１ １４．８質量部
エチルメチルケトン １５７．７質量部
ＤＰＨＡ ３．０質量部
中空シリカ粒子分散液Ａ−１ ２１．２質量部
イルガキュア１２７ １．３質量部
Ｘ２２−１６４Ｃ ２．１質量部
【０２２０】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・Ｘ２２−１６４Ｃ：反応性シリコーン（信越化学（株）製）
・イルガキュア１２７：光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製）
【０２２１】
（低屈折率層の作製）
作製した実施例７の光学フィルム（試料Ｎｏ．８）の帯電防止性ハードコート層上に、低屈折率層形成用組成物Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、反射防止フィルム試料Ｒ−１を得た。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
【０２２２】
実施例１０の光学フィルム（試料Ｎｏ．１１）の帯電防止性ハードコート層上にも同様に低屈折率層形成用組成物Ａ−１を塗布し、反射防止フィルム試料Ｒ−２を得た。
【０２２３】
（鏡面反射率）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。結果を表８に併せて示す。なお、表８中の各々の性能は全て反射防止フィルムの形態で評価した結果である。
【０２２４】
【表８】
【０２２５】
〔実施例Ｃ〕
(複数の糖エステル化合物の混合物の調製）
実施例Ａと同様な方法により上記表１に記載の化合物１１２〜１１７、および上記表４に記載の１１８、１２０、１２２を合成した。
その後、下記表９に記載の組成（モル分率にて表示）となるように所定の各糖エステル化合物を混合し、糖エステル化合物の混合物を調製した。
【０２２６】
（セルロースエステル溶液Ｄ−１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ｄ−１を調製した。セルロースエステルのアセチル置換度はＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて測定した。粘度平均重合度は宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定した。
【０２２７】
セルロースエステル溶液Ｄ−１の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物の混合物（表９記載の組成） ４．０質量部
・メチレンクロライド ３７５質量部
・メタノール ８２質量部
・ブタノール ５質量部
【０２２８】
（マット剤分散液Ｍ−１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｍ−１を調製した。
【０２２９】
マット剤分散液Ｍ−１の組成
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製 １０．０質量部
・メチレンクロライド ６２．５質量部
・メタノール １４．１質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−１ １０．３質量部
【０２３０】
（紫外線吸収剤溶液Ｕ−１の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を調製した。
【０２３１】
紫外線吸収剤溶液Ｕ−１の組成
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５４．３質量部
・メタノール １２．０質量部
・ブタノール ０．７質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−１ １２．９質量部
【０２３２】
【化２２】
【０２３３】
（試料３１〜３９の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、表９に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、８．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３４】
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−１を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり、０．０２６質量部となるように加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３５】
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−１に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−１を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−１を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり、０．０７８質量部となるように加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２３６】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が６μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚２９μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚５μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は４℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムを残留溶媒量が２４０％の状態でドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に６％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚は４０μｍであった。
このようにして試料３１〜３９の基材フィルムを作製した。
【０２３７】
(試料３１〜３９の光学フィルムの作製)
実施例Ａで使用した帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液ＨＣ−６を用いて上記の各基材フィルムの第１層側上に帯電防止性ハードコート層を形成した。
実施例Ａと同様にグラビアコーターを使用して塗布を行い、紫外線照射による膜の硬化を行った。帯電防止性ハードコート層の設計膜厚は８μｍであった。
(試料３１〜３９の性能評価)
実施例Ａと同じ方法で、帯電防止性（１）、鉛筆硬度、高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)の３項目の評価を行った。
その結果を表９に記載した。
【０２３８】
【表９】
【０２３９】
〔実施例Ｄ〕
（セルロースエステル溶液Ｄ−２の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ｄ−２を調製した。
【０２４０】
セルロースエステル溶液Ｄ−２の組成
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０） １００質量部
・糖エステル化合物の混合物（表１０記載の組成） ４．０質量部
・メチレンクロライド ３７５質量部
・メタノール ８２質量部
・ブタノール ５質量部
【０２４１】
（マット剤分散液Ｍ−２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｍ−２を調製した。
【０２４２】
マット剤分散液Ｍ−２の組成
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製 １０．０質量部
・メチレンクロライド ６２．５質量部
・メタノール １４．１質量部
・ブタノール ０．８質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−２ １０．３質量部
（紫外線吸収剤溶液Ｕ−２の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を調製した。
【０２４３】
紫外線吸収剤溶液Ｕ−２の組成
・紫外線吸収剤（ＵＶ−１） １０．０質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−２） １０．０質量部
・メチレンクロライド ５４．３質量部
・メタノール １２．０質量部
・ブタノール ０．７質量部
・セルロースエステル溶液Ｄ−２ １２．９質量部
【０２４４】
（試料４１〜４３の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、表１０に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、８．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４５】
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０２６質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４６】
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０７８質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
表層用ドープに使用する全溶剤中のメチレンクロライドの比率は、８３質量％以上９７質量％以下であることが好ましく、８３質量％以上９２質量％以下であることがより好ましく、その範囲であればセルロースエステルフィルムにハードコート層を塗設した場合の密着性が良好であり、さらに偏光板のリワーク性が良好である。
【０２４７】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が６μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚２９μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚５μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は４℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムを残留溶媒量が２４０％の状態でドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に６％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚を４０μｍとして試料４１〜４３の基材フィルムを作製した。
セルロースエステルフィルムの搬送方向もしくは幅方向の延伸については、ハードコート層付フィルム単体のカール、偏光板形態のカールの調整に有効であり、３％以上２０％以下が好ましく、５％以上１５％以下がより好ましい範囲である。
【０２４８】
（試料４４〜４６の基材フィルムの作製）
（コア層用ドープの調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、表９に記載した組成の糖エステル化合物の混合物をセルロースエステル１００質量部当たり、１１．０質量部を添加し、さらに紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
（表層用ドープ１の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０２６質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
（表層用ドープ２の調製）
セルロースエステル溶液Ｄ−２に、セルロースエステル１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）及び紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．２質量部となるように紫外線吸収剤溶液Ｕ−２を加え、さらにマット剤分散液Ｍ−２を、シリカ粒子がセルロースエステル１００質量部当たり０．０７８質量部に、メチレンクロライドをドープ溶剤の８５重量％となるように加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。
【０２４９】
各基材フィルムについて、得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上にダイから３層構成で共流延した。支持体上に接する第１層は、上記表層ドープ１を乾燥膜厚が２μｍとなるように、第２層は上記コア層用ドープを乾燥膜厚５４μｍとなるように、第３層は上記表層用ドープ２を膜厚４μｍの表層になるように作製した。支持体の表面温度は−７℃に設定し、流延幅は１４７０ｍｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラム上で３０℃の乾燥風により乾燥させ、残留溶剤が２４０％の状態でドラムより剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向に１０％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら、幅方向に５％の延伸処理を行った。作製したセルロースエステルフィルムの設計膜厚は６０μｍであった。
このようにして試料４４〜４６の基材フィルムを作製した。
【０２５０】
(試料４１〜４６の光学フィルムの作製)
実施例Ａで使用した帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液ＨＣ−６を用いて上記の各基材フィルムの第１層側上に帯電防止性ハードコート層を形成した。
実施例Ａと同様にグラビアコーターを使用して塗布を行い、紫外線照射による膜の硬化を行った。帯電防止性ハードコート層の設計膜厚は８μｍであった。
(試料４１〜４６の性能評価)
実施例Ａと同じ方法で、帯電防止性（１）、鉛筆硬度、高温高湿環境下に曝露した後の帯電防止性(帯電防止性（２）)の３項目の評価を行った。
その結果を表１０に記載した。
【０２５１】
【表１０】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
【請求項２】
上記複数の糖エステル化合物全体に対するエステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
上述の帯電防止性ハードコート層が、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものである請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
上記有機系帯電防止剤が、４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤の含有率が、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の質量に対して１〜１２質量％である請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下である請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
上記塗布組成物を塗布、乾燥した後に硬化させる工程を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム上に直接、又は他の層を介して低屈折率層を有する反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム又は請求項８に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム、請求項８に記載の反射防止フィルム、又は請求項９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１】
平均エステル置換度が６０％〜９４％である、エステル置換度が異なる複数の糖エステル化合物、及びセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルム基材上に、少なくとも有機系帯電防止剤、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物を含む塗布組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
【請求項２】
上記複数の糖エステル化合物全体に対するエステル置換度７５％以上の糖エステル化合物の含有率が８０モル％以下である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
上述の帯電防止性ハードコート層が、少なくとも有機系帯電防止剤と、分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物、開始剤、溶剤を含む塗布組成物から形成されたものである請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
上記有機系帯電防止剤が、４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記４級アンモニウム塩基を有する帯電防止剤の含有率が、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の質量に対して１〜１２質量％である請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
上記帯電防止性ハードコート層を形成するための塗布組成物において、上記（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物の全質量に対して、（メタ）アクリロイル基を有する硬化性化合物であって更にヒドロキシル基、カルボキシル基、及びウレタン基のうち少なくとも１種を有する化合物の合計の含有率が４０質量％以下である請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
上記塗布組成物を塗布、乾燥した後に硬化させる工程を有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム上に直接、又は他の層を介して低屈折率層を有する反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム又は請求項８に記載の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム、請求項８に記載の反射防止フィルム、又は請求項９に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【公開番号】特開２０１３−１０１３３１（Ｐ２０１３−１０１３３１Ａ）
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２２７５０８（Ｐ２０１２−２２７５０８）
【出願日】平成２４年１０月１２日（２０１２．１０．１２）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２３日（２０１３．５．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１０月１２日（２０１２．１０．１２）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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