光学フィルムおよびその製造方法
【課題】高配向性樹脂の配向を低減または相殺することにより、複屈折を所望の範囲に制御できながら、優れた透明性、機械強度および耐熱性を有する光学フィルム、および、その光学フィルムを、簡易な方法で、かつ、複屈折を所望の範囲に制御することのできる光学フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製し、その有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製し、粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する。
【解決手段】無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製し、その有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製し、粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムおよびその製造方法、詳しくは、各種光学用途に用いられる光学フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光学フィルムは、各種光学用途に広く用いられており、そのような光学フィルムには、優れた透明性が求められ、用途および目的によっては、さらに、優れた機械強度および耐熱性が求められる。
【０００３】
上記の物性を満足するため、成膜後のフィルムを一軸延伸することによって、モノマーユニットを配向させた光学フィルムが知られている。
【０００４】
一方、上記のように延伸された光学フィルムは、モノマーユニットの配向によって、光学的二軸性などの複屈折性を生ずるので、複屈折性が却って性能低下の要因となる光学用途には不適である。
【０００５】
そこで、上記した複屈折性を打ち消すために、例えば、ノルボルネン系樹脂と炭酸カルシウム微粒子とをテトラヒドロフラン中に分散させて、ポリマー溶液を調製し、それを塗布後、乾燥させてフィルムを作製し、その後、フィルムを一軸延伸させることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第０１／２５３６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１で提案されるフィルムでは、炭酸カルシウム微粒子が、ノルボルネン系樹脂中で凝集してしまう場合がある。その場合には、フィルムは、透明性が低下するため、光学用途に不適である。
【０００８】
また、特許文献１に記載のフィルムを得るには、一軸延伸により成形する必要があるので、製造工程が複雑となり、手間がかかるという不具合がある。また、製造コストが増大する不具合もある。
【０００９】
本発明の目的は、高配向性樹脂の配向を低減または相殺することにより、複屈折を所望の範囲に制御できながら、優れた透明性、機械強度および耐熱性を有する光学フィルム、および、その光学フィルムを、簡易な方法で、かつ、複屈折を所望の範囲に制御することのできる光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の光学フィルムは、高配向性樹脂と、無機粒子の表面に有機基を有する有機無機複合粒子とを含み、前記有機無機複合粒子は、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満であり、前記高配向性樹脂中に１次粒子として分散されていることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明の光学フィルムは、光学的等方性を有していることが好適である。
【００１２】
また、本発明の光学フィルムの製造方法は、無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製する工程、前記有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する工程、および、前記粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する工程を備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学フィルムでは、有機無機複合粒子が高配向性樹脂中に分散されているので、光学フィルムにおける高配向性樹脂の配向を有機無機複合粒子によって低減または相殺することができる。そのため、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途に好適に用いることができる。
【００１４】
また、本発明の光学フィルムでは、有機無機複合粒子は、最大長さの平均が特定範囲であり、しかも、高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、優れた透明性を確保することができる。
【００１５】
また、光学フィルムは、高配向性樹脂から調製した粒子分散樹脂組成物から成形することにより得られるので、成形工程における延伸工程を不要としながら、優れた機械強度および耐熱性を確保することができる。
【００１６】
そのため、本発明の光学フィルムの製造方法によれば、特定の有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製し、これを成形することにより、得られる光学フィルムの複屈折を所望の範囲に制御しながら、光学フィルムを簡易に製造することができる。また、光学フィルムの製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、実施例および比較例の光学フィルムの面内方向および厚み方向の複屈折の関係を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の光学フィルムは、高配向性樹脂と、有機無機複合粒子とを含んでいる。
【００１９】
高配向性樹脂は、それのみから公知の方法によってフィルムに成形した場合に、芳香環などを含む、配向性のモノマーユニットが一定方向に配向される樹脂と定義される。より具体的には、高配向性樹脂は、それを溶媒に溶解して調製した塗布液を塗布し、延伸することなく成膜したフィルムにおいて、配向性ユニットが一定方向に配向される樹脂と定義される。
【００２０】
なお、高配向性樹脂の配向性の程度、つまり、配向度は、高配向性樹脂から成膜されるフィルムの厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２、および、フィルムの面内方向（厚み方向に直交する方向）の複屈折ΔＮｘｙによって示される。
【００２１】
上記したフィルムの厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２としては、例えば、１×１０−３〜５０×１０−３、好ましくは、５×１０−３〜２５×１０−３である。また、フィルムの面内方向の複屈折ΔＮｘｙは、例えば、１０×１０−６〜５０×１０−６、好ましくは、１２×１０−６〜２５×１０−６である。
【００２２】
なお、ΔＮｘｚは、フィルムの遅相軸方向（面内における屈折率が最大になる方向）ｘの屈折率ｎｘと厚み方向ｚの屈折率ｎｚとの差である。
【００２３】
また、ΔＮｙｚは、フィルムの進相軸方向（面内方向において、遅相軸に垂直な方向）ｙの屈折率ｎｙと厚み方向の屈折率ｎｚとの差である。
【００２４】
また、ΔＮｘｙは、フィルムの遅相軸方向ｘの屈折率ｎｘと進相軸方向ｙの屈折率ｎｙとの差である。
【００２５】
具体的には、高配向性樹脂から成膜されるフィルムでは、ΔＮｘｚおよびΔＮｙｚが、例えば、０．５×１０−３〜５０×１０−３である。
【００２６】
なお、複屈折（ΔＮｘｙ、ΔＮｙｚおよびΔＮｘｚ）は、偏光・位相差解析/測定システムにより測定される。
【００２７】
高配向性樹脂は、例えば、配向性のモノマーユニットとして芳香環を含有しており、そのような高配向性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂などの熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００２８】
ポリエステル樹脂としては、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの芳香族系ポリエステル樹脂が挙げられる。
【００２９】
ポリイミド樹脂としては、例えば、芳香族系ポリエーテルイミド樹脂、芳香族系ポリアミドイミド樹脂などの芳香族系ポリイミド樹脂が挙げられる。
【００３０】
高配向性樹脂としては、好ましくは、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂が挙げられ、さらに好ましくは、ポリエステル樹脂、とりわけ好ましくは、光学フィルムの機械強度および耐熱性の観点から、ポリアリレートが挙げられる。
【００３１】
ポリアリレートは、例えば、芳香族ジカルボン酸と２価フェノールとのエステル反応により得られるポリアリールエステルである。
【００３２】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、またはそれらの誘導体などが挙げられる。芳香族ジカルボン酸は、単独使用または併用することができる。
【００３３】
２価フェノールとしては、例えば、ハイドロキノン、２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：ビスフェノールＡ）、１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４−ジヒドロキシジフェニルメタンまたはそれらの誘導体などが挙げられる。２価フェノールは、単独使用または併用することができる。
【００３４】
エステル反応では、芳香族ジカルボン酸と２価フェノールとを、それらのモル数が実質的に同一となるように配合して、それらを公知の反応条件で反応させる。
【００３５】
有機無機複合粒子は、無機粒子の表面に有機基を有する粒子である。具体的には、有機無機複合粒子は、無機粒子が有機化合物により表面処理されることによって、得られる。
【００３６】
無機粒子を形成する無機化合物（無機原料）としては、例えば、酸化物、複合酸化物、炭酸塩、硫酸塩などが挙げられる。
【００３７】
酸化物は、酸素と、酸素以外の１つの元素との化合物であって、酸素以外の１つの元素（酸素と化合する元素）としては、特に限定されず、例えば、Ｓｃ、ＹなどのＩＩＩｂ属元素（長周期型周期表、以下同様。）、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、ＨｆなどのＩＶｂ属元素、例えば、Ｖ、Ｎｂ、ＴａなどのＶｂ属元素、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷなどのＶＩｂ属元素、例えば、Ｍｎ、ＲｅなどのＶＩＩｂ属元素、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、ＰｔなどのＶＩＩＩｂ属元素、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、ＡｕなどのＩｂ属元素、例えば、Ｚｎ、Ｃｄ、ＨｇなどのＩＩｂ属元素、例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌなどのＩＩＩａ属元素、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、ＰｂなどのＩＶａ属元素、例えば、Ａｓ、Ｓｂ、ＢｉなどのＶａ属元素、例えば、Ｔｅ、ＰｏなどのＶＩａ属元素、例えば、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄなどのランタニド系列元素、例えば、Ａｃ、Ｔｈ、Ｕなどのアクチニウム系列元素などが挙げられる。
【００３８】
酸素以外の元素のうち、好ましくは、金属が挙げられ、さらに好ましくは、ランタニド系列元素が挙げられる。
【００３９】
酸化物として、例えば、酸化金属が挙げられ、好ましくは、酸化セリウム（二酸化セリウム、酸化セリウム（ＩＶ）、セリア：ＣｅＯ２）などが挙げられる。
【００４０】
酸化物は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４１】
複合酸化物は、酸素と、酸素以外の複数の元素との化合物であって、酸素以外の複数の元素（酸素と化合する複数の元素）としては、上記した酸化物における酸素以外の元素、第Ｉ属元素、および、第ＩＩ属元素からなる元素から選択される少なくとも２種以上の組合せが挙げられる。
【００４２】
第Ｉ元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属が挙げられる。また、第ＩＩ属元素としては、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａなどのアルカリ土類金属が挙げられる。
【００４３】
酸素以外の複数の元素の組合せとして、好ましくは、第ＩＩ属元素とＩＶｂ属元素との組合せ、第ＩＩ属元素とＶＩＩＩｂ属元素との組合せ、第ＩＩ属元素とＩＶａ属元素との組合せなど、少なくとも第ＩＩ属元素を含む組合せが挙げられる。
【００４４】
少なくとも第ＩＩ属元素を含む複合酸化物としては、例えば、チタン酸アルカリ土類金属塩、ジルコン酸アルカリ土類金属塩、鉄酸アルカリ土類金属塩、スズ酸アルカリ土類金属塩などが挙げられる。
【００４５】
複合酸化物酸化物として、好ましくは、チタン酸アルカリ土類金属塩が挙げられる。
【００４６】
チタン酸アルカリ土類金属塩としては、例えば、チタン酸ベリリウム（ＢｅＴｉＯ３）、チタン酸マグネシウム（ＭｇＴｉＯ３）、チタン酸カルシウム（ＣａＴｉＯ３）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、チタン酸ラジウム（ＲａＴｉＯ３）などが挙げられる。
【００４７】
複合酸化物は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４８】
炭酸塩は、炭酸イオン（ＣＯ３２−）と、金属のカチオンとの化合物（より具体的には、炭酸（Ｈ２ＣＯ３）の水素原子が金属と置換した化合物）であって、炭酸塩に含まれる金属としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられる。アルカリ金属およびアルカリ土類金属としては、上記と同様のものが挙げられる。
【００４９】
金属のうち、好ましくは、アルカリ土類金属が挙げられる。
【００５０】
具体的には、炭酸塩としては、好ましくは、アルカリ土類金属を含む炭酸塩が挙げられ、そのような炭酸塩としては、例えば、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、炭酸ラジウムなどが挙げられ、好ましくは、炭酸ストロンチウムが挙げられる。
【００５１】
これら炭酸塩は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００５２】
硫酸塩は、硫酸イオン（ＳＯ４２−）と、金属のカチオンとの化合物（より具体的には、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）の水素原子が金属と置換した化合物）であって、硫酸塩に含まれる金属としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられる。アルカリ金属およびアルカリ土類金属としては、上記と同様のものが挙げられる。
【００５３】
金属のうち、好ましくは、アルカリ土類金属が挙げられる。
【００５４】
具体的には、硫酸塩としては、好ましくは、アルカリ土類金属を含む硫酸塩が挙げられ、そのような硫酸塩としては、例えば、硫酸ベリリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウム、硫酸ラジウムなどが挙げられ、好ましくは、硫酸バリウムが挙げられる。
【００５５】
これら硫酸塩は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００５６】
有機化合物（有機原料）は、例えば、無機粒子の表面に有機基を導入する（配置させる）するための有機基導入化合物であって、無機化合物の表面と結合可能な結合基と、結合基に結合される有機基とを含んでいる。
【００５７】
結合基としては、無機粒子の種類に応じて適宜選択され、例えば、カルボキシル基、リン酸基（−ＰＯ（ＯＨ）２、ホスホノ基）、アミノ基、スルホ基などの官能基が挙げられる。好ましくは、カルボキシル基が挙げられる。
【００５８】
これら結合基は、有機化合物に１つあるいは複数含まれる。具体的には、結合基は、有機基が長鎖状である場合には、有機基の末端または側鎖に結合されている。
【００５９】
有機基は、例えば、疎水基および／または親水基を含んでいる。
【００６０】
疎水基として、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニルアルキレン基、アリール基、アラルキル基などの炭素数４〜２０の炭化水素基が挙げられる。
【００６１】
アルキル基としては、例えば、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、２−エチルへキシル、３，３，５−トリメチルヘキシル、イソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシルなどの、炭素数４〜２０の直鎖または分岐アルキル基などが挙げられる。好ましくは、炭素数６〜１８の直鎖アルキル基が挙げられる。
【００６２】
アルケニル基としては、例えば、ヘキセニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、イコセニルなどの炭素数４〜２０のアルケニル基が挙げられる。
【００６３】
アルキニル基としては、例えば、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、デシニル、ウンデシニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタデシニルなどの炭素数４〜２０のアルキニル基が挙げられる。
【００６４】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシルなどの炭素数４〜２０のシクロアルキル基が挙げられる。
【００６５】
シクロアルケニルアルキレン基としては、例えば、ノルボルネンデシル（ノルボネリルデシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エニル−デシル）などの炭素数７〜２０のシクロアルケニルアルキレン基が挙げられる。
【００６６】
アリール基としては、例えば、フェニル、キシリル、ナフチル、ビフェニルなどの炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。
【００６７】
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル、フェニルヘプチル、ジフェニルメチルなどの炭素数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。
【００６８】
疎水基のうち、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基などが挙げられ、さらに好ましくは、アルキル基、アラルキル基が挙げられる。
【００６９】
有機基が疎水基を含んでいる場合には、有機化合物（有機基導入化合物）は、無機粒子に疎水性を付与する疎水化有機化合物として供される。
【００７０】
そのような疎水化有機化合物としては、例えば、脂肪酸が挙げられ、そのような脂肪酸としては、例えば、飽和脂肪酸（例えば、ヘキサン酸、デカン酸など）などのアルキル基含有化合物、例えば、不飽和脂肪酸（例えば、オレイン酸など）などのアルケニル基含有化合物が挙げられる。また、疎水化有機化合物としては、例えば、芳香族カルボン酸（例えば、６−フェニルヘキサン酸）などのアラルキル基含有化合物なども挙げられる。
【００７１】
有機基は、親水基を含んでいる場合には、その親水基と、親水基に結合される上記した炭化水素基とを含む親水基含有有機基である。
【００７２】
親水基としては、例えば、カルボキシル基、ヒドロキシル基、リン酸基、アミノ基、スルホ基、カルボニル基などが挙げられる。親水基は、有機化合物において１つあるいは複数含まれている。親水基は、炭化水素基の末端（結合に結合される一端と逆側の他端）および／または側鎖に結合されている。
【００７３】
親水基含有有機基としては、例えば、カルボキシル基含有有機基、ヒドロキシル基含有有機基、リン酸基含有有機基、アミノ基含有有機基、スルホ基含有有機基、カルボニル基含有有機基などが挙げられる。
【００７４】
カルボキシル基含有有機基としては、例えば、３−カルボキシプロピル、６−カルボキシヘキシルなどのカルボキシ炭化水素基などが挙げられる。
【００７５】
ヒドロキシル基含有有機基としては、４−ヒドロキシフェニル、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピルなどのヒドロキシ炭化水素基などが挙げられる。
【００７６】
リン酸基含有有機基としては、例えば、６−ホスホノヘキシルなどのホスホノ炭化水素基などが挙げられる。
【００７７】
アミノ基含有有機基としては、例えば、６−アミノヘキシルなどのアミノ炭化水素基などが挙げられる。
【００７８】
スルホ基含有有機基としては、例えば、６−スルホヘキシルなどのスルホ炭化水素基などが挙げられる。
【００７９】
カルボニル基含有有機基としては、例えば、４−オキソペンチルなどのオキソ炭化水素基などが挙げられる。
【００８０】
有機基が親水基および炭化水素基を含んでいる場合（つまり、親水基含有有機基である場合）には、有機化合物（有機基導入化合物）は、無機粒子に親水性を付与する親水化有機化合物として供される。
【００８１】
そのような親水化有機化合物としては、例えば、ジカルボン酸（例えば、プロパン二酸（マロン酸）、ヘキサン二酸（アジピン酸）など）などのカルボキシル基含有化合物、例えば、モノヒドロキシルカルボン酸（例えば、４−ヒドロキシフェニル酢酸、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸など）などのヒドロキシル基含有化合物、例えば、モノホスホノカルボン酸（例えば、６−ホスホノヘキサン酸など）などのリン酸基含有化合物、例えば、モノアミノカルボン酸（例えば、６−アミノヘキサン酸など）などのアミノ基含有有機化合物、例えば、モノスルホカルボン酸（例えば、６−スルホヘキサン酸など）などのスルホ基含有化合物、例えば、モノカルボニルカルボン酸（例えば、４−オキソ吉草酸など）などのカルボニル基含有化合物などが挙げられる。
【００８２】
上記した有機基は、有機無機複合粒子における無機粒子の表面に存在している。つまり、有機基は、無機粒子の表面を被覆している。
【００８３】
上記した有機無機複合粒子は、無機化合物と上記した有機化合物とを、反応処理、好ましくは、高温処理することによって得ることができる。
【００８４】
具体的には、無機化合物および有機化合物を水中で高圧下において高温処理する（水熱合成：水熱反応）か、または、無機化合物を有機化合物中で高温処理（有機化合物中での高温処理）することにより、有機無機複合粒子を得る。つまり、無機化合物により形成される無機粒子の表面を有機化合物で表面処理することにより、有機無機複合粒子を得る。
【００８５】
水熱合成では、例えば、上記した無機化合物と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる（第１の水熱合成）。
【００８６】
すなわち、まず、無機化合物、有機化合物および水を耐圧性の密閉容器に投入し、それらを加熱することにより、反応系を高温および高圧下に調製する。
【００８７】
無機化合物としては、上記した無機化合物と同様のものが挙げられ、好ましくは、酸化物または炭酸塩が挙げられる。
【００８８】
各成分の配合割合は、無機化合物１００質量部に対して、有機化合物が、例えば、５〜１６０質量部、好ましくは、１０〜１１０質量部であり、水が、例えば、１００〜１０００質量部、好ましくは、２００〜７００質量部である。
【００８９】
なお、有機化合物の密度が、通常、０．８〜１．１ｇ／ｍＬであることから、有機化合物の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１０〜１５０ｍＬ、好ましくは、２０〜１００ｍＬである。
【００９０】
また、有機化合物の配合モル数は、無機化合物１モルに対して、例えば、０．０１〜１０００モル、好ましくは、０．１〜１０モルに設定することもできる。
【００９１】
また、水の密度が、通常、１ｇ／ｍＬ程度であることから、水の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１００〜１０００ｍＬ、好ましくは、２００〜７００ｍＬである。
【００９２】
水熱反応における反応条件は、具体的には、加熱温度が、例えば、１００〜５００℃、好ましくは、２００〜４００℃である。また、圧力が、例えば、１０〜５０ＭＰａ、好ましくは、２０〜４０ＭＰａである。また、反応時間が、例えば、１〜２００分間、好ましくは、３〜１５０分間である。
【００９３】
なお、上記の反応において、得られる反応物は、主に水中に沈殿する沈殿物と、密閉容器の内壁に付着する付着物とを含んでいる。
【００９４】
沈殿物は、例えば、反応物を、重力または遠心力場によって、沈降させる沈降分離によって得る。好ましくは、遠心力場によって沈降させる遠心沈降（遠心分離）によって、反応物の沈殿物として得る。
【００９５】
また、付着物は、例えば、へら（スパーテル）などによって、回収する。
【００９６】
これにより、有機無機複合粒子を得る。
【００９７】
また、上記した元素の水酸化物と、有機化合物とを水熱合成させることにより、無機化合物が酸化物である有機無機複合粒子を得ることができる（第２の水熱合成）。
【００９８】
水酸化物に含まれる元素（水酸化物イオン（ＯＨ−）と化合するカチオンを構成する元素。具体的には、金属。）としては、上記した酸化物における酸素以外の元素と同様の元素が挙げられ、好ましくは、ＩＶｂ属元素、ＩＩＩａ属元素、ランタニド系列元素が挙げられる。
【００９９】
水酸化物としては、具体的には、例えば、水酸化チタン（Ｔｉ（ＯＨ）４）、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）、水酸化セリウム（Ｃｅ（ＯＨ）４）などが挙げられる。
【０１００】
有機化合物としては、例えば、上記した第１の水熱合成に用いられる有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１０１】
そして、第２の水熱合成では、水酸化物と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１０２】
各成分の配合割合は、水酸化物１００質量部に対して、有機化合物が、例えば、４〜５５０質量部、好ましくは、１５〜３３０質量部であり、水が、例えば、５０〜２５００質量部、好ましくは、１００〜５００質量部である。
【０１０３】
また、有機化合物の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５〜５００ｍＬ、好ましくは、２０〜３００ｍＬであり、有機化合物の配合モル数は、水酸化物１モルに対して、例えば、０．０１〜１００００モル、好ましくは、０．１〜１０モルに設定することもできる。
【０１０４】
また、水の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５０〜２５００ｍＬ、好ましくは、１００〜５００ｍＬである。
【０１０５】
第２の水熱合成における反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１０６】
これにより、有機無機複合粒子を得る。
【０１０７】
また、上記した第２の水熱合成の処方において、各成分に加えて、炭酸源を配合することにより、無機化合物が炭酸塩である有機無機複合粒子を得ることもできる（第３の水熱合成）。
【０１０８】
炭酸源としては、例えば、蟻酸および／または尿素が挙げられる。
【０１０９】
水酸化物は、上記した第２の水熱合成で例示した水酸化物と同様のものが用いられる。また、有機化合物は、上記した第１の水熱合成で例示した有機化合物と同様のものが用いられる。
【０１１０】
第３の水熱合成では、水酸化物と、炭酸源と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１１１】
炭酸源の配合割合は、水酸化物１００質量部に対して、例えば、５〜１４０質量部、好ましくは、１０〜７０質量部である。
【０１１２】
なお、炭酸源の密度が、通常、１．１〜１．４ｇ／ｍＬであることから、炭酸源の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５〜１００ｍＬ、好ましくは、１０〜５０ｍＬである。また、炭酸源の配合モル数を、水酸化物１モルに対して、例えば、０．４〜１００モル、好ましくは、１．０１〜１０．０モル、さらに好ましくは、１．０５〜１．３０モルに設定することもできる。なお、水酸化物、有機化合物および水の配合割合は、上記した第２の水熱合成のそれらの配合割合と同一である。
【０１１３】
第３の水熱合成における反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１１４】
さらに、水酸化物と、金属錯体と、有機化合物とを水熱合成させることにより、無機化合物が炭酸塩である有機無機複合粒子を得ることもできる（第４の水熱合成）。
【０１１５】
水酸化物としては、第２の水熱合成で例示した水酸化物と同様のものが挙げられる。また、有機化合物としては、第１の水熱合成で例示した有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１１６】
金属錯体に含まれる金属元素は、上記した水酸化物に含まれる元素および酸素と複合酸化物を構成する元素であり、例えば、チタン、鉄、スズ、ジルコニウムなどの金属が挙げられる。好ましくは、チタンが挙げられる。
【０１１７】
金属錯体の配位子としては、例えば、２−ヒドロキシオクタン酸などのモノヒドロキシカルボン酸などが挙げられる。
【０１１８】
金属錯体としては、例えば、２−ヒドロキシオクタン酸チタネートなどが挙げられる。なお、金属錯体は、上記した金属元素および配位子から、公知の方法によって、得ることができる。
【０１１９】
有機化合物は、上記した第１の水熱合成に用いられる有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１２０】
そして、第４の水熱合成では、上記した水酸化物と、金属錯体と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１２１】
各成分の配合割合は、金属錯体１００質量部に対して、水酸化物が、例えば、１〜５０質量部、好ましくは、５〜３０質量部であり、有機化合物が、例えば、４〜５５０質量部、好ましくは、１５〜３３０質量部であり、水が、例えば、２００〜１０００質量部、好ましくは、３００〜７００質量部である。
【０１２２】
なお、有機化合物の配合割合は、金属錯体１００ｇに対して、例えば、５〜５００ｍＬ、好ましくは、２０〜３００ｍＬであり、有機化合物の配合モル数は、水酸化物１モルに対して、０．０１〜１０００モルに設定することもできる。
【０１２３】
また、水の配合割合は、金属錯体１００ｇに対して、例えば、２００〜１０００ｍＬ、好ましくは、３００〜７００ｍＬである。
【０１２４】
第４の水熱合成の反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１２５】
さらにまた、上記した水熱合成（第１〜第４の水熱合成）を、ｐＨ調整剤の存在下で実施することもできる。
【０１２６】
ｐＨ調整剤としては、アルカリ、酸が挙げられる。
【０１２７】
アルカリとしては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機アルカリ、例えば、アンモニアなどの有機アルカリなどが挙げられる。また、酸としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸などの無機酸、例えば、蟻酸、酢酸などの有機酸などが挙げられる。
【０１２８】
好ましくは、アルカリが用いられる。
【０１２９】
ｐＨ調整剤によって、反応系のｐＨを、例えば、８〜１２に設定する。
【０１３０】
これによって、得られる有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌ（後述）を所望の範囲、より具体的には、より小さい値に設定することができる。そのため、サイズ（具体的には、後述する最大長さの平均Ｌ）が小さい有機無機複合粒子を、光学用途に好適に用いることができる。
【０１３１】
有機化合物中で高温処理に供される無機化合物は、上記した無機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１３２】
有機化合物中での高温処理では、無機化合物と、有機化合物とを配合し、例えば、常圧下において、それらを加熱する。
【０１３３】
有機化合物の配合割合は、無機化合物１００質量部に対して、例えば、１０〜１００００質量部、好ましくは、１００〜１０００質量部である。また、有機化合物の体積基準の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１０〜１００００ｍＬ、好ましくは、１００〜１０００ｍＬである。
【０１３４】
加熱温度は、例えば、１００℃を超過する温度、好ましくは、１２５℃以上、さらに好ましくは、１５０℃以上であり、通常、例えば、３００℃以下、好ましくは、２７５℃以下である。加熱時間は、例えば、１〜６０分間、好ましくは、３〜３０分間である。
【０１３５】
その後、上記した第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子を、必要により、洗浄および／または湿式分級する。
【０１３６】
有機無機複合粒子を洗浄するには、例えば、第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子に、溶媒を加えて未反応の有機化合物を洗浄し（つまり、有機化合物を溶媒に溶解させ）、その後、溶媒を除去して、回収（分離）する。
【０１３７】
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素（具体的には、アルカンなど）、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。好ましくは、アルコールが挙げられる。
【０１３８】
洗浄後における有機無機複合粒子は、例えば、濾過、デカンテーションなどによって、溶媒（上澄み液）から分離して、回収する。その後、必要に応じて、回収物を、例えば、加熱または気流などにより乾燥する。
【０１３９】
また、有機無機複合粒子を湿式分級するには、例えば、上記した第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子、または、上記した洗浄後の有機無機複合粒子に溶媒を加えて、それらを攪拌後、静置するか、あるいは、遠心沈降により、上澄みと沈殿物とに分離する。溶媒としては、上記と同様のものが挙げられ、好ましくは、ハロゲン化脂肪族炭化水素が挙げられる。
【０１４０】
その後、上済みを回収する。
【０１４１】
湿式分級では、回収後の上澄みをさらに濾過することもできる。濾過には、開口径が、例えば、５００ｎｍ以下、好ましくは、４００ｎｍ以下であり、通常、１ｎｍ以上のフィルターが用いられる。
【０１４２】
その後、回収物から溶媒を除去して、有機無機複合粒子を得る。
【０１４３】
湿式分級により、サイズが小さい有機無機複合粒子を得ることができる。
【０１４４】
そして、上記により得られる有機無機複合粒子（１次粒子）の最大長さ（長手方向長さ）の平均Ｌは、３５０ｎｍ未満、好ましくは、３００ｎｍ以下、さらに好ましくは、２００ｎｍ以下、とりわけ好ましくは、１００ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。また、有機無機複合粒子の最小長さ（短手方向長さ）の平均Ｓが、例えば、１ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは、５ｎｍ〜５０ｎｍである。
【０１４５】
また、有機無機複合粒子の平均粒子径Ｄは、例えば、４００ｎｍ以下、好ましくは、３００ｎｍ以下、さらに好ましくは、２００ｎｍ以下、とりわけ好ましくは、１００ｎｍ以下であり、通常、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、２ｎｍ以上である。
【０１４６】
また、有機無機複合粒子のアスペクト比Ａは、例えば、１０００以下、好ましくは、１００以下、好ましくは、１．５未満であり、通常、１以上である。
【０１４７】
有機無機複合粒子のサイズ（最大長さの平均Ｌ、最小長さの平均Ｓ、平均粒子径Ｄおよびアスペクト比Ａ）は、公知の方法により測定され、具体的には、後の実施例で詳述するが、ＦＥ−ＴＥＭおよび／またはＦＥ−ＳＥＭによって、測定される。
【０１４８】
有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲を超えると、高配向性樹脂の配向を低減および相殺することができない。また、高配向性樹脂と混合する際に有機無機複合粒子が破砕される場合がある。
【０１４９】
一方、有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲に満たないと、光学フィルムの物理強度が低下する場合がある。
【０１５０】
また、有機無機複合粒子のアスペクト比Ａが上記した範囲を超えると、有機無機複合粒子自身が配向性を生じ、光学フィルムの複屈折（配向）の制御が困難となる場合がある。
【０１５１】
また、有機無機複合粒子（１次粒子）の形状（外形形状）は、特に限定されず、例えば、略立方体形状などの略直方体形状、例えば、略球形状、例えば、略長球（あるいは紡錘形状）、略扁球などの回転楕円体形状、例えば、針状形状または棒状形状である。好ましくは、略立方体形状、略球形状である。略立方体形状または略球形状であれば、アスペクト比Ａを上記した範囲に確実に設定することができる。
【０１５２】
また、有機無機複合粒子は、例えば、上記した外形形状の中実形状または中空形状（具体的には、中空略球形状、中空略立方体形状など）である。
【０１５３】
このようにして得られる有機無機複合粒子は、乾燥状態で、凝集しにくくなっており、たとえ、乾燥状態で見かけ上凝集しても、次に説明する光学フィルムにおいて、凝集（２次粒子の形成）が確実に防止され、高配向性樹脂中に１次粒子としてほぼ均一に分散される。
【０１５４】
そして、上記した各種の方法により得られる有機無機複合粒子の複屈折Δｎは、特に限定されず、正である場合には、例えば、０．００１〜０．２００、好ましくは、０．０１０〜０．２００であり、負である場合には、例えば、−０．２００〜−０．００１、好ましくは、−０．２００〜−０．０１０である。
【０１５５】
なお、有機無機複合粒子の複屈折Δｎは、無機粒子の複屈折と実質的に同一であり、そのため、公知の文献（例えば、化学大辞典など）に記載される無機粒子の屈折率から算出されるか、あるいは、無機粒子の結晶構造から考察および算出される。
【０１５６】
次に、本発明の光学フィルムを得るための、本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態について、説明する。
【０１５７】
この方法では、まず、上記に従って、最大長さの平均Ｌが特定範囲である有機無機複合粒子を調製し、次いで、その有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する。
【０１５８】
有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させるには、例えば、溶媒、有機無機複合粒子および高配向性樹脂を配合して、それらを攪拌する（溶液調製）。なお、このようにして調製される粒子分散樹脂組成物は、溶媒を含む粒子分散樹脂組成物のワニス（溶液）とされる。
【０１５９】
溶媒としては、特に限定されず、例えば、上記した洗浄で例示した溶媒と同様の溶媒が挙げられ、さらには、それら以外に、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素（具体的には、シクロアルカンなど）、例えば、酢酸エチルなどのエステル、例えば、エチレングリコール、グリセリンなどのポリオール、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの含窒素化合物などが挙げられる。
【０１６０】
これら溶媒は、単独使用または２種類以上併用することができる。溶媒として、好ましくは、ケトン、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素などが挙げられる。
【０１６１】
具体的に、粒子分散樹脂組成物を調製するには、まず、上記した溶媒と高配向性樹脂とを配合して、高配向性樹脂を溶媒中に溶解させて、樹脂溶液を調製する。その後、樹脂溶液と有機無機複合粒子とを配合して、それらを攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物を調製する（第１の調製方法）。
【０１６２】
粒子分散樹脂組成物において、有機無機複合粒子は、溶媒および高配向性樹脂中に１次粒子として分散されている。
【０１６３】
高配向性樹脂の配合割合は、樹脂溶液１００質量部に対して、例えば、４０質量部以下、好ましくは、２０質量部以下であり、通常、１質量部以上である。
【０１６４】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、樹脂溶液において高配向性樹脂を確実に溶解させることができる。
【０１６５】
有機無機複合粒子の配合割合は、樹脂溶液の固形分（高配向性樹脂）１００質量部に対して、例えば、１０〜１０００質量部、好ましくは、４０〜２００質量部である。また、有機無機複合粒子の配合割合は、樹脂溶液の総量（高配向性樹脂および溶媒の総量）１００質量部に対して、例えば、１〜５０質量部、好ましくは、２〜３５質量部でもある。
【０１６６】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１６７】
また、溶媒と有機無機複合粒子とを配合して、有機無機複合粒子を溶媒中に分散させて、粒子分散液を調製し、その後、粒子分散液と高配向性樹脂とを配合して、それらを攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物を調製することもできる（第２の調製方法）。
【０１６８】
粒子分散液において、有機無機複合粒子は、溶媒中に１次粒子として分散されている。
【０１６９】
有機無機複合粒子の配合割合は、粒子分散液１００質量部に対して、例えば、０．１〜５０質量部、好ましくは、１〜１０質量部である。
【０１７０】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１７１】
高配向性樹脂の配合割合は、粒子分散液の固形分（有機無機複合粒子）１００質量部に対して、例えば、１００〜１０００質量部、好ましくは、５０〜２００質量部である。
【０１７２】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、有機無機複合粒子の高配向性樹脂および溶媒に対する良好な分散性を確保することができる。
【０１７３】
さらに、例えば、溶媒と有機無機複合粒子と高配向性樹脂とを一度に配合して、それらを攪拌することにより、粒子分散樹脂組成物を調製することもできる（第３の調製方法）。
【０１７４】
各成分の配合割合は、粒子分散樹脂組成物の総量１００質量部に対して、有機無機複合粒子で、例えば、０．１〜６０質量部、好ましくは、１〜４０質量部であり、高配向性樹脂で、例えば、４０質量部以下、好ましくは、２０質量部以下であり、通常、１質量部以上である。また、溶媒の配合割合は、粒子分散樹脂組成物における有機無機複合粒子および高配向性樹脂の残部である。
【０１７５】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１７６】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、有機無機複合粒子の高配向性樹脂および溶媒に対する良好な分散性を確保することができる。
【０１７７】
さらにまた、粒子分散樹脂組成物を調製するには、例えば、溶媒を配合することなく、樹脂を加熱により溶融させて、有機無機複合粒子と配合することもできる（第４の調製方法）。
【０１７８】
このようにして調製される粒子分散樹脂組成物は、溶媒を含まない粒子分散樹脂組成物の溶融物とされる。
【０１７９】
有機無機複合粒子の、高配向性樹脂１００質量部に対する配合割合は、例えば、１０〜１０００質量部、好ましくは、２０〜５００質量部である。
【０１８０】
加熱温度は、高配向性樹脂の溶融温度と同一あるいはそれ以上であり、具体的には、２００〜３５０℃である。
【０１８１】
次いで、この方法では、粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する。
【０１８２】
具体的には、粒子分散樹脂組成物を塗布することにより、光学フィルムを成膜する。
【０１８３】
すなわち、粒子分散樹脂組成物が上記した第１〜第３の調製方法によって調製されている場合には、粒子分散樹脂組成物を、公知の支持板上に塗布して塗膜を作製し、この塗膜を乾燥することにより、粒子分散樹脂組成物をフィルムに成膜する。
【０１８４】
粒子分散樹脂組成物の塗布では、例えば、スピンコータ法、バーコータ法などの公知の塗布方法が用いられる。なお、この粒子分散樹脂組成物の塗布において、塗布と同時にまたは直後には、溶媒が、揮発により除去される。なお、必要により、塗布後に、加熱により、溶媒を乾燥させることもできる。
【０１８５】
また、塗膜は、延伸工程を実施することなく、フィルムに成膜される。
【０１８６】
なお、粒子分散樹脂組成物が第４の調製方法によって調製されている場合には、粒子分散樹脂組成物を押出成形機などによって押出成形する溶融成形方法によって、粒子分散樹脂組成物をフィルムに成膜することもできる。粒子分散樹脂組成物は、延伸工程を実施することなく、フィルムに成膜される。
【０１８７】
このようにして成形される光学フィルムの厚みｄは、所望の光学特性（後述する位相差Ｒなど）に応じて、適宜設定され、例えば、１〜１０００μｍ、好ましくは、５〜５００μｍである。光学フィルムの厚みｄは、公知の膜厚計で測定される。
【０１８８】
そして、このようにして成膜される光学フィルムでは、有機無機複合粒子が高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、高配向性樹脂の配向を有機無機複合粒子によって乱す（阻害する）ことができ、これにより、高配向性樹脂の配向を低減または相殺することができる。そのため、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途に好適に用いることができる。
【０１８９】
すなわち、高配向性樹脂および有機無機複合粒子は、光学フィルムの複屈折が下記の範囲となるように、上記した例示から選択される。
【０１９０】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ：例えば、２００×１０−６以下、好ましくは、１００×１０−６以下、好ましくは、５０×１０−６以下、さらに好ましくは、２０×１０−６以下、通常、０以上
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２：例えば、１２×１０−３以下、好ましくは、１０×１０−３以下、さらに好ましくは、５．０×１０−３以下、とりわけ好ましくは、２．０×１０−３以下、もっとも好ましくは、１．０×１０−３以下、通常、０以上
さらに、光学フィルムの複屈折が下記の値であれば、光学フィルムに、光学的等方性を付与することができる。
【０１９１】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ：実質的に、０
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２：実質的に、０
なお、実質的に０の複屈折を有する光学フィルムは、光学的等方性を示すことができ、そのような光学特性に実用上の影響を与えない性質を示す。
【０１９２】
そのような範囲としては、具体的には、面内方向の複屈折ΔＮｘｙで、例えば、２０×１０−３以下、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２で、例えば、２．０×１０−３以下である。
【０１９３】
また、光学フィルムの面内方向の複屈折ΔＮｘｙと、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２とは、偏光・位相差解析/測定システムにより測定および算出される。
【０１９４】
より具体的には、上記した複屈折は、偏光・位相差解析/測定システムにより測定される位相差Ｒと、光学フィルムの厚みｄとから以下の式に従って算出される。
【０１９５】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ＝（面内方向の位相差Ｒｅ）／（厚みｄ）
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２＝（厚み方向の位相差Ｒｔｈ）／（厚みｄ）
また、厚み１０〜２５μｍにおける光学フィルムのヘイズは、例えば、３％以下、好ましくは、１．５％以下であり、通常、０．０１％以上である。光学フィルムのヘイズが上記範囲を超える場合には、光学フィルムとして不適となる場合がある。
【０１９６】
なお、ヘイズは、ヘイズメータを用いて測定される。
【０１９７】
そして、この光学フィルムが用いられる光学用途としては、例えば、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途であり、より具体的には、液晶ディスプレイなどが挙げられ、好ましくは、液晶パネルのセル基板、偏光板の透明保護フィルムなどが挙げられる。
【０１９８】
光学用途としては、さらに好ましくは、光学的等方性が要求される光学用途であり、そのような光学用途としては、例えば、液晶基板のセル基板、偏光板の透明保護フィルムなどが挙げられる。
【０１９９】
また、上記した光学フィルムでは、有機無機複合粒子は、最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲であり、しかも、高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、優れた透明性を確保することができる。
【０２００】
また、光学フィルムは、その製造工程において、粒子分散樹脂組成物を成形することにより得られるので、成形工程における延伸工程を不要としながら、優れた機械強度および耐熱性を確保することができる。
【０２０１】
そのため、上記した方法によれば、粒子分散樹脂組成物を塗布し、延伸することなく成形することにより、得られる光学フィルムの複屈折を上記した所望の範囲に制御しながら、光学フィルムを簡易に製造することができる。また、光学フィルムの製造コストを低減することができる。
【実施例】
【０２０２】
以下に調製例、比較調製例、実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、それらに限定されない。
【０２０３】
なお、有機無機複合粒子、無機粒子および光学フィルムの評価方法を以下に記載する。
（１）Ｘ線回折法（ＸＲＤ）
有機無機複合粒子および無機粒子をガラスフォルダーにそれぞれ充填し、下記の条件でＸ線回折をそれぞれ実施する。その後、得られたピークから、データベース検索による無機化合物の成分を帰属する。
【０２０４】
Ｘ線回折装置：Ｄ８ ＤＩＳＣＯＶＥＲ ｗｉｔｈ ＧＡＤＤＳ、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製
（入射側光学系）
・Ｘ線源：ＣｕＫα（λ＝１．５４２Å）、４５ｋＶ、３６０ｍＡ
・分光器（モノクロメータ）：多層膜ミラー
・コリメータ直径：３００μｍ
（受光側光学系）
・カウンタ：二次元ＰＳＰＣ（Ｈｉ−ＳＴＡＲ）
・有機無機複合粒子（および無機粒子）およびカウンタ間距離：１５ｃｍ
・２θ＝２０、５０、８０度、ω＝１０、２５、４０度、Ｐｈｉ＝０度、Ｐｓｉ＝０度
・測定時間：１０分
・帰属（半定量ソフトウェア）：ＦＰＭ ＥＶＡ、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製
（２）フーリエ変換赤外分光光度法（ＦＴ−ＩＲ）
下記の装置を用いるＫＢｒ法によって、フーリエ変換赤外分光光度測定を実施する。
【０２０５】
フーリエ変換赤外分光光度計：ＦＴ／ＩＲｐｌｕｓ、ＪＡＳＣＯ社製
（３）有機無機複合粒子および無機粒子の形状およびサイズ
（ａ）電解放射型透過型電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）
有機無機複合粒子および無機粒子をカーボン支持膜付きＣｕメッシュ上に分散し電解放射型透過型電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）によって写真撮影する。
【０２０６】
そして、得られたＦＥ−ＴＥＭ写真から、有機無機複合粒子および無機粒子の形状を観察し、それらの最大長さの平均（Ｌ）および最小長さの平均（Ｓ）を測定するとともに、それらからアスペクト比（Ａ）を算出する。
【０２０７】
ＦＥ−ＴＥＭ：ＨＦ２０００、日立社製
加速電圧：２００ｋＶ
（ｂ）電解放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）
有機無機複合粒子および無機粒子を試料台の上にそれぞれ分散させ、その後、オスミウムコーティングして、サンプルを作製する。次いで、作製したサンプルを下記の電解放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）によって写真撮影する。
【０２０８】
そして、得られたＦＥ−ＳＥＭ写真から、有機無機複合粒子および無機粒子の形状を観察し、それらの最大長さの平均（Ｌ）および最小長さの平均（Ｓ）を測定するとともに、それらからアスペクト比（Ａ）を算出する。
【０２０９】
ＦＥ−ＳＥＭ：ＪＳＭ−７５００Ｆ、日本電子社製
加速電圧：２ｋＶ
（４）透明性（ヘイズ）
光学フィルムのヘイズを、ヘイズメータ（村上色彩技術研究所社製）を用いて測定することにより、光学フィルムの透明性を評価する。
（５）光学フィルムの厚み
光学フィルムの厚み（ｄ）を、膜厚計（ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ、ニコン社製）によって、測定する。
（６）複屈折および位相差
（ａ）有機無機複合粒子および無機粒子の複屈折
有機無機複合粒子および無機粒子の複屈折（Δｎ）を、化学大辞典（共立出版社、１９９７年発行）に記載される無機粒子の屈折率から算出し、あるいは、無機粒子の結晶構造から算出する。
（ｂ）光学フィルムの複屈折および位相差
実施例１〜５および比較例１、３、４の光学フィルムの複屈折（ΔＮ）および位相差（Ｒ）を、ミュラーマトリクス・ポラリメーター（Ａｘｏａｃａｎ、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）によって、測定する。
【０２１０】
なお、光学フィルムの面内方向の複屈折（ΔＮｘｙ）および厚み方向の複屈折（（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２）は、下記式に基づいて算出する。
【０２１１】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ＝面内方向の位相差Ｒｅ／厚みｄ
厚み方向の複屈折［（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２］＝厚み方向の位相差Ｒｔｈ／厚みｄ
また、上記した面内方向の複屈折および厚み方向の複屈折に基づいて、光学特性（光学的等方性または一軸性）を評価する。
【０２１２】
なお、比較例２の光学フィルムについては、無機粒子の凝集に起因して白濁しており、そのため、複屈折および位相差を測定および算出できなかった。
【０２１３】
（有機無機複合粒子の調製）
調製例１
（第１の水熱合成）
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、炭酸ストロンチウム（本荘ケミカル社製）０．５ｇ、６−フェニルヘキサン酸（東京化成社製）０．３５０３ｍＬおよび純水３．４０３ｍＬを仕込んだ。
【０２１４】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて３００℃に加熱し、高圧反応器内を３０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２１５】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２１６】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した。この洗浄操作を５回繰り返して、残存する６−フェニルヘキサン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た（洗浄工程）。
【０２１７】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２１８】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２１９】
続いて、上澄みを取り出し、取り出した上澄みを、開口径１００ｎｍのフィルターで濾過し、濾液を乾燥させることによって、粒子径が小さい有機無機複合粒子を得た。
【０２２０】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２２１】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＳｒＣＯ３であることを確認した。
【０２２２】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアラルキル基（６−フェニルヘキシル基）が存在していることを確認した。
【０２２３】
さらに、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が長球状または球状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が７０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）４０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２２４】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、化学大辞典（共立出版社、１９９７年発行）に記載される炭酸ストロンチウムの屈折率から、−０．１４と算出した。
【０２２５】
調製例２
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、酸化セリウム（和光純薬社製）０．５４５ｇ、ヘキサン酸（和光純薬社製）０．１６３９ｍＬ、デカン酸（和光純薬社製）０．２５９１ｍＬおよび純水１．６４９ｍＬを仕込んだ。
【０２２６】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて４００℃に加熱し、高圧反応器内を４０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２２７】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２２８】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した（洗浄工程）。この洗浄操作を５回繰り返して、残存するヘキサン酸およびデカン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た。
【０２２９】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２３０】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２３１】
次に、上澄みを取り出し、これを乾燥させることによって、有機無機複合粒子を得た。
【０２３２】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２３３】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＣｅＯ２であることを確認した。
【０２３４】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアルキル基（ヘキシル基およびデシル基）が存在していることを確認した。
【０２３５】
さらに、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が略直方体状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が６ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）が７ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２３６】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、酸化セリウムの結晶構造（立方晶系、蛍石構造）から、０と算出した。
【０２３７】
調製例３
（第１の水熱合成）
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、硫酸バリウム０．５ｇ、６−フェニルヘキサン酸（東京化成社製）０．３５０３ｍＬおよび純水３．４０３ｍＬを仕込んだ。
【０２３８】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて３００℃に加熱し、高圧反応器内を３０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２３９】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２４０】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した。この洗浄操作を５回繰り返して、残存する６−フェニルヘキサン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た（洗浄工程）。
【０２４１】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２４２】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２４３】
続いて、上澄みを取り出し、取り出した上澄みを、開口径１００ｎｍのフィルターで濾過し、濾液を乾燥させることによって、粒子径が小さい有機無機複合粒子を得た。
【０２４４】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２４５】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＢａＳＯ４であることを確認した。
【０２４６】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアラルキル基（６−フェニルヘキシル基）が存在していることを確認した。
【０２４７】
さらに、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が長球状または球状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が３０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）１０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２４８】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、硫酸バリウムの結晶構造（斜方晶系）から、０．０１２と算出した。
【０２４９】
（無機粒子の用意）
比較調製例１
調製例１で仕込んだ炭酸ストロンチウム（本荘ケミカル社製）を比較調製例１の無機粒子としてそのまま供した。
【０２５０】
この無機粒子について、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭおよび（６）（ａ）複屈折を評価した。
【０２５１】
その結果、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭでは、無機粒子の形状が針状であり、無機粒子の最大長さの平均（Ｌ）が３５０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）が７０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が２〜８であった。
【０２５２】
また、（６）（ａ）の無機粒子の複屈折（Δｎ）は、化学大辞典（共立出版社発行、１９９７年発行）に記載される炭酸ストロンチウムの屈折率から、−０．１４と算出した。
【０２５３】
調製例１〜３および比較調製例１の配合処方および評価を、表１に示す。
【０２５４】
【表１】
【０２５５】
（光学フィルムの調製）
実施例１
（第１の調製方法）
表２に記載の配合処方に従って、溶媒、高配向性樹脂および有機無機複合粒子を配合して、粒子分散樹脂組成物を調製した。
【０２５６】
すなわち、溶媒としての、シクロペンタノン４２．５質量部およびトルエン４２．５質量部と、ポリアリレート（品名：ＰＡＲ Ｔ−６、日東電工社製）１５質量部とを配合して、ポリアリレートを、シクロペンタノンおよびトルエン中に溶解させて樹脂溶液を調製した。その後、この樹脂溶液１００質量部と、調製例１の有機無機複合粒子１５質量部とを配合して、それらを超音波で攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物のワニスを調製した。
【０２５７】
その後、粒子分散樹脂組成物をバーコータ法によって支持板上に塗布し、その後、溶媒を自然乾燥することにより、光学フィルムを成膜した。
【０２５８】
その後、得られた光学フィルムについて、上記の（４）透明性（ヘイズ）、（５）厚み、（６）（ｂ）複屈折および位相差を測定した。
【０２５９】
その結果を表２に示す。
【０２６０】
実施例２〜５および比較例１〜４
実施例１と同様にして、表１に記載の配合処方に従って、粒子分散樹脂組成物を調製し、続いて、粒子分散樹脂組成物を塗布および乾燥することによって、光学フィルムを成膜した。
【０２６１】
なお、比較例１については、有機無機複合粒子を配合することなく、溶媒と高配向性樹脂とを配合して、樹脂組成物のワニスを調製し、樹脂組成物を光学フィルムに成膜した。
【０２６２】
その後、実施例２〜５および比較例１〜４の光学フィルムについて、実施例１と同様にして、（４）透明性（ヘイズ）、（５）厚み、（６）（ｂ）複屈折および位相差を測定した。
【０２６３】
なお、比較例２については、（４）透明性（ヘイズ）および（５）光学フィルムの厚み（ｄ）を測定した。一方、比較例２の光学フィルムについて、（６）複屈折および位相差の測定を試みたが、無機粒子の凝集による白濁によって、測定できなかった。
【０２６４】
それらの結果を、表２に示す。
【０２６５】
【表２】
【０２６６】
表２の透明性の評価から分かるように、比較例２〜４の光学フィルムでは、いずれも、ヘイズが３％を超過するので、光学フィルムに不適である。
【０２６７】
また、実施例１〜５および比較例１、３、４の光学フィルムの面内方向および厚み方向の複屈折の関係を、図１に示す。
【０２６８】
図１から分かるように、実施例１〜５の光学フィルムは、比較例１の光学フィルムに比べて、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２が低減されていることが分かる。
【０２６９】
なお、実施例１〜５および比較例１の光学フィルムの面内方向の複屈折（ΔＮｘｙ）は、いずれも、２００×１０−６以下と低い値であることが分かる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムおよびその製造方法、詳しくは、各種光学用途に用いられる光学フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光学フィルムは、各種光学用途に広く用いられており、そのような光学フィルムには、優れた透明性が求められ、用途および目的によっては、さらに、優れた機械強度および耐熱性が求められる。
【０００３】
上記の物性を満足するため、成膜後のフィルムを一軸延伸することによって、モノマーユニットを配向させた光学フィルムが知られている。
【０００４】
一方、上記のように延伸された光学フィルムは、モノマーユニットの配向によって、光学的二軸性などの複屈折性を生ずるので、複屈折性が却って性能低下の要因となる光学用途には不適である。
【０００５】
そこで、上記した複屈折性を打ち消すために、例えば、ノルボルネン系樹脂と炭酸カルシウム微粒子とをテトラヒドロフラン中に分散させて、ポリマー溶液を調製し、それを塗布後、乾燥させてフィルムを作製し、その後、フィルムを一軸延伸させることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第０１／２５３６４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１で提案されるフィルムでは、炭酸カルシウム微粒子が、ノルボルネン系樹脂中で凝集してしまう場合がある。その場合には、フィルムは、透明性が低下するため、光学用途に不適である。
【０００８】
また、特許文献１に記載のフィルムを得るには、一軸延伸により成形する必要があるので、製造工程が複雑となり、手間がかかるという不具合がある。また、製造コストが増大する不具合もある。
【０００９】
本発明の目的は、高配向性樹脂の配向を低減または相殺することにより、複屈折を所望の範囲に制御できながら、優れた透明性、機械強度および耐熱性を有する光学フィルム、および、その光学フィルムを、簡易な方法で、かつ、複屈折を所望の範囲に制御することのできる光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の光学フィルムは、高配向性樹脂と、無機粒子の表面に有機基を有する有機無機複合粒子とを含み、前記有機無機複合粒子は、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満であり、前記高配向性樹脂中に１次粒子として分散されていることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明の光学フィルムは、光学的等方性を有していることが好適である。
【００１２】
また、本発明の光学フィルムの製造方法は、無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製する工程、前記有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する工程、および、前記粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する工程を備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光学フィルムでは、有機無機複合粒子が高配向性樹脂中に分散されているので、光学フィルムにおける高配向性樹脂の配向を有機無機複合粒子によって低減または相殺することができる。そのため、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途に好適に用いることができる。
【００１４】
また、本発明の光学フィルムでは、有機無機複合粒子は、最大長さの平均が特定範囲であり、しかも、高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、優れた透明性を確保することができる。
【００１５】
また、光学フィルムは、高配向性樹脂から調製した粒子分散樹脂組成物から成形することにより得られるので、成形工程における延伸工程を不要としながら、優れた機械強度および耐熱性を確保することができる。
【００１６】
そのため、本発明の光学フィルムの製造方法によれば、特定の有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製し、これを成形することにより、得られる光学フィルムの複屈折を所望の範囲に制御しながら、光学フィルムを簡易に製造することができる。また、光学フィルムの製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、実施例および比較例の光学フィルムの面内方向および厚み方向の複屈折の関係を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の光学フィルムは、高配向性樹脂と、有機無機複合粒子とを含んでいる。
【００１９】
高配向性樹脂は、それのみから公知の方法によってフィルムに成形した場合に、芳香環などを含む、配向性のモノマーユニットが一定方向に配向される樹脂と定義される。より具体的には、高配向性樹脂は、それを溶媒に溶解して調製した塗布液を塗布し、延伸することなく成膜したフィルムにおいて、配向性ユニットが一定方向に配向される樹脂と定義される。
【００２０】
なお、高配向性樹脂の配向性の程度、つまり、配向度は、高配向性樹脂から成膜されるフィルムの厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２、および、フィルムの面内方向（厚み方向に直交する方向）の複屈折ΔＮｘｙによって示される。
【００２１】
上記したフィルムの厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２としては、例えば、１×１０−３〜５０×１０−３、好ましくは、５×１０−３〜２５×１０−３である。また、フィルムの面内方向の複屈折ΔＮｘｙは、例えば、１０×１０−６〜５０×１０−６、好ましくは、１２×１０−６〜２５×１０−６である。
【００２２】
なお、ΔＮｘｚは、フィルムの遅相軸方向（面内における屈折率が最大になる方向）ｘの屈折率ｎｘと厚み方向ｚの屈折率ｎｚとの差である。
【００２３】
また、ΔＮｙｚは、フィルムの進相軸方向（面内方向において、遅相軸に垂直な方向）ｙの屈折率ｎｙと厚み方向の屈折率ｎｚとの差である。
【００２４】
また、ΔＮｘｙは、フィルムの遅相軸方向ｘの屈折率ｎｘと進相軸方向ｙの屈折率ｎｙとの差である。
【００２５】
具体的には、高配向性樹脂から成膜されるフィルムでは、ΔＮｘｚおよびΔＮｙｚが、例えば、０．５×１０−３〜５０×１０−３である。
【００２６】
なお、複屈折（ΔＮｘｙ、ΔＮｙｚおよびΔＮｘｚ）は、偏光・位相差解析/測定システムにより測定される。
【００２７】
高配向性樹脂は、例えば、配向性のモノマーユニットとして芳香環を含有しており、そのような高配向性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂などの熱可塑性樹脂などが挙げられる。
【００２８】
ポリエステル樹脂としては、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの芳香族系ポリエステル樹脂が挙げられる。
【００２９】
ポリイミド樹脂としては、例えば、芳香族系ポリエーテルイミド樹脂、芳香族系ポリアミドイミド樹脂などの芳香族系ポリイミド樹脂が挙げられる。
【００３０】
高配向性樹脂としては、好ましくは、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂が挙げられ、さらに好ましくは、ポリエステル樹脂、とりわけ好ましくは、光学フィルムの機械強度および耐熱性の観点から、ポリアリレートが挙げられる。
【００３１】
ポリアリレートは、例えば、芳香族ジカルボン酸と２価フェノールとのエステル反応により得られるポリアリールエステルである。
【００３２】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、またはそれらの誘導体などが挙げられる。芳香族ジカルボン酸は、単独使用または併用することができる。
【００３３】
２価フェノールとしては、例えば、ハイドロキノン、２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパン（別名：ビスフェノールＡ）、１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、４，４−ジヒドロキシジフェニルメタンまたはそれらの誘導体などが挙げられる。２価フェノールは、単独使用または併用することができる。
【００３４】
エステル反応では、芳香族ジカルボン酸と２価フェノールとを、それらのモル数が実質的に同一となるように配合して、それらを公知の反応条件で反応させる。
【００３５】
有機無機複合粒子は、無機粒子の表面に有機基を有する粒子である。具体的には、有機無機複合粒子は、無機粒子が有機化合物により表面処理されることによって、得られる。
【００３６】
無機粒子を形成する無機化合物（無機原料）としては、例えば、酸化物、複合酸化物、炭酸塩、硫酸塩などが挙げられる。
【００３７】
酸化物は、酸素と、酸素以外の１つの元素との化合物であって、酸素以外の１つの元素（酸素と化合する元素）としては、特に限定されず、例えば、Ｓｃ、ＹなどのＩＩＩｂ属元素（長周期型周期表、以下同様。）、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、ＨｆなどのＩＶｂ属元素、例えば、Ｖ、Ｎｂ、ＴａなどのＶｂ属元素、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷなどのＶＩｂ属元素、例えば、Ｍｎ、ＲｅなどのＶＩＩｂ属元素、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、ＰｔなどのＶＩＩＩｂ属元素、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、ＡｕなどのＩｂ属元素、例えば、Ｚｎ、Ｃｄ、ＨｇなどのＩＩｂ属元素、例えば、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴｌなどのＩＩＩａ属元素、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、ＰｂなどのＩＶａ属元素、例えば、Ａｓ、Ｓｂ、ＢｉなどのＶａ属元素、例えば、Ｔｅ、ＰｏなどのＶＩａ属元素、例えば、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄなどのランタニド系列元素、例えば、Ａｃ、Ｔｈ、Ｕなどのアクチニウム系列元素などが挙げられる。
【００３８】
酸素以外の元素のうち、好ましくは、金属が挙げられ、さらに好ましくは、ランタニド系列元素が挙げられる。
【００３９】
酸化物として、例えば、酸化金属が挙げられ、好ましくは、酸化セリウム（二酸化セリウム、酸化セリウム（ＩＶ）、セリア：ＣｅＯ２）などが挙げられる。
【００４０】
酸化物は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４１】
複合酸化物は、酸素と、酸素以外の複数の元素との化合物であって、酸素以外の複数の元素（酸素と化合する複数の元素）としては、上記した酸化物における酸素以外の元素、第Ｉ属元素、および、第ＩＩ属元素からなる元素から選択される少なくとも２種以上の組合せが挙げられる。
【００４２】
第Ｉ元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどのアルカリ金属が挙げられる。また、第ＩＩ属元素としては、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａなどのアルカリ土類金属が挙げられる。
【００４３】
酸素以外の複数の元素の組合せとして、好ましくは、第ＩＩ属元素とＩＶｂ属元素との組合せ、第ＩＩ属元素とＶＩＩＩｂ属元素との組合せ、第ＩＩ属元素とＩＶａ属元素との組合せなど、少なくとも第ＩＩ属元素を含む組合せが挙げられる。
【００４４】
少なくとも第ＩＩ属元素を含む複合酸化物としては、例えば、チタン酸アルカリ土類金属塩、ジルコン酸アルカリ土類金属塩、鉄酸アルカリ土類金属塩、スズ酸アルカリ土類金属塩などが挙げられる。
【００４５】
複合酸化物酸化物として、好ましくは、チタン酸アルカリ土類金属塩が挙げられる。
【００４６】
チタン酸アルカリ土類金属塩としては、例えば、チタン酸ベリリウム（ＢｅＴｉＯ３）、チタン酸マグネシウム（ＭｇＴｉＯ３）、チタン酸カルシウム（ＣａＴｉＯ３）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、チタン酸ラジウム（ＲａＴｉＯ３）などが挙げられる。
【００４７】
複合酸化物は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００４８】
炭酸塩は、炭酸イオン（ＣＯ３２−）と、金属のカチオンとの化合物（より具体的には、炭酸（Ｈ２ＣＯ３）の水素原子が金属と置換した化合物）であって、炭酸塩に含まれる金属としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられる。アルカリ金属およびアルカリ土類金属としては、上記と同様のものが挙げられる。
【００４９】
金属のうち、好ましくは、アルカリ土類金属が挙げられる。
【００５０】
具体的には、炭酸塩としては、好ましくは、アルカリ土類金属を含む炭酸塩が挙げられ、そのような炭酸塩としては、例えば、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、炭酸ラジウムなどが挙げられ、好ましくは、炭酸ストロンチウムが挙げられる。
【００５１】
これら炭酸塩は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００５２】
硫酸塩は、硫酸イオン（ＳＯ４２−）と、金属のカチオンとの化合物（より具体的には、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）の水素原子が金属と置換した化合物）であって、硫酸塩に含まれる金属としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属などが挙げられる。アルカリ金属およびアルカリ土類金属としては、上記と同様のものが挙げられる。
【００５３】
金属のうち、好ましくは、アルカリ土類金属が挙げられる。
【００５４】
具体的には、硫酸塩としては、好ましくは、アルカリ土類金属を含む硫酸塩が挙げられ、そのような硫酸塩としては、例えば、硫酸ベリリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸ストロンチウム、硫酸バリウム、硫酸ラジウムなどが挙げられ、好ましくは、硫酸バリウムが挙げられる。
【００５５】
これら硫酸塩は、単独使用または２種以上併用することができる。
【００５６】
有機化合物（有機原料）は、例えば、無機粒子の表面に有機基を導入する（配置させる）するための有機基導入化合物であって、無機化合物の表面と結合可能な結合基と、結合基に結合される有機基とを含んでいる。
【００５７】
結合基としては、無機粒子の種類に応じて適宜選択され、例えば、カルボキシル基、リン酸基（−ＰＯ（ＯＨ）２、ホスホノ基）、アミノ基、スルホ基などの官能基が挙げられる。好ましくは、カルボキシル基が挙げられる。
【００５８】
これら結合基は、有機化合物に１つあるいは複数含まれる。具体的には、結合基は、有機基が長鎖状である場合には、有機基の末端または側鎖に結合されている。
【００５９】
有機基は、例えば、疎水基および／または親水基を含んでいる。
【００６０】
疎水基として、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニルアルキレン基、アリール基、アラルキル基などの炭素数４〜２０の炭化水素基が挙げられる。
【００６１】
アルキル基としては、例えば、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、２−エチルへキシル、３，３，５−トリメチルヘキシル、イソオクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシルなどの、炭素数４〜２０の直鎖または分岐アルキル基などが挙げられる。好ましくは、炭素数６〜１８の直鎖アルキル基が挙げられる。
【００６２】
アルケニル基としては、例えば、ヘキセニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、イコセニルなどの炭素数４〜２０のアルケニル基が挙げられる。
【００６３】
アルキニル基としては、例えば、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、デシニル、ウンデシニル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペンタデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタデシニルなどの炭素数４〜２０のアルキニル基が挙げられる。
【００６４】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシルなどの炭素数４〜２０のシクロアルキル基が挙げられる。
【００６５】
シクロアルケニルアルキレン基としては、例えば、ノルボルネンデシル（ノルボネリルデシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エニル−デシル）などの炭素数７〜２０のシクロアルケニルアルキレン基が挙げられる。
【００６６】
アリール基としては、例えば、フェニル、キシリル、ナフチル、ビフェニルなどの炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。
【００６７】
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル、フェニルヘプチル、ジフェニルメチルなどの炭素数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。
【００６８】
疎水基のうち、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基などが挙げられ、さらに好ましくは、アルキル基、アラルキル基が挙げられる。
【００６９】
有機基が疎水基を含んでいる場合には、有機化合物（有機基導入化合物）は、無機粒子に疎水性を付与する疎水化有機化合物として供される。
【００７０】
そのような疎水化有機化合物としては、例えば、脂肪酸が挙げられ、そのような脂肪酸としては、例えば、飽和脂肪酸（例えば、ヘキサン酸、デカン酸など）などのアルキル基含有化合物、例えば、不飽和脂肪酸（例えば、オレイン酸など）などのアルケニル基含有化合物が挙げられる。また、疎水化有機化合物としては、例えば、芳香族カルボン酸（例えば、６−フェニルヘキサン酸）などのアラルキル基含有化合物なども挙げられる。
【００７１】
有機基は、親水基を含んでいる場合には、その親水基と、親水基に結合される上記した炭化水素基とを含む親水基含有有機基である。
【００７２】
親水基としては、例えば、カルボキシル基、ヒドロキシル基、リン酸基、アミノ基、スルホ基、カルボニル基などが挙げられる。親水基は、有機化合物において１つあるいは複数含まれている。親水基は、炭化水素基の末端（結合に結合される一端と逆側の他端）および／または側鎖に結合されている。
【００７３】
親水基含有有機基としては、例えば、カルボキシル基含有有機基、ヒドロキシル基含有有機基、リン酸基含有有機基、アミノ基含有有機基、スルホ基含有有機基、カルボニル基含有有機基などが挙げられる。
【００７４】
カルボキシル基含有有機基としては、例えば、３−カルボキシプロピル、６−カルボキシヘキシルなどのカルボキシ炭化水素基などが挙げられる。
【００７５】
ヒドロキシル基含有有機基としては、４−ヒドロキシフェニル、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピルなどのヒドロキシ炭化水素基などが挙げられる。
【００７６】
リン酸基含有有機基としては、例えば、６−ホスホノヘキシルなどのホスホノ炭化水素基などが挙げられる。
【００７７】
アミノ基含有有機基としては、例えば、６−アミノヘキシルなどのアミノ炭化水素基などが挙げられる。
【００７８】
スルホ基含有有機基としては、例えば、６−スルホヘキシルなどのスルホ炭化水素基などが挙げられる。
【００７９】
カルボニル基含有有機基としては、例えば、４−オキソペンチルなどのオキソ炭化水素基などが挙げられる。
【００８０】
有機基が親水基および炭化水素基を含んでいる場合（つまり、親水基含有有機基である場合）には、有機化合物（有機基導入化合物）は、無機粒子に親水性を付与する親水化有機化合物として供される。
【００８１】
そのような親水化有機化合物としては、例えば、ジカルボン酸（例えば、プロパン二酸（マロン酸）、ヘキサン二酸（アジピン酸）など）などのカルボキシル基含有化合物、例えば、モノヒドロキシルカルボン酸（例えば、４−ヒドロキシフェニル酢酸、３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸など）などのヒドロキシル基含有化合物、例えば、モノホスホノカルボン酸（例えば、６−ホスホノヘキサン酸など）などのリン酸基含有化合物、例えば、モノアミノカルボン酸（例えば、６−アミノヘキサン酸など）などのアミノ基含有有機化合物、例えば、モノスルホカルボン酸（例えば、６−スルホヘキサン酸など）などのスルホ基含有化合物、例えば、モノカルボニルカルボン酸（例えば、４−オキソ吉草酸など）などのカルボニル基含有化合物などが挙げられる。
【００８２】
上記した有機基は、有機無機複合粒子における無機粒子の表面に存在している。つまり、有機基は、無機粒子の表面を被覆している。
【００８３】
上記した有機無機複合粒子は、無機化合物と上記した有機化合物とを、反応処理、好ましくは、高温処理することによって得ることができる。
【００８４】
具体的には、無機化合物および有機化合物を水中で高圧下において高温処理する（水熱合成：水熱反応）か、または、無機化合物を有機化合物中で高温処理（有機化合物中での高温処理）することにより、有機無機複合粒子を得る。つまり、無機化合物により形成される無機粒子の表面を有機化合物で表面処理することにより、有機無機複合粒子を得る。
【００８５】
水熱合成では、例えば、上記した無機化合物と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる（第１の水熱合成）。
【００８６】
すなわち、まず、無機化合物、有機化合物および水を耐圧性の密閉容器に投入し、それらを加熱することにより、反応系を高温および高圧下に調製する。
【００８７】
無機化合物としては、上記した無機化合物と同様のものが挙げられ、好ましくは、酸化物または炭酸塩が挙げられる。
【００８８】
各成分の配合割合は、無機化合物１００質量部に対して、有機化合物が、例えば、５〜１６０質量部、好ましくは、１０〜１１０質量部であり、水が、例えば、１００〜１０００質量部、好ましくは、２００〜７００質量部である。
【００８９】
なお、有機化合物の密度が、通常、０．８〜１．１ｇ／ｍＬであることから、有機化合物の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１０〜１５０ｍＬ、好ましくは、２０〜１００ｍＬである。
【００９０】
また、有機化合物の配合モル数は、無機化合物１モルに対して、例えば、０．０１〜１０００モル、好ましくは、０．１〜１０モルに設定することもできる。
【００９１】
また、水の密度が、通常、１ｇ／ｍＬ程度であることから、水の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１００〜１０００ｍＬ、好ましくは、２００〜７００ｍＬである。
【００９２】
水熱反応における反応条件は、具体的には、加熱温度が、例えば、１００〜５００℃、好ましくは、２００〜４００℃である。また、圧力が、例えば、１０〜５０ＭＰａ、好ましくは、２０〜４０ＭＰａである。また、反応時間が、例えば、１〜２００分間、好ましくは、３〜１５０分間である。
【００９３】
なお、上記の反応において、得られる反応物は、主に水中に沈殿する沈殿物と、密閉容器の内壁に付着する付着物とを含んでいる。
【００９４】
沈殿物は、例えば、反応物を、重力または遠心力場によって、沈降させる沈降分離によって得る。好ましくは、遠心力場によって沈降させる遠心沈降（遠心分離）によって、反応物の沈殿物として得る。
【００９５】
また、付着物は、例えば、へら（スパーテル）などによって、回収する。
【００９６】
これにより、有機無機複合粒子を得る。
【００９７】
また、上記した元素の水酸化物と、有機化合物とを水熱合成させることにより、無機化合物が酸化物である有機無機複合粒子を得ることができる（第２の水熱合成）。
【００９８】
水酸化物に含まれる元素（水酸化物イオン（ＯＨ−）と化合するカチオンを構成する元素。具体的には、金属。）としては、上記した酸化物における酸素以外の元素と同様の元素が挙げられ、好ましくは、ＩＶｂ属元素、ＩＩＩａ属元素、ランタニド系列元素が挙げられる。
【００９９】
水酸化物としては、具体的には、例えば、水酸化チタン（Ｔｉ（ＯＨ）４）、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）、水酸化セリウム（Ｃｅ（ＯＨ）４）などが挙げられる。
【０１００】
有機化合物としては、例えば、上記した第１の水熱合成に用いられる有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１０１】
そして、第２の水熱合成では、水酸化物と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１０２】
各成分の配合割合は、水酸化物１００質量部に対して、有機化合物が、例えば、４〜５５０質量部、好ましくは、１５〜３３０質量部であり、水が、例えば、５０〜２５００質量部、好ましくは、１００〜５００質量部である。
【０１０３】
また、有機化合物の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５〜５００ｍＬ、好ましくは、２０〜３００ｍＬであり、有機化合物の配合モル数は、水酸化物１モルに対して、例えば、０．０１〜１００００モル、好ましくは、０．１〜１０モルに設定することもできる。
【０１０４】
また、水の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５０〜２５００ｍＬ、好ましくは、１００〜５００ｍＬである。
【０１０５】
第２の水熱合成における反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１０６】
これにより、有機無機複合粒子を得る。
【０１０７】
また、上記した第２の水熱合成の処方において、各成分に加えて、炭酸源を配合することにより、無機化合物が炭酸塩である有機無機複合粒子を得ることもできる（第３の水熱合成）。
【０１０８】
炭酸源としては、例えば、蟻酸および／または尿素が挙げられる。
【０１０９】
水酸化物は、上記した第２の水熱合成で例示した水酸化物と同様のものが用いられる。また、有機化合物は、上記した第１の水熱合成で例示した有機化合物と同様のものが用いられる。
【０１１０】
第３の水熱合成では、水酸化物と、炭酸源と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１１１】
炭酸源の配合割合は、水酸化物１００質量部に対して、例えば、５〜１４０質量部、好ましくは、１０〜７０質量部である。
【０１１２】
なお、炭酸源の密度が、通常、１．１〜１．４ｇ／ｍＬであることから、炭酸源の配合割合は、水酸化物１００ｇに対して、例えば、５〜１００ｍＬ、好ましくは、１０〜５０ｍＬである。また、炭酸源の配合モル数を、水酸化物１モルに対して、例えば、０．４〜１００モル、好ましくは、１．０１〜１０．０モル、さらに好ましくは、１．０５〜１．３０モルに設定することもできる。なお、水酸化物、有機化合物および水の配合割合は、上記した第２の水熱合成のそれらの配合割合と同一である。
【０１１３】
第３の水熱合成における反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１１４】
さらに、水酸化物と、金属錯体と、有機化合物とを水熱合成させることにより、無機化合物が炭酸塩である有機無機複合粒子を得ることもできる（第４の水熱合成）。
【０１１５】
水酸化物としては、第２の水熱合成で例示した水酸化物と同様のものが挙げられる。また、有機化合物としては、第１の水熱合成で例示した有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１１６】
金属錯体に含まれる金属元素は、上記した水酸化物に含まれる元素および酸素と複合酸化物を構成する元素であり、例えば、チタン、鉄、スズ、ジルコニウムなどの金属が挙げられる。好ましくは、チタンが挙げられる。
【０１１７】
金属錯体の配位子としては、例えば、２−ヒドロキシオクタン酸などのモノヒドロキシカルボン酸などが挙げられる。
【０１１８】
金属錯体としては、例えば、２−ヒドロキシオクタン酸チタネートなどが挙げられる。なお、金属錯体は、上記した金属元素および配位子から、公知の方法によって、得ることができる。
【０１１９】
有機化合物は、上記した第１の水熱合成に用いられる有機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１２０】
そして、第４の水熱合成では、上記した水酸化物と、金属錯体と、有機化合物とを、高温および高圧下において、水の存在下で、反応させる。
【０１２１】
各成分の配合割合は、金属錯体１００質量部に対して、水酸化物が、例えば、１〜５０質量部、好ましくは、５〜３０質量部であり、有機化合物が、例えば、４〜５５０質量部、好ましくは、１５〜３３０質量部であり、水が、例えば、２００〜１０００質量部、好ましくは、３００〜７００質量部である。
【０１２２】
なお、有機化合物の配合割合は、金属錯体１００ｇに対して、例えば、５〜５００ｍＬ、好ましくは、２０〜３００ｍＬであり、有機化合物の配合モル数は、水酸化物１モルに対して、０．０１〜１０００モルに設定することもできる。
【０１２３】
また、水の配合割合は、金属錯体１００ｇに対して、例えば、２００〜１０００ｍＬ、好ましくは、３００〜７００ｍＬである。
【０１２４】
第４の水熱合成の反応条件は、上記した第１の水熱合成における反応条件と同一である。
【０１２５】
さらにまた、上記した水熱合成（第１〜第４の水熱合成）を、ｐＨ調整剤の存在下で実施することもできる。
【０１２６】
ｐＨ調整剤としては、アルカリ、酸が挙げられる。
【０１２７】
アルカリとしては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機アルカリ、例えば、アンモニアなどの有機アルカリなどが挙げられる。また、酸としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸などの無機酸、例えば、蟻酸、酢酸などの有機酸などが挙げられる。
【０１２８】
好ましくは、アルカリが用いられる。
【０１２９】
ｐＨ調整剤によって、反応系のｐＨを、例えば、８〜１２に設定する。
【０１３０】
これによって、得られる有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌ（後述）を所望の範囲、より具体的には、より小さい値に設定することができる。そのため、サイズ（具体的には、後述する最大長さの平均Ｌ）が小さい有機無機複合粒子を、光学用途に好適に用いることができる。
【０１３１】
有機化合物中で高温処理に供される無機化合物は、上記した無機化合物と同様のものが挙げられる。
【０１３２】
有機化合物中での高温処理では、無機化合物と、有機化合物とを配合し、例えば、常圧下において、それらを加熱する。
【０１３３】
有機化合物の配合割合は、無機化合物１００質量部に対して、例えば、１０〜１００００質量部、好ましくは、１００〜１０００質量部である。また、有機化合物の体積基準の配合割合は、無機化合物１００ｇに対して、例えば、１０〜１００００ｍＬ、好ましくは、１００〜１０００ｍＬである。
【０１３４】
加熱温度は、例えば、１００℃を超過する温度、好ましくは、１２５℃以上、さらに好ましくは、１５０℃以上であり、通常、例えば、３００℃以下、好ましくは、２７５℃以下である。加熱時間は、例えば、１〜６０分間、好ましくは、３〜３０分間である。
【０１３５】
その後、上記した第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子を、必要により、洗浄および／または湿式分級する。
【０１３６】
有機無機複合粒子を洗浄するには、例えば、第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子に、溶媒を加えて未反応の有機化合物を洗浄し（つまり、有機化合物を溶媒に溶解させ）、その後、溶媒を除去して、回収（分離）する。
【０１３７】
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素（具体的には、アルカンなど）、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素、例えば、テトラヒドロフランなどのエーテル、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などが挙げられる。好ましくは、アルコールが挙げられる。
【０１３８】
洗浄後における有機無機複合粒子は、例えば、濾過、デカンテーションなどによって、溶媒（上澄み液）から分離して、回収する。その後、必要に応じて、回収物を、例えば、加熱または気流などにより乾燥する。
【０１３９】
また、有機無機複合粒子を湿式分級するには、例えば、上記した第１〜第４の水熱合成または有機化合物中での高温処理により得られた有機無機複合粒子、または、上記した洗浄後の有機無機複合粒子に溶媒を加えて、それらを攪拌後、静置するか、あるいは、遠心沈降により、上澄みと沈殿物とに分離する。溶媒としては、上記と同様のものが挙げられ、好ましくは、ハロゲン化脂肪族炭化水素が挙げられる。
【０１４０】
その後、上済みを回収する。
【０１４１】
湿式分級では、回収後の上澄みをさらに濾過することもできる。濾過には、開口径が、例えば、５００ｎｍ以下、好ましくは、４００ｎｍ以下であり、通常、１ｎｍ以上のフィルターが用いられる。
【０１４２】
その後、回収物から溶媒を除去して、有機無機複合粒子を得る。
【０１４３】
湿式分級により、サイズが小さい有機無機複合粒子を得ることができる。
【０１４４】
そして、上記により得られる有機無機複合粒子（１次粒子）の最大長さ（長手方向長さ）の平均Ｌは、３５０ｎｍ未満、好ましくは、３００ｎｍ以下、さらに好ましくは、２００ｎｍ以下、とりわけ好ましくは、１００ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。また、有機無機複合粒子の最小長さ（短手方向長さ）の平均Ｓが、例えば、１ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは、５ｎｍ〜５０ｎｍである。
【０１４５】
また、有機無機複合粒子の平均粒子径Ｄは、例えば、４００ｎｍ以下、好ましくは、３００ｎｍ以下、さらに好ましくは、２００ｎｍ以下、とりわけ好ましくは、１００ｎｍ以下であり、通常、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、２ｎｍ以上である。
【０１４６】
また、有機無機複合粒子のアスペクト比Ａは、例えば、１０００以下、好ましくは、１００以下、好ましくは、１．５未満であり、通常、１以上である。
【０１４７】
有機無機複合粒子のサイズ（最大長さの平均Ｌ、最小長さの平均Ｓ、平均粒子径Ｄおよびアスペクト比Ａ）は、公知の方法により測定され、具体的には、後の実施例で詳述するが、ＦＥ−ＴＥＭおよび／またはＦＥ−ＳＥＭによって、測定される。
【０１４８】
有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲を超えると、高配向性樹脂の配向を低減および相殺することができない。また、高配向性樹脂と混合する際に有機無機複合粒子が破砕される場合がある。
【０１４９】
一方、有機無機複合粒子の最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲に満たないと、光学フィルムの物理強度が低下する場合がある。
【０１５０】
また、有機無機複合粒子のアスペクト比Ａが上記した範囲を超えると、有機無機複合粒子自身が配向性を生じ、光学フィルムの複屈折（配向）の制御が困難となる場合がある。
【０１５１】
また、有機無機複合粒子（１次粒子）の形状（外形形状）は、特に限定されず、例えば、略立方体形状などの略直方体形状、例えば、略球形状、例えば、略長球（あるいは紡錘形状）、略扁球などの回転楕円体形状、例えば、針状形状または棒状形状である。好ましくは、略立方体形状、略球形状である。略立方体形状または略球形状であれば、アスペクト比Ａを上記した範囲に確実に設定することができる。
【０１５２】
また、有機無機複合粒子は、例えば、上記した外形形状の中実形状または中空形状（具体的には、中空略球形状、中空略立方体形状など）である。
【０１５３】
このようにして得られる有機無機複合粒子は、乾燥状態で、凝集しにくくなっており、たとえ、乾燥状態で見かけ上凝集しても、次に説明する光学フィルムにおいて、凝集（２次粒子の形成）が確実に防止され、高配向性樹脂中に１次粒子としてほぼ均一に分散される。
【０１５４】
そして、上記した各種の方法により得られる有機無機複合粒子の複屈折Δｎは、特に限定されず、正である場合には、例えば、０．００１〜０．２００、好ましくは、０．０１０〜０．２００であり、負である場合には、例えば、−０．２００〜−０．００１、好ましくは、−０．２００〜−０．０１０である。
【０１５５】
なお、有機無機複合粒子の複屈折Δｎは、無機粒子の複屈折と実質的に同一であり、そのため、公知の文献（例えば、化学大辞典など）に記載される無機粒子の屈折率から算出されるか、あるいは、無機粒子の結晶構造から考察および算出される。
【０１５６】
次に、本発明の光学フィルムを得るための、本発明の光学フィルムの製造方法の一実施形態について、説明する。
【０１５７】
この方法では、まず、上記に従って、最大長さの平均Ｌが特定範囲である有機無機複合粒子を調製し、次いで、その有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する。
【０１５８】
有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させるには、例えば、溶媒、有機無機複合粒子および高配向性樹脂を配合して、それらを攪拌する（溶液調製）。なお、このようにして調製される粒子分散樹脂組成物は、溶媒を含む粒子分散樹脂組成物のワニス（溶液）とされる。
【０１５９】
溶媒としては、特に限定されず、例えば、上記した洗浄で例示した溶媒と同様の溶媒が挙げられ、さらには、それら以外に、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素（具体的には、シクロアルカンなど）、例えば、酢酸エチルなどのエステル、例えば、エチレングリコール、グリセリンなどのポリオール、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの含窒素化合物などが挙げられる。
【０１６０】
これら溶媒は、単独使用または２種類以上併用することができる。溶媒として、好ましくは、ケトン、芳香族炭化水素、ハロゲン化脂肪族炭化水素などが挙げられる。
【０１６１】
具体的に、粒子分散樹脂組成物を調製するには、まず、上記した溶媒と高配向性樹脂とを配合して、高配向性樹脂を溶媒中に溶解させて、樹脂溶液を調製する。その後、樹脂溶液と有機無機複合粒子とを配合して、それらを攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物を調製する（第１の調製方法）。
【０１６２】
粒子分散樹脂組成物において、有機無機複合粒子は、溶媒および高配向性樹脂中に１次粒子として分散されている。
【０１６３】
高配向性樹脂の配合割合は、樹脂溶液１００質量部に対して、例えば、４０質量部以下、好ましくは、２０質量部以下であり、通常、１質量部以上である。
【０１６４】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、樹脂溶液において高配向性樹脂を確実に溶解させることができる。
【０１６５】
有機無機複合粒子の配合割合は、樹脂溶液の固形分（高配向性樹脂）１００質量部に対して、例えば、１０〜１０００質量部、好ましくは、４０〜２００質量部である。また、有機無機複合粒子の配合割合は、樹脂溶液の総量（高配向性樹脂および溶媒の総量）１００質量部に対して、例えば、１〜５０質量部、好ましくは、２〜３５質量部でもある。
【０１６６】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１６７】
また、溶媒と有機無機複合粒子とを配合して、有機無機複合粒子を溶媒中に分散させて、粒子分散液を調製し、その後、粒子分散液と高配向性樹脂とを配合して、それらを攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物を調製することもできる（第２の調製方法）。
【０１６８】
粒子分散液において、有機無機複合粒子は、溶媒中に１次粒子として分散されている。
【０１６９】
有機無機複合粒子の配合割合は、粒子分散液１００質量部に対して、例えば、０．１〜５０質量部、好ましくは、１〜１０質量部である。
【０１７０】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１７１】
高配向性樹脂の配合割合は、粒子分散液の固形分（有機無機複合粒子）１００質量部に対して、例えば、１００〜１０００質量部、好ましくは、５０〜２００質量部である。
【０１７２】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、有機無機複合粒子の高配向性樹脂および溶媒に対する良好な分散性を確保することができる。
【０１７３】
さらに、例えば、溶媒と有機無機複合粒子と高配向性樹脂とを一度に配合して、それらを攪拌することにより、粒子分散樹脂組成物を調製することもできる（第３の調製方法）。
【０１７４】
各成分の配合割合は、粒子分散樹脂組成物の総量１００質量部に対して、有機無機複合粒子で、例えば、０．１〜６０質量部、好ましくは、１〜４０質量部であり、高配向性樹脂で、例えば、４０質量部以下、好ましくは、２０質量部以下であり、通常、１質量部以上である。また、溶媒の配合割合は、粒子分散樹脂組成物における有機無機複合粒子および高配向性樹脂の残部である。
【０１７５】
有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、高配向性樹脂の配向を十分に低減および相殺することができない場合がある。一方、有機無機複合粒子の配合割合が上記した範囲を超える場合には、有機無機複合粒子の分散性が低下する場合がある。
【０１７６】
高配向性樹脂の配合割合が上記した範囲にあれば、有機無機複合粒子の高配向性樹脂および溶媒に対する良好な分散性を確保することができる。
【０１７７】
さらにまた、粒子分散樹脂組成物を調製するには、例えば、溶媒を配合することなく、樹脂を加熱により溶融させて、有機無機複合粒子と配合することもできる（第４の調製方法）。
【０１７８】
このようにして調製される粒子分散樹脂組成物は、溶媒を含まない粒子分散樹脂組成物の溶融物とされる。
【０１７９】
有機無機複合粒子の、高配向性樹脂１００質量部に対する配合割合は、例えば、１０〜１０００質量部、好ましくは、２０〜５００質量部である。
【０１８０】
加熱温度は、高配向性樹脂の溶融温度と同一あるいはそれ以上であり、具体的には、２００〜３５０℃である。
【０１８１】
次いで、この方法では、粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する。
【０１８２】
具体的には、粒子分散樹脂組成物を塗布することにより、光学フィルムを成膜する。
【０１８３】
すなわち、粒子分散樹脂組成物が上記した第１〜第３の調製方法によって調製されている場合には、粒子分散樹脂組成物を、公知の支持板上に塗布して塗膜を作製し、この塗膜を乾燥することにより、粒子分散樹脂組成物をフィルムに成膜する。
【０１８４】
粒子分散樹脂組成物の塗布では、例えば、スピンコータ法、バーコータ法などの公知の塗布方法が用いられる。なお、この粒子分散樹脂組成物の塗布において、塗布と同時にまたは直後には、溶媒が、揮発により除去される。なお、必要により、塗布後に、加熱により、溶媒を乾燥させることもできる。
【０１８５】
また、塗膜は、延伸工程を実施することなく、フィルムに成膜される。
【０１８６】
なお、粒子分散樹脂組成物が第４の調製方法によって調製されている場合には、粒子分散樹脂組成物を押出成形機などによって押出成形する溶融成形方法によって、粒子分散樹脂組成物をフィルムに成膜することもできる。粒子分散樹脂組成物は、延伸工程を実施することなく、フィルムに成膜される。
【０１８７】
このようにして成形される光学フィルムの厚みｄは、所望の光学特性（後述する位相差Ｒなど）に応じて、適宜設定され、例えば、１〜１０００μｍ、好ましくは、５〜５００μｍである。光学フィルムの厚みｄは、公知の膜厚計で測定される。
【０１８８】
そして、このようにして成膜される光学フィルムでは、有機無機複合粒子が高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、高配向性樹脂の配向を有機無機複合粒子によって乱す（阻害する）ことができ、これにより、高配向性樹脂の配向を低減または相殺することができる。そのため、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途に好適に用いることができる。
【０１８９】
すなわち、高配向性樹脂および有機無機複合粒子は、光学フィルムの複屈折が下記の範囲となるように、上記した例示から選択される。
【０１９０】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ：例えば、２００×１０−６以下、好ましくは、１００×１０−６以下、好ましくは、５０×１０−６以下、さらに好ましくは、２０×１０−６以下、通常、０以上
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２：例えば、１２×１０−３以下、好ましくは、１０×１０−３以下、さらに好ましくは、５．０×１０−３以下、とりわけ好ましくは、２．０×１０−３以下、もっとも好ましくは、１．０×１０−３以下、通常、０以上
さらに、光学フィルムの複屈折が下記の値であれば、光学フィルムに、光学的等方性を付与することができる。
【０１９１】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ：実質的に、０
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２：実質的に、０
なお、実質的に０の複屈折を有する光学フィルムは、光学的等方性を示すことができ、そのような光学特性に実用上の影響を与えない性質を示す。
【０１９２】
そのような範囲としては、具体的には、面内方向の複屈折ΔＮｘｙで、例えば、２０×１０−３以下、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２で、例えば、２．０×１０−３以下である。
【０１９３】
また、光学フィルムの面内方向の複屈折ΔＮｘｙと、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２とは、偏光・位相差解析/測定システムにより測定および算出される。
【０１９４】
より具体的には、上記した複屈折は、偏光・位相差解析/測定システムにより測定される位相差Ｒと、光学フィルムの厚みｄとから以下の式に従って算出される。
【０１９５】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ＝（面内方向の位相差Ｒｅ）／（厚みｄ）
厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２＝（厚み方向の位相差Ｒｔｈ）／（厚みｄ）
また、厚み１０〜２５μｍにおける光学フィルムのヘイズは、例えば、３％以下、好ましくは、１．５％以下であり、通常、０．０１％以上である。光学フィルムのヘイズが上記範囲を超える場合には、光学フィルムとして不適となる場合がある。
【０１９６】
なお、ヘイズは、ヘイズメータを用いて測定される。
【０１９７】
そして、この光学フィルムが用いられる光学用途としては、例えば、複屈折性が性能低下の要因となる光学用途であり、より具体的には、液晶ディスプレイなどが挙げられ、好ましくは、液晶パネルのセル基板、偏光板の透明保護フィルムなどが挙げられる。
【０１９８】
光学用途としては、さらに好ましくは、光学的等方性が要求される光学用途であり、そのような光学用途としては、例えば、液晶基板のセル基板、偏光板の透明保護フィルムなどが挙げられる。
【０１９９】
また、上記した光学フィルムでは、有機無機複合粒子は、最大長さの平均Ｌが上記した特定範囲であり、しかも、高配向性樹脂中に１次粒子として分散されているので、優れた透明性を確保することができる。
【０２００】
また、光学フィルムは、その製造工程において、粒子分散樹脂組成物を成形することにより得られるので、成形工程における延伸工程を不要としながら、優れた機械強度および耐熱性を確保することができる。
【０２０１】
そのため、上記した方法によれば、粒子分散樹脂組成物を塗布し、延伸することなく成形することにより、得られる光学フィルムの複屈折を上記した所望の範囲に制御しながら、光学フィルムを簡易に製造することができる。また、光学フィルムの製造コストを低減することができる。
【実施例】
【０２０２】
以下に調製例、比較調製例、実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、それらに限定されない。
【０２０３】
なお、有機無機複合粒子、無機粒子および光学フィルムの評価方法を以下に記載する。
（１）Ｘ線回折法（ＸＲＤ）
有機無機複合粒子および無機粒子をガラスフォルダーにそれぞれ充填し、下記の条件でＸ線回折をそれぞれ実施する。その後、得られたピークから、データベース検索による無機化合物の成分を帰属する。
【０２０４】
Ｘ線回折装置：Ｄ８ ＤＩＳＣＯＶＥＲ ｗｉｔｈ ＧＡＤＤＳ、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製
（入射側光学系）
・Ｘ線源：ＣｕＫα（λ＝１．５４２Å）、４５ｋＶ、３６０ｍＡ
・分光器（モノクロメータ）：多層膜ミラー
・コリメータ直径：３００μｍ
（受光側光学系）
・カウンタ：二次元ＰＳＰＣ（Ｈｉ−ＳＴＡＲ）
・有機無機複合粒子（および無機粒子）およびカウンタ間距離：１５ｃｍ
・２θ＝２０、５０、８０度、ω＝１０、２５、４０度、Ｐｈｉ＝０度、Ｐｓｉ＝０度
・測定時間：１０分
・帰属（半定量ソフトウェア）：ＦＰＭ ＥＶＡ、Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製
（２）フーリエ変換赤外分光光度法（ＦＴ−ＩＲ）
下記の装置を用いるＫＢｒ法によって、フーリエ変換赤外分光光度測定を実施する。
【０２０５】
フーリエ変換赤外分光光度計：ＦＴ／ＩＲｐｌｕｓ、ＪＡＳＣＯ社製
（３）有機無機複合粒子および無機粒子の形状およびサイズ
（ａ）電解放射型透過型電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）
有機無機複合粒子および無機粒子をカーボン支持膜付きＣｕメッシュ上に分散し電解放射型透過型電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）によって写真撮影する。
【０２０６】
そして、得られたＦＥ−ＴＥＭ写真から、有機無機複合粒子および無機粒子の形状を観察し、それらの最大長さの平均（Ｌ）および最小長さの平均（Ｓ）を測定するとともに、それらからアスペクト比（Ａ）を算出する。
【０２０７】
ＦＥ−ＴＥＭ：ＨＦ２０００、日立社製
加速電圧：２００ｋＶ
（ｂ）電解放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）
有機無機複合粒子および無機粒子を試料台の上にそれぞれ分散させ、その後、オスミウムコーティングして、サンプルを作製する。次いで、作製したサンプルを下記の電解放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）によって写真撮影する。
【０２０８】
そして、得られたＦＥ−ＳＥＭ写真から、有機無機複合粒子および無機粒子の形状を観察し、それらの最大長さの平均（Ｌ）および最小長さの平均（Ｓ）を測定するとともに、それらからアスペクト比（Ａ）を算出する。
【０２０９】
ＦＥ−ＳＥＭ：ＪＳＭ−７５００Ｆ、日本電子社製
加速電圧：２ｋＶ
（４）透明性（ヘイズ）
光学フィルムのヘイズを、ヘイズメータ（村上色彩技術研究所社製）を用いて測定することにより、光学フィルムの透明性を評価する。
（５）光学フィルムの厚み
光学フィルムの厚み（ｄ）を、膜厚計（ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ、ニコン社製）によって、測定する。
（６）複屈折および位相差
（ａ）有機無機複合粒子および無機粒子の複屈折
有機無機複合粒子および無機粒子の複屈折（Δｎ）を、化学大辞典（共立出版社、１９９７年発行）に記載される無機粒子の屈折率から算出し、あるいは、無機粒子の結晶構造から算出する。
（ｂ）光学フィルムの複屈折および位相差
実施例１〜５および比較例１、３、４の光学フィルムの複屈折（ΔＮ）および位相差（Ｒ）を、ミュラーマトリクス・ポラリメーター（Ａｘｏａｃａｎ、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）によって、測定する。
【０２１０】
なお、光学フィルムの面内方向の複屈折（ΔＮｘｙ）および厚み方向の複屈折（（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２）は、下記式に基づいて算出する。
【０２１１】
面内方向の複屈折ΔＮｘｙ＝面内方向の位相差Ｒｅ／厚みｄ
厚み方向の複屈折［（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２］＝厚み方向の位相差Ｒｔｈ／厚みｄ
また、上記した面内方向の複屈折および厚み方向の複屈折に基づいて、光学特性（光学的等方性または一軸性）を評価する。
【０２１２】
なお、比較例２の光学フィルムについては、無機粒子の凝集に起因して白濁しており、そのため、複屈折および位相差を測定および算出できなかった。
【０２１３】
（有機無機複合粒子の調製）
調製例１
（第１の水熱合成）
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、炭酸ストロンチウム（本荘ケミカル社製）０．５ｇ、６−フェニルヘキサン酸（東京化成社製）０．３５０３ｍＬおよび純水３．４０３ｍＬを仕込んだ。
【０２１４】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて３００℃に加熱し、高圧反応器内を３０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２１５】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２１６】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した。この洗浄操作を５回繰り返して、残存する６−フェニルヘキサン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た（洗浄工程）。
【０２１７】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２１８】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２１９】
続いて、上澄みを取り出し、取り出した上澄みを、開口径１００ｎｍのフィルターで濾過し、濾液を乾燥させることによって、粒子径が小さい有機無機複合粒子を得た。
【０２２０】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２２１】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＳｒＣＯ３であることを確認した。
【０２２２】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアラルキル基（６−フェニルヘキシル基）が存在していることを確認した。
【０２２３】
さらに、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が長球状または球状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が７０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）４０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２２４】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、化学大辞典（共立出版社、１９９７年発行）に記載される炭酸ストロンチウムの屈折率から、−０．１４と算出した。
【０２２５】
調製例２
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、酸化セリウム（和光純薬社製）０．５４５ｇ、ヘキサン酸（和光純薬社製）０．１６３９ｍＬ、デカン酸（和光純薬社製）０．２５９１ｍＬおよび純水１．６４９ｍＬを仕込んだ。
【０２２６】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて４００℃に加熱し、高圧反応器内を４０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２２７】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２２８】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した（洗浄工程）。この洗浄操作を５回繰り返して、残存するヘキサン酸およびデカン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た。
【０２２９】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２３０】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２３１】
次に、上澄みを取り出し、これを乾燥させることによって、有機無機複合粒子を得た。
【０２３２】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２３３】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＣｅＯ２であることを確認した。
【０２３４】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアルキル基（ヘキシル基およびデシル基）が存在していることを確認した。
【０２３５】
さらに、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が略直方体状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が６ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）が７ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２３６】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、酸化セリウムの結晶構造（立方晶系、蛍石構造）から、０と算出した。
【０２３７】
調製例３
（第１の水熱合成）
５ｍＬの高圧反応器（ＡＫＩＣＯ社製）に、硫酸バリウム０．５ｇ、６−フェニルヘキサン酸（東京化成社製）０．３５０３ｍＬおよび純水３．４０３ｍＬを仕込んだ。
【０２３８】
次に、高圧反応器の蓋を締め、振とう式加熱炉（ＡＫＩＣＯ社製）にて３００℃に加熱し、高圧反応器内を３０ＭＰａに加圧して、１０分間振とうすることにより水熱合成した。
【０２３９】
その後、高圧反応器を冷水中に投入することによって、急速冷却した。
【０２４０】
次いで、エタノール（和光純薬工業社製）を加えて攪拌し、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、１２０００Ｇで１０分間遠心分離して、その後、沈殿物（反応物）を上澄みから分離した。この洗浄操作を５回繰り返して、残存する６−フェニルヘキサン酸を除去するとともに、沈殿物からエタノールを留去することにより、有機無機複合粒子を得た（洗浄工程）。
【０２４１】
次いで、５０ｍＬのスクリュー管瓶に、洗浄後の有機無機複合粒子０．１ｇとクロロホルム３０ｇとを仕込んだ。
【０２４２】
次いで、スパーテルでそれらを攪拌した後、遠心機（商品名：ＭＸ−３０１、トミー精工社製）にて、２０００Ｇで５分間遠心分離することにより、上澄みと沈殿物に分離させた（遠心分離）。
【０２４３】
続いて、上澄みを取り出し、取り出した上澄みを、開口径１００ｎｍのフィルターで濾過し、濾液を乾燥させることによって、粒子径が小さい有機無機複合粒子を得た。
【０２４４】
その後、得られた有機無機複合粒子について、上記の（１）ＸＲＤ、（２）ＦＴ−ＩＲ、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭおよび（６）（ａ）複屈折をそれぞれ評価した。
【０２４５】
その結果、（１）ＸＲＤでは、無機粒子を形成する無機化合物がＢａＳＯ４であることを確認した。
【０２４６】
また、（２）ＦＴ−ＩＲでは、無機粒子の表面にアラルキル基（６−フェニルヘキシル基）が存在していることを確認した。
【０２４７】
さらに、（３）（ａ）ＦＥ−ＴＥＭでは、有機無機複合粒子の形状が長球状または球状であり、有機無機複合粒子の最大長さの平均（Ｌ）が３０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）１０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が１〜２であった。
【０２４８】
さらにまた、（６）（ａ）有機無機複合粒子の複屈折（Δｎ）は、硫酸バリウムの結晶構造（斜方晶系）から、０．０１２と算出した。
【０２４９】
（無機粒子の用意）
比較調製例１
調製例１で仕込んだ炭酸ストロンチウム（本荘ケミカル社製）を比較調製例１の無機粒子としてそのまま供した。
【０２５０】
この無機粒子について、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭおよび（６）（ａ）複屈折を評価した。
【０２５１】
その結果、（３）（ｂ）ＦＥ−ＳＥＭでは、無機粒子の形状が針状であり、無機粒子の最大長さの平均（Ｌ）が３５０ｎｍ、最小長さの平均（Ｓ）が７０ｎｍであり、アスペクト比（Ａ）が２〜８であった。
【０２５２】
また、（６）（ａ）の無機粒子の複屈折（Δｎ）は、化学大辞典（共立出版社発行、１９９７年発行）に記載される炭酸ストロンチウムの屈折率から、−０．１４と算出した。
【０２５３】
調製例１〜３および比較調製例１の配合処方および評価を、表１に示す。
【０２５４】
【表１】
【０２５５】
（光学フィルムの調製）
実施例１
（第１の調製方法）
表２に記載の配合処方に従って、溶媒、高配向性樹脂および有機無機複合粒子を配合して、粒子分散樹脂組成物を調製した。
【０２５６】
すなわち、溶媒としての、シクロペンタノン４２．５質量部およびトルエン４２．５質量部と、ポリアリレート（品名：ＰＡＲ Ｔ−６、日東電工社製）１５質量部とを配合して、ポリアリレートを、シクロペンタノンおよびトルエン中に溶解させて樹脂溶液を調製した。その後、この樹脂溶液１００質量部と、調製例１の有機無機複合粒子１５質量部とを配合して、それらを超音波で攪拌することによって、粒子分散樹脂組成物のワニスを調製した。
【０２５７】
その後、粒子分散樹脂組成物をバーコータ法によって支持板上に塗布し、その後、溶媒を自然乾燥することにより、光学フィルムを成膜した。
【０２５８】
その後、得られた光学フィルムについて、上記の（４）透明性（ヘイズ）、（５）厚み、（６）（ｂ）複屈折および位相差を測定した。
【０２５９】
その結果を表２に示す。
【０２６０】
実施例２〜５および比較例１〜４
実施例１と同様にして、表１に記載の配合処方に従って、粒子分散樹脂組成物を調製し、続いて、粒子分散樹脂組成物を塗布および乾燥することによって、光学フィルムを成膜した。
【０２６１】
なお、比較例１については、有機無機複合粒子を配合することなく、溶媒と高配向性樹脂とを配合して、樹脂組成物のワニスを調製し、樹脂組成物を光学フィルムに成膜した。
【０２６２】
その後、実施例２〜５および比較例１〜４の光学フィルムについて、実施例１と同様にして、（４）透明性（ヘイズ）、（５）厚み、（６）（ｂ）複屈折および位相差を測定した。
【０２６３】
なお、比較例２については、（４）透明性（ヘイズ）および（５）光学フィルムの厚み（ｄ）を測定した。一方、比較例２の光学フィルムについて、（６）複屈折および位相差の測定を試みたが、無機粒子の凝集による白濁によって、測定できなかった。
【０２６４】
それらの結果を、表２に示す。
【０２６５】
【表２】
【０２６６】
表２の透明性の評価から分かるように、比較例２〜４の光学フィルムでは、いずれも、ヘイズが３％を超過するので、光学フィルムに不適である。
【０２６７】
また、実施例１〜５および比較例１、３、４の光学フィルムの面内方向および厚み方向の複屈折の関係を、図１に示す。
【０２６８】
図１から分かるように、実施例１〜５の光学フィルムは、比較例１の光学フィルムに比べて、厚み方向の複屈折（ΔＮｘｚ＋ΔＮｙｚ）／２が低減されていることが分かる。
【０２６９】
なお、実施例１〜５および比較例１の光学フィルムの面内方向の複屈折（ΔＮｘｙ）は、いずれも、２００×１０−６以下と低い値であることが分かる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高配向性樹脂と、無機粒子の表面に有機基を有する有機無機複合粒子とを含み、
前記有機無機複合粒子は、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満であり、前記高配向性樹脂中に１次粒子として分散されていることを特徴とする、光学フィルム。
【請求項２】
光学的等方性を有していることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製する工程、
前記有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する工程、および、
前記粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する工程
を備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【請求項１】
高配向性樹脂と、無機粒子の表面に有機基を有する有機無機複合粒子とを含み、
前記有機無機複合粒子は、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満であり、前記高配向性樹脂中に１次粒子として分散されていることを特徴とする、光学フィルム。
【請求項２】
光学的等方性を有していることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
無機粒子の表面に有機基を含み、最大長さの平均が３５０ｎｍ未満である有機無機複合粒子を調製する工程、
前記有機無機複合粒子を高配向性樹脂に１次粒子として分散させて、粒子分散樹脂組成物を調製する工程、および、
前記粒子分散樹脂組成物から光学フィルムを成形する工程
を備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１２−３１２８９（Ｐ２０１２−３１２８９Ａ）
【公開日】平成２４年２月１６日（２０１２．２．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１７２３０７（Ｐ２０１０−１７２３０７）
【出願日】平成２２年７月３０日（２０１０．７．３０）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月１６日（２０１２．２．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月３０日（２０１０．７．３０）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
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