光学式検査装置、検査システムおよび座標管理用ウエハ
【課題】欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置を提供する。
【解決手段】チャンネルが配列されたラインセンサと、ウエハをステージに載せてラインセンサに対して移動させる移動手段と、行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列に形成されている座標管理用ウエハを検査したのを受けてチャンネル上に結像した擬似欠陥のステージ上の位置を擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０として検出するステージ位置検出手段と、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、設計座標に対する擬似欠陥ダイ座標の差分ΔＸを算出する差分算出手段と、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対して差分ΔＸが一定の振幅Ａ１で振動し直線Ｌ１に沿って増加又は減少する座標誤差特性パターンＣＰ１を取得する特性パターン取得手段とを有する。
【解決手段】チャンネルが配列されたラインセンサと、ウエハをステージに載せてラインセンサに対して移動させる移動手段と、行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列に形成されている座標管理用ウエハを検査したのを受けてチャンネル上に結像した擬似欠陥のステージ上の位置を擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０として検出するステージ位置検出手段と、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、設計座標に対する擬似欠陥ダイ座標の差分ΔＸを算出する差分算出手段と、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対して差分ΔＸが一定の振幅Ａ１で振動し直線Ｌ１に沿って増加又は減少する座標誤差特性パターンＣＰ１を取得する特性パターン取得手段とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学式検査装置、それを備えた検査システム、および、それにおいて用いる座標管理用ウエハに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学式検査装置は、半導体装置や液晶等を用いた表示装置の製造工程において発生する欠陥の検査に用いられている。光学式検査装置では、具体的には、欠陥を見つけ、その欠陥の位置（欠陥座標）を取得する。光学式検査装置は、検査システムに備えられており、その検査システムには、光学式検査装置の他に、レビュー装置が備えられている。レビュー装置では、光学式検査装置で取得した欠陥座標の示す場所の周辺を拡大表示することで、その欠陥座標にある欠陥を拡大表示することができる。半導体装置や表示装置の製造者は、拡大表示された欠陥を観察することで、欠陥の発生原因等を究明したり、欠陥を低減させたりすることができる。
【０００３】
半導体装置や表示装置では、高性能化のために、それらの構造が微細化されている。そのため、従来であれば、半導体装置や表示装置の故障の原因とはならなかった微小な欠陥も、故障を引き起こす場合があると考えられ、光学式検査装置での検査対象となってきている。そして、光学式検査装置の検査精度を高める目的で、半導体装置や表示装置を載せて移動させるステージの位置ずれ量を補正する方法が提案されている（特許文献１等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１０３２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
検査対象とする欠陥が微細化すると、レビュー装置では、その微細な欠陥を容易に観察できるように、従来に比べ拡大して表示するようになる。そのため、拡大表示される領域は、欠陥座標の近傍のみの狭い領域になる。光学式検査装置で取得された欠陥座標に誤差が含まれていると、欠陥座標の周辺を拡大表示しても、その表示画面には、欠陥が表示されていない場合があると考えられる。
【０００６】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置、そして、それを備えた検査システム、さらに、それにおいて用いる座標管理用ウエハを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、ウエハの表面を結像可能な複数のチャンネルがＹ軸方向に等間隔に配列されたラインセンサと、前記ウエハをステージに載せて前記ラインセンサに対して相対的に前記Ｙ軸方向と直角をなすＸ軸方向に繰り返し移動させることで前記ウエハの全面を前記チャンネル上に結像させる移動手段とを有し、前記ウエハの表面を検査する光学式検査装置において、
前記表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列で前記チャンネル上の結像におけるピッチが前記チャンネルのピッチに等しい等間隔に形成されている座標管理用ウエハを、前記Ｙ軸方向と前記列方向とが略平行になり、前記チャンネル毎に前記擬似欠陥ダイ当たり１つの擬似欠陥が結像するように、前記ウエハとして検査したのを受けて、前記チャンネル上に結像した前記擬似欠陥の前記ステージ上の位置を、擬似欠陥ステージ座標として検出するステージ位置検出手段と、
検出された前記擬似欠陥ステージ座標を、前記擬似欠陥が含まれる前記擬似欠陥ダイにおける位置を表す擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、
前記擬似欠陥が前記擬似欠陥ダイに形成された際の設計に基づく設計座標に対する、前記擬似欠陥ダイ座標の差分を算出する差分算出手段と、
前記擬似欠陥ステージ座標に対して、前記差分が、略一定の振幅で振動するか、直線に沿って増加又は減少するか、少なくともどちらか一方の座標誤差特性パターンを取得する特性パターン取得手段とを有することを特徴としている。
【０００８】
また、本発明は、この光学式検査装置を有する検査システムであることを特徴としている。
【０００９】
また、本発明は、表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つのみ且つ列毎に１つのみの擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が前記行列の列方向に一列のみで等間隔に形成されている座標管理用ウエハであることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置、そして、それを備えた検査システム、さらに、それにおいて用いる座標管理用ウエハを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る光学式検査装置の構成図である。
【図２】本発明の実施形態に係る光学式検査装置を用いた欠陥座標の補正方法のフローチャートである。
【図３】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハの平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハにおけるステージ座標と擬似欠陥ステージ座標の関係を説明するための図であり、ステージ上に固定された座標管理用ウエハを示している。
【図５】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハに形成される擬似欠陥ダイにおけるダイ座標と擬似欠陥ダイ座標の関係を説明するための図であり、擬似欠陥ダイの平面図を示している。
【図６】ラインセンサの座標管理用ウエハに対する相対的な走査方法を説明するための図である。
【図７】走査時における擬似欠陥（擬似欠陥ダイ）のチャンネル上の結像と、チャンネルとの位置関係を示す図である。
【図８】ラインセンサの傾きによる誤差（傾き誤差）を説明するための図（その１：チャンネルＣ１とＣ１６が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標がＸｓ０となることを示す図）である。
【図９Ａ】傾き誤差を説明するための図（その２：チャンネルＣ１６が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を示す図）である。
【図９Ｂ】傾き誤差を説明するための図（その３：チャンネルＣ１が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を示す図）である。
【図１０】擬似欠陥のラインセンサ上への結像の際の誤差（倍率誤差）を説明するための図（その１：倍率誤差がある場合）である。
【図１１】擬似欠陥のラインセンサ上への結像の際の誤差（倍率誤差）を説明するための図（その２：倍率誤差がない場合）である。
【図１２】ステージの移動量の誤差（スケール誤差）を説明するための図である。
【図１３】ステージの直交度の誤差（直交度誤差）を説明するための図である。
【図１４】擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１５】擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図１６】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１７】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図１８】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１９】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図２０】量産ウエハの平面図である。
【図２１】量産ウエハにおけるステージ座標と実欠陥ステージ座標の関係を説明するための図であり、ステージ上に固定された量産ウエハを示している。
【図２２】量産ウエハに形成される量産ダイにおけるダイ座標と実欠陥ダイ座標の関係を説明するための図であり、量産ダイの平面図を示している。
【図２３】本発明の実施形態に係る検査システムの構成図である。
【図２４】本発明の実施形態に係る検査システムに用いられるレビュー装置の構成図である。
【図２５】本発明の実施形態に係る検査システムの運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略している。
【００１３】
図１に、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１の構成図を示す。光学式検査装置１は、欠陥を検出するための検出光学系（１１、１２等）と、焦点制御系（１５、１６等、焦点検出光学系＋焦点駆動系）を有している。座標管理用ウエハ（ウエハ）５１のスキャン時には、焦点制御系（１５、１６等）の焦点検出光学系で検出した検出光学系（１１、１２等）の焦点位置に、焦点制御系（１５、１６等）の焦点駆動系を制御して、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面の凹凸（高さ）を追従させることができる。
【００１４】
光学式検査装置１は、前記検出光学系の照明手段１１と、検出光学系の検出手段１２（受光手段１２ａ、結像手段（ラインセンサ）１２ｂ）と、Ｙスケール（ステージ位置検出手段）１３と、Ｘスケール（ステージ位置検出手段）１４と、焦点制御（表面高さ位置検出）系の照明装置１５と、表面高さ位置検出系の検出器１６（１６ａ、１６ｂ（２個１組で構成される））と、像面観察手段１７と、画像処理装置１８と、ステージ１９と、移動手段１９ａと、処理装置２１と、ステージ制御装置２７と、画像表示装置２８とを有している。
【００１５】
照明手段１１は、検査光として所定の波長のレーザー光を出射し、そのレーザー光の光ビームを被検査物である座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面へ照射する。
【００１６】
欠陥検出系の検出手段１２（１２ａ、１２ｂ）は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面から反射または散乱する検査光を受光して光強度を検出する。
【００１７】
座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面には、擬似欠陥ダイ（チップ）５２が形成されている。座標管理用ウエハ（ウエハ）５１は、ステージ１９上に吸着されており、ステージ１９が、移動手段１９ａによって、Ｙ軸方向及びＸ軸方向へ移動することによって、照明手段１１から照射された検査光が、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面を走査する。これにより、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面全体に検査光を走査させることができる。
【００１８】
欠陥検出系の検出手段１２の結像手段（ラインセンサ）１２ｂとしては、例えば、ＴＤＩ（Time Delay and Integration）センサ、ＣＣＤセンサ、光電子増倍管（フォトマルチプライヤ）等を用いることができる。欠陥検出系の検出手段１２の受光手段１２ａは、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面で発生した検査光の散乱光を受光・集光して、結像手段（ラインセンサ）１２ｂ上に結像させる。結像手段（ラインセンサ）１２ｂには、Ｙ軸方向に複数のチャンネル１２ｃが配列されている。チャンネル１２ｃ毎に、チャンネル１２ｃ内の、検査光の散乱光が結像した位置を特定することができる。結像手段（ラインセンサ）１２ｂでは、検査光の散乱光の結像を、結像手段（ラインセンサ）１２ｂのＹ軸方向のそれぞれの位置における散乱光の強度（電気信号）に変換し、その電気信号は画像信号として、処理装置２１へ出力される。
【００１９】
Ｙスケール１３とＸスケール１４には、例えば、レーザースケール等を用いることができる。Ｙスケール１３とＸスケール１４は、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）をそれぞれ検出して、その位置情報を処理装置２１へ出力する。前記したように、ステージ１９は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１を載せて、移動手段１９ａによってＹ軸方向及びＸ軸方向へ移動する。一方、検査光の光路は移動させていない。このため、検査光の光路上の座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の照射位置を、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）に一対一に対応付けることができる。すなわち、照射位置の座標に、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）を用いることができる。ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓは、処理装置２１の座標管理装置（ステージ位置検出手段）２５へ送信される。
【００２０】
表面高さ位置検出系の照明装置１５は、被検査物である座標管理用ウエハ（ウエハ）５１に、表面高さ位置検出用の検出光を照射する。表面高さ位置検出系の検出器１６（１６ａ、１６ｂ）は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面高さ位置を検出する。検出器１６（１６ａ、１６ｂ）は、２つの検出器１６ａ、１６ｂを有している。２つの検出器１６ａ、１６ｂは、被検査物の上下方向（Ｚ軸方向）に検出中心位置を異にしており、所定の高さに対する高低を検出（判定）することができる。
【００２１】
像面観察手段１７には、ＴＴＬ方式を採用することができ、例えば、ＣＣＤセンサ等を用いることができる。像面観察手段１７は、受光手段１２ａを通過して集光し結像した検査光の散乱光を受光し、その受光の強度を電気信号に変換する。変換された電気信号は、画像信号として画像処理装置１８へ出力される。
【００２２】
処理装置２１は、Ａ／Ｄ変換器２２と、画像処理装置２３と、欠陥判定装置２４と、座標管理装置２５と、検査結果記憶装置２６とを有している。
【００２３】
Ａ／Ｄ変換器２２は、結像手段（ラインセンサ）１２ｂから入力したアナログ信号の画像信号を、デジタル信号の画像信号に変換して出力する。
【００２４】
画像処理装置２３は、例えば、遅延回路と差分検出回路とを有している。遅延回路は、Ａ／Ｄ変換器２２から入力した画像信号を遅延させる。遅延回路は、検査光が現在照射されている擬似欠陥ダイ（チップ）５２の１つ前の既に検査光の照射が終了したチップの画像信号を出力する。差分検出回路は、Ａ／Ｄ変換器２２から直接入力する検査光が現在照射されている擬似欠陥ダイ（チップ）５２の画像信号と、遅延回路を介して入力する１つ前に既に検査光の照射が終了したチップの画像信号との差分を検出する。
【００２５】
欠陥判定装置２４は、画像処理装置２３が検出した画像信号の差分より、検査光を現在照射中の擬似欠陥ダイ（チップ）５２に欠陥（擬似欠陥）が存在するか否かの検査（判定）をする。欠陥判定装置２４は、判定回路２４ａと係数テーブル（テーブル）２４ｂ、２４ｃを有している。係数テーブル２４ｂ、２４ｃには、欠陥判定のしきい値を変更するための係数が座標情報と対応付けて格納されている。係数テーブル２４ｂ、２４ｃは、ステージ位置検出手段（座標管理装置）２５から座標情報（ステージＹ座標Ｙｓ、ステージＸ座標Ｘｓ）を入力して、その座標情報に対応付けて格納されている係数を、判定回路２４ａへ出力する。判定回路２４ａには、画像処理装置２３から画像信号の差分が入力され、係数テーブル２４ｂ、２４ｃから、しきい値を変更するための係数が入力される。判定回路２４ａは、予め定められた値に、しきい値を変更するための係数を掛け算して、しきい値を算出する。そして、判定回路２４ａは、画像信号の差分としきい値とを比較し、画像信号の差分がしきい値以上である場合に、欠陥ありと判定し、画像信号の差分がしきい値未満である場合に、欠陥なしと判定する。この判定結果を、検査結果記憶装置２６へ出力する。判定回路２４ａは、判定に用いたしきい値の情報を検査結果記憶装置２６へ出力する。
【００２６】
座標管理装置２５は、Ｙスケール１３とＸスケール１４から入力した位置情報に基づき、現在光ビームが照射されている位置（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を決定する。
【００２７】
検査結果記憶装置２６は、欠陥判定装置２４が欠陥ありと判定したときに、座標管理装置２５から入力した座標情報（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）として記憶する。検査結果記憶装置２６は、欠陥判定装置２４から入力したしきい値の情報を、座標情報と対応付けて記憶する。
【００２８】
ステージ制御装置２７は、移動手段１９ａを制御して、ステージ１９を上下動させて（Ｚ軸方向に移動させて）、座標管理用ウエハ５１の表面上に検出手段１２の光学系の焦点を一致させる。また、ステージ制御装置２７は、移動手段１９ａを制御して、ステージ１９をＸ軸方向とＹ軸方向に移動させて、座標管理用ウエハ５１の表面上の全面に検査光を走査させる。
【００２９】
また、処理装置２１は、座標変換手段３１と、差分算出手段３２と、特性パターン取得手段３３と、傾き取得手段３４と、振幅取得手段３５と、ステージ補正係数算出手段３６と、チャンネル補正係数算出手段３７と、ステージ補正量算出手段３８と、ダイ補正量算出手段３９と、ダイ座標補正手段４０と、記憶・送信手段４１と、タイマ４２とを有している。各手段の機能については、後記する光学式検査装置１を用いた欠陥座標の補正方法の説明の中で説明する。
【００３０】
図２に、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１を用いた欠陥座標の補正方法のフローチャートを示す。
【００３１】
まず、ステップＳ１で、光学式検査装置１のオペレータ等は、座標管理用ウエハ５１を作製する。図３に、作製した座標管理用ウエハ５１の平面図を示す。座標管理用ウエハ５１の表面には、行列（マトリックス）が設定されている。その行列には、複数の行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・が設定され、また、複数の列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・が設定されている。行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・毎に、１つの擬似欠陥ダイ５２が形成されている。同様に、列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・毎に、１つの擬似欠陥ダイ５２が形成されている。
【００３２】
図４に、ステージ１９上に固定された座標管理用ウエハ５１を示す。座標管理用ウエハ５１には、擬似欠陥ダイ５２が形成され、擬似欠陥ダイ５２には、擬似欠陥５４が形成されている。なお、擬似欠陥ダイ５２内に、擬似欠陥５４は複数個形成されるが、図４では、理解を容易にするために、ある擬似欠陥ダイ５２だけに１個だけ記載している。座標管理用ウエハ５１上に、行列が設定されると、特定の行ｌｍ０と特定の列ｒｎ０を設定することで、擬似欠陥ダイ５２の位置（ｌｍ０、ｒｎ０）を決めることができる。そして、擬似欠陥ダイ５２内における（ダイ座標上における）設計座標と、擬似欠陥ダイ５２の位置（ｌｍ０、ｒｎ０）に基づいて、擬似欠陥５４を形成する位置を決定することができ、擬似欠陥５４を形成することができる。なお、後記するが、こうして形成された擬似欠陥５４は、図１の欠陥判定装置２４において、欠陥と判定され、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）上において、擬似欠陥５４の位置していた擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）が、検査結果記憶装置２６に記憶される。
【００３３】
図５に、擬似欠陥ダイ５２の平面図を示す。擬似欠陥ダイ５２の中には、ダイ内セル５３が形成されている。図５の例では、縦横２列ずつで計４個のダイ内セル５３が形成されている。そして、ダイ内セル５３内に、複数（図５の例では８個ずつで、計１６個）の擬似欠陥５４が形成されている。複数の擬似欠陥５４は、前記行列の列方向（Ｙ軸方向）に一列に配置されている。また、複数の擬似欠陥５４は、ピッチＰｄが等しい等間隔になるように形成されている。すなわち、擬似欠陥ダイ５２内における座標であるダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）上においては、設計座標のダイＸ座標Ｘｄが、複数の擬似欠陥５４同士で互いに等しくなるように設計されている。また、設計座標のダイＹ座標Ｙｄは、隣接する擬似欠陥５４同士の間隔（ピッチＰｄ）が一定で等しくなるように設計されている。なお、図４に示したように、形成された擬似欠陥５４のステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）として、検査結果記憶装置２６に記憶される。この擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）は、一対一の関係で、ダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）における擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換できる。もし、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）が誤差を含んでいるとすると、変換した擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）も誤差を含むことになり、前記設計座標に一致せず、差分が生じる。この実施の形態では、その差分を利用して実欠陥の欠陥座標を補正することができるので、高精度な欠陥座標を取得することができる。
【００３４】
次に、図２に戻り、図２のステップＳ２で、光学式検査装置１のオペレータ（半導体装置や表示装置の製造者）は、座標管理用ウエハ５１を用いる際に使用する走査テーブル（検査レシピ）を作成する。走査テーブルでは、座標管理用ウエハ５１に対する検査光の走査方法（Ｙ軸方向とＸ軸方向の走査経路）が決定される。走査テーブルは、ステージ制御装置２７によって、移動手段１９ａを移動させるための移動経路を、前記走査経路として、あらかじめ記憶しておくバッファのことである。なお、検査光の走査の際に、検査光の光路とラインセンサ１２ｂの位置関係は変わらないので、この走査は、ラインセンサ１２ｂが走査していると考えることもできる。
【００３５】
図６に、ラインセンサ１２ｂの座標管理用ウエハ５１に対する相対的な走査方法を示す。ラインセンサ１２ｂが、Ｘ軸方向の図６の左から右への方向に走査する、いわゆる、フォワード走査５５の場合は、ラインセンサ１２ｂのＹ軸方向の図６の最下部を、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向の図６の最下部に合わせて走査している。ラインセンサ１２ｂが、Ｘ軸方向の図６の右から左への方向に走査する、いわゆる、リバース走査５６の場合は、ラインセンサ１２ｂのＹ軸方向の図６の最上部を、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向の図６の最上部に合わせて走査している。擬似欠陥ダイ（チップ）５２が配置される１行毎に、フォワード走査５５とリバース走査５６を実施する。そして、フォワード走査５５とリバース走査５６を実施する行を、１つずつ図６における上方の行に上げることで、座標管理用ウエハ５１上のすべての擬似欠陥ダイ５２上を、ラインセンサ１２ｂで走査することができる。なお、フォワード走査５５とリバース走査５６の両方を必ずしも行う必要は無く、どちらか一方だけでもよい。また、フォワード走査５５を実施する行と、リバース走査５６を実施する行とを設けてもよい。また、座標管理用ウエハ５１は円形であるので、その外周部に形成される擬似欠陥ダイ５２の中には、欠けが生じる場合がある。この欠けにより、擬似欠陥ダイ５２における図５の上側又は下側の擬似欠陥５４が欠落してしまう。走査テーブルでは、擬似欠陥５４の全部又は一部が欠落した擬似欠陥ダイ５２（不完全ダイ）上を走査しないように作成されている。
【００３６】
図７に、走査時における擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａと、チャンネル１２ｃとの位置関係を示す。実施の形態では、擬似欠陥５４の位置座標の誤差を問題とするので、擬似欠陥５４の擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）を正確に検出する必要がある。そのため、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａが、各チャンネル１２ｃのＹ軸方向の幅の中央に生じるように設計されている。複数のチャンネル１２ｃ毎に、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａが、チャンネル１２ｃのＹ軸方向の幅の中央に生じるようにするには、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａのピッチＰｄａを、チャンネル１２ｃのピッチＰｃに一致させる必要がある（Ｐｄａ＝Ｐｃ）。図２のステップＳ１の座標管理用ウエハ５１の作製の際には、この条件を満足するように、擬似欠陥５４のピッチＰｄが設計されて作製されている。
【００３７】
しかし、図７に示すように、ダイ内セル５３同士の間（擬似欠陥５４の下から８個目と９個目の間）においては、擬似欠陥５４のピッチＰｄが他と異なっている場合がある。このような場合、フォワード走査時には、図７における下端のチャンネル１２ｃ（Ｃ１）と、下端の擬似欠陥５４ｂの結像５４ａとを合わせることで、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）において、Ｙ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることができる。しかし、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）においては、ピッチＰｄのずれにより、必ずしもＹ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることはできないと考えられる。
【００３８】
一方、リバース走査時には、図７における上端のチャンネル１２ｃ（Ｃ１６）と、上端の擬似欠陥５４ｔの結像５４ａとを合わせることで、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）において、Ｙ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることができる。しかし、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）においては、ピッチＰｄのずれにより、必ずしもＹ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることはできないと考えられる。
【００３９】
そこで、フォワード走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）で、擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえ、リバース走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）で、擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることで、すべての擬似欠陥５４の結像５４ａを、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえることができる。したがって、走査テーブルにおいては、フォワード走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）を有効とし、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）を無効とするように設定される。また、リバース走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）を有効とし、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）を無効とするように設定される。なお、図７では、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向に、ダイ内セル５３が２つ並べられている場合を示したが、３つ以上並べられている場合には、それらの内の下端に位置するダイ内セル５３内の擬似欠陥５４の結像５４ａが、フォワード走査時にチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえられ、上端に位置するダイ内セル５３内の擬似欠陥５４の結像５４ａが、リバース走査時にチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえられるように設定すればよい。これらによれば、擬似欠陥ダイ５２内の擬似欠陥５４の列において、両端に位置する擬似欠陥５４ｂと５４ｔを、チャンネルＣ１とＣ１６（１２ｃ）のＹ軸方向の幅の中央でとらえることができる。
【００４０】
次に、図２に戻り、図２のステップＳ３で、光学式検査装置１の処理装置２１、ステージ制御装置２７又はオペレータは、作成された走査テーブルが、合格か否か判定する。具体的には、作成された走査テーブルを用いて検査することで、座標管理用ウエハ５１内の全ての擬似欠陥ダイ５２を検査可能か判定する。また、作成された走査テーブルを用いて検査することで、ラインセンサ１２ｂ内の全てのチャンネル１２ｃに、擬似欠陥５４を検出させられるか否か判定する。走査テーブルが合格していれば（ステップＳ３、Ｙｅｓ）、ステップＳ４へ進み、合格していなければ（ステップＳ３、Ｎｏ）、ステップＳ２へ戻る。
【００４１】
次に、ステップＳ４で、光学式検査装置１は、ステップＳ２で作成した走査テーブルを用いて、座標管理用ウエハ５１の全面検査を実施する。全面検査では、まず、後記する補正係数を初期化してゼロにする。これによれば、後記するような、欠陥座標が補正されることなく、誤差を含んだ欠陥座標を取得することができる。座標管理用ウエハ５１内の、そして、擬似欠陥ダイ５２内の、全ての擬似欠陥５４が検出され、それらが検出された位置である擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を、対応する擬似欠陥５４が含まれる擬似欠陥ダイ５２における位置を表す擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を記憶する。
【００４２】
次に、ステップＳ５で、差分算出手段３２（図１参照）は、擬似欠陥５４が擬似欠陥ダイ５２に形成された際の設計に基づく設計座標（設計Ｘ座標Ｘｄ２、設計Ｙ座標Ｙｄ２）に対する、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）の差分ΔＸ（＝Ｘｄ０−Ｘｄ２）、ΔＹ（＝Ｙｄ０−Ｙｄ２）を算出する。
【００４３】
次に、ステップＳ６で、特性パターン取得手段３３（図１参照）は、座標誤差特性パターンを取得し、表示する。座標誤差特性パターンについて説明する前に、その座標誤差特性パターンを用いて検出できる、欠陥座標の精度を低下させる各種の誤差、（１）傾き誤差、（２）倍率誤差、（３）Ｘスケール誤差、（４）Ｙスケール誤差、（５）直交度誤差の５種類について説明する。
【００４４】
（１）傾き誤差
図８と図９Ａと図９Ｂを用いて、ラインセンサ１２ｂの傾きによって生じる誤差である傾き誤差５８について説明する。図８において、本来であれば、ラインセンサ１２ｂは、チャンネル１２ｃの配列方向がＹ軸方向と平行となるように、配置されなければならないが、組み付け誤差や経時変化により、チャンネル１２ｃの配列方向が、Ｙ軸方向に対して傾き、傾き誤差５８が発生する。具体的に、ラインセンサ１２ｂが、擬似欠陥５４（座標管理用ウエハ５１（図１参照））に対して相対的にＸ軸方向に走査しているとする。図８と図９Ａに示すように、チャンネル１２ｃ（Ｃ１６）で、擬似欠陥５４（擬似欠陥の結像５４ａ）が検出されたとき、その擬似欠陥５４の位置としては、ステージＸ座標Ｘｓにおいて、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０が検出される。つまり、擬似欠陥５４の位置（ステージＸ座標Ｘｓ）の誤差として、傾き誤差５８が生じることがわかる。そして、ラインセンサ１２ｂの外側ほど、傾き誤差５８が大きくなることがわかる。図８と図９Ｂは、チャンネル１２ｃ（Ｃ１）で、擬似欠陥５４（擬似欠陥の結像５４ａ）が検出されたときを示している。このときの擬似欠陥５４のステージＸ座標Ｘｓは、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０と検出されるので、傾き誤差５８が生じることがわかる。傾き誤差５８は、Ｘ軸方向に生じている。
【００４５】
（２）倍率誤差
図１０と図１１を用いて、擬似欠陥５４のラインセンサ１２ｂ上に結像した結像５４に生じる誤差である倍率誤差５９について説明する。図１０に示すように、本来であれば、擬似欠陥ダイ５２上に形成された擬似欠陥５４は、受光手段１２ａ（図１参照）が集光レンズとして機能するので、ラインセンサ１２ｂのチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）の中央で、擬似欠陥５４は結像（５４ａ）し、倍率誤差５９（図１１参照）は生じない。これは、図２のステップＳ１の座標管理用ウエハの作製において、チャンネル１２ｃのピッチＰｃが、擬似欠陥５４の結像５４ａのピッチＰｄａに等しくなるように（Ｐｃ＝Ｐｄａ）、擬似欠陥５４のピッチＰｄが設計されているためである。
【００４６】
図１１に倍率誤差５９が生じている場合を示す。例えば、擬似欠陥ダイ５２（擬似欠陥５４）と、受光手段１２ａと、ラインセンサ１２ｂとのそれぞれの間の距離が変わったりすると、擬似欠陥５４の結像５４ａの倍率が変わる。擬似欠陥５４の結像５４ａは、ラインセンサ１２ｂのチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）の中央から外れ、倍率誤差５９が生じる。倍率誤差５９は、傾き誤差５８とは異なり、Ｙ軸方向に生じている。そして、ラインセンサ１２ｂの外側ほど、倍率誤差５９が大きくなることがわかる。
【００４７】
（３）Ｘスケール誤差
図１２を用いて、ステージ１９のＸ軸方向の移動量の誤差であるＸスケール誤差６１について説明する。Ｘ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＸ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に対して、Ｘスケール誤差６１が生じる。Ｘスケール誤差６１は、Ｘ軸方向に生じている。ステージ１９のＸ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０））が大きいほど、Ｘスケール誤差６１が大きくなる。なお、Ｘスケール誤差６１は、ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）を大きくする（移動量を大きくする）方向に生じる場合も、逆の小さくする方向に生じる場合もある。
【００４８】
（４）Ｙスケール誤差
図１２を用いて、ステージ１９のＹ軸方向の移動量の誤差であるＹスケール誤差６２について説明する。Ｙ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に対して、Ｙスケール誤差６２が生じる。Ｙスケール誤差６２は、Ｙ軸方向に生じている。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０））が大きいほど、Ｙスケール誤差６２が大きくなる。なお、Ｙスケール誤差６２は、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を大きくする（移動量を大きくする）方向に生じる場合も、逆の小さくする方向に生じる場合もある。
【００４９】
（５）直交度誤差
図１３を用いて、ステージ１９のＹ軸方向の移動量に対して生じるＸ軸方向の誤差である直交度誤差６３について説明する。Ｙ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に対して、直交度誤差６３が生じる。直交度誤差６３は、Ｘ軸方向に生じている。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０））が大きいほど、直交度誤差６３が大きくなる。なお、直交度誤差６３は、Ｘ軸方向の図１３に示すように左から右への方向に生じるだけでなく、逆の右から左への方向に生じる場合もある。
【００５０】
次に、座標誤差特性パターンについて説明する。図２のステップＳ６で、特性パターン取得手段３３（図１参照）は、複数、例えば３種類の座標誤差特性パターンを取得する。処理装置２１は、取得した座標誤差特性パターンを画像表示装置２８に表示する。３種類の例の座標誤差特性パターンを以下に挙げる。
（１）擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示すグラフパターンであり、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１に関する座標誤差特性パターンＣＰ１。
（２）擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示すグラフパターンであり、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２に関する座標誤差特性パターンＣＰ２。
（３）擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示すグラフパターンであり、傾き誤差５８と直交度誤差６３に関する座標誤差特性パターンＣＰ３。
【００５１】
（１）座標誤差特性パターンＣＰ１
図１４と図１５に、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示す。
【００５２】
図１４は、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示している。傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合は、図１４に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に依存せず、差分ΔＸがゼロで一定であることを示す直線Ｌ１となる。
【００５３】
図１５は、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示している。傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合は、図１５に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ１は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ１で振動している。振幅Ａ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、傾きＡＬ１を有する直線Ｌ１に沿って増大する傾向を示している。
【００５４】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１５中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１５中の黒抜きのひし形）は、図１５に示すように、傾きＡｔｄｉｘを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとには、のこぎり波の振幅Ａ１が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｘも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとは、傾き誤差５８によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとは、Ｘスケール誤差６１によっては生じないと考えられる。
【００５５】
一方、直線Ｌ１の傾きＡＬ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、Ｘスケール誤差６１によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ１の傾きＡＬ１は、傾き誤差５８によっては生じていないと考えられる。
【００５６】
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ１の振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘに基づいて、傾き誤差５８を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ１の直線Ｌ１の傾きＡＬ１に基づいて、Ｘスケール誤差６１を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ１によれば、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１とを、分離して検出することができる。
【００５７】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ１の例として、図１５では、傾きＡＬ１と、傾きＡｔｄｉｘとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ１ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ１の傾きＡＬ１が、負となり、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ１と傾きＡｔｄｉｘのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ１と傾きＡｔｄｉｘの両方がゼロの場合が、図１４に示した座標誤差特性パターンＣＰ１の例に相当する。
【００５８】
（２）座標誤差特性パターンＣＰ２
図１６と図１７に、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示す。
【００５９】
図１６は、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じておらず、差分ΔＹが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示している。倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じておらず、差分ΔＹが無い（ゼロである）場合は、図１６に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存せず、差分ΔＹがゼロで一定であることを示す直線Ｌ２となる。
【００６０】
図１７は、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じており、差分ΔＹがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示している。倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じており、差分ΔＹがある（ゼロでない）場合は、図１７に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ２は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ２で振動している。振幅Ａ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、傾きＡＬ２を有する直線Ｌ２に沿って増大する傾向を示している。
【００６１】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１７中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＹが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＹが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１７中の黒抜きのひし形）は、傾きＡｔｄｉｙを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとには、のこぎり波の振幅Ａ２が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｙも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとは、倍率誤差５９によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとは、Ｙスケール誤差６２によっては生じないと考えられる。
【００６２】
一方、直線Ｌ２の傾きＡＬ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、Ｙスケール誤差６２によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ２の傾きＡＬ２は、倍率誤差５９によっては生じていないと考えられる。
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ２の振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙに基づいて、倍率誤差５９を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ２の直線Ｌ２の傾きＡＬ２に基づいて、Ｙスケール誤差６２を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ２によれば、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２とを、分離して検出することができる。
【００６３】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ２の例として、図１７では、傾きＡＬ２と、傾きＡｔｄｉｙとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ２ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＹが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＹが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ２の傾きＡＬ２が、負となり、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ２と傾きＡｔｄｉｙのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ２と傾きＡｔｄｉｙの両方がゼロの場合が、図１６に示した座標誤差特性パターンＣＰ２の例に相当する。
【００６４】
（３）座標誤差特性パターンＣＰ３
図１８と図１９に、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示す。
【００６５】
図１８は、傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示している。傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合は、図１８に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存せず、差分ΔＸがゼロで一定であることを示す直線Ｌ３となる。
【００６６】
図１９は、傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示している。傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合は、図１９に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ３は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ３で振動している。振幅Ａ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、傾きＡＬ３を有する直線Ｌ３に沿って増大する傾向を示している。
【００６７】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１９中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１９中の黒抜きのひし形）は、傾きＡｔｄｉｘｙを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとには、のこぎり波の振幅Ａ３が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｘｙも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとは、傾き誤差５８によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとは、直交度誤差６３によっては生じないと考えられる。
【００６８】
一方、直線Ｌ３の傾きＡＬ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、直交度誤差６３によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ３の傾きＡＬ３は、傾き誤差５８によっては生じていないと考えられる。
【００６９】
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ３の振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙに基づいて、傾き誤差５８を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ３の直線Ｌ３の傾きＡＬ３に基づいて、直交度誤差６３を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ３によれば、傾き誤差５８と直交度誤差６３とを、分離して検出することができる。
【００７０】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ３の例として、図１９では、傾きＡＬ３と、傾きＡｔｄｉｘｙとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ３ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ３の傾きＡＬ３が、負となり、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ３と傾きＡｔｄｉｘｙのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ３と傾きＡｔｄｉｘｙの両方がゼロの場合が、図１８に示した座標誤差特性パターンＣＰ３の例に相当する。
【００７１】
図２に戻って、ステップＳ７で、処理装置２１は、オペレータに、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を表示すると共に、ＧＵＩにより座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が正常か否かの判定を促す。オペレータは、図１４〜図１９に示したような座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が表示されている場合に、正常と判定し（ステップＳ７、Ｙｅｓ）、ステップＳ８へ進み、そのように表示されていない場合に、正常でないと判定し（ステップＳ７、Ｎｏ）、ステップＳ４へ戻る。
【００７２】
ステップＳ８で、傾き取得手段３４は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３を有する直線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を決定する。また、振幅取得手段３５は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを有する直線を決定する。あるいは、振幅取得手段３５は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３を算出する際に用いるのこぎり歯の上端と下端を決定する。
【００７３】
また、ステップＳ８で、ステージ補正係数算出手段３６は、決定した直線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３に基づいて、傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３を、ステージ補正係数として算出する。ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３は、ステージ１９の移動に対して生じる誤差の比を表している。
【００７４】
具体的に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１は、ステージ１９のステージＸ座標Ｘｓに対して生じるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）の比を表している。したがって、ステージＸ座標Ｘｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけると、そのステージＸ座標ＸｓにおけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７５】
ステージ補正係数である傾きＡＬ２は、ステージ１９のステージＹ座標Ｙｓに対して生じるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）の比を表している。したがって、ステージＹ座標Ｙｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけると、そのステージＹ座標ＹｓにおけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）を算出することができる。
【００７６】
ステージ補正係数である傾きＡＬ３は、ステージ１９のステージＹ座標Ｙｓに対して生じる直交度誤差６３（差分ΔＸ）の比を表している。したがって、ステージＹ座標Ｙｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけると、そのステージＹ座標Ｙｓにおける直交度誤差６３（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７７】
また、ステップＳ８で、チャンネル補正係数算出手段３７は、決定したのこぎり歯の上端と下端に基づいて、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３を算出する。そして、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３に基づいて、チャンネル１２ｃのピッチＰｃに対するチャンネル１２ｃに起因する誤差の比であるチャンネル補正係数を算出する。具体的に、チャンネル補正係数算出手段３７は、決定した傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを有する直線に基づいて、傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを、チャンネル補正係数として算出する。
【００７８】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する傾き誤差５８（差分ΔＸ）の比を表している。傾き誤差５８は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＸ座標Ｘｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけると、そのダイＸ座標Ｘｄにおける傾き誤差５８（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７９】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する倍率誤差５９（差分ΔＹ）の比を表している。倍率誤差５９は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＹ座標Ｙｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけると、そのダイＹ座標Ｙｄにおける倍率誤差５９（差分ΔＹ）を算出することができる。
【００８０】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する傾き誤差５８（差分ΔＸ）の比を表している。傾き誤差５８は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＹ座標Ｙｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけると、そのダイＹ座標Ｙｄにおける傾き誤差５８（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００８１】
図２のステップＳ９で、記憶・送信手段４１は、ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとを記憶する。
【００８２】
次に、ステップＳ１０で、光学式検査装置１は、ステップＳ２で作成した走査テーブルを用いて、座標管理用ウエハ５１の全面検査を再度実施する。ただ、ステップＳ４での全面検査とは異なり、今回のステップＳ１０の全面検査では、初期化してゼロになっている補正係数を、ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとに変更する。
そして、まずはステップＳ４と同様に、座標管理用ウエハ５１内の、そして、擬似欠陥ダイ５２内の、全ての擬似欠陥５４が検出され、それらが検出された位置である擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を、対応する擬似欠陥５４が含まれる擬似欠陥ダイ５２における位置を表す擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を記憶する。
【００８３】
つまり、ステップＳ１０では、ステップＳ４とは異なり、さらに、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を、補正し、高精度化する。具体的に、ステージ補正量算出手段３８は、このステップＳ１０で検出した擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に、ステージ補正係数をかけることで、ステージ補正量を算出する。
【００８４】
より具体的には、式（１）に示すように、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけると、その擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０におけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その１）を算出することができる。
ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ Ｘｓ０ × ＡＬ１ ・・・（１）
【００８５】
同様に、式（２）に示すように、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけると、その擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０におけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）、すなわち、ステージ補正量ΔＹｄｓを算出することができる。
ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ Ｙｓ０ × ＡＬ２ ・・・（２）
【００８６】
式（３）に示すように、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけると、その擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０における直交度誤差６３（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その２）を算出することができる。
ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ Ｙｓ０ × ＡＬ３ ・・・（３）
【００８７】
これらのステージ補正量の算出は、ステップＳ８でのステージ補正係数の算出に対する逆算をしていることになっており、いわゆる検算をしていることになる。この検算が正しいかが、ステップＳ１０〜Ｓ１３で検証される。
【００８８】
また、具体的に、ダイ補正量算出手段３９は、このステップＳ１０で検出した擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に、チャンネル補正係数をかけることで、ダイ補正量を算出する。
【００８９】
より具体的には、式（４）に示すように、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけると、その擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）を算出することができる。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｘｄ０ × Ａｔｄｉｘ ・・・（４）
【００９０】
同様に、式（５）に示すように、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけると、その擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０における倍率誤差５９（差分ΔＹ）、すなわち、ダイ補正量ΔＹｄｄを算出することができる。
ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ Ｙｄ０ × Ａｔｄｉｙ ・・・（５）
【００９１】
式（６）に示すように、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけると、その擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）を算出することができる。なお、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）とは、どちらも、傾き誤差５８に対応するものであり、どちらか一方において算出すればよい。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｙｄ０ × Ａｔｄｉｘｙ ・・・（６）
【００９２】
これらのダイ補正量の算出は、ステップＳ８でのチャンネル補正係数の算出に対する逆算をしていることになっており、いわゆる検算をしていることになる。この検算が正しいかが、ステップＳ１０〜Ｓ１３で検証される。
【００９３】
そして、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）とは、座標系は異なるが、座標管理用ウエハ５１（擬似欠陥ダイ５２）上の同じ１点（同一の擬似欠陥５４の位置）を示している。その１点における補正量は、ステージ補正量とダイ補正量の和として算出できる。
【００９４】
すなわち、式（７）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）と、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）とを加えて、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）を算出する。
Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０）
＋ ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）
＋ ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）
＋ ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ・・・（７）
【００９５】
また、式（８）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）と、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）とを加えて、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）を算出する。
Ｙｄｍ０（Ｙｓｍ０） ＝ Ｙｄ０（Ｙｓ０）
＋ ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）
＋ ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ・・・（８）
【００９６】
そして、記憶・送信手段４１（図１参照）が、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）と、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）を記憶する。以上で、ステップＳ１０が終了する。なお、ステップＳ４でも、座標管理用ウエハ５１の全面検査を実施しているが、補正係数（ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）がゼロに設定されるので（ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、Ａｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ ＝ ０）、式（１）より、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）がゼロとなり（ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ ０）、式（２）より、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）がゼロとなり（ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ ０）、式（３）より、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）がゼロとなり（ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ ０）、式（４）より、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）がゼロとなり（ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ ０）、式（５）より、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）がゼロとなり（ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ ０）、式（６）より、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）がゼロとなる（ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ ０）。これらにより、式（７）において、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）は、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に等しくなり（Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０））、式（８）において、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）は、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に等しくなることで（Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０））、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）とを、実質的に取得している。
【００９７】
次に、ステップＳ１１で、差分算出手段３２は、ステップＳ５と同様に、擬似欠陥５４が擬似欠陥ダイ５２に形成された際の設計に基づく設計座標（設計Ｘ座標Ｘｄ２、設計Ｙ座標Ｙｄ２）に対する、補正擬似欠陥ダイ座標（補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０）の差分ΔＸ（＝Ｘｄｍ０−Ｘｄ２）、ΔＹ（＝Ｙｄｍ０−Ｙｄ２）を算出する。
【００９８】
次に、ステップＳ１２で、特性パターン取得手段３３は、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹを用いて、ステップＳ６と同様に、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を取得し、画像表示装置２８に表示する。また、比較のために、ステップＳ６において取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３も、画像表示装置２８に表示する。
【００９９】
ステップＳ１３で、処理装置２１は、オペレータに、ステップＳ１２とステップＳ６のそれぞれにおいて取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を表示すると共に、ＧＵＩにより、ステップＳ１２において取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が、補正により誤差が除かれているか（補正が正常か）否かの判定を促す。オペレータは、図１４、図１６、図１８に示したような、誤差が除かれ、あたかも、誤差が生じていないかのような座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が表示されている場合に、補正は正常と判定し（ステップＳ１３、Ｙｅｓ）、ステップＳ１４へ進む。一方、そのように表示されていない場合に、オペレータは、補正が正常でないと判定し（ステップＳ１３、Ｎｏ）、ステップＳ４へ戻る。なお、補正が正常であれば、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹとは、略ゼロとなる。そこで、図２のステップＳ１３に示すように、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹが、ゼロ近傍の規定値以内か否かの判定によって、補正が正常か否かを判定してもよい。
【０１００】
ステップＳ１４に進む場合は、取得した補正係数で、欠陥座標の正確な補正ができる場合であると考えられる。そこで、ステップＳ１４以降では、量産ウエハを検査する場合について説明する。
【０１０１】
ステップＳ１４で、光学式検査装置１は、予め作成しておいた量産ウエハ７１用の走査テーブルを用いて、量産ウエハ７１の全面検査を実施する。今回のステップＳ１４の全面検査では、ステップＳ１０の全面検査と同様に、補正係数が、ステップＳ８で算出されたステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとに設定されている。
【０１０２】
図２０に、製造中の量産ウエハ７１の平面図を示す。量産ウエハ７１の表面には、行列（マトリックス）が設定されている。その行列には、複数の行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・が設定され、また、複数の列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・が設定されている。行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・毎の、すべての列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・に、量産ダイ７２が形成されている。
【０１０３】
図２１に、ステージ１９上に固定された量産ウエハ７１を示す。量産ウエハ７１には、量産ダイ７２が形成されている。図２１に示すように、例えば、行列（ｌｍ１、ｒｎ１）における量産ダイ７２内に、実欠陥７４が生じているとする。後記するが、実欠陥７４は、図１の欠陥判定装置２４において、欠陥と判定され、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）上において、実欠陥７４の位置していた実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）が、検査結果記憶装置２６に記憶される。
【０１０４】
図２２に、量産ダイ７２の平面図を示す。量産ダイ７２の中には、ダイ内セル７３が形成されている。図２２の例では、縦横２列ずつで計４個のダイ内セル７３が形成されている。そして、そのうちの１つのダイ内セル７３内に、実欠陥７４が生じているとする。図２１で示した実欠陥７４と、図２２で示した実欠陥７４とは、同一の実欠陥７４であり、同一の位置に生じているのであるが、その位置を表す座標系が、図２１と図２２とでは異なっている。図２１では、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を用いて、その位置を、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）として表現している。一方、図２２では、ダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）を用いて、その位置を、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）として表現している。実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）は、一対一の関係で、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）に変換できる。
【０１０５】
量産ウエハ７１に全面検査において、予め、ゼロでない補正係数（ステージ補正係数ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、チャンネル補正係数Ａｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）が設定されている場合は、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）、又は、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）が、誤差５８〜６３を含んでいるとして補正を行う。補正では、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１に、補正量ΔＸｄ（ΔＸｄｓ、ΔＸｄｄ）を加え、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍを算出し、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、補正量ΔＹｄ（ΔＹｄｓ、ΔＹｄｄ）を加え、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍを算出している。これにより、高精度な欠陥座標（補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ）を取得することができる。
【０１０６】
すなわち、ステップＳ１４では、後記するようなことが行われる。量産ウエハ７１内の、そして、量産ダイ７２内の、全ての実欠陥７４が検出され、それらが検出された位置である実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）を、対応する実欠陥７４が含まれる量産ダイ７２における位置を表す実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）と、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）を記憶する。
【０１０７】
さらに、図２のステップＳ１４では、ステージ補正量算出手段３８が、このステップＳ１４で検出した実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）に、ステージ補正係数をかけることで、ステージ補正量を算出する。
【０１０８】
具体的には、式（１１）に示すように、実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけ、その実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１におけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その１）を算出する。
ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ Ｘｓ１ × ＡＬ１ ・・・（１１）
【０１０９】
同様に、式（１２）に示すように、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけ、その実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１におけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）、すなわち、ステージ補正量ΔＹｄｓを算出する。
ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ Ｙｓ１ × ＡＬ２ ・・・（１２）
【０１１０】
式（１３）に示すように、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけ、その実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１における直交度誤差６３（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その２）を算出する。
ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ Ｙｓ１ × ＡＬ３ ・・・（１３）
【０１１１】
さらに、図２のステップＳ１４では、ダイ補正量算出手段３９が、このステップＳ１４で検出した実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）に、チャンネル補正係数をかけることで、ダイ補正量を算出する。
【０１１２】
具体的には、式（１４）に示すように、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけ、その実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）を算出する。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｘｄ１ × Ａｔｄｉｘ ・・・（１４）
【０１１３】
同様に、式（１５）に示すように、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけ、その実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１における倍率誤差５９（差分ΔＹ）、すなわち、ダイ補正量ΔＹｄｄを算出する。
ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ Ｙｄ１ × Ａｔｄｉｙ ・・・（１５）
【０１１４】
式（１６）に示すように、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけ、その実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）を算出する。なお、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）とは、どちらも、傾き誤差５８に対応するものであり、どちらか一方において算出すればよい。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｙｄ１ × Ａｔｄｉｘｙ ・・・（１６）
【０１１５】
そして、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）と、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）とは、座標系は異なるが、量産ウエハ７１（量産ダイ７２）上の同じ１点（同一の実欠陥７４の位置）を示している。その１点における補正量は、ステージ補正量とダイ補正量の和として算出できる。
【０１１６】
すなわち、式（１７）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１（又は、実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）に、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）と、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）とを加えて、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）（補正欠陥座標）を算出する。
Ｘｄｍ（Ｘｓｍ） ＝ Ｘｄ１（Ｘｓ１）
＋ ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）
＋ ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）
＋ ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ・・・（１７）
【０１１７】
また、式（１８）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１（又は、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）に、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）と、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）とを加えて、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）（補正欠陥座標）を算出する。
Ｙｄｍ（Ｙｓｍ） ＝ Ｙｄ１（Ｙｓ１）
＋ ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）
＋ ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ・・・（１８）
【０１１８】
そして、記憶・送信手段４１が、補正欠陥座標として、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）と、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）を記憶する。以上で、ステップＳ１４が終了する。
【０１１９】
図２のステップＳ１５で、記憶・送信手段４１は、補正欠陥座標である補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）と、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）を、レビュー装置に送信する。レビュー装置では、補正された高精度な補正欠陥座標を取得することができるので、補正欠陥座標の周辺領域を、高倍率に拡大表示しても、確実に実欠陥７４を表示することができる。前記により、図２に示した欠陥座標の補正方法のフローを終了することができる。
【０１２０】
図２３に、本発明の実施形態に係る検査システム８０の構成図を示す。検査システム８０は、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１を備えている。また、検査システム８０は、処理制御部８１と、レビュー装置８２と、搬送システム８３とを有している。
【０１２１】
光学式検査装置１とレビュー装置８２には、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１を全面検査したり欠陥を拡大表示したりする際に使用するレシピが記憶されている。このレシピには、走査テーブルが含まれていてもよい。それぞれのレシピは、レシピ識別子に関係付けられており、処理制御部８１から受信したレシピ識別子に基づいて、全面検査に使用するレシピを読み出すことができる。
【０１２２】
処理制御部８１は、光学式検査装置１とレビュー装置８２にロードされる座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１のウエハに応じたレシピ識別子を、光学式検査装置１とレビュー装置８２に送信する。これにより、処理制御部８１は、量産ウエハ７１の製造工程の管理と、光学式検査装置１の欠陥座標の精度の管理をすることができる。
【０１２３】
レビュー装置８２は、光学式検査装置１で取得した補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）を、処理制御部８１を介し、あるいは、直接、受信する。レビュー装置８２は、量産ウエハ７１における補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）の示す場所の周辺を拡大表示することで、その補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）にある実欠陥７４を拡大表示することができる。半導体装置や表示装置となる量産ウエハ７１の製造者は、拡大表示された実欠陥７４を観察することで、実欠陥７４の発生原因等を究明したり、実欠陥７４を低減させたりすることができる。
【０１２４】
搬送システム８３は、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１を保管することが可能な、ストッカ８３ａを有している。搬送システム８３は、光学式検査装置１とレビュー装置８２に、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１のウエハを、ロード・アンロードできるように接続されている。また、搬送システム８３は、量産ウエハ７１を加工する製造装置にもロード・アンロードできるように接続されている。
【０１２５】
搬送システム８３は、製造装置での処理がいったん終わり、次に光学式検査装置１で処理する量産ウエハ７１が発生すると、その量産ウエハ７１をいったんストッカ８３ａで保管するとともに、光学式検査装置１へ、処理（検査）待ちウエハがあることを伝える検査待ち信号を送信する。光学式検査装置１は、検査待ち信号の受信後に、全面検査の処理が可能になると、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のロードを要求するロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、ロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、光学式検査装置１へロードする。光学式検査装置１は、処理制御部８１から取得したレシピ識別子に基づいて、レシピ（走査テーブル）を読出し、そのレシピに基づいて、その量産ウエハ７１の全面検査を実施する。これにより、補正欠陥座標（のデータ）が生成させる。光学式検査装置１は、全面検査の終了後に、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のアンロードを要求するアンロード要求信号を送信する。また、光学式検査装置１は、補正欠陥座標（のデータ）を、処理制御部８１へ送信する。処理制御部８１は、補正欠陥座標（のデータ）を、いったん記憶しておく。搬送システム８３は、アンロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、光学式検査装置１からアンロードし、いったんストッカ８３ａで保管するとともに、レビュー装置８２へ、処理待ちウエハがあることを伝える待ち信号を送信する。
【０１２６】
レビュー装置８２は、待ち信号の受信後に、実欠陥７４の拡大表示の処理が可能になると、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のロードを要求するロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、ロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、レビュー装置８２へロードする。レビュー装置８２は、処理制御部８１から、レシピ識別子と補正欠陥座標を受信する。レビュー装置８２は、レシピ識別子に基づいて、レシピ（走査テーブル）を読出し、そのレシピに基づいて、その量産ウエハ７１の補正欠陥座標における実欠陥７４を拡大表示する。レビュー装置８２は、実欠陥７４の拡大表示の処理の終了後に、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のアンロードを要求するアンロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、アンロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、レビュー装置８２からアンロードし、いったんストッカ８３ａで保管するとともに、製造装置へ、処理待ちウエハがあることを伝える待ち信号を送信する。
【０１２７】
図２４に、レビュー装置８２の構成図を示す。レビュー装置８２では、走査電子顕微鏡が応用されている。電子光学カラム１１０の真空容器は図示を省略している。電子銃１１１で生成された電子ビーム１１７は、コンデンサレンズ１１２、偏向器１１３、対物レンズ１１４を通過して量産ウエハ（試料）１１５へ照射される。電子ビーム１１７は、コンデンサレンズ１１２、対物レンズ１１４で細く絞られるとともに、補正欠陥座標を中央に配置した所定の寸法の画像を取得するために量産ウエハ１１５の表面を走査するように偏向器１１３で偏向される。コンデンサレンズ１１２の励磁強度は、コンデンサレンズ制御ユニット１２０により制御される。偏向器１１３の偏向量は、補正欠陥座標を中央に配置した所定の寸法の画像が得られるように、偏向器制御ユニット１２１により制御される。対物レンズ１１４の励磁強度は、対物レンズ制御ユニット１２２により制御される。前記の制御の制御量は、コンピュータ１２８のプロセッサ１２９で演算され、制御ユニット１２６から各制御ユニットへ送信される。
【０１２８】
量産ウエハ１１５に電子ビーム１１７が照射されると、量産ウエハ１１５（実欠陥７４）の形状や材質の情報を有する二次電子や反射電子等の二次信号が発生する。二次信号は、一般に５０ｅＶよりも低いエネルギーの二次電子１１８と、それよりも高いエネルギーの反射電子１１９とを有している。二次電子１１８は、図示しない引上げる力により上方の検出器１３２で検出され、反射電子１１９は、複数の検出器１３３で検出される。検出された二次信号１１８、１１９は、検出器制御ユニット１２３で、増幅され、アナログ信号からディジタル信号へ変換され、画像データとして、画像メモリ１２５へ保存される。複数の検出器１３３は、三次元情報を得るために、例えば、２個の検出器１３３が対向して設置されている。２個の検出器１３３は、検出器制御ユニット１２３により制御される。そして、検出器制御ユニット１２３において、量産ウエハ１１５の実欠陥７４に対して、左側の反射電子（信号）１１９からＬ像が生成され、右側の反射電子（信号）１１９からＲ像が生成される。一方、検出器１３２で検出された二次電子１１８から、二次電子像のＳ像が、検出器制御ユニット１２３において生成される。
【０１２９】
アドレス制御ユニット１２４は、偏向器制御ユニット１２１から送られる偏向制御データから、補正欠陥座標を画像の中央に配するように、電子ビーム１１７の走査信号に同期したアドレスを生成し、検出器制御ユニット１２３からの画像信号と関連付けて、画像メモリ１２５に記憶される。画像メモリ１２５は、記憶されている画像データ（Ｌ像、Ｒ像、Ｓ像）を、コンピュータ１２８へ送信する。コンピュータ１２８では、画像データから、後述する焦点合せの評価値の算出、評価値への関数によるフィッティング、そのフィッティング関数のピークの算出を行い、焦点調整信号を生成し、対物レンズ制御ユニット１２２に送る。対物レンズ制御ユニット１２２では、対物レンズ１１４の励磁強度を制御して焦点を調整する。焦点調整には、オペレータがディスプレイ１２７に表示される画像を見ながら入力ツール１３０、または専用入力ツール１３１を使用して調整する方法と、対物レンズ制御ユニット１２２が、対物レンズ１１４の焦点を変えながら取得した画像の評価値に基づいて自動調整する自動焦点合せの方法とがある。入力ツール１３０は、一般的なキーボードやマウスであり、専用入力ツール１３１は、走査電子顕微鏡を調整するためのジョイスティックやトラックボールを備えた専用の入力ツールである。焦点を調整する他の方法としては、特開２００７−２４２６０５号公報に記載されたように、対物レンズ１１４の磁路内に図示しない静電電極を設け、この静電電極への印加電圧を変えることによって、焦点位置を変えてもよい。量産ウエハ１１５は、静電チャック等の試料台１１６で固定され、制御ユニット１２６からの制御信号で移動する移動ステージ１３４によりＸ軸方向とＹ軸方向の二次元平面を移動できる。必要に応じて高さ方向であるＺ軸方向へ量産ウエハ１１５を移動させる機能を持たしてもよい。
【０１３０】
図２５に、検査システム８０の運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローチャートを示す。
【０１３１】
まず、ステップＳ２１で、光学式検査装置１の処理装置２１は、オペレータによって、処理装置２１に、補正係数を設定（再設定）する命令が入力されたか否か判定する。補正係数を設定（再設定）する命令が入力されていれば（ステップＳ２１、Ｙｅｓ）、ステップＳ２２へ進み、補正係数を設定（再設定）する命令が入力されていなければ（ステップＳ２１、Ｎｏ）、ステップＳ２７へ進む。
【０１３２】
次に、ステップＳ２２で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、座標管理用ウエハ５１のロード要求を送信する。
【０１３３】
ステップＳ２３で、搬送システム８３は、ストッカ８３ａに保管されている座標管理用ウエハ５１を、光学式検査装置１へロードする。
【０１３４】
ステップＳ２４で、光学式検査装置１の処理装置２１は、補正係数（ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）を決定する。具体的には、図２のステップＳ１〜Ｓ１３を実施する。なお、初回に、図２のステップＳ１〜Ｓ３を実施すれば、２回目以降は、初回に作った座標管理用ウエハ５１と走査テーブルを使えるので、ステップＳ１〜Ｓ３を省くことができる。したがって、２回目以降は、ステップＳ４〜Ｓ１３を実施することになる。
【０１３５】
ステップＳ２５で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、座標管理用ウエハ５１のアンロード要求を送信する。搬送システム８３は、座標管理用ウエハ５１を、光学式検査装置１からストッカ８３ａへアンロードする。
【０１３６】
ステップＳ２６で、光学式検査装置１の処理装置２１は、補正期間をカウントするタイマ４２（図１参照）を、リセットし、再度、スタートさせる。
【０１３７】
ステップＳ２７で、光学式検査装置１の処理装置２１は、オペレータによって、処理装置２１に、処理を停止する命令が入力されたか否か判定する。停止命令が入力されていれば（ステップＳ２７、Ｙｅｓ）、検査システム８０の運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローをストップし、停止命令が入力されていなければ（ステップＳ２７、Ｎｏ）、ステップＳ２８へ進む。
【０１３８】
ステップＳ２８で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３から、処理（検査）待ちの量産ウエハ７１があることを伝える検査待ち信号を受信したか否か判定する。検査待ち信号を受信していれば（ステップＳ２８、Ｙｅｓ）、ステップＳ２９へ進み、検査待ち信号を受信していなければ（ステップＳ２８、Ｎｏ）、ステップＳ３２へ進む。
【０１３９】
ステップＳ２９で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、処理（検査）待ちの量産ウエハ７１をロードするように、ロード要求を送信する。
【０１４０】
ステップＳ３０で、搬送システム８３は、ストッカ８３ａに保管されている処理（検査）待ちの量産ウエハ７１を、光学式検査装置１へロードする。また、処理制御部８１は、光学式検査装置１の処理装置２１へ、検査レシピの識別子をロードする。
【０１４１】
ステップＳ３１で、光学式検査装置１の処理装置２１は、量産ウエハ７１の実欠陥７４を検出し、その実欠陥７４の補正欠陥座標を決定する。具体的には、図２のステップＳ１４を実施する。
【０１４２】
ステップＳ３２で、光学式検査装置１の処理装置２１は、タイマ４２（図１参照）でカウントしている補正期間が、定期期間に達したか否か判定する。補正期間が定期期間に達していれば（ステップＳ３２、Ｙｅｓ）、ステップＳ２２へ戻り、補正係数を再設定する。補正期間が定期期間に達していなければ（ステップＳ３２、Ｎｏ）、ステップＳ２７へ戻り、量産ウエハ７１の検査を続ける。これによれば、補正係数を、マニュアルでもオートでも、更新できるので、各種の誤差５８〜６３が変動した場合でも、補正係数を追従させ、高精度な、補正欠陥座標を取得することができる。
【符号の説明】
【０１４３】
１ 光学式検査装置（欠陥検査装置）
１１ 照明手段
１２ 検出手段
１２ａ 受光手段
１２ｂ ラインセンサ（結像手段）
１２ｃ チャンネル
１３ ステージ位置検出手段（Ｙスケール）
１４ ステージ位置検出手段（Ｘスケール）
１５ 表面高さ位置検出系の照明装置
１６ 表面高さ位置検出系の検出器（２個１組：１６ａ、１６ｂ）
１７ 像面観察手段
１８ 画像処理装置
１９ ステージ
１９ａ 移動手段
２１ 処理装置
２２ Ａ／Ｄ変換器
２３ 画像処理装置
２４ 欠陥判定装置
２４ａ 判定回路
２４ｂ、２４ｃ 係数テーブル
２５ ステージ位置検出手段（座標管理装置）
２６ 検査結果記憶装置
２７ ステージ制御装置
２８ 画像表示装置
３１ 座標変換手段
３２ 差分算出手段
３３ 特性パターン取得手段
３４ 傾き取得手段
３５ 振幅取得手段
３６ ステージ補正係数算出手段
３７ チャンネル補正係数算出手段
３８ ステージ補正量算出手段
３９ ダイ補正量算出手段
４０ ダイ座標補正手段
４１ 記憶・送信手段
４２ タイマ
５１ 座標管理用ウエハ（ウエハ）
５２ 擬似欠陥ダイ（チップ）
５３ ダイ内セル
５４ 擬似欠陥
５４ａ 擬似欠陥の結像
５５ フォワード走査
５６ リバース走査
５７ シフト
５８ 欠陥Ｘ座標誤差（傾き誤差）
５９ 欠陥Ｙ座標誤差（倍率誤差）
６１ 欠陥Ｘ座標誤差（Ｘスケール誤差）
６２ 欠陥Ｙ座標誤差（Ｙスケール誤差）
６３ 欠陥Ｘ座標誤差（直交度誤差）
７１ 量産ウエハ
７２ 量産ダイ
７３ ダイ内セル
７４ 実欠陥
８０ 検査システム
８１ 処理制御部
８２ レビュー装置
８３ 搬送システム
８３ａ ストッカ
Ｘｓ ステージＸ座標（ステージ座標）
Ｙｓ ステージＹ座標（ステージ座標）
Ｘｓ０ 擬似欠陥ステージＸ座標（擬似欠陥ステージ座標）
Ｙｓ０ 擬似欠陥ステージＹ座標（擬似欠陥ステージ座標）
Ｘｓ１ 実欠陥ステージＸ座標（実欠陥ステージ座標）
Ｙｓ１ 実欠陥ステージＹ座標（実欠陥ステージ座標）
Ｘｄ ダイＸ座標（ダイ座標）
Ｙｄ ダイＹ座標（ダイ座標）
Ｘｄ０ 擬似欠陥ダイＸ座標（擬似欠陥ダイ座標）
Ｙｄ０ 擬似欠陥ダイＹ座標（擬似欠陥ダイ座標）
Ｘｄ１ 実欠陥ダイＸ座標（実欠陥ダイ座標）
Ｙｄ１ 実欠陥ダイＹ座標（実欠陥ダイ座標）
Ｘｄ２ 設計Ｘ座標（設計座標）
Ｙｄ２ 設計Ｙ座標（設計座標）
ΔＸ、ΔＹ 差分
ΔＸｄｓ、ΔＹｄｓ ステージ補正量
ΔＸｄｄ、ΔＹｄｄ ダイ補正量
Ｘｄｍ 補正実欠陥ダイＸ座標（補正実欠陥ダイ座標）
Ｙｄｍ 補正実欠陥ダイＹ座標（補正実欠陥ダイ座標）
Ｐｄ 擬似欠陥のピッチ
Ｐｄａ 擬似欠陥の結像のピッチ
Ｐｃ チャンネルのピッチ
Ｃ１〜Ｃ１６ チャンネル
ＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３ 座標誤差特性パターン
Ａ１、Ａ２、Ａ３ 振幅（チャンネル補正係数）
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３ 直線
ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３ 直線の傾き（ステージ補正係数）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学式検査装置、それを備えた検査システム、および、それにおいて用いる座標管理用ウエハに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学式検査装置は、半導体装置や液晶等を用いた表示装置の製造工程において発生する欠陥の検査に用いられている。光学式検査装置では、具体的には、欠陥を見つけ、その欠陥の位置（欠陥座標）を取得する。光学式検査装置は、検査システムに備えられており、その検査システムには、光学式検査装置の他に、レビュー装置が備えられている。レビュー装置では、光学式検査装置で取得した欠陥座標の示す場所の周辺を拡大表示することで、その欠陥座標にある欠陥を拡大表示することができる。半導体装置や表示装置の製造者は、拡大表示された欠陥を観察することで、欠陥の発生原因等を究明したり、欠陥を低減させたりすることができる。
【０００３】
半導体装置や表示装置では、高性能化のために、それらの構造が微細化されている。そのため、従来であれば、半導体装置や表示装置の故障の原因とはならなかった微小な欠陥も、故障を引き起こす場合があると考えられ、光学式検査装置での検査対象となってきている。そして、光学式検査装置の検査精度を高める目的で、半導体装置や表示装置を載せて移動させるステージの位置ずれ量を補正する方法が提案されている（特許文献１等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１０３２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
検査対象とする欠陥が微細化すると、レビュー装置では、その微細な欠陥を容易に観察できるように、従来に比べ拡大して表示するようになる。そのため、拡大表示される領域は、欠陥座標の近傍のみの狭い領域になる。光学式検査装置で取得された欠陥座標に誤差が含まれていると、欠陥座標の周辺を拡大表示しても、その表示画面には、欠陥が表示されていない場合があると考えられる。
【０００６】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置、そして、それを備えた検査システム、さらに、それにおいて用いる座標管理用ウエハを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、ウエハの表面を結像可能な複数のチャンネルがＹ軸方向に等間隔に配列されたラインセンサと、前記ウエハをステージに載せて前記ラインセンサに対して相対的に前記Ｙ軸方向と直角をなすＸ軸方向に繰り返し移動させることで前記ウエハの全面を前記チャンネル上に結像させる移動手段とを有し、前記ウエハの表面を検査する光学式検査装置において、
前記表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列で前記チャンネル上の結像におけるピッチが前記チャンネルのピッチに等しい等間隔に形成されている座標管理用ウエハを、前記Ｙ軸方向と前記列方向とが略平行になり、前記チャンネル毎に前記擬似欠陥ダイ当たり１つの擬似欠陥が結像するように、前記ウエハとして検査したのを受けて、前記チャンネル上に結像した前記擬似欠陥の前記ステージ上の位置を、擬似欠陥ステージ座標として検出するステージ位置検出手段と、
検出された前記擬似欠陥ステージ座標を、前記擬似欠陥が含まれる前記擬似欠陥ダイにおける位置を表す擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、
前記擬似欠陥が前記擬似欠陥ダイに形成された際の設計に基づく設計座標に対する、前記擬似欠陥ダイ座標の差分を算出する差分算出手段と、
前記擬似欠陥ステージ座標に対して、前記差分が、略一定の振幅で振動するか、直線に沿って増加又は減少するか、少なくともどちらか一方の座標誤差特性パターンを取得する特性パターン取得手段とを有することを特徴としている。
【０００８】
また、本発明は、この光学式検査装置を有する検査システムであることを特徴としている。
【０００９】
また、本発明は、表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つのみ且つ列毎に１つのみの擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が前記行列の列方向に一列のみで等間隔に形成されている座標管理用ウエハであることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、欠陥座標に含まれている誤差を低減可能な光学式検査装置、そして、それを備えた検査システム、さらに、それにおいて用いる座標管理用ウエハを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係る光学式検査装置の構成図である。
【図２】本発明の実施形態に係る光学式検査装置を用いた欠陥座標の補正方法のフローチャートである。
【図３】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハの平面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハにおけるステージ座標と擬似欠陥ステージ座標の関係を説明するための図であり、ステージ上に固定された座標管理用ウエハを示している。
【図５】本発明の実施形態に係る座標管理用ウエハに形成される擬似欠陥ダイにおけるダイ座標と擬似欠陥ダイ座標の関係を説明するための図であり、擬似欠陥ダイの平面図を示している。
【図６】ラインセンサの座標管理用ウエハに対する相対的な走査方法を説明するための図である。
【図７】走査時における擬似欠陥（擬似欠陥ダイ）のチャンネル上の結像と、チャンネルとの位置関係を示す図である。
【図８】ラインセンサの傾きによる誤差（傾き誤差）を説明するための図（その１：チャンネルＣ１とＣ１６が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標がＸｓ０となることを示す図）である。
【図９Ａ】傾き誤差を説明するための図（その２：チャンネルＣ１６が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を示す図）である。
【図９Ｂ】傾き誤差を説明するための図（その３：チャンネルＣ１が検出した擬似欠陥の擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０を示す図）である。
【図１０】擬似欠陥のラインセンサ上への結像の際の誤差（倍率誤差）を説明するための図（その１：倍率誤差がある場合）である。
【図１１】擬似欠陥のラインセンサ上への結像の際の誤差（倍率誤差）を説明するための図（その２：倍率誤差がない場合）である。
【図１２】ステージの移動量の誤差（スケール誤差）を説明するための図である。
【図１３】ステージの直交度の誤差（直交度誤差）を説明するための図である。
【図１４】擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１５】擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図１６】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１７】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図１８】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その１:誤差（差分）が無い場合）である。
【図１９】擬似欠陥ステージ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターン（その２:誤差（差分）がある場合）である。
【図２０】量産ウエハの平面図である。
【図２１】量産ウエハにおけるステージ座標と実欠陥ステージ座標の関係を説明するための図であり、ステージ上に固定された量産ウエハを示している。
【図２２】量産ウエハに形成される量産ダイにおけるダイ座標と実欠陥ダイ座標の関係を説明するための図であり、量産ダイの平面図を示している。
【図２３】本発明の実施形態に係る検査システムの構成図である。
【図２４】本発明の実施形態に係る検査システムに用いられるレビュー装置の構成図である。
【図２５】本発明の実施形態に係る検査システムの運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し重複した説明を省略している。
【００１３】
図１に、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１の構成図を示す。光学式検査装置１は、欠陥を検出するための検出光学系（１１、１２等）と、焦点制御系（１５、１６等、焦点検出光学系＋焦点駆動系）を有している。座標管理用ウエハ（ウエハ）５１のスキャン時には、焦点制御系（１５、１６等）の焦点検出光学系で検出した検出光学系（１１、１２等）の焦点位置に、焦点制御系（１５、１６等）の焦点駆動系を制御して、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面の凹凸（高さ）を追従させることができる。
【００１４】
光学式検査装置１は、前記検出光学系の照明手段１１と、検出光学系の検出手段１２（受光手段１２ａ、結像手段（ラインセンサ）１２ｂ）と、Ｙスケール（ステージ位置検出手段）１３と、Ｘスケール（ステージ位置検出手段）１４と、焦点制御（表面高さ位置検出）系の照明装置１５と、表面高さ位置検出系の検出器１６（１６ａ、１６ｂ（２個１組で構成される））と、像面観察手段１７と、画像処理装置１８と、ステージ１９と、移動手段１９ａと、処理装置２１と、ステージ制御装置２７と、画像表示装置２８とを有している。
【００１５】
照明手段１１は、検査光として所定の波長のレーザー光を出射し、そのレーザー光の光ビームを被検査物である座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面へ照射する。
【００１６】
欠陥検出系の検出手段１２（１２ａ、１２ｂ）は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面から反射または散乱する検査光を受光して光強度を検出する。
【００１７】
座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面には、擬似欠陥ダイ（チップ）５２が形成されている。座標管理用ウエハ（ウエハ）５１は、ステージ１９上に吸着されており、ステージ１９が、移動手段１９ａによって、Ｙ軸方向及びＸ軸方向へ移動することによって、照明手段１１から照射された検査光が、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面を走査する。これにより、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面全体に検査光を走査させることができる。
【００１８】
欠陥検出系の検出手段１２の結像手段（ラインセンサ）１２ｂとしては、例えば、ＴＤＩ（Time Delay and Integration）センサ、ＣＣＤセンサ、光電子増倍管（フォトマルチプライヤ）等を用いることができる。欠陥検出系の検出手段１２の受光手段１２ａは、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面で発生した検査光の散乱光を受光・集光して、結像手段（ラインセンサ）１２ｂ上に結像させる。結像手段（ラインセンサ）１２ｂには、Ｙ軸方向に複数のチャンネル１２ｃが配列されている。チャンネル１２ｃ毎に、チャンネル１２ｃ内の、検査光の散乱光が結像した位置を特定することができる。結像手段（ラインセンサ）１２ｂでは、検査光の散乱光の結像を、結像手段（ラインセンサ）１２ｂのＹ軸方向のそれぞれの位置における散乱光の強度（電気信号）に変換し、その電気信号は画像信号として、処理装置２１へ出力される。
【００１９】
Ｙスケール１３とＸスケール１４には、例えば、レーザースケール等を用いることができる。Ｙスケール１３とＸスケール１４は、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）をそれぞれ検出して、その位置情報を処理装置２１へ出力する。前記したように、ステージ１９は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１を載せて、移動手段１９ａによってＹ軸方向及びＸ軸方向へ移動する。一方、検査光の光路は移動させていない。このため、検査光の光路上の座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の照射位置を、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）に一対一に対応付けることができる。すなわち、照射位置の座標に、ステージ１９のＹ軸方向位置（ステージＹ座標Ｙｓ）とＸ軸方向位置（ステージＸ座標Ｘｓ）を用いることができる。ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓは、処理装置２１の座標管理装置（ステージ位置検出手段）２５へ送信される。
【００２０】
表面高さ位置検出系の照明装置１５は、被検査物である座標管理用ウエハ（ウエハ）５１に、表面高さ位置検出用の検出光を照射する。表面高さ位置検出系の検出器１６（１６ａ、１６ｂ）は、座標管理用ウエハ（ウエハ）５１の表面高さ位置を検出する。検出器１６（１６ａ、１６ｂ）は、２つの検出器１６ａ、１６ｂを有している。２つの検出器１６ａ、１６ｂは、被検査物の上下方向（Ｚ軸方向）に検出中心位置を異にしており、所定の高さに対する高低を検出（判定）することができる。
【００２１】
像面観察手段１７には、ＴＴＬ方式を採用することができ、例えば、ＣＣＤセンサ等を用いることができる。像面観察手段１７は、受光手段１２ａを通過して集光し結像した検査光の散乱光を受光し、その受光の強度を電気信号に変換する。変換された電気信号は、画像信号として画像処理装置１８へ出力される。
【００２２】
処理装置２１は、Ａ／Ｄ変換器２２と、画像処理装置２３と、欠陥判定装置２４と、座標管理装置２５と、検査結果記憶装置２６とを有している。
【００２３】
Ａ／Ｄ変換器２２は、結像手段（ラインセンサ）１２ｂから入力したアナログ信号の画像信号を、デジタル信号の画像信号に変換して出力する。
【００２４】
画像処理装置２３は、例えば、遅延回路と差分検出回路とを有している。遅延回路は、Ａ／Ｄ変換器２２から入力した画像信号を遅延させる。遅延回路は、検査光が現在照射されている擬似欠陥ダイ（チップ）５２の１つ前の既に検査光の照射が終了したチップの画像信号を出力する。差分検出回路は、Ａ／Ｄ変換器２２から直接入力する検査光が現在照射されている擬似欠陥ダイ（チップ）５２の画像信号と、遅延回路を介して入力する１つ前に既に検査光の照射が終了したチップの画像信号との差分を検出する。
【００２５】
欠陥判定装置２４は、画像処理装置２３が検出した画像信号の差分より、検査光を現在照射中の擬似欠陥ダイ（チップ）５２に欠陥（擬似欠陥）が存在するか否かの検査（判定）をする。欠陥判定装置２４は、判定回路２４ａと係数テーブル（テーブル）２４ｂ、２４ｃを有している。係数テーブル２４ｂ、２４ｃには、欠陥判定のしきい値を変更するための係数が座標情報と対応付けて格納されている。係数テーブル２４ｂ、２４ｃは、ステージ位置検出手段（座標管理装置）２５から座標情報（ステージＹ座標Ｙｓ、ステージＸ座標Ｘｓ）を入力して、その座標情報に対応付けて格納されている係数を、判定回路２４ａへ出力する。判定回路２４ａには、画像処理装置２３から画像信号の差分が入力され、係数テーブル２４ｂ、２４ｃから、しきい値を変更するための係数が入力される。判定回路２４ａは、予め定められた値に、しきい値を変更するための係数を掛け算して、しきい値を算出する。そして、判定回路２４ａは、画像信号の差分としきい値とを比較し、画像信号の差分がしきい値以上である場合に、欠陥ありと判定し、画像信号の差分がしきい値未満である場合に、欠陥なしと判定する。この判定結果を、検査結果記憶装置２６へ出力する。判定回路２４ａは、判定に用いたしきい値の情報を検査結果記憶装置２６へ出力する。
【００２６】
座標管理装置２５は、Ｙスケール１３とＸスケール１４から入力した位置情報に基づき、現在光ビームが照射されている位置（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を決定する。
【００２７】
検査結果記憶装置２６は、欠陥判定装置２４が欠陥ありと判定したときに、座標管理装置２５から入力した座標情報（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）として記憶する。検査結果記憶装置２６は、欠陥判定装置２４から入力したしきい値の情報を、座標情報と対応付けて記憶する。
【００２８】
ステージ制御装置２７は、移動手段１９ａを制御して、ステージ１９を上下動させて（Ｚ軸方向に移動させて）、座標管理用ウエハ５１の表面上に検出手段１２の光学系の焦点を一致させる。また、ステージ制御装置２７は、移動手段１９ａを制御して、ステージ１９をＸ軸方向とＹ軸方向に移動させて、座標管理用ウエハ５１の表面上の全面に検査光を走査させる。
【００２９】
また、処理装置２１は、座標変換手段３１と、差分算出手段３２と、特性パターン取得手段３３と、傾き取得手段３４と、振幅取得手段３５と、ステージ補正係数算出手段３６と、チャンネル補正係数算出手段３７と、ステージ補正量算出手段３８と、ダイ補正量算出手段３９と、ダイ座標補正手段４０と、記憶・送信手段４１と、タイマ４２とを有している。各手段の機能については、後記する光学式検査装置１を用いた欠陥座標の補正方法の説明の中で説明する。
【００３０】
図２に、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１を用いた欠陥座標の補正方法のフローチャートを示す。
【００３１】
まず、ステップＳ１で、光学式検査装置１のオペレータ等は、座標管理用ウエハ５１を作製する。図３に、作製した座標管理用ウエハ５１の平面図を示す。座標管理用ウエハ５１の表面には、行列（マトリックス）が設定されている。その行列には、複数の行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・が設定され、また、複数の列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・が設定されている。行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・毎に、１つの擬似欠陥ダイ５２が形成されている。同様に、列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・毎に、１つの擬似欠陥ダイ５２が形成されている。
【００３２】
図４に、ステージ１９上に固定された座標管理用ウエハ５１を示す。座標管理用ウエハ５１には、擬似欠陥ダイ５２が形成され、擬似欠陥ダイ５２には、擬似欠陥５４が形成されている。なお、擬似欠陥ダイ５２内に、擬似欠陥５４は複数個形成されるが、図４では、理解を容易にするために、ある擬似欠陥ダイ５２だけに１個だけ記載している。座標管理用ウエハ５１上に、行列が設定されると、特定の行ｌｍ０と特定の列ｒｎ０を設定することで、擬似欠陥ダイ５２の位置（ｌｍ０、ｒｎ０）を決めることができる。そして、擬似欠陥ダイ５２内における（ダイ座標上における）設計座標と、擬似欠陥ダイ５２の位置（ｌｍ０、ｒｎ０）に基づいて、擬似欠陥５４を形成する位置を決定することができ、擬似欠陥５４を形成することができる。なお、後記するが、こうして形成された擬似欠陥５４は、図１の欠陥判定装置２４において、欠陥と判定され、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）上において、擬似欠陥５４の位置していた擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）が、検査結果記憶装置２６に記憶される。
【００３３】
図５に、擬似欠陥ダイ５２の平面図を示す。擬似欠陥ダイ５２の中には、ダイ内セル５３が形成されている。図５の例では、縦横２列ずつで計４個のダイ内セル５３が形成されている。そして、ダイ内セル５３内に、複数（図５の例では８個ずつで、計１６個）の擬似欠陥５４が形成されている。複数の擬似欠陥５４は、前記行列の列方向（Ｙ軸方向）に一列に配置されている。また、複数の擬似欠陥５４は、ピッチＰｄが等しい等間隔になるように形成されている。すなわち、擬似欠陥ダイ５２内における座標であるダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）上においては、設計座標のダイＸ座標Ｘｄが、複数の擬似欠陥５４同士で互いに等しくなるように設計されている。また、設計座標のダイＹ座標Ｙｄは、隣接する擬似欠陥５４同士の間隔（ピッチＰｄ）が一定で等しくなるように設計されている。なお、図４に示したように、形成された擬似欠陥５４のステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）として、検査結果記憶装置２６に記憶される。この擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）は、一対一の関係で、ダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）における擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換できる。もし、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）が誤差を含んでいるとすると、変換した擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）も誤差を含むことになり、前記設計座標に一致せず、差分が生じる。この実施の形態では、その差分を利用して実欠陥の欠陥座標を補正することができるので、高精度な欠陥座標を取得することができる。
【００３４】
次に、図２に戻り、図２のステップＳ２で、光学式検査装置１のオペレータ（半導体装置や表示装置の製造者）は、座標管理用ウエハ５１を用いる際に使用する走査テーブル（検査レシピ）を作成する。走査テーブルでは、座標管理用ウエハ５１に対する検査光の走査方法（Ｙ軸方向とＸ軸方向の走査経路）が決定される。走査テーブルは、ステージ制御装置２７によって、移動手段１９ａを移動させるための移動経路を、前記走査経路として、あらかじめ記憶しておくバッファのことである。なお、検査光の走査の際に、検査光の光路とラインセンサ１２ｂの位置関係は変わらないので、この走査は、ラインセンサ１２ｂが走査していると考えることもできる。
【００３５】
図６に、ラインセンサ１２ｂの座標管理用ウエハ５１に対する相対的な走査方法を示す。ラインセンサ１２ｂが、Ｘ軸方向の図６の左から右への方向に走査する、いわゆる、フォワード走査５５の場合は、ラインセンサ１２ｂのＹ軸方向の図６の最下部を、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向の図６の最下部に合わせて走査している。ラインセンサ１２ｂが、Ｘ軸方向の図６の右から左への方向に走査する、いわゆる、リバース走査５６の場合は、ラインセンサ１２ｂのＹ軸方向の図６の最上部を、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向の図６の最上部に合わせて走査している。擬似欠陥ダイ（チップ）５２が配置される１行毎に、フォワード走査５５とリバース走査５６を実施する。そして、フォワード走査５５とリバース走査５６を実施する行を、１つずつ図６における上方の行に上げることで、座標管理用ウエハ５１上のすべての擬似欠陥ダイ５２上を、ラインセンサ１２ｂで走査することができる。なお、フォワード走査５５とリバース走査５６の両方を必ずしも行う必要は無く、どちらか一方だけでもよい。また、フォワード走査５５を実施する行と、リバース走査５６を実施する行とを設けてもよい。また、座標管理用ウエハ５１は円形であるので、その外周部に形成される擬似欠陥ダイ５２の中には、欠けが生じる場合がある。この欠けにより、擬似欠陥ダイ５２における図５の上側又は下側の擬似欠陥５４が欠落してしまう。走査テーブルでは、擬似欠陥５４の全部又は一部が欠落した擬似欠陥ダイ５２（不完全ダイ）上を走査しないように作成されている。
【００３６】
図７に、走査時における擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａと、チャンネル１２ｃとの位置関係を示す。実施の形態では、擬似欠陥５４の位置座標の誤差を問題とするので、擬似欠陥５４の擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０と擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）を正確に検出する必要がある。そのため、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａが、各チャンネル１２ｃのＹ軸方向の幅の中央に生じるように設計されている。複数のチャンネル１２ｃ毎に、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａが、チャンネル１２ｃのＹ軸方向の幅の中央に生じるようにするには、擬似欠陥５４のチャンネル１２ｃ上の結像５４ａのピッチＰｄａを、チャンネル１２ｃのピッチＰｃに一致させる必要がある（Ｐｄａ＝Ｐｃ）。図２のステップＳ１の座標管理用ウエハ５１の作製の際には、この条件を満足するように、擬似欠陥５４のピッチＰｄが設計されて作製されている。
【００３７】
しかし、図７に示すように、ダイ内セル５３同士の間（擬似欠陥５４の下から８個目と９個目の間）においては、擬似欠陥５４のピッチＰｄが他と異なっている場合がある。このような場合、フォワード走査時には、図７における下端のチャンネル１２ｃ（Ｃ１）と、下端の擬似欠陥５４ｂの結像５４ａとを合わせることで、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）において、Ｙ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることができる。しかし、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）においては、ピッチＰｄのずれにより、必ずしもＹ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることはできないと考えられる。
【００３８】
一方、リバース走査時には、図７における上端のチャンネル１２ｃ（Ｃ１６）と、上端の擬似欠陥５４ｔの結像５４ａとを合わせることで、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）において、Ｙ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることができる。しかし、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）においては、ピッチＰｄのずれにより、必ずしもＹ軸方向の幅の中央で擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることはできないと考えられる。
【００３９】
そこで、フォワード走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）で、擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえ、リバース走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）で、擬似欠陥５４の結像５４ａをとらえることで、すべての擬似欠陥５４の結像５４ａを、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえることができる。したがって、走査テーブルにおいては、フォワード走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）を有効とし、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）を無効とするように設定される。また、リバース走査時には、チャンネル１２ｃ（Ｃ９〜Ｃ１６）を有効とし、チャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ８）を無効とするように設定される。なお、図７では、擬似欠陥ダイ５２のＹ軸方向に、ダイ内セル５３が２つ並べられている場合を示したが、３つ以上並べられている場合には、それらの内の下端に位置するダイ内セル５３内の擬似欠陥５４の結像５４ａが、フォワード走査時にチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえられ、上端に位置するダイ内セル５３内の擬似欠陥５４の結像５４ａが、リバース走査時にチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）のＹ軸方向の幅の中央でとらえられるように設定すればよい。これらによれば、擬似欠陥ダイ５２内の擬似欠陥５４の列において、両端に位置する擬似欠陥５４ｂと５４ｔを、チャンネルＣ１とＣ１６（１２ｃ）のＹ軸方向の幅の中央でとらえることができる。
【００４０】
次に、図２に戻り、図２のステップＳ３で、光学式検査装置１の処理装置２１、ステージ制御装置２７又はオペレータは、作成された走査テーブルが、合格か否か判定する。具体的には、作成された走査テーブルを用いて検査することで、座標管理用ウエハ５１内の全ての擬似欠陥ダイ５２を検査可能か判定する。また、作成された走査テーブルを用いて検査することで、ラインセンサ１２ｂ内の全てのチャンネル１２ｃに、擬似欠陥５４を検出させられるか否か判定する。走査テーブルが合格していれば（ステップＳ３、Ｙｅｓ）、ステップＳ４へ進み、合格していなければ（ステップＳ３、Ｎｏ）、ステップＳ２へ戻る。
【００４１】
次に、ステップＳ４で、光学式検査装置１は、ステップＳ２で作成した走査テーブルを用いて、座標管理用ウエハ５１の全面検査を実施する。全面検査では、まず、後記する補正係数を初期化してゼロにする。これによれば、後記するような、欠陥座標が補正されることなく、誤差を含んだ欠陥座標を取得することができる。座標管理用ウエハ５１内の、そして、擬似欠陥ダイ５２内の、全ての擬似欠陥５４が検出され、それらが検出された位置である擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を、対応する擬似欠陥５４が含まれる擬似欠陥ダイ５２における位置を表す擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を記憶する。
【００４２】
次に、ステップＳ５で、差分算出手段３２（図１参照）は、擬似欠陥５４が擬似欠陥ダイ５２に形成された際の設計に基づく設計座標（設計Ｘ座標Ｘｄ２、設計Ｙ座標Ｙｄ２）に対する、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）の差分ΔＸ（＝Ｘｄ０−Ｘｄ２）、ΔＹ（＝Ｙｄ０−Ｙｄ２）を算出する。
【００４３】
次に、ステップＳ６で、特性パターン取得手段３３（図１参照）は、座標誤差特性パターンを取得し、表示する。座標誤差特性パターンについて説明する前に、その座標誤差特性パターンを用いて検出できる、欠陥座標の精度を低下させる各種の誤差、（１）傾き誤差、（２）倍率誤差、（３）Ｘスケール誤差、（４）Ｙスケール誤差、（５）直交度誤差の５種類について説明する。
【００４４】
（１）傾き誤差
図８と図９Ａと図９Ｂを用いて、ラインセンサ１２ｂの傾きによって生じる誤差である傾き誤差５８について説明する。図８において、本来であれば、ラインセンサ１２ｂは、チャンネル１２ｃの配列方向がＹ軸方向と平行となるように、配置されなければならないが、組み付け誤差や経時変化により、チャンネル１２ｃの配列方向が、Ｙ軸方向に対して傾き、傾き誤差５８が発生する。具体的に、ラインセンサ１２ｂが、擬似欠陥５４（座標管理用ウエハ５１（図１参照））に対して相対的にＸ軸方向に走査しているとする。図８と図９Ａに示すように、チャンネル１２ｃ（Ｃ１６）で、擬似欠陥５４（擬似欠陥の結像５４ａ）が検出されたとき、その擬似欠陥５４の位置としては、ステージＸ座標Ｘｓにおいて、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０が検出される。つまり、擬似欠陥５４の位置（ステージＸ座標Ｘｓ）の誤差として、傾き誤差５８が生じることがわかる。そして、ラインセンサ１２ｂの外側ほど、傾き誤差５８が大きくなることがわかる。図８と図９Ｂは、チャンネル１２ｃ（Ｃ１）で、擬似欠陥５４（擬似欠陥の結像５４ａ）が検出されたときを示している。このときの擬似欠陥５４のステージＸ座標Ｘｓは、擬似欠陥ステージ座標Ｘｓ０と検出されるので、傾き誤差５８が生じることがわかる。傾き誤差５８は、Ｘ軸方向に生じている。
【００４５】
（２）倍率誤差
図１０と図１１を用いて、擬似欠陥５４のラインセンサ１２ｂ上に結像した結像５４に生じる誤差である倍率誤差５９について説明する。図１０に示すように、本来であれば、擬似欠陥ダイ５２上に形成された擬似欠陥５４は、受光手段１２ａ（図１参照）が集光レンズとして機能するので、ラインセンサ１２ｂのチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）の中央で、擬似欠陥５４は結像（５４ａ）し、倍率誤差５９（図１１参照）は生じない。これは、図２のステップＳ１の座標管理用ウエハの作製において、チャンネル１２ｃのピッチＰｃが、擬似欠陥５４の結像５４ａのピッチＰｄａに等しくなるように（Ｐｃ＝Ｐｄａ）、擬似欠陥５４のピッチＰｄが設計されているためである。
【００４６】
図１１に倍率誤差５９が生じている場合を示す。例えば、擬似欠陥ダイ５２（擬似欠陥５４）と、受光手段１２ａと、ラインセンサ１２ｂとのそれぞれの間の距離が変わったりすると、擬似欠陥５４の結像５４ａの倍率が変わる。擬似欠陥５４の結像５４ａは、ラインセンサ１２ｂのチャンネル１２ｃ（Ｃ１〜Ｃ１６）の中央から外れ、倍率誤差５９が生じる。倍率誤差５９は、傾き誤差５８とは異なり、Ｙ軸方向に生じている。そして、ラインセンサ１２ｂの外側ほど、倍率誤差５９が大きくなることがわかる。
【００４７】
（３）Ｘスケール誤差
図１２を用いて、ステージ１９のＸ軸方向の移動量の誤差であるＸスケール誤差６１について説明する。Ｘ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＸ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に対して、Ｘスケール誤差６１が生じる。Ｘスケール誤差６１は、Ｘ軸方向に生じている。ステージ１９のＸ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０））が大きいほど、Ｘスケール誤差６１が大きくなる。なお、Ｘスケール誤差６１は、ステージＸ座標Ｘｓ（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）を大きくする（移動量を大きくする）方向に生じる場合も、逆の小さくする方向に生じる場合もある。
【００４８】
（４）Ｙスケール誤差
図１２を用いて、ステージ１９のＹ軸方向の移動量の誤差であるＹスケール誤差６２について説明する。Ｙ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に対して、Ｙスケール誤差６２が生じる。Ｙスケール誤差６２は、Ｙ軸方向に生じている。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０））が大きいほど、Ｙスケール誤差６２が大きくなる。なお、Ｙスケール誤差６２は、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を大きくする（移動量を大きくする）方向に生じる場合も、逆の小さくする方向に生じる場合もある。
【００４９】
（５）直交度誤差
図１３を用いて、ステージ１９のＹ軸方向の移動量に対して生じるＸ軸方向の誤差である直交度誤差６３について説明する。Ｙ軸方向の移動量は、ラインセンサ１２ｂとステージ１９との相対的な移動量である。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量、すなわち、ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に対して、直交度誤差６３が生じる。直交度誤差６３は、Ｘ軸方向に生じている。ステージ１９のＹ軸方向の（座標原点からの）移動量（ステージＹ座標Ｙｓ（擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０））が大きいほど、直交度誤差６３が大きくなる。なお、直交度誤差６３は、Ｘ軸方向の図１３に示すように左から右への方向に生じるだけでなく、逆の右から左への方向に生じる場合もある。
【００５０】
次に、座標誤差特性パターンについて説明する。図２のステップＳ６で、特性パターン取得手段３３（図１参照）は、複数、例えば３種類の座標誤差特性パターンを取得する。処理装置２１は、取得した座標誤差特性パターンを画像表示装置２８に表示する。３種類の例の座標誤差特性パターンを以下に挙げる。
（１）擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示すグラフパターンであり、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１に関する座標誤差特性パターンＣＰ１。
（２）擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示すグラフパターンであり、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２に関する座標誤差特性パターンＣＰ２。
（３）擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示すグラフパターンであり、傾き誤差５８と直交度誤差６３に関する座標誤差特性パターンＣＰ３。
【００５１】
（１）座標誤差特性パターンＣＰ１
図１４と図１５に、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示す。
【００５２】
図１４は、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示している。傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合は、図１４に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に依存せず、差分ΔＸがゼロで一定であることを示す直線Ｌ１となる。
【００５３】
図１５は、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ１の例を示している。傾き誤差５８とＸスケール誤差６１が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合は、図１５に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ１は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ１で振動している。振幅Ａ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、傾きＡＬ１を有する直線Ｌ１に沿って増大する傾向を示している。
【００５４】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ１は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１５中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１５中の黒抜きのひし形）は、図１５に示すように、傾きＡｔｄｉｘを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとには、のこぎり波の振幅Ａ１が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｘも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとは、傾き誤差５８によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘとは、Ｘスケール誤差６１によっては生じないと考えられる。
【００５５】
一方、直線Ｌ１の傾きＡＬ１は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、Ｘスケール誤差６１によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ１の傾きＡＬ１は、傾き誤差５８によっては生じていないと考えられる。
【００５６】
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ１の振幅Ａ１と傾きＡｔｄｉｘに基づいて、傾き誤差５８を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ１の直線Ｌ１の傾きＡＬ１に基づいて、Ｘスケール誤差６１を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ１によれば、傾き誤差５８とＸスケール誤差６１とを、分離して検出することができる。
【００５７】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ１の例として、図１５では、傾きＡＬ１と、傾きＡｔｄｉｘとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ１ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ１の傾きＡＬ１が、負となり、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ１と傾きＡｔｄｉｘのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ１と傾きＡｔｄｉｘの両方がゼロの場合が、図１４に示した座標誤差特性パターンＣＰ１の例に相当する。
【００５８】
（２）座標誤差特性パターンＣＰ２
図１６と図１７に、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＹの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示す。
【００５９】
図１６は、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じておらず、差分ΔＹが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示している。倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じておらず、差分ΔＹが無い（ゼロである）場合は、図１６に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存せず、差分ΔＹがゼロで一定であることを示す直線Ｌ２となる。
【００６０】
図１７は、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じており、差分ΔＹがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ２の例を示している。倍率誤差５９とＹスケール誤差６２が生じており、差分ΔＹがある（ゼロでない）場合は、図１７に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ２は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ２で振動している。振幅Ａ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、傾きＡＬ２を有する直線Ｌ２に沿って増大する傾向を示している。
【００６１】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ２は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１７中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＹが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＹが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１７中の黒抜きのひし形）は、傾きＡｔｄｉｙを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとには、のこぎり波の振幅Ａ２が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｙも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとは、倍率誤差５９によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙとは、Ｙスケール誤差６２によっては生じないと考えられる。
【００６２】
一方、直線Ｌ２の傾きＡＬ２は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、Ｙスケール誤差６２によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ２の傾きＡＬ２は、倍率誤差５９によっては生じていないと考えられる。
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ２の振幅Ａ２と傾きＡｔｄｉｙに基づいて、倍率誤差５９を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ２の直線Ｌ２の傾きＡＬ２に基づいて、Ｙスケール誤差６２を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ２によれば、倍率誤差５９とＹスケール誤差６２とを、分離して検出することができる。
【００６３】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ２の例として、図１７では、傾きＡＬ２と、傾きＡｔｄｉｙとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ２ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＹが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＹが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ２の傾きＡＬ２が、負となり、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ２と傾きＡｔｄｉｙのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ２と傾きＡｔｄｉｙの両方がゼロの場合が、図１６に示した座標誤差特性パターンＣＰ２の例に相当する。
【００６４】
（３）座標誤差特性パターンＣＰ３
図１８と図１９に、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に対する差分ΔＸの関係を示す座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示す。
【００６５】
図１８は、傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合の座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示している。傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じておらず、差分ΔＸが無い（ゼロである）場合は、図１８に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存せず、差分ΔＸがゼロで一定であることを示す直線Ｌ３となる。
【００６６】
図１９は、傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合の座標誤差特性パターンＣＰ３の例を示している。傾き誤差５８と直交度誤差６３が生じており、差分ΔＸがある（ゼロでない）場合は、図１９に示すように、座標誤差特性パターンＣＰ３は、のこぎり波形状になっている。こののこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、のこぎり波を構成する個々ののこぎり歯の高さに相当するのこぎり波の振幅Ａ３で振動している。振幅Ａ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０によらず一定になっている。また、のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、傾きＡＬ３を有する直線Ｌ３に沿って増大する傾向を示している。
【００６７】
のこぎり波形状の座標誤差特性パターンＣＰ３は、複数ののこぎり歯で構成されている。それぞれののこぎり歯を構成する各点（図１９中の黒抜きのひし形）は、チャンネルＣ１〜Ｃ９〜Ｃ１６（１２ｃ）のそれぞれに対応している。１つののこぎり歯の中では、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も大きくなっている。また、１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きくなっている。これらにより、個々ののこぎり歯を構成する各点（図１９中の黒抜きのひし形）は、傾きＡｔｄｉｘｙを有する直線上に配置されている。のこぎり波の振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとには、のこぎり波の振幅Ａ３が大きくなる程、傾きＡｔｄｉｘｙも大きくなるという相関関係がある。前記より、振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとは、傾き誤差５８によって生じていると考えられる。逆に、振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙとは、直交度誤差６３によっては生じないと考えられる。
【００６８】
一方、直線Ｌ３の傾きＡＬ３は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に依存し、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、大きくなっているので、直交度誤差６３によって生じていると考えられる。そして、直線Ｌ３の傾きＡＬ３は、傾き誤差５８によっては生じていないと考えられる。
【００６９】
前記より、座標誤差特性パターンＣＰ３の振幅Ａ３と傾きＡｔｄｉｘｙに基づいて、傾き誤差５８を検出することができ、座標誤差特性パターンＣＰ３の直線Ｌ３の傾きＡＬ３に基づいて、直交度誤差６３を検出することができる。座標誤差特性パターンＣＰ３によれば、傾き誤差５８と直交度誤差６３とを、分離して検出することができる。
【００７０】
なお、座標誤差特性パターンＣＰ３の例として、図１９では、傾きＡＬ３と、傾きＡｔｄｉｘｙとが、正であるように描いているが、これに限らず、それぞれが負であってもよい。すなわち、座標誤差特性パターンＣＰ３ののこぎり波の１つののこぎり歯の中で、チャンネルＣ１による差分ΔＸが最も大きく、チャンネルＣ１６による差分ΔＸが最も小さく、チャンネルＣ１による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も大きく、チャンネルＣ１６による擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が最も小さくなっていてもよい。また、直線Ｌ３の傾きＡＬ３が、負となり、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０が大きくなる程、小さくなってもよい。また、傾きＡＬ３と傾きＡｔｄｉｘｙのどちらかが、ゼロであってもよい。なお、傾きＡＬ３と傾きＡｔｄｉｘｙの両方がゼロの場合が、図１８に示した座標誤差特性パターンＣＰ３の例に相当する。
【００７１】
図２に戻って、ステップＳ７で、処理装置２１は、オペレータに、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を表示すると共に、ＧＵＩにより座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が正常か否かの判定を促す。オペレータは、図１４〜図１９に示したような座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が表示されている場合に、正常と判定し（ステップＳ７、Ｙｅｓ）、ステップＳ８へ進み、そのように表示されていない場合に、正常でないと判定し（ステップＳ７、Ｎｏ）、ステップＳ４へ戻る。
【００７２】
ステップＳ８で、傾き取得手段３４は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３を有する直線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を決定する。また、振幅取得手段３５は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを有する直線を決定する。あるいは、振幅取得手段３５は、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３に基づいて、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３を算出する際に用いるのこぎり歯の上端と下端を決定する。
【００７３】
また、ステップＳ８で、ステージ補正係数算出手段３６は、決定した直線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３に基づいて、傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３を、ステージ補正係数として算出する。ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３は、ステージ１９の移動に対して生じる誤差の比を表している。
【００７４】
具体的に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１は、ステージ１９のステージＸ座標Ｘｓに対して生じるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）の比を表している。したがって、ステージＸ座標Ｘｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけると、そのステージＸ座標ＸｓにおけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７５】
ステージ補正係数である傾きＡＬ２は、ステージ１９のステージＹ座標Ｙｓに対して生じるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）の比を表している。したがって、ステージＹ座標Ｙｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけると、そのステージＹ座標ＹｓにおけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）を算出することができる。
【００７６】
ステージ補正係数である傾きＡＬ３は、ステージ１９のステージＹ座標Ｙｓに対して生じる直交度誤差６３（差分ΔＸ）の比を表している。したがって、ステージＹ座標Ｙｓに、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけると、そのステージＹ座標Ｙｓにおける直交度誤差６３（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７７】
また、ステップＳ８で、チャンネル補正係数算出手段３７は、決定したのこぎり歯の上端と下端に基づいて、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３を算出する。そして、振幅Ａ１、Ａ２、Ａ３に基づいて、チャンネル１２ｃのピッチＰｃに対するチャンネル１２ｃに起因する誤差の比であるチャンネル補正係数を算出する。具体的に、チャンネル補正係数算出手段３７は、決定した傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを有する直線に基づいて、傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙを、チャンネル補正係数として算出する。
【００７８】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する傾き誤差５８（差分ΔＸ）の比を表している。傾き誤差５８は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＸ座標Ｘｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけると、そのダイＸ座標Ｘｄにおける傾き誤差５８（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００７９】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する倍率誤差５９（差分ΔＹ）の比を表している。倍率誤差５９は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＹ座標Ｙｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけると、そのダイＹ座標Ｙｄにおける倍率誤差５９（差分ΔＹ）を算出することができる。
【００８０】
チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙは、チャンネル１２ｃのピッチＰｃ（擬似欠陥５４のピッチＰｄ）に対して生じるチャンネル１２ｃに起因する傾き誤差５８（差分ΔＸ）の比を表している。傾き誤差５８は、擬似欠陥ダイ５２毎に生じるので、ダイＹ座標Ｙｄに、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけると、そのダイＹ座標Ｙｄにおける傾き誤差５８（差分ΔＸ）を算出することができる。
【００８１】
図２のステップＳ９で、記憶・送信手段４１は、ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとを記憶する。
【００８２】
次に、ステップＳ１０で、光学式検査装置１は、ステップＳ２で作成した走査テーブルを用いて、座標管理用ウエハ５１の全面検査を再度実施する。ただ、ステップＳ４での全面検査とは異なり、今回のステップＳ１０の全面検査では、初期化してゼロになっている補正係数を、ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとに変更する。
そして、まずはステップＳ４と同様に、座標管理用ウエハ５１内の、そして、擬似欠陥ダイ５２内の、全ての擬似欠陥５４が検出され、それらが検出された位置である擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）を、対応する擬似欠陥５４が含まれる擬似欠陥ダイ５２における位置を表す擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を記憶する。
【００８３】
つまり、ステップＳ１０では、ステップＳ４とは異なり、さらに、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）を、補正し、高精度化する。具体的に、ステージ補正量算出手段３８は、このステップＳ１０で検出した擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に、ステージ補正係数をかけることで、ステージ補正量を算出する。
【００８４】
より具体的には、式（１）に示すように、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけると、その擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０におけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その１）を算出することができる。
ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ Ｘｓ０ × ＡＬ１ ・・・（１）
【００８５】
同様に、式（２）に示すように、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけると、その擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０におけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）、すなわち、ステージ補正量ΔＹｄｓを算出することができる。
ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ Ｙｓ０ × ＡＬ２ ・・・（２）
【００８６】
式（３）に示すように、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０に、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけると、その擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０における直交度誤差６３（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その２）を算出することができる。
ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ Ｙｓ０ × ＡＬ３ ・・・（３）
【００８７】
これらのステージ補正量の算出は、ステップＳ８でのステージ補正係数の算出に対する逆算をしていることになっており、いわゆる検算をしていることになる。この検算が正しいかが、ステップＳ１０〜Ｓ１３で検証される。
【００８８】
また、具体的に、ダイ補正量算出手段３９は、このステップＳ１０で検出した擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）に、チャンネル補正係数をかけることで、ダイ補正量を算出する。
【００８９】
より具体的には、式（４）に示すように、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけると、その擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）を算出することができる。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｘｄ０ × Ａｔｄｉｘ ・・・（４）
【００９０】
同様に、式（５）に示すように、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけると、その擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０における倍率誤差５９（差分ΔＹ）、すなわち、ダイ補正量ΔＹｄｄを算出することができる。
ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ Ｙｄ０ × Ａｔｄｉｙ ・・・（５）
【００９１】
式（６）に示すように、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけると、その擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）を算出することができる。なお、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）とは、どちらも、傾き誤差５８に対応するものであり、どちらか一方において算出すればよい。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｙｄ０ × Ａｔｄｉｘｙ ・・・（６）
【００９２】
これらのダイ補正量の算出は、ステップＳ８でのチャンネル補正係数の算出に対する逆算をしていることになっており、いわゆる検算をしていることになる。この検算が正しいかが、ステップＳ１０〜Ｓ１３で検証される。
【００９３】
そして、擬似欠陥ステージ座標（擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）と、擬似欠陥ダイ座標（擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０）とは、座標系は異なるが、座標管理用ウエハ５１（擬似欠陥ダイ５２）上の同じ１点（同一の擬似欠陥５４の位置）を示している。その１点における補正量は、ステージ補正量とダイ補正量の和として算出できる。
【００９４】
すなわち、式（７）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）と、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）とを加えて、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）を算出する。
Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０）
＋ ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）
＋ ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）
＋ ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ・・・（７）
【００９５】
また、式（８）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）と、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）とを加えて、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）を算出する。
Ｙｄｍ０（Ｙｓｍ０） ＝ Ｙｄ０（Ｙｓ０）
＋ ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）
＋ ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ・・・（８）
【００９６】
そして、記憶・送信手段４１（図１参照）が、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）と、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）を記憶する。以上で、ステップＳ１０が終了する。なお、ステップＳ４でも、座標管理用ウエハ５１の全面検査を実施しているが、補正係数（ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）がゼロに設定されるので（ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、Ａｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ ＝ ０）、式（１）より、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）がゼロとなり（ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ ０）、式（２）より、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）がゼロとなり（ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ ０）、式（３）より、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）がゼロとなり（ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ ０）、式（４）より、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）がゼロとなり（ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ ０）、式（５）より、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）がゼロとなり（ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ ０）、式（６）より、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）がゼロとなる（ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ ０）。これらにより、式（７）において、補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ０）は、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）に等しくなり（Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０））、式（８）において、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０（又は、補正擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ０）は、擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）に等しくなることで（Ｘｄｍ０（Ｘｓｍ０） ＝ Ｘｄ０（Ｘｓ０））、擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄ０（又は、擬似欠陥ステージＸ座標Ｘｓ０）と擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄ０（又は、擬似欠陥ステージＹ座標Ｙｓ０）とを、実質的に取得している。
【００９７】
次に、ステップＳ１１で、差分算出手段３２は、ステップＳ５と同様に、擬似欠陥５４が擬似欠陥ダイ５２に形成された際の設計に基づく設計座標（設計Ｘ座標Ｘｄ２、設計Ｙ座標Ｙｄ２）に対する、補正擬似欠陥ダイ座標（補正擬似欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ０、補正擬似欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ０）の差分ΔＸ（＝Ｘｄｍ０−Ｘｄ２）、ΔＹ（＝Ｙｄｍ０−Ｙｄ２）を算出する。
【００９８】
次に、ステップＳ１２で、特性パターン取得手段３３は、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹを用いて、ステップＳ６と同様に、座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を取得し、画像表示装置２８に表示する。また、比較のために、ステップＳ６において取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３も、画像表示装置２８に表示する。
【００９９】
ステップＳ１３で、処理装置２１は、オペレータに、ステップＳ１２とステップＳ６のそれぞれにおいて取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３を表示すると共に、ＧＵＩにより、ステップＳ１２において取得した座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が、補正により誤差が除かれているか（補正が正常か）否かの判定を促す。オペレータは、図１４、図１６、図１８に示したような、誤差が除かれ、あたかも、誤差が生じていないかのような座標誤差特性パターンＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３が表示されている場合に、補正は正常と判定し（ステップＳ１３、Ｙｅｓ）、ステップＳ１４へ進む。一方、そのように表示されていない場合に、オペレータは、補正が正常でないと判定し（ステップＳ１３、Ｎｏ）、ステップＳ４へ戻る。なお、補正が正常であれば、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹとは、略ゼロとなる。そこで、図２のステップＳ１３に示すように、ステップＳ１１で算出した差分ΔＸとΔＹが、ゼロ近傍の規定値以内か否かの判定によって、補正が正常か否かを判定してもよい。
【０１００】
ステップＳ１４に進む場合は、取得した補正係数で、欠陥座標の正確な補正ができる場合であると考えられる。そこで、ステップＳ１４以降では、量産ウエハを検査する場合について説明する。
【０１０１】
ステップＳ１４で、光学式検査装置１は、予め作成しておいた量産ウエハ７１用の走査テーブルを用いて、量産ウエハ７１の全面検査を実施する。今回のステップＳ１４の全面検査では、ステップＳ１０の全面検査と同様に、補正係数が、ステップＳ８で算出されたステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３と、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙとに設定されている。
【０１０２】
図２０に、製造中の量産ウエハ７１の平面図を示す。量産ウエハ７１の表面には、行列（マトリックス）が設定されている。その行列には、複数の行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・が設定され、また、複数の列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・が設定されている。行ｌ１、ｌ２、・・・、ｌｍ、・・・毎の、すべての列ｒ１、ｒ２、・・・、ｒｎ、・・・に、量産ダイ７２が形成されている。
【０１０３】
図２１に、ステージ１９上に固定された量産ウエハ７１を示す。量産ウエハ７１には、量産ダイ７２が形成されている。図２１に示すように、例えば、行列（ｌｍ１、ｒｎ１）における量産ダイ７２内に、実欠陥７４が生じているとする。後記するが、実欠陥７４は、図１の欠陥判定装置２４において、欠陥と判定され、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）上において、実欠陥７４の位置していた実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）が、検査結果記憶装置２６に記憶される。
【０１０４】
図２２に、量産ダイ７２の平面図を示す。量産ダイ７２の中には、ダイ内セル７３が形成されている。図２２の例では、縦横２列ずつで計４個のダイ内セル７３が形成されている。そして、そのうちの１つのダイ内セル７３内に、実欠陥７４が生じているとする。図２１で示した実欠陥７４と、図２２で示した実欠陥７４とは、同一の実欠陥７４であり、同一の位置に生じているのであるが、その位置を表す座標系が、図２１と図２２とでは異なっている。図２１では、ステージ座標（ステージＹ座標ＹｓとステージＸ座標Ｘｓ）を用いて、その位置を、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）として表現している。一方、図２２では、ダイ座標（ダイＹ座標ＹｄとダイＸ座標Ｘｄ）を用いて、その位置を、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）として表現している。実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）は、一対一の関係で、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）に変換できる。
【０１０５】
量産ウエハ７１に全面検査において、予め、ゼロでない補正係数（ステージ補正係数ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、チャンネル補正係数Ａｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）が設定されている場合は、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１と実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）、又は、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１と実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１）が、誤差５８〜６３を含んでいるとして補正を行う。補正では、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１に、補正量ΔＸｄ（ΔＸｄｓ、ΔＸｄｄ）を加え、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍを算出し、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、補正量ΔＹｄ（ΔＹｄｓ、ΔＹｄｄ）を加え、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍを算出している。これにより、高精度な欠陥座標（補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ）を取得することができる。
【０１０６】
すなわち、ステップＳ１４では、後記するようなことが行われる。量産ウエハ７１内の、そして、量産ダイ７２内の、全ての実欠陥７４が検出され、それらが検出された位置である実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）が、ステージ位置検出手段（Ｙスケール、Ｘスケール、座標管理装置）１３、１４、２５（図１参照）によって検出される。座標変換手段３１（図１参照）は、検出された実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）を、対応する実欠陥７４が含まれる量産ダイ７２における位置を表す実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）に変換する。記憶・送信手段４１（図１参照）は、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）と、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）を記憶する。
【０１０７】
さらに、図２のステップＳ１４では、ステージ補正量算出手段３８が、このステップＳ１４で検出した実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）に、ステージ補正係数をかけることで、ステージ補正量を算出する。
【０１０８】
具体的には、式（１１）に示すように、実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ１をかけ、その実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１におけるＸスケール誤差６１（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その１）を算出する。
ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１） ＝ Ｘｓ１ × ＡＬ１ ・・・（１１）
【０１０９】
同様に、式（１２）に示すように、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ２をかけ、その実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１におけるＹスケール誤差６２（差分ΔＹ）、すなわち、ステージ補正量ΔＹｄｓを算出する。
ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２） ＝ Ｙｓ１ × ＡＬ２ ・・・（１２）
【０１１０】
式（１３）に示すように、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１に、ステージ補正係数である傾きＡＬ３をかけ、その実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１における直交度誤差６３（差分ΔＸ）、すなわち、ステージ補正量ΔＸｄｓ（その２）を算出する。
ΔＸｄｓ（直交度誤差６３） ＝ Ｙｓ１ × ＡＬ３ ・・・（１３）
【０１１１】
さらに、図２のステップＳ１４では、ダイ補正量算出手段３９が、このステップＳ１４で検出した実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）に、チャンネル補正係数をかけることで、ダイ補正量を算出する。
【０１１２】
具体的には、式（１４）に示すように、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘをかけ、その実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）を算出する。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｘｄ１ × Ａｔｄｉｘ ・・・（１４）
【０１１３】
同様に、式（１５）に示すように、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｙをかけ、その実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１における倍率誤差５９（差分ΔＹ）、すなわち、ダイ補正量ΔＹｄｄを算出する。
ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ＝ Ｙｄ１ × Ａｔｄｉｙ ・・・（１５）
【０１１４】
式（１６）に示すように、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１に、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘｙをかけ、その実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１における傾き誤差５８（差分ΔＸ）、すなわち、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）を算出する。なお、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その１）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（その２）とは、どちらも、傾き誤差５８に対応するものであり、どちらか一方において算出すればよい。
ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ＝ Ｙｄ１ × Ａｔｄｉｘｙ ・・・（１６）
【０１１５】
そして、実欠陥ステージ座標（実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）と、実欠陥ダイ座標（実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１）とは、座標系は異なるが、量産ウエハ７１（量産ダイ７２）上の同じ１点（同一の実欠陥７４の位置）を示している。その１点における補正量は、ステージ補正量とダイ補正量の和として算出できる。
【０１１６】
すなわち、式（１７）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、実欠陥ダイＸ座標Ｘｄ１（又は、実欠陥ステージＸ座標Ｘｓ１）に、ステージ補正量ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）と、ステージ補正量ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）と、ダイ補正量ΔＸｄｄ（傾き誤差５８）とを加えて、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）（補正欠陥座標）を算出する。
Ｘｄｍ（Ｘｓｍ） ＝ Ｘｄ１（Ｘｓ１）
＋ ΔＸｄｓ（Ｘスケール誤差６１）
＋ ΔＸｄｓ（直交度誤差６３）
＋ ΔＸｄｄ（傾き誤差５８） ・・・（１７）
【０１１７】
また、式（１８）に示すように、ダイ座標補正手段４０は、実欠陥ダイＹ座標Ｙｄ１（又は、実欠陥ステージＹ座標Ｙｓ１）に、ステージ補正量ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）と、ダイ補正量ΔＹｄｄ（倍率誤差５９）とを加えて、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）（補正欠陥座標）を算出する。
Ｙｄｍ（Ｙｓｍ） ＝ Ｙｄ１（Ｙｓ１）
＋ ΔＹｄｓ（Ｙスケール誤差６２）
＋ ΔＹｄｄ（倍率誤差５９） ・・・（１８）
【０１１８】
そして、記憶・送信手段４１が、補正欠陥座標として、補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）と、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）を記憶する。以上で、ステップＳ１４が終了する。
【０１１９】
図２のステップＳ１５で、記憶・送信手段４１は、補正欠陥座標である補正実欠陥ダイＸ座標Ｘｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＸ座標Ｘｓｍ）と、補正実欠陥ダイＹ座標Ｙｄｍ（又は、補正実欠陥ステージＹ座標Ｙｓｍ）を、レビュー装置に送信する。レビュー装置では、補正された高精度な補正欠陥座標を取得することができるので、補正欠陥座標の周辺領域を、高倍率に拡大表示しても、確実に実欠陥７４を表示することができる。前記により、図２に示した欠陥座標の補正方法のフローを終了することができる。
【０１２０】
図２３に、本発明の実施形態に係る検査システム８０の構成図を示す。検査システム８０は、本発明の実施形態に係る光学式検査装置１を備えている。また、検査システム８０は、処理制御部８１と、レビュー装置８２と、搬送システム８３とを有している。
【０１２１】
光学式検査装置１とレビュー装置８２には、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１を全面検査したり欠陥を拡大表示したりする際に使用するレシピが記憶されている。このレシピには、走査テーブルが含まれていてもよい。それぞれのレシピは、レシピ識別子に関係付けられており、処理制御部８１から受信したレシピ識別子に基づいて、全面検査に使用するレシピを読み出すことができる。
【０１２２】
処理制御部８１は、光学式検査装置１とレビュー装置８２にロードされる座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１のウエハに応じたレシピ識別子を、光学式検査装置１とレビュー装置８２に送信する。これにより、処理制御部８１は、量産ウエハ７１の製造工程の管理と、光学式検査装置１の欠陥座標の精度の管理をすることができる。
【０１２３】
レビュー装置８２は、光学式検査装置１で取得した補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）を、処理制御部８１を介し、あるいは、直接、受信する。レビュー装置８２は、量産ウエハ７１における補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）の示す場所の周辺を拡大表示することで、その補正欠陥座標（Ｘｄｍ、Ｙｄｍ）にある実欠陥７４を拡大表示することができる。半導体装置や表示装置となる量産ウエハ７１の製造者は、拡大表示された実欠陥７４を観察することで、実欠陥７４の発生原因等を究明したり、実欠陥７４を低減させたりすることができる。
【０１２４】
搬送システム８３は、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１を保管することが可能な、ストッカ８３ａを有している。搬送システム８３は、光学式検査装置１とレビュー装置８２に、座標管理用ウエハ５１や量産ウエハ７１のウエハを、ロード・アンロードできるように接続されている。また、搬送システム８３は、量産ウエハ７１を加工する製造装置にもロード・アンロードできるように接続されている。
【０１２５】
搬送システム８３は、製造装置での処理がいったん終わり、次に光学式検査装置１で処理する量産ウエハ７１が発生すると、その量産ウエハ７１をいったんストッカ８３ａで保管するとともに、光学式検査装置１へ、処理（検査）待ちウエハがあることを伝える検査待ち信号を送信する。光学式検査装置１は、検査待ち信号の受信後に、全面検査の処理が可能になると、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のロードを要求するロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、ロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、光学式検査装置１へロードする。光学式検査装置１は、処理制御部８１から取得したレシピ識別子に基づいて、レシピ（走査テーブル）を読出し、そのレシピに基づいて、その量産ウエハ７１の全面検査を実施する。これにより、補正欠陥座標（のデータ）が生成させる。光学式検査装置１は、全面検査の終了後に、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のアンロードを要求するアンロード要求信号を送信する。また、光学式検査装置１は、補正欠陥座標（のデータ）を、処理制御部８１へ送信する。処理制御部８１は、補正欠陥座標（のデータ）を、いったん記憶しておく。搬送システム８３は、アンロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、光学式検査装置１からアンロードし、いったんストッカ８３ａで保管するとともに、レビュー装置８２へ、処理待ちウエハがあることを伝える待ち信号を送信する。
【０１２６】
レビュー装置８２は、待ち信号の受信後に、実欠陥７４の拡大表示の処理が可能になると、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のロードを要求するロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、ロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、レビュー装置８２へロードする。レビュー装置８２は、処理制御部８１から、レシピ識別子と補正欠陥座標を受信する。レビュー装置８２は、レシピ識別子に基づいて、レシピ（走査テーブル）を読出し、そのレシピに基づいて、その量産ウエハ７１の補正欠陥座標における実欠陥７４を拡大表示する。レビュー装置８２は、実欠陥７４の拡大表示の処理の終了後に、搬送システム８３へ、その量産ウエハ７１のアンロードを要求するアンロード要求信号を送信する。搬送システム８３は、アンロード要求信号の受信後に、その量産ウエハ７１を、レビュー装置８２からアンロードし、いったんストッカ８３ａで保管するとともに、製造装置へ、処理待ちウエハがあることを伝える待ち信号を送信する。
【０１２７】
図２４に、レビュー装置８２の構成図を示す。レビュー装置８２では、走査電子顕微鏡が応用されている。電子光学カラム１１０の真空容器は図示を省略している。電子銃１１１で生成された電子ビーム１１７は、コンデンサレンズ１１２、偏向器１１３、対物レンズ１１４を通過して量産ウエハ（試料）１１５へ照射される。電子ビーム１１７は、コンデンサレンズ１１２、対物レンズ１１４で細く絞られるとともに、補正欠陥座標を中央に配置した所定の寸法の画像を取得するために量産ウエハ１１５の表面を走査するように偏向器１１３で偏向される。コンデンサレンズ１１２の励磁強度は、コンデンサレンズ制御ユニット１２０により制御される。偏向器１１３の偏向量は、補正欠陥座標を中央に配置した所定の寸法の画像が得られるように、偏向器制御ユニット１２１により制御される。対物レンズ１１４の励磁強度は、対物レンズ制御ユニット１２２により制御される。前記の制御の制御量は、コンピュータ１２８のプロセッサ１２９で演算され、制御ユニット１２６から各制御ユニットへ送信される。
【０１２８】
量産ウエハ１１５に電子ビーム１１７が照射されると、量産ウエハ１１５（実欠陥７４）の形状や材質の情報を有する二次電子や反射電子等の二次信号が発生する。二次信号は、一般に５０ｅＶよりも低いエネルギーの二次電子１１８と、それよりも高いエネルギーの反射電子１１９とを有している。二次電子１１８は、図示しない引上げる力により上方の検出器１３２で検出され、反射電子１１９は、複数の検出器１３３で検出される。検出された二次信号１１８、１１９は、検出器制御ユニット１２３で、増幅され、アナログ信号からディジタル信号へ変換され、画像データとして、画像メモリ１２５へ保存される。複数の検出器１３３は、三次元情報を得るために、例えば、２個の検出器１３３が対向して設置されている。２個の検出器１３３は、検出器制御ユニット１２３により制御される。そして、検出器制御ユニット１２３において、量産ウエハ１１５の実欠陥７４に対して、左側の反射電子（信号）１１９からＬ像が生成され、右側の反射電子（信号）１１９からＲ像が生成される。一方、検出器１３２で検出された二次電子１１８から、二次電子像のＳ像が、検出器制御ユニット１２３において生成される。
【０１２９】
アドレス制御ユニット１２４は、偏向器制御ユニット１２１から送られる偏向制御データから、補正欠陥座標を画像の中央に配するように、電子ビーム１１７の走査信号に同期したアドレスを生成し、検出器制御ユニット１２３からの画像信号と関連付けて、画像メモリ１２５に記憶される。画像メモリ１２５は、記憶されている画像データ（Ｌ像、Ｒ像、Ｓ像）を、コンピュータ１２８へ送信する。コンピュータ１２８では、画像データから、後述する焦点合せの評価値の算出、評価値への関数によるフィッティング、そのフィッティング関数のピークの算出を行い、焦点調整信号を生成し、対物レンズ制御ユニット１２２に送る。対物レンズ制御ユニット１２２では、対物レンズ１１４の励磁強度を制御して焦点を調整する。焦点調整には、オペレータがディスプレイ１２７に表示される画像を見ながら入力ツール１３０、または専用入力ツール１３１を使用して調整する方法と、対物レンズ制御ユニット１２２が、対物レンズ１１４の焦点を変えながら取得した画像の評価値に基づいて自動調整する自動焦点合せの方法とがある。入力ツール１３０は、一般的なキーボードやマウスであり、専用入力ツール１３１は、走査電子顕微鏡を調整するためのジョイスティックやトラックボールを備えた専用の入力ツールである。焦点を調整する他の方法としては、特開２００７−２４２６０５号公報に記載されたように、対物レンズ１１４の磁路内に図示しない静電電極を設け、この静電電極への印加電圧を変えることによって、焦点位置を変えてもよい。量産ウエハ１１５は、静電チャック等の試料台１１６で固定され、制御ユニット１２６からの制御信号で移動する移動ステージ１３４によりＸ軸方向とＹ軸方向の二次元平面を移動できる。必要に応じて高さ方向であるＺ軸方向へ量産ウエハ１１５を移動させる機能を持たしてもよい。
【０１３０】
図２５に、検査システム８０の運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローチャートを示す。
【０１３１】
まず、ステップＳ２１で、光学式検査装置１の処理装置２１は、オペレータによって、処理装置２１に、補正係数を設定（再設定）する命令が入力されたか否か判定する。補正係数を設定（再設定）する命令が入力されていれば（ステップＳ２１、Ｙｅｓ）、ステップＳ２２へ進み、補正係数を設定（再設定）する命令が入力されていなければ（ステップＳ２１、Ｎｏ）、ステップＳ２７へ進む。
【０１３２】
次に、ステップＳ２２で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、座標管理用ウエハ５１のロード要求を送信する。
【０１３３】
ステップＳ２３で、搬送システム８３は、ストッカ８３ａに保管されている座標管理用ウエハ５１を、光学式検査装置１へロードする。
【０１３４】
ステップＳ２４で、光学式検査装置１の処理装置２１は、補正係数（ステージ補正係数である傾きＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３、チャンネル補正係数である傾きＡｔｄｉｘ、Ａｔｄｉｙ、Ａｔｄｉｘｙ）を決定する。具体的には、図２のステップＳ１〜Ｓ１３を実施する。なお、初回に、図２のステップＳ１〜Ｓ３を実施すれば、２回目以降は、初回に作った座標管理用ウエハ５１と走査テーブルを使えるので、ステップＳ１〜Ｓ３を省くことができる。したがって、２回目以降は、ステップＳ４〜Ｓ１３を実施することになる。
【０１３５】
ステップＳ２５で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、座標管理用ウエハ５１のアンロード要求を送信する。搬送システム８３は、座標管理用ウエハ５１を、光学式検査装置１からストッカ８３ａへアンロードする。
【０１３６】
ステップＳ２６で、光学式検査装置１の処理装置２１は、補正期間をカウントするタイマ４２（図１参照）を、リセットし、再度、スタートさせる。
【０１３７】
ステップＳ２７で、光学式検査装置１の処理装置２１は、オペレータによって、処理装置２１に、処理を停止する命令が入力されたか否か判定する。停止命令が入力されていれば（ステップＳ２７、Ｙｅｓ）、検査システム８０の運用方法（欠陥座標の補正方法）のフローをストップし、停止命令が入力されていなければ（ステップＳ２７、Ｎｏ）、ステップＳ２８へ進む。
【０１３８】
ステップＳ２８で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３から、処理（検査）待ちの量産ウエハ７１があることを伝える検査待ち信号を受信したか否か判定する。検査待ち信号を受信していれば（ステップＳ２８、Ｙｅｓ）、ステップＳ２９へ進み、検査待ち信号を受信していなければ（ステップＳ２８、Ｎｏ）、ステップＳ３２へ進む。
【０１３９】
ステップＳ２９で、光学式検査装置１の処理装置２１は、搬送システム８３へ、処理（検査）待ちの量産ウエハ７１をロードするように、ロード要求を送信する。
【０１４０】
ステップＳ３０で、搬送システム８３は、ストッカ８３ａに保管されている処理（検査）待ちの量産ウエハ７１を、光学式検査装置１へロードする。また、処理制御部８１は、光学式検査装置１の処理装置２１へ、検査レシピの識別子をロードする。
【０１４１】
ステップＳ３１で、光学式検査装置１の処理装置２１は、量産ウエハ７１の実欠陥７４を検出し、その実欠陥７４の補正欠陥座標を決定する。具体的には、図２のステップＳ１４を実施する。
【０１４２】
ステップＳ３２で、光学式検査装置１の処理装置２１は、タイマ４２（図１参照）でカウントしている補正期間が、定期期間に達したか否か判定する。補正期間が定期期間に達していれば（ステップＳ３２、Ｙｅｓ）、ステップＳ２２へ戻り、補正係数を再設定する。補正期間が定期期間に達していなければ（ステップＳ３２、Ｎｏ）、ステップＳ２７へ戻り、量産ウエハ７１の検査を続ける。これによれば、補正係数を、マニュアルでもオートでも、更新できるので、各種の誤差５８〜６３が変動した場合でも、補正係数を追従させ、高精度な、補正欠陥座標を取得することができる。
【符号の説明】
【０１４３】
１ 光学式検査装置（欠陥検査装置）
１１ 照明手段
１２ 検出手段
１２ａ 受光手段
１２ｂ ラインセンサ（結像手段）
１２ｃ チャンネル
１３ ステージ位置検出手段（Ｙスケール）
１４ ステージ位置検出手段（Ｘスケール）
１５ 表面高さ位置検出系の照明装置
１６ 表面高さ位置検出系の検出器（２個１組：１６ａ、１６ｂ）
１７ 像面観察手段
１８ 画像処理装置
１９ ステージ
１９ａ 移動手段
２１ 処理装置
２２ Ａ／Ｄ変換器
２３ 画像処理装置
２４ 欠陥判定装置
２４ａ 判定回路
２４ｂ、２４ｃ 係数テーブル
２５ ステージ位置検出手段（座標管理装置）
２６ 検査結果記憶装置
２７ ステージ制御装置
２８ 画像表示装置
３１ 座標変換手段
３２ 差分算出手段
３３ 特性パターン取得手段
３４ 傾き取得手段
３５ 振幅取得手段
３６ ステージ補正係数算出手段
３７ チャンネル補正係数算出手段
３８ ステージ補正量算出手段
３９ ダイ補正量算出手段
４０ ダイ座標補正手段
４１ 記憶・送信手段
４２ タイマ
５１ 座標管理用ウエハ（ウエハ）
５２ 擬似欠陥ダイ（チップ）
５３ ダイ内セル
５４ 擬似欠陥
５４ａ 擬似欠陥の結像
５５ フォワード走査
５６ リバース走査
５７ シフト
５８ 欠陥Ｘ座標誤差（傾き誤差）
５９ 欠陥Ｙ座標誤差（倍率誤差）
６１ 欠陥Ｘ座標誤差（Ｘスケール誤差）
６２ 欠陥Ｙ座標誤差（Ｙスケール誤差）
６３ 欠陥Ｘ座標誤差（直交度誤差）
７１ 量産ウエハ
７２ 量産ダイ
７３ ダイ内セル
７４ 実欠陥
８０ 検査システム
８１ 処理制御部
８２ レビュー装置
８３ 搬送システム
８３ａ ストッカ
Ｘｓ ステージＸ座標（ステージ座標）
Ｙｓ ステージＹ座標（ステージ座標）
Ｘｓ０ 擬似欠陥ステージＸ座標（擬似欠陥ステージ座標）
Ｙｓ０ 擬似欠陥ステージＹ座標（擬似欠陥ステージ座標）
Ｘｓ１ 実欠陥ステージＸ座標（実欠陥ステージ座標）
Ｙｓ１ 実欠陥ステージＹ座標（実欠陥ステージ座標）
Ｘｄ ダイＸ座標（ダイ座標）
Ｙｄ ダイＹ座標（ダイ座標）
Ｘｄ０ 擬似欠陥ダイＸ座標（擬似欠陥ダイ座標）
Ｙｄ０ 擬似欠陥ダイＹ座標（擬似欠陥ダイ座標）
Ｘｄ１ 実欠陥ダイＸ座標（実欠陥ダイ座標）
Ｙｄ１ 実欠陥ダイＹ座標（実欠陥ダイ座標）
Ｘｄ２ 設計Ｘ座標（設計座標）
Ｙｄ２ 設計Ｙ座標（設計座標）
ΔＸ、ΔＹ 差分
ΔＸｄｓ、ΔＹｄｓ ステージ補正量
ΔＸｄｄ、ΔＹｄｄ ダイ補正量
Ｘｄｍ 補正実欠陥ダイＸ座標（補正実欠陥ダイ座標）
Ｙｄｍ 補正実欠陥ダイＹ座標（補正実欠陥ダイ座標）
Ｐｄ 擬似欠陥のピッチ
Ｐｄａ 擬似欠陥の結像のピッチ
Ｐｃ チャンネルのピッチ
Ｃ１〜Ｃ１６ チャンネル
ＣＰ１、ＣＰ２、ＣＰ３ 座標誤差特性パターン
Ａ１、Ａ２、Ａ３ 振幅（チャンネル補正係数）
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３ 直線
ＡＬ１、ＡＬ２、ＡＬ３ 直線の傾き（ステージ補正係数）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハの表面を結像可能な複数のチャンネルがＹ軸方向に等間隔に配列されたラインセンサと、前記ウエハをステージに載せて前記ラインセンサに対して相対的に前記Ｙ軸方向と直角をなすＸ軸方向に繰り返し移動させることで前記ウエハの全面を前記チャンネル上に結像させる移動手段とを有し、前記ウエハの表面を検査する光学式検査装置において、
前記表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列で前記チャンネル上の結像におけるピッチが前記チャンネルのピッチに等しい等間隔に形成されている座標管理用ウエハを、前記Ｙ軸方向と前記列方向とが略平行になり、前記チャンネル毎に前記擬似欠陥ダイ当たり１つの擬似欠陥が結像するように、前記ウエハとして検査したのを受けて、前記チャンネル上に結像した前記擬似欠陥の前記ステージ上の位置を、擬似欠陥ステージ座標として検出するステージ位置検出手段と、
検出された前記擬似欠陥ステージ座標を、前記擬似欠陥が含まれる前記擬似欠陥ダイにおける位置を表す擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、
前記擬似欠陥が前記欠陥ダイに形成された際の設計に基づく設計座標に対する、前記擬似欠陥ダイ座標の差分を算出する差分算出手段と、
前記擬似欠陥ステージ座標に対して、前記差分が、略一定の振幅で振動するか、直線に沿って増加又は減少するか、少なくともどちらか一方の座標誤差特性パターンを取得する特性パターン取得手段とを有することを特徴とする光学式検査装置。
【請求項２】
前記直線の傾きを取得する傾き取得手段と、
前記直線の傾きに基づいて、前記ステージの移動に対する誤差の比であるステージ補正係数を算出するステージ補正係数算出手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項３】
前記振幅の大きさを取得する振幅取得手段と、
前記振幅の大きさに基づいて、前記チャンネルのピッチに対する前記チャンネルに起因する誤差の比であるチャンネル補正係数を算出するチャンネル補正係数算出手段とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学式検査装置。
【請求項４】
量産ダイが形成されている量産ウエハを、前記ウエハとして検査したのを受けて、
前記ステージ位置検出手段は、前記チャンネル上に結像した前記量産ウエハ上の実欠陥の前記ステージ上の位置を、実欠陥ステージ座標として検出し、
前記座標変換手段は、検出された前記実欠陥ステージ座標を、前記実欠陥が含まれる前記量産ダイにおける位置を表す実欠陥ダイ座標に変換し、
検出された前記実欠陥ステージ座標と、前記ステージ補正係数とに基づいて、ステージ補正量を算出するステージ補正量算出手段と、
前記ステージ補正量に基づいて、前記実欠陥ダイ座標を補正するダイ座標補正手段と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を記憶又は外部に送信する記憶・送信手段とを有することを特徴とする請求項２に記載の光学式検査装置。
【請求項５】
量産ダイが形成されている量産ウエハを、前記ウエハとして検査したのを受けて、
前記ステージ位置検出手段は、前記チャンネル上に結像した前記量産ウエハ上の実欠陥の前記ステージ上の位置を、実欠陥ステージ座標として検出し、
前記座標変換手段は、検出された前記実欠陥ステージ座標を、前記実欠陥が含まれる前記量産ダイにおける位置を表す実欠陥ダイ座標に変換し、
検出された前記実欠陥ダイ座標と、前記チャンネル補正係数とに基づいて、ダイ補正量を算出するダイ補正量算出手段と、
前記ダイ補正量に基づいて、前記実欠陥ダイ座標を補正するダイ座標補正手段と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を記憶又は外部に送信する記憶・送信手段とを有することを特徴とする請求項３に記載の光学式検査装置。
【請求項６】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＸ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＸ座標を変換した前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＸ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｘ座標を有し、
前記差分は、前記Ｘ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＸ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｘ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｘ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項７】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＹ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＹ座標を変換した前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＹ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｙ座標を有し、
前記差分は、前記Ｙ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＹ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｙ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｙ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の光学式検査装置。
【請求項８】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＹ座標と、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＸ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＸ座標を変換した前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＸ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｘ座標を有し、
前記差分は、前記Ｘ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＹ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｘ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｘ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項９】
請求項４又は請求項５に記載の光学式検査装置と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を受信し、補正された前記実欠陥ダイ座標に対応する前記量産ダイにおける、補正された前記実欠陥ダイ座標の周辺を拡大して表示するレビュー装置とを有することを特徴とする検査システム。
【請求項１０】
表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つのみ且つ列毎に１つのみの擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が前記行列の列方向に一列のみで等間隔に形成されていることを特徴とする座標管理用ウエハ。
【請求項１】
ウエハの表面を結像可能な複数のチャンネルがＹ軸方向に等間隔に配列されたラインセンサと、前記ウエハをステージに載せて前記ラインセンサに対して相対的に前記Ｙ軸方向と直角をなすＸ軸方向に繰り返し移動させることで前記ウエハの全面を前記チャンネル上に結像させる移動手段とを有し、前記ウエハの表面を検査する光学式検査装置において、
前記表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つ且つ列毎に１つ擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が列方向に一列で前記チャンネル上の結像におけるピッチが前記チャンネルのピッチに等しい等間隔に形成されている座標管理用ウエハを、前記Ｙ軸方向と前記列方向とが略平行になり、前記チャンネル毎に前記擬似欠陥ダイ当たり１つの擬似欠陥が結像するように、前記ウエハとして検査したのを受けて、前記チャンネル上に結像した前記擬似欠陥の前記ステージ上の位置を、擬似欠陥ステージ座標として検出するステージ位置検出手段と、
検出された前記擬似欠陥ステージ座標を、前記擬似欠陥が含まれる前記擬似欠陥ダイにおける位置を表す擬似欠陥ダイ座標に変換する座標変換手段と、
前記擬似欠陥が前記欠陥ダイに形成された際の設計に基づく設計座標に対する、前記擬似欠陥ダイ座標の差分を算出する差分算出手段と、
前記擬似欠陥ステージ座標に対して、前記差分が、略一定の振幅で振動するか、直線に沿って増加又は減少するか、少なくともどちらか一方の座標誤差特性パターンを取得する特性パターン取得手段とを有することを特徴とする光学式検査装置。
【請求項２】
前記直線の傾きを取得する傾き取得手段と、
前記直線の傾きに基づいて、前記ステージの移動に対する誤差の比であるステージ補正係数を算出するステージ補正係数算出手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項３】
前記振幅の大きさを取得する振幅取得手段と、
前記振幅の大きさに基づいて、前記チャンネルのピッチに対する前記チャンネルに起因する誤差の比であるチャンネル補正係数を算出するチャンネル補正係数算出手段とを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学式検査装置。
【請求項４】
量産ダイが形成されている量産ウエハを、前記ウエハとして検査したのを受けて、
前記ステージ位置検出手段は、前記チャンネル上に結像した前記量産ウエハ上の実欠陥の前記ステージ上の位置を、実欠陥ステージ座標として検出し、
前記座標変換手段は、検出された前記実欠陥ステージ座標を、前記実欠陥が含まれる前記量産ダイにおける位置を表す実欠陥ダイ座標に変換し、
検出された前記実欠陥ステージ座標と、前記ステージ補正係数とに基づいて、ステージ補正量を算出するステージ補正量算出手段と、
前記ステージ補正量に基づいて、前記実欠陥ダイ座標を補正するダイ座標補正手段と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を記憶又は外部に送信する記憶・送信手段とを有することを特徴とする請求項２に記載の光学式検査装置。
【請求項５】
量産ダイが形成されている量産ウエハを、前記ウエハとして検査したのを受けて、
前記ステージ位置検出手段は、前記チャンネル上に結像した前記量産ウエハ上の実欠陥の前記ステージ上の位置を、実欠陥ステージ座標として検出し、
前記座標変換手段は、検出された前記実欠陥ステージ座標を、前記実欠陥が含まれる前記量産ダイにおける位置を表す実欠陥ダイ座標に変換し、
検出された前記実欠陥ダイ座標と、前記チャンネル補正係数とに基づいて、ダイ補正量を算出するダイ補正量算出手段と、
前記ダイ補正量に基づいて、前記実欠陥ダイ座標を補正するダイ座標補正手段と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を記憶又は外部に送信する記憶・送信手段とを有することを特徴とする請求項３に記載の光学式検査装置。
【請求項６】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＸ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＸ座標を変換した前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＸ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｘ座標を有し、
前記差分は、前記Ｘ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＸ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｘ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｘ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項７】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＹ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＹ座標を変換した前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＹ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｙ座標を有し、
前記差分は、前記Ｙ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＹ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｙ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｙ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の光学式検査装置。
【請求項８】
前記擬似欠陥ステージ座標は、前記Ｙ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＹ座標と、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ステージＸ座標を有し、
前記擬似欠陥ダイ座標は、前記擬似欠陥ステージＸ座標を変換した前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく擬似欠陥ダイＸ座標を有し、
前記設計座標は、前記Ｘ軸方向と平行な座標軸に基づく設計Ｘ座標を有し、
前記差分は、前記Ｘ軸方向と平行な方向に発生し、
前記座標誤差特性パターンは、前記擬似欠陥ステージＹ座標の増大に伴って、前記差分が、前記振幅で前記Ｘ軸方向に振動するか、前記直線に沿って前記Ｘ軸方向に増加又は減少するか、少なくともどちらか一方であることを特徴とする請求項１に記載の光学式検査装置。
【請求項９】
請求項４又は請求項５に記載の光学式検査装置と、
補正された前記実欠陥ダイ座標を受信し、補正された前記実欠陥ダイ座標に対応する前記量産ダイにおける、補正された前記実欠陥ダイ座標の周辺を拡大して表示するレビュー装置とを有することを特徴とする検査システム。
【請求項１０】
表面に行列が設定され、前記行列の行毎に１つのみ且つ列毎に１つのみの擬似欠陥ダイが形成され、前記擬似欠陥ダイには複数の擬似欠陥が前記行列の列方向に一列のみで等間隔に形成されていることを特徴とする座標管理用ウエハ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【公開番号】特開２０１３−１５４９１（Ｐ２０１３−１５４９１Ａ）
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５０１４０（Ｐ２０１１−１５０１４０）
【出願日】平成２３年７月６日（２０１１．７．６）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月２４日（２０１３．１．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月６日（２０１１．７．６）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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